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JP7332960B2 - Polarization control member and light emitting device - Google Patents

Polarization control member and light emitting device Download PDF

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JP7332960B2
JP7332960B2 JP2022134317A JP2022134317A JP7332960B2 JP 7332960 B2 JP7332960 B2 JP 7332960B2 JP 2022134317 A JP2022134317 A JP 2022134317A JP 2022134317 A JP2022134317 A JP 2022134317A JP 7332960 B2 JP7332960 B2 JP 7332960B2
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semiconductor laser
light
laser element
light emitting
emitting device
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創一郎 三浦
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Nichia Corp
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Description

本発明は、偏光制御部材及び発光装置に関する。 The present invention relates to a polarization control member and a light emitting device.

従来より、複数の発光素子から放射された光を合成する技術が知られている。例えば、
特許文献1には、互いに偏光の異なる2つの半導体レーザからの光を偏光ビームスプリッ
タ(PBS)に入射して合成する光源ユニットが開示されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, techniques for synthesizing light emitted from a plurality of light emitting elements have been known. for example,
Patent Literature 1 discloses a light source unit in which light beams from two semiconductor lasers with different polarizations are incident on a polarizing beam splitter (PBS) and combined.

特開2016-186566JP 2016-186566

しかしながら、特許文献1は、1つの光源ユニットが偏光の異なる2つの半導体レーザ
を有し、この光源ユニットから出射される光を合成するものであり、複数の光源ユニット
から放射された光の合成については開示されていない。
However, in Patent Document 1, one light source unit has two semiconductor lasers with different polarizations, and light emitted from this light source unit is synthesized. is not disclosed.

本発明に係る合成装置は、それぞれが、1以上の第1半導体レーザ素子と、1以上の第
2半導体レーザ素子と、を有する複数の発光装置と、前記複数の発光装置のうち第1発光
装置が有する前記第1半導体レーザ素子から放射された光の偏光方向を変える第1偏光制
御部材と、前記複数の発光装置のうち第2発光装置が有する前記第2半導体レーザ素子か
ら放射された光の偏光方向を変える第2偏光制御部材と、前記第1偏光制御部材によって
偏光方向を変えられた前記第1半導体レーザ素子からの光を含む前記第1発光装置からの
出射光と、前記第2偏光制御部材によって偏光方向を変えられた前記第2半導体レーザ素
子からの光を含む前記第2発光装置からの出射光と、を合成する合成部材と、を有してお
り、前記複数の発光装置は、それぞれ、前記第1半導体レーザ素子により放射された光が
前記発光装置から出射するときの出射光の偏光方向と、前記第2半導体レーザ素子により
放射された光が出射するときの出射光の偏光方向と、が異なる。
A synthesizing apparatus according to the present invention includes a plurality of light emitting devices each having one or more first semiconductor laser elements and one or more second semiconductor laser elements, and the first light emitting device among the plurality of light emitting devices. a first polarization control member for changing the polarization direction of light emitted from the first semiconductor laser element of the light emitted from the second semiconductor laser element of the second light emitting device among the plurality of light emitting devices; a second polarization control member that changes the polarization direction; emitted light from the first light emitting device including light from the first semiconductor laser element whose polarization direction is changed by the first polarization control member; and the second polarized light a synthesizing member for synthesizing the emitted light from the second light emitting device including the light from the second semiconductor laser element whose polarization direction is changed by the control member, wherein the plurality of light emitting devices are , respectively, the polarization direction of the emitted light when the light emitted by the first semiconductor laser element is emitted from the light emitting device, and the polarization direction of the emitted light when the light emitted by the second semiconductor laser element is emitted. direction is different.

また、本発明に係る発光装置は、投影装置としての合成装置に複数搭載される発光装置
であって、各発光装置は、少なくとも1つの第1半導体レーザ素子と、少なくとも2つの
第2半導体レーザ素子と、を有し、前記第1半導体レーザ素子は、赤色の光を放射し、前
記2つの第2半導体レーザ素子のうちの一つは青色の光を放射し、残りの一つは緑色の光
を放射し、前記第1半導体レーザ素子により放射された光が前記発光装置から出射すると
きの出射光の偏光方向と、前記第2半導体レーザ素子により放射された光が出射するとき
の出射光の偏光方向と、が異なる。
Further, the light emitting device according to the present invention is a plurality of light emitting devices mounted in a synthesizing device as a projection device, each light emitting device comprising at least one first semiconductor laser element and at least two second semiconductor laser elements. and wherein the first semiconductor laser element emits red light, one of the two second semiconductor laser elements emits blue light, and the other one emits green light. and the polarization direction of the emitted light when the light emitted by the first semiconductor laser element is emitted from the light emitting device, and the emitted light when the light emitted by the second semiconductor laser element is emitted are different from the polarization directions.

本発明に係る合成装置によれば、複数の発光装置を用いて効果的に光を合成することが
できる。
According to the synthesizing device of the present invention, it is possible to effectively synthesize light using a plurality of light emitting devices.

また、本発明に係る発光装置は、本発明に係る投影装置としての合成装置に好適に利用
され、複数の発光装置を用いて効果的に光を合成することのできる投影装置を提供できる
Further, the light-emitting device according to the present invention can be suitably used for a synthesizing device as a projection device according to the present invention, and can provide a projection device capable of effectively synthesizing light using a plurality of light-emitting devices.

図1は、実施形態に係る投影装置の光学構成を示す模式図である。FIG. 1 is a schematic diagram showing the optical configuration of a projection device according to an embodiment. 図2は、実施形態に係る第1偏光制御部材の斜視図である。FIG. 2 is a perspective view of a first polarization control member according to the embodiment; 図3は、実施形態に係る第2偏光制御部材の斜視図である。FIG. 3 is a perspective view of a second polarization control member according to the embodiment; 図4は、シングルエミッターの半導体レーザ素子からの放射光に係る中心、第1径、及び、第2径について説明するための模式図である。FIG. 4 is a schematic diagram for explaining the center, first diameter, and second diameter of light emitted from a single-emitter semiconductor laser device. 図5は、マルチエミッターの半導体レーザ素子からの放射光に係る中心、第1径、及び、第2径について説明するための模式図である。FIG. 5 is a schematic diagram for explaining the center, first diameter, and second diameter of light emitted from a multi-emitter semiconductor laser device. 図6は、実施形態に係る発光装置の斜視図である。FIG. 6 is a perspective view of the light emitting device according to the embodiment. 図7は、図6のVII-VIIを結ぶ直線における発光装置の断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view of the light-emitting device along the straight line connecting VII-VII in FIG. 図8は、発光装置の内部構造を説明するための斜視図である。FIG. 8 is a perspective view for explaining the internal structure of the light emitting device. 図9は、発光装置の内部構造を説明するための上面図である。FIG. 9 is a top view for explaining the internal structure of the light emitting device.

本発明を実施するための形態を、図面を参照しながら以下に説明する。ただし、以下に
示す形態は、本発明の技術思想を具体化するためのものであって、本発明を限定するもの
ではない。さらに以下の説明において、同一の名称、符号については同一もしくは同質の
部材を示しており、詳細説明を適宜省略する。なお、各図面が示す部材の大きさや位置関
係等は、説明を明確にするために誇張していることがある。
A mode for carrying out the present invention will be described below with reference to the drawings. However, the embodiments shown below are for embodying the technical idea of the present invention, and do not limit the present invention. Furthermore, in the following description, the same names and symbols indicate the same or homogeneous members, and detailed description thereof will be omitted as appropriate. Note that the sizes and positional relationships of members shown in each drawing may be exaggerated for clarity of explanation.

実施形態では、合成装置の一例である投影装置1を挙げて、発明の詳細を説明する。合
成装置は、複数の発光装置100と、第1偏光制御部材21と、第2偏光制御部材22と
、合成部材と、を有している。また、複数の発光装置100は、それぞれが、1以上の第
1半導体レーザ素子121と、1以上の第2半導体レーザ素子122と、を有する。
In the embodiments, details of the invention will be described by citing a projection device 1 as an example of a synthesizing device. The synthesis device has a plurality of light emitting devices 100, a first polarization control member 21, a second polarization control member 22, and a synthesis member. Each of the plurality of light emitting devices 100 has one or more first semiconductor laser elements 121 and one or more second semiconductor laser elements 122 .

図1は実施形態に係る投影装置1の光学構成を示す図である。また、矢印は光の進行方
向を説明するために補助的に付加したものである。投影装置1は、動画や静止画などの画
像をスクリーンに投影する装置である。プロジェクタは、投影装置1の一例に挙げられる
FIG. 1 is a diagram showing the optical configuration of a projection device 1 according to an embodiment. Also, the arrows are supplementarily added to explain the traveling direction of the light. The projection device 1 is a device that projects images such as moving images and still images onto a screen. A projector is an example of the projection device 1 .

投影装置1は、2つの発光ユニット10、2つの偏光制御部材20、ミラー30、偏光
ビームスプリッタ(以下、PBSと記す)40、4つのレンズ50、デジタルマイクロミ
ラーデバイス(以下、DMDと記す)60、2つのプリズム70、及び、投影ユニット8
0を有する。なお、発光ユニット10、及び、偏光制御部材20は、複数であれば2つの
構成に限らない。レンズ50は4つの構成に限らない。プリズム70は2つの構成に限ら
ない。
The projection apparatus 1 includes two light emitting units 10, two polarization control members 20, a mirror 30, a polarization beam splitter (hereinafter referred to as PBS) 40, four lenses 50, and a digital micromirror device (hereinafter referred to as DMD) 60. , the two prisms 70 and the projection unit 8
have 0. Note that the configuration is not limited to two as long as the number of light emitting units 10 and polarization control members 20 is plural. Lenses 50 are not limited to a configuration of four. Prism 70 is not limited to two configurations.

また、発光ユニット10は、発光装置100、及び、実装基板103を有する。2つの
偏光制御部材20とは、第1偏光制御部材21、及び、第2偏光制御部材22である。4
つのレンズ50とは、拡散レンズ51、コリメートレンズ52、レンズアレイ53、及び
、重畳レンズ54である。
Also, the light emitting unit 10 has a light emitting device 100 and a mounting board 103 . The two polarization control members 20 are a first polarization control member 21 and a second polarization control member 22 . 4
The three lenses 50 are a diffusing lens 51 , a collimating lens 52 , a lens array 53 and a superimposing lens 54 .

ここで、本明細書において、2つの発光ユニット10を区別する場合、それぞれ第1発
光ユニット11、第2発光ユニット12と呼ぶものとする。また、第1発光ユニット11
が有する発光装置100と、第2発光ユニット12が有する発光装置100を区別する場
合、それぞれ第1発光装置101、第2発光装置102と呼ぶものとする。
Here, in this specification, when distinguishing between the two light emitting units 10, they are referred to as the first light emitting unit 11 and the second light emitting unit 12, respectively. Also, the first light emitting unit 11
and the light emitting device 100 of the second light emitting unit 12 are referred to as a first light emitting device 101 and a second light emitting device 102, respectively.

また、発光装置100は、複数の半導体レーザ素子120を有する。この半導体レーザ
素子120は直線偏光の光を出射する。また、複数の半導体レーザ素子120には、1以
上の第1半導体レーザ素子121と、1以上の第2半導体レーザ素子122と、が含まれ
る。
The light emitting device 100 also has a plurality of semiconductor laser elements 120 . This semiconductor laser element 120 emits linearly polarized light. Also, the plurality of semiconductor laser elements 120 includes one or more first semiconductor laser elements 121 and one or more second semiconductor laser elements 122 .

第1半導体レーザ素子121と第2半導体レーザ素子122とは、発光装置100から
出射される光の偏光方向がそれぞれ異なる。また、第1半導体レーザ素子121及び第2
半導体レーザ素子122のそれぞれから放射された光は、発光装置100から同じ方向へ
と出射される。
The first semiconductor laser element 121 and the second semiconductor laser element 122 have different polarization directions of light emitted from the light emitting device 100 . Also, the first semiconductor laser element 121 and the second
Light emitted from each of the semiconductor laser elements 122 is emitted from the light emitting device 100 in the same direction.

