JP7454937B2 - Optical film manufacturing method and optical film manufacturing device - Google Patents
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Description
本発明は、光学フィルムの製造方法及び光学フィルムの製造装置に関する。 The present invention relates to an optical film manufacturing method and an optical film manufacturing apparatus.
光学フィルムは、通常、フィルムを搬送しながら、所望の光学特性を付与するための少なくとも一つの処理を施して製造される。例えば、光学フィルムが偏光フィルムである場合、フィルムに光学特性として直線偏光特性を付与する少なくとも一つの処理が施される。上述したように光学フィルムを製造する場合、フィルムから光学フィルムを製造する過程においてフィルムの幅が変化する。フィルムが搬送されている場合において、上流側のフィルム幅と下流側のフィルムの幅との変化率はネックイン率として知られている(特許文献1参照)。光学フィルムの製造過程において、フィルムのネックイン率が予め設定している許容範囲(管理幅)からズレると、フィルムが破断したり、フィルムの厚さが所望の厚さからズレたりする場合がある。そのため、光学フィルムを適切に製造するためには、ネックイン率の管理は重要である。 Optical films are usually manufactured by subjecting the film to at least one treatment to impart desired optical properties while being transported. For example, when the optical film is a polarizing film, at least one treatment is performed to impart linear polarization properties to the film as an optical property. As described above, when manufacturing an optical film, the width of the film changes during the process of manufacturing the optical film from the film. When the film is being transported, the rate of change between the film width on the upstream side and the width of the film on the downstream side is known as the neck-in rate (see Patent Document 1). During the manufacturing process of optical films, if the neck-in rate of the film deviates from the preset tolerance range (control range), the film may break or the film thickness may deviate from the desired thickness. . Therefore, in order to appropriately manufacture optical films, it is important to manage the neck-in rate.
特許文献1に記載の技術では、ネックイン率を算出するために、上流側測定点及び下流側測定点でフィルムの幅を測定している。しかしながら、特許文献1では、上流側測定点及び下流側測定点において、フィルム(特許文献1におけるウエブ)の同じ箇所、すなわち、上流側測定点で測定されたフィルムの箇所が、下流側測定点を通過する際に下流側測定点でフィルムの幅が測定される。そのため、上流側測定点から下流側測定点にフィルムが移動する間は、ネックイン率が許容範囲からズレているか否かを確認できない。
In the technique described in
そこで、本発明は、ネックイン率を効率よく測定することができ、品質が安定しており、更に材料コストを低減可能な光学フィルムの製造方法及び光学フィルムの製造装置を提供することを目的とする。 Therefore, an object of the present invention is to provide an optical film manufacturing method and an optical film manufacturing apparatus that can efficiently measure the neck-in rate, have stable quality, and further reduce material costs. do.
本発明の一側面に係る光学フィルムの製造方法は、長尺のフィルムにN個の処理(Nは1以上の整数)を施すことによって光学フィルムを製造する方法であって、上記N個の処理は、上記フィルムを搬送しながら行われ、上記搬送中に、複数箇所それぞれで、上記フィルムの幅を連続的に測定し、上記複数箇所から選択される2箇所のうち上流箇所における測定結果及び下流箇所における測定結果のうち同じタイミングで得られた測定結果に基づいて、上記フィルムの幅の変化率を算出する。 A method for manufacturing an optical film according to one aspect of the present invention is a method for manufacturing an optical film by subjecting a long film to N treatments (N is an integer of 1 or more), the method comprising: is carried out while conveying the film, and during the conveyance, the width of the film is continuously measured at each of multiple locations, and the measurement results at the upstream location and downstream of the two locations selected from the multiple locations are measured. The rate of change in the width of the film is calculated based on the measurement results obtained at the same timing among the measurement results at the location.
本発明の他の側面に係る光学フィルムの製造装置は、フィルムに、少なくとも光学特性を付与する処理を実施するためのN個の処理部(Nは1以上の整数)と、上記フィルムを搬送する搬送機構と、上記搬送機構上の複数箇所に配置されており、上記複数箇所それぞれで、上記搬送機構で搬送中の上記フィルムの幅を連続的に測定する複数の幅測定器と、上記複数の幅測定器から選択される2つの幅測定器のうち上流側幅測定器の測定結果と、下流側幅測定器の測定結果のうち同じタイミングで得られた測定結果に基づいて、上記フィルムの幅の変化率を算出する算出部と、を備える。 An optical film manufacturing apparatus according to another aspect of the present invention includes N processing units (N is an integer of 1 or more) for performing a process of imparting at least optical properties to the film, and transporting the film. a conveyance mechanism; a plurality of width measuring devices disposed at a plurality of locations on the conveyance mechanism, each of which continuously measures the width of the film being conveyed by the conveyance mechanism at each of the plurality of locations; The width of the film is determined based on the measurement result of the upstream width measurement device and the measurement result of the downstream width measurement device obtained at the same timing among the two width measurement devices selected from the width measurement devices. and a calculation unit that calculates the rate of change.
上記製造方法及び上記製造装置では、フィルムの幅を、複数箇所で測定する。これによって、フィルムを搬送しながら、フィルムの幅を連続的に測定できる。更に、複数箇所で連続的に測定されたフィルムの幅のうち、上流箇所及び下流箇所において同じタイミングで測定されたフィルムの幅の測定結果に基づいて、フィルムの幅の変化率を算出する。そのため、ネックイン率を効率よく測定することができ、品質が安定しており、更に光学フィルムの材料コストを低減できる。 In the above manufacturing method and the above manufacturing apparatus, the width of the film is measured at multiple locations. This allows the width of the film to be continuously measured while the film is being transported. Furthermore, the rate of change in the width of the film is calculated based on the measurement results of the width of the film measured at the same timing at the upstream and downstream locations among the widths of the film that are continuously measured at a plurality of locations. Therefore, the neck-in rate can be measured efficiently, the quality is stable, and the material cost of the optical film can be reduced.
上記製造方法において、上記上流箇所は、上記N個の処理のうち一つの処理が施される前の位置であり、上記下流箇所は、上記一つの処理が施された後の位置であってもよい。
上記製造装置において、上記上流側幅測定器は、上記N個の処理部のうち一つの処理部の前に配置されており、上記下流側幅測定器は、上記一つの処理部の後に配置されていてもよい。
In the manufacturing method, the upstream location may be a location before one of the N treatments is performed, and the downstream location may be a location after the one treatment is performed. good.
In the manufacturing apparatus, the upstream width measuring device is arranged in front of one of the N processing sections, and the downstream width measuring device is arranged after the one processing section. You can leave it there.
フィルムの幅は、N個の処理それぞれが施される場合に変化し易い。そのため、上記構成では、フィルムの幅が変化し易い箇所で、フィルムの幅の変化率を算出できる。 The width of the film is likely to change as each of the N treatments is applied. Therefore, with the above configuration, the rate of change in the width of the film can be calculated at locations where the width of the film is likely to change.
上記製造方法において、上記N個の処理は、第i-1の処理、第iの処理及び第i+1の処理(iは2以上の整数)を含み、上記上流箇所が上記第i-1の処理の位置と上記第iの処理の位置の間であり、且つ、上記下流箇所が上記第iの処理の位置と上記第i+1の処理の位置の間であってもよい。
上記製造装置において、上記N個の処理部は、第i-1の処理部、第iの処理部及び第i+1の処理部(iは2以上の整数)を含み、上記上流側幅測定器は、上記第i-1の処理部と上記第iの処理部の間に配置されており、上記下流側幅測定器は、上記第iの処理部と上記第i+1の処理部の間に配置されていてもよい。
In the manufacturing method, the N processes include an i-1st process, an i-th process, and an i+1-th process (i is an integer of 2 or more), and the upstream location is the i-1st process. and the i-th processing position, and the downstream location may be between the i-th processing position and the i+1-th processing position.
In the manufacturing apparatus, the N processing units include an i-1th processing unit, an i-th processing unit, and an i+1-th processing unit (i is an integer of 2 or more), and the upstream width measuring device is , disposed between the i-1st processing section and the i-th processing section, and the downstream width measuring device is disposed between the i-th processing section and the i+1th processing section. You can leave it there.
フィルムの幅は、フィルムに処理が施される場合に変化し易い。そのため、上記構成では、フィルムの幅が変化し易い箇所で、フィルムの幅の変化率を算出できる。更に、上記構成において、フィルムの幅の変化率が許容範囲を超えている場合、その幅の変化率は第iの処理に起因するか、第iの処理の前のフィルムの状態が変化していると考えられるため、フィルムの幅の変化率を許容範囲内に調整することで、不具合を未然に回避することができる。 The width of the film is subject to change when processing is applied to the film. Therefore, with the above configuration, the rate of change in the width of the film can be calculated at locations where the width of the film is likely to change. Furthermore, in the above configuration, if the rate of change in the width of the film exceeds the allowable range, the rate of change in width is due to the i-th treatment, or the state of the film before the i-th treatment has changed. Therefore, by adjusting the rate of change in the width of the film within an allowable range, problems can be avoided.
上記製造方法において、上記N個の処理は、第i-1の処理及び第iの処理(iは2以上の整数)を含み、上記上流箇所が上記i-1の処理中の位置にあり且つ上記下流箇所が上記第i-1の処理の位置と上記第iの処理の位置の間であってもよいし、上記上流箇所及び上記下流箇所が、それぞれ上記第i-1の処理の位置と上記第iの処理の位置の間であってもよいし、又は、上記上流箇所が上記第i-1の処理の前の位置であり且つ上記下流箇所が上記第i-1の処理中の位置であってもよい。
上記製造装置において、上記N個の処理部は、第i-1の処理部及び第iの処理部(iは2以上の整数)を含み、上記上流側幅測定器が上記第i-1の処理部の位置に配置されており且つ上記下流側幅測定器が上記第i-1の処理部と上記第iの処理部との間に配置されていてもよいし、上記上流側幅測定器及び上記下流側幅測定器が、それぞれ上記第i-1の処理部と上記第iの処理部の間に配置されていてもよいし、又は、 上記上流側幅測定器が上記第i-1の処理部の前に配置されており且つ上記下流側幅測定器が上記第i-1の処理部の位置に配置されていてもよい。
In the above manufacturing method, the N processes include an i-1th process and an i-th process (i is an integer of 2 or more), the upstream location is at a position during the i-1 process, and The downstream location may be between the i-1st processing position and the i-th processing location, and the upstream location and the downstream location may each be between the i-1th processing location and the i-1st processing location. It may be between the positions of the i-th processing, or the upstream location is a position before the i-1 processing and the downstream location is the location during the i-1 processing. It may be.
