JP7255631B2 - 磁気記録媒体およびカートリッジ - Google Patents

Description

本開示は、磁気記録媒体およびカートリッジに関する。

コンピュータ用データストレージとして、テープ状の磁気記録媒体が広く用いられている。この磁気記録媒体では、種々の特性向上が検討されており、それらの特性向上のうちの一つとしてオフトラック特性の向上がある。

特許文献１には、環境に起因する幅方向の寸法変化を小さく抑え、オフトラックが少ない安定した記録再生特性を確保できるテープ状の磁気記録媒体が記載されている。また、特許文献１には、長手方向のテンション変化に対する幅方向の寸法変化量を小さくすることが記載されている。

特開２００５－３３２５１０号公報

近年においては、テープ状の磁気記録媒体の大容量化の要請から、記録トラックの数が多くなり、記録トラックの幅が狭くなってきている。このため、テープ状の磁気記録媒体にデータが記録されたのち、環境温度や湿度の変化で磁気記録媒体の幅がわずかにでも変動してしまうと、オフトラックが発生してしまう可能性がある。

本開示の目的は、環境温度や湿度が変化した場合にも、オフトラックを抑制することができる磁気記録媒体およびカートリッジを提供することにある。

上述の課題を解決するために、第１の開示は、テープ状の磁気記録媒体であって、基体と、基体上に設けられた下地層と、下地層上に設けられた磁性層とを備え、磁気記録媒体の平均厚みが、５．６μｍ以下であり、磁性層は磁気記録媒体の長手方向に沿ってのびる複数のサーボバンドを有しており、磁性層は磁性粉と第一の結着剤を含み、基体はポリエステルを含み、磁気記録媒体の長手方向におけるヤング率が、８．０ＧＰａ未満であり、磁気記録媒体の長手方向における角形比が、３５％以下であり、磁気記録媒体を１／２インチ幅に切り出し、温度、相対湿度が（１０℃、１０％）、（１０℃、８０％）、（２９℃、８０％）、（４５℃、１０％）である４つの環境下のそれぞれで０．２Ｎの荷重をかけた状態で２時間保持した後に測定された磁気記録媒体の幅の平均値のうちの最大値、最小値をそれぞれｗ_max、ｗ_minとした場合、ｗ_maxおよびｗ_minが以下の関係式（１）を満たし、磁気記録媒体の平均厚みＴ_Ａおよび基体の平均厚みＴ_Ｂが以下の関係式（２）を満たす磁気記録媒体である。
（ｗ_max－ｗ_min）／ｗ_min≦４００［ｐｐｍ］ ・・・（１）
４．０≦Ｔ_Ｂ／（Ｔ_Ａ－Ｔ_Ｂ） ・・・（２）

第２の開示は、第１の開示の磁気記録媒体と、磁気記録媒体の長手方向にかかるテンションを調整するための調整情報を書き込む領域を有する記憶部とを備えるカートリッジである。

図１は、本開示の第１の実施形態に係る記録再生システムの構成の一例を示す概略図である。 図２は、カートリッジの構成の一例を示す分解斜視図である。 図３は、カートリッジメモリの構成の一例を示すブロック図である。 図４は、磁気テープの構成の一例を示す断面図である。 図５Ａは、データバンドおよびサーボバンドのレイアウトの一例を示す概略図である。図５Ｂは、データバンドの構成の一例を示す拡大図である。 図６は、波長λでデータ信号を記録した場合のＭＦＭ像を示す。 図７は、磁性粒子の構成の一例を示す断面図である。 図８は、測定装置の構成を示す斜視図である。 図９は、ＳＦＤ曲線の一例を示すグラフである。 図１０は、データ記録時における記録再生装置の動作の一例について説明するためのフローチャートである。 図１１は、データ再生時における記録再生装置の動作の一例について説明するためのフローチャートである。 図１２は、本開示の第２の実施形態に係る記録再生システムの構成の一例を示す概略図である。 図１３は、データ記録時における記録再生装置の動作の一例について説明するためのフローチャートである。 図１４は、データ再生時における記録再生装置の動作の一例について説明するためのフローチャートである。 図１５は、変形例における磁性粒子の構成の一例を示す断面図である。

本開示の実施形態について以下の順序で説明する。なお、以下の実施形態の全図においては、同一または対応する部分には同一の符号を付す。
１ 第１の実施形態
２ 第２の実施形態
３ 変形例

［記録再生システムの構成］
図１は、本開示の第１の実施形態に係る記録再生システム１００の構成の一例を示す概略図である。記録再生システム１００は、磁気テープ記録再生システムであり、カートリッジ１０と、カートリッジ１０をロードおよびアンロード可能に構成された記録再生装置５０とを備える。

［カートリッジの構成］
図２は、カートリッジ１０の構成の一例を示す分解斜視図である。カートリッジ１０は、ＬＴＯ（Linear Tape-Open）規格に準拠した磁気テープカートリッジであり、下シェル１２Ａと上シェル１２Ｂとで構成されるカートリッジケース１２の内部に、磁気テープ（テープ状の磁気記録媒体）ＭＴが巻かれたリール１３と、リール１３の回転をロックするためのリールロック１４およびリールスプリング１５と、リール１３のロック状態を解除するためのスパイダ１６と、下シェル１２Ａと上シェル１２Ｂに跨ってカートリッジケース１２に設けられたテープ引出口１２Ｃを開閉するスライドドア１７と、スライドドア１７をテープ引出口１２Ｃの閉位置に付勢するドアスプリング１８と、誤消去を防止するためのライトプロテクト１９と、カートリッジメモリ１１とを備える。リール１３は、中心部に開口を有する略円盤状であって、プラスチック等の硬質の材料からなるリールハブ１３Ａとフランジ１３Ｂとにより構成される。磁気テープＭＴの一端部には、リーダーピン２０が設けられている。

カートリッジメモリ１１は、カートリッジ１０の１つの角部の近傍に設けられている。カートリッジ１０が記録再生装置５０にロードされた状態において、カートリッジメモリ１１は、記録再生装置５０のリーダライタ５７と対向するようになっている。カートリッジメモリ１１は、ＬＴＯ規格に準拠した無線通信規格で記録再生装置５０、具体的にはリーダライタ５７と通信を行う。

［カートリッジメモリの構成］
図３は、カートリッジメモリ１１の構成の一例を示すブロック図である。カートリッジメモリ１１は、規定の通信規格でリーダライタ５７と通信を行うアンテナコイル（通信部）３１と、アンテナコイル３１により受信した電波から、誘導起電力を用いて発電、整流して電源を生成する整流・電源回路３２と、アンテナコイル３１により受信した電波から、同じく誘導起電力を用いてクロックを生成するクロック回路３３と、アンテナコイル３１により受信した電波の検波およびアンテナコイル３１により送信する信号の変調を行う検波・変調回路３４と、検波・変調回路３４から抽出されるデジタル信号から、コマンドおよびデータを判別し、これを処理するための論理回路等で構成されるコントローラ（制御部）３５と、情報を記憶するメモリ（記憶部）３６とを備える。また、カートリッジメモリ１１は、アンテナコイル３１に対して並列に接続されたキャパシタ３７を備え、アンテナコイル３１とキャパシタ３７により共振回路が構成される。

メモリ３６は、カートリッジ１０に関連する情報等を記憶する。メモリ３６は、不揮発性メモリ（Non Volatile Memory：ＮＶＭ）である。メモリ３６の記憶容量は、好ましくは約３２ＫＢ以上である。

メモリ３６は、第１の記憶領域３６Ａと第２の記憶領域３６Ｂとを有する。第１の記憶領域３６Ａは、ＬＴＯ８以前のＬＴＯ規格のカートリッジメモリ（以下「従来のカートリッジメモリ」という。）の記憶領域に対応しており、ＬＴＯ８以前のＬＴＯ規格に準拠した情報を記憶するための領域である。ＬＴＯ８以前のＬＴＯ規格に準拠した情報は、例えば製造情報（例えばカートリッジ１０の固有番号等）、使用履歴（例えばテープ引出回数（Thread Count）等）等である。

第２の記憶領域３６Ｂは、従来のカートリッジメモリの記憶領域に対する拡張記憶領域に相当する。第２の記憶領域３６Ｂは、付加情報を記憶するための領域である。ここで、付加情報とは、ＬＴＯ８以前のＬＴＯ規格で規定されていない、カートリッジ１０に関連する情報を意味する。付加情報の例としては、テンション調整情報、管理台帳データ、Index情報、または磁気テープＭＴに記憶された動画のサムネイル情報等が挙げられるが、これらのデータに限定されるものではない。テンション調整情報は、磁気テープＭＴの長手方向にかかるテンションを調整するための情報である。テンション調整情報は、磁気テープＭＴに対するデータ記録時における、隣接するサーボバンド間の距離（隣接するサーボバンドに記録されたサーボパターン間の距離）を含む。隣接するサーボバンド間の距離は、磁気テープＭＴの幅に関連する幅関連情報の一例である。サーボバンド間の距離の詳細については後述する。以下の説明において、第１の記憶領域３６Ａに記憶される情報を「第１の情報」といい、第２の記憶領域３６Ｂに記憶される情報を「第２の情報」ということがある。

メモリ３６は、複数のバンクを有していてもよい。この場合、複数のバンクうちの一部のバンクにより第１の記憶領域３６Ａが構成され、残りのバンクにより第２の記憶領域３６Ｂが構成されてもよい。

アンテナコイル３１は、電磁誘導により誘起電圧を誘起する。コントローラ３５は、アンテナコイル３１を介して、規定の通信規格で記録再生装置５０と通信を行う。具体的には例えば、相互認証、コマンドの送受信またはデータのやり取り等を行う。

コントローラ３５は、アンテナコイル３１を介して記録再生装置５０から受信した情報をメモリ３６に記憶する。例えば、アンテナコイル３１を介して記録再生装置５０から受信したテンション調整情報をメモリ３６の第２の記憶領域３６Ｂに記憶する。コントローラ３５は、記録再生装置５０の要求に応じて、メモリ３６から情報を読み出し、アンテナコイル３１を介して記録再生装置５０に送信する。例えば、記録再生装置５０の要求に応じて、メモリ３６の第２の記憶領域３６Ｂからテンション調整情報を読み出し、アンテナコイル３１を介して記録再生装置５０に送信する。

［磁気テープの構成］
図４は、磁気テープＭＴの構成の一例を示す断面図である。磁気テープＭＴは、長尺状の基体４１と、基体４１の一方の主面上に設けられた下地層４２と、下地層４２上に設けられた磁性層４３と、基体４１の他方の主面上に設けられたバック層４４とを備える。なお、下地層４２およびバック層４４は、必要に応じて備えられるものであり、無くてもよい。

磁気テープＭＴは長尺のテープ状を有し、記録再生の際には長手方向に走行される。なお、磁性層４３の表面が、磁気ヘッドが走行される表面となる。磁気テープＭＴは、記録用ヘッドとしてリング型ヘッドを備える記録再生装置で用いられることが好ましい。磁気テープＭＴは、１５００ｎｍ以下または１０００ｎｍ以下のデータトラック幅でデータを記録可能に構成された記録再生装置に用いられることが好ましい。

（基体）
基体４１は、下地層４２および磁性層４３を支持する非磁性支持体である。基体４１は、長尺のフィルム状を有する。基体４１の平均厚みの上限値は、好ましくは４．２μｍ以下、より好ましくは３．８μｍ以下、さらにより好ましくは３．４μｍ以下である。基体４１の平均厚みの上限値が４．２μｍ以下であると、１データカートリッジ内に記録できる記録容量を一般的な磁気テープよりも高めることができる。基体４１の平均厚みの下限値は、好ましくは３μｍ以上、より好ましくは３．２μｍ以上である。基体４１の平均厚みの下限値が３μｍ以上であると、基体４１の強度低下を抑制することができる。

基体４１の平均厚みは以下のようにして求められる。まず、１／２インチ幅の磁気テープＭＴを準備し、それを２５０ｍｍの長さに切り出し、サンプルを作製する。続いて、サンプルの基体４１以外の層（すなわち下地層４２、磁性層４３およびバック層４４）をＭＥＫ（メチルエチルケトン）または希塩酸等の溶剤で除去する。次に、測定装置としてMitutoyo社製レーザーホロゲージを用いて、サンプル（基体４１）の厚みを５点以上の位置で測定し、それらの測定値を単純に平均（算術平均）して、基体４１の平均厚みを算出する。なお、測定位置は、サンプルから無作為に選ばれるものとする。

基体４１は、ポリエステルを含むことが好ましい。基体４１がポリエステルを含むことで、基体４１の長手方向のヤング率を低減し、例えば７．５ＧＰａ未満にすることができる。したがって、走行時における磁気テープＭＴの長手方向のテンションを記録再生装置５０により調整することで、磁気テープＭＴの幅を一定またはほぼ一定に保つことができる。

ポリエステルは、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリブチレンナフタレート（ＰＢＮ）、ポリシクロヘキシレンジメチレンテレフタレート（ＰＣＴ）、ポリエチレン－ｐ－オキシベンゾエート（ＰＥＢ）およびポリエチレンビスフェノキシカルボキシレートのうちの少なくとも１種を含む。基体４１が２種以上のポリエステルを含む場合、それらの２種以上のポリエステルは混合されていてもよいし、共重合されていてもよいし、積層されていてもよい。ポリエステルの末端および側鎖の少なくとも一方が変性されていてもよい。

基体４１にポリエステルが含まれていることは、例えば、次のようにして確認される。まず、基体４１の平均厚みの測定方法と同様にして、サンプルの基体４１以外の層を除去する。次に、赤外吸収分光法（Infrared Absorption Spectrometry：ＩＲ）によりサンプル（基体４１）のＩＲスペクトルを取得する。このＩＲスペクトルに基づき、基体４１にポリエステルが含まれていることを確認することができる。

基体４１は、ポリエステル以外に、例えば、ポリアミド、ポリイミドおよびポリアミドイミドのうちの少なくとも１種をさらに含んでいてもよいし、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリオレフィン類、セルロース誘導体、ビニル系樹脂、およびその他の高分子樹脂のうちの少なくとも１種をさらに含んでいてもよい。ポリアミドは、芳香族ポリアミド（アラミド）であってもよい。ポリイミドは、芳香族ポリイミドであってもよい。ポリアミドイミドは、芳香族ポリアミドイミドであってもよい。

基体４１が、ポリエステル以外の高分子樹脂を含む場合、基体４１はポリエステルを主成分とすることが好ましい。ここで、主成分とは、基体４１に含まれる高分子樹脂のうち、最も含有量（質量比率）が多い成分を意味する。基体４１がポリエステル以外の高分子樹脂を含む場合、ポリエステルと、ポリエステル以外の高分子樹脂は、混合されていてもよいし、共重合されていてもよい。

基体４１は、長手方向および幅方向に二軸延伸されていてもよい。基体４１に含まれる高分子樹脂は、基体４１の幅方向に対して斜め方向に配向されていることが好ましい。

（磁性層）
磁性層４３は、信号を記録するための記録層である。磁性層４３は、例えば、磁性粉および結着剤を含む。磁性層４３が、必要に応じて、潤滑剤、帯電防止剤、研磨剤、硬化剤、防錆剤および非磁性補強粒子等のうちの少なくとも１種の添加剤をさらに含んでいてもよい。

磁性層４３は、多数の孔部が設けられた表面を有し、これらの多数の孔部には、潤滑剤が蓄えられていることが好ましい。これにより、磁気テープＭＴとヘッドの接触による摩擦を低減することができる。多数の孔部は、磁性層４３の表面に対して垂直方向に延設されていることが好ましい。磁性層４３の表面に対する潤滑剤の供給性を向上することができるからである。なお、多数の孔部の一部が垂直方向に延設されていてもよい。

磁性層４３は、図５Ａに示すように、複数のサーボバンドＳＢと複数のデータバンドＤＢとを予め有していることが好ましい。複数のサーボバンドＳＢは、磁気テープＭＴの幅方向に等間隔で設けられている。隣り合うサーボバンドＳＢの間には、データバンドＤＢが設けられている。サーボバンドＳＢには、磁気ヘッドのトラッキング制御をするためのサーボ信号が予め書き込まれている。データバンドＤＢには、ユーザデータが記録される。

磁性層４３の表面の面積Ｓに対するサーボバンドＳＢの総面積Ｓ_ＳＢの割合Ｒ_Ｓ（＝（Ｓ_ＳＢ／Ｓ）×１００）の上限値は、高記録容量を確保する観点から、好ましくは４．０％以下、より好ましくは３．０％以下、さらにより好ましくは２．０％以下である。一方、磁性層４３の表面の面積Ｓに対するサーボバンドＳＢの総面積Ｓ_ＳＢの割合Ｒ_Ｓの下限値は、５以上のサーボトラックを確保する観点から、好ましくは０．８％以上である。

磁性層４３の表面の面積Ｓに対するサーボバンドＳＢの総面積Ｓ_ＳＢの割合Ｒ_Ｓは以下のようにして求められる。まず、磁性層４３の表面を磁気力顕微鏡（Magnetic Force Microscope：ＭＦＭ）を用いて観察し、ＭＦＭ像を取得する。続いて、取得されたＭＦＭ像を用いて、サーボバンド幅Ｗ_ＳＢおよびサーボバンドＳＢの本数を測定する。次に、以下の式から割合Ｒ_Ｓを求める。
割合Ｒ_Ｓ［％］＝（（（サーボバンド幅Ｗ_ＳＢ）×（サーボバンドＳＢの本数））／（磁気テープＭＴの幅））×１００

サーボバンドＳＢの数は、好ましくは５以上、より好ましくは５＋４ｎ（但し、ｎは正の整数である。）以上である。サーボバンドＳＢの数が５以上であると、磁気テープＭＴの幅方向の寸法変化によるサーボ信号への影響を抑制し、よりオフトラックが少ない安定した記録再生特性を確保できる。サーボバンドＳＢの数の上限値は特に限定されるものではないが、例えば３３以下である。

サーボバンドＳＢの数は以下のようにして確認可能である。まず、磁性層４３の表面を磁気力顕微鏡（ＭＦＭ）を用いて観察し、ＭＦＭ像を取得する。次に、ＭＦＭ像を用いてサーボバンドＳＢの数をカウントする。

サーボバンド幅Ｗ_ＳＢの上限値は、高記録容量を確保する観点から、好ましくは９５μｍ以下、より好ましくは６０μｍ以下、さらにより好ましくは３０μｍ以下である。サーボバンド幅Ｗ_ＳＢの下限値は、好ましくは１０μｍ以上である。１０μｍ未満のサーボバンド幅Ｗ_ＳＢのサーボ信号を読み取り可能な記録ヘッドは製造が困難である。

サーボバンド幅Ｗ_ＳＢは以下のようにして求められる。まず、磁性層４３の表面を磁気力顕微鏡（ＭＦＭ）を用いて観察し、ＭＦＭ像を取得する。次に、ＭＦＭ像を用いてサーボバンド幅Ｗ_ＳＢを測定する。

磁性層４３は、図５Ｂに示すように、データバンドＤＢに複数のデータトラックＴｋを形成可能に構成されている。データトラック幅Ｗの上限値は、トラック記録密度を向上し、高記録容量を確保する観点から、好ましくは１５００ｎｍ以下、さらにより好ましくは１０００ｎｍである。データトラック幅Ｗの下限値は、磁性粒子サイズを考慮すると、好ましくは２０ｎｍ以上である。

磁性層４３は、磁化反転間距離の最小値Ｌとデータトラック幅Ｗが好ましくはＷ／Ｌ≦３５、より好ましくはＷ／Ｌ≦３０、さらにより好もしくはＷ／Ｌ≦２５となるように、データを記録可能に構成されている。磁化反転間距離の最小値Ｌが一定値であり、磁化反転間距離の最小値Ｌとトラック幅ＷがＷ／Ｌ＞３５であると（すなわちトラック幅Ｗが大きいと）、トラック記録密度が上がらないため、記録容量を十分に確保できなくなる虞がある。また、トラック幅Ｗが一定値であり、磁化反転間距離の最小値Ｌとトラック幅ＷがＷ／Ｌ＞３５であると（すなわち磁化反転間距離の最小値Ｌが小さいと）、ビット長さが小さくなり、線記録密度が上がるが、スペーシングロスの影響により、電磁変換特性（例えばＳＮＲ（Signal-to-Noise Ratio））が著しく悪化してしまう虞がある。したがって、記録容量を確保しながら、電磁変換特性（例えばＳＮＲ）の悪化を最小限に抑えるためには、上記のようにＷ／ＬがＷ／Ｌ≦３５の範囲にあることが好ましい。Ｗ／Ｌの下限値は特に限定されるものではないが、例えば１≦Ｗ／Ｌである。

磁化反転間距離の最小値Ｌとデータトラック幅Ｗは、以下のようにして求められる。まず、最短記録波長でデータ信号を磁気テープＭＴに書き込む。次に、磁気テープＭＴを切り出しサンプルを取得したのち、このサンプルを導電性両面テープで試料台に固定する。次に、磁気力顕微鏡（Magnetic Force Microscope：ＭＦＭ、ブルカー製、Dimension Icon Nanoscope III）を用いて、磁性層４３の表面の正方形状の領域（サイズ１０μｍ×１０μｍ）を５１２ピクセル×５１２ピクセルで測定し、ＭＦＭ像を取得する。図６に、ＭＦＭ像の一例を示す。次に、取得したＭＦＭ像から無作為に選び出された１０箇所にて、磁気テープＭＴの幅方向における磁化パターン列の寸法をそれぞれ測定し、１０箇所のトラック幅Ｗ_Ａ［ｎｍ］を得る。次に、得られた１０箇所のトラック幅Ｗ_Ａを単純に平均（算術平均）してトラック幅Ｗを求める。

