JP7451327B2 - Shim unit, guide member, and magnetic resonance imaging device - Google Patents
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Description
本明細書及び図面に開示の実施形態は、シムユニット、ガイド部材、および磁気共鳴イメージング装置に関する。 Embodiments disclosed herein and in the drawings relate to a shim unit, a guide member, and a magnetic resonance imaging apparatus.
従来、磁気共鳴イメージング(Magnetic Resonance Imaging:MRI)装置においては、金属等の磁性体でできたシムを、磁気共鳴イメージング装置のガントリ等に設けられた穴に挿入することで、磁場分布を補正するシミング作業が知られている。 Conventionally, in magnetic resonance imaging (MRI) equipment, magnetic field distribution is corrected by inserting shims made of magnetic material such as metal into holes provided in the gantry of the magnetic resonance imaging equipment. Shimming work is known.
このようなシミング作業においては、作業者およびシムが磁場の影響を受けることを回避するために、磁気共鳴イメージング装置を消磁した状態でシムを挿入する作業を行い、挿入後に再度励磁して磁場分布を測定する、ということを繰り返して磁場分布を補正していた。 In this kind of shimming work, in order to avoid the influence of the magnetic field on the worker and the shim, the shim is inserted with the magnetic resonance imaging device demagnetized, and after insertion, the shim is re-energized to measure the magnetic field distribution. This process was repeated to correct the magnetic field distribution.
本明細書及び図面に開示の実施形態が解決しようとする課題の一つは、磁気共鳴イメージング装置に対して行われるシミング作業を効率化することである。ただし、本明細書及び図面に開示の実施形態により解決しようとする課題は上記課題に限られない。後述する実施形態に示す各構成による各効果に対応する課題を他の課題として位置づけることもできる。 One of the problems to be solved by the embodiments disclosed in this specification and the drawings is to improve the efficiency of shimming operations performed on a magnetic resonance imaging apparatus. However, the problems to be solved by the embodiments disclosed in this specification and the drawings are not limited to the above problems. Problems corresponding to the effects of each configuration shown in the embodiments described later can also be positioned as other problems.
実施形態に係るシムユニットは、シムトレイと、ガイド部材とを備える。シムトレイは、非磁性体であり、静磁場を発生する静磁場磁石を備える架台に設けられた収納部に収納され、磁性体であるシムを収納する。ガイド部材は、非磁性体であり、シムトレイが収納部に挿入される第1方向におけるシムトレイの後端に着脱可能に装着される。第1方向におけるシムトレイの後端には、第1方向に交差する方向に突出した突起部が設けられる。突起部が突出する第2方向における突起部を含むシムトレイの長さは、シムトレイが挿入される収納部の挿入口の第2方向における長さよりも長い。ガイド部材は、ガイド部材に設けられた孔部と突起部とが係合することにより、シムトレイに着脱可能に装着されることを特徴とする。 The shim unit according to the embodiment includes a shim tray and a guide member. The shim tray is a non-magnetic material, and is housed in a storage section provided on a pedestal that includes a static field magnet that generates a static magnetic field, and stores shims that are a magnetic material. The guide member is made of a non-magnetic material and is removably attached to the rear end of the shim tray in the first direction in which the shim tray is inserted into the storage section . A protrusion protruding in a direction intersecting the first direction is provided at the rear end of the shim tray in the first direction. The length of the shim tray including the protrusion in the second direction from which the protrusion protrudes is longer than the length in the second direction of the insertion opening of the storage section into which the shim tray is inserted. The guide member is characterized in that it is removably attached to the shim tray by engaging a hole provided in the guide member with a protrusion.
以下、図面を参照しながら、シムユニット、ガイド部材、および磁気共鳴イメージング装置の実施形態について詳細に説明する。 Hereinafter, embodiments of a shim unit, a guide member, and a magnetic resonance imaging apparatus will be described in detail with reference to the drawings.
(第1の実施形態)
図1は、本実施形態に係る磁気共鳴イメージング(MRI:Magnetic Resonance Imaging)装置100の一例を示すブロック図である。図1に示すように、磁気共鳴イメージング装置100は、静磁場磁石101と、静磁場電源(非図示)と、傾斜磁場コイル103と、傾斜磁場電源104と、寝台105と、寝台制御回路106と、送信コイル107と、送信回路108と、受信コイル109と、架台140と、受信回路110と、シーケンス制御回路120と、計算機システム130とを備える。
(First embodiment)
FIG. 1 is a block diagram showing an example of a magnetic resonance imaging (MRI)
なお、図1に示す構成は一例に過ぎない。例えば、シーケンス制御回路120および計算機システム130内の各部は、適宜統合若しくは分離して構成されてもよい。なお、磁気共鳴イメージング装置100に被検体P(例えば、人体)は含まれない。
Note that the configuration shown in FIG. 1 is only an example. For example, each part within the
図1に示すX軸、Y軸、およびZ軸は、磁気共鳴イメージング装置100に固有の装置座標系を構成する。例えば、Z軸方向は、傾斜磁場コイル103の円筒の軸方向に一致し、静磁場磁石101によって発生する静磁場の磁束に沿って設定される。なお、本実施形態において、円筒という場合は、円筒の軸に直交する断面が楕円状となるものを含む。また、本実施形態において、円という場合は、楕円を含む。
The X, Y, and Z axes shown in FIG. 1 constitute an apparatus coordinate system specific to the magnetic
また、Z軸方向は、寝台105の長手方向と同方向であり、寝台105上に載置された被検体Pの頭尾方向とも同方向となる。また、X軸方向は、Z軸方向に直交する水平方向に沿って設定される。Y軸方向は、Z軸方向に直交する鉛直方向に沿って設定される。
Further, the Z-axis direction is the same direction as the longitudinal direction of the
静磁場磁石101は、中空の略円筒形状に形成された磁石であり、内部の空間に静磁場を発生する。静磁場磁石101は、例えば、超伝導磁石等であり、静磁場電源から電流の供給を受けて励磁する。静磁場電源は、静磁場磁石101に電流を供給する。別の例として、静磁場磁石101は、永久磁石でも良く、この場合、磁気共鳴イメージング装置100は、静磁場電源を備えなくても良い。また、静磁場電源は、磁気共鳴イメージング装置100とは別に備えられても良い。
The static
傾斜磁場コイル103は、中空の略円筒形状に形成されたコイルであり、静磁場磁石101の内側に配置される。傾斜磁場コイル103は、互いに直交するX、Y、及びZの各軸に対応する3つのコイルが組み合わされて形成されており、これら3つのコイルは、傾斜磁場電源104から個別に電流の供給を受けて、X、Y、及びZの各軸に沿って磁場強度が変化する傾斜磁場を発生する。また、傾斜磁場電源104は、シーケンス制御回路120の制御の下、傾斜磁場コイル103に電流を供給する。本実施形態の傾斜磁場コイル103の構成の詳細については後述する。
The gradient
寝台105は、被検体Pが載置される天板105aを備え、寝台制御回路106による制御の下、天板105aを、患者などの被検体Pが載置された状態で、撮像口内へ挿入する。寝台制御回路106は、計算機システム130による制御の下、寝台105を駆動して天板105aを長手方向および上下方向に移動させる。
The
送信コイル107は、高周波磁場を印加することで、被検体Pの任意の領域を励起する。送信コイル107は、例えば被検体Pの全身を囲むホールボディ(Whole body)型のコイルである。送信コイル107は、送信回路108からRFパルスの供給を受けて、高周波磁場を発生し、該高周波磁場を被検体Pに印加する。送信回路108は、シーケンス制御回路120の制御の下、送信コイル107にRFパルスを供給する。
The transmitting
受信コイル109は、傾斜磁場コイル103の内側に配置され、高周波磁場の影響によって被検体Pから発せられる磁気共鳴信号(以下、MR(Magnetic Resonance)信号と称する)を受信する。受信コイル109は、MR信号を受信すると、受信したMR信号を受信回路110へ出力する。
The receiving
なお、図1では、受信コイル109が、送信コイル107と別個に設けられる構成としたが、これは一例であり、当該構成に限定されるものではない。例えば、受信コイル109が送信コイル107と兼用される構成を採用しても良い。
In FIG. 1, the receiving
架台140は、略円筒状に形成された中空のボア141を有し、例えば、静磁場磁石101、傾斜磁場コイル103、送信コイル107、および受信コイル109を備える。なお、架台140が備える構成は、これらに限定されるものではない。架台140が有するボア141内の空間が、被検体Pの撮像が行われる際に被検体Pが配置される撮像空間となる。なお、架台140は、ガントリともいう。
The
受信回路110は、受信コイル109から出力されるアナログのMR信号をアナログ・デジタル(AD)変換して、MRデータを生成する。また、受信回路110は、生成したMRデータをシーケンス制御回路120へ送信する。なお、AD変換に関しては、受信コイル109内で行っても構わない。また、受信回路110はAD変換以外にも任意の信号処理を行うことが可能である。
The receiving circuit 110 performs analog-to-digital (AD) conversion on the analog MR signal output from the receiving
シーケンス制御回路120は、計算機システム130から送信されるシーケンス情報に基づいて、傾斜磁場電源104、送信回路108および受信回路110を駆動することによって、被検体Pの撮像を行う。シーケンス情報は、撮像を行うための手順を定義した情報である。シーケンス情報には、例えば、傾斜磁場電源104が傾斜磁場コイル103に供給する電流の強さや電流を供給するタイミング、送信回路108が送信コイル107に供給するRFパルスの強さやRFパルスを印加するタイミング、受信回路110がMR信号を検出するタイミング等が定義される。
The
シーケンス制御回路120は、プロセッサにより実現されるものとしても良いし、ソフトウェアとハードウェアとの混合によって実現されても良い。
The
さらに、シーケンス制御回路120は、傾斜磁場電源104、送信回路108及び受信回路110を駆動して被検体Pを撮像した結果、受信回路110からMRデータを受信すると、受信したMRデータを計算機システム130へ転送する。
Furthermore, upon receiving MR data from the receiving circuit 110 as a result of driving the gradient magnetic field power supply 104, the transmitting
計算機システム130は、磁気共鳴イメージング装置100の全体制御や、MR画像の生成等を行う。図1に示すように、計算機システム130は、NW(ネットワーク)インタフェース131、記憶回路132、処理回路133、入力インタフェース134、およびディスプレイ135を備える。
The
NWインタフェース131は、シーケンス制御回路120および寝台制御回路106、と通信する。例えば、NWインタフェース131は、シーケンス情報をシーケンス制御回路120へ送信する。また、NWインタフェース131は、シーケンス制御回路120からMRデータを受信する。
NW interface 131 communicates with
記憶回路132は、NWインタフェース131によって受信されたMRデータ、後述の処理回路133によってk空間に配置されたk空間データ、および処理回路133によって生成された画像データ等を記憶する。記憶回路132は、例えば、RAM(Random Access Memory)、フラッシュメモリ等の半導体メモリ素子、ハードディスク、または光ディスク等である。 The storage circuit 132 stores MR data received by the NW interface 131, k-space data placed in k-space by a processing circuit 133 (described later), image data generated by the processing circuit 133, and the like. The storage circuit 132 is, for example, a RAM (Random Access Memory), a semiconductor memory element such as a flash memory, a hard disk, an optical disk, or the like.