In the manufacturing apparatus, the N processing sections include an i-1th processing section and an i-th processing section (i is an integer of 2 or more), and the upstream width measuring device is the i-1th processing section. The downstream width measuring device may be arranged at the position of the processing section, and the downstream width measuring device may be arranged between the i-1th processing section and the i-th processing section, and the upstream width measuring device and the downstream width measuring device may be arranged between the i-1th processing section and the i-th processing section, respectively, or the upstream width measuring device may be arranged between the i-1th processing section and the i-1th processing section, respectively. The downstream width measuring device may be placed in front of the i-1th processing section, and the downstream width measuring device may be placed in front of the i-1th processing section.
上記構成では、フィルムに処理が施されている際の幅の変化率、又は、フィルムに対する一つの処理が終了して次の処理までの間のフィルムの幅の変化率を算出可能である。 With the above configuration, it is possible to calculate the rate of change in the width of the film while the film is being processed, or the rate of change in the width of the film from the end of one process to the next process.
上記製造方法において、上記搬送中に、撮像部で、フィルムの少なくとも端部の像を取得することによって、上記フィルムにおける上記幅を測定してもよい。
上記製造装置において、上記複数の幅測定器の少なくとも一つは、上記フィルムの少なくとも端部を撮像する撮像部を有してもよい。
In the manufacturing method, the width of the film may be measured by capturing an image of at least an end portion of the film using an imaging unit during the transport.
In the manufacturing apparatus, at least one of the plurality of width measuring devices may include an imaging unit that images at least an end portion of the film.
この場合、撮像部で取得された像を用いて、フィルムの幅を算出可能である。 In this case, the width of the film can be calculated using the image acquired by the imaging section.
上記製造方法において、上記搬送中に、上記フィルムに入射した光による上記フィルムからの反射光及び透過光の少なくとも一方の輝度に基づき、上記フィルムにおける上記幅を測定してもよい。
上記製造装置において、上記複数の幅測定器の少なくとも一つは、上記フィルムに入射した光による上記フィルムからの反射光及び透過光の少なくとも一方を検出するための光検出部を有してもよい。
In the manufacturing method, the width of the film may be measured based on the brightness of at least one of reflected light and transmitted light from the film caused by light incident on the film during the transport.
In the manufacturing apparatus, at least one of the plurality of width measuring devices may include a light detection section for detecting at least one of reflected light and transmitted light from the film caused by light incident on the film. .
上記製造装置において、上記複数の幅測定器のうち少なくとも一つの幅測定器は、上記フィルムに光を照射する光照射部を有してもよい。例えば、フィルムからの透過光を検出する際に周辺環境との光の輝度の差が小さい場合、光照射部からの光で周辺環境の輝度を増大できる。その結果、フィルムの幅を測定し易い。 In the manufacturing apparatus, at least one width measuring device among the plurality of width measuring devices may include a light irradiation section that irradiates the film with light. For example, when detecting the transmitted light from the film, if the difference in the brightness of the light with the surrounding environment is small, the brightness of the surrounding environment can be increased with the light from the light irradiation section. As a result, it is easy to measure the width of the film.
上記製造方法において、上記フィルムは、搬送ロールによって搬送され、上記搬送ロール上の上記フィルムに上記光を照射し、上記光の照射により生じる上記フィルム及び上記搬送ロールの反射光の輝度の差に基づき、上記フィルムの端部を検出することによって、上記フィルムにおける上記幅を測定してもよい。
上記製造装置において、上記搬送機構は、搬送ロールを有し、上記光照射部は、上記搬送ロール上の上記フィルムに光を照射し、上記複数の幅測定器のうち少なくとも一つの幅測定器は、上記搬送ロール上の上記フィルムへの上記光照射部からの光により生じる上記フィルム及び上記搬送ロールの反射光の輝度の差に基づき、上記フィルムの幅を測定してもよい。
In the above manufacturing method, the film is transported by a transport roll, the film on the transport roll is irradiated with the light, and based on the difference in brightness between the reflected light of the film and the transport roll caused by the irradiation of the light, , the width in the film may be measured by detecting an edge of the film.
In the manufacturing apparatus, the transport mechanism includes a transport roll, the light irradiation unit irradiates the film on the transport roll with light, and at least one width measuring device among the plurality of width measuring devices The width of the film may be measured based on the difference in brightness between reflected light of the film and the transport roll, which is generated by light from the light irradiation section onto the film on the transport roll.
この場合、フィルムからの反射光と搬送ロールからの反射光との輝度の差で、フィルムの端部を特定し易い。その結果、端部の位置に基づいてフィルムの幅をより正確に算出できる。フィルムからの反射光が正反射で十分な輝度を有する場合、測定は搬送ロール上に限定されない。 In this case, it is easy to identify the edge of the film based on the difference in brightness between the light reflected from the film and the light reflected from the transport roll. As a result, the width of the film can be calculated more accurately based on the position of the edge. If the reflected light from the film is specular and has sufficient brightness, the measurement is not limited to the transport roll.
上記製造方法において、上記透過光は、偏光フィルタを介して上記フィルムに入射した光による上記フィルムからの透過光であってもよい。或いは、上記製造方法において、上記透過光を偏光フィルムに通して得られる光の輝度に基づき、上記フィルムにおける幅を測定してもよい。
上記製造装置の一実施形態は、上記光照射部と上記フィルムとの間に偏光フィルタを有してもよい。或いは、上記製造装置の一実施形態は、上記光検出部と上記フィルムの間に偏光フィルタを有してもよい。
In the above manufacturing method, the transmitted light may be transmitted light from the film caused by light that is incident on the film via a polarizing filter. Alternatively, in the manufacturing method, the width of the film may be measured based on the brightness of light obtained by passing the transmitted light through a polarizing film.
One embodiment of the above-mentioned manufacturing device may have a polarizing filter between the above-mentioned light irradiation part and the above-mentioned film. Alternatively, an embodiment of the manufacturing apparatus may include a polarizing filter between the photodetector and the film.
例えば、フィルムが直線偏光特性を有する場合、偏光フィルタをフィルムとクロスニコル状態に配置することで、フィルムの幅を測定し易い。 For example, when the film has linear polarization characteristics, the width of the film can be easily measured by arranging the polarizing filter and the film in a crossed nicol state.
上記製造方法において、上記N個の処理は、膨潤処理、染色処理、架橋処理、延伸処理及び乾燥処理のうちを少なくとも一つの処理を含んでもよい。
上記製造装置において、上記N個の処理部は、膨潤処理部、染色処理部、架橋処理部、延伸処理部及び乾燥処理部の何れかを少なくとも一つを含んでもよい。
In the manufacturing method, the N treatments may include at least one of a swelling treatment, a dyeing treatment, a crosslinking treatment, a stretching treatment, and a drying treatment.
In the manufacturing apparatus, the N processing sections may include at least one of a swelling processing section, a dyeing processing section, a crosslinking processing section, a stretching processing section, and a drying processing section.
上記光学フィルムの例は、偏光フィルムである。 An example of the optical film is a polarizing film.
本発明によれば、ネックイン率を効率よく測定することができ、品質が安定しており、更に、材料コストを低減可能な光学フィルムの製造方法及び光学フィルムの製造装置を提供できる。 According to the present invention, it is possible to provide an optical film manufacturing method and an optical film manufacturing apparatus that can efficiently measure the neck-in rate, have stable quality, and further reduce material costs.
以下、図面を参照して本発明の実施形態を説明する。図面において同一又は相当の部分に対しては同一の符号を付し、重複する説明を省略する。図面の寸法比率は、説明のものと必ずしも一致していない。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In the drawings, the same or corresponding parts are denoted by the same reference numerals, and redundant explanation will be omitted. The dimensional proportions in the drawings do not necessarily correspond to those in the description.
図1は、本発明の一実施形態を説明するための模式図である。以下、光学フィルムとして偏光フィルムを製造する場合を例に挙げて説明する。 FIG. 1 is a schematic diagram for explaining one embodiment of the present invention. Hereinafter, the case where a polarizing film is manufactured as an optical film will be described as an example.