つまり、発光装置100から同じ方向を進むようにして出射された第1半導体レーザ素
子121からの出射光と、第2半導体レーザ素子122からの出射光と、は偏光方向が異
なる。ここで、半導体レーザ素子120から放射された光が発光装置100の外部に出射
されるまでを放射光、発光装置100の外部に出射された後を出射光といい、区別するも
のとする。
That is, the emitted light from the first semiconductor laser element 121 and the emitted light from the second semiconductor laser element 122, which are emitted in the same direction from the light emitting device 100, have different polarization directions. Here, the light emitted from the semiconductor laser element 120 until it is emitted to the outside of the light emitting device 100 is called emitted light, and the light after being emitted to the outside of the light emitting device 100 is called emitted light.

例えば、発光装置100には、出射端面から放射される光の偏光方向が異なる第1半導
体レーザ素子121と第2半導体レーザ素子122を用いることができる。このような半
導体レーザ素子120として、例えば、第1半導体レーザ素子121を偏光がTMモード
(TM偏光)の半導体レーザ素子120とし、第2半導体レーザ素子122を偏光がTE
モード(TE偏光)の半導体レーザ素子120とすることができる。なお、投影装置1に
適用される発光装置100の一例は後述する。
For example, the light-emitting device 100 can use the first semiconductor laser element 121 and the second semiconductor laser element 122 in which the polarization directions of the light emitted from the emitting facet are different. As such a semiconductor laser element 120, for example, the first semiconductor laser element 121 is a semiconductor laser element 120 whose polarization is TM mode (TM polarization), and the second semiconductor laser element 122 is a semiconductor laser element 120 whose polarization is TE.
The semiconductor laser element 120 can be a mode (TE polarization). An example of the light emitting device 100 applied to the projection device 1 will be described later.

ここで、半導体レーザ素子120からの放射光は、半導体レーザ素子120の光の出射
端面と平行な面において、活性層を含む複数の半導体層の積層方向の長さがそれに垂直な
方向の長さよりも長い、楕円形状のファーフィールドパターン(FFP)を有する。FF
Pとは、半導体レーザ素子120の光の出射端面から十分に離れた位置における、放射光
の形状や光強度分布である。
Here, the emitted light from the semiconductor laser element 120 has a length in the stacking direction of the plurality of semiconductor layers including the active layer, which is larger than the length in the direction perpendicular to the plane parallel to the light emitting end face of the semiconductor laser element 120 . has a long, elliptical far-field pattern (FFP). FF
P is the shape and light intensity distribution of emitted light at a position sufficiently distant from the light emitting end face of the semiconductor laser element 120 .

本明細書において、ピーク強度値の1/e以上の光強度を有する光を、その半導体レ
ーザ素子120の主要部分の光というものとする。また、FFPというときは、ピーク強
度値の1/eの光強度の光によるFFPの形状をいうものとする。また、FFPを表す
楕円の中心を進む光を中心光と呼ぶものとする。また、出射端面における中心光の放射位
置とFFPの楕円の中心を通る直線を光軸とする。つまり、本明細書において、中心光は
、出射端面から光軸上を通る光である。
In this specification, the light having the light intensity of 1/e 2 or more of the peak intensity value is referred to as the light of the main portion of the semiconductor laser device 120 . In addition, when we say FFP, we mean the shape of FFP by light with light intensity of 1/e 2 of the peak intensity value. Also, the light traveling through the center of the ellipse representing the FFP is called central light. A straight line passing through the center of the ellipse of the FFP and the radiation position of the central light on the output end face is defined as the optical axis. In other words, in this specification, the central light is the light passing through the optical axis from the output end face.

発光装置100において、第1半導体レーザ素子121と第2半導体レーザ素子122
とは、少なくとも、それぞれの中心光が同じ方向に出射される。ここで「同じ方向」とは
、5度の差を含むものとする。またあるいは、発光装置100の設計において、同じ方向
に進むように設計され、製造時において生じる誤差の範囲を含むものとする。
In the light emitting device 100, the first semiconductor laser element 121 and the second semiconductor laser element 122
means that at least each central light is emitted in the same direction. Here, "same direction" includes a difference of 5 degrees. Alternatively, the design of the light-emitting device 100 is designed to proceed in the same direction, and includes a range of error that occurs during manufacturing.

なお、1つの発光装置100において、それぞれ1または複数の第1半導体レーザ素子
121及び第2半導体レーザ素子122を有することができる。また、発光装置100か
ら出射する中心光の偏光方向が、第1半導体レーザ素子121及び第2半導体レーザ素子
122のいずれとも異なる別の半導体レーザ素子120をさらに有していてもよい。
One light emitting device 100 can have one or a plurality of first semiconductor laser elements 121 and second semiconductor laser elements 122, respectively. Further, the light emitting device 100 may further include another semiconductor laser element 120 in which the polarization direction of the central light emitted from the light emitting device 100 is different from both the first semiconductor laser element 121 and the second semiconductor laser element 122 .

図1で示す例では、1つの発光装置100において、3つの半導体レーザ素子120か
ら放射された光がそれぞれ出射している。また、それぞれの出射光は、コリメートされた
コリメート光となって出射される。ここで、3つの半導体レーザ素子120のうち、1つ
は第1半導体レーザ素子121であり、2つは第2半導体レーザ素子122である。
In the example shown in FIG. 1, in one light emitting device 100, light emitted from three semiconductor laser elements 120 is emitted. Moreover, each emitted light is collimated and emitted as collimated light. Here, one of the three semiconductor laser elements 120 is the first semiconductor laser element 121 and two are the second semiconductor laser elements 122 .

第1発光装置101から出射される出射光と第2発光装置102から出射される出射光
に関し、それぞれの第1半導体レーザ素子121からの出射光は、同じ進行方向(出射方
向)、かつ、同じ偏光方向で出射される。同様に、それぞれの第2半導体レーザ素子12
2からの出射光についても、同じ方向、かつ、同じ偏光方向で出射される。ここで、偏光
方向が同じとは、それぞれの半導体レーザ素子120からの出射光の偏光方向の相対的な
角度差が10度以内にある関係をいうものとする。
With respect to the emitted light emitted from the first light emitting device 101 and the emitted light emitted from the second light emitting device 102, the emitted light from the respective first semiconductor laser elements 121 travels in the same traveling direction (emission direction) and in the same direction. Emitted in the polarization direction. Similarly, each second semiconductor laser element 12
2 are also emitted in the same direction and in the same polarization direction. Here, the same polarization direction means that the relative angle difference between the polarization directions of the emitted light from the semiconductor laser elements 120 is within 10 degrees.

図1で示す例では、2つの発光ユニット10は同じ向きに並べて配置される。2つの発
光ユニット10は、発光ユニット10間で、中心光の進行方向、第1半導体レーザ素子1
21同士の偏光方向、及び、第2半導体レーザ素子122同士の偏光方向、が同じになる
ように配置される。
In the example shown in FIG. 1, the two light emitting units 10 are arranged side by side in the same direction. Between the two light emitting units 10, the traveling direction of the central light and the first semiconductor laser element 1
21 and the polarization directions of the second semiconductor laser elements 122 are arranged to be the same.

偏光制御部材20は、ダイクロイックミラー200と波長板201とを有する。図2及
び図3は、それぞれ第1偏光制御部材21と第2偏光制御部材22を模式的に示す斜視図
である。第1偏光制御部材21は、第1発光ユニット11の第1発光装置101からの出
射光の偏光方向を制御する部材である。第2偏光制御部材22は、第2発光ユニット12
の第2発光装置102からの出射光の偏光方向を制御する部材である。
The polarization control member 20 has a dichroic mirror 200 and a wavelength plate 201 . 2 and 3 are perspective views schematically showing the first polarization control member 21 and the second polarization control member 22, respectively. The first polarization control member 21 is a member that controls the polarization direction of light emitted from the first light emitting device 101 of the first light emitting unit 11 . The second polarization control member 22 is the second light emitting unit 12
It is a member for controlling the polarization direction of the emitted light from the second light emitting device 102 .

第1偏光制御部材21及び第2偏光制御部材22は、いずれも3つのダイクロイックミ
ラー200を並べて配置している。3つのダイクロイックミラー200のそれぞれが、発
光装置100に配置される3つの半導体レーザ素子120のそれぞれに対応する。つまり
、対応する半導体レーザ素子120により放射される光の波長に基づき、ダイクロイック
ミラー200はその波長の光は反射するが、その他の波長の光は透過する。
Each of the first polarization control member 21 and the second polarization control member 22 has three dichroic mirrors 200 arranged side by side. Each of the three dichroic mirrors 200 corresponds to each of the three semiconductor laser elements 120 arranged in the light emitting device 100 . That is, based on the wavelength of light emitted by the corresponding semiconductor laser element 120, the dichroic mirror 200 reflects light of that wavelength, but transmits light of other wavelengths.

なお、ダイクロイックミラー200の数は複数であれば3つに限らない。また、発光装
置100に配置される半導体レーザ素子120の数と一致していなくてもよい。また、1
つの半導体レーザ素子120からの出射光を反射するだけでよく、別の半導体レーザ素子
120からの出射光を透過しないでよいダイクロイックミラー200については、ダイク
ロイックミラー200に代えて、反射するだけのミラーを用いてもよい。
Note that the number of dichroic mirrors 200 is not limited to three as long as it is plural. Also, the number does not have to match the number of semiconductor laser elements 120 arranged in the light emitting device 100 . Also, 1
As for the dichroic mirror 200, which only needs to reflect the light emitted from one semiconductor laser element 120 and not transmit the light emitted from another semiconductor laser element 120, a mirror that only reflects is used in place of the dichroic mirror 200. may be used.

3つのダイクロイックミラー200によって、3つの半導体レーザ素子120からの出
射光は合成される。つまり、3つのダイクロイックミラー200を介することで、3つの
半導体レーザ素子120からの出射光は同じ方向に進む。なお、同じ方向とは、3つの半
導体レーザ素子120のうち任意の2つの半導体レーザ素子120の間で、中心光の進む
方向の相対的な角度差が5度以内に収まることをいうものとする。
The three dichroic mirrors 200 synthesize the emitted light from the three semiconductor laser elements 120 . That is, by passing through the three dichroic mirrors 200, the emitted light from the three semiconductor laser elements 120 travels in the same direction. Note that the same direction means that the relative angle difference between the directions in which the central light travels between arbitrary two semiconductor laser devices 120 out of the three semiconductor laser devices 120 is within 5 degrees. .

ここで、図4及び5を用いながら、各半導体レーザ素子120から放射される光に関す
る、中心、第1径、第2径を規定する。図4は、エミッター(発光点)が1つのシングル
エミッターの半導体レーザ素子120の場合を、図5は、エミッターが2つあるマルチエ
ミッターの半導体レーザ素子120の場合を、それぞれ記す。それぞれの図において、楕
円形状はFFPを表している。また、点Pは中心を、線分Xは第1径を、線分Yは第2径
を示している。なお、半導体レーザ素子120は、出射点に近いところを部分的に記して
いる。
Here, using FIGS. 4 and 5, the center, first diameter, and second diameter of the light emitted from each semiconductor laser element 120 are defined. 4 shows the case of a single-emitter semiconductor laser device 120 with one emitter (light-emitting point), and FIG. 5 shows the case of a multi-emitter semiconductor laser device 120 with two emitters. In each figure, the oval shape represents the FFP. A point P indicates the center, a line segment X indicates the first diameter, and a line segment Y indicates the second diameter. It should be noted that the semiconductor laser device 120 is shown partially near the emission point.

