JP7152826B1

JP7152826B1 - 足裏接触体

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Publication number: JP7152826B1
Application number: JP2022521647A
Authority: JP
Inventors: 茂鹿濱
Original assignee: SHIKAHAMA CO., LTD.
Current assignee: SHIKAHAMA CO., LTD.
Priority date: 2021-09-10
Filing date: 2021-12-13
Publication date: 2022-10-13
Anticipated expiration: 2041-12-13
Also published as: US20240381974A1; EP4381982A1; JPWO2023037568A1; KR20240027109A

Abstract

靴や運動靴やサンダルなどの履き物における足裏接触体である。第２趾、第３趾および第４趾に対しそれぞれ接してこれらの中足趾節関節及び近位趾節間関節の位置を持ち上げるように構成され、かつ、第１趾と第５趾の間に納まるように構成されてこの第１趾と第５趾はその全長に亘って持ち上げないように構成された隆起部を備えている。この隆起部に、前記第１趾に対しその中足趾節関節の位置よりも指先側で前記第１趾の側部に接する第１趾側段差面と、前記第５趾に対しその中足趾節関節の位置よりも指先側で前記第５趾の側部に接する第５趾側段差面とを備えさせてなる。【選択図】図１０

Description

この発明は、外反母趾及び内反小趾の矯正に適した靴や運動靴やサンダルなどの履き物における足裏接触体の改良に関する。

ハイヒール用中敷として、特許文献１に示されるものがある。特許文献１のものでは、足の指先部に対応した横断的な前部隆起部を備えており、つま先の荷重面を拡大することで、つま先の側方への傾きを防止できるとされ、これにより、外反母趾の要因となる足のゆがみも予防できるとされている。

しかしながら、特許文献１のものは、ハイヒールの着用に伴う足のゆがみを予防するに留まるものであった。

また、ハイヒール靴用インソールとして、特許文献２に示されるものがある。特許文献２のものでは、横アーチを形成するための隆起部と、第１趾と第５趾の母指球（中足趾節関節／ＭＴＰ関節下の組織）の納まる窪み部とを備えている（特許文献２の図１Ａ、図１Ｂ、段落番号００２７参照）。

しかしながら、特許文献２のものでは、第１趾と第５趾の指球よりも指先側は前記隆起部によって持ち上げられる。したがってまた、特許文献２のものでは、前記隆起部によって、第１趾と第５趾の指球よりも指先側において第１趾に内足側に向けた矯正力を作用させることはできず、また、第５趾に外足側に向けた矯正力を作用させることはできない。

特許第５３６４７９７号公報特開２０１２－２２３３２１号公報

この発明が解決しようとする主たる問題点は、履き物を着用して日常を生活することを通じて、無理なく自然に且つ効果的に、足における横アーチの崩れを矯正し、足の横アーチを正常な状態に戻して外反母趾や内反小趾を矯正することが可能な足裏接触体を提供することにある。

前記課題を達成するために、この発明にあっては、足裏接触体を、靴や運動靴やサンダルなどの履き物における足裏接触体であって、
第２趾、第３趾および第４趾に対しそれぞれ接してこれらの中足趾節関節及び近位趾節間関節の位置を持ち上げるように構成され、かつ、第１趾と第５趾の間に納まるように構成されてこの第１趾と第５趾はその全長に亘って持ち上げないように構成された隆起部を備えており、
この隆起部に、前記第１趾に対しその中足趾節関節の位置よりも指先側で前記第１趾の側部に接する第１趾側段差面と、
前記第５趾に対しその中足趾節関節の位置よりも指先側で前記第５趾の側部に接する第５趾側段差面とを備えさせてなる、ものとした。

かかる構成によれば、第２趾～第４趾の中足趾節関節及び近位趾節間関節の位置を持ち上げることができる。一方、第１趾及び第５趾下には隆起部がなく、第１趾と第５趾はその全長に亘って持ち上げられない。中足趾節関節の位置での靱帯の長さは変わらないことから、第１趾は中足趾節関節の位置で外足側に引かれると共に、第５趾は中足趾節関節の位置で内足側に引かれる。
第２趾～第４趾を中足趾節関節の位置のみならず、近位趾節間関節の位置でも持ち上げることで、第２趾～第４趾を中足趾節関節よりも指先側においてこれらを持ち上げるてこ状の力を第２趾～第４趾の中足趾節関節側に作用させることができ、前記靱帯に対してより効果的な変化を生じさせることができる。
以上により足における正常な横アーチが効果的に再生される。
第５趾に作用される矯正力は第１趾の矯正力としても相乗的に作用され、外反母趾の効果的な矯正が実現される。中足趾節関節より指先側では第１趾側段差面が第１趾の側部に接して第１趾に内足側への矯正力を作用し、第５趾側段差面が第５趾の側部に接して第５趾に外足側への矯正力を作用し、これらも外反母趾及び内反小趾の矯正に寄与する。