本実施形態では、長尺のフィルム2を搬送しながら、搬送中のフィルム2に、N個(Nは1以上の整数)の処理を順に施すことによって、偏光フィルム(光学フィルム)4を製造する。N個の処理は、フィルム2に、少なくとも光学特性として直線偏光特性を付与する処理である。Nの上限は、特に限定されないが、Nは、通常30以下の整数であり、25以下の整数であってもよいし、20以下の整数であってもよいし、10以下の整数であってもよい。
In this embodiment, the polarizing film (optical film) 4 is manufactured by sequentially performing N treatments (N is an integer of 1 or more) on the
フィルム2に直線偏光特性が付与されると、フィルム2は偏光フィルム4として機能する。直線偏光特性は、N個の処理が全て完了する前に実質的に付与されるので、フィルム2を用いた偏光フィルム4の製造方法では、製造過程中でフィルム2が偏光フィルム4としての機能を有する。しかしながら、説明の便宜のため、断らない限り、N個の処理全てが終了した後のフィルム2を偏光フィルム4と称し、N個の処理が完了する前のフィルムを全てフィルム2と称す。偏光フィルム4を製造する場合、通常、フィルム2に、膨潤処理、染色処理、架橋処理、延伸処理及び乾燥処理を施す。延伸処理は、何れかの一つの処理(例えば架橋処理)中、又は、複数の処理を施しながら並行してフィルム2に施されてもよい。
When the
フィルム2は、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムである。フィルム2の長手方向の長さの例は、1000m以上30000m以下、好ましくは1000m以上20000m以下の範囲である。フィルム2の幅方向(長手方向に直交する方向)の長さの例は、1300mm~5000mmである。N個の処理が施される前のフィルム2の厚さの例は、10μm~100μmである。フィルム2は、溶融押出法、溶剤キャスト法等の公知の方法で製造され得る。フィルム2は購入されたフィルムや事前に延伸や積層等の処理を行ったフィルムでもよい。図1では、フィルム2を原反ロール6として準備し、原反ロール6から繰り出されたフィルム2にN個の処理を施して偏光フィルム4を得る場合を図示している。フィルム2が上記方法(溶融押出法、溶剤キャスト法等)で製造される場合、例えば、上記方法(溶融押出法、溶剤キャスト法等)によって製造されたフィルム2を連続的に搬送して、その搬送中に上記N個の処理を行ってもよい。
偏光フィルム4の製造装置10は、複数のニップロール11と、複数のガイドロール12と、膨潤処理部131と、染色処理部132と、架橋処理部133と、洗浄処理部134と、乾燥処理部135とを備える。
The
複数のニップロール11及び複数のガイドロール12は、フィルム2の搬送機構に含まれ、フィルム2を搬送するための搬送ロールである。複数のニップロール11及び複数のガイドロール12が適宜配置されることによって、フィルム2の搬送経路が構成されている。
The plurality of nip rolls 11 and the plurality of guide rolls 12 are included in the
ニップロール11は、フィルム2を挟み且つ押圧することで、ニップロール11の回転力をフィルム2に付与する機能を有する。ニップロール11は、フィルム2の搬送方向を変更する機能も有する。フィルム2の搬送方向において、例えば、隣接する2つのニップロール11に周速差を付けることによって、上記隣接する2つのニップロール11間を搬送されるフィルム2に延伸処理(例えば一軸延伸処理)が施される。図1は、製造装置10が8個のニップロール11を有する場合を例示している。6個のニップロール11を区別して説明する場合、図1に示したように、6個のニップロール11を、ニップロール111~116と称す。
The
ガイドロール12は、フィルム2を支持するとともに、フィルム2の搬送方向を変更する機能を有する。図1は、製造装置10が12個のガイドロール12を有する場合を例示している。12個のガイドロール12を区別して説明する場合、図1に示したように、12個のガイドロール12を、ガイドロール121~1212と称す。
The
膨潤処理部131は、フィルム2に膨潤処理を行う部分である。膨潤処理部131は、膨潤処理のための処理液が貯留された処理槽を有する。膨潤処理部131が有する処理液にフィルム2を浸漬することによって、フィルム2に膨潤処理が行われる。本実施形態では、ニップロール111及びガイドロール121~123によって、処理液にフィルム2を浸漬するフィルムの搬送経路が形成されている。この構成では、ニップロール111及びガイドロール123は、膨潤処理部131による膨潤処理がフィルム2に施される前及び後(換言すれば、膨潤処理部131の前及び後)に配置されている。
The swelling processing section 131 is a section that performs swelling processing on the
上記膨潤処理は、フィルム2の表面の異物除去、フィルム2中の可塑剤除去、後工程での易染色性の付与、フィルム2の可塑化などの目的で行われる。膨潤処理の条件は、これらの目的が達成できる範囲で、かつフィルム2の極端な溶解、失透などの不具合が生じない範囲で決定され得る。膨潤処理部131では、フィルム2を、例えば、温度10~50℃、好ましくは20~50℃の処理液に浸漬することにより、膨潤処理が行われる。膨潤処理の時間は、5~300秒程度であり、好ましくは20~240秒程度である。膨潤処理部131における処理液の例は水である。そのため、膨潤処理は、フィルム2の水洗処理も兼ねることができる。
The above-mentioned swelling treatment is performed for the purpose of removing foreign matter from the surface of the
染色処理部132は、フィルム2に染色処理を行う部分である。染色処理部132は、染色処理のための処理液が貯留された処理槽を有する。染色処理部132が有する処理液にフィルムを浸漬することによって、フィルム2に染色処理が行われる。本実施形態では、ニップロール112及びガイドロール124~126によって、処理液にフィルム2を浸漬するフィルムの搬送経路が形成されている。この構成では、ニップロール112及びガイドロール126は、染色処理部132による染色処理がフィルム2に施される前及び後(換言すれば、染色処理部132の前及び後)に配置されている。
The dyeing processing section 132 is a section that performs dyeing processing on the
本実施形態における染色処理部132が有する処理液は、二色性色素の水溶液であり、染色処理では、フィルム2を二色性色素で染色する。通常の二色性色素による染色処理は、フィルム2に二色性色素を吸着させるなどの目的で行われる。処理条件はこのような目的が達成できる範囲で、かつフィルム2の極端な溶解、失透などの不具合が生じない範囲で所望の光学特性に応じて決定される。染色に使用される二色性色素の例は、ヨウ素及び二色性染料である。
The processing liquid possessed by the dyeing processing section 132 in this embodiment is an aqueous solution of a dichroic dye, and in the dyeing process, the
二色性色素としてヨウ素を用いる場合は、例えば10~50℃、好ましくは15~40℃の温度で、かつ、水100重量部に対して、ヨウ素を0.003~0.2重量部及びヨウ化カリウムを 0.1~10重量部含む水溶液中に、10~600秒間、好ましくは30~300秒間、フィルム2を浸漬することにより、染色処理が行われる。ヨウ化カリウムに代えて他のヨウ化物、例えば、ヨウ化亜鉛などを用いてもよい。他のヨウ化物をヨウ化カリウムと併用してもよい。さらに、ヨウ化物以外の化合物、例えば、ホウ酸、塩化亜鉛、塩化コバルトなどを共存させてもよい。水100重量部に対し、ヨウ素を0.003重量部以上含んでいる処理液であれば、染色用の処理液とみなすことができる。
When using iodine as a dichroic dye, add 0.003 to 0.2 parts by weight of iodine to 100 parts by weight of water at a temperature of, for example, 10 to 50°C, preferably 15 to 40°C. The dyeing treatment is carried out by immersing the
二色性色素として水溶性二色性染料を用いる場合は、例えば20~80℃、好ましくは30~60℃の温度で、かつ、水100重量部に対して二色性染料を0.001~0.1 重量部含む水溶液中に、10~600秒間、好ましくは20~300秒間、フィルム2を浸漬することにより、染色処理が行われる。使用する二色性染料の水溶液は、染色助剤などを含有していてもよく、硫酸ナトリウムの如き無機塩、界面活性剤などを含有していてもよい。二色性染料は1種類だけ用いてもよいし、所望される色相に応じて2種類以上の二色性染料を併用することもできる。
When using a water-soluble dichroic dye as the dichroic dye, the dichroic dye is mixed at a temperature of, for example, 20 to 80°C, preferably 30 to 60°C, and 0.001 to 100% of the dichroic dye is added to 100 parts by weight of water. The dyeing treatment is carried out by immersing the
架橋処理部133は、フィルム2に架橋処理を行う部分である。架橋処理部133は、架橋処理のための処理液が貯留された処理槽を有する。架橋処理部133が有する処理液にフィルムを浸漬することによって、フィルム2に架橋処理が行われる。本実施形態では、ニップロール113及びガイドロール127~129によって、処理液にフィルム2を浸漬するフィルムの搬送経路が形成されている。この構成では、ニップロール113及びガイドロール129は、架橋処理部133による架橋処理がフィルム2に施される前及び後(換言すれば、架橋処理部133の前及び後)に配置されている。
The crosslinking processing section 133 is a section that performs crosslinking processing on the
架橋処理は、架橋による耐水化や色相調整(フィルム2が青味がかるのを防止する等)などの目的で行う処理である。
The crosslinking process is a process performed for the purpose of making the film resistant to water and adjusting the hue (preventing the
架橋処理部133で使用する処理液は、例えば、水100重量部に対してホウ酸を例えば約1~10重量部含有する水溶液である。染色処理で使用した二色性色素がヨウ素の場合、架橋処理部133で使用する処理液は、ホウ酸に加えてヨウ化物を含有することが好ましく、その量は、水100重量部に対して、例えば1~30重量部である。ヨウ化物としては、ヨウ化カリウム、ヨウ化亜鉛等が挙げられる。ヨウ化物以外の化合物、例えば、塩化亜鉛、塩化コバルト、塩化ジルコニウム、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、硫酸ナトリウム等を共存させてもよい。 The treatment liquid used in the crosslinking treatment section 133 is, for example, an aqueous solution containing, for example, about 1 to 10 parts by weight of boric acid per 100 parts by weight of water. When the dichroic dye used in the dyeing treatment is iodine, it is preferable that the treatment liquid used in the crosslinking treatment section 133 contains iodide in addition to boric acid, and the amount thereof is 100 parts by weight of water. For example, the amount is 1 to 30 parts by weight. Examples of iodides include potassium iodide and zinc iodide. Compounds other than iodide, such as zinc chloride, cobalt chloride, zirconium chloride, sodium thiosulfate, potassium sulfite, and sodium sulfate, may be present.
架橋処理部133での架橋処理においては、その目的によって、ホウ酸及びヨウ化物の濃度、並びに処理液の温度を適宜変更することができる。 In the crosslinking treatment in the crosslinking treatment section 133 , the concentrations of boric acid and iodide and the temperature of the treatment liquid can be changed as appropriate depending on the purpose.
