JP7457400B2 - Chlorine concentration control method, cleaning system for water treatment device, program, and water circulation type water treatment device - Google Patents
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Description
本開示は、塩素濃度の制御方法、水処理装置の洗浄システム、プログラム、及び水循環型水処理装置に関するものである。 This disclosure relates to a method for controlling chlorine concentration, a cleaning system for a water treatment device, a program, and a water circulation type water treatment device.
特許文献1には、塩濃度が低く、水中の金属成分やシリカ成分によるスケールやウォーターマークの生成の問題がなく、かつスライムの発生も抑制された良好な水質の軟水を製造する水処理方法が開示されている。 Patent Document 1 describes a water treatment method for producing soft water of good quality with low salt concentration, no problem of scale or water mark formation due to metal components or silica components in water, and suppressed slime generation. Disclosed.
また、特許文献2には、塩類及び有機物を含有する有機性廃水に関し、塩類除去処理によって得られる濃縮水の電解処理を行って安定して次亜塩素酸溶液を製造できるようにする技術が開示されている。 Furthermore, Patent Document 2 discloses a technique for stably producing a hypochlorous acid solution by electrolyzing concentrated water obtained by salt removal treatment regarding organic wastewater containing salts and organic substances. has been done.
また、特許文献3には、RO膜装置の濃縮水からエネルギーを回収するエネルギー回収装置を設けたRO膜処理システムにおいて、RO膜装置のバイオファウリングのみならず、エネルギー回収装置におけるバイオファウリングをも抑制して、システム全体のエネルギー効率の向上及び安定運転を図るために、エネルギー回収装置に導入されるRO膜装置の濃縮水の残留ハロゲン濃度が全塩素換算濃度で0.1~10000mg/Lとなるように、RO給水に結合塩素系および安定化臭素系の少なくともいずれかのスライムコントロール剤を添加する技術が開示されている。 Furthermore, in Patent Document 3, in an RO membrane treatment system equipped with an energy recovery device that recovers energy from concentrated water of the RO membrane device, not only biofouling of the RO membrane device but also biofouling in the energy recovery device is detected. In order to improve the energy efficiency of the entire system and ensure stable operation, the residual halogen concentration in the concentrated water of the RO membrane device introduced into the energy recovery device is 0.1 to 10,000 mg/L in terms of total chlorine concentration. A technique has been disclosed in which at least one of a bound chlorine-based slime control agent and a stabilized bromine-based slime control agent is added to RO feed water so as to achieve the following.
ところで、一度使用された水を浄化し、その水を再利用するような水処理装置では、水処理装置の内部洗浄に塩素が利用されることが多い。 By the way, in water treatment plants that purify water that has been used once and reuse that water, chlorine is often used to clean the inside of the water treatment plant.
しかし、十分な洗浄効果を実現するためには、大量の塩素と水を要し、その結果、水処理装置の内部洗浄後には、大量の洗浄排水の処理が必要となるため、それがメンテナンスをする上でユーザの負担となっている。例えば、可搬型の水処理装置は、水の給排水が困難な場所に設置されることが多いため、水処理装置の内部洗浄の為に大量の塩素水を用意したり、発生した排水を捨てたりすることが困難になる、という一つの課題が生じる。また、塩素水を利用して水処理装置の内部洗浄をする際には、その塩素水の塩素濃度を適切な濃度とする必要がある、という一つの課題も生じる。 However, to achieve a sufficient cleaning effect, large amounts of chlorine and water are required, and as a result, after the internal cleaning of the water treatment device, a large amount of cleaning wastewater needs to be treated, which places a burden on the user in terms of maintenance. For example, portable water treatment devices are often installed in places where it is difficult to supply and drain water, which creates an issue in that it is difficult to prepare large amounts of chlorine water for internal cleaning of the water treatment device and to discard the generated wastewater. In addition, when using chlorine water to clean the inside of the water treatment device, another issue arises in that the chlorine concentration of the chlorine water needs to be adjusted to an appropriate concentration.
本開示は、上記の事情を鑑みてなされたもので、水処理装置の内部洗浄をする際に塩素水の塩素濃度を所望の濃度に制御することができる、塩素濃度の制御方法、水処理装置の洗浄システム、プログラム、及び水循環型水処理装置を提供する。 The present disclosure has been made in view of the above circumstances, and provides a chlorine concentration control method and a water treatment device that can control the chlorine concentration of chlorine water to a desired concentration when cleaning the inside of the water treatment device. The Company provides cleaning systems, programs, and water circulation type water treatment equipment.
本開示の第1態様は、塩素水が流れる流路と、次亜塩素酸を透過しないフィルターと、を備えた水の循環流路において、前記塩素水を前記フィルターへクロスフローさせることにより、前記循環流路を循環する塩素水の塩素濃度を所望の濃度に制御する、塩素濃度の制御方法である。 A first aspect of the present disclosure provides a water circulation flow path including a flow path through which chlorinated water flows and a filter that does not allow hypochlorous acid to pass therethrough, by cross-flowing the chlorinated water to the filter. This is a chlorine concentration control method for controlling the chlorine concentration of chlorine water circulating in a circulation channel to a desired concentration.
本開示によれば、水処理装置の内部洗浄をする際に塩素水の塩素濃度を所望の濃度に制御することができる、という効果が得られる。 According to the present disclosure, it is possible to control the chlorine concentration of chlorine water to a desired concentration when cleaning the inside of a water treatment device.
以下、図面を参照して実施形態を詳細に説明する。 Hereinafter, embodiments will be described in detail with reference to the drawings.
<実施形態の水処理システム>
図1は、本実施形態の水処理システム10を示す図である。図1に示されるように、本実施形態の水処理システム10は、洗浄水を吐出する水栓12と、シンク14と、第1タンクの一例である中間タンクT1と、第2タンクの一例である塩素水タンクT2と、貯水タンクT3と、排水タンクT4と、RO(Reverse Osmosis Membrane)フィルター16と、第1ポンプP1と、第2ポンプP2と、第3ポンプP3と、温度センサ18と、制御装置20と、を備える。また、図1に示されるように、水処理システム10には、水が流れる流路C1,C2,C3,C4,C5,C6,C7,C8,Cxと、三方弁22とが備えられている。なお、水処理システム10の構成は図1に限定されるものではない。図1は、実施形態である水処理システム10を説明するためのものであり、ポンプ、タンク、センサ、フィルター、及び流路等の各種構成要素の配置及び構成は、図1に限定されるものではない。なお、水処理システム10の一部又は全部は、水処理装置、洗浄システム、及び水循環型水処理装置の一例である。
<Water treatment system of embodiment>
FIG. 1 is a diagram showing a water treatment system 10 of this embodiment. As shown in FIG. 1, the water treatment system 10 of the present embodiment includes a faucet 12 that discharges wash water, a sink 14, an intermediate tank T1 that is an example of a first tank, and an example of a second tank. A chlorinated water tank T2, a water storage tank T3, a drainage tank T4, an RO (Reverse Osmosis Membrane) filter 16, a first pump P1, a second pump P2, a third pump P3, and a temperature sensor 18. A control device 20 is provided. Further, as shown in FIG. 1, the water treatment system 10 includes channels C1, C2, C3, C4, C5, C6, C7, C8, and Cx through which water flows, and a three-way valve 22. . Note that the configuration of the water treatment system 10 is not limited to that shown in FIG. 1. FIG. 1 is for explaining a water treatment system 10 that is an embodiment, and the arrangement and configuration of various components such as pumps, tanks, sensors, filters, and flow paths are limited to those shown in FIG. 1. isn't it. Note that part or all of the water treatment system 10 is an example of a water treatment device, a cleaning system, and a water circulation type water treatment device.
温度センサ18と制御装置20とは電気的に接続されており、制御装置20は温度センサ18から出力された信号を取得する。また、第1ポンプP1、第2ポンプP2、及び第3ポンプP3の各々と制御装置20とは電気的に接続されており、制御装置20は第1ポンプP1、第2ポンプP2、及び第3ポンプP3の駆動を制御する。 The temperature sensor 18 and the control device 20 are electrically connected, and the control device 20 acquires the signal output from the temperature sensor 18. Further, each of the first pump P1, the second pump P2, and the third pump P3 is electrically connected to the control device 20, and the control device 20 is connected to the first pump P1, the second pump P2, and the third pump P3. Controls the drive of pump P3.
