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JP7196454B2 - table equipment - Google Patents

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JP7196454B2
JP7196454B2 JP2018151865A JP2018151865A JP7196454B2 JP 7196454 B2 JP7196454 B2 JP 7196454B2 JP 2018151865 A JP2018151865 A JP 2018151865A JP 2018151865 A JP2018151865 A JP 2018151865A JP 7196454 B2 JP7196454 B2 JP 7196454B2
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尚史 倉持
秀樹 古川
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Description

本発明は、テーブル装置に関する。 The present invention relates to a table device.

搬送装置、工作機械又は半導体製造装置には、真空雰囲気や特殊ガス雰囲気のプロセス室内で、テーブルをスライド移動させて位置決めするテーブル装置が用いられる。特許文献1には、ステージと、ステージの両サイドに設けられた固定子移動ユニットと、ステージと連結された移動型固定子とを有するステージ装置が開示されている。 2. Description of the Related Art A transport device, a machine tool, or a semiconductor manufacturing device uses a table device that slides and positions a table in a process chamber in a vacuum atmosphere or a special gas atmosphere. Patent Literature 1 discloses a stage device having a stage, stator moving units provided on both sides of the stage, and a movable stator coupled to the stage.

特許文献1では、固定子移動ユニットにコイルが配置され、移動型固定子に磁石が配置される。コイルと磁石との間に発生する引力により、固定子移動ユニットの移動に伴って移動型固定子及びステージが移動する。 In Patent Document 1, a coil is arranged in a stator moving unit, and a magnet is arranged in a moving stator. The movable stator and the stage move with the movement of the stator moving unit due to the attractive force generated between the coil and the magnet.

特開平11-287880号公報JP-A-11-287880

テーブル装置は、真空雰囲気や、特殊ガス雰囲気のプロセス室内や、クリーン環境等で用いられる場合がある。特許文献1において、例えば、移動機構などが設けられる第1空間と、対象物の検査を行う第2空間とが板状部材などで区切られている場合、第2空間にスライドを設置する際に、第1空間のテーブルの位置を目視することができない問題が発生する。この場合、第2空間にテーブルを正しい向きで配置したとしても、第1空間のテーブルと、第2空間のテーブルとの位置関係がずれるおそれがある。 The table device may be used in a vacuum atmosphere, a process chamber in a special gas atmosphere, a clean environment, or the like. In Patent Document 1, for example, when a first space in which a moving mechanism is provided and a second space in which an object is inspected are separated by a plate-like member or the like, when a slide is installed in the second space, , a problem arises that the position of the table in the first space cannot be visually observed. In this case, even if the table is placed in the second space in the correct orientation, there is a possibility that the positional relationship between the table in the first space and the table in the second space will be shifted.

本発明は、上記の課題に鑑みてなされたものであって、第2空間のテーブルが、第1空間のテーブルに対して正しい位置に取り付けられているか否かを容易に判断することのできるテーブル装置を提供することを課題とする。 The present invention has been made in view of the above problems, and is a table that allows easy determination of whether or not the table in the second space is attached at the correct position with respect to the table in the first space. An object is to provide an apparatus.

上記の目的を達成するため、本発明の一態様に係るテーブル装置は、第1面と、前記第1面と反対側の第2面とを有し、前記第1面側の第1空間と、前記第2面側の第2空間とを区切る板状部材と、前記板状部材の前記第1面と対向する第1基板と、前記板状部材を介して前記第1基板と対向する第2基板と、前記第1空間に設けられ、前記第1基板を移動させる移動機構と、前記第2基板と前記第2面との間に設けられ、前記第2基板を移動可能に支持する支持部と、を備え、前記第1基板において、前記第1面と対向する面には、第1極性が前記第1面と対向する第1引力発生部と、前記第1極性とは異なる第2極性が前記第1面と対向する第2引力発生部とが設けられ、前記第2基板において、前記第2面と対向する面には、前記板状部材を介して前記第2極性が前記第1引力発生部と対向する第3引力発生部と、前記板状部材を介して前記第1極性が前記第2引力発生部と対向する第4引力発生部が設けられている。 In order to achieve the above object, a table device according to an aspect of the present invention has a first surface and a second surface opposite to the first surface, and a first space on the side of the first surface and a a plate-like member that separates the second space from the second surface side; a first substrate that faces the first surface of the plate-like member; and a first substrate that faces the first substrate via the plate-like member. two substrates, a moving mechanism provided in the first space for moving the first substrate, and a support provided between the second substrate and the second surface for movably supporting the second substrate. a first attractive force generating portion having a first polarity facing the first surface and a second attractive force generating portion having a first polarity opposite to the first surface; a second attractive force generating portion having a polarity opposite to the first surface is provided, and the surface of the second substrate facing the second surface has the second polarity opposite to the second surface through the plate-like member; A third attraction force generation portion facing the first attraction force generation portion and a fourth attraction force generation portion facing the second attraction force generation portion with the first polarity through the plate member are provided.

これにより、第1基板の引力発生部と、第2基板の引力発生部とが対向して正しく配置されていない場合、第2空間のテーブルが、本来の姿勢とは異なった姿勢で設置されることとなる。したがって、作業者などは、第2空間のテーブルが正しく取り付けられていないことを容易に把握することができる。 As a result, when the attractive force generating portion of the first substrate and the attractive force generating portion of the second substrate are not properly arranged so as to face each other, the table in the second space is installed in a posture different from the original posture. It will happen. Therefore, an operator or the like can easily grasp that the table in the second space is not properly attached.

テーブル装置の望ましい態様として、前記第1引力発生部と、前記第2引力発生部と、前記第3引力発生部と、前記第4引力発生部とは、それぞれ、磁石である。これにより、第1引力発生部から第4引力発生部を動作させるための駆動回路や配線などを設ける必要がなく、第1基板及び第2基板の構成を簡便にできる。 As a desirable aspect of the table device, each of the first attraction force generation section, the second attraction force generation section, the third attraction force generation section, and the fourth attraction force generation section is a magnet. Accordingly, it is not necessary to provide a drive circuit, wiring, or the like for operating the first to fourth attraction force generation units, and the configurations of the first substrate and the second substrate can be simplified.

テーブル装置の望ましい態様として、前記第1引力発生部と、前記第2引力発生部と、前記第3引力発生部と、前記第4引力発生部とは、2つずつ設けられており、一方の前記第1引力発生部と、他方の前記第1引力発生部と、一方の前記第2引力発生部と、他方の前記第2引力発生部とを結んで得られる四角形において、対向する辺の中点を結んだ仮想線同士の交点を第1対称点として場合、一方の前記第1引力発生部と、他方の前記第1引力発生部とは、前記第1対称点に対して点対称に配置され、一方の前記第2引力発生部と、他方の前記第2引力発生部とは、前記第1対称点に対して点対称に配置されており、一方の前記第3引力発生部と、他方の前記第3引力発生部と、一方の前記第4引力発生部と、他方の前記第4引力発生部とを結んで得られる四角形において、対向する辺の中点を結んだ仮想線同士の交点を第2対称点として場合、一方の前記第3引力発生部と、他方の前記第3引力発生部とは、前記第2対称点に対して点対称に配置され、一方の前記第4引力発生部と、他方の前記第4引力発生部とは、前記第2対称点に対して点対称に配置されている。これにより、第1基板及び第2基板のヨーイング方向のモーメント剛性を確保することができる。 As a desirable aspect of the table device, each of the first attraction force generation section, the second attraction force generation section, the third attraction force generation section, and the fourth attraction force generation section is provided. In the quadrangle obtained by connecting the first attractive force generating portion, the other first attractive force generating portion, the one second attractive force generating portion, and the other second attractive force generating portion, the inside of the opposing sides When the intersection of the virtual lines connecting the points is the first symmetrical point, the first attractive force generating portion on one side and the first attractive force generating portion on the other side are arranged symmetrically with respect to the first symmetrical point. The one second attractive force generating portion and the other second attractive force generating portion are arranged point-symmetrically with respect to the first symmetrical point, and the third attractive force generating portion on one side and the third attractive force generating portion on the other side In the quadrangle obtained by connecting the third attraction generating part of one, the fourth attraction generating part on one side, and the fourth attraction generating part on the other side, the intersection of virtual lines connecting the midpoints of the opposing sides is the second symmetrical point, the third attractive force generating portion on one side and the third attractive force generating portion on the other side are arranged point-symmetrically with respect to the second symmetrical point, and the fourth attractive force generating portion on one side is and the other fourth attractive force generating portion are arranged point-symmetrically with respect to the second point of symmetry. Thereby, the moment rigidity in the yawing direction of the first substrate and the second substrate can be secured.

テーブル装置の望ましい態様として、前記第1基板及び前記第2基板は、矩形形状であり、一方の前記第1引力発生部及び他方の前記第1引力発生部と、一方の前記第2引力発生部及び他方の前記第2引力発生部とは、それぞれ、前記第1基板において、対向する各辺の中点を結んだ線上に線対称となるように配置され、一方の前記第3引力発生部及び他方の前記第3引力発生部と、一方の前記第4引力発生部及び他方の前記第4引力発生部とは、それぞれ、前記第2基板において、対向する各辺の中点を結んだ線上に線対称となるように配置されている。これにより、第1基板及び第2基板のヨーイング方向のモーメント剛性を確保することができる。 As a desirable aspect of the table device, the first substrate and the second substrate are rectangular, and one of the first attraction force generation portion and the other of the first attraction force generation portion and one of the second attraction force generation portion and the other second attractive force generating portion are respectively arranged on the first substrate so as to be line symmetrical on a line connecting the midpoints of the opposing sides, and the one third attractive force generating portion and The third attractive force generating portion on the other side, the fourth attractive force generating portion on one side, and the fourth attractive force generating portion on the other side are arranged on the line connecting the midpoints of the opposing sides of the second substrate. They are arranged symmetrically. Thereby, the moment rigidity in the yawing direction of the first substrate and the second substrate can be secured.

