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JP7254002B2 - Measuring method and test equipment - Google Patents

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JP7254002B2
JP7254002B2 JP2019150733A JP2019150733A JP7254002B2 JP 7254002 B2 JP7254002 B2 JP 7254002B2 JP 2019150733 A JP2019150733 A JP 2019150733A JP 2019150733 A JP2019150733 A JP 2019150733A JP 7254002 B2 JP7254002 B2 JP 7254002B2
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  • Investigating Strength Of Materials By Application Of Mechanical Stress (AREA)

Description

本発明は、試験片の強度を測定する測定方法及び試験装置に関する。 The present invention relates to a measuring method and testing apparatus for measuring the strength of a test piece.

半導体ウェーハの裏面研削に伴いウェーハ裏面には研削歪みが生成される。更に、研削後の切削ブレードによるダイシングに伴い半導体デバイスチップ側面には切削歪みが生成される。半導体デバイスチップは、研削歪み、研削歪みにより強度が低下してしまう。 Grinding strain is generated on the back surface of the wafer as the back surface of the semiconductor wafer is ground. Furthermore, cutting strain is generated on the side surface of the semiconductor device chip as a result of dicing with a cutting blade after grinding. The strength of the semiconductor device chip is reduced due to grinding distortion and grinding distortion.

半導体デバイスチップの強度を測定する手法として一般的にSEMI(Semiconductor Equipment and Materials International)規格G86-0303で既定される3点曲げを利用した試験装置が利用されている(例えば、特許文献1参照)。 As a method for measuring the strength of a semiconductor device chip, a testing apparatus using three-point bending defined by SEMI (Semiconductor Equipment and Materials International) standard G86-0303 is generally used (see, for example, Patent Document 1). .

特開2005-17054号公報JP 2005-17054 A

特許文献1等に示された従来の試験装置は、チップに分割されたウェーハから作業者が所定のチップ(試験片)を取り出し、試験装置にセットして強度を測定しており、手間であった。特許文献1等に示された従来の試験装置は、更にチップを破壊した後、チップを支持する支持面にチップの破片等の異物が付着した状態で別のチップの強度を測定してしまうと、正確な測定ができないという問題がある。 In the conventional test apparatus disclosed in Patent Document 1, etc., a worker takes out a predetermined chip (test piece) from a wafer divided into chips, sets it in the test apparatus, and measures the strength, which is troublesome. rice field. In the conventional testing apparatus disclosed in Patent Document 1 and the like, after the chip is broken, the strength of another chip is measured in a state in which foreign matter such as chip fragments adhere to the support surface that supports the chip. , there is a problem that accurate measurement cannot be performed.

本発明は、かかる問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、複数の試験片の強度を測定する際でも正確に強度を測定することを可能とする測定方法及び試験装置を提供することである。 The present invention has been made in view of such problems, and its object is to provide a measuring method and a testing apparatus that enable accurate strength measurement even when measuring the strength of a plurality of test pieces. That is.

上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明の測定方法は、試験片の強度を測定する測定方法であって、試験片の下面を支持する支持面を含み互いに所定の間隔を有して配設された一対の長尺支持部と、該長尺支持部の上方且つ一対の該長尺支持部の間に配置された該長尺支持部と平行に伸長する圧子と、該圧子を一対の該長尺支持部で支持された試験片に対して相対的に近接移動させる移動手段と、該圧子が一対の該長尺支持部で支持された試験片を押圧する荷重を計測する荷重計測手段と、試験片を保持するコレットと、試験片をピックアップするピックアップ位置と一対の該長尺支持部上に試験片を載置する載置位置との間で該コレットを移動するコレット移動手段と、を有したチップ破壊装置を準備する装置準備ステップと、該コレットで保持した試験片を一対の該長尺支持部上に載置し、次いで一対の該長尺支持部で支持された試験片を該圧子で押圧して破壊し、試験片が破壊した際の荷重を該荷重計測手段で検出する荷重検出ステップと、該荷重検出ステップを実施する前または後に、清掃具を該コレットで保持し該コレット移動手段で該載置位置へと移動させて該支持面を該清掃具で清掃する清掃ステップと、を備えたことを特徴とする。 In order to solve the above-described problems and achieve the object, the measuring method of the present invention is a measuring method for measuring the strength of a test piece, which includes a support surface that supports the lower surface of the test piece and is spaced apart from each other by a predetermined distance. an indenter extending in parallel with the long supports disposed above the long supports and between the pair of long supports; Moving means for moving the indenter relatively closer to the test piece supported by the pair of long support portions, and measuring the load with which the indenter presses the test piece supported by the pair of long support portions. a load measuring means for holding the test piece; a collet for holding the test piece; a device preparation step of preparing a chip breaking device having a moving means; a test piece held by the collet; a load detection step of pressing the test piece with the indenter to break it, and detecting the load when the test piece breaks with the load measuring means; and a cleaning step of holding the collet with the collet moving means, moving the collet to the mounting position, and cleaning the support surface with the cleaning tool.

前記測定方法において、該コレットは、試験片を吸引保持する吸引保持面を含み、該清掃具は該コレットに吸引保持される被保持面と、該被保持面の背面で該支持面を清掃する清掃面と、を含んだ多孔性材からなる本体部を有し、該清掃ステップでは、該コレットで該清掃具を介して該支持面上の異物を吸引し、該清掃具の該清掃面に異物を吸着しても良い。 In the measuring method, the collet includes a suction-holding surface that suction-holds the test piece, and the cleaning tool cleans the held surface that is suction-held by the collet and the supporting surface behind the held surface. a body portion made of a porous material including a cleaning surface; and in the cleaning step, foreign matter on the support surface is sucked through the cleaning tool by the collet, and the cleaning surface of the cleaning tool is coated with foreign matter. Foreign matter may be adsorbed.

前記測定方法において、該清掃ステップでは、該コレットで吸引保持した該清掃具を該支持面上で摺動させて該支持面上の異物を該支持面から除去しても良い。 In the measuring method, in the cleaning step, the cleaning tool sucked and held by the collet may be slid on the support surface to remove foreign matter on the support surface.

本発明の試験装置は、試験片の強度を測定する試験装置であって、試験片の下面を支持する支持面を含み互いに所定の間隔を有して配設された一対の長尺支持部と、該長尺支持部の上方且つ一対の該長尺支持部の間に配置された該長尺支持部と平行に伸長する圧子と、該圧子を一対の該長尺支持部で支持された試験片に対して相対的に近接移動させる移動手段と、該圧子が一対の該長尺支持部で支持された試験片を押圧する荷重を計測する荷重計測手段と、試験片を保持するコレットと、試験片をピックアップするピックアップ位置と一対の該長尺支持部上に試験片を載置する載置位置との間で該コレットを移動するコレット移動手段と、を有した試験片搬送手段と、一対の該長尺支持部の該支持面を清掃する清掃具を収容する清掃具収容部と、該清掃具収容部に収容された清掃具で一対の該長尺支持部の該支持面を清掃する清掃手段と、を備え、該試験片搬送手段が該清掃手段を兼用することを特徴とする。 The test apparatus of the present invention is a test apparatus for measuring the strength of a test piece, and includes a pair of long supports including a support surface for supporting the lower surface of the test piece and arranged at a predetermined distance from each other. , an indenter extending parallel to the long support arranged above the long support and between the pair of long supports, and a test in which the indenter is supported by the pair of long supports moving means for moving relatively close to the piece; load measuring means for measuring the load with which the indenter presses the test piece supported by the pair of long support portions; a collet for holding the test piece; a test piece conveying means having collet moving means for moving the collet between a pick-up position for picking up the test piece and a placement position for placing the test piece on the pair of long supports; and cleaning the support surfaces of the pair of long support portions with a cleaning tool containing cleaning tool for cleaning the support surfaces of the long support parts of the above. and a cleaning means, wherein the test piece conveying means also serves as the cleaning means.

本発明は、複数の試験片の強度を測定する際でも正確に強度を測定することを可能とするという効果を奏する。 ADVANTAGE OF THE INVENTION This invention is effective in making it possible to measure intensity|strength correctly, even when measuring the intensity|strength of a several test piece.

図1は、実施形態1に係る試験装置の構成例の一部を示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view showing a part of a configuration example of a test apparatus according to Embodiment 1. FIG. 図2は、図1に示された試験装置の要部の斜視図である。FIG. 2 is a perspective view of the essential parts of the testing apparatus shown in FIG. 図3は、図1に示された試験装置の測定対象のウェーハの斜視図である。3 is a perspective view of a wafer to be measured by the testing apparatus shown in FIG. 1. FIG. 図4は、図1に示された試験装置の突き上げ機構等を示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view showing a push-up mechanism and the like of the test apparatus shown in FIG. 図5は、図1に示された試験装置のチップ搬送ユニットのピックアップ機構の斜視図である。5 is a perspective view of a pick-up mechanism of the chip transfer unit of the testing apparatus shown in FIG. 1. FIG. 図6は、図1に示された試験装置の強度測定機構を示す斜視図である。FIG. 6 is a perspective view showing a strength measuring mechanism of the testing apparatus shown in FIG. 1; 図7は、図6に示しされた強度測定機構の押圧ユニットを示す斜視図である。7 is a perspective view showing a pressing unit of the strength measuring mechanism shown in FIG. 6. FIG. 図8は、図6に示された強度測定機構の支持ユニットの斜視図である。8 is a perspective view of a support unit of the strength measuring mechanism shown in FIG. 6; FIG. 図9は、図1に示された試験装置の清掃具支持部を示す斜視図である。FIG. 9 is a perspective view of the cleaning tool support of the test apparatus shown in FIG. 1; 図10は、図9に示された清掃具支持部に支持される清掃具を示す斜視図である。10 is a perspective view showing a cleaning tool supported by the cleaning tool support shown in FIG. 9; FIG. 図11は、図10中のXI-XI線に沿う断面図である。11 is a cross-sectional view taken along line XI--XI in FIG. 10. FIG. 図12は、実施形態1に係る測定方法の流れを示すフローチャートである。FIG. 12 is a flow chart showing the flow of the measurement method according to the first embodiment. 図13は、図12に示された測定方法の荷重検出ステップにおいてウェーハの所定のチップと突き上げ機構とを位置合わせした状態を示す断面図である。FIG. 13 is a cross-sectional view showing a state in which predetermined chips of the wafer and the push-up mechanism are aligned in the load detection step of the measuring method shown in FIG. 図14は、図13に示されたウェーハの所定のチップを突き上げ機構が突き上げた状態を示す断面図である。14 is a cross-sectional view showing a state in which a predetermined chip on the wafer shown in FIG. 13 is pushed up by the pushing-up mechanism. 図15は、図14に示された所定のチップをコレットが吸引保持した状態を示す断面図である。15 is a cross-sectional view showing a state in which the collet holds the predetermined tip shown in FIG. 14 by suction. 図16は、図12に示された測定方法の荷重検出ステップにおいて支持ユニットの一対の長尺支持部がチップを支持した状態を示す断面図である。16 is a cross-sectional view showing a state in which a pair of elongated support portions of the support unit supports the chip in the load detection step of the measuring method shown in FIG. 12. FIG. 図17は、図16に示されたチップが圧子に押圧されて長尺支持部の支持突起の上端に接触した状態を示す断面図である。17 is a cross-sectional view showing a state in which the tip shown in FIG. 16 is pressed by the indenter and is in contact with the upper ends of the support projections of the long support portion. 図18は、図17に示されたチップが破壊された状態を示す断面図である。FIG. 18 is a cross-sectional view showing a broken state of the chip shown in FIG. 図19は、図12に示された測定方法の清掃ステップにおいてコレットの下面に清掃具を吸引保持した状態を示す斜視図である。19 is a perspective view showing a state in which the cleaning tool is suction-held on the lower surface of the collet in the cleaning step of the measuring method shown in FIG. 12. FIG. 図20は、図19に示された清掃具が一対の長尺支持部の支持突起の上端を清掃している状態を示す断面図である。20 is a cross-sectional view showing a state in which the cleaning tool shown in FIG. 19 is cleaning the upper ends of the support projections of the pair of long support portions; FIG. 図21は、実施形態2に係る測定方法で用いられる清掃具の断面図である。21 is a cross-sectional view of a cleaning tool used in the measuring method according to Embodiment 2. FIG. 図22は、実施形態2に係る測定方法の清掃ステップにおいて清掃具が一対の長尺支持部の支持突起の上端を清掃している状態を示す断面図である。22 is a cross-sectional view showing a state in which the cleaning tool is cleaning the upper ends of the support protrusions of the pair of long support portions in the cleaning step of the measurement method according to the second embodiment; FIG. 図23は、実施形態3に係る測定方法の清掃ステップにおいて清掃具が一対の長尺支持部の支持突起の上端を清掃している状態を示す断面図である。23 is a cross-sectional view showing a state in which the cleaning tool is cleaning the upper ends of the support projections of the pair of long support portions in the cleaning step of the measurement method according to Embodiment 3. FIG. 図24は、実施形態1、実施形態2及び実施形態3の変形例に係る測定方法の流れを示すフローチャートである。FIG. 24 is a flow chart showing the flow of the measurement method according to the modification of the first, second, and third embodiments.

本発明を実施するための形態(実施形態)につき、図面を参照しつつ詳細に説明する。以下の実施形態に記載した内容により本発明が限定されるものではない。また、以下に記載した構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、実質的に同一のものが含まれる。さらに、以下に記載した構成は適宜組み合わせることが可能である。また、本発明の要旨を逸脱しない範囲で構成の種々の省略、置換又は変更を行うことができる。 A form (embodiment) for carrying out the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The present invention is not limited by the contents described in the following embodiments. In addition, the components described below include those that can be easily assumed by those skilled in the art and those that are substantially the same. Furthermore, the configurations described below can be combined as appropriate. In addition, various omissions, substitutions, or changes in configuration can be made without departing from the gist of the present invention.

〔実施形態1〕
本発明の実施形態1に係る試験装置を図面に基づいて説明する。図1は、実施形態1に係る試験装置の構成例の一部を示す斜視図である。図2は、図1に示された試験装置の要部の斜視図である。図3は、図1に示された試験装置の測定対象のウェーハの斜視図である。
[Embodiment 1]
A test apparatus according to Embodiment 1 of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a perspective view showing a part of a configuration example of a test apparatus according to Embodiment 1. FIG. FIG. 2 is a perspective view of the essential parts of the testing apparatus shown in FIG. 3 is a perspective view of a wafer to be measured by the testing apparatus shown in FIG. 1. FIG.

実施形態1に係る図1及び図2に示す試験装置1は、図3に示すウェーハ10から個々に分割された試験片であるチップ14を破壊して、チップ14の強度である抗折強度を測定するチップ破壊装置である。 The test apparatus 1 shown in FIGS. 1 and 2 according to the first embodiment breaks chips 14, which are test pieces individually divided from the wafer 10 shown in FIG. It is a chip breaking device to measure.