例えば、水処理システム10が可搬である場合には、任意の場所に設置可能であるため、屋内、屋外など様々な場所に設置され得る。例えば、水処理システム10は、特開2022‐014999号公報に開示されているような手洗い装置に搭載される。なお、水処理システム10は、可搬でなくともよい。水処理システム10が可搬でない場合の設置例としては、例えば、車両等の移動体に設置される場合又は利用者により任意の場所に設置される場合等がある。水処理システム10が車両等の移動体に設置される場合の例としては、例えば、キャンピングカー、寝台列車、飛行機、又は客船等における手洗い、シャワー、又は簡易キッチン等として水処理システム10が設置され得る。水処理システム10が任意の場所に設置される場合の例としては、例えば、コンテナハウス、キャンプ施設、別荘、山小屋、又はゴルフ場等の屋外施設等における手洗いや洗面、シャワーや風呂場、キッチン、洗濯、トイレ、又はプール等の水が使用される場所(以下、総称して「シャワー等」と略す)において水処理システム10が設置され得る。 For example, if the water treatment system 10 is portable, it can be installed at any location, so it can be installed at various locations such as indoors and outdoors. For example, the water treatment system 10 is installed in a hand washing device as disclosed in Japanese Patent Application Publication No. 2022-014999. Note that the water treatment system 10 does not need to be portable. Examples of installations where the water treatment system 10 is not portable include cases where it is installed on a moving object such as a vehicle, or cases where it is installed at an arbitrary location by a user. For example, when the water treatment system 10 is installed in a moving body such as a vehicle, the water treatment system 10 may be installed as a hand wash, shower, or kitchenette in a camper, sleeper train, airplane, passenger ship, etc. . Examples of cases in which the water treatment system 10 is installed at any location include hand washing, washing, showering, bathrooms, kitchens, etc. in container houses, camping facilities, villas, mountain huts, or outdoor facilities such as golf courses. The water treatment system 10 may be installed in places where water is used, such as laundry, toilets, or swimming pools (hereinafter collectively referred to as "showers, etc.").
水栓12は洗浄水を吐出する。なお、水栓12から吐出される洗浄水は、ユーザによって手洗い等に利用される。 The faucet 12 discharges wash water. Note that the washing water discharged from the faucet 12 is used by the user for hand washing and the like.
シンク14は、ユーザによって利用された水を受ける。シンク14の底部には、槽内に吐水された水を排水するための排水口(図示省略)が形成されている。シンク14の排水口から排出された水W1は流路C1を通って中間タンクT1へ貯められる。 The sink 14 receives water utilized by the user. A drain port (not shown) is formed at the bottom of the sink 14 for draining water discharged into the tank. Water W1 discharged from the drain port of the sink 14 passes through the channel C1 and is stored in the intermediate tank T1.
中間タンクT1には、ユーザによって利用された水が貯められる。 The intermediate tank T1 stores water used by the user.
塩素水タンクT2には、塩素水が貯められている。なお、本実施形態では、次亜塩素酸ナトリム、次亜塩素酸カルシウム、塩素化イソシアヌル酸などの遊離塩素を含む水溶液を塩素水と称する。 Chlorine water is stored in the chlorine water tank T2. In this embodiment, an aqueous solution containing free chlorine such as sodium hypochlorite, calcium hypochlorite, and chlorinated isocyanuric acid is referred to as chlorine water.
貯水タンクT3には、ROフィルター16を透過した水が貯められる。貯水タンクT3に貯められる水は洗浄水として再利用される水である。貯水タンクT3に貯められている水は流路Cxを通って各種の処理が施された後、洗浄水として水栓12から吐出される。 Water that has passed through the RO filter 16 is stored in the water storage tank T3. The water stored in the water storage tank T3 is water that is reused as washing water. The water stored in the water storage tank T3 passes through the channel Cx, undergoes various treatments, and then is discharged from the faucet 12 as wash water.
排水タンクT4には、ROフィルター16を透過しなかった汚染物質を高濃度に含む濃縮排水が貯められる。排水タンクT4に貯められる水は再利用されることなく廃棄される。 Concentrated wastewater containing a high concentration of pollutants that have not passed through the RO filter 16 is stored in the wastewater tank T4. The water stored in the drain tank T4 is discarded without being reused.
ROフィルター16は、水を浄化するためのものである。また、ROフィルター16を透過した水は次亜塩素酸の濃度が低下する。なお、ROフィルター16は、原則として、次亜塩素酸を透過させない。しかし、ごく微量の次亜塩素酸であれば、ROフィルター16を透過する場合もある。なお、以下では、塩素水をROフィルター16に全量透過させず、塩素水の一部をROフィルターの膜面に対し平行に流出させることを単に「クロスフロー」と称する。 The RO filter 16 is for purifying water. Furthermore, the concentration of hypochlorous acid in the water that has passed through the RO filter 16 is reduced. Note that, in principle, the RO filter 16 does not allow hypochlorous acid to pass therethrough. However, a very small amount of hypochlorous acid may pass through the RO filter 16. Note that, hereinafter, not allowing the entire amount of chlorine water to pass through the RO filter 16, but allowing a portion of the chlorine water to flow out parallel to the membrane surface of the RO filter will be simply referred to as "cross flow."
また、本実施形態では、次亜塩素酸を透過しないフィルターがROフィルターである場合を例に説明するが、これに限定されるものではなく、次亜塩素酸を透過させないという機能を有するフィルターであればどのようなフィルターであっても良い。なお、ROフィルター16の流出先流路にはバルブBが設けられている。バルブBの開閉により、ROフィルター16を透過した水は、流路C8及び流路C9の何れか一方へ流れる。 In addition, in this embodiment, an example will be explained in which the filter that does not allow hypochlorous acid to pass through is an RO filter, but the filter is not limited to this, and may be a filter that has the function of not allowing hypochlorous acid to pass through. Any filter may be used. Note that a valve B is provided in the outlet flow path of the RO filter 16. By opening and closing the valve B, water that has passed through the RO filter 16 flows into either the flow path C8 or the flow path C9.
第1ポンプP1、第2ポンプP2、及び第3ポンプP3は、後述する制御装置20によりその駆動が制御される。 The operation of the first pump P1, the second pump P2, and the third pump P3 is controlled by the control device 20 described below.
具体的には、図1に示されるように、第1ポンプP1が駆動することにより、中間タンクT1に貯められている水W2が汲み上げられ、流路C2及び流路C3を流れることにより、その水W2がROフィルター16を透過することでユーザによって利用された水が浄化される。 Specifically, as shown in FIG. 1, when the first pump P1 is driven, water W2 stored in the intermediate tank T1 is pumped up and flows through the flow path C2 and the flow path C3. The water used by the user is purified by the water W2 passing through the RO filter 16.
また、図1に示されるように、第2ポンプP2が駆動することにより、塩素水タンクT2内の塩素水W3が汲み上げられ、流路C3を流れることにより、フィルター16の流入側へ供給される。この際に、流路C3を流れる水W2及びフィルター16の流入側のろ過面が塩素水W3により殺菌浄化される。 As shown in FIG. 1, when the second pump P2 is driven, the chlorine water W3 in the chlorine water tank T2 is pumped up and supplied to the inlet side of the filter 16 by flowing through the flow path C3. At this time, the water W2 flowing through the flow path C3 and the filtration surface on the inlet side of the filter 16 are sterilized and purified by the chlorine water W3.
また、図1に示されるように、第3ポンプP3が駆動することにより、塩素水タンクT2内の塩素水W4,W5が汲み上げられ、流路C4及び流路C5を流れることにより、ROフィルター16の流出側に塩素水W4が供給されフィルター16の流出側を殺菌浄化すると共に、塩素水タンクT2内の塩素水W5が貯水タンクT3へも供給され、浄化水としてユーザの利用に供される。 Further, as shown in FIG. 1, when the third pump P3 is driven, the chlorine water W4, W5 in the chlorine water tank T2 is pumped up and flows through the flow path C4 and the flow path C5, so that the RO filter 16 Chlorinated water W4 is supplied to the outflow side of the filter 16 to sterilize and purify the outflow side of the filter 16, and chlorinated water W5 in the chlorinated water tank T2 is also supplied to the water storage tank T3, where it is made available to the user as purified water.