前記隆起部を間に置いた内足側に前記第１趾が持ち上げられることなく納まる空間が形成され、かつ、前記隆起部を間に置いた外足側に前記第５趾が持ち上げられることなく納まる空間が形成されるようにすることが、この発明の態様の一つとされる。

また、前記第１趾側段差面を、前記隆起部の左右の基部を含む仮想の横向き平面に対し、前記隆起部の中央側において、９０度～６０度の角度をもって交わる仮想の縦向き平面に沿うように形成させると共に、
前記第５趾側段差面を、前記横向き平面に対し、前記隆起部の中央側において、９０度～６０度の角度をもって交わる仮想の縦向き平面に沿うように形成させることが、この発明の態様の一つとされる。

また、前記第１趾側段差面の高さの最大値を８ｍｍ～１１ｍｍの範囲とし、第５趾側段差面の高さの最大値を４ｍｍ～７ｍｍの範囲とすることが、この発明の態様の一つとされる。

また、前記第１趾側段差面及び前記第５趾側段差面における少なくとも前記第１趾及び前記第５趾の指先側の側部に接する箇所の一部を、前記隆起部の中央側を湾曲外側とする緩やかな湾曲を持つように形成させることが、この発明の態様の一つとされる。

また、前記第２趾、前記第３趾および前記第４趾の指先側にそれぞれ接するつま先側斜面を備えさせるようにすることが、この発明の態様の一つとされる。このようにした場合、第２趾～第４趾の指先下には、つま先側斜面が存在し、前記のように第２趾～第４趾の中足趾節関節及び近位趾節間関節の位置を持ち上げられた状態で第２趾～第４趾の指先側は浮いた状態とはならず、つま先側斜面を利用して踏ん張ることができる状態に置かれる。持ち上げられた第２趾～第４趾が前記のように踏ん張れるようにすることで、これらより第１趾と第５趾を下方に位置させた横アーチが効果的に再生されることが認められた。

また、前記隆起部における前記つま先側斜面よりも後方となる部分は、後方に向かうに連れて、その高さ及び左右方向の寸法を漸減するように構成しておくことが、この発明の態様の一つとされる。

また、前記第１趾側段差面の直上位置に、前記隆起部の上面から突き出す前後方向に続く畝状部を形成させておくことが、この発明の態様の一つとされる。

また、前記畝状部の前記隆起部の上面からの突き出し寸法を５ｍｍ～９ｍｍの範囲とし、前記畝状部の幅寸法を３ｍｍ～８ｍｍの範囲とすることが、この発明の態様の一つとされる。

また、前記畝状部の内足側に向けられた側面を前記第１趾側段差面と面一とさせておくことが、この発明の態様の一つとされる。

この発明によれば、前記足裏接触体を備えた履き物を着用して日常を生活することを通じて、無理なく自然に且つ効果的に、足における横アーチの崩れを矯正し、足の横アーチを正常な状態に戻して外反母趾や内反小趾を矯正することができる。