図4に示すように、シングルエミッターの半導体レーザ素子120においては、1つの
エミッターに対応した1つの楕円形状が記される。一方で、マルチエミッターの半導体レ
ーザ素子120においては、複数のエミッターに対応した複数の楕円形状が記されること
となる。図5では、各発光点から2つのレーザ光が放射され2つのFFPが記される。
As shown in FIG. 4, in the single-emitter semiconductor laser element 120, one elliptical shape corresponding to one emitter is marked. On the other hand, in the multi-emitter semiconductor laser element 120, a plurality of elliptical shapes corresponding to a plurality of emitters are drawn. In FIG. 5, two laser beams are emitted from each light emitting point and two FFPs are marked.

図4に示すように、シングルエミッターの場合では、光軸を通る点が中心となり、FF
Pの長径が第1径、短径が第2径となる。つまり、本明細書において、第1径の方はFF
Pの長径に対応する方向の径であり、第2径はFFPの短径に対応する方向の径である。
As shown in FIG. 4, in the case of a single emitter, the point passing through the optical axis is the center and FF
The major axis of P is the first diameter, and the minor axis is the second diameter. That is, in this specification, the first diameter is FF
The second diameter is the diameter in the direction corresponding to the major axis of P, and the second diameter is the diameter in the direction corresponding to the minor axis of FFP.

次に、エミッターが2つのマルチエミッターの場合、中心は、2つのFFPの光軸を通
る光について、光路長が同じ長さにおける2点の重心、この場合は2点間の中点となる。
また、2つの楕円形状をいずれも包含する最小の矩形において、楕円の長径方向に対応す
る辺の長さが第1径、楕円の短径方向に対応する辺の長さが第2径となる。なお、ここで
の「対応する」とは、望ましくは矩形の辺と楕円の径の方向が同じであることだが、矩形
の辺と楕円の径の方向が同じでない場合は、複数の辺と径の組合せのうち相対的な角度差
が小さい辺と径の組合せをいうものとする。
Next, when the emitters are two multi-emitters, the center is the center of gravity of two points with the same optical path length for light passing through the optical axes of the two FFPs, in this case the midpoint between the two points.
In the smallest rectangle that includes both elliptical shapes, the length of the side corresponding to the major axis direction of the ellipse is the first diameter, and the length of the side corresponding to the minor axis direction of the ellipse is the second diameter. . Here, "corresponding" preferably means that the directions of the sides of the rectangle and the radius of the ellipse are the same. of the combinations of sides and diameters with a small relative angular difference.

なお、エミッターが3以上のマルチエミッターについても、同様の考え方で、中心、第
1径、及び、第2径を規定できる。つまり、中心は、光路長が同じ長さにおいて、全ての
エミッターにおける光軸を通る点に基づいて求められる重心であり、第1径及び第2径は
、全てのFFPを包含する最小の矩形に基づいて求められる長径方向あるいは短径方向に
対応する辺の長さである。
For a multi-emitter having three or more emitters, the center, the first diameter, and the second diameter can be defined in the same way. That is, the center is the center of gravity obtained based on the points passing through the optical axes of all emitters when the optical path length is the same, and the first diameter and the second diameter are the smallest rectangles that include all FFPs. It is the length of the side corresponding to the major axis direction or the minor axis direction obtained based on the above.

このように規定した中心をP、第1径をX、第2径をYとする。また、1つ目の半導体
レーザ素子120である第1半導体レーザ素子121についてはP(1)、X(1)、Y
(1)と、2つ目の半導体レーザ素子120である一方の第2半導体レーザ素子122に
ついてはP(2)、X(2)、Y(2)と、3つ目の半導体レーザ素子120である他方
の第2半導体レーザ素子122についてはP(3)、X(3)、Y(3)と表すものとす
る。なお、発光装置100が4つ以上の半導体レーザ素子120を有している場合にも、
同様の考え方で、括弧内に番号を付して区別するものとする。
Let P be the center defined in this way, X be the first diameter, and Y be the second diameter. For the first semiconductor laser element 121, which is the first semiconductor laser element 120, P(1), X(1), Y
(1), P(2), X(2), and Y(2) for the second semiconductor laser element 122, which is the second semiconductor laser element 120, and for the third semiconductor laser element 120, The other second semiconductor laser element 122 is represented by P(3), X(3), and Y(3). Note that even when the light emitting device 100 has four or more semiconductor laser elements 120,
Based on the same concept, numbers are given in parentheses for distinction.

3つの半導体レーザ素子120から放射された光は、偏光制御部材20から出射する出
射点において、いずれの中心も、3つの半導体レーザ素子120の光のそれぞれの第1径
の和を一方の辺の長さとし、3つの半導体レーザ素子120のそれぞれの第2径の和を他
方の辺の長さとする矩形に収まるように合成されるのが好ましい。つまり、P(1)、P
(2)、及び、P(3)が、X(1)+X(2)+X(3)を一辺とし、Y(1)+Y(
2)+Y(3)を他辺とする矩形の領域内に集まっているのが好ましい。
The light emitted from the three semiconductor laser elements 120 has the sum of the first diameters of the light from the three semiconductor laser elements 120 on one side at the point of emission from the polarization control member 20. It is preferable to combine them so as to fit in a rectangle whose other side length is the sum of the second diameters of the three semiconductor laser elements 120 . That is, P(1), P
(2) and P(3) have X(1)+X(2)+X(3) as one side and Y(1)+Y(
2) It is preferable that they are gathered within a rectangular area having +Y(3) as the other side.

またさらには、3つの半導体レーザ素子120から放射された主要部分の光のいずれも
、偏光制御部材20から出射する地点において、3つの半導体レーザ素子120のそれぞ
れの第1径の和を一方の辺の長さとし、3つの半導体レーザ素子120のそれぞれの第2
径の和を他方の辺の長さとする矩形に収まるように合成されるのが好ましい。
Furthermore, the sum of the first diameters of the three semiconductor laser elements 120 is the sum of the first diameters of the three semiconductor laser elements 120 at the point where the light emitted from the three semiconductor laser elements 120 is emitted from the polarization control member 20. of each of the three semiconductor laser elements 120 and the second
It is preferable to synthesize them so as to fit within a rectangle having the length of the other side equal to the sum of the diameters.

また、3つの半導体レーザ素子120から放射された光のいずれの中心も、偏光制御部
材20により重なって合成されるような設計に基づいて各部材が実装されるのが望ましい
。このように光を合成することで、3つの半導体レーザ素子120から放射された主要部
分の光がより小さな領域に収まるように合成することができる。なお、発光装置100が
4つ以上の半導体レーザ素子120を有している場合であっても、同様に、各半導体レー
ザ素子120の径の和、あるいは、中心に基づく考え方で捉えればよい。
Moreover, it is desirable that each member be mounted based on a design such that the centers of the lights emitted from the three semiconductor laser elements 120 are overlapped and synthesized by the polarization control member 20 . By synthesizing the light in this way, it is possible to synthesize the main portion of the light emitted from the three semiconductor laser elements 120 so as to be contained in a smaller area. Even if the light-emitting device 100 has four or more semiconductor laser elements 120, the sum of the diameters of the semiconductor laser elements 120 or the center thereof may be used.

第1偏光制御部材21が有する波長板201は、第1発光装置101に配置される第1
半導体レーザ素子121からの出射光の偏光方向を変える。また、第2偏光制御部材22
が有する波長板201は、第2発光装置102に配置される第2半導体レーザ素子122
からの出射光の偏光方向を変える。波長板201としては、例えば、λ/2の位相差を与
えるλ/2波長板を用いることができる。λ/2波長板によって偏光方向が90度回転す
る。
The wave plate 201 included in the first polarization control member 21 is the first wavelength plate arranged in the first light emitting device 101 .
The polarization direction of the emitted light from the semiconductor laser element 121 is changed. Also, the second polarization control member 22
The wavelength plate 201 of the second semiconductor laser element 122 arranged in the second light emitting device 102
change the polarization direction of the emitted light. As the wave plate 201, for example, a λ/2 wave plate that gives a phase difference of λ/2 can be used. The λ/2 wave plate rotates the polarization direction by 90 degrees.

図1で示す例では、発光装置100は、1つの第1半導体レーザ素子121と、2つの
第2半導体レーザ素子122と、が配置されている。そのため、第1偏光制御部材21は
、1つの第1半導体レーザ素子121に対応した1つの波長板201を有し、第2偏光制
御部材22は、2つの第2半導体レーザ素子122のそれぞれに対応した2つの波長板2
01を有している。
In the example shown in FIG. 1, one first semiconductor laser element 121 and two second semiconductor laser elements 122 are arranged in the light emitting device 100 . Therefore, the first polarization control member 21 has one wavelength plate 201 corresponding to one first semiconductor laser element 121, and the second polarization control member 22 corresponds to each of the two second semiconductor laser elements 122. two wave plates 2
01.

波長板201は、発光装置100からの出射光がダイクロイックミラー200に入射す
る前に波長板201に入射するように配置される。図1に示す例では、ダイクロイックミ
ラー200において発光装置100からの出射光が入射する面(入射面)に、波長板20
1が接合された偏光制御部材20が形成されている。このように、ダイクロイックミラー
200と、波長板201と、を一体に接合した偏光制御部材20とすることで合成装置を
より小型に設計することができる。
The wave plate 201 is arranged so that the light emitted from the light emitting device 100 enters the wave plate 201 before entering the dichroic mirror 200 . In the example shown in FIG. 1, a wavelength plate 20 is provided on a surface (incidence surface) of the dichroic mirror 200 on which light emitted from the light emitting device 100 is incident.
1 are joined together to form a polarization control member 20 . In this way, by forming the polarization control member 20 in which the dichroic mirror 200 and the wavelength plate 201 are integrally bonded, the synthesizing device can be designed to be more compact.

なお、ダイクロイックミラー200と、波長板201と、を一体に接合した偏光制御部
材20でなくてもよい。例えば、ダイクロイックミラー200と波長板201とが別個に
設けられていてもよい。この場合、光の偏光方向を変える波長板201が偏光制御部材2
0に相当する。
It should be noted that the polarization control member 20 may not be the one in which the dichroic mirror 200 and the wavelength plate 201 are integrally bonded. For example, the dichroic mirror 200 and the wavelength plate 201 may be provided separately. In this case, the wave plate 201 that changes the polarization direction of light is the polarization control member 2 .
Equivalent to 0.

第1偏光制御部材21の波長板201によって、第1半導体レーザ素子121からの出
射光の偏光方向が90度回転し、第2半導体レーザ素子122からの出射光の偏光方向と
同じになる。また、第2偏光制御部材22の波長板201によって、第2半導体レーザ素
子122からの出射光の偏光方向が90度回転し、第1半導体レーザ素子121からの出
射光の偏光方向と同じになる。従って、偏光制御部材20に入射する前の出射光において
、発光装置100から出射される第1半導体レーザ素子121からの出射光と第2半導体
レーザ素子122からの出射光とでは、偏光方向が90度異なっている。
The wave plate 201 of the first polarization control member 21 rotates the polarization direction of the light emitted from the first semiconductor laser element 121 by 90 degrees, making it the same as the polarization direction of the light emitted from the second semiconductor laser element 122 . Further, the polarization direction of the emitted light from the second semiconductor laser element 122 is rotated 90 degrees by the wavelength plate 201 of the second polarization control member 22, and becomes the same as the polarization direction of the emitted light from the first semiconductor laser element 121. . Therefore, in the emitted light before entering the polarization control member 20, the emitted light from the first semiconductor laser element 121 and the emitted light from the second semiconductor laser element 122 emitted from the light emitting device 100 have a polarization direction of 90°. degrees are different.