なお、図1に示されるように、流路C3を流れる水W2及び塩素水W3の一部は、ROフィルター16を透過し、流路C6を流れる水W6となり、流路C7を流れる水W7となり、貯水タンクT3へ貯められる。 As shown in FIG. 1, part of the water W2 and chlorinated water W3 flowing through the flow path C3 passes through the RO filter 16 and becomes water W6 flowing through the flow path C6, and water W7 flowing through the flow path C7. , is stored in the water storage tank T3.
一方、ROフィルター16を透過しなかった次亜塩素酸を含む水W8は流路C8を通って循環し、再びROフィルター16をクロスフローすることで循環流路において次亜塩素酸が高濃度になる。なお、循環流路には、図示されていない循環流路を構成する流路、各種タンク、フィルター、ポンプ、及びバルブ等の水処理システム10の各構成要素も含まれる。 Meanwhile, water W8 containing hypochlorous acid that did not pass through the RO filter 16 circulates through flow path C8, and by cross-flowing the RO filter 16 again, the concentration of hypochlorous acid becomes high in the circulation flow path. Note that the circulation flow path also includes each component of the water treatment system 10, such as the flow paths that make up the circulation flow path (not shown), various tanks, filters, pumps, and valves.
また、図1に示されるように、高濃度に濃縮された塩素水W9は、流路C9を流れて、排水タンクT4へ流出させてもよいし、貯水タンクに貯められている浄化水を、流路Cxを介して水栓12に供給し、循環流路内の塩素水の濃度を希釈してもよい。 Further, as shown in FIG. 1, the highly concentrated chlorine water W9 may flow through the channel C9 and be discharged to the drainage tank T4, or the purified water stored in the water storage tank may be The concentration of chlorine water in the circulation channel may be diluted by supplying it to the faucet 12 through the channel Cx.
温度センサ18は、水処理システム10内部に設置され、塩素水タンクT2が配置された周囲の温度を逐次検知する。また、温度センサ18は、塩素水タンクT2内部の温度を直接検知してもよい。 The temperature sensor 18 is installed inside the water treatment system 10 and continuously detects the temperature of the surrounding area where the chlorine water tank T2 is located. The temperature sensor 18 may also directly detect the temperature inside the chlorine water tank T2.
制御装置20は、水処理システム10の系内を循環する水の量、圧力、循環速度、循環間隔の他、ROフィルター16や循環流路、各タンクT1及びT3に供給する塩素水の量や濃度等を制御する。 The control device 20 controls the amount, pressure, circulation speed, and circulation interval of water circulating within the water treatment system 10, as well as the amount and concentration of chlorine water supplied to the RO filter 16, the circulation flow path, and each of the tanks T1 and T3.
塩素水の塩素濃度は周囲の温度に応じて変化する。具体的には、温度が高いほど塩素水の塩素濃度は低下し、温度が低いほど塩素水の当初の塩素濃度が維持される。塩素水タンクT2に貯められている塩素水の塩素濃度も、周囲の温度に応じて変化する。このため、例えば、毎回一定量の塩素水をROフィルター16や循環流路、各タンクT1及びT3へ供給するような制御が予め定められていたとしても、塩素水の塩素濃度が温度に応じて変化するため、水が十分に浄化されない場合が生じ得る。 The chlorine concentration of the chlorine water changes depending on the surrounding temperature. Specifically, the higher the temperature, the lower the chlorine concentration of the chlorine water, and the lower the temperature, the more the initial chlorine concentration of the chlorine water is maintained. The chlorine concentration of the chlorine water stored in the chlorine water tank T2 also changes depending on the surrounding temperature. For this reason, even if control is predetermined to supply a fixed amount of chlorine water to the RO filter 16, the circulation flow path, and each of the tanks T1 and T3 each time, the chlorine concentration of the chlorine water changes depending on the temperature, and so the water may not be sufficiently purified.
そこで、本実施形態の水処理システム10の制御装置20は、温度センサ18によって時間の経過と共に検知された温度の累積変化に基づいて、塩素水タンクT2内の塩素水の塩素濃度を推定し、推定した塩素濃度に応じてROフィルター16及び貯水タンクT3へ供給する塩素水の量を決定する。そして、制御装置20は、決定した量の塩素水がROフィルター16及び貯水タンクT3へ供給されるように第2ポンプP2及び第3ポンプP3を制御する。制御装置20による、ROフィルター16及び貯水タンクT3へ供給する塩素水の量の決定方法及び制御方法等は、例えば、特許7092425号公報に開示されている方法を利用することができる。 Therefore, the control device 20 of the water treatment system 10 of the present embodiment estimates the chlorine concentration of the chlorinated water in the chlorinated water tank T2 based on the cumulative change in temperature detected over time by the temperature sensor 18, The amount of chlorine water to be supplied to the RO filter 16 and water storage tank T3 is determined according to the estimated chlorine concentration. Then, the control device 20 controls the second pump P2 and the third pump P3 so that the determined amount of chlorine water is supplied to the RO filter 16 and the water storage tank T3. As a method for determining and controlling the amount of chlorine water to be supplied to the RO filter 16 and the water storage tank T3 by the control device 20, for example, the method disclosed in Japanese Patent No. 7092425 can be used.
なお、塩素水は、水処理システム10の内部洗浄にも利用することが可能である。 Chlorine water can also be used to clean the inside of the water treatment system 10.
そこで、本実施形態の水処理システム10の制御装置20は、中間タンクT1と流路C2,C3,C8とROフィルター16とを含んで構成される循環流路内において、塩素水タンクT2内の塩素水を循環させることにより、水処理システム10の循環流路内の各タンクや循環流路の内部洗浄をする。 Therefore, the control device 20 of the water treatment system 10 of the present embodiment controls the chlorine water tank T2 in the circulation flow path that includes the intermediate tank T1, flow paths C2, C3, and C8, and the RO filter 16. By circulating chlorinated water, the inside of each tank and circulation channel in the circulation channel of the water treatment system 10 is cleaned.
なお、ROフィルター16は、原則として塩素水中の塩素を透過しないように構成されている。このため、中間タンクT1と流路C2,C3,C8とROフィルター16とを含んで構成される循環流路内において塩素水を循環させることにより、ROフィルター16の流入側の循環流路内において塩素を濃縮させることが可能となる。これにより、水処理システム10内に存する塩素水を利用して水処理システム10の内部洗浄を効率的に実施することができる。また、本方法により、水処理システム10の内部洗浄をするために使用する塩素水を外部から補充する量が不要、若しくは極めて少量で済み、その結果、内部洗浄により発生する濃縮排水の排出量も少なくでき、ユーザによるメンテナンス労力やメンテナンス作業の煩雑さを著しく軽減できる。 Note that the RO filter 16 is configured so that, in principle, chlorine in chlorine water does not pass therethrough. For this reason, by circulating chlorine water in the circulation flow path that includes the intermediate tank T1, flow paths C2, C3, and C8, and the RO filter 16, the chlorine water is It becomes possible to concentrate chlorine. Thereby, the interior of the water treatment system 10 can be efficiently cleaned using the chlorinated water existing in the water treatment system 10. Furthermore, with this method, there is no need to replenish the amount of chlorinated water used for internal cleaning of the water treatment system 10 from the outside, or the amount required is extremely small, and as a result, the amount of concentrated wastewater generated by internal cleaning can be reduced. This can significantly reduce the maintenance effort and complexity of maintenance work by the user.
具体的には、制御装置20は、塩素水タンクT2内の塩素水の塩素濃度の推定結果に応じて、中間タンクT1と流路C2,C3,C8とROフィルター16とを含んで構成される循環流路を内部洗浄するために循環させる塩素水の量を決定する。 Specifically, the control device 20 is configured to include an intermediate tank T1, channels C2, C3, and C8, and an RO filter 16, depending on the estimation result of the chlorine concentration of the chlorine water in the chlorine water tank T2. Determine the amount of chlorine water to be circulated for internal cleaning of the circulation channel.
