JP7210350B2 - Method for producing phosphonic acid derivative - Google Patents
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Description
本発明は、ホスホン酸誘導体の製造方法に関する。より詳細には、本発明は、エステル基含有ホスホン酸誘導体を酸触媒の存在下で反応させて、ホスホン酸誘導体を製造する方法に関する。 The present invention relates to a method for producing phosphonic acid derivatives. More particularly, the present invention relates to a method for producing a phosphonic acid derivative by reacting an ester group-containing phosphonic acid derivative in the presence of an acid catalyst.
有機リン化合物は、例えば、難燃剤、可塑剤、殺虫剤、医農薬、金属錯体の配位子等の様々な製品に幅広く使用されている化学物質である。近年、有機リン化合物は、機能性材料として金属表面処理剤、及び難燃性樹脂等の構成材料や電子材料分野においても、工業的に特に注目されている。 Organophosphorus compounds are chemical substances that are widely used in various products such as flame retardants, plasticizers, insecticides, pharmaceuticals and agricultural chemicals, and ligands for metal complexes. In recent years, organophosphorus compounds have been attracting particular industrial attention as functional materials in the fields of constituent materials such as metal surface treatment agents and flame-retardant resins, and electronic materials.
有機リン化合物の中でも、ホスホン酸誘導体は、上記の様々な化学物質の有用な前駆体物質であるため、従来から様々な製造方法が検討されてきた。例えば、非特許文献1では、アルキルホスホン酸誘導体を濃塩酸の存在下で、還流させながら加水分解反応を行うことが提案されている。 Among organic phosphorus compounds, phosphonic acid derivatives are useful precursors of the various chemical substances described above, and thus various production methods have been investigated. For example, Non-Patent Document 1 proposes to hydrolyze an alkylphosphonic acid derivative in the presence of concentrated hydrochloric acid while refluxing.
しかしながら、非特許文献1に記載の製造方法では、腐食性のある濃塩酸の存在下で還流させながら反応を行っており、厳しい反応条件の管理が要求される。また、高い絶縁性が要求される電子材料分野に用いるためには、ハロゲンやメタルをppmやppbレベルの低濃度に管理する必要がある。非特許文献1に記載のような従来の製造方法では、ハロゲン化水素(塩酸等)や金属触媒(パラジウムや水酸化ナトリウム等)を使用する手法がほとんどであるため、生成物の精製が必要であった。そのため、ハロゲンやメタルをppmやppbレベルの低濃度まで容易に低減できる製造法が無かった。さらに、副生成物として有毒性の塩化アルキルが生じる。 However, in the production method described in Non-Patent Document 1, the reaction is carried out under reflux in the presence of corrosive concentrated hydrochloric acid, and strict management of reaction conditions is required. Moreover, in order to use it in the field of electronic materials that require high insulation properties, it is necessary to control the concentration of halogens and metals to a low concentration of ppm or ppb level. In the conventional production method as described in Non-Patent Document 1, most of the methods use hydrogen halide (hydrochloric acid, etc.) or metal catalysts (palladium, sodium hydroxide, etc.), so purification of the product is necessary. there were. Therefore, there has been no production method that can easily reduce the concentration of halogens and metals to low concentrations of ppm and ppb levels. In addition, toxic alkyl chlorides are produced as by-products.
したがって、本発明の目的は、ハロゲン化水素や金属触媒を用いずに、比較的穏やかな反応条件下で反応が進行する、ホスホン酸誘導体の製造方法を提供することにある。 Accordingly, an object of the present invention is to provide a method for producing a phosphonic acid derivative in which the reaction proceeds under relatively mild reaction conditions without using hydrogen halide or metal catalysts.
本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討を行った結果、エステル基含有ホスホン酸誘導体を、超強酸触媒の存在下、溶媒中もしくは無溶媒で反応させることで、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。 As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors solved the above problems by reacting an ester group-containing phosphonic acid derivative in the presence of a super-strong acid catalyst in a solvent or without a solvent. I found that it can be done, and came to complete the present invention.
すなわち、本発明によれば、以下の発明が提供される。
[1] 下記一般式(1):
nは1~3、mは0~2、oは0~1の自然数であり、n+m+o=3である)
で表されるホスホン酸誘導体の製造方法であって、
下記一般式(2):
nは1~3、mは0~2、oは0~1の自然数であり、n+m+o=3である)
で表されるホスホン酸誘導体を、超強酸触媒の存在下、溶媒中もしくは無溶媒で反応させる工程を含む、ホスホン酸誘導体の製造方法。
[2] 前記超強酸は、25℃での酸解離定数が100%硫酸よりも小さい酸である、[1]に記載の製造方法。
[3] 前記超強酸が、トリフルオロメタンスルホン酸、フルオロスルホン酸、フルオロメタンスルホン酸、および末端にパーフルオロスルホン酸基を有するフッ素系樹脂からなる群から選択される少なくとも1種からなる群から選択される少なくとも1種である、[1]または[2]に記載の製造方法。
[4] 式(1)中、R1、およびR2はそれぞれ独立して、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、およびアルコキシ基からなる群から選択され、
式(2)中、R3、R4、およびR5はそれぞれ独立して、アルキル基、アルケニル基、アリール基、およびアラルキル基からなる群から選択される、[1]~[3]のいずれかに記載の製造方法。
[5] 式(1)中、R1は、ビニル基またはフェニル基であり、R2は、メトキシ基、エトキシ基、およびアリル基からなる群から選択され、
式(2)中、R3は、ビニル基またはフェニル基であり、R4は、メトキシ基、エトキシ基、およびアリル基からなる群から選択され、R5は、イソプロピル基、tert-ブチル基、ベンジル基、メチルフェニルメチル基、およびアリル基からなる群から選択される、[1]~[4]のいずれかに記載の製造方法。
[6] 前記溶媒が、有機溶媒である、[1]~[5]のいずれかに記載の製造方法。
[7] 前記有機溶媒が、芳香族炭化水素である、[6]に記載の製造方法。
[8] 前記芳香族炭化水素が、ベンゼンおよび/またはトルエンである、[7]に記載の製造方法。
That is, according to the present invention, the following inventions are provided.