図１は、この発明の一実施の形態にかかる足裏接触体（第一例）の斜視構成図であり、隆起部を実線で、ベース部の要部を想像線で示している。図２は、前記第一例の平面構成図であり、隆起部を実線で、ベース部を想像線で示している。図３は、図２におけるＡ－Ａ線位置での切断端面構成図である。図４は、図２におけるＢ－Ｂ線位置での切断端面構成図である。図５は、図２におけるＣ－Ｃ線位置での切断端面構成図である。図６は、図２におけるＤ－Ｄ線位置での切断端面構成図である。図７は、図２におけるＥ－Ｅ線位置での切断端面構成図である。図８は、図２におけるＦ－Ｆ線位置での切断端面構成図である。図９は、図２におけるＧ－Ｇ線位置での切断端面構成図である。図１０は、前記第一例の機能を理解し易いように、隆起部と左の足の骨格とを一緒に表した平面構成図である。図１１は、図１０におけるＨ－Ｈ線位置での切断端面構成図である。図１２は、この発明の一実施の形態にかかる足裏接触体（第二例）の斜視構成図であり、隆起部を実線で、ベース部の要部を想像線で示している。図１３は、前記第二例の平面構成図であり、隆起部を実線で、ベース部を想像線で示している。図１４は、図１３におけるＩ－Ｉ線位置での切断端面構成図である。図１５は、図１３におけるＪ－Ｊ線位置での切断端面構成図である。図１６は、図１３におけるＫ－Ｋ線位置での切断端面構成図である。図１７は、図１３におけるＬ－Ｌ線位置での切断端面構成図である。図１８は、図１３におけるＭ－Ｍ線位置での切断端面構成図である。図１９は、正常な左足の骨構造を示した平面構成図である。図２０は、正常な左足における中足趾節関節位置での断面構成図である。図２１は、外反母趾となった左足の骨構造を示した平面構成図である。図２２は、外反母趾となった左足における中足趾節関節位置での断面構成図である。

以下、図１～図２２に基づいて、この発明の典型的な実施の形態について、説明する。図１～図１１は足裏接触体１の第一例を、図１２～図１８は足裏接触体１の第二例を示している。

この実施の形態にかかる足裏接触体１は、靴や運動靴やサンダルなどの履き物において足裏に接する部分、あるいは、これらに追加的に組み合わされて足裏に接する部材となるものである。典型的には、かかる足裏接触体１は、インソール（中底）、インナーソール（中敷）となるものである。かかる足裏接触体１は、これを備えた履き物を着用して日常を生活することを通じて、無理なく自然に且つ効果的に、足における横アーチＡｃの崩れを矯正し、足の横アーチＡｃを図２０に示されるような正常な状態に戻す機能を備えている。

図１９に、正常な左足の骨構造を示す。第１趾ｆ１～第５趾ｆ５の中足趾節関節１００（ＭＴＰ関節）の位置には、隣り合う中足骨１０２どうしをつなぐ靱帯１０１（深横中足靱帯１０１）がある。正常な状態では、図２０に示されるように、この靱帯１０１位置において横アーチＡｃが形成されている。
すなわち、第１趾ｆ１と第５趾ｆ５とが接地した状態でも、第２趾ｆ２～第４趾ｆ４は中足趾節関節１００の位置では浮いたような状態となっており、第２趾ｆ２が最も高い位置にあり第４趾ｆ４が最も低い位置となる（図２０）。

図２１に、外反母趾となった左足の骨構造を示す。図２２に示されるように前記横アーチＡｃが喪失して、第１趾ｆ１の中足趾節関節１００が内足側ｘ（右足側）に張り出し、第１趾ｆ１の指先側は通常よりも外足側ｙに位置するようになっている。第１趾ｆ１～第５趾ｆ５は同じ高さに位置し、第１趾ｆ１の変形によって足幅は広くなる。
典型的には、外反母趾は、次のように進行することが多い。
（１）横アーチＡｃが崩れて開張足になる。
（２）第１趾ｆ１の中足骨１０２が内足側ｘに変形する。
（３）ハイヒールなどのつま先側が絞られている履き物を着用することで、第１趾ｆ１の基節骨１０３が外足側ｙに変形し、第１趾ｆ１の中足骨１０２の内足側ｘへの変形が助長される。

図示は省略するが、内反小趾は、前記横アーチＡｃが喪失して、第５趾ｆ５の中足趾節関節１００が外足側ｙに張り出し、第５趾ｆ５の指先側は通常よりも内足側ｘに位置するようになった状態である。

この実施の形態にかかる足裏接触体１は、特に、かかる外反母趾と内反小趾とを同時に効果的に矯正し得る機能を備えている。

かかる足裏接触体１は、隆起部２を備えている。かかる足裏接触体１は、典型的には、ゴムまたはゴム状弾性を備えたプラスチックから構成される。

図示の例では、履き物の内部の輪郭に倣うように形成されたベース部３の上面３ａに前記隆起部２となる隆起部構成体２ａを一体に形成させることで、足裏接触体１を構成させるようにしている。