入力インタフェース134は、操作者からの各種指示や情報入力を受け付ける。入力インタフェース134は、例えば、トラックボール、スイッチボタン、マウス、キーボード、操作面へ触れることで入力操作を行うタッチパッド、表示画面とタッチパッドとが一体化されたタッチスクリーン、光学センサを用いた非接触入力回路、及び音声入力回路等によって実現される。入力インタフェースは処理回路133に接続されており、操作者から受け取った入力操作を電気信号へ変換し処理回路133へと出力する。なお、本明細書において入力インタフェースはマウス、キーボードなどの物理的な操作部品を備えるものだけに限られない。例えば、計算機システム130とは別体に設けられた外部の入力機器から入力操作に対応する電気信号を受け取り、この電気信号を制御回路へ出力する電気信号の処理回路も入力インタフェースの例に含まれる。
The input interface 134 accepts various instructions and information input from the operator. The input interface 134 may be, for example, a trackball, a switch button, a mouse, a keyboard, a touchpad that performs input operations by touching the operation surface, a touchscreen that integrates a display screen and a touchpad, or a non-control device that uses an optical sensor. This is realized by a touch input circuit, a voice input circuit, etc. The input interface is connected to the processing circuit 133, converts input operations received from the operator into electrical signals, and outputs the electrical signals to the processing circuit 133. Note that in this specification, the input interface is not limited to one that includes physical operation parts such as a mouse and a keyboard. For example, an example of an input interface also includes an electrical signal processing circuit that receives an electrical signal corresponding to an input operation from an external input device provided separately from the
ディスプレイ135は、処理回路133の制御の下、撮像条件の入力を受け付けるためのGUI(Graphical User Interface)や、処理回路133によって生成された磁気共鳴画像等を表示する。ディスプレイ135は、例えば、液晶表示器等の表示デバイスである。ディスプレイ135は、表示部の一例である。 Under the control of the processing circuit 133, the display 135 displays a GUI (Graphical User Interface) for accepting input of imaging conditions, a magnetic resonance image generated by the processing circuit 133, and the like. The display 135 is, for example, a display device such as a liquid crystal display. Display 135 is an example of a display section.
処理回路133は、磁気共鳴イメージング装置100の全体の制御を行う。より詳細には、処理回路133は、磁気共鳴イメージング装置100の各部を制御して、磁気共鳴画像の撮像等の処理を実行する。
The processing circuit 133 performs overall control of the magnetic
より詳細には、処理回路133は、各種のスキャンプロトコルに応じたパルスシーケンスを実行し、パルスシーケンスの実行によって発生したMR信号から変換されたMRデータを、NWインタフェース131を介してシーケンス制御回路120から収集する。スキャンプロトコルの種類には、例えば、磁気共鳴画像の撮像用のスキャンプロトコルや、静磁場分布の測定用のスキャンプロトコルがある。
More specifically, the processing circuit 133 executes pulse sequences according to various scan protocols, and sends MR data converted from MR signals generated by executing the pulse sequences to the
処理回路133は、収集したMRデータを、傾斜磁場により付与された位相エンコード量や周波数エンコード量に従って配置させる。k空間に配置されたMRデータは、k空間データと称される。k空間データは、記憶回路132に保存される。 The processing circuit 133 arranges the collected MR data according to the amount of phase encoding and the amount of frequency encoding given by the gradient magnetic field. MR data arranged in k-space is referred to as k-space data. The k-space data is stored in storage circuit 132.
また、処理回路133は、磁気共鳴画像の撮像用のスキャンプロトコルを実行した場合には、k空間データに基づいて磁気共鳴画像を生成する。例えば、処理回路133は、k空間データにフーリエ変換等の再構成処理をすることにより、磁気共鳴画像を生成する。 Further, when executing a scan protocol for capturing a magnetic resonance image, the processing circuit 133 generates a magnetic resonance image based on the k-space data. For example, the processing circuit 133 generates a magnetic resonance image by performing reconstruction processing such as Fourier transform on the k-space data.
また、処理回路133は、静磁場分布の測定用のスキャンプロトコルを実行した場合には、静磁場分布のスキャン結果を表すグラフ、または画像等を生成する。なお、静磁場分布のスキャン結果は、数値として出力されても良い。静磁場分布の測定の手法は特に限定されるものではなく、公知の手法を採用することができる。 Furthermore, when the processing circuit 133 executes a scan protocol for measuring the static magnetic field distribution, it generates a graph, an image, or the like representing the scan result of the static magnetic field distribution. Note that the scan result of the static magnetic field distribution may be output as a numerical value. The method for measuring the static magnetic field distribution is not particularly limited, and any known method can be employed.
また、処理回路133は、生成した磁気共鳴画像、または静磁場分布のスキャン結果をディスプレイ135に表示する。また、処理回路133は、操作者から各種指示および各種情報の入力操作を受け付けるためのGUI(Graphical User Interface)をディスプレイ135に表示する。 Further, the processing circuit 133 displays the generated magnetic resonance image or the scan result of the static magnetic field distribution on the display 135. Furthermore, the processing circuit 133 displays a GUI (Graphical User Interface) on the display 135 for accepting various instructions and input operations for various information from the operator.
ここで、例えば、処理回路133の機能は、コンピュータによって実行可能なプログラムの形態で記憶回路132に記憶されている。処理回路133は、プロセッサである。例えば、処理回路133は、プログラムを記憶回路132から読み出し、実行することで各プログラムに対応する機能を実現する。なお、図1においては単一のプロセッサにて上述の機能が実現されるものとして説明したが、複数の独立したプロセッサを組み合わせて処理回路133を構成し、各プロセッサがプログラムを実行することにより機能を実現するものとしても構わない。また、図1においては単一の記憶回路132が各処理機能に対応するプログラムを記憶するものとして説明したが、複数の記憶回路を分散して配置して、処理回路133は個別の記憶回路から対応するプログラムを読み出す構成としても構わない。 Here, for example, the functions of the processing circuit 133 are stored in the storage circuit 132 in the form of a computer-executable program. Processing circuit 133 is a processor. For example, the processing circuit 133 reads programs from the storage circuit 132 and executes them to realize functions corresponding to each program. Although the above-mentioned functions are described in FIG. 1 as being realized by a single processor, the processing circuit 133 is configured by combining a plurality of independent processors, and the functions are realized by each processor executing a program. It does not matter if it is something that realizes. Furthermore, in FIG. 1, the single memory circuit 132 was described as storing programs corresponding to each processing function, but a plurality of memory circuits may be distributed and arranged, and the processing circuit 133 may be stored from individual memory circuits. A configuration may also be used in which a corresponding program is read.
