JP7396124B2 - water treatment system - Google Patents
water treatment system Download PDFInfo
- Publication number
- JP7396124B2 JP7396124B2 JP2020036200A JP2020036200A JP7396124B2 JP 7396124 B2 JP7396124 B2 JP 7396124B2 JP 2020036200 A JP2020036200 A JP 2020036200A JP 2020036200 A JP2020036200 A JP 2020036200A JP 7396124 B2 JP7396124 B2 JP 7396124B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- water
- water supply
- reverse osmosis
- osmosis membrane
- concentrated
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 428
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 156
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 140
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 131
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 131
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 130
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 128
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 128
- 238000001223 reverse osmosis Methods 0.000 claims description 124
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 claims description 91
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 claims description 86
- 239000000376 reactant Substances 0.000 claims description 33
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 claims description 28
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 claims description 28
- 230000001954 sterilising effect Effects 0.000 claims description 24
- 238000004659 sterilization and disinfection Methods 0.000 claims description 24
- 239000000645 desinfectant Substances 0.000 claims description 20
- -1 sulfamic acid compound Chemical class 0.000 claims description 18
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 claims description 17
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 7
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 150000002367 halogens Chemical group 0.000 claims description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 5
- 239000012466 permeate Substances 0.000 claims 6
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 24
- 229940079593 drug Drugs 0.000 description 24
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 12
- QWPPOHNGKGFGJK-UHFFFAOYSA-N hypochlorous acid Chemical compound ClO QWPPOHNGKGFGJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 12
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 11
- DWAQJAXMDSEUJJ-UHFFFAOYSA-M Sodium bisulfite Chemical compound [Na+].OS([O-])=O DWAQJAXMDSEUJJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 10
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 10
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 10
- 235000010267 sodium hydrogen sulphite Nutrition 0.000 description 10
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 description 8
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 8
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 8
- 239000003899 bactericide agent Substances 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 6
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 6
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 6
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 5
- 239000005708 Sodium hypochlorite Substances 0.000 description 4
- 230000000855 fungicidal effect Effects 0.000 description 4
- 239000000417 fungicide Substances 0.000 description 4
- CUILPNURFADTPE-UHFFFAOYSA-N hypobromous acid Chemical compound BrO CUILPNURFADTPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N sodium hypochlorite Chemical compound [Na+].Cl[O-] SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L sodium sulfite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])=O GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 241000894006 Bacteria Species 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 3
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 239000008400 supply water Substances 0.000 description 3
- 206010034133 Pathogen resistance Diseases 0.000 description 2
- RAHZWNYVWXNFOC-UHFFFAOYSA-N Sulphur dioxide Chemical compound O=S=O RAHZWNYVWXNFOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- JGJLWPGRMCADHB-UHFFFAOYSA-N hypobromite Chemical compound Br[O-] JGJLWPGRMCADHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 244000005700 microbiome Species 0.000 description 2
- 235000010265 sodium sulphite Nutrition 0.000 description 2
- GUUULVAMQJLDSY-UHFFFAOYSA-N 4,5-dihydro-1,2-thiazole Chemical compound C1CC=NS1 GUUULVAMQJLDSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZKQDCIXGCQPQNV-UHFFFAOYSA-N Calcium hypochlorite Chemical compound [Ca+2].Cl[O-].Cl[O-] ZKQDCIXGCQPQNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N Sulfurous acid Chemical compound OS(O)=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000032770 biofilm formation Effects 0.000 description 1
- 239000007844 bleaching agent Substances 0.000 description 1
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 150000007973 cyanuric acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 230000002070 germicidal effect Effects 0.000 description 1
- 230000009931 harmful effect Effects 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000005374 membrane filtration Methods 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003641 microbiacidal effect Effects 0.000 description 1
- 229940124561 microbicide Drugs 0.000 description 1
- 235000015097 nutrients Nutrition 0.000 description 1
- 235000016709 nutrition Nutrition 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 230000035755 proliferation Effects 0.000 description 1
- AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L sodium thiosulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=S AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000019345 sodium thiosulphate Nutrition 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-N sulfamic acid Chemical class NS(O)(=O)=O IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010269 sulphur dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000008399 tap water Substances 0.000 description 1
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
Description
本発明は、水処理システムに関する。 The present invention relates to water treatment systems.
逆浸透膜を用いた膜ろ過プロセスを実行する水処理システムにおいて、微生物の繁茂に由来するバイオフィルムの抑制のため、微生物を除去するための塩素系殺菌剤として次亜塩素酸ナトリウムが用いられることがある。 In water treatment systems that perform membrane filtration processes using reverse osmosis membranes, sodium hypochlorite is used as a chlorine-based disinfectant to remove microorganisms in order to suppress biofilms caused by the growth of microorganisms. There is.
例えば、特許文献1は、逆浸透膜を用いた造水方法であって、バイオフィルムの発生によるバイオファウリングの抑制のため、次亜塩素酸ナトリウムを水処理システム中の逆浸透膜に流入させる造水方法を開示している。
For example,
塩素系酸化剤の添加や電気分解により遊離塩素を存在させた水を逆浸透膜で処理すると、逆浸透膜が酸化劣化を受ける。このため、例えば特許文献2で開示されるように、逆浸透膜の前段で、亜硫酸水素ナトリウム(SBS)や亜硫酸ナトリウムなどの還元剤を添加して、遊離塩素を除去する技術が従来知られている。
When water in which free chlorine is present by addition of a chlorine-based oxidizing agent or electrolysis is treated with a reverse osmosis membrane, the reverse osmosis membrane undergoes oxidative deterioration. For this reason, as disclosed in
塩素を残存させないため、還元剤を過剰に添加する方法が従来一般的であったが、還元剤を過剰に添加すると、還元剤添加後は酸化性殺菌剤が分解消失して殺菌成分が存在しない状態となり、また逆浸透膜装置の内部に還元剤が満たされる還元雰囲気となり、バイオフィルムの生成が助長される場合があった。 In order to prevent chlorine from remaining, the conventional method was to add an excessive amount of reducing agent, but if too much reducing agent is added, the oxidizing disinfectant decomposes and disappears after the reducing agent is added, leaving no disinfectant component. In some cases, the inside of the reverse osmosis membrane device is filled with a reducing agent, resulting in a reducing atmosphere, which promotes the formation of biofilms.
また、還元剤による塩素除去は、還元剤の添加後の混合性や水温等によって変わるため、残留塩素濃度と当量付近の添加量とすると、塩素が残存し、逆浸透膜の劣化につながる懸念があった。 In addition, chlorine removal by a reducing agent varies depending on the mixability and water temperature after adding the reducing agent, so if the amount added is close to the residual chlorine concentration, there is a risk that chlorine will remain and cause deterioration of the reverse osmosis membrane. there were.
また、亜硫酸水素ナトリウム(SBS)の添加に起因して、給水中の硫酸イオンが増加することにより、硫酸イオンを栄養源とする細菌が繁殖したり、処理水に未反応の亜硫酸が漏出し、処理水の水質が悪化したりする懸念があった。 In addition, due to the addition of sodium bisulfite (SBS), sulfate ions in the water supply increase, which can lead to the proliferation of bacteria that use sulfate ions as a nutrient source, and the leakage of unreacted sulfite into treated water. There were concerns that the quality of treated water would deteriorate.
更に、酸化性殺菌剤は、還元剤で塩素を除去した後に添加するが、余剰の還元剤によって酸化性殺菌剤が分解消失するため、還元剤の余剰分だけ、酸化性殺菌剤を過剰に添加する必要があった。 Furthermore, oxidizing disinfectants are added after chlorine has been removed with a reducing agent, but since the oxidizing disinfectant decomposes and disappears due to the excess reducing agent, it is necessary to add an excess of oxidizing disinfectant to account for the excess reducing agent. I needed to.
従って、本発明は、遊離塩素除去における還元剤の弊害を防ぎつつ、逆浸透膜におけるバイオフィルムの生成を抑制し、バイオフィルムの劣化を測ることが可能な水処理システムを提供することを目的とする。 Therefore, an object of the present invention is to provide a water treatment system that can suppress the generation of biofilm in a reverse osmosis membrane and measure the deterioration of biofilm while preventing the harmful effects of reducing agents in removing free chlorine. do.
本発明は、ろ過処理された給水を透過水と濃縮水とに分離する逆浸透膜モジュールと、給水を前記逆浸透膜モジュールに供給する給水ラインと、前記逆浸透膜モジュールで分離された透過水を送出する透過水ラインと、前記逆浸透膜モジュールで分離された濃縮水を送出する濃縮水ラインと、前記濃縮水の一部又は全部を濃縮排水として、系外に排出する濃縮排水ラインと、給水の残留塩素濃度を測定する残留塩素濃度測定手段と、給水に還元剤を薬注する第1薬注手段と、給水に安定化剤を薬注する第2薬注手段と、所定濃度の塩素が残留するように、前記第1薬注手段による還元剤の薬注を制御する還元剤薬注制御手段とを備える、水処理システムに関する。 The present invention provides a reverse osmosis membrane module that separates filtered feed water into permeated water and concentrated water, a water supply line that supplies feed water to the reverse osmosis membrane module, and permeated water separated by the reverse osmosis membrane module. a permeated water line that sends out the concentrated water, a concentrated water line that sends out the concentrated water separated by the reverse osmosis membrane module, and a concentrated drainage line that discharges part or all of the concentrated water to the outside of the system as concentrated wastewater, A residual chlorine concentration measuring means for measuring the residual chlorine concentration in the water supply, a first chemical injection means for injecting a reducing agent into the water supply, a second chemical injection means for injecting a stabilizing agent into the water supply, and a chlorine at a predetermined concentration. and a reducing agent injection control means for controlling the injection of the reducing agent by the first chemical injection means so that the reducing agent remains in the water treatment system.
