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JP7283040B2 - thermoplastic resin film - Google Patents

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JP7283040B2
JP7283040B2 JP2018149155A JP2018149155A JP7283040B2 JP 7283040 B2 JP7283040 B2 JP 7283040B2 JP 2018149155 A JP2018149155 A JP 2018149155A JP 2018149155 A JP2018149155 A JP 2018149155A JP 7283040 B2 JP7283040 B2 JP 7283040B2
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Japan
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film
thermoplastic resin
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resin film
afm
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維允 鈴木
敏弘 千代
卓司 東大路
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Toray Industries Inc
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Toray Industries Inc
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Description

本発明は、表面に特定の形状の微細な突起を有する熱可塑性樹脂フィルムに関するものである。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to a thermoplastic resin film having fine protrusions of a specific shape on its surface.

熱可塑性樹脂はその加工性の良さから、様々な工業分野に利用されている。また、これら熱可塑性樹脂をフィルム状に加工した製品は工業用途、光学製品用途、包装用途など今日の生活において重要な役割を果たしている。近年、電子情報機器において、小型化、高集積化が進み、それに伴って、電子情報機器の作製に用いられるフィルムには加工性の向上が求められている。特に、電子情報機器の作製には、フィルム表面に他の素材を積層させ、フィルムごと加工する手法が多く採られるため、フィルムの加工性向上のためには、フィルムの平滑性を高めることが一般的な手段である。一方で、フィルムの平滑性を高めると、フィルムの易滑性は低下する傾向があるため、加工工程において搬送性が低下し、逆に加工性が低下するという課題があり、フィルムの加工性を向上させることは困難であった。 Thermoplastic resins are used in various industrial fields because of their good workability. Products obtained by processing these thermoplastic resins into films play an important role in today's life, such as industrial applications, optical product applications, and packaging applications. 2. Description of the Related Art In recent years, electronic information equipment has become more compact and highly integrated, and along with this, there is a demand for improved workability of films used in the production of electronic information equipment. In particular, in the production of electronic information equipment, it is common to laminate other materials on the surface of the film and process the entire film. It is a means. On the other hand, increasing the smoothness of the film tends to reduce the slipperiness of the film. It was difficult to improve.

上記の要求に応えるためには、フィルム表面に易滑性と平滑性、さらに加工性を付与する必要があり、例えば特許文献1、2には、フィルムに粒子を含有させることなく易滑性を向上させる技術が開示されている。また、特許文献3には、フィルムに粒子を含有させ、さらに特殊な処理を実施することで易滑性を向上させる技術が開示されている。 In order to meet the above requirements, it is necessary to impart slipperiness, smoothness, and processability to the film surface. Techniques for improving are disclosed. Further, Patent Document 3 discloses a technique for improving slipperiness by incorporating particles into a film and performing a special treatment.

特開2016-175356号公報JP 2016-175356 A 特開2016-221853号公報JP 2016-221853 A 特開2001-354785号公報JP-A-2001-354785

しかしながら、粒子を含有させないと平滑性には優れるものの易滑性が低下する結果、加工性も向上せず、粒子を含有させた場合は、易滑性は満足するが、平滑性に劣る場合があったり、粒子の凝集や粒子の脱落によって加工性が満足されないという問題がある。本発明は上記事情に鑑み、平滑性、易滑性を有し、さらに加工性も向上させた二軸配向熱可塑性樹脂フィルムを提供することを目的とする。 However, if the particles are not contained, although the smoothness is excellent, the slipperiness is reduced, and as a result, the processability is not improved. Otherwise, there is a problem that processability is not satisfied due to aggregation of particles or shedding of particles. In view of the above circumstances, an object of the present invention is to provide a biaxially oriented thermoplastic resin film that has smoothness and lubricity and also improved workability.

上記課題を解決するために、本発明は以下の構成を取る。すなわち、[I]少なくとも片側の表面(A面)が、下記の方法によってAFM(Atomic Force Microscope)で測定されるスライスレベルの最も大きい値をRtop(nm)とした場合、Rtop(nm)が20nm未満であり、かつRtop(nm)以上の突起高さを有する突起の、突起がRtop(nm)以上である面積の平均(Atop)が8nm 以上903nm 以下である、熱可塑性樹脂フィルム。
[AFM測定方法]
装置;Digital Insturuments社製 NanoScope3型 SP
Mコントロールステーション
SPMユニット;原子間力顕微鏡(AFM)
カンチレバー:シリコン単結晶
走査モード:タッピングモード
走査速度:0.8Hz
測定視野:1μm四方
サンプルライン:256
Flatten Auto:オーダー3
サンプル調整:23℃、65%RH、24時間静置
AFM測定環境:23℃、65%RH
上記測定条件によって得られるフィルム表面の画像を、Digital Instur
uments社製 NanoScope3型 SPMコントロールステーションに付属の
解析ソフトを用い、解析する。得られるフィルム表面の画像から、フィルム表面の基準面
が自動的に決定される。該基準面から、突起高さの閾値を1nm、2nm・・・と1nm
ごとに定め、各閾値で得られる突起個数をカウントし、カウントされる突起個数が初めて
0になる閾値から1nm低い閾値をRtop(nm)とする。
場所を変えて20回測定し、平均値でもってRtop(nm)とする。
In order to solve the above problems, the present invention has the following configurations. That is, [I] at least one surface (A surface) is measured by AFM (Atomic Force Microscope) by the following method. is less than 20 nm and the average area (A top ) of R top (nm) or more of the protrusions having a protrusion height of R top (nm) or more is 8 nm 2 or more and 903 nm 2 or less. plastic resin film.
[AFM measurement method]
Apparatus; NanoScope 3 type SP manufactured by Digital Instruments
M Control Station SPM Unit; Atomic Force Microscope (AFM)
Cantilever: Silicon single crystal Scanning mode: Tapping mode Scanning speed: 0.8Hz
Measurement field of view: 1 μm square Sample line: 256
Flatten Auto: Order 3
Sample preparation: 23°C, 65% RH, 24 hours stationary AFM measurement environment: 23°C, 65% RH
The image of the film surface obtained under the above measurement conditions is captured by Digital Instur.
Analysis is performed using the analysis software attached to the NanoScope type 3 SPM control station manufactured by uments. A reference plane of the film surface is automatically determined from the resulting image of the film surface. From the reference plane, the threshold value of the protrusion height is set to 1 nm, 2 nm, and 1 nm.
The number of protrusions obtained at each threshold value is counted, and the threshold value that is 1 nm lower than the threshold value at which the number of protrusions to be counted becomes 0 for the first time is defined as R top (nm).
Measurements are performed 20 times at different locations, and the average value is defined as R top (nm).

場所を変えて20回測定し、平均値でもってRtop(nm)とする。
[II]前記A面が、Rtop(nm)以上の突起高さを有する突起の、突起がRtop(nm)以上である領域の平均面積Atopと、AFMで測定される1nm以上の突起高さを有する突起の、突起が1nm以上である領域の平均面積A1nmの比率(Atop/A1nm× 100)が、0.01~20である、[I]に記載の熱可塑性樹脂フィルム。
[III]前記A面の、Rtopが3nm以上20nm未満である[I]または[II]に記載の熱可塑性樹脂フィルム。
[IV]前記A面の、1nm以上の突起高さを有する突起の個数が、3.0×10個/mm以上である、[I]~[III]のいずれかに記載の熱可塑性樹脂フィルム。
[V]前記A面が、表面硬さが0.5~5.0GPaである、[I]~[IV]のいずれかに記載の熱可塑性樹脂フィルム。
[VI]前記A面を構成する層が、実質的に粒子を含有しない[I]~[V]のいずれかに記載の熱可塑性樹脂フィルム。
Measurements are performed 20 times at different locations, and the average value is defined as R top (nm).
[II] The average area A top of the regions where the protrusions on the A surface have a protrusion height of R top (nm) or more, and the protrusions are R top (nm) or more, and the protrusions of 1 nm or more measured by AFM The thermoplastic resin film according to [I], wherein the ratio of the average area A 1 nm of the regions of the protrusions having a height of 1 nm or more (A top /A 1 nm × 100) is 0.01 to 20. .
[III] The thermoplastic resin film according to [I] or [II], wherein R top of the A side is 3 nm or more and less than 20 nm.
[IV] The thermoplastic according to any one of [I] to [III], wherein the number of projections having a projection height of 1 nm or more on the A side is 3.0×10 8 /mm 2 or more. resin film.
[V] The thermoplastic resin film according to any one of [I] to [IV], wherein the surface A has a surface hardness of 0.5 to 5.0 GPa.
[VI] The thermoplastic resin film according to any one of [I] to [V], wherein the layer constituting the A side does not substantially contain particles.

本発明の二軸配向熱可塑性樹脂フィルムは、優れた平滑性、易滑性を有し、さらに優れた加工性を有する。 The biaxially oriented thermoplastic resin film of the present invention has excellent smoothness and slipperiness, as well as excellent workability.

AFM(Atomic Force Microscope)で測定されるRtop、Atop、A1nmをあらわす概念図である。FIG. 2 is a conceptual diagram showing R top , A top , and A 1 nm measured with an AFM (Atomic Force Microscope).

以下、本発明を詳細に説明する。 The present invention will be described in detail below.

本発明で言う熱可塑性樹脂とは、加熱すると塑性を示す樹脂であり、代表的な樹脂としてはポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンα、β-ジカルボキシレート、P-ヘキサヒドロ・キシリレンテレフタレートからのポリマー、1,4シクロヘキサンジメタノールからのポリマー、ポリ-P-エチレンオキシベンゾエート、ポリアリレート、ポリカーボネートなど及びそれらの共重合体で代表されるように主鎖にエステル結合を有するポリエステル類、更にナイロン6、ナイロン66、ナイロン610、ナイロン12、ナイロン11、などで代表されるように主鎖にアドミ結合を有するポリアミド類、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン酢酸ビニル共重合体、ポリメチルペンテン、ポリブテン、ポリイソブチレン、ポリスチレンなどで代表されるように主としてハイドロカーボンのみからなるポリオレフィン類、ポリエーテルサルフォン(PES)、ポリフェニレンオキサイド(PPO)、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリエチレンオキサイド、ポリプロピレンオキサイド、ポリオキシメチレンなどで代表されるポリエーテル類、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニリデン、ポリクロロトリフルオロエチレンなどで代表されるハロゲン化ポリマー類およびポリフェニレンサルファイド(PPS)、ポリスルフオンおよびそれらの共重合体や変性体、ポリイミドなどである。 The thermoplastic resin referred to in the present invention is a resin that exhibits plasticity when heated. Polyesters having an ester bond in the main chain, as typified by polymers from lentephthalate, polymers from 1,4 cyclohexanedimethanol, poly-P-ethyleneoxybenzoate, polyarylate, polycarbonate, etc., and copolymers thereof , Polyamides, polyethylene, polypropylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, polymethylpentene, polybutene having an admin bond in the main chain, as typified by nylon 6, nylon 66, nylon 610, nylon 12, nylon 11, etc. , polyisobutylene, polystyrene, polyolefins consisting mainly of hydrocarbons, polyether sulfone (PES), polyphenylene oxide (PPO), polyether ether ketone (PEEK), polyethylene oxide, polypropylene oxide, poly Polyethers typified by oxymethylene, halogenated polymers typified by polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinylidene fluoride, polychlorotrifluoroethylene, polyphenylene sulfide (PPS), polysulfone and copolymers thereof These include coalescence, modification, polyimide, and the like.

本発明においては、透明性、製膜性の観点からポリエステル、ポリオレフィン、ポリフェニレンサルファイド(PPS)、ポリイミド(PI)を主成分とすることが好ましく、その中でもポリエステルが更に好ましい。ここでいう主成分とはフィルムの全成分100質量%において、50質量%を超えて100質量%以下含有している成分を示す。 In the present invention, polyester, polyolefin, polyphenylene sulfide (PPS), and polyimide (PI) are preferably used as main components from the viewpoint of transparency and film formability, and among these, polyester is more preferable. The term "main component" as used herein refers to a component contained in an amount of more than 50% by mass and 100% by mass or less in 100% by mass of all components of the film.