図示は省略するが、足裏接触体１は、履き物の内部の輪郭に倣うように形成されたベース板の上面に前記隆起部２となる隆起部構成体２ａの下面を固着させることで、構成することもできる。

また、かかる足裏接触体１は、既存の履き物のインソールやサンダルの底部の上面に前記のような隆起部構成体２ａを固着させることで、構成することもできる。

前記隆起部２は、第２趾ｆ２、第３趾ｆ３および第４趾ｆ４に対しそれぞれ接してこれらの中足趾節関節１００及び近位趾節間関節１０４（ＰＩＰ関節）の位置を持ち上げるように構成され、かつ、第１趾ｆ１と第５趾ｆ５の間に納まるように構成されてこの第１趾ｆ１と第５趾ｆ５はその全長に亘って持ち上げないように構成されている。すなわち、後述のように、隆起部２は、足に正常な横アーチＡｃ（図２０参照）を持たせる高さと形状とを持つように構成されている。

図１及び図２に左足用の足裏接触体１を構成する隆起部２を示す。図示の例では、隆起部２は前記ベース部３の左右方向中程の位置において、ベース部３の前端３ｂ（つま先側）と隆起部２の前端２ｂとの間に間隔を開けると共に、ベース部３の後端３ｃ（踵側）と隆起部２の後端２ｃとの間に間隔を開けた状態で、前後方向に続くように形成されている。

さらに、隆起部２の内足側ｘの側部とベース部３の内足側ｘの縁部との間には第１趾が納まる間隔３ｄが形成され、また、隆起部２の外足側ｙの側部とベース部３の外足側ｙの縁部との間には第５趾が納まる間隔３ｅが形成されている。

すなわち、この実施の形態にあっては、前記隆起部２を間に置いた内足側ｘに前記第１趾ｆ１が持ち上げられることなく納まる空間が形成され、かつ、前記隆起部２を間に置いた外足側ｙに前記第５趾ｆ５が持ち上げられることなく納まる空間が形成されるようになっている。

図示の例では、ベース部３には、さらに、足の内側縦アーチに対応した内側補助隆起部４と、足の外側縦アーチに対応した外側補助隆起部５とが、備えられている。

なお、ベース部３の後端３ｃ、つまり踵側は、図９に示されるように、内足側ｘを高く外足側ｙを低くする形状とすることが好ましい。図１９に示されるように、踵骨は外足側ｙに偏っていて足の踵側においては内足側ｘの組織は骨によって支持されていない箇所がある。図９に示されるようにすれば、この踵骨の形態に起因した足の変形を防ぐことができるからである。

この実施の形態にあっては、前記隆起部２は、
前記第１趾ｆ１に対しその中足趾節関節１００の位置よりも指先側で前記第１趾ｆ１の側部に接する第１趾側段差面２ｄと、
前記第５趾ｆ５に対しその中足趾節関節１００の位置よりも指先側で前記第５趾ｆ５の側部に接する第５趾側段差面２ｅと、
前記第２趾２ｆ、前記第３趾３ｆおよび前記第４趾４ｆの指先側において、これらの指の腹側にそれぞれ接するつま先側斜面２ｆとを備えている。

つま先側斜面２ｆの傾斜下２ｆａが隆起部２の前端２ｂとなっている。隆起部２におけるつま先側斜面２ｆの傾斜上２ｆｂよりも後方となる部分は、隆起部２の後端２ｃに向かうに連れて、隆起部２の高さ及び左右方向の寸法を漸減するように構成されている。

図１０及び図１１に示されるように、足裏接触体１上に足を載せた状態において、隆起部２の前端２ｂは第２趾ｆ２～第４趾ｆ４の指先下に位置し、隆起部２のつま先側斜面２ｆの傾斜上２ｆｂは第２趾ｆ２～第４趾ｆ４の基節骨１０３の前端１０３ａ下に位置し、隆起部２の後端２ｃは第２趾ｆ２～第４趾ｆ４の中足骨１０２の後端１０２ａ下に位置するようになっている。

隆起部２の前端２ｂ側には、前記つま先側斜面２ｆの傾斜上２ｆｂによって左右方向に沿った稜線２ｇが形成されている。隆起部２の前端２ｂ側は、この稜線２ｇ位置を最も高くする。隆起部２の前端２ｂと稜線２ｇとの間が左右方向に亘るつま先側斜面２ｆとなっている。図示の例では、つま先側斜面２ｆは、下方を湾曲内側とした湾曲面状を呈している（図３参照）。稜線２ｇの直後には後方に向いた小さな段差２ｊがあり、この段差２ｊから隆起部２の後端２ｃとの間は、隆起部２の上面２ｋはなだらかな面となっている。

隆起部２の前端２ａ側の左右方向の寸法は、健全な状態における第１趾ｆ１と第５趾ｆ５間の距離と実質的に等しく設定される。これにより、隆起部２の前端２ｂ側に、内足側ｘを向いた急峻な第１趾側段差面２ｄ（図４における右側）と外足側ｙを向いた第５趾側段差面２ｅ（図４における左側）とが形成されている。

隆起部２におけるつま先側斜面２ｆは、左右方向に沿った断面においてさらに、第２趾ｆ２に接する側で高く、第４趾ｆ４に接する側で低くなる、傾斜を持つように構成されている。これは健全な状態の第２趾ｆ２～第４趾ｆ４の位置関係に倣ったものである。

第１趾側段差面２ｄ及び第５趾側段差面２ｅは、隆起部２の前後方向略中程の位置ｚ（図２参照）よりもやや前側で終了している。この終了位置は第１趾ｆ１及び第５趾ｆ５のおおむね中足趾節関節１００の位置に対応している。第１趾側段差面２ｄ及び第５趾側段差面２ｅの終了位置から後方では、隆起部２は左右方向に沿った断面において下方を湾曲内側とした仮想の湾曲面に沿った形態となっている（図７、図８）。

図１０に足裏接触体１に足を載せた状態における左足の骨構造を示す。第２趾ｆ２～第４趾ｆ４下に、その指先から中足骨１０２の後端１０２ａとの間で隆起部２が位置する。これにより、第２趾ｆ２～第４趾ｆ４の中足趾節関節１００及び近位趾節間関節１０４の位置を持ち上げることができる。

より具体的には、隆起部２の前記稜線２ｇが第２趾ｆ２～第４趾ｆ４にこれらの基節骨１０３の前端１０３ａ側で接し、この稜線２ｇより後方において第２趾２ｆ～第４趾４ｆにこれらの基節骨１０３の後端１０３ｂ側で隆起部２の上面が接し、第２趾２ｆ～第４趾４ｆは基節骨１０３の前端１０３ａ側と後端１０３ｂ側との二箇所で前端１０３ａ側を高くするように持ち上げられ（図１１参照）、これにより、第２趾ｆ２～第４趾ｆ４は近位趾節間関節１０４の位置でも持ち上げられるようになっている。

一方、第１趾ｆ１及び第５趾ｆ５下には隆起部２はなく、かつ、これらを持ち上げるその余の構造もなく、第１趾ｆ１と第５趾ｆ５はその全長に亘って持ち上げられない。第１趾ｆ１と第５趾ｆ５は隆起部２の側方において指の腹をベース部３の上面３ａに接しさせる。

また、第２趾ｆ２～第４趾ｆ４の指先下（近位趾節間関節１０４より先となる箇所）には、つま先側斜面２ｆが存在し、前記のように持ち上げられた状態で第２趾ｆ２～第４趾ｆ４の指先側は浮いた状態とはならず、つま先側斜面２ｆを利用して踏ん張ることができる状態に置かれる（図１１参照）。

持ち上げられた第２趾ｆ２～第４趾ｆ４が前記のように踏ん張れるようにすることで、これらより第１趾ｆ１と第５趾ｆ５を下方に位置させた横アーチＡｃが効果的に再生されることが認められた。

中足趾節関節１００の位置での靱帯１０１の長さは変わらないことから、図１０、図１１の状態下では、第１趾ｆ１は中足趾節関節１００の位置で外足側ｙに引かれると共に、第５趾ｆ５は中足趾節関節１００の位置で内足側ｘに引かれる。
第２趾ｆ２～第４趾ｆ４を中足趾節関節１００の位置のみならず、近位趾節間関節１０４の位置でも持ち上げることで、第２趾ｆ２～第４趾ｆ４を中足趾節関節１００よりも指先側においてこれらを持ち上げるてこ状の力を第２趾２ｆ～第４趾４ｆの中足趾節関節１００側に作用させることができ、前記靱帯１０１に対してより効果的な変化を生じさせることができる。
以上により足における正常な横アーチＡｃが効果的に再生される。

第５趾ｆ５に作用される矯正力は第１趾ｆ１の矯正力としても相乗的に作用され、外反母趾の効果的な矯正が実現される。

中足趾節関節１００より指先側では第１趾側段差面２ｄが第１趾ｆ１の側部に接して第１趾に内足側ｘへの矯正力を作用し、第５趾側段差面２ｅが第５趾ｆ５の側部に接して第５趾ｆ５に外足側ｙへの矯正力を作用し、これらも外反母趾及び内反小趾の矯正に寄与する。

前記第１趾側段差面２ｄは、前記隆起部２の左右の基部２ｈ（第１趾側段差面２ｄの下端部及び第５趾側段差面２ｅの下端部）を含む仮想の横向き平面Ｓ１に対し、前記隆起部２の中央側２ｉであって前記横向き平面Ｓ１上において、９０度～６０度の角度θ１をもって交わる仮想の縦向き平面Ｓ２に沿うように形成させると共に、前記第５趾側段差面２ｅを、前記横向き平面Ｓ１に対し、前記隆起部２の中央側２ｉであって前記横向き平面Ｓ１上において、９０度～６０度の角度θ２をもって交わる仮想の縦向き平面Ｓ３に沿うように形成させるようにすることが好ましい。

また、前記第１趾側段差面２ｄの高さｈ１、すなわち、前記横向き平面Ｓ１から隆起部２の最上部（符号２ｆｂの位置）までの最大値は８ｍｍ～１１ｍｍの範囲とし、第５趾側段差面２ｅの高さｈ１の最大値は４ｍｍ～７ｍｍの範囲とすることが好ましい。

このようにすることで、中足趾節関節１００より指先側において、第１趾側段差面２ｄを第１趾ｆ１の側部に確実に接しさせて第１趾に内足側ｘへの矯正力を作用させることができ、また、第５趾側段差面２ｅを第５趾ｆ５の側部に確実に接しさせて第５趾ｆ５に外足側ｙへの矯正力を作用させることができる。

また、図４～図６に示されるように、前記第１趾側段差面２ｄ及び前記第５趾側段差面２ｅにおける少なくとも前記第１趾ｆ１及び前記第５趾ｆ５の指先側の側部に接する箇所の一部は、前記隆起部２の中央側２ｉを湾曲外側とする緩やかな湾曲を持つように形成させることが好ましい。

図示は省略するが、右足用の足裏接触体は、以上に説明した左足用の足裏接触体１と線対称となる形態として構成される。

図１２～図１８は、以上に説明した足裏接触体１（第一例）の構成の一部を変更した第二例を示している。

この第二例では、前記第１趾側段差面２ｄの直上位置に、前記隆起部２の上面２ｋから突き出す前後方向に続く畝状部２ｍを形成させている。

図示の例では、畝状部２ｍは、この畝状部２ｍがないとした場合に、第１趾側段差面２ｄと隆起部２の上面２ｋとが接し合う隆起部２の前後方向に沿った縁部２ｎを縁取るようにして形成されている（図１５、図１６参照）。

また、図示の例では、畝状部２ｍは、第１趾側段差面２ｄの直上位置のうち、隆起部２の前端２ｂから稜線２ｇの後方の段差２ｊの下端との間に亘って形成されている。

また、図示の例では、畝状部２ｍは、その連続方向に直交する向きの断面輪郭形状を、その連続方向におけるいずれの位置においても、ドーム状としている。

かかる畝状部２ｍは、第１趾ｆ１と第２趾ｆ２との間に入り込む位置に設けられている。かかる畝状部２ｍによって、目視できない靴の中においても足の蝕覚によって畝状部２ｍを目安にして、畝状部２ｍの外足側ｙに第２趾ｆ２を位置づけ、畝状部２ｍの内足側ｘの隆起部２下に第１趾ｆ１を位置づけるようにして迷わずに靴を履くことが可能となる。また、第２趾２ｆ～第４趾４ｆを過度に持ち上げることなく、畝状部２ｍは第１趾側段差面２ｄと一緒になって隆起部２の側方において第１趾ｆ１の指先側を落とし込んだ状態を確実に維持するものとなる。

これらを考慮すると、前記畝状部２ｍの前記隆起部２の上面２ｋからの突き出し寸法ｈ３（図１５、図１６参照）は、５ｍｍ～９ｍｍの範囲とすることが好ましいことが分かった。また、前記畝状部２ｍの幅寸法ｗ１（図１５、図１６参照）は、３ｍｍ～８ｍｍの範囲とすることが好ましいことが分かった。

また、前記畝状部２ｍの内足側ｘに向けられた側面２ｏは前記第１趾側段差面２ｄと面一とさせることが好ましい（図１５、図１６参照）。

以上に説明した第二例のその余の構成は、図１～図１１に示される足裏接触体１（第一例）の対応する構成と実質的に同一であるので、同一の構成部分については図１～図１１に付された符号と同一の符号を付してその説明は省略する。

なお、当然のことながら、本発明は以上に説明した実施態様に限定されるものではなく、本発明の目的を達成し得るすべての実施態様を含むものである。

１足裏接触体
２隆起部
２ｄ第１趾側段差面
２ｅ第５趾側段差面
２ｆつま先側斜面
ｆ１第１趾
ｆ２第２趾
ｆ３第３趾
ｆ４第４趾
ｆ５第５趾
１００中足趾節関節
１０４近位趾節間関節

Claims

靴や運動靴やサンダルなどの履き物における足裏接触体であって、
第２趾、第３趾および第４趾に対しそれぞれ接してこれらの中足趾節関節及び近位趾節間関節の位置を持ち上げるように構成され、かつ、第１趾と第５趾の間に納まるように構成されてこの第１趾と第５趾をその全長に亘って持ち上げないように構成された隆起部を備えており、
この隆起部に、前記第１趾に対しその中足趾節関節の位置よりも指先側で前記第１趾の側部に接する第１趾側段差面と、
前記第５趾に対しその中足趾節関節の位置よりも指先側で前記第５趾の側部に接する第５趾側段差面と、
前記第２趾、前記第３趾および前記第４趾の指先側にそれぞれ接するつま先側斜面とを備えさせてなる、足裏接触体。
前記隆起部を間に置いた内足側に前記第１趾が持ち上げられることなく納まる空間が形成され、かつ、前記隆起部を間に置いた外足側に前記第５趾が持ち上げられることなく納まる空間が形成されるようにしてなる、請求項１に記載の足裏接触体。
前記第１趾側段差面を、前記隆起部の左右の基部を含む仮想の横向き平面に対し、前記隆起部の中央側において、９０度～６０度の角度をもって交わる仮想の縦向き平面に沿うように形成させると共に、
前記第５趾側段差面を、前記横向き平面に対し、前記隆起部の中央側において、９０度～６０度の角度をもって交わる仮想の縦向き平面に沿うように形成させてなる、請求項１又は請求項２に記載の足裏接触体。
前記第１趾側段差面の高さの最大値を８ｍｍ～１１ｍｍの範囲とし、第５趾側段差面の高さの最大値を４ｍｍ～７ｍｍの範囲としてなる、請求項１～請求項３のいずれか１項に記載の足裏接触体。
前記第１趾側段差面及び前記第５趾側段差面における少なくとも前記第１趾及び前記第５趾の指先側の側部に接する箇所の一部を、前記隆起部の中央側を湾曲外側とする緩やかな湾曲を持つように形成させてなる、請求項１～請求項４のいずれか１項に記載の足裏接触体。
前記隆起部における前記つま先側斜面よりも後方となる部分は、後方に向かうに連れて、その高さ及び左右方向の寸法を漸減するように構成されてなる、請求項１～請求項５のいずれか１項に記載の足裏接触体。
前記第１趾側段差面の直上位置に、前記隆起部の上面から突き出す前後方向に続く畝状部を形成させてなる、請求項１～請求項６のいずれか１項に記載の足裏接触体。
前記畝状部の前記隆起部の上面からの突き出し寸法を５ｍｍ～９ｍｍの範囲とし、前記畝状部の幅寸法を３ｍｍ～８ｍｍの範囲としてなる、請求項７に記載の足裏接触体。
前記畝状部の内足側に向けられた側面を前記第１趾側段差面と面一とさせてなる、請求項７又は請求項８に記載の足裏接触体。