JP7246772B1 - 気体式マッサージ機用給排気システム及びそれを備える気体式マッサージ機 - Google Patents

Abstract

【課題】複数の流路が設けられる場合であっても、構造の簡易化を実現可能な気体式マッサージ機用給排気システム及びそれを備える気体式マッサージ機を提供すること。【解決手段】給排気システムは、気体供給装置と、分配用バルブユニットと、メインバルブユニットと、を備える。分配用バルブユニットは、第１チャンバ、第１フリーポート、第１接続ポート、第２接続ポート、第１電磁弁、並びに、第２電磁弁を有する第１部分と、第２チャンバ、第２フリーポート、第３接続ポート、第４接続ポート、第３電磁弁、並びに、第４電磁弁を有する第２部分と、を備える。メインバルブユニットは、第３チャンバを含む第３部分と、第４チャンバを含む第４部分とを有する複数の電磁弁ユニットを備え、第１部分は、第３部分に接続され、第２部分は、第４部分に接続される。【選択図】図３

Description

本発明は、気体式マッサージ機用給排気システム及びそれを備える気体式マッサージ機に関する。

疲労回復、血行促進等を目的とするマッサージ機の一種として、圧縮空気の供給及び排出を利用した気体式マッサージ機（エアマッサージ機）が知られている。下記特許文献１には、膨張可能ブラダ（気体室）を含む圧縮ガーメントとの使用のための圧縮システムが開示される。下記特許文献１では、各膨張可能ブラダの開閉を制御する双方向弁の入口ポートと、通気弁の入口ポートとの両方が、同一のマニホールドに接続される。

マッサージ機の動作の一つとして、マッサージ機の所定領域に対して気体を供給すると同時に、当該所定領域とは別の領域から気体を排出することが挙げられる。この場合、複数系統の流路が設けられる必要がある。下記特許文献２には、互いに異なる流路を形成する２つの電磁弁ユニットを備える気体式マッサージ機が開示される。下記特許文献２では、気体給排システムに含まれる各電磁弁ユニットは、マッサージ具の気体室に接続される複数の接続ポートに加えて、給気用ポート及び排気用ポートを有する。

特許第６７８５２２４号公報 特願２０２０－０８２６０７号

上記特許文献２における各電磁弁ユニットは、各接続ポートの開閉を制御する複数の電磁弁と、給気用ポートの開閉を制御する給気用電磁弁と、排気用ポートの開閉を制御す排気用電磁弁とを有する必要がある。このため、気体式マッサージ機における気体給排システム（特に、各電磁弁ユニットの構造）が複雑になる傾向がある。

本発明の目的は、複数の流路が設けられる場合であっても、構造の簡易化を実現可能な気体式マッサージ機用給排気システム及びそれを備える気体式マッサージ機を提供することである。

本発明の一側面に係る気体式マッサージ機用給排気システムは、気体供給装置と、気体供給装置に接続される分配用バルブユニットと、分配用バルブユニットに接続されるメインバルブユニットと、を備える。分配用バルブユニットは、第１チャンバ、第１チャンバに接続される第１フリーポート、第１チャンバ及び気体供給装置を接続する第１接続ポート、第１チャンバ及び外部を接続する第２接続ポート、第１接続ポートの開閉を制御する第１電磁弁、並びに、第２接続ポートの開閉を制御する第２電磁弁を有する第１部分と、第１チャンバに対して独立する第２チャンバ、第２チャンバに接続される第２フリーポート、第２チャンバ及び気体供給装置を接続する第３接続ポート、第２チャンバ及び外部を接続する第４接続ポート、第３接続ポートの開閉を制御する第３電磁弁、並びに、第４接続ポートの開閉を制御する第４電磁弁を有する第２部分と、を備え、メインバルブユニットは、第３チャンバ及び少なくとも一つの第５電磁弁を含む第３部分と、第３チャンバに対して独立する第４チャンバ及び少なくとも一つの第６電磁弁を含む第４部分とを有する複数の電磁弁ユニットを備え、第１部分は、複数の電磁弁ユニットのそれぞれに含まれる第３部分に接続され、第２部分は、複数の電磁弁ユニットのそれぞれに含まれる第４部分に接続される。

この気体式マッサージ機用給排気システムによれば、分配用バルブユニットに含まれる第１チャンバと第２チャンバとは互いに独立し、メインバルブユニットに含まれる電磁弁ユニットの第３チャンバと第４チャンバとは互いに独立する。また、第１チャンバを含む分配用バルブユニットの第１部分は、第３チャンバを含む電磁弁ユニットの第３部分に接続され、第２チャンバを含む分配用バルブユニットの第２部分は、第４チャンバを含む電磁弁ユニットの第４部分に接続される。このため、上記給排気システムには２系統の流路が設けられるので、例えば、第１部分を介して第３チャンバへの気体供給を実施しつつ、第２部分を介して第４チャンバの気体排出が可能になる。加えて、メインバルブユニットと分配用バルブユニットとが互いに分離されるので、各バルブユニットの構成を簡易化できる。

第１電磁弁から第６電磁弁のそれぞれは、２方弁でもよい。この場合、各バルブユニットの構造をより簡易化できる。

分配用バルブユニットと、複数の電磁弁ユニットのそれぞれとは、互いに同一構成を有してもよい。この場合、給排気システム内の共通部品点数が多くなるので、コストダウンの実現と共にメンテナンス性を向上できる。

本発明の一側面に係る気体式マッサージ機は、上記給排気システムと、気体供給装置から気体が供給される複数の気体室を有するマッサージ具と、を備え、複数の気体室は、第３部分に接続される第１気体室と、第４部分に接続される第２気体室とを有してもよい。この気体式マッサージ機によれば、給排気システムの制御によって、例えば第１気体室に気体供給しつつ、第２気体室から気体を排出できる。

本発明の一側面によれば、複数の流路が設けられる場合であっても、構造の簡易化を実現可能な気体式マッサージ機用給排気システム及びそれを備える気体式マッサージ機を提供できる。