ミラー30は、反射面に入射した光を反射する光反射部材である。投影装置1において
、ミラー30は、第2発光装置102からの出射光に対して設けられる。また、第1発光
装置101からの出射光に対しては設けられていない。なお、第1発光装置101からの
出射光に対して設け、第2発光装置102からの出射光に対しては設けないようにしても
よい。また、第1発光装置101及び第2発光装置102のそれぞれに対応して複数のミ
ラー30を設けてもよい。
The mirror 30 is a light reflecting member that reflects light incident on its reflecting surface. In the projection device 1 , the mirror 30 is provided for the emitted light from the second light emitting device 102 . Moreover, it is not provided for the light emitted from the first light emitting device 101 . Note that the light emitted from the first light emitting device 101 may be provided, and the light emitted from the second light emitting device 102 may not be provided. Also, a plurality of mirrors 30 may be provided corresponding to each of the first light emitting device 101 and the second light emitting device 102 .

PBS40は、p偏光の光を透過し、s偏光の光を反射する光学フィルタである。投影
装置1において、第1発光装置101の第1及び第2半導体レーザ素子122による出射
光は、第1偏光制御部材21によってp偏光に揃えられてPBS40に入射する。また、
第2発光装置102の第1及び第2半導体レーザ素子122による出射光は、第2偏光制
御部材22によってs偏光に揃えられてPBS40に入射する。
The PBS 40 is an optical filter that transmits p-polarized light and reflects s-polarized light. In the projection device 1 , the light emitted by the first and second semiconductor laser elements 122 of the first light emitting device 101 is aligned into p-polarized light by the first polarization control member 21 and enters the PBS 40 . Also,
The light emitted by the first and second semiconductor laser elements 122 of the second light emitting device 102 is aligned into s-polarized light by the second polarization control member 22 and enters the PBS 40 .

これにより、PBS40において、第1発光装置101からの出射光は透過し、第2発
光装置102からの出射光は反射する。その結果、第1発光装置101からの出射光と、
第2発光装置102からの出射光とが合成される。つまり、PBS40によって、第1発
光装置101からの出射光と、第2発光装置102からの出射光とは同じ方向に進む。
As a result, the PBS 40 transmits light emitted from the first light emitting device 101 and reflects light emitted from the second light emitting device 102 . As a result, the emitted light from the first light emitting device 101,
The emitted light from the second light emitting device 102 is synthesized. That is, the PBS 40 causes the emitted light from the first light emitting device 101 and the emitted light from the second light emitting device 102 to travel in the same direction.

なお、ここでの同じ方向とは、第1発光装置101及び第2発光装置102に搭載され
る6つの半導体レーザ素子120のうち任意の2つの半導体レーザ素子120からの光の
間で、それぞれの中心光の進む方向の相対的な角度差が10度以内に収まることをいうも
のとする。PBS40は、第1発光装置101からの出射光と、第2発光装置102から
の出射光と、を合成する合成部材の一例である。
It should be noted that the same direction here means that between the lights from any two semiconductor laser elements 120 among the six semiconductor laser elements 120 mounted on the first light emitting device 101 and the second light emitting device 102. It means that the relative angular difference in the traveling direction of the center light is within 10 degrees. The PBS 40 is an example of a synthesizing member that synthesizes the light emitted from the first light emitting device 101 and the light emitted from the second light emitting device 102 .

合成される第1発光装置101からの出射光は、第1偏光制御部材21によって偏光方
向を変えられた第1半導体レーザ素子121からの光と、第2半導体レーザ素子122か
らの光とを有している。また、合成される第2発光装置102からの出射光は、第1半導
体レーザ素子121からの光と、第2偏光制御部材22によって偏光方向を変えられた第
2半導体レーザ素子122からの光とを有している。
The light emitted from the first light emitting device 101 to be synthesized includes the light from the first semiconductor laser element 121 whose polarization direction is changed by the first polarization control member 21 and the light from the second semiconductor laser element 122 . are doing. The light emitted from the second light emitting device 102 to be synthesized is the light from the first semiconductor laser element 121 and the light from the second semiconductor laser element 122 whose polarization direction is changed by the second polarization control member 22 . have.

6つの半導体レーザ素子120から放射された光は、PBS40から出射する地点にお
いて、いずれの中心も、6つの半導体レーザ素子120のそれぞれの第1径の和を一方の
辺の長さとし、6つの半導体レーザ素子120のそれぞれの第2径の和を他方の辺の長さ
とする矩形に収まるように合成されるのが好ましい。
The light emitted from the six semiconductor laser elements 120 has the sum of the first diameters of the six semiconductor laser elements 120 as the length of one side at any center at the point of emission from the PBS 40, and the six semiconductor laser elements 120 It is preferable that the laser elements 120 be synthesized so as to fit in a rectangle having the length of the other side equal to the sum of the second diameters of the laser elements 120 .

つまり、P(1)、P(2)、P(3)、P(4)、P(5)、及び、P(6)が、X
(1)+X(2)+X(3)+X(4)+X(5)+X(6)を一辺とし、Y(1)+Y
(2)+Y(3)+Y(4)+Y(5)+Y(6)を他辺とする矩形の領域内に集まって
いるのが好ましい。
That is, P(1), P(2), P(3), P(4), P(5), and P(6) are X
(1) + X (2) + X (3) + X (4) + X (5) + X (6) as one side, Y (1) + Y
It is preferable that they are gathered in a rectangular area having (2)+Y(3)+Y(4)+Y(5)+Y(6) as the other side.

またさらには、6つの半導体レーザ素子120から放射された主要部分の光のいずれも
、PBS40から出射する地点において、6つの半導体レーザ素子120の光のそれぞれ
の第1径の和を一方の辺の長さとし、6つの半導体レーザ素子120の光のそれぞれの第
2径の和を他方の辺の長さとする矩形に収まるように合成されるのが好ましい。
Furthermore, the sum of the first diameters of the lights of the six semiconductor laser elements 120 is the sum of the first diameters of the lights of the six semiconductor laser elements 120 at the point of emission from the PBS 40. It is preferable to synthesize the light beams so as to fit within a rectangle whose other side length is the sum of the second diameters of the light beams from the six semiconductor laser elements 120 .

また、第1発光装置101及び第2発光装置102の間で、同じ配置関係にある半導体
レーザ素子120からの光の中心が、PBS40により重なって合成されるような設計に
基づいて実装されるのが望ましい。同じ配置関係にある半導体レーザ素子120とは、第
1半導体レーザ素子121同士、第1半導体レーザ素子121の隣にある第2半導体レー
ザ素子122同士、その第2半導体レーザ素子122の隣にある残りの第2半導体レーザ
素子122同士が相当する。このように光を合成することで、6つの半導体レーザ素子1
20から放射された主要部分の光がより小さな領域に収まるように合成することができる
Moreover, the first light emitting device 101 and the second light emitting device 102 are mounted based on a design in which the centers of light from the semiconductor laser elements 120 having the same arrangement relationship are overlapped and synthesized by the PBS 40. is desirable. The semiconductor laser elements 120 having the same arrangement relationship are the first semiconductor laser elements 121, the second semiconductor laser elements 122 adjacent to the first semiconductor laser elements 121, and the remaining semiconductor laser elements 122 adjacent to the first semiconductor laser elements 121. of the second semiconductor laser elements 122 correspond to each other. By synthesizing light in this way, six semiconductor laser elements 1
The main portion of light emitted from 20 can be combined to fit into a smaller area.

第1発光装置101及び第2発光装置102から出射された光は、PBS40によって
合成されることによって、第1発光装置101あるいは第2発光装置102から出射され
た地点における出射光の光エネルギーの140%以上の光がPBS40から出射される。
あるいは、第1発光装置101から出射された地点における出射光の光エネルギーと第2
発光装置102から出射された地点における出射光の光エネルギーとの和の70%以上の
光がPBS40から出射される。なお、光エネルギーは、例えば、パワーメーターによっ
て測定することができ、単位には、例えば、ワットが用いられる。
The light emitted from the first light-emitting device 101 and the second light-emitting device 102 is combined by the PBS 40 to obtain 140 of the light energy of the emitted light at the point emitted from the first light-emitting device 101 or the second light-emitting device 102. % or more of the light is emitted from the PBS 40 .
Alternatively, the light energy of the emitted light at the point emitted from the first light emitting device 101 and the second
70% or more of the sum of the light energy of the light emitted from the light emitting device 102 and the light energy emitted from the point emitted from the light emitting device 102 is emitted from the PBS 40 . The light energy can be measured by, for example, a power meter, and the unit is, for example, watts.

ここで、実施形態における、PBS40による光の合成までの各構成要素の配置につい
て説明する。2つの発光ユニット10のうち、第1発光ユニット11の方が、第2発光ユ
ニット12よりも、PBS40から遠い位置に配置される。また、第1発光ユニット11
と第1偏光制御部材21の間の距離は、第2発光ユニット12と第2偏光制御部材22の
間の距離よりも長い。また、第1偏光制御部材21のダイクロイックミラー200によっ
て反射された出射光と、第2偏光制御部材22のダイクロイックミラー200によって反
射された出射光と、は同じ方向に進む。
Here, the arrangement of each component up to the synthesis of light by the PBS 40 in the embodiment will be described. Of the two light emitting units 10, the first light emitting unit 11 is arranged farther from the PBS 40 than the second light emitting unit 12 is. Also, the first light emitting unit 11
and the first polarization control member 21 is longer than the distance between the second light emitting unit 12 and the second polarization control member 22 . Also, the emitted light reflected by the dichroic mirror 200 of the first polarization control member 21 and the emitted light reflected by the dichroic mirror 200 of the second polarization control member 22 travel in the same direction.

第2偏光制御部材22のダイクロイックミラー200によって反射された出射光は、ミ
ラー30によって反射され、第1偏光制御部材21のダイクロイックミラー200によっ
て反射された出射光が進む方向と、90度異なる方向を進む。そして、PBS40に入射
するときには、第1発光装置101からの出射光の進行方向と、第2発光装置102から
の出射光の進行方向と、は90度異なる。
The emitted light reflected by the dichroic mirror 200 of the second polarization control member 22 is reflected by the mirror 30, and is 90 degrees different from the direction in which the emitted light reflected by the dichroic mirror 200 of the first polarization control member 21 travels. move on. Then, when incident on the PBS 40, the traveling direction of the emitted light from the first light emitting device 101 and the traveling direction of the emitted light from the second light emitting device 102 differ by 90 degrees.

このように、PBS40に入射する方向を90度異ならせてPBS40の透過と反射の
性質を利用するために、第1発光装置101においては第1半導体レーザ素子121の偏
光方向を変えて第2半導体レーザ素子122の偏光方向に揃え、第2発光装置102にお
いては第2半導体レーザ素子122の偏光方向を変えて第1半導体レーザ素子121の偏
光方向に揃えるようにしている。
In this way, in order to use the transmissive and reflective properties of the PBS 40 by varying the direction of incidence on the PBS 40 by 90 degrees, in the first light emitting device 101, the polarization direction of the first semiconductor laser element 121 is changed and the second semiconductor laser element 121 is polarized. The polarization direction of the second semiconductor laser element 122 is changed to match the polarization direction of the first semiconductor laser element 121 in the second light emitting device 102 .

拡散レンズ51は、このようにして合成された光(以下、合成光と呼ぶ。)を拡散する
。拡散レンズ51は、シリンドリカル面の凹レンズの形状を有している。シリンドリカル
面にすることで、曲率を有さない方向については、拡散レンズ51によって光が拡散され
ないようにすることができる。
The diffuser lens 51 diffuses the light synthesized in this way (hereinafter referred to as synthesized light). The diffuser lens 51 has the shape of a concave lens with a cylindrical surface. By forming a cylindrical surface, it is possible to prevent light from being diffused by the diffuser lens 51 in a direction having no curvature.