テーブル装置の望ましい態様として、前記第1基板及び前記第2基板は、矩形形状であり、一方の前記第1引力発生部と、他方の前記第1引力発生部とは、前記第1基板において、一方の前記第2引力発生部と、他方の前記第2引力発生部とに対し、対向する各辺の中点を結んだ線に対し非線対称に配置され、一方の前記第1引力発生部及び他方の前記第1引力発生部と、一方の前記第2引力発生部及び他方の前記第2引力発生部とは、それぞれ、前記各辺の中点を結んだ線の交点を対称点として点対称に配置され、一方の前記第3引力発生部と、他方の前記第3引力発生部とは、前記第2基板において、一方の前記第4引力発生部と、他方の前記第4引力発生部とに対し、対向する各辺の中点を結んだ線に対し非線対称に配置され、一方の前記第3引力発生部及び他方の前記第3引力発生部と、一方の前記第4引力発生部及び他方の前記第4引力発生部とは、それぞれ、前記各辺の中点を結んだ線の交点を対称点として点対称に配置されている。これにより、第1基板及び第2基板のヨーイング方向のモーメント剛性を確保することができる。 As a desirable aspect of the table device, the first substrate and the second substrate are rectangular, and one of the first attractive force generating portions and the other of the first attractive force generating portions are formed in the first substrate by: One of the second attractive force generating portions and the other of the second attractive force generating portions are arranged asymmetrically with respect to a line connecting the midpoints of the opposing sides, and the one of the first attractive force generating portions is arranged and the other first attractive force generating portion, the one second attractive force generating portion, and the other second attractive force generating portion are points with the intersection point of the line connecting the midpoints of the respective sides as a symmetrical point The third attractive force generating portion and the third attractive force generating portion are arranged symmetrically, and the one third attractive force generating portion and the other fourth attractive force generating portion are arranged on the second substrate. are arranged asymmetrically with respect to the line connecting the midpoints of the opposing sides, and the third attraction generating part on one side and the third attraction generating part on the other side, and the fourth attraction generating part on one side and the other fourth attractive force generating portion are arranged point-symmetrically with respect to the point of symmetry of the intersection of the lines connecting the midpoints of the respective sides. Thereby, the moment rigidity in the yawing direction of the first substrate and the second substrate can be secured.

テーブル装置の望ましい態様として、前記第1基板及び前記第2基板は、矩形形状であり、一方の前記第1引力発生部と、他方の前記第1引力発生部とは、前記第1基板において、一方の前記第2引力発生部と、他方の前記第2引力発生部とに対して、対向する各辺の中点を結んだ線に対し線対称に配置され、一方の前記第1引力発生部及び他方の前記第1引力発生部と、一方の前記第2引力発生部及び他方の前記第2引力発生部とは、それぞれ、前記各辺の中点を結んだ線の交点を対称点として点対称に配置され、一方の前記第3引力発生部と、他方の前記第3引力発生部とは、前記第2基板において、一方の前記第4引力発生部と、他方の前記第4引力発生部とに対し、対向する各辺の中点を結んだ線に対し線対称に配置され、一方の前記第3引力発生部及び他方の前記第3引力発生部と、一方の前記第4引力発生部及び他方の前記第4引力発生部とは、それぞれ、前記各辺の中点を結んだ線の交点を対称点として点対称に配置されている。これにより、第1基板及び第2基板のヨーイング方向のモーメント剛性を確保することができる。 As a desirable aspect of the table device, the first substrate and the second substrate are rectangular, and one of the first attractive force generating portions and the other of the first attractive force generating portions are formed in the first substrate by: One of the second attraction force generating portions and the other of the second attraction generating portions are arranged line-symmetrically with respect to a line connecting the midpoints of the opposing sides, and the one of the first attraction force generating portions is arranged and the other first attractive force generating portion, the one second attractive force generating portion, and the other second attractive force generating portion are points with the intersection point of the line connecting the midpoints of the respective sides as a symmetrical point The third attractive force generating portion and the third attractive force generating portion are arranged symmetrically, and the one third attractive force generating portion and the other fourth attractive force generating portion are arranged on the second substrate. and are arranged line-symmetrically with respect to the line connecting the midpoints of the opposing sides, the third attraction generating part on one side and the third attraction generating part on the other side, and the fourth attraction generating part on one side and the other fourth attractive force generating portion are arranged point-symmetrically with respect to the point of intersection of the lines connecting the midpoints of the respective sides. Thereby, the moment rigidity in the yawing direction of the first substrate and the second substrate can be secured.

テーブル装置の望ましい態様として、前記第1引力発生部と、前記第2引力発生部と、前記第3引力発生部と、前記第4引力発生部は、それぞれ、耐食層で覆われている。これにより、耐食性を確保し、腐食性を有するガスを使用するガス滅菌を行うことができるので、テーブル装置を滅菌環境で使用することができる。 As a desirable aspect of the table device, the first attraction force generation section, the second attraction force generation section, the third attraction force generation section, and the fourth attraction force generation section are each covered with a corrosion-resistant layer. As a result, corrosion resistance can be ensured, and gas sterilization using corrosive gas can be performed, so that the table device can be used in a sterile environment.

テーブル装置の望ましい態様として、前記支持部は、前記第2基板に固定されたハウジングと、前記ハウジングの内部に、回転可能に設けられたボールと、を有する。これにより、ボールの回転により、第2基板は、第1基板の移動に伴って第2空間を移動する。また、支持部の構成が簡便であり、第2基板の構成も簡便にできる。 As a desirable aspect of the table device, the support section has a housing fixed to the second substrate and a ball rotatably provided inside the housing. As a result, the rotation of the ball causes the second substrate to move in the second space along with the movement of the first substrate. Moreover, the structure of the supporting portion is simple, and the structure of the second substrate can also be simplified.

テーブル装置の望ましい態様として、前記板状部材及び前記第2基板は、耐熱材料である。これによれば、板状部材及び第2基板に、高温蒸気滅菌や乾熱滅菌などにより容易に滅菌処理を施すことができる。 As a desirable aspect of the table device, the plate member and the second substrate are made of a heat-resistant material. According to this, the plate member and the second substrate can be easily sterilized by high-temperature steam sterilization, dry heat sterilization, or the like.

本発明によれば、第1空間のテーブルが、第2空間のテーブルに対して正しい位置に取り付けられているか否かを容易に判断することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, it can be easily judged whether the table of 1st space is attached to the table of 2nd space in the correct position.

図1は、本発明の各実施形態に係るテーブル装置の斜視図である。FIG. 1 is a perspective view of a table device according to each embodiment of the present invention. 図2は、図1におけるA-A断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. 図3は、本発明の第1実施形態に係る第1基板の平面図である。FIG. 3 is a plan view of the first substrate according to the first embodiment of the invention. 図4は、本発明の第1実施形態に係る第2基板の平面図である。FIG. 4 is a plan view of a second substrate according to the first embodiment of the invention. 図5は、本発明の第1実施形態に係る引力発生部を配置する場所を説明するための図である。FIG. 5 is a diagram for explaining the location of the attractive force generating section according to the first embodiment of the present invention. 図6は、本発明の第1実施形態に係る第1基板と、第2基板との姿勢がずれた様子の一例を示す図である。FIG. 6 is a diagram showing an example of how the postures of the first substrate and the second substrate are shifted according to the first embodiment of the present invention. 図7は、本発明の各実施形態に係る第2移動機構の一例を示す側面図である。FIG. 7 is a side view showing an example of the second moving mechanism according to each embodiment of the invention. 図8は、本発明の第2実施形態に係る第1基板の平面図である。FIG. 8 is a plan view of a first substrate according to a second embodiment of the invention. 図9は、本発明の第2実施形態に係る第2基板の平面図である。FIG. 9 is a plan view of a second substrate according to a second embodiment of the invention. 図10は、本発明の第2実施形態に係る引力発生部を配置する場所を説明するための図である。10A and 10B are diagrams for explaining the places where the attractive force generating units according to the second embodiment of the present invention are arranged. FIG. 図11は、本発明の第2実施形態に係る第1基板と、第2基板との姿勢がずれた様子の一例を示す図である。FIG. 11 is a diagram showing an example of how the postures of the first substrate and the second substrate are shifted according to the second embodiment of the present invention. 図12は、本発明の第3実施形態に係る第1基板の平面図である。FIG. 12 is a plan view of the first substrate according to the third embodiment of the invention. 図13は、本発明の第3実施形態に係る第2基板の平面図である。FIG. 13 is a plan view of a second substrate according to the third embodiment of the invention. 図14は、本発明の第3実施形態に係る引力発生部を配置する方法を説明するための図である。14A and 14B are diagrams for explaining a method of arranging the attractive force generating portion according to the third embodiment of the present invention. FIG. 図15は、本発明の第3実施形態に係る第1基板と、第2基板との姿勢がずれた様子の一例を示す図である。FIG. 15 is a diagram showing an example of how the postures of the first substrate and the second substrate are deviated according to the third embodiment of the present invention.

以下、本発明につき図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、下記の発明を実施するための形態(以下、実施形態という)により本発明が限定されるものではない。また、下記実施形態における構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、実質的に同一のもの、いわゆる均等の範囲のものが含まれる。さらに、下記実施形態で開示した構成要素は適宜組み合わせることが可能である。 Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings. It should be noted that the present invention is not limited by the following modes for carrying out the invention (hereinafter referred to as embodiments). In addition, components in the following embodiments include those that can be easily assumed by those skilled in the art, those that are substantially the same, and those that fall within a so-called equivalent range. Furthermore, the constituent elements disclosed in the following embodiments can be combined as appropriate.

図1は、本発明の各実施形態に係るテーブル装置の斜視図である。図2は、図1におけるA-A断面図である。図3は、本発明の第1実施形態に係る第1基板の平面図である。図4は、本発明の第1実施形態に係る第2実施形態に係る第2基板の平面図である。 FIG. 1 is a perspective view of a table device according to each embodiment of the present invention. FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. FIG. 3 is a plan view of the first substrate according to the first embodiment of the invention. FIG. 4 is a plan view of a second substrate according to the second embodiment according to the first embodiment of the present invention.

[第1実施形態]
図1に示すように、テーブル装置1は、筐体2と、第1テーブル3と、第2テーブル4と、第1移動機構6と、第2移動機構7とを含む。第1テーブル3、第1移動機構6及び第2移動機構7は、筐体2の内側の第1空間Pに設けられる。第2テーブル4は、筐体2の外側の第2空間Rに設けられる。第2空間Rは、特定の環境を維持し、操作対象物の位置決めや、加工、検査等を行うための空間である。第2空間Rは、作業に適した特定の環境を維持できる空間であればよい。第2空間Rは、真空、減圧、ガス置換(減圧又は陽圧)、温度の異なる空間、クリーン環境、異物環境等の様々な環境に適用可能である。例えば、テーブル装置1は、細胞等のサンプルの採取や各種検査等を行うバイオ用途に用いられる。この場合、第2空間Rはクリーン環境であり、第2空間R内の第2テーブル4は、高温蒸気滅菌や乾熱滅菌などにより滅菌処理が施される。
[First embodiment]
As shown in FIG. 1 , the table device 1 includes a housing 2 , a first table 3 , a second table 4 , a first moving mechanism 6 and a second moving mechanism 7 . The first table 3 , the first moving mechanism 6 and the second moving mechanism 7 are provided in the first space P inside the housing 2 . A second table 4 is provided in a second space R outside the housing 2 . The second space R is a space for maintaining a specific environment and performing positioning, processing, inspection, etc. of an operation target. The second space R may be any space that can maintain a specific environment suitable for work. The second space R can be applied to various environments such as vacuum, reduced pressure, gas replacement (reduced pressure or positive pressure), different temperature space, clean environment, and foreign matter environment. For example, the table device 1 is used for bio applications such as collection of samples such as cells and various tests. In this case, the second space R is a clean environment, and the second table 4 in the second space R is sterilized by high-temperature steam sterilization, dry heat sterilization, or the like.