そして、制御装置20は、第1ポンプP1を制御することにより、決定した量の塩素水を循環流路において循環させる。これにより、中間タンクT1と流路C2,C3,C8とROフィルター16とを塩素水が循環する過程において、塩素水がROフィルター16を透過する際に塩素が循環流路に残留し、ROフィルター16の流入側の循環流路を循環する塩素水に含まれる塩素濃度を高くすることにより、中間タンクT1と流路C2,C3,C8とROフィルター16とを含んで構成される循環流路が浄化される。 Then, the control device 20 circulates the determined amount of chlorine water in the circulation channel by controlling the first pump P1. As a result, in the process of chlorine water circulating through the intermediate tank T1, flow paths C2, C3, and C8, and the RO filter 16, when the chlorine water passes through the RO filter 16, chlorine remains in the circulation flow path, and the RO filter By increasing the chlorine concentration contained in the chlorine water circulating through the circulation flow path on the inflow side of No. 16, the circulation flow path including the intermediate tank T1, flow paths C2, C3, and C8, and the RO filter 16 is created. be purified.
例えば、制御装置20は、推定した塩素水の塩素濃度に応じて、ROフィルター16に対して塩素水を通過させる塩素水の量を決定し、第1ポンプP1を制御することにより、所定回数分、第1ポンプP1を駆動させる制御をするなどして、ROフィルター16に対して所望の塩素濃度に達するまで塩素水をクロスフローさせる。塩素水をROフィルター16へクロスフローさせることを繰り返すことにより、循環流路を循環する塩素水の塩素濃度を所望の濃度に制御することが可能となる。 For example, the control device 20 determines the amount of chlorine water to be passed through the RO filter 16 according to the estimated chlorine concentration of the chlorine water, and controls the first pump P1 for a predetermined number of times. , controls to drive the first pump P1, etc., to cause chlorine water to cross-flow to the RO filter 16 until a desired chlorine concentration is reached. By repeating the cross-flow of chlorinated water to the RO filter 16, it becomes possible to control the chlorine concentration of the chlorinated water circulating through the circulation channel to a desired concentration.
より具体的には、ROフィルター16へクロスフローさせることにより失った水(以下、単に「透過水」とも称する。)の分だけ、循環流路を循環する塩素水の塩素濃度が高くなる。したがって、ROフィルター16へクロスフローさせた透過水の量を流量計(図示省略)で測ることにより、若しくは透過水が貯められる貯水タンクT3の増水量から、クロスフローにより失った透過水の水量が判明する。この透過水の分だけ塩素水は濃くなることになる。クロスフローを長時間行うことにより、累積の透過水は増加し、透過水の総量が増加するにつれて循環流路を流れる塩素水の塩素濃度は高くなる。 More specifically, the chlorine concentration of the chlorine water circulating through the circulation channel increases by the amount of water lost by cross-flowing to the RO filter 16 (hereinafter also simply referred to as "permeated water"). Therefore, by measuring the amount of permeated water cross-flowed to the RO filter 16 with a flow meter (not shown), or from the increase in water in the water storage tank T3 in which permeated water is stored, the amount of permeated water lost due to cross-flow can be determined. Prove. The chlorinated water becomes concentrated by the amount of permeated water. By performing the cross flow for a long time, the cumulative amount of permeated water increases, and as the total amount of permeated water increases, the chlorine concentration of the chlorine water flowing through the circulation channel increases.
このため、制御装置20は、例えば、ROフィルター16へクロスフローさせることにより循環流路の外へ流出した透過水の総量に基づいて、循環流路を循環する塩素水の塩素濃度が所望の濃度となったか否かを判定することができる。 For this reason, the control device 20 controls the chlorine concentration of the chlorine water circulating through the circulation flow path to a desired concentration based on the total amount of permeated water flowing out of the circulation flow path by cross-flowing to the RO filter 16, for example. It can be determined whether or not.
より詳細には、塩素水タンクT2に貯められている塩素水の初期濃度は既知であるため、制御装置20は、例えば、特許7092425号公報に開示されている技術に基づいて、塩素水を作成した初期からどのくらいの時間経過と温度変化とがあったかにより、塩素水タンクT2内の塩素水の塩素濃度を推定し、推定された塩素濃度の塩素水をどれだけROフィルター16へクロスフローさせたかにより、循環流路を循環する塩素水の塩素濃度を推定することができる。 More specifically, since the initial concentration of chlorine water stored in the chlorine water tank T2 is known, the control device 20 creates chlorine water based on the technology disclosed in Japanese Patent No. 7092425, for example. The chlorine concentration of the chlorine water in the chlorine water tank T2 is estimated based on how much time has passed and the temperature has changed since the initial stage, and the amount of chlorine water with the estimated chlorine concentration is cross-flowed to the RO filter 16. , it is possible to estimate the chlorine concentration of the chlorinated water circulating in the circulation channel.
また、別の方法としては、シンク14に所定量の遊離塩素を含む溶液または固体を投入し、水栓12からシンク14へ再生された水を所定量注ぐことにより、所望の濃度の塩素水を循環流路へ流入させることも可能である。この場合には、循環流路内の塩素水の塩素濃度は既知となるため、制御装置20は、上述した方法と同様に、どれだけROフィルター16へクロスフローさせたかにより、循環流路を循環する塩素水の塩素濃度を推定することができる。 Another method is to pour a solution or solid containing a predetermined amount of free chlorine into the sink 14 and pour a predetermined amount of recycled water from the faucet 12 into the sink 14 to obtain chlorine water with a desired concentration. It is also possible to flow into the circulation channel. In this case, since the chlorine concentration of the chlorine water in the circulation flow path is known, the control device 20 controls the circulation flow path depending on how much crossflow has occurred to the RO filter 16, similar to the method described above. The chlorine concentration of chlorinated water can be estimated.
また、循環流路を循環している水の塩素濃度が所望の塩素濃度に達したか否かは、過去のデータ等に基づき判定されてもよい。例えば、制御装置20は、循環させる塩素水の当初の塩素濃度と、循環流路において塩素水を循環させる時間と、その際の循環流路における水の塩素濃度が対応付けられたテーブル等を参照して、循環流路を循環している水の塩素濃度が所望の塩素濃度に達したか否かを判定するようにしてもよい。 Further, whether the chlorine concentration of the water circulating through the circulation channel has reached a desired chlorine concentration may be determined based on past data or the like. For example, the control device 20 refers to a table or the like in which the initial chlorine concentration of the chlorinated water to be circulated, the time for circulating the chlorinated water in the circulation channel, and the chlorine concentration of the water in the circulation channel at that time are associated. Then, it may be determined whether the chlorine concentration of the water circulating through the circulation channel has reached a desired chlorine concentration.
そして、例えば、制御装置20は、推定した塩素水の塩素濃度に応じて、ROフィルター16や循環流路において塩素水を循環させる時間を決定し、第1ポンプP1を制御することにより、決定した時間分、塩素水を循環させる。この場合、より具体的には、制御装置20は、第1ポンプP1を駆動させる時間を制御するなどして、決定した時間分、循環流路において決定した量の塩素水を循環させる。第1ポンプP1を駆動させる時間は連続であっても、断続的であってもよく、水処理システム10の内部の汚れ具合に応じて制御される。 Then, for example, the control device 20 determines the time period for circulating the chlorinated water in the RO filter 16 or the circulation channel according to the estimated chlorine concentration of the chlorinated water, and controls the first pump P1 to determine the time period for which the chlorinated water is circulated. Circulate chlorinated water for an hour. In this case, more specifically, the control device 20 circulates the determined amount of chlorine water in the circulation flow path for the determined time by controlling the driving time of the first pump P1. The time for driving the first pump P1 may be continuous or intermittent, and is controlled depending on the degree of dirt inside the water treatment system 10.
また、例えば、制御装置20は、推定した塩素水の塩素濃度に応じて、中間タンクT1において塩素水を滞留させる滞留時間や滞留させる濃縮された塩素水の量を決定し、滞留時間に応じて、第1ポンプP1を制御することにより、中間タンクT1において塩素水を滞留させる。この場合、より具体的には、制御装置20は、第1ポンプP1を駆動させた後、第1ポンプP1を所定時間停止するように制御するなどして、決定した時間分、中間タンクT1において濃縮された塩素水を滞留させることで中間タンク内の汚れを効果的に洗浄することができる。 For example, the control device 20 determines the retention time for retaining the chlorine water and the amount of concentrated chlorine water to retain in the intermediate tank T1 according to the estimated chlorine concentration of the chlorine water, and determines the retention time and the amount of concentrated chlorine water to retain in the intermediate tank T1. , by controlling the first pump P1, chlorine water is retained in the intermediate tank T1. In this case, more specifically, the control device 20 drives the first pump P1 and then controls the first pump P1 to stop for a predetermined period of time, so that the control device 20 operates the intermediate tank T1 for the determined period of time. By retaining concentrated chlorine water, dirt in the intermediate tank can be effectively cleaned.