[1] the following general formula (1):
n is 1 to 3, m is 0 to 2, o is a natural number of 0 to 1, and n + m + o = 3)
A method for producing a phosphonic acid derivative represented by
The following general formula (2):
n is 1 to 3, m is 0 to 2, o is a natural number of 0 to 1, and n + m + o = 3)
A method for producing a phosphonic acid derivative, comprising the step of reacting a phosphonic acid derivative represented by in the presence of a superacid catalyst in a solvent or in the absence of a solvent.
[2] The production method according to [1], wherein the superacid has an acid dissociation constant at 25°C lower than that of 100% sulfuric acid.
[3] The superacid is selected from the group consisting of at least one selected from the group consisting of trifluoromethanesulfonic acid, fluorosulfonic acid, fluoromethanesulfonic acid, and fluorine-based resins having perfluorosulfonic acid groups at their terminals. The production method according to [1] or [2], wherein at least one of the
[4] In formula (1), R 1 and R 2 are each independently selected from the group consisting of an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, an aralkyl group, and an alkoxy group;
In formula (2), R 3 , R 4 and R 5 are each independently selected from the group consisting of alkyl groups, alkenyl groups, aryl groups and aralkyl groups, any of [1] to [3] The manufacturing method according to
[5] in formula (1), R 1 is a vinyl group or a phenyl group, R 2 is selected from the group consisting of a methoxy group, an ethoxy group, and an allyl group;
In formula (2), R 3 is a vinyl group or a phenyl group, R 4 is selected from the group consisting of a methoxy group, an ethoxy group and an allyl group, R 5 is an isopropyl group, a tert-butyl group, The production method according to any one of [1] to [4], wherein the group is selected from the group consisting of a benzyl group, a methylphenylmethyl group and an allyl group.
[6] The production method according to any one of [1] to [5], wherein the solvent is an organic solvent.
[7] The production method according to [6], wherein the organic solvent is an aromatic hydrocarbon.
[8] The production method according to [7], wherein the aromatic hydrocarbon is benzene and/or toluene.
本発明によれば、ハロゲン化水素や金属触媒を用いずに、比較的穏やかな反応条件下で反応が進行する、ホスホン酸誘導体の製造方法を提供することができる。 INDUSTRIAL APPLICABILITY According to the present invention, it is possible to provide a method for producing a phosphonic acid derivative in which the reaction proceeds under relatively mild reaction conditions without using hydrogen halide or a metal catalyst.
[ホスホン酸誘導体の製造方法]
本発明のホスホン酸誘導体の製造方法は、エステル基含有ホスホン酸誘導体を、超強酸触媒の存在下、溶媒中もしくは無溶媒で反応させる工程を含むものである。
[Method for producing phosphonic acid derivative]
The method for producing a phosphonic acid derivative of the present invention comprises a step of reacting an ester group-containing phosphonic acid derivative in the presence of a super-strong acid catalyst in a solvent or without a solvent.
[反応工程]
(エステル基含有ホスホン酸誘導体)
反応工程で用いる原料のエステル基含有ホスホン酸誘導体は、下記一般式(2):
nは1~3、mは0~2、oは0~1の自然数であり、n+m+o=3である)
で表されるエステル基含有ホスホン酸誘導体である。
[Reaction step]
(Ester group-containing phosphonic acid derivative)
The starting ester group-containing phosphonic acid derivative used in the reaction step has the following general formula (2):
n is 1 to 3, m is 0 to 2, o is a natural number of 0 to 1, and n + m + o = 3)
is an ester group-containing phosphonic acid derivative represented by
本発明の反応工程において、原料であるホスホン酸誘導体のエステル基(OR5)をヒドロキシ基に変換する。エステル基(OR5)が2つ以上存在する場合、それらの全てをヒドロキシ基に変換してもよいし、それらの一部のみをヒドロキシ基に選択的に変換してもよい。エステル基からヒドロキシ基への選択的な変換は、エステル基のR5の中で、離脱させるエステル基と残留させるエステル基の構造によって調節することができる。 In the reaction step of the present invention, the ester group (OR 5 ) of the starting phosphonic acid derivative is converted to a hydroxy group. When two or more ester groups (OR 5 ) are present, all of them may be converted to hydroxy groups, or only some of them may be selectively converted to hydroxy groups. Selective conversion of an ester group to a hydroxy group can be controlled by the structures of the leaving and remaining ester groups in R 5 of the ester group.