また、取得したＭＦＭ像から無作為に選び出された１０箇所にて、磁気テープＭＴの長手方向における明部と明部の距離または暗部と暗部の距離［ｎｍ］をそれぞれ測定し、１０箇所の記録波長λ_Ａを求める。次に、得られた１０箇所の記録波長λ_Ａを単純に平均（算術平均）して平均記録波長λ［ｎｍ］を求める。その後、平均記録波長λ［ｎｍ］の半分の値を求め、磁化反転間距離の最小値Ｌ［ｎｍ］とする。

磁性層４３は、高記録容量を確保する観点から、磁化反転間距離の最小値Ｌが好ましくは４８ｎｍ以下、より好ましくは４４ｎｍ以下、さらにより好ましくは４０ｎｍ以下となるように、データを記録可能に構成されている。磁化反転間距離の最小値Ｌの下限値は、磁性粒子サイズを考慮すると、好ましくは２０ｎｍ以上である。

磁性層４３の平均厚みの上限値は、好ましくは９０ｎｍ以下、特に好ましくは８０ｎｍ以下、より好ましくは７０ｎｍ以下、さらにより好ましくは５０ｎｍ以下である。磁性層４３の平均厚みの上限値が９０ｎｍ以下であると、記録ヘッドとしてはリング型ヘッドを用いた場合に、反磁界の影響を軽減できるため、電磁変換特性を向上することができる。

磁性層４３の平均厚みの下限値は、好ましくは３５ｎｍ以上である。磁性層４３の平均厚みの上限値が３５ｎｍ以上であると、再生ヘッドとしてはＭＲ型ヘッドを用いた場合に、出力を確保できるため、電磁変換特性を向上することができる。

磁性層４３の平均厚みは以下のようにして求められる。まず、磁気テープＭＴを、その主面に対して垂直に薄く加工して試験片を作製し、その試験片の断面を透過型電子顕微鏡（Transmission Electron Microscope：ＴＥＭ）により観察を行う。以下に、装置および観察条件を示す。
装置：ＴＥＭ（日立製作所製Ｈ９０００ＮＡＲ）
加速電圧：３００ｋＶ
倍率：１００，０００倍
次に、得られたＴＥＭ像を用い、磁気テープＭＴの長手方向に少なくとも１０点以上の位置で磁性層４３の厚みを測定した後、それらの測定値を単純に平均（算術平均）して磁性層４３の平均厚みを求める。なお、測定位置は、試験片から無作為に選ばれるものとする。

（磁性粉）
磁性粉は、ε酸化鉄を含有するナノ粒子（以下「ε酸化鉄粒子」という。）の粉末を含む。ε酸化鉄粒子は、微粒子でも高保磁力を得ることができる硬磁性粒子である。ε酸化鉄粒子に含まれるε酸化鉄は、磁気テープＭＴの厚み方向（垂直方向）に優先的に結晶配向していることが好ましい。

ε酸化鉄粒子は、球状もしくはほぼ球状を有しているか、または立方体状もしくはほぼ立方体状を有している。ε酸化鉄粒子が上記のような形状を有しているため、磁性粒子としてε酸化鉄粒子を用いた場合、磁性粒子として六角板状のバリウムフェライト粒子を用いた場合に比べて、磁気テープＭＴの厚み方向における粒子同士の接触面積を低減し、粒子同士の凝集を抑制することができる。したがって、磁性粉の分散性を高め、より良好な電磁変換特性（例えばＳＮＲ）を得ることができる。

ε酸化鉄粒子は、コアシェル型構造を有する。具体的には、ε酸化鉄粒子は、図７に示すように、コア部１１１と、このコア部１１１の周囲に設けられた２層構造のシェル部１１２とを備える。２層構造のシェル部１１２は、コア部１１１上に設けられた第１シェル部１１２ａと、第１シェル部１１２ａ上に設けられた第２シェル部１１２ｂとを備える。

コア部１１１は、ε酸化鉄を含む。コア部１１１に含まれるε酸化鉄は、ε－Ｆｅ_２Ｏ_３結晶を主相とするものが好ましく、単相のε－Ｆｅ_２Ｏ_３からなるものがより好ましい。

第１シェル部１１２ａは、コア部１１１の周囲のうちの少なくとも一部を覆っている。具体的には、第１シェル部１１２ａは、コア部１１１の周囲を部分的に覆っていてもよいし、コア部１１１の周囲全体を覆っていてもよい。コア部１１１と第１シェル部１１２ａの交換結合を十分なものとし、磁気特性を向上する観点からすると、コア部１１１の表面全体を覆っていることが好ましい。

第１シェル部１１２ａは、いわゆる軟磁性層であり、例えば、α－Ｆｅ、Ｎｉ－Ｆｅ合金またはＦｅ－Ｓｉ－Ａｌ合金等の軟磁性体を含む。α－Ｆｅは、コア部１１１に含まれるε酸化鉄を還元することにより得られるものであってもよい。

第２シェル部１１２ｂは、酸化防止層としての酸化被膜である。第２シェル部１１２ｂは、α酸化鉄、酸化アルミニウムまたは酸化ケイ素を含む。α酸化鉄は、例えばＦｅ_３Ｏ_４、Ｆｅ_２Ｏ_３およびＦｅＯのうちの少なくとも１種の酸化鉄を含む。第１シェル部１１２ａがα－Ｆｅ（軟磁性体）を含む場合には、α酸化鉄は、第１シェル部１１２ａに含まれるα－Ｆｅを酸化することにより得られるものであってもよい。

ε酸化鉄粒子が、上述のように第１シェル部１１２ａを有することで、熱安定性を確保するためにコア部１１１単体の保磁力Ｈｃを大きな値に保ちつつ、ε酸化鉄粒子（コアシェル粒子）全体としての保磁力Ｈｃを記録に適した保磁力Ｈｃに調整できる。また、ε酸化鉄粒子が、上述のように第２シェル部１１２ｂを有することで、磁気テープＭＴの製造工程およびその工程前において、ε酸化鉄粒子が空気中に暴露されて、粒子表面に錆び等が発生することにより、ε酸化鉄粒子の特性が低下することを抑制することができる。したがって、磁気テープＭＴの特性劣化を抑制することができる。

磁性粉の平均粒子サイズ（平均最大粒子サイズ）は、例えば２２．５ｎｍ以下である。磁性粉の平均粒子サイズ（平均最大粒子サイズ）は、好ましくは２２ｎｍ以下、より好ましくは８ｎｍ以上２２ｎｍ以下、さらにより好ましくは１２ｎｍ以上２２ｎｍ以下、特に好ましくは１２ｎｍ以上１５ｎｍ以下、最も好ましくは１２ｎｍ以上１４ｎｍ以下である。磁気テープＭＴでは、記録波長の１／２のサイズの領域が実際の磁化領域となる。このため、磁性粉の平均粒子サイズを最短記録波長の半分以下に設定することで、良好な電磁変換特性（例えばＳＮＲ）を得ることができる。したがって、磁性粉の平均粒子サイズが２２ｎｍ以下であると、高記録密度の磁気テープＭＴ（例えば４４ｎｍ以下の最短記録波長で信号を記録可能に構成された磁気テープＭＴ）において、良好な電磁変換特性（例えばＳＮＲ）を得ることができる。一方、磁性粉の平均粒子サイズが８ｎｍ以上であると、磁性粉の分散性がより向上し、より優れた電磁変換特性（例えばＳＮＲ）を得ることができる。

磁性粉の平均アスペクト比が、好ましくは１．０以上３．０以下、より好ましくは１．０以上２．５以下、さらにより好ましくは１．０以上２．１以下、特に好ましくは１．０以上１．８以下である。磁性粉の平均アスペクト比が１．０以上３．０以下の範囲内であると、磁性粉の凝集を抑制することができる。また、磁性層４３の形成工程において磁性粉を垂直配向させる際に、磁性粉に加わる抵抗を抑制することができる。したがって、磁性粉の垂直配向性を向上することができる。

上記の磁性粉の平均粒子サイズおよび平均アスペクト比は、以下のようにして求められる。まず、測定対象となる磁気テープＭＴをＦＩＢ（Focused Ion Beam）法等により加工して薄片を作製し、ＴＥＭにより薄片の断面観察を行う。次に、撮影したＴＥＭ写真から５０個のε酸化鉄粒子を無作為に選び出し、各ε酸化鉄粒子の長軸長ＤＬと短軸長ＤＳを測定する。ここで、長軸長ＤＬとは、ε酸化鉄粒子の輪郭に接するように、あらゆる角度から引いた２本の平行線間の距離のうち最大のもの（いわゆる最大フェレ径）を意味する。一方、短軸長ＤＳとは、ε酸化鉄粒子の長軸と直交する方向におけるε酸化鉄粒子の長さのうち最大のものを意味する。

続いて、測定した５０個のε酸化鉄粒子の長軸長ＤＬを単純に平均（算術平均）して平均長軸長ＤＬaveを求める。このようにして求めた平均長軸長ＤＬaveを磁性粉の平均粒子サイズとする。また、測定した５０個のε酸化鉄粒子の短軸長ＤＳを単純に平均（算術平均）して平均短軸長ＤＳaveを求める。そして、平均長軸長ＤＬaveおよび平均短軸長ＤＳaveからε酸化鉄粒子の平均アスペクト比（ＤＬave／ＤＳave）を求める。

磁性粉の平均粒子体積は、好ましくは５６００ｎｍ^３以下、より好ましくは２５０ｎｍ^３以上５６００ｎｍ^３以下、さらにより好ましくは９００ｎｍ^３以上５６００ｎｍ^３以下、特に好ましくは９００ｎｍ^３以上１８００ｎｍ^３以下、最も好ましくは９００ｎｍ^３以上１５００ｎｍ^３以下である。一般的に磁気テープＭＴのノイズは粒子個数の平方根に反比例（すなわち粒子体積の平方根に比例）するため、粒子体積をより小さくすることで、良好な電磁変換特性（例えばＳＮＲ）を得ることができる。したがって、磁性粉の平均粒子体積が５６００ｎｍ^３以下であると、磁性粉の平均粒子サイズを２２ｎｍ以下とする場合と同様の効果に、良好な電磁変換特性（例えばＳＮＲ）を得ることができる。一方、磁性粉の平均粒子体積が２５０ｎｍ^３以上であると、磁性粉の平均粒子サイズを８ｎｍ以上とする場合と同様の効果が得られる。

ε酸化鉄粒子が球状またはほぼ球状を有している場合には、磁性粉の平均粒子体積は以下のようにして求められる。まず、上記の磁性粉の平均粒子サイズの算出方法と同様にして、平均長軸長ＤＬaveを求める。次に、以下の式により、磁性粉の平均粒子体積Ｖを求める。
Ｖ＝（π/６）×ＤＬave^３

ε酸化鉄粒子が立方体状またはほぼ立方体状を有している場合には、磁性粉の平均粒子体積は以下のようにして求められる。まず、測定対象となる磁気テープＭＴをＦＩＢ法等により加工して薄片を作製し、ＴＥＭにより薄片の断面観察を行う。続いて、撮影したＴＥＭ写真から、ＴＥＭ断面と平行な面を有する５０個のε酸化鉄粒子を無作為に選び出し、各ε酸化鉄粒子の一辺の長さＬを測定する。次に、測定した５０個のε酸化鉄粒子の一辺の長さＬを単純に平均（算術平均）して平均の辺の長さＬaveを求める。
Ｖ＝Ｌave^３

（結着剤）
結着剤としては、例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂等が挙げられる。熱可塑性樹脂としては、例えば、塩化ビニル、酢酸ビニル、塩化ビニル－酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル－塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル－アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル－アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル－塩化ビニル－塩化ビニリデン共重合体、アクリル酸エステル－アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル－塩化ビニリデン共重合体、メタクリル酸エステル－塩化ビニリデン共重合体、メタクリル酸エステル－塩化ビニル共重合体、メタクリル酸エステル－エチレン共重合体、ポリフッ化ビニル、塩化ビニリデン－アクリロニトリル共重合体、アクリロニトリル－ブタジエン共重合体、ポリアミド樹脂、ポリビニルブチラール、セルロース誘導体（セルロースアセテートブチレート、セルロースダイアセテート、セルローストリアセテート、セルロースプロピオネート、ニトロセルロース）、スチレンブタジエン共重合体、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、アミノ樹脂、合成ゴム等が挙げられる。

熱硬化性樹脂としては、例えば、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、シリコーン樹脂、ポリアミン樹脂、尿素ホルムアルデヒド樹脂等が挙げられる。

上記の全ての結着剤には、磁性粉の分散性を向上させる目的で、－ＳＯ_３Ｍ、－ＯＳＯ_３Ｍ、－ＣＯＯＭ、Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）_２（但し、式中Ｍは水素原子またはリチウム、カリウム、ナトリウム等のアルカリ金属を表す）や、－ＮＲ１Ｒ２、－ＮＲ１Ｒ２Ｒ３^＋Ｘ^－で表される末端基を有する側鎖型アミン、＞ＮＲ１Ｒ２^＋Ｘ^－で表される主鎖型アミン（但し、式中Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３は水素原子または炭化水素基を表し、Ｘ^－はフッ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン元素イオン、無機イオンまたは有機イオンを表す。）、さらに－ＯＨ、－ＳＨ、－ＣＮ、エポキシ基等の極性官能基が導入されていてもよい。これら極性官能基の結着剤への導入量は、１０^－１～１０^－８モル／ｇであるのが好ましく、１０^－２～１０^－６モル／ｇであるのがより好ましい。

（潤滑剤）
潤滑剤としては、例えば、炭素数１０～２４の一塩基性脂肪酸と、炭素数２～１２の１価～６価アルコールのいずれかとのエステル、これらの混合エステル、ジ脂肪酸エステル、トリ脂肪酸エステル等が挙げられる。潤滑剤の具体例としては、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、エライジン酸、ステアリン酸ブチル、ステアリン酸ペンチル、ステアリン酸ヘプチル、ステアリン酸オクチル、ステアリン酸イソオクチル、ミリスチン酸オクチル等が挙げられる。

（帯電防止剤）
帯電防止剤としては、例えば、カーボンブラック、天然界面活性剤、ノニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤等が挙げられる。

（研磨剤）
研磨剤としては、例えば、α化率９０％以上のα－アルミナ、β－アルミナ、γ－アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α－酸化鉄、コランダム、窒化珪素、チタンカ－バイト、酸化チタン、二酸化珪素、酸化スズ、酸化マグネシウム、酸化タングステン、酸化ジルコニウム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、２硫化モリブデン、磁性酸化鉄の原料を脱水、アニール処理した針状α酸化鉄、必要によりそれらをアルミおよび／またはシリカで表面処理したもの等が挙げられる。

（硬化剤）
硬化剤としては、例えば、ポリイソシアネート等が挙げられる。ポリイソシアネートとしては、例えば、トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）と活性水素化合物との付加体等の芳香族ポリイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＭＤＩ）と活性水素化合物との付加体等の脂肪族ポリイソシアネート等が挙げられる。これらポリイソシアネートの重量平均分子量は、１００～３０００の範囲であることが望ましい。

（防錆剤）
防錆剤としては、例えばフェノール類、ナフトール類、キノン類、窒素原子を含む複素環化合物、酸素原子を含む複素環化合物、硫黄原子を含む複素環化合物等が挙げられる。

（非磁性補強粒子）
非磁性補強粒子として、例えば、酸化アルミニウム（α、βまたはγアルミナ）、酸化クロム、酸化珪素、ダイヤモンド、ガーネット、エメリー、窒化ホウ素、チタンカーバイト、炭化珪素、炭化チタン、酸化チタン（ルチル型またはアナターゼ型の酸化チタン）等が挙げられる。

（下地層）
下地層４２は、非磁性粉および結着剤を含む非磁性層である。下地層４２が、必要に応じて、潤滑剤、帯電防止剤、硬化剤および防錆剤等のうちの少なくとも１種の添加剤をさらに含んでいてもよい。

下地層４２の平均厚みは、好ましくは０．３μｍ以上２．０μｍ以下、より好ましくは０．５μｍ以上１．４μｍ以下である。なお、下地層４２の平均厚みは、磁性層４３の平均厚みと同様にして求められる。但し、ＴＥＭ像の倍率は、下地層４２の厚みに応じて適宜調整される。下地層４２の平均厚みが２．０μｍ以下であると、外力による磁気テープＭＴの伸縮性がさらに高くなるため、テンションコントロールによる磁気テープＭＴの幅の調整がさらに容易となる。

（非磁性粉）
非磁性粉は、例えば無機粒子粉または有機粒子粉の少なくとも１種を含む。また、非磁性粉は、カーボンブラック等の炭素粉を含んでいてもよい。なお、１種の非磁性粉を単独で用いてもよいし、２種以上の非磁性粉を組み合わせて用いてもよい。無機粒子は、例えば、金属、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物または金属硫化物等を含む。非磁性粉の形状としては、例えば、針状、球状、立方体状、板状等の各種形状が挙げられるが、これらの形状に限定されるものではない。

（結着剤）
結着剤は、上述の磁性層４３と同様である。

（添加剤）
潤滑剤、帯電防止剤、硬化剤および防錆剤はそれぞれ、上述の磁性層４３と同様である。

（バック層）
バック層４４は、結着剤および非磁性粉を含む。バック層４４が、必要に応じて潤滑剤、硬化剤および帯電防止剤等のうちの少なくとも１種の添加剤をさらに含んでいてもよい。結着剤および非磁性粉は、上述の下地層４２と同様である。

非磁性粉の平均粒子サイズは、好ましくは１０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下、より好ましくは１５ｎｍ以上１１０ｎｍ以下である。非磁性粉の平均粒子サイズは、上記の磁性粉の平均粒子サイズと同様にして求められる。非磁性粉が、２以上の粒度分布を有する非磁性粉を含んでいてもよい。

バック層４４の平均厚みの上限値は、好ましくは０．６μｍ以下である。バック層４４の平均厚みの上限値が０．６μｍ以下であると、磁気テープＭＴの平均厚みが５．６μｍ以下である場合でも、下地層４２や基体４１の厚みを厚く保つことができるので、磁気テープＭＴの記録再生装置５０内での走行安定性を保つことができる。バック層４４の平均厚みの下限値は特に限定されるものではないが、例えば０．２μｍ以上である。

バック層４４の平均厚みは以下のようにして求められる。まず、１／２インチ幅の磁気テープＭＴを準備し、それを２５０ｍｍの長さに切り出し、サンプルを作製する。次に、測定装置としてMitutoyo社製レーザーホロゲージを用いて、サンプルの厚みを５点以上で測定し、それらの測定値を単純に平均（算術平均）して、磁気テープＭＴの平均厚みｔ_Ｔ［μｍ］を算出する。なお、測定位置は、サンプルから無作為に選ばれるものとする。続いて、サンプルのバック層４４をＭＥＫ（メチルエチルケトン）または希塩酸等の溶剤で除去する。その後、再び上記のレーザーホロゲージを用いてサンプルの厚みを５点以上で測定し、それらの測定値を単純に平均（算術平均）して、バック層４４を除去した磁気テープＭＴの平均厚みｔ_Ｂ［μｍ］を算出する。なお、測定位置は、サンプルから無作為に選ばれるものとする。その後、以下の式よりバック層４４の平均厚みｔ_ｂ［μｍ］を求める。
ｔ_ｂ［μｍ］＝ｔ_Ｔ［μｍ］－ｔ_Ｂ［μｍ］

（磁気テープの平均厚み）
磁気テープＭＴの平均厚み（平均全厚）の上限値が、好ましくは５．６μｍ以下、より好ましくは５．０μｍ以下、さらにより好ましくは４．６μｍ以下、特に好ましくは４．４μｍ以下である。磁気テープＭＴの平均厚みが５．６μｍ以下であると、１データカートリッジ内に記録できる記録容量を一般的な磁気テープよりも高めることができる。磁気テープＭＴの平均厚みの下限値は特に限定されるものではないが、例えば３．５μｍ以上である。

磁気テープＭＴの平均厚みは、上述のバック層４４の平均厚みの求め方において説明した手順により求められる。

（磁気テープの幅変化に関する規定）
温度、相対湿度が（１０℃、１０％）、（１０℃、８０％）、（２９℃、８０％）、（４５℃、１０％）である４つの環境下で測定された磁気テープＭＴの幅の平均値のうちの最大値、最小値をそれぞれｗ_max、ｗ_minとした場合、ｗ_maxおよびｗ_minが以下の関係式（１）を満たす。
（ｗ_max－ｗ_min）／ｗ_min≦４００［ｐｐｍ］ ・・・（１）
ｗ_maxおよびｗ_minが上記の関係式（１）を満たすことで、データトラック幅Ｗが１５００ｎｍ以下である磁気テープＭＴにおいて、オフトラックを抑制することができる。

図８を参照して、磁気テープＭＴの幅の測定に用いられる測定装置２１０について説明する。この測定装置２１０は、台座２１１と、支持柱２１２と、発光器２１３、受光器２１４、支持板２１５と、５本の支持部材２１６_１～２１６_５と、固定部２１７とを備える。

台座２１１は、矩形の板状を有する。台座２１１の中央には、受光器２１４が設けられている。支持柱２１２は、台座２１１の中心から一方の長辺側にずれた位置に、受光器２１４に隣接して立てられている。台座２１１の一方の短辺側には、固定部２１７が設けられている。