筐体2は、板状部材21を含む。板状部材21は、筐体2の側面に対して垂直な方向に延出する板状の部材であり、筐体2と一体に設けられる。第1空間Pと第2空間Rとは板状部材21によって区切られている。本実施形態では、板状部材21は非磁性体であり、非磁性ステンレス等が用いられる。非磁性ステンレスとして、合金オーステナイト系ステンレス(例えばSUS316等)が挙げられる。 The housing 2 includes a plate member 21 . The plate-like member 21 is a plate-like member extending in a direction perpendicular to the side surface of the housing 2 and provided integrally with the housing 2 . The first space P and the second space R are separated by a plate member 21 . In this embodiment, the plate member 21 is a non-magnetic material, and non-magnetic stainless steel or the like is used. Non-magnetic stainless steels include alloy austenitic stainless steels (such as SUS316, for example).

なお、本実施形態において、水平面内の一方向をX方向とし、水平面内においてX方向と交差する方向をY方向とし、X方向及びY方向のそれぞれと交差する方向(すなわち鉛直方向)をZ方向とする。板状部材21は、X方向とY方向とが成す平面と平行となっている。 In this embodiment, one direction in the horizontal plane is the X direction, the direction intersecting the X direction in the horizontal plane is the Y direction, and the direction intersecting the X direction and the Y direction (that is, the vertical direction) is the Z direction. and The plate member 21 is parallel to a plane formed by the X direction and the Y direction.

図2に示すように、板状部材21は、第1面21aと、第1面21aと反対側の第2面21bとを有する。第1空間Pは、第1面21a側の空間である。第2空間Rは、第2面21b側の空間である。板状部材21によって、第1空間Pと第2空間Rとが分離されている。板状部材21は、第1空間Pと第2空間Rとを連通する孔部等が設けられていない連続した板状の部材である。板状部材21には、少なくとも第1テーブル3及び第2テーブル4の可動範囲と重なる領域で連続しており、孔部等が設けられていない。これにより、第1移動機構6及び第2移動機構7の動作により発生する異物を含む気体が、第1空間Pから第2空間Rに流入することを抑制できる。したがって、第2空間Rの環境を維持することができる。 As shown in FIG. 2, the plate member 21 has a first surface 21a and a second surface 21b opposite to the first surface 21a. The first space P is a space on the side of the first surface 21a. The second space R is a space on the second surface 21b side. The first space P and the second space R are separated by the plate member 21 . The plate-like member 21 is a continuous plate-like member that is not provided with a hole or the like that allows the first space P and the second space R to communicate with each other. The plate member 21 is continuous at least in a region overlapping the movable ranges of the first table 3 and the second table 4, and is not provided with holes or the like. As a result, it is possible to suppress the flow of gas containing foreign matter generated by the operations of the first moving mechanism 6 and the second moving mechanism 7 from the first space P into the second space R. Therefore, the environment of the second space R can be maintained.

第1テーブル3は、第1基板31と、第1引力発生部32と、第1支持部34と、を含む。第1基板31は、第1主面31aと、第1主面31aと反対側の第2主面31bとを有する板状の部材である。第1基板31の第1主面31aは、板状部材21の第1面21aと離隔して対向する。第1基板31の第2主面31bは、第2移動機構7の連結部77と連結される。第1基板31は、第1移動機構6及び第2移動機構7の動作により、板状部材21の第1面21aと平行な面内を移動する。 The first table 3 includes a first substrate 31 , a first attractive force generating portion 32 and a first support portion 34 . The first substrate 31 is a plate-shaped member having a first principal surface 31a and a second principal surface 31b opposite to the first principal surface 31a. The first main surface 31a of the first substrate 31 faces the first surface 21a of the plate member 21 with a gap therebetween. The second main surface 31 b of the first substrate 31 is connected with the connecting portion 77 of the second moving mechanism 7 . The first substrate 31 moves in a plane parallel to the first surface 21 a of the plate member 21 by the operations of the first moving mechanism 6 and the second moving mechanism 7 .

第1引力発生部32と、第1支持部34とは、第1基板31の第1主面31aに設けられる。言い換えると、第1引力発生部32と、第1支持部34とは、第1基板31と板状部材21との間に設けられる。本実施形態において、第1引力発生部32は、例えば、磁石であり、例えば耐熱ネオジム磁石やコバルト磁石を用いることができる。耐熱ネオジム磁石の耐熱温度は、150℃程度である。コバルト磁石の耐熱温度は200℃程度である。第1引力発生部32は、S極が第1主面31aに接している。具体的には後述するが、図3に示すように、第1主面31aには、第1引力発生部32の他に、N極が第1主面31aに接している第2引力発生部33が配置されている。 The first attractive force generating portion 32 and the first support portion 34 are provided on the first major surface 31 a of the first substrate 31 . In other words, the first attractive force generating portion 32 and the first support portion 34 are provided between the first substrate 31 and the plate member 21 . In the present embodiment, the first attractive force generator 32 is, for example, a magnet, such as a heat-resistant neodymium magnet or a cobalt magnet. The heat resistant temperature of the heat resistant neodymium magnet is about 150°C. The heat resistance temperature of cobalt magnets is about 200°C. The first attractive force generating portion 32 has an S pole in contact with the first main surface 31a. Although details will be described later, as shown in FIG. 3, on the first main surface 31a, in addition to the first attractive force generating portion 32, a second attractive force generating portion whose N pole is in contact with the first main surface 31a is provided. 33 are arranged.

第1支持部34は、ハウジング341と、ボール342とを含む。ハウジング341は第1基板31に固定される。ボール342は、ハウジング341の凹部内に回転可能に設けられている。ボール342は、板状部材21の第1面21aと接している。第1支持部34は、例えば、ボールローラであり、ボール342の回転により、第1基板31は、板状部材21の第1面21aに沿って自由に移動可能になっている。第1支持部34が設けられているため、第1引力発生部32が板状部材21に接触することを抑制でき、第1基板31がスムーズに移動できる。 The first support portion 34 includes a housing 341 and balls 342 . The housing 341 is fixed to the first substrate 31 . The ball 342 is rotatably provided within the recess of the housing 341 . The ball 342 is in contact with the first surface 21 a of the plate member 21 . The first support portion 34 is, for example, a ball roller, and the rotation of the balls 342 allows the first substrate 31 to freely move along the first surface 21 a of the plate member 21 . Since the first supporting portion 34 is provided, it is possible to prevent the first attractive force generating portion 32 from coming into contact with the plate-like member 21, so that the first substrate 31 can move smoothly.

図3に示すように、第1基板31は、平面視で矩形状である。なお、図3は、第1基板31の第1主面31a側から見たときの平面図である。第1基板31は、第1側面31c、第2側面31d、第3側面31e及び第4側面31fを有する。第1側面31c、第2側面31d、第3側面31e及び第4側面31fは、第1主面31aと第2主面31bとの間の面である。第1側面31cは、第2側面31dと対向する。第3側面31eは、第1側面31cと第2側面31dとの間の面であり、第4側面31fと対向する。 As shown in FIG. 3, the first substrate 31 has a rectangular shape in plan view. 3 is a plan view of the first substrate 31 viewed from the first main surface 31a side. The first substrate 31 has a first side surface 31c, a second side surface 31d, a third side surface 31e and a fourth side surface 31f. The first side surface 31c, the second side surface 31d, the third side surface 31e, and the fourth side surface 31f are surfaces between the first main surface 31a and the second main surface 31b. The first side surface 31c faces the second side surface 31d. The third side surface 31e is between the first side surface 31c and the second side surface 31d and faces the fourth side surface 31f.

第1支持部34は、第1基板31の第1主面31aの4隅のそれぞれに設けられる。第1基板31の第1主面31aには、2つの第1引力発生部321、322と、2つの第2引力発生部331、332とが設けられる。この場合、第1引力発生部321、322はS極が第1主面31aに接しており、第2引力発生部331、332はN極が第1主面31aに接している。ここで、第3側面31eのX方向の中点と、第4側面31fのX方向の中点とを結ぶ仮想線を仮想線B1とする。第1側面31cのY方向の中点と、第2側面31dのY方向の中点とを結ぶ仮想線を仮想線B2とする。第1引力発生部321、322は、仮想線B1と重なる位置であって、第1主面31aの外縁に設けられる。また、第2引力発生部331、332は、仮想線B2と重なる位置であって、第1主面31aの外縁に設けられる。なお、各引力発生部の引力と、板状部材21の剛性とが適切に設定されていれば、第1支持部34は、必ずしも設ける必要はない。 The first support portions 34 are provided at each of the four corners of the first main surface 31 a of the first substrate 31 . Two first attractive force generating portions 321 and 322 and two second attractive force generating portions 331 and 332 are provided on the first major surface 31 a of the first substrate 31 . In this case, the S poles of the first attractive force generating portions 321 and 322 are in contact with the first main surface 31a, and the N poles of the second attractive force generating portions 331 and 332 are in contact with the first main surface 31a. Here, a virtual line connecting the middle point of the third side surface 31e in the X direction and the middle point of the fourth side surface 31f in the X direction is defined as a virtual line B1. A virtual line B2 connects the middle point of the first side surface 31c in the Y direction and the middle point of the second side surface 31d in the Y direction. The first attractive force generating portions 321 and 322 are provided on the outer edge of the first main surface 31a at positions overlapping the imaginary line B1. In addition, the second attractive force generating portions 331 and 332 are provided on the outer edge of the first main surface 31a at positions overlapping the imaginary line B2. Note that the first support portion 34 does not necessarily need to be provided if the attractive force of each attractive force generating portion and the rigidity of the plate-like member 21 are appropriately set.