また、上記の水処理システムにおいて、前記還元剤薬注制御手段は、給水中の残留塩素と前記安定化剤との反応物の濃度が所定値となるように、前記所定濃度を段階的に調整することが好ましい。 Further, in the above water treatment system, the reducing agent injection control means adjusts the predetermined concentration in stages so that the concentration of a reactant between residual chlorine in the water supply and the stabilizer becomes a predetermined value. It is preferable to do so.
また、上記の水処理システムは、給水に他種殺菌剤を薬注する第3薬注手段を更に備えることが好ましい。 Moreover, it is preferable that the above-mentioned water treatment system further includes a third chemical injection means for injecting another type of disinfectant into the water supply.
また、上記の水処理システムは、給水中に塩素が残留しないように、前記第2薬注手段による安定化剤の薬注を制御する安定化剤薬注制御手段を更に備えることが好ましい。 Preferably, the water treatment system further includes a stabilizer injection control means for controlling the stabilizing agent injection by the second chemical injection means so that chlorine does not remain in the water supply.
また本発明は、ろ過処理された給水を透過水と濃縮水とに分離する逆浸透膜モジュールと、給水を前記逆浸透膜モジュールに供給するろ過処理水ラインと、前記逆浸透膜モジュールで分離された透過水を送出する透過水ラインと、前記逆浸透膜モジュールで分離された濃縮水を送出する濃縮水ラインと、前記濃縮水の一部又は全部を濃縮排水として、系外に排出する濃縮排水ラインと、給水の残留塩素濃度を測定する残留塩素濃度測定手段と、給水に還元剤を薬注する第1薬注手段と、給水に安定化剤を薬注する第2薬注手段と、通常時には前記還元剤を薬注し、殺菌処理時には前記還元剤の薬注を停止するように、前記第1薬注制御手段を制御する還元剤薬注制御手段と、通常時には前記安定化剤の薬注を停止し、殺菌処理時には前記安定化剤を薬注するように、前記第2薬注制御手段を制御する安定化剤薬注制御手段と、を備える、水処理システムに関する。 Further, the present invention provides a reverse osmosis membrane module that separates filtered feed water into permeated water and concentrated water, a filtered water line that supplies feed water to the reverse osmosis membrane module, and a reverse osmosis membrane module that separates the feed water into permeated water and concentrated water. a permeated water line that sends out the permeated water, a concentrated water line that sends out the concentrated water separated by the reverse osmosis membrane module, and a concentrated water line that sends out part or all of the concentrated water as concentrated wastewater to the outside of the system. A line, a residual chlorine concentration measuring means for measuring the residual chlorine concentration in the supply water, a first chemical injection means for injecting a reducing agent into the water supply, a second chemical injection means for injecting a stabilizer into the water supply, and reducing agent injection control means for controlling the first chemical injection control means so as to sometimes inject the reducing agent and stop the injection of the reducing agent during sterilization; The present invention relates to a water treatment system comprising a stabilizer chemical injection control means for controlling the second chemical injection control means so as to stop the injection and inject the stabilizer during sterilization treatment.
また、上記の水処理システムは、給水に塩素系酸化剤を薬注する第4薬注手段と、殺菌処理時において、前記残留塩素濃度が所定値未満の場合には前記塩素系酸化剤を薬注し前記残留塩素濃度が所定値以上の場合には前記塩素系酸化剤の薬注量を減少させる又は薬注を停止するように、前記第4薬注手段を制御する酸化剤薬注制御手段とを更に備えることが好ましい。 The above water treatment system also includes a fourth chemical injection means for injecting a chlorine-based oxidizing agent into the water supply, and a fourth chemical injection means for injecting the chlorine-based oxidizing agent into the water supply when the residual chlorine concentration is less than a predetermined value during sterilization treatment. Note: Oxidizing agent injection control that controls the fourth chemical injection means to reduce the amount of the chlorine-based oxidizing agent or to stop the chemical injection when the residual chlorine concentration is equal to or higher than a predetermined value. It is preferable to further include means.
また、上記の水処理システムにおいて、前記安定化剤は、スルファミン酸系化合物を含むことが好ましい。 Moreover, in the above water treatment system, it is preferable that the stabilizer contains a sulfamic acid compound.
また、上記の水処理システムにおいて、前記安定化剤は、更に臭素化合物を含むことが好ましい。 Moreover, in the above water treatment system, it is preferable that the stabilizer further contains a bromine compound.
また、上記の水処理システムにおいて、前記安定化剤は、更に前記スルファミン酸系化合物と結合したハロゲンを含むことが好ましい。 Further, in the water treatment system described above, it is preferable that the stabilizer further contains a halogen bonded to the sulfamic acid compound.
また、上記の水処理システムは、ろ過処理水に対してスケール分散剤を薬注する第5薬注手段を更に備えることが好ましい。 Moreover, it is preferable that the above-mentioned water treatment system further includes a fifth chemical injection means for chemically injecting a scale dispersant into the filtered water.
〔1 第1実施形態〕
〔1.1 全体構成〕
以下、本発明の第1実施形態である水処理システム1について、図面を参照しながら説明する。図1は、本発明の水処理システム1の全体構成図である。
[1 First embodiment]
[1.1 Overall configuration]
Hereinafter, a
図1に示すように、水処理システム1は、残留塩素濃度測定装置5と、第1薬剤添加装置6と、第2薬剤添加装置7と、第3薬剤添加装置8と、第4薬剤添加装置9と、加圧ポンプ15と、インバータ16と、逆浸透膜モジュール(以下、「RO膜モジュール」ともいう)17と、定流量弁18と、比例制御排水弁19と、制御部30と、を備える。なお、制御部30と被制御対象機器との電気的接続線の図示については、省略している。
As shown in FIG. 1, the
水処理システム1は、ラインとして、給水ラインL1と、透過水ラインL2と、濃縮水ラインL3と、循環水ラインL4と、濃縮排水ラインL5と、を備える。「ライン」とは、流路、経路、管路等の流体の流通が可能なラインの総称である。また、その由来(出所)やその水質によらず、給水ラインL1、濃縮水ラインL3又は循環水ラインL4を流通する水を、「給水」ともいい、濃縮水ラインL3、循環水ラインL4又は濃縮排水ラインL5を流通する水を、「濃縮水」ともいう。
The
給水ラインL1は、給水W11及びW12を逆浸透膜モジュール17に向けて供給するラインである。給水ラインL1は、上流側から下流側に向けて、第1給水ラインL11と、第2給水ラインL12とを有する。
The water supply line L1 is a line that supplies water W11 and W12 toward the reverse
第1給水ラインL11の上流側の端部は、給水W11の水源2に接続されている。第1給水ラインL11の下流側の端部は、接続部J1において、第2給水ラインL12及び循環水ラインL4に接続されている。第1給水ラインL11には、例として、残留塩素濃度測定装置5、第1薬剤添加装置6、第2薬剤添加装置7、第3薬剤添加装置8、第4薬剤添加装置9が、上流側から下流側に向けてこの順で設けられる。
The upstream end of the first water supply line L11 is connected to the
なお、給水W11は、ろ過装置(不図示)によってろ過処理された処理水でもよく、水道水でもよい。 Note that the water supply W11 may be treated water filtered by a filtration device (not shown) or tap water.