図１は、実施形態に係る気体式マッサージ機を示す模式図である。 図２は、マッサージ具を示す斜視図である。 図３は、給排気システムの内部を示す概略斜視図である。 図４（ａ）は、分配用バルブユニットを示す斜視図であり、図４（ｂ）は、分配用バルブユニットを示す正面図である。 図５（ａ）は、図４（ｂ）のＶａ－Ｖａ線に沿った概略断面図であり、図５（ｂ）は、図４（ｂ）のＶｂ－Ｖｂ線に沿った概略断面図である。 図６は、分配用バルブユニットの回路図を示す。 図７は、マッサージ具の一部、エアポンプ、分配用バルブユニット、及び１つの電磁弁ユニットの回路図である。 図８は、マッサージ具を用いた揉みパターンの例を示す図である。 図９は、マッサージ具を用いた揉みパターンの例を示す図である。

以下、添付図面を参照して、本発明の一側面の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、以下の説明において、同一要素又は同一機能を有する要素には、同一符号を用いることとし、重複する説明は省略する。

本実施形態の気体式マッサージ機は、高圧気体を使用して被施術者の身体をマッサージする機器である。気体式マッサージ機は、例えば、被施術者の静脈、リンパの滞りを改善し、その流れを促進するなど、身体状態を改善することを目的に、被施術者の身体を「揉む」など、被施術者の身体に刺激を与えるために用いられる。ここで、本明細書において、「高圧気体」は、大気圧より高い気圧を有する気体を指す。本実施形態では、気体は、利便性の観点から、空気である。しかしながら、気体は、特に限定されず、Ｈｅ（ヘリウム）およびＮ_２（窒素）などの不活性ガス、ならびにＯ_２（酸素）などのその他のガスであってもよい。

気体式マッサージ機１は、図１に示されるように、マッサージ具２と、マッサージ具２に接続される給排気システム３とを備える。本実施形態における「接続」は、単なる物理的接続に限定されない。例えば、ホース、チューブ、タンクなどの中間部材を介して２つの装置間を気体、液体などの流体が流れるとき、当該２つの装置は互いに接続する（流体接続する）とみなされる。

マッサージ具２は、被施術者の身体にマッサージを施すために、身体に装着される器具である。マッサージ具２は、図１に示されるように、ホースＨおよびコネクタＣを介して給排気システム３（気体式マッサージ機用給排気システム）に接続される。マッサージ具２は、給排気システム３から高圧気体が供給されて膨張し、給排気システム３を介して高圧気体が排出されて収縮する。マッサージ具２は、膨張することで身体を圧迫し、収縮することで身体の圧迫を解除する。マッサージ具２は、身体の圧迫と圧迫解除を繰り返すことで、被施術者の身体をマッサージする。マッサージ具２は、本実施形態では、図２に示されるように、被施術者の身体Ｂを囲むように装着されて、身体Ｂの周囲から身体Ｂを圧迫し、その後その圧迫を解除するように構成される。より具体的には、マッサージ具２は、右足を囲むように装着される第１マッサージ具２１と、左足を囲むように装着される第２マッサージ具２２とを備えている。

第１および第２マッサージ具２１、２２はそれぞれ、第１および第２ホースＨ１、Ｈ２および第１および第２コネクタＣ１、Ｃ２を介して給排気システム３に接続される。ただし、マッサージ具２は、マッサージする身体Ｂに対応した形状を有していれば、図示されたような２つに分かれたブーツ形状に限定されない。例えば、左右のいずれか片側のみのブーツ形状であってもよいし、身体Ｂの下半身全体にマッサージを施すために左右の両足用に一体となったズボン形状を有していてもよいし、身体Ｂの腰部の周囲にマッサージを施すために半ズボン形状を有していてもよいし、身体Ｂの上半身全体にマッサージを施すためにシャツ形状を有していてもよい。

マッサージ具２は、図１および図２に示されるように、高圧気体を受容して膨張し、高圧気体を排出して収縮する気体室２１１～２１８，２２１～２２８を有している。マッサージ具２は、気体室２１１～２１８，２２１～２２８が給排気システム３に流体接続されることにより、給排気システム３に流体接続される。また、マッサージ具２は、気体室２１１～２１８，２２１～２２８が膨張および収縮することにより、膨張および収縮するように構成される。マッサージ具２は、本実施形態では、複数（図示された例では１６）の気体室２１１～２１８，２２１～２２８を有している。マッサージ具２は、気体室２１１～２１８，２２１～２２８を備えることにより、それぞれに対応する場所毎に膨張および収縮することができる。ただし、マッサージ具２は、膨張して身体Ｂを圧迫し、収縮して身体Ｂの圧迫を解除するように構成されていればよく、その目的のために、少なくとも１つの気体室を有していればよい。

気体室２１１～２１８，２２１～２２８はそれぞれ、図２に示されるように、マッサージ対象となる身体Ｂのそれぞれの部位に対応するように設けられている。マッサージ具２は、本実施形態では、図２に示されるように、第１マッサージ具２１および第２マッサージ具２２用にそれぞれ、連続して設けられた気体室２１１～２１８，２２１～２２８を備えている。気体室２１１～２１８，２２１～２２８は、足先に対応する部位に設けられた気体室２１１，２２１から、上腿部に対応する部位に設けられた気体室２１８，２２８に向かって、順に配置されている。なお、マッサージ具２は、マッサージする身体Ｂの部位に応じて、また実施するマッサージの制御モードに応じて気体室の配置や数を適宜設定することが可能である。

気体室２１１～２１８，２２１～２２８はそれぞれ、マッサージ対象となる身体Ｂの部位を囲むように、略筒状の袋体として形成される。気体室２１１～２１８，２２１～２２８はそれぞれ、膨張して身体Ｂの対応部位を圧迫し、収縮して身体Ｂの対応部位の圧迫を解除できるような大きさに形成される。気体室２１１～２１８，２２１～２２８の形状および大きさは、装着される身体Ｂの部位に応じて適宜決定することができる。また、気体室２１１～２１８，２２１～２２８は、高圧気体を蓄える気密性を有し、高圧気体の受容および排出によって変形可能であれば、特に限定されなく、例えば樹脂材料によって形成される。樹脂部材は、例えば弾性を有してもよい。