図2に示すように、第2テーブル4は、第2基板41と、第3引力発生部42と、第2支持部44と、を含む。第2基板41は、第3主面41aと、第3主面41aと反対側の第4主面41bとを有する板状の部材である。第2基板41の第4主面41bは、板状部材21の第2面21bと離隔して対向する。つまり、第2基板41は、板状部材21を介して第1基板31と対向する。第2基板41の第3主面41aは、操作対象物が載置される面である。 As shown in FIG. 2, the second table 4 includes a second substrate 41, a third attractive force generating section 42, and a second support section 44. As shown in FIG. The second substrate 41 is a plate-like member having a third principal surface 41a and a fourth principal surface 41b opposite to the third principal surface 41a. The fourth main surface 41b of the second substrate 41 faces the second surface 21b of the plate-like member 21 while being separated therefrom. That is, the second substrate 41 faces the first substrate 31 with the plate member 21 interposed therebetween. A third main surface 41a of the second substrate 41 is a surface on which an operation target is placed.

第3引力発生部42と、第2支持部44とは、第2基板41の第4主面41bに設けられる。言い換えると、第3引力発生部42と、第2支持部44とは、第2基板41と板状部材21との間に設けられる。本実施形態において、第3引力発生部42は、磁石であり、例えば耐熱ネオジム磁石やコバルト磁石を用いることができる。耐熱ネオジム磁石の耐熱温度は、150℃程度である。コバルト磁石の耐熱温度は200℃程度である。第3引力発生部42は、N極が第4主面41bに接している。具体的には後述するが、図4に示すように、第4主面41bには、第3引力発生部42の他に、S極が第4主面41bに接している第4引力発生部43が配置されている。 The third attractive force generating portion 42 and the second support portion 44 are provided on the fourth main surface 41 b of the second substrate 41 . In other words, the third attractive force generating portion 42 and the second support portion 44 are provided between the second substrate 41 and the plate member 21 . In this embodiment, the third attractive force generator 42 is a magnet, and for example, a heat-resistant neodymium magnet or a cobalt magnet can be used. The heat resistant temperature of the heat resistant neodymium magnet is about 150°C. The heat resistance temperature of cobalt magnets is about 200°C. The N pole of the third attractive force generating portion 42 is in contact with the fourth main surface 41b. Although the details will be described later, as shown in FIG. 4, the fourth main surface 41b includes a fourth attractive force generating portion having an S pole in contact with the fourth main surface 41b in addition to the third attractive force generating portion 42. 43 are arranged.

第3引力発生部42は、板状部材21を介して第1引力発生部32と対向する。すなわち、第3引力発生部42は、Z方向から見たときに、第1引力発生部32と重なる位置に配置される。第3引力発生部42は第1引力発生部32と異なる極が対向するように配置される。図2に示す例では、第3引力発生部42のS極と、第1引力発生部32のN極が対向する。これにより、第1引力発生部32と第3引力発生部42との間には、引力F1が発生する。すなわち、第2基板41には、第1基板31に向かう方向の引力F1が作用する。これにより、第2基板41は、第1基板31の移動に追従して、板状部材21の第2面21bに沿って移動可能となっている。また、図3及び図4から明らかなように、第4引力発生部43は、板状部材を介して第2引力発生部33と対向する。すなわち、第4引力発生部43は、Z方向から見たときに、第2引力発生部33と重なる位置に配置される。これにより、第2引力発生部33と第4引力発生部43との間には、引力が発生する。 The third attractive force generator 42 faces the first attractive force generator 32 with the plate member 21 interposed therebetween. That is, the third attractive force generating portion 42 is arranged at a position overlapping the first attractive force generating portion 32 when viewed in the Z direction. The third attractive force generating portion 42 is arranged such that the poles different from those of the first attractive force generating portion 32 face each other. In the example shown in FIG. 2, the south pole of the third attraction force generating section 42 and the north pole of the first attraction force generating section 32 face each other. As a result, an attractive force F<b>1 is generated between the first attractive force generating portion 32 and the third attractive force generating portion 42 . That is, an attractive force F<b>1 directed toward the first substrate 31 acts on the second substrate 41 . Thereby, the second substrate 41 can move along the second surface 21 b of the plate member 21 following the movement of the first substrate 31 . 3 and 4, the fourth attractive force generator 43 faces the second attractive force generator 33 via the plate member. That is, the fourth attractive force generating portion 43 is arranged at a position overlapping the second attractive force generating portion 33 when viewed in the Z direction. As a result, an attractive force is generated between the second attractive force generating portion 33 and the fourth attractive force generating portion 43 .

第2支持部44は、ハウジング441と、ボール442とを含む。第2支持部44は、第1支持部34と同様の構成であり、例えば、ボールローラである。第2支持部44は、第2基板41を、板状部材21の第1面21aに沿って自由に移動可能に支持する。また、第2支持部44が設けられているため、第3引力発生部42が板状部材21に接触することを抑制できる。このため、第2基板41は、第1基板31の移動に追従してスムーズに移動できる。 The second support portion 44 includes a housing 441 and balls 442 . The second support portion 44 has the same configuration as the first support portion 34, and is, for example, a ball roller. The second support portion 44 supports the second substrate 41 so as to be freely movable along the first surface 21 a of the plate-like member 21 . Further, since the second support portion 44 is provided, it is possible to prevent the third attractive force generating portion 42 from coming into contact with the plate-like member 21 . Therefore, the second substrate 41 can smoothly move following the movement of the first substrate 31 .

図4に示すように、第2基板41は、平面視で矩形状である。なお、図4は、第2基板41の第4主面41b側から見たときの平面図であり、図2から明らかなように、第2テーブル4が取り付けられたときは、図4をひっくり返した状態で図3に示す第1基板31と対向する。第2基板41は、第5側面41c、第6側面41d、第7側面41e及び第8側面41fを有する。第5側面41c、第6側面41d、第7側面41e及び第8側面41fは、第3主面41aと第4主面41bとの間の面である。第5側面41cは、第6側面41dと対向する。第7側面41eは、第5側面41cと第6側面41dとの間の面であり、第8側面41fと対向する。 As shown in FIG. 4, the second substrate 41 has a rectangular shape in plan view. 4 is a plan view of the second substrate 41 as viewed from the fourth main surface 41b side. As is clear from FIG. 2, when the second table 4 is attached, FIG. It faces the first substrate 31 shown in FIG. 3 in a repeated state. The second substrate 41 has a fifth side surface 41c, a sixth side surface 41d, a seventh side surface 41e and an eighth side surface 41f. The fifth side surface 41c, the sixth side surface 41d, the seventh side surface 41e, and the eighth side surface 41f are surfaces between the third main surface 41a and the fourth main surface 41b. The fifth side surface 41c faces the sixth side surface 41d. The seventh side surface 41e is between the fifth side surface 41c and the sixth side surface 41d and faces the eighth side surface 41f.

第2支持部44の配置は、図3に示す第1支持部34の配置と同様である。すなわち、第2支持部44は、第2基板41の第4主面41bの4隅のそれぞれに設けられる。これにより、4つの第2支持部44は、それぞれ、第1支持部34と重なる位置に設けられる。 The arrangement of the second support portion 44 is the same as the arrangement of the first support portion 34 shown in FIG. That is, the second support portions 44 are provided at each of the four corners of the fourth main surface 41 b of the second substrate 41 . As a result, the four second support portions 44 are provided at positions overlapping the first support portions 34, respectively.

第2基板41の第4主面41bには、2つの第3引力発生部421、422と、2つの第4引力発生部431、432とが設けられる。この場合、第3引力発生部421、422はN極が第4主面41bに接しており、第4引力発生部431、432はS極が第4主面41bに接している。ここで、第7側面41eのX方向の中点と、第8側面41fのX方向の中点とを結ぶ仮想線を仮想線B3とする。第5側面41cのY方向の中点と、第6側面41dのY方向の中点とを結ぶ仮想線を仮想線B4とする。第3引力発生部421、422は、仮想線B3と重なる位置であって、第4主面41bの外縁に設けられる。また、第4引力発生部431、432は、仮想線B4と重なる位置であって、第4主面41bの外縁に設けられる。すなわち、第3引力発生部421、422は、それぞれ、図3に図示の第1引力発生部321、322と重なる位置に設けられる。そして、第4引力発生部431、432は、それぞれ、図3に図示の第2引力発生部331、332と重なる位置に設けられる。 The fourth main surface 41 b of the second substrate 41 is provided with two third attractive force generating portions 421 and 422 and two fourth attractive force generating portions 431 and 432 . In this case, the N poles of the third attractive force generating portions 421 and 422 are in contact with the fourth main surface 41b, and the S poles of the fourth attractive force generating portions 431 and 432 are in contact with the fourth main surface 41b. Here, a virtual line B3 connects the middle point of the seventh side surface 41e in the X direction and the middle point of the eighth side surface 41f in the X direction. A virtual line B4 connects the middle point of the fifth side surface 41c in the Y direction and the middle point of the sixth side surface 41d in the Y direction. The third attractive force generating portions 421 and 422 are provided on the outer edge of the fourth main surface 41b at positions overlapping the imaginary line B3. Further, the fourth attractive force generating portions 431 and 432 are provided on the outer edge of the fourth main surface 41b at positions overlapping the imaginary line B4. That is, the third attractive force generators 421 and 422 are provided at positions overlapping the first attractive force generators 321 and 322 shown in FIG. 3, respectively. The fourth attractive force generators 431 and 432 are provided at positions overlapping the second attractive force generators 331 and 332 shown in FIG. 3, respectively.

図5を用いて、第1テーブル3に各引力発生部を配置する方法を、より具体的に説明する。図5は、第1テーブル3に各引力発生部を配置する方法を説明するための図である。なお、第2テーブル4に各引力発生部を配置する方法については、第1テーブル3の場合と同様なので、説明は省略する。 A method of arranging each attractive force generation unit on the first table 3 will be described more specifically with reference to FIG. FIG. 5 is a diagram for explaining a method of arranging each attractive force generator on the first table 3. FIG. The method of arranging each attractive force generating unit on the second table 4 is the same as that for the first table 3, so the explanation is omitted.