支持柱２１２の先端部には、発光器２１３が支持されている。発光器２１３と受光器２１４とは対向する。測定時には、対向する発光器２１３と受光器２１４の間に、支持部材２１６_１～２１６_５に支持されたサンプル１０Ｓが配置される。発光器２１３および受光器２１４は、図示しないＰＣ（パーソナルコンピュータ）に接続され、このＰＣの制御に基づき、支持部材２１６_１～２１６_５に支持されたサンプル１０Ｓの幅を測定し、測定結果をＰＣに出力する。

発光器２１３および受光器２１４には、キーエンス社製のデジタル寸法測定器ＬＳ－７０００が組み込まれている。発光器２１３は、支持部材２１６_１～２１６_５に支持されたサンプル１０Ｓの幅方向に平行な線状の光をサンプル１０Ｓに照射する。受光器２１４は、サンプル１０Ｓに遮断されなかった光量を計測することにより、磁気テープＭＴの幅を測定する。

支持柱２１２のおよそ半分の高さ位置には、細長い矩形状の支持板２１５が固定されている。支持板２１５は、この支持板２１５の長辺が台座２１１の主面と平行となるように支持されている。支持板２１５の一方の主面には、５本の支持部材２１６_１～２１６_５が支持されている。支持部材２１６_１～２１６_５は、円柱の棒状を有し、サンプル１０Ｓ（磁気テープＭＴ）のバック面を支持する。５本の支持部材２１６_１～２１６_５（特にその表面）はいずれもステンレス鋼ＳＵＳ３０４により構成され、その表面粗さＲｚ（最大高さ）は０．１５μｍ～０．３μｍである。

ここで、５本の支持部材２１６_１～２１６_５の配置を、図８を参照しながら説明する。図８に示されるとおり、サンプル１０Ｓは、５本の支持部材２１６_１～２１６_５に乗せられている。以下では、５本の支持部材２１６_１～２１６_５を、固定部２１７に最も近いほうから「第１支持部材２１６_１」、「第２支持部材２１６_２」、「第３支持部材２１６_３」（スリット２１６Ａを有する）、「第４支持部材２１６_４」、および「第５支持部材２１６_５」（重り２３３に最も近い）と適宜称する。これら５本の第１～第５支持部材２１６_１～２１６_５の直径はいずれも、７ｍｍである。第１支持部材２１６_１と第２支持部材２１６_２との距離ｄ１（特にはこれら支持部材の中心軸の間の距離）は２０ｍｍである。第２支持部材２１６_２と第３支持部材２１６_３との距離ｄ２は３０ｍｍである。第３支持部材２１６_３と第４支持部材２１６_４との距離ｄ３は３０ｍｍである。第４支持部材２１６_４と第５支持部材２１６_５との距離ｄ４は２０ｍｍである。

また、サンプル１０Ｓのうち第２支持部材２１６_２、第３支持部材２１６_３、および第４支持部材２１６_４の間に乗っている部分が、重力方向に対して略垂直な平面を形成するように、これら３つの支持部材２１６_２～２１６_４は配置されている。また、サンプル１０Ｓが、第１支持部材２１６_１と第２支持部材２１６_２との間では、上記略垂直の平面に対してθ１＝３０°の角度を形成するように、第１支持部材２１６_１および第２支持部材２１６_２は配置されている。さらに、サンプル１０Ｓが、第４支持部材２１６_４と第５支持部材２１６_５との間では、上記の略垂直な平面に対してθ２＝３０°の角度を形成するように、第４支持部材２１６_４および第５支持部材２１６_５は配置されている。また、５本の第１～第５支持部材２１６_１～２１６_５のうち、第３支持部材２１６_３は回転しないように固定されているが、その他の４本の第１、第２、第４、第５支持部材２１６_１、２１６_２、２１６_４、２１６_５は全て回転可能である。

支持部材２１６_１～２１６_５のうち、発光器２１３および受光器２１４の間に位置し、かつ、固定部２１７と荷重をかける部分とのほぼ中心に位置する支持部材２１６_３にはスリット２１６Ａが設けられている。スリット２１６Ａを介して発光器２１３から受光器２１４に光Ｌが照射されるようになっている。スリット２１６Ａのスリット幅は１ｍｍであり、光Ｌは、スリット２１６Ａの枠に遮られることなく、当該スリット２１６Ａを通り抜けられる。

最大値ｗ_maxおよび最小値ｗ_minは、上述した構成を有する測定装置２１０を用いて、以下のようにして求められる。まず、１／２インチ幅の磁気テープＭＴを準備し、磁気テープＭＴの長手方向（走行方向）に４００ｍごとに合計３か所の異なる位置から３つのテープ片（長さ１ｍ）を取得し、３つのサンプル１０Ｓとする。

続いて、取得した３つのサンプル１０Ｓの幅を次のようにして測定する。まず、サンプル１０Ｓを測定装置２１０にセットする。具体的には、長尺状のサンプル１０Ｓの一端を固定部２１７により固定する。次に、サンプル１０Ｓを、５本の略円柱状且つ棒状の支持部材２１６_１～２１６_５に載せる。この際、サンプル１０Ｓは、そのバック面が５本の支持部材２１６_１～２１６_５に接するように、これら支持部材２１６_１～２１６_５に載せされる。

次に、（１０℃、１０％）の環境に制御されたチャンバー（一般的な恒温槽）内に測定装置２１０を収容したのち、サンプル１０Ｓの他端に、０．２Ｎの荷重をかけるための重り２１８を取り付け、サンプル１０Ｓを上記環境内に２時間以上保持し、磁気テープＭＴを上記環境に馴染ませる。２時間置以上保持したのち、発光器２１３および受光器２１４によりサンプル１０Ｓの幅を測定する。具体的には、０．２Ｎの荷重２１８が取り付けられた状態で、発光器２１３から受光器２１４に向けて光Ｌを照射し、長手方向に荷重が加えられたサンプル１０Ｓの幅を測定する。当該幅の測定は、サンプル１０Ｓがカールしていない状態で行われる。

次に、上述のようにして測定した３つのサンプル１０Ｓの幅を単純に平均（算術平均）する。これにより、（１０℃、１０％）の環境下における磁気テープＭＴの幅の平均値ｗが求められる。

次に、（１０℃、１０％）の環境下における磁気テープＭＴの幅の平均値ｗを求めたのと同様の手順で、（１０℃、８０％）、（２９℃、８０％）、（４５℃、１０％）それぞれの環境下における磁気テープＭＴの幅の平均値ｗを求める。そして、上述のようにして求められた４つの環境下における磁気テープＭＴの幅の平均値ｗのうちから、最大値ｗ_max、最小値ｗ_minを選び出す。

（基体以外の層の平均総厚に対する基体の平均厚みの割合）
磁気テープＭＴの平均厚みＴ_Ａおよび基体４１の平均厚みＴ_Ｂが以下の関係式を満たす。
４．０≦Ｔ_Ｂ／（Ｔ_Ａ－Ｔ_Ｂ）
“Ｔ_Ａ－Ｔ_Ｂ”は、基体４１以外の層の平均総厚を意味し、“Ｔ_Ｂ／（Ｔ_Ａ－Ｔ_Ｂ）”は、基体４１以外の層の平均総厚に対する基体４１の平均厚みの割合を意味する。第１の実施形態においては、“Ｔ_Ａ－Ｔ_Ｂ”は、磁気テープＭＴを構成する全ての塗布層（すなわち、下地層４２、磁性層４３およびバック層４４）の平均厚みの合計値を意味する。

Ｔ_Ｂ／（Ｔ_Ａ－Ｔ_Ｂ）＜４．０である場合には、基体４１以外の層の平均総厚（Ｔ_Ａ－Ｔ_Ｂ）が基体４１の平均厚みＴ_Ｂに対して厚くなりすぎ、記録再生装置５０による磁気テープＭＴの長手方向のテンション調整に対して、磁気テープＭＴの幅が変化し難くなる。したがって、磁気テープＭＴの長手方向のテンションの調整により、オフトラックを抑制することが困難になる。

磁気テープＭＴの平均厚みＴ_Ａおよび基体４１の平均厚みＴ_Ｂが以下の関係式を満たすことが好ましい。
４．０≦Ｔ_Ｂ／（Ｔ_Ａ－Ｔ_Ｂ）≦８．３
８．３＜Ｔ_Ｂ／（Ｔ_Ａ－Ｔ_Ｂ）である場合、基体４１の厚みが厚くなりすぎ、１データカートリッジ内に記録できる記録容量が低下する。あるいは、基体４１以外の層の平均総厚（Ｔ_Ａ－Ｔ_Ｂ）が薄くなりすぎ、基体４１以外の層（塗布層）の厚みの均一性が低下する。

磁気テープＭＴの平均厚みＴ_Ａおよび基体４１の平均厚みＴ_Ｂの測定方法は、上述した通りである。

（基体以外の層の平均総厚）
磁気テープＭＴの平均厚みＴ_Ａおよび基体の平均厚みＴ_Ｂが、以下の関係式（Ａ）を満たすことが好ましく、以下の関係式（Ｂ）を満たすことがより好ましい。
０．５５「μｍ」≦Ｔ_Ａ－Ｔ_Ｂ≦１．１「μｍ」 ・・・（Ａ）
０．７「μｍ」≦Ｔ_Ａ－Ｔ_Ｂ≦１．１「μｍ」 ・・・（Ｂ）
“Ｔ_Ａ－Ｔ_Ｂ”は、上述したように、基体４１以外の層の平均総厚を意味する。０．５５「μｍ」≦Ｔ_Ａ－Ｔ_Ｂである場合、基体４１以外の層の平均総厚（Ｔ_Ａ－Ｔ_Ｂ）が薄くなりすぎることを抑制することができるので、基体４１以外の層（塗布層）の厚みの均一性が低下ことを抑制することができる。一方、Ｔ_Ａ－Ｔ_Ｂ≦１．１「μｍ」である場合、基体４１以外の層の平均総厚（Ｔ_Ａ－Ｔ_Ｂ）が厚くなりすぎることを抑制することができるので、記録再生装置５０による磁気テープＭＴの長手方向のテンション調整に対して、磁気テープＭＴの幅が変化し易くなる。したがって、オフトラック特性を向上することができる。

磁気テープＭＴの平均厚みＴ_Ａおよび基体４１の平均厚みＴ_Ｂの測定方法は、上述した通りである。

（保磁力Ｈｃ）
磁気テープＭＴの長手方向における磁性層４３の保磁力Ｈｃの上限値が、好ましくは２０００Ｏｅ以下、より好ましくは１９００Ｏｅ以下、さらにより好ましくは１８００Ｏｅ以下である。長手方向における磁性層４３の保磁力Ｈｃが２０００Ｏｅ以下であると、高記録密度であっても十分な電磁変換特性を有することができる。

磁気テープＭＴの長手方向に測定した磁性層４３の保磁力Ｈｃの下限値が、好ましくは１０００Ｏｅ以上である。長手方向に測定した磁性層４３の保磁力Ｈｃが１０００Ｏｅ以上であると、記録ヘッドからの漏れ磁束による減磁を抑制することができる。

上記の保磁力Ｈｃは以下のようにして求められる。まず、長尺状の磁気テープＭＴから測定サンプルを切り出し、振動試料型磁力計（Vibrating Sample Magnetometer：ＶＳＭ）を用いて測定サンプルの長手方向（磁気テープＭＴの走行方向）に測定サンプル全体のＭ－Ｈループを測定する。次に、アセトンまたはエタノール等を用いて塗膜（下地層４２、磁性層４３およびバック層４４等）を払拭し、基体４１のみを残してバックグラウンド補正用のサンプルとし、ＶＳＭを用いて基体４１の長手方向（磁気テープＭＴの走行方向）に基体４１のＭ－Ｈループを測定する。その後、測定サンプル全体のＭ－Ｈループから基体４１のＭ－Ｈループを引き算して、バックグラウンド補正後のＭ－Ｈループを得る。得られたＭ－Ｈループから保磁力Ｈｃを求める。なお、上記のＭ－Ｈループの測定はいずれも、２５℃にて行われるものとする。また、Ｍ－Ｈループを磁気テープＭＴの長手方向に測定する際の“反磁界補正”は行わないものとする。また、使用するＶＳＭの感度に合わせて、測定するサンプルを複数枚重ねてＭ－Ｈループを測定してもよい。

（角形比）
磁気テープＭＴの垂直方向（厚み方向）における磁性層４３の角形比Ｓ１が、好ましくは６５％以上、より好ましくは７０％以上、さらにより好ましくは７５％以上、特に好ましくは８０％以上、最も好ましくは８５％以上である。角形比Ｓ１が６５％以上であると、磁性粉の垂直配向性が十分に高くなるため、より優れた電磁変換特性（例えばＳＮＲ）を得ることができる。

角形比Ｓ１は以下のようにして求められる。まず、長尺状の磁気テープＭＴから測定サンプルを切り出し、ＶＳＭを用いて磁気テープＭＴの垂直方向（厚み方向）に対応する測定サンプル全体のＭ－Ｈループを測定する。次に、アセトンまたはエタノール等を用いて塗膜（下地層４２、磁性層４３およびバック層４４等）を払拭し、基体４１のみを残して、バックグラウンド補正用のサンプルとし、ＶＳＭを用いて基体４１の垂直方向（磁気テープＭＴの垂直方向）に対応する基体４１のＭ－Ｈループを測定する。その後、測定サンプル全体のＭ－Ｈループから基体４１のＭ－Ｈループを引き算して、バックグラウンド補正後のＭ－Ｈループを得る。得られたＭ－Ｈループの飽和磁化Ｍｓ（ｅｍｕ）および残留磁化Ｍｒ（ｅｍｕ）を以下の式に代入して、角形比Ｓ１（％）を計算する。なお、上記のＭ－Ｈループの測定はいずれも、２５℃にて行われるものとする。また、Ｍ－Ｈループを磁気テープＭＴの垂直方向に測定する際の“反磁界補正”は行わないものとする。また、使用するＶＳＭの感度に合わせて、測定するサンプルを複数枚重ねてＭ－Ｈループを測定してもよい。
角形比Ｓ１（％）＝（Ｍｒ／Ｍｓ）×１００

磁気テープＭＴの長手方向（走行方向）における磁性層４３の角形比Ｓ２が、好ましくは３５％以下、より好ましくは３０％以下、さらにより好ましくは２５％以下、特に好ましくは２０％以下、最も好ましくは１５％以下である。角形比Ｓ２が３５％以下であると、磁性粉の垂直配向性が十分に高くなるため、より優れた電磁変換特性（例えばＳＮＲ）を得ることができる。

角形比Ｓ２は、Ｍ－Ｈループを磁気テープＭＴおよび基体４１の長手方向（走行方向）に測定すること以外は角形比Ｓ１と同様にして求められる。

（Ｈｃ２／Ｈｃ１）
垂直方向における磁性層４３の保磁力Ｈｃ１と、長手方向における磁性層４３の保磁力Ｈｃ２の比Ｈｃ２／Ｈｃ１が、Ｈｃ２／Ｈｃ１≦０．８、好ましくはＨｃ２／Ｈｃ１≦０．７５、より好ましくはＨｃ２／Ｈｃ１≦０．７、さらにより好ましくはＨｃ２／Ｈｃ１≦０．６５、特に好ましくはＨｃ２／Ｈｃ１≦０．６の関係を満たす。保磁力Ｈｃ１、Ｈｃ２がＨｃ２／Ｈｃ１≦０．８の関係を満たすことで、磁性粉の垂直配向度を高めることができる。したがって、磁化遷移幅を低減し、かつ信号再生時に高出力の信号を得ることができるので、電磁変換特性（例えばＳＮＲ）を向上することができる。なお、上述したように、Ｈｃ２が小さいと、記録ヘッドからの垂直方向の磁界により感度良く磁化が反応するため、良好な記録パターンを形成することができる。

比Ｈｃ２／Ｈｃ１がＨｃ２／Ｈｃ１≦０．８である場合、磁性層４３の平均厚みが９０ｎｍ以下であることが特に有効である。磁性層４３の平均厚みが９０ｎｍを超えると、記録ヘッドとしてリング型ヘッドを用いた場合に、磁性層４３の下部領域（下地層４２側の領域）が長手方向に磁化されてしまい、磁性層４３を厚み方向に均一に磁化することができなくなる虞がある。したがって、比Ｈｃ２／Ｈｃ１をＨｃ２／Ｈｃ１≦０．８としても（すなわち、磁性粉の垂直配向度を高めても）、電磁変換特性（例えばＳＮＲ）を向上することができなくなる虞がある。

Ｈｃ２／Ｈｃ１の下限値は特に限定されるものではないが、例えば０．５≦Ｈｃ２／Ｈｃ１である。なお、Ｈｃ２／Ｈｃ１は磁性粉の垂直配向度を表しており、Ｈｃ２／Ｈｃ１が小さいほど磁性粉の垂直配向度が高くなる。

垂直方向における磁性層４３の保磁力Ｈｃ１は、上述の角形比Ｓ１の算出方法と同様にして、バックグラウンド補正後のＭ－Ｈループを得たのち、このＭ－Ｈループから求められる。長手方向における磁性層４３の保磁力Ｈｃ２の算出方法は、上述した通りである。

（ＳＦＤ）
磁気テープＭＴのＳＦＤ（Switching Field Distribution）曲線において、メインピーク高さＸと磁場ゼロ付近のサブピークの高さＹとのピーク比Ｘ／Ｙが、好ましくは３．０以上、より好ましくは５．０以上、さらにより好ましくは７．０以上、特に好ましくは１０．０以上、最も好ましくは２０．０以上である（図９参照）。ピーク比Ｘ／Ｙが３．０以上であると、実際の記録に寄与するε酸化鉄粒子の他にε酸化鉄特有の低保磁力成分（例えば軟磁性粒子や超常磁性粒子等）が磁性粉中に多く含まれることを抑制できる。したがって、記録ヘッドからの漏れ磁界により、隣接するトラックに記録された磁化信号が劣化することを抑制できるので、より優れた電磁変換特性（例えばＳＮＲ）を得ることができる。ピーク比Ｘ／Ｙの上限値は特に限定されるものではないが、例えば１００以下である。

上記のピーク比Ｘ／Ｙは、以下のようにして求められる。まず、上記の角形比Ｓ１の測定方法と同様にして、バックグラウンド補正後のＭ－Ｈループを得る。次に、得られたＭ－ＨループからＳＦＤカーブを算出する。ＳＦＤカーブの算出には測定機に付属のプログラムを用いてもよいし、その他のプログラムを用いてもよい。算出したＳＦＤカーブがＹ軸（ｄＭ／ｄＨ）を横切る点の絶対値を「Ｙ」とし、Ｍ－Ｈループで言うところの保磁力Ｈｃ近傍に見られるメインピークの高さを「Ｘ」として、ピーク比Ｘ／Ｙを算出する。なお、Ｍ－Ｈループの測定は、上記の保磁力Ｈｃの測定方法と同様に２５℃にて行われるものとする。また、Ｍ－Ｈループを磁気テープＭＴの厚み方向（垂直方向）に測定する際の“反磁界補正”は行わないものとする。また、使用するＶＳＭの感度に合わせて、測定するサンプルを複数枚重ねてＭ－Ｈループを測定してもよい。

（活性化体積Ｖ_ａｃｔ）
活性化体積Ｖ_ａｃｔが、好ましくは８０００ｎｍ^３以下、より好ましくは６０００ｎｍ^３以下、さらにより好ましくは５０００ｎｍ^３以下、特に好ましくは４０００ｎｍ^３以下、最も好ましくは３０００ｎｍ^３以下である。活性化体積Ｖ_ａｃｔが８０００ｎｍ^３以下であると、磁性粉の分散状態が良好になるため、ビット反転領域を急峻にすることができ、記録ヘッドからの漏れ磁界により、隣接するトラックに記録された磁化信号が劣化することを抑制できる。したがって、より優れた電磁変換特性（例えばＳＮＲ）が得られなくなる虞がある。

上記の活性化体積Ｖ_ａｃｔは、Ｓｔｒｅｅｔ＆Ｗｏｏｌｌｅｙにより導出された下記の式により求められる。
Ｖ_ａｃｔ（ｎｍ^３）＝ｋ_Ｂ×Ｔ×Χ_ｉｒｒ／（μ_０×Ｍｓ×Ｓ）
（但し、ｋ_Ｂ：ボルツマン定数（１．３８×１０^－２３Ｊ／Ｋ）、Ｔ：温度（Ｋ）、Χ_ｉｒｒ：非可逆磁化率、μ_０：真空の透磁率、Ｓ：磁気粘性係数、Ｍｓ：飽和磁化（ｅｍｕ／ｃｍ^３））

上記式に代入される非可逆磁化率Χ_ｉｒｒ、飽和磁化Ｍｓおよび磁気粘性係数Ｓは、ＶＳＭを用いて以下のようにして求められる。なお、ＶＳＭによる測定方向は、磁気テープＭＴの厚み方向（垂直方向）とする。また、ＶＳＭによる測定は、長尺状の磁気テープＭＴから切り出された測定サンプルに対して２５℃にて行われるものとする。また、Ｍ－Ｈループを磁気テープＭＴの厚み方向（垂直方向）に測定する際の“反磁界補正”は行わないものとする。