上記式(2)中、R3、R4、およびR5の炭化水素基としては、炭素原子数1~10の炭化水素基が挙げられる。なお、上記炭素原子数に置換基の炭素原子数は含まれない。炭素原子数1~10の炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等のアルキル基、ビニル基、1-プロペニル基、アリル基、1-ブテニル基、2-ブテニル基、1,3-ブタジエニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基等のアルケニル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等のアリール基、ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基等が挙げられる。 In the above formula (2), examples of hydrocarbon groups for R 3 , R 4 and R 5 include hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms. In addition, the number of carbon atoms of the substituent is not included in the above number of carbon atoms. Examples of hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms include alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, pentyl group and hexyl group, Alkenyl groups such as vinyl group, 1-propenyl group, allyl group, 1-butenyl group, 2-butenyl group, 1,3-butadienyl group, pentenyl group, hexenyl group, phenyl group, tolyl group, xylyl group, naphthyl group, etc. aryl group, benzyl group, aralkyl group such as phenethyl group, and the like.
上記式(2)中、R3、R4、およびR5の炭化水素基が有してもよい置換基としては、例えば、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルキルオキシ基、複素環基、アルキリデン基、アミノ基、シリル基、アシル基、アシルオキシ基、カルボキシ基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、およびオキソ基等が挙げられる。置換基として用いられる複素環としては、例えば、チエニル基、ピロリル基、フリル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジル基、ピラジニル基、トリアジニル基、ピロリジル基、ピペリジル基、キノリル基、およびイソキノリル基等が挙げられる。また、置換基に含まれる炭素原子数は1~12であることが好ましい。 In the above formula (2), the substituents that the hydrocarbon groups of R 3 , R 4 and R 5 may have include, for example, an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, a cycloalkyloxy group and a heterocyclic ring. groups, alkylidene groups, amino groups, silyl groups, acyl groups, acyloxy groups, carboxy groups, cyano groups, nitro groups, hydroxy groups, mercapto groups, oxo groups and the like. Examples of heterocyclic rings used as substituents include thienyl, pyrrolyl, furyl, pyridyl, pyridazinyl, pyrimidyl, pyrazinyl, triazinyl, pyrrolidyl, piperidyl, quinolyl, and isoquinolyl groups. mentioned. Also, the number of carbon atoms contained in the substituent is preferably 1 to 12.
上記式(2)中、R3は、ビニル基またはフェニル基であることが好ましい。
上記式(2)中、R4は、メトキシ基、エトキシ基、またはアリル基であることが好ましい。
上記式(2)中、R5は、イソプロピル基、tert-ブチル基、ベンジル基、メチルフェニルメチル基、またはアリル基であることが好ましい。
In formula (2) above, R 3 is preferably a vinyl group or a phenyl group.
In formula (2) above, R 4 is preferably a methoxy group, an ethoxy group, or an allyl group.
In formula (2) above, R 5 is preferably an isopropyl group, a tert-butyl group, a benzyl group, a methylphenylmethyl group, or an allyl group.
上記式(2)中、nは1~2、mは1~2、oは0~1の自然数であることが好ましい。 In the above formula (2), n is preferably a natural number of 1-2, m is a natural number of 1-2, and o is a natural number of 0-1.
上記式(2)で表されるホスホン酸誘導体の具体例としては、例えば、下記式で表される化合物が挙げられる。
(酸触媒)
反応工程においては酸触媒として超強酸を用いる。超強酸とは、25℃での酸解離定数(pKa)が100%硫酸(pKa=-3.0)よりも小さい酸である。本発明で用いる超強酸の25℃での酸解離定数(pKa)は、-3.5以下であることが好ましく、-4.0以下であることがより好ましく、-5.0以下であることがさらに好ましい。
(acid catalyst)
A superacid is used as an acid catalyst in the reaction step. A superacid is an acid whose acid dissociation constant (pKa) at 25° C. is smaller than that of 100% sulfuric acid (pKa=−3.0). The acid dissociation constant (pKa) at 25° C. of the superacid used in the present invention is preferably −3.5 or less, more preferably −4.0 or less, and −5.0 or less. is more preferred.
反応工程で用いる酸触媒は、均一系触媒であっても、不均一系触媒であってもよい。均一系触媒の超強酸としては、トリフルオロメタンスルホン酸、フルオロスルホン酸、およびフルオロメタンスルホン酸が挙げられる。また、不均一系触媒としては、末端にパーフルオロスルホン酸基を有するフッ素系樹脂が挙げられる。このようなパーフルオロカーボン材料としては、疎水性テフロン骨格とスルホン酸基を有するパーフルオロ側鎖とを備えるパーフルオロカーボン材料(テトラフルオロエチレンとパーフルオロ[2-(フルオロスルホニルエトキシ)プロピルビニルエーテルの共重合体)や、市販品のナフィオン(登録商標)を用いることができる。 The acid catalyst used in the reaction step may be a homogeneous catalyst or a heterogeneous catalyst. Homogeneous catalyst superacids include trifluoromethanesulfonic acid, fluorosulfonic acid, and fluoromethanesulfonic acid. In addition, examples of heterogeneous catalysts include fluorine-based resins having perfluorosulfonic acid groups at their terminals. Examples of such a perfluorocarbon material include a perfluorocarbon material having a hydrophobic Teflon skeleton and a perfluoro side chain having a sulfonic acid group (copolymer of tetrafluoroethylene and perfluoro[2-(fluorosulfonylethoxy)propyl vinyl ether ) or commercially available Nafion (registered trademark).