以上のように、塩素水を用いて水処理システム10の内部洗浄を実施する際に、塩素水を循環させる循環流路にROフィルター16を含ませることにより、循環流路内を循環する水の塩素が濃縮され、その塩素濃度が高まることにより、水処理システム10の内部洗浄を適切に実施することができる。 As described above, when cleaning the inside of the water treatment system 10 using chlorinated water, by including the RO filter 16 in the circulation channel that circulates the chlorinated water, the water circulating in the circulation channel can be cleaned. By concentrating chlorine and increasing its chlorine concentration, the interior of the water treatment system 10 can be appropriately cleaned.
水処理システム10の制御装置20は、例えば、図2に示すコンピュータ50で実現することができる。コンピュータ50はCPU51、一時記憶領域としてのメモリ52、及び不揮発性の記憶部53を備える。また、コンピュータ50は、入出力装置等(図示省略)が接続される入出力interface(I/F)54、及び記録媒体に対するデータの読み込み及び書き込みを制御するread/write(R/W)部55を備える。また、コンピュータ50は、インターネット等のネットワークに接続されるネットワークinterface(I/F)56を備える。CPU51、メモリ52、記憶部53、入出力I/F54、R/W部55、及びネットワークI/F56は、バス57を介して互いに接続される。
The control device 20 of the water treatment system 10 can be realized, for example, by a
記憶部53は、Hard Disk Drive(HDD)、solid state drive(SSD)、フラッシュメモリ等によって実現できる。記憶媒体としての記憶部53には、コンピュータ50を機能させるためのプログラムが記憶されている。CPU51は、プログラムを記憶部53から読み出してメモリ52に展開し、プログラムが有するプロセスを順次実行する。
The
記憶部53には、水処理システム10の内部の汚れ具合を示す指標(濁度、色度、粘度、水温、水圧、pH、SS:浮遊物質量、TOC:全有機炭素、菌数、DO:溶存酸素量、BOD:生物学的酸素要求量、COD:化学的酸素要求量、T-N:総窒素、T-P:総リン等)やその変動データと、塩素水を用いて水処理システム10の内部洗浄等を実施する際に用いられる各種データが格納される。例えば、記憶部53には、塩素水の塩素濃度と、塩素水の量と、循環流路において塩素水を循環させる時間(又は、ROフィルター16に対して塩素水を透過させる塩素水の量、循環流路において塩素水を循環させる塩素水の量、又は中間タンクT1において塩素水を滞留させる滞留時間や塩素水の量等)とが対応付けられたテーブルデータが格納されている。このテーブルデータに基づき、塩素水の塩素濃度に応じた、塩素水の量と循環流路において塩素水を循環させる時間等(又は、ROフィルター16に対して塩素水を透過させる塩素水の量、循環流路において塩素水を循環させる塩素水の量、又は中間タンクT1において塩素水を滞留させる滞留時間や塩素水の量等)とが決定される。
The
なお、プログラムにより実現される機能は、例えば半導体集積回路、より詳しくはApplication Specific Integrated Circuit(ASIC)等で実現することも可能である。 Note that the functions realized by the program can also be realized by, for example, a semiconductor integrated circuit, more specifically, an application specific integrated circuit (ASIC).
<水処理システム10の作用> <Operation of water treatment system 10>
次に、実施形態の水処理システム10の作用について説明する。水処理システム10の制御装置20は、所定時間が経過する毎に、図3に示す制御処理ルーチンを実行する。なお、以下では、塩素水タンクT2内の塩素水の塩素濃度に応じて、塩素水を循環させる時間を決定し、その時間分、循環流路において塩素水を循環させる場合を例に説明する。 Next, the operation of the water treatment system 10 of the embodiment will be explained. The control device 20 of the water treatment system 10 executes the control processing routine shown in FIG. 3 every time a predetermined time elapses. In addition, below, the case where the time to circulate chlorine water is determined according to the chlorine concentration of the chlorine water in the chlorine water tank T2, and the chlorine water is circulated in the circulation flow path for that time will be described as an example.
ステップS100において、制御装置20のCPU51は、塩素水タンクT2内の塩素水の塩素濃度を推定する。
In step S100, the
ステップS102において、制御装置20のCPU51は、記憶部53に格納されているテーブルデータを参照し、ステップS100で推定された塩素濃度に応じて、循環流路において循環させる塩素水の量を決定する。
In step S102, the
ステップS104において、制御装置20のCPU51は、記憶部53に格納されているテーブルデータを参照し、ステップS100で推定された塩素水の塩素濃度及びステップS102で決定した塩素水の量に応じて、循環流路において塩素水を循環させる時間を決定する。
In step S104, the
循環流路において塩素水を循環させる時間は、塩素水の量、塩素濃度、水処理システム10の規模(使用するタンクの容量や循環流路の長さや容積等)及び/又は循環流路内の汚染度や内部洗浄の実施間隔に応じて異なるものとなる。記憶部53に格納されているテーブルデータには、少なくとも塩素水の量及び塩素濃度に応じた適切な循環時間が予め設定されている。このため、制御装置20のCPU51は、記憶部53に格納されているテーブルデータを参照し、循環流路において塩素水を循環させる時間を決定する。
The time for circulating chlorinated water in the circulation flow path depends on the amount of chlorine water, the chlorine concentration, the scale of the water treatment system 10 (the capacity of the tank used, the length and volume of the circulation flow path, etc.), and/or the length of time in the circulation flow path. It varies depending on the degree of contamination and the interval between internal cleanings. In the table data stored in the
ステップS106において、制御装置20のCPU51は、第2ポンプP2を駆動させるように制御することにより、ステップS102で決定された量の塩素水をROフィルター16へ供給する。なお、制御装置20のCPU51は、ROフィルター16から流出した水が流路C8へ流れるようにバルブBを切り替えるように制御する。
In step S106, the
ステップS108において、制御装置20のCPU51は、第1ポンプP1を駆動させるように制御することにより、ステップS106で供給された塩素水を循環流路内において循環させるように制御する。
In step S108, the
ステップS110において、制御装置20のCPU51は、ステップS104で決定された循環する時間が経過したか否かを判定する。ステップS104で決定された循環する時間が経過した場合には、制御処理ルーチンを終了する。一方、ステップS104で決定された循環する時間が経過していない場合には、ステップS108へ戻り、循環流路における塩素水の循環が繰り返される。
In step S110, the
なお、ステップS110において、制御装置20のCPU51は、上述したような判定方法により、循環流路を循環する塩素水の塩素濃度が所望の濃度に達したか否かを判定し、循環流路を循環する塩素水の塩素濃度が所望の濃度に達するまで、循環流路における塩素水の循環を繰り返すように制御してもよい。
In addition, in step S110, the
これにより、循環流路内を循環する水の塩素が濃縮され、その塩素濃度が高まることにより、水処理システム10の内部洗浄が適切に実施される。なお、この後、制御装置20のCPU51は、ROフィルター16から流出した水が流路C9へ流れるようにバルブBを切り替えるように制御する。
As a result, the chlorine in the water circulating in the circulation channel is concentrated, and the chlorine concentration increases, so that the interior of the water treatment system 10 is appropriately cleaned. Note that after this, the
以上説明したように、実施形態に係る水処理システム10は、水が流れる流路と、塩素水が貯められている塩素水タンクT2と、利用された水が貯められている中間タンクT1と、透過する水に含まれる次亜塩素酸の濃度を低下させるROフィルター16と、温度センサ18と、少なくとも1つ以上のポンプP1,P2,P3と、制御装置20と、を備えている。そして、水処理システム10の制御装置20は、温度センサ18によって検知された温度に基づいて、塩素水タンクT2内の塩素水の塩素濃度を推定し、推定した塩素濃度に応じて、中間タンクT1と流路C2,C3,C8とROフィルター16とを含んで構成される循環流路を循環させる塩素水の量を決定する。制御装置20は、少なくとも1つ以上のポンプP1,P2,P3を制御することにより、決定した量の塩素水を循環流路において循環させ、塩素水をROフィルター16へ透過させ、循環流路を循環する塩素水に含まれる塩素濃度を高くすることにより、循環流路を浄化する。これにより、水処理システム10内に存する塩素水を利用して水処理システムの内部洗浄を効率的に実施することができる。本方法により、水処理システム10の内部洗浄をするために使用する塩素水を外部から補充する量が不要、若しくは極めて少量で済み、その結果、内部洗浄により発生する濃縮排水の排出量も少なくでき、ユーザによるメンテナンス労力やメンテナンス作業の煩雑さを著しく軽減できる。このため、本実施形態によれば、水処理システムの内部洗浄をする際に発生する排水の量を抑制することができる。また、中間タンクT1内及び流路の汚れを抑制するための自律型塩素水洗浄が可能となり、ユーザビリティが向上する。 As explained above, the water treatment system 10 according to the embodiment includes a channel through which water flows, a chlorinated water tank T2 in which chlorinated water is stored, and an intermediate tank T1 in which used water is stored. It includes an RO filter 16 that reduces the concentration of hypochlorous acid contained in permeated water, a temperature sensor 18, at least one pump P1, P2, P3, and a control device 20. Then, the control device 20 of the water treatment system 10 estimates the chlorine concentration of the chlorine water in the chlorine water tank T2 based on the temperature detected by the temperature sensor 18, and adjusts the chlorine concentration in the intermediate tank T1 according to the estimated chlorine concentration. The amount of chlorinated water to be circulated through the circulation flow path including the flow paths C2, C3, and C8 and the RO filter 16 is determined. The control device 20 circulates the determined amount of chlorine water in the circulation channel by controlling at least one or more pumps P1, P2, and P3, allows the chlorine water to pass through the RO filter 16, and closes the circulation channel. The circulating flow path is purified by increasing the chlorine concentration contained in the circulating chlorinated water. Thereby, the interior of the water treatment system can be efficiently cleaned using the chlorinated water existing in the water treatment system 10. With this method, there is no need to replenish the amount of chlorinated water used for internal cleaning of the water treatment system 10 from the outside, or the amount required is extremely small, and as a result, the amount of concentrated wastewater generated by internal cleaning can also be reduced. , the maintenance effort and complexity of maintenance work by the user can be significantly reduced. Therefore, according to this embodiment, the amount of waste water generated when cleaning the inside of the water treatment system can be suppressed. Moreover, autonomous chlorine water cleaning for suppressing dirt in the intermediate tank T1 and the flow path becomes possible, and usability is improved.