（非可逆磁化率Χ_ｉｒｒ）
非可逆磁化率Χ_ｉｒｒは、残留磁化曲線（ＤＣＤ曲線）の傾きにおいて、残留保磁力Ｈｒ付近における傾きと定義される。まず、磁気テープＭＴ全体に－１１９３ｋＡ／ｍ（１５ｋＯｅ）の磁界を印加し、磁界をゼロに戻し残留磁化状態とする。その後、反対方向に約１５．９ｋＡ／ｍ（２００Ｏｅ）の磁界を印加し再びゼロに戻し残留磁化量を測定する。その後も同様に、先ほどの印加磁界よりもさらに１５．９ｋＡ／ｍ大きい磁界を印加しゼロに戻す測定を繰り返し行い、印加磁界に対して残留磁化量をプロットしＤＣＤ曲線を測定する。得られたＤＣＤ曲線から、磁化量ゼロとなる点を残留保磁力Ｈｒとし、さらにＤＣＤ曲線を微分し、各磁界におけるＤＣＤ曲線の傾きを求める。このＤＣＤ曲線の傾きにおいて、残留保磁力Ｈｒ付近の傾きがΧ_ｉｒｒとなる。

（飽和磁化Ｍｓ）
まず、上記の角形比Ｓ１の測定方法と同様にして、バックグラウンド補正後のＭ－Ｈループを得る。次に、得られたＭ－Ｈループの飽和磁化Ｍｓ（ｅｍｕ）の値と、測定サンプル中の磁性層４３の体積（ｃｍ^３）から、Ｍｓ（ｅｍｕ／ｃｍ^３）を算出する。なお、磁性層４３の体積は測定サンプルの面積に磁性層４３の平均厚みを乗ずることにより求められる。磁性層４３の体積の算出に必要な磁性層４３の平均厚みの算出方法は、上述した通りである。

（磁気粘性係数Ｓ）
まず、磁気テープＭＴ（測定サンプル）全体に－１１９３ｋＡ／ｍ（１５ｋＯｅ）の磁界を印加し、磁界をゼロに戻し残留磁化状態とする。その後、反対方向に、ＤＣＤ曲線より得られた残留保磁力Ｈｒの値と同等の磁界を印加する。磁界を印加した状態で１０００秒間、磁化量を一定の時間間隔で継続的に測定する。このようにして得られた、時間ｔと磁化量Ｍ（ｔ）の関係を以下の式に照らし合わせて、磁気粘性係数Ｓを算出する。
Ｍ（ｔ）＝Ｍ０＋Ｓ×ｌｎ（ｔ）
（但し、Ｍ（ｔ）：時間ｔの磁化量、Ｍ０：初期の磁化量、Ｓ：磁気粘性係数、ｌｎ（ｔ）：時間の自然対数）

（寸法変化量Δｗ）
磁気テープＭＴの長手方向のテンション変化に対する磁気テープＭＴの幅方向の寸法変化量Δｗ［ｐｐｍ／Ｎ］は、好ましくは６５０ｐｐｍ／Ｎ≦Δｗであり、より好ましくは７００ｐｐｍ／Ｎ≦Δｗであり、さらにより好ましくは７５０ｐｐｍ／Ｎ≦Δｗであり、特に好ましくは８００ｐｐｍ／Ｎ≦Δｗである。寸法変化量Δｗが６５０ｐｐｍ／Ｎ≦Δｗであると、記録再生装置５０による磁気テープＭＴの長手方向のテンションの調整により、磁気テープＭＴの幅の変化をさらに効果的に抑制することができる。寸法変化量Δｗの上限値は特に限定されるものではないが、例えばΔｗ≦１７０００００ｐｐｍ／Ｎ、好ましくはΔｗ≦２００００ｐｐｍ／Ｎ、より好ましくはΔｗ≦８０００ｐｐｍ／Ｎ、さらにより好ましくはΔｗ≦５０００ｐｐｍ／Ｎ、Δｗ≦４０００ｐｐｍ／Ｎ、Δｗ≦３０００ｐｐｍ／Ｎ、またはΔｗ≦２０００ｐｐｍ／Ｎでありうる。

寸法変化量Δｗは、基体４１の選択により所望の値に設定することが可能である。例えば、寸法変化量Δｗは、基体４１の厚みおよび基体４１の材料の少なくとも一方を選択することにより所望の値に設定され得る。また、寸法変化量Δｗは、例えば基体４１の幅方向および長手方向の延伸強度を調整することによって、所望の値に設定されてもよい。例えば、基体４１の幅方向により強く延伸することによって、寸法変化量Δｗはより低下し、反対に、基体４１の長手方向における延伸を強めることによって、寸法変化量Δｗは上昇する。

寸法変化量Δｗは以下のようにして求められる。まず、１／２インチ幅の磁気テープＭＴを準備し、それを２５０ｍｍの長さに切り出し、サンプル１０Ｓを取得する。次に、サンプル１０Ｓの長手方向に０．２Ｎ、０．６Ｎ、１．０Ｎの順で荷重をかけ、０．２Ｎ、０．６Ｎ、および１．０Ｎの荷重におけるサンプル１０Ｓの幅を測定する。続いて、以下の式より寸法変化量Δｗを求める。なお、０．６Ｎの荷重をかけた場合の測定は、測定において異常が生じていないかを確認するため（特にはこれら３つの測定結果が直線的になっていることを確認するため）に行われるものであり、その測定結果は以下の式において用いられない。

（但し、式中、Ｄ（０．２Ｎ）およびＤ（１．０Ｎ）はそれぞれ、サンプル１０Ｓの長手方向に０．２Ｎおよび１．０Ｎの荷重をかけたときのサンプル１０Ｓの幅を示す。）

各荷重をかけたときのサンプル１０Ｓの幅は以下のようにして測定される。まず、上述した最大値ｗ_maxおよび最小値ｗ_minの求め方と同様にして、取得したサンプル１０Ｓを測定装置２１０にセットする。次に、温度２５℃相対湿度５０％の一定環境下に制御されたチャンバー内に測定装置２１０を収容したのち、サンプル１０Ｓの他端に、０．２Ｎの荷重をかけるための重り２３３を取り付け、サンプル１０Ｓを上記環境内に２時間以上保持し、磁気テープＭＴを上記環境に馴染ませる。２時間置以上保持したのち、サンプル１０Ｓの幅を測定する。次に、０．２Ｎの荷重をかけるための重りを、０．６Ｎの荷重をかけるための重りに変更し、当該変更の５分後にサンプル１０Ｓの幅を測定する。最後に、１．０Ｎの荷重をかけるための重りに変更し、当該変更の５分後にサンプル１０Ｓの幅を測定する。

（温度膨張係数α）
磁気テープＭＴの温度膨張係数αは、６［ｐｐｍ／℃］≦α≦８［ｐｐｍ／℃］であることが好ましい。温度膨張係数αが上記範囲であると、記録再生装置５０による磁気テープＭＴの長手方向のテンションの調整により、磁気テープＭＴの幅の変化を更に抑制することができる。

温度膨張係数αは以下のようにして求められる。まず、寸法変化量Δｗの測定方法と同様にしてサンプル１０Ｓを作製し、寸法変化量Δｗの測定方法と同様の測定装置２１０にサンプル１０Ｓをセットしたのち、測定装置２１０を温度２９℃相対湿度２４％の一定環境に制御されたチャンバー内に収容する。次に、サンプル１０Ｓの長手方向に０．２Ｎの荷重をかけ、上記環境にサンプル１０Ｓを馴染ませる。その後、相対湿度２４％を保持したまま、４５℃、２９℃、１０℃の順で温度を変え、４５℃、１０℃におけるサンプル１０Ｓの幅を測定し、以下の式より温度膨張係数αを求める。なお、温度２９℃におけるサンプル１０Ｓの幅の測定は、測定において異常が生じていないかを確認するため（特にはこれら３つの測定結果が直線的になっていることを確認するため）に行われるものであり、その測定結果は以下の式において用いられない。

（但し、式中、Ｄ（４５℃）、Ｄ（１０℃）はそれぞれ、温度４５℃、１０℃におけるサンプル１０Ｓの幅を示す。）

（湿度膨張係数β）
磁気テープＭＴの湿度膨張係数βは、β≦５［ｐｐｍ／％ＲＨ］であることが好ましい。湿度膨張係数βが上記範囲であると、記録再生装置５０による磁気テープＭＴの長手方向のテンションの調整により、磁気テープＭＴの幅の変化を更に抑制することができる。

湿度膨張係数βは以下のようにして求められる。まず、寸法変化量Δｗの測定方法と同様にしてサンプル１０Ｓを作製し、寸法変化量Δｗの測定方法と同様の測定装置２１０にサンプル１０Ｓをセットしたのち、測定装置２１０を温度２９℃相対湿度２４％の一定環境に制御されたチャンバー内に収容する。次に、サンプル１０Ｓの長手方向に０．２Ｎの荷重をかけ、上記環境にサンプル１０Ｓを馴染ませる。その後、温度２９℃を保持したまま、８０％、２４％、１０％の順で相対湿度を変え、８０％、１０％におけるサンプル１０Ｓの幅を測定し、以下の式より湿度膨張係数βを求める。なお、湿度２４％におけるサンプル１０Ｓの幅の測定は、測定において異常が生じていないかを確認するため（特にはこれら３つの測定結果が直線的になっていることを確認するため）に行われるものであり、その測定結果は以下の式において用いられない。

（但し、式中、Ｄ（８０％）、Ｄ（１０％）はそれぞれ、相対湿度８０％、１０％におけるサンプル１０Ｓの幅を示す。）

（ポアソン比ρ）
磁気テープＭＴのポアソン比ρは、０．３≦ρであることが好ましい。ポアソン比ρが上記範囲であると、記録再生装置５０による磁気テープＭＴの長手方向のテンションの調整により、磁気テープＭＴの幅の変化を更に抑制することができる。

ポアソン比ρは以下のようにして求められる。まず、１／２インチ幅の磁気テープＭＴを準備し、それを１５０ｍｍの長さに切り出しサンプルを作製したのち、そのサンプルの中央部に６ｍｍ×６ｍｍのサイズのマークを付与する。次に、チャック間の距離が１００ｍｍとなるようにサンプルの長手方向の両端部をチャックし、初期荷重２Ｎをかけ、その際のサンプルの長手方向のマークの長さを初期長とし、サンプルの幅方向のマークの幅を初期幅とする。続いて、引張速度０．５ｍｍ／ｍｉｎで、インストロンタイプの万能引張試験装置にて引張り、キーエンス製イメージセンサーにて、サンプルの長手方向のマークの長さ、およびサンプルの幅方向のマークの幅それぞれの寸法変化量を測定する。その後、以下の式よりポアソン比ρを求める。

（長手方向の弾性限界値σ_ＭＤ）
磁気テープＭＴの長手方向の弾性限界値σ_ＭＤが、０．８［Ｎ］≦σ_ＭＤであることが好ましい。弾性限界値σ_ＭＤが上記範囲であると、記録再生装置５０による磁気テープＭＴの長手方向のテンションの調整により、磁気テープＭＴの幅の変化を更に抑制することができる。また、記録再生装置５０側の制御がし易くなる。磁気テープＭＴの長手方向の弾性限界値σ_ＭＤの上限値は特に限定されるものではないが、例えばσ_ＭＤ≦５.０［Ｎ］である。弾性限界値σ_ＭＤが、弾性限界測定を行う際の引張速度Ｖに依らないことが好ましい。弾性限界値σ_ＭＤが上記引張速度Ｖに依らないことで、記録再生装置５０における磁気テープＭＴの走行速度や、記録再生装置５０のテンション調整速度とその応答性に影響を受けること無く、効果的に磁気テープＭＴの幅の変化を抑制できるからである。弾性限界値σ_ＭＤは、例えば、下地層４２、磁性層４３およびバック層４４の硬化条件の選択、基体４１の材質の選択により所望の値に設定される。例えば、下地層形成用塗料、磁性層形成用塗料およびバック層形成用塗料の硬化時間を長くするほど、あるいは硬化温度を上げるほど、これらの各塗料に含まれるバインダと硬化剤の反応が促進する。これにより、弾性的な特徴が向上し、弾性限界値σ_ＭＤが向上する。

弾性限界値σ_ＭＤは以下のようにして求められる。まず、１／２インチ幅の磁気テープＭＴを準備し、それを１５０ｍｍの長さに切り出しサンプルを作製し、チャック間距離λ_０がλ_０＝１００ｍｍとなるように、万能引張試験装置にサンプルの長手方向の両端をチャックする。次に、引張速度０．５ｍｍ／ｍｉｎでサンプルを引張り、チャック間距離λ（ｍｍ）に対する荷重σ（Ｎ）を連続的に計測する。続いて、得られたλ（ｍｍ）、σ（Ｎ）のデータを用い、Δλ（％）とσ（Ｎ）の関係をグラフ化する。但し、Δλ（％）は以下の式により与えられる。
Δλ（％）＝（（λ－λ０）／λ０）×１００
次に、上記のグラフ中、σ≧０．２Ｎの領域で、グラフが直線となる領域を算出し、その最大荷重σを弾性限界値σ_ＭＤ（Ｎ）とする。

（層間摩擦係数μ）
磁性面とバック面の層間摩擦係数μが、０．２０≦μ≦０．８０であることが好ましい。層間摩擦係数μが上記範囲であると、磁気テープＭＴをリール（例えば図２のリール１３）に巻いたときに、巻ズレが発生することを抑制できる。より具体的には、層間摩擦係数μがμ＜０．２０であると、カートリッジリールに既に巻かれている磁気テープＭＴのうち最外周に位置する部分の磁性面と、その外側に新たに巻こうとしている磁気テープＭＴのバック面との間の層間摩擦が極端に低い状態となり、新たに巻こうとしている磁気テープＭＴが、既に巻かれている磁気テープＭＴのうち最外周に位置する部分の磁性面からズレやすくなる。したがって、磁気テープＭＴの巻ズレが発生する。一方、層間摩擦係数μが０．８０＜μであると、ドライブ側リールの最外周から正に巻き出されようとしている磁気テープＭＴのバック面と、その直下に位置する、未だドライブリールに巻かれたままの磁気テープＭＴの磁性面との間の層間摩擦が極端に高い状態となり、上記バック面と上記磁性面とが貼り付いた状態となる。したがって、カートリッジリールへと向かう磁気テープＭＴの動作が不安定となり、これにより磁気テープＭＴの巻ズレが発生する。

層間摩擦係数μは以下のようにして求められる。まず、１インチ径の円柱に、１／２インチ幅の磁気テープＭＴをバック面を表にして巻き付け、磁気テープＭＴを固定する。次に、この円柱に対し、１／２インチ幅の磁気テープＭＴを今度は磁性面が接触する様に抱き角θ（°）＝１８０°＋１°～１８０°－１０°で接触させ、磁気テープＭＴの一端を可動式ストレインゲージと繋ぎ、他方端にテンションＴ０＝０．６（Ｎ）を付与する。可動式ストレインゲージを０．５ｍｍ／ｓにて８往復させた際の各往路でのストレインゲージの読みＴ１（Ｎ）～Ｔ８（Ｎ）を測定し、Ｔ４～Ｔ８の平均値をＴ_ａｖｅ（Ｎ）とする。その後、以下の式より層間摩擦係数μを求める。

（バック面の表面粗度Ｒ_ｂ）
バック面の表面粗度（バック層４４の表面粗度）Ｒ_ｂが、Ｒ_ｂ≦６．０［ｎｍ］であることが好ましい。バック面の表面粗度Ｒ_ｂが上記範囲であると、電磁変換特性を向上することができる。

バック面の表面粗度Ｒ_ｂは以下のようにして求められる。まず、１／２インチ幅の磁気テープＭＴを準備し、そのバック面を上にしてスライドガラスに貼り付け、試験片とする。次に、その試験片のバック面を下記の光干渉を用いた非接触粗度計により、面粗度を測定する。
装置：光干渉を用いた非接触粗度計
（株式会社菱化システム製 非接触表面・層断面形状計測システム VertScan R5500GL-M100-AC）
対物レンズ：２０倍（約２３７μｍ×１７８μｍ視野）
分解能：６４０points×４８０points
測定モード：ｐｈａｓｅ
波長フィルター：５２０ｎｍ
面補正：２次多項式近似面にて補正
上述のようにして、長手方向で少なくとも５点以上の位置にて面粗度を測定したのち、各位置で得られた表面プロファイルから自動計算されたそれぞれの算術平均粗さＳａ（ｎｍ）の平均値をバック面の表面粗度Ｒ_ｂ（ｎｍ）とする。

（磁気テープの長手方向のヤング率）
磁気テープＭＴの長手方向のヤング率は、好ましくは８．０ＧＰａ未満、より好ましくは７．９ＧＰａ以下、さらにより好ましくは７．５ＧＰａ以下、特に好ましくは７．１ＧＰａ以下である。磁気テープＭＴの長手方向のヤング率が８．０ＧＰａ未満であると、外力による磁気テープＭＴの伸縮性がさらに高くなるため、テンションコントロールによる磁気テープＭＴの幅の調整がさらに容易となる。したがって、オフトラックをさらに適切に抑制することができ、磁気テープＭＴに記録されたデータをさらに正確に再生することが可能となる。

磁気テープＭＴの長手方向のヤング率は、外力による磁気テープＭＴの長手方向における伸縮のし難さを示す値であり、この値が大きいほど外力により磁気テープＭＴは長手方向に伸縮し難く、この値が小さいほど外力により磁気テープＭＴは長手方向に伸縮しやすい。

なお、磁気テープＭＴの長手方向のヤング率は、磁気テープＭＴの長手方向に関する値であるが、磁気テープＭＴの幅方向の伸縮のし難さとも相関がある。つまり、この値が大きいほど磁気テープＭＴは外力により幅方向に伸縮し難く、この値が小さいほど磁気テープＭＴは外力により幅方向に伸縮しやすい。したがって、テンションコントロールの観点から、磁気テープＭＴの長手方向のヤング率は、小さい方が有利である。

上記の磁気テープＭＴの長手方向のヤング率は、引っ張り試験機（島津製作所製、ＡＧ－１００Ｄ）を用いて測定される。磁気テープＭＴを１８０ｍｍの長さにカットして測定サンプルを準備する。上記引っ張り試験機に測定サンプルの幅（１／２インチ）を固定できる冶具を取り付け、測定サンプルの上下を固定する。距離は１００ｍｍにする。測定サンプルをチャック後、測定サンプルを引っ張る方向に応力を徐々にかけていく。引っ張り速度は０．１ｍｍ／ｍｉｎとする。この時の応力の変化と伸び量から、以下の式を用いてヤング率を計算する。
Ｅ＝（ΔＮ／Ｓ）／（Δｘ／Ｌ） ×１０^－３
ΔＮ：応力の変化（Ｎ）
Ｓ：試験片の断面積（ｍｍ^２）
Δｘ：伸び量（ｍｍ）
Ｌ：つかみ治具間距離（ｍｍ）
応力の範囲としては０．５Ｎから１．０Ｎとし、この時の応力変化（ΔＮ）と伸び量（Δｘ）を計算に使用する。

（基体４１の長手方向のヤング率）
基体４１の長手方向のヤング率は、好ましくは７．５ＧＰａ未満、より好ましくは７．４ＧＰａ以下、さらにより好ましくは７．０ＧＰａ以下、特に好ましくは６．６ＧＰａ以下である。基体４１の長手方向のヤング率が７．５ＧＰａ未満であると、外力による磁気テープＭＴの伸縮性がさらに高くなるため、テンションコントロールによる磁気テープＭＴの幅の調整がさらに容易となる。したがって、オフトラックをさらに適切に抑制することができ、磁気テープＭＴに記録されたデータをさらに正確に再生することが可能となる。

上記の基体４１の長手方向のヤング率は、次のようにして求められる。まず、磁気テープＭＴから下地層４２、磁性層４３およびバック層４４を除去し、基体４１を得る。この基体４１を用いて、上記の磁気テープＭＴの長手方向のヤング率と同様の手順で基体４１の長手方向のヤング率を求める。

基体４１の厚さは、磁気テープＭＴの全体の厚さの半分以上を占めている。したがって、基体４１の長手方向のヤング率は、外力による磁気テープＭＴの伸縮し難さと相関があり、この値が大きいほど磁気テープＭＴは外力により幅方向に伸縮し難く、この値が小さいほど磁気テープＭＴは外力により幅方向に伸縮しやすい。

なお、基体４１の長手方向のヤング率は、磁気テープＭＴの長手方向に関する値であるが、磁気テープＭＴの幅方向の伸縮のし難さとも相関がある。つまり、この値が大きいほど磁気テープＭＴは外力により幅方向に伸縮し難く、この値が小さいほど磁気テープＭＴは外力により幅方向に伸縮しやすい。したがって、テンションコントロールの観点から、基体４１の長手方向のヤング率は、小さい方が有利である。

（ＢＥＴ比表面積）
潤滑剤を除去した状態における磁気テープＭＴの全体のＢＥＴ比表面積の下限値は、３．５ｍ^２／ｍｇ以上、好ましくは４ｍ^２／ｍｇ以上、より好ましくは４．５ｍ^２／ｍｇ以上、さらにより好ましくは５ｍ^２／ｍｇ以上である。ＢＥＴ比表面積の下限値が３．５ｍ^２／ｍｇ以上であると、繰り返し記録または再生を行った後にも（すなわち磁気ヘッドを磁気テープＭＴの表面に接触させて繰り返し走行を行った後にも）、磁性層４３の表面と磁気ヘッドの間に対する潤滑剤の供給量の低下を抑制することができる。したがって、動摩擦係数の増加を抑制することができる。