投影装置1において、楕円形状のFFPを有する半導体レーザ素子120からの光のう
ち、楕円の長径方向がシリンドリカル面の曲率を有さない方向となるように、拡散レンズ
51は配置される。拡散レンズ51に入射するときの合成光の照射領域は、楕円の長径を
通る光に対応する方向の幅が、楕円の短径を通る光に対応する方向の幅よりも大きい。よ
って、拡散レンズ51を通過することで、この幅の差が小さくなる。
In the projection device 1, the diffuser lens 51 is arranged so that, of the light from the semiconductor laser element 120 having an elliptical FFP, the major axis direction of the ellipse is the direction in which the cylindrical surface has no curvature. The irradiation area of the combined light when entering the diffuser lens 51 has a width in the direction corresponding to the light passing through the major axis of the ellipse greater than the width in the direction corresponding to the light passing through the minor axis of the ellipse. Therefore, passing through the diffuser lens 51 reduces the difference in width.

拡散レンズ51を通過した光はコリメートレンズ52を通過することによって、拡散方
向の光、つまり楕円の短径に対応する方向の光がコリメートされる。なお、楕円の長径に
対応する方向は既にコリメートされている。コリメートレンズ52によりコリメートされ
た光は、レンズアレイ53を通過することによって複数の小さな光の束に分割される。レ
ンズアレイ53によって複数の小さな光の束に分割された光は、重畳レンズ54を通過す
ることによって、より均一な光がDMD60に入射するように重畳される。DMD60は
、入射した光を時分割で変調し、画面に投影する映像光を生成する。DMD60により生
成された映像光は、2つのプリズム70を透過して投影ユニット80に入射する。投影ユ
ニット80に入射された映像光はスクリーンに投影される。
The light that has passed through the diffusion lens 51 passes through the collimator lens 52, so that the light in the direction of diffusion, that is, the light in the direction corresponding to the minor axis of the ellipse is collimated. Note that the direction corresponding to the major axis of the ellipse has already been collimated. Light collimated by the collimating lens 52 is split into a plurality of small light beams by passing through the lens array 53 . The light split into a plurality of small bundles of light by the lens array 53 passes through the superimposing lens 54 and is superimposed so that more uniform light is incident on the DMD 60 . The DMD 60 time-divisionally modulates the incident light to generate image light to be projected on the screen. Image light generated by the DMD 60 passes through two prisms 70 and enters the projection unit 80 . The image light incident on the projection unit 80 is projected onto the screen.

このように、投影装置1によれば、偏光方向の異なる光を出射する発光装置100を複
数用いて、複数の発光装置100から出射される光を効果的に合成することができる。
As described above, according to the projection device 1, by using a plurality of light emitting devices 100 that emit light with different polarization directions, the light emitted from the plurality of light emitting devices 100 can be effectively combined.

次に、図6乃至図9を用いて、実施形態に係る投影装置1に適用される発光装置100
の一形態を説明する。なお、投影装置1において適用される発光装置100の形態はこれ
に限らない。図6は、実装基板103に接合された発光装置100の斜視図である。図7
は、図6のVII-VIIを結ぶ直線における断面図である。図8は、発光装置100の内部構
造を説明するための斜視図である。図9は、発光装置100の内部構造を説明するための
上面図である。
Next, with reference to FIGS. 6 to 9, the light emitting device 100 applied to the projection device 1 according to the embodiment.
Describes one form of Note that the form of the light emitting device 100 applied in the projection device 1 is not limited to this. FIG. 6 is a perspective view of the light emitting device 100 bonded to the mounting substrate 103. FIG. Figure 7
7 is a cross-sectional view taken along a straight line connecting VII-VII in FIG. 6; FIG. FIG. 8 is a perspective view for explaining the internal structure of the light emitting device 100. FIG. FIG. 9 is a top view for explaining the internal structure of the light emitting device 100. FIG.

発光装置100は、構成要素として、基部110、3つの半導体レーザ素子120、サ
ブマウント130、光反射部材140、保護素子160、ワイヤ150、蓋部材170、
接着部180、及びレンズ部材190を有する。また、3つの半導体レーザ素子120の
うち、1つの第1半導体レーザ素子121であり、2つは第2半導体レーザ素子122で
ある。
The light emitting device 100 includes, as components, a base 110, three semiconductor laser elements 120, a submount 130, a light reflecting member 140, a protective element 160, a wire 150, a lid member 170,
It has an adhesive portion 180 and a lens member 190 . Among the three semiconductor laser elements 120 , one is the first semiconductor laser element 121 and two are the second semiconductor laser elements 122 .

基部110は、下面BSと、下面BSと交わる外側面OSと、を有する。また、第1上
面UAと、第1上面UAと交わる内側面ISと、第1上面UAと反対側で内側面ISと交
わる第2上面UBと、を有し、外側面OSは内側面ISと反対側で第2上面UBと交わる
。また、内側面ISの一部には段差が形成される。従って、段差が形成される部分におい
て、内側面ISは、第1上面UAと交わる第1内側面IAと、第2上面UBと交わる第2
内側面IBと、を有する。そして、第1内側面IAと第2内側面IBとに交わる第3上面
UCが形成される。また基部110は、凹構造を形成し、凹構造における窪みは第2上面
UBから第1上面UAにまで達する。従って、上面視で、第1上面UAは、第2上面UB
により囲まれる。
The base 110 has a bottom surface BS and an outer surface OS that intersects with the bottom surface BS. In addition, it has a first upper surface UA, an inner surface IS that intersects with the first upper surface UA, and a second upper surface UB that intersects with the inner surface IS on the side opposite to the first upper surface UA, and the outer surface OS and the inner surface IS. It intersects with the second upper surface UB on the opposite side. Moreover, a step is formed on a part of the inner surface IS. Therefore, in the portion where the step is formed, the inner side surface IS has a first inner side surface IA that intersects with the first upper surface UA and a second inner surface IA that intersects with the second upper surface UB.
and an inner surface IB. A third upper surface UC is formed to intersect the first inner side surface IA and the second inner side surface IB. The base 110 also forms a concave structure, the depression of which extends from the second upper surface UB to the first upper surface UA. Therefore, when viewed from above, the first upper surface UA is the second upper surface UB
surrounded by

基部110は、セラミックを主材料として形成することができる。なお、セラミックに
限らず金属で形成してもよい。例えば、セラミックでは窒化アルミニウム、窒化ケイ素、
酸化アルミニウム、炭化ケイ素を、金属では銅、アルミニウム、鉄、複合物として銅モリ
ブデン、銅-ダイヤモンド複合材料、銅タングステンを基部110の主材料に用いること
ができる。
The base 110 can be formed using ceramic as a main material. In addition, you may form not only with a ceramic but with a metal. For ceramics, for example, aluminum nitride, silicon nitride,
The main material of the base 110 can be aluminum oxide or silicon carbide, copper, aluminum or iron as a metal, or copper molybdenum, a copper-diamond composite material or copper tungsten as a composite.

基部110の第3上面UCには、複数の金属膜111が設けられる。また、下面にも金
属膜111が設けられる。基部110の内部を通る金属により、第3上面UCにおける金
属膜111と下面における金属膜111とは電気的に接続することができる。
A plurality of metal films 111 are provided on the third upper surface UC of the base 110 . A metal film 111 is also provided on the lower surface. The metal film 111 on the third upper surface UC and the metal film 111 on the lower surface can be electrically connected by the metal passing through the inside of the base portion 110 .

なお、基部110は、枠を形成する枠部と、第1上面を形成する底部と、がそれぞれ異
なる主材料により形成され、枠部と底部とを接合することで形成されてもよい。例えば、
金属を主材料として第1上面UAから下面BSまでの厚みを有する板状の底部と、セラミ
ックを主材料として第2上面UBから下面BSまでの高さの枠を有する枠部と、を接合し
て形成してもよい。
Note that the base 110 may be formed by using different main materials for the frame forming the frame and the bottom forming the first upper surface, and joining the frame and the bottom. for example,
A plate-shaped bottom part made mainly of metal and having a thickness from the first upper surface UA to the lower surface BS is joined to a frame part made mainly of ceramic and having a frame having a height from the second upper surface UB to the lower surface BS. may be formed by

第1半導体レーザ素子121は、下面と、上面と、側面とを有し、1つの側面から偏光
がTMモードのレーザ光を放射する。2つの第2半導体レーザ素子122は、下面と、上
面と、側面とを有し、1つの側面から偏光がTEモードのレーザ光を放射する。
The first semiconductor laser element 121 has a lower surface, an upper surface, and side surfaces, and emits TM-mode laser light from one side surface. The two second semiconductor laser elements 122 each have a lower surface, an upper surface, and side surfaces, and radiate laser light polarized in TE mode from one side surface.

また、第1半導体レーザ素子121は赤色の光を放射する。2つの第2半導体レーザ素
子122のうち、1つは青色の光を放射し、もう1つは緑色の光を放射する。なお、これ
以外の色の光を放射する半導体レーザ素子120を用いてもよく、また、同じ色の半導体
レーザ素子120を複数配置してもよい。また、配置される半導体レーザ素子120の数
は、1以上であれば3つに限らなくてもよい。
Also, the first semiconductor laser element 121 emits red light. Of the two second semiconductor laser elements 122, one emits blue light and the other emits green light. Note that semiconductor laser elements 120 that emit light of other colors may be used, and a plurality of semiconductor laser elements 120 of the same color may be arranged. Also, the number of arranged semiconductor laser elements 120 need not be limited to three as long as it is one or more.

ここで、赤色の光は、その発光ピーク波長が605nm~750nmの範囲内にある光
をいうものとする。発光装置100に採用する赤色の光としては、610nm~700n
mの範囲内にあるものがなお好ましい。赤色の光を発する半導体レーザ素子120として
は、例えば、InAlGaP系やGaInP系、GaAs系やAlGaAs系の半導体を
含むものが挙げられる。これらの半導体レーザ素子120は、窒化物半導体を含む半導体
レーザ素子120よりも、熱によって出力が低下しやすい。この点を考慮して、2以上の
導波路領域を備えるとよい。導波路領域を増やすことにより熱を分散させ、半導体レーザ
素子120の出力低下を低減することができる。
Here, red light means light whose emission peak wavelength is in the range of 605 nm to 750 nm. As red light employed in the light emitting device 100, 610 nm to 700 nm
Those in the range of m are even more preferred. Examples of the semiconductor laser element 120 that emits red light include those containing InAlGaP-based, GaInP-based, GaAs-based, and AlGaAs-based semiconductors. The output power of these semiconductor laser elements 120 is more likely to decrease due to heat than the semiconductor laser elements 120 containing a nitride semiconductor. Considering this point, it is preferable to provide two or more waveguide regions. By increasing the waveguide region, heat can be dispersed, and the reduction in the output of the semiconductor laser element 120 can be reduced.

青色の光は、その発光ピーク波長が420nm~494nmの範囲内にある光をいうも
のとする。発光装置100に採用する青色の光としては、440nm~475nmの範囲
内にあるものがなお好ましい。青色の光を発する半導体レーザ素子120としては、窒化
物半導体を含む半導体レーザ素子120が挙げられる。窒化物半導体としては、例えば、
GaN、InGaN、及びAlGaNを用いることができる。
Blue light refers to light whose emission peak wavelength is in the range of 420 nm to 494 nm. Blue light used in the light emitting device 100 is preferably in the range of 440 nm to 475 nm. As the semiconductor laser element 120 that emits blue light, there is a semiconductor laser element 120 containing a nitride semiconductor. Examples of nitride semiconductors include
GaN, InGaN, and AlGaN can be used.

緑色の光は、その発光ピーク波長が495nm~570nmの範囲内にある光をいうも
のとする。発光装置100に採用する緑色の光としては、510nm~550nmの範囲
内にあるものがなお好ましい。緑色の光を発する半導体レーザ素子120としては、窒化
物半導体を含む半導体レーザ素子120が挙げられる。窒化物半導体としては、例えば、
GaN、InGaN、及びAlGaNを用いることができる。
Green light refers to light whose emission peak wavelength is in the range of 495 nm to 570 nm. Green light used in the light emitting device 100 is more preferably in the range of 510 nm to 550 nm. As the semiconductor laser element 120 that emits green light, there is a semiconductor laser element 120 containing a nitride semiconductor. Examples of nitride semiconductors include
GaN, InGaN, and AlGaN can be used.