なお、本開示は、上述した実施形態に限定されるものではなく、この発明の要旨を逸脱しない範囲内で様々な変形や応用が可能である。 Note that the present disclosure is not limited to the embodiments described above, and various modifications and applications are possible without departing from the gist of the present invention.
例えば、上記実施形態では、塩素水タンクT2に貯められている塩素水を利用して内部洗浄をする場合を例に説明したが、これに限定されるものではない。例えば、シンク14から塩素水(又は、水と塩素タブレット)を追加投入し、その塩素水を循環流路において循環させるようにしてもよい。この場合に追加投入される塩素水(又は、水と塩素タブレット)の塩素濃度は既知であり所定値となる。このため、制御装置20は、例えば、塩素水が追加投入されたことに応答して、所定の時間分、追加投入された塩素水を循環流路において循環させるようにしてもよい。または、制御装置20は、塩素水タンクT2に貯められている塩素水と追加投入された塩素水との両方を循環流路において循環させるようにしてもよい。この場合には、制御装置20は、塩素水タンクT2に貯められている塩素水の塩素濃度と、追加投入された塩素水の塩素濃度とに応じて、循環流路において循環させる時間等を決定するようにしてもよい。 For example, in the above embodiment, a case has been described in which the internal cleaning is performed using chlorine water stored in the chlorine water tank T2, but the present invention is not limited to this. For example, chlorine water (or water and chlorine tablets) may be added from the sink 14, and the chlorine water may be circulated in the circulation channel. In this case, the chlorine concentration of the additionally added chlorine water (or water and chlorine tablet) is known and becomes a predetermined value. For this reason, the control device 20 may, for example, respond to the additional injection of chlorine water and circulate the additional chlorine water in the circulation channel for a predetermined period of time. Alternatively, the control device 20 may circulate both the chlorine water stored in the chlorine water tank T2 and the additionally added chlorine water in the circulation flow path. In this case, the control device 20 determines the time for circulation in the circulation channel, etc., depending on the chlorine concentration of the chlorine water stored in the chlorine water tank T2 and the chlorine concentration of the additionally added chlorine water. You may also do so.
また、上記実施形態では、制御装置20は、単に、循環流路を循環する塩素水の塩素濃度を所望の濃度に制御する場合を例に説明したが、これに限定されるものではない。例えば、制御装置20は、循環流路内の水の汚れ度に応じて、水処理システム10内の洗浄部位と洗浄頻度とを決定し、決定した洗浄部位と洗浄頻度とに応じて、所望の塩素濃度となるように循環流路内の塩素水の塩素濃度を制御するようにしてもよい。 Further, in the above embodiment, the control device 20 simply controls the chlorine concentration of the chlorine water circulating through the circulation channel to a desired concentration, but the control device 20 is not limited to this. For example, the control device 20 determines the cleaning area and cleaning frequency in the water treatment system 10 according to the degree of contamination of the water in the circulation flow path, and selects a desired cleaning area and cleaning frequency according to the determined cleaning area and cleaning frequency. The chlorine concentration of the chlorine water in the circulation channel may be controlled so that the chlorine concentration is the same.
なお、水の汚れ度は、一般的な水質評価項目(濁度、電気伝導率、色度、pH、全硬度、遊離塩素、COD、TOC、TN、又はNH4量等)の実測値、指標値、変動値、変動傾向の他、水処理装置が設置される場所(家庭なのか、集合住宅、集落や商業施設、又は工場なのか等)と処理対象(手洗い排水なのか、シャワー、キッチン、トイレ等で使用された生活排水なのか、又は産業排水なのか等)とによる水質の違いに関する蓄積データに基づいた推定値、水処理装置の使用履歴と基準データとに基づいた推定値(例えば、水栓から吐出された水の使用量、使用頻度、使用間隔等から水処理システム10内の水質変化を推定する)により求められる。 The degree of water contamination is based on actual measured values and index values of general water quality evaluation items (turbidity, electrical conductivity, chromaticity, pH, total hardness, free chlorine, COD, TOC, TN, or NH4 amount, etc.) , fluctuation values, fluctuation trends, as well as the location where the water treatment equipment is installed (whether it is a home, apartment complex, village, commercial facility, or factory, etc.) and the target of treatment (whether it is hand washing wastewater, shower, kitchen, toilet, etc.) Estimated values based on accumulated data regarding differences in water quality depending on whether the water quality is domestic or industrial wastewater used in The water quality change in the water treatment system 10 is estimated from the amount of water discharged from the tap, frequency of use, interval of use, etc.).
このため、制御装置20は、上述したような水の汚れ度に関するデータを取得し、そのデータに基づいて、水処理システム10内の洗浄部位と洗浄頻度とを決定し、決定した洗浄部位と洗浄頻度とに応じて、所望の塩素濃度となるように循環流路内の塩素水の塩素濃度を制御する。例えば、制御装置20は、汚れ度が高い水が流れる部位を、洗浄部位として決定し、その洗浄部位の洗浄頻度が高くなるように設定する。そして、例えば、制御装置20は、汚れ度が高い場合には、循環させる塩素水の塩素濃度を高くするように制御する。これにより、水処理システム10の循環流路を流れる水の汚れ度に応じて、循環流路を流れる塩素水の塩素濃度を適切に制御することができる。 For this reason, the control device 20 acquires data regarding the degree of water contamination as described above, determines the cleaning parts and cleaning frequency in the water treatment system 10 based on the data, and determines the cleaning parts and cleaning frequency in the water treatment system 10. The chlorine concentration of the chlorine water in the circulation channel is controlled according to the frequency so that the desired chlorine concentration is achieved. For example, the control device 20 determines a region through which highly contaminated water flows as a cleaning region, and sets the frequency of cleaning of that cleaning region to be high. For example, when the degree of contamination is high, the control device 20 controls the chlorine concentration of the circulated chlorine water to be increased. Thereby, the chlorine concentration of the chlorine water flowing through the circulation flow path can be appropriately controlled depending on the degree of contamination of the water flowing through the circulation flow path of the water treatment system 10.