また、本発明で言うポリエステルはジカルボン酸構成成分とジオール構成成分を重縮合してなるものである。なお、本明細書内において、構成成分とはポリエステルを加水分解することで得ることが可能な最小単位のことを示す。 The polyester referred to in the present invention is obtained by polycondensation of a dicarboxylic acid component and a diol component. In the present specification, the term "constituent" refers to a minimum unit that can be obtained by hydrolyzing a polyester.

テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、1,4-ナフタレンジカルボン酸、1,5-ナフタレンジカルボン酸、2,6-ナフタレンジカルボン酸、1,8-ナフタレンジカルボン酸、4,4’-ジフェニルジカルボン酸、4,4’-ジフェニルエーテルジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸、もしくはそのエステル誘導体が挙げられる。 terephthalic acid, isophthalic acid, phthalic acid, 1,4-naphthalenedicarboxylic acid, 1,5-naphthalenedicarboxylic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 1,8-naphthalenedicarboxylic acid, 4,4'-diphenyldicarboxylic acid, Aromatic dicarboxylic acids such as 4,4'-diphenyl ether dicarboxylic acid, or ester derivatives thereof can be mentioned.

また、かかるポリエステルを構成するジオール構成成分としては、エチレングリコール、1,2-プロパンジオール、1,3-プロパンジオール、1,4-ブタンジオール、1,2-ブタンジオール、1,3-ブタンジオール等の脂肪族ジオール類、シクロヘキサンジメタノール、スピログリコールなどの脂環式ジオール類、上述のジオールが複数個連なったものなどが挙げられる。中でも、機械特性、透明性の観点から、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレン-2,6-ナフタレンジカルボキシレート(PEN)、およびPETのジカルボン酸成分の一部にイソフタル酸やナフタレンジカルボン酸を共重合したもの、PETのジオール成分の一部にシクロヘキサンジメタノール、スピログリコール、ジエチレングリコールを共重合したポリエステルが好適に用いられる。 Diol constituents constituting such polyesters include ethylene glycol, 1,2-propanediol, 1,3-propanediol, 1,4-butanediol, 1,2-butanediol, and 1,3-butanediol. and alicyclic diols such as cyclohexanedimethanol and spiroglycol, and diols in which a plurality of the above diols are linked. Among them, from the viewpoint of mechanical properties and transparency, polyethylene terephthalate (PET), polyethylene-2,6-naphthalene dicarboxylate (PEN), and isophthalic acid and naphthalene dicarboxylic acid are copolymerized with some of the dicarboxylic acid components of PET. However, polyester obtained by copolymerizing cyclohexanedimethanol, spiroglycol, and diethylene glycol as part of the diol component of PET is preferably used.

本発明の熱可塑性樹脂フィルムは、二軸配向していることが好ましい。二軸配向していることにより、フィルムの機械強度が向上し易滑性を向上させることができる。ここでいう二軸配向とは、広角X線回折で二軸配向のパターンを示すものをいう。二軸配向熱可塑性樹脂フィルムは、一般に未延伸状態の熱可塑性樹脂シートをシート長手方向および幅方向に延伸し、その後熱処理を施し結晶配向を完了させることにより、得ることができる。詳しくは後述する。 The thermoplastic resin film of the present invention is preferably biaxially oriented. By being biaxially oriented, the mechanical strength of the film can be improved and slipperiness can be improved. The term "biaxially oriented" as used herein refers to a pattern showing a biaxially oriented pattern in wide-angle X-ray diffraction. A biaxially oriented thermoplastic resin film can generally be obtained by stretching an unstretched thermoplastic resin sheet in the longitudinal direction and the width direction of the sheet, followed by heat treatment to complete crystal orientation. Details will be described later.

本発明の熱可塑性樹脂フィルムは、少なくとも片側の表面(A面)が、後述の方法によってAFM(Atomic Force Microscope)で測定されるスライスレベルの最も大きい値をRtop(nm)とした場合、Rtop(nm)が20nm未満であり、かつRtop(nm)以上の突起高さを有する突起の、突起がRtop(nm)以上である面積の平均(Atop)が5nm以上1000nm以下である必要がある。本発明におけるRtop(nm)は、フィルム表面に存在する突起の高さを反映している。Rtop(nm)が20nm以上の場合、フィルムをロール状に巻き取った際にフィルムの他の面に欠陥を生じたり、フィルムの表面に他の層を積層する際に突起によって他の層に欠陥を与えたりする結果、加工性が低下する場合がある。また、Rtopが小さい場合、フィルムに突起が存在しないことになり、フィルムの易滑性が悪化する場合がある。Rtop(nm)は、好ましくは3nm以上20nm未満であり、より好ましくは5nm以上15nm以下である。 In the thermoplastic resin film of the present invention, at least one surface (A surface) has the largest slice level measured by AFM (Atomic Force Microscope) by the method described later. The average area ( A top ) of the protrusions having a top (nm) of less than 20 nm and a protrusion height of R top (nm) or more, where the protrusions are R top (nm) or more, is 5 nm 2 or more and 1000 nm 2 or less must be. R top (nm) in the present invention reflects the height of protrusions present on the film surface. If R top (nm) is 20 nm or more, defects may occur on the other surface of the film when the film is wound into a roll, or protrusions may occur on other layers when laminating another layer on the surface of the film. As a result of giving defects, the workability may deteriorate. Moreover, when the R top is small, the film does not have projections, and the slipperiness of the film may be deteriorated. R top (nm) is preferably 3 nm or more and less than 20 nm, more preferably 5 nm or more and 15 nm or less.

本発明におけるAtop(nm)は、フィルム表面に存在する突起の、Rtop(nm)の高さにおける断面積を反映している。フィルムを巻き取る際、A面のAtop(nm)が他の面との接触面積となるため、Atop(nm)の値が1000nmを超える場合、接触面積が大きいために易滑性が低下し、加工工程でシワなどの原因となる場合がある。Atop(nm)は、好ましくは5nm以上500nm以下、更に好ましくは5nm以上100nm以下である。 A top (nm 2 ) in the present invention reflects the cross-sectional area at the height of R top (nm) of protrusions present on the film surface. When winding the film, the A top (nm 2 ) of the A surface becomes the contact area with the other surface. It may cause wrinkles in the processing process. A top (nm 2 ) is preferably 5 nm 2 or more and 500 nm 2 or less, more preferably 5 nm 2 or more and 100 nm 2 or less.

フィルム表面の突起高さを上記の範囲とするための方法は特に限定されないが、例えば、ナノインプリントのようにモールドを用いて表面に形状を転写させる方法、UV照射やアーク放電によるコロナ処理、グロー放電によるプラズマ処理などの表面処理が挙げられる。インラインでの製膜適応性や微細な突起の形成個数の観点からは、UV照射、アーク放電によるコロナ処理、大気圧グロー放電によるプラズマ処理が好ましく、処理の均一性やフィルムへのダメージが少ないことから大気圧グロー放電によるプラズマ処理が更に好ましい。ここでいう大気圧とは700Torr~780Torrの範囲である。 The method for making the protrusion height on the film surface within the above range is not particularly limited, but for example, a method of transferring a shape to the surface using a mold such as nanoimprinting, corona treatment by UV irradiation or arc discharge, and glow discharge. surface treatment such as plasma treatment with UV irradiation, corona treatment by arc discharge, and plasma treatment by atmospheric pressure glow discharge are preferable from the viewpoint of in-line film forming adaptability and the number of fine protrusions to be formed. Plasma treatment by atmospheric pressure glow discharge is more preferable. The atmospheric pressure here is in the range of 700 Torr to 780 Torr.

大気圧グロー放電処理は、相対する電極とアースロール間に処理対象のフィルムを導き、装置中にプラズマ励起性気体を導入し、電極間に高周波電圧を印加することにより、該気体をプラズマ励起させ電極間においてグロー放電を行うものである。これによりフィルム表面が微細にアッシングされ突起が形成する。 In the atmospheric pressure glow discharge treatment, the film to be treated is guided between the facing electrodes and the earth roll, a plasma-exciting gas is introduced into the apparatus, and a high-frequency voltage is applied between the electrodes to excite the gas into plasma. Glow discharge is performed between electrodes. As a result, the film surface is finely ashed to form projections.

プラズマ励起性気体とは前記のような条件においてプラズマ励起されうる気体をいう。プラズマ励起性気体としては、例えば、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン等の希ガス、窒素、二酸化炭素、酸素、またはテトラフルオロメタンのようなフロン類およびそれらの混合物などが挙げられる。また、プラズマ励起性気体は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の混合比で組み合わせてもよい。プラズマ処理における高周波電圧の周波数は1kHz~100kHzの範囲が好ましい。また、以下方法で求められる放電処理強度(E値)は、10~2000W・min/mの範囲で処理することが突起形成の観点から好ましく、より好ましくは40~500W・min/mである。放電処理強度(E値)が低すぎると、突起が十分に形成されない場合があり、放電処理強度(E値)が高すぎると、熱可塑性樹脂フィルムにダメージを与えてしまう、または、アッシングが進行し、好ましい突起が形成されない場合がある。
<放電処理強度(E値)の求め方>
E=Vp×Ip/(S×Wt)
E:E値(W・min/m
Vp:印加電圧(V)
Ip:印加電流(A)
S:処理速度(m/min)
Wt:処理幅(m)
本発明の熱可塑性樹脂フィルムに上記の表面処理を施す場合、表面処理時のフィルムの表面温度を150℃以下にすることが好ましい。更に好ましくは100℃以下、最も好ましくは50℃以下である。表面温度が150℃よりも大きいとフィルムの結晶化が進行し、表面に粗大突起が形成したり、アッシングが進行しない場合がある。一方、フィルムの表面温度が低すぎると、アッシングが起こりにくく、好ましい突起が形成されにくい場合があるため、表面温度は10℃以上、より好ましくは15℃以上、更に好ましくは25℃以上にすることが好ましい。また、表面処理温度は処理面と反対側の面を冷却ロール等で冷却することで調整することができる。
A plasma-excitable gas is a gas that can be plasma-excited under the conditions described above. Examples of plasma-exciting gases include rare gases such as argon, helium, neon, krypton and xenon, nitrogen, carbon dioxide, oxygen, fluorocarbons such as tetrafluoromethane, and mixtures thereof. Moreover, one type of plasma-excitable gas may be used alone, or two or more types may be combined in an arbitrary mixing ratio. The frequency of the high frequency voltage in plasma processing is preferably in the range of 1 kHz to 100 kHz. In addition, the discharge treatment intensity (E value) obtained by the following method is preferably in the range of 10 to 2000 W min/m 2 from the viewpoint of forming protrusions, more preferably 40 to 500 W min/m 2 . be. If the discharge treatment strength (E value) is too low, protrusions may not be formed sufficiently, and if the discharge treatment strength (E value) is too high, the thermoplastic resin film will be damaged or ashing will progress. However, there are cases where desirable projections are not formed.
<How to obtain the discharge treatment intensity (E value)>
E=Vp×Ip/(S×Wt)
E: E value (W min/m 2 )
Vp: applied voltage (V)
Ip: applied current (A)
S: processing speed (m/min)
Wt: processing width (m)
When the thermoplastic resin film of the present invention is subjected to the above surface treatment, the surface temperature of the film during the surface treatment is preferably 150° C. or lower. It is more preferably 100° C. or lower, most preferably 50° C. or lower. If the surface temperature is higher than 150° C., crystallization of the film may proceed, forming coarse protrusions on the surface, and ashing may not proceed. On the other hand, if the surface temperature of the film is too low, ashing may occur with difficulty, and preferable protrusions may be difficult to form. is preferred. Also, the surface treatment temperature can be adjusted by cooling the surface opposite to the treated surface with a cooling roll or the like.