例えば、架橋処理の目的が架橋による耐水化であり、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムに対し、膨潤処理、染色処理及び架橋処理をこの順に施す場合、処理液の架橋剤含有液は、例えば、濃度が重量比でホウ酸/ヨウ化物/水=3~10/1~20/100の水溶液である。必要に応じ、ホウ酸に代えてグリオキザール又はグルタルアルデヒド等の他の架橋剤を用いてもよく、ホウ酸と他の架橋剤を併用してもよい。フィルム2を浸漬するときの処理液の温度は、通常50℃~70℃程度であり、好ましくは53℃~65℃であり、フィルム2の浸漬時間は、通常10~600秒程度、好ましくは20~300秒、より好ましくは20~200秒である。膨潤処理前に予め延伸したフィルム2に対して染色処理及び架橋処理をこの順に施す場合、処理液の温度は、通常50~85℃程度、好ましくは55~80℃である。
For example, if the purpose of the crosslinking treatment is to make the polyvinyl alcohol resin film water resistant by crosslinking, and a polyvinyl alcohol resin film is subjected to swelling treatment, dyeing treatment, and crosslinking treatment in this order, the crosslinking agent-containing liquid in the treatment liquid may have a concentration of It is an aqueous solution with a ratio of boric acid/iodide/water = 3 to 10/1 to 20/100. If necessary, other crosslinking agents such as glyoxal or glutaraldehyde may be used in place of boric acid, or boric acid and other crosslinking agents may be used in combination. The temperature of the treatment liquid when immersing the
架橋処理の目的が色相調整であり、例えば、二色性色素としてヨウ素を用いた場合、濃度が重量比でホウ酸/ヨウ化物/水=1~5/3~30/100の架橋剤含有液を処理液として使用できる。フィルム2を浸漬するときの処理液の温度は、通常10~45℃程度であり、フィルム2の浸漬時間は、通常1~300秒程度、好ましくは2~100秒である。
When the purpose of the crosslinking treatment is hue adjustment, for example, when iodine is used as a dichroic dye, a crosslinking agent-containing solution with a concentration of boric acid/iodide/water in a weight ratio of 1 to 5/3 to 30/100 is used. can be used as a processing liquid. The temperature of the treatment liquid when immersing the
洗浄処理部134は、架橋処理後のフィルム2に洗浄処理を行う部分である。洗浄処理部134は、洗浄処理のための処理液が貯留された処理槽を有する。洗浄処理部134が有する処理液にフィルム2を浸漬することによって、フィルム2に洗浄処理が行われる。本実施形態では、ニップロール114及びガイドロール1210~1212によって、処理液にフィルム2を浸漬するフィルムの搬送経路が形成されている。この構成では、ニップロール114及びガイドロール1212は、洗浄処理部134による洗浄処理がフィルム2に施される前及び後(換言すれば、洗浄処理部134の前及び後)に配置されている。洗浄処理における処理液としては、水、ヨウ化カリウムを含む水溶液、ホウ酸を含む水溶液が挙げられる。処理液の温度は、通常2℃~40℃程度であり、処理時間は、通常2秒~120秒程度である。
The cleaning processing section 134 is a section that performs a cleaning treatment on the
洗浄処理部134における洗浄処理は、処理液をシャワーとして噴霧する方法、或いは、浸漬と噴霧を併用する方法などによってフィルム2の洗浄を行ってもよい。
In the cleaning process in the cleaning processing section 134 , the
乾燥処理部135は、フィルム2に乾燥処理を行う部分である。本実施形態において乾燥処理部135は、乾燥装置である。乾燥処理部135には、洗浄処理部134で洗浄処理されたフィルム2が搬入され、フィルム2が乾燥処理部135内を通過する間に、フィルム2を乾燥させる。本実施形態では、ニップロール115,116によって、処理液にフィルム2を浸漬するフィルムの搬送経路が形成されている。乾燥処理部135内に、フィルム2を支持及び搬送するために、ガイドロール12が適宜配置されてもよい。乾燥処理部135による乾燥は、約40℃~100℃の温度に保たれた乾燥処理部135の中で、約30秒~約600秒行われる。図1では、乾燥処理部135を模式的に示している。乾燥処理部135は、フィルム2に付着した水分を乾燥できれば特に限定されず、偏光フィルムの製造において、通常、使用される公知のものでよい。
The drying processing section 135 is a section that performs drying processing on the
製造装置10においては、複数のニップロール11における少なくとも2つのニップロール11(上流側のニップロール11と下流側のニップロール11)の周速差を利用してフィルム2を一軸延伸処理する延伸処理を実施する。この場合、上記一軸延伸処理に寄与する2つのニップロール11は延伸処理部として機能する。
In the
例えば、架橋処理部133の前に配置されたニップロール113と架橋処理部133の後に配置されたニップロール114との周速差を利用して一軸延伸処理する延伸処理を行ってもよい。この場合、架橋処理と並行して延伸処理が行われるため、架橋処理部133も、延伸処理部として機能する。延伸処理は、シワの発生を抑制するためにも有効である。
For example, a stretching process may be performed in which uniaxial stretching is performed using the difference in circumferential speed between the
一つの処理部(例えば上述した架橋処理部133)の前後に配置された2つのニップロール11を利用して主に延伸処理を行う一方、他のニップロール11を利用して徐々に延伸処理を更に施してもよい。 While the two nip rolls 11 placed before and after one processing section (for example, the above-mentioned crosslinking processing section 13 3 ) are used to mainly carry out the stretching process, the other nip rolls 11 are used to gradually further carry out the stretching process. It may be applied.
製造装置10は、延伸処理を行うための延伸処理部を別途有してもよい。この場合、延伸処理部は、例えば、架橋処理部133の後段(例えば、架橋処理部133と洗浄処理部134の間)に配置される。
The
製造装置10は、膨潤処理部131、染色処理部132、架橋処理部133、洗浄処理部134及び乾燥処理部135のうち少なくとも一つの処理部を複数有してもよい。例えば、製造装置10は、架橋処理部133を複数備えてもよい。製造装置10が延伸処理部を備える場合も同様であり、製造装置10は、例えば、延伸処理部を複数備えても良い。
The
上記製造装置10を用いて偏光フィルム4を製造する場合、まず、原反ロール6からフィルム2を繰り出し、複数のニップロール11及び複数のガイドロール12で形成される搬送経路に沿ってフィルム2を、その長手方向に搬送する。搬送速度の例は、1m/分~60m/分であってもよく、1.5m/分~50m/分である。フィルム2の搬送経路には、原反ロール6側から、膨潤処理部131、染色処理部132、架橋処理部133、洗浄処理部134及び乾燥処理部135が設けられている。更に、前述したように少なくとも2つのニップロール11は延伸処理部としての機能も有する。そのため、搬送されているフィルム2に、膨潤処理、染色処理、架橋処理、洗浄処理及び乾燥処理が施されるとともに、延伸処理が施される。これによって、フィルム2に直線偏光特性(光学特性)が付与され、偏光フィルム4が得られる。
When manufacturing the polarizing film 4 using the
乾燥処理部135を経て得られた偏光フィルム4は、例えば、偏光フィルム4を含む偏光板の製造に用いられる。例えば、上記偏光板は、偏光フィルム4の片面又は両面に保護フィルムを貼合する貼合工程等が施されることによって製造され得る。乾燥処理部135を経て得られた偏光フィルム4は、上記偏光板の製造のために連続的に搬送されてもよいし、ロール状に一度巻き取られてもよい。 The polarizing film 4 obtained through the drying processing section 13.5 is used, for example, for the manufacture of a polarizing plate including the polarizing film 4. For example, the polarizing plate can be manufactured by carrying out a lamination process or the like in which a protective film is laminated to one or both sides of the polarizing film 4. The polarizing film 4 obtained through the drying processing section 13.5 may be transported continuously for the manufacture of the polarizing plate, or may be wound up once into a roll.
図2に示したように、フィルム2を搬送しながらN個の処理を施して偏光フィルム4を製造する過程において、フィルム2の幅方向の長さが変化する。フィルム2の搬送における任意の2つの箇所のうち、上流側に位置する箇所(以下、「上流箇所」と称す)におけるフィルム2の幅をW1とし、上流箇所より下流側に位置する箇所(以下、「下流箇所」と称す)におけるフィルム2の幅をW2とし、上記上流箇所と下流箇所との間でのフィルム2の幅の変化率をネックイン率(%)と称したとき、本実施形態では、ネックイン率を以下の式で定義する。
ネックイン率=((W1-W2)/W1)×100
As shown in FIG. 2, the length of the
Neck-in rate = ((W1-W2)/W1) x 100
本発明の一実施形態では、上記ネックイン率を監視する監視工程を更に有する。監視工程では、図1に示したように、搬送中のフィルム2における複数の測定ポイント20(複数箇所)でフィルム2の幅を連続的に測定する。図1では、フィルム2の幅の複数の測定ポイント20を矢印で示している。複数の測定ポイント20を区別して説明する場合には、複数の測定ポイント20を測定ポイント201~2012と称す。
An embodiment of the present invention further includes a monitoring step of monitoring the neck-in rate. In the monitoring process, as shown in FIG. 1, the width of the
測定ポイント20は、ニップロール11又はガイドロール12に巻き掛けられたフィルム2の幅を測定するポイントであってもよいし、又は、ニップロール11又はガイドロール12に巻き掛けられていないフィルム2の幅を測定するポイントであってもよい。図1に示した測定ポイント20は一例であり、例えば、測定ポイント201は、ニップロール111から送り出されたフィルム2の幅を測定する位置であってもよいし、測定ポイント204は、ガイドロール126に巻き掛けられたフィルム2(ガイドロール126上のフィルム2)の幅を測定する位置であってもよい。
The
染色処理がフィルム2に施される前の測定ポイント201~203は、ニップロール11又はガイドロール12に巻き掛けられたフィルム2の幅を測定するポイントであることが好ましい。一方、測定ポイント204以降は、ニップロール11又はガイドロール12とフィルム2との関係は、通常、限定されない。
The measurement points 20 1 to 20 3 before the dyeing treatment is applied to the
測定ポイント20は、例えば、N個の処理のうち一つの処理がフィルム2に施される前後に配置され得る。例えば、測定ポイント201は、図1においてニップロール111に巻き掛けられている状態又はニップロール111から送り出された直後のフィルム2の幅を測定するポイントであり、膨潤処理が実施される前の測定ポイントである。測定ポイント202は、ガイドロール123上又はガイドロール123から送り出された直後のフィルム2の幅を測定するポイントである。
The measurement points 20 can be placed, for example, before and after one of the N treatments is applied to the
よって、測定ポイント201,202は、膨潤処理がフィルム2に施される前後におけるフィルム2の幅の測定ポイントである。このように、一つの処理が行われる前後(ある処理部の処理液にフィルムが浸漬される前後)の測定ポイントは、その処理が行われる処理部の前後の測定ポイントでもある。
Therefore, the measurement points 20 1 and 20 2 are points for measuring the width of the
このような測定ポイント20の他の例は、測定ポイント203,204,測定ポイント205,207、測定ポイント208,2010、及び測定ポイント2011,2012である。測定ポイント203,204、測定ポイント205,207及び測定ポイント208,2010は、膨潤処理、染色処理、架橋処理及び洗浄処理が施される前後におけるフィルム2の幅の測定ポイントである。測定ポイント2011,2012は、乾燥処理が施される前後におけるフィルム2の幅の測定ポイントである。
Other examples of such measurement points 20 are
測定ポイント20は、一つの処理がフィルム2に施されている工程の間にフィルム2の幅を測定するポイントであってもよい。このような測定ポイント20の例は、測定ポイント206,209である。測定ポイント206は、ガイドロール127とガイドロール128の間でフィルム2が搬送されている途中の測定ポイントである。同様に、測定ポイント209は、ガイドロール1210とガイドロール1211の間でフィルム2が搬送されている途中の測定ポイントである。測定ポイント206,209では処理液中のフィルム2の幅が測定される。
The
監視工程では、複数の測定ポイント20から予め選択している2箇所(上流箇所及び下流箇所)それぞれにおけるフィルム2の幅を連続的に測定した測定結果のうち上記2箇所において同じタイミングで(すなわち、同時に)測定された測定結果に基づいてネックイン率を算出する。上記「同じタイミング(すなわち、同時に)」は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で若干のズレが生じていてもよい。上記上流箇所での測定時と上記下流箇所の測定時と時間差は、特に限定されないが、1分以内程度であってもよく、30秒以内であってもよく、20秒以内であってもよく、10秒以内であってもよい。監視工程は、自動化(オートメーション化)して実施することが好ましい。
In the monitoring process, among the measurement results obtained by continuously measuring the width of the
上記上流箇所及び下流箇所の例は、上流箇所がN個の処理のうち一つの処理(以下、「所定処理」と称す)の前であり、下流箇所が上記所定処理の後である。例えば、上記所定処理を染色処理とした場合、上流箇所が染色処理の前であり、下流箇所が染色処理の後である。「所定処理の前」及び「所定処理の後」とは、上流箇所と下流箇所と上記「所定処理」との間に他の処理が施される場合も含む。 In the example of the above-described upstream location and downstream location, the upstream location is before one of the N processes (hereinafter referred to as "predetermined processing"), and the downstream location is after the above-mentioned predetermined processing. For example, when the predetermined process is a dyeing process, the upstream location is before the dyeing process, and the downstream location is after the dyeing process. "Before the predetermined process" and "after the predetermined process" include cases where other processes are performed between the upstream location, the downstream location, and the "predetermined process".