また、第1半導体レーザ素子121は、図5で示したような、エミッターが2つあるマ
ルチエミッターの半導体レーザ素子120である。第2半導体レーザ素子122は、図4
で示したような、シングルエミッターの半導体レーザ素子120である。
The first semiconductor laser element 121 is a multi-emitter semiconductor laser element 120 having two emitters as shown in FIG. The second semiconductor laser element 122 is shown in FIG.
1 is a single-emitter semiconductor laser device 120 as shown in FIG.

サブマウント130は下面と、上面と、側面とを有し、直方体の形状で構成される。な
お、形状は直方体に限らなくてよい。サブマウント130は、例えば、窒化ケイ素、窒化
アルミニウム、又は炭化ケイ素を用いて形成することができる。また、これに限らず他の
材料を用いることも出来る。また、サブマウント130の上面には金属膜が設けられてい
る。
The submount 130 has a bottom surface, a top surface, and side surfaces and is configured in the shape of a rectangular parallelepiped. Note that the shape is not limited to a rectangular parallelepiped. Submount 130 may be formed using, for example, silicon nitride, aluminum nitride, or silicon carbide. Moreover, other materials can also be used without being limited to this. A metal film is provided on the upper surface of the submount 130 .

光反射部材140は、下面と、下面と交わる側面と、下面と反対側で一部の側面と交わ
る上面と、を有する。また、下面と反対側で別の一部の側面と交わり、かつ、上面の側面
と交わらない領域で交わる光反射面を有する。光反射面は平面であり、上面から下面にか
けて傾斜している。光反射面は、下面に対して45度の角度を成すように設計される。な
お、この角度は45度に限らなくてもよく、また、光反射面は平面でなく曲面であっても
よい。
The light reflecting member 140 has a lower surface, a side surface that intersects with the lower surface, and an upper surface that intersects a part of the side surface on the opposite side of the lower surface. In addition, it has a light reflecting surface that intersects with another partial side surface on the side opposite to the lower surface and intersects with the side surface of the upper surface in a region that does not intersect. The light reflecting surface is flat and slopes from the upper surface to the lower surface. The light reflecting surface is designed to form an angle of 45 degrees with respect to the lower surface. Note that this angle is not limited to 45 degrees, and the light reflecting surface may be a curved surface instead of a flat surface.

光反射部材140は、主材料に用いてその外形を形成し、形成した外形のうち光反射面
を設けたい面に光反射膜を成膜して形成することができる。主材料は熱に強い材料がよく
、例えば、石英若しくはBK7(硼珪酸ガラス)等のガラス、アルミニウム等の金属、又
はSi等を採用することができる。光反射膜は光反射率の高い材料がよく、Ag、Al等
の金属やTa/SiO、TiO/SiO、Nb/SiO等の誘電体
多層膜等を採用することができる。
The light reflecting member 140 can be formed by forming an outer shape using a main material, and forming a light reflecting film on a surface of the formed outer shape on which a light reflecting surface is desired. The main material is preferably a heat-resistant material such as quartz or glass such as BK7 (borosilicate glass), metal such as aluminum, or Si. The light reflection film is preferably made of a material with high light reflectance, and employs metals such as Ag and Al, dielectric multilayer films such as Ta 2 O 5 /SiO 2 , TiO 2 /SiO 2 , Nb 2 O 5 /SiO 2, etc. can do.

なお、金属等の光反射率の高い材料を主材料に用いてその外形を形成した場合、光反射
膜の形成は省略してもよい。光反射面は、反射させるレーザ光のピーク波長に対する光反
射率を99%以上とすることができる。これらの光反射率は100%以下あるいは100
%未満とすることができる。保護素子160は、例えば、ツェナーダイオードである。ワ
イヤ150は、金属の配線である。
In addition, when the outer shape is formed using a material having a high light reflectance such as metal as the main material, the formation of the light reflecting film may be omitted. The light reflecting surface can have a light reflectance of 99% or more with respect to the peak wavelength of the laser light to be reflected. These light reflectances are 100% or less or 100%
%. Protective element 160 is, for example, a Zener diode. The wire 150 is metal wiring.

蓋部材170は下面と、上面と、側面とを有し、直方体の形状で構成され、全体として
透光性である。なお、一部に非透光性の領域を有していてもよい。また、形状は直方体に
限らなくて良い。蓋部材170は、サファイアを主材料に用いて形成することができる。
また、一部の領域に金属膜が設けられる。サファイアは、比較的屈折率が高く、比較的強
度も高い材料である。なお、主材料には、サファイアの他に、例えばガラス等を用いるこ
ともできる。
The lid member 170 has a lower surface, an upper surface, and side surfaces, is configured in the shape of a rectangular parallelepiped, and is translucent as a whole. Note that a part may have a non-light-transmitting region. Also, the shape is not limited to a rectangular parallelepiped. The lid member 170 can be formed using sapphire as a main material.
Also, a metal film is provided in a part of the region. Sapphire is a material with a relatively high refractive index and relatively high strength. In addition to sapphire, for example, glass or the like can also be used as the main material.

接着部180は、接着剤が固まって形成される。接着部180を形成する接着剤として
は、紫外線硬化型の樹脂を用いることができる。紫外線硬化型の樹脂は加熱せずに比較的
短い時間で硬化することができるため所望の位置にレンズ部材190を固定しやすい。
The adhesive portion 180 is formed by hardening the adhesive. As the adhesive that forms the adhesive portion 180, an ultraviolet curable resin can be used. Since the ultraviolet curable resin can be cured in a relatively short time without heating, it is easy to fix the lens member 190 at a desired position.

レンズ部材190は、下面と、側面と、側面と交わる上面と、を有する。また、レンズ
部材190の上面は、レンズ形状を有するレンズ部191と、それ以外の非レンズ部19
2と、を有する。あるいは、レンズ部材190は、直方体の非レンズ部192の上面にレ
ンズ形状のレンズ部191が配された形をしている。また、レンズ部材190の上面には
、複数のレンズ部191が設けられる。この複数のレンズ部191は一体的に連結した形
状で成形されている。レンズ部材190には、例えば、BK7、B270等のガラス等を
用いることができる。
The lens member 190 has a bottom surface, side surfaces, and a top surface that intersects the side surfaces. Further, the upper surface of the lens member 190 includes a lens portion 191 having a lens shape and a non-lens portion 19 other than the lens portion 191 .
2 and Alternatively, the lens member 190 has a shape in which a lens-shaped lens portion 191 is arranged on the upper surface of a rectangular parallelepiped non-lens portion 192 . A plurality of lens portions 191 are provided on the upper surface of the lens member 190 . The plurality of lens portions 191 are molded in a shape that is integrally connected. Glass such as BK7 and B270 can be used for the lens member 190, for example.

実装基板103は、下面と、側面と、上面とを有する。また、主材料が金属で構成され
、その上に絶縁膜123と金属膜113が設けられる。実装基板103の上面には、この
絶縁膜123及び金属膜113がそれぞれ露出した領域がある。金属としては、例えば、
アルミニウムや銅を用いることができる。このような金属を用いることで、第1半導体レ
ーザ素子121や第2半導体レーザ素子122から発生した熱に対し良好な放熱効果を得
ることができる。つまり、実装基板103は放熱部材にもなり得る。
The mounting board 103 has a bottom surface, a side surface, and a top surface. The main material is metal, and the insulating film 123 and the metal film 113 are provided thereon. The upper surface of the mounting substrate 103 has areas where the insulating film 123 and the metal film 113 are exposed. Examples of metals include
Aluminum or copper can be used. By using such a metal, a good heat radiation effect can be obtained for heat generated from the first semiconductor laser element 121 and the second semiconductor laser element 122 . That is, the mounting substrate 103 can also serve as a heat dissipation member.

次に、これらの構成要素を用いて製造される発光装置100について説明する。
3つの半導体レーザ素子120が、サブマウント130を介して基部110の第1上面
UAに配置される。また、サブマウント130は、それぞれの半導体レーザ素子120に
対して別個に設けられている。なお、1つのサブマウント130の上面に複数の半導体レ
ーザ素子120を配してもよい。また、サブマウント130を介さないで第1上面UAに
直接半導体レーザ素子120を配置することもあり得る。
Next, the light-emitting device 100 manufactured using these components will be described.
Three semiconductor laser elements 120 are arranged on the first upper surface UA of the base 110 via a submount 130 . Also, the submount 130 is separately provided for each semiconductor laser element 120 . A plurality of semiconductor laser elements 120 may be arranged on the top surface of one submount 130 . Also, the semiconductor laser element 120 may be arranged directly on the first upper surface UA without the submount 130 interposed therebetween.

サブマウント130は、その下面で基部110の第1上面UAと接合し、その上面で半
導体レーザ素子120と接合する。半導体レーザ素子120の出射端面が、サブマウント
130の側面と揃うか、あるいは、突出するように、半導体レーザ素子120は配される
。これにより、半導体レーザ素子120から放射された光がサブマウント130の上面に
照射されないようにできる。また、サブマウント130の上面に、保護素子160が配さ
れる。
The submount 130 has its lower surface bonded to the first upper surface UA of the base 110 and its upper surface bonded to the semiconductor laser element 120 . The semiconductor laser element 120 is arranged so that the emission end face of the semiconductor laser element 120 is aligned with the side surface of the submount 130 or protrudes. This prevents the light emitted from the semiconductor laser element 120 from irradiating the upper surface of the submount 130 . Also, a protective element 160 is arranged on the upper surface of the submount 130 .

サブマウント130は、その熱伝導率が基部110の第1上面UAよりも高いものを用
いると、ヒートスプレッダーとしてより高い効果を得ることができる。例えば、基部11
0の第1上面UAに窒化アルミニウムが用いられる場合、サブマウント130には、窒化
アルミニウム、又は炭化ケイ素を用いることができる。なお、この場合のサブマウント1
30に用いる窒化アルミニウムは、基部110に用いる窒化アルミニウムよりも熱伝導率
の高いものである。
If the submount 130 has a higher thermal conductivity than the first upper surface UA of the base 110, a higher effect as a heat spreader can be obtained. For example, base 11
If aluminum nitride is used for the first upper surface UA of 0, the submount 130 can be aluminum nitride or silicon carbide. Note that submount 1 in this case
The aluminum nitride used for 30 has a higher thermal conductivity than the aluminum nitride used for base 110 .

また、サブマウント130は、3つの半導体レーザ素子120の間で、第1上面UAか
らの高さが同じになるように設計される。また、各半導体レーザ素子120の出射端面は
、仮想的な1つの同じ平面上に配されるように設計される。なお、設計上は同じでも実装
段階における部材公差や実装公差などによって誤差は生じる。発光装置100に関して、
高さ、長さ、位置、相対的な位置関係などが同じというときは、このような誤差は許容範
囲を含まれるものとする。
Also, the submount 130 is designed so that the three semiconductor laser elements 120 have the same height from the first upper surface UA. In addition, the emission end face of each semiconductor laser element 120 is designed to be arranged on the same virtual plane. Even if the design is the same, errors occur due to component tolerances and mounting tolerances in the mounting stage. Regarding the light emitting device 100,
When the height, length, position, relative positional relationship, etc. are the same, such errors shall include a tolerance range.