潤滑剤を除去した状態における磁気テープＭＴの全体のＢＥＴ比表面積の上限値は、好ましくは７ｍ^２／ｍｇ以下、より好ましくは６ｍ^２／ｍｇ以下、さらにより好ましくは５．５ｍ^２／ｍｇ以下である。ＢＥＴ比表面積の上限値が７ｍ^２／ｍｇ以下であると、多数回走行後にも潤滑剤を枯渇することなく十分に供給できる。したがって、動摩擦係数の増加を抑制することができる。

ＢＪＨ法により求められる磁気テープＭＴの全体の平均細孔直径は、６ｎｍ以上１１ｎｍ以下、好ましくは７ｎｍ以上１０ｎｍ以下、より好ましくは７．５ｎｍ以上１０ｎｍ以下である。平均細孔直径が６ｎｍ以上１１ｎｍ以下であると、上述した動摩擦係数の増加を抑制する効果をさらに向上することができる。

ＢＥＴ比表面積および細孔分布（細孔容積、脱着時最大細孔容積の細孔直径）は以下のようにして求められる。まず、磁気テープＭＴをヘキサンで２４時間洗浄したのち、面積０．１２６５ｍ^２のサイズに切り出すことにより、測定サンプルを作製する。次に、比表面積・細孔分布測定装置を用いて、ＢＥＴ比表面積を求める。また、ＢＪＨ法により細孔分布（細孔容積、脱着時最大細孔容積の細孔直径）を求める。以下に、測定装置および測定条件を示す。
測定装置：Micromeritics社製 3FLEX
測定吸着質：Ｎ_２ガス
測定圧力範囲（ｐ／ｐ０）：０～０．９９５

（算術平均粗さＲａ）
磁性面の算術平均粗さＲａは、好ましくは２．５ｎｍ以下、より好ましくは２．０ｎｍ以下である。Ｒａが２．５ｎｍ以下であると、より優れた電磁変換特性（例えばＳＮＲ）を得ることができる。

上記の算術平均粗さＲａは以下のようにして求められる。まず、ＡＦＭ（Atomic Force Microscope）（ブルカー製、Dimension Icon）を用いて磁性層４３が設けられている側の表面を観察して、断面プロファイルを取得する。次に、取得した断面プロファイルから、ＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１に準拠して算術平均粗さＲａを求める。

［磁気テープの製造方法］
次に、上述の構成を有する磁気テープＭＴの製造方法について説明する。まず、非磁性粉および結着剤等を溶剤に混練、分散させることにより、下地層形成用塗料を調製する。次に、磁性粉および結着剤等を溶剤に混練、分散させることにより、磁性層形成用塗料を調製する。磁性層形成用塗料および下地層形成用塗料の調製には、例えば、以下の溶剤、分散装置および混練装置を用いることができる。

上述の塗料調製に用いられる溶剤としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒、メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸プロピル、乳酸エチル、エチレングリコールアセテート等のエステル系溶媒、ジエチレングリコールジメチルエーテル、２－エトキシエタノール、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、メチレンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素系溶媒等が挙げられる。これらは単独で用いてもよく、適宜混合して用いてもよい。

上述の塗料調製に用いられる混練装置としては、例えば、連続二軸混練機、多段階で希釈可能な連続二軸混練機、ニーダー、加圧ニーダー、ロールニーダー等の混練装置を用いることができるが、特にこれらの装置に限定されるものではない。また、上述の塗料調製に用いられる分散装置としては、例えば、ロールミル、ボールミル、横型サンドミル、縦型サンドミル、スパイクミル、ピンミル、タワーミル、パールミル（例えばアイリッヒ社製「ＤＣＰミル」等）、ホモジナイザー、超音波分散機等の分散装置を用いることができるが、特にこれらの装置に限定されるものではない。

次に、下地層形成用塗料を基体４１の一方の主面に塗布して乾燥させることにより、下地層４２を形成する。続いて、この下地層４２上に磁性層形成用塗料を塗布して乾燥させることにより、磁性層４３を下地層４２上に形成する。なお、乾燥の際に、例えばソレノイドコイルにより、磁性粉を基体４１の厚み方向に磁場配向させる。また、乾燥の際に、例えばソレノイドコイルにより、磁性粉を基体４１の走行方向（長手方向）に磁場配向させたのちに、基体４１の厚み方向に磁場配向させるようにしてもよい。このように長手方向に磁性粉を一旦配向させる処理を施すことで、磁性粉の垂直配向度（すなわち角形比Ｓ１）をさらに向上することができる。磁性層４３の形成後、基体４１の他方の主面にバック層４４を形成する。これにより、磁気テープＭＴが得られる。

角形比Ｓ１、Ｓ２は、例えば、磁性層形成用塗料の塗膜に印加される磁場の強度、磁性層形成用塗料中における固形分の濃度、磁性層形成用塗料の塗膜の乾燥条件（乾燥温度および乾燥時間）を調整することにより所望の値に設定される。塗膜に印加される磁場の強度は、磁性粉の保磁力の２倍以上３倍以下であることが好ましい。角形比Ｓ１をさらに高めるためには（すなわち角形比Ｓ２をさらに低めるためには）、磁性層形成用塗料中における磁性粉の分散状態を向上させることが好ましい。また、角形比Ｓ１をさらに高めるためには、磁性粉を磁場配向させるための配向装置に磁性層形成用塗料が入る前の段階で、磁性粉を磁化させておくことも有効である。なお、上記の角形比Ｓ１、Ｓ２の調整方法は単独で使用されてもよいし、２以上組み合わされて使用されてもよい。

その後、得られた磁気テープＭＴを大径コアに巻き直し、硬化処理を行う。最後に、磁気テープＭＴに対してカレンダー処理を行った後、所定の幅（例えば１／２インチ幅）に裁断する。以上により、目的とする細長い長尺状の磁気テープＭＴが得られる。

［記録再生装置の構成］
記録再生装置５０は、上述の構成を有する磁気テープＭＴの記録および再生を行う。記録再生装置５０は、磁気テープＭＴの長手方向に加わるテンションを調整可能な構成を有している。また、記録再生装置５０は、カートリッジ１０を装填可能な構成を有している。ここでは、説明を容易とするために、記録再生装置５０が、１つのカートリッジ１０を装填可能な構成を有している場合について説明するが、記録再生装置５０が、複数のカートリッジ１０を装填可能な構成を有していてもよい。

記録再生装置５０は、ネットワーク７０を介してサーバ７１およびパーソナルコンピュータ（以下「ＰＣ」という。）７２等の情報処理装置に接続されており、これらの情報処理装置から供給されたデータをカートリッジ１０に記録可能に構成されている。また、これらの情報処理装置からの要求に応じて、カートリッジ１０からデータを再生し、これらの情報処理装置に供給可能に構成されている。記録再生装置５０の最短記録波長は、好ましくは９６ｎｍ以下、より好ましくは８８ｎｍ以下、さらにより好ましくは８０ｎｍ以下である。

記録再生装置５０は、図１に示すように、スピンドル５１と、記録再生装置５０側のリール５２と、スピンドル駆動装置５３と、リール駆動装置５４と、複数のガイドローラ５５と、ヘッドユニット５６と、通信部としてのリーダライタ５７と、通信インターフェース（以下、Ｉ／Ｆ）５８と、制御装置５９とを備えている。

スピンドル５１は、カートリッジ１０を装着可能に構成されている。磁気テープＭＴには、サーボ信号としてハの字状のサーボパターンが予め記録されている。リール５２は、テープローディング機構（図示せず）を介してカートリッジ１０から引き出された磁気テープＭＴの先端（リーダーピン２０）を固定可能に構成される。

スピンドル駆動装置５３は、制御装置５９からの命令に応じて、スピンドル５１を回転させる。リール駆動装置５４は、制御装置５９からの命令に応じて、リール５２を回転させる。複数のガイドローラ５５は、カートリッジ１０とリール５２との間に形成されるテープパスがヘッドユニット５６に対して所定の相対位置関係となるように磁気テープＭＴの走行をガイドする。

磁気テープＭＴに対してデータの記録が行われる際、または磁気テープＭＴからデータの再生が行われる際には、スピンドル駆動装置５３およびリール駆動装置５４により、スピンドル５１およびリール５２が回転駆動され、磁気テープＭＴが走行する。磁気テープＭＴの走行方向は、順方向（カートリッジ１０側からリール５２側に流れる方向）および逆方向（リール５２側からカートリッジ１０側へ流れる方向）での往復が可能とされている。

本実施形態では、スピンドル駆動装置５３によるスピンドル５１の回転の制御、およびリール駆動装置５４によるリール５２の回転の制御により、データ記録時またはデータ再生時における磁気テープＭＴの長手方向のテンションが調整可能とされる。なお、磁気テープＭＴのテンション調整は、スピンドル５１およびリール５２の回転の制御に代えて、またはこの制御に加えて、ガイドローラ５５の移動の制御により行われてもよい。

リーダライタ５７は、制御装置５９からの命令に応じて、カートリッジメモリ１１に対して第１の情報および第２の情報を書き込むことが可能に構成されている。また、リーダライタ５７は、制御装置５９からの命令に応じて、カートリッジメモリ１１から第１の情報および第２の情報を読み出すことが可能に構成されている。リーダライタ５７とカートリッジメモリ１１との間の通信方式としては、例えば、ＩＳＯ１４４４３方式が採用される。第２の情報は、テンション調整情報を含む。テンション調整情報は、データ記録時情報の一例である。

制御装置５９は、例えば、制御部、記憶部、通信部等を含む。制御部は、例えば、ＣＰＵ（Central Processing Unit）等により構成されており、記憶部に記憶されたプログラムに従い、記録再生装置５０の各部を制御する。例えば、制御装置５９は、サーバ７１およびＰＣ７２等の情報処理装置の要求に応じて、情報処理装置から供給されるデータ信号をヘッドユニット５６により磁気テープＭＴに記録する。また、制御装置５９は、サーバ７１およびＰＣ７２等の情報処理装置の要求に応じて、ヘッドユニット５６により、磁気テープＭＴに記録されたデータ信号を再生し、情報処理装置に供給する。

記憶部は、各種のデータや各種のプログラムが記録される不揮発性のメモリと、制御部の作業領域として用いられる揮発性のメモリとを含む。上記各種のプログラムは、光ディスク等の可搬性の記録媒体または半導体メモリ等の可搬性の記憶装置から読み取られてもよいし、ネットワーク上のサーバ装置からダウンロードされてもよい。

制御装置５９は、磁気テープＭＴに対するデータの記録時または磁気テープＭＴからデータの再生時に、ヘッドユニット５６により、隣接する２本のサーボバンドＳＢに記録されたサーボ信号を読み取る。制御装置５９は、２本のサーボバンドＳＢから読み取られるサーボ信号を用いて、ヘッドユニット５６がサーボパターンを追従するように、ヘッドユニット５６の位置を制御する。

制御装置５９は、磁気テープＭＴに対するデータの記録時に、隣接する２本のサーボバンドＳＢから読み取られるサーボ信号の再生波形から、隣接する２本のサーボバンドＳＢ間の距離（磁気テープＭＴの幅方向における距離）ｄ１を求める。そして、求めた距離をリーダライタ５７によりメモリ３６に書き込む。

制御装置５９は、磁気テープＭＴからのデータの再生時に、隣接する２本のサーボバンドＳＢから読み取られるサーボ信号の再生波形から、隣接する２本のサーボバンドＳＢ間の距離（磁気テープＭＴの幅方向における距離）ｄ２を求める。それと共に、制御装置５９は、リーダライタ５７によりメモリ３６から、磁気テープＭＴに対するデータの記録時に求めた、隣接する２本のサーボバンドＳＢ間の距離ｄ１を読み出す。制御装置５９は、磁気テープＭＴに対するデータの記録時に求めたサーボバンドＳＢ間の距離ｄ１と、磁気テープＭＴからのデータの再生時に求めたサーボバンドＳＢ間の距離ｄ２との差分Δｄが規定の範囲内になるように、スピンドル駆動装置５３およびリール駆動装置５４の回転を制御し、磁気テープＭＴの長手方向にかかるテンションを調整する。このテンション調整の制御は、例えばフィードバック制御により行われる。

ヘッドユニット５６は、制御装置５９からの指令に応じて、磁気テープＭＴに対してデータを記録することが可能に構成されている。また、ヘッドユニット５６は、制御装置５９からの指令に応じて、磁気テープＭＴに記録されたデータを再生することが可能に構成されている。ヘッドユニット５６は、例えば、２つのサーボリードヘッドおよび複数のデータライト／リードヘッド等を有している。

サーボリードヘッドは、磁気テープＭＴに記録されたサーボ信号から発生する磁界をＭＲ素子（ＭＲ：Magneto Resistive）等により読み取ることで、サーボ信号を再生可能に構成されている。２つのサーボリードヘッドの幅方向の間隔は、隣接する２本のサーボバンドＳＢ間の距離と略同じとされている。

データライト／リードヘッドは、２つのサーボリードヘッドに挟み込まれる位置に、一方のサーボリードヘッドから他方のサーボリードヘッドに向かう方向に沿って等間隔に配置されている。データライト／リードヘッドは、磁気ギャップから発生する磁界によって、磁気テープＭＴに対してデータを記録することが可能に構成されている。また、データライト／リードヘッドは、磁気テープＭＴに記録されたデータから発生する磁界をＭＲ素子等により読み取ることで、データを再生可能に構成されている。

通信Ｉ／Ｆ５８は、サーバ７１およびＰＣ７２等の情報処理装置と通信するためのものであり、ネットワーク７０に対して接続される。

［データ記録時における記録再生装置の動作］
以下、図１０を参照して、データ記録時における記録再生装置５０の動作の一例について説明する。

まず、制御装置５９は、記録再生装置５０にカートリッジ１０をローディングする（ステップＳ１１）。次に、制御装置５９は、スピンドル５１およびリール５２の回転を制御し、磁気テープＭＴの長手方向に規定のテンションをかけながら磁気テープＭＴを走行させる。そして、制御装置５９は、ヘッドユニット５６のサーボリードヘッドによりサーボ信号を読み取ると共に、ヘッドユニット５６のデータライト／リードヘッドにより磁気テープＭＴに対してデータを記録する（ステップＳ１２）。

このとき、ヘッドユニット５６は、ヘッドユニット５６の２つのサーボリードヘッドにより隣接する２本のサーボバンドＳＢをトレースしながら、ヘッドユニット５６のデータライト／リードヘッドによりデータバンドＤＢに対してデータを記録する。

次に、制御装置５９は、ヘッドユニット５６のサーボリードヘッドにより読み取られたサーボ信号の再生波形から、データ記録時における、隣接する２本のサーボバンドＳＢ間の距離ｄ１を求める（ステップＳ１３）。次に、制御装置５９は、リーダライタ５７により、データ記録時のサーボバンドＳＢ間の距離ｄ１をカートリッジメモリ１１に書き込む（ステップＳ１４）。制御装置５９は、サーボバンドＳＢ間の距離ｄ１を連続的に計測し、カートリッジメモリ１１に書き込んでもよいし、サーボバンドＳＢ間の距離ｄ１を一定間隔で計測し、カートリッジメモリ１１に書き込んでもよい。サーボバンドＳＢ間の距離ｄ１を一定間隔で計測し、カートリッジメモリ１１に書き込む場合には、メモリ３６に書き込まれる情報量を低減することができる。

［データ再生時における記録再生装置の動作］
以下、図１１を参照して、データ再生時における記録再生装置５０の動作の一例について説明する。

まず、制御装置５９は、記録再生装置５０にカートリッジ１０をローディングする（ステップＳ２１）。次に、制御装置５９は、リーダライタ５７によりカートリッジメモリ１１から記録時のサーボバンドＳＢ間の距離ｄ１を読み出す（ステップＳ２２）。

次に、制御装置５９は、スピンドル５１およびリール５２の回転を制御し、磁気テープＭＴの長手方向に規定のテンションをかけながら磁気テープＭＴを走行させる。そして、制御装置５９は、ヘッドユニット５６のサーボリードヘッドによりサーボ信号を読み取ると共に、ヘッドユニット５６のデータライト／リードヘッドにより磁気テープＭＴからデータを再生する（ステップＳ２３）。

次に、制御装置５９は、ヘッドユニット５６のサーボリードヘッドにより読み取られたサーボ信号の再生波形から、データ再生時における、隣接する２本のサーボバンドＳＢ間の距離ｄ２を算出する（ステップＳ２４）。

次に、制御装置５９は、ステップＳ２２において読み出したサーボバンドＳＢ間の距離ｄ１と、ステップＳ２４において算出したサーボバンドＳＢ間の距離ｄ２との差分Δｄが規定値以内であるか否かを判断する（ステップＳ２５）。

ステップＳ２５にて差分Δｄが規定値以内であると判断された場合には、制御装置５９は、規定のテンションが維持されるように、スピンドル５１およびリール５２の回転を制御する（ステップＳ２６）。

一方、ステップＳ２５にて差分Δｄが規定値以内でないと判断された場合には、制御装置５９は、差分Δｄが小さくなるように、スピンドル５１およびリール５２の回転の制御し、走行する磁気テープＭＴにかかるテンションを調整し、処理をステップＳ２４に戻す（ステップＳ２７）。

［効果］
以上説明したように、第１の実施形態に係る磁気テープＭＴでは、垂直方向における磁性層４３の角形比Ｓ１が、６５％以上である。これにより、データトラック幅が１５００ｎｍ以下である磁気テープＭＴにおいて、良好な電磁変換特性（例えばＳＮＲ）を得ることができる。

また、第１の実施形態に係る磁気テープＭＴでは、磁気テープＭＴの平均厚みＴ_Ａおよび基体４１の平均厚みＴ_Ｂが４．０≦Ｔ_Ｂ／（Ｔ_Ａ－Ｔ_Ｂ）の関係を満たす。これにより、記録再生装置５０による磁気テープＭＴの長手方向のテンション調整に対して、磁気テープＭＴの幅が変化し易くなる。したがって、磁気テープＭＴ（カートリッジ１０）の周囲の環境温度や湿度の変化に伴い、磁気テープＭＴの幅が変化した場合、磁気テープＭＴの長手方向のテンションを調整することで、磁気テープＭＴの幅を一定またはほぼ一定に保つことができる。したがって、データトラック幅が１５００ｎｍ以下である磁気テープＭＴにおいても、磁気テープＭＴのオフトラックを抑制することができる。

さらに、第１の実施形態に係る磁気テープＭＴでは、温度、相対湿度が（１０℃、１０％）、（１０℃、８０％）、（２９℃、８０％）、（４５℃、１０％）である４つの環境下で測定された磁気テープＭＴの幅の平均値のうちの最大値、最小値をそれぞれｗ_max、ｗ_minとした場合、ｗ_maxおよびｗ_minが（ｗ_max－ｗ_min）／ｗ_min≦４００［ｐｐｍ］の関係を満たす。これにより、磁気テープＭＴ（カートリッジ１０）の周囲の環境温度や湿度が変化した場合にも、磁気テープＭＴの幅の変動を抑制することができる。したがって、上述のテンション調整によりオフトラックを抑制可能な範囲を超えて、磁気テープＭＴの幅が変動してしまうことを抑制することができる。

＜２ 第２の実施形態＞
［記録再生装置の構成］
図１２は、本開示の第２の実施形態に係る記録再生システム１００Ａの構成の一例を示す概略図である。記録再生システム１００Ａは、カートリッジ１０と、記録再生装置５０Ａとを備える。

記録再生装置５０Ａは、温度計６０と、湿度計６１とをさらに備える。温度計６０は、磁気テープＭＴ（カートリッジ１０）の周囲の温度を測定し、制御装置５９へ出力する。また、湿度計６１は、磁気テープＭＴ（カートリッジ１０）の周囲の湿度を測定し、制御装置５９へ出力する。

制御装置５９は、磁気テープＭＴに対するデータの記録時に、温度計６０および湿度計６１により、磁気テープＭＴ（カートリッジ１０）の周囲の温度Ｔｍ１および湿度Ｈ１を測定し、リーダライタ５７を介してカートリッジメモリ１１に書き込む。温度Ｔｍ１および湿度Ｈ１は、磁気テープＭＴの周囲の環境情報の一例である。

制御装置５９は、磁気テープＭＴに対するデータの記録時に、スピンドル５１およびリール５２の駆動データに基づいて、磁気テープＭＴの長手方向にかけられていたテンションＴｎ１を求め、リーダライタ５７を介してカートリッジメモリ１１に書き込む。

制御装置５９は、磁気テープＭＴに対するデータの記録時に、隣接する２本のサーボバンドＳＢから読み取られるサーボ信号の再生波形から、隣接する２本のサーボバンドＳＢ間の距離ｄ１を求める。そして、この距離ｄ１に基づいて、データ記録時の磁気テープＭＴの幅Ｗ１を算出し、リーダライタ５７によりメモリ３６に書き込む。

制御装置５９は、磁気テープＭＴからのデータの再生時に、温度計６０および湿度計６１により、磁気テープＭＴ（カートリッジ１０）の周囲の温度Ｔｍ２および湿度Ｈ２を測定する。

制御装置５９は、磁気テープＭＴからのデータの再生時に、スピンドル５１およびリール５２の駆動データに基づいて、磁気テープＭＴの長手方向にかけられていたテンションＴｎ２を求める。

制御装置５９は、磁気テープＭＴからのデータの再生時に、隣接する２本のサーボバンドＳＢから読み取られるサーボ信号の再生波形から、隣接する２本のサーボバンドＳＢ間の距離ｄ２を求める。そして、この距離ｄ２に基づいて、データ再生時の磁気テープＭＴの幅Ｗ２を算出する。