図5に示すように、第2引力発生部331と、第1引力発生部321とを結ぶ仮想線の中点をP1とする。第1引力発生部321と、第2引力発生部332とを結ぶ仮想線の交点をP2とする。第2引力発生部332と、第1引力発生部322とを結ぶ仮想線の中点をP3とする。第1引力発生部322と、第2引力発生部331とを結ぶ仮想線の中点をP4とする。そして、点P1と点P3とを結ぶ仮想線と、点P2と点P4とを結ぶ仮想線との交点を対称点S1とする。 As shown in FIG. 5, the midpoint of a virtual line connecting the second attractive force generating portion 331 and the first attractive force generating portion 321 is defined as P1. The intersection point of the imaginary line connecting the first attractive force generating portion 321 and the second attractive force generating portion 332 is defined as P2. The midpoint of the imaginary line connecting the second attractive force generating portion 332 and the first attractive force generating portion 322 is defined as P3. The midpoint of the imaginary line connecting the first attractive force generating portion 322 and the second attractive force generating portion 331 is assumed to be P4. A point of symmetry S1 is defined as the intersection of the virtual line connecting the points P1 and P3 and the virtual line connecting the points P2 and P4.

この場合、第1実施形態では、第1引力発生部321と、第1引力発生部322とを、対称点S1に対し、点対称となるように配置する。また、第1実施形態では、第2引力発生部331と、第2引力発生部332とは、対称点S1に対し、点対称となるように配置する。 In this case, in the first embodiment, the first attractive force generating portion 321 and the first attractive force generating portion 322 are arranged so as to be symmetrical with respect to the symmetrical point S1. In addition, in the first embodiment, the second attractive force generating portion 331 and the second attractive force generating portion 332 are arranged so as to be symmetrical with respect to the symmetrical point S1.

第1実施形態では、上述のとおり各引力発生部を配置することによって、第1テーブル3及び第2テーブル4のヨーイング方向のモーメント剛性を確保することができる。 In the first embodiment, the moment rigidity in the yawing direction of the first table 3 and the second table 4 can be ensured by arranging the respective attractive force generating portions as described above.

図6は、第2テーブル4が正しく設置されなかった場合の様子の一例を示す図である。図6に示すように、本実施形態では、第2テーブル4が正しく設置されなかった場合、例えば、第2引力発生部331と、第4引力発生部431が重なっていても、第3引力発生部422と、第1引力発生部321とが重なっている。この場合、第2テーブル4は、正常に取り付けられた場合とは、異なる姿勢で取り付けられることとなる。これにより、本実施形態では、作業者などは、第2テーブル4が正しく設置されていないことを、目視のみで容易に把握することができる。 FIG. 6 is a diagram showing an example of a situation when the second table 4 is not installed correctly. As shown in FIG. 6, in the present embodiment, when the second table 4 is not installed correctly, for example, even if the second attractive force generating section 331 and the fourth attractive force generating section 431 overlap each other, the third attractive force is generated. The portion 422 and the first attractive force generating portion 321 overlap. In this case, the second table 4 is attached in a posture different from that when it is attached normally. Accordingly, in the present embodiment, the operator or the like can easily recognize that the second table 4 is not properly installed only by visual inspection.

再び図1を参照する。筐体2のうち、少なくとも板状部材21は、耐熱性及び耐食性に優れた材料が用いられる。これにより、板状部材21も容易に滅菌処理を施すことができる。第2テーブル4及び筐体2は、テーブル装置1から容易に取り外すことができる。このため、第2テーブル4及び筐体2を、テーブル装置1から取り外して高温蒸気滅菌装置や乾熱滅菌装置に入れることで滅菌を行うことができる。この場合、板状部材21を含む筐体2の全体に耐熱性及び耐食性に優れた材料が用いられる。また、第1空間Pと第2空間Rとが筐体2によって分離されているため、例えばガスを注入して第2空間Rのみ滅菌することができる。 Refer to FIG. 1 again. At least the plate member 21 of the housing 2 is made of a material having excellent heat resistance and corrosion resistance. As a result, the plate member 21 can also be easily sterilized. The second table 4 and the housing 2 can be easily removed from the table device 1 . Therefore, sterilization can be performed by removing the second table 4 and the housing 2 from the table device 1 and placing them in a high temperature steam sterilization device or a dry heat sterilization device. In this case, a material having excellent heat resistance and corrosion resistance is used for the entire housing 2 including the plate member 21 . Further, since the first space P and the second space R are separated by the housing 2, it is possible to sterilize only the second space R by injecting gas, for example.

図1に示す第1移動機構6及び第2移動機構7は、XYステージである。第1移動機構6と第2移動機構7とは、同様の構成を有する。以下の説明については、第2移動機構7を例に挙げる。第2移動機構7の説明は、第1移動機構6の説明にも適用できる。 The first moving mechanism 6 and the second moving mechanism 7 shown in FIG. 1 are XY stages. The 1st moving mechanism 6 and the 2nd moving mechanism 7 have the same structure. In the following description, the second moving mechanism 7 will be taken as an example. The description of the second moving mechanism 7 can also be applied to the description of the first moving mechanism 6 .

図7は、第2移動機構7の構成の一例を示す側面図である。図7に示すように、第2移動機構7は、モータ71と、ボールねじ73と、ナット76と、筐体74とを含むボールねじ機構である。第2移動機構7は、モータ71から伝達された回転駆動力を、ボールねじ73の軸方向に沿った方向の運動に変換して第1基板31に伝達する駆動伝達部である。 FIG. 7 is a side view showing an example of the configuration of the second moving mechanism 7. As shown in FIG. As shown in FIG. 7 , the second moving mechanism 7 is a ball screw mechanism including a motor 71 , a ball screw 73 , a nut 76 and a housing 74 . The second moving mechanism 7 is a drive transmission unit that converts the rotational driving force transmitted from the motor 71 into motion in the axial direction of the ball screw 73 and transmits the motion to the first substrate 31 .

ボールねじ73と、ナット76とは、筐体74の内部に組み込まれる。ボールねじ73は、ナット76を貫通する。ボールねじ73は、筐体74に回転可能に支持されており、ボールねじ73の一端側は、シャフト72を介してモータ71と連結される。これにより、モータ71の出力が、ボールねじ73に伝達され、ボールねじ73が回転可能になっている。 The ball screw 73 and nut 76 are incorporated inside the housing 74 . Ball screw 73 passes through nut 76 . The ball screw 73 is rotatably supported by the housing 74 , and one end of the ball screw 73 is connected to the motor 71 via the shaft 72 . Thereby, the output of the motor 71 is transmitted to the ball screw 73, and the ball screw 73 is rotatable.

ナット76は、ガイドレール75に沿った方向に移動可能に設けられる。また、ナット76は、ガイドレール75に組み込まれることにより、回転が規制される。これにより、ナット76は、ボールねじ73の回転により軸方向に移動する。ナット76は、ボールねじ73の回転方向に応じて移動方向が切り換えられる。 The nut 76 is provided movably along the guide rail 75 . Moreover, rotation of the nut 76 is restricted by being incorporated in the guide rail 75 . As a result, the nut 76 moves axially as the ball screw 73 rotates. The direction of movement of the nut 76 is switched according to the direction of rotation of the ball screw 73 .

連結部77は、ナット76と第1基板31とを連結する部材であり、ナット76の移動とともに軸方向に移動可能となっている。連結部77の厚さや平面形状を適宜変更することで、第1基板31の平面形状や高さ位置を変更する場合であっても、第1基板31とナット76とを良好に連結できる。 The connecting portion 77 is a member that connects the nut 76 and the first substrate 31 and is movable in the axial direction along with the movement of the nut 76 . By appropriately changing the thickness and planar shape of the connecting portion 77, the first substrate 31 and the nut 76 can be satisfactorily connected even when the planar shape and height position of the first substrate 31 are changed.

以上のような構成により、第2移動機構7は、モータ71の回転駆動がボールねじ73に伝達されると、ナット76とともに第1基板31が軸方向に移動する。図1に示すように、第1移動機構6には第2移動機構7が移動可能に固定されている。第1移動機構6の動作により、第2移動機構7及び第1テーブル3はX方向に移動可能となっている。第2移動機構7の動作により、第1テーブル3はY方向に移動可能となっている。このようにして、第1テーブル3は、板状部材21と平行な平面を移動できる。 With the above configuration, the second moving mechanism 7 moves the first substrate 31 along with the nut 76 in the axial direction when the rotational drive of the motor 71 is transmitted to the ball screw 73 . As shown in FIG. 1 , a second moving mechanism 7 is movably fixed to the first moving mechanism 6 . The operation of the first moving mechanism 6 allows the second moving mechanism 7 and the first table 3 to move in the X direction. The operation of the second moving mechanism 7 allows the first table 3 to move in the Y direction. In this manner, the first table 3 can move on a plane parallel to the plate member 21 .

第1移動機構6及び第2移動機構7の構成はあくまで一例であり、本発明を限定するものではない。第1移動機構6及び第2移動機構7は、第1基板31を含む第1テーブル3を移動させることができる構成であればよい。第1移動機構6及び第2移動機構7としては、この他、種々の移動機構を用いることができ、例えば、リニアモータを用いる移動機構等も用いることができる。 The configurations of the first moving mechanism 6 and the second moving mechanism 7 are merely examples, and do not limit the present invention. The first moving mechanism 6 and the second moving mechanism 7 may be configured to move the first table 3 including the first substrate 31 . Various other moving mechanisms can be used as the first moving mechanism 6 and the second moving mechanism 7, and for example, a moving mechanism using a linear motor can be used.

[第2実施形態]
図8と、図9とを用いて、本発明の第2実施形態に係る各引力発生部の配置について説明する。図8は、本発明の第2実施形態に係る第1基板の平面図である。図9は、本発明の第2実施形態に係る第2基板の平面図である。なお、第2実施形態の各引力発生部配置以外の構造は、第1実施形態と同様なので、説明は省略する。
[Second embodiment]
Arrangement of each attractive force generation unit according to the second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 8 and 9. FIG. FIG. 8 is a plan view of a first substrate according to a second embodiment of the invention. FIG. 9 is a plan view of a second substrate according to a second embodiment of the invention. The structure of the second embodiment other than the arrangement of the attractive force generating portions is the same as that of the first embodiment, so the description is omitted.

図8に示すように、第2実施形態では、第1テーブル3Aの第1基板31Aにおいて、仮想線B1と、仮想線B2との交点を対称点S2とする。この場合、第2実施形態では、第1引力発生部321Aと、第1引力発生部322Aとは、対称点S2に対し、点対称に配置される。第1引力発生部321Aと、第2引力発生部331Aとは、仮想線B2に対し、非線対称に配置される。第1引力発生部321Aと、第2引力発生部332Aとは、仮想線B1に対し、非線対称に配置される。 As shown in FIG. 8, in the second embodiment, on the first substrate 31A of the first table 3A, the point of intersection between the virtual line B1 and the virtual line B2 is the symmetry point S2. In this case, in the second embodiment, the first attractive force generating portion 321A and the first attractive force generating portion 322A are arranged point-symmetrically with respect to the symmetry point S2. The first attractive force generating portion 321A and the second attractive force generating portion 331A are arranged asymmetrically with respect to the virtual line B2. The first attractive force generating portion 321A and the second attractive force generating portion 332A are arranged asymmetrically with respect to the virtual line B1.