残留塩素濃度測定装置5は、給水W11中の残留塩素濃度を測定する。とりわけ、残留塩素濃度測定装置5は、残留塩素濃度として、給水W11中の遊離塩素の総量を測定する。また、残留塩素濃度測定装置5は、例えば特開2018-038942号公報で開示される塩素濃度センサと同様の構成を有することにより、残留塩素濃度を測定することが可能である。残留塩素濃度測定装置5は、制御部30と電気的に接続されている。
The residual chlorine concentration measuring
第1薬剤添加装置6は、給水ラインL1に第1薬剤を添加する装置である。第1薬剤添加装置6は、制御部30と電気的に接続されている。
本実施形態において、第1薬剤添加装置6は、逆浸透膜モジュール17に備わる逆浸透膜の劣化を防ぐために、第1薬剤として還元剤を添加する。第1薬剤の例としては、SBS(NaHSO3:重亜硫酸ソーダ)、亜硫酸ソーダ、チオ硫酸ソーダ、亜硫酸ガス等の還元剤が挙げられる。以下では説明の簡略化のため、第1薬剤がSBSである例について説明するが、本発明はこれには限られない。
The first
In this embodiment, the first
第2薬剤添加装置7は、給水ラインL1に第2薬剤を添加する装置である。第2薬剤添加装置7は、制御部30と電気的に接続されている。
The second
本実施形態において、第2薬剤添加装置7は、逆浸透膜モジュール17に備わる逆浸透膜の劣化を防ぐために、第2薬剤として安定化剤を添加する。安定化剤の添加により、例えば給水W11に含まれる次亜塩素酸は、安定化次亜塩素酸になる。逆浸透膜モジュール17において、逆浸透膜の劣化を効果的に抑制可能なことから、第2薬剤の例としては、アミン系化合物、例えばスルファミン酸系化合物等の安定化剤が挙げられる。
In this embodiment, the second
また、当該安定化剤は、更に臭素化合物を含んでもよい。この場合、安定化次亜臭素酸を生成することにより、安定化次亜塩素酸を生成する場合に比較して、逆浸透膜モジュール17に備わる逆浸透膜へのダメージを少なくすることが可能となる。
Moreover, the stabilizer may further contain a bromine compound. In this case, by generating stabilized hypobromous acid, it is possible to reduce damage to the reverse osmosis membrane provided in the reverse
更に、当該安定化剤は、スルファミン酸系化合物と結合したハロゲンを含んでもよい。すなわち、安定化剤の中に、安定化ハロゲン形態の成分と、余剰分のスルファミン酸系化合物とを含んでいてもよい。これにより、安定化次亜塩素酸、安定化次亜臭素酸に加えて、安定化ハロゲン酸塩を殺菌剤として用いることが可能となる。 Furthermore, the stabilizer may include a halogen bonded to a sulfamic acid compound. That is, the stabilizer may contain a component in the form of a stabilized halogen and a surplus of the sulfamic acid compound. This makes it possible to use stabilized halogen salts as disinfectants in addition to stabilized hypochlorous acid and stabilized hypobromous acid.
以下では説明の簡略化のため、第2薬剤がスルファミン酸系化合物である例について説明するが、本発明はこれには限られない。 In order to simplify the explanation, an example in which the second drug is a sulfamic acid compound will be described below, but the present invention is not limited thereto.
第3薬剤添加装置8は、給水ラインL1に第3薬剤を添加する装置である。第3薬剤添加装置8は、制御部30と電気的に接続されている。
The third
本実施形態において、第3薬剤添加装置8は、逆浸透膜モジュール17に備わる逆浸透膜の劣化を防ぐために、第3薬剤として他種殺菌剤を添加する。ここで、「他種殺菌剤」とは、給水W11中の遊離塩素と第2薬剤としての安定化剤とが反応することにより生成される殺菌剤とは異なる殺菌剤のことである。第3薬剤の例としては、第1薬剤としての還元剤の影響を受ける成分としてイソチアゾリン等を含む殺菌剤が挙げられる。
In this embodiment, the third
第4薬剤添加装置9は、給水ラインL1に第4薬剤を添加する装置である。第4薬剤添加装置9は、制御部30と電気的に接続されている。
The fourth
本実施形態において、第4薬剤添加装置9は、逆浸透膜モジュール17におけるシリカ・硬度成分等のスケールの生成を抑制するために、第4薬剤としてスケール分散剤を添加する。第4薬剤の例としては、金属イオンに対する封鎖、分散作用を有するキレート剤、及び/又は低分子ポリマーが挙げられる。
In this embodiment, the fourth
第2給水ラインL12の上流側の端部は、接続部J1に接続されている。第2給水ラインL12の下流側の端部は、逆浸透膜モジュール17の一次側入口ポートに接続されている。第2給水ラインL12には、加圧ポンプ15が設けられる。
The upstream end of the second water supply line L12 is connected to the connection part J1. The downstream end of the second water supply line L12 is connected to the primary inlet port of the reverse
加圧ポンプ15は、給水W11を吸入し、逆浸透膜モジュール17に向けて圧送(吐出)する装置である。加圧ポンプ15には、インバータ16から周波数が変換された駆動電力が供給される。加圧ポンプ15は、供給(入力)された駆動電力の周波数(以下、「駆動周波数」ともいう)に応じた回転速度で駆動される。
The
インバータ16は、加圧ポンプ15に、周波数が変換された駆動電力を供給する電気回路(又はその回路を持つ装置)である。インバータ16は、制御部30と電気的に接続されている。インバータ16には、制御部30から指令信号が入力される。インバータ16は、制御部30により入力された指令信号(電流値信号又は電圧値信号)に対応する駆動周波数の駆動電力を加圧ポンプ15に出力する。
The
給水W12は、加圧ポンプ15を介して逆浸透膜モジュール17に供給される。また、給水W12は、給水W11及び循環水W40(後述)からなる。
The water supply W12 is supplied to the reverse
逆浸透膜モジュール17は、給水W12を透過水W20と濃縮水W30とに分離する設備である。詳細には、逆浸透膜モジュール17は、加圧ポンプ15から吐出された給水W12を、溶存塩類が除去された透過水W20と、溶存塩類が濃縮された濃縮水W30とに膜分離処理する設備である。逆浸透膜モジュール17は、単一又は複数の逆浸透膜エレメント(図示せず)を備える。逆浸透膜モジュール17は、これら逆浸透膜エレメントにより給水W12を膜分離処理し、透過水W20と濃縮水W30とを製造する。
The reverse
透過水ラインL2は、逆浸透膜モジュール17で分離された透過水W20を送出するラインである。透過水ラインL2の上流側の端部は、逆浸透膜モジュール17の二次側ポートに接続されている。透過水ラインL2の下流側の端部は、貯留タンク(図示せず)に接続されている。
The permeated water line L2 is a line that sends out the permeated water W20 separated by the reverse
濃縮水ラインL3は、逆浸透膜モジュール17で分離された濃縮水W30が流通するラインである。濃縮水ラインL3の上流側の端部は、逆浸透膜モジュール17の二次側ポートに接続されている。また、濃縮水ラインL3の下流側は、接続部J2において、循環水ラインL4及び濃縮排水ラインL5に分岐している。
The concentrated water line L3 is a line through which the concentrated water W30 separated by the reverse
循環水ラインL4は、濃縮水ラインL3に接続され、給水としての濃縮水(循環水W40)を給水ラインL1に返送するラインである。本実施形態においては、循環水ラインL4は、濃縮水ラインL3を流通する濃縮水W30を循環水W40として、給水ラインL1における加圧ポンプ15よりも上流側に返送(循環)させるラインである。循環水ラインL4の上流側の端部は、接続部J2において濃縮水ラインL3に接続されている。また、循環水ラインL4の下流側の端部は、接続部J1において、給水ラインL1に接続されている。循環水ラインL4には、定流量弁18が設けられる。
The circulating water line L4 is connected to the concentrated water line L3, and is a line that returns concentrated water (circulating water W40) as water supply to the water supply line L1. In the present embodiment, the circulating water line L4 is a line that returns (circulates) the concentrated water W30 flowing through the concentrated water line L3 to the upstream side of the pressurizing
定流量弁18は、循環水ラインL4を流通する循環水W40の流量を所定の一定流量値に保持するように調節する機器である。定流量弁18において保持される「一定流量値」とは、一定流量値に幅がある概念であり、定流量弁における目標流量値のみに限られない。例えば、定流量機構の特性(例えば、材質や構造に起因する温度特性等)を考慮して、定流量弁における目標流量値に対して、±10%程度の調節誤差を有するものを含む。定流量弁18は、補助動力や外部操作を必要とせずに一定流量値を保持するものであり、例えば、水ガバナの名称で呼ばれるものが挙げられる。なお、定流量弁18は、補助動力や外部操作により動作して、一定流量値を保持するものでもよい。
The
濃縮排水ラインL5は、濃縮水ラインL3に接続され、濃縮排水W50としての濃縮水を系外へ排出するラインである。本実施形態においては、濃縮排水ラインL5は、接続部J2において濃縮水ラインL3に接続され、逆浸透膜モジュール17で分離された濃縮水W30を、濃縮排水W50として装置外(系外)に排出するラインである。濃縮排水ラインL5には、比例制御排水弁19が設けられる。
The concentrated wastewater line L5 is connected to the concentrated water line L3, and is a line that discharges concentrated water as concentrated wastewater W50 to the outside of the system. In this embodiment, the concentrated water line L5 is connected to the concentrated water line L3 at the connection part J2, and discharges the concentrated water W30 separated by the reverse
比例制御排水弁19は、濃縮排水ラインL5から装置外に排出される濃縮排水W50の流量を調節する弁である。比例制御排水弁19は、制御部30と電気的に接続されている。比例制御排水弁19の弁開度は、制御部30から送信される駆動信号により制御される。制御部30から電流値信号(例えば、4~20mA)を比例制御排水弁19に送信して、弁開度を制御することにより、濃縮排水W50の排水流量を調節することができる。
The proportional
制御部30は、CPU及びメモリを含むマイクロプロセッサ(図示せず)により構成される。制御部30において、マイクロプロセッサのCPUは、メモリから読み出した所定のプログラムに従って、水処理システム1に係る各種の制御を実行する。以下、制御部30の機能の一部について説明する。