制御装置５９は、磁気テープＭＴからのデータの再生時に、リーダライタ５７を介してカートリッジメモリ１１から、データ記録時に書き込んだ温度Ｔｍ１、湿度Ｈ１、テンションＴｎ１および幅Ｗ１を読み出す。そして、制御装置５９は、データの記録時における温度Ｔｍ１、湿度Ｈ１、テンションＴｎ１および幅Ｗ１と、データの再生時における温度Ｔｍ２、湿度Ｈ２、テンションＴｎ２および幅Ｗ２を用いて、データ再生時における磁気テープＭＴの幅Ｗ２がデータ記録時における磁気テープの幅Ｗ１に等しくまたはほぼ等しくなるように、磁気テープＭＴにかけるテンションを制御する。

カートリッジメモリ１１のコントローラ３５は、アンテナコイル３１を介して記録再生装置５０Ａから受信した温度Ｔｍ１、湿度Ｈ１、テンションＴｎ１および幅Ｗ１をメモリ３６の第２の記憶領域３６Ｂに記憶する。カートリッジメモリ１１のコントローラ３５は、記録再生装置５０Ａからの要求に応じて、メモリ３６から温度Ｔｍ１、湿度Ｈ１、テンションＴｎ１および幅Ｗ１を読み出し、アンテナコイル３１を介して記録再生装置５０Ａに送信する。

［データ記録時における記録再生装置の動作］
以下、図１３を参照して、データ記録時における記録再生装置５０Ａの動作の一例について説明する。

まず、制御装置５９は、記録再生装置５０Ａにカートリッジ１０をローディングする（ステップＳ１０１）。次に、制御装置５９は、スピンドル５１およびリール５２の回転を制御し、磁気テープＭＴの長手方向に規定のテンションをかけながら磁気テープＭＴを走行させる。そして、制御装置５９は、ヘッドユニット５６により磁気テープＭＴに対してデータを記録する（ステップＳ１０２）。

次に、制御装置５９は、温度計６０および湿度計６１から、データ記録時における磁気テープＭＴの周囲の温度Ｔｍ１および湿度Ｈ１（環境情報）を取得する（ステップＳ１０３）。

次に、制御装置５９は、データ記録時におけるスピンドル５１およびリール５２の駆動データに基づいて、データ記録時において磁気テープＭＴの長手方向にかけられていたテンションＴｎ１を算出する（ステップＳ１０４）。

次に、制御装置５９は、ヘッドユニット５６のサーボリードヘッドにより読み取られたサーボ信号の再生波形から、隣接する２本のサーボバンドＳＢの距離ｄ１を求める。次に、制御装置５９は、この距離ｄ１に基づいて、データ記録時の磁気テープＭＴの幅Ｗ１を算出する（ステップＳ１０５）。

次に、制御装置５９は、リーダライタ５７により、温度Ｔｍ１、湿度Ｈ１、テンションＴｎ１および磁気テープＭＴの幅Ｗ１をデータ記録時情報としてカートリッジメモリ１１に書き込む（ステップＳ１０６）。

［データ再生時における記録再生装置の動作］
以下、図１４を参照して、データ再生時における記録再生装置５０Ａの動作の一例について説明する。

まず、制御装置５９は、記録再生装置５０Ａにカートリッジ１０をローディングする（ステップＳ１１１）。次に、制御装置５９は、カートリッジメモリ１１に書き込まれたデータ記録時情報（温度Ｔｍ１、湿度Ｈ１、テンションＴｎ１および磁気テープＭＴの幅Ｗ１）を、リーダライタ５７によりカートリッジメモリ１１から読み出して取得する（ステップＳ１１２）。次に、制御装置５９は、温度計６０および湿度計６１により、データ再生時における現在の磁気テープＭＴの周囲の温度Ｔｍ２の情報および湿度Ｈ２の情報を取得する（ステップＳ１１３）。

次に、制御装置５９は、データ記録時における温度Ｔｍ１と、データ再生時における温度Ｔｍ２との温度差ＴｍＤ（ＴｍＤ＝Ｔｍ２－Ｔｍ１）を算出する（ステップＳ１１４）。また、制御装置５９は、データ記録時における湿度Ｈ１と、データ再生時における湿度Ｈ２との湿度差ＨＤ（ＨＤ＝Ｈ２－Ｈ１）を算出する（ステップＳ１１５）。

次に、制御装置５９は、温度差ＴｍＤに係数αを乗算し（ＴｍＤ×α）、湿度差ＨＤに係数βを乗算する（ＨＤ×β）（ステップＳ１１６）。係数αは、温度差１℃当たり、磁気テープＭＴのテンションをデータ記録時のテンションＴｎ１と比べてどの程度変更すればよいかを示す値である。係数βは、湿度差１％あたり、磁気テープＭＴのテンションをデータ記録時のテンションＴｎ１と比べてどの程度変更すればよいかを示す値である。

次に、制御装置５９は、データ記録時におけるテンションＴｎ１に対して、ＴｍＤ×αの値と、ＨＤ×βの値とを加算することで、データ再生時（現在）において、磁気テープＭＴの長手方向にかけるべきテンションＴｎ２を算出する（ステップＳ１１７）。
Ｔｎ２＝Ｔｎ１＋ＴｍＤ×α＋ＨＤ×β

データ再生時における磁気テープＭＴのテンションＴｎ２を決定した後、制御装置５９は、スピンドル５１およびリール５２の回転を制御し、そのテンションＴｎ２で磁気テープＭＴが走行するように磁気テープＭＴの走行を制御する。そして、制御装置５９は、ヘッドユニット５６のサーボリードヘッドによりサーボバンドＳＢのサーボ信号を読み取りながら、ヘッドユニット５６のデータライト／リードヘッドにより、データトラックＴｋに記録されたデータの再生を行う（ステップＳ１１８）。

このとき、磁気テープＭＴのテンションの調整により、磁気テープＭＴの幅がデータ記録時の幅に合わせられているので、ヘッドユニット５６のデータライト／リードヘッドは、データトラックＴｋに対して正確に位置合わせすることができる。これにより、何らかの原因（例えば、温度、湿度の変動）で、磁気テープＭＴの幅が変動したような場合でも、磁気テープＭＴに記録されたデータを正確に再生することができる。

なお、データ再生時（現在）において、磁気テープＭＴにかけるべきテンションＴｎ２の値は、データ再生時の温度の方がデータ記録時の温度よりも高ければ高くなる。このため、温度が高くなり、データ記録時よりも磁気テープＭＴの幅が広くなってしまった場合には、磁気テープＭＴの幅を狭めてデータ再生時と同じ幅を再現することができる。

逆に、データ再生時（現在）において、磁気テープＭＴにかけるべきテンションＴｎ２の値は、データ再生時の温度の方がデータ記録時の温度よりも低ければ低くなる。このため、温度が低くなり、データ記録時よりも磁気テープＭＴの幅が狭くなってしまった場合には、磁気テープＭＴの幅を広げてデータ再生時と同じ幅を再現することができる。

また、データ再生時（現在）において、磁気テープＭＴにかけるべきテンションＴｎ２の値は、データ再生時の湿度の方がデータ記録時の湿度よりも高ければ高くなる。このため、湿度が高くなり、データ記録時よりも磁気テープＭＴの幅が広くなってしまった場合には、磁気テープＭＴの幅を狭めてデータ再生時と同じ幅を再現することができる。

逆に、データ再生時（現在）において、磁気テープＭＴにかけるべきテンションＴｎ２の値は、データ再生時の湿度の方がデータ記録時の湿度よりも低ければ低くなる。このため、湿度が低くなり、データ記録時よりも磁気テープＭＴの幅が狭くなってしまった場合には、磁気テープＭＴの幅を広げてデータ再生時と同じ幅を再現することができる。

ここで、データ再生時において、磁気テープＭＴにかけるべきテンションＴｎ２を求めるために、データ記録時の温度Ｔｍ１、湿度Ｈ１、磁気テープＭＴのテンションＴｎ１に加えて（あるいは、テンションＴｎ１に代えて）、更に、データ記録時における磁気テープＭＴの幅Ｗ１の情報が用いられてもよい。

この場合も、同様に、制御装置５９は、温度差ＴｍＤ（ＴｍＤ＝Ｔｍ２－Ｔｍ１）と、湿度差ＨＤ（ＨＤ＝Ｈ２－Ｈ１）とを算出する。そして、制御装置５９は、温度差ＴｍＤに係数γを乗算し（ＴｍＤ×γ）、湿度差ＨＤに係数δを乗算する（ＨＤ×δ）（ステップＳ１１６）。

ここで、係数γは、温度差１℃当たり磁気テープＭＴの幅がどの程度変動するかを示す値（温度に基づく単位長さ（幅方向）当たりの膨張率を示す値）である。また、係数δは、湿度差１％あたり、磁気テープＭＴの幅がどの程度変動するかを示す値（湿度に基づく単位長さ（幅方向）当たりの膨張率を示す値）である。

次に、制御装置５９は、以下の式により、データ記録時における過去の磁気テープＭＴの幅Ｗ１に基づいて、データ再生時における現在の磁気テープＭＴの幅Ｗ２を予測する。
Ｗ２＝Ｗ１（１＋ＴｍＤ×γ＋ＨＤ２×δ）

次に、制御装置５９は、データ再生時における現在の磁気テープＭＴの幅Ｗ２と、データ記録時における過去の磁気テープＭＴの幅Ｗ１との差ＷＤを算出する（ＷＤ＝Ｗ２－Ｗ１＝Ｗ１（ＴｍＤ×γ＋ＨＤ２×δ））。

そして、制御装置５９は、幅の差ＷＤに係数εを乗算した値を、データ記録時における磁気テープＭＴのテンションＴｎ１に加算して、データ再生時における磁気テープＭＴのテンションＴｎ２を算出する
Ｔｎ２＝Ｔｎ１＋ＷＤ×ε

ここで、係数εは、磁気テープＭＴの幅を単位距離分変化させるために必要な磁気テープＭＴの長手方向でのテンションを表す値である。

データ再生時における磁気テープＭＴのテンションＴｎ２を決定した後、制御装置５９は、スピンドル５１およびリール５２の回転を制御し、そのテンションＴｎ２で磁気テープＭＴが走行するように磁気テープＭＴの走行を制御する。そして、制御装置５９は、ヘッドユニット５６のサーボリードヘッドによりサーボバンドＳＢのサーボ信号を読み取りながら、ヘッドユニット５６のデータライト／リードヘッドにより、データトラックＴｋに記録されたデータの再生を行う。

このような方法でテンションＴｎ２が決定された場合においても、何らかの原因（例えば、温度、湿度の変動）で、磁気テープＭＴの幅が変動したような場合に、磁気テープＭＴに記録されたデータを正確に再生することができる。

［効果］
以上説明したように、第２の実施形態では、磁気テープＭＴのデータ記録時情報がカートリッジメモリ１１に記憶されているので、この情報をデータ再生時に利用することで、磁気テープＭＴの幅を適切に調整することができる。したがって、磁気テープＭＴの幅が何らかの理由で変動したような場合でも、磁気テープＭＴに記録されたデータを正確に再生することができる。

また、本実施形態では、データ記録時情報として、データ記録時における磁気テープＭＴの周囲の温度Ｔｍ１および湿度Ｈ１（環境情報）が書き込まれる。したがって、温度および湿度の変動による、磁気テープＭＴの幅およびデータトラックＴｋの幅の変動に適切に対応することができる。

＜３ 変形例＞
（変形例１）
上述の第１の実施形態では、ε酸化鉄粒子が２層構造のシェル部１１２を有している場合について説明したが、図１５に示すように、ε酸化鉄粒子が単層構造のシェル部１１３を有していてもよい。この場合、シェル部１１３は、第１シェル部１１２ａと同様の構成を有する。但し、ε酸化鉄粒子の特性劣化を抑制する観点からすると、上述した第１の実施形態におけるように、ε酸化鉄粒子が２層構造のシェル部１１２を有していることが好ましい。

（変形例２）
上述の第１の実施形態では、ε酸化鉄粒子がコアシェル構造を有している場合について説明したが、ε酸化鉄粒子が、コアシェル構造に代えて添加剤を含んでいてもよいし、コアシェル構造を有すると共に添加剤を含んでいてもよい。この場合、ε酸化鉄粒子のＦｅの一部が添加剤で置換される。ε酸化鉄粒子が添加剤を含むことによっても、ε酸化鉄粒子全体としての保磁力Ｈｃを記録に適した保磁力Ｈｃに調整できるため、記録容易性を向上することができる。添加剤は、鉄以外の金属元素、好ましくは３価の金属元素、より好ましくはＡｌ、ＧａおよびＩｎのうちの少なくとも１種、さらにより好ましくはＡｌおよびＧａのうちの少なくとも１種である。

具体的には、添加剤を含むε酸化鉄は、ε－Ｆｅ_２－ｘＭ_ｘＯ_３結晶（但し、Ｍは鉄以外の金属元素、好ましくは３価の金属元素、より好ましくはＡｌ、ＧａおよびＩｎのうちの少なくとも１種、さらにより好ましくはＡｌおよびＧａのうちの少なくとも１種である。ｘは、例えば０＜ｘ＜１である。）である。

（変形例３）
磁性粉が、ε酸化鉄粒子の粉末に代えて、六方晶フェライトを含有するナノ粒子（以下「六方晶フェライト粒子」という。）の粉末を含むようにしてもよい。六方晶フェライト粒子は、例えば、六角板状またはほぼ六角板状を有する。六方晶フェライトは、好ましくはＢａ、Ｓｒ、ＰｂおよびＣａのうちの少なくとも１種、より好ましくはＢａおよびＳｒのうちの少なくとも１種を含む。六方晶フェライトは、具体的には例えばバリウムフェライトまたはストロンチウムフェライトであってもよい。バリウムフェライトは、Ｂａ以外にＳｒ、ＰｂおよびＣａのうちの少なくとも１種をさらに含んでいてもよい。ストロンチウムフェライトは、Ｓｒ以外にＢａ、ＰｂおよびＣａのうちの少なくとも１種をさらに含んでいてもよい。

より具体的には、六方晶フェライトは、一般式ＭＦｅ_１２Ｏ_１９で表される平均組成を有する。但し、Ｍは、例えばＢａ、Ｓｒ、ＰｂおよびＣａのうちの少なくとも１種の金属、好ましくはＢａおよびＳｒのうちの少なくとも１種の金属である。Ｍが、Ｂａと、Ｓｒ、ＰｂおよびＣａからなる群より選ばれる１種以上の金属との組み合わせであってもよい。また、Ｍが、Ｓｒと、Ｂａ、ＰｂおよびＣａからなる群より選ばれる１種以上の金属との組み合わせであってもよい。上記一般式においてＦｅの一部が他の金属元素で置換されていてもよい。

磁性粉が六方晶フェライト粒子の粉末を含む場合、磁性粉の平均粒子サイズは、好ましくは３０ｎｍ以下、より好ましくは１２ｎｍ以上２５ｎｍ以下、さらにより好ましくは１５ｎｍ以上２２ｎｍ以下、特に好ましくは１５ｎｍ以上２０ｎｍ以下、最も好ましくは１５ｎｍ以上１８ｎｍ以下である。磁性粉の平均粒子サイズが３０ｎｍ以下であると、高記録密度の磁気テープＭＴにおいて、良好な電磁変換特性（例えばＳＮＲ）を得ることができる。一方、磁性粉の平均粒子サイズが１２ｎｍ以上であると、磁性粉の分散性がより向上し、より優れた電磁変換特性（例えばＳＮＲ）を得ることができる。磁性粉が六方晶フェライト粒子の粉末を含む場合、磁性粉の平均アスペクト比は上述の第１の実施形態と同様である。

なお、磁性粉の平均粒子サイズおよび平均アスペクト比は以下のようにして求められる。まず、測定対象となる磁気テープＭＴをＦＩＢ法等により加工して薄片を作製し、ＴＥＭにより薄片の断面観察を行う。次に、撮影したＴＥＭ写真から、水平方向に対して７５度以上の角度で配向した磁性粉を５０個無作為に選び出し、各磁性粉の最大板厚ＤＡを測定する。続いて、測定した５０個の磁性粉の最大板厚ＤＡを単純に平均（算術平均）して平均最大板厚ＤＡaveを求める。

次に、磁気テープＭＴの磁性層４３の表面をＴＥＭにより観察を行う。次に、撮影したＴＥＭ写真から５０個の磁性粉を無作為に選び出し、各磁性粉の最大板径ＤＢを測定する。ここで、最大板径ＤＢとは、磁性粉の輪郭に接するように、あらゆる角度から引いた２本の平行線間の距離のうち最大のもの（いわゆる最大フェレ径）を意味する。続いて、測定した５０個の磁性粉の最大板径ＤＢを単純に平均（算術平均）して平均最大板径ＤＢaveを求める。このようにして求めた平均最大板径ＤＢaveを磁性粉の平均粒子サイズとする。次に、平均最大板厚ＤＡaveおよび平均最大板径ＤＢaveから磁性粉の平均アスペクト比（ＤＢave／ＤＡave）を求める。

磁性粉が六方晶フェライト粒子の粉末を含む場合、磁性粉の平均粒子体積は、好ましくは５９００ｎｍ^３以下、より好ましくは５００ｎｍ^３以上３４００ｎｍ^３以下、さらにより好ましくは１０００ｎｍ^３以上２５００ｎｍ^３以下、特に好ましくは１０００ｎｍ^３以上１８００ｎｍ^３以下、最も好ましくは１０００ｎｍ^３以上１５００ｎｍ^３以下である。磁性粉の平均粒子体積が５９００ｎｍ^３以下であると、磁性粉の平均粒子サイズを３０ｎｍ以下とする場合と同様の効果が得られる。一方、磁性粉の平均粒子体積が５００ｎｍ^３以上であると、磁性粉の平均粒子サイズを１２ｎｍ以上とする場合と同様の効果が得られる。

なお、磁性粉の平均粒子体積は以下のようにして求められる。まず、上記の磁性粉の平均粒子サイズの算出方法と同様にして、平均最大板厚ＤＡaveおよび平均最大板径ＤＢaveを求める。次に、以下の式により、磁性粉の平均粒子体積Ｖを求める。
Ｖ＝３√３/８×ＤＡave×ＤＢave^２

（変形例４）
磁性粉は、ε酸化鉄粒子の粉末に代えて、Ｃｏ含有スピネルフェライトを含有するナノ粒子（以下「コバルトフェライト粒子」という。）の粉末を含むようにしてもよい。コバルトフェライト粒子は、一軸異方性を有することが好ましい。コバルトフェライト粒子は、例えば、立方体状またはほぼ立方体状を有している。Ｃｏ含有スピネルフェライトが、Ｃｏ以外にＮｉ、Ｍｎ、Ａｌ、ＣｕおよびＺｎのうちの少なくとも１種をさらに含んでいてもよい。

Ｃｏ含有スピネルフェライトは、例えば以下の式（１）で表される平均組成を有する。
Ｃｏ_ｘＭ_ｙＦｅ_２Ｏ_Ｚ ・・・（１）
（但し、式（１）中、Ｍは、例えば、Ｎｉ、Ｍｎ、Ａｌ、ＣｕおよびＺｎのうちの少なくとも１種の金属である。ｘは、０．４≦ｘ≦１．０の範囲内の値である。ｙは、０≦ｙ≦０．３の範囲内の値である。但し、ｘ、ｙは（ｘ＋ｙ）≦１．０の関係を満たす。ｚは３≦ｚ≦４の範囲内の値である。Ｆｅの一部が他の金属元素で置換されていてもよい。）

磁性粉がコバルトフェライト粒子の粉末を含む場合、磁性粉の平均粒子サイズは、好ましくは２５ｎｍ以下、より好ましくは８ｎｍ以上２３ｎｍ以下、さらにより好ましくは８ｎｍ以上１２ｎｍ以下、特に好ましくは８ｎｍ以上１１ｎｍ以下である。磁性粉の平均粒子サイズが２５ｎｍ以下であると、高記録密度の磁気テープＭＴにおいて、良好な電磁変換特性（例えばＳＮＲ）を得ることができる。一方、磁性粉の平均粒子サイズが８ｎｍ以上であると、磁性粉の分散性がより向上し、より優れた電磁変換特性（例えばＳＮＲ）を得ることができる。また、磁性粉がコバルトフェライト粒子の粉末を含む場合、磁性粉の平均アスペクト比は上述の第１の実施形態と同様である。なお、磁性粉の平均粒子サイズおよび平均アスペクト比は、上述の第１の実施形態と同様にして求められる。

磁性粉の平均粒子体積は、好ましくは１５０００ｎｍ^３以下、より好ましくは５００ｎｍ^３以上１２０００ｎｍ^３以下、特に好ましくは５００ｎｍ^３以上１８００ｎｍ^３以下、最も好ましくは５００ｎｍ^３以上１５００ｎｍ^３以下である。磁性粉の平均粒子体積が１５０００ｎｍ^３以下であると、磁性粉の平均粒子サイズを２５ｎｍ以下とする場合と同様の効果が得られる。一方、磁性粉の平均粒子体積が５００ｎｍ^３以上であると、磁性粉の平均粒子サイズを８ｎｍ以上とする場合と同様の効果が得られる。なお、磁性粉の平均粒子体積の算出方法は、上述の第１の実施形態における磁性粉の平均粒子体積の算出方法（ε酸化鉄粒子が立方体状またはほぼ立方体状を有している場合の平均粒子体積の算出方法）と同様である。