(ウェーハ)
実施形態1では、ウェーハ10は、シリコン、サファイア、ガリウムなどを基板11とする円板状の半導体ウェーハや光デバイスウェーハ等である。ウェーハ10は、基板11の表面11-1に格子状に形成された複数の分割予定ライン12によって格子状に区画された領域にデバイス13が形成されている。実施形態1において、ウェーハ10は、外周縁に環状フレーム16が装着された支持部材である粘着テープ15が下面11-2に貼着されて、環状フレーム16に支持されて、ウェーハユニット17を構成している。即ち、実施形態1では、ウェーハ10は、粘着テープ15により支持されている。また、ウェーハ10は、分割予定ライン12に沿って個々のチップ14に個片化されている。なお、チップ14は、基板11の一部とデバイス13とを備える。
(wafer)
In Embodiment 1, the wafer 10 is a disk-shaped semiconductor wafer, an optical device wafer, or the like having a substrate 11 made of silicon, sapphire, gallium, or the like. In the wafer 10, devices 13 are formed in regions partitioned in a grid pattern by a plurality of division lines 12 formed in a grid pattern on the front surface 11-1 of the substrate 11. As shown in FIG. In Embodiment 1, the wafer 10 is supported by the annular frame 16 with the adhesive tape 15, which is a support member having the annular frame 16 attached to the outer peripheral edge, adhered to the lower surface 11-2, thereby constituting the wafer unit 17. are doing. That is, in Embodiment 1, the wafer 10 is supported by the adhesive tape 15 . Further, the wafer 10 is singulated into individual chips 14 along division lines 12 . Note that the chip 14 includes a portion of the substrate 11 and the device 13 .

なお、実施形態1では、ウェーハ10は、基板11の表面11-1にデバイス13が形成されているが、本発明では、試験装置1がウェーハ10を個々のチップ14に分割する所謂後工程の加工条件の妥当性を評価するために用いられる場合には、表面11-1にデバイス13が形成されていなくても良い。 In the first embodiment, the wafer 10 has the devices 13 formed on the front surface 11-1 of the substrate 11. However, in the present invention, the test apparatus 1 divides the wafer 10 into individual chips 14 in a so-called post-process. The device 13 may not be formed on the surface 11-1 when used to evaluate the adequacy of the processing conditions.

(試験装置)
試験装置1は、図1に示すように、装置本体2上に設けられウェーハユニット17を複数収容するカセット4が載置されるカセット載置台3と、カセット4にウェーハユニット17を出し入れする搬出入ユニット5と、カセット4から搬出されたウェーハユニット17又はカセット4に搬入される前のウェーハユニット17が仮置きされる一対の仮置きレール6と、フレーム固定ユニット7と、制御ユニット400とを備える。
(test equipment)
As shown in FIG. 1, the testing apparatus 1 includes a cassette mounting table 3 provided on an apparatus main body 2 on which a cassette 4 containing a plurality of wafer units 17 is mounted, and a loading/unloading table for loading/unloading the wafer units 17 into/from the cassette 4 . A unit 5, a pair of temporary placement rails 6 on which the wafer unit 17 unloaded from the cassette 4 or the wafer unit 17 before being loaded into the cassette 4 is temporarily placed, a frame fixing unit 7, and a control unit 400. .

カセット4は、複数のウェーハユニット17を鉛直方向と平行なZ軸方向に間隔をあけて収容する収容容器であって、ウェーハ10を出し入れする開口8が設けられている。カセット載置台3は、上面にカセット4が載置され、カセット4をZ軸方向に昇降させる。 The cassette 4 is a storage container that stores a plurality of wafer units 17 at intervals in the Z-axis direction parallel to the vertical direction, and is provided with an opening 8 for taking in and out the wafers 10 . The cassette mounting table 3 has the cassette 4 mounted on its upper surface, and moves the cassette 4 up and down in the Z-axis direction.

一対の仮置きレール6は、装置本体2上でかつカセット載置台3に載置されるカセット4の開口8の幅方向の両端に設けられ、水平方向と平行なY軸方向に直線状に延びている。一対の仮置きレール6は、互いに平行に配置され、Y軸方向に直交しかつ水平方向と平行なX軸方向に沿って互いに間隔をあけて配置されている。一対の仮置きレール6は、ウェーハユニット17の環状フレーム16が仮置きされる。 A pair of temporary placement rails 6 are provided on both ends in the width direction of the opening 8 of the cassette 4 placed on the apparatus main body 2 and placed on the cassette placing table 3, and extend linearly in the Y-axis direction parallel to the horizontal direction. ing. The pair of temporary placement rails 6 are arranged parallel to each other and spaced apart from each other along the X-axis direction perpendicular to the Y-axis direction and parallel to the horizontal direction. The annular frame 16 of the wafer unit 17 is temporarily placed on the pair of temporary placement rails 6 .

フレーム固定ユニット7は、環状のフレーム支持部材18と、フレーム支持部材18の上方に配置されかつ固定された環状のフレーム押さえ部材19と、フレーム支持部材18を昇降させる図示しない昇降機構とを備える。フレーム支持部材18は、上昇される前では上面が仮置きレール6の上面と同一平面上に位置して、ウェーハユニット17の環状フレーム16が載置される。フレーム固定ユニット7は、フレーム支持部材18の上面にウェーハユニット17の環状フレーム16が載置されると、昇降機構がフレーム支持部材18を上昇させて、フレーム押さえ部材19とフレーム支持部材18との間に環状フレーム16を挟み込んで、ウェーハユニット17を固定する。 The frame fixing unit 7 includes an annular frame support member 18, an annular frame pressing member 19 arranged above and fixed to the frame support member 18, and a lifting mechanism (not shown) for raising and lowering the frame support member 18. The upper surface of the frame support member 18 is positioned flush with the upper surface of the temporary placement rail 6 before being lifted, and the annular frame 16 of the wafer unit 17 is placed thereon. In the frame fixing unit 7, when the annular frame 16 of the wafer unit 17 is placed on the upper surface of the frame support member 18, the elevating mechanism lifts the frame support member 18, and the frame holding member 19 and the frame support member 18 are separated from each other. The wafer unit 17 is fixed by sandwiching the annular frame 16 therebetween.

搬出入ユニット5は、図示しない移動機構によりY軸方向に移動自在に設けられている。搬出入ユニット5は、カセット4からウェーハユニット17を搬出して、仮置きレール6上に仮置きした後、フレーム固定ユニット7の降下したフレーム支持部材18の上面までウェーハユニット17を搬出して、フレーム支持部材18の上面に載置する。また、搬出入ユニット5は、フレーム固定ユニット7の降下したフレーム支持部材18の上面上のウェーハユニット17を仮置きレール6を介してカセット4内に搬入する。 The loading/unloading unit 5 is provided so as to be movable in the Y-axis direction by a moving mechanism (not shown). The loading/unloading unit 5 unloads the wafer unit 17 from the cassette 4, temporarily places it on the temporary placement rail 6, and then unloads the wafer unit 17 to the upper surface of the frame support member 18 where the frame fixing unit 7 is lowered. It is placed on the upper surface of the frame support member 18 . Further, the carry-in/out unit 5 carries the wafer unit 17 on the upper surface of the frame support member 18 from which the frame fixing unit 7 has been lowered into the cassette 4 via the temporary placement rails 6 .

また、試験装置1は、図2に示すように、フレーム固定ユニット7をY軸方向とX軸方向とに移動する移動機構30と、突き上げ機構50と、撮像カメラ60と、試験片搬送手段であるチップ搬送ユニット20と、チップ観察機構100と、強度測定機構200とを備える。 As shown in FIG. 2, the test apparatus 1 includes a moving mechanism 30 for moving the frame fixing unit 7 in the Y-axis direction and the X-axis direction, a push-up mechanism 50, an imaging camera 60, and a test piece transport means. It has a chip transport unit 20 , a chip observation mechanism 100 and an intensity measurement mechanism 200 .

移動機構30は、装置本体2上に設けられかつ移動テーブル40をX軸方向に移動するX軸移動機構32と、X軸移動機構32によりX軸方向に移動される移動テーブル40上に設けられかつフレーム固定ユニット7をY軸方向に移動するY軸移動機構42とを備える。X軸移動機構32は、一対の仮置きレール6とY軸方向に並ぶ位置と一対の仮置きレール6から離れる位置とに亘って移動テーブル40即ちフレーム固定ユニット7をX軸方向に移動する。各移動機構32,42は、軸心回りに回転自在に設けられた周知のボールねじ36,46、ボールねじ36,46を軸心回りに回転させる周知のモータ38,48及び移動テーブル40又はフレーム固定ユニット7をX軸方向又はY軸方向に移動自在に支持する周知のガイドレール34,44を備える。 The moving mechanism 30 includes an X-axis moving mechanism 32 which is provided on the apparatus main body 2 and moves the moving table 40 in the X-axis direction, and a moving table 40 which is moved in the X-axis direction by the X-axis moving mechanism 32. and a Y-axis moving mechanism 42 for moving the frame fixing unit 7 in the Y-axis direction. The X-axis moving mechanism 32 moves the moving table 40 , that is, the frame fixing unit 7 in the X-axis direction between a position aligned with the pair of temporary placement rails 6 in the Y-axis direction and a position apart from the pair of temporary placement rails 6 . Each moving mechanism 32, 42 includes well-known ball screws 36, 46 rotatably provided around the axis, well-known motors 38, 48 for rotating the ball screws 36, 46 around the axis, and a moving table 40 or frame. Known guide rails 34, 44 are provided to support the fixed unit 7 so as to be movable in the X-axis direction or the Y-axis direction.

(突き上げ機構)
図4は、図1に示された試験装置の突き上げ機構等を示す断面図である。突き上げ機構50は、X軸移動機構32により一対の仮置きレール6から離れる位置に位置付けられたフレーム固定ユニット7の下方に配置される。突き上げ機構50は、装置本体2の凹部9内に設けられ、フレーム固定ユニット7に固定されたウェーハユニット17のいずれかのチップ14を粘着テープ15よりも上方に突き上げるものである。
(Push-up mechanism)
FIG. 4 is a cross-sectional view showing a push-up mechanism and the like of the test apparatus shown in FIG. The push-up mechanism 50 is arranged below the frame fixing unit 7 positioned away from the pair of temporary placement rails 6 by the X-axis movement mechanism 32 . The push-up mechanism 50 is provided in the recess 9 of the apparatus main body 2 and pushes up any chip 14 of the wafer unit 17 fixed to the frame fixing unit 7 above the adhesive tape 15 .

突き上げ機構50は、図4に示すように、中空の円柱状に形成された外層部51と、外層部51の内部に配置された四角柱状の突き上げ部52とを備える。外層部51の上面53には、外層部51の周方向に沿って同心円状に形成された複数の吸引溝54が形成されている。吸引溝54はそれぞれ、突き上げ機構50の内部に形成された吸引路55及び開閉弁56を介して、エジェクタ等でなる吸引源57に接続している。 As shown in FIG. 4 , the push-up mechanism 50 includes an outer layer portion 51 formed in a hollow columnar shape, and a quadrangular prism-shaped push-up portion 52 arranged inside the outer layer portion 51 . A plurality of suction grooves 54 are formed concentrically along the circumferential direction of the outer layer portion 51 in the upper surface 53 of the outer layer portion 51 . Each of the suction grooves 54 is connected to a suction source 57 such as an ejector via a suction path 55 and an opening/closing valve 56 formed inside the push-up mechanism 50 .

突き上げ部52は、四角柱状に形成された第1突き上げピン52-1と、中空の四角柱状に形成され第1突き上げピン52-1を囲繞する第2突き上げピン52-2と、中空の四角柱状に形成され第2突き上げピン52-2を囲繞する第3突き上げピン52-3と、中空の四角柱状に形成され第3突き上げピン52-3を囲繞する第4突き上げピン52-4とを備える。第1突き上げピン52-1、第2突き上げピン52-2、第3突き上げピン52-3、及び第4突き上げピン52-4は、それぞれ、モータ等で構成される昇降機構(図示せず)と接続され、Z軸方向に沿って昇降する。 The push-up portion 52 includes a first push-up pin 52-1 formed in the shape of a square pillar, a second push-up pin 52-2 formed in the shape of a hollow square pillar and surrounding the first push-up pin 52-1, and a hollow square pillar. and a fourth push-up pin 52-4 formed in the shape of a hollow square column and surrounding the third push-up pin 52-3. The first push-up pin 52-1, the second push-up pin 52-2, the third push-up pin 52-3, and the fourth push-up pin 52-4 are each connected to an elevating mechanism (not shown) composed of a motor or the like. It is connected and moves up and down along the Z-axis direction.

突き上げ機構50は、ウェーハユニット17が上方に位置付けられた状態で、突き上げ部52を上昇させて、突き上げ部52と重なる位置に配置されたチップ14を突き上げる。突き上げ機構50は、外層部51の上面の吸引溝54が吸引源57により吸引されて、外層部51の上面に粘着テープ15を介してチップ14を吸引保持する。突き上げ機構50は、上面に粘着テープ15を介してチップ14を吸引保持し、突き上げ部52が上昇されることで、所定のチップ14を粘着テープ15よりも上方に突き上げる。なお、突き上げ機構50の寸法は、チップ23のサイズに応じて適宜調整される。 The push-up mechanism 50 raises the push-up portion 52 in a state where the wafer unit 17 is positioned upward, and pushes up the chip 14 arranged at a position overlapping the push-up portion 52 . The push-up mechanism 50 sucks and holds the chip 14 on the upper surface of the outer layer portion 51 via the adhesive tape 15 by sucking the suction groove 54 on the upper surface of the outer layer portion 51 by the suction source 57 . The push-up mechanism 50 sucks and holds the chip 14 via the adhesive tape 15 on the upper surface, and pushes up the predetermined chip 14 above the adhesive tape 15 by raising the push-up part 52 . Note that the dimensions of the push-up mechanism 50 are appropriately adjusted according to the size of the chip 23 .

撮像カメラ60は、凹部9上のフレーム固定ユニット7により固定されたウェーハユニット17のウェーハ10の全体を撮像可能な位置に配置される。撮像カメラ60は、フレーム固定ユニット7により固定されたウェーハ10の全体を撮像する撮像素子を備えている。撮像素子は、例えば、CCD(Charge-Coupled Device)撮像素子又はCMOS(Complementary MOS)撮像素子である。撮像カメラ60は、フレーム固定ユニット7により固定されたウェーハユニット17のウェーハ10の全体を撮影して、ウェーハ10の所定のチップ14と突き上げ機構50との位置合わせを行なうため等の画像を得、得た画像を制御ユニット400に出力する。 The imaging camera 60 is arranged at a position capable of imaging the entire wafer 10 of the wafer unit 17 fixed by the frame fixing unit 7 above the recess 9 . The imaging camera 60 has an imaging device for imaging the entire wafer 10 fixed by the frame fixing unit 7 . The imaging device is, for example, a CCD (Charge-Coupled Device) imaging device or a CMOS (Complementary MOS) imaging device. The imaging camera 60 photographs the entire wafer 10 of the wafer unit 17 fixed by the frame fixing unit 7, and obtains an image for aligning the predetermined chip 14 of the wafer 10 with the push-up mechanism 50, etc. The obtained image is output to the control unit 400 .