反応工程における超強酸の使用量は、特に限定されないが、反応効率や反応速度を考慮して、ホスホン酸誘導体1モル当量に対して、好ましくは0.01~10モル当量であり、より好ましくは0.1~2.5モル当量であり、さらに好ましくは0.2~0.5~0.2モル当量である。 The amount of the superacid used in the reaction step is not particularly limited, but in consideration of reaction efficiency and reaction rate, it is preferably 0.01 to 10 molar equivalents, more preferably 0.01 to 10 molar equivalents, relative to 1 molar equivalent of the phosphonic acid derivative. It is 0.1 to 2.5 molar equivalents, more preferably 0.2 to 0.5 to 0.2 molar equivalents.
(溶媒)
本発明においては、反応工程は、溶媒中で行ってもよいし、無溶媒で行ってもよい。溶媒を用いる場合には、反応温度条件で液体の状態で存在する有機溶媒であれば用いることができ、例えば、エーテル類、炭化水素、ケトン類等が挙げられ、芳香族炭化水素を用いることが好ましい。
(solvent)
In the present invention, the reaction step may be carried out in a solvent or without a solvent. When a solvent is used, any organic solvent that exists in a liquid state under the reaction temperature conditions can be used. preferable.
従来、ホスホン酸誘導体のエステル基をヒドロキシ基に変換する方法としては、水を溶媒として加水分解反応が行われていたが、副生成物の発生、副次的な可燃性ガスの発生、水の除去工程が必要となる等の様々な問題が生じていた。本発明においては、非水系で反応を行うことで、反応後の水の除去工程を行う必要がなくなるため、プロセスを簡略化することができる。さらに、本発明においては、溶媒として芳香族炭化水素を用い、酸触媒として超強酸を用いることで、副生物の可燃性ガスが超強酸を触媒としたFriedel-Crafts反応により、芳香族炭化水素(ベンジルエステルの場合は脱離した副生物同士で反応。)に捕捉され、高沸点成分へ変換することができる。そのため、低沸点の可燃性ガスが発生せず、ガス成分の処理が必要ない。 Conventionally, the method for converting the ester group of a phosphonic acid derivative into a hydroxy group has involved a hydrolysis reaction using water as a solvent. Various problems have arisen, such as the need for a removal process. In the present invention, by carrying out the reaction in a non-aqueous system, the process can be simplified because there is no need to perform a step of removing water after the reaction. Furthermore, in the present invention, an aromatic hydrocarbon ( In the case of benzyl esters, the released by-products react with each other.) and can be converted to high-boiling components. Therefore, no combustible gas with a low boiling point is generated, and there is no need to treat gas components.
芳香族炭化水素としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等が挙げられる。これらの中でも、ベンゼンおよびトルエンを用いることが好ましい。ベンゼンやトルエンを用いることで、副生物を効率よくトラップすることができる。これらの有機溶媒は1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合溶媒として用いてもよい。 Examples of aromatic hydrocarbons include benzene, toluene, xylene, ethylbenzene and the like. Among these, it is preferable to use benzene and toluene. By using benzene or toluene, by-products can be efficiently trapped. One of these organic solvents may be used alone, or two or more thereof may be used as a mixed solvent.
反応工程における溶媒の使用量は、特に限定されず、反応操作や後処理に好適な量であればよい。溶媒の使用量は、質量基準で、好ましくは原料のホスホン酸誘導体の質量の0.1~10倍程度であり、より好ましくは1.0~5倍程度である。 The amount of the solvent used in the reaction step is not particularly limited, and may be any amount suitable for the reaction operation and post-treatment. The amount of the solvent to be used is preferably about 0.1 to 10 times, more preferably about 1.0 to 5 times, the mass of the starting phosphonic acid derivative, on a mass basis.
(反応条件)
反応工程における反応温度は、特に限定されないが、反応効率や反応速度、副生成物を考慮して、例えば、40℃~120℃程度であり、好ましくは50℃~120℃であり、より好ましくは60℃~120℃である。
(Reaction conditions)
The reaction temperature in the reaction step is not particularly limited, but is, for example, about 40° C. to 120° C., preferably 50° C. to 120° C., more preferably about 40° C. to 120° C. in consideration of reaction efficiency, reaction rate, and by-products. 60°C to 120°C.
反応工程における反応時間は、特に限定されないが、反応効率や反応速度、副生成物を考慮して、例えば、10分~48時間程度であり、好ましくは30分~36時間であり、より好ましくは1時間~24時間である。 The reaction time in the reaction step is not particularly limited, but is, for example, about 10 minutes to 48 hours, preferably 30 minutes to 36 hours, more preferably about 30 minutes to 36 hours, in consideration of reaction efficiency, reaction rate, and by-products. 1 hour to 24 hours.
反応工程は、反応効率や反応速度、副生成物を考慮して、不活性ガス雰囲気下で実施することが好ましい。不活性ガスとしては、窒素、アルゴン等を用いることが好ましい。 The reaction step is preferably carried out under an inert gas atmosphere in consideration of reaction efficiency, reaction rate and by-products. Nitrogen, argon, or the like is preferably used as the inert gas.