第1引力発生部322Aと、第2引力発生部331Aとは、仮想線B1に対し、非線対称に配置される。第1引力発生部322Aと、第2引力発生部332Aとは、仮想線B2に対し、非線対称に配置される。 The first attractive force generating portion 322A and the second attractive force generating portion 331A are arranged asymmetrically with respect to the virtual line B1. The first attractive force generating portion 322A and the second attractive force generating portion 332A are arranged asymmetrically with respect to the virtual line B2.

第2引力発生部331Aと、第2引力発生部332Aとは、対称点S2に対し、点対称に配置される。すなわち、第2実施形態では、各引力発生部は、第2引力発生部331A、第1引力発生部321A、第2引力発生部332A、第1引力発生部322A、第2引力発生部331Aの順に結ぶ線が平行四辺形となるように配置される。 The second attractive force generating portion 331A and the second attractive force generating portion 332A are arranged symmetrically with respect to the symmetrical point S2. That is, in the second embodiment, the attraction force generation portions are arranged in the order of the second attraction force generation portion 331A, the first attraction force generation portion 321A, the second attraction force generation portion 332A, the first attraction force generation portion 322A, and the second attraction force generation portion 331A. The connecting lines are arranged to form a parallelogram.

図9に示すように、第2テーブル4Aの第2基板41Aにおいて、第2実施形態では、仮想線B3と、仮想線B4との交点を対称点S3とする。この場合、第2実施形態では、第3引力発生部421Aと、第3引力発生部422Aとは、対称点S3に対し、点対称に配置される。第3引力発生部421Aと、第4引力発生部431Aとは、仮想線B4に対し、非線対称に配置される。第3引力発生部421Aと、第4引力発生部432Aとは、仮想線B3に対し、非線対称に配置される。 As shown in FIG. 9, in the second substrate 41A of the second table 4A, in the second embodiment, the point of intersection between the virtual line B3 and the virtual line B4 is the symmetry point S3. In this case, in the second embodiment, the third attractive force generating portion 421A and the third attractive force generating portion 422A are arranged point-symmetrically with respect to the symmetry point S3. The third attractive force generating portion 421A and the fourth attractive force generating portion 431A are arranged asymmetrically with respect to the virtual line B4. The third attractive force generating portion 421A and the fourth attractive force generating portion 432A are arranged asymmetrically with respect to the virtual line B3.

第3引力発生部422Aと、第4引力発生部431Aとは、仮想線B3に対し、非線対称に配置される。第3引力発生部422Aと、第4引力発生部432Aとは、仮想線B4に対し、非線対称に配置される。 The third attractive force generating portion 422A and the fourth attractive force generating portion 431A are arranged asymmetrically with respect to the virtual line B3. The third attractive force generating portion 422A and the fourth attractive force generating portion 432A are arranged asymmetrically with respect to the virtual line B4.

第4引力発生部431Aと、第4引力発生部432Aとは、対称点S3に対し、点対称に配置される。すなわち、第2実施形態では、第4引力発生部431A、第3引力発生部421A、第4引力発生部432A、第3引力発生部422A、第4引力発生部431Aの順に結ぶ線が平行四辺形となるように配置する。 The fourth attractive force generating portion 431A and the fourth attractive force generating portion 432A are arranged symmetrically with respect to the symmetry point S3. That is, in the second embodiment, the line connecting the fourth attraction force generation portion 431A, the third attraction force generation portion 421A, the fourth attraction force generation portion 432A, the third attraction force generation portion 422A, and the fourth attraction force generation portion 431A in this order is a parallelogram. Arrange so that

図10を用いて、第1テーブル3Aに各引力発生部を配置する方法を、より具体的に説明する。図10は、第1テーブル3Aに各引力発生部を配置する方法を説明するための図である。なお、第2テーブル4Aに各引力発生部を配置する方法については、第1テーブル3Aの場合と同様なので、説明は省略する。 Using FIG. 10, a more specific description will be given of a method of arranging each attractive force generating section on the first table 3A. 10A and 10B are diagrams for explaining a method of arranging each attractive force generation unit on the first table 3A. The method of arranging each attractive force generating part on the second table 4A is the same as that for the first table 3A, so the explanation is omitted.

図10に示すように、第2引力発生部331Aと、第1引力発生部321Aとを結ぶ仮想線の中点をP1とする。第1引力発生部321Aと、第2引力発生部332Aとを結ぶ仮想線の交点をP2とする。第2引力発生部332Aと、第1引力発生部322Aとを結ぶ仮想線の中点をP3とする。第1引力発生部322Aと、第2引力発生部331Aとを結ぶ仮想線の中点をP4とする。そして、点P1と点P3とを結ぶ仮想線と、点P2と点P4とを結ぶ仮想線との交点を対称点S4とする。 As shown in FIG. 10, the midpoint of an imaginary line connecting the second attractive force generating portion 331A and the first attractive force generating portion 321A is defined as P1. Let P2 be the intersection point of the imaginary line connecting the first attractive force generating portion 321A and the second attractive force generating portion 332A. Let P3 be the midpoint of the virtual line connecting the second attractive force generating portion 332A and the first attractive force generating portion 322A. The midpoint of the imaginary line connecting the first attractive force generating portion 322A and the second attractive force generating portion 331A is assumed to be P4. A point of symmetry S4 is defined as the intersection of the virtual line connecting the points P1 and P3 and the virtual line connecting the points P2 and P4.

この場合、第2実施形態では、第1引力発生部321Aと、第1引力発生部322Aとを、対称点S4に対し、点対称となるように配置する。また、第2実施形態では、第2引力発生部331Aと、第2引力発生部332Aとを、対称点S4に対し、点対称となるように配置する。 In this case, in the second embodiment, the first attractive force generating portion 321A and the first attractive force generating portion 322A are arranged symmetrically with respect to the symmetry point S4. In addition, in the second embodiment, the second attractive force generating portion 331A and the second attractive force generating portion 332A are arranged symmetrically with respect to the symmetry point S4.

第2実施形態では、上述のとおり各引力発生部を配置することによって、第1テーブル3A及び第2テーブル4Aのヨーイング方向のモーメント剛性を確保することができる。 In the second embodiment, by arranging the attractive force generating portions as described above, it is possible to ensure the moment rigidity in the yawing direction of the first table 3A and the second table 4A.

図11は、第2テーブル4Aが正しく設置されなかった場合の様子の一例を示す図である。図11に示すように、第2実施形態では、例えば、第1引力発生部321Aと、第3引力発生部421Aとが正しく重なっていたとしても、第2テーブル4Aが正常に取り付けられた場合とは、異なる姿勢で取り付けられることがある。これにより、本実施形態では、作業者などは、第2テーブル4Aが正しく設置されていないことを、目視のみで容易に把握することができる。 FIG. 11 is a diagram showing an example of a situation when the second table 4A is not installed correctly. As shown in FIG. 11, in the second embodiment, for example, even if the first attractive force generating portion 321A and the third attractive force generating portion 421A are properly overlapped, the second table 4A is normally attached. may be mounted in different orientations. As a result, in this embodiment, the operator or the like can easily recognize that the second table 4A is not properly installed only by visual inspection.

[第3実施形態]
図12と、図13とを用いて、本発明の第3実施形態に係る各引力発生部の配置について説明する。図12は、本発明の第3実施形態に係る第1基板の平面図である。図13は、本発明の第3実施形態に係る第2基板の平面図である。なお、第3実施形態の各引力発生部配置以外の構造は、第1実施形態と同様なので、説明は省略する。
[Third embodiment]
12 and 13, the arrangement of each attractive force generating section according to the third embodiment of the present invention will be described. FIG. 12 is a plan view of the first substrate according to the third embodiment of the invention. FIG. 13 is a plan view of a second substrate according to the third embodiment of the invention. The structure of the third embodiment other than the arrangement of the attractive force generating portions is the same as that of the first embodiment, so the description is omitted.

図12に示すように、第1テーブル3Bの第1基板31Bにおいて、第3実施形態では、仮想線B1と、仮想線B2との交点を対称点S5とする。 As shown in FIG. 12, in the first substrate 31B of the first table 3B, in the third embodiment, the point of intersection between the virtual line B1 and the virtual line B2 is the symmetry point S5.

第3実施形態では、第1引力発生部321Bと、第1引力発生部322Bとは、対称点S5に対し、点対称に配置される。第1引力発生部321Bと、第2引力発生部331Bとは、仮想線B2に対し、線対称に配置される。第1引力発生部321Bと、第2引力発生部332Bとは、仮想線B1に対し、線対称に配置される。 In the third embodiment, the first attractive force generating portion 321B and the first attractive force generating portion 322B are arranged symmetrically with respect to the symmetrical point S5. The first attractive force generator 321B and the second attractive force generator 331B are arranged line-symmetrically with respect to the virtual line B2. The first attractive force generator 321B and the second attractive force generator 332B are arranged line-symmetrically with respect to the virtual line B1.

第1引力発生部322Bと、第2引力発生部331Bとは、仮想線B1に対し、線対称となるように配置される。第1引力発生部322Bと、第2引力発生部332Bとは、仮想線B2に対し、線対称となるように配置される。 The first attractive force generating portion 322B and the second attractive force generating portion 331B are arranged so as to be symmetrical with respect to the virtual line B1. The first attractive force generating portion 322B and the second attractive force generating portion 332B are arranged so as to be symmetrical with respect to the virtual line B2.

第2引力発生部331Bと、第2引力発生部332Bとは、対称点S5に対し、点対称に配置される。 The second attractive force generating portion 331B and the second attractive force generating portion 332B are arranged symmetrically with respect to the symmetry point S5.

図13に示すように、第2テーブル4Bの第2基板41Bにおいて、第3実施形態では、仮想線B3と、仮想線B4との交点を対称点S6とする。 As shown in FIG. 13, in the third embodiment, in the second substrate 41B of the second table 4B, the point of intersection between the virtual line B3 and the virtual line B4 is the symmetry point S6.