光反射部材140は、基部110の第1上面UAに配される。それぞれの半導体レーザ
素子120に対応して、別個に光反射部材140が配されている。また、3つの半導体レ
ーザ素子120の間で、各半導体レーザ素子120の出射端面と対応する光反射部材14
0との間の距離は同じになるように設計される。また、3つの半導体レーザ素子120の
いずれも、光反射部材140によって反射された中心光は、第1上面UAに対して垂直な
方向に進行する。なお、複数の半導体レーザ素子120に対応して1つの光反射部材14
0を配してもよい。
The light reflecting member 140 is arranged on the first upper surface UA of the base 110 . A separate light reflecting member 140 is arranged corresponding to each semiconductor laser element 120 . In addition, between the three semiconductor laser elements 120, the light reflecting member 14 corresponding to the emission end face of each semiconductor laser element 120
The distance between 0 is designed to be the same. In addition, in all three semiconductor laser elements 120, the central light reflected by the light reflecting member 140 travels in a direction perpendicular to the first upper surface UA. One light reflection member 14 corresponding to a plurality of semiconductor laser elements 120
0 may be assigned.

半導体レーザ素子120から放射された光の主要部分は、対応する光反射部材140の
光反射面に照射される。光反射部材140を介することで、光反射部材140を介在させ
ない場合と比べて半導体レーザ素子120から放射された光の光路長を長くできる。光路
長が長い方が光反射部材140と半導体レーザ素子120との実装ずれによる影響を小さ
くすることができる。
A major part of the light emitted from the semiconductor laser element 120 is applied to the corresponding light reflecting surface of the light reflecting member 140 . By using the light reflecting member 140, the optical path length of the light emitted from the semiconductor laser element 120 can be made longer than when the light reflecting member 140 is not interposed. The longer the optical path length, the smaller the influence of mounting misalignment between the light reflecting member 140 and the semiconductor laser element 120 .

段差部の上面(第3上面UC)に設けられた金属膜111には、複数のワイヤ150の
一端が接合される。複数のワイヤ150の他端はそれぞれ半導体レーザ素子120か保護
素子160かサブマウント130の上面に設けられた金属膜に接合される。これにより半
導体レーザ素子120及び保護素子160は、基部110の下面に設けられた金属膜11
1を介して電気的に接続される。
One end of a plurality of wires 150 is joined to the metal film 111 provided on the upper surface (third upper surface UC) of the stepped portion. The other ends of the plurality of wires 150 are joined to the metal film provided on the upper surface of the semiconductor laser element 120, the protective element 160, or the submount 130, respectively. As a result, the semiconductor laser element 120 and the protection element 160 are separated from each other by the metal film 11 provided on the lower surface of the base 110.
1 are electrically connected.

半導体レーザ素子120から放射され光軸を通る光の進行方向の先にある基部110の
内側面ISには、段差部は設けられない。この内側面ISに段差部を設けてワイヤ150
を張ると、ワイヤ150が光反射部材140を跨ぐようになり、反射光の光路上でワイヤ
150が邪魔になるため、電気的な接続を図るための段差部は設けられていない。段差部
を内側面の全周に亘って設けないことで、基部110のサイズを小型化することができる
A stepped portion is not provided on the inner surface IS of the base portion 110 ahead of the traveling direction of the light emitted from the semiconductor laser element 120 and passing through the optical axis. A stepped portion is provided on the inner surface IS, and the wire 150
When the wire 150 is stretched, the wire 150 straddles the light reflecting member 140 and becomes an obstacle on the optical path of the reflected light. The size of the base portion 110 can be reduced by not providing the step portion over the entire circumference of the inner surface.

蓋部材170は、その下面において、基部110の第2上面UBと接合する。蓋部材1
70と基部110は、接合される領域に金属膜が設けられ、Au-Sn等を介して固定さ
れる。基部110と蓋部材170とが接合することで閉空間が形成される。この閉空間は
気密封止された空間となる。このように気密封止することで、半導体レーザ素子120の
光の出射端面に有機物等が集塵することを抑制することができる。
The lid member 170 is joined to the second upper surface UB of the base 110 at its lower surface. Lid member 1
70 and base 110 are provided with a metal film in the region to be joined, and are fixed via Au—Sn or the like. A closed space is formed by joining the base portion 110 and the lid member 170 . This closed space becomes a hermetically sealed space. Such hermetic sealing can prevent organic matter and the like from collecting on the light emitting facet of the semiconductor laser element 120 .

光反射部材140の光反射面により反射された反射光は蓋部材170に入射する。蓋部
材170は、少なくとも主要部分の光の反射光が入射してから出射するまでの領域が透光
性となるように設計される。ここで、透光性とは、光に対する透過率が80%以上である
こととする。
Reflected light reflected by the light reflecting surface of the light reflecting member 140 enters the lid member 170 . The lid member 170 is designed so that at least a main portion of the reflected light is translucent in the region from the incidence to the emission. Here, translucency means that the transmittance to light is 80% or more.

接着部180は、蓋部材170の上面において、蓋部材170とレンズ部材190とを
接着する領域に形成される。接着部180は、蓋部材170の上面とレンズ部材190の
下面とに接着剤が付いた状態で接着剤を硬化することで形成される。このとき、接着部1
80は、蓋部材170とレンズ部材190が接触しないように形成される。このように接
着部180に厚みを持たせることで、位置や高さを調整した上で、レンズ部材190を蓋
部材170に接合することができる。また、接着部180は、半導体レーザ素子120か
ら発せられた光の光路上に設けられないように形成する。そのため、好ましくはレンズ部
材190の外縁に形成される。
The bonding portion 180 is formed in a region where the lid member 170 and the lens member 190 are bonded together on the upper surface of the lid member 170 . The adhesive part 180 is formed by curing the adhesive in a state where the adhesive is attached to the upper surface of the lid member 170 and the lower surface of the lens member 190 . At this time, the adhesive portion 1
80 is formed so that the lid member 170 and the lens member 190 do not come into contact with each other. By making the bonding portion 180 thicker in this way, the lens member 190 can be bonded to the lid member 170 after adjusting the position and height. Also, the bonding portion 180 is formed so as not to be provided on the optical path of the light emitted from the semiconductor laser element 120 . Therefore, it is preferably formed on the outer edge of the lens member 190 .

レンズ部材190は、接着部180を介して蓋部材170と接合し、蓋部材170の上
に配置される。レンズ部材190におけるレンズ部191の数は、基部110に配された
半導体レーザ素子120の数と同じである。従って、3つの半導体レーザ素子120が配
されれば、レンズ部材190には3つのレンズ部191が一体的に連結した形状で設けら
れる。
The lens member 190 is joined to the lid member 170 via the bonding portion 180 and arranged on the lid member 170 . The number of lens portions 191 in lens member 190 is the same as the number of semiconductor laser elements 120 arranged on base portion 110 . Accordingly, when three semiconductor laser elements 120 are arranged, the lens member 190 is provided with three lens portions 191 integrally connected.

また、1つの半導体レーザ素子120と1つのレンズ部191が対応する。各レンズ部
191は、対応する半導体レーザ素子120から放射された主要部分の光のうち光反射部
材140により反射された反射光が、レンズ部191を通過してコリメートされるように
、その配置及び形状が設計される。
Also, one semiconductor laser element 120 corresponds to one lens portion 191 . Each lens portion 191 is arranged and arranged so that the reflected light reflected by the light reflection member 140 out of the main part of the light emitted from the corresponding semiconductor laser element 120 passes through the lens portion 191 and is collimated. shape is designed.

発光装置100は、下面に設けられた対の金属膜111が、実装基板103の金属膜1
13と接合する。発光装置100と実装基板103との接合は、はんだ付けによって行う
ことが出来る。発光装置100の下面における金属膜111と、実装基板103の金属膜
113と、の接合により、発光装置100を実装基板103に固定するときのセルフアラ
イメントを働かせている。
In the light-emitting device 100 , the pair of metal films 111 provided on the lower surface is aligned with the metal film 1 of the mounting substrate 103 .
13. The light emitting device 100 and the mounting substrate 103 can be joined together by soldering. Bonding of the metal film 111 on the lower surface of the light emitting device 100 and the metal film 113 of the mounting substrate 103 allows self-alignment when fixing the light emitting device 100 to the mounting substrate 103 .

このような発光装置100によって、赤色、青色、及び、緑色のコリメート光が発光装
置100の外に出射される。また、これらのコリメート光は、実装基板103の上面、あ
るいは、基部110の第1上面UAに対して垂直な方向に進行する。また、3つの半導体
レーザ素子120は、その中心光が出射端面から同じ方向に進むことから、出射端面から
放射された時点、及び、レンズ部材190を通過した時点で、第1半導体レーザ素子12
1から放射された光と、第2半導体レーザ素子122から放射された光とでは、偏光方向
が90度異なっている。例えば、片方がp偏光であれば、もう片方はs偏光であるといっ
た関係が生じることになる。
Such a light emitting device 100 emits red, blue, and green collimated lights to the outside of the light emitting device 100 . Also, these collimated lights travel in a direction perpendicular to the upper surface of the mounting substrate 103 or the first upper surface UA of the base 110 . In addition, since the central light of the three semiconductor laser elements 120 travels in the same direction from the emission end face, the first semiconductor laser element 12 is radiated from the emission end face and passes through the lens member 190 .
1 and the light emitted from the second semiconductor laser element 122 have different polarization directions by 90 degrees. For example, if one is p-polarized, the other is s-polarized.

また、発光装置100は実装基板103に接合され、発光ユニット10として、投影装
置1に組み込まれるが、このとき、3つの半導体レーザ素子120のうち第1半導体レー
ザ素子121が、PBS40までの光路長が最も短くなるように配置される。別の観点で
は、マルチエミッターの第1半導体レーザ素子121の方が、シングルエミッターの第2
半導体レーザ素子122よりも、PBS40までの光路長が短くなるように配置される。
Further, the light emitting device 100 is bonded to the mounting substrate 103 and incorporated into the projection device 1 as the light emitting unit 10. At this time, the first semiconductor laser device 121 of the three semiconductor laser devices 120 has an optical path length up to the PBS 40. is arranged to be the shortest. From another point of view, the multi-emitter first semiconductor laser element 121 is the single-emitter second semiconductor laser element 121 .
It is arranged so that the optical path length to the PBS 40 is shorter than that of the semiconductor laser element 122 .

マルチエミッターの場合、各エミッターからレーザ光が放射される。それぞれのエミッ
ターからの中心光が1つのレンズ部191の異なる点を通過する。レンズ部191を通過
した中心光はその後、互いに近付きある点で交わる。そのようにして交差した後は、互い
に離れていく。つまり、マルチエミッターの第1半導体レーザ素子121から放射された
光は、交差後は光路長が長くなるほど互いの中心光の間の距離が離れる。従って、第1半
導体レーザ素子121のPBS40までの光路長が第2半導体レーザ素子122のそれよ
りも短くなるように配置することで、拡がりを抑えることができる。
In the case of multi-emitters, laser light is emitted from each emitter. Central light from each emitter passes through different points of one lens portion 191 . After passing through the lens portion 191, the central lights approach each other and intersect at a certain point. After crossing like that, they move away from each other. In other words, the light emitted from the multi-emitter first semiconductor laser element 121 has a longer distance between the central lights after the crossing as the optical path length increases. Therefore, by arranging the first semiconductor laser element 121 so that the optical path length to the PBS 40 is shorter than that of the second semiconductor laser element 122, the spread can be suppressed.

以上、本発明が適用される一つの実施形態を開示したが、本発明はこの実施形態に限ら
ず適用され得るものである。例えば、実施形態に係る投影装置1において示された光学構
成の一部あるいは全部を利用することで、複数の発光ユニットのそれぞれから出射された
光を合成する合成装置を構築することができる。合成装置は、複数の発光ユニットと、複
数の発光装置からの出射光を合成する合成ユニットと、で構成される。
Although one embodiment to which the present invention is applied has been disclosed above, the present invention can be applied without being limited to this embodiment. For example, by using part or all of the optical configuration shown in the projection device 1 according to the embodiment, it is possible to construct a synthesizing device that synthesizes the light emitted from each of the plurality of light emitting units. The synthesizing device is composed of a plurality of light emitting units and a synthesizing unit for synthesizing light emitted from the plurality of light emitting devices.