(チップ搬送ユニット)
図5は、図1に示された試験装置のチップ搬送ユニットのピックアップ機構の斜視図である。チップ搬送ユニット20は、ピックアップ機構70と、コレット移動手段であるコレット移動機構80とを有する。
(Chip transfer unit)
5 is a perspective view of a pick-up mechanism of the chip transfer unit of the testing apparatus shown in FIG. 1. FIG. The chip transfer unit 20 has a pick-up mechanism 70 and a collet moving mechanism 80 as collet moving means.

ピックアップ機構70は、複数のチップ14に分割され粘着テープ15で支持されたウェーハ10から突き上げ機構50により突き上げされた所定のチップ14をピックアップするものである。ピックアップ機構70は、図5に示すように、コレット移動機構80によりY軸方向とZ軸方向とに移動される移動基台72と、移動基台72からコレット移動機構80から離れる方向にX軸方向に延在したアーム74と、アーム74の先端に設けられチップ14を保持するコレット76とを備える。 The pickup mechanism 70 picks up a predetermined chip 14 pushed up by the push-up mechanism 50 from the wafer 10 divided into a plurality of chips 14 and supported by the adhesive tape 15 . As shown in FIG. 5 , the pickup mechanism 70 includes a movable base 72 that is moved in the Y-axis direction and the Z-axis direction by the collet moving mechanism 80 , and an X-axis moving base 72 that moves away from the collet moving mechanism 80 . and a collet 76 provided at the tip of the arm 74 to hold the chip 14 .

コレット76は、アーム74の先端の下端部に取り付けられている。コレット76は、下面79が吸引路73及び開閉弁75を介してエジェクタ等でなる吸引源77に接続して、吸引源77により吸引されて、チップ14を吸引保持する吸引保持面をなしている。即ち、コレット76は、吸引保持面である下面79を備える。ピックアップ機構70は、コレット76の下面79に突き上げ機構50により突き上げられたチップ14を吸引保持し、コレット移動機構80により上昇されることで、所定のチップ14を粘着テープ15からピックアップする。 A collet 76 is attached to the lower end of the tip of the arm 74 . The lower surface 79 of the collet 76 is connected to a suction source 77 such as an ejector through a suction path 73 and an on-off valve 75, and is sucked by the suction source 77 to form a suction holding surface for holding the tip 14 by suction. . That is, the collet 76 has a lower surface 79 that is a suction holding surface. The pick-up mechanism 70 sucks and holds the chip 14 pushed up by the push-up mechanism 50 on the lower surface 79 of the collet 76 , and is lifted by the collet moving mechanism 80 to pick up the predetermined chip 14 from the adhesive tape 15 .

また、実施形態1では、試験装置1は、突き上げ機構50の上面側に粘着テープ15からピックアップされる際にチップ14にかかる荷重を計測する計測手段であるロードセルを備えても良い。ロードセルは、計測結果を制御ユニット400に出力する。なお、本発明では、計測手段であるロードセルをピックアップ機構70のコレット76の下面79側に設けても良い。 Further, in the first embodiment, the test apparatus 1 may include a load cell, which is measuring means for measuring the load applied to the chip 14 when the chip 14 is picked up from the adhesive tape 15 , on the upper surface side of the push-up mechanism 50 . The load cell outputs measurement results to the control unit 400 . In addition, in the present invention, a load cell, which is measuring means, may be provided on the lower surface 79 side of the collet 76 of the pickup mechanism 70 .

コレット移動機構80は、チップ14を粘着テープ15からピックアップするピックアップ位置と、強度測定機構200の後述する支持突起213(図8に示す)上にチップ14を載置する載置位置との間でコレット76を移動するものである。コレット移動機構80は、装置本体2上に設けられかつ移動テーブル90をY軸方向に移動する第2Y軸移動機構82と、第2Y軸移動機構82によりY軸方向に移動される移動テーブル90上に設けられかつ移動基台72即ちピックアップ機構70をZ軸方向に移動するZ軸移動機構92とを備える。 The collet moving mechanism 80 moves between a pickup position where the chip 14 is picked up from the adhesive tape 15 and a mounting position where the chip 14 is mounted on a supporting projection 213 (shown in FIG. 8) of the strength measuring mechanism 200, which will be described later. It moves the collet 76 . The collet moving mechanism 80 includes a second Y-axis moving mechanism 82 that is provided on the apparatus main body 2 and moves the moving table 90 in the Y-axis direction, and a second Y-axis moving mechanism 82 that moves the moving table 90 in the Y-axis direction. and a Z-axis moving mechanism 92 for moving the moving base 72, that is, the pickup mechanism 70 in the Z-axis direction.

第2Y軸移動機構82は、突き上げ機構50の外層部51の上面と下面79がZ軸方向に対面するピックアップ位置から移動テーブル90即ちピックアップ機構70をY軸方向に沿って強度測定機構200に向かって移動する。各移動機構82,92は、軸心回りに回転自在に設けられた周知のボールねじ86,96、ボールねじ86,996を軸心回りに回転させる周知のモータ88,98及び移動テーブル90又はピックアップ機構70をY軸方向又はZ軸方向に移動自在に支持する周知のガイドレール84,94を備える。 The second Y-axis moving mechanism 82 moves the moving table 90, that is, the pickup mechanism 70, along the Y-axis direction from the pickup position where the upper surface and the lower surface 79 of the outer layer portion 51 of the push-up mechanism 50 face each other in the Z-axis direction toward the strength measuring mechanism 200. to move. Each moving mechanism 82, 92 includes known ball screws 86, 96 rotatably provided around the axis, known motors 88, 98 for rotating the ball screws 86, 996 around the axis, and a moving table 90 or pickup. Known guide rails 84, 94 are provided to support the mechanism 70 so as to be movable in the Y-axis direction or the Z-axis direction.

チップ観察機構100は、チップ14の表面11-1、下面11-2及び側面を撮像して観察するものである。チップ観察機構100は、図1及び図2に示すように、装置本体2上の突き上げ機構50のY軸方向の隣りに配置された下方撮像ユニット102と、側方撮像ユニット112と、チップ14の上下を反転するチップ反転機構150とを備える。 The chip observation mechanism 100 images and observes the top surface 11-1, the bottom surface 11-2 and the side surface of the chip 14. FIG. As shown in FIGS. 1 and 2, the tip observation mechanism 100 includes a lower imaging unit 102, a side imaging unit 112, and a tip 14, which are arranged next to the push-up mechanism 50 on the apparatus main body 2 in the Y-axis direction. A chip reversing mechanism 150 for reversing upside down is provided.

下方撮像ユニット102は、ピックアップ機構70のコレット76に保持されたチップ14を下方から撮像する下方撮像カメラ103を備える。下方撮像カメラ103は、コレット76の移動経路と重なる位置に配置されている。下方撮像ユニット102は、下方撮像カメラ103がチップ14を下方から撮像し、撮像して得た画像を制御ユニット400に出力する。 The lower imaging unit 102 includes a lower imaging camera 103 that images the chip 14 held by the collet 76 of the pickup mechanism 70 from below. The downward imaging camera 103 is arranged at a position overlapping the movement path of the collet 76 . In the bottom imaging unit 102 , the bottom imaging camera 103 captures an image of the chip 14 from below and outputs the captured image to the control unit 400 .

側方撮像ユニット112は、チップ14を側方から即ちチップ14の側面を撮像するものである。側方撮像ユニット112は、下方撮像ユニット102のY軸方向の隣りに配置され、実施形態1では、下方撮像ユニット102よりも突き上げ機構50から離れた側に配置されている。 The side imaging unit 112 is for imaging the chip 14 from the side, that is, the side surface of the chip 14 . The side imaging unit 112 is arranged next to the lower imaging unit 102 in the Y-axis direction, and in the first embodiment, is arranged on the side farther from the push-up mechanism 50 than the lower imaging unit 102 .

側方撮像ユニット112は、チップ14を支持する柱状のチップ支持台114と、チップ14の側面を撮像する側面撮像カメラ113とを備える。 The side imaging unit 112 includes a columnar chip support base 114 that supports the chip 14 and a side imaging camera 113 that captures an image of the side of the chip 14 .

チップ支持台114は、装置本体2から上方に向かって延びており、下方撮像カメラ103とY軸方向に並ぶ位置(即ち、コレット76の移動経路と重なる位置)に配置されている。チップ支持台114は、上面が水平方向と平行に平坦に形成され、上面上にピックアップ機構70のコレット76により搬送されたチップ14を支持する。また、チップ支持台114は、図示しない回転駆動源と接続されており、回転駆動源によりZ軸方向と平行な軸心回りに回転する。 The chip support base 114 extends upward from the device main body 2 and is arranged at a position aligned with the lower imaging camera 103 in the Y-axis direction (that is, at a position overlapping the moving path of the collet 76). The chip support table 114 has a flat upper surface parallel to the horizontal direction, and supports the chip 14 conveyed by the collet 76 of the pickup mechanism 70 on the upper surface. Further, the tip support 114 is connected to a rotation drive source (not shown), and is rotated by the rotation drive source about an axis parallel to the Z-axis direction.

側面撮像カメラ113は、チップ支持台114の上面上に配置されたチップ14の側面を撮影可能な位置に配置されている。側面撮像カメラ113は、チップ14の側面を撮像する撮像素子を備えている。撮像素子は、例えば、CCD(Charge-Coupled Device)撮像素子又はCMOS(Complementary MOS)撮像素子である。側面撮像カメラ113は、チップ支持台114の上面に配置されたチップ14の側面を撮像し、撮像して得た画像を制御ユニット400に出力する。 The side imaging camera 113 is arranged at a position capable of photographing the side surface of the chip 14 arranged on the upper surface of the chip support base 114 . The side imaging camera 113 has an imaging element for imaging the side surface of the chip 14 . The imaging device is, for example, a CCD (Charge-Coupled Device) imaging device or a CMOS (Complementary MOS) imaging device. The side imaging camera 113 captures an image of the side surface of the chip 14 placed on the upper surface of the chip support base 114 and outputs the captured image to the control unit 400 .

なお、試験装置1は、コレット76の移動経路と重なる位置にチップ支持台114を設けているため、コレット76によってチップ14をチップ支持台114の上面に配置できる。 Since the test apparatus 1 is provided with the chip support 114 at a position overlapping the moving path of the collet 76 , the chip 14 can be placed on the upper surface of the chip support 114 by the collet 76 .

側方撮像ユニット112は、チップ支持台114によって支持されたチップ14の一側面を側面撮像カメラ113によって撮像する。その後、チップ支持台114を所定の角度回転させた後、側面撮像カメラ113によってチップ14の他の側面を撮像する。このようにして、側方撮像ユニット112は、側面撮像カメラ113によってチップ14の全ての側面(例えば、チップ14の4辺の側面)が撮像し、チップ14の厚さや、チップ14に形成された欠け(チッピング)の大きさ等を含んだ画像を得て、得た画像を制御ユニット400に出力する。また、側方撮像ユニット112は、チップ支持台114の回転角度を制御することにより、チップ14が強度測定機構200に配置される際における、チップ14の水平方向の向き(角度)を調整できる。 The side imaging unit 112 images one side surface of the chip 14 supported by the chip support base 114 with the side imaging camera 113 . Thereafter, after rotating the chip support base 114 by a predetermined angle, the other side surface of the chip 14 is imaged by the side imaging camera 113 . In this way, the side imaging unit 112 captures images of all side surfaces of the chip 14 (for example, four side surfaces of the chip 14 ) by the side imaging camera 113 , and determines the thickness of the chip 14 and the thickness of the chip 14 . An image including the chipping size and the like is obtained, and the obtained image is output to the control unit 400 . In addition, the lateral imaging unit 112 can adjust the horizontal direction (angle) of the tip 14 when the tip 14 is placed on the strength measuring mechanism 200 by controlling the rotation angle of the tip support 114 .

上記の下方撮像ユニット102及び側方撮像ユニット112により、チップ観察機構100は、コレット76にピックアップされたチップ14の表面11-1、下面11-2及び側面を撮像する。なお、本発明では、チップ14の側面を撮像する側面撮像カメラ113は、コレット76によって保持された状態のチップ14の側面を撮像可能な位置に設けられていてもよい。この場合、チップ14をチップ支持台114で支持することなくチップ14の側面を観察できるため、チップ14をチップ支持台114上に配置することによってチップ14の下面11-2等が傷つくことを防止できる。 The chip observation mechanism 100 captures images of the top surface 11-1, the bottom surface 11-2, and the side surface of the chip 14 picked up by the collet 76 using the bottom imaging unit 102 and the side imaging unit 112 described above. In the present invention, the side imaging camera 113 for imaging the side surface of the chip 14 may be provided at a position capable of imaging the side surface of the chip 14 held by the collet 76 . In this case, since the side surface of the chip 14 can be observed without supporting the chip 14 on the chip support base 114, the lower surface 11-2 of the chip 14 and the like can be prevented from being damaged by arranging the chip 14 on the chip support base 114. can.

チップ反転機構150は、側方撮像ユニット112のチップ支持台114の上方に配置されている。チップ反転機構150は、先端部でチップ14を保持した状態で、X軸方向と平行な軸心回りに基底部151を180°回転可能に構成されている。 The chip reversing mechanism 150 is arranged above the chip support base 114 of the side imaging unit 112 . The tip reversing mechanism 150 is configured to be able to rotate the base portion 151 by 180° around an axis parallel to the X-axis direction while holding the tip 14 at the tip.

チップ反転機構150は、チップ14の上下に反転する際、チップ14を支持したチップ支持台114の上面に対して、図1及び図2中に実線で示す位置から基底部151を180°回転させて、図1及び図2中に点線で示す位置に位置付ける。チップ反転機構150は、先端部にチップ14を吸引保持し、基底部151を180°回転して、チップ14の上下を反転する。 When the chip 14 is turned upside down, the chip turning mechanism 150 rotates the base portion 151 by 180° from the position indicated by the solid line in FIGS. 1 and 2 at the position indicated by the dotted line. The tip reversing mechanism 150 sucks and holds the tip 14 at the tip, rotates the base 151 by 180°, and inverts the tip 14 upside down.

チップ反転機構150により反転されたチップ14は、ピックアップ機構70のコレット76により吸引保持されて、チップ反転機構150の先端部の吸引保持が停止した後、コレット移動機構80に移動されるコレット76により下方撮像ユニット102上又は強度測定機構200に搬送される。このように、チップ反転機構150は、チップ14の上下を反転する。 The tip 14 reversed by the tip reversing mechanism 150 is sucked and held by the collet 76 of the pickup mechanism 70 , and after the suction and holding of the tip of the tip reversing mechanism 150 is stopped, the collet 76 is moved to the collet moving mechanism 80 . It is transported onto the lower imaging unit 102 or to the intensity measurement mechanism 200 . In this manner, the tip inverting mechanism 150 inverts the tip 14 upside down.

(強度測定機構)
図6は、図1に示された試験装置の強度測定機構を示す斜視図である。図7は、図6に示しされた強度測定機構の押圧ユニットを示す斜視図である。図8は、図6に示された強度測定機構の支持ユニットの斜視図である。
(strength measurement mechanism)
FIG. 6 is a perspective view showing a strength measuring mechanism of the testing apparatus shown in FIG. 1; 7 is a perspective view showing a pressing unit of the strength measuring mechanism shown in FIG. 6. FIG. 8 is a perspective view of a support unit of the strength measuring mechanism shown in FIG. 6; FIG.