第3実施形態では、第3引力発生部421Bと、第3引力発生部422Bとは、対称点S6に対し、点対称に配置される。第3引力発生部421Bと、第4引力発生部431Bとは、仮想線B4に対し、線対称に配置される。第3引力発生部421Bと、第4引力発生部432Bとは、仮想線B3に対し、線対称に配置される。 In the third embodiment, the third attractive force generating portion 421B and the third attractive force generating portion 422B are arranged point-symmetrically with respect to the symmetry point S6. The third attractive force generator 421B and the fourth attractive force generator 431B are arranged line-symmetrically with respect to the virtual line B4. The third attractive force generator 421B and the fourth attractive force generator 432B are arranged line-symmetrically with respect to the virtual line B3.

第3引力発生部422Bと、第4引力発生部431Bとは、仮想線B3に対し、線対称に配置される。第3引力発生部422Bと、第4引力発生部432Bとは仮想線B4に対し、線対称に配置される。 The third attractive force generator 422B and the fourth attractive force generator 431B are arranged line-symmetrically with respect to the virtual line B3. The third attractive force generating portion 422B and the fourth attractive force generating portion 432B are arranged line-symmetrically with respect to the virtual line B4.

第4引力発生部431Bと、第4引力発生部432Bとは、対称点S6に対し、点対称に配置される。 The fourth attractive force generating portion 431B and the fourth attractive force generating portion 432B are arranged symmetrically with respect to the symmetry point S6.

図14を用いて、第1テーブル3Bに各引力発生部を配置する方法を、より具体的に説明する。図14は、第1テーブル3Bに各引力発生部を配置する方法を説明するための図である。なお、第2テーブル4Bに各引力発生部を配置する方法については、第1テーブル3Bの場合と同様なので、説明は省略する。 Using FIG. 14, a more specific description will be given of a method of arranging each attractive force generating section on the first table 3B. 14A and 14B are diagrams for explaining a method of arranging each attractive force generation unit on the first table 3B. The method of arranging each attractive force generating part on the second table 4B is the same as that for the first table 3B, so the explanation is omitted.

図14に示すように、第2引力発生部331Bと、第1引力発生部321Bとを結ぶ仮想線の中点をP1とする。第1引力発生部321Bと、第2引力発生部332Bとを結ぶ仮想線の交点をP2とする。第2引力発生部332Bと、第1引力発生部322Bとを結ぶ仮想線の中点をP3とする。第1引力発生部322Bと、第2引力発生部331Bとを結ぶ仮想線の中点をP4とする。そして、点P1と点P3とを結ぶ仮想線と、点P2と点P4とを結ぶ仮想線との交点を対称点S7とする。 As shown in FIG. 14, the midpoint of the imaginary line connecting the second attractive force generating portion 331B and the first attractive force generating portion 321B is defined as P1. Let P2 be the intersection point of the imaginary line connecting the first attractive force generating portion 321B and the second attractive force generating portion 332B. The midpoint of the imaginary line connecting the second attractive force generating portion 332B and the first attractive force generating portion 322B is assumed to be P3. The midpoint of the imaginary line connecting the first attractive force generating portion 322B and the second attractive force generating portion 331B is assumed to be P4. The point of intersection of the virtual line connecting the points P1 and P3 and the virtual line connecting the points P2 and P4 is defined as a symmetry point S7.

この場合、第3実施形態では、第1引力発生部321Bと、第1引力発生部322Bとを、対称点S7に対し、点対称となるように配置する。また、第3実施形態では、第2引力発生部331Bと、第2引力発生部332Bとを、対称点S7に対し、点対称となるように配置する。 In this case, in the third embodiment, the first attractive force generating portion 321B and the first attractive force generating portion 322B are arranged symmetrically with respect to the symmetry point S7. In addition, in the third embodiment, the second attractive force generating portion 331B and the second attractive force generating portion 332B are arranged so as to be symmetrical with respect to the symmetrical point S7.

第3実施形態では、上述のように各引力発生部を配置することによって、第1テーブル3B及び第2テーブル4Bのヨーイング方向のモーメント剛性を確保することができる。 In the third embodiment, by arranging the respective attractive force generating portions as described above, it is possible to ensure the moment rigidity in the yawing direction of the first table 3B and the second table 4B.

図15は、第2テーブル4Bが正しく設置されなかった場合の様子の一例を示す図である。図15に示すように、本実施形態では、例えば、第1引力発生部321Bと、第3引力発生部421Bとが正しく重なっていたとしても、第2テーブル4Bが正常に取り付けられた場合とは、異なる姿勢で取り付けられることがある。これにより、本実施形態では、作業者などは、第2テーブル4Bが正しく設置されていないことを、目視のみで容易に把握することができる。 FIG. 15 is a diagram showing an example of a situation when the second table 4B is not installed correctly. As shown in FIG. 15, in the present embodiment, for example, even if the first attractive force generating portion 321B and the third attractive force generating portion 421B are properly overlapped, the second table 4B is normally attached. , may be mounted in different orientations. Accordingly, in the present embodiment, the operator or the like can easily recognize that the second table 4B is not properly installed only by visual inspection.

上述の本発明の各実施形態では、各引力発生部には、腐食を防止するために耐食層で覆われていることが好ましい。例えば、各引力発生部は、フッ素でコーティングされていることが好ましい。また、各実施形態の第1支持部34及び第2支持部44は、例えば、ステンレス製の材料から構成されており、その表面にはフッ素油焼付け膜を形成する処理が施されていることが好ましい。その他の部材には、オーステナイト系のステンレス(SUS304、SUS316など)を用いることが好ましい。これにより、耐食性を確保し、腐食性を有するガスを使用するガス滅菌処理を施すことができる。したがって、各実施形態において、テーブル装置1を滅菌環境で使用することができる。各実施形態において、耐食性とは、例えば、生理食塩水や、腐食性を有するガスへの耐性を示す。耐食性の強さは、テーブル装置1を使用する目的に応じて、適宜設定可能である。テーブル装置1を構成する各部材に耐食性を付与するために、PEEK(Poly Ether Ether Ketone:ポリエーテルエーテルケトン)や、フッ素樹脂などの高い耐食性を有する樹脂を使用してもよい。また、各部材は、SUJ2(高炭素クロム軸受鋼鋼材)などの鋼にフッ素油焼付け膜を形成する処理を施した構成としてもよい。 In each embodiment of the present invention described above, each attraction generating portion is preferably covered with a corrosion-resistant layer to prevent corrosion. For example, each attractive force generating part is preferably coated with fluorine. In addition, the first support portion 34 and the second support portion 44 of each embodiment are made of, for example, a stainless steel material, and the surfaces thereof are processed to form a fluorine oil baking film. preferable. It is preferable to use austenitic stainless steel (SUS304, SUS316, etc.) for other members. As a result, corrosion resistance can be ensured, and gas sterilization using corrosive gas can be performed. Therefore, in each embodiment the table apparatus 1 can be used in a sterile environment. In each embodiment, corrosion resistance indicates resistance to, for example, physiological saline and corrosive gases. The strength of corrosion resistance can be appropriately set according to the purpose of using the table device 1 . In order to impart corrosion resistance to each member constituting the table device 1, PEEK (Poly Ether Ether Ketone) or resin having high corrosion resistance such as fluorine resin may be used. Further, each member may be made of steel such as SUJ2 (high carbon chromium bearing steel) which is processed to form a fluorinated oil baking film.

また、上述したとおり、本発明の各実施形態では、各引力発生部は磁石である。このため、各引力発生部を駆動させるための駆動回路や配線を設ける必要がなく、第1基板31及び第2基板41の構成を簡便にできる。つまり、第2空間Rには、第2基板41を移動させるための移動機構、駆動回路、配線等を設ける必要がない。また、各引力発生部に耐熱ネオジム磁石を用いる場合には、耐熱温度は150℃程度ある。そして、第2基板41と、第3引力発生部421と、422と、第4引力発生部431、432と、第2支持部44とに耐熱性に優れた材料が用いられる。このため、テーブル装置1を、例えば、バイオ用途などのクリーン環境で使用する場合、第2テーブル4を高温蒸気滅菌や乾熱滅菌などにより容易に滅菌処理を施すことができる。 Also, as described above, in each embodiment of the present invention, each attractive force generator is a magnet. Therefore, it is not necessary to provide a drive circuit or wiring for driving each attractive force generating section, and the configurations of the first substrate 31 and the second substrate 41 can be simplified. In other words, there is no need to provide a moving mechanism, drive circuit, wiring, etc. for moving the second substrate 41 in the second space R. Moreover, when a heat-resistant neodymium magnet is used for each attractive force generating part, the heat-resistant temperature is about 150.degree. A material having excellent heat resistance is used for the second substrate 41, the third attractive force generating portions 421 and 422, the fourth attractive force generating portions 431 and 432, and the second support portion . Therefore, when the table device 1 is used in a clean environment such as biotechnology, the second table 4 can be easily sterilized by high-temperature steam sterilization, dry heat sterilization, or the like.

なお、各実施形態において、各引力発生部は磁石であるが、これに限定されない。例えば、各引力発生部は、コイルとヨークとを含む構成であってもよい。この場合、コイルに流れる電流を変化させることで、各引力発生部とそれに対抗する引力発生部との間に引力を発生させることができる。 In addition, in each embodiment, although each attractive force generation part is a magnet, it is not limited to this. For example, each attractive force generator may be configured to include a coil and a yoke. In this case, by changing the current flowing through the coil, it is possible to generate an attractive force between each attractive force generating portion and the opposing attractive force generating portion.