また、本発明の熱可塑性樹脂フィルムは、前記A面が、Rtop(nm)以上の突起高さを有する突起の、突起がRtop(nm)以上である領域の平均面積Atopと、AFMで測定される1nm以上の突起高さを有する突起の、突起が1nm以上である領域の平均面積A1nmの比率(Atop/A1nm× 100)が、0.01~20であることが好ましい。 Further, in the thermoplastic resin film of the present invention, the A surface has an average area A top of the protrusions having a protrusion height of R top (nm) or more, and the average area A top of the region where the protrusions are R top (nm) or more. The ratio of the average area A 1 nm of the regions where the protrusions are 1 nm or more (A top /A 1 nm × 100) is preferably 0.01 to 20. .

top/A1nm × 100が大きく、20を超える場合、前記A面が、1nmの高さの突起が存在しない、Rtop(nm)の高さのときの突起の径と1nmの高さのときの突起の径が大きく変わらない、あるいはRtop(nm)の高さを持つ突起の形状が、突起の高さが高くなるにつれ径が大きくなることを表している。1nmの高さの突起が存在しない場合、A面の、Rtop(nm)よりフィルム表面に近いところでフィルム同士が接する際に、摩擦力が大きくなり、易滑性が低下する場合がある。Rtop(nm)の高さのときの突起の径と1nmの高さのときの突起の径が大きく変わらない、あるいはRtop(nm)の高さを持つ突起の形状が、突起の高さが高くなるにつれ径が大きくなる場合、A面のRtop(nm)でフィルム同士が接する際に、接触部分が大きくなり、易滑性が低下する場合がある。Atop/A1nm× 100は、より好ましくは10以下である。一方、Atop/A1nm× 100が小さい場合、前記A面が、Rtop(nm)の高さを持つ突起の形状が細いことを表している。Rtop(nm)の高さを持つ突起の形状が細い場合、他のフィルムと接触することで突起が削れ、本発明を用いる加工工程を汚染する場合がある。より好ましくは0.1以上であり、更に好ましくは1以上である。なお、AFMで測定されるRtop、Atop、A1nmをあらわす概念図を図1に示す。図1中、基準面とは、測定表面における基準面からの距離が0となるように定められる高さである(基準面よりも高い場合は正の値、基準面よりも低い場合は負の値となる)。 When A top /A 1 nm × 100 is large and exceeds 20, the A surface has a projection diameter of R top (nm) at a height of 1 nm and a height of 1 nm, at which no projections of 1 nm height are present. The diameter of the protrusion does not change greatly at that time, or the shape of the protrusion having a height of R top (nm) indicates that the diameter increases as the height of the protrusion increases. In the absence of protrusions with a height of 1 nm, when the films come into contact with each other at a position closer to the film surface than R top (nm) on the A side, the frictional force increases and the lubricity may decrease. The diameter of the protrusion with a height of R top (nm) and the diameter of the protrusion with a height of 1 nm are not significantly different, or the shape of the protrusion with a height of R top (nm) is different from the height of the protrusion. When the diameter increases as the R.sub.top increases, when the films come into contact with each other at R.sub.top (nm) of the A surface, the contact area increases and the lubricity may decrease. A top /A 1 nm × 100 is more preferably 10 or less. On the other hand, when A top /A 1 nm × 100 is small, it means that the A surface has thin protrusions having a height of R top (nm). If the shape of the protrusions having a height of R top (nm) is thin, the protrusions may be scraped off by contact with other films, contaminating the processing steps using the present invention. It is more preferably 0.1 or more, and still more preferably 1 or more. FIG. 1 shows a conceptual diagram showing R top , A top , and A 1 nm measured by AFM. In FIG. 1, the reference plane is the height determined so that the distance from the reference plane on the measurement surface is 0 (positive value if higher than the reference plane, negative value if lower than the reference plane) value).

また、本発明の熱可塑性樹脂フィルムは、前記A面の、1nm以上の突起高さを有する突起の個数が、3.0×10個/mm以上であることが好ましい。1nm以上の突起高さを有する突起の個数が多いことで、A面に他の層を積層させる場合、例えばコーティングによって離型層や接着層、感光性樹脂層を設ける場合、微細な表面の毛細管現象により、A面全体に他の層が広がりやすく、欠点の発生を抑制でき、加工性が向上する。前記A面の、1nm以上の突起高さを有する突起の個数は、より好ましくは4.0×10個/mm以上1.0×1010個/mm以下である。 Further, in the thermoplastic resin film of the present invention, the number of protrusions having a protrusion height of 1 nm or more on the A side is preferably 3.0×10 8 /mm 2 or more. Due to the large number of protrusions having a protrusion height of 1 nm or more, when another layer is laminated on the A side, for example, when a release layer, an adhesive layer, or a photosensitive resin layer is provided by coating, fine surface capillaries Due to this phenomenon, other layers tend to spread over the entire A surface, the occurrence of defects can be suppressed, and workability is improved. The number of projections having a projection height of 1 nm or more on the A side is more preferably 4.0×10 8 pieces/mm 2 or more and 1.0×10 10 pieces/mm 2 or less.

本発明の熱可塑性樹脂フィルムの、A面におけるRtop(nm)、Atop/A1nm× 100、1nm以上の突起高さを有する突起の個数を好ましい範囲とするためには、大気圧グロー放電処理により本発明のA面を形成する場合、後述する製膜方法におけるキャストドラムの温度を制御すること、フィルムを構成する熱可塑性樹脂の結晶性を制御することなどが挙げられる。 R top (nm), A top /A 1 nm × 100 on the A side of the thermoplastic resin film of the present invention, and in order to make the number of protrusions having a protrusion height of 1 nm or more within a preferable range, atmospheric pressure glow discharge When the surface A of the present invention is formed by treatment, control of the temperature of a cast drum in the film forming method described below, control of the crystallinity of the thermoplastic resin constituting the film, and the like can be mentioned.

一般的に、大気圧グロー放電処理によって熱可塑性樹脂フィルムの未延伸のフィルム、とくにPETやPENのように、未延伸のフィルムにおいても、結晶性が高い部分(結晶構造における分子鎖のコンフォメーションを有する部分、以下、結晶性部分と称することがある)とそうでない部分(以下、非晶性部分と称することがある)を持つフィルムの表面をアッシングする場合、柔らかい非晶性部分からアッシングされていく。結晶性部分と非晶性部分を細分化させることで、大気圧グロー放電処理することでより微細な突起を形成することができ、また、結晶性部分を増やしておくことで柔らかい非晶性部分が深く削れることで突起高さを高くすることが可能となる。例えば、熱可塑性樹脂の結晶性部分について、後述する製膜方法におけるキャストドラムの温度を上げて微細な結晶を作ったり、熱可塑性樹脂中に結晶化促進剤などを含有せしめることで結晶性を高めると、Rtop(nm)は大きく、Atop/A1nm× 100は小さく、1nm以上の突起高さを有する突起の個数は大きくなる傾向にある。本発明の熱可塑性樹脂フィルムは、分子配向計によって測定される、15GHzでの共振周波数のQ値(Quality factor)の値が、4.2×10以上6.0×10以下であることが好ましい。共振周波数のQ値は、一般的に大きい方が振動が安定であり、樹脂中においては、樹脂を二軸配向せしめ、分子鎖の配向が揃っているほど高い値となる。Q値を上記の範囲とすることで、大気圧グロー放電処理する際、好ましい形状の微細突起を形成せしめることが容易となる。Q値を上記の範囲とする方法は、結晶性部分と非晶性部分を有する熱可塑性樹脂からなる未延伸フィルムを、面積倍率10倍以上25倍以下で延伸し、熱可塑性樹脂の延伸温度以下で熱処理する方法が挙げられる。 In general, unstretched films of thermoplastic resin films, especially PET and PEN, are treated by atmospheric pressure glow discharge treatment, and even in unstretched films, portions with high crystallinity (conformation of molecular chains in the crystal structure) When ashing the surface of a film that has a portion with crystals (hereinafter sometimes referred to as a crystalline portion) and a portion without (hereinafter sometimes referred to as an amorphous portion), the soft amorphous portion is ashed first. go. By subdividing the crystalline part and the amorphous part, finer protrusions can be formed by atmospheric pressure glow discharge treatment, and by increasing the crystalline part, the soft amorphous part can be obtained. It is possible to increase the height of the protrusion by shaving deeply. For example, with regard to the crystalline portion of the thermoplastic resin, crystallinity is enhanced by raising the temperature of the cast drum in the film forming method described later to create fine crystals, or by adding a crystallization accelerator or the like to the thermoplastic resin. , R top (nm) tends to be large, A top /A 1 nm × 100 is small, and the number of protrusions having a protrusion height of 1 nm or more tends to increase. The thermoplastic resin film of the present invention has a Q value (Quality factor) of resonance frequency at 15 GHz measured by a molecular orientation meter of 4.2×10 3 or more and 6.0×10 3 or less. is preferred. Generally, the larger the Q value of the resonance frequency, the more stable the vibration. In the resin, the Q value becomes higher as the resin is biaxially oriented and the orientation of the molecular chains is aligned. By setting the Q value within the above range, it becomes easy to form fine projections having a preferable shape during atmospheric pressure glow discharge treatment. In the method of setting the Q value in the above range, an unstretched film made of a thermoplastic resin having a crystalline portion and an amorphous portion is stretched at an area magnification of 10 times or more and 25 times or less, and the temperature is below the stretching temperature of the thermoplastic resin. and heat treatment.

また、フィルムを構成する熱可塑性樹脂中に他の熱可塑性樹脂成分をナノ分散させることで、Rtop(nm)は大きくなる傾向にある。また、大気圧グロー放電処理の強度や、大気圧グロー放電処理の際に用いるプラズマ励起性気体の活性を上げることも有効な手段である。 Also, by nano-dispersing other thermoplastic resin components in the thermoplastic resin constituting the film, R top (nm) tends to increase. It is also an effective means to increase the strength of the atmospheric pressure glow discharge treatment and the activity of the plasma-exciting gas used in the atmospheric pressure glow discharge treatment.

本発明の熱可塑性樹脂フィルムの、A面の表面硬さは0.5~5.0GPaであることが好ましい。0.5GPaに満たない場合、フィルムが柔らかく、フィルム面同士でくっつきやすく易滑性が悪化する場合がある。5.0GPaを超える場合は、フィルム表面が硬く、加工性に劣る場合がある。より好ましくは2.0~5.0GPaである。 The surface hardness of the A side of the thermoplastic resin film of the present invention is preferably 0.5 to 5.0 GPa. If it is less than 0.5 GPa, the film may be soft and the film surfaces may easily stick to each other, resulting in poor lubricity. If it exceeds 5.0 GPa, the film surface may be hard and poor in workability. More preferably, it is 2.0 to 5.0 GPa.

本発明の熱可塑性樹脂フィルムの、固有粘度(IV)は、0.55以上、より好ましくは0.75以上である。IVは、分子鎖の長さを反映した数字であり、分子鎖が長い方が、同一分子鎖の中で結晶部と非晶部を明確に形成しやすいため、大気圧グロー放電処理することでより微細な突起を形成することが容易となるため好ましい。 The thermoplastic resin film of the present invention has an intrinsic viscosity (IV) of 0.55 or more, more preferably 0.75 or more. IV is a number that reflects the length of the molecular chain, and the longer the molecular chain, the easier it is to clearly form a crystalline part and an amorphous part in the same molecular chain. This is preferable because it facilitates formation of finer protrusions.

本発明の熱可塑性樹脂フィルムの、A面の表面自由エネルギー(mN/m)は、40以上48以下であることが好ましい。より好ましくは43以上45以下である。48を超える場合、あるいは40を下回る場合、A面に他の層を積層させる場合に密着性が悪く、欠点となる場合がある。フィルム表面に大気圧グロー放電処理し、その後熱処理する工程を含む後述の製膜方法では、大気圧グロー放電処理によるアッシングで形成された官能基が、熱処理によって活性を失うことで表面自由エネルギーを好ましい範囲とすることができる。 The surface free energy (mN/m) of the A side of the thermoplastic resin film of the present invention is preferably 40 or more and 48 or less. It is more preferably 43 or more and 45 or less. If it is more than 48 or less than 40, adhesion may be poor when another layer is laminated on the A side, which may be a drawback. In the film forming method described later, which includes the step of subjecting the film surface to atmospheric pressure glow discharge treatment and then heat treatment, the functional groups formed by ashing by the atmospheric pressure glow discharge treatment lose their activity due to the heat treatment, thereby reducing the surface free energy. can be a range.