給排気システム３は、少なくとも１つの気体室２１１～２１８，２２１～２２８に高圧気体を供給し、少なくとも１つの気体室２１１～２１８，２２１～２２８から高圧気体を排出する。給排気システム３は、図１に示されるように、気体供給装置４と、気体供給装置４に接続される分配用バルブユニット５と、分配用バルブユニット５に接続されるメインバルブユニット６と、気体供給装置４、分配用バルブユニット５、及びメインバルブユニット６を制御する制御装置７とを有する。メインバルブユニット６は、第１マッサージ具２１及び第２マッサージ具２２に接続される。給排気システム３には、例えば動作モード（後述する揉みパターンなど）を表示する表示部などが設けられ得る。

図３は、給排気システムの内部を示す概略斜視図である。図３に示されるように、気体供給装置４と、分配用バルブユニット５と、メインバルブユニット６とは、筐体３０上に載置される。筐体３０は、図示しない蓋体と組み合わされることによって、給排気システム３の内部を保護する箱として機能する。

気体供給装置４は、分配用バルブユニット５に高圧気体を供給する装置である。気体供給装置４は、例えば、高圧気体を送出するポンプ、バルブの開放によって高圧気体が噴出するボンベなどを備え得る。平面視にて、気体供給装置４は、方向Ｘに沿ってメインバルブユニット６と並び、方向Ｘに直交する方向Ｙに沿って分配用バルブユニット５と並ぶ。以下では、方向Ｘは前後方向とも称され、方向Ｙは左右方向とも称される。加えて、方向Ｘ及び方向Ｙに直交する方向Ｚは上下方向とも称される。

気体供給装置４は、本体４ａと、本体４ａから外部へ気体を供給する供給口４ｂ（図７参照）と、吸入口４ｃ（図７参照）を備える。供給口４ｂは、分配用バルブユニット５に接続される。例えば、気体供給装置４は、供給口４ｂと、分配用バルブユニット５とを介してメインバルブユニット６へ気体を供給する。このとき、気体供給装置４は、吸入口４ｃを介して外部から気体を吸入する。

図４（ａ）は、分配用バルブユニットを示す斜視図であり、図４（ｂ）は、分配用バルブユニットを示す正面図である。図５（ａ）は、図４（ｂ）のＶａ－Ｖａ線に沿った概略断面図であり、図５（ｂ）は、図４（ｂ）のＶｂ－Ｖｂ線に沿った概略断面図である。図６は、分配用バルブユニットの回路図を示す。図３、図４（ａ），（ｂ）、図５（ａ），（ｂ）及び図６に示される分配用バルブユニット５は、メインバルブユニット６への高圧気体の供給と、メインバルブユニット６からの気体の吸入とを制御する装置である。分配用バルブユニット５は、例えば、気体供給装置４とメインバルブユニット６との間の流路を、気体供給装置４からメインバルブユニット６へ気体が供給される流路などに切り替える装置である。分配用バルブユニット５は、気体供給装置４よりも下流に位置し、メインバルブユニット６よりも上流に位置する。

分配用バルブユニット５は、本体部５０、第１フリーポートＦＰ１、第２フリーポートＦＰ２、第１接続ポートＰ１、第２接続ポートＰ２、第３接続ポートＰ３、及び第４接続ポートＰ４、第１開閉機構５１、及び第２開閉機構５２を有する。

本体部５０は、第１部材５０ａ及び第２部材５０ｂと、第１部材５０ａと第２部材５０ｂとの間に位置するシール部材５０ｃとを有する。第１部材５０ａは、本体部５０における主要部であって、第１フリーポートＦＰ１、第２フリーポートＦＰ２、第１開閉機構５１及び第２開閉機構５２が設けられる。図示しないが、第１部材５０ａにおいて第２部材５０ｂに対向する部分には窪みが設けられ、当該窪みには第１フリーポートＦＰ１と第２フリーポートＦＰ２とが連通する。第２部材５０ｂは、本体部５０における蓋部であって、第１接続ポートＰ１、第２接続ポートＰ２、第３接続ポートＰ３、及び第４接続ポートＰ４が設けられる。シール部材５０ｃは、第１部材５０ａと第２部材５０ｂとの気密性を付与する部材である。

第１部材５０ａ、第２部材５０ｂ、及びシール部材５０ｃは、例えば、図示しない公知の固定手段（嵌合、ネジ止めなど）により互いに固定される。第１部材５０ａおよび第２部材５０ｂは、高圧気体による押圧力、電磁弁によるポートの開閉に伴う押圧力に対して変形が抑制され得るような剛性を有していればよい。第１部材５０ａおよび第２部材５０ｂのそれぞれは、例えば、樹脂材料、セラミック材料、金属材料などにより形成される。シール部材５０ｃは、例えば環状の樹脂部材などである。

分配用バルブユニット５は、方向Ｙに沿って並ぶ第１部分５ａと第２部分５ｂとを有する。第１部分５ａと第２部分５ｂとは、互いに独立している。すなわち、第１部分５ａの内部空間と、第２部分５ｂの内部空間とは、互いに仕切られている。このため、第１部分５ａに流入する気体は、第２部分５ｂに直接的に流入しない。換言すると、分配用バルブユニット５内にて、第１部分５ａ内の気体と、第２部分５ｂ内の気体とは、互いに混合されない。

第１部分５ａは、チャンバＣＡ１（第１チャンバ）、チャンバＣＡ１及びメインバルブユニット６に接続される第１フリーポートＦＰ１、気体供給装置４の供給口４ｂに接続される第１接続ポートＰ１、外部に接続される第２接続ポートＰ２、並びに、第１接続ポートＰ１の開閉及び第２接続ポートＰ２の開閉を制御する第１開閉機構５１を有する。第２部分５ｂは、チャンバＣＡ１とは異なるチャンバＣＡ２（第２チャンバ）、チャンバＣＡ２及びメインバルブユニット６に接続される第２フリーポートＦＰ２、気体供給装置４の供給口４ｂに接続される第３接続ポートＰ３、外部に接続される第４接続ポートＰ４、並びに、第３接続ポートＰ３の開閉及び第４接続ポートＰ４の開閉を制御する第２開閉機構５２を有する。なお、分配用バルブユニット５の外部は、例えば、給排気システム３の外気である。

図５（ａ）に示されるように、チャンバＣＡ１は、第１部分５ａに設けられる内部空間であり、第１フリーポートＦＰ１、第１接続ポートＰ１、及び第２接続ポートＰ２に連通する。チャンバＣＡ１に流入する気体は、第１接続ポートＰ１を介して気体供給装置４から供給され、第１フリーポートＦＰ１を介してメインバルブユニット６に供給される。もしくは、当該気体は、第２接続ポートＰ２を介して外部に排出される。