（変形例５）
磁気テープＭＴをライブラリ装置に用いるようにしてもよい。この場合、ライブラリ装置は、磁気テープＭＴの長手方向に加わるテンションを調整可能な構成を有しており、第１の実施形態における記録再生装置５０または第２の実施形態における記録再生装置５０Ａを複数備えるものであってもよい。

（変形例６）
サーボライタが、サーボ信号の記録時等に磁気テープＭＴの長手方向のテンションを調整することで、磁気テープＭＴの幅を一定またはほぼ一定に保つようにしてもよい。この場合、サーボライタが、磁気テープＭＴの幅を検出する検出装置を備え、この検出装置の検出結果に基づき、磁気テープＭＴの長手方向のテンションを調整するようにしてもよい。

（変形例７）
磁気テープＭＴは、垂直記録型の磁気テープに限定されるものであなく、水平記録型の磁気テープであってもよい。この場合、磁性粉としてはメタル磁性粉等の針状磁性粉を用いてもよい。

（変形例８）
上述の第１の実施形態では、データ記録時における磁気テープＭＴに関連する幅関連情報として、サーボバンドＳＢ間の距離を用いる場合について説明したが、磁気テープＭＴの幅を用いるようにしてもよい。

この場合、制御装置５９は、データ記録時に、サーボバンドＳＢ間の距離ｄ１から磁気テープＭＴの幅Ｗ１を算出し、この幅Ｗ１をリーダライタ５７によりカートリッジメモリ１１に書き込む。

制御装置５９は、データ再生時に、データ記録時の磁気テープＭＴの幅Ｗ１をカートリッジメモリ１１から読み出すと共に、データ再生時のサーボバンドＳＢ間の距離ｄ２からデータ再生時の磁気テープＭＴの幅Ｗ２を算出する。そして、制御装置５９は、データ記録時の磁気テープＭＴの幅Ｗ１と、データ再生時の磁気テープＭＴの幅Ｗ２との差分ΔＷを算出し、差分ΔＷが規定値以内であるか否かを判断する。

差分ΔＷが規定値以内である場合には、制御装置５９は、規定のテンションが維持されるように、スピンドル５１およびリール５２の回転駆動を制御する。一方、差分ΔＷが規定値以内でない場合には、差分ΔＷが規定値以内に収まるように、スピンドル５１およびリール５２の回転駆動の制御し、走行する磁気テープＭＴにかかるテンションを調整する。

（変形例９）
上述の第２の実施形態では、データ記録時情報として、温度Ｔｍ１、Ｔｍ２、湿度Ｈ１、Ｈ２、テンションＴｎ１、Ｔｎ２、幅Ｗ１、Ｗ２の全てが用いられる場合について説明したが、データ記録時情報は、温度Ｔｍ１、Ｔｍ２、湿度Ｈ１、Ｈ２、テンションＴｎ１、Ｔｎ２、および幅Ｗ１、Ｗ２のうちいずれか１つであってもよいし、任意の２つ、３つの組合せであってもよい。

カートリッジメモリ１１に対して、データ記録時の情報（温度Ｔｍ１、湿度Ｈ１、テンションＴｎ１、幅Ｗ１）だけでなく、データ再生時の情報（温度Ｔｍ２、湿度Ｈ２、テンションＴｎ２、幅Ｗ２）が記憶されてもよい。例えば、このデータ再生時の情報は、データが再生された後、さらに別の機会に磁気テープＭＴ内のデータが再生されるときに使用される。

（変形例１０）
上述の第１、第２の実施形態では、磁気テープＭＴが、下地層および磁性層等が塗布工程（ウエットプロセス）により作製された塗布型の磁気テープである場合について説明したが、下地層および磁性層等がスパッタリング等の真空薄膜の作製技術（ドライプロセス）により作製される薄膜型の磁気テープであってもよい。薄膜型の磁気テープの場合、磁性層の平均厚みｔ_ｍは、好ましくは９［ｎｍ］≦ｔ_ｍ≦９０［ｎｍ］、より好ましくは９［ｎｍ］≦ｔ_ｍ≦２０［ｎｍ］、更により好ましくは９［ｎｍ］≦ｔ_ｍ≦１５［ｎｍ］である。磁性層の平均厚みｔ_ｍが９［ｎｍ］≦ｔ_ｍ≦９０［ｎｍ］であると、電磁変換特性を向上することができる。

以下、実施例により本開示を具体的に説明するが、本開示はこれらの実施例のみに限定されるものではない。

本実施例において、磁性粉の平均粒子体積、磁性粉の平均粒子サイズ、ベースフィルム（基体）の平均厚み、磁性層の平均厚み、下地層の平均厚み、バック層の平均厚み、磁気テープの平均厚み、Ｔ_Ａ－Ｔ_Ｂ、Ｔ_Ｂ／（Ｔ_Ａ－Ｔ_Ｂ）、垂直方向における磁性層の角形比Ｓ１、長手方向における磁性層の角形比Ｓ２、（ｗ_max－ｗ_min）／ｗ_min、および長手方向における磁気テープのヤング率は、上述の第１の実施形態にて説明した測定方法により求められたものである。

［実施例１～４、比較例１、２、４、５］
（磁性層形成用塗料の調製工程）
磁性層形成用塗料を以下のようにして調製した。まず、下記配合の第１組成物をエクストルーダで混練した。次に、ディスパーを備えた攪拌タンクに、混練した第１組成物と、下記配合の第２組成物を加えて予備混合を行った。続いて、さらにサンドミル混合を行い、フィルター処理を行い、磁性層形成用塗料を調製した。

（第１組成物）
バリウムフェライト（ＢａＦｅ_１２Ｏ_１９）粒子の粉末（六角板状、平均アスペクト比３．０、平均粒子体積２４５０ｎｍ^３）：１００質量部
塩化ビニル系樹脂（シクロヘキサノン溶液３０質量％）：１０質量部
（重合度３００、Ｍｎ＝１００００、極性基としてＯＳＯ_３Ｋ＝０．０７ｍｍｏｌ／ｇ、２級ＯＨ＝０．３ｍｍｏｌ／ｇを含有する。）
酸化アルミニウム粉末：５質量部
（α－Ａｌ_２Ｏ_３、平均粒径０．２μｍ）
カーボンブラック：２質量部
（東海カーボン社製、商品名：シーストＴＡ）

（第２組成物）
塩化ビニル系樹脂：１．１質量部
（樹脂溶液：樹脂分３０質量％、シクロヘキサノン７０質量％）
ｎ－ブチルステアレート：２質量部
メチルエチルケトン：１２１．３質量部
トルエン：１２１．３質量部
シクロヘキサノン：６０．７質量部

最後に、上述のようにして調製した磁性層形成用塗料に、硬化剤として、ポリイソシアネート（商品名：コロネートＬ、日本ポリウレタン社製）：４質量部と、ミリスチン酸：２質量部とを添加した。

（下地層形成用塗料の調製工程）
下地層形成用塗料を以下のようにして調製した。まず、下記配合の第３組成物をエクストルーダで混練した。次に、ディスパーを備えた攪拌タンクに、混練した第３組成物と、下記配合の第４組成物を加えて予備混合を行った。続いて、さらにサンドミル混合を行い、フィルター処理を行い、下地層形成用塗料を調製した。

（第３組成物）
針状酸化鉄粉末：１００質量部
（α－Ｆｅ_２Ｏ_３、平均長軸長０．１５μｍ）
塩化ビニル系樹脂：５５．６質量部
（樹脂溶液：樹脂分３０質量％、シクロヘキサノン７０質量％）
カーボンブラック：１０質量部
（平均粒径２０ｎｍ）

（第４組成物）
ポリウレタン系樹脂ＵＲ８２００（東洋紡績製）：１８．５質量部
ｎ－ブチルステアレート：２質量部
メチルエチルケトン：１０８．２質量部
トルエン：１０８．２質量部
シクロヘキサノン：１８．５質量部

最後に、上述のようにして調製した下地層形成用塗料に、硬化剤として、ポリイソシアネート（商品名：コロネートＬ、日本ポリウレタン社製）：４質量部と、ミリスチン酸：２質量部とを添加した。

（バック層形成用塗料の調製工程）
バック層形成用塗料を以下のようにして調製した。下記原料を、ディスパーを備えた攪拌タンクで混合を行い、フィルター処理を行うことで、バック層形成用塗料を調製した。
カーボンブラック（旭カーボン株式会社製、商品名：＃８０）：１００質量部
ポリエステルポリウレタン：１００質量部
（日本ポリウレタン社製、商品名：Ｎ－２３０４）
メチルエチルケトン：５００質量部
トルエン：４００質量部
シクロヘキサノン：１００質量部

（成膜工程）
上述のようにして作製した塗料を用いて、基体（ベースフィルム）としての長尺のＰＥＮフィルム（平均厚み４．２μｍ）上に平均厚み０．６５μｍの下地層、および平均厚み８５ｎｍの磁性層を以下のようにして形成した。まず、ＰＥＮフィルムの一方の主面上に、下地層形成用塗料を塗布し、乾燥させることにより、ＰＥＮフィルムの一方の主面上に下地層を形成した。次に、下地層上に、磁性層形成用塗料を塗布し、乾燥させることにより、下地層上に磁性層を形成した。なお、磁性層形成用塗料の乾燥の際に、ソレノイドコイルにより、磁性粉をＰＥＮフィルムの厚み方向に磁場配向させた。また、磁性層形成用塗料の乾燥条件（乾燥温度および乾燥時間）を調整し、磁気テープの厚み方向（垂直方向）における角形比Ｓ１を６５％および長手方向における角形比Ｓ２を３５％に設定した。

続いて、下地層、および磁性層が形成されたＰＥＮフィルムの他方の主面上にバック層形成用塗料を塗布し、乾燥させることにより、平均厚み０．３０μｍのバック層を形成した。そして、下地層、磁性層、およびバック層が形成されたＰＥＮフィルムに対して硬化処理を行った。その後、カレンダー処理を行い、磁性層表面を平滑化した。

（裁断の工程）
上述のようにして得られた磁気テープを１／２インチ（１２．６５ｍｍ）幅に裁断した。これにより、目的とする長尺状の磁気テープ（平均厚み５．２４μｍ）が得られた。

なお、実施例１～４、比較例１、２、４、５では、磁気テープの（ｗ_max－ｗ_min）／ｗ_minの値が、表１に示すように３５０ｐｐｍ～５５０ｐｐｍの範囲となり、かつ、長手方向のヤング率が、表１に示すように７．２ＧＰａとなるように、ＰＥＮフィルム（基体）の幅方向および長手方向の延伸量、ＰＥＮフィルムの平均厚み、下地層の平均厚み、および磁性層の角形比を調整した。

（サーボ信号の書き込み工程）
上述のようにして得られた長尺状の磁気テープに、サーボライタを用いてサーボ信号を書き込むことにより、サーボバンド幅Ｗ_ＳＢが９５μｍである５本のサーボバンドを形成した。なお、サーボ信号の書き込みにより、各サーボバンドには、既知の間隔でハの字の磁気パターンの列が形成された。

（巻き取り工程）
サーボ信号が書き込まれた磁気テープを１０２ｍｍ×１０５ｍｍ×２２ｍｍサイズのカートリッジ（ＬＴＯに準拠したカートリッジ）に巻き取った。

（データ信号の書き込み）
まず、記録再生装置にカートリッジをローディングし、スピンドルにカードリッジを装着し、スピンドル駆動装置およびリール駆動装置を回転駆動させた。そして、カートリッジに収容された磁気テープ全体を往復走行させると共に、サーボ信号によるトラック制御をしつつ、データの書き込みを行った。この際、記録トラック幅Ｗが１１００ｎｍ、記録波長λが１８０ｎｍの単一記録波長となるように記録再生装置を制御した。なお、データ信号の記録波長λ［ｎｍ］は、最短記録波長で記録された際の磁化反転間距離Ｌ［ｎｍ］の４倍（すなわち、最短記録波長Ｌ’＝２×Ｌであり、記録波長λ＝Ｌ’の２倍長）とした。記録ヘッドにはギャップ長０．２μｍのリングヘッドを用いた。

［実施例５］
磁性層形成用塗料の乾燥条件（乾燥温度および乾燥時間）を調整し、磁気テープの厚み方向（垂直方向）における角形比Ｓ１を７５％および長手方向における角形比Ｓ２を２５％に設定したこと以外は実施例１と同様にして磁気テープを得た。次に、実施例１と同様にして、得られた磁気テープに対してサーボ信号およびデータ信号を書き込んだ。

［実施例６］
磁性塗料のサンドミルでの分散時間を長くし塗料分散状態を特に良好にしたものを用い、かつ、磁性塗料の配向工程において垂直配向用ソレノイドの磁束の印加時間を実施例１よりも長くすることにより、磁気テープの厚み方向（垂直方向）における角形比Ｓ１を８０％および長手方向における角形比Ｓ２を２１％に設定したこと以外は実施例１と同様にして磁気テープを得た。

［実施例７］
磁性塗料のサンドミルでの分散時間を長くし塗料分散状態を特に良好にしたものを用い、磁性塗料の配向工程において垂直配向用ソレノイドの磁束の印加時間を実施例６よりも長くし、さらに乾燥時間を調整することにより、磁気テープの厚み方向（垂直方向）における角形比Ｓ１を８５％および長手方向における角形比Ｓ２を１８％に設定したこと以外は実施例１と同様にして磁気テープを得た。

［実施例８］
基体（ベースフィルム）として平均厚み３．５μｍのＰＥＮフィルムを用いたこと、および磁性層の平均厚みを７５ｎｍ、下地層の平均厚みを０．５５μｍ、バック層の平均厚みを０．２４μｍとしたこと以外は実施例１と同様にして、平均厚み４．３７μｍの磁気テープを得た。

［実施例９］
基体（ベースフィルム）として平均厚み３．２μｍのＰＥＮフィルムを用いたこと、および磁性層の平均厚みを７５ｎｍ、下地層の平均厚みを０．５１μｍ、バック層の平均厚みを０．２０μｍとしたこと以外は実施例１と同様にして、平均厚み３．９９μｍの磁気テープを得た。

［実施例１０］
磁性層の平均厚みを３５ｎｍ、下地層の平均厚みを０．６５μｍ、バック層の平均厚みを０．３０μｍとしたこと以外は実施例１と同様にして、平均厚み５．１９μｍの磁気テープを得た。

［実施例１１］
下地層の平均厚みを０．６０μｍ、バック層の平均厚みを０．２５μｍとしたこと以外は実施例１と同様にして、平均厚み５．１４μｍの磁気テープを得た。

［実施例１２］
磁性層の平均厚みを７５ｎｍ、下地層の平均厚みを０．３５μｍ、バック層の平均厚みを０．１４μｍとしたこと以外は実施例１と同様にして、平均厚み５．２７μｍの磁気テープを得た。

［実施例１３］
磁性粉としてバリウムフェライト（ＢａＦｅ_１２Ｏ_１９）粒子の粉末（六角板状、平均アスペクト比２．５、平均粒子体積１５００ｎｍ^３）を用いたこと以外は実施例１と同様にして磁気テープを得た。

［実施例１４］
磁性粉としてバリウムフェライト（ＢａＦｅ_１２Ｏ_１９）粒子の粉末（六角板状、平均アスペクト比２．８、平均粒子体積１８００ｎｍ^３）を用いたこと以外は実施例１と同様にして磁気テープを得た。

［実施例１５］
まず、実施例１３と同様にして磁気テープを得た。次に、記録再生装置を用いて、サーボバンド間のデータバンドにデータ信号を書き込んだ。この際、記録トラック幅Ｗが１０００ｎｍ、記録波長λが１８０ｎｍの単一記録波長となるように記録再生装置を制御した。

［実施例１６］
磁性粉としてコバルトフェライト粒子の粉末（立方体状、平均粒子体積１２００ｎｍ^３）を用いたこと以外は実施例１と同様にして磁気テープを得た。

［実施例１７］
磁性粉としてε酸化鉄粒子の粉末（球状、平均粒子体積１４０５ｎｍ^３）を用いたこと以外は実施例１と同様にして磁気テープを得た。

［実施例１８］
基体（ベースフィルム）としての長尺のＰＥＴフィルム（平均厚み４．２μｍ）を用いることにより、長手方向における磁気テープのヤング率を６．６ＧＰａに設定したこと以外は実施例１と同様にして磁気テープを得た。

［比較例３］
まず、比較例２と同様にして磁気テープを得た。次に、実施例１と同様にして磁気テープにサーボ信号を書き込んだ。続いて、データトラック幅Ｗが１９００ｎｍとなるように記録再生装置を制御したこと以外は実施例１と同様にして磁気テープにデータ信号を書き込んだ。

［比較例６］
まず、磁性層形成用塗料の乾燥条件（乾燥温度および乾燥時間）を調整し、磁気テープの厚み方向（垂直方向）における角形比Ｓ１を５５％および長手方向における角形比Ｓ２を４５％に設定したこと以外は実施例１と同様にして磁気テープを得た。次に、実施例１と同様にして、得られた磁気テープに対してサーボ信号およびデータ信号を書き込んだ。

［比較例７］
下地層の平均厚みを１．００μｍとしたこと以外は実施例１と同様にして、平均厚み５．５９μｍの磁気テープを得た。

［比較例８］
下地層の平均厚みを０．８５μｍとしたこと以外は実施例１と同様にして、平均厚み５．２４μｍの磁気テープを得た。

［比較例９］
基体（ベースフィルム）としての長尺のアラミドフィルム（平均厚み４．２μｍ）を用いることにより、長手方向における磁気テープのヤング率を１３．５ＧＰａに設定したこと以外は実施例１と同様にして磁気テープを得た。

（記録容量）
磁気テープの記録容量をＡ、Ｂ、Ｃの３段階で評価した。Ａ、Ｂ、Ｃの３段階の判定基準は、以下に示す通りである。
Ａ：１８ＴＢ以上の記録容量を達成可能である
Ｂ：１６ＴＢ以上１８ＴＢ未満の記録容量を達成可能である
Ｃ：記録容量が１６ＴＢ未満である

（張力調整なしの場合のオフトラック特性）
まず、記録再生装置にカートリッジをローディングし、スピンドルにカードリッジを装着し、スピンドル駆動装置およびリール駆動装置を回転駆動させた。そして、カートリッジに収容された磁気テープ全体を往復走行させると共に、サーボ信号によるトラック制御をしつつ、データの読み取りを行った。

記録再生装置による往復走行は、恒温恒湿槽中で行った。往復走行の速度は５ｍ／ｓｅｃであった。往復走行中の温湿度は、上記の往復走行とは独立に、温度範囲１０℃～４５℃、相対湿度範囲１０％～８０％で、予め組まれた環境変化プログラム（例：１０℃１０％→２９℃８０％→１０℃１０％を２回繰り返す。１０℃１０％から２９℃８０％へ２時間で変化させ、且つ、２９℃８０％→１０℃１０％へ２時間で変化させる。）に従って、徐々に且つ繰り返し変化させた。この時、データを読み取れなかった時間の総計を各テープに対して計測し、これをオフトラック時間とした。このオフトラック時間に基づき、磁気テープを９段階で評価した。“９”を最も望ましい判定値（最も良好なオフトラック特性）とし、“１”を最も望ましくない判定値（最も悪いオフトラック特性）とした。具体的な９段階の判定基準は、以下に示す通りである。
９：オフトラックすることはない
８：走行時に、１か所／２４０秒の割合でオフトトラックすることがある
７：走行時に、１か所／１２０秒の割合でオフトトラックすることがある。
６：走行時に、１か所／６０秒の割合でオフトトラックすることがある。
５：走行時に、１か所／３０秒の割合でオフトトラックすることがある。
４：走行時に、１か所／１０秒の割合でオフトトラックすることがある。
３：走行時に、１か所／２秒の割合でオフトトラックすることがある。
２：オフトラックでシステムエラーが発生し停止することがある
１：オフトラックによりシステムエラーで即時に停止する

（張力調整ありの場合のオフトラック特性）
記録再生装置により磁気テープを往復走行の際に、磁気テープの長手方向のテンションを調整すること以外は、上述した「張力調整なしの場合のオフトラック特性」の場合と同様にしてオフトラック時間を計測し、計測したオフトラック時間に基づき、磁気テープを９段階で評価した。

磁気テープの長手方向のテンション調整は以下のようにして行った。すなわち、記録再生装置により磁気テープを往復走行ながら、２列以上のサーボトラックを同時に再生し、それらのサーボトラックのハの字の磁気パターン列（サーボ信号）それぞれの再生波形の形状から、走行時の磁気パターン列の間隔を連続的（サーボの位置情報があるポイント毎（具体的には約６ｍｍ毎））に計測した。そして、この計測された磁気パターン列の間隔情報に基づき、スピンドル駆動装置とリール駆動装置の回転駆動を制御し、磁気パターン列の間隔が規定の幅に近づくように、磁気テープの長手方向のテンションを自動で調整するようにした。ここで、“規定の幅”とは、記録再生装置が有する２つのサーボヘッド間の距離を意味する。なお、磁気テープの走行時には、２つのサーボヘッドはそれぞれ、データバンドの上下に位置する２つのサーボバンド（サーボトラック）に位置される。

（ＳＮＲ）
まず、磁気テープからの再生信号をスペクトラムアナライザーにて測定し、再生信号キャリアの大きさをＳ、積算ノイズの大きさ（０Ｈｚ近傍の低周波～再生信号キャリア周波数の２倍の帯域までを積算）をＮとし、ＳとＮからＳＮＲ（Signal-to-Noise Ratio）を計算した。次に、求めたＳＮＲを、リファレンスメディアとしての比較例１のＳＮＲを基準とした相対値（ｄＢ）に変換した。