N個の処理の内の任意の隣接する2つの処理を第i-1の処理及び第iの処理(iは2以上の整数)と称し、対応する処理部を第i-1の処理部及び第iの処理部と称した場合、上記上流箇所及び下流箇所は、以下の配置例1~3の何れかであってもよい。
[配置例1]
上流箇所が第i-1の処理中の位置(第i-1の処理部の位置)にあり且つ下流箇所が第i-1の処理(第i-1の処理部)の位置と第iの処理(第iの処理部)の位置の間である。例えば、第i-1の処理が架橋処理である場合、図1に示した複数の測定ポイント20において、上流箇所及び下流箇所の例は、測定ポイント206及び測定ポイント207である。
[配置例2]
上流箇所及び下流箇所が、それぞれ第i-1の処理(第i-1の処理部)の位置と第iの処理(第iの処理部)の位置の間である。例えば、第i-1の処理が架橋処理である場合、図1に示した複数の測定ポイント20において、上流箇所及び下流箇所の例は、測定ポイント207及び測定ポイント208である。
[配置例3]
上流箇所が第i-1の処理(第i-1の処理部)の前の位置であり且つ下流箇所が第i-1の処理中の位置(第i-1の処理部の位置)である。例えば、第i-1の処理が架橋処理である場合、図1に示した複数の測定ポイント20において、上流箇所及び下流箇所の例は、測定ポイント205及び測定ポイント206である。
Any two adjacent processes among the N processes are referred to as the i-1st process and the i-th process (i is an integer of 2 or more), and the corresponding processing units are referred to as the i-1th process and When referred to as the i-th processing section, the upstream location and downstream location may be any of the following arrangement examples 1 to 3.
[Layout example 1]
The upstream location is at the position where the i-1th process is being performed (the position of the i-1st processing section), and the downstream location is at the location where the i-1st processing is being performed (the i-1st processing section) and the i-th location. It is between the positions of the processing (i-th processing section). For example, when the i-1th treatment is a crosslinking treatment, examples of the upstream location and the downstream location are the
[Layout example 2]
The upstream location and the downstream location are between the position of the i-1th process (i-1th processing unit) and the position of the i-th process (i-th processing unit), respectively. For example, when the i-1th treatment is a crosslinking treatment, examples of the upstream location and the downstream location are the
[Layout example 3]
The upstream location is the position before the i-1th processing (i-1st processing section), and the downstream location is the location during the i-1st processing (position of the i-1st processing section). . For example, when the i-1th treatment is a crosslinking treatment, examples of the upstream location and the downstream location are the
iを2以上の整数とし、第iの処理の次の処理を第i+1の処理と称し、対応する処理部を第i+1の処理部と称した場合、上流箇所及び下流箇所の例は、以下の配置例4であってもよい。
[配置例4]
上流箇所が第i-1の処理(第i―1の処理部)の位置と第iの処理(第iの処理部)の位置の間であり、且つ、下流箇所が第iの処理(第iの処理部)の位置と第i+1の処理(第i+1の処理部)の位置の間である。例えば、第i-1の処理が架橋処理である場合、図1に示した複数の測定ポイント20において、上流箇所及び下流箇所の例は、測定ポイント207及び測定ポイント2010である。
When i is an integer of 2 or more, the process following the i-th process is called the i+1-th process, and the corresponding processing section is called the i+1-th processing section, examples of upstream locations and downstream locations are as follows. Arrangement example 4 may be used.
[Layout example 4]
The upstream location is between the position of the i-1st process (i-1st processing unit) and the position of the i-th process (i-th processing unit), and the downstream location is between the i-th process (i-1st processing unit) and the position of the i-th process (i-th processing unit). It is between the position of the i-th processing unit) and the position of the i+1-th processing unit (i-th processing unit). For example, when the i-1th treatment is a crosslinking treatment, examples of the upstream location and the downstream location are the
上流箇所及び下流箇所の組として、例えば、上流箇所が測定ポイント201であり、下流箇所が測定ポイント208のように、隣接していない2つの測定ポイント20の組を採用してもよい。
As a set of an upstream location and a downstream location, for example, a set of two
製造装置10が、膨潤処理部131、染色処理部132、架橋処理部133、洗浄処理部134、乾燥処理部135のうち少なくとも一つを複数有する場合、上流箇所及び下流箇所が、それぞれ同じ目的の処理を行う箇所であってもよいし、異なる目的の処理を行う箇所であってもよい。例えば、製造装置10が、膨潤処理部131を2つ以上有し、2つの膨潤処理部131を膨潤処理部131-a,131-bと称した場合、上流箇所が膨潤処理部131-aの位置(又はその前若しくは後)であり、下流箇所が膨潤処理部131-bの位置(又はその前若しくは後)であってもよいし、上流箇所が膨潤処理部131-a又は膨潤処理部131-bの位置(又はその前若しくは後)であり、下流箇所が染色処理部132の位置(又はその前若しくは後)であってもよい。延伸処理部が複数ある場合も同様である。
When the
ネックイン率は、複数の測定ポイント20から選択される上流箇所と下流箇所の複数の組で算出されてもよい。例えば、測定ポイント201での測定結果と、測定ポイント202での測定結果に基づいてネックイン率を算出するとともに、測定ポイント205での測定結果と測定ポイント207での測定結果に基づいてネックイン率を算出してもよい。上流箇所と下流箇所の複数の組において、上流箇所又は下流箇所が共通の組があってもよい。例えば、測定ポイント201の測定結果と測定ポイント202の測定結果に基づいてネックイン率を算出するとともに、測定ポイント201の測定結果と測定ポイント204の測定結果に基づいてネックイン率を算出してもよい。同様に、測定ポイント205の測定結果と測定ポイント207の測定結果に基づいてネックイン率を算出するとともに、測定ポイント206の測定結果と測定ポイント207の測定結果に基づいてネックイン率を算出してもよい。 The neck-in rate may be calculated using a plurality of pairs of upstream locations and downstream locations selected from the plurality of measurement points 20. For example, the neck-in rate is calculated based on the measurement results at measurement point 201 and measurement point 202 , and the neck-in rate is calculated based on the measurement result at measurement point 205 and measurement point 207 . The neck-in rate may also be calculated by Among the plurality of sets of upstream locations and downstream locations, there may be a set in which the upstream location or the downstream location is common. For example, the neck-in rate is calculated based on the measurement results of measurement point 20-1 and measurement point 20-2 , and the neck-in rate is calculated based on the measurement results of measurement point 20-1 and measurement point 20-4 . It may be calculated. Similarly, the neck-in rate is calculated based on the measurement results of the measurement point 20-5 and the measurement result of the measurement point 20-7 , and the neck-in rate is calculated based on the measurement result of the measurement point 20-6 and the measurement result of the measurement point 20-7 . may be calculated.