第１フリーポートＦＰ１は、方向Ｘにおいて給排気システム３の後側に向かって延在するポートであり、チャンバＣＡ１に接続される。第１フリーポートＦＰ１は、例えば、チューブ、タンクなどを介してメインバルブユニット６に接続される。第１接続ポートＰ１と第２接続ポートＰ２とのそれぞれは、方向Ｚにおいて給排気システム３の底側に向かって延在するポートである。第１接続ポートＰ１は、チャンバＣＡ１及び気体供給装置４を接続する部分であり、第２接続ポートＰ２は、チャンバＣＡ１及び外部を接続する部分である。

図５（ｂ）に示されるチャンバＣＡ２は、第２部分５ｂに設けられる内部空間であり、第２フリーポートＦＰ２、第３接続ポートＰ３、及び第４接続ポートＰ４に連通する。チャンバＣＡ２は、チャンバＣＡ１とは独立しており、チャンバＣＡ１と略同一形状を有する。チャンバＣＡ２に流入する気体は、第３接続ポートＰ３を介して気体供給装置４から供給され、第２フリーポートＦＰ２を介してメインバルブユニット６に供給される。もしくは、当該気体は、第４接続ポートＰ４を介して外部に排出される。

第２フリーポートＦＰ２は、方向Ｘにおいて給排気システム３の後側に向かって延在するポートであり、チャンバＣＡ２に接続される。第２フリーポートＦＰ２は、例えば、チューブ、タンクなどを介してメインバルブユニット６に接続される。第３接続ポートＰ３と第４接続ポートＰ４とのそれぞれは、方向Ｚにおいて給排気システム３の底側に向かって延在するポートである。第３接続ポートＰ３は、チャンバＣＡ２及び気体供給装置４を接続する部分であり、第４接続ポートＰ４は、チャンバＣＡ２及び外部を接続する部分である。

第１開閉機構５１は、第１部分５ａのチャンバＣＡ１に流入される気体の流路を切り替える機構であり、第１接続ポートＰ１を開閉するための第１電磁弁Ｖ１と、第２接続ポートＰ２を開閉するための第２電磁弁Ｖ２とを有する。第１電磁弁Ｖ１は、電気で駆動することによって第１接続ポートＰ１を開閉する二方弁である。第２電磁弁Ｖ２は、電気で駆動することによって第２接続ポートＰ２を開閉する二方弁である。本実施形態では、第１電磁弁Ｖ１と第２電磁弁Ｖ２とは、互いに同一構造を有する。

第２開閉機構５２は、第２部分５ｂのチャンバＣＡ２に流入される気体の流路を切り替える機構である。図６に示されるように、第２開閉機構５２は、第３接続ポートＰ３を開閉するための第３電磁弁Ｖ３と、第４接続ポートＰ４を開閉するための第４電磁弁Ｖ４とを有する。本実施形態では、第３電磁弁Ｖ３及び第４電磁弁Ｖ４のそれぞれは、第１電磁弁Ｖ１と同一構造を有する二方弁である。このため、以下では第１電磁弁Ｖ１の構造について説明し、第２電磁弁Ｖ２、第３電磁弁Ｖ３、及び第４電磁弁Ｖ４の説明を割愛する。

第１電磁弁Ｖ１は、弁座Ｖａと、弁体Ｖｂと、電磁石Ｖｃと、付勢体Ｖｄとを有する。弁座Ｖａは、開閉対象となる第１接続ポートＰ１に隣接しており、弁体Ｖｂが当接可能に設けられる部分である。弁座Ｖａは、弁体Ｖｂが当接された際に第１接続ポートＰ１が閉鎖されるように形成される。弁座Ｖａは、例えば、弁体Ｖｂに向かって延在する略円筒台形状を有する。

弁体Ｖｂは、弁座Ｖａと共働して、第１接続ポートＰ１を開閉する部分であり、方向Ｚに沿って延在する棒状部分である。弁体Ｖｂは、例えば、弁座Ｖａに当接する位置と、弁座Ｖａを露出させる位置との間で動作する。弁体Ｖｂは、電磁石Ｖｃの電磁力および付勢体Ｖｄの付勢力によって、方向Ｚに沿って移動可能である。弁体Ｖｂは、電磁石Ｖｃの電磁力によって駆動されるように、鉄などの磁性体を含んでいる。弁座Ｖａに当接する弁体Ｖｂの先端部は、ゴムなどの弾性体によって構成されてもよい。この場合、弁体Ｖｂの先端部が弁座Ｖａに当接する際に、弁体Ｖｂの先端部が弁座Ｖａの形状に追従して変形できる。これにより、弁座Ｖａと弁体Ｖｂとが良好に密着する。

電磁石Ｖｃは、電力が供給されることによって、弁体Ｖｂに電磁力を印加する。電磁石Ｖｃは、本実施形態では、電力が供給された際に、弁座Ｖａから離間する方向に弁体Ｖｂを付勢する電磁力を弁体Ｖｂに印加することができるように構成される。しかし、電磁石Ｖｃは、電力が供給された際に、弁座Ｖａに向かって弁体Ｖｂを付勢する電磁力を弁体Ｖｂに印加することができるように構成されてもよい。電磁石Ｖｃは、特に限定されることはないが、構造の簡易性の観点から、弁体Ｖｂを内部に収容する円筒状のソレノイドコイルを採用することができる。

付勢体Ｖｄは、第１接続ポートＰ１の開状態もしくは閉状態を維持するために、弁体Ｖｂを所定の方向に付勢する。付勢体Ｖｄは、例えば、上記閉状態を維持するために、弁体Ｖｂを弁座Ｖａに向かって付勢する。この場合は、第１電磁弁Ｖ１は、電力が供給されないときに閉状態が維持される常時閉弁となる。付勢体Ｖｄは、上記開状態を維持するために、弁体Ｖｂを弁座Ｖａから離間する方向に付勢してもよい。この場合は、第１電磁弁Ｖ１は、電力が供給されないときに開状態が維持される常時開弁となる。付勢体Ｖｄは、弁体Ｖｂを所定の方向に付勢することができれば、特に限定されることはなく、公知のバネなどであればよい。