強度測定機構200は、ピックアップ機構70でピックアップされたチップ14の抗折強度を計測する計測手段である。強度測定機構200は、チップ観察機構100とY軸方向の隣りに配置され、実施形態1では、チップ観察機構100よりも突き上げ機構50から離れた側に配置されている。また、実施形態1では、強度測定機構200は、コレット76の移動経路と重なる位置に配置されている。 The strength measuring mechanism 200 is measuring means for measuring the bending strength of the chip 14 picked up by the pickup mechanism 70 . The strength measurement mechanism 200 is arranged next to the tip observation mechanism 100 in the Y-axis direction, and in the first embodiment, is arranged on the side farther from the push-up mechanism 50 than the tip observation mechanism 100 is. Further, in the first embodiment, the strength measuring mechanism 200 is arranged at a position overlapping the moving path of the collet 76 .

強度測定機構200は、図6に示すように、下部容器201と、支持ユニット210と、押圧ユニット220(図7に示す)と、破片排出ユニット260とを備える。下部容器201は、装置本体2上に配置され、上側に開口部202が形成された箱状に形成されている。 The strength measuring mechanism 200 includes a lower container 201, a support unit 210, a pressing unit 220 (shown in FIG. 7), and a fragment ejection unit 260, as shown in FIG. The lower container 201 is arranged on the apparatus main body 2 and is formed in a box shape with an opening 202 formed on the upper side.

支持ユニット210は、ピックアップ機構70のコレット76によりピックアップされかつチップ観察機構100により表面11-1、下面11-2及び側面が撮像されたチップ14を支持するものである。支持ユニット210は、下部容器201内に収容され、コレット76の移動経路と重なる位置に配置されている。このために、コレット移動機構80は、コレット76を突き上げ機構50にZ軸方向に対向する位置から支持ユニット210にZ軸方向に対向する位置に移動する。 The support unit 210 supports the chip 14 which has been picked up by the collet 76 of the pickup mechanism 70 and whose top surface 11-1, bottom surface 11-2 and side surfaces have been imaged by the chip observation mechanism 100. FIG. The support unit 210 is accommodated in the lower container 201 and arranged at a position overlapping the movement path of the collet 76 . For this reason, the collet moving mechanism 80 moves the collet 76 from the position facing the push-up mechanism 50 in the Z-axis direction to the position facing the support unit 210 in the Z-axis direction.

支持ユニット210は、図8に示すように、チップ14を支持する一対の長尺支持部205と、長尺支持部205それぞれのX軸方向における位置と一対の長尺支持部205間の間隔212の幅とを変更する支持台移動機構219とを備える。一対の長尺支持部205は、互いにX軸方向に所定の間隔212を有して配設されている。長尺支持部205は、それぞれ、支持台211と、接触部材214とを備える。 As shown in FIG. 8, the support unit 210 includes a pair of long support portions 205 that support the chip 14, a position of each of the long support portions 205 in the X-axis direction, and an interval 212 between the pair of long support portions 205. and a support base moving mechanism 219 for changing the width of the . A pair of long support portions 205 are arranged with a predetermined distance 212 in the X-axis direction. Each elongated support 205 comprises a support base 211 and a contact member 214 .

支持台211は、直方体状に形成されている。一対の長尺支持部205の支持台211は、互いにX軸方向に間隔をあけて配置され、互いの間に間隔212が設けられている。また、一対の支持台211は、上面の長手方向がY軸方向に沿って配置されている。一対の支持台211は、上面側に抗折強度が測定されるチップ14がコレット76等により配置される。なお、実施形態1では、支持台211は、チップ14の下面11-2側が載置される。 The support base 211 is formed in a rectangular parallelepiped shape. The support bases 211 of the pair of long support portions 205 are spaced apart from each other in the X-axis direction, and a space 212 is provided between them. In addition, the pair of support bases 211 are arranged such that the longitudinal direction of the upper surface thereof is along the Y-axis direction. A pair of support bases 211 has a chip 14 whose bending strength is to be measured on the upper surface side arranged by a collet 76 or the like. In the first embodiment, the lower surface 11-2 side of the chip 14 is placed on the support base 211. FIG.

支持台211は、それぞれ上面の互いに隣接する縁部に上方に突出する柱状(棒状)の支持突起213が形成され、上面の前述した縁部以外が接触部材214で被覆されている。支持突起213は、例えばステンレス鋼材等の金属でなり、Y軸方向と平行に配置され、チップ14の下面11-2側を支持する。なお、実施形態1では、支持突起213の上面の断面形状は、上方に凸の曲面に形成されている。 The support pedestals 211 have columnar (rod-like) support projections 213 protruding upward at the edge portions adjacent to each other on the top surface, and the top surface other than the edge portions described above is covered with a contact member 214 . The support projection 213 is made of metal such as stainless steel, is arranged parallel to the Y-axis direction, and supports the bottom surface 11-2 side of the chip 14 . In addition, in Embodiment 1, the cross-sectional shape of the upper surface of the support projection 213 is formed into a curved surface that protrudes upward.

接触部材214は、支持突起213よりも柔軟な材質(例えば、スポンジゴム等)により構成され、厚みが一定の板状に形成されている。接触部材214は、平面形状が矩形状に形成され、変形していない状態の厚みが支持突起213の上面からの突出量よりも厚い。 The contact member 214 is made of a material (for example, sponge rubber) that is softer than the support projection 213, and is formed in a plate shape with a constant thickness. The contact member 214 has a rectangular planar shape, and the thickness of the contact member 214 in a non-deformed state is greater than the amount of protrusion from the upper surface of the support protrusion 213 .

接触部材214は、上面にチップ14の下面11-2が重ねられて、チップ14を支持する。このために、接触部材214の上面は、チップ14の下面11-2を支持する。なお、実施形態1では、変形していない状態の接触部材214の上面は、支持突起213の上端よりも1mm程度上方に配置される。このために、支持台211上に配置されたチップ14は、下面11-2が支持突起213から間隔をあけて、接触部材214の上面に接触する。また、支持突起213の上端213-1には、圧子227がチップ14を押圧すると、接触部材214が変形してチップ14の下面11-2に接触して、下面11-2を支持する。このために、支持突起213の上端213-1は、チップ14の下面11-2を支持する支持面である。即ち、長尺支持部205は、チップ14の下面11-2を支持する支持面である支持突起213の上端213-1を含む。 The contact member 214 supports the chip 14 by overlapping the lower surface 11-2 of the chip 14 on its upper surface. For this purpose, the upper surface of the contact member 214 supports the lower surface 11-2 of the chip 14. FIG. In addition, in the first embodiment, the upper surface of the contact member 214 that is not deformed is arranged about 1 mm above the upper end of the support projection 213 . For this reason, the chip 14 placed on the support table 211 contacts the upper surface of the contact member 214 with the lower surface 11-2 spaced from the support protrusion 213. As shown in FIG. Also, when the indenter 227 presses the tip 14, the contact member 214 is deformed to come into contact with the lower surface 11-2 of the tip 14 and support the lower surface 11-2. For this reason, the upper end 213-1 of the support protrusion 213 is a support surface that supports the lower surface 11-2 of the chip 14. FIG. That is, the long support portion 205 includes upper ends 213-1 of the support protrusions 213, which are support surfaces for supporting the lower surface 11-2 of the chip .

支持台移動機構219は、各支持台211をX軸方向に移動させるものであって、装置本体2に固定された固定板215に回転自在に設けられたボールねじ216と、ボールねじ216を回転するモータ217と、各支持台211をX軸方向に移動自在に支持するガイドレール218とを備える。 A support table moving mechanism 219 moves each support table 211 in the X-axis direction, and rotates a ball screw 216 rotatably provided on a fixed plate 215 fixed to the apparatus main body 2 and the ball screw 216. and a guide rail 218 that supports each support base 211 movably in the X-axis direction.

押圧ユニット220は、支持ユニット210に支持されたチップ14を圧子227で押圧し、チップ14の押圧時に押圧ユニット220にかかる荷重を測定するとともに、支持ユニット210に支持されたチップ14を押圧して破壊するものである。押圧ユニット220は、下部容器201の上方に設けられている。 The pressing unit 220 presses the chip 14 supported by the support unit 210 with an indenter 227, measures the load applied to the pressing unit 220 when the chip 14 is pressed, and presses the chip 14 supported by the support unit 210. It is destructive. The pressing unit 220 is provided above the lower container 201 .

押圧ユニット220は、図6及び図7に示すように、移動手段である移動機構230と、移動基台221と、圧子227とを備える。 As shown in FIGS. 6 and 7, the pressing unit 220 includes a moving mechanism 230 as moving means, a moving base 221, and an indenter 227. As shown in FIGS.

移動機構230は、圧子227を一対の長尺支持部205で支持されたチップ14に対して相対的にZ軸方向に近接移動させるものである。移動機構230は、装置本体2から上方に延びて装置本体2に固定された支持板231と、支持板231に軸心回りに回転自在に支持されたボールねじ232と、ボールねじ232を軸心回りに回転するモータ233と、移動基台221をZ軸方向に移動自在に支持するガイドレール234とを備える。 The moving mechanism 230 moves the indenter 227 relatively close to the tip 14 supported by the pair of long support portions 205 in the Z-axis direction. The moving mechanism 230 includes a support plate 231 extending upward from the device main body 2 and fixed to the device main body 2, a ball screw 232 supported by the support plate 231 so as to be rotatable about its axis, and the ball screw 232 being an axis. It has a motor 233 that rotates and a guide rail 234 that supports the movable base 221 so as to be movable in the Z-axis direction.

支持板231、ボールねじ232及びガイドレール234の長手方向は、Z軸方向と平行である。ボールねじ232は、移動基台221に設けられたねじ孔に螺合している。ガイドレール234は、支持板231に取り付けられている。移動機構230は、モータ233がボールねじ232を軸心回りに回転することで、移動基台221を介して圧子227をZ軸方向に移動する。 The longitudinal directions of the support plate 231, ball screw 232 and guide rail 234 are parallel to the Z-axis direction. The ball screw 232 is screwed into a screw hole provided in the movable base 221 . A guide rail 234 is attached to the support plate 231 . The moving mechanism 230 moves the indenter 227 in the Z-axis direction via the moving base 221 by rotating the ball screw 232 around the axis by the motor 233 .

移動基台221は、直方体状に形成され、下面側に下方に延びた円筒状の第1支持部材222が接続されており、第1支持部材222の下端側にロードセル等でなる荷重計測手段である荷重計測器223が固定されている。荷重計測器223は、圧子227が一対の長尺支持部205で支持されたチップ14を押圧する荷重を計測し、計測結果を制御ユニット400に出力する。即ち、試験装置1は、圧子227が一対の長尺支持部205で支持されたチップ14を押圧する荷重を計測する荷重計測器223を備える。 The movable base 221 is formed in a rectangular parallelepiped shape, and is connected to a cylindrical first support member 222 extending downward on the lower surface side. A certain load measuring instrument 223 is fixed. The load measuring device 223 measures the load with which the indenter 227 presses the chip 14 supported by the pair of long support portions 205 and outputs the measurement result to the control unit 400 . That is, the test apparatus 1 includes a load measuring instrument 223 that measures the load with which the indenter 227 presses the chip 14 supported by the pair of long support portions 205 .

荷重計測器223の下側には、円筒状の第2支持部材224を介して挟持部材225が取り付けられている。挟持部材225は、正面視で略門型形状に形成されており、互いに対向する一対の挟持面226間に一対の長尺支持部205によって支持されたチップ14を押圧する圧子227が固定されている。 A holding member 225 is attached to the lower side of the load measuring device 223 via a cylindrical second supporting member 224 . The clamping member 225 is formed in a substantially gate shape when viewed from the front, and an indenter 227 for pressing the chip 14 supported by the pair of long support portions 205 is fixed between a pair of clamping surfaces 226 facing each other. there is

圧子227は、長尺支持部205の上方で且つ一対の長尺支持部205の間の間隔212の上方に配置され、長尺支持部205の支持突起213と平行に伸張している。圧子227は、下方に向かうにしたがって幅が狭くなる先細りの板状に形成され、下端が下側に凸の曲面に形成されている。なお、本発明では、圧子227の形状は、これに限定されない。圧子227は、下端がY軸方向と平行に挟持部材225により支持され、下端が一対の長尺支持部205間の間隔212の上方に配置される。 The indenter 227 is positioned above the elongated supports 205 and above the spacing 212 between the pair of elongated supports 205 and extends parallel to the support projections 213 of the elongated supports 205 . The indenter 227 is formed in a tapered plate-like shape, the width of which becomes narrower downward, and the lower end thereof is formed into a downwardly convex curved surface. In the present invention, the shape of the indenter 227 is not limited to this. The lower end of the indenter 227 is supported by the holding member 225 in parallel with the Y-axis direction, and the lower end is arranged above the space 212 between the pair of long support portions 205 .

また、移動基台228の両側面には、板状に形成された一対の接続部材229が取り付けられている。接続部材229は、移動基台228の側面から下方に向かって延び、下端が挟持部材225の下端よりも下方に配置されている。 A pair of plate-shaped connection members 229 are attached to both side surfaces of the movable base 228 . The connection member 229 extends downward from the side surface of the movable base 228 and has a lower end located below the lower end of the holding member 225 .

また、押圧ユニット220は、図6に示すように、上部容器240と、エアー供給ユニット250とを備える。上部容器240は、接続部材229の下端に取り付けられ、下方に開口部を有して、支持ユニット210の一対の支持台211を収容可能な箱状に形成されている。また、上部容器240は、挟持部材225の下方に配置され、圧子227を通すことが可能な圧子挿入孔241が設けられている。 Further, the pressing unit 220 includes an upper container 240 and an air supply unit 250, as shown in FIG. The upper container 240 is attached to the lower end of the connecting member 229 , has an opening at the bottom, and is formed in a box shape capable of accommodating the pair of support bases 211 of the support unit 210 . The upper container 240 is arranged below the holding member 225 and is provided with an indenter insertion hole 241 through which an indenter 227 can be passed.

上部容器240は、例えば透明な材質(ガラス、プラスチック等)により構成されている。また、上部容器240は、開口部202を通して下部容器201内に侵入可能な大きさに形成されている。このために、移動機構230によって押圧ユニット220が下方に移動されると、上部容器240は、下部容器201に挿入され、支持ユニット210の上側を覆う。 The upper container 240 is made of, for example, a transparent material (glass, plastic, etc.). Also, the upper container 240 is sized to be able to enter the lower container 201 through the opening 202 . Therefore, when the pressing unit 220 is moved downward by the moving mechanism 230 , the upper container 240 is inserted into the lower container 201 and covers the upper side of the support unit 210 .