The
図2は、制御部30の機能ブロック図である。制御部30は、還元剤薬注制御部301と、安定化剤薬注制御部302と、他種殺菌剤薬注制御部303と、分散剤薬注制御部304とを備える。
FIG. 2 is a functional block diagram of the
還元剤薬注制御部301は、残留塩素濃度測定装置5による測定値に基づいて、給水W11中に所定濃度の塩素が残留するように、第1薬剤添加装置6による給水W11への還元剤の薬注を制御する。
The reducing agent
安定化剤薬注制御部302は、給水W11中に塩素が残留しないように、第2薬剤添加装置7による給水W11への安定化剤の薬注を制御する。
The stabilizer
他種殺菌剤薬注制御部303は、第3薬剤添加装置8による給水W11への他種殺菌剤の薬注を制御する。
The other type of fungicide
分散剤薬注制御部304は、第4薬剤添加装置9による給水W11へのスケール分散剤の薬注を制御する。
The dispersant
〔1.2 第1実施形態の動作〕
以下、第1実施形態に係る水処理システム1の動作について説明する。
水源2から給水W11が第1給水ラインL11に供給されると、最初に残留塩素濃度測定装置5により、給水W11中の残留塩素濃度が測定される。
[1.2 Operation of the first embodiment]
The operation of the
When the water supply W11 is supplied from the
次に、給水W11に対して、還元剤薬注制御部301の制御により、第1薬剤添加装置6から、第1薬剤としての還元剤が添加される。このとき、還元剤薬注制御部301は、残留塩素濃度測定装置5によって測定された残留塩素濃度の測定値に基づいて、給水W11中に所定濃度の塩素が残留するように、還元剤の薬注を制御する。これにより、給水ラインL1において、第1薬剤添加装置6により添加された還元剤は、全量残留塩素と反応して酸化される。よって、還元剤を残存させることなく、給水W12を逆浸透膜モジュール17に供給できる。
Next, a reducing agent as a first chemical is added to the water supply W11 from the first
次に、給水W11に対して、安定化剤薬注制御部302の制御により、第2薬剤添加装置7から、第2薬剤としての安定化剤が添加される。このとき、安定化剤薬注制御部302は、給水W11中に塩素が残留しないように、第2薬剤添加装置7による給水W11への安定化剤の薬注を制御する。これにより、安定化剤薬注後の給水W11中に塩素が残留しないため、逆浸透膜モジュール17に備わる逆浸透膜の劣化を抑制することが可能となる。
Next, a stabilizer as a second chemical is added to the water supply W11 from the second
次に、給水W11に対して、他種殺菌剤薬注制御部303の制御により、第3薬剤添加装置8から、第3薬剤としての他種殺菌剤が添加される。これにより、遊離塩素と安定化剤とが反応することによって生成される殺菌剤に加えて、他種殺菌剤も併用することで、逆浸透膜モジュール17に備わる逆浸透膜膜面へのバイオフィルム付着をより一層抑制することができる。
Next, a different type of fungicide as a third chemical is added to the water supply W11 from the third
次に、給水W11に対して、分散剤薬注制御部304の制御により、第4薬剤添加装置9から、第4薬剤としてのスケール分散剤が添加される。これにより、逆浸透膜モジュール17におけるシリカ・硬度成分等のスケールの生成を抑制することができる。
Next, a scale dispersant as a fourth chemical is added to the water supply W11 from the fourth
接続部J1において、第1給水ラインL11を流通する給水W11と、循環水ラインL4を流通する循環水W40が合流し、第2給水ラインL12に対して給水W12として流入する。 At the connection part J1, the water supply W11 flowing through the first water supply line L11 and the circulating water W40 flowing through the circulating water line L4 join together and flow into the second water supply line L12 as water supply W12.
給水W12は、インバータ16から周波数が変換された駆動電力が供給される加圧ポンプ15により、逆浸透膜モジュール17に向けて圧送(吐出)される。
The feed water W12 is pumped (discharged) toward the reverse
逆浸透膜モジュール17に向けて圧送(吐出)された給水W12は、逆浸透膜モジュール17において、溶存塩類が除去された透過水W20と、溶存塩類が濃縮された濃縮水W30とに膜分離処理される。
The feed water W12 that is force-fed (discharged) toward the reverse
逆浸透膜モジュール17で膜分離処理された透過水W20は、逆浸透膜モジュール17の二次側ポートに接続される透過水ラインL2により送出される。
The permeated water W20 subjected to the membrane separation process in the reverse
一方、逆浸透膜モジュール17で膜分離処理された濃縮水W30は、逆浸透膜モジュール17の二次側ポートに接続される濃縮水ラインL3に流入する。
On the other hand, the concentrated water W30 subjected to the membrane separation process in the reverse
濃縮水ラインL3に流入した濃縮水W30は、接続部J2において、循環水ラインL4を流通する循環水W40と、濃縮排水ラインL5を流通する濃縮排水W50とに分離する。 Concentrated water W30 that has flowed into concentrated water line L3 is separated at connection J2 into circulating water W40 that flows through circulating water line L4 and concentrated waste water W50 that flows through concentrated waste water line L5.
循環水ラインL4に流入した循環水W40の流量は、定流量弁18により所定の一定流量値に保持される。定流量弁18を経由した循環水W40は、接続部J1まで返送される。
The flow rate of the circulating water W40 that has flowed into the circulating water line L4 is maintained at a predetermined constant flow rate value by the
濃縮排水ラインL5に流入した濃縮排水W50の流量は、比例制御排水弁19により調節される。比例制御排水弁19を経由した濃縮排水W50は、系外に排出される。
The flow rate of the concentrated waste water W50 flowing into the concentrated waste water line L5 is adjusted by the proportional
〔1.3 第1実施形態の効果〕
上述した本実施形態に係る水処理システム1によれば、例えば、以下のような効果が奏される。
[1.3 Effects of the first embodiment]
According to the
本発明の水処理システム1は、ろ過処理された給水W12を透過水W20と濃縮水W30とに分離する逆浸透膜モジュール17と、給水W11及びW12を逆浸透膜モジュール17に供給する給水ラインL1と、逆浸透膜モジュール17で分離された透過水W20を送出する透過水ラインL2と、逆浸透膜モジュール17で分離された濃縮水W30を送出する濃縮水ラインL3と、濃縮水W30の一部又は全部を濃縮排水W50として、系外に排出する濃縮排水ラインL5と、給水W11の残留塩素濃度を測定する残留塩素濃度測定装置5と、給水W11に還元剤を薬注する第1薬剤添加装置6と、給水W11に安定化剤を薬注する第2薬剤添加装置7と、所定濃度の塩素が残留するように、第1薬剤添加装置6による還元剤の薬注を制御する還元剤薬注制御部301とを備える。
The
これにより、還元剤薬注制御部301に、給水ラインL1において所定濃度の塩素が残留するように還元剤の薬注を制御させた。このため、給水ラインL1において還元剤を残存させることなく給水W12を逆浸透膜モジュール17に供給できる。また、残留させた塩素と安定化剤とを反応させて殺菌作用のある反応物(安定化次亜塩素酸)を生成させられるので、逆浸透膜モジュール17内でのバイオフィルムの抑制が可能となる。とりわけ、従来は、過剰に入った還元剤が、逆浸透膜モジュール17に備わる逆浸透膜を通過して、処理水の純度を悪化させる問題があった。また、還元剤としてのSBSが塩素と反応すると硫酸イオンが生成されるが、SBSを逆浸透膜モジュール17の前で添加するために、塩素を除却してから逆浸透膜の前までの間で、硫酸イオンを栄養源とする細菌が発生するという問題があった。給水ラインL1における還元剤の残留を防ぎ、また、未反応分の遊離塩素と安定化剤の反応により上記の反応物を生成することにより、このような細菌の発生を抑制することが可能となる。更に、還元剤の余剰分が発生しないため、逆浸透膜モジュール17内が還元剤で満たされる、還元雰囲気となることを防ぐことが可能となる。
This caused the reducing agent
また、水処理システム1は、給水W11に他種殺菌剤を薬注する第3薬剤添加装置8を更に備える。
In addition, the
これにより、上記の反応物(殺菌剤)に加えて他種殺菌剤も併用することで、逆浸透膜膜面へのバイオフィルム付着をより一層抑制することが可能となる。 Thereby, by using other types of disinfectants in addition to the above-mentioned reactants (microbicides), it becomes possible to further suppress biofilm adhesion to the reverse osmosis membrane surface.
また、水処理システム1は、給水W11中に塩素が残留しないように、第2薬剤添加装置7による安定化剤の薬注を制御する安定化剤薬注制御部302を更に備える。
Moreover, the
これにより、安定化剤薬注後の給水W11中に塩素が残留しないことで、逆浸透膜モジュール17に備わる逆浸透膜の劣化を抑制することが可能となる。
As a result, no chlorine remains in the water supply W11 after the stabilizing agent is injected, making it possible to suppress deterioration of the reverse osmosis membrane provided in the reverse
また、水処理システム1において、安定化剤はスルファミン酸系化合物を含む。
Furthermore, in the
これにより、安定化次亜塩素酸を生成することで、逆浸透膜モジュール17内でのバイオフィルム抑制が可能となる。
This makes it possible to suppress biofilm within the reverse
また、水処理システム1において、安定化剤は、更に臭素化合物を含む。
Moreover, in the
これにより、安定化次亜臭素酸を生成することで、安定化次亜塩素酸を生成する場合に比較して、逆浸透膜へのダメージを少なくすることが可能となる。 Thereby, by producing stabilized hypobromous acid, it is possible to reduce damage to the reverse osmosis membrane compared to the case where stabilized hypochlorous acid is produced.