図３に戻って、メインバルブユニット６は、分配用バルブユニット５と連動して、マッサージ具２の気体室２１１～２１８，２２１～２２８のそれぞれに高圧気体を供給する流路と、マッサージ具２の気体室２１１～２１８，２２１～２２８のそれぞれから高圧気体を排出する流路とを切り替える装置である。本実施形態では、メインバルブユニット６は、４つの電磁弁ユニット６１～６４を有する。電磁弁ユニット６１～６４は、方向Ｙに沿って順に並ぶ装置であり、少なくとも１つの電磁弁を有する。

本実施形態では、電磁弁ユニット６１～６４のそれぞれは、分配用バルブユニット５と同一構造を有する。このため、電磁弁ユニット６１～６４のそれぞれは、２つのチャンバ（第３チャンバ及び第４チャンバ）と、２つのフリーポートと、４つの接続ポートと、４つの電磁弁（第５電磁弁及び第６電磁弁）とを有する。電磁弁ユニット６１～６４のそれぞれにおいて、各フリーポートは方向Ｚにおいて筐体３０の底側に向かって延在するポートであり、各接続ポートは方向Ｘにおいて筐体３０の前側に向かって延在するポートである。このため方向Ｘにおいて、当該各接続ポートと、分配用バルブユニット５の第１フリーポートＦＰ１及び第２フリーポートＦＰ２とは、互いに反対側に延在する。

図７は、マッサージ具の一部、気体供給装置、分配用バルブユニット、及び１つの電磁弁ユニットの回路図である。図７に示されるように、分配用バルブユニット５には、互いに異なる流路Ｒ１，Ｒ２が設けられる。流路Ｒ１と気体供給装置４との接続は第１電磁弁Ｖ１の開閉によって制御され、流路Ｒ２と気体供給装置４との接続は第３電磁弁Ｖ３の開閉によって制御される。このため、第１電磁弁Ｖ１と第３電磁弁Ｖ３とを制御することによって、流路Ｒ１，Ｒ２は、互いに独立可能になっている。例えば、第１電磁弁Ｖ１を開放しつつ第３電磁弁Ｖ３を閉塞することによって、気体供給装置４は、流路Ｒ１のみに気体を供給できる。このとき、第４電磁弁Ｖ４を開放することにより、流路Ｒ１に気体を供給しつつ、流路Ｒ２内の気体を第４接続ポートＰ４を介して外部に排出できる。また、第３電磁弁Ｖ３を開放しつつ第１電磁弁Ｖ１を閉塞することによって、気体供給装置４は、流路Ｒ２のみに気体を供給できる。このとき、第２電磁弁Ｖ２を開放することにより、流路Ｒ２に気体を供給しつつ、流路Ｒ１内の気体を第２接続ポートＰ２を介して外部に排出できる。なお、流路Ｒ１，Ｒ２のそれぞれには、気圧計などが設けられ得る。

メインバルブユニット６に含まれる電磁弁ユニット６１は、一方のチャンバ（第３部分）、フリーポートＦＰ３、接続ポートＰ１１，Ｐ１２、及び電磁弁Ｖ１１，Ｖ１２（第５電磁弁）を含む部分６１ａ（第３部分）と、他方のチャンバ（第４チャンバ）、フリーポートＦＰ４、接続ポートＰ１３，Ｐ１４、及び電磁弁Ｖ１３，Ｖ１４（第６電磁弁）を含む部分６１ｂ（第４部分）とを有する。部分６１ａ，６１ｂのそれぞれには、内部空間であるチャンバが設けられる。

分配用バルブユニット５の第１部分５ａは、電磁弁ユニット６１の部分６１ａに接続され、分配用バルブユニット５の第２部分５ｂは、電磁弁ユニット６１の部分６１ｂに接続される。具体的には、フリーポートＦＰ３は分配用バルブユニット５の第１フリーポートＦＰ１に接続され、フリーポートＦＰ４は分配用バルブユニット５の第２フリーポートＦＰ２に接続される。このため、部分６１ａは流路Ｒ１の一部を構成し、部分６１ｂは流路Ｒ２の一部を構成すると言える。本実施形態では、電磁弁ユニット６１の部分６１ａに相当する電磁弁ユニット６２～６４の各部分は第１部分５ａに接続され、電磁弁ユニット６１の部分６１ｂに相当する電磁弁ユニット６２～６４の各部分は第２部分５ｂに接続される。

本実施形態では、電磁弁ユニット６１は、第１マッサージ具２１と第２マッサージ具２２との両方に接続される。図７に示されるように、電磁弁ユニット６１において、接続ポートＰ１１，Ｐ１２は気体室２１１，２２１（第１気体室）にそれぞれ接続され、接続ポートＰ１３，Ｐ１４は気体室２１３，２２３（第２気体室）にそれぞれ接続される。気体室２１１，２２１への気体供給もしくは気体室２１１，２２１からの気体排出は、電磁弁Ｖ１１，Ｖ１２によってそれぞれ制御される。気体室２１３，２２３への気体供給もしくは気体室２１３，２２３からの気体排出は、電磁弁Ｖ１３，Ｖ１４によってそれぞれ制御される。

本実施形態では、電磁弁ユニット６２～６４のそれぞれは、電磁弁ユニット６１と同様に、第１マッサージ具２１と第２マッサージ具２２との両方に接続される。例えば、電磁弁ユニット６２に含まれる接続ポートＰ１５～Ｐ１８（図３を参照）は、気体室２１２，２２２，２１４，２２４にそれぞれ接続される。同様に、電磁弁ユニット６３に含まれる接続ポートＰ２１～Ｐ２４（図３を参照）は、気体室２１５，２２５，２１７，２２７にそれぞれ接続され、電磁弁ユニット６４に含まれる接続ポートＰ２５～Ｐ２８（図３を参照）は、気体室２１６，２２６，２１８，２２８にそれぞれ接続される。接続ポートＰ１１～１８，Ｐ２１～２８のそれぞれの開閉は、対応する電磁弁（不図示）によって制御される。なお、接続ポートＰ１５，Ｐ１６，Ｐ２１，Ｐ２２，Ｐ２５，Ｐ２６は流路Ｒ１に接続され、接続ポートＰ１７，Ｐ１８，Ｐ２３，Ｐ２４，Ｐ２７，Ｐ２８は流路Ｒ２に接続される。