エアー供給ユニット250は、圧子227の先端部にエアーを吹き付けるものである。エアー供給ユニット250は、圧子227に向かってエアーを噴射するノズル251と、ノズル251に開閉弁252を介してエアーを供給するエアー供給源253とを備える。 The air supply unit 250 blows air onto the tip of the indenter 227 . The air supply unit 250 includes a nozzle 251 that injects air toward the indenter 227 and an air supply source 253 that supplies air to the nozzle 251 through an on-off valve 252 .

ノズル251は、パイプ状に形成され、上部容器240のノズル挿入穴内に通されて、先端が上部容器240内の圧子227の先端部に対向する。エアー供給ユニット250は、ノズル251からエアーを圧子227の先端部に吹き付けて、圧子227の先端部、接触部材214の上面等に付着した異物を除去する。 The nozzle 251 is formed in a pipe shape, is passed through the nozzle insertion hole of the upper container 240 , and has its tip facing the tip of the depressor 227 in the upper container 240 . The air supply unit 250 blows air from a nozzle 251 onto the tip of the indenter 227 to remove foreign matter adhering to the tip of the indenter 227, the upper surface of the contact member 214, and the like.

破片排出ユニット260は、下部容器201の内部に存在するチップ14の破片141(図18に示す)を排出するものである。破片排出ユニット260は、チップ14の破片141を排出するための経路を構成する破片排出路261と、破片排出路261に開閉弁262を介して接続した吸引源263とを備える。 The debris ejection unit 260 ejects the debris 141 (shown in FIG. 18) of the chips 14 present inside the lower container 201 . The fragment discharge unit 260 includes a fragment discharge path 261 forming a path for discharging the fragments 141 of the chip 14 and a suction source 263 connected to the fragment discharge path 261 via an on-off valve 262 .

破片排出路261は、一端が下部容器201の底部を貫通した破片排出口に接続し、他端が開閉弁262を介して吸引源263に接続されている。 One end of the fragment discharge path 261 is connected to a fragment discharge port penetrating the bottom of the lower container 201 , and the other end is connected to a suction source 263 via an on-off valve 262 .

破片排出ユニット260は、開閉弁262が開いて、吸引源263が破片排出路261を吸引することで、破片141を下部容器201外に排出する。 The debris discharge unit 260 discharges the debris 141 out of the lower container 201 by opening the on-off valve 262 and causing the suction source 263 to suck the debris discharge path 261 .

また、強度測定機構200は、下部容器201内を撮像する撮像カメラ270を備えている。撮像カメラ270は、支持ユニット210によって支持されたチップ14、圧子227の先端部等を撮像するものである。 The intensity measurement mechanism 200 also includes an imaging camera 270 that takes an image of the inside of the lower container 201 . The imaging camera 270 images the chip 14 supported by the support unit 210, the tip of the indenter 227, and the like.

強度測定機構200は、チップ14の抗折強度を測定する際は、移動基台221と圧子227と上部容器240等を移動機構230により上方に位置付けた状態で、支持台移動機構219により一対の支持台211のX軸方向における位置を調整するとともに、チップ14の寸法等に応じた幅の間隔212を一対の支持台211間に形成する。強度測定機構200は、一対の支持台211上にコレット76等によりチップ14が載置される。このときチップ14は、両端部が一対の支持台211によって支持され、中央部が間隔212と重なる。 When measuring the bending strength of the chip 14 , the strength measuring mechanism 200 moves a pair of Along with adjusting the position of the support bases 211 in the X-axis direction, a gap 212 having a width corresponding to the dimensions of the chip 14 is formed between the pair of support bases 211 . The strength measuring mechanism 200 has a chip 14 placed on a pair of support bases 211 by collets 76 or the like. At this time, the chip 14 is supported by a pair of support bases 211 at both ends and overlapped with the space 212 at the center.

なお、チップ14を一対の支持台211上に配置する際にチップ14の下面11-2側が支持突起213と接触すると、配置の際の衝撃によってチップ14の下面11-2側が傷つくことがある。この場合、チップ14の抗折強度が変化してしまい、複数のチップ14の抗折強度を同一の条件で測定することが困難になることがある。 If the bottom surface 11-2 of the chip 14 comes into contact with the support protrusions 213 when the chip 14 is placed on the pair of support bases 211, the bottom surface 11-2 of the chip 14 may be damaged by the impact during placement. In this case, the bending strength of the tip 14 changes, and it may become difficult to measure the bending strength of the plurality of chips 14 under the same conditions.

このため、実施形態1では、強度測定機構200は、支持台211の上面側に柔軟な材料でなる接触部材214を設けて、接触部材214の上面が支持突起213の上端よりも上方に位置する。実施形態1では、強度測定機構200は、チップ14を一対の支持台211上に配置すると、チップ14が支持突起213に接触することなく接触部材214の上面と接触し、上面で支持される。これにより、強度測定機構200は、チップ14を配置する際にチップ14の下面11-2側が支持突起213と接触して傷つくことを防止でき、チップ14の抗折強度の変化を抑制できる。 For this reason, in the first embodiment, the strength measuring mechanism 200 is provided with the contact member 214 made of a flexible material on the upper surface side of the support base 211 so that the upper surface of the contact member 214 is positioned above the upper end of the support protrusion 213. . In the first embodiment, when the chip 14 is placed on the pair of support bases 211 , the chip 14 contacts the upper surface of the contact member 214 without contacting the support projections 213 and is supported by the upper surface. As a result, the strength measuring mechanism 200 can prevent the lower surface 11-2 side of the chip 14 from contacting the support protrusion 213 and being damaged when the chip 14 is arranged, and can suppress changes in the bending strength of the chip 14. FIG.

強度測定機構200は、移動基台221と圧子227と上部容器240等を移動機構30により降下させて、上部容器240を下部容器201内に挿入し、上部容器240で一対の長尺支持部205の上側を覆い、圧子227等を移動機構30によりさらに降下させて、チップ14の押圧によって圧子227にかかる荷重(Z軸方向の力)を荷重計測器223によって計測し、計測結果を適宜制御ユニット400に出力しながら圧子227でチップ14を破壊する。強度測定機構200は、チップ14の一対の支持突起213及び圧子227を用いた3点曲げ試験を行い、この3点曲げ試験により、チップ14の曲げ強度(抗折強度)を計測し、計測結果を制御ユニット400に出力する。 In the strength measuring mechanism 200, the moving base 221, the indenter 227, the upper container 240, etc. are lowered by the moving mechanism 30, the upper container 240 is inserted into the lower container 201, and the pair of long supports 205 are formed by the upper container 240. is covered, the indenter 227 and the like are further lowered by the moving mechanism 30, the load (force in the Z-axis direction) applied to the indenter 227 by the pressing of the chip 14 is measured by the load measuring device 223, and the measurement result is appropriately transmitted to the control unit The tip 14 is destroyed by the indenter 227 while outputting to 400 . The strength measuring mechanism 200 performs a three-point bending test using a pair of support protrusions 213 and an indenter 227 of the tip 14, measures the bending strength (bending strength) of the tip 14 by the three-point bending test, and obtains the measurement result. to the control unit 400 .

(清掃具収容部、清掃具)
また、試験装置1は、清掃具収容部である清掃具支持部130を備える。図9は、図1に示された試験装置の清掃具支持部を示す斜視図である。図10は、図9に示された清掃具支持部に支持される清掃具を示す斜視図である。図11は、図10中のXI-XI線に沿う断面図である。
(Cleaning Tool Storage Section, Cleaning Tool)
The test apparatus 1 also includes a cleaning tool support section 130 that is a cleaning tool storage section. FIG. 9 is a perspective view of the cleaning tool support of the test apparatus shown in FIG. 1; 10 is a perspective view showing a cleaning tool supported by the cleaning tool support shown in FIG. 9; FIG. 11 is a cross-sectional view taken along line XI--XI in FIG. 10. FIG.

清掃具支持部130は、一対の長尺支持部205の支持突起213の上端213-1を清掃する清掃具160を収容(支持)するものである。実施形態1では、清掃具支持部130は、下方撮像ユニット102のY軸方向の隣り(即ち、コレット76の移動経路と重なる位置)に配置されている。実施形態1では、清掃具支持部130は、下方撮像ユニット102の下方撮像カメラ103と、チップ支持台114との間に配置されている。清掃具支持部130は、装置本体2から立設した柱状に形成され、吸引源から吸引されることで上面131に清掃具160を吸引保持する。 The cleaning tool support section 130 accommodates (supports) a cleaning tool 160 for cleaning the upper ends 213 - 1 of the support projections 213 of the pair of long support sections 205 . In the first embodiment, the cleaning tool support section 130 is arranged next to the lower imaging unit 102 in the Y-axis direction (that is, at a position overlapping the movement path of the collet 76). In Embodiment 1, the cleaning tool support section 130 is arranged between the lower imaging camera 103 of the lower imaging unit 102 and the chip support base 114 . The cleaning tool support part 130 is formed in a columnar shape erected from the apparatus main body 2 and sucks and holds the cleaning tool 160 on the upper surface 131 by being sucked from the suction source.

清掃具160は、実施形態1では、平面形状が10mm四方の正方形でかつ厚みが1mm程度の板状に形成されている。また、実施形態1では、清掃具160は、不織布により構成されている。 In the first embodiment, the cleaning tool 160 is formed in a plate shape having a planar shape of 10 mm square and a thickness of about 1 mm. Further, in Embodiment 1, the cleaning tool 160 is made of nonwoven fabric.

(制御ユニット)
制御ユニット400は、試験装置1の上述した各ユニットをそれぞれ制御して、各チップ14に対する試験動作を試験装置1に実施させるものである。制御ユニット400は、CPU(central processing unit)のようなマイクロプロセッサを有する演算処理装置と、ROM(read only memory)又はRAM(random access memory)のようなメモリを有する記憶装置と、入出力インターフェース装置とを有するコンピュータである。制御ユニット400の演算処理装置は、記憶装置に記憶されているコンピュータプログラムに従って演算処理を実施して、試験装置1を制御するための制御信号を、入出力インターフェース装置を介して試験装置1の上述した各ユニットに出力する。
(Controller unit)
The control unit 400 controls each of the above-described units of the test apparatus 1 to cause the test apparatus 1 to perform test operations on each chip 14 . The control unit 400 includes an arithmetic processing unit having a microprocessor such as a CPU (central processing unit), a storage device having a memory such as ROM (read only memory) or RAM (random access memory), and an input/output interface device. is a computer having The arithmetic processing device of the control unit 400 performs arithmetic processing according to the computer program stored in the storage device, and outputs control signals for controlling the test device 1 to the above-described control signals of the test device 1 via the input/output interface device. output to each unit that

また、制御ユニット400は、試験動作の状態や画像などを表示する表示画面301を有する表示手段である表示ユニット300と、制御ユニット400に接続されかつオペレータが試験装置1の制御ユニット400に情報などを入力する際に用いる入力手段であるタッチパネル302とが接続されている。表示ユニット300は、液晶表示装置などにより構成される。タッチパネル302は、表示ユニット300の表示画面301に重ねられる。 The control unit 400 is connected to a display unit 300 which is display means having a display screen 301 for displaying the state of test operation, images, etc., and is connected to the control unit 400 so that an operator can transmit information such as information to the control unit 400 of the test apparatus 1 . is connected to a touch panel 302, which is an input means used when inputting . The display unit 300 is configured by a liquid crystal display device or the like. The touch panel 302 is superimposed on the display screen 301 of the display unit 300 .

(測定方法)
次に、本明細書は、実施形態1に係る測定方法を図面に基づいて説明する。図12は、実施形態1に係る測定方法の流れを示すフローチャートである。測定方法は、チップ14の抗折強度を測定する方法であって、図12に示すように、装置準備ステップST1と、荷重検出ステップST2と、清掃ステップST5とを備える。
(Measuring method)
Next, this specification demonstrates the measuring method which concerns on Embodiment 1 based on drawing. FIG. 12 is a flow chart showing the flow of the measurement method according to the first embodiment. The measuring method is a method for measuring the bending strength of the tip 14, and as shown in FIG. 12, includes an apparatus preparation step ST1, a load detection step ST2, and a cleaning step ST5.

(装置準備ステップ)
装置準備ステップST1は、前述したチップ破壊装置である試験装置1を準備するステップである。実施形態1では、装置準備ステップST1は、オペレータが複数のウェーハユニット17を収容したカセット4をカセット載置台3に設置し、清掃具支持部130の上面131に清掃具160を載置し、タッチパネル302を操作して、試験内容情報を制御ユニット400に入力する。装置準備ステップST1では、試験装置1は、制御ユニット400がオペレータの試験開始指示を受け付けると、清掃具支持部130の上面131に清掃具160を吸引保持して、荷重検出ステップST2に進む。
(Equipment preparation step)
The apparatus preparation step ST1 is a step of preparing the test apparatus 1, which is the chip breaking apparatus described above. In the first embodiment, in the apparatus preparation step ST1, the operator places the cassette 4 containing a plurality of wafer units 17 on the cassette mounting table 3, places the cleaning tool 160 on the upper surface 131 of the cleaning tool supporting portion 130, and touches the touch panel. 302 is operated to input test content information to the control unit 400 . In the device preparation step ST1, when the control unit 400 receives the test start instruction from the operator, the test device 1 sucks and holds the cleaning tool 160 on the upper surface 131 of the cleaning tool supporting portion 130, and proceeds to the load detection step ST2.

(荷重検出ステップ)
図13は、図12に示された測定方法の荷重検出ステップにおいてウェーハの所定のチップと突き上げ機構とを位置合わせした状態を示す断面図である。図14は、図13に示されたウェーハの所定のチップを突き上げ機構が突き上げた状態を示す断面図である。図15は、図14に示された所定のチップをコレットが吸引保持した状態を示す断面図である。図16は、図12に示された測定方法の荷重検出ステップにおいて支持ユニットの一対の長尺支持部がチップを支持した状態を示す断面図である。図17は、図16に示されたチップが圧子に押圧されて長尺支持部の支持突起の上端に接触した状態を示す断面図である。図18は、図17に示されたチップが破壊された状態を示す断面図である。
(Load detection step)
FIG. 13 is a cross-sectional view showing a state in which predetermined chips of the wafer and the push-up mechanism are aligned in the load detection step of the measuring method shown in FIG. 14 is a cross-sectional view showing a state in which a predetermined chip on the wafer shown in FIG. 13 is pushed up by the pushing-up mechanism. 15 is a cross-sectional view showing a state in which the collet holds the predetermined tip shown in FIG. 14 by suction. 16 is a cross-sectional view showing a state in which a pair of elongated support portions of the support unit supports the chip in the load detection step of the measuring method shown in FIG. 12. FIG. 17 is a cross-sectional view showing a state in which the tip shown in FIG. 16 is pressed by the indenter and is in contact with the upper ends of the support projections of the long support portion. FIG. 18 is a cross-sectional view showing a broken state of the chip shown in FIG.