上記ネックイン率を算出するために、光学フィルムの製造装置10は、図3に示したように複数の幅測定器30と、算出部40とを有する。
In order to calculate the neck-in rate, the optical
各幅測定器30は、フィルム2の幅を連続的に測定する装置である。複数の幅測定器30は、複数の測定ポイント20に一対一に配置される。すなわち、一つの測定ポイント20に一つの幅測定器30が配置される。図3では、複数の幅測定器30のうち、ネックイン率を算出するために選択された2つの幅測定器30(すなわち、上流箇所に配置された上流側幅測定器30UPと、下流箇所に配置された下流側幅測定器30DOWN)と、算出部40を模式的に示している。
Each
幅測定器30は、2つの端部検出器31を有する。2つの端部検出器31の一方は、フィルム2の幅方向における一方の端部2aを検出する検出器であり、他方は、フィルムの幅方向における他方の端部2b(上記端部2aと反対側の端部)を検出する検出器である。幅測定器30は、測定ポイント20におけるフィルム2の状態に応じてフィルム2の端部2a,2bを検出するように構成されている。そのため、測定ポイント20毎に幅測定器30の構成は異なってもよい。ただし、一つの幅測定器30が有する2つの端部検出器31(一つの測定ポイント20に配置される2つの端部検出器31)の構成は同じである。
The
図4は、端部検出器31の一例である端部検出器31Aの概略構成を説明するための模式図である。端部検出器31Aは、搬送ロールR上のフィルム2の幅を測定する際に適用される検出器である。搬送ロールRは、図1に示したニップロール11またはガイドロール12である。
FIG. 4 is a schematic diagram for explaining the schematic configuration of an
端部2a及び端部2bをそれぞれ検出するようにフィルム2に対して2つの端部検出器31Aが配置される。前述したように端部検出器31Aの構成は同じであるため、端部検出器31Aが端部2aを検出する場合を説明する。
Two
端部検出器31Aは、光照射部32と、光検出部33とを有する。図4では、フィルム2が搬送ロールR上に配置されている場合を例示している。
The
光照射部32は、フィルム2に向けて光を照射する。光照射部32は、フィルム2の端部2aと端部2aより外側に光を照射するように構成されている。したがって、図4に示したように、搬送ロールR上にフィルム2が配置されている場合、光照射部32からの光は、搬送ロールRのうちフィルム2と重なっていない部分にも照射される。光照射部32は、フィルム2の幅方向に延在したライン状の光源であり得る。光照射部32は、例えばLEDを有し得る。
The
光照射部32は、筐体34内に配置されていてもよい。筐体34は、光照射部32から出力された光をフィルム2に照射するために窓部34aを有する。窓部34aは、光照射部32から出力された光を透過する材料で構成されていればよい。例えば、窓部34aの材料の例は、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂及びガラスを含む。
The
光検出部33は、光照射部32からフィルム2に照射された光がフィルム2で反射した光(反射光)の輝度を検出する。光検出部33は、フィルム2の少なくとも端部2aを撮像するカメラ(例えばCCDカメラ)といった撮像部であり得る。図4に示したように、搬送ロールR上にフィルム2が配置されている場合、光検出部33は、光照射部32からフィルム2に照射された光のうち例えば搬送ロールRで反射した光の輝度も検出する。
The
光検出部33は、筐体35内に配置されていてもよい。筐体35は、上記反射光を光検出部33で検出するために窓部35aを有する。窓部35aは、上記反射光を透過する材料で構成されていればよい。窓部35aの材料の例は窓部34aの場合と同じである。
The
染色処理がフィルム2に施される前の測定ポイント201,202,203は、通常、搬送ロールR上のフィルム2の幅を測定するポイントである。よって、端部検出器31Aは、測定ポイント201,202,203で好適に適用される。
The measurement points 20 1 , 20 2 , 20 3 before the dyeing treatment is applied to the
図5は、端部検出器(幅測定器)31の他の例である端部検出器31Bの概略構成を説明するための模式図である。端部検出器31Bは、フィルム2に、直線偏光特性が生じている場合(吸収軸が形成されている場合)に適用される検出器である。通常、端部検出器31Bは、染色処理部132における染色処理が施された後のフィルム2に対して適用され得る。
FIG. 5 is a schematic diagram for explaining the schematic configuration of an
端部2a及び端部2bをそれぞれ検出するようにフィルム2に対して2つの端部検出器31Bが配置される。しかしながら、前述したように端部検出器31Bの構成は同じであるため、端部検出器31Bが端部2aを検出する場合を説明する。
Two
端部検出器31Bは、光検出部36と、偏光フィルタ37とを有する。
The
光検出部36は、フィルム2の周辺環境における光がフィルム2に入射し、フィルム2を透過した光(以下、「フィルム2からの光」と称す)の輝度を検出する。光検出部36は、フィルム2の少なくとも端部2aを撮像するカメラ(例えばCCDカメラ)といった撮像部であり得る。
The
上記「フィルム2の周辺環境の光」は、偏光フィルム4を製造する工場に設置された照明器具からの照明光、上記照明光が製造装置10を構成する要素(例えば、ニップロール11及びガイドロール12といった搬送ロールR、図1に示した各処理部が有する処理槽の側壁及び底壁の少なくとも一方、上記工場の床など)に反射した光などを含む。図5では、フィルム2の周辺環境の光を白抜き矢印で模式的に示している。
The above-mentioned "light from the surrounding environment of the
偏光フィルタ37は、直線偏光特性を有するフィルタである。偏光フィルタ37は、光検出部36とフィルム2との間において、フィルム2の吸収軸と偏光フィルタ37の吸収軸がクロスニコル状態となるように配置されている。上記クロスニコル状態とは、フィルム2の吸収軸と偏光フィルタ37の吸収軸のなす角度が90°の場合に限らず、例えば90°に対して±5°、±10°又は15°程度の誤差を含む意味である。
The
光検出部36及び偏光フィルタ37は、光検出部33の場合と同様に、窓部35aを有する筐体35内に配置されてもよい。窓部35aは、フィルム2からの光が透過可能な材料であればよい。
The
フィルム2の周辺環境の光のみを使用した場合において、光検出部36で検出する周辺環境からの光とフィルム2を透過した光の輝度の差が小さい場合、端部検出器31Bは、補助照明部(光照射部)を有してもよい。補助照明部の構成は、光照射部32の場合と同様とし得る。補助照明部は、光照射部32より小型または光照射部32から出力される光のパワーより小さいパワーの光を出力するように構成されていてもよい。補助照明部は、光照射部32の場合と同様に、窓部34aを有する筐体34内に配置されてもよい。補助照明部は、光検出部33の検出領域(或いは撮像領域)及びその周辺の少なくとも一方を照明し、補助照明部からの光が、周辺環境の光としてフィルム2に入射するように配置される。
When only the light from the surrounding environment of the
端部検出器31Bは、搬送ロールR上のフィルム2の幅を測定する場合に用いてもよい。端部検出器31Bは、例えば、測定ポイント205,208,2010での測定に用いられ得る。この場合の搬送ロールRは輝度の差を明瞭化するため、白色系のロールが好ましい。
The
端部検出器31Bは、搬送ロールRと搬送ロールRの間のフィルム2の幅を測定する場合に用いてもよい。端部検出器31Bは、例えば、測定ポイント204,206,207,209,2011,2012でのフィルム2の幅の測定に用いられ得る。この場合、輝度の差を明瞭化するため、光検出部33の検出領域の背景(或いは撮像領域の背景)に白色系の板状の部材等を設置してもよい。2つの搬送ロールRの間のフィルム2の幅の測定において、補助照明部を使用する場合、補助照明部は、フィルム2に対して端部検出器31Bと同じ側に配置されてもよいし、フィルム2に対して端部検出器31Bと反対側に配置されてもよい。
The
測定ポイント206,209でのフィルム2の幅の測定の場合、端部検出器31Bは、処理液中のフィルム2の幅を測定する。この場合、例えば、端部検出器31Bは、図5に示したように、窓部35aを有する筐体35を有し、窓部35aの部分が処理液中に位置するように筐体35が配置されてもよい。窓部35aの部分が処理液中に配置される場合、窓部35aの外面は親水性処理、凹凸加工及び傾斜加工の少なくとも一方が施されていてもよい。これにより、例えば窓部35aの外面に気泡が滞留しにくいので、フィルム2の端部2aを正確に検出し易い。処理液中のフィルム2の幅の測定において、補助照明部を使用する場合、例えば、補助照明部は、フィルム2に対する処理が行われる処理槽の底壁を照明してもよい。この場合、補助照明部から照射され、上記処理槽の底壁で反射し、フィルム2を透過した透過光の輝度が偏光フィルタ37を介して光検出部36で検出される。
In the case of measuring the width of the
端部検出器31Bが有する偏光フィルタ37は、例えば、フィルム2への光の入射側に配置されてもよい。例えば、端部検出器31Bが補助照明部(光照射部)を有する場合、偏光フィルタ37は、偏光フィルタ37は、光検出部33ではなく、補助照明部と、フィルム2との間に配置されてもよい。この場合も、偏光フィルタ37は、フィルム2とクロスニコル状態で配置される。
The
図3~図5に示した算出部40は、複数の幅測定器30(上流箇所及び下流箇所に配置された幅測定器30)に有線又は無線で接続されており、複数の幅測定器30から取得した測定結果に基づいて、上記ネックイン率を算出する。
The
具体的には、算出部40は、複数の幅測定器30の測定結果に基づいて各幅測定器30の配置箇所におけるフィルム2の端部2a及び端部2bを判定する。端部2a及び端部2bは、幅測定器30の測定結果である輝度データにおける変化で判定され得る。
Specifically, the
例えば、図4に示したように、端部検出器31Aを含む幅測定器30によって、搬送ロールR上にフィルム2が配置されているフィルム2の幅を測定する場合、光検出部33は、フィルム2からの反射光と搬送ロールRからの反射光の輝度を検出する。フィルム2からの反射光の輝度と搬送ロールRからの反射光の輝度には差が生じるので、算出部40は、その差が生じている箇所をフィルム2の端部2a,2bと判定すればよい。
For example, as shown in FIG. 4, when measuring the width of the
例えば、図5に示したように、端部検出器31Bを含む幅測定器30によって、フィルム2の幅を測定する場合、偏光フィルタ37とフィルム2とはクロスニコル状態であるため、フィルム2からの光は実質的に遮断される一方、フィルム2以外からの光は検出される。そのため、光検出部36で検出された輝度データで形成される像では、フィルム2とフィルム2以外の箇所で輝度の差が生じる(フィルム2側が暗く、フィルム2以外が明るい)ので、算出部40は、その差が生じている箇所をフィルム2の端部2a,2bと判定すればよい。
For example, as shown in FIG. 5, when measuring the width of the
フィルム2の端部2a,2bが特定されると、算出部40は、例えば、端部検出器31A(又は端部検出器31B)の配置位置と、検出された輝度データにおける端部2a,2bの位置との関係からフィルム2の幅を算出する。端部検出器31A(又は端部検出器31B)で得られた輝度データから例えば搬送ロールRの端部が特定できる場合には、輝度データにおける搬送ロールRの端部とフィルム2の端部2a,2bの位置との関係及び実際の搬送ロールRの端部の位置からフィルム2の幅を算出する。
When the
次に、算出部40は、複数の測定ポイント20のうちから予め選択されている上流箇所及び下流箇所にそれぞれ配置された2つの幅測定器30(上流側幅測定器30UP及び下流側幅測定器30DOWN)の測定結果に基づいて算出されたフィルム2の幅を用いて、ネックイン率を算出する。上流箇所及び下流箇所の例は、前述したとおりである。
Next, the
上記偏光フィルム4の製造方法及び偏光フィルム4の製造装置10では、フィルム2の幅を、複数の測定ポイント20(複数箇所)それぞれに配置された幅測定器30で測定する。これによって、フィルム2を搬送しながら、フィルム2の幅を連続的に測定できる。更に、複数の測定ポイント20で連続的に測定されたフィルム2の幅のうち、上流箇所及び下流箇所において同じタイミングで測定されたフィルム2の幅の測定結果に基づいて、ネックイン率を算出する。そのため、フィルム2の搬送中に、リアルタイムでフィルム2のネックイン率が得られる。すなわち、ネックイン率を効率よく測定することができる。換言すれば、リアルタイムでネックイン率を監視できる。
In the method for manufacturing the polarizing film 4 and the
ネックイン率は、フィルム2の幅の変化率を表している。よって、例えば幅測定を行った箇所において、予め実験又はシミュレーションなどで得られるネックイン率の許容範囲(ネックイン率の管理幅)を超えると、例えば後工程でフィルム2が破断したり、フィルム2の厚さが所望の厚さ(設計上の厚さ)からズレたり、所望の光学特性やスジ、ムラ等の外観の劣る不良品としてのフィルムが製造されたりする場合がある。
The neck-in rate represents the rate of change in the width of the
そのため、リアルタイムでネックイン率を監視できる上記偏光フィルム(光学フィルム)4の製造方法及び偏光フィルム4の製造装置10では、ネックイン率が許容範囲を超えた場合に、例えば、偏光フィルム4の製造を中断できる。製造を中断した場合には、ネックイン率が許容範囲になるように、偏光フィルム4の製造条件の調整(例えば、処理液の調整、延伸処理条件の調整など)を行えばよい。また、例えばネックイン率が許容範囲になるように調整しながら製造を継続することもできる。これよって、前述した後工程でのフィルム2の破断を防止したり、上記不良品となる偏光フィルム4の製造を抑制したりできる。そのため、安定した工程で偏光フィルム4を製造できる。更に、品質の安定した偏光フィルム4を均一に製造できる。更にまた、偏光フィルム4の材料コストを低減できる。更に、良品の偏光フィルム(光学フィルム)4を効率的に製造できるので、偏光フィルム4の製造歩留まりが向上する。
Therefore, in the method for manufacturing polarizing film (optical film) 4 and the
フィルム2の幅は、フィルム2にN個の処理のうちの少なくとも一つが施されることで変化し易い。そのため、前述したように、上流箇所が、N個の処理のうちの所定処理の前であり、下流箇所が所定処理の後である場合、偏光フィルム4の製造における不具合(例えば、後工程でのフィルム2の破断、フィルム2の所望の厚さからのズレなど)に寄与するネックイン率を監視し易い。
同様の理由により、前述した配置例1~4の場合にも、偏光フィルム4の製造における不具合に寄与するネックイン率を監視し易い。例えば、配置状態において、ある処理の前若しくは後の状態の変化、その処理に起因する状態の変化、又は、その処理の途中での状態の変化がネックイン率に影響をしていることを特定できる。そのため、ネックイン率が許容範囲から外れている場合に、製造条件の調整を行い易い。
その結果、偏光フィルム4の材料コストを更に低減できるとともに、偏光フィルム4の製造歩留まりを一層向上できる。また、より安定した工程で、品質の一層安定した偏光フィルム4を均一に製造できる。
The width of the
For the same reason, in the case of the above-described arrangement examples 1 to 4, it is easy to monitor the neck-in rate that contributes to defects in the production of the polarizing film 4. For example, in the placement state, identify that changes in the state before or after a certain process, changes in the state due to that process, or changes in the state during the process are affecting the neck-in rate. can. Therefore, it is easy to adjust the manufacturing conditions when the neck-in rate is outside the allowable range.