マッサージ具２、気体供給装置４、分配用バルブユニット５、及びメインバルブユニット６が上記回路構成を有することによって、例えば、流路Ｒ１を介して気体室２１１，２２１の少なくとも一つに気体を供給しつつ、流路Ｒ２を介して気体室２１３，２２３の少なくとも一つから気体を排出できる。もしくは、流路Ｒ２を介して気体室２１３，２２３の少なくとも一つに気体を供給しつつ、流路Ｒ１を介して気体室２１１，２２１の少なくとも一つから気体を排出できる。

以下では、図７を参照しながら給排気システム３による気体室２１１，２１３，２２１，２２３への気体供給の一例を説明する。まず、気体供給装置４による気体供給中、第１電磁弁Ｖ１を開放すると共に第２電磁弁Ｖ２及び第３電磁弁Ｖ３を閉塞することによって、流路Ｒ１へ選択的に気体が供給される。このとき、電磁弁Ｖ１１を開放すると共に電磁弁Ｖ１２を閉塞することによって、気体室２１１へ選択的に気体が供給される。続いて、電磁弁Ｖ１２を開放すると共に電磁弁Ｖ１１を閉塞することによって、気体室２２１へ選択的に気体が供給される。続いて、第３電磁弁Ｖ３を開放すると共に第１電磁弁Ｖ１及び第４電磁弁Ｖ４を閉塞することによって、流路Ｒ２へ選択的に気体が供給される。このとき、電磁弁Ｖ１３を開放すると共に電磁弁Ｖ１４を閉塞することによって、気体室２１３へ選択的に気体が供給される。続いて、電磁弁Ｖ１４を開放すると共に電磁弁Ｖ１３を閉塞することによって、気体室２２３へ選択的に気体が供給される。

なお、流路Ｒ１に気体が供給されるとき、電磁弁Ｖ１１，Ｖ１２の両方を開放することによって、気体室２１１，２２１の両方に同時に気体が供給される。また、上述したように、接続ポートＰ１５，Ｐ１６，Ｐ２１，Ｐ２２，Ｐ２５，Ｐ２６は流路Ｒ１に接続される。このため、例えば、流路Ｒ１への気体供給中、接続ポートＰ１５の開閉を制御する電磁弁を開放することによって、気体室２１２に気体が供給される。また、流路Ｒ１への気体供給中、電磁弁Ｖ１１に加えて接続ポートＰ１５の開閉を制御する電磁弁を開放することによって、気体室２１１，２１２の両方に気体が供給される。流路Ｒ２も同様である。

以下では、図７を参照しながら、気体室２１１，２１３，２２１，２２３からの排気の一例を説明する。まず、第１電磁弁Ｖ１を閉塞すると共に第２電磁弁Ｖ２を開放することによって、分配用バルブユニット５のチャンバＣＡ１が外部に接続される。このとき、電磁弁Ｖ１１を開放すると共に電磁弁Ｖ１２を閉塞することによって、気体室２１１が選択的に排気される。続いて、電磁弁Ｖ１１を開放すると共に電磁弁Ｖ１２を閉塞することによって、気体室２２１が選択的に排気される。続いて、第３電磁弁Ｖ３を閉塞すると共に第４電磁弁Ｖ４を開放することによって、分配用バルブユニット５のチャンバＣＡ２が外部に接続される。このとき、電磁弁Ｖ１３を開放すると共に電磁弁Ｖ１４を閉塞することによって、気体室２１３が選択的に排気される。続いて、電磁弁Ｖ１４を開放すると共に電磁弁Ｖ１３を閉塞することによって、気体室２２３が選択的に排気される。

なお、分配用バルブユニット５のチャンバＣＡ１が外部に接続されるとき、電磁弁Ｖ１１，Ｖ１２の両方を開放することによって、気体室２１１，２２１の両方が同時に排気される。また、上述したように、接続ポートＰ１５，Ｐ１６，Ｐ２１，Ｐ２２，Ｐ２５，Ｐ２６は流路Ｒ１に接続される。このため、例えば、分配用バルブユニット５のチャンバＣＡ１が外部に接続されるとき、電磁弁Ｖ１１，Ｖ１２だけでなく接続ポートＰ１５，Ｐ１６，Ｐ２１，Ｐ２２，Ｐ２５，Ｐ２６の開閉を制御する電磁弁を開放することによって、気体室２１１，２１２，２１５，２１６，２２１，２２２，２２５，２２６が同時に排気される。また、気体室２１３，２１４，２１７，２１８，２２３，２２４，２２７，２２８も同様に排気可能である。

以下では、上述した気体室２１１～２１８，２２１～２２８への気体供給の説明と、上述した気体室２１１～２１８，２２１～２２８からの気体排出の説明とに基づいて、気体室２１１～２１８，２２１～２２８に対する気体供給及び気体排出の具体例の一つを説明する。まず、気体室２１１～２１８，２２１～２２８の全てが収縮している状態において、流路Ｒ１へ選択的に気体が供給されるように、気体供給装置４による気体供給を実施する。すなわち、分配用バルブユニット５において第１電磁弁Ｖ１のみを開放した後、気体供給装置４による気体供給を実施する。続いて、電磁弁Ｖ１１，Ｖ１２，Ｖ１５，Ｖ１６，Ｖ２１，Ｖ２２，Ｖ２５，Ｖ２６のうち電磁弁Ｖ１１，Ｖ１２のみを開放する。これにより、気体室２１１，２２１に気体を供給し、気体室２１１，２２１を膨張させる。続いて、電磁弁Ｖ１１，Ｖ１２を閉塞して気体室２１１，２２１の膨張状態を維持すると共に、電磁弁Ｖ１５，Ｖ１６を開放する。これにより、気体室２１２，２２２に気体を供給し、気体室２１２，２２２を膨張させる。