荷重検出ステップST2は、コレット76で支持したチップ14を一対の長尺支持部205上に載置し、次いで一対の長尺支持部205で支持されたチップ14を圧子227で押圧して破壊し、チップ14が破壊した際の荷重を荷重計測器223で検出するステップである。実施形態1において、荷重検出ステップST2では、制御ユニット400は、搬出入ユニット5を制御して試験前のウェーハ10を含むウェーハユニット17をカセット4から搬出させて一対の仮置きレール6上に仮置きさせ、搬出入ユニット5を制御して、仮置きレール6上に仮置きされたウェーハユニット17の環状フレーム16をフレーム固定ユニット7の降下したフレーム支持部材18上に載置させる。制御ユニット400は、フレーム固定ユニット7を制御して、フレーム支持部材18を上昇させて、ウェーハユニット17をフレーム固定ユニット7で固定した後、移動機構30を制御して、フレーム固定ユニット7により固定されたウェーハユニット17を突き上げ機構50上に位置付ける。 In the load detection step ST2, the chip 14 supported by the collet 76 is placed on the pair of long support portions 205, and then the chip 14 supported by the pair of long support portions 205 is pressed by the indenter 227 and broken. , the load measuring device 223 detects the load when the chip 14 breaks. In the first embodiment, in the load detection step ST2, the control unit 400 controls the loading/unloading unit 5 to unload the wafer unit 17 including the wafers 10 to be tested from the cassette 4 and temporarily place them on the pair of temporary placement rails 6. Then, the loading/unloading unit 5 is controlled to place the annular frame 16 of the wafer unit 17 temporarily placed on the temporary placement rail 6 on the lowered frame supporting member 18 of the frame fixing unit 7 . The control unit 400 controls the frame fixing unit 7 to raise the frame support member 18 to fix the wafer unit 17 with the frame fixing unit 7 , and then controls the moving mechanism 30 to fix it with the frame fixing unit 7 . Then, the wafer unit 17 is positioned on the push-up mechanism 50 .

制御ユニット400は、撮像カメラ60にフレーム固定ユニット7に固定されたウェーハユニット17のウェーハ10を撮像させる。制御ユニット400は、図13に示すように、ウェーハ10の所定のチップ14と突き上げ機構50との位置合わせを遂行する。制御ユニット400は、突き上げ機構50を制御して、図14に示すように、突き上げ部52の突き上げ部52を上昇させて所定のチップ14を突き上げる。制御ユニット400は、図15に示すように、ピックアップ機構70等を制御して所定のチップ14をコレット76に吸引保持する。制御ユニット400は、チップ観察機構100を制御して、試験内容情報で定められた表面11-1、下面11-2及び側面を撮像してこれらの画像を取得し、記憶装置に記憶した後、強度測定機構200の一対の長尺支持部205上にチップ14の下面11-2を載置する。 The control unit 400 causes the imaging camera 60 to image the wafer 10 of the wafer unit 17 fixed to the frame fixing unit 7 . The control unit 400 aligns the predetermined chip 14 of the wafer 10 with the push-up mechanism 50, as shown in FIG. The control unit 400 controls the push-up mechanism 50 to raise the push-up portion 52 of the push-up portion 52 to push up the predetermined tip 14 as shown in FIG. As shown in FIG. 15, the control unit 400 controls the pick-up mechanism 70 and the like to suck and hold a predetermined chip 14 on the collet 76 . The control unit 400 controls the chip observation mechanism 100 to capture images of the top surface 11-1, the bottom surface 11-2, and the side surface determined by the test content information, acquire these images, and store them in the storage device. The bottom surface 11 - 2 of the chip 14 is placed on the pair of elongated supports 205 of the strength measuring mechanism 200 .

実施形態1において、荷重検出ステップST2では、制御ユニット400は、強度測定機構200を制御して上部容器240等を移動機構230により降下させて、上部容器240を下部容器201内に挿入し、上部容器240で一対の長尺支持部205の上側を覆う。荷重検出ステップST2では、制御ユニット400は、強度測定機構200を制御して、圧子227等を移動機構30によりさらに降下させて、図16に示すように、圧子227の先端をチップ14の表面11-1側に接触させ、チップ14を圧子227により押圧する。また、チップ14の押圧によって圧子227にかかる荷重(Z軸方向の力)が、荷重計測器223によって計測され、計測結果が適宜制御ユニット400に出力される。 In the first embodiment, in the load detection step ST2, the control unit 400 controls the strength measuring mechanism 200 to lower the upper container 240 and the like by the moving mechanism 230, insert the upper container 240 into the lower container 201, and move the upper container 240 down. A container 240 covers the upper side of the pair of elongated supports 205 . In the load detection step ST2, the control unit 400 controls the strength measuring mechanism 200 to further lower the indenter 227 and the like by the moving mechanism 30, and as shown in FIG. The -1 side is brought into contact with the tip 14 and pressed by the indenter 227 . Also, the load (force in the Z-axis direction) applied to the indenter 227 by pressing the tip 14 is measured by the load measuring device 223, and the measurement result is output to the control unit 400 as appropriate.

荷重検出ステップST2では、制御ユニット400は、強度測定機構200を制御して、圧子227等を更に降下させて、チップ14を圧子227により更に押圧し、チップ14を支持する接触部材214を変形させるとともにチップ14を撓ませる。その結果、図17に示すように、チップ14の下面11-2側が支持台211の支持突起213と接触して、チップ14が一対の支持突起213によって支持され、チップ14を押圧する圧子227にかかる荷重が増大する。なお、このとき、接触部材214の柔軟性によっては、接触部材214の変形のみが生じチップ14の撓みが生じない場合もある。 In the load detection step ST2, the control unit 400 controls the strength measuring mechanism 200 to further lower the indenter 227 and the like, further press the tip 14 with the indenter 227, and deform the contact member 214 supporting the tip 14. , the tip 14 is bent. As a result, as shown in FIG. 17, the lower surface 11-2 of the chip 14 comes into contact with the support projections 213 of the support table 211, the chip 14 is supported by the pair of support projections 213, and the indenter 227 presses the chip 14. This load increases. At this time, depending on the flexibility of the contact member 214, only deformation of the contact member 214 may occur and the chip 14 may not bend.

荷重検出ステップST2では、制御ユニット400は、強度測定機構200を制御して、圧子227を更に降下させ、圧子227からチップ14に付与される押圧力を所定の値を超えさせて、図18に示すように、チップ14を破壊する。チップ14が破壊されると、荷重計測器223によって測定される荷重が最大値からゼロになる。そのため、強度測定機構200は、荷重計測器223によって測定された荷重の値の変化からチップ14が破壊されたタイミングを検出できる。また、荷重計測器223によって測定された荷重の最大値が、チップ14の抗折強度に対応する。 In the load detection step ST2, the control unit 400 controls the strength measuring mechanism 200 to further lower the indenter 227 so that the pressing force applied from the indenter 227 to the tip 14 exceeds a predetermined value. Chip 14 is destroyed as shown. When the chip 14 is destroyed, the load measured by the load measuring device 223 changes from the maximum value to zero. Therefore, the strength measuring mechanism 200 can detect the timing at which the tip 14 is broken from the change in the load value measured by the load measuring device 223 . Also, the maximum value of the load measured by the load measuring device 223 corresponds to the bending strength of the chip 14 .

チップ14が破壊されると、チップ14の破片141が飛散する。ここで、チップ14が圧子227によって押圧される際には、上部容器240がチップ14及び支持ユニット210の一対の支持台211の上側を覆っている。その結果、チップ14の破片141が強度測定機構200の外部に飛散することが防止される。 When the chip 14 is destroyed, fragments 141 of the chip 14 scatter. Here, when the chip 14 is pressed by the indenter 227 , the upper container 240 covers the chip 14 and the pair of support bases 211 of the support unit 210 . As a result, the fragment 141 of the tip 14 is prevented from scattering outside the strength measuring mechanism 200 .

上記のように、上部容器240によって破片141の飛散が防止されるため、チップ14の抗折強度の試験を行う際、強度測定機構200のオペレータはゴーグル等の保護具の着用を省略できる。これにより、保護具の着用による強度測定機構200の構成要素(圧子227等)やチップ14の視認性の低下が防止される。 As described above, since the upper container 240 prevents the fragments 141 from scattering, the operator of the strength measuring mechanism 200 can omit wearing protective equipment such as goggles when testing the bending strength of the chip 14 . This prevents deterioration in the visibility of the components of the strength measuring mechanism 200 (the indenter 227 and the like) and the tip 14 due to the wearing of protective equipment.

なお、圧子227によってチップ14を押圧すると、圧子227に異物(チップ14の破片141等)が付着することがある。この異物は試験の精度に影響を与えることがあるため、除去されることが好ましい。実施形態1では、強度測定機構200は、チップ14の抗折強度の計測を行った後には、エアー供給ユニット250によって圧子227にエアーを吹き付け、圧子227に付着した異物を除去する。なお、本発明では、エアー供給ユニット250を用いて圧子227等から異物を除去するタイミングに制限はない。例えば、異物の除去は、一のチップ14の試験が完了した後、次のチップ14の試験が行われるまでの間に、必要に応じて実施される。 When the tip 14 is pressed by the indenter 227 , foreign matter (fragment 141 of the tip 14 , etc.) may adhere to the indenter 227 . Since this foreign matter may affect the accuracy of the test, it is preferably removed. In the first embodiment, after measuring the bending strength of the chip 14 , the strength measuring mechanism 200 blows air onto the indenter 227 by the air supply unit 250 to remove foreign matter adhering to the indenter 227 . In the present invention, there is no limitation on the timing of removing foreign matter from the indenter 227 or the like using the air supply unit 250 . For example, after the test of one chip 14 is completed, the removal of the foreign matter is performed as necessary until the test of the next chip 14 is performed.

また、圧子227の先端部に向かって噴射されたエアーは、上部容器240の内部を流動し、一対の長尺支持部205上にも吹き付けられる。その結果、支持突起213や接触部材214の上面に付着した異物(チップ14の破片141等)がエアーによって吹き飛ばされて除去される。これにより、次の試験を行う際、チップ14の下面11-2側に異物が接触してチップ14が傷つくことを防止できる。 Also, the air injected toward the tip of the indenter 227 flows inside the upper container 240 and is also blown onto the pair of long support members 205 . As a result, foreign matter (fragments 141 of the chip 14, etc.) adhering to the upper surfaces of the support projections 213 and the contact members 214 are blown away by the air and removed. As a result, when performing the next test, it is possible to prevent foreign matter from contacting the bottom surface 11-2 of the chip 14 and damaging the chip 14. FIG.

なお、ノズル256の先端が支持台211の上面に向かって配置されていると、ノズル256から噴射されたエアーが支持台211の上面側に強く吹き付けられる。この場合、支持突起213や接触部材214に付着した異物が、エアーによって吹き飛ばされて上部容器240の内部で舞い上がった後、再度支持突起213や接触部材214に付着することがある。この場合、異物が接触部材214の上面から適切に除去されにくい。 In addition, when the tip of the nozzle 256 is arranged toward the upper surface of the support base 211 , the air jetted from the nozzle 256 is strongly blown to the upper surface side of the support base 211 . In this case, the foreign matter adhering to the support projections 213 and the contact members 214 may be blown away by the air and soared inside the upper container 240, and then adhere to the support projections 213 and the contact members 214 again. In this case, it is difficult to properly remove the foreign matter from the upper surface of the contact member 214 .

一方、実施形態1に係る強度測定機構200は、ノズル256の先端が圧子227の先端部に向かってエアーを吹き付けるため、支持台211の上面に吹き付けられるエアーの勢いが適度に弱められる。これにより、強度測定機構200は、異物を接触部材214の上面側から適切に除去できる。 On the other hand, in the strength measuring mechanism 200 according to the first embodiment, the tip of the nozzle 256 blows air toward the tip of the indenter 227, so the momentum of the air blown onto the upper surface of the support table 211 is moderately weakened. As a result, the strength measuring mechanism 200 can appropriately remove foreign matter from the upper surface side of the contact member 214 .

チップ14の試験やエアー供給ユニット250による異物の除去を繰り返すと、下部容器201の内部にはチップ14の破片141が蓄積される。そこで、実施形態1では、強度測定機構200は、破片排出ユニット260を用いて下部容器201の内部に蓄積された破片141を回収する。強度測定機構200は、破片排出ユニット260を用いると、下部容器201の開口部202の内部を手作業で清掃することなく、破片141を素早く除去できる。 As the chip 14 is repeatedly tested and foreign matter is removed by the air supply unit 250 , fragments 141 of the chip 14 are accumulated inside the lower container 201 . Therefore, in the first embodiment, the strength measuring mechanism 200 uses the fragment discharge unit 260 to collect the fragments 141 accumulated inside the lower container 201 . The strength measuring mechanism 200 can quickly remove the debris 141 by using the debris ejection unit 260 without manually cleaning the inside of the opening 202 of the lower container 201 .

なお、強度測定機構200では、上部容器240が下部容器201の開口部202よりも小さく形成されており、また、上部容器240には圧子227が挿入される圧子挿入孔241等が形成されている。このため、強度測定機構200は、上部容器240を下部容器201に向かって降下させても、下部容器201の開口部202は上部容器240によって密閉されないので、破片排出口からチップ14の破片141を吸引する際、開口部202に外気が容易に取り込まれ、チップ14の破片141の吸引を円滑に行うことができる。 In the strength measuring mechanism 200, the upper container 240 is formed smaller than the opening 202 of the lower container 201, and the upper container 240 is formed with an indenter insertion hole 241 into which an indenter 227 is inserted. . Therefore, even if the upper container 240 is lowered toward the lower container 201, the strength measuring mechanism 200 does not seal the opening 202 of the lower container 201 with the upper container 240, so that the fragment 141 of the chip 14 is removed from the fragment outlet. When sucking, outside air is easily taken into the opening 202, and the fragments 141 of the chip 14 can be sucked smoothly.

試験装置1の制御ユニット400は、強度測定機構200がチップ14を破壊すると、測定方法を終了するか否かを判定する(ステップST3)。実施形態1では、制御ユニット400は、カセット4内の全てのウェーハユニット17の全てのチップ14を破壊すると測定方法を終了する(ステップST3:Yes)と判定する。実施形態1では、制御ユニット400は、カセット4内の全てのウェーハユニット17の全てのチップ14を破壊していないと測定方法を終了しない(ステップST3:No)と判定して、清掃タイミングであるか否かを判定する(ステップST4)。 When the strength measuring mechanism 200 destroys the chip 14, the control unit 400 of the test apparatus 1 determines whether or not to end the measuring method (step ST3). In the first embodiment, the control unit 400 determines to end the measurement method when all the chips 14 of all the wafer units 17 in the cassette 4 are destroyed (step ST3: Yes). In the first embodiment, the control unit 400 determines that the measurement method will not end unless all the chips 14 of all the wafer units 17 in the cassette 4 are destroyed (step ST3: No), and it is time to clean. It is determined whether or not (step ST4).

清掃タイミングは、支持突起213の上端213-1を清掃具160で清掃するタイミングであって、例えば、一つのチップ14を破壊する毎、又は所定数のチップ14を破壊する毎であり、試験内容情報の一部として制御ユニット400の記憶装置に記憶される。 The cleaning timing is the timing of cleaning the upper end 213-1 of the support projection 213 with the cleaning tool 160, for example, each time one chip 14 is destroyed or each time a predetermined number of chips 14 are destroyed. It is stored in the storage device of the control unit 400 as part of the information.