本発明の熱可塑性樹脂フィルムは、後述する測定条件におけるA面と金属との摩擦係数が、0.20μk以上0.55μk以下であることが好ましい。より好ましくは0.20μk以上0.35μk以下である。0.55μkを超える場合、易滑性が十分でなく、本発明のフィルムを加工することができない。0.20μkを下回る場合、本発明のフィルムを巻き取る際に巻きズレが生じる場合がある。 The thermoplastic resin film of the present invention preferably has a coefficient of friction between the A surface and the metal under the measurement conditions described below of 0.20 μk or more and 0.55 μk or less. It is more preferably 0.20 μk or more and 0.35 μk or less. If it exceeds 0.55 μk, the film of the present invention cannot be processed due to insufficient lubricity. If it is less than 0.20 μk, winding misalignment may occur when winding the film of the present invention.

本発明の熱可塑性樹脂フィルムは、本発明の特性を損なわない範囲で、有機粒子または無機粒子、あるいはその両方を含有しても構わないが、本発明の特性を最大限得るためには、前記のA面を構成する層が実質的に粒子を含有しないことが好ましい。実質的に粒子を含有しないとは、熱可塑性樹脂に対する粒子の含有量が1000ppm以下であることを表す。より好ましくは500ppm以下、さらに好ましくは50ppm以下、最も好ましくは10ppm以下である。 The thermoplastic resin film of the present invention may contain organic particles, inorganic particles, or both as long as the properties of the present invention are not impaired. It is preferred that the layer constituting the A side of is substantially free of particles. "Substantially free of particles" means that the content of particles relative to the thermoplastic resin is 1000 ppm or less. It is more preferably 500 ppm or less, still more preferably 50 ppm or less, and most preferably 10 ppm or less.

本発明の熱可塑性樹脂フィルムは、単層フィルムであっても2層以上の積層フィルムであってもよい。2層以上の積層フィルムである場合、製膜時のキズ付きを防止したり、延伸時の摩耗性を向上させる目的で、A面を構成する層以外の層に、本発明の特性を損なわない範囲で粒子を含有せしめても良い。 The thermoplastic resin film of the present invention may be a single layer film or a laminated film of two or more layers. In the case of a laminated film of two or more layers, for the purpose of preventing scratches during film formation and improving abrasion resistance during stretching, layers other than the layer constituting the A side are added without impairing the characteristics of the present invention. Particles may be contained within a range.

本発明の熱可塑性樹脂フィルムは、厚みは10μm以上500μm以下であることが好ましく、10μm以上40μm以下であることがより好ましい。特に好ましくは15μm以上20μm以下である。40μmを超える場合は、フィルムの光透過性などの光学特性が劣る場合がある。10μmに満たない場合には、フィルムを各種用途に用いる際の工程で熱がかかる場合に、平面性が悪くなる場合がある。 The thermoplastic resin film of the present invention preferably has a thickness of 10 μm or more and 500 μm or less, more preferably 10 μm or more and 40 μm or less. Particularly preferably, it is 15 μm or more and 20 μm or less. If it exceeds 40 μm, optical properties such as light transmittance of the film may be deteriorated. If the thickness is less than 10 μm, the flatness may deteriorate when heat is applied in the process of using the film for various purposes.

次に、本発明の熱可塑性樹脂フィルムの製造方法について、二軸配向ポリエステルフィルムを例に挙げて説明するが、本発明は、かかる例によって得られる物のみに限定して解釈されるものではない。 Next, the method for producing a thermoplastic resin film of the present invention will be described by taking a biaxially oriented polyester film as an example, but the present invention should not be construed as being limited only to the products obtained by such examples. .

本発明に用いられるポリエステルを得る方法としては、常法による重合方法が採用できる。例えば、テレフタル酸等のジカルボン酸成分またはそのエステル形成性誘導体と、エチレングリコール等のジオール成分またはそのエステル形成性誘導体とを公知の方法でエステル交換反応あるいはエステル化反応させた後、溶融重合反応を行うことによって得ることができる。また、必要に応じ、溶融重合反応で得られたポリエステルを、ポリエステルの融点温度以下にて、固相重合反応を行っても良い。 As a method for obtaining the polyester used in the present invention, a conventional polymerization method can be employed. For example, a dicarboxylic acid component such as terephthalic acid or an ester-forming derivative thereof and a diol component such as ethylene glycol or an ester-forming derivative thereof are transesterified or esterified by a known method, and then subjected to a melt polymerization reaction. You can get it by doing. Moreover, if necessary, the polyester obtained by the melt polymerization reaction may be subjected to a solid phase polymerization reaction at a temperature not higher than the melting point temperature of the polyester.

本発明のポリエステルフィルムは、従来公知の製造方法で得ることが出来るが、延伸、熱処理工程を以下の条件で製造することにより、A面を上述の通り好ましい物性を持つ表面とすることができる。 The polyester film of the present invention can be obtained by a conventionally known production method, and the A side can be made to have the preferred physical properties as described above by carrying out the stretching and heat treatment steps under the following conditions.

本発明のポリエステルフィルムは、必要に応じて乾燥した原料を押出機内で加熱溶融し、口金から冷却したキャストドラム上に押し出してシート状に加工する方法(溶融キャスト法)を使用することができる。その他の方法として、原料を溶媒に溶解させ、その溶液を口金からキャストドラム、エンドレスベルト等の支持体上に押し出して膜状とし、次いでかかる膜層から溶媒を乾燥除去させてシート状に加工する方法(溶液キャスト法)等も使用することができる。 For the polyester film of the present invention, a method (melt casting method) of heating and melting a dried raw material in an extruder and extruding it from a nozzle onto a cooled cast drum to process it into a sheet can be used. As another method, the raw material is dissolved in a solvent, the solution is extruded from a die onto a support such as a cast drum or an endless belt to form a film, and then the solvent is removed from the film layer by drying to form a sheet. A method (solution casting method) or the like can also be used.

2層以上の積層ポリエステルフィルムを溶融キャスト法により製造する場合、積層ポリエステルフィルムを構成する層毎に押出機を用い、各層の原料を溶融せしめ、これらを押出装置と口金の間に設けられた合流装置にて溶融状態で積層したのち口金に導き、口金からキャストドラム上に押し出してシート状に加工する方法が好適に用いられる。該積層シートは、表面温度20℃以上60℃以下に冷却されたドラム上で静電気により密着冷却固化し、未延伸シートを作製する。キャストドラムの温度は、より好ましくは25℃以上60℃以下、さらに好ましくは40℃以上55℃以下である。20℃以下ではプラズマを照射し、二軸延伸した後のフィルム表面の突起形成が十分でない場合がある。60℃を超えると、キャストドラムにフィルムが貼り付き、未延伸シートを得ることが困難になる場合がある。 When producing a laminated polyester film of two or more layers by a melt casting method, an extruder is used for each layer constituting the laminated polyester film, the raw materials of each layer are melted, and these are combined into a confluence provided between the extrusion device and the nozzle. It is preferable to use a method in which the melted layers are laminated in an apparatus, then guided to a spinneret, extruded from the spinneret onto a cast drum, and processed into a sheet. The laminated sheet is adhered and solidified by static electricity on a drum cooled to a surface temperature of 20° C. or higher and 60° C. or lower to produce an unstretched sheet. The temperature of the casting drum is more preferably 25° C. or higher and 60° C. or lower, and still more preferably 40° C. or higher and 55° C. or lower. If the temperature is 20° C. or lower, formation of projections on the surface of the film may not be sufficient after the film is irradiated with plasma and biaxially stretched. If it exceeds 60°C, the film may stick to the cast drum, making it difficult to obtain an unstretched sheet.

次いで、ここで得られた未延伸フィルムにナノインプリントのようにモールドを用いて表面に形状を転写させる方法、紫外光照射やアーク放電によるコロナ処理、グロー放電によるプラズマ処理などの表面処理を施す。これらの表面処理は未延伸フィルムを得た直後でも、微延伸を施した後でも、縦および/又は横方向に延伸した後でも良いが、本発明では未延伸フィルムに表面処理することが好ましい。また、表面処理を施す面はキャストドラムに接していた面(ドラム面)でもキャストドラムに接していない面(非ドラム面)のいずれでも良い。その際、表面処理を施すフィルム面の表面温度が高くなりすぎないよう制御する。 Next, the unstretched film obtained here is subjected to a surface treatment such as a method of transferring a shape to the surface using a mold like nanoimprint, a corona treatment by ultraviolet light irradiation or arc discharge, or a plasma treatment by glow discharge. These surface treatments may be performed immediately after obtaining an unstretched film, after slightly stretching the film, or after stretching in the longitudinal and/or transverse directions. In the present invention, the unstretched film is preferably surface-treated. The surface to be surface-treated may be either the surface in contact with the cast drum (drum surface) or the surface not in contact with the cast drum (non-drum surface). At that time, the surface temperature of the film surface to be surface-treated is controlled so that it does not become too high.

その後、必要に応じて延伸フィルムを二軸延伸し、二軸配向せしめる。延伸方法としては、逐次二軸延伸法又は同時二軸延伸法を用いることができる。最初に長手方向、次に幅方向の延伸を行う逐次二軸延伸法が、延伸破れなく本発明フィルムを得るのに有効である。 Thereafter, the stretched film is biaxially stretched and biaxially oriented as necessary. As a stretching method, a sequential biaxial stretching method or a simultaneous biaxial stretching method can be used. A sequential biaxial stretching method in which stretching is first carried out in the longitudinal direction and then in the width direction is effective in obtaining the film of the present invention without stretching breakage.

二軸延伸においては、面積倍率(長手方向の延伸倍率×幅方向の延伸倍率)を10倍以上25倍以下、より好ましくは15倍以上20倍以下にすることが好ましい。延伸工程を経て、二軸配向せしめることにより、未延伸フィルムに付与した形状が細分化し、より好ましい突起形状、特に1nm以上の突起高さを有する突起の個数を好ましい範囲とすることができる。面積倍率が10倍に満たない場合、1nm以上の突起高さを有する突起の個数が少なくなったり、Atop(nm)が大きくなる場合がある。面積倍率が25倍を超える場合、延伸による破れが生じやすくなる。 In the biaxial stretching, the area ratio (stretch ratio in the longitudinal direction×stretch ratio in the width direction) is preferably 10 times or more and 25 times or less, more preferably 15 times or more and 20 times or less. By biaxially orienting the film through the stretching step, the shape imparted to the unstretched film is subdivided, and a more preferable protrusion shape, particularly the number of protrusions having a protrusion height of 1 nm or more, can be set within a preferable range. If the area magnification is less than 10 times, the number of protrusions having a protrusion height of 1 nm or more may decrease, or Atop (nm) may increase. If the area magnification exceeds 25 times, the film is likely to break due to stretching.

二軸延伸により二軸配向せしめた後、熱処理することも好ましい実施形態である。熱処理する温度は、使用する熱可塑性樹脂の融点-40℃以上融点以下であることが好ましい。使用する熱可塑性樹脂がPETやPENなどの結晶性ポリエステルであり、かつ未延伸フィルムへの形状付与を、大気圧グロー放電処理のアッシング効果にて実施する場合、アッシング処理によって残存する結晶性部分が延伸によって細分化され、さらに熱処理によって該部分を核として結晶成長し、突起形状を好ましい形状とすることができる。熱処理する温度が融点-40℃に満たない場合は、結晶成長が十分でない場合があり、融点を超える場合は突起が融解することがある。 Heat treatment is also a preferred embodiment after biaxially oriented by biaxial stretching. The heat treatment temperature is preferably from the melting point of the thermoplastic resin used -40° C. or higher to the melting point or lower. When the thermoplastic resin to be used is a crystalline polyester such as PET or PEN, and the shape is imparted to the unstretched film by the ashing effect of the atmospheric pressure glow discharge treatment, the crystalline portion remaining after the ashing treatment is It is subdivided by stretching, and further by heat treatment, crystals grow with the portions as nuclei, and the protrusions can be formed into a desired shape. If the heat treatment temperature is less than the melting point -40°C, crystal growth may not be sufficient, and if it exceeds the melting point, the projections may melt.