また、水処理システム1において、安定化剤は、更にスルファミン酸系化合物と結合したハロゲンを含む。
Furthermore, in the
これにより、安定化次亜塩素酸、安定化次亜臭素酸に加えて、安定化ハロゲン酸塩を殺菌剤として用いることが可能となる。 This makes it possible to use stabilized halogen salts as disinfectants in addition to stabilized hypochlorous acid and stabilized hypobromous acid.
また、水処理システム1は、給水に対してスケール分散剤を薬注する第4薬剤添加装置9を更に備える。
The
これにより、バイオフィルムに加えて、シリカ・硬度成分等のスケールの生成を抑制することが可能となる。 This makes it possible to suppress the production of scales such as silica and hardness components in addition to biofilms.
〔2 第2実施形態〕
〔2.1 全体構成〕
以下、本発明の第2実施形態である水処理システム1Aについて、図面を参照しながら説明する。なお、以下では、説明の簡略化のため、第2実施形態に係る水処理システム1Aが備える構成要素のうち、第1実施形態に係る水処理システム1が備える構成要素と同一の構成要素については同一の符号を用いて示し、主として、水処理システム1Aが水処理システム1と異なる点について説明する。
[2 Second embodiment]
[2.1 Overall configuration]
Hereinafter, a
図3は、本発明の水処理システム1Aの全体構成図である。水処理システム1Aは、水処理システム1とは異なり、第3薬剤添加装置8は備えず、その代わりに第5薬剤添加装置10を備える。
FIG. 3 is an overall configuration diagram of the
第5薬剤添加装置10は、給水ラインL1に第5薬剤を添加する装置である。第5薬剤添加装置10は、制御部30と電気的に接続されている。
本実施形態において、第5薬剤添加装置10は、逆浸透膜モジュール17におけるバイオフィルムの析出を抑制するために、第5薬剤として酸化剤を添加することにより、給水W11中の塩素濃度を調整する。とりわけ、本実施形態においては、給水W11中の残留塩素濃度が所定値未満の場合に、いったんは所定濃度まで残留塩素濃度を高め、所定量以上の遊離塩素と安定化剤との反応物である安定化次亜塩素酸を生成するために、第5薬剤が添加される。
The fifth
In this embodiment, the fifth
逆浸透膜モジュール17において、逆浸透膜の表面にバイオフィルムが付着することを効果的に抑制可能なことから、第5薬剤の例として、次亜塩素酸ソーダ等の塩素系酸化剤が挙げられる。以下では説明の簡略化のため、第5薬剤が次亜塩素酸ソーダである例について説明するが、本発明はこれには限られない。他の塩素系酸化剤として、例えば、液化塩素、さらし粉、塩素化イソシアヌル酸等を用いてもよい。
In the reverse
図4は、制御部30Aの機能ブロック図である。制御部30Aは、還元剤薬注制御部301Aと、安定化剤薬注制御部302Aと、分散剤薬注制御部304と、酸化剤薬注制御部305とを備える。
FIG. 4 is a functional block diagram of the
還元剤薬注制御部301Aは、水処理システム1Aにおける通常運転時には、第1薬剤添加装置6により還元剤を薬注し、水処理システム1Aにおける殺菌処理時には、第1薬剤添加装置6による還元剤の薬注を停止するよう、第1薬剤添加装置6を制御する。
The reducing agent
安定化剤薬注制御部302Aは、水処理システム1Aにおける通常運転時には、第2薬剤添加装置7による安定化剤の薬注を停止し、水処理システム1Aにおける殺菌処理時には、第2薬剤添加装置7により安定化剤を薬注する。
The stabilizer chemical
還元剤薬注制御部301A及び安定化剤薬注制御部302Aにより、水処理システム1Aにおいて、通常運転時には還元剤が薬注される一方で、安定化剤の薬注は停止させられる。一方で、殺菌処理時には、還元剤の薬注が停止させられる一方で、安定化剤が薬注される。
In the
酸化剤薬注制御部305は、殺菌処理時において、残留塩素濃度測定装置5によって測定される残留塩素濃度が所定値未満の場合には、塩素系酸化剤を薬注し、残留塩素濃度が所定値以上の場合には、塩素系酸化剤の薬注量を減少させる又は薬注を停止するよう、第5薬剤添加装置10を制御する。
During sterilization, if the residual chlorine concentration measured by the residual chlorine
これにより、殺菌処理時において残留塩素濃度が低すぎる場合に、いったんは所定濃度まで残留塩素濃度を高めることで、所定量以上の遊離塩素と安定化剤との反応物(安定化次亜塩素酸:殺菌剤)を生成し、殺菌効果を確保することができる。また、残留塩素濃度が高い場合には、塩素系酸化剤の薬注量を減少させる又は薬注を停止することで、過剰な塩素系酸化剤の添加を防げる。 As a result, if the residual chlorine concentration is too low during sterilization treatment, by increasing the residual chlorine concentration to a predetermined concentration, the reaction product (stabilized hypochlorous : Bactericidal agent) can be produced and the bactericidal effect can be ensured. Moreover, when the residual chlorine concentration is high, addition of excessive chlorine-based oxidant can be prevented by reducing the amount of chlorine-based oxidant or stopping the injection of the chlorine-based oxidant.
〔2.2 第2実施形態の動作〕
以下、第2実施形態に係る水処理システム1Aの動作について、通常動作時と殺菌処理時とに分けて説明する。
[2.2 Operation of second embodiment]
Hereinafter, the operation of the
〔2.2.1 通常動作時〕
図3に示す構成においては、第1給水ラインL11の最上流に、第5薬剤としての酸化剤を添加する第5薬剤添加装置10が設置されるが、通常動作時においては、第5薬剤添加装置10は機能しない。
[2.2.1 During normal operation]
In the configuration shown in FIG. 3, the fifth
水源2から給水W11が第1給水ラインL11に供給されると、最初に残留塩素濃度測定装置5により、給水W11中の残留塩素濃度が測定される。
When the water supply W11 is supplied from the
次に、給水W11に対して、還元剤薬注制御部301Aの制御により、第1薬剤添加装置6から、第1薬剤としての還元剤が添加される。
Next, a reducing agent as a first chemical is added to the water supply W11 from the first
次に、給水W11は、第2薬剤としての安定化剤を添加する第2薬剤添加装置7による添加箇所を経由するが、安定化剤薬注制御部302Aの制御により、第2薬剤添加装置7から、第2薬剤としての安定化剤の添加は停止されている。これら、還元剤薬注制御部301Aと安定化剤薬注制御部302Aの制御により、通常動作時には還元剤により遊離塩素を反応させることで逆浸透膜モジュール17への遊離塩素の影響を抑制できる。
Next, the water supply W11 passes through an addition point by the second
次に、給水W11に対して、分散剤薬注制御部304の制御により、第4薬剤添加装置9から、第4薬剤としてのスケール分散剤が添加される。これにより、逆浸透膜モジュール17におけるシリカ・硬度成分等のスケールの生成を抑制することができる。
Next, a scale dispersant as a fourth chemical is added to the water supply W11 from the fourth
接続部J1において、第1給水ラインL11を流通する給水W11と、循環水ラインL4を流通する循環水W40が合流し、第2給水ラインL12に対して給水W12として流入する。 At the connection part J1, the water supply W11 flowing through the first water supply line L11 and the circulating water W40 flowing through the circulating water line L4 join together and flow into the second water supply line L12 as water supply W12.
給水W12は、インバータ16から周波数が変換された駆動電力が供給される加圧ポンプ15により、逆浸透膜モジュール17に向けて圧送(吐出)される。
The feed water W12 is pumped (discharged) toward the reverse
逆浸透膜モジュール17に向けて圧送(吐出)された給水W12は、逆浸透膜モジュール17において、溶存塩類が除去された透過水W20と、溶存塩類が濃縮された濃縮水W30とに膜分離処理される。
The feed water W12 that is force-fed (discharged) toward the reverse
逆浸透膜モジュール17で膜分離処理された透過水W20は、逆浸透膜モジュール17の二次側ポートに接続される透過水ラインL2により送出される。
The permeated water W20 subjected to the membrane separation process in the reverse
一方、逆浸透膜モジュール17で膜分離処理された濃縮水W30は、逆浸透膜モジュール17の二次側ポートに接続される濃縮水ラインL3に流入する。
On the other hand, the concentrated water W30 subjected to the membrane separation process in the reverse
濃縮水ラインL3に流入した濃縮水W30は、接続部J2において、循環水ラインL4を流通する循環水W40と、濃縮排水ラインL5を流通する濃縮排水W50とに分離する。 Concentrated water W30 that has flowed into concentrated water line L3 is separated at connection J2 into circulating water W40 that flows through circulating water line L4 and concentrated waste water W50 that flows through concentrated waste water line L5.