As a result, the material cost of the polarizing film 4 can be further reduced, and the manufacturing yield of the polarizing film 4 can be further improved. Moreover, the polarizing film 4 of even more stable quality can be uniformly manufactured in a more stable process.
測定ポイント201でフィルム2の幅を測定する場合(N個の処理が施される前)には、フィルム2には例えば直線偏光特性が生じていない。したがって、フィルム2は、通常、吸収軸を有しない透明フィルムである。この場合、図4に示した端部検出器31Aを有する幅測定器30を用いて、搬送ロールR上のフィルム2の端部2a,2bを検出することによって、フィルム2の端部2a,2bを確実に検出できる。その結果、フィルム2の幅を、より正確に測定できる。ここでは、測定ポイント201の場合を例示して説明したが、測定ポイント202,203でも同様に、図4に示した端部検出器31Aを有する幅測定器30を用いて、フィルム2の端部2a,2bを確実に検出できる。
When measuring the width of the
フィルム2に染色処理及び延伸処理が施されると、フィルム2に直線偏光特性が付与される。フィルム2が搬送される場合、フィルム2の搬送方向に沿ってフィルム2にテンションが付与される。そのため、フィルム2を搬送しながら、膨潤処理、染色処理、架橋処理及び乾燥処理の何れかで延伸処理が徐々に施される場合、染色処理後のフィルム2に徐々に直線偏光特性が付与される。更に、図1に示したように乾燥処理は、通常、N個の処理の最後に実施される。そのため、染色処理及び延伸処理が実施された後に、フィルム2の幅を測定する場合には、図5に示した端部検出器31Bを有する幅測定器30を用いることによって、フィルム2の幅を確実に検出できる。その結果、フィルム2の幅を、より正確に測定できる。
When the
図4及び図5に示したように、幅測定器30が筐体34,35を備える形態では、光照射部32及び光検出部33,36のヨウ素による腐食を防止できる。偏光フィルム4の製造には、ヨウ素を含む処理液を使用するため、製造環境には、ヨウ素が存在し、例えば光検出部33,36等を腐食させる。これに対して、図4及び図5に示したように、光照射部32及び光検出部33,36を筐体34,35内に配置することによって、上記ヨウ素による腐食を防止できる。筐体34,35内はエアを供給するなどして陽圧化しておくことが好ましい。
As shown in FIGS. 4 and 5, when the
以上説明した実施形態とともに、種々の変形例を説明した。しかしながら、本発明は、上記実施形態及び種々の変形例に限定されるものではなく、特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味及び範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。 In addition to the embodiment described above, various modifications have been described. However, the present invention is not limited to the above embodiments and various modifications, but is indicated by the claims, and includes all changes within the meaning and range equivalent to the claims. is intended.
光学フィルムとして偏光フィルムを製造する場合を例示した。しかしながら、本発明は、フィルムから光学フィルムを製造する過程においてネックイン率の監視が必要な光学フィルムの製造方法及び製造装置に適用できる。光学フィルムの他の例は、保護フィルム、位相差フィルム、表面処理フィルム、反射防止フィルム及び拡散フィルムを含む。 The case where a polarizing film is manufactured as an optical film is illustrated. However, the present invention can be applied to optical film manufacturing methods and manufacturing apparatuses that require monitoring of the neck-in rate in the process of manufacturing optical films from films. Other examples of optical films include protective films, retardation films, surface treatment films, antireflection films, and diffusion films.
図5に示した端部検出器31Bを有する幅測定器は、N個の処理が染色処理及び延伸処理を含む場合に、上流箇所が、染色処理及び延伸処理が施されたフィルムの幅を測定する箇所である場合に好適に適用することができる。この場合、上流箇所でフィルムの幅を測定する際に、フィルムに直線偏光特性が生じている傾向にあるからである。フィルムを搬送しながらN個の処理を施す場合、前述したように、フィルムに徐々に延伸処理が施される。よって、端部検出器31Bを有する幅測定器は、上流箇所が、染色処理が施されたフィルムの幅を測定する箇所である場合にも好適に適用することができる。
The width measuring device having the
フィルム2の幅の測定方法は、例示した方法に特に限定されない。例えば、レーザ式変位計、LED式変位計などの測定機器で幅を測定してもよい。フィルム2全体をカメラなどで撮影し、得られた画像より幅を算出してもよい。図3に示したように、フィルム2の端部2a,2bの位置を取得する方法では、フィルム2の端部2a,2bそれぞれに端部2a,2bの位置を測定する装置を配置すればよいので、設置スペースや機器管理(保守点検等)の観点で好ましい。
The method for measuring the width of the
延伸処理部における延伸処理は、湿式の延伸方法に限らず、乾式の延伸方法が採用されてもよい。上述の実施形態において、偏光フィルムを製造するために例示した処理の順番は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更または組み合わされてもよい。各処理部が有する処理槽の数は、一つでもよいし、複数でもよい。N個の処理は、例示した処理の数に限定されない。 The stretching process in the stretching section is not limited to a wet stretching method, and a dry stretching method may be adopted. In the embodiments described above, the order of the processes illustrated for manufacturing the polarizing film may be changed or combined as appropriate without departing from the spirit of the present invention. The number of processing tanks that each processing section has may be one or more. The N processes are not limited to the number of illustrated processes.
フィルムの幅の変化率(ネックイン率)の定義は、上流箇所及び下流箇所の間のフィルムの幅の変化率が表されていれば、例示した定義に限定されない。 The definition of the rate of change in the width of the film (neck-in rate) is not limited to the exemplified definition as long as the rate of change in the width of the film between the upstream location and the downstream location is expressed.
上記実施形態及び種々の変形例は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜組み合わされてもよい。 The above embodiments and various modified examples may be combined as appropriate without departing from the spirit of the present invention.
2…フィルム、4…偏光フィルム(光学フィルム)、10…製造装置、11…ニップロール(搬送機構)、12…ガイドロール(搬送機構),20…測定ポイント(複数箇所)、30…幅測定器、30UP…上流側幅測定器、30DOWN…下流側幅測定器、32…光照射部、33…光検出部(撮像部)、36…光検出部(撮像部)。
2... Film, 4... Polarizing film (optical film), 10... Manufacturing device, 11... Nip roll (conveyance mechanism), 12... Guide roll (conveyance mechanism), 20... Measurement point (multiple locations), 30... Width measuring device, 30 UP ... Upstream width measuring device, 30 DOWN ... Downstream width measuring device, 32... Light irradiation section, 33... Photo detection section (imaging section), 36... Photo detection section (imaging section).
Claims (32)
前記N個の処理は、前記フィルムを搬送しながら行われ、
前記N個の処理は、染色処理及び延伸処理を含み、
前記搬送中に、複数箇所それぞれで、前記フィルムの幅を連続的に測定し、前記複数箇所から選択される2箇所のうち上流箇所における測定結果及び下流箇所における測定結果のうち同じタイミングで得られた測定結果に基づいて、前記フィルムの幅の変化率を算出する、
光学フィルムの製造方法。 A method of manufacturing an optical film by subjecting a long film to N treatments (N is an integer of 2 or more), the method comprising:
The N processes are performed while transporting the film,
The N treatments include a dyeing process and a stretching process,
During the conveyance, the width of the film is continuously measured at each of a plurality of locations, and among the two selected from the plurality of locations, the measurement results at the upstream location and the measurement results at the downstream location are obtained at the same timing. calculating a rate of change in the width of the film based on the measurement results;
Method for manufacturing optical film.