[特性の評価方法]
A.AFM(Atomic Force Microscope)による評価
(i)Rtop(nm)
以下の測定方法によって得られるフィルム表面の画像を、付属の解析ソフトを用い、解析する。得られるフィルム表面の画像から、フィルム表面の基準面が自動的に決定される。該基準面から、突起高さの閾値を1nm、2nm・・・と1nmごとに定め、各閾値で得られる突起個数をカウントし、カウントされる突起個数が初めて0になる閾値から1nm低い閾値をRtop(nm)とする。
(ii)Atop(nm
付属の解析ソフトにて算出される、閾値Rtop(nm)での突起の平均面積をAtop(nm)とする。
(iii)Atop/A1nm×100
付属の解析ソフトにて算出される、閾値1nmでの突起の平均面積をA1nm(nm)とし、Atop/A1nm×100として、算出する。
(iv)1nm以上の突起高さを有する突起の個数(個/mm
付属の解析ソフトにて、閾値1nmで得られる突起個数をカウントし、1平方ミリメートルあたりの値に換算して、1nm以上の突起高さを有する突起の個数とする。
[AFM測定方法]
装置;Digital Insturuments社製 NanoScope3型 SPMコントロールステーション
SPMユニット;原子間力顕微鏡(AFM)
カンチレバー:シリコン単結晶
走査モード:タッピングモード
走査速度:0.8Hz
測定視野:1μm四方
サンプルライン:256
Flatten Auto:オーダー3
サンプル調整:23℃、65%RH、24時間静置
AFM測定環境:23℃、65%RH
場所を変えて20回測定し、その平均値を求める。
[Method for evaluating properties]
A. Evaluation by AFM (Atomic Force Microscope) (i) R top (nm)
An image of the film surface obtained by the following measurement method is analyzed using the attached analysis software. A reference plane of the film surface is automatically determined from the resulting image of the film surface. From the reference plane, the threshold value of the protrusion height is determined for each 1 nm, 2 nm, etc., and the number of protrusions obtained at each threshold value is counted. Let R top (nm).
(ii) A top (nm 2 )
Let A top (nm 2 ) be the average area of the protrusions at the threshold value R top (nm) calculated by the attached analysis software.
(iii) A top /A 1 nm × 100
The average area of protrusions at a threshold value of 1 nm calculated by the attached analysis software is defined as A 1 nm (nm 2 ), and calculated as A top /A 1 nm ×100.
(iv) Number of projections having a projection height of 1 nm or more (pieces/mm 2 )
The attached analysis software counts the number of projections obtained at a threshold of 1 nm, converts it into a value per square millimeter, and determines the number of projections having a height of 1 nm or more.
[AFM measurement method]
Apparatus; NanoScope 3 type SPM control station SPM unit manufactured by Digital Instruments; atomic force microscope (AFM)
Cantilever: Silicon single crystal Scanning mode: Tapping mode Scanning speed: 0.8Hz
Measurement field of view: 1 μm square Sample line: 256
Flatten Auto: Order 3
Sample preparation: 23°C, 65% RH, 24 hours stationary AFM measurement environment: 23°C, 65% RH
Change the location and measure 20 times, and find the average value.

B.金属摩擦係数(μk)
フィルム幅を12.65mmのテープ状にスリットしたものをテープ走行試験機SFT-700型((株)横浜システム研究所製)を使用し、23℃65%RH雰囲気下にて、フィルムに荷重100gをかけた状態で走行させ、走行後の摩擦係数(μk)を下記の式より求めた。なお、測定するフィルム表面がガイドに接するようにセットし、5回の測定の平均値から求めた。
B. Metal friction coefficient (μk)
A tape running tester SFT-700 type (manufactured by Yokohama System Laboratory Co., Ltd.) is used to slit the film into a tape shape with a width of 12.65 mm, and a load of 100 g is applied to the film in an atmosphere of 23 ° C. and 65% RH. The friction coefficient (μk) after running was obtained from the following formula. The surface of the film to be measured was set so as to be in contact with the guide, and the average value of five measurements was obtained.

μk=2/πln(T/T
:張力荷重(100gf)
:走行中の張力
ガイド径:6mmΦ
ガイド材質:SUS27(表面粗度0.2S)
巻き付け角:90°
走行距離:10cm
走行速度:3.3cm/秒
C.厚み(μm)
フィルム厚みは、ダイヤルゲージを用い、JIS K7130(1992年)A-2法に準じて、フィルムを10枚重ねた状態で任意の5ヶ所について厚さを測定した。その平均値を10で除してフィルム厚みとした。
μk=2/πln( T2 / T1 )
T 1 : tension load (100 gf)
T 2 : Tension guide diameter during running: 6mmΦ
Guide material: SUS27 (surface roughness 0.2S)
Winding angle: 90°
Mileage: 10cm
Running speed: 3.3 cm/sec C.I. Thickness (μm)
The thickness of the film was measured using a dial gauge in accordance with JIS K7130 (1992) A-2 method, with 10 sheets of the film stacked at five arbitrary points. The average value was divided by 10 to obtain the film thickness.

フィルムが積層フィルムである場合、下記の方法にて、各層の厚みを求めた。フィルム断面を、フィルム幅方向に平行な方向にミクロトームで切り出す。該断面を走査型電子顕微鏡で5000倍の倍率で観察し、積層各層の厚み比率を求める。求めた積層比率と上記したフィルム厚みから、各層の厚みを算出する。 When the film was a laminated film, the thickness of each layer was determined by the following method. A cross section of the film is cut out with a microtome in a direction parallel to the width direction of the film. The cross section is observed with a scanning electron microscope at a magnification of 5000 times to determine the thickness ratio of each laminated layer. The thickness of each layer is calculated from the obtained lamination ratio and the film thickness described above.

D.フィルムの固有粘度IV(dl/g)
オルトクロロフェノール100mlに本発明のフィルムを溶解させ(溶液濃度C=1.2g/dl)、その溶液の25℃での粘度を、オストワルド粘度計を用いて測定する。また、同様に溶媒の粘度を測定する。得られた溶液粘度、溶媒粘度を用いて、下記(a)式により、[η](dl/g)を算出し、得られた値でもって固有粘度(IV)とする。
(a)ηsp/C=[η]+K[η]・C
(ここで、ηsp=(溶液粘度(dl/g)/溶媒粘度(dl/g))―1、Kはハギンス定数(0.343とする)である。)。
D. Film intrinsic viscosity IV (dl/g)
The film of the present invention is dissolved in 100 ml of orthochlorophenol (solution concentration C=1.2 g/dl), and the viscosity of the solution at 25° C. is measured using an Ostwald viscometer. Also, the viscosity of the solvent is measured in the same manner. Using the obtained solution viscosity and solvent viscosity, [η] (dl/g) is calculated according to the following formula (a), and the obtained value is taken as the intrinsic viscosity (IV).
(a) ηsp/C=[η]+K[η] 2・C
(Here, ηsp=(solution viscosity (dl/g)/solvent viscosity (dl/g))−1, K is the Huggins constant (assumed to be 0.343)).

E.A面の表面自由エネルギー(mN/m)
サンプルを室温23℃湿度65%の雰囲気中において、24時間放置後、その雰囲気下で接触角計CA-D型(協和界面科学(株)社製)を用い、JIS K6768に基づき、水、エチレングリコール、ホルムアミド、ヨウ化メチレンのフィルムに対する接触角から分散力、極性力、水素結合力の合計として算出する。
E. Surface free energy of A surface (mN/m)
After leaving the sample in an atmosphere of room temperature 23° C. and humidity 65% for 24 hours, using a contact angle meter CA-D type (manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.) in that atmosphere, water, ethylene based on JIS K6768 It is calculated as the sum of dispersion force, polar force, and hydrogen bonding force from the contact angles of glycol, formamide, and methylene iodide with respect to the film.

F.A面の表面硬さ(GPa)
MTSシステムズ社製超微小硬度計NanoIndenter DCMを用い、ナノインデンテーション法(連続剛性測定法)により表面硬さを求める。使用圧子はダイヤモンド製三角錐圧子、測定雰囲気は室温・大気中、押し込み深さは10nmとして、30μm四方を、10μm間隔で16点測定し、各点の弾性率を平均した値でA面の表面硬さとする。
F. Surface hardness of A side (GPa)
Surface hardness is determined by a nanoindentation method (continuous rigidity measurement method) using an ultra-micro hardness tester NanoIndenter DCM manufactured by MTS Systems. The indenter used is a diamond triangular pyramid indenter, the measurement atmosphere is room temperature in the atmosphere, the indentation depth is 10 nm, and 30 μm square is measured at 16 points at 10 μm intervals, and the elastic modulus of each point is averaged. Harden.

G.レジスト層塗工性
本発明のフィルムのA面上に、暗室内にてグラビアコート法にて感光性樹脂層を、塗布厚みが5μmとなるように塗布する。感光性樹脂層として、熱可塑性樹脂としてのメタクリル酸、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、ブチルメタクリレートからなる共重合ポリマーと、感光性材料としてのトリメチロールプロパントリアクリレートおよびポリエチレングリコール(数平均分子量600)ジメタクリレートと、光重合開始剤としてのベンゾフェノンおよびジメチルアミノベンゾフェノンと、安定剤としてのハイドロキノンと、着色剤としてのメチルバイオレットとからなる混合物を用いる。塗布後のフィルムを、300mm×500mmの範囲にて、塗布抜け、あるいは表面転写による塗布欠点を観察し、以下のように評価する。Aが最も良好であり、Dが最も劣る。
G. Resist Layer Coatability On the A side of the film of the present invention, a photosensitive resin layer is coated in a dark room by a gravure coating method so as to have a coating thickness of 5 μm. The photosensitive resin layer comprises a copolymer consisting of methacrylic acid, methyl methacrylate, ethyl acrylate, and butyl methacrylate as thermoplastic resins, and trimethylolpropane triacrylate and polyethylene glycol (number average molecular weight: 600) dimethacrylate as photosensitive materials. , benzophenone and dimethylaminobenzophenone as photoinitiators, hydroquinone as stabilizer, and methyl violet as colorant. After coating, the film is observed in an area of 300 mm×500 mm for missing coating or coating defects due to surface transfer, and evaluated as follows. A is the best and D is the worst.

A:塗布欠点個数が9個/m以下
B:塗布欠点個数が10~19個/m
C:塗布欠点個数が20~29個/m
D:塗布欠点個数が30個/m以上。
A: The number of coating defects is 9/m 2 or less B: The number of coating defects is 10 to 19/m 2
C: The number of coating defects is 20 to 29 / m 2
D: The number of coating defects is 30/m 2 or more.