また、上記説明では、「プロセッサ」が各機能に対応するプログラムを記憶回路から読み出して実行行する例を説明したが、実施形態はこれに限定されない。「プロセッサ」という文言は、例えば、CPU(Central Processing Unit)、GPU(Graphics Processing Unit)、特定用途向け集積回路(Application Specific Integrated Circuit:ASIC)、プログラマブル論理デバイス(例えば、単純プログラマブル論理デバイス(Simple Programmable Logic Device:SPLD)、複合プログラマブル論理デバイス(Complex Programmable Logic Device:CPLD)、及びフィールドプログラマブルゲートアレイ(Field Programmable Gate Array:FPGA))等の回路を意味する。プロセッサが例えばCPUである場合、プロセッサは記憶回路に保存されたプログラムを読み出して実行することで機能を実現する。一方、プロセッサがASICである場合、記憶回路にプログラムを保存する代わりに、当該機能がプロセッサの回路内に論理回路として直接組み込まれる。なお、本実施形態の各プロセッサは、プロセッサごとに単一の回路として構成される場合に限らず、複数の独立した回路を組み合わせて1つのプロセッサとして構成し、その機能を実現するようにしてもよい。さらに、処理回路133の機能として説明した上述の各機能に相当する複数の構成要素を1つのプロセッサへ統合してその機能を実現するようにしてもよい。 Furthermore, in the above description, an example has been described in which the "processor" reads out a program corresponding to each function from the storage circuit and executes it, but the embodiment is not limited to this. The term "processor" refers to, for example, a CPU (Central Processing Unit), a GPU (Graphics Processing Unit), an Application Specific Integrated Circuit (ASIC), a programmable logic device (for example, a Simple Programmable Logic Device). Logic Device (SPLD), Complex Programmable Logic Device (CPLD), and Field Programmable Gate Array (FPGA). When the processor is, for example, a CPU, the processor realizes its functions by reading and executing a program stored in a storage circuit. On the other hand, if the processor is an ASIC, instead of storing the program in a memory circuit, the functionality is directly incorporated into the processor's circuitry as a logic circuit. Note that each processor of this embodiment is not limited to being configured as a single circuit for each processor, but may also be configured as a single processor by combining multiple independent circuits to realize its functions. good. Furthermore, a plurality of components corresponding to the above-mentioned functions described as functions of the processing circuit 133 may be integrated into one processor to realize the functions.
次に、図1に示す傾斜磁場コイル103の構造の一例について説明する。図2は、本実施形態に係る傾斜磁場コイル103の構造の一例を示す斜視図である。架台140内に設けられた傾斜磁場コイル103は、図2に示すように、メインコイル103aと、シールドコイル103bとを有する。
Next, an example of the structure of the gradient
メインコイル103aは、傾斜磁場電源104から供給される電流によりX軸、Y軸、Z軸の方向に傾斜磁場を印加する。シールドコイル103bは、メインコイル103aの漏洩磁場をキャンセルする。図2に示すようにメインコイル103aの周囲にシールドコイル103bが設けられた傾斜磁場コイル103は、ASGC(Actively Shielded Gradient Coil)と呼ばれる。
The
また、図2に示すように、メインコイル103aとシールドコイル103bとの間には、複数のシムトレイ収納部103cが形成されている。シムトレイ収納部103cには、シムトレイ30が挿入される。
Further, as shown in FIG. 2, a plurality of shim
シムトレイ収納部103cは、シムトレイ30を収納可能な穴である。より詳細には、本実施形態のシムトレイ収納部103cは、傾斜磁場コイル103の長手方向、つまりZ軸方向に沿って設けられた貫通孔である。本実施形態においては、シムトレイ30は、シムトレイ収納部103cの寝台側の端部に設けられた挿入口20から、作業者によって挿入される。挿入されたシムトレイ30は、シムトレイ収納部103c内に留置される。なお、シムトレイ収納部103cは、貫通孔でなくとも良く、傾斜磁場コイル103の寝台105と反対側の端部が閉じていても良い。
The shim
なお、本実施形態においては、シムトレイ収納部103cは、傾斜磁場コイル103内に設けられているが、これは一例であり、磁気共鳴イメージング装置100の構成に応じて、架台140内のいずれかの位置に設けられる。シムトレイ収納部103cは、本実施形態における収納部の一例である。
In this embodiment, the shim
シムトレイ30は、非磁性体の素材で構成され、磁性体であるシム31を少なくとも1つ収納可能であるものとする。例えば、シムトレイ30は、非磁性かつ非電導性材料である樹脂にて作製され、概略棒状をなしている。
The
シム31は、磁性体であり、架台140内に配置されることにより、ボア141内の静磁場の不均一性を補正する。例えば、シム31は、プレート状の鉄等の金属であるが、シム31の素材および形状はこれに限定されるものではない。
The
図3は、本実施形態に係るに含まれるシムトレイ30の構成の一例を示す斜視図である。例えば、図3に示すように、シムトレイ30は、細長い箱状のトレイ本体301と、細長い板状のトレイ蓋体302とから構成されている。トレイ本体301は、長手方向に沿って連続して並ぶように設けられた複数のシムポケット303を有しており、各シムポケット303に、撮像空間における静磁場の不均一性を補正するために必要な枚数のシム31が収納される。なお、図3に示すシムトレイ30の構成は一例であり、このような構成に限定されるものではない。
FIG. 3 is a perspective view showing an example of the configuration of the
次に、シムトレイ収納部103cの挿入口20の詳細について説明する。図4は、本実施形態に係る傾斜磁場コイル103におけるシムトレイ収納部103cの挿入口20の周囲の拡大図の一例である。
Next, details of the
図4に示すように、本実施形態のシムトレイ収納部103cの挿入口20は、第1の挿入口20aと、第2の挿入口20bとを備える。第1の挿入口20aと、第2の挿入口20bは、それぞれ異なるシムトレイ収納部103cの開口部である。
As shown in FIG. 4, the
より詳細には、第1の挿入口20aと、第2の挿入口20bとは共にシムトレイ30を挿入可能な穴であるが、その用途が異なる。例えば、第1の挿入口20aは、静磁場分布の大まかな補正に使用されるシムトレイ30が挿入されるための送入口である。また、第2の挿入口20bは、第1の挿入口20aから挿入されたシムトレイ30内のシム31によって静磁場分布が補正された後に、さらに静磁場分布を微調整するために使用されるシムトレイ30が挿入されるための送入口である。
More specifically, the
なお、第1の挿入口20aから挿入されるシムトレイ30と、第2の挿入口20bから挿入されるシムトレイ30とは、大きさ、形状、または収納可能なシム31の数等が異なっていても良い。図4では、第1の挿入口20aの幅方向の長さd1は、第2の挿入口20bの幅方向の長さd2よりも長いものとして図示しているが、これらは一例である。
Note that even if the
本実施形態では、第1の挿入口20aへのシムトレイ30の挿入は、消磁環境下で実施され、第2の挿入口20bへのシムトレイ30の挿入は、励磁環境下で実施されるものとする。本実施形態においては、主として、励磁環境下で実施される第2の挿入口20bへのシムトレイ30の挿入によるシミング作業について説明する。
In this embodiment, the
シミング作業は、静磁場磁石101の励磁、静磁場分布の測定、静磁場分布の不均一性の分析、およびシムトレイ30の挿入による静磁場分布の補正、という一連の作業を含む。静磁場分布の測定、および静磁場分布の不均一性の分析の処理は、上述の処理回路133による静磁場分布の測定用のスキャンプロトコルなど静磁場測定ツールによって実行される。また、シムトレイ30の挿入は、作業者によって手作業で実施される。
The shimming operation includes a series of operations: excitation of the static
また、シムトレイ30の挿入後に、再度、静磁場分布の測定、および静磁場分布の不均一性の分析の処理が実行され、静磁場分布が適切に補正されたか否かが処理回路133によって分析される。静磁場分布の補正が不十分な場合には、シム31の数または配置の変更のために、シムトレイ30の取り出しまたは挿入の作業が行われる。
Furthermore, after the
図5は、本実施形態に係る励磁環境下で実施されるシムトレイ30の挿入作業の一例について説明する図である。図5では、磁気共鳴イメージング装置100の架台140に含まれる静磁場磁石101から発生する静磁場の分布を、磁場分布曲線6として図示する。
FIG. 5 is a diagram illustrating an example of the insertion work of the
磁場分布曲線6に示すように、架台140から近いほど高磁場となる。例えば、図5に示す例では、架台140の寝台105側の端部、つまりシムトレイ収納部103cの挿入口20が設けられた側の端部付近では、磁場強度は約200mTある。これに対して、寝台105の架台140から遠い方の端部付近では、磁場強度は約1mTまで低下している。なお、図5に示す磁場強度は一例であり、これに限定されるものではない。
As shown in the magnetic