(反応生成物)
上記の反応工程で得られた生成物は、下記一般式(1):
nは1~3、mは0~2、oは0~1の自然数であり、n+m+o=3である)
で表されるホスホン酸誘導体である。
(reaction product)
The product obtained in the above reaction step has the following general formula (1):
n is 1 to 3, m is 0 to 2, o is a natural number of 0 to 1, and n + m + o = 3)
is a phosphonic acid derivative represented by
上記式(1)中、R1およびR2の炭化水素基としては、炭素原子数1~10の炭化水素基が挙げられる。なお、上記炭素原子数に置換基の炭素原子数は含まれない。炭素原子数1~10の炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等のアルキル基、ビニル基、1-プロペニル基、アリル基、1-ブテニル基、2-ブテニル基、1,3-ブタジエニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基等のアルケニル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等のアリール基、ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基、およびメトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基等が挙げられる。 In formula (1) above, examples of the hydrocarbon groups for R 1 and R 2 include hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms. In addition, the number of carbon atoms of the substituent is not included in the above number of carbon atoms. Examples of hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms include alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, pentyl group and hexyl group, Alkenyl groups such as vinyl group, 1-propenyl group, allyl group, 1-butenyl group, 2-butenyl group, 1,3-butadienyl group, pentenyl group, hexenyl group, phenyl group, tolyl group, xylyl group, naphthyl group, etc. aralkyl groups such as aryl groups, benzyl groups and phenethyl groups, and alkoxy groups such as methoxy groups and ethoxy groups.
上記式(1)中、R1およびR2の炭化水素基が有してもよい置換基としては、例えば、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルキルオキシ基、複素環基、アルキリデン基、アミノ基、シリル基、アシル基、アシルオキシ基、カルボキシ基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、およびオキソ基等が挙げられる。置換基として用いられる複素環としては、例えば、チエニル基、ピロリル基、フリル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジル基、ピラジニル基、トリアジニル基、ピロリジル基、ピペリジル基、キノリル基、およびイソキノリル基等が挙げられる。また、置換基に含まれる炭素原子数は1~12であることが好ましい。 In the above formula (1), the substituents that the hydrocarbon groups represented by R 1 and R 2 may have include, for example, an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, a cycloalkyloxy group, a heterocyclic group, and an alkylidene group. , amino group, silyl group, acyl group, acyloxy group, carboxy group, cyano group, nitro group, hydroxy group, mercapto group, and oxo group. Examples of heterocyclic rings used as substituents include thienyl, pyrrolyl, furyl, pyridyl, pyridazinyl, pyrimidyl, pyrazinyl, triazinyl, pyrrolidyl, piperidyl, quinolyl, and isoquinolyl groups. mentioned. Also, the number of carbon atoms contained in the substituent is preferably 1 to 12.
上記式(1)中、R1は、ビニル基またはフェニル基であることが好ましい。
上記式(1)中、R2は、メトキシ基、エトキシ基、またはアリル基であることが好ましい。
In formula (1) above, R 1 is preferably a vinyl group or a phenyl group.
In formula (1) above, R 2 is preferably a methoxy group, an ethoxy group, or an allyl group.
上記式(1)中、nは1~2、mは1~2、oは0~1の自然数であることが好ましい。 In the above formula (1), n is preferably a natural number of 1-2, m is a natural number of 1-2, and o is a natural number of 0-1.
上記式(1)で表されるホスホン酸誘導体の具体例としては、例えば、下記式で表される化合物が挙げられる。
(収率)
本発明のホスホン酸誘導体の製造方法によって得られるホスホン酸誘導体の収率は、原料のエステル基含有ホスホン酸誘導体に対してモル基準で、60%以上であることが好ましく、70%以上であることがより好ましく、80%以上であることがさらに好ましく、90%以上であることがさらにより好ましい。
(yield)
The yield of the phosphonic acid derivative obtained by the method for producing a phosphonic acid derivative of the present invention is preferably 60% or more, preferably 70% or more, on a molar basis with respect to the raw material ester group-containing phosphonic acid derivative. is more preferably 80% or more, and even more preferably 90% or more.
以下に実施例および比較例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。 EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to these Examples.
[実施例1]
窒素雰囲気下、反応容器中に表1の出発物質に記載のエステル基含有ホスホン酸誘導体1.28mmolと、トルエン1mLを加えよく攪拌した。次いで、トリフルオロメタンスルホン酸(TfOH)60μLを加え、100℃で24時間反応させて、表1の目的物質に記載のホスホン酸誘導体を得た。得られたホスホン酸誘導体の収率を、31P NMRで測定したところ、98%であった。なお、反応の副生成物は、トルエンと反応し、メチルアリルベンゼン(オルト体、パラ体の混合物)が生成した。
[Example 1]
In a nitrogen atmosphere, 1.28 mmol of the ester group-containing phosphonic acid derivative described in Table 1 as the starting material and 1 mL of toluene were added to the reactor and stirred well. Then, 60 μL of trifluoromethanesulfonic acid (TfOH) was added and reacted at 100° C. for 24 hours to obtain the phosphonic acid derivative shown in Table 1 as the target substance. The yield of the obtained phosphonic acid derivative was 98% as measured by 31 P NMR. A by-product of the reaction reacted with toluene to produce methylallylbenzene (a mixture of ortho- and para-isomers).