循環水ラインL4に流入した循環水W40の流量は、定流量弁18により所定の一定流量値に保持される。定流量弁18を経由した循環水W40は、接続部J1まで返送される。
The flow rate of the circulating water W40 that has flowed into the circulating water line L4 is maintained at a predetermined constant flow rate value by the
濃縮排水ラインL5に流入した濃縮排水W50の流量は、比例制御排水弁19により調節される。比例制御排水弁19を経由した濃縮排水W50は、系外に排出される。
The flow rate of the concentrated waste water W50 flowing into the concentrated waste water line L5 is adjusted by the proportional
〔2.2.2 殺菌処理時〕
水処理システム1Aにおいては、所定のタイミングで逆浸透膜モジュール17の殺菌処理を実行する。なお、当該殺菌処理は、定期的に殺菌処理を実行してもよく、あるいは、逆浸透膜モジュール17が閉塞傾向にある場合に、殺菌処理を実行してもよい。
[2.2.2 During sterilization treatment]
In the
水源2から給水W11が第1給水ラインL11に供給されると、後述の残留塩素濃度測定装置5により測定される残留塩素濃度が所定値未満の場合には、最初に、給水W11に対して、酸化剤薬注制御部305の制御により、第5薬剤添加装置10から、第5薬剤としての酸化剤が添加される。これにより、給水W11中の残留塩素濃度は所定濃度まで高まる。
When the water supply W11 is supplied from the
次に、給水W11は、第1薬剤としての還元剤を添加する第1薬剤添加装置7による添加箇所を経由するが、還元剤薬注制御部301Aの制御により、第1薬剤添加装置6から、第1薬剤としての還元剤の添加は停止されている。
Next, the water supply W11 passes through an addition point by the first
次に、給水W11は、安定化剤薬注制御部302Aの制御により、第2薬剤添加装置7から、第2薬剤としての安定化剤が添加される。これら還元剤薬注制御部301Aと安定化剤薬注制御部302Aの制御により、殺菌処理時には、遊離塩素と安定化剤とを反応させて殺菌作用のある反応物(安定化次亜塩素酸)を生成させられるので、逆浸透膜モジュール17内でのバイオフィルムの抑制が可能となる。また、上記の反応物(殺菌剤)が間欠的に逆浸透膜モジュール17に備わる逆浸透膜に供給されることにより、逆浸透膜の膜面へのバイオフィルム付着の抑制や、付着したバイオフィルムの剥離を図ることが可能となる。
Next, a stabilizer as a second chemical is added to the water supply W11 from the second
次に、給水W11に対して、分散剤薬注制御部304の制御により、第4薬剤添加装置9から、第4薬剤としてのスケール分散剤が添加される。これにより、逆浸透膜モジュール17におけるシリカ・硬度成分等のスケールの生成を抑制することができる。
Next, a scale dispersant as a fourth chemical is added to the water supply W11 from the fourth
接続部J1において、第1給水ラインL11を流通する給水W11と、循環水ラインL4を流通する循環水W40が合流し、第2給水ラインL12に対して給水W12として流入する。 At the connection part J1, the water supply W11 flowing through the first water supply line L11 and the circulating water W40 flowing through the circulating water line L4 join together and flow into the second water supply line L12 as water supply W12.
給水W12は、インバータ16から周波数が変換された駆動電力が供給される加圧ポンプ15により、逆浸透膜モジュール17に向けて圧送(吐出)される。
The feed water W12 is pumped (discharged) toward the reverse
逆浸透膜モジュール17に向けて圧送(吐出)された給水W12は、逆浸透膜モジュール17において、溶存塩類が除去された透過水W20と、溶存塩類が濃縮された濃縮水W30とに膜分離処理される。
The feed water W12 that is force-fed (discharged) toward the reverse
逆浸透膜モジュール17で膜分離処理された透過水W20は、逆浸透膜モジュール17の二次側ポートに接続される透過水ラインL2により送出される。
The permeated water W20 subjected to the membrane separation process in the reverse
一方、逆浸透膜モジュール17で膜分離処理された濃縮水W30は、逆浸透膜モジュール17の二次側ポートに接続される濃縮水ラインL3に流入する。
On the other hand, the concentrated water W30 subjected to the membrane separation process in the reverse
濃縮水ラインL3に流入した濃縮水W30は、接続部J2において、循環水ラインL4を流通する循環水W40と、濃縮排水ラインL5を流通する濃縮排水W50とに分離する。 Concentrated water W30 that has flowed into concentrated water line L3 is separated at connection J2 into circulating water W40 that flows through circulating water line L4 and concentrated waste water W50 that flows through concentrated waste water line L5.
循環水ラインL4に流入した循環水W40の流量は、定流量弁18により所定の一定流量値に保持される。定流量弁18を経由した循環水W40は、接続部J1まで返送される。
The flow rate of the circulating water W40 that has flowed into the circulating water line L4 is maintained at a predetermined constant flow rate value by the
濃縮排水ラインL5に流入した濃縮排水W50の流量は、比例制御排水弁19により調節される。比例制御排水弁19を経由した濃縮排水W50は、系外に排出される。
The flow rate of the concentrated waste water W50 flowing into the concentrated waste water line L5 is adjusted by the proportional
〔2.3 第2実施形態の効果〕
上述した本実施形態に係る水処理システム1Aによれば、例えば、以下のような効果が奏される。
[2.3 Effects of the second embodiment]
According to the
本発明の水処理システム1Aは、ろ過処理された給水W12を透過水W20と濃縮水W30とに分離する逆浸透膜モジュール17と、給水W11及びW12を逆浸透膜モジュール17に供給する給水ラインL1と、逆浸透膜モジュール17で分離された透過水W20を送出する透過水ラインL2と、逆浸透膜モジュール17で分離された濃縮水W30を送出する濃縮水ラインL3と、濃縮水W30の一部又は全部を濃縮排水W50として、系外に排出する濃縮排水ラインL5と、給水W12の残留塩素濃度を測定する残留塩素濃度測定装置5と、給水W11に還元剤を薬注する第1薬剤添加装置6と、給水W11に安定化剤を薬注する第2薬剤添加装置7と、通常時には還元剤を薬注し、殺菌処理時には還元剤の薬注を停止するように、第1薬剤添加装置6を制御する還元剤薬注制御部301Aと、通常時には安定化剤の薬注を停止し、殺菌処理時には安定化剤を薬注するように、第2薬剤添加装置7を制御する安定化剤薬注制御部302Aと、を備える。
The
これにより、還元剤薬注制御部301Aに、給水ラインL1において通常時には還元剤を薬注し、殺菌処理時には還元剤の薬注を停止するように第1薬剤添加装置6を制御させ、安定化剤薬注制御部302Aに、給水ラインL1において通常時には安定化剤の薬注を停止し、殺菌処理時には安定化剤を薬注するように第2薬剤添加装置7を制御させた。これにより、給水ラインL1において、通常時には還元剤により遊離塩素を反応させることで逆浸透膜モジュール17への遊離塩素の影響を抑制でき、殺菌処理時には、遊離塩素と安定化剤とを反応させて殺菌作用のある反応物(安定化次亜塩素酸)を生成させられるので、逆浸透膜モジュール17内でのバイオフィルムの抑制が可能となる。また、上記の反応物(殺菌剤)が間欠的に逆浸透膜モジュール17に備わる逆浸透膜に供給されることにより、逆浸透膜の膜面へのバイオフィルム付着の抑制や、付着したバイオフィルムの剥離を図ることが可能となる。
This causes the reducing agent
また、水処理システム1Aは、給水W11に塩素系酸化剤を薬注する第5薬剤添加装置10と、殺菌処理時において、残留塩素濃度が所定値未満の場合には塩素系酸化剤を薬注し、残留塩素濃度が所定値以上の場合には塩素系酸化剤の薬注量を減少させる又は薬注を停止するように、第5薬剤添加装置10を制御する酸化剤薬注制御部305とを更に備える。
The
これにより、殺菌処理時において残留塩素濃度が低すぎる場合に、いったんは所定濃度まで残留塩素濃度を高めることで、所定量以上の遊離塩素と安定化剤との反応物(安定化次亜塩素酸:殺菌剤)を生成し、殺菌効果を確保することができる。また、残留塩素濃度が高い場合には、塩素系酸化剤の薬注量を減少させる又は薬注を停止することで、過剰な塩素系酸化剤の添加を防げる。 As a result, if the residual chlorine concentration is too low during sterilization treatment, by increasing the residual chlorine concentration to a predetermined concentration, the reaction product (stabilized hypochlorous : Bactericidal agent) can be produced and the bactericidal effect can be ensured. Further, when the residual chlorine concentration is high, addition of excessive chlorine-based oxidant can be prevented by reducing the amount of chlorine-based oxidant or stopping the injection.