図5に示す作業者5は、励磁環境下において、シムトレイ30を第2の挿入口20bに挿入することにより、静磁場分布を補正するシミング作業を行っている。励磁環境下では、シムトレイ30内のシム31に磁場由来の電磁力が作用し、それに伴ってシムトレイ30にも力が働く。さらに、シムトレイ30を保持する作業者5にも力が作用する。この力は、シム31および静磁場磁石101の磁気量、および、シム31と静磁場磁石101間の距離によって算出可能である。例えば、静磁場磁石101の静磁場強度が1.5Tであり、シムトレイ30内のシム31の総質量が50gである場合、最大50N(ニュートン)の力が作業者5に働くことが知られている。なお、この場合の力とは、電磁力である。
The
また、作業者5がシムトレイ収納部103c内へのシムトレイ30の設置を完了するまでの間に、作業者5に働く力の向きが切り替わることが知られている。例えば、力の向きが、静磁場磁石101から離れる方向から、静磁場磁石101に引っ張られる方向に切り替わる場合がある。この力の方向は、シム31と静磁場磁石101の位置関係によって決まる。具体的には、力が作用する方向は、図5の磁場分布曲線6の法線方向となる磁場強度の傾斜に比例し、磁場の強い方向へ引っ張られる力が働く。
Furthermore, it is known that the direction of the force acting on the
図5では説明のために磁場分布曲線6を図示しているが、実際の磁場分布は目に見えないため、作業者5は、シムトレイ30の挿入作業中、いずれの方向に向かって力を受けるか、つまり、静磁場磁石101に引っ張られる方向、場合によっては静磁場磁石101から離れる方向に力を受けるか、を予想することは困難である。
Although the magnetic
仮に、作業者5が、シムトレイ30の先端側を持って挿入作業を行うと、静磁場磁石101に引っ張られる方向に力を受けることにより、架台140とシムトレイ30との間に指を挟む、または挟みそうになる等のインシデントが発生する恐れがある。また、このようなインシデントの発生を警戒して作業者がシムトレイ30の後端を保持する場合、シムトレイ30上の保持可能な範囲が狭くなり、作業者がシムトレイ30を扱いにくくなる。また、シムトレイ30の長さは、長くとも架台140のZ軸方向の長さ程度であるため、作業者がシムトレイ30の後端を保持したとしても、架台140内の静磁場磁石101から発生する磁場の影響の強い範囲に作業者が立ち入ることとなる。このため、作業者5がシムトレイ30自体を持って挿入作業を行うような場合には、消磁環境下で作業を行うことが一般的である。
If the
なお、シムトレイ30の先端とは、シムトレイ30の長手方向の両端のうち、シムトレイ30が磁気共鳴イメージング装置100の架台140に挿入された場合に、寝台105とは逆側に位置する端部のことをいう。また、シムトレイ30の長手方向の両端のうち、シムトレイ30が磁気共鳴イメージング装置100の架台140に挿入された場合に、寝台105側に位置する端部のことは、シムトレイ30の後端という。
Note that the tip of the
本実施形態では、シムトレイ30の後端にガイド部材32を装着することにより、作業者5がシムトレイ30の先端側を持たなくとも、シムトレイ30の挿入作業を実施することを支援する。
In this embodiment, the
ガイド部材32は、非磁性体の素材で構成され、作業者5がシムトレイ30の挿入作業を実施する際に、挿入作業を支援するための補助具である。
The
また、図5に示すように、作業者5は、シムトレイ30の後端側およびガイド部材32を保持して挿入作業を実施することで、架台140から身体を離した状態で作業できるため、架台140近傍よりも磁場強度が低い場所から作業をすることができる。また、作業者5は、シムトレイ30のシムトレイ収納部103cへの挿入完了後、ガイド部材32をシムトレイ30から取り外すことができる。
Furthermore, as shown in FIG. 5, the
また、作業者5は、シムトレイ30をシムトレイ収納部103cから取り出す場合には、ガイド部材32をシムトレイ30に再度装着する。作業者5は、再装着したガイド部材32を持って引っ張ることで、シムトレイ30を取り出すことができる。
Further, when the
シムトレイ30と、ガイド部材32とを総称してシムユニット300という。本実施形態においては、ガイド部材32は、シムトレイ30の後端に装着されるが、これは一例である。ガイド部材32は、シムトレイ30の両端の少なくとも一方に着脱可能に装着されるものとする。
The
次に、図6~図9を用いて、本実施形態に係るシムトレイ30およびガイド部材32の形状について説明する。
Next, the shapes of the
図6は、本実施形態に係るシムトレイ30の外観の一例を示す斜視図である。図6の左側がシムトレイ30の先端であり、右側がシムトレイ30の後端である。
FIG. 6 is a perspective view showing an example of the appearance of the
シムトレイ30の長手方向の長さd11は、シムトレイ30の短手方向(幅方向)の長さd12よりも長い。シムトレイ30のシムトレイ収納部103cへの挿入が完了した状態において、架台140からシムトレイ30が突出しないように、シムトレイ30の長手方向の長さd11は、例えば、架台140のZ軸方向の長さ以下とする。なお、磁気共鳴画像の撮像や被検体Pの載置の妨げにならない範囲であれば、シムトレイ30の長手方向の長さd11が架台140のZ軸方向の長さを超過してもよい。
The length d11 of the
図7は、図6に示したシムトレイ30の後端部を拡大した図である。図7に示すように、シムトレイ30の後端部には、2つの突起部310a,310bが設けられる。また、シムトレイ30の前端部には、このような突起部は設けられない。以下、突起部310a,310bを総称する場合には、単に突起部310という。なお、突起部310の数は2つに限るものではなく、少なくとも1つあれば良い。
FIG. 7 is an enlarged view of the rear end portion of the
突起部310a,310bの端部間の間隔の長さd13は、第2の挿入口20bの幅方向の長さd2よりも長い。このため、突起部310は、シムトレイ30のシムトレイ収納部103cへの挿入が完了した状態において、第2の挿入口20bの周囲に引っかかり、シムトレイ収納部103cから出た状態となる。突起部310は、シムトレイ収納部103c内に入り込まないことにより、作業者5によって挿入されるシムトレイ30を適切な位置で停止させる。
The length d13 of the interval between the ends of the
図8は、本実施形態に係るガイド部材32の外観の一例を示す斜視図である。ガイド部材32は、シムトレイ30と接続する側の端部に、係合部321a,321bを備える。係合部321aと係合部321bには、それぞれ、孔部322aと孔部322bとが設けられる。以下、係合部321a,321bを特に区別しない場合には単に係合部321という。
FIG. 8 is a perspective view showing an example of the appearance of the
係合部321は、シムトレイ30の突起部310と係合する。より詳細には、ガイド部材32は幅方向に開閉可能であり、2つの孔部322a,322bは、ガイド部材32の開閉可能な端部に設けられる。2つの孔部322a,322bは、ガイド部材32がシムトレイ30を挟み込んだ状態で閉じた場合に、2つの突起部310a,310bにそれぞれ係合する。
The engaging portion 321 engages with the protrusion 310 of the
図8に示す例では、ガイド部材32は、係合部321が設けられた側と反対側の端部に設けられた留め具322によって第1の部材32aと、第2の部材32bとが接続している。第1の部材32aと、第2の部材32bとは、留め具322を中心に、幅方向つまりガイド部材32の短手方向に開閉する。留め具322は、非磁性体で構成される。
In the example shown in FIG. 8, the
ガイド部材32の開く角度は、シムトレイ30を把持するために十分な角度であれば良く、特に限定されるものではない。一例として、本実施形態のガイド部材32は、13°程度開くものとする。
The opening angle of the
作業者5は、ガイド部材32を幅方向に開いた状態で、孔部322aを突起部310aに、孔部322bを突起部310bにそれぞれ位置合わせしてガイド部材32でシムトレイ30を挟み、その後、ガイド部材32を閉じる。この場合、突起部310aは孔部322aに、突起部310bは孔部322bにそれぞれ嵌め込まれた状態で係合する。また、孔部322a,322bが突起部310a,310bに係合することにより、ガイド部材32は、閉状態を保持することができる。また、シムトレイ30の突起部310aと突起部310bの間に設けられた固定ピンが、ガイド部材32の係合部321aと係合部321bの間に係合してさらに固定されても良い。
With the
また、作業者5がガイド部材32をシムトレイ30から取り外す際には、人力で突起部310a,310bから孔部322a,322bを外しながらガイド部材32を開くことが可能であるものとする。
Furthermore, when the
ガイド部材32は、シムトレイ30が架台140に挿入された状態のまま、シムトレイ30から取り外し可能である。具体的には、シムトレイ30のシムトレイ収納部103cへの挿入が完了した状態において、シムトレイ30の突起部310は、シムトレイ収納部103cから出た状態となっているため、作業者5は、シムトレイ収納部103c外で、ガイド部材32を開くことにより、シムトレイ30の突起部310a,310bからガイド部材32の孔部322a,322bを外すことができる。
The
なお、図8では、係合部321はプレート状であり、孔部322a,322bは該プレートに設けられた貫通孔として図示したが、係合部321の形状はこれに限定されるものではない。例えば、係合部321に設けられた孔部322a,322bは、貫通孔ではなく、突起部310a,310bと係合可能な凹部、または溝であっても良い。
In addition, in FIG. 8, the engaging part 321 is plate-shaped, and the
図9は、本実施形態に係るガイド部材32の外観の一例を示す側面図である。ガイド部材32の幅方向の長さd22は、ガイド部材32の長手方向の長さd21よりも短い。また、ガイド部材32の長手方向の長さd21は、シムトレイ30の長手方向の長さd11よりも短い。ガイド部材32の寸法は、装着対象のシムトレイ30を安定して把持可能であり、かつ、作業者5が手で安定して保持可能なように規定される。なお、ガイド部材32の寸法とは、長手方向の長さd21、幅方向の長さd22、および厚みd23のことを指す。
FIG. 9 is a side view showing an example of the appearance of the
また、例えば、ガイド部材32の素材、および寸法は、シムトレイ30が挿入される磁気共鳴イメージング装置100において、1つのシムトレイ30に作用する電磁力の大きさに基づいて、作業者5が架台140から十分に離れた位置で作業可能なように規定される。磁気共鳴イメージング装置100において、1つのシムトレイ30に作用する電磁力は、励磁環境下の磁場分布、1つのシムトレイ30あたりのシム31の総質量、およびシムトレイ30内のシム31の位置等の情報に基づいて計算される。ガイド部材32の素材、および寸法は、予め磁気共鳴イメージング装置100のモデルに応じて推定される最大の電磁力に応じて定められても良い。また、シムトレイ30に収納されるシム31の量に応じて、複数の異なる寸法のガイド部材32が使い分けられても良い。
Further, for example, the material and dimensions of the