なお、洗浄条件の一例としては、以下が挙げられる。 Note that examples of cleaning conditions include the following.
水処理システム10の洗浄を毎日実施する場合には、塩素濃度は0.1ppm~100ppm、好ましくは1ppm~20ppm、1分~10時間洗浄する。洗浄のタイミングは、最初の貯水循環時に循環流路を洗浄するのに必要な量の塩素水を所望の濃度になるよう作成し、洗浄部位に自動で投入、洗浄される。 When cleaning the water treatment system 10 every day, the cleaning is performed at a chlorine concentration of 0.1 ppm to 100 ppm, preferably 1 ppm to 20 ppm, for 1 minute to 10 hours. The cleaning timing is such that during the first water storage circulation, the amount of chlorine water necessary to clean the circulation flow path is prepared to the desired concentration, and is automatically poured into the cleaning area for cleaning.
また、濃くなった塩素を希釈する場合は、貯水タンクT3から処理水を循環流路へ必要量を投入することで所望の低濃度の塩素水を作成することもできる。 In addition, when it is necessary to dilute the concentrated chlorine, the required amount of treated water can be poured from the water storage tank T3 into the circulation flow path to create chlorine water of the desired low concentration.
なお、洗浄に用いる塩素水量は水処理システム10の規模や各種タンクの大きさ、循環流路の容積により定まる。塩素水の濃度は、シンク14から流入する水の汚れ度合いに応じて、蓄積データに基づき、適宜設定される。また洗浄頻度によっても塩素水の濃度は変わる。中間タンクT1の容量が10Lである場合の洗浄条件の一例を以下に示す。 Note that the amount of chlorine water used for cleaning is determined by the scale of the water treatment system 10, the sizes of various tanks, and the volume of the circulation channel. The concentration of chlorine water is appropriately set based on accumulated data depending on the degree of contamination of water flowing in from the sink 14. The concentration of chlorine water also changes depending on the frequency of cleaning. An example of cleaning conditions when the capacity of the intermediate tank T1 is 10L is shown below.
(1)高濃度塩素水(好ましくは塩素濃度100ppm~1000ppm)を作成し、循環流路内の中間タンクT1内で汚れがたまりやすい底部を1分~1時間つけ置き洗浄する。
(2)中間タンクT1に処理水を貯水タンクT3からポンプにより投入して足し、中間タンクT1内の塩素水を希釈(好ましくは塩素濃度1ppm~500ppm)、増水し、中間タンクT1内を1分~1時間つけ置き洗浄する。
(3)中間タンクT1を満水になるまで更に処理水を貯水タンクT3より投入して足し、満水の位置まで塩素水を更に希釈(塩素濃度1ppm~250ppm)して、1分~2時間つけ置き洗浄する。
(4)中間タンクT1を洗浄した塩素水をROフィルター16でろ過し、透過水は処理水として再び貯水タンクT3に送る。
(5)再度、中間タンクT1に貯水タンクT3から処理水を送り、中間タンクT1内を水洗いする。
(6)中間タンクT1に残った塩素を洗い流し、排水タンクT4へ排水し、洗浄工程が終了する。
(1) Highly concentrated chlorine water (preferably chlorine concentration of 100 ppm to 1000 ppm) is prepared, and the bottom part of the intermediate tank T1 in the circulation flow path where dirt tends to accumulate is left to wash for 1 minute to 1 hour.
(2) Add the treated water from the water storage tank T3 to the intermediate tank T1 using a pump, dilute the chlorine water in the intermediate tank T1 (preferably to a chlorine concentration of 1 ppm to 500 ppm), increase the water level, and pump the water in the intermediate tank T1 for 1 minute. Leave it on for ~1 hour and then wash.
(3) Add treated water from the water storage tank T3 until the intermediate tank T1 is full, further dilute the chlorinated water (chlorine concentration 1 ppm to 250 ppm) until it is full, and leave it for 1 minute to 2 hours. Wash.
(4) The chlorinated water that washed the intermediate tank T1 is filtered by the RO filter 16, and the permeated water is sent to the water storage tank T3 again as treated water.
(5) Send the treated water from the water storage tank T3 to the intermediate tank T1 again to wash the inside of the intermediate tank T1.
(6) The chlorine remaining in the intermediate tank T1 is washed away, and the water is drained into the drainage tank T4, and the cleaning process is completed.
また、本願明細書中において、プログラムが予めインストールされている実施形態として説明したが、当該プログラムを、コンピュータ読み取り可能な記録媒体に格納して提供することも可能である。例えば、プログラムは、CD-ROM(Compact Disk Read Only Memory)、DVD-ROM(Digital Versatile Disk Read Only Memory)、及びUSB(Universal Serial Bus)メモリ等の非一時的(non-transitory)記憶媒体に記憶された形態で提供されてもよい。また、プログラムは、ネットワークを介して外部装置からダウンロードされる形態としてもよい。 Although the present specification has described an embodiment in which the program is pre-installed, the program may also be provided by storing it on a computer-readable recording medium. For example, the program may be provided in a form stored on a non-transitory storage medium such as a CD-ROM (Compact Disk Read Only Memory), a DVD-ROM (Digital Versatile Disk Read Only Memory), or a USB (Universal Serial Bus) memory. The program may also be provided in a form in which it is downloaded from an external device via a network.
なお、上記実施形態でCPUがソフトウェア(プログラム)を読み込んで実行した処理を、CPU以外の各種のプロセッサが実行してもよい。この場合のプロセッサとしては、FPGA(Field-Programmable Gate Array)等の製造後に回路構成を変更可能なPLD(Programmable Logic Device)、及びASIC(Application Specific Integrated Circuit)等の特定の処理を実行させるために専用に設計された回路構成を有するプロセッサである専用電気回路等が例示される。または、プロセッサとしては、GPGPU(General-purpose graphics processing UNIT)を用いてもよい。また、各処理を、これらの各種のプロセッサのうちの1つで実行してもよいし、同種又は異種の2つ以上のプロセッサの組み合わせ(例えば、複数のFPGA、及びCPUとFPGAとの組み合わせ等)で実行してもよい。また、これらの各種のプロセッサのハードウェア的な構造は、より具体的には、半導体素子等の回路素子を組み合わせた電気回路である。 Note that the process that the CPU reads and executes the software (program) in the above embodiments may be executed by various processors other than the CPU. In this case, the processor is a PLD (Programmable Logic Device) whose circuit configuration can be changed after manufacturing, such as an FPGA (Field-Programmable Gate Array), and an ASIC (Application Specific Integrated Circuit) to execute specific processing. An example is a dedicated electric circuit that is a processor having a specially designed circuit configuration. Alternatively, a GPGPU (General-purpose graphics processing unit) may be used as the processor. Further, each process may be executed by one of these various processors, or a combination of two or more processors of the same or different types (for example, a combination of multiple FPGAs, a CPU and an FPGA, etc.). ) can also be executed. Further, the hardware structure of these various processors is, more specifically, an electric circuit that is a combination of circuit elements such as semiconductor elements.
また、本実施形態の各処理を、汎用演算処理装置及び記憶装置等を備えたコンピュータ又はサーバ等により構成して、各処理がプログラムによって実行されるものとしてもよい。このプログラムは記憶装置に記憶されており、磁気ディスク、光ディスク、半導体メモリ等の記録媒体に記録することも、ネットワークを通して提供することも可能である。もちろん、その他いかなる構成要素についても、単一のコンピュータやサーバによって実現しなければならないものではなく、ネットワークによって接続された複数のコンピュータに分散して実現してもよい。 Moreover, each process of this embodiment may be configured by a computer or a server equipped with a general-purpose arithmetic processing device, a storage device, etc., and each process may be executed by a program. This program is stored in a storage device, and can be recorded on a recording medium such as a magnetic disk, optical disk, or semiconductor memory, or can be provided through a network. Of course, any other components need not be realized by a single computer or server, but may be realized by being distributed among multiple computers connected via a network.
本明細書に記載された全ての文献、特許出願、および技術規格は、個々の文献、特許出願、および技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記された場合と同程度に、本明細書中に参照により取り込まれる。 All documents, patent applications, and technical standards mentioned herein are incorporated by reference to the same extent as if each individual document, patent application, and technical standard was specifically and individually indicated to be incorporated by reference. Incorporated herein by reference.
なお、上記実施形態においては、「××のみに基づいて」、「××のみに応じて」、「××のみの場合」というように「のみ」との記載がなければ、本明細書においては、付加的な情報も考慮し得ることが想定されていることに留意されたい。一例として、「aの場合にbする」という記載は、明示した場合を除き、「aの場合に常にbする」ことを必ずしも意味しない。 In addition, in the above embodiment, unless there is a description of "only", such as "based only on XX", "according only to XX", or "in the case of only XX", the meaning in this specification is Note that it is envisaged that additional information may also be considered. As an example, the statement ``if a, do b'' does not necessarily mean ``if a, always do b'' unless explicitly stated.
また、何らかの方法、プログラム、端末、装置、サーバ又はシステム(以下「方法等」)において、本明細書で記述された動作と異なる動作を行う側面があるとしても、開示の技術の各態様は、本明細書で記述された動作のいずれかと同一の動作を対象とするものであり、本明細書で記述された動作と異なる動作が存在することは、当該方法等を本開示の技術の各態様の範囲外とするものではない。 Furthermore, even if there is an aspect in which a method, program, terminal, device, server, or system (hereinafter referred to as a "method, etc.") performs an operation different from that described in this specification, each aspect of the disclosed technology The object is the same operation as any of the operations described in this specification, and the existence of operations that are different from the operations described in this specification makes the method etc. each aspect of the technology of the present disclosure. It is not outside the scope of.
以上の実施形態に関し、更に以下の付記を開示する。 Regarding the above embodiments, the following additional notes are further disclosed.
(付記1)
塩素水が流れる流路と、
次亜塩素酸を透過しないフィルターと、を備えた水の循環流路において、
前記塩素水を前記フィルターへクロスフローさせることにより、前記循環流路を循環する塩素水の塩素濃度を所望の濃度に制御する、
塩素濃度の制御方法。
(Appendix 1)
A flow path through which chlorine water flows;
A water circulation flow path having a filter that is impermeable to hypochlorous acid,
The chlorine concentration of the chlorine water circulating through the circulation flow path is controlled to a desired concentration by cross-flowing the chlorine water to the filter.
How to control chlorine concentration.
(付記2)
塩素水が貯められているタンクと、
温度センサと、
制御装置と、を備える水処理装置において、
前記制御装置が、
前記温度センサによって検知された温度に基づいて、前記タンク内の塩素水の塩素濃度を推定し、
推定した前記塩素濃度に応じて、前記循環流路を循環させる塩素水の量を決定する、
付記1に記載の塩素濃度の制御方法。
(Additional note 2)
A tank where chlorinated water is stored,
temperature sensor;
A water treatment device comprising a control device,
The control device includes:
Estimating the chlorine concentration of chlorine water in the tank based on the temperature detected by the temperature sensor,
determining the amount of chlorine water to be circulated through the circulation channel according to the estimated chlorine concentration;
The method for controlling chlorine concentration as described in Supplementary Note 1.
(付記3)
前記制御装置は、更に、
水処理装置内の洗浄部位に応じて、前記循環流路内において前記塩素水を循環又は滞留させる時間を決定し、
少なくとも1つのポンプを制御することにより、決定した前記時間分、前記塩素水を循環又は滞留させる、
付記1又は付記2に記載の塩素濃度の制御方法を実行する、水処理装置の洗浄システム。
(Additional note 3)
The control device further includes:
Determining the time for circulating or retaining the chlorinated water in the circulation flow path depending on the cleaning site in the water treatment device,
circulating or retaining the chlorinated water for the determined amount of time by controlling at least one pump;
A cleaning system for a water treatment device that implements the method for controlling chlorine concentration according to Supplementary Note 1 or 2.
(付記4)
前記制御装置は、
前記循環流路内の水の汚れ度に応じて、水処理装置内の洗浄部位と洗浄頻度とを決定し、
前記決定した洗浄部位と洗浄頻度とに応じて、所望の塩素濃度となるように前記循環流路内の塩素水の塩素濃度を制御して、水処理装置内の洗浄を実行する、
付記3に記載の水処理装置の洗浄システム。
(Additional note 4)
The control device includes:
Determining cleaning parts and cleaning frequency in the water treatment device according to the degree of contamination of the water in the circulation flow path,
controlling the chlorine concentration of the chlorine water in the circulation flow path to achieve a desired chlorine concentration according to the determined cleaning area and cleaning frequency, and cleaning the water treatment device;
A cleaning system for a water treatment device according to Supplementary Note 3.
(付記5)
コンピュータに、付記2に記載の塩素濃度の制御方法を実行させるためのプログラム。
(Appendix 5)
A program for causing a computer to execute the chlorine concentration control method described in appendix 2.
(付記6)
付記3又は付記4に記載の洗浄システムを搭載した水循環型水処理装置。
(Appendix 6)
A water circulation type water treatment device equipped with the cleaning system described in Appendix 3 or Appendix 4.
10 水処理システム
12 水栓
14 シンク
16 ROフィルター
18 温度センサ
20 制御装置
P1 第1ポンプ
P2 第2ポンプ
P3 第3ポンプ
T1 中間タンク
T2 塩素水タンク
T3 貯水タンク
T4 排水タンク
10 Water treatment system 12 Faucet 14 Sink 16 RO filter 18 Temperature sensor 20 Control device P1 First pump P2 Second pump P3 Third pump T1 Intermediate tank T2 Chlorinated water tank T3 Water storage tank T4 Drainage tank
Claims (6)
前記水処理装置内の、
塩素水が流れる流路と、
次亜塩素酸を透過しないフィルターと、を備えた水の循環流路において、
前記水処理装置が備えるタンクであって、かつ塩素水が貯められているタンクから採取された塩素水を前記フィルターへクロスフローさせることにより、前記循環流路を循環する塩素水の塩素濃度を所望の濃度に制御し、前記水処理装置内の各箇所の洗浄を実行する、
方法。 A method for cleaning each location in a water treatment device that can be installed at any location, the method comprising:
In the water treatment device,
A channel through which chlorinated water flows,
In a water circulation flow path equipped with a filter that does not allow hypochlorous acid to pass through,
By cross-flowing chlorinated water collected from a tank included in the water treatment device and storing chlorinated water to the filter, the chlorine concentration of the chlorinated water circulating through the circulation channel can be adjusted to a desired level. controlling the concentration to a concentration of and cleaning each location in the water treatment device;
Method.
制御装置と、を備える前記水処理装置において、
前記制御装置が、
前記温度センサによって検知された温度に基づいて、前記タンク内の塩素水の塩素濃度を推定し、
推定した前記塩素濃度に応じて、前記フィルターへ流入させる塩素水の量を制御することにより、前記循環流路を循環させる塩素水の量を決定する、
請求項1に記載の方法。 temperature sensor;
The water treatment device includes a control device,
The control device includes:
Estimating the chlorine concentration of chlorine water in the tank based on the temperature detected by the temperature sensor,
Determining the amount of chlorinated water to be circulated through the circulation channel by controlling the amount of chlorinated water flowing into the filter according to the estimated chlorine concentration;
The method according to claim 1.
前記推定した塩素水の塩素濃度に応じて、前記循環流路内において前記塩素水を循環又は滞留させる時間を決定し、
少なくとも1つのポンプを制御することにより、決定した前記時間分、前記塩素水を循環又は滞留させる、
請求項2に記載の方法を実行する、水処理装置の洗浄システム。 The control device further includes:
Determining the time for circulating or retaining the chlorinated water in the circulation flow path according to the estimated chlorine concentration of the chlorinated water,
circulating or retaining the chlorinated water for the determined amount of time by controlling at least one pump;
A cleaning system for water treatment equipment, implementing the method according to claim 2.
前記循環流路内の水の汚れ度に応じて、前記水処理装置内の洗浄部位と洗浄頻度とを決定し、
前記決定した洗浄部位と洗浄頻度とに応じて、所望の塩素濃度となるように前記循環流路内の塩素水の塩素濃度を制御して、水処理装置内の洗浄を実行する、
請求項3に記載の水処理装置の洗浄システム。 The control device includes:
Determining cleaning parts and cleaning frequency in the water treatment device according to the degree of contamination of the water in the circulation flow path,
controlling the chlorine concentration of the chlorine water in the circulation flow path to achieve a desired chlorine concentration according to the determined cleaning area and cleaning frequency , and cleaning the water treatment device;
The cleaning system for water treatment equipment according to claim 3.
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