〔3 第3実施形態〕
〔3.1 全体構成〕
以下、本発明の第3実施形態である水処理システム1Bについて、図面を参照しながら説明する。なお、以下では、説明の簡略化のため、第3実施形態に係る水処理システム1Bが備える構成要素のうち、第1実施形態に係る水処理システム1が備える構成要素と同一の構成要素については同一の符号を用いて示し、主として、水処理システム1Bが水処理システム1と異なる点について説明する。
[3 Third embodiment]
[3.1 Overall configuration]
Hereinafter, a
図5は、本発明の水処理システム1Bの全体構成図である。水処理システム1Bは、水処理システム1とは異なり、第3薬剤添加装置8は備えず、その代わりに反応物濃度測定装置11を備える。
FIG. 5 is an overall configuration diagram of the
反応物濃度測定装置11は、給水ラインL1を流通する給水W11中の、遊離塩素と安定化剤との反応物の濃度を測定する装置である。具体的には、第2薬剤添加装置7によって薬注される安定化剤に臭素化合物が含まれない場合、反応物濃度測定装置11は、給水W11中の安定化次亜塩素酸濃度を測定する。一方で、第2薬剤添加装置7によって薬注される安定化剤に臭素化合物が含まれる場合、反応物濃度測定装置11は、給水W11中の安定化次亜臭素酸濃度を測定する。
The reactant
反応物濃度測定装置11は、給水ラインL1に接続されている。また、反応物濃度測定装置11は、制御部30Bと電気的に接続されている。反応物濃度測定装置11で測定された給水W11中の反応物濃度は(以下、「測定反応物濃度」ともいう)は、制御部30Bへ検出信号として送信される。反応物濃度測定装置11としては、例えば比色式のセンサを用いることが可能である。
The reactant
図6は、制御部30Bの機能ブロック図である。制御部30Bは、還元剤薬注制御部301Bと、安定化剤薬注制御部302と、分散剤薬注制御部304とを備える。
FIG. 6 is a functional block diagram of the
還元剤薬注制御部301Bは、所定濃度の塩素が残留するように、第1薬剤添加装置6による還元剤の薬注を制御する際、反応物濃度測定装置11によって測定される遊離塩素と安定化剤との反応物の濃度が所定値となるように、当該所定濃度を段階的に調整する。
When controlling the reducing agent injection by the first
〔3.2 第3実施形態の動作〕
以下、第3実施形態に係る水処理システム1Bの動作について説明する。
水源2から給水W11が第1給水ラインL11に供給されると、最初に残留塩素濃度測定装置5により、給水W11中の残留塩素濃度が測定される。
[3.2 Operation of third embodiment]
The operation of the
When the water supply W11 is supplied from the
次に、給水W11に対して、還元剤薬注制御部301Bの制御により、第1薬剤添加装置6から、第1薬剤としての還元剤が添加される。このとき、還元剤薬注制御部301Bは、残留塩素濃度測定装置5によって測定された残留塩素濃度の測定値に基づいて、給水W11中に所定濃度の塩素が残留するように、還元剤の薬注を制御する。この際、還元剤薬注制御部301Bは、反応物濃度測定装置11によって測定される遊離塩素と安定化剤との反応物の濃度が所定値となるように、当該所定濃度を段階的に調整する。これにより、上記の反応物(殺菌剤)の濃度を管理することで、逆浸透膜膜面へのバイオフィルム付着の抑制や、付着したバイオフィルムの剥離を図ることが可能となる。とりわけ、普段は低い濃度で管理しているものを段階的に高い濃度とすることにより、細菌の殺菌剤に対する耐性の問題に有効となる。
Next, a reducing agent as a first chemical is added to the water supply W11 from the first
次に、給水W11に対して、安定化剤薬注制御部302の制御により、第2薬剤添加装置7から、第2薬剤としての安定化剤が添加される。このとき、安定化剤薬注制御部302は、給水W11中に塩素が残留しないように、第2薬剤添加装置7による給水W11への安定化剤の薬注を制御する。これにより、安定化剤薬注後の給水W11中に塩素が残留しないため、逆浸透膜モジュール17に備わる逆浸透膜の劣化を抑制することが可能となる。
Next, a stabilizer as a second chemical is added to the water supply W11 from the second
次に、給水W11に対して、分散剤薬注制御部304の制御により、第4薬剤添加装置9から、第4薬剤としてのスケール分散剤が添加される。これにより、逆浸透膜モジュール17におけるシリカ・硬度成分等のスケールの生成を抑制することができる。
Next, a scale dispersant as a fourth chemical is added to the water supply W11 from the fourth
また、上記のように、反応物濃度測定装置11により、給水W11中の反応物濃度が測定される。測定された反応物濃度(測定反応物濃度)は、制御部30Bへ検出信号として送信され、上記のように、還元剤薬注制御部301Bで、第1薬剤添加装置6による還元剤の薬注の制御に用いられる。
Further, as described above, the reactant
〔3.3 第3実施形態の効果〕
上述した第3実施形態に係る水処理システム1Bによれば、例えば、以下のような効果が奏される。
[3.3 Effects of the third embodiment]
According to the
水処理システム1Bにおいて、還元剤薬注制御部301Bは、給水中の遊離塩素と前記安定化剤との反応物の濃度が所定値となるように、上記の所定濃度を段階的に調整する。
In the
これにより、上記の反応物(殺菌剤)の濃度を管理することで、逆浸透膜膜面へのバイオフィルム付着の抑制や、付着したバイオフィルムの剥離を測ることが可能となる。とりわけ、普段は低い濃度で管理しているものを段階的に高い濃度とすることにより、細菌の殺菌剤に対する耐性の問題に有効となる。 Thereby, by controlling the concentration of the above-mentioned reactant (bactericide), it becomes possible to suppress the adhesion of biofilm to the reverse osmosis membrane surface and measure the detachment of the attached biofilm. In particular, increasing the concentration of substances that are normally kept at low concentrations to higher levels in stages will be effective in solving the problem of bacterial resistance to disinfectants.
〔4 変形例〕
〔4.1 変形例1〕
上記の実施形態においては、第1薬剤添加装置6により還元剤を添加し、第2薬剤添加装置7により安定化剤を添加していた。すなわち、上記の実施形態においては、還元剤と安定化剤とを個別に添加していたが、これには限定されない。例えば、とりわけ第1実施形態において、還元剤と安定化剤とを一剤化してもよい。なお、この場合、残留塩素濃度測定装置5により測定される給水W11中の残留塩素濃度に応じて、薬剤中の還元剤と安定化剤の比率を変更してもよい。
[4 Modification]
[4.1 Modification 1]
In the above embodiment, the first
〔4.2 変形例2〕
上記の実施形態においては、水源2から供給される給水W11に対して、還元剤や安定化剤が薬注される構成となっていたが、これには限定されない。例えば、水処理システム1~1Bは、ろ過装置及び/又は軟水装置を備え、これらろ過装置及び/又は軟水装置によって処理された処理水に対し、還元剤や安定化剤を薬注してもよい。
[4.2 Modification 2]
In the embodiment described above, the reducing agent and the stabilizing agent are injected into the water supply W11 supplied from the
〔4.3 変形例3〕
上記の実施形態においては、残留塩素濃度測定装置5により、自動的に給水W11中の残留塩素濃度を測定することを想定しているが、これには限定されない。例えば、水処理システム1、1A、1Bの管理者が手作業で残留塩素濃度を測定してもよく、残留塩素濃度が一定であるとして、当該一定値を制御部30、30A、30Bに入力してもよい。
[4.3 Modification 3]
In the embodiment described above, it is assumed that the residual chlorine
〔4.4 変形例4〕
第1実施形態に係る水処理システム1においては、給水ラインL11の上流から下流に向かって、残留塩素濃度測定装置5、第1薬剤添加装置6、第2薬剤添加装置7、第3薬剤添加装置8、第4薬剤添加装置9の順に設置されていた。また、第2実施形態に係る水処理システム1Aにおいては、給水ラインL11の上流から下流に向かって、第5薬剤添加装置10、残留塩素濃度測定装置5、第1薬剤添加装置6、第2薬剤添加装置7、第4薬剤添加装置9の順に設置されていた。更に、第3実施形態に係る水処理システム1Bにおいては、給水ラインL11の上流から下流に向かって、残留塩素濃度測定装置5、第1薬剤添加装置6、第2薬剤添加装置7、第4薬剤添加装置9、及び反応物濃度測定装置11の順に設置されていた。しかし、これらの並び順や設置箇所はあくまで一例であって、これらには限定されない。
[4.4 Modification 4]
In the
〔4.5 変形例5〕
第1実施形態に係る水処理システム1、第2実施形態に係る水処理システム1A、及び第3実施形態に係る水処理システム1Bは、循環水ラインL4を備えるが、これには限定されない。例えば、大型設備等の場合、循環水ラインL4を備えない構成としてもよい。
[4.5 Modification 5]
The
1、1A、1B 水処理システム
5 残留塩素濃度測定装置
6 第1薬剤添加装置(第1薬注手段)
7 第2薬剤添加装置(第2薬注手段)
8 第3薬剤添加装置(第3薬注手段)
9 第4薬剤添加装置(第5薬注手段)
10 第5薬剤添加装置(第4薬注手段)
11 反応物濃度測定装置
15 加圧ポンプ
17 逆浸透膜モジュール
30、30A、30B 制御部(薬注制御部)
L1 給水ライン
L2 透過水ライン
L3 濃縮水ライン
L4 循環水ライン
L5 濃縮排水ライン、
L11 第1給水ライン
L22 第2給水ライン
1, 1A, 1B
7 Second drug addition device (second drug injection means)
8 Third chemical addition device (third chemical injection means)
9 Fourth drug addition device (fifth drug injection means)
10 Fifth drug addition device (fourth drug injection means)
11 Reactant
L1 Water supply line L2 Permeated water line L3 Concentrated water line L4 Circulating water line L5 Concentrated drainage line,
L11 First water supply line L22 Second water supply line
Claims (10)
給水を前記逆浸透膜モジュールに供給する給水ラインと、
前記逆浸透膜モジュールで分離された透過水を送出する透過水ラインと、
前記逆浸透膜モジュールで分離された濃縮水を送出する濃縮水ラインと、
前記濃縮水の一部又は全部を濃縮排水として、系外に排出する濃縮排水ラインと、
給水の残留塩素濃度を測定する残留塩素濃度測定手段と、
給水に還元剤を薬注する第1薬注手段と、
給水に安定化剤を薬注する第2薬注手段と、
所定濃度の塩素が残留するように、前記第1薬注手段による還元剤の薬注を制御する還元剤薬注制御手段と、を備える、水処理システム。 a reverse osmosis membrane module that separates filtered feed water into permeate water and concentrated water;
a water supply line that supplies water to the reverse osmosis membrane module;
a permeate line that delivers permeate water separated by the reverse osmosis membrane module;
a concentrated water line that delivers concentrated water separated by the reverse osmosis membrane module;
a concentrated drainage line that discharges part or all of the concentrated water to the outside of the system as concentrated wastewater;
a residual chlorine concentration measuring means for measuring the residual chlorine concentration of water supply;
a first chemical injection means for injecting a reducing agent into the water supply;
a second chemical injection means for injecting a stabilizer into the water supply;
A water treatment system comprising: a reducing agent injection control means for controlling the injection of the reducing agent by the first chemical injection means so that a predetermined concentration of chlorine remains.