試験装置1の制御ユニット400は、清掃タイミングではないと判定する(ステップST4:No)と、荷重検出ステップST2に戻る。試験装置1の制御ユニット400は、清掃タイミングであると判定する(ステップST4:Yes)と、清掃ステップST5に進む。 When the control unit 400 of the test apparatus 1 determines that it is not the cleaning timing (step ST4: No), it returns to the load detection step ST2. When the control unit 400 of the test apparatus 1 determines that it is the cleaning timing (step ST4: Yes), the process proceeds to the cleaning step ST5.

(清掃ステップ)
図19は、図12に示された測定方法の清掃ステップにおいてコレットの下面に清掃具を吸引保持した状態を示す斜視図である。図20は、図19に示された清掃具が一対の長尺支持部の支持突起の上端を清掃している状態を示す断面図である。
(cleaning step)
19 is a perspective view showing a state in which the cleaning tool is suction-held on the lower surface of the collet in the cleaning step of the measuring method shown in FIG. 12. FIG. 20 is a cross-sectional view showing a state in which the cleaning tool shown in FIG. 19 is cleaning the upper ends of the support projections of the pair of long support portions; FIG.

実施形態1において、清掃ステップST5は、荷重検出ステップST2を実施した後に、清掃具160をコレット76で保持し、コレット移動機構80で載置位置へと移動させて支持突起213の上端213-1を清掃具160で清掃するステップである。 In the first embodiment, the cleaning step ST5 holds the cleaning tool 160 with the collet 76 after performing the load detection step ST2, moves the cleaning tool 160 to the mounting position with the collet moving mechanism 80, and moves the upper end 213-1 of the support protrusion 213. is cleaned with the cleaning tool 160 .

実施形態1において、清掃ステップST5では、制御ユニット400は、強度測定機構200を制御して上部容器240等を移動機構230により上昇させて、一対の長尺支持部205を露出させる。清掃ステップST5では、制御ユニット400は、コレット移動機構80を制御してコレット76を清掃具支持部130に支持された清掃具160に対面させた後、コレット76を下降し、下面79に清掃具160を接触させた後、清掃具支持部130の吸引保持を停止し、コレット76の下面79に清掃具160を吸引保持する。清掃ステップST5では、制御ユニット400は、コレット移動機構80を制御して、図20に示すように、コレット76の下面79に吸引保持した清掃具160を支持突起213の上端213-1に接触させる。 In Embodiment 1, in the cleaning step ST5, the control unit 400 controls the strength measuring mechanism 200 to lift the upper container 240 and the like by the moving mechanism 230, thereby exposing the pair of long support portions 205. FIG. In the cleaning step ST5, the control unit 400 controls the collet moving mechanism 80 to bring the collet 76 to face the cleaning tool 160 supported by the cleaning tool support portion 130, and then lowers the collet 76 so that the cleaning tool 160 are brought into contact with each other, the suction holding of the cleaning tool support portion 130 is stopped, and the cleaning tool 160 is held on the lower surface 79 of the collet 76 by suction. In the cleaning step ST5, the control unit 400 controls the collet moving mechanism 80 to bring the cleaning tool 160 sucked and held on the lower surface 79 of the collet 76 into contact with the upper end 213-1 of the support protrusion 213, as shown in FIG. .

実施形態1において、清掃ステップST5では、制御ユニット400は、コレット移動機構80と支持台移動機構219とを制御して、所定時間、一対の長尺支持部205をX軸方向に所定範囲往復移動するとともに、コレット76をY軸方向に所定範囲往復移動させて、支持突起213の上端213-1に清掃具160を摺動させて、破片141等の異物を支持突起213の上端213-1から除去する。実施形態1において、清掃ステップST5では、制御ユニット400は、所定時間経過後、コレット76及び一対の長尺支持部205の往復移動を停止し、コレット移動機構80を制御して、コレット76で清掃具160を清掃具支持部130に搬送し、清掃具160を清掃具支持部130の上面131に吸引保持して、支持突起213の上端213-1の清掃を終了して、荷重検出ステップST2に戻る。このために、試験装置1は、複数のチップ14の抗折強度を連続して測定する。 In the first embodiment, in the cleaning step ST5, the control unit 400 controls the collet moving mechanism 80 and the support base moving mechanism 219 to reciprocate the pair of long support portions 205 in the X-axis direction within a predetermined range for a predetermined time. At the same time, the collet 76 is reciprocated within a predetermined range in the Y-axis direction, and the cleaning tool 160 is slid on the upper end 213-1 of the support projection 213 to remove foreign matter such as the fragment 141 from the upper end 213-1 of the support projection 213. Remove. In the first embodiment, in the cleaning step ST5, the control unit 400 stops the reciprocating movement of the collet 76 and the pair of long support portions 205 after a predetermined time has elapsed, controls the collet moving mechanism 80, and cleans the collet 76. The cleaning tool 160 is transported to the cleaning tool support section 130, and the cleaning tool 160 is held by suction on the upper surface 131 of the cleaning tool support section 130. After completing the cleaning of the upper end 213-1 of the support protrusion 213, the process proceeds to the load detection step ST2. return. For this purpose, the test apparatus 1 continuously measures the bending strength of the plurality of chips 14 .

こうして、実施形態1では、清掃ステップST5では、コレット76で吸引保持した清掃具160を支持突起213の上端213-1上で摺動させて、支持突起213の上端213-1の破片141等の異物を支持突起213の上端213-1から除去する。また、実施形態1では、コレット76が清掃具支持部130に支持された清掃具160で一対の長尺支持部205の支持突起213の上端213-1を清掃することで、チップ搬送ユニット20が、清掃具支持部130に収容(支持)された清掃具160で一対の長尺支持部205の支持突起213の上端213-1を清掃する清掃手段を兼用する。 Thus, in the first embodiment, in the cleaning step ST5, the cleaning tool 160 sucked and held by the collet 76 is slid over the upper end 213-1 of the support projection 213 to remove the fragments 141 and the like of the upper end 213-1 of the support projection 213. Foreign matter is removed from the upper end 213-1 of the support projection 213. FIG. Further, in the first embodiment, the cleaning tool 160 in which the collet 76 is supported by the cleaning tool supporting part 130 cleans the upper ends 213-1 of the support projections 213 of the pair of long support parts 205, so that the chip conveying unit 20 is , the cleaning tool 160 housed (supported) in the cleaning tool support 130 also serves as cleaning means for cleaning the upper ends 213-1 of the support projections 213 of the pair of long support parts 205. As shown in FIG.

以上説明したように、実施形態1に係る測定方法及び試験装置1は、荷重検出ステップST2を実施した後に、清掃具160をコレット76で保持しコレット移動機構80で載置位置へと移動させて一対の長尺支持部205の支持突起213の上端213-1を清掃具160で清掃する清掃ステップST5を実施するため、荷重検出ステップST2でチップ14を支持する支持突起213の上端213-1から破片141等の異物を除去できる、その結果、複数のチップ14の抗折強度を測定する際でも、正確にチップ14の抗折強度を測定することを可能とするという効果を奏する。 As described above, in the measuring method and testing apparatus 1 according to the first embodiment, after performing the load detection step ST2, the cleaning tool 160 is held by the collet 76 and moved to the mounting position by the collet moving mechanism 80. In order to perform the cleaning step ST5 of cleaning the upper ends 213-1 of the support projections 213 of the pair of long support portions 205 with the cleaning tool 160, the upper ends 213-1 of the support projections 213 supporting the chip 14 are removed in the load detection step ST2. Foreign matter such as fragments 141 can be removed, and as a result, even when measuring the flexural strength of a plurality of chips 14, the flexural strength of each chip 14 can be measured accurately.

〔実施形態2〕
本発明の実施形態2に係る測定方法及び試験装置を図面に基いて説明する。図21は、実施形態2に係る測定方法で用いられる清掃具の断面図である。図22は、実施形態2に係る測定方法の清掃ステップにおいて清掃具が一対の長尺支持部の支持突起の上端を清掃している状態を示す断面図である。なお、図21及び図22は、実施形態1と同一部分に同一符号を付して説明を省略する。
[Embodiment 2]
A measuring method and a testing apparatus according to Embodiment 2 of the present invention will be described with reference to the drawings. 21 is a cross-sectional view of a cleaning tool used in the measuring method according to Embodiment 2. FIG. 22 is a cross-sectional view showing a state in which the cleaning tool is cleaning the upper ends of the support protrusions of the pair of long support portions in the cleaning step of the measurement method according to the second embodiment; FIG. In addition, FIG.21 and FIG.22 attach|subjects the same code|symbol to the same part as Embodiment 1, and abbreviate|omits description.

実施形態2に係る測定方法及び試験装置1は、支持突起213の上端213-1を清掃する清掃具160-2の構成が実施形態1と異なること以外、実施形態1と同じである。実施形態2に係る測定方法及び試験装置1が用いる清掃具160-2は、平面形状が実施形態1に係る清掃具160と同形状に形成され、図21に示すように、発泡ウレタン、又は不織布等の微細な孔を有する多孔性材からなる本体部161と、非通気性の材料で構成されかつ本体部161の外周面を全周に亘って被覆したシール部162とを有する。 The measuring method and testing apparatus 1 according to Embodiment 2 are the same as those in Embodiment 1 except that the configuration of the cleaning tool 160-2 for cleaning the upper end 213-1 of the support projection 213 differs from that in Embodiment 1. The cleaning tool 160-2 used in the measuring method and testing apparatus 1 according to the second embodiment has the same planar shape as the cleaning tool 160 according to the first embodiment, and as shown in FIG. and a sealing portion 162 made of a non-air-permeable material covering the entire outer peripheral surface of the main body 161 .

本体部161は、平板状に形成され、コレット76の下面79に吸引保持される被保持面163と、被保持面163の背面で支持突起213の上端213-1を清掃するとともに清掃具支持部130の上面131に吸引保持される清掃面164とを含んでいる。被保持面163は、本体部161の上面であり、清掃面164は、本体部161の下面であり、シール部162に被覆されることなく露出している。 The body portion 161 is formed in a flat plate shape, has a held surface 163 which is held by suction on the lower surface 79 of the collet 76, and an upper end 213-1 of the support projection 213 on the back surface of the held surface 163, and a cleaning tool support portion. and a cleaning surface 164 which is held by suction to the upper surface 131 of 130 . The held surface 163 is the upper surface of the body portion 161 , and the cleaning surface 164 is the lower surface of the body portion 161 and is exposed without being covered by the seal portion 162 .

実施形態2に係る測定方法において、清掃ステップST5では、制御ユニット400は、図22に示すように、支持突起213の上端213-1に清掃具160-2の清掃面164を接触させた状態で、コレット移動機構80と支持台移動機構219とを制御して、所定時間、一対の長尺支持部205をX軸方向に所定範囲往復移動し、コレット76をY軸方向に所定範囲往復移動させる。このとき、試験装置1は、コレット76の下面79の吸引保持力により、コレット76で清掃具160-2の本体部161を介して支持突起213の上端213-1上の破片141等の異物を吸引し、清掃具160-2の清掃面164に破片141等の異物を吸着させる。 In the measurement method according to the second embodiment, in the cleaning step ST5, the control unit 400 causes the cleaning surface 164 of the cleaning tool 160-2 to contact the upper end 213-1 of the support projection 213 as shown in FIG. , the collet moving mechanism 80 and the support base moving mechanism 219 are controlled to reciprocate the pair of elongated support portions 205 in the X-axis direction for a predetermined period of time and to reciprocate the collet 76 in the Y-axis direction within a predetermined range. . At this time, the test apparatus 1 removes foreign matter such as the fragments 141 on the upper end 213-1 of the support projection 213 with the collet 76 through the body portion 161 of the cleaning tool 160-2 by the suction holding force of the lower surface 79 of the collet 76. By suctioning, the cleaning surface 164 of the cleaning tool 160-2 is caused to adsorb foreign matter such as the fragment 141. As shown in FIG.

実施形態2において、清掃ステップST5では、制御ユニット400は、実施形態1と同様に、所定時間経過後、コレット76及び一対の長尺支持部205の往復移動を停止し、コレット移動機構80を制御して、コレット76で清掃具160を清掃具支持部130に搬送し、清掃具160-2を清掃具支持部130の上面131に吸引保持して、支持突起213の上端213-1の清掃を終了して、荷重検出ステップST2に戻る。 In the second embodiment, in the cleaning step ST5, the control unit 400 stops the reciprocating movement of the collet 76 and the pair of long support portions 205 after a predetermined time has elapsed, and controls the collet moving mechanism 80, as in the first embodiment. Then, the cleaning tool 160 is conveyed to the cleaning tool support portion 130 by the collet 76, and the cleaning tool 160-2 is held by suction on the upper surface 131 of the cleaning tool support portion 130, thereby cleaning the upper end 213-1 of the support projection 213. When finished, the process returns to the load detection step ST2.

実施形態2に係る測定方法及び試験装置1は、荷重検出ステップST2を実施した後に、清掃ステップST5を実施するため、荷重検出ステップST2でチップ14を支持する支持突起213の上端213-1から破片141等の異物を除去できる、その結果、複数のチップ14の抗折強度を測定する際でも、正確にチップ14の抗折強度を測定することを可能とするという効果を奏する。 Since the measuring method and testing apparatus 1 according to the second embodiment performs the cleaning step ST5 after performing the load detection step ST2, debris from the upper end 213-1 of the support projection 213 supporting the chip 14 is detected in the load detection step ST2. Foreign matter such as 141 can be removed. As a result, even when measuring the flexural strength of a plurality of chips 14, the flexural strength of each chip 14 can be measured accurately.

また、実施形態2に係る測定方法及び試験装置1は、清掃ステップST5において、清掃具160-2に破片141等の異物を吸着するので、支持突起213の上端から破片141等の異物を除去できる。 In addition, in the cleaning step ST5, the measuring method and testing apparatus 1 according to the second embodiment adsorb foreign substances such as fragments 141 to the cleaning tool 160-2, so that foreign substances such as fragments 141 can be removed from the upper ends of the support projections 213. .

〔実施形態3〕
本発明の実施形態3に係る測定方法及び試験装置を図面に基いて説明する。図23は、実施形態3に係る測定方法の清掃ステップにおいて清掃具が一対の長尺支持部の支持突起の上端を清掃している状態を示す断面図である。なお、図23は、実施形態1と同一部分に同一符号を付して説明を省略する。
[Embodiment 3]
A measuring method and a testing apparatus according to Embodiment 3 of the present invention will be described with reference to the drawings. 23 is a cross-sectional view showing a state in which the cleaning tool is cleaning the upper ends of the support projections of the pair of long support portions in the cleaning step of the measurement method according to Embodiment 3. FIG. In addition, FIG. 23 attaches|subjects the same code|symbol to the same part as Embodiment 1, and abbreviate|omits description.