また、発光ユニットは、少なくとも発光装置を有し、合成ユニットは、少なくとも偏光
制御部材及び合成部材を有する。また、合成ユニットは、実施形態に係る投影装置1にお
いて示された、ダイクロイックミラー200、波長板201、ミラー30、PBS40、
レンズ50、DMD60、プリズム70、投影ユニット80の一部あるいは全部で構成さ
れることができる。従って、合成装置は、投影装置1としての合成装置に限らず、光を制
御する種々の装置に適用することが可能である。
Also, the light emitting unit has at least a light emitting device, and the synthesizing unit has at least a polarization control member and a synthesizing member. Also, the synthesizing unit includes the dichroic mirror 200, wave plate 201, mirror 30, PBS 40,
It can consist of part or all of lens 50, DMD 60, prism 70 and projection unit 80. FIG. Therefore, the synthesizing device can be applied not only to the synthesizing device as the projection device 1 but also to various devices for controlling light.

また、技術的特徴を有する投影装置は、実施形態において開示された投影装置1の構造
に限られるわけではない。例えば、実施形態に開示のない構成要素を有する投影装置であ
っても本発明は適用され得るものであり、実施形態の投影装置1と違いがあることは本発
明を適用できないことの根拠とはならない。
Also, the projection apparatus having technical features is not limited to the structure of the projection apparatus 1 disclosed in the embodiment. For example, the present invention can be applied even to a projection apparatus having components not disclosed in the embodiments, and the difference from the projection apparatus 1 of the embodiment is the basis for not being able to apply the present invention. not.

このことはつまり、本発明が、実施形態により開示された投影装置1の全ての構成要素
を必要十分に備えることを必須とせずに、適用され得ることを示す。例えば、特許請求の
範囲に、実施形態により開示された投影装置1の構成要素の一部が記載されていなかった
場合、その一部の構成要素については、代替、省略、形状の変形、材料の変更などの当業
者による設計の自由度を認め、その上で特許請求の範囲に記載された発明が適用されるこ
とを請求するものである。
This means that the present invention can be applied without necessarily having all the components of the projection device 1 disclosed by the embodiment. For example, if some of the constituent elements of the projection apparatus 1 disclosed in the embodiments are not described in the claims, some of the constituent elements may be replaced, omitted, modified in shape, or changed in material. It is claimed that the freedom of design such as modification by a person skilled in the art is allowed, and that the invention described in the scope of claims is applied.

各実施形態に記載の合成装置は、プロジェクタ、車載ヘッドライト、照明、ディスプレ
イのバックライト等に使用することができる。
The synthesizing device described in each embodiment can be used for projectors, in-vehicle headlights, lighting, display backlights, and the like.

1 投影装置
10 発光ユニット
11 第1発光ユニット
12 第2発光ユニット
100 発光装置
101 第1発光装置
102 第2発光装置
110 基部
111 金属膜
120 半導体レーザ素子
121 第1半導体レーザ素子
122 第2半導体レーザ素子
130 サブマウント
140 光反射部材
150 ワイヤ
160 保護素子
170 蓋部材

180 接着部
190 レンズ部材
191 レンズ部
192 非レンズ部
103 実装基板
113 金属膜
123 絶縁膜
20 偏光制御部材
21 第1偏光制御部材
22 第2偏光制御部材
200 ダイクロイックミラー
201 波長板
30 ミラー
40 PBS
50 レンズ
51 拡散レンズ51
52 コリメートレンズ
53 レンズアレイ
54 重畳レンズ
60 DMD
70 プリズム
80 投影ユニット
1 projection device 10 light emitting unit 11 first light emitting unit 12 second light emitting unit 100 light emitting device 101 first light emitting device 102 second light emitting device
110 base
111 metal film
120 semiconductor laser element
121 first semiconductor laser element
122 second semiconductor laser element
130 Submount
140 light reflecting member
150 wire
160 protection element
170 lid member

180 glue
190 lens member
191 lens section
192 non-lens portion 103 mounting board
113 metal film
123 insulating film 20 polarization control member 21 first polarization control member 22 second polarization control member 200 dichroic mirror 201 wavelength plate 30 mirror 40 PBS
50 lens 51 diffusion lens 51
52 collimating lens 53 lens array 54 superimposing lens 60 DMD
70 prism 80 projection unit

Claims (12)

第1入射面を有する第1ダイクロイックミラーと、
第2入射面を有し、前記第1ダイクロイックミラーに接する第2ダイクロイックミラーと、
前記第1入射面に接合される第1波長板と、を備え、
前記第2入射面には波長板が接合されない、偏光制御部材。
a first dichroic mirror having a first incident surface;
a second dichroic mirror having a second incident surface and being in contact with the first dichroic mirror;
a first wave plate bonded to the first incident surface;
A polarization control member, wherein a wavelength plate is not bonded to the second incident surface.
第3入射面を有し、前記第2ダイクロイックミラーに接する第3ダイクロイックミラーと、をさらに備え、
前記第3入射面には波長板が接合されない請求項1に記載の偏光制御部材。
a third dichroic mirror having a third incident surface and being in contact with the second dichroic mirror;
2. The polarization control member of claim 1, wherein no wave plate is bonded to the third incident surface.
第1入射面を有する第1ダイクロイックミラーと、
第2入射面を有し、前記第1ダイクロイックミラーと接する第2ダイクロイックミラーと、
第3入射面を有し、前記第2ダイクロイックミラーと接する第3ダイクロイックミラーと、
前記第1入射面に接合される第1波長板と、
前記第2入射面に接合される第2波長板と、を備え、
前記第3入射面には波長板が接合されない、偏光制御部材。
a first dichroic mirror having a first incident surface;
a second dichroic mirror having a second incident surface and being in contact with the first dichroic mirror;
a third dichroic mirror having a third incident surface and being in contact with the second dichroic mirror;
a first wave plate bonded to the first incident surface;
a second wave plate bonded to the second incident surface;
A polarization control member, wherein a wave plate is not bonded to the third incident surface.
前記第1ダイクロイックミラー、前記第2ダイクロイックミラー、及び前記第3ダイクロイックミラーは、この順に並んで配置される請求項2または3に記載の偏光制御部材。 4. The polarization control member according to claim 2, wherein the first dichroic mirror, the second dichroic mirror, and the third dichroic mirror are arranged in this order. 前記第1ダイクロイックミラーは、前記第1入射面に交わる第1反射面を有し、前記第2ダイクロイックミラーは、前記第2入射面に交わる第2反射面を有し、
前記第1反射面は、第1の波長条件を有する光を反射し、前記第2反射面は、第2の波長条件を有する光を反射し、
前記第1反射面と前記第2反射面は平行である、請求項1から4のいずれか一項に記載の偏光制御部材。
The first dichroic mirror has a first reflecting surface that intersects with the first incident surface, the second dichroic mirror has a second reflecting surface that intersects with the second incident surface,
The first reflecting surface reflects light having a first wavelength condition, the second reflecting surface reflects light having a second wavelength condition,
5. The polarization control member according to claim 1, wherein said first reflecting surface and said second reflecting surface are parallel.
第1半導体レーザ素子と、
第2半導体レーザ素子と、
偏光制御部材と、を備え、
前記偏光制御部材は、
前記第1半導体レーザ素子から出射された光が入射する第1入射面を有する第1ダイクロイックミラーと、
前記第2半導体レーザ素子から出射された光が入射する第2入射面を有する第2ダイクロイックミラーと、
前記第1入射面に接合される波長板と、を有し、
前記波長板は入射面を有し、該入射面には、前記第1半導体レーザ素子から出射した光が前記第1入射面に入射する前に入射する、発光装置。
a first semiconductor laser element;
a second semiconductor laser element;
a polarization control member,
The polarization control member is
a first dichroic mirror having a first incident surface on which light emitted from the first semiconductor laser element is incident;
a second dichroic mirror having a second incident surface on which light emitted from the second semiconductor laser element is incident;
a wave plate bonded to the first incident surface;
The light-emitting device, wherein the wavelength plate has an incident surface, and the light emitted from the first semiconductor laser element is incident on the incident surface before entering the first incident surface.
前記第1半導体レーザ素子から出射した光の偏光方向と、前記第2半導体レーザ素子から出射した光の偏光方向は異なり、
前記偏光制御部材を通過した後の前記第1半導体レーザ素子から出射した光の偏光方向は、前記第2半導体レーザ素子から出射した光の偏光方向と同じ偏光方向である、請求項6に記載の発光装置。
the polarization direction of the light emitted from the first semiconductor laser element is different from the polarization direction of the light emitted from the second semiconductor laser element,
7. The polarization direction of the light emitted from the first semiconductor laser element after passing through the polarization control member is the same as the polarization direction of the light emitted from the second semiconductor laser element. Luminescent device.
前記第1ダイクロイックミラーは、前記第1半導体レーザ素子から出射した光を反射する第1反射面を有し、
前記第2ダイクロイックミラーは、前記第2半導体レーザ素子から出射した光を反射する第2反射面を有し、
前記第1反射面は、前記第2反射面で反射された光を透過する、請求項6または7に記載の発光装置。
The first dichroic mirror has a first reflecting surface that reflects light emitted from the first semiconductor laser element,
the second dichroic mirror has a second reflecting surface that reflects light emitted from the second semiconductor laser element,
8. The light emitting device according to claim 6 , wherein said first reflecting surface transmits light reflected by said second reflecting surface.
第3半導体レーザ素子と、をさらに備え、
前記偏光制御部材は、第3ダイクロイックミラーをさらに有し、
前記第3ダイクロイックミラーは、前記第3半導体レーザ素子から出射した光が入射する第3入射面と、該光を反射する第3反射面を有し、
前記第1反射面及び前記第2反射面は、前記第3反射面で反射された光を透過する、請求項8に記載の発光装置。
a third semiconductor laser element,
The polarization control member further has a third dichroic mirror,
the third dichroic mirror has a third incident surface on which light emitted from the third semiconductor laser element is incident and a third reflecting surface on which the light is reflected;
9. The light emitting device according to claim 8 , wherein said first reflecting surface and said second reflecting surface transmit light reflected by said third reflecting surface.
前記第1半導体レーザ素子、前記第2半導体レーザ素子、及び前記第3半導体レーザ素子は、それぞれ赤色光、青色光、緑色光を出射する、請求項9に記載の発光装置。 10. The light emitting device according to claim 9, wherein said first semiconductor laser element, said second semiconductor laser element, and said third semiconductor laser element emit red light, blue light, and green light, respectively. 第1レンズ部及び第2レンズ部を備えるレンズ部材と、をさらに備え、
前記第1レンズ部及び前記第2レンズ部は、前記第1半導体レーザ素子から出射した光及び前記第2半導体レーザ素子から出射した光をそれぞれコリメートし、
前記偏光制御部材は、前記レンズ部材から出射した光の偏光方向を変える、請求項6から10のいずれか一項に記載の発光装置。
a lens member comprising a first lens portion and a second lens portion;
the first lens section and the second lens section collimate the light emitted from the first semiconductor laser element and the light emitted from the second semiconductor laser element, respectively;
The light emitting device according to any one of claims 6 to 10, wherein the polarization control member changes the polarization direction of light emitted from the lens member.
前記第1半導体レーザ素子及び前記第2半導体レーザ素子から出射した光が通過する透光性の蓋部材をさらに有し、
前記レンズ部材は、前記蓋部材に接合される、請求項11に記載の発光装置。
further comprising a translucent cover member through which the light emitted from the first semiconductor laser element and the second semiconductor laser element passes;
12. The light emitting device according to claim 11, wherein said lens member is bonded to said lid member.
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