H.レジスト評価
G.項で得られた本発明のフィルムと感光性樹脂層からなる積層体を、感光性樹脂層が片面鏡面研磨した6インチSiウエハーに接触するように重ね、ゴム製のローラーを用いてラミネートし、その上に、クロム金属でパターニングされたレチクルを配置し、そのレクチル上からI線(波長365nmにピークをもつ紫外線)ステッパーを用いて露光を行う。続いてレジスト層からポリエステルフィルムを剥離した後、現像液が入った容器にレジスト層つきのSiウエハーを入れ約1分間の現像を行う。その後、現像液から取り出し、水で約1分間の洗浄を行う。現像後に作成されたレジストパターンのL/S(μm)(Line and Space)=10/10μmの30本の状態を走査型電子顕微鏡SEMを用いて約800~3000倍率で観察し、パターンに欠けのある本数で以下のように評価する。
H. Resist Evaluation G. The laminate consisting of the film of the present invention and the photosensitive resin layer obtained in Section 1 is stacked so that the photosensitive resin layer is in contact with a 6-inch Si wafer with one side mirror-polished, and laminated using a rubber roller, A reticle patterned with chromium metal is placed thereon, and the reticle is exposed using an I-ray (ultraviolet rays having a peak at a wavelength of 365 nm) stepper. Subsequently, after peeling off the polyester film from the resist layer, the Si wafer with the resist layer is placed in a container containing a developing solution and developed for about 1 minute. After that, it is taken out from the developer and washed with water for about 1 minute. 30 lines of L/S (μm) (Line and Space)=10/10 μm of the resist pattern created after development were observed with a scanning electron microscope SEM at a magnification of about 800 to 3000, and defects in the pattern were determined. A certain number is evaluated as follows.

A;欠けのある本数が4本以下
B;欠けのある本数が5から9本
C;欠けのある本数が10から15本
D;欠けのある本数が16本以上
Aが最も良好であり、Dが最も劣る。
A; 4 or less cracks B; 5 to 9 cracks C; 10 to 15 cracks D; 16 cracks or more A is the best, D is the worst.

I.セラミックスグリーンシート製造性
本発明のフィルムのA面に、架橋プライマー層(東レ・ダウコーニング・シリコーン(株)製商品名BY24-846)を固形分1重量%に調整した塗布液を塗布/乾燥し、乾燥後の塗布厚みが0.1μmとなるようにグラビアコーターで塗布し、100℃で20秒乾燥硬化する。その後1時間以内に付加反応型シリコーン樹脂(東レ・ダウコーニング・シリコーン(株)製商品名LTC750A)100重量部、白金触媒(東レ・ダウコーニング・シリコーン(株)製商品名SRX212)2重量部を固形分5重量%に調整した塗布液を、乾燥後の塗布厚みが0.1μmとなるようにグラビアコートで塗布し、120℃で30秒乾燥硬化した後に巻き取り、離型フィルムを得る。
セラミックスラリーとして、チタン酸バリウム(富士チタン工業(株)製商品名HPBT-1)100重量部、ポリビニルブチラール(積水化学(株)製商品名BL-1)10重量部、フタル酸ジブチル5重量部とトルエン-エタノール(重量比30:30)60重量部に、数平均粒径2mmのガラスビーズを加え、ジェットミルにて20時間混合・分散させた後、濾過してペースト状に調整する。得られたセラミックスラリーを、離型フィルムの上に乾燥後の厚みが2μmとなるように、ダイコーターにて塗布し乾燥させ、巻き取り、グリーンシートを得る。上記で巻き取られたグリーンシートを、繰り出し、離型フィルムから剥がさない状態にて目視で観察し、ピンホールの有無や、シート表面および端部の塗布状態を確認する。なお観察する面積は幅300mm、長さ500mmである。離型フィルムの上に成型されたグリーンシートについて、背面から1000ルクスのバックライトユニットで照らしながら、塗布抜けによるピンホールあるいは、離型フィルム背面の表面転写による凹み状態を観察し、以下のように評価する。Aが製造性最も良好であり、Cが最も劣る。
A:ピンホールも凹みも無い。
B:ピンホールは無く、凹みが3個以内認められる
C:ピンホールが有るか、または凹みが4個以上、もしくはその両方が認められる。
I. Ceramic green sheet manufacturing property On the A side of the film of the present invention, a coating solution in which a cross-linked primer layer (trade name BY24-846 manufactured by Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd.) was adjusted to a solid content of 1% by weight was applied and dried. , It is applied with a gravure coater so that the coating thickness after drying becomes 0.1 μm, and dried and cured at 100° C. for 20 seconds. Within one hour thereafter, 100 parts by weight of an addition reaction type silicone resin (trade name LTC750A manufactured by Toray Dow Corning Silicone Co., Ltd.) and 2 parts by weight of a platinum catalyst (trade name SRX212 manufactured by Toray Dow Corning Silicone Co., Ltd.) were added. A coating solution adjusted to a solid content of 5% by weight is applied by gravure coating so that the coating thickness after drying is 0.1 μm, dried and cured at 120° C. for 30 seconds, and wound up to obtain a release film.
As ceramic slurry, 100 parts by weight of barium titanate (trade name HPBT-1 manufactured by Fuji Titan Industry Co., Ltd.), 10 parts by weight of polyvinyl butyral (trade name BL-1 manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.), and 5 parts by weight of dibutyl phthalate and 60 parts by weight of toluene-ethanol (weight ratio: 30:30), glass beads with a number average particle diameter of 2 mm are added, mixed and dispersed in a jet mill for 20 hours, and then filtered to prepare a paste. The resulting ceramic slurry is coated on a release film with a die coater so that the thickness after drying becomes 2 μm, dried, and wound to obtain a green sheet. The green sheet wound as described above is unwound and visually observed without being peeled off from the release film to check the presence or absence of pinholes and the state of coating on the surface and edges of the sheet. The area to be observed has a width of 300 mm and a length of 500 mm. While illuminating the green sheet molded on the release film from the back with a backlight unit of 1000 lux, observe the state of pinholes due to missing coating or dents due to surface transfer on the back of the release film, as follows. evaluate. A is the best in manufacturability, and C is the worst.
A: Neither pinhole nor dent.
B: No pinholes, 3 or less dents observed C: Pinholes or 4 or more dents, or both.

J.フィルムのQ値
本発明のフィルムを15cm角の正方形に切り出し、王子計測機器製MOA-6015を用い、周波数15GHzにてQ値を評価する。フィルムを30°ずつ回転させ、150°までの6点を測定し、6点のQ値の平均を以てフィルムのQ値とする。
J. Q value of film The film of the present invention is cut into a square of 15 cm square, and the Q value is evaluated at a frequency of 15 GHz using MOA-6015 manufactured by Oji Scientific Instruments. The film is rotated by 30°, six points are measured up to 150°, and the average of the Q values of the six points is taken as the Q value of the film.

以下、本発明について実施例を挙げて説明するが、本発明は必ずしもこれらに限定されるものではない。 EXAMPLES The present invention will be described below with reference to Examples, but the present invention is not necessarily limited to these.

[PET-1の製造]テレフタル酸およびエチレングリコールから、三酸化アンチモンを触媒として、常法により重合を行い、実質的に粒子を含有しない溶融重合PETを得た。得られた溶融重合PETのガラス転移温度は81℃、融点は255℃、固有粘度は0.62であった。 [Production of PET-1] Terephthalic acid and ethylene glycol were polymerized in a conventional manner using antimony trioxide as a catalyst to obtain melt-polymerized PET containing substantially no particles. The obtained melt-polymerized PET had a glass transition temperature of 81° C., a melting point of 255° C., and an intrinsic viscosity of 0.62.

[PET-2の製造]PET-1を用い、常法により固相重合を行い、固相重合PETを得た。得られた固相重合PETのガラス転移温度は81℃、融点は255℃、固有粘度は0.81であった。 [Production of PET-2] Using PET-1, solid phase polymerization was carried out by a conventional method to obtain solid phase polymerized PET. The obtained solid phase polymerized PET had a glass transition temperature of 81° C., a melting point of 255° C., and an intrinsic viscosity of 0.81.

[PET-3の製造]PET-1の重合に際し、PETに対する添加量が1.0%となるように、エチレングリコールに分散させた60nmコロイダルシリカを添加し、PET-3を得た。得られた溶融重合PETのガラス転移温度は81℃、融点は255℃、固有粘度は0.62であった。 [Production of PET-3] During the polymerization of PET-1, 60 nm colloidal silica dispersed in ethylene glycol was added so that the amount added to PET was 1.0% to obtain PET-3. The obtained melt-polymerized PET had a glass transition temperature of 81° C., a melting point of 255° C., and an intrinsic viscosity of 0.62.

[MB-Aの製造]PET-2 95重量%と、クラリアント社製のモンタン酸ナトリウムの粉体5重量%を、ベント孔付き押出機に投入し、ベント孔を1kPa以下になるように減圧しながら混練し、MB-Aを得た。 [Production of MB-A] 95% by weight of PET-2 and 5% by weight of sodium montanate powder manufactured by Clariant were charged into an extruder with a vent hole, and the pressure in the vent hole was reduced to 1 kPa or less. While kneading, MB-A was obtained.

[MB-Bの製造]PET-2 50重量%と、SABIC社製のポリエーテルイミド“Ultem1010”50重量%を、ベント孔付き押出機に投入し、ベント孔を1kPa以下になるように減圧しながら混練し、MB-Bを得た。 [Production of MB-B] 50% by weight of PET-2 and 50% by weight of polyetherimide "Ultem 1010" manufactured by SABIC were put into an extruder with a vent hole, and the pressure in the vent hole was reduced to 1 kPa or less. While kneading, MB-B was obtained.

[MB-Cの製造]粒径400nmの架橋ポリスチレン粒子を水中に分散させた水スラリー(粒子濃度20%)と、PET-1を用い、粒子濃度が1%になるようにベント孔付き押出機に投入し、ベント孔を1kPa以下になるように減圧しながら混練し、MB-Cを得た。 [Production of MB-C] A water slurry (particle concentration: 20%) in which crosslinked polystyrene particles with a particle size of 400 nm are dispersed in water and PET-1 are used, and an extruder with a vent hole is used so that the particle concentration is 1%. and kneaded while reducing the pressure in the vent hole to 1 kPa or less to obtain MB-C.

[MB-Dの製造]粒径150nmの架橋ポリスチレン粒子を水中に分散させた水スラリー(粒子濃度20%)と、PET-1を用い、粒子濃度が1%になるようにベント孔付き押出機に投入し、ベント孔を1kPa以下になるように減圧しながら混練し、MB-Dを得た。 [Production of MB-D] A water slurry (particle concentration: 20%) in which crosslinked polystyrene particles with a particle size of 150 nm are dispersed in water and PET-1 are used, and an extruder with a vent hole is used so that the particle concentration becomes 1%. and kneaded while reducing the pressure in the vent hole to 1 kPa or less to obtain MB-D.

[PENの製造]2,6-ナフタレンジカルボン酸ジメチルおよびエチレングリコールから、酢酸マンガンを触媒として、エステル交換反応を実施した。エステル交換反応終了後、三酸化アンチモンを触媒として常法によりPEN-Aを得た。得られたPENのガラス転移温度は124℃、融点は265℃、固有粘度は0.66であった。 [Production of PEN] Dimethyl 2,6-naphthalenedicarboxylate and ethylene glycol were transesterified using manganese acetate as a catalyst. After completion of the transesterification reaction, PEN-A was obtained by a conventional method using antimony trioxide as a catalyst. The obtained PEN had a glass transition temperature of 124° C., a melting point of 265° C., and an intrinsic viscosity of 0.66.

(実施例1)
PET-1を160℃で2時間減圧乾燥した後、押出機に供給し、溶融押出してフィルターで濾過した後、ダイを介し冷却ロール上に静電印可キャスト法を用いて、25℃に保ったキャスティングドラムに巻き付け冷却固化して未延伸フィルムを得た。この未延伸フィルムを相対する電極とアースロール間に導き、装置中に窒素ガスを導入し、E値が160W・min/mとなる条件で大気圧グロー放電処理を行った。また、その際処理面のフィルム表面温度が30℃となるようにアースロールを冷却した。
処理後の未延伸フィルムを逐次二軸延伸機により長手方向に3.3倍、および幅方向にそれぞれ3.3倍、トータルで10.9倍延伸しその後、定長下235℃で熱処理した。その後、幅方向に弛緩処理を施し、厚み20μmの二軸配向フィルムを得た。得られた二軸配向フィルムの特性等を表に示す。加工性、易滑性ともに問題のないフィルムであった。
(Example 1)
After PET-1 was dried under reduced pressure at 160°C for 2 hours, it was supplied to an extruder, melt-extruded, filtered through a filter, and then held at 25°C using an electrostatic casting method on a cooling roll through a die. It was wrapped around a casting drum and solidified by cooling to obtain an unstretched film. This unstretched film was led between the opposing electrodes and earth rolls, nitrogen gas was introduced into the apparatus, and atmospheric pressure glow discharge treatment was performed under conditions where the E value was 160 W·min/m 2 . At that time, the earth roll was cooled so that the film surface temperature of the treated surface became 30°C.
The unstretched film after the treatment was successively stretched 3.3 times in the longitudinal direction and 3.3 times in the width direction, for a total of 10.9 times, by a biaxial stretching machine, and then heat-treated at 235° C. under a constant length. After that, a relaxation treatment was applied in the width direction to obtain a biaxially oriented film having a thickness of 20 μm. The properties, etc. of the obtained biaxially oriented film are shown in the table. The film had no problem in both processability and slipperiness.