このように、本実施形態に係るシムユニット300は、磁性体であるシム31を少なくとも1つ収納可能な非磁性体のシムトレイ30と、シムトレイ30の両端の少なくとも一方に着脱可能に装着される非磁性体のガイド部材32とを備える。このため、本実施形態のシムユニット300によれば、作業者5がガイド部材32を保持可能になることにより、励磁環境下においても、作業者5がシムトレイ30と架台140との間に指を挟む、または挟みそうになるようなインシデントの発生が低減される。このため、本実施形態に係るシムユニット300を利用する場合は、作業者5がシムトレイ30の挿入作業をする前の静磁場磁石101の消磁、およびシムトレイ30の挿入作業後の再励磁が必須ではなくなる。これにより、シミング作業におけるシムトレイ30の挿入作業前後の消磁および再励磁のための作業時間および作業負荷が低減され、シミング作業を効率化することができる。
As described above, the
例えば、比較例として、ガイド部材を使用せずにシミング作業を実行する場合は、作業者がシムトレイの先端側を持つ可能性が高くなるため、作業者がシムトレイと架台との間に指を挟む、または挟みそうになることや、作業者に対して磁場の影響による力が強く作用することを回避するために、消磁環境下でシムトレイの挿入作業をすることが一般的である。この場合、シミング作業の流れとしては、まず、静磁場磁石を励磁し、静磁場分布の測定および静磁場分布の不均一性の分析が実施される。その後、静磁場磁石を消磁し、作業者がシムトレイを架台に挿入する。その後、再び静磁場磁石を励磁し、静磁場分布の測定および静磁場分布の不均一性の分析が実施され、静磁場分布の補正が不十分であれば、再度静磁場磁石を消磁し、作業者によるシムトレイの取り出しまたは挿入の作業が実施される。このため、静磁場磁石の励磁および消磁が複数回繰り返される可能性がある。静磁場磁石の励磁および消磁には、それぞれ数時間を要する場合があるため、このような比較例においては、作業時間の長期化、および作業者の作業負荷の増大の可能性がある。更に励磁、消磁時に冷媒としての例えば液体ヘリウムを蒸発させてしまうこともあり、資源の無駄を増大させてしまう可能性がある。 For example, as a comparative example, when performing shimming work without using a guide member, there is a high possibility that the worker will hold the tip side of the shim tray, resulting in the worker getting his or her fingers caught between the shim tray and the pedestal. In order to prevent the shim tray from being pinched or being subject to strong force due to the influence of the magnetic field on the operator, it is common to insert the shim tray in a demagnetized environment. In this case, the flow of the shimming work is to first excite the static magnetic field magnet, measure the static magnetic field distribution, and analyze the non-uniformity of the static magnetic field distribution. Thereafter, the static magnetic field magnet is demagnetized, and the operator inserts the shim tray into the pedestal. After that, the static magnetic field magnet is excited again, and the static magnetic field distribution is measured and the non-uniformity of the static magnetic field distribution is analyzed. If the correction of the static magnetic field distribution is insufficient, the static magnetic field magnet is demagnetized again and the work is carried out. The operator is responsible for removing or inserting the shim tray. Therefore, excitation and demagnetization of the static magnetic field magnet may be repeated multiple times. Since it may take several hours to excite and demagnetize the static magnetic field magnet, in such a comparative example, there is a possibility that the working time becomes longer and the workload of the operator increases. Furthermore, during excitation and demagnetization, for example, liquid helium as a coolant may be evaporated, which may increase the waste of resources.
これに対して、本実施形態のシムユニット300によれば、上述のように、励磁環境下でシミング作業を実行することができるため、静磁場磁石101の励磁および消磁の回数を低減させることができ、シミング作業全体の作業時間の短縮、および作業者5の作業負荷さらには資源の使用量の低減をすることができる。
On the other hand, according to the
また、本実施形態のシムユニット300のガイド部材32は、シムトレイ30に装着されるため、作業者5がシムトレイ30をシムトレイ収納部103cに挿入した後は、ガイド部材32を取り外すことができる。このため、本実施形態のシムユニット300によれば、ガイド部材32が磁気共鳴画像の撮像や被検体Pの載置の妨げになることを回避することができる。
Moreover, since the
また、本実施形態に係るシムユニット300のシムトレイ30は、一方の端部に突起部310を備え、ガイド部材32は、突起部310に係合可能な係合部321を有する。このため、本実施形態のシムユニット300によれば、ガイド部材32はシムトレイ30と係合して固定されるため、作業者5による挿入作業の途中にガイド部材32がシムトレイ30から分離することを低減することができる。
Furthermore, the
また、本実施形態に係るシムユニット300のシムトレイ30は、寝台105を備える磁気共鳴イメージング装置100の架台140に挿入可能であり、ガイド部材32は、シムトレイ30の両端のうち、シムトレイ30が架台140に挿入された場合に寝台105側となる端部に装着される。このため、本実施形態のシムユニット300によれば、作業者5は、ガイド部材32を保持して作業することにより、架台140から離れた磁場強度の低い位置で作業を開始することができる。また、作業者5は、ガイド部材32を保持して作業することにより、シムトレイ30の先端の近傍を保持しなくとも作業をすることができ、架台140とシムトレイ30との間に指を挟む、または挟みそうになる等のインシデントの発生を低減することができる。
Further, the
また、本実施形態に係るシムユニット300のガイド部材32は、架台140に挿入された状態のシムトレイ30から、取り外し可能である。このため、本実施形態に係るシムユニット300によれば、作業者5がシムトレイ30をシムトレイ収納部103cに挿入した後に、ガイド部材32を容易にとり外すことができ、ガイド部材32が磁気共鳴画像の撮像等の妨げになることを回避することができる。
Further, the
また、本実施形態に係るシムユニット300のシムトレイ30は、一方の端部に2つの突起部310a,310bを有し、ガイド部材32は、2つの突起部310a,310bのそれぞれに係合可能な2つの孔部322a,322bを有する。このため、本実施形態に係るシムユニット300によれば、2つの突起部310a,310bに2つの孔部322a,322bが係合することにより、ガイド部材32とシムトレイ30との接続を容易に維持することができる。
Furthermore, the
また、本実施形態に係るシムユニット300のガイド部材32の長手方向の長さd21は、シムトレイ30の長手方向の長さd11よりも短い。このため、本実施形態に係るシムユニット300によれば、ガイド部材32の装着によってシムユニット300が過度に長くなって作業者5の作業が行いにくくなることを、低減することができる。
Further, the length d21 in the longitudinal direction of the
また、本実施形態に係るシムユニット300のガイド部材32の幅方向の長さd22は、長手方向の長さd21よりも短い。つまり、本実施形態のガイド部材32は長手方向に沿って細長い形状であり、作業者5が作業の際に保持しやすい形状となっている。
Furthermore, the length d22 in the width direction of the
なお、本実施形態においては、シムトレイ30およびガイド部材32を非磁性体としたが、完全に磁性を有さないものに限定しなくとも良い。例えば、シムトレイ30およびガイド部材32は、ある程度の磁性を有しても良い。また、ガイド部材32の一部、例えば留め具322等に、磁性体が用いられても良い。磁性の程度は特に限定されるものではないが、強い磁場吸着を生じさせない程度であれば良い。
In addition, in this embodiment, the
また、本実施形態においては、作業者5は、架台140の寝台105側からシムトレイ30を挿入するものとしたが、挿入方向はこれに限定されるものではない。例えば、架台140の寝台105から遠い方の端部、つまり架台140の背面側に、シムトレイ30を挿入可能な挿入口20が設けられても良い。この場合、突起部310a,310bは、シムトレイ30が架台140に挿入された場合に寝台105側に位置する端部に設けられる。当該構成を採用する場合は、シムトレイ30が磁気共鳴イメージング装置100の架台140に挿入された場合に、寝台105側に位置する端部をシムトレイ30の前端という。また、シムトレイ30が磁気共鳴イメージング装置100の架台140に挿入された場合に、寝台105とは逆側に位置する端部をシムトレイ30の後端という。
Further, in the present embodiment, the
なお、本実施形態においては、1つの挿入口20につき、2種類の挿入口(第1の挿入口20aおよび第2の挿入口20b)が設けられた傾斜磁場コイル103を例として説明したが、シムトレイ30の挿入口が1種類のみ設けられた傾斜磁場コイル103に本実施形態のシムユニット300を適用しても良い。
In addition, in this embodiment, the gradient
また、本実施形態においては、第1の挿入口20aと第2の挿入口20bのうち、第2の挿入口20bへのシムトレイ30の挿入作業の際に、作業者5がガイド部材32を用いるものとしたが、第1の挿入口20aへのシムトレイ30の挿入作業の際にも、ガイド部材32を用いても良い。
Further, in the present embodiment, the
(第1の実施形態の変形例)