1 テーブル装置
2 筐体
21 板状部材
21a 第1面
21b 第2面
3,3A,3B 第1テーブル
31,31A,31B 第1基板
31a 第1主面
31b 第2主面
32,321,322,321A,322A,321B,322B 第1引力発生部
33,331,332,331A,332A,331B,332B 第2引力発生部
34 第1支持部
4,4A 4B 第2テーブル
41,41A,41B 第2基板
41a 第3主面
41b 第4主面
42,421,422,421A,422A,421B,422B 第3引力発生部
43,431,432,431A,432A,431B,432B 第4引力発生部
44 第2支持部
6 第1移動機構
7 第2移動機構
77 連結部
P 第1空間
R 第2空間
1 table device 2 housing 21 plate member 21a first surface 21b second surface 3, 3A, 3B first table 31, 31A, 31B first substrate 31a first main surface 31b second main surface 32, 321, 322, 321A, 322A, 321B, 322B 1st attractive force generating part 33, 331, 332, 331A, 332A, 331B, 332B 2nd attractive force generating part 34 1st supporting part 4, 4A 4B 2nd table 41, 41A, 41B 2nd substrate 41a third main surface 41b fourth main surface 42, 421, 422, 421A, 422A, 421B, 422B third attractive force generating portion 43, 431, 432, 431A, 432A, 431B, 432B fourth attractive force generating portion 44 second support Part 6 First Moving Mechanism 7 Second Moving Mechanism 77 Connecting Part P First Space R Second Space

Claims (8)

第1面と、前記第1面と反対側の第2面とを有し、前記第1面側の第1空間と、前記第2面側の第2空間とを区切る板状部材と、
前記板状部材の前記第1面と対向する第1基板と、
前記板状部材を介して前記第1基板と対向する第2基板と、
前記第1空間に設けられ、前記第1基板を移動させる移動機構と、
前記第2基板と前記第2面との間に設けられ、前記第2基板を移動可能に支持する支持部と、を備え、
前記第1基板において、前記第1面と対向する面には、第1極性が前記第1面と対向する第1引力発生部と、前記第1極性とは異なる第2極性が前記第1面と対向する第2引力発生部とが2つずつ設けられ、
前記第2基板において、前記第2面と対向する面には、前記板状部材を介して前記第2極性が前記第1引力発生部と対向する第3引力発生部と、前記板状部材を介して前記第1極性が前記第2引力発生部と対向する第4引力発生部2つずつ設けられ
一方の前記第1引力発生部と、他方の前記第1引力発生部と、一方の前記第2引力発生部と、他方の前記第2引力発生部とを結んで得られる四角形において、対向する辺の中点を結んだ仮想線同士の交点を第1対称点とした場合、一方の前記第1引力発生部と、他方の前記第1引力発生部とは、前記第1対称点に対して点対称に配置され、一方の前記第2引力発生部と、他方の前記第2引力発生部とは、前記第1対称点に対して点対称に配置されており、
一方の前記第3引力発生部と、他方の前記第3引力発生部と、一方の前記第4引力発生部と、他方の前記第4引力発生部とを結んで得られる四角形において、対向する辺の中点を結んだ仮想線同士の交点を第2対称点とした場合、一方の前記第3引力発生部と、他方の前記第3引力発生部とは、前記第2対称点に対して点対称に配置され、一方の前記第4引力発生部と、他方の前記第4引力発生部とは、前記第2対称点に対して点対称に配置されている、
テーブル装置。
a plate-shaped member having a first surface and a second surface opposite to the first surface and separating a first space on the side of the first surface from a second space on the side of the second surface;
a first substrate facing the first surface of the plate member;
a second substrate facing the first substrate via the plate member;
a moving mechanism provided in the first space for moving the first substrate;
a support part provided between the second substrate and the second surface and movably supporting the second substrate;
In the first substrate, a surface facing the first surface includes a first attractive force generating portion having a first polarity facing the first surface and a second polarity different from the first polarity. and two second attractive force generation units facing each other ,
In the second substrate, on a surface facing the second surface, a third attraction force generation portion having the second polarity facing the first attraction force generation portion via the plate member, and the plate member. Two fourth attraction force generation units are provided in which the first polarity is opposed to the second attraction force generation unit through each ,
Opposing sides of a quadrangle obtained by connecting the first attraction generating portion on one side, the first attraction generating portion on the other side, the second attraction generating portion on one side, and the second attraction generating portion on the other side When the intersection of the virtual lines connecting the midpoints of is set as the first symmetry point, the first attraction force generation part on one side and the first attraction force generation part on the other side are points with respect to the first symmetry point one of the second attraction force generating portions and the other of the second attraction force generating portions are arranged symmetrically with respect to the first point of symmetry,
Opposing sides in a quadrangle obtained by connecting the third attraction generating part on one side, the third attraction generating part on the other side, the fourth attraction generating part on one side, and the fourth attraction generating part on the other side When the intersection of the virtual lines connecting the midpoints of is set as the second symmetric point, the third attraction generating part on one side and the third attraction generating part on the other side are points with respect to the second symmetric point The fourth attractive force generating portion on one side and the fourth attractive force generating portion on the other side are arranged symmetrically with respect to the second point of symmetry ,
table device.
前記第1引力発生部と、前記第2引力発生部と、前記第3引力発生部と、前記第4引力発生部とは、それぞれ、磁石である、
請求項1に記載のテーブル装置。
The first attraction force generation unit, the second attraction force generation unit, the third attraction force generation unit, and the fourth attraction force generation unit are magnets, respectively.
The table device according to claim 1.
前記第1基板及び前記第2基板は、矩形形状であり、
一方の前記第1引力発生部及び他方の前記第1引力発生部と、一方の前記第2引力発生部及び他方の前記第2引力発生部とは、それぞれ、前記第1基板において、対向する各辺の中点を結んだ線上に線対称となるように配置され、
一方の前記第3引力発生部及び他方の前記第3引力発生部と、一方の前記第4引力発生部及び他方の前記第4引力発生部とは、それぞれ、前記第2基板において、対向する各辺の中点を結んだ線上に線対称となるように配置されている、
請求項1または2に記載のテーブル装置。
The first substrate and the second substrate are rectangular,
The first attractive force generating portion on one side and the first attractive force generating portion on the other side, and the second attractive force generating portion on one side and the second attractive force generating portion on the other side are opposed to each other on the first substrate. It is arranged so as to be symmetrical on the line connecting the midpoints of the sides,
The third attractive force generating portion on one side and the third attractive force generating portion on the other side, and the fourth attractive force generating portion on one side and the fourth attractive force generating portion on the other side are opposed to each other on the second substrate. are arranged symmetrically on the line connecting the midpoints of the sides,
3. The table device according to claim 1 or 2 .
前記第1基板及び前記第2基板は、矩形形状であり、
一方の前記第1引力発生部と、他方の前記第1引力発生部とは、前記第1基板において、一方の前記第2引力発生部と、他方の前記第2引力発生部とに対し、対向する各辺の中点を結んだ線に対し非線対称に配置され、
一方の前記第1引力発生部及び他方の前記第1引力発生部と、一方の前記第2引力発生部及び他方の前記第2引力発生部とは、それぞれ、前記各辺の中点を結んだ線の交点を対称点として点対称に配置され、
一方の前記第3引力発生部と、他方の前記第3引力発生部とは、前記第2基板において、一方の前記第4引力発生部と、他方の前記第4引力発生部とに対し、対向する各辺の中点を結んだ線に対し非線対称に配置され、
一方の前記第3引力発生部及び他方の前記第3引力発生部と、一方の前記第4引力発生部及び他方の前記第4引力発生部とは、それぞれ、前記各辺の中点を結んだ線の交点を対称点として点対称に配置されている、
請求項1または2に記載のテーブル装置。
The first substrate and the second substrate are rectangular,
One of the first attractive force generating portions and the other of the first attractive force generating portions are opposed to the one of the second attractive force generating portions and the other of the second attractive force generating portions on the first substrate. are arranged asymmetrically with respect to the line connecting the midpoints of each side of
The first attractive force generating portion on one side and the first attractive force generating portion on the other side, and the second attractive force generating portion on one side and the second attractive force generating portion on the other side respectively connect the midpoints of the respective sides. It is arranged symmetrically with the intersection of the lines as the symmetrical point,
One of the third attractive force generating portions and the other of the third attractive force generating portions are opposed to the one of the fourth attractive force generating portions and the other of the fourth attractive force generating portions on the second substrate. are arranged asymmetrically with respect to the line connecting the midpoints of each side of
The third attractive force generating portion on one side and the third attractive force generating portion on the other side, and the fourth attractive force generating portion on one side and the fourth attractive force generating portion on the other side respectively connect the midpoints of the respective sides. are arranged symmetrically with the intersection of the lines as the point of symmetry,
3. The table device according to claim 1 or 2 .
前記第1基板及び前記第2基板は、矩形形状であり、
一方の前記第1引力発生部と、他方の前記第1引力発生部とは、前記第1基板において、一方の前記第2引力発生部と、他方の前記第2引力発生部とに対して、対向する各辺の中点を結んだ線に対し線対称に配置され、
一方の前記第1引力発生部及び他方の前記第1引力発生部と、一方の前記第2引力発生部及び他方の前記第2引力発生部とは、それぞれ、前記各辺の中点を結んだ線の交点を対称点として点対称に配置され、
一方の前記第3引力発生部と、他方の前記第3引力発生部とは、前記第2基板において、一方の前記第4引力発生部と、他方の前記第4引力発生部とに対し、対向する各辺の中点を結んだ線に対し線対称に配置され、
一方の前記第3引力発生部及び他方の前記第3引力発生部と、一方の前記第4引力発生部及び他方の前記第4引力発生部とは、それぞれ、前記各辺の中点を結んだ線の交点を対称点として点対称に配置されている、
請求項1または2に記載のテーブル装置。
The first substrate and the second substrate are rectangular,
One of the first attractive force generating portions and the other of the first attractive force generating portions is, in the first substrate, relative to the one of the second attractive force generating portions and the other of the second attractive force generating portions, arranged symmetrically with respect to the line connecting the midpoints of the opposing sides,
The first attractive force generating portion on one side and the first attractive force generating portion on the other side, and the second attractive force generating portion on one side and the second attractive force generating portion on the other side respectively connect the midpoints of the respective sides. It is arranged symmetrically with the intersection of the lines as the symmetrical point,
One of the third attractive force generating portions and the other of the third attractive force generating portions are opposed to the one of the fourth attractive force generating portions and the other of the fourth attractive force generating portions on the second substrate. are arranged symmetrically with respect to the line connecting the midpoints of each side,
The third attractive force generating portion on one side and the third attractive force generating portion on the other side, and the fourth attractive force generating portion on one side and the fourth attractive force generating portion on the other side respectively connect the midpoints of the respective sides. are arranged symmetrically with the intersection of the lines as the point of symmetry,
3. The table device according to claim 1 or 2 .
前記第1引力発生部と、前記第2引力発生部と、前記第3引力発生部と、前記第4引力発生部は、それぞれ、耐食層で覆われている、
請求項1からのいずれか1項に記載のテーブル装置。
The first attraction force generation unit, the second attraction force generation unit, the third attraction force generation unit, and the fourth attraction force generation unit are each covered with a corrosion-resistant layer,
The table device according to any one of claims 1 to 5 .
前記支持部は、前記第2基板に固定されたハウジングと、
前記ハウジングの内部に、回転可能に設けられたボールと、を有する、
請求項1からのいずれか1項に記載のテーブル装置。
the support portion includes a housing fixed to the second substrate;
a ball rotatably mounted within the housing;
A table device according to any one of claims 1 to 6 .
前記板状部材及び前記第2基板は、耐熱材料である、
請求項1からのいずれか1項に記載のテーブル装置。
The plate member and the second substrate are heat-resistant materials,
A table device according to any one of claims 1 to 7 .
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