(実施例2-12)
A層を構成する樹脂、キャストドラム温度、E値、プラズマ処理雰囲気を表の通り変えた以外は、実施例1と同様にして厚み20μmの二軸配向フィルムを得た。得られた二軸配向フィルムの特性等を表に示す。
(Example 2-12)
A biaxially oriented film with a thickness of 20 μm was obtained in the same manner as in Example 1, except that the resin constituting the layer A, the cast drum temperature, the E value, and the plasma treatment atmosphere were changed as shown in the table. The properties, etc. of the obtained biaxially oriented film are shown in the table.

実施例2ではフィルムのIVが高く、A面の表面特性を良好なものとすることができ、加工性、易滑性が良好なフィルムであった。 In Example 2, the IV of the film was high, the surface characteristics of the A side could be made good, and the film had good workability and slipperiness.

実施例3ではキャストドラムの温度が高く、A面の表面特性を良好なものとすることができ、加工性、易滑性が良好なフィルムであった。 In Example 3, the temperature of the cast drum was high, the surface characteristics of the A side could be improved, and the film was excellent in workability and slipperiness.

実施例4では、処理雰囲気を窒素と酸素の混合気体とし、プラズマ励起気体の活性を上げたため、また実施例7ではキャストドラムの温度を55℃としたため、A面の表面特性を特に良好なものとすることができ、加工性、易滑性が良好なフィルムであり、1nm以上の突起高さを有する突起個数が増え、特にレジスト層塗工性、レジスト性が良好であり、加工性が向上したフィルムであった。 In Example 4, the processing atmosphere was a mixed gas of nitrogen and oxygen to increase the activity of the plasma excitation gas. It is a film with good processability and slipperiness, the number of protrusions having a protrusion height of 1 nm or more increases, especially the resist layer coatability and resist properties are good, and the processability is improved. It was a great film.

実施例5、6、9では、A層を構成する樹脂に結晶化促進剤としてモンタン酸ナトリウムを0.5%添加したため、A面の表面特性を特に良好なものとすることができ、加工性、易滑性が良好なフィルムであり、1nm以上の突起高さを有する突起個数が増え、特にレジスト層塗工性、レジスト性が良好であり、加工性が向上したフィルムであった。 In Examples 5, 6, and 9, 0.5% sodium montanate was added as a crystallization accelerator to the resin constituting the A layer, so that the surface characteristics of the A side could be made particularly good, and workability was improved. The film had good slipperiness, increased the number of protrusions having a height of 1 nm or more, and had particularly good resist layer coatability and resist properties, and improved workability.

実施例8では、プラズマ処理のE値を小さくしたため、易滑性、加工性にやや劣るフィルムであったが、実用には問題ないレベルであった。 In Example 8, since the E value of the plasma treatment was small, the film was slightly inferior in slipperiness and workability, but it was at a level that poses no problem for practical use.

実施例10、11、12では、A層を構成する樹脂に、ナノ分散させる熱可塑性樹脂としてポリエーテルイミドを10重量%添加したため、A面の表面特性を良好なものとすることができ、加工性、易滑性が良好なフィルムであった。 In Examples 10, 11, and 12, 10% by weight of polyetherimide was added to the resin constituting the A layer as a thermoplastic resin for nano-dispersion. It was a film with good properties and slipperiness.

(実施例13)
A層を構成する樹脂としてPET-1を用い、B層を構成する樹脂として、PET-1 97重量%とPET-3 3重量%をブレンドした原料を用い、160℃で2時間乾燥した後、それぞれA層を構成する樹脂とB層を構成する樹脂をそれぞれ別の押出機に投入し、合流装置にて積層し、40℃に保ったキャスティングドラム上で積層シートを得た。該積層シートのA層側に、表に記載の通りの条件でプラズマ処理を施し、実施例4と同様に厚さ16μmのフィルムを得た。A層厚みは15.5μm、B層の厚みは0.5μmであった。得られたフィルムの特性を表に示す。実施例と同様、A面の表面特性は特に良好で、加工性、易滑性が良好なフィルムであった。
(Example 13)
PET-1 is used as the resin constituting layer A, and a raw material obtained by blending 97% by weight of PET-1 and 3% by weight of PET-3 is used as the resin constituting layer B. After drying at 160 ° C. for 2 hours, The resins forming the A layer and the resin forming the B layer were put into separate extruders, laminated in a confluence device, and laminated on a casting drum maintained at 40° C. to obtain a laminated sheet. The layer A side of the laminated sheet was subjected to plasma treatment under the conditions shown in the table to obtain a film having a thickness of 16 μm in the same manner as in Example 4. The thickness of the A layer was 15.5 μm, and the thickness of the B layer was 0.5 μm. The properties of the resulting film are shown in the table. As in Examples, the surface properties of the A side were particularly good, and the film had good workability and slipperiness.

(実施例14)
実施例3と同様の方法で未延伸フィルムを得た後、大気圧グロー放電処理の代わりに、未延伸フィルムにE値が160W・min/mとなる条件で空気雰囲気下にてアーク放電コロナ処理を行った以外は実施例3と同様の方法で二軸配向フィルムを得た。得られたフィルムの特性等を表に示す。加工性、易滑性が良好なフィルムであった。
(Example 14)
After obtaining an unstretched film in the same manner as in Example 3, instead of the atmospheric pressure glow discharge treatment, the unstretched film was subjected to arc discharge corona in an air atmosphere under conditions where the E value was 160 W min / m 2 . A biaxially oriented film was obtained in the same manner as in Example 3, except that the treatment was performed. The properties, etc. of the obtained film are shown in the table. The film was excellent in workability and slipperiness.

(比較例1)
実施例1と同様の方法で未延伸フィルムを得た後、大気圧グロー放電処理を行わずに逐次二軸延伸機へと導入したこと以外は実施例1と同様の方法で二軸配向フィルムを得た。得られた二軸配向フィルムの特性等を表に示す。大気圧グロー放電処理を実施していないため、A面の表面特性に劣り、特にμkが大きく、易滑性に劣るフィルムであった。また、レジスト層塗工性評価、セラミックスグリーンシート製造性評価においては、易滑性に劣るためフィルムを加工することができず、評価することができなかった。
(Comparative example 1)
After obtaining an unstretched film in the same manner as in Example 1, a biaxially oriented film was obtained in the same manner as in Example 1 except that it was sequentially introduced into the biaxial stretching machine without performing atmospheric pressure glow discharge treatment. Obtained. The properties, etc. of the obtained biaxially oriented film are shown in the table. Since the atmospheric pressure glow discharge treatment was not performed, the surface characteristics of the A side were inferior, and the film was particularly large in μk and inferior in slipperiness. In addition, evaluation of the resist layer coatability and evaluation of the ceramic green sheet manufacturability could not be performed because the film could not be processed due to poor lubricity.

(比較例2)
A層を構成する樹脂を表に記載の通りにした以外は、比較例1と同様にしてフィルムを得た。得られたフィルムの特性を表に示す。大気圧グロー放電処理を実施していないため、A面の表面特性に劣り、特にμkが大きく、易滑性に劣るフィルムであった。また、レジスト層塗工性評価、セラミックスグリーンシート製造性評価においては、易滑性に劣るためフィルムを加工することができず、評価することができなかった。
(Comparative example 2)
A film was obtained in the same manner as in Comparative Example 1, except that the resin constituting the A layer was as shown in the table. The properties of the resulting film are shown in the table. Since the atmospheric pressure glow discharge treatment was not performed, the surface characteristics of the A side were inferior, and the film was particularly large in μk and inferior in slipperiness. In addition, evaluation of the resist layer coatability and evaluation of the ceramic green sheet manufacturability could not be performed because the film could not be processed due to poor lubricity.

(比較例3)
大気圧グロー放電に代えて、表に記載の強度で紫外線を照射し、実施例1と同様にしてフィルムを得た。処理強度が小さいため、A面の表面特性に劣り、特にμkが大きく、易滑性に劣るフィルムであった。また、レジスト層塗工性評価、セラミックスグリーンシート製造性評価においては、易滑性に劣るためフィルムを加工することができず、評価することができなかった。
(Comparative Example 3)
A film was obtained in the same manner as in Example 1 except that ultraviolet rays were irradiated at the intensity shown in the table instead of the atmospheric pressure glow discharge. Since the treatment strength was small, the surface characteristics of the A side were inferior, and the film was particularly large in μk and inferior in slipperiness. In addition, evaluation of the resist layer coatability and evaluation of the ceramic green sheet manufacturability could not be performed because the film could not be processed due to poor lubricity.

(比較例4)
大気圧グロー放電に代えて、表に記載の強度で減圧下でグロー放電処理を実施し、実施例1と同様にしてフィルムを得た。処理強度が大きいため、フィルム表面のアッシングが進んだ結果、A面の表面特性に劣り、特にμkが大きく、易滑性に劣るフィルムであった。また、レジスト層塗工性評価、セラミックスグリーンシート製造性評価においては、易滑性に劣るためフィルムを加工することができず、評価することができなかった。
(Comparative Example 4)
A film was obtained in the same manner as in Example 1 by performing glow discharge treatment under reduced pressure at the intensity shown in the table instead of atmospheric pressure glow discharge. Since the treatment strength was high, ashing progressed on the film surface, and as a result, the surface properties of the A side were inferior, and the film was particularly large in μk and inferior in slipperiness. In addition, evaluation of the resist layer coatability and evaluation of the ceramic green sheet manufacturability could not be performed because the film could not be processed due to poor lubricity.

(比較例5)
A層を構成する樹脂を表に記載の通りにした以外は、比較例1と同様にしてフィルムを得た。得られたフィルムの特性を表に示す。粒子を添加しているため、A面の表面特性が劣り、レジスト層塗工性、レジスト評価、セラミックスグリーンシート製造性の劣るフィルムであった。
(Comparative Example 5)
A film was obtained in the same manner as in Comparative Example 1, except that the resin constituting the A layer was as shown in the table. The properties of the resulting film are shown in the table. Since the particles were added, the surface characteristics of the A side were inferior, and the film was inferior in resist layer coatability, resist evaluation, and ceramic green sheet producibility.

(比較例6)
大気圧グロー放電のE値を表に記載の通りに変えた以外は、実施例1と同様にしてフィルムを得た。処理強度が大きいため、フィルム表面のアッシングが進んだ結果、A面の表面特性に劣り、特にμkが大きく、易滑性に劣るフィルムであった。また、レジスト層塗工性評価、セラミックスグリーンシート製造性評価においては、易滑性に劣るためフィルムを加工することができず、評価することができなかった。
(Comparative Example 6)
A film was obtained in the same manner as in Example 1, except that the E value of the atmospheric pressure glow discharge was changed as shown in the table. Since the treatment strength was high, ashing progressed on the film surface, and as a result, the surface properties of the A side were inferior, and the film was particularly large in μk and inferior in slipperiness. In addition, evaluation of the resist layer coatability and evaluation of the ceramic green sheet manufacturability could not be performed because the film could not be processed due to poor lubricity.