続いて、電磁弁Ｖ１５，Ｖ１６を閉塞して気体室２１２，２２２の膨張状態を維持しつつ、流路Ｒ２へ選択的に気体が供給されるように、気体供給装置４による気体供給を実施する。すなわち、第１電磁弁Ｖ１を閉塞して第３電磁弁Ｖ３を開放する。続いて、電磁弁Ｖ１３，Ｖ１４，Ｖ１７，Ｖ１８，Ｖ２３，Ｖ２４，Ｖ２７，Ｖ２８のうち電磁弁Ｖ１３，Ｖ１４のみを開放する。これにより、気体室２１３，２２３に気体を供給し、気体室２１３，２２３を膨張させる。ここで、第２電磁弁Ｖ２及び電磁弁Ｖ１１，Ｖ１２を開放することによって、気体室２１１，２２１から気体を排出する。このため、気体室２１３，２２３に気体を供給しつつ、気体室２１１，２２１から気体が排出される。続いて、電磁弁Ｖ１３，Ｖ１４を閉塞して気体室２１３，２２３の膨張状態を維持すると共に、電磁弁Ｖ１７，Ｖ１８を開放する。これにより、気体室２１４，２２４に気体を供給し、気体室２１２，２２２を膨張させる。ここで、電磁弁Ｖ１３，Ｖ１４も開放することによって、気体室２１２，２２２から気体を排出する。このため、気体室２１４，２２４に気体を供給しつつ、気体室２１２，２２２から気体が排出される。このとき、場合によっては、気体室２１１，２２１からも引き続き気体が排出される。

上記動作に加えて、電磁弁Ｖ２１～Ｖ２８とを電磁弁Ｖ１１～Ｖ１８と同様に動作させることによって、例えば、流路Ｒ１に接続される気体室２１５，２２５に気体を供給しつつ、流路Ｒ２に接続される気体室２１３，２２３から気体が排出される。このような動作を実施することによって、気体室２１１～２１８と気体室２２１～２２８とのそれぞれが、順に膨張、収縮を繰り返すことができる。

図３に戻って、給排気システム３が備える制御装置７は、気体供給装置４、分配用バルブユニット５及びメインバルブユニット６の動作を制御する装置である。制御装置７は、例えば、ＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ Ｕｎｉｔ）と、ＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ Ａｃｃｅｓｓ Ｍｅｍｏｒｙ）と、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ－Ｏｎｌｙ Ｍｅｍｏｒｙ）とを備えている。制御装置７は、例えば、ＲＯＭに格納されている制御プログラムを実行することができるように構成されている。制御プログラムは、例えば、気体室２１１～２１８，２２１～２２８を膨張および収縮させる所望の順番に基づいて、気体供給装置４、分配用バルブユニット５及びメインバルブユニット６を動作させるように記述されている。制御装置７は、給排気システム３の筐体３０内に設けられてもよいし、筐体３０の外部に設けられてもよい。

次に、本実施形態の気体式マッサージ機１の動作を、図８及び図９を参照しながら説明する。図８及び図９のそれぞれは、マッサージ具を用いた揉みパターンの例を示す図である。本明細書では、マッサージ具２の気体室２１１～２１８，２２１～２２８に高圧気体を供給し、または気体室２１１～２１８，２２１～２２８から高圧気体を排出することにより、気体室２１１～２１８，２２１～２２８を膨張または収縮させる順序を「揉みパターン」と呼ぶ。なお、以下に示す気体式マッサージ機１の動作はあくまで一例である。

血液および／またはリンパ液の流れを良くするために身体にマッサージを施す場合、四肢の先端部から胴体に向かう順番で身体を圧迫していくことがある。これに対応するマッサージ具２による揉みパターンとして、図２及び図８に示されるように、気体室２１１から気体室２１８まで順に膨張させ、気体室２２１から気体室２２８まで順に膨張させ、膨張させた気体室２１１～２１８，２２１～２２８の膨張状態を保持した後に（膨張させた気体室２１１～２１８，２２１～２２８を一旦保圧した後に）、膨張させた順に気体室２１１～２１８，２２１～２２８を収縮させるような揉みパターンが考えられる。本明細書では、図８に示される揉みパターンのモードおよびこれに類する揉みパターンのモードを「ウェーブモード（ｗａｖｅ－ｍｏｄｅ）」と呼ぶ。また、図２及び図９に示されるように、気体室２１１，２２１から気体室２１８，２２８まで順に気体室２１１～２１８，２２１～２２８を膨張させ、気体室２１８，２２８を膨張させ終わるまで、気体室２１１～２１７，２２１～２２７の膨張を保持するような揉みパターンが考えられる。本明細書では、図９に示される揉みパターンのモードおよびこれに類する揉みパターンのモードを「スクイーズモード（ｓｑｕｅｅｚｅ－ｍｏｄｅ）」と呼ぶ。

ウェーブモードにおける給排気システム３の動作の具体例と、スクイーズモードにおける給排気システム３の動作の具体例とのそれぞれは、例えば特願２０２０－０８２６０７号に記載される。なお、制御装置７は、上述したウェーブモード及びスクイーズモードに限らず、分配用バルブユニット５及びメインバルブユニット６を制御することによって、さまざまな揉みパターンを実施可能である。

以上に説明した本実施形態に係る給排気システム３を備える気体式マッサージ機１によれば、分配用バルブユニット５に含まれるチャンバＣＡ１とチャンバＣＡ２とは互いに独立し、メインバルブユニット６に含まれる電磁弁ユニット６１の２つのチャンバは互いに独立する。また、チャンバＣＡ１を含む分配用バルブユニット５の第１部分５ａは、一方のチャンバを含む電磁弁ユニット６１の部分６１ａに接続され、チャンバＣＡ２を含む分配用バルブユニット５の第２部分５ｂは、他方のチャンバを含む電磁弁ユニット６１の部分６１ｂに接続される。このため、給排気システム３には２系統の流路Ｒ１，Ｒ２が設けられるので、例えば、第１部分５ａを介して一方のチャンバへの気体供給を実施しつつ、第２部分５ｂを介して他方のチャンバの気体排出が可能になる。加えて、メインバルブユニット６と分配用バルブユニット５とが互いに分離されるので、各バルブユニットの構成を簡易化できる。これにより、メインバルブユニット６を小型化できるので、例えば筐体３０を小型化でき、結果として給排気システム３の小型化も図ることができる。

本実施形態では、第１電磁弁Ｖ１から第４電磁弁Ｖ４と、電磁弁Ｖ１１，Ｖ１２とのそれぞれは、２方弁である。このため、分配用バルブユニット５とメインバルブユニット６との構造をより簡易化できる。

本実施形態では、分配用バルブユニット５と、電磁弁ユニット６１～６４のそれぞれとは、互いに同一構成を有する。このため、給排気システム３内の共通部品点数が多くなるので、コストダウンの実現と共にメンテナンス性を向上できる。