表１は、実施例１～１８、比較例１～９の磁気テープの構成を示す。

表２は、実施例１～１８、比較例１～９の磁気テープの記録再生フォーマットを示す。

fci：flux change per inch
tpi：track per inch
bpsi：bit per square inch
巻長：リールに巻いた状態で、１０２ｍｍ×１０５ｍｍ×２２ｍｍサイズのカートリッジ（ＬＴＯに準拠したカートリッジ）に収容可能な磁気テープの巻長

表３は、実施例１～１８、比較例１～９の磁気テープの評価結果を示す。

実施例１～１２、比較例１～８の評価結果から、（１）最大値ｗ_maxおよび最小値ｗ_minが（ｗ_max－ｗ_min）／ｗ_min≦４００［ｐｐｍ］の関係を満たし、（２）磁気テープの平均厚みＴ_Ａおよび基体（ベースフィルム）の平均厚みＴ_Ｂが４．０≦Ｔ_Ｂ／（Ｔ_Ａ－Ｔ_Ｂ）の関係を満たし、（３）垂直方向における磁性層の角形比が６５％以上であることで、データトラック幅Ｗが１５００ｎｍ以下である場合にも、磁気テープの再生時におけるＳＮＲの低下を抑制し、かつ、オフトラック特性を向上できることがわかる。また、磁気テープの長手方向のテンションを調整した場合には、磁気テープの長手方向のテンションを調整しない場合に比べて、オフトラック特性をさらに向上できることがわかる。例えば、実施例１では、オフトラック特性の評価結果が「７」から「８」に向上されている。
上記の関係を満たしていれば、磁気テープＭＴの長手方向のテンションを調整しなくても、オフトラックを抑制することができるが、磁気テープＭＴの長手方向のテンションを調整した場合には、さらにオフトラックを抑制することができる。
実施例１、５～７の評価結果から、ＳＮＲの向上の観点からすると、垂直方向における角形比が７５％以上であることが好ましく、８５％以上であることがより好ましいことがわかる。
実施例１、１３～１５の評価結果から、ＳＮＲの向上の観点からすると、磁性粉の平均粒子体積は１８００ｎｍ^３以下であることが好ましく、１５００ｎｍ^３以下であることがより好ましいことがわかる。
実施例１、１６、１７の評価結果から、上記の構成（１）～（３）を満たしていれば、磁性粉の種類によらず、上記効果を得ることができることがわかる。
実施例１、１８の評価結果から、上記の構成（１）～（３）を満たしていれば、基体（ベースフィルム）としてＰＥＮフィルムに代えてＰＥＴフィルムが用いられた場合にも、上記効果を得ることができることがわかる。
比較例３の評価結果から、トラック幅が１５００ｎｍを超える場合には、（１）最大値ｗ_maxおよび最小値ｗ_minが（ｗ_max－ｗ_min）／ｗ_min≦４００［ｐｐｍ］の関係を満たしていなくても、磁気テープの再生時におけるＳＮＲの低下およびオフトラックを抑制することができることがわかる。
比較例９の評価結果から、基体（ベースフィルム）がアラミドを含む場合には、磁気テープの長手方向のテンションを調整した場合にも、磁気テープの長手方向のテンションを調整しない場合と同等のオフトラック特性しか得られないことがわかる。これは、基体（ベースフィルム）がアラミドを含む場合には、磁気テープの長手方向のヤング率が１３．５ＧＰａであり、外力による磁気テープＭＴの伸縮性が低いため、テンションコントロールにより磁気テープＭＴの幅を調整することが困難となるためである。
また、比較例９では、磁気テープの長手方向のヤング率が非常に高く、伸縮性が悪いため、磁気テープがサーボ信号の書き込みやドライブ走行時の張力変化に敏感となり、サーボ信号品質に悪化が見られた。

［実施例１Ａ～１８Ａ、比較例１Ａ～９Ａ］
（磁気テープの作製工程、サーボ信号の書き込み工程）
まず、実施例１～１８、比較例１～９と同様にして磁気テープを作製した。次に、この磁気テープに実施例１～１８、比較例１～９と同様にしてサーボ信号を書き込んだ。

（巻き取り工程）
まず、カートリッジとして、テンション調整情報を書き込む領域をカートリッジメモリに有し、上記領域に対するテンション調整情報の書き込み、および上記領域からのテンション調整情報の読み出しを行うことが可能なものを準備した。このカートリッジのサイズは、実施例１～１８、比較例１～９と同様のサイズ（１０２ｍｍ×１０５ｍｍ×２２ｍｍ）であった。

（データ信号の書き込み）
まず、記録再生装置にカートリッジをローディングし、スピンドルにカードリッジを装着し、スピンドル駆動装置およびリール駆動装置を回転駆動させた。そして、カートリッジに収容された磁気テープ全体を往復走行させると共に、サーボ信号によるトラック制御をしつつ、データの書き込みを行った。さらに、このデータの書き込みと共に、サーボ信号の再生波形の形状から、データ記録時の磁気パターン列の間隔ｄ１を一定間隔（１ｍの間隔毎）で計測し、その位置と間隔をカートリッジメモリに書き込んだ。データ書き込み時の記録トラック幅Ｗおよび記録波長λは、実施例１～１８、比較例１～９と同様にした。

（カートリッジメモリに記憶されたテンション調整情報を用いて張力調整を行った場合のオフトラック特性）
記録再生装置により磁気テープを往復走行させる際に、磁気テープの長手方向のテンションを調整すること以外は、上述した「張力調整なしの場合のオフトラック特性」の場合と同様にしてオフトラック時間を計測し、計測したオフトラック時間に基づき、磁気テープを９段階で評価した。

磁気テープの長手方向のテンション調整は以下のようにして行った。すなわち、記録再生装置により磁気テープを往復走行ながら、２列以上のサーボトラックを同時に再生し、それらのサーボトラックのハの字の磁気パターン列（サーボ信号）それぞれの再生波形の形状から、走行時の磁気パターン列の間隔を連続的（サーボの位置情報があるポイント毎（具体的には約６ｍｍ毎））に計測すると共に、カートリッジメモリからデータ記録時の磁気パターン列の間隔ｄ１を読み出した。そして、データ再生時の磁気パターン列の間隔ｄ２が、データ記録時の磁気パターン列の間隔ｄ１に近づくように、スピンドル駆動装置とリール駆動装置の回転駆動を制御し、磁気テープの長手方向のテンションを自動で調整した。

表４は、実施例１Ａ～１８Ａ、比較例１Ａ～９Ａの磁気テープの評価結果を示す。

表４から、カートリッジメモリに記憶されたテンション調整情報を用いて磁気テープの張力調整を行った場合には、記録再生装置に予め記憶された規定の幅（２つのサーボヘッド間の距離）を用いて磁気テープの張力調整を行った場合に比べて、オフトラック特性をさらに向上できることがわかる。

以上、本開示の実施形態および変形例について具体的に説明したが、本開示は、上述の実施形態および変形例に限定されるものではなく、本開示の技術的思想に基づく各種の変形が可能である。例えば、上述の実施形態および変形例において挙げた構成、方法、工程、形状、材料および数値等はあくまでも例に過ぎず、必要に応じてこれと異なる構成、方法、工程、形状、材料および数値等を用いてもよい。上述の実施形態および変形例の構成、方法、工程、形状、材料および数値等は、本開示の主旨を逸脱しない限り、互いに組み合わせることが可能である。

上述の実施形態および変形例にて例示した化合物等の化学式は代表的なものであって、同じ化合物の一般名称であれば、記載された価数等に限定されない。上述の実施形態および変形例で段階的に記載されている数値範囲において、ある段階の数値範囲の上限値または下限値は、他の段階の数値範囲の上限値または下限値に置き換えてもよい。上述の実施形態および変形例で例示した材料は、特に断らない限り、１種を単独でまたは２種以上を組み合わせて用いることができる。

また、本開示は以下の構成を採用することもできる。
（１）
テープ状の磁気記録媒体であって、
基体と、
前記基体上に設けられた磁性層と
を備え、
温度、相対湿度が（１０℃、１０％）、（１０℃、８０％）、（２９℃、８０％）、（４５℃、１０％）である４つの環境下で測定された前記磁気記録媒体の幅の平均値のうちの最大値、最小値をそれぞれｗ_max、ｗ_minとした場合、ｗ_maxおよびｗ_minが以下の関係式（１）を満たし、
垂直方向における前記磁性層の角形比が、６５％以上であり、
前記磁気記録媒体の平均厚みＴ_Ａおよび前記基体の平均厚みＴ_Ｂが以下の関係式（２）を満たす磁気記録媒体。
（ｗ_max－ｗ_min）／ｗ_min≦４００［ｐｐｍ］ ・・・（１）
４．０≦Ｔ_Ｂ／（Ｔ_Ａ－Ｔ_Ｂ） ・・・（２）
（２）
前記基体は、ポリエステルを含む（１）に記載の磁気記録媒体。
（３）
前記磁気記録媒体の平均厚みＴ_Ａおよび前記基体の平均厚みＴ_Ｂが以下の関係式（３）を満たす（１）または（２）に記載の磁気記録媒体。
４．０≦Ｔ_Ｂ／（Ｔ_Ａ－Ｔ_Ｂ）≦８．３ ・・・（３）
（４）
前記磁気記録媒体の平均厚みＴ_Ａおよび前記基体の平均厚みＴ_Ｂが以下の関係式（４）を満たす（１）から（３）のいずれかに記載の磁気記録媒体。
０．５５≦Ｔ_Ａ－Ｔ_Ｂ≦１．１ ・・・（４）
（５）
前記磁性層が、複数のデータトラックを形成可能に構成され、
前記データトラックの幅が、１５００ｎｍ以下である（１）から（４）のいずれかに記載の磁気記録媒体。
（６）
１５００ｎｍ以下のデータトラック幅でデータを記録可能に構成された記録再生装置に用いられる（１）から（５）のいずれかに記載の磁気記録媒体。
（７）
長手方向における前記磁気記録媒体のヤング率が、８．０ＧＰａ未満である（１）から（６）のいずれかに記載の磁気記録媒体。
（８）
長手方向における前記基体のヤング率が、７．５ＧＰａ未満である（１）から（７）のいずれかに記載の磁気記録媒体。
（９）
長手方向における前記磁性層の角形比が、３５％以下である（１）から（８）のいずれかに記載の磁気記録媒体。
（１０）
前記磁性層が、磁化反転間距離の最小値Ｌとデータトラックの幅Ｗの比率Ｗ／ＬがＷ／Ｌ≦３５の関係を満たすように、データを記録可能に構成されている（１）から（９）のいずれかに記載の磁気記録媒体。
（１１）
前記磁性層が、磁化反転間距離の最小値Ｌとデータトラックの幅Ｗの比率Ｗ／ＬがＷ／Ｌ≦３０の関係を満たすように、データを記録可能に構成されている（１）から（１０）のいずれかに記載の磁気記録媒体。
（１２）
前記磁性層が、磁化反転間距離の最小値Ｌが４８ｎｍ以下となるように、データを記録可能に構成されている（１）から（１１）のいずれかに記載の磁気記録媒体。
（１３）
前記磁性層が、複数のサーボバンドを有し、
前記磁性層の表面の面積に対する前記サーボバンドの総面積の割合が、４．０％以下である（１）から（１２）のいずれかに記載の磁気記録媒体。
（１４）
前記サーボバンドの数が、５以上である（１３）に記載の磁気記録媒体。
（１５）
前記サーボバンドの数が、５＋４ｎ（但し、ｎは正の整数である。）以上である（１３）に記載の磁気記録媒体。
（１６）
前記サーボバンドの幅が、９５μｍ以下である（１３）から（１５）のいずれかに記載の磁気記録媒体。
（１７）
前記磁気記録媒体の平均厚みが、５．６μｍ以下である（１）から（１６）のいずれかに記載の磁気記録媒体。
（１８）
前記基体の平均厚みが、４．２μｍ以下である（１）から（１７）のいずれかに記載の磁気記録媒体。
（１９）
前記磁性層の平均厚みが、９０ｎｍ以下である（１）から（１８）のいずれかに記載の磁気記録媒体。
（２０）
長手方向のテンション変化に対する幅方向の寸法変化量Δｗが、６５０［ｐｐｍ／Ｎ］≦Δｗである（１）から（１９）のいずれかに記載の磁気記録媒体。
（２１）
温度膨張係数αが、６［ｐｐｍ／℃］≦α≦８［ｐｐｍ／℃］であり、且つ、湿度膨張係数βが、β≦５［ｐｐｍ／％ＲＨ］である（１）から（２０）のいずれかに記載の磁気記録媒体。
（２２）
ポアソン比ρが、０．３≦ρである（１）から（２１）のいずれかに記載の磁気記録媒体。
（２３）
長手方向の弾性限界値σ_ＭＤが、０．８［Ｎ］≦σ_ＭＤである（１）から（２２）のいずれかに記載の磁気記録媒体。
（２４）
前記磁性層は、磁性粉を含み、
前記磁性粉は、六方晶フェライト、ε酸化鉄またはＣｏ含有スピネルフェライトを含む（１）から（２３）のいずれかに記載の磁気記録媒体。
（２５）
前記磁性粉の平均アスペクト比が、１．０以上３．０以下である（１）から（２４）のいずれかに記載の磁気記録媒体。
（２６）
前記六方晶フェライトが、ＢａおよびＳｒのうちの少なくとも１種を含み、
前記ε酸化鉄が、ＡｌおよびＧａのうちの少なくとも１種を含む（２４）に記載の磁気記録媒体。
（２７）
前記磁性粉は、六方晶フェライトを含み、
前記磁性粉の平均粒子体積が、１０００ｎｍ^３以上１８００ｎｍ^３以下である（２４）に記載の磁気記録媒体。
（２８）
前記基体と前記磁性層の間に設けられた下地層をさらに備える（１）から（２７）のいずれかに記載の磁気記録媒体。
（２９）
（１）から（２８）のいずれかに記載された前記磁気記録媒体と、
前記磁気記録媒体の長手方向にかかるテンションを調整するための調整情報を書き込む領域を有する記憶部と
を備えるカートリッジ。
（３０）
記録再生装置と通信を行う通信部と、
前記通信部を介して前記記録再生装置から受信した前記調整情報を前記領域に記憶し、かつ、前記記録再生装置の要求に応じて、前記領域から前記調整情報を読み出し、前記通信部を介して前記記録再生装置に送信する制御部と
をさらに備える（２９）に記載のカートリッジ。

１０ カートリッジ
１１ カートリッジメモリ
３１ アンテナコイル
３２ 整流・電源回路
３３ クロック回路
３４ 検波・変調回路
３５ コントローラ
３６ メモリ
３６Ａ 第１の記憶領域
３６Ｂ 第２の記憶領域
４１ 基体
４２ 下地層
４３ 磁性層
４４ バック層
５０、５０Ａ 記録再生装置
５１ スピンドル
５２ リール
５３ スピンドル駆動装置
５４ リール駆動装置
５５ ガイドローラ
５６ ヘッドユニット
５７ リーダライタ
５８ 通信インターフェース
５９ 制御装置
６０ 温度計
６１ 湿度計
１００、１００Ａ 記録再生システム
ＭＴ 磁気テープ

Claims (27)

1. テープ状の磁気記録媒体であって、
   基体と、
   前記基体上に設けられた下地層と、
   前記下地層上に設けられた磁性層と
   を備え、
   前記磁気記録媒体の平均厚みが、５．６μｍ以下であり、
   前記磁性層は前記磁気記録媒体の長手方向に沿ってのびる複数のサーボバンドを有しており、
   前記磁性層は磁性粉と第一の結着剤を含み、
   前記基体はポリエステルを含み、
   前記磁気記録媒体の長手方向におけるヤング率が、８．０ＧＰａ未満であり、
   前記磁気記録媒体の長手方向における角形比が、３５％以下であり、
   前記磁気記録媒体を１／２インチ幅に切り出し、温度、相対湿度が（１０℃、１０％）、（１０℃、８０％）、（２９℃、８０％）、（４５℃、１０％）である４つの環境下のそれぞれで０．２Ｎの荷重をかけた状態で２時間保持した後に測定された前記磁気記録媒体の幅の平均値のうちの最大値、最小値をそれぞれｗ_max、ｗ_minとした場合、ｗ_maxおよびｗ_minが以下の関係式（１）を満たし、
   前記磁気記録媒体の平均厚みＴ_Ａおよび前記基体の平均厚みＴ_Ｂが以下の関係式（２）を満たす磁気記録媒体。
   （ｗ_max－ｗ_min）／ｗ_min≦４００［ｐｐｍ］ ・・・（１）
   ４．０≦Ｔ_Ｂ／（Ｔ_Ａ－Ｔ_Ｂ） ・・・（２）
2. 前記磁気記録媒体の長手方向における角形比が、３０％以下である請求項１に記載の磁気記録媒体。
3. 前記磁気記録媒体の平均厚みＴ_Ａおよび前記基体の平均厚みＴ_Ｂが以下の関係式（３）を満たす請求項１に記載の磁気記録媒体。
   ４．０≦Ｔ_Ｂ／（Ｔ_Ａ－Ｔ_Ｂ）≦８．３ ・・・（３）
4. 前記磁気記録媒体の平均厚みＴ_Ａおよび前記基体の平均厚みＴ_Ｂが以下の関係式（４）を満たす請求項１に記載の磁気記録媒体。
   ０．５５［μｍ］≦Ｔ_Ａ－Ｔ_Ｂ≦１．１［μｍ］ ・・・（４）
5. 前記磁性層が、複数のデータトラックを形成可能に構成され、
   前記データトラックの幅が、１５００ｎｍ以下である請求項１に記載の磁気記録媒体。
6. １５００ｎｍ以下のデータトラック幅でデータを記録可能に構成された記録再生装置に用いられる請求項１に記載の磁気記録媒体。
7. 前記磁気記録媒体の長手方向における前記基体のヤング率が、７．５ＧＰａ未満である請求項１に記載の磁気記録媒体。
8. 前記磁性層が、磁化反転間距離の最小値Ｌとデータトラックの幅Ｗの比率Ｗ／ＬがＷ／Ｌ≦３５の関係を満たすように、データを記録可能に構成されている請求項１に記載の磁気記録媒体。
9. 前記磁性層が、磁化反転間距離の最小値Ｌとデータトラックの幅Ｗの比率Ｗ／ＬがＷ／Ｌ≦３０の関係を満たすように、データを記録可能に構成されている請求項１に記載の磁気記録媒体。
10. 前記磁性層が、磁化反転間距離の最小値Ｌが４８ｎｍ以下となるように、データを記録可能に構成されている請求項１に記載の磁気記録媒体。
11. 前記磁性層の表面の面積に対する前記サーボバンドの総面積の割合が、４．０％以下である請求項１に記載の磁気記録媒体。
12. 前記サーボバンドの数が、５以上である請求項１に記載の磁気記録媒体。
13. 前記サーボバンドの数が、５＋４ｎ（但し、ｎは正の整数である。）である請求項１に記載の磁気記録媒体。
14. 前記サーボバンドの幅が、９５μｍ以下である請求項１に記載の磁気記録媒体。
15. 前記磁気記録媒体の平均厚みが、５．２４μｍ以下である請求項１に記載の磁気記録媒体。
16. 前記基体の平均厚みが、４．２μｍ以下である請求項１に記載の磁気記録媒体。
17. 前記磁性層の平均厚みが、９０ｎｍ以下である請求項１に記載の磁気記録媒体。
18. 前記磁気記録媒体の長手方向のテンション変化に対する幅方向の寸法変化量Δｗが、６５０［ｐｐｍ／Ｎ］≦Δｗである請求項１に記載の磁気記録媒体。
19. 温度膨張係数αが、６［ｐｐｍ／℃］≦α≦８［ｐｐｍ／℃］であり、且つ、湿度膨張係数βが、β≦５［ｐｐｍ／％ＲＨ］である請求項１に記載の磁気記録媒体。
20. ポアソン比ρが、０．３≦ρである請求項１に記載の磁気記録媒体。
21. 前記磁気記録媒体の長手方向の弾性限界値σ_ＭＤが、０．８［Ｎ］≦σ_ＭＤである請求項１に記載の磁気記録媒体。
22. 前記磁性粉は、六方晶フェライト、ε酸化鉄またはＣｏ含有スピネルフェライトを含む請求項１に記載の磁気記録媒体。
23. 前記磁性粉の平均アスペクト比が、１．０以上３．０以下である請求項１に記載の磁気記録媒体。
24. 前記六方晶フェライトが、ＢａおよびＳｒのうちの少なくとも１種を含み、
    前記ε酸化鉄が、ＡｌおよびＧａのうちの少なくとも１種を含む請求項２２に記載の磁気記録媒体。
25. 前記磁性粉は、六方晶フェライトを含み、
    前記磁性粉の平均粒子体積が、１０００ｎｍ^３以上１８００ｎｍ^３以下である請求項１に記載の磁気記録媒体。
26. 請求項１から２５のいずれか１項に記載された前記磁気記録媒体と、
    前記磁気記録媒体の長手方向にかかるテンションを調整するための調整情報を書き込む領域を有する記憶部と
    を備えるカートリッジ。
27. 記録再生装置と通信を行う通信部と、
    前記通信部を介して前記記録再生装置から受信した前記調整情報を前記領域に記憶し、かつ、前記記録再生装置の要求に応じて、前記領域から前記調整情報を読み出し、前記通信部を介して前記記録再生装置に送信する制御部と
    をさらに備える請求項２６に記載のカートリッジ。

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