[実施例2]
酸触媒の使用量を30μL用いて、120℃で反応させた以外は、実施例1と同様にして、表1の目的物質に記載のホスホン酸誘導体を得た。得られたホスホン酸誘導体の収率を、31P NMRで測定したところ、100%であった。なお、反応の副生成物は、トルエンと反応し、メチルアリルベンゼン(オルト体、パラ体の混合物)が生成した。
[Example 2]
Phosphonic acid derivatives listed in Table 1 as target substances were obtained in the same manner as in Example 1, except that the acid catalyst was used in an amount of 30 µL and the reaction was carried out at 120°C. The yield of the obtained phosphonic acid derivative was 100% as measured by 31 P NMR. A by-product of the reaction reacted with toluene to produce methylallylbenzene (a mixture of ortho- and para-isomers).
[実施例3]
溶媒としてトルエンの代わりにベンゼンを用いた以外は実施例2と同様にして、表1の目的物質に記載のホスホン酸誘導体を得た。得られたホスホン酸誘導体の収率を、31P NMRで測定したところ、100%であった。なお、反応の副生成物は、ベンゼンと反応しアリルベンゼンが生成した。
[Example 3]
Phosphonic acid derivatives described in Table 1 as target substances were obtained in the same manner as in Example 2, except that benzene was used instead of toluene as the solvent. The yield of the obtained phosphonic acid derivative was 100% as measured by 31 P NMR. Incidentally, the by-product of the reaction reacted with benzene to produce allylbenzene.
[実施例4]
酸触媒としてTfOHを15μL用いて、120℃で反応させた以外は、実施例1と同様にして、表1の目的物質に記載のホスホン酸誘導体を得た。得られたホスホン酸誘導体の収率を、31P NMRで測定したところ、88%であった。なお、反応の副生成物は、トルエンと反応し、メチルアリルベンゼン(オルト体、パラ体の混合物)が生成した。
[Example 4]
Phosphonic acid derivatives listed in Table 1 as target substances were obtained in the same manner as in Example 1, except that 15 μL of TfOH was used as an acid catalyst and the reaction was carried out at 120°C. The yield of the obtained phosphonic acid derivative was 88% as measured by 31 P NMR. A by-product of the reaction reacted with toluene to produce methylallylbenzene (a mixture of ortho- and para-isomers).
[実施例5]
溶媒を添加せずに、酸触媒としてTfOHを150μL用いて、80℃で反応させた以外は、実施例1と同様にして、表1の目的物質に記載のホスホン酸誘導体を得た。得られたホスホン酸誘導体の収率を、31P NMRで測定したところ、98%であった。
[Example 5]
Phosphonic acid derivatives listed in Table 1 as target substances were obtained in the same manner as in Example 1, except that 150 μL of TfOH was used as an acid catalyst and the reaction was carried out at 80° C. without adding a solvent. The yield of the obtained phosphonic acid derivative was 98% as measured by 31 P NMR.
[実施例6]
酸触媒としてTfOHの代わりに下記式で表される末端にパーフルオロスルホン酸基を有するフッ素系樹脂(固体触媒、ナフィオン)を用いた以外は、実施例5と同様にして、表1の目的物質に記載のホスホン酸誘導体を得た。得られたホスホン酸誘導体の収率を、31P NMRで測定したところ、98%であった。
The target substance in Table 1 was obtained in the same manner as in Example 5 except that a fluororesin having a perfluorosulfonic acid group at the end represented by the following formula (solid catalyst, Nafion) represented by the following formula was used as the acid catalyst instead of TfOH. to obtain the phosphonic acid derivative described in . The yield of the obtained phosphonic acid derivative was 98% as measured by 31 P NMR.
[比較例1]
酸触媒としてTfOH15μLを用い、溶媒としてトルエンの代わりに水を用いて、140℃で38時間反応させた以外は、実施例1と同様にして、表1の目的物質に記載のホスホン酸誘導体を得た。得られたホスホン酸誘導体の収率を、31P NMRで測定したところ、94%であった。溶媒として水を用いたため、高温かつ長時間の反応が必要であった。
[Comparative Example 1]
Phosphonic acid derivatives listed in Table 1 as target substances were obtained in the same manner as in Example 1, except that 15 μL of TfOH was used as the acid catalyst, water was used instead of toluene as the solvent, and the reaction was carried out at 140° C. for 38 hours. rice field. The yield of the obtained phosphonic acid derivative was 94% as measured by 31 P NMR. Since water was used as a solvent, high temperature and long reaction time were required.
[比較例2]
酸触媒としてTfOHの代わりに濃塩酸1.0mLを用いて、80℃で反応させた以外は、実施例1と同様にして反応させたところ、定量的に反応が進行した。なお、反応の副生成物は、有毒性のクロロメタンが生成した。
[Comparative Example 2]
The reaction was carried out in the same manner as in Example 1, except that 1.0 mL of concentrated hydrochloric acid was used as the acid catalyst instead of TfOH and the reaction was carried out at 80° C., and the reaction proceeded quantitatively. As a by-product of the reaction, toxic chloromethane was produced.