上述の第1の実施形態では、ガイド部材32がシムトレイ30を把持した状態でガイド部材32とシムトレイ30を接続可能なシムユニット300を説明したが、ガイド部材32およびシムトレイ30の構成は、これに限定されるものではない。
(Modification of the first embodiment)
In the first embodiment described above, the
図10~図14を用いて、第1の実施形態で説明したシムユニット300の変形例について説明する。
Modifications of the
図10は、第1の変形例に係るシムユニット300の外観の一例を示す図である。当該シムユニット300のシムトレイ30は、突出部310cを備える。
FIG. 10 is a diagram showing an example of the appearance of a
突出部310cは、シムユニット300本体よりも薄いプレート形状をしている。図10に示すように、突出部310cの高さ方向の長さは、シムユニット300の高さ方向の長さよりも、短い。また、突出部310cには、複数のディンプル311a~311fが設けられる。
The
また、第1の変形例に係るガイド部材32には、突出部323a~323fが設けられる。突出部323a~323fは、弾性を有する非磁性体であり、先端に、ディンプル311a~311fとそれぞれ係合する係合部を有する。ガイド部材32の突出部323a~323fの先端がシムトレイ30の突出部310cのディンプル311a~311fに嵌め込まれた状態で、突出部323a~323fが突出部310cを挟み込むことにより、ガイド部材32がシムトレイ30に装着される。
Furthermore, the
なお、作業者5がガイド部材32の突出部323a~323fを上下方向に開くことにより、突出部323a~323fの先端がディンプル311a~311fから外れるため、ガイド部材32をシムトレイ30から取り外すことができる。
Note that when the
図10では、ディンプル311a~311fは、突出部310cの上面と仮面に3つずつ設けられているが、ディンプル311a~311fの数は、ガイド部材32の突出部323a~323fの数と同一であれば良く、これに限定されるものではない。また、突出部310cは、ディンプル311a~311fの代わりに、複数の貫通孔を備えても良い。
In FIG. 10, three
また、図11は、第2の変形例に係るシムユニット300の外観の一例を示す図である。当該シムユニット300のシムトレイ30は、突起部312a,312bを備える。また、2つの突起部312a,312bの間には、凹部312cが設けられる。
Moreover, FIG. 11 is a diagram showing an example of the appearance of a
また、第2の変形例に係るガイド部材32は、突出部324を備える。ガイド部材32の突出部324は、シムトレイ30の凹部312cと嵌合する。なお、突起部312a,312b、凹部312c、および突出部324の形状は、図11に示す例に限定されるものではない。
Further, the
また、図12は、第3の変形例に係るシムユニット300の外観の一例を示す図である。当該シムユニット300のシムトレイ30は、突出部313を備える。突出部313の両側面には、シムトレイ30の高さ方向に沿って溝部313a,313bが設けられる。
Moreover, FIG. 12 is a diagram showing an example of the appearance of a
また、第3の変形例に係るガイド部材32は、突出部325a,325bを備える。突出部325aは、凸条326aを備える。また、突出部325bは、凸条326bを備える。凸条326aと凸条326bとは、突出部325aと突出部325bの間の空間を挟んで対向している。
Further, the
ガイド部材32の突出部325aと突出部325bの間の空間には、シムトレイ30の突出部313が挿入可能である。突出部325aと突出部325bの間の空間に突出部313が挿入された場合、溝部313a,313bが、それぞれ、凸条326a,凸条326bと咬合する。
The
また、図13は、第4の変形例に係るシムユニット300の外観の一例を示す図である。当該シムユニット300のシムトレイ30は、突出部314を備える。突出部314の両側面には、複数の凸条が設けられる。
Moreover, FIG. 13 is a diagram showing an example of the appearance of a
また、第4の変形例に係るガイド部材32は、突出部327a,327bを備える。突出部327aの側面のうち、突出部327bと対向する側面には、複数の凸条が設けられる。また、突出部327bの側面のうち、突出部327aと対向する側面には、複数の凸条が設けられる。
Further, the
ガイド部材32の突出部327aと突出部327bの間の空間には、シムトレイ30の突出部314が挿入可能である。突出部327aと突出部327bの間の空間に突出部314が挿入された場合、突出部314の両側面に設けられた複数の凸条と、突出部327aと突出部327bの各々の片側の側面に設けられた複数の凸条とが咬合する。
The
また、図14は、第5の変形例に係るシムユニット300の外観の一例を示す図である。当該シムユニット300のシムトレイ30は、めねじ315が設けられた接続部316を備える。
Moreover, FIG. 14 is a diagram showing an example of the appearance of a
また、第5の変形例に係るガイド部材32は、おねじ328a、および、つまみ328bを備える。作業者5がおねじ328aをめねじ315に差し込み、つまみ328bを回すことで、おねじ328aがめねじ315と係合し、ガイド部材32がシムトレイ30に固定される。
Further, the
なお、第1の実施形態および第1~第5の変形例に係る突起部310a,310b、突出部310c、突起部312a,312b、凹部312c、突出部313、突出部314、接続部316を総称する場合、シムトレイ側接続部という。
Note that the
また、第1の実施形態および第1~第5の変形例に係る係合部321a,321b、突出部323a~323f、突出部324、突出部325a,325b、突出部327a,327b、おねじ328a、つまみ328bを総称する場合、ガイド部材側接続部という。
Furthermore, the engaging
(第2の実施形態)
上述の第1の実施形態および第1~第5の変形例においては、ガイド部材32は、シムトレイ30の後端に装着されるものとしたが、ガイド部材は、シムトレイ30の先端に装着されても良い。
(Second embodiment)
In the first embodiment and the first to fifth modifications described above, the
図15は、本実施形態に係る励磁環境下で実施されるシムトレイ30の挿入作業の一例について説明する図である。図15に示すように、本実施形態のシムユニット300においては、ガイド部材33が、シムトレイ30の先端、つまり先に第2の挿入口20bに挿入される側に装着される。
FIG. 15 is a diagram illustrating an example of the insertion work of the
ガイド部材33は、第1の実施形態と同様に、非磁性体であり、シムトレイ30に着脱可能に装着される。
The guide member 33 is made of a non-magnetic material as in the first embodiment, and is removably attached to the
本実施形態のガイド部材33は、作業者5によって第2の挿入口20bから挿入された後、貫通孔であるシムトレイ収納部103c内を通過して、架台140の寝台105とは反対側の端部から突出する。作業者5は、シムトレイ30の挿入完了後に、架台140の寝台105とは反対側の端部から突出しているガイド部材33を、シムトレイ30から取り外す。架台140の寝台105とは反対側の端部を、架台140の背面という。
After the guide member 33 of this embodiment is inserted from the
また、シムトレイ30をシムトレイ収納部103cから取り出す場合には、架台140の背面側に十分なスペースがある場合は、作業者5は、架台140の背面からガイド部材33にシムトレイ30装着し、ガイド部材33を保持して引っ張ることで、架台140の背面側にシムトレイ30を引き抜いても良い。あるいは、作業者5は、架台140の背面からガイド部材33にシムトレイ30を装着し、ガイド部材33を押すことで、寝台105側にシムトレイ30の一部を突出させ、その後、シムトレイ30を寝台105側から引っ張ってシムトレイ収納部103cから取り出しても良い。
In addition, when taking out the
本実施形態においては、ガイド部材33は、シムトレイ収納部103c内を通過するため、ガイド部材33の寸法は、シムトレイ収納部103c内を通過可能な大きさであるものとする。
In this embodiment, the guide member 33 passes through the shim
例えば、本実施形態のガイド部材33の幅方向の長さd22は、シムトレイ30の幅方向の長さd12以下であるものとする。また、本実施形態のガイド部材33の高さ方向の長さd23は、シムトレイ30の高さ方向の長さ以下であるものとする。また、ガイド部材33の幅方向の長さd22、およびシムトレイ30の幅方向の長さd12は、共に、第2の挿入口20bの幅方向の長さd2よりも短いものとする。
For example, it is assumed that the length d22 of the guide member 33 in the width direction of the present embodiment is equal to or less than the length d12 of the
また、第1の実施形態のようにガイド部材32がシムトレイ30を外側から把持する構成では、ガイド部材32の幅方向の長さd22をシムトレイ30の幅方向の長さd12以下にすることは困難であるため、本実施形態のガイド部材33とシムトレイ30とは、例えば、第1~第5の変形例における構成を採用する。なお、本実施形態のガイド部材33とシムトレイ30とは、第1~第5の変形例で説明した以外の構成で接続しても良い。
Further, in the configuration in which the
また、本実施形態のガイド部材33の素材および長さは、シムトレイ30が挿入される磁気共鳴イメージング装置100において、1つのシムトレイ30に作用する電磁力の大きさに基づいて規定される。例えば、ガイド部材33の長さは、挿入口20から、シムトレイ30が磁場の影響を強く受ける領域の外端までの距離としても良い。
Further, the material and length of the guide member 33 of this embodiment are defined based on the magnitude of electromagnetic force acting on one
例えば、挿入口20から、空間の磁場が20mT程度となる位置までの距離を、ガイド部材33の長さとしても良い。なお、当該磁場の強度は一例であり、これに限定されるものではない。
For example, the length of the guide member 33 may be the distance from the
作業者5がガイド部材33を第2の挿入口20bからシムトレイ収納部103cに差し込むことにより、シムトレイ30は磁場の影響が強い範囲に移動するが、この状態で仮にシムトレイ30が静磁場磁石101に吸引されたとしても、シムトレイ30は既にシムトレイ収納部103cに挿入済みのガイド部材33に導かれて、第2の挿入口20bに挿入される。これにより、作業者5がシムトレイ30をシムトレイ収納部103cに容易に挿入することができる。