本発明に係る気体式マッサージ機用給排気システム及びそれを備える気体式マッサージ機は、上記実施形態に限定されず、他に様々な変形が可能である。例えば、上記実施形態では、メインバルブユニットは４つの電磁弁ユニットを有するが、これに限られない。電磁弁ユニットの数は、マッサージ具に含まれる気体室の数によって定められてもよい。

上記実施形態では、分配用バルブユニットと電磁弁ユニットとは互いに同一形状を有するが、これに限られない。

上記実施形態では、複数の電磁弁ユニットのそれぞれは、第１マッサージ具と第２マッサージ具との両方に接続されるが、これに限られない。例えば、一部の電磁弁ユニットの一部は第１マッサージ具のみに接続され、その他の電磁弁ユニットは第２マッサージ具のみに接続されてもよい。もしくは、一部の電磁弁ユニットは第１マッサージ具のみに接続され、別の一部の電磁弁ユニットは第２マッサージ具のみに接続され、さらに別の電磁弁ユニットは第１マッサージ具と第２マッサージ具との両方に接続されてもよい。

上記実施形態では、各電磁弁ユニットの各接続ポートは、対応する１つの気体室に接続されるが、これに限られない。例えば、各接続ポートは、２つ以上の気体室に接続されてもよい。この場合、１つの接続ポートは、第１マッサージ具の１つの空気室と、第２マッサージ具の１つの空気室との両方に設けられてもよい。この場合であっても、上記実施形態と同様の動作が可能である。

上記実施形態では、複数の電磁弁ユニットのそれぞれにおいて、一方の部分に含まれる２つの接続ポートのうち、一方の接続ポートは第１マッサージ具に接続され、他方の接続ポートは第２マッサージ具に接続されるが、これに限られない。例えば、一方の部分は第１マッサージ具及び第２マッサージ具の一方に接続され、他方の部分は第１マッサージ具及び第２マッサージ具の他方に接続されてもよい。

１…気体式マッサージ機、２…マッサージ具、３…給排気システム（気体式マッサージ機用給排気システム）、４…気体供給装置、４ｂ…供給口、４ｃ…吸入口、５…分配用バルブユニット、５ａ…第１部分、５ｂ…第２部分、６…メインバルブユニット、７…制御装置、２１…第１マッサージ具、２２…第２マッサージ具、３０…筐体、５１…第１開閉機構、５２…第２開閉機構、６１～６４…電磁弁ユニット、６１ａ…部分（第３部分）、６１ｂ…部分（第２部分）、２１１～２１８，２２１～２２８…気体室、ＣＡ１…チャンバ（第１チャンバ）、ＣＡ２…チャンバ（第２チャンバ）、ＦＰ１…第１フリーポート、ＦＰ２…第２フリーポート、ＦＰ３，ＦＰ４…フリーポート、Ｐ１…第１接続ポート、Ｐ２…第２接続ポート、Ｐ３…第３接続ポート、Ｐ４…第４接続ポート、Ｖ１…第１電磁弁、Ｖ２…第２電磁弁、Ｖ３…第３電磁弁、Ｖ４…第４電磁弁、Ｖ１１，Ｖ１２…電磁弁（第５電磁弁）、Ｖ１３，Ｖ１４…電磁弁（第６電磁弁）。

Claims (5)

1. 気体供給装置と、
   前記気体供給装置に接続される分配用バルブユニットと、
   前記分配用バルブユニットに接続されるメインバルブユニットと、
   を備え、
   前記分配用バルブユニットは、
   第１チャンバ、前記第１チャンバに接続される第１フリーポート、前記第１チャンバ及び前記気体供給装置を接続する第１接続ポート、前記第１チャンバ及び外部を接続する第２接続ポート、前記第１接続ポートの開閉を制御する第１電磁弁、並びに、前記第２接続ポートの開閉を制御する第２電磁弁を有する第１部分と、
   前記第１チャンバに対して独立する第２チャンバ、前記第２チャンバに接続される第２フリーポート、前記第２チャンバ及び前記気体供給装置を接続する第３接続ポート、前記第２チャンバ及び外部を接続する第４接続ポート、前記第３接続ポートの開閉を制御する第３電磁弁、並びに、前記第４接続ポートの開閉を制御する第４電磁弁を有する第２部分と、を備え、
   前記メインバルブユニットは、第３チャンバ、前記第３チャンバに接続される第３フリーポート、及び少なくとも一つの第５電磁弁を含む第３部分と、前記第３チャンバに対して独立する第４チャンバ、前記第４チャンバに接続される第４フリーポート、及び少なくとも一つの第６電磁弁を含む第４部分とを有する複数の電磁弁ユニットを備え、
   前記第１部分の前記第１フリーポートは、前記複数の電磁弁ユニットのそれぞれに含まれる前記第３部分の前記第３フリーポートに接続され、
   前記第２部分の前記第２フリーポートは、前記複数の電磁弁ユニットのそれぞれに含まれる前記第４部分の前記第４フリーポートに接続される、
   気体式マッサージ機用給排気システム。
2. 前記第１電磁弁から前記第６電磁弁のそれぞれは、２方弁である、請求項１に記載の気体式マッサージ機用給排気システム。
3. 前記第１部分と前記第２部分とは、互いに同一構造を有する、請求項１または２に記載の気体式マッサージ機用給排気システム。
4. 前記分配用バルブユニットと、前記複数の電磁弁ユニットのそれぞれとは、互いに同一構成を有する、請求項１～３のいずれか一項に記載の気体式マッサージ機用給排気システム。
5. 請求項１～４のいずれか一項に記載の気体式マッサージ機用給排気システムと、
   前記気体供給装置から気体が供給される複数の気体室を有するマッサージ具と、
   を備え、
   前記第３部分は、前記第５電磁弁によって開閉が制御されると共に前記第３チャンバに接続される接続ポートを有し、
   前記第４部分は、前記第６電磁弁によって開閉が制御されると共に前記第４チャンバに接続される接続ポートを有し、
   前記複数の気体室は、前記第３部分の前記接続ポートに接続される第１気体室と、前記第４部分の前記接続ポートに接続される第２気体室とを有する、
   気体式マッサージ機。

Images