上記の結果の一覧を表1に示した。
[実施例7]
アルゴン雰囲気下で反応容器中に表2の出発物質に記載のエステル基含有ホスホン酸誘導体1mmolと、ベンゼン1mLを加えよく攪拌した。次いで、TfOH40μLを加え、80℃で24時間反応させて、表2の目的物質に記載のホスホン酸誘導体を得た。得られたホスホン酸誘導体の収率を、31P NMRで測定したところ、98%であった。なお、反応の副生成物は、ベンゼンと反応し、ジフェニルメタンが生成した。
[Example 7]
Under an argon atmosphere, 1 mmol of the ester group-containing phosphonic acid derivative described in the starting materials in Table 2 and 1 mL of benzene were added to a reaction vessel and stirred well. Then, 40 μL of TfOH was added and reacted at 80° C. for 24 hours to obtain the phosphonic acid derivatives listed in Table 2 as target substances. The yield of the obtained phosphonic acid derivative was 98% as measured by 31 P NMR. A by-product of the reaction reacted with benzene to produce diphenylmethane.
[実施例8]
表2の出発物質に記載のエステル基含有ホスホン酸誘導体を用いて、40℃で反応させた以外は、実施例7と同様にして反応させて、表2の目的物質に記載のホスホン酸誘導体を得た。得られたホスホン酸誘導体の収率を、31P NMRで測定したところ、90%であった。なお、反応の副生成物は、ベンゼンと反応し、1,1-ジフェニルエタンが生成した。
[Example 8]
Using the ester group-containing phosphonic acid derivative described in the starting material in Table 2, the reaction was performed in the same manner as in Example 7 except that the reaction was performed at 40 ° C. to obtain the phosphonic acid derivative described in the target substance in Table 2. Obtained. The yield of the obtained phosphonic acid derivative was 90% as measured by 31 P NMR. A by-product of the reaction reacted with benzene to produce 1,1-diphenylethane.
[実施例9]
80℃で反応させた以外は、実施例8と同様にして反応させて、表2の目的物質に記載のホスホン酸誘導体を得た。得られたホスホン酸誘導体の収率を、31P NMRで測定したところ、95%であった。なお、反応の副生成物は、ベンゼンと反応し、1,1-ジフェニルエタンが生成した。
[Example 9]
The reaction was carried out in the same manner as in Example 8 except that the reaction was carried out at 80° C. to obtain the phosphonic acid derivative described in Table 2 as the target substance. The yield of the obtained phosphonic acid derivative was 95% as measured by 31 P NMR. A by-product of the reaction reacted with benzene to produce 1,1-diphenylethane.
[実施例10]
表2の出発物質に記載のエステル基含有ホスホン酸誘導体を用いた以外は、実施例7と同様にして反応させて、表2の目的物質に記載のホスホン酸誘導体を得た。得られたホスホン酸誘導体の収率を、31P NMRで測定したところ、100%であった。なお、反応の副生成物は、ベンゼンと反応し、ジフェニルメタンが生成した。
[Example 10]
The reaction was carried out in the same manner as in Example 7 except that the ester group-containing phosphonic acid derivative described in Table 2 as the starting material was used to obtain the phosphonic acid derivative described in Table 2 as the target material. The yield of the obtained phosphonic acid derivative was 100% as measured by 31 P NMR. A by-product of the reaction reacted with benzene to produce diphenylmethane.
[実施例11]
表2の出発物質に記載のエステル基含有ホスホン酸誘導体を用いた以外は、実施例7と同様にして反応させて、表2の目的物質に記載のホスホン酸誘導体を得た。得られたホスホン酸誘導体の収率を、31P NMRで測定したところ、72%であった。なお、反応の副生成物は、ベンゼンと反応し、ジフェニルメタンが生成した。
[Example 11]
The reaction was carried out in the same manner as in Example 7 except that the ester group-containing phosphonic acid derivative described in Table 2 as the starting material was used to obtain the phosphonic acid derivative described in Table 2 as the target material. The yield of the obtained phosphonic acid derivative was 72% as measured by 31 P NMR. A by-product of the reaction reacted with benzene to produce diphenylmethane.
[比較例3]
表2の出発物質に記載のエステル基含有ホスホン酸誘導体680.0gを用い、溶媒としてベンゼンの代わりに水269.0gを用い、触媒としてビニルホスホン酸54.0gを用いて、140℃で38時間反応させて、表2の目的物質に記載のホスホン酸誘導体を得た。得られたホスホン酸誘導体の収率を、31P NMRで測定したところ、99%であった。溶媒として水を用いたため、高温かつ長時間の反応が必要であった。なお、反応の副生成物は、メタノールと可燃性ガスのジメチルエーテルが生成した。
[Comparative Example 3]
Using 680.0 g of the ester group-containing phosphonic acid derivative described in Table 2 as starting material, using 269.0 g of water instead of benzene as a solvent, and 54.0 g of vinylphosphonic acid as a catalyst, at 140° C. for 38 hours. The reaction was carried out to obtain the phosphonic acid derivative described in Table 2 as the desired substance. The yield of the obtained phosphonic acid derivative was 99% as measured by 31 P NMR. Since water was used as a solvent, high temperature and long reaction time were required. Methanol and dimethyl ether, which is a combustible gas, were produced as by-products of the reaction.