When the
ガイド部材33の素材、および寸法は、予め磁気共鳴イメージング装置100のモデルに応じて推定される最大の電磁力に応じて定められても良い。また、シムトレイ30に収納されるシム31の量に応じて、複数の異なる長さのガイド部材33が使い分けられても良い。なお、本実施形態においては、シムトレイ30およびガイド部材33を非磁性体としたが、完全に磁性を有さないものに限定しなくとも良い。
The material and dimensions of the guide member 33 may be determined in advance according to the maximum electromagnetic force estimated according to the model of the magnetic
このように、本実施形態のシムユニット300によれば、非磁性体であるガイド部材33がシムトレイ30の先端に装着されるため、作業者5は、シムトレイ30が磁場の影響を強く受ける領域外に位置した状態で、ガイド部材33をシムトレイ収納部103cに挿入することができる。このため、シムトレイ30が静磁場磁石101に吸引されたとしても、シムトレイ30は既にシムトレイ収納部103cに挿入済みのガイド部材33に導かれるため、作業者5がシムトレイ30をシムトレイ収納部103cに容易に挿入することができる。
As described above, according to the
なお、第1の実施形態で述べたように、本実施形態においても、架台140の背面側からガイド部材33およびシムトレイ30が挿入される構成を採用しても良い。
Note that, as described in the first embodiment, also in this embodiment, a configuration may be adopted in which the guide member 33 and the
また、第1の実施形態で説明したシムトレイ30の後端に装着されるガイド部材32と、本実施形態のガイド部材33は、併用可能である。この場合、シムトレイ30の両端に、ガイド部材32とガイド部材33とがそれぞれ装着される。なお、シムトレイ30の後端に装着されるガイド部材32を第1のガイド部材32、シムトレイ30の先端に装着されるガイド部材33を第2のガイド部材33として区別しても良い。
Moreover, the
(第3の実施形態)
上述の第1、第2の実施形態では、シムトレイ30に装着されるガイド部材32および33について説明した。この第3の実施形態では、シムトレイ30が挿入される架台140側に装着可能なガイド部材について説明する。
(Third embodiment)
In the first and second embodiments described above, the
本実施形態における磁気共鳴イメージング装置100の全体構成は、第1の実施形態と同様である。
The overall configuration of the magnetic
図16は、本実施形態に係る傾斜磁場コイル103に装着されたガイド部材40の外観の一例を示す斜視図である。本実施形態における傾斜磁場コイル103の形状は、第1の実施形態と同様である。
FIG. 16 is a perspective view showing an example of the appearance of the
図16に示すように、ガイド部材40は、シムトレイ30が挿入される挿入口20の周囲に、着脱可能に装着される。ガイド部材40は、シムトレイ30が挿入される挿入口20と装着する側から離れるほど太くなる形状である。つまり、シムトレイ30が挿入される挿入口20と装着する側のガイド部材40の端部に設けられた開口部(これを第1の開口部という)は、シムトレイ30が挿入される挿入口20と装着する側と反対の端部に設けられた開口部(これを第2の開口部という)よりも小さい。
As shown in FIG. 16, the
図17は、本実施形態に係るガイド部材40がシムトレイ収納部103cの挿入口20に装着された状態の一例を説明する図である。ガイド部材40は、非磁性体の弾性部材であり、図17に示すように、挿入口20の外郭に沿って変形する。
FIG. 17 is a diagram illustrating an example of a state in which the
また、図18は、本実施形態に係るガイド部材40が挿入口20に装着された状態の一例を示す正面図である。この場合の正面は、傾斜磁場コイル103の、寝台105側に面した側とする。
Moreover, FIG. 18 is a front view showing an example of a state in which the
図18に示すように、ガイド部材40の第1の開口部と前記第2の開口部とを貫通する内部空間401の第1の開口部側は、挿入口20に含まれる第1の挿入口20aと第2の挿入口20bのうち、第2の挿入口20bにのみ通じる。このため、ガイド部材40が挿入口20に装着されると、第1の挿入口20aは塞がれた状態となる。本実施形態のガイド部材40は、シムトレイ30の第2の挿入口20bまでの挿入経路を定める。
As shown in FIG. 18, the first opening side of the
図19は、本実施形態に係る傾斜磁場コイル103の一例を示す側面図である。図19に示すように、傾斜磁場コイル103において、挿入口20の外郭が、挿入口20を囲む壁のように盛り上がっている。当該盛り上がった箇所が、ガイド部材40の第1の開口部内に嵌め込まれることにより、ガイド部材40が傾斜磁場コイル103に装着される。
FIG. 19 is a side view showing an example of the gradient
図20は、本実施形態に係るガイド部材40の内部形状の一例を示す図である。図20に示すガイド部材40の右側の端部に設けられた開口部が第1の開口部である。また、図20に示すガイド部材40の左側の端部に設けられた開口部が第2の開口部である。図20に示すように、ガイド部材40の第1の開口部と前記第2の開口部とを貫通する内部空間401は、第2の開口部から第1の開口部に向けて先細りするテーパー形状である。
FIG. 20 is a diagram showing an example of the internal shape of the
図20に示すように、ガイド部材40のC-C´断面図における内部空間401の面積は、B-B´断面図における内部空間401の面積およびA-A´断面図における内部空間401の面積よりも大きい。
As shown in FIG. 20, the area of the
また、ガイド部材40のB-B´断面図における内部空間401の大きさは、シムトレイ30が通過可能な大きさとする。また、B-B´断面図における内部空間401の位置は、ガイド部材40が挿入口20に取り付けられた状態における第2の挿入口20bの位置に対応する。
Further, the size of the
また、図20に示すガイド部材40の位置Aから位置Bまでは、挿入口20の外郭の周囲と嵌合する部分である。A-A´断面図における内部空間401は、挿入口20の外郭を包み込むため、A-A´断面図における内部空間401の面積は、B-B´断面図における内部空間401の面積よりも大きい。
Further, the portion from position A to position B of the
また、本実施形態のガイド部材40の素材および長さは、シムトレイ30が挿入される磁気共鳴イメージング装置100において、1つのシムトレイ30に作用する電磁力の大きさに基づいて規定される。例えば、ガイド部材40の長さは、挿入口20から、シムトレイ30が磁場の影響を強く受ける領域の外端までの距離としても良い。例えば、挿入口20から、空間の磁場が20mT程度となる位置までの距離を、ガイド部材40の長さとしても良い。なお、当該磁場の強度は一例であり、これに限定されるものではない。
Further, the material and length of the
シムトレイ30がガイド部材40の内部空間401に入れば、シムトレイ30が磁場の影響を強く受けたとしても、ガイド部材40によって第2の挿入口20bまで導かれる。
When the
このように、本実施形態のガイド部材40では、シムトレイ30がガイド部材40に挿入された場合、シムトレイ30は、比較的広い第2の開口部から内部空間401に入り、テーパー形状の内部空間401によって、第2の挿入口20bに向けて導かれる。このため、本実施形態のガイド部材40によれば、作業者5は、第2の挿入口20bよりも広いガイド部材40の第2の開口部にシムトレイ30を挿入すれば、目標とする第2の挿入口20bに容易にシムトレイ30を挿入することができる。このため、作業者5が第2の挿入口20bに直接シムトレイ30を挿入する場合よりも、シムトレイ30の挿入作業の負荷が低減される。
In this way, in the
さらにシムトレイ30を第2の挿入口20bへ導く際に不用意な吸引力を受けないようなガイドであれば、テーパー状は必ずしも必須ではない。また、ガイド部材40は、挿入経路の多少の差異があったとしても最終的に目標とする第2の挿入口20bへシムトレイ30を導くものであっても良いし、シムトレイ30の第2の挿入口20bまでの挿入経路を一義的に定めるものであっても良い。ガイド部材40がシムトレイ30の第2の挿入口20bまでの挿入経路を一義的に定める場合は、ガイド部材40の内部空間401はテーパー状でなくとも良い。また、この場合、ガイド部材40の外形も、第2の挿入口20bに向けて細くなる形状でなくとも良く、例えば一定の太さの円筒または四角柱等の形状であっても良い。
Further, the tapered shape is not necessarily required as long as the guide does not receive unexpected suction force when guiding the
なお、本実施形態においては、挿入口20およびシムトレイ収納部103cは、第1の実施形態と同様に傾斜磁場コイル103に設けられているものとして説明したが、これは一例である。挿入口20およびシムトレイ収納部103cは、磁気共鳴イメージング装置100の構成に応じて、架台140内のいずれかの位置に設けられれば良い。
In addition, in this embodiment, although the
また、本実施形態においては、第1の実施形態と同様に、1つの挿入口20につき、2種類の挿入口(第1の挿入口20aおよび第2の挿入口20b)が設けられた傾斜磁場コイル103を例として説明したが、シムトレイ30の挿入口が1種類のみ設けられた傾斜磁場コイル103に、本実施形態のガイド部材40を適用しても良い。
Further, in this embodiment, similarly to the first embodiment, each
また、本実施形態においては、ガイド部材40の内部空間401は、第2の挿入口20bにのみ通じるものとしたが、当該構成に限定されるものではない。例えば、ガイド部材40の内部空間401は、第1の挿入口20aにのみ通じても良い。あるいは、ガイド部材40は、第1の挿入口20aに通じる内部空間と、第2の挿入口20bに通じる内部空間の2つの内部空間を備えても良い。この場合、2つの内部空間は、それぞれ異なる第2の開口部および第1の開口部を備えるものとする。
Further, in the present embodiment, the
また、本実施形態においては、ガイド部材40は、1つの挿入口20に対応するものとして説明したが、複数の挿入口20に同時に装着可能であっても良い。例えば、複数のガイド部材40が結合した状態で、1つのガイド部材として機能しても良い。また、例えば、傾斜磁場コイル103の開口部に沿って装着可能な、複数の挿入口20の各々に通じる開口部を備えた円環形状のガイド部材40が用いられても良い。