実施形態3に係る測定方法及び試験装置1は、支持突起213の上端213-1を清掃する清掃具160-3の構成が実施形態1と異なること以外、実施形態1と同じである。実施形態3に係る測定方法及び試験装置1が用いる清掃具160-3は、非通気性を有する材料から構成され、かつ平面形状が実施形態1に係る清掃具160と同形状に形成されているとともに、図23に示すように、コレット76の下面79に吸引保持される被保持部165と、被保持部165の外縁に連なりかつ支持突起213の上端213-1に対向する吸引開口166を設けた枠状部167とを備える。 The measuring method and testing apparatus 1 according to Embodiment 3 are the same as those in Embodiment 1 except that the configuration of cleaning tool 160-3 for cleaning upper end 213-1 of support projection 213 is different. A cleaning tool 160-3 used in the measuring method and testing apparatus 1 according to the third embodiment is made of a non-breathable material, and has the same planar shape as the cleaning tool 160 according to the first embodiment. In addition, as shown in FIG. 23, a held portion 165 sucked and held by the lower surface 79 of the collet 76 and a suction opening 166 connected to the outer edge of the held portion 165 and facing the upper end 213-1 of the support projection 213 are provided. and a frame-shaped portion 167 .

被保持部165は、平面形状が実施形態1に係る清掃具160と同形状の平板状に形成されている。枠状部167の吸引開口166の内縁は、清掃具160-3が一対の長尺支持部205の支持突起213の上端213-1を清掃する際に、支持突起213よりも外側に位置付けられる。枠状部167の下面は、吸引開口166が開口しており、支持突起213の上端213-1を清掃するとともに清掃具支持部130の上面131に吸引保持される清掃面168をなしている。 The held portion 165 is formed in a flat plate shape having the same planar shape as the cleaning tool 160 according to the first embodiment. The inner edge of the suction opening 166 of the frame-shaped portion 167 is positioned outside the support projections 213 when the cleaning tool 160-3 cleans the upper ends 213-1 of the support projections 213 of the pair of long support portions 205. FIG. The lower surface of the frame-shaped portion 167 has a suction opening 166 that forms a cleaning surface 168 that cleans the upper end 213-1 of the support projection 213 and that is suction-held on the upper surface 131 of the cleaning tool support portion .

清掃具160-3は、枠状部167内に空間が曲自在なホース171を介して吸引源172に接続されている。ホース171は、清掃具支持部130から長尺支持部205まで清掃具160-3が移動できるような十分な長さを有している。実施形態3では、ホース171は、開閉弁173を設けている。 The cleaning tool 160-3 is connected to a suction source 172 through a flexible hose 171 in the frame-shaped portion 167. As shown in FIG. Hose 171 is sufficiently long to allow cleaning tool 160-3 to move from cleaning tool support 130 to elongated support 205. FIG. In Embodiment 3, the hose 171 is provided with an on-off valve 173 .

実施形態3に係る測定方法において、清掃ステップST5では、制御ユニット400は、図23に示すように、吸引開口166内に支持突起213の上端213-1を位置付け、かつ支持突起213の上端213-1と清掃具160-3の清掃面168とを同一平面上に位置付けた状態で、開閉弁173を開いて、吸引源172により枠状部167内を吸引して、吸引開口166を介して、支持突起213の上端213-1上の破片141等の異物を吸引して除去する。 In the measurement method according to the third embodiment, in the cleaning step ST5, the control unit 400 positions the upper end 213-1 of the support projection 213 within the suction opening 166 and the upper end 213-1 of the support projection 213, as shown in FIG. 1 and the cleaning surface 168 of the cleaning tool 160-3 are positioned on the same plane, the on-off valve 173 is opened, the inside of the frame-shaped portion 167 is sucked by the suction source 172, and through the suction opening 166, Foreign matter such as the fragment 141 on the upper end 213-1 of the support projection 213 is sucked and removed.

実施形態3において、清掃ステップST5では、制御ユニット400は、所定時間経過後、開閉弁173を閉じて、コレット移動機構80を制御して、コレット76で清掃具160を清掃具支持部130に搬送し、清掃具160-3を清掃具支持部130の上面131に吸引保持して、支持突起213の上端213-1の清掃を終了して、荷重検出ステップST2に戻る。 In the third embodiment, in the cleaning step ST5, the control unit 400 closes the on-off valve 173 after a predetermined time has elapsed, controls the collet moving mechanism 80, and conveys the cleaning tool 160 to the cleaning tool support section 130 with the collet 76. Then, the cleaning tool 160-3 is sucked and held on the upper surface 131 of the cleaning tool support portion 130, the cleaning of the upper end 213-1 of the support projection 213 is finished, and the process returns to the load detection step ST2.

実施形態3に係る測定方法及び試験装置1は、荷重検出ステップST2を実施した後に、清掃ステップST5を実施するため、荷重検出ステップST2でチップ14を支持する支持突起213の上端213-1から破片141等の異物を除去できる、その結果、複数のチップ14の抗折強度を測定する際でも、正確にチップ14の抗折強度を測定することを可能とするという効果を奏する。 Since the measuring method and testing apparatus 1 according to Embodiment 3 performs the cleaning step ST5 after performing the load detection step ST2, debris from the upper end 213-1 of the support projection 213 that supports the chip 14 is detected in the load detection step ST2. Foreign matter such as 141 can be removed. As a result, even when measuring the flexural strength of a plurality of chips 14, the flexural strength of each chip 14 can be measured accurately.

また、実施形態3に係る測定方法及び試験装置1は、清掃ステップST5において、清掃具160-3の吸引開口166を介して破片141等の異物を吸引して除去するので、支持突起213の上端から破片141等の異物を除去できる。 In the cleaning step ST5, the measuring method and testing apparatus 1 according to the third embodiment sucks and removes foreign matter such as fragments 141 through the suction opening 166 of the cleaning tool 160-3. Foreign matter such as fragments 141 can be removed from the .

〔変形例〕
本発明の実施形態1、実施形態2及び実施形態3の変形例に係る測定方法を図面に基いて説明する。図24は、実施形態1、実施形態2及び実施形態3の変形例に係る測定方法の流れを示すフローチャートである。なお、図24は、実施形態1と同一部分に同一符号を付して説明を省略する。
[Modification]
Measurement methods according to modifications of Embodiments 1, 2 and 3 of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 24 is a flow chart showing the flow of the measurement method according to the modification of the first, second, and third embodiments. In addition, FIG. 24 attaches|subjects the same code|symbol to the same part as Embodiment 1, and abbreviate|omits description.

実施形態1、実施形態2及び実施形態3の変形例に係る試験装置1は、図24に示すように、清掃ステップST5を荷重検出ステップST2の前に実施すること以外、実施形態1と同じである。 As shown in FIG. 24, the test apparatus 1 according to the modification of Embodiments 1, 2, and 3 is the same as that of Embodiment 1 except that the cleaning step ST5 is performed before the load detection step ST2. be.

変形例に係る測定方法及び試験装置1は、清掃ステップST5を実施するため、荷重検出ステップST2でチップ14を支持する支持突起213の上端213-1から破片141等の異物を除去でき、複数のチップ14の抗折強度を測定する際でも、正確にチップ14の抗折強度を測定することを可能とするという効果を奏する。 Since the measuring method and testing apparatus 1 according to the modification performs the cleaning step ST5, foreign matter such as the fragment 141 can be removed from the upper end 213-1 of the support projection 213 that supports the chip 14 in the load detection step ST2. Even when measuring the bending strength of the tip 14, there is an effect that the bending strength of the tip 14 can be measured accurately.

また、変形例に係る測定方法及び試験装置1は、荷重検出ステップST2を実施する前に、清掃ステップST5を実施するため、荷重検出ステップST2前に支持突起213の上端213-1に破片141などの異物が付着していることを抑制できる。 Further, since the measuring method and testing apparatus 1 according to the modification performs the cleaning step ST5 before performing the load detection step ST2, the debris 141 or the like is removed from the upper end 213-1 of the support projection 213 before the load detection step ST2. It is possible to suppress the adhesion of foreign matter.

なお、本発明は、上記実施形態等に限定されるものではない。即ち、本発明の骨子を逸脱しない範囲で種々変形して実施することができる。前述した実施形態1及び実施形態2等では、清掃ステップST5において、コレット76と一対の長尺支持部205との双方を往復移動させたが、本発明では、これに限定されることなく、コレット76と一対の長尺支持部205との少なくとも一方を往復移動させれば良い。また、実施形態では、測定方法及び試験装置1は、チップ14の抗折強度を測定したが、本発明では、チップ14に限らず、種々の試験片の強度を測定しても良い。 It should be noted that the present invention is not limited to the above-described embodiments and the like. That is, various modifications can be made without departing from the gist of the present invention. In Embodiments 1 and 2 described above, both the collet 76 and the pair of long support portions 205 are reciprocated in the cleaning step ST5. At least one of 76 and the pair of long support portions 205 should be reciprocated. Moreover, in the embodiment, the measuring method and testing apparatus 1 measures the bending strength of the tip 14, but in the present invention, the strength of various test pieces other than the tip 14 may be measured.

1 試験装置(チップ破壊装置)
11-2 下面
14 チップ(試験片)
20 チップ搬送ユニット(試験片搬送手段、清掃手段)
76 コレット
79 下面(吸引保持面)
80 コレット移動機構(コレット移動手段)
130 清掃具支持部(清掃具収容部)
141 破片(異物)
160,160-2,160-3 清掃具
161 本体部
163 被保持面
164 清掃面
205 長尺支持部
213-1 上端(支持面)
223 荷重計測器(荷重計測手段)
227 圧子
230 移動機構(移動手段)
ST1 装置準備ステップ
ST2 荷重検出ステップ
ST5 清掃ステップ
1 Test equipment (chip destruction equipment)
11-2 Lower surface 14 Chip (test piece)
20 chip transport unit (specimen transport means, cleaning means)
76 collet 79 lower surface (suction holding surface)
80 collet moving mechanism (collet moving means)
130 cleaning tool support (cleaning tool storage part)
141 Debris (foreign object)
160, 160-2, 160-3 cleaning tool 161 main body 163 held surface 164 cleaning surface 205 long support 213-1 upper end (support surface)
223 load measuring instrument (load measuring means)
227 indenter 230 moving mechanism (moving means)
ST1 Equipment preparation step ST2 Load detection step ST5 Cleaning step

Claims (4)

試験片の強度を測定する測定方法であって、
試験片の下面を支持する支持面を含み互いに所定の間隔を有して配設された一対の長尺支持部と、該長尺支持部の上方且つ一対の該長尺支持部の間に配置された該長尺支持部と平行に伸長する圧子と、該圧子を一対の該長尺支持部で支持された試験片に対して相対的に近接移動させる移動手段と、該圧子が一対の該長尺支持部で支持された試験片を押圧する荷重を計測する荷重計測手段と、試験片を保持するコレットと、試験片をピックアップするピックアップ位置と一対の該長尺支持部上に試験片を載置する載置位置との間で該コレットを移動するコレット移動手段と、を有したチップ破壊装置を準備する装置準備ステップと、
該コレットで保持した試験片を一対の該長尺支持部上に載置し、次いで一対の該長尺支持部で支持された試験片を該圧子で押圧して破壊し、試験片が破壊した際の荷重を該荷重計測手段で検出する荷重検出ステップと、
該荷重検出ステップを実施する前または後に、清掃具を該コレットで保持し該コレット移動手段で該載置位置へと移動させて該支持面を該清掃具で清掃する清掃ステップと、
を備えた測定方法。
A measuring method for measuring the strength of a test piece,
A pair of long supports including a support surface for supporting the lower surface of the test piece and arranged at a predetermined distance from each other, and arranged above the long supports and between the pair of long supports an indenter extending parallel to the elongated support portion, a moving means for moving the indenter relatively close to the test piece supported by the pair of elongate support portions; A load measuring means for measuring the load pressing the test piece supported by the elongate support, a collet for holding the test piece, a pick-up position for picking up the test piece, and the test piece on the pair of elongate supports. a device preparation step of preparing a chip breaking device having collet moving means for moving the collet between a mounting position and a mounting position;
The test piece held by the collet was placed on the pair of long support portions, and then the test piece supported by the pair of long support portions was pressed by the indenter to break, and the test piece was broken. a load detection step of detecting an actual load with the load measuring means;
a cleaning step of holding a cleaning tool by the collet and moving it to the placement position by the collet moving means to clean the support surface with the cleaning tool before or after performing the load detection step;
measurement method with
該コレットは、試験片を吸引保持する吸引保持面を含み、
該清掃具は該コレットに吸引保持される被保持面と、該被保持面の背面で該支持面を清掃する清掃面と、を含んだ多孔性材からなる本体部を有し、
該清掃ステップでは、該コレットで該清掃具を介して該支持面上の異物を吸引し、該清掃具の該清掃面に異物を吸着させる、請求項1に記載の測定方法。
The collet includes a suction holding surface for holding the test piece by suction,
The cleaning tool has a main body made of a porous material including a surface to be held by the collet by suction and a cleaning surface for cleaning the support surface behind the surface to be held,
2. The measuring method according to claim 1, wherein in the cleaning step, foreign matter on the support surface is sucked by the collet through the cleaning tool to cause the foreign matter to adhere to the cleaning surface of the cleaning tool.
該清掃ステップでは、該コレットで吸引保持した該清掃具を該支持面上で摺動させて該支持面上の異物を該支持面から除去する、請求項1に記載の測定方法。 2. The measuring method according to claim 1, wherein in the cleaning step, the cleaning tool sucked and held by the collet is slid on the support surface to remove foreign substances on the support surface from the support surface. 試験片の強度を測定する試験装置であって、
試験片の下面を支持する支持面を含み互いに所定の間隔を有して配設された一対の長尺支持部と、
該長尺支持部の上方且つ一対の該長尺支持部の間に配置され、該長尺支持部と平行に伸長する圧子と、
該圧子を一対の該長尺支持部で支持された試験片に対して相対的に近接移動させる移動手段と、
該圧子が一対の該長尺支持部で支持された試験片を押圧する荷重を計測する荷重計測手段と、
試験片を保持するコレットと、試験片をピックアップするピックアップ位置と一対の該長尺支持部上に試験片を載置する載置位置との間で該コレットを移動するコレット移動手段と、を有した試験片搬送手段と、
一対の該長尺支持部の該支持面を清掃する清掃具を収容する清掃具収容部と、
該清掃具収容部に収容された清掃具で一対の該長尺支持部の該支持面を清掃する清掃手段と、を備え、
該試験片搬送手段が該清掃手段を兼用する、試験装置。
A test device for measuring the strength of a test piece,
a pair of elongated support portions including a support surface for supporting the lower surface of the test piece and arranged at a predetermined distance from each other;
an indenter disposed above the elongate supports and between the pair of elongate supports and extending parallel to the elongate supports;
moving means for moving the indenter relatively close to the test piece supported by the pair of long support portions;
a load measuring means for measuring the load with which the indenter presses the test piece supported by the pair of long support portions;
a collet holding a test piece; and collet moving means for moving the collet between a pick-up position for picking up the test piece and a mounting position for mounting the test piece on the pair of long supports. a test strip transport means;
a cleaning tool storage unit that stores a cleaning tool for cleaning the support surfaces of the pair of long support parts;
cleaning means for cleaning the support surfaces of the pair of long support portions with the cleaning tool housed in the cleaning tool housing;
A test apparatus, wherein the test piece conveying means also serves as the cleaning means.
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