請求項1に記載の光学フィルムの製造方法。 The film is a film unwound from a raw roll,
A method for producing an optical film according to claim 1 .
請求項1又は2に記載の光学フィルムの製造方法。The method for producing an optical film according to claim 1 or 2.
前記下流箇所は、前記一つの処理が施された後の位置である、
請求項1~3の何れか一項に記載の光学フィルムの製造方法。 The upstream location is a position before one of the N processes is performed,
The downstream location is a position after the one process has been performed,
The method for producing an optical film according to any one of claims 1 to 3 .
前記上流箇所が前記第i-1の処理の位置と前記第iの処理の位置の間であり、且つ、前記下流箇所が前記第iの処理の位置と前記第i+1の処理の位置の間である、
請求項1~3の何れか一項に記載の光学フィルムの製造方法。 The N processes include an i-1st process, an i-th process, and an i+1th process (i is an integer of 2 or more),
The upstream location is between the i-1th processing position and the i-th processing location, and the downstream location is between the i-th processing location and the i+1th processing location. be,
The method for producing an optical film according to any one of claims 1 to 3 .
前記上流箇所が前記i-1の処理中の位置にあり且つ前記下流箇所が前記第i-1の処理の位置と前記第iの処理の位置の間であるか、
前記上流箇所及び前記下流箇所が、それぞれ前記第i-1の処理の位置と前記第iの処理の位置の間であるか、又は、
前記上流箇所が前記第i-1の処理の前の位置であり且つ前記下流箇所が前記第i-1の処理中の位置である、
請求項1~3の何れか一項に記載の光学フィルムの製造方法。 The N processes include an i-1th process and an i-th process (i is an integer of 2 or more),
whether the upstream location is at the position where the i-1 processing is being performed, and the downstream location is between the i-1 processing location and the i-th processing location;
The upstream location and the downstream location are between the i-1th processing position and the i-th processing location, respectively, or
The upstream location is a position before the i-1th process, and the downstream location is a location during the i-1th process,
The method for producing an optical film according to any one of claims 1 to 3 .
請求項1~6の何れか一項に記載の光学フィルムの製造方法。 measuring the width of the film by acquiring an image of at least an edge of the film with an imaging unit during the transport;
A method for producing an optical film according to any one of claims 1 to 6 .
前記筐体内は、陽圧化されている、The inside of the housing is under positive pressure,
請求項7に記載の光学フィルムの製造方法。The method for producing an optical film according to claim 7.
請求項1~6の何れか一項に記載の光学フィルムの製造方法。 Measuring the width of the film based on the brightness of at least one of reflected light and transmitted light from the film due to light incident on the film during the conveyance;
A method for producing an optical film according to any one of claims 1 to 6 .
前記搬送ロール上の前記フィルムに光を照射し、前記光の照射により生じる前記フィルム及び前記搬送ロールの反射光の輝度の差に基づき、前記フィルムの端部を検出することによって、前記フィルムにおける前記幅を測定する、
請求項1~9の何れか1項に記載の光学フィルムの製造方法。 The film is transported by a transport roll,
By irradiating the film on the transport roll with light and detecting the edge of the film based on the difference in brightness between the reflected light of the film and the transport roll caused by the irradiation of the light, measure the width,
A method for producing an optical film according to any one of claims 1 to 9 .
請求項9に記載の光学フィルムの製造方法。 The transmitted light is transmitted light from the film due to light incident on the film via a polarizing filter.
The method for producing an optical film according to claim 9 .
請求項9に記載の光学フィルムの製造方法。 Measuring the width of the film based on the brightness of the light obtained by passing the transmitted light through a polarizing filter .
The method for producing an optical film according to claim 9 .
請求項1~3の何れか一項に記載の光学フィルムの製造方法。 At least one of the plurality of locations for measuring the width of the film is a location for measuring the width of the film located in a processing solution for performing at least one of the N treatments,
A method for producing an optical film according to any one of claims 1 to 3 .
請求項13に記載の光学フィルムの製造方法。The method for producing an optical film according to claim 13.
請求項1~14の何れか一項に記載の光学フィルムの製造方法。 The N treatments further include at least one of a swelling treatment , a crosslinking treatment , and a drying treatment.
A method for producing an optical film according to any one of claims 1 to 14 .
請求項1~15の何れか一項に記載の光学フィルムの製造方法。 The optical film is a polarizing film,
A method for producing an optical film according to any one of claims 1 to 15 .
前記フィルムを搬送する搬送機構と、
前記搬送機構上の複数箇所に配置されており、前記複数箇所それぞれで、前記搬送機構で搬送中の前記フィルムの幅を連続的に測定する複数の幅測定器と、
前記複数の幅測定器から選択される2つの幅測定器のうち上流側幅測定器の測定結果と、下流側幅測定器の測定結果のうち同じタイミングで得られた測定結果に基づいて、前記フィルムの幅の変化率を算出する算出部と、
を備える、
光学フィルムの製造装置。 N processing sections (N is an integer of 2 or more) including a dyeing processing section and a stretching processing section for carrying out processing to impart at least optical properties to the film;
a conveyance mechanism that conveys the film;
a plurality of width measuring instruments disposed at a plurality of locations on the transport mechanism, each of which continuously measures the width of the film being transported by the transport mechanism at each of the plurality of locations;
Based on the measurement results obtained at the same timing among the measurement results of the upstream width measurement device and the measurement results of the downstream width measurement device among the two width measurement devices selected from the plurality of width measurement devices, a calculation unit that calculates the rate of change in the width of the film;
Equipped with
Optical film manufacturing equipment.
請求項17に記載の光学フィルムの製造装置。 The film is a film unwound from a raw roll,
The optical film manufacturing apparatus according to claim 17 .
請求項17又は18に記載の光学フィルムの製造装置。The optical film manufacturing apparatus according to claim 17 or 18.
前記下流側幅測定器は、前記一つの処理部の後に配置されている、
請求項17~19の何れか一項に記載の光学フィルムの製造装置。 The upstream width measuring device is placed in front of one of the N processing units,
The downstream width measuring device is arranged after the one processing section,
The optical film manufacturing apparatus according to any one of claims 17 to 19 .
前記上流側幅測定器は、前記第i-1の処理部と前記第iの処理部の間に配置されており、
前記下流側幅測定器は、前記第iの処理部と前記第i+1の処理部の間に配置されている、
請求項17~20の何れか一項に記載の光学フィルムの製造装置。 The N processing units include an i-1th processing unit, an i-th processing unit, and an i+1-th processing unit (i is an integer of 2 or more),
The upstream width measuring device is disposed between the i-1th processing section and the i-th processing section,
The downstream width measuring device is arranged between the i-th processing section and the i+1-th processing section,
The optical film manufacturing apparatus according to any one of claims 17 to 20 .
前記上流側幅測定器が前記第i-1の処理部の位置に配置されており且つ前記下流側幅測定器が前記第i-1の処理部と前記第iの処理部との間に配置されているか、
前記上流側幅測定器及び前記下流側幅測定器が、それぞれ前記第i-1の処理部と前記第iの処理部の間に配置されているか、又は、
前記上流側幅測定器が前記第i-1の処理部の前に配置されており且つ前記下流側幅測定器が前記第i-1の処理部の位置に配置されている、
請求項17~20の何れか一項に記載の光学フィルムの製造装置。 The N processing units include an i-1th processing unit and an i-th processing unit (i is an integer of 2 or more),
The upstream width measuring device is disposed at a position of the i-1th processing section, and the downstream width measuring device is disposed between the i-1th processing section and the i-th processing section. Is it done?
The upstream width measuring device and the downstream width measuring device are respectively arranged between the i-1th processing section and the i-th processing section, or
The upstream width measuring device is disposed in front of the i-1th processing section, and the downstream width measuring device is disposed at a position of the i-1th processing section,
The optical film manufacturing apparatus according to any one of claims 17 to 20 .
請求項17~22の何れか一項に記載の光学フィルムの製造装置。 At least one of the plurality of width measuring devices has an imaging unit that images at least an edge of the film.
The optical film manufacturing apparatus according to any one of claims 17 to 22 .
前記筐体内は、陽圧化されている、The inside of the housing is under positive pressure,
請求項23に記載の光学フィルムの製造装置。The optical film manufacturing apparatus according to claim 23.
請求項17~22の何れか一項に記載の光学フィルムの製造装置。 At least one of the plurality of width measuring devices has a light detection unit for detecting at least one of reflected light and transmitted light from the film due to light incident on the film.
The optical film manufacturing apparatus according to any one of claims 17 to 22 .
請求項17~25の何れか一項に記載の光学フィルムの製造装置。 At least one width measuring device among the plurality of width measuring devices has a light irradiation part that irradiates the film with light.
The optical film manufacturing apparatus according to any one of claims 17 to 25 .
前記光照射部は、前記搬送ロール上の前記フィルムに光を照射し、
前記複数の幅測定器のうち少なくとも一つの幅測定器は、前記搬送ロール上の前記フィルムへの前記光照射部からの光により生じる前記フィルム及び前記搬送ロールの反射光の輝度の差に基づき、前記フィルムの幅を測定する、
請求項26に記載の光学フィルムの製造装置。 The conveyance mechanism has a conveyance roll,
The light irradiation unit irradiates the film on the transport roll with light,
At least one width measuring device among the plurality of width measuring devices is based on a difference in brightness between reflected light of the film and the conveying roll caused by light from the light irradiation section to the film on the conveying roll, measuring the width of the film;
The optical film manufacturing apparatus according to claim 26 .
請求項26に記載の光学フィルムの製造装置。 a polarizing filter is provided between the light irradiation section and the film;
The optical film manufacturing apparatus according to claim 26 .
請求項25に記載の光学フィルムの製造装置。 a polarizing filter is provided between the photodetector and the film;
The optical film manufacturing apparatus according to claim 25 .
請求項17~19の何れか一項に記載の光学フィルムの製造装置。 At least one of the plurality of width measuring devices is arranged to measure the width of the film located in the processing liquid contained in at least one processing section of the N processing sections,
The optical film manufacturing apparatus according to any one of claims 17 to 19 .
請求項30に記載の光学フィルムの製造装置。The optical film manufacturing apparatus according to claim 30.
請求項17~31の何れか一項に記載の光学フィルムの製造装置。
The N processing sections include at least one of a swelling processing section , a crosslinking processing section , and a drying processing section.
The optical film manufacturing apparatus according to any one of claims 17 to 31 .
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