[比較例4]
表2の出発物質に記載のエステル基含有ホスホン酸誘導体1 mmolを用い、濃塩酸1mL反応時間を8時反応させて、表2の目的物質に記載のホスホン酸誘導体を得た。得られたホスホン酸誘導体の収率を、31P NMRで測定したところ、97%であった。なお、反応の副生成物は、有毒性のクロロエタンが生成した。
[Comparative Example 4]
Using 1 mmol of the ester group-containing phosphonic acid derivative described in Table 2 as the starting material, 1 mL of concentrated hydrochloric acid was reacted for 8 hours to obtain the phosphonic acid derivative described in Table 2 as the target material. The yield of the obtained phosphonic acid derivative was 97% as measured by 31 P NMR. As a by-product of the reaction, toxic chloroethane was produced.
上記の結果の一覧を表2に示した。
[実施例12]
反応容器中に表3の出発物質に記載のエステル基含有ホスホン酸誘導体1mmolと、ベンゼン1mLを加えよく攪拌した。次いで、TfOH20.2μLを加え、80℃で24時間反応させて、表3の目的物質に記載のホスホン酸誘導体を得た。得られたホスホン酸誘導体の収率を、31P NMRで測定したところ、93%であった。なお、反応の副生成物は、ベンゼンと反応し、ジフェニルメタンが生成した。
[Example 12]
In a reaction vessel, 1 mmol of the ester group-containing phosphonic acid derivative described in Table 3 as the starting material and 1 mL of benzene were added and stirred well. Then, 20.2 μL of TfOH was added and reacted at 80° C. for 24 hours to obtain the phosphonic acid derivatives listed in Table 3 as target substances. The yield of the obtained phosphonic acid derivative was 93% as measured by 31 P NMR. A by-product of the reaction reacted with benzene to produce diphenylmethane.
[実施例13]
表3の出発物質に記載のエステル基含有ホスホン酸誘導体を用いた以外は、実施例12と同様にして反応させて、表3の目的物質に記載のホスホン酸誘導体を得た。得られたホスホン酸誘導体の収率を、31P NMRで測定したところ、80%であった。なお、反応の副生成物は、ベンゼンと反応し、ジフェニルメタンが生成した。
[Example 13]
The reaction was carried out in the same manner as in Example 12 except that the ester group-containing phosphonic acid derivative described in Table 3 as the starting material was used to obtain the phosphonic acid derivative described in Table 3 as the target material. The yield of the obtained phosphonic acid derivative was 80% as measured by 31 P NMR. A by-product of the reaction reacted with benzene to produce diphenylmethane.
上記の結果の一覧を表3に示した。実施例12および13では、出発物質であるホスホン酸誘導体のエステル基の一部のみをヒドロキシ基に選択的に変換することができた。
Claims (6)
nは1~3、mは0~2、oは0~1の自然数であり、n+m+o=3である)
で表されるホスホン酸誘導体の製造方法であって、
下記一般式(2):
nは1~3、mは0~2、oは0~1の自然数であり、n+m+o=3である)
で表されるホスホン酸誘導体を、超強酸触媒として25℃での酸解離定数が100%硫酸よりも小さい酸の存在下、有機溶媒中もしくは無溶媒で反応させる工程を含む、ホスホン酸誘導体の製造方法。 The following general formula (1):
n is 1 to 3, m is 0 to 2, o is a natural number of 0 to 1, and n + m + o = 3)
A method for producing a phosphonic acid derivative represented by
The following general formula (2):
n is 1 to 3, m is 0 to 2, o is a natural number of 0 to 1, and n + m + o = 3)
in the presence of an acid having an acid dissociation constant smaller than 100% sulfuric acid at 25°C as a super-strong acid catalyst, in an organic solvent or in the absence of a solvent. Method.
式(2)中、R3、R4、およびR5はそれぞれ独立して、アルキル基、アルケニル基、アリール基、およびアラルキル基からなる群から選択される、請求項1または2に記載の製造方法。 wherein R 1 and R 2 are each independently selected from the group consisting of alkyl groups, alkenyl groups, aryl groups, aralkyl groups, and alkoxy groups;
3. The preparation of claim 1 or 2 , wherein R3, R4 , and R5 in formula ( 2 ) are each independently selected from the group consisting of alkyl groups, alkenyl groups, aryl groups, and aralkyl groups. Method.
式(2)中、R3は、ビニル基またはフェニル基であり、R4は、メトキシ基、エトキシ基、およびアリル基からなる群から選択され、R5は、イソプロピル基、tert-ブチル基、ベンジル基、メチルフェニルメチル基、およびアリル基からなる群から選択される、請求項1~3のいずれか一項に記載の製造方法。 wherein R 1 is a vinyl group or a phenyl group, R 2 is selected from the group consisting of a methoxy group, an ethoxy group, and an allyl group;
In formula (2), R 3 is a vinyl group or a phenyl group, R 4 is selected from the group consisting of a methoxy group, an ethoxy group and an allyl group, R 5 is an isopropyl group, a tert-butyl group, 4. The production method according to any one of claims 1 to 3 , which is selected from the group consisting of a benzyl group, a methylphenylmethyl group and an allyl group.
Priority Applications (1)
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Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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---|---|---|---|---|
JP4196133B2 (en) * | 1997-01-28 | 2008-12-17 | 日産化学工業株式会社 | Phenylphosphonic acid derivative and method for producing the same |
JP4132327B2 (en) * | 1997-12-25 | 2008-08-13 | 日産化学工業株式会社 | Phenylenebis (phosphonic acid) compound and method for producing the same |
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