Further, in the present embodiment, the
なお、本実施形態においては、ガイド部材40を非磁性体としたが、完全に磁性を有さないものに限定しなくとも良い。
Although the
また、本実施形態のガイド部材40は、第1の実施形態で説明したシムトレイ30の後端に装着されるガイド部材32、および本実施形態のガイド部材33と併用可能である。例えば、本実施形態のガイド部材40は、ガイド部材32とガイド部材33のいずれか1つと併用されても良いし、両方と併用されても良い。
Further, the
なお、本実施形態のように架台140側に装着されるガイド部材40を、第3のガイド部材40として、第1のガイド部材32および第2のガイド部材33と区別しても良い。
Note that the
以上説明した少なくとも1つの実施形態によれば、磁気共鳴イメージング装置に対して行われるシミング作業を効率化することができる。 According to at least one embodiment described above, shimming work performed on a magnetic resonance imaging apparatus can be made more efficient.
いくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更、実施形態同士の組み合わせを行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれると同様に、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれるものである。 Although several embodiments have been described, these embodiments are presented by way of example and are not intended to limit the scope of the invention. These embodiments can be implemented in various other forms, and various omissions, substitutions, changes, and combinations of embodiments can be made without departing from the gist of the invention. These embodiments and their modifications are included within the scope and gist of the invention as well as within the scope of the invention described in the claims and its equivalents.
5 作業者
20 挿入口
20a 第1の挿入口
20b 第2の挿入口
30 シムトレイ
31 シム
32,33,40 ガイド部材
32a 第1の部材
32b 第2の部材
100 磁気共鳴イメージング装置
101 静磁場磁石
103 傾斜磁場コイル
104 傾斜磁場電源
105 寝台
140 架台
300 シムユニット
310,310a,310b 突起部
321,321a,321b 係合部
322 留め具
322a,322b 孔部
401 内部空間
5
Claims (7)
前記シムトレイが前記収納部に挿入される第1方向における前記シムトレイの後端に着脱可能に装着される非磁性体のガイド部材と、
を有し、
前記第1方向における前記シムトレイの前記後端には、前記第1方向に交差する方向に突出した突起部が設けられ、
前記突起部が突出する第2方向における前記突起部を含む前記シムトレイの長さは、前記シムトレイが挿入される前記収納部の挿入口の前記第2方向における長さよりも長く、
前記ガイド部材は、前記ガイド部材に設けられた孔部と前記突起部とが係合することにより、前記シムトレイに着脱可能に装着されることを特徴とする、
シムユニット。 A shim tray of a non-magnetic material that stores a shim of a magnetic material, the shim tray being stored in a storage section provided on a pedestal having a static magnetic field magnet that generates a static magnetic field;
a non-magnetic guide member removably attached to a rear end of the shim tray in a first direction in which the shim tray is inserted into the storage section ;
has
The rear end of the shim tray in the first direction is provided with a protrusion protruding in a direction intersecting the first direction,
The length of the shim tray including the protrusion in the second direction in which the protrusion protrudes is longer than the length in the second direction of an insertion opening of the storage portion into which the shim tray is inserted;
The guide member is removably attached to the shim tray by engaging the protrusion with a hole provided in the guide member.
sim unit.
前記ガイド部材が前記シムトレイを挟み込んだ状態で閉じた場合に前記突起部と前記孔部とが係合し、
前記ガイド部材が開いた場合に前記突起部と前記孔部との係合が解除される、
請求項1に記載のシムユニット。 The guide member can be opened and closed in the second direction,
When the guide member is closed with the shim tray sandwiched therebetween , the protrusion and the hole engage ,
When the guide member is opened, the engagement between the protrusion and the hole is released.
The shim unit according to claim 1 .
前記第2方向における2つの前記突起部を含む前記シムトレイの長さは、前記挿入口の前記第2方向における長さよりも長く、 The length of the shim tray including the two protrusions in the second direction is longer than the length of the insertion opening in the second direction,
前記ガイド部材は、前記第2方向に2つの前記孔部を備え、かつ、前記第2方向に開閉可能であり、 The guide member includes two holes in the second direction and can be opened and closed in the second direction,
前記ガイド部材が前記シムトレイを挟み込んだ状態で閉じた場合に2つの前記突起部と2つの前記孔部とが係合することにより前記ガイド部材が前記シムトレイを把持し、 When the guide member is closed with the shim tray sandwiched therebetween, the two protrusions and the two holes engage with each other, so that the guide member grips the shim tray,
前記ガイド部材が開いた場合に2つの前記突起部と2つの前記孔部との係合が解除される、 When the guide member is opened, the engagement between the two protrusions and the two holes is released.
請求項1に記載のシムユニット。 The shim unit according to claim 1.
請求項3に記載のシムユニット。 The shim unit according to claim 3.
前記固定ピンは前記ガイド部材の前記2つの契合部の間に係合する、 the fixing pin engages between the two engaging portions of the guide member;
請求項4に記載のシムユニット。 The shim unit according to claim 4.
前記挿入口と接続する側の端部に設けられた第1の開口部が、他方の端部に設けられた第2の開口部よりも小さく、
前記第1の開口部と前記第2の開口部とを貫通する内部空間は、前記第2の開口部から前記第1の開口部に向けて先細りするテーパー形状である、
ガイド部材。 A non-magnetic shim tray that stores magnetic shims can be attached and removed around the insertion slot.
a first opening provided at the end connected to the insertion port is smaller than a second opening provided at the other end;
An internal space passing through the first opening and the second opening has a tapered shape that tapers from the second opening toward the first opening.
Guide member.
前記架台内に設けられ、請求項1~5のいずれか1項に記載のシムユニットに備えられた前記シムトレイを収納可能な前記収納部と、
を備える磁気共鳴イメージング装置。 The pedestal ;
the storage section provided in the pedestal and capable of storing the shim tray provided in the shim unit according to any one of claims 1 to 5 ;
A magnetic resonance imaging device comprising:
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020112335A JP7451327B2 (en) | 2020-06-30 | 2020-06-30 | Shim unit, guide member, and magnetic resonance imaging device |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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