(比較例7)
大気圧グロー放電する際のフィルム温度を表に記載の通りとした以外は、実施例1と同様にしてフィルムを得た。フィルム表面温度が大きいため、フィルム表面のアッシングが進行せず、A面の表面特性に劣り、特にμkが大きく、易滑性に劣るフィルムであった。また、レジスト層塗工性評価、セラミックスグリーンシート製造性評価においては、易滑性に劣るためフィルムを加工することができず、評価することができなかった。
(Comparative Example 7)
A film was obtained in the same manner as in Example 1, except that the film temperature during atmospheric pressure glow discharge was as shown in the table. Since the film surface temperature was high, ashing on the film surface did not proceed, and the surface properties of the A side were inferior, and the film was particularly large in μk and inferior in slipperiness. In addition, evaluation of the resist layer coatability and evaluation of the ceramic green sheet manufacturability could not be performed because the film could not be processed due to poor lubricity.

(実施例15)
延伸・熱処理条件を表に記載の通りとした以外は、実施例1と同様にフィルムを得た。フィルム厚みは16μmであった。延伸倍率をより好ましい範囲としたことで1nm以上の突起高さを有する突起の個数を好ましい範囲とすることができ、加工性、特にレジスト層塗工性、レジスト評価が良好なフィルムであった。
(Example 15)
A film was obtained in the same manner as in Example 1, except that the stretching and heat treatment conditions were as shown in the table. The film thickness was 16 μm. By setting the draw ratio to a more preferable range, the number of projections having a projection height of 1 nm or more was able to be set to a preferable range, and the film was excellent in workability, particularly resist layer coatability, and resist evaluation.

(実施例16)
延伸・熱処理条件を表に記載の通りとした以外は、実施例2と同様にフィルムを得た。フィルム厚みは16μmであった。延伸倍率をより好ましい範囲としたことで1nm以上の突起高さを有する突起の個数を好ましい範囲とすることができ、加工性、特にレジスト層塗工性、レジスト評価が良好なフィルムであった。
(Example 16)
A film was obtained in the same manner as in Example 2, except that the stretching and heat treatment conditions were as shown in the table. The film thickness was 16 μm. By setting the draw ratio to a more preferable range, the number of projections having a projection height of 1 nm or more was able to be set to a preferable range, and the film was excellent in workability, particularly resist layer coatability, and resist evaluation.

(実施例17)
延伸・熱処理条件を表に記載の通りとした以外は、実施例8と同様にフィルムを得た。フィルム厚みは16μmであった。延伸倍率をより好ましい範囲としたことで1nm以上の突起高さを有する突起の個数を好ましい範囲とすることができ、レジスト評価が良好なフィルムであった。
(Example 17)
A film was obtained in the same manner as in Example 8, except that the stretching and heat treatment conditions were as shown in the table. The film thickness was 16 μm. By setting the draw ratio within a more preferable range, the number of protrusions having a height of 1 nm or more was able to be within a preferable range, and the resist evaluation was good for the film.

(実施例18)
PET-1を160℃で2時間減圧乾燥した後、押出機Aに供給し、またPET-1 97重量%、MB-C 1重量%、MB-D 2重量%の割合でブレンドし、160℃で2時間減圧乾燥した原料を押出機Bに供給し、それぞれ溶融押出してフィルターで濾過した後、それぞれの押出機からダイを介し2層になるように冷却ロール上に静電印可キャスト法を用いて、25℃に保ったキャスティングドラムに巻き付け冷却固化して未延伸フィルムを得た。この未延伸フィルムを、押出機A側の原料の層(A層)に処理するように相対する電極とアースロール間に導き、装置中に窒素ガスを導入し、E値が160W・min/mとなる条件で大気圧グロー放電処理を行った。また、その際処理面のフィルム表面温度が30℃となるようにアースロールを冷却した。
処理後の未延伸フィルムを逐次二軸延伸機により長手方向に3.6倍、および幅方向にそれぞれ4.5倍、トータルで16.2倍延伸しその後、定長下235℃で熱処理した。その後、幅方向に弛緩処理を施し、厚み16μmの二軸配向フィルムを得た。A層側の厚みは15μm、押出機B側の層(B層)の厚みは1μmであった。得られた二軸配向フィルムのA層側の面の特性等を表に示す。加工性、易滑性ともに問題のないフィルムであった。
(Example 18)
After drying PET-1 under reduced pressure at 160 ° C. for 2 hours, it was supplied to extruder A and blended at a ratio of 97% by weight of PET-1, 1% by weight of MB-C, and 2% by weight of MB-D, and dried at 160 ° C. The raw material dried under reduced pressure for 2 hours is supplied to extruder B, melted and extruded, filtered with a filter, and then passed through a die from each extruder on a cooling roll so that it becomes two layers. Then, the film was wound around a casting drum maintained at 25° C. and solidified by cooling to obtain an unstretched film. This unstretched film is guided between the facing electrodes and the earth roll so as to be processed into the raw material layer (A layer) on the extruder A side, nitrogen gas is introduced into the device, and the E value is 160 W min / m Atmospheric pressure glow discharge treatment was performed under the condition of 2 . At that time, the earth roll was cooled so that the film surface temperature of the treated surface became 30°C.
The unstretched film after treatment was successively stretched 3.6 times in the longitudinal direction and 4.5 times in the width direction by a biaxial stretching machine, for a total of 16.2 times, and then heat-treated at 235° C. under a constant length. After that, a relaxation treatment was applied in the width direction to obtain a biaxially oriented film with a thickness of 16 μm. The thickness of the A layer side was 15 µm, and the thickness of the layer (B layer) on the extruder B side was 1 µm. The properties of the layer A side surface of the obtained biaxially oriented film are shown in the table. The film had no problem in both processability and slipperiness.

(実施例19)
PET-1にかえて、PPS樹脂(ポリフェニレンスルフィド樹脂“トレリナ”A900(東レ(株)製))を用い、表に記載の条件の通りに実施例1と同様にして厚み18μmの二軸配向フィルムを得た。得られた二軸配向フィルムの特性等を表に示す。加工性、易滑性ともに問題のないフィルムであった。
(Example 19)
PPS resin (polyphenylene sulfide resin "Torelina" A900 (manufactured by Toray Industries, Inc.)) was used instead of PET-1, and a biaxially oriented film with a thickness of 18 μm was prepared in the same manner as in Example 1 under the conditions shown in the table. got The properties, etc. of the obtained biaxially oriented film are shown in the table. The film had no problem in both processability and slipperiness.

(実施例20)
PET-1にかえて、PENを用い、表に記載の条件の通りに実施例1と同様にして厚み20μmの二軸配向フィルムを得た。得られた二軸配向フィルムの特性等を表に示す。加工性、易滑性ともに問題のないフィルムであった。
(Example 20)
A biaxially oriented film having a thickness of 20 μm was obtained in the same manner as in Example 1 using PEN instead of PET-1 under the conditions shown in the table. The properties, etc. of the obtained biaxially oriented film are shown in the table. The film had no problem in both processability and slipperiness.

Figure 0007283040000001
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本発明の熱可塑性樹脂フィルムは良好な平滑性、易滑性を有し、さらに加工性も向上させることができるため、片面に感光樹脂組成物を体積して使用されるドライフィルムレジスト支持体用フィルム、光学デバイス基材用フィルム、セラミックコンデンサー用フィルムや磁気記録媒体用フィルムとして好適に用いることができる。
The thermoplastic resin film of the present invention has good smoothness and slipperiness, and can also improve processability. It can be suitably used as a film, a film for optical device substrates, a film for ceramic capacitors, and a film for magnetic recording media.

Claims (6)

少なくとも片側の表面(A面)が、下記の方法によってAFM(Atomic Force Microscope)で測定されるスライスレベルの最も大きい値をRtop(nm)とした場合、Rtop(nm)が20nm未満であり、かつRtop(nm)以上の突起高さを有する突起の、突起がRtop(nm)以上である面積の平均(Atop)が8nm 以上903nm 以下である、熱可塑性樹脂フィルム。
[AFM測定方法]
装置;Digital Insturuments社製 NanoScope3型 SP
Mコントロールステーション
SPMユニット;原子間力顕微鏡(AFM)
カンチレバー:シリコン単結晶
走査モード:タッピングモード
走査速度:0.8Hz
測定視野:1μm四方
サンプルライン:256
Flatten Auto:オーダー3
サンプル調整:23℃、65%RH、24時間静置
AFM測定環境:23℃、65%RH
上記測定条件によって得られるフィルム表面の画像を、Digital Instur
uments社製 NanoScope3型 SPMコントロールステーションに付属の
解析ソフトを用い、解析する。得られるフィルム表面の画像から、フィルム表面の基準面
が自動的に決定される。該基準面から、突起高さの閾値を1nm、2nm・・・と1nm
ごとに定め、各閾値で得られる突起個数をカウントし、カウントされる突起個数が初めて
0になる閾値から1nm低い閾値をRtop(nm)とする。
場所を変えて20回測定し、平均値でもってRtop(nm)とする。
R top (nm) is less than 20 nm, where R top (nm) is the largest value of the slice level measured by AFM (Atomic Force Microscope) on at least one side surface (A side) by the following method. and an average area (A top ) of R top (nm) or more of the protrusions having a protrusion height of R top (nm) or more is 8 nm 2 or more and 903 nm 2 or less.
[AFM measurement method]
Apparatus; NanoScope 3 type SP manufactured by Digital Instruments
M Control Station SPM Unit; Atomic Force Microscope (AFM)
Cantilever: Silicon single crystal Scanning mode: Tapping mode Scanning speed: 0.8Hz
Measurement field of view: 1 μm square Sample line: 256
Flatten Auto: Order 3
Sample preparation: 23°C, 65% RH, 24 hours stationary AFM measurement environment: 23°C, 65% RH
The image of the film surface obtained under the above measurement conditions is captured by Digital Instur.
Analysis is performed using the analysis software attached to the NanoScope type 3 SPM control station manufactured by uments. A reference plane of the film surface is automatically determined from the resulting image of the film surface. From the reference plane, the threshold value of the protrusion height is set to 1 nm, 2 nm, and 1 nm.
The number of protrusions obtained at each threshold value is counted, and the threshold value that is 1 nm lower than the threshold value at which the number of protrusions to be counted becomes 0 for the first time is defined as R top (nm).
Measurements are performed 20 times at different locations, and the average value is defined as R top (nm).
前記A面が、Rtop(nm)以上の突起高さを有する突起の、突起がRtop(nm)以上である領域の平均面積Atopと、AFMで測定される1nm以上の突起高さを有する突起の、突起が1nm以上である領域の平均面積A1nmの比率(Atop/A1nm× 100)が、0.01~20である、請求項1に記載の熱可塑性樹脂フィルム。 The A surface is the average area A top of the region where the protrusions have a protrusion height of R top (nm) or more, and the protrusion height is 1 nm or more measured by AFM . 2. The thermoplastic resin film according to claim 1, wherein the ratio (A top /A 1 nm × 100) of the average area A 1 nm of the regions having projections of 1 nm or more is from 0.01 to 20. 前記A面の、Rtopが3nm以上20nm未満である請求項1または2に記載の熱可塑性樹脂フィルム。 3. The thermoplastic resin film according to claim 1, wherein the R top of the A side is 3 nm or more and less than 20 nm. 前記A面の、1nm以上の突起高さを有する突起の個数が、3.0×10個/mm以上である、請求項1から3のいずれかに記載の熱可塑性樹脂フィルム。 The thermoplastic resin film according to any one of claims 1 to 3, wherein the number of protrusions having a protrusion height of 1 nm or more on the A side is 3.0 x 108 /mm2 or more . 前記A面が、表面硬さが0.5~5.0GPaである、請求項1から4のいずれかに記載の熱可塑性樹脂フィルム。 The thermoplastic resin film according to any one of claims 1 to 4, wherein the surface A has a surface hardness of 0.5 to 5.0 GPa. 前記A面を構成する層が、実質的に粒子を含有しない請求項1から5のいずれかに記載の熱可塑性樹脂フィルム。
6. The thermoplastic resin film according to any one of claims 1 to 5, wherein the layer constituting the A side contains substantially no particles.
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