給水を前記逆浸透膜モジュールに供給する給水ラインと、
前記逆浸透膜モジュールで分離された透過水を送出する透過水ラインと、
前記逆浸透膜モジュールで分離された濃縮水を送出する濃縮水ラインと、
前記濃縮水の一部又は全部を濃縮排水として、系外に排出する濃縮排水ラインと、
給水の残留塩素濃度を測定する残留塩素濃度測定手段と、
給水に還元剤を薬注する第1薬注手段と、
給水に安定化剤を薬注する第2薬注手段と、
通常時には前記還元剤を薬注し、殺菌処理時には前記還元剤の薬注を停止するように、前記第1薬注手段を制御する還元剤薬注制御手段と、
通常時には前記安定化剤の薬注を停止し、殺菌処理時には前記安定化剤を薬注するように、前記第2薬注手段を制御する安定化剤薬注制御手段と、
を備える、水処理システム。 a reverse osmosis membrane module that separates filtered feed water into permeate water and concentrated water;
a water supply line that supplies water to the reverse osmosis membrane module;
a permeate line that delivers permeate water separated by the reverse osmosis membrane module;
a concentrated water line that delivers concentrated water separated by the reverse osmosis membrane module;
a concentrated drainage line that discharges part or all of the concentrated water to the outside of the system as concentrated wastewater;
a residual chlorine concentration measuring means for measuring the residual chlorine concentration of water supply;
a first chemical injection means for injecting a reducing agent into the water supply;
a second chemical injection means for injecting a stabilizer into the water supply;
Reducing agent injection control means for controlling the first chemical injection means so as to inject the reducing agent during normal times and stop the injection of the reducing agent during sterilization processing;
Stabilizer chemical injection control means that controls the second chemical injection means to stop the chemical injection of the stabilizer during normal times and inject the stabilizer during sterilization processing;
water treatment system.
殺菌処理時において、前記残留塩素濃度が所定値未満の場合には前記塩素系酸化剤を薬注し前記残留塩素濃度が所定値以上の場合には前記塩素系酸化剤の薬注量を減少させる又は薬注を停止するように、前記第4薬注手段を制御する酸化剤薬注制御手段と、を更に備える、請求項5に記載の水処理システム。 a fourth chemical injection means for chemically injecting a chlorine-based oxidizing agent into the water supply;
During sterilization treatment, when the residual chlorine concentration is less than a predetermined value, the chlorine-based oxidizing agent is injected, and when the residual chlorine concentration is above the predetermined value, the amount of the chlorine-based oxidizing agent is reduced. The water treatment system according to claim 5, further comprising oxidizing agent injection control means for controlling the fourth chemical injection means to stop the chemical injection.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020036200A JP7396124B2 (en) | 2020-03-03 | 2020-03-03 | water treatment system |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020036200A JP7396124B2 (en) | 2020-03-03 | 2020-03-03 | water treatment system |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021137710A JP2021137710A (en) | 2021-09-16 |
JP7396124B2 true JP7396124B2 (en) | 2023-12-12 |
Family
ID=77667262
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020036200A Active JP7396124B2 (en) | 2020-03-03 | 2020-03-03 | water treatment system |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7396124B2 (en) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7626812B1 (en) | 2023-08-10 | 2025-02-04 | 野村マイクロ・サイエンス株式会社 | Pure water production method and production equipment, pure water production method and pure water production system |
CN118652015B (en) * | 2024-08-19 | 2024-11-29 | 安徽新宇环保科技股份有限公司 | An intelligent control system for zero-discharge treatment of industrial wastewater |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011031146A (en) | 2009-07-30 | 2011-02-17 | Miura Co Ltd | Water treatment system |
JP2011235235A (en) | 2010-05-11 | 2011-11-24 | Miura Co Ltd | Water treatment system |
WO2012133620A1 (en) | 2011-03-30 | 2012-10-04 | 栗田工業株式会社 | Membrane-separation method |
JP2016221500A (en) | 2015-06-01 | 2016-12-28 | 栗田工業株式会社 | Reverse osmosis membrane device pretreatment method and water treatment device |
WO2019031430A1 (en) | 2017-08-10 | 2019-02-14 | 栗田工業株式会社 | Reverse osmosis treatment method and water treatment device |
-
2020
- 2020-03-03 JP JP2020036200A patent/JP7396124B2/en active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011031146A (en) | 2009-07-30 | 2011-02-17 | Miura Co Ltd | Water treatment system |
JP2011235235A (en) | 2010-05-11 | 2011-11-24 | Miura Co Ltd | Water treatment system |
WO2012133620A1 (en) | 2011-03-30 | 2012-10-04 | 栗田工業株式会社 | Membrane-separation method |
JP2016221500A (en) | 2015-06-01 | 2016-12-28 | 栗田工業株式会社 | Reverse osmosis membrane device pretreatment method and water treatment device |
WO2019031430A1 (en) | 2017-08-10 | 2019-02-14 | 栗田工業株式会社 | Reverse osmosis treatment method and water treatment device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2021137710A (en) | 2021-09-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP3279151A1 (en) | Reverse osmosis membrane treatment system operation method and reverse osmosis membrane treatment system | |
JP5099045B2 (en) | Reverse osmosis membrane separation method | |
JP2006263510A (en) | Anti-slime agent for membrane separation and membrane separation method | |
TW201914968A (en) | Reverse osmosis treatment method and water treatment device | |
JP7396124B2 (en) | water treatment system | |
JP2014176799A (en) | Reverse osmotic membrane separation method | |
EP4066925A1 (en) | Method for preventing microbial growth on filtration membrane | |
JP2016120466A (en) | Filtration treatment system and filtration treatment method | |
JP2010201312A (en) | Membrane separation method | |
JP5750607B2 (en) | Papermaking process water sterilizer | |
JP2018153749A (en) | Water treatment method and water treatment system using reverse osmosis membrane | |
JP5942373B2 (en) | Ship ballast water treatment system | |
JP6822164B2 (en) | Water treatment system | |
JP2020082020A (en) | Water treatment system | |
JP5480464B2 (en) | How to add slime control agent | |
JP6969123B2 (en) | Cleaning method for reverse osmosis membrane module | |
JP5967337B1 (en) | Method of operating reverse osmosis membrane treatment system and reverse osmosis membrane treatment system | |
JP7127464B2 (en) | water treatment system | |
JP2020124675A (en) | Water treatment system | |
JP7180310B2 (en) | water treatment system | |
JP2018114470A (en) | Water treatment system | |
JP7141919B2 (en) | Reverse osmosis membrane treatment method, reverse osmosis membrane treatment system, water treatment method, and water treatment system | |
JP7144922B2 (en) | Reverse osmosis membrane operation method and reverse osmosis membrane device | |
JP2018153789A (en) | Water treatment system | |
JP2023059384A (en) | water treatment system |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20221220 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230919 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20230920 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20231010 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20231031 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20231113 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7396124 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |