JP7149264B2 - 作物の損傷を低減させる方法 - Google Patents
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Description
段階1: 薬害軽減剤で種子を処理すること;
段階2: 2-(2,4-ジクロロフェニル)メチル-4,4-ジメチル-3-イソオキサゾリジノン(化合物I)又はそれを含んでいる組み合わせ/組成物を発生後処理において施用すること。
段階1: 薬害軽減剤で種子を処理すること;
段階2: 2-(2,4-ジクロロフェニル)メチル-4,4-ジメチル-3-イソオキサゾリジノン(化合物I)又はそれを含んでいる組み合わせ/組成物を発生前処理において施用すること。
段階1: 薬害軽減剤で種子を処理すること;
段階2: 2-(2,4-ジクロロフェニル)メチル-4,4-ジメチル-3-イソオキサゾリジノン(化合物I)又はそれを含んでいる組み合わせ/組成物及び薬害軽減剤を発生後処理において施用すること。
段階1: 薬害軽減剤で種子を処理すること;
段階2: 2-(2,4-ジクロロフェニル)メチル-4,4-ジメチル-3-イソオキサゾリジノン(化合物I)又はそれを含んでいる組み合わせ/組成物及び薬害軽減剤を発生前処理において施用すること。
段階1: イソキサジフェン-エチル、シプロスルファミド、メフェンピル-ジエチル及びクロキントセット-メキシル(これは、その水和物及び塩を包含する)からなる群(群I)から選択される薬害軽減剤で種子を処理すること;
段階2: 2-(2,4-ジクロロフェニル)メチル-4,4-ジメチル-3-イソオキサゾリジノン(化合物I)を発生後処理で施用すること。
段階1: イソキサジフェン-エチル、シプロスルファミド、メフェンピル-ジエチル及びクロキントセット-メキシル(これは、その水和物及び塩を包含する)からなる群(群I)から選択される薬害軽減剤で種子を処理すること;
段階2: 2-(2,4-ジクロロフェニル)メチル-4,4-ジメチル-3-イソオキサゾリジノン(化合物I)を発生前処理で施用すること。
段階1: イソキサジフェン-エチル、シプロスルファミド、メフェンピル-ジエチル及びクロキントセット-メキシル(これは、その水和物及び塩を包含する)からなる群(群I)から選択される薬害軽減剤で種子を処理すること;
段階2: 2-(2,4-ジクロロフェニル)メチル-4,4-ジメチル-3-イソオキサゾリジノン(化合物I)並びにイソキサジフェン-エチル、シプロスルファミド、メフェンピル-ジエチル及びクロキントセット-メキシル(これは、その水和物及び塩を包含する)からなる群(群I)から選択される薬害軽減剤を発生後処理で施用すること。
段階1: イソキサジフェン-エチル、シプロスルファミド、メフェンピル-ジエチル及びクロキントセット-メキシル(これは、その水和物及び塩を包含する)からなる群(群I)から選択される薬害軽減剤で種子を処理すること;
段階2: 2-(2,4-ジクロロフェニル)メチル-4,4-ジメチル-3-イソオキサゾリジノン(化合物I)並びにイソキサジフェン-エチル、シプロスルファミド、メフェンピル-ジエチル及びクロキントセット-メキシル(これは、その水和物及び塩を包含する)からなる群(群I)から選択される薬害軽減剤を発生前処理で施用すること。
段階1: メフェンピル-ジエチルで種子を処理すること;
段階2: 2-(2,4-ジクロロフェニル)メチル-4,4-ジメチル-3-イソオキサゾリジノン(化合物I)を発生後処理で施用すること。
段階1: メフェンピル-ジエチルで種子を処理すること;
段階2: 2-(2,4-ジクロロフェニル)メチル-4,4-ジメチル-3-イソオキサゾリジノン(化合物I)を発生前処理で施用すること。
段階1: メフェンピル-ジエチルで種子を処理すること;
段階2: 2-(2,4-ジクロロフェニル)メチル-4,4-ジメチル-3-イソオキサゾリジノン(化合物I)及びメフェンピル-ジエチルを発生後処理で施用すること。
段階1: メフェンピル-ジエチルで種子を処理すること;
段階2: 2-(2,4-ジクロロフェニル)メチル-4,4-ジメチル-3-イソオキサゾリジノン(化合物I)及びメフェンピル-ジエチルを発生前処理で施用すること。
段階1: 1~0.01g/kgの量のメフェンピル-ジエチルで種子を処理すること;
段階2: 2-(2,4-ジクロロフェニル)メチル-4,4-ジメチル-3-イソオキサゾリジノン(化合物I)を発生後処理で施用すること。
段階1: 1~0.01g/kgの量のメフェンピル-ジエチルで種子を処理すること;
段階2: 2-(2,4-ジクロロフェニル)メチル-4,4-ジメチル-3-イソオキサゾリジノン(化合物I)を発生前処理で施用すること。
段階1: 1~0.01g/kgの量のメフェンピル-ジエチルで種子を処理すること;.
段階2: 2-(2,4-ジクロロフェニル)メチル-4,4-ジメチル-3-イソオキサゾリジノン(化合物I)及びメフェンピル-ジエチルを発生後処理で施用すること。
段階1: 1~0.01g/kgの量のメフェンピル-ジエチルで種子を処理すること;
段階2: 2-(2,4-ジクロロフェニル)メチル-4,4-ジメチル-3-イソオキサゾリジノン(化合物I)及びメフェンピル-ジエチルを発生前処理で施用すること。
薬害軽減剤:
(S1) ヘテロ環式カルボン酸誘導体の群の化合物:
(S1a) ジクロロフェニルピラゾリン-3-カルボン酸のタイプの化合物(S1a)、好ましくは、以下のような化合物:1-(2,4-ジクロロフェニル)-5-(エトキシカルボニル)-5-メチル-2-ピラゾリン-3-カルボン酸、1-(2,4-ジクロロフェニル)-5-(エトキシカルボニル)-5-メチル-2-ピラゾリン-3-カルボン酸エチル(S1-1)(「メフェンピル(-ジエチル)」)及び関連化合物(これらは、WO-A-91/07874に記載されている);
(S1b) ジクロロフェニルピラゾールカルボン酸の誘導体(S1b)、好ましくは、以下のような化合物:1-(2,4-ジクロロフェニル)-5-メチルピラゾール-3-カルボン酸エチル(S1-2)、1-(2,4-ジクロロフェニル)-5-イソプロピルピラゾール-3-カルボン酸エチル(S1-3)、1-(2,4-ジクロロフェニル)-5-(1,1-ジメチルエチル)ピラゾール-3-カルボン酸エチル(S1-4)及び関連化合物(これらは、EP-A-333131及びEP-A-269806に記載されている);
(S1c) 1,5-ジフェニルピラゾール-3-カルボン酸の誘導体(S1c)、好ましくは、以下のような化合物:1-(2,4-ジクロロフェニル)-5-フェニルピラゾール-3-カルボン酸エチル(S1-5)、1-(2-クロロフェニル)-5-フェニルピラゾール-3-カルボン酸メチル(S1-6)及び関連化合物(これらは、例えば、EP-A-268554に記載されている);
(S1d) トリアゾールカルボン酸のタイプの化合物(S1d)、好ましくは、以下のような化合物:フェンクロラゾール(-エチル)、即ち、1-(2,4-ジクロロフェニル)-5-トリクロロメチル-1H-1,2,4-トリアゾール-3-カルボン酸エチル(S1-7)及び関連化合物(これらは、EP-A-174562及びEP-A-346620に記載されている);
(S1e) 5-ベンジル-2-イソオキサゾリン-3-カルボン酸若しくは5-フェニル-2-イソオキサゾリン-3-カルボン酸のタイプ又は5,5-ジフェニル-2-イソオキサゾリン-3-カルボン酸のタイプの化合物(S1e)、好ましくは、以下のような化合物:5-(2,4-ジクロロベンジル)-2-イソオキサゾリン-3-カルボン酸エチル(S1-8)若しくは5-フェニル-2-イソオキサゾリン-3-カルボン酸エチル(S1-9)及び関連化合物(これらは、WO-A-91/08202に記載されている)、又は、5,5-ジフェニル-2-イソオキサゾリンカルボン酸(S1-10)若しくは5,5-ジフェニル-2-イソオキサゾリンカルボン酸エチル(S1-11)(「イソキサジフェン-エチル」)若しくは5,5-ジフェニル-2-イソオキサゾリンカルボン酸n-プロピル(S1-12)若しくは5-(4-フルオロフェニル)-5-フェニル-2-イソオキサゾリン-3-カルボン酸エチル(S1-13)(これらは、特許出願WO-A-95/07897に記載されている)。
(S2a) 8-キノリンオキシ酢酸のタイプの化合物(S2a)、好ましくは、(5-クロロ-8-キノリンオキシ)酢酸1-メチルヘキシル(一般名「クロキントセット-メキシル」)(S2-1)、(5-クロロ-8-キノリンオキシ)酢酸1,3-ジメチル-ブタ-1-イル(S2-2)、(5-クロロ-8-キノリンオキシ)酢酸4-アリルオキシブチル(S2-3)、(5-クロロ-8-キノリンオキシ)酢酸1-アリルオキシプロパ-2-イル(S2-4)、(5-クロロ-8-キノリンオキシ)酢酸エチル(S2-5)、5-クロロ-8-キノリンオキシ酢酸メチル(S2-6)、(5-クロロ-8-キノリンオキシ)酢酸アリル(S2-7)、(5-クロロ-8-キノリンオキシ)酢酸2-(2-プロピリデンイミノオキシ)-1-エチル(S2-8)、(5-クロロ-8-キノリンオキシ)酢酸2-オキソ-プロパ-1-イル(S2-9)及び関連化合物(これらは、EP-A-86750、EP-A-94349及びEP-A-191736又はEP-A-0492366に記載されている)、並びに、さらに、(5-クロロ-8-キノリンオキシ)酢酸(S2-10)、その水和物及び塩、例えば、そのリチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩、カルシウム塩、マグネシウム塩、アルミニウム塩、鉄塩、アンモニウム塩、第4級アンモニウム塩、スルホニウム塩又はホスホニウム塩(これらは、WO-A-2002/34048記載されている);
(S2b) (5-クロロ-8-キノリンオキシ)マロン酸のタイプの化合物(S2b)、好ましくは、以下のような化合物:(5-クロロ-8-キノリンオキシ)マロン酸ジエチル、(5-クロロ-8-キノリンオキシ)マロン酸ジアリル、(5-クロロ-8-キノリンオキシ)マロン酸メチルエチル及び関連化合物(これらは、EP-A-0582198に記載されている)。
「ジクロルミド」(N,N-ジアリル-2,2-ジクロロアセトアミド)(S3-1)、
「R-29148」(3-ジクロロアセチル-2,2,5-トリメチル-1,3-オキサゾリジン)(S3-2)、
「R-28725」(3-ジクロロアセチル-2,2-ジメチル-1,3-オキサゾリジン)(S3-3)、
「ベノキサコール」(4-ジクロロアセチル-3,4-ジヒドロ-3-メチル-2H-1,4-ベンゾオキサジン)(S3-4)、
「PPG-1292」(N-アリル-N-[(1,3-ジオキソラン-2-イル)メチル]ジクロロアセトアミド)(S3-5)、
「DKA-24」(N-アリル-N-[(アリルアミノカルボニル)メチル]ジクロロアセトアミド)(S3-6)、
「AD-67」又は「MON 4660」(3-ジクロロアセチル-1-オキサ-3-アザ-スピロ[4,5]デカン)(S3-7)、
「TI-35」(1-ジクロロアセチルアゼパン)(S3-8)、
「ジクロノン(diclonon)」(ジシクロノン)(S3-9)、
((RS)-1-ジクロロアセチル-3,3,8a-トリメチルペルヒドロピロロ[1,2-a]ピリミジン-6-オン)、
「フリラゾール」又は「MON 13900」((RS)-3-ジクロロアセチル-5-(2-フリル)-2,2-ジメチルオキサゾリジン)(S3-10);及び、その(R)-異性体(S3-11)。
RA 1は、(C1-C6)-アルキル、(C3-C6)-シクロアルキル(ここで、最後に挙げられている2つのラジカルは、ハロゲン、(C1-C4)-アルコキシ、ハロ-(C1-C6)-アルコキシ及び(C1-C4)-アルキルチオからなる群から選択されるvAの置換基で置換されており、また、環状ラジカルの場合には、さらに、(C1-C4)-アルキル及び(C1-C4)-ハロアルキルでも置換されている)であり;
RA 2は、ハロゲン、(C1-C4)-アルキル、(C1-C4)-アルコキシ、CF3であり;
mAは、1又は2であり;
vDは、0、1、2又は3である〕
で表されるN-アシルスルホンアミド及びそれらの塩(これらは、WO-A-97/45016に記載されている);
(S4b) 式(S4b):
RB 1、RB 2は、互いに独立して、水素、(C1-C6)-アルキル、(C3-C6)-シクロアルキル、(C3-C6)-アルケニル、(C3-C6)-アルキニルであり;
RB 3は、ハロゲン、(C1-C4)-アルキル、(C1-C4)-ハロアルキル又は(C1-C4)-アルコキシであり;
mBは、1又は2である〕
で表される4-(ベンゾイルスルファモイル)ベンズアミドのタイプの化合物及びそれらの塩(これらは、WO-A-99/16744に記載されている);
例えば、上記式において、
RB 1=シクロプロピル、RB 2=水素、且つ、(RB 3)=2-OMe(「シプロスルファミド」、S4-1);
RB 1=シクロプロピル、RB 2=水素、且つ、(RB 3)=5-Cl-2-OMe(S4-2);
RB 1=エチル、RB 2=水素、且つ、(RB 3)=2-OMe(S4-3);
RB 1=イソプロピル、RB 2=水素、且つ、(RB 3)=5-Cl-2-OMe(S4-4);及び、
RB 1=イソプロピル、RB 2=水素、且つ、(RB 3)=2-OMe(S4-5);
であるもの;
(S4c) 式(S4c):
RC 1、RC 2は、互いに独立して、水素、(C1-C8)-アルキル、(C3-C8)-シクロアルキル、(C3-C6)-アルケニル、(C3-C6)-アルキニルであり;
RC 3は、ハロゲン、(C1-C4)-アルキル、(C1-C4)-アルコキシ、CF3であり;
mCは、1又は2である〕
で表されるベンゾイルスルファモイルフェニル尿素のクラスの化合物(これらは、EP-A-365484に記載されている);
例えば、
1-[4-(N-2-メトキシベンゾイルスルファモイル)フェニル]-3-メチル尿素;
1-[4-(N-2-メトキシベンゾイルスルファモイル)フェニル]-3,3-ジメチル尿素;
1-[4-(N-4,5-ジメチルベンゾイルスルファモイル)フェニル]-3-メチル尿素;
(S4d) 式(S4d):
RD 4は、ハロゲン、(C1-C4)-アルキル、(C1-C4)-アルコキシ、CF3であり;
mDは、1又は2であり;
RD 5は、水素、(C1-C6)-アルキル、(C3-C6)-シクロアルキル、(C2-C6)-アルケニル、(C2-C6)-アルキニル、(C5-C6)-シクロアルケニルである〕
で表されるN-フェニルスルホニルテレフタルアミドのタイプの化合物及びそれらの塩(これらは、例えば、CN 101838227から知られている)。
RD 1は、ハロゲン、(C1-C4)-アルキル、(C1-C4)-ハロアルキル、(C1-C4)-アルコキシ、(C1-C4)-ハロアルコキシであり;
RD 2は、水素又は(C1-C4)-アルキルであり;
RD 3は、水素、(C1-C8)-アルキル、(C2-C4)-アルケニル、(C2-C4)-アルキニル又はアリール(ここで、上記炭素含有ラジカルは、それぞれ、置換されていないか、又は、ハロゲン及びアルコキシからなる群から選択される1以上の(好ましくは、最大で3までの)同一であるか又は異なっているラジカルで置換されている)であり;
nDは、0~2の整数である〕
で表される化合物又はそれらの塩(これらは、WO-A-98/27049に記載されている)。
RE 1は、ハロゲン、(C1-C4)-アルキル、メトキシ、ニトロ、シアノ、CF3、OCF3であり;
YE、ZEは、互いに独立して、O又はSであり;
nEは、0~4の整数であり;
RE 2は、(C1-C16)-アルキル、(C2-C6)-アルケニル、(C3-C6)-シクロアルキル、アリール、ベンジル又はハロベンジルであり;
RE 3は、水素又は(C1-C6)-アルキルである〕
で表される化合物(これらは、WO-A-2007/023719及びWO-A-2007/023764に記載されている)。
「オキサベトリニル」((Z)-1,3-ジオキソラン-2-イルメトキシイミノ(フェニル)アセトニトリル)(S11-1)(これは、メトラクロールによる損傷に対するアワ用の種子粉衣薬害軽減剤として知られている);
「フルキソフェニム」(1-(4-クロロフェニル)-2,2,2-トリフルオロ-1-エタノン O-(1,3-ジオキソラン-2-イルメチル)オキシム)(S11-2)(これは、メトラクロールによる損傷に対するアワ用の種子粉衣薬害軽減剤として知られている);及び、
「シオメトリニル」又は「CGA-43089」((Z)-シアノメトキシイミノ(フェニル)アセトニトリル)(S11-3)(これは、メトラクロールによる損傷に対するアワ用の種子粉衣薬害軽減剤として知られている)。
「ナフタル酸無水物」(1,8-ナフタレンジカルボン酸無水物)(S13-1)(これは、チオカーバメート系除草剤による損傷に対するトウモロコシ用の種子粉衣薬害軽減剤として知られている);
「フェンクロリム」(4,6-ジクロロ-2-フェニルピリミジン)(S13-2)(これは、播種されたイネにおいてプレチラクロールに対する薬害軽減剤として知られている);
「フルラゾール」(2-クロロ-4-トリフルオロメチル-1,3-チアゾール-5-カルボン酸ベンジル)(S13-3)(これは、アラクロール及びメトラクロールによる損傷に対するアワ用の種子粉衣薬害軽減剤として知られている);
「CL 304415」(CAS Reg. No.:31541-57-8)(4-カルボキシ-3,4-ジヒドロ-2H-1-ベンゾピラン-4-酢酸)(S13-4)〔供給元:American Cyanamid〕(これは、イミダゾリノンによる損傷に対するトウモロコシ用の薬害軽減剤として知られている);
「MG 191」(CAS Reg. No.:96420-72-3)(2-ジクロロメチル-2-メチル-1,3-ジオキソラン)(S13-5)(これは、トウモロコシ用の薬害軽減剤として知られている);
「MG 838」(CAS Reg. No.:133993-74-5)(2-プロペニル 1-オキサ-4-アザスピロ[4.5]デカン-4-カルボジチオエート)(S13-6);
「ジスルホトン」(O,O-ジエチル S-2-エチルチオエチル ホスホロジチオエート)(S13-7);
「ジエトレート(dietholate)」(O,O-ジエチル O-フェニル ホスホロチオエート)(S13-8);
「メフェネート(mephenate)」(メチルカルバミン酸4-クロロフェニル)(S13-9)。
「ジメピレート」又は「MY-93」(S-1-メチル-1-フェニルエチル ピペリジン-1-カルボチオエート)(これは、除草剤モリネートによる損傷に対するイネ用の薬害軽減剤として知られている);
「ダイムロン」又は「SK 23」(1-(1-メチル-1-フェニルエチル)-3-p-トリル尿素)(これは、イマゾスルフロン除草剤による損傷に対するイネ用の薬害軽減剤として知られている);
「クミルロン」=「JC-940」(3-(2-クロロフェニルメチル)-1-(1-メチル-1-フェニルエチル)尿素;JP-A-60087254を参照されたい)(これは、数種類の除草剤による損傷に対するイネ用の薬害軽減剤として知られている);
「メトキシフェノン」又は「NK 049」(3,3’-ジメチル-4-メトキシベンゾフェノン)(これは、数種類の除草剤による損傷に対するイネ用の薬害軽減剤として知られている);
「CSB」(1-ブロモ-4-(クロロメチルスルホニル)ベンゼン)〔供給元:Kumiai〕(CAS Reg. No. 54091-06-4)(これは、イネにおける数種類の除草剤による損傷に対する薬害軽減剤として知られている)。
RH 1は、(C1-C6)-ハロアルキルであり;
RH 2は、水素又はハロゲンであり;
RH 3、RH 4は、互いに独立して、水素、(C1-C16)-アルキル、(C2-C16)-アルケニル又は(C2-C16)-アルキニル(ここで、最後に挙げられている3のラジカルは、それぞれ、置換されていないか、又は、ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、(C1-C4)-アルコキシ、(C1-C4)-ハロアルコキシ、(C1-C4)-アルキルチオ、(C1-C4)-アルキルアミノ、ジ-[(C1-C4)-アルキル]-アミノ、[(C1-C4)-アルコキシ]-カルボニル、[(C1-C4)-ハロアルコキシ]-カルボニル、置換されていないか若しくは置換されている(C3-C6)-シクロアルキル、置換されていないか若しくは置換されているフェニル及び置換されていないか若しくは置換されているヘテロシクリルからなる群から選択される1以上のラジカルで置換されている)であり;
又は、
RH 3、RH 4は、互いに独立して、(C3-C6)-シクロアルキル、(C4-C6)-シクロアルケニル、(C3-C6)-シクロアルキル(ここで、該シクロアルキルは、当該環の1辺において4~6員の飽和又は不飽和の炭素環式環に縮合している)又は(C4-C6)-シクロアルケニル(ここで、該シクロアルケニルは、当該環の1辺において4~6員の飽和又は不飽和の炭素環式環に縮合している)(ここで、最後に挙げられている4のラジカルは、それぞれ、置換されていないか、又は、ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、(C1-C4)-アルキル、(C1-C4)-ハロアルキル、(C1-C4)-アルコキシ、(C1-C4)-ハロアルコキシ、(C1-C4)-アルキルチオ、(C1-C4)-アルキルアミノ、ジ-[(C1-C4)-アルキル]-アミノ、[(C1-C4)-アルコキシ]-カルボニル、[(C1-C4)-ハロアルコキシ]-カルボニル、置換されていないか若しくは置換されている(C3-C6)シクロアルキル、置換されていないか若しくは置換されているフェニル及び置換されていないか若しくは置換されているヘテロシクリルからなる群から選択される1以上のラジカルで置換されている)であり;
又は、
RH 3は、(C1-C4)-アルコキシ、(C2-C4)-アルケニルオキシ、(C2-C6)-アルキニルオキシ又は(C2-C4)-ハロアルコキシであり;及び、
RH 4は、水素又は(C1-C4)-アルキルであり;又は、
RH 3とRH 4は、直接結合しているN原子と一緒に、4~8員のヘテロ環式環(ここで、該ヘテロ環式環は、当該N原子に加えて、さらなる環ヘテロ原子(好ましくは、N、O及びSからなる群から選択される最大で2個までのさらなる環ヘテロ原子)も含むことができ、また、該ヘテロ環式環は、置換されていないか、又は、ハロゲン、シアノ、ニトロ、(C1-C4)-アルキル、(C1-C4)-ハロアルキル、(C1-C4)-アルコキシ、(C1-C4)-ハロアルコキシ及び(C1-C4)-アルキルチオからなる群から選択される1以上のラジカルで置換されている)である〕
で表される化合物又はその互変異性体(これらは、WO-A-2008/131861及びWO-A-2008/131860に記載されている)。
イソキサジフェン-エチル、シプロスルファミド、メフェンピル-ジエチル及びクロキントセット-メキシル(これは、その水和物及び塩、例えば、そのリチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩、カルシウム塩、マグネシウム塩、アルミニウム塩、鉄塩、アンモニウム塩、第4級アンモニウム塩、スルホニウム塩又はホスホニウム塩を包含する)(群I)。
作物植物の種子、例えば、さまざまな穀類種(例えば、コムギ、ライコムギ、オオムギ、ライムギ)、サトウキビ、テンサイ、ダイズ、ナタネ、トウモロコシ、ジャガイモ、野菜類、イネ又はワタなどの種子。
本発明による組み合わせは、以下のとおりである:2-(2,4-ジクロロフェニル)メチル-4,4-ジメチル-3-イソオキサゾリジノン(化合物I)と、以下のものからなる群から選択される少なくとも1種類以上の除草剤:アクロニフェン、ブロモキシニル、ブロモキシニル-ブチレート、-カリウム、-ヘプタノエート及び-オクタノエート、ベンゾフェナップ、ブタクロール、2,4-D、2,4-D-ブトチル、-ブチル、-ジメチルアンモニウム、-ジオールアミン(diolamin)、-エチル、2-エチルヘキシル、-イソブチル、-イソオクチル、-イソプロピルアンモニウム、-カリウム、-トリイソプロパノールアンモニウム及び-トロールアミン(trolamine)、ビシクロピロン、シンメチリン、ジフルフェニカン、ジメテナミド、エトキシスルフロン、フェノキサプロップ、フェノキサプロップ-P、フェノキサプロップ-エチル、フェノキサプロップ-P-エチル、フェンキノトリオン、フェントラザミド、フロラスラム、フロルピラウキシフェン-ベンジル、フルフェナセット、フルロキシピル、フルロキシピル-メプチル、ホラムスルフロン、ヨードスルフロン、ヨードスルフロン-メチル-ナトリウム、イソプロツロン、イソキサフルトール、ランコトリオン、メフェナセット、メソスルフロン、メソスルフロン-メチル、メトラクロール、S-メトラクロール、メトリブジン、メトスラム、ニコスルフロン、オキサジアルギル、オキサジアゾン、ペトキサミド、プロスルホカルブ、ピラスルホトール、ピロキサスルホン、ピロキシスラム、テフリルトリオン、テンボトリオン、チエンカルバゾン、チエンカルバゾン-メチル、トルピラレート、及び、トリアファモン、ペンジメタリン、プロポキシカルバゾン、ハラウキシフェン-メチル、2-メチル-4-クロロフェノキシ酢酸(群II)。
本発明に関連して、組成物は、本発明による組み合わせに加えて、製剤助剤、作物保護において慣習的な添加剤及びさらなる農薬活性化合物からなる群から選択される1種類以上のさらなる成分を含んでいる。
添加剤は、例えば、肥料及び着色剤である。
農薬活性化合物は、例えば、殺菌剤及び殺虫剤である。
以下の属の単子葉植物雑草: アエギロプス属(Aegilops)、カモジグサ属(Agropyron)、ヌカボ属(Agrostis)、スズメノテッポウ属(Alopecurus)、セイヨウヌカボ属(Apera)、カラスムギ属(Avena)、ビロードキビ属(Brachiaria)、スズメノチャヒキ属(Bromus)、クリノイガ属(Cenchrus)、ツユクサ属(Commelina)、ギョウギシバ属(Cynodon)、カヤツリグサ属(Cyperus)、タツノツメガヤ属(Dactyloctenium)、メヒシバ属(Digitaria)、ヒエ属(Echinochloa)、ハリイ属(Eleocharis)、オヒシバ属(Eleusine)、スズメガヤ属(Eragrostis)、ナルコビエ属(Eriochloa)、ウシノケグサ属(Festuca)、テンツキ属(Fimbristylis)、アメリカコナギ属(Heteranthera)、チガヤ属(Imperata)、カモノハシ属(Ischaemum)、アゼガヤ属(Leptochloa)、ドクムギ属(Lolium)、ミズアオイ属(Monochoria)、キビ属(Panicum)、スズメノヒエ属(Paspalum)、クサヨシ属(Phalaris)、アワガエリ属(Phleum)、イチゴツナギ属(Poa)、ツノアイアシ属(Rottboellia)、オモダカ属(Sagittaria)、ホタルイ属(Scirpus)、エノコログサ属(Setaria)、及び、モロコシ属(Sorghum)。
1. 従来技術で使用されている方法
コムギ種子(冬コムギ、TRZAW)を直径7cmのポットの中の砂壌土に配置し、土壌で被覆し、良好な生育条件下、温室内で栽培した。
コムギ種子(冬コムギ、TRZAW)を直径7cmのポットの中の砂壌土に配置し、土壌で被覆し、良好な生育条件下、温室内で栽培した。
コムギ種子(冬コムギ、TRZAW)を直径7cmのポットの中の砂壌土に配置し、土壌で被覆し、良好な生育条件下、温室内で栽培した。
コムギ種子(冬コムギ、TRZAW)を直径7cmのポットの中の砂壌土に配置し、土壌で被覆し、良好な生育条件下、温室内で栽培した。
Claims (3)
- 作物の損傷を低減させる方法であって、該作物の種子を、播種前に、メフェンピル-ジエチルで処理すること(段階1)、及び、発芽処理において、2-(2,4-ジクロロフェニル)メチル-4,4-ジメチル-3-イソオキサゾリジノン(化合物I)又はそれを含んでいる組み合わせ/組成物及びメフェンピル-ジエチルを施用すること(段階2)を特徴とする、前記方法。
- 段階2における前記組成物が、化合物Iに加えて、以下のものからなる群から選択される少なくとも1種類のさらなる除草剤を含んでいる、請求項1に記載の方法:
アクロニフェン、ブロモキシニル、ブロモキシニル-ブチレート、ブロモキシニル-カリウム、ブロモキシニル-ヘプタノエート及びブロモキシニル-オクタノエート、ベンゾフェナップ、ブタクロール、2,4-D、2,4-D-ブトチル、2,4-D-ブチル、2,4-D-ジメチルアンモニウム、2,4-D-ジオールアミン、2,4-D-エチル、2,4-D-2-エチルヘキシル、2,4-D-イソブチル、2,4-D-イソオクチル、2,4-D-イソプロピルアンモニウム、2,4-D-カリウム、2,4-D-トリイソプロパノールアンモニウム及び2,4-D-トロールアミン、ビシクロピロン、シンメチリン、ジフルフェニカン、ジメテナミド、エトキシスルフロン、フェノキサプロップ、フェノキサプロップ-P、フェノキサプロップ-エチル、フェノキサプロップ-P-エチル、フェンキノトリオン、フェントラザミド、フロラスラム、フロルピラウキシフェン-ベンジル、フルフェナセット、フルロキシピル、フルロキシピル-メプチル、ホラムスルフロン、ヨードスルフロン、ヨードスルフロン-メチル-ナトリウム、イソプロツロン、イソキサフルトール、ランコトリオン、メフェナセット、メソスルフロン、メソスルフロン-メチル、メトラクロール、S-メトラクロール、メトリブジン、メトスラム、ニコスルフロン、オキサジアルギル、オキサジアゾン、ペトキサミド、プロスルホカルブ、ピラスルホトール、ピロキサスルホン、ピロキシスラム、テフリルトリオン、テンボトリオン、チエンカルバゾン、チエンカルバゾン-メチル、トルピラレート、及び、トリアファモン、ペンジメタリン、プロポキシカルバゾン、ハラウキシフェン-メチル、2-メチル-4-クロロフェノキシ酢酸(群II)。 - 前記作物が遺伝子組み換え植物である、請求項1に記載の方法。
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