JP7148269B2 - Solid-state imaging device and imaging device - Google Patents
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Description
本技術は、固体撮像素子および撮像装置に関する。詳しくは、画素の光量が閾値を超えた旨を検出する固体撮像素子および撮像装置に関する。 The present technology relates to a solid-state imaging device and an imaging device. More specifically, the present invention relates to a solid-state imaging device and an imaging device that detect that the amount of light in a pixel exceeds a threshold.
従来より、垂直同期信号などの同期信号に同期して画像データ(フレーム)を撮像する同期型の固体撮像素子が撮像装置などにおいて用いられている。この一般的な同期型の固体撮像素子では、同期信号の周期(例えば、1/60秒)ごとにしか画像データを取得することができないため、交通やロボットなどに関する分野において、より高速な処理が要求された場合に対応することが困難になる。そこで、画素アドレスごとに、その画素の光量が閾値を超えた旨をアドレスイベントとしてリアルタイムに検出するアドレスイベント検出回路を画素毎に設けた非同期型の固体撮像素子が提案されている(例えば、特許文献1参照。)。この固体撮像素子では、フォトダイオードと、アドレスイベントを検出するための複数のトランジスタとが画素毎に配置される。 2. Description of the Related Art Conventionally, synchronous solid-state imaging devices that capture image data (frames) in synchronization with a synchronization signal such as a vertical synchronization signal have been used in imaging devices and the like. With this general synchronous solid-state imaging device, image data can only be acquired at each period of the synchronization signal (for example, 1/60th of a second). Difficulty responding to requests. Therefore, an asynchronous solid-state imaging device has been proposed in which an address event detection circuit is provided for each pixel to detect in real time that the light intensity of the pixel exceeds a threshold value as an address event (for example, patent Reference 1). In this solid-state imaging device, a photodiode and a plurality of transistors for detecting an address event are arranged for each pixel.
上述の非同期型の固体撮像素子では、同期型の固体撮像素子よりも遥かに高速にデータを生成して出力することができる。このため、例えば、交通分野において、人や障害物を画像認識する処理を高速に実行して、安全性を向上させることができる。しかしながら、電源電圧の低下や接地電圧の上昇などの電圧変動によりフォトダイオードの逆バイアスが低くなると、そのフォトダイオードの感度が低下し、暗電流が増大するおそれがある。このため、これらの感度の不足や暗電流に起因して、信号品質が低下するという問題がある。フォトダイオードの面積を大きくすれば、感度を向上させ、暗電流を低減することができるが、単位面積当たりの画素数が減少するため望ましくない。また、電源電圧を充分に高くすることによっても感度を向上させ、暗電流を低減することができるが、消費電力が増大するため好ましくない。 The asynchronous solid-state imaging device described above can generate and output data much faster than the synchronous solid-state imaging device. Therefore, for example, in the field of traffic, image recognition processing of people and obstacles can be executed at high speed, and safety can be improved. However, when the reverse bias of the photodiode becomes low due to voltage fluctuations such as a drop in the power supply voltage and an increase in the ground voltage, the sensitivity of the photodiode may drop and the dark current may increase. Therefore, there is a problem that the signal quality is degraded due to insufficient sensitivity and dark current. If the area of the photodiode is increased, the sensitivity can be improved and the dark current can be reduced, but this is not desirable because the number of pixels per unit area is decreased. Further, the sensitivity can be improved and the dark current can be reduced by sufficiently increasing the power supply voltage, but power consumption increases, which is not preferable.
本技術はこのような状況に鑑みて生み出されたものであり、アドレスイベントを検出する固体撮像素子において、検出信号の信号品質を向上させることを目的とする。 The present technology has been created in view of such circumstances, and an object of the present technology is to improve the signal quality of a detection signal in a solid-state imaging device that detects an address event.
本技術は、上述の問題点を解消するためになされたものであり、その第1の側面は、入射光を光電流に変換するフォトダイオードと、上記光電流に応じた電位のゲートと所定の基準電位のソースとの間の電圧を増幅してドレインから出力する増幅トランジスタと、上記フォトダイオードのアノードおよび上記増幅トランジスタのバックゲートに上記基準電位よりも低い所定電位を供給する電位供給部とを具備する固体撮像素子である。これにより、フォトダイオードの逆バイアスと増幅トランジスタの閾値電圧が高くなるという作用をもたらす。 The present technology has been made to solve the above-described problems, and a first aspect of the present technology includes a photodiode that converts incident light into a photocurrent, a gate with a potential corresponding to the photocurrent, and a predetermined photodiode. an amplification transistor for amplifying a voltage between a source of a reference potential and outputting it from a drain; and a potential supply unit for supplying a predetermined potential lower than the reference potential to the anode of the photodiode and the back gate of the amplification transistor. It is a solid-state imaging device equipped with. This has the effect of increasing the reverse bias of the photodiode and the threshold voltage of the amplifying transistor.
また、この第1の側面において、上記光電流をゲートおよびソースの間の電圧に変換する変換トランジスタをさらに具備し、上記変換トランジスタのソースは、上記フォトダイオードのカソードと上記増幅トランジスタのゲートとに接続され、上記増幅トランジスタのドレインは、上記変換トランジスタのゲートに接続されてもよい。これにより、光電流が電圧に変換されるという作用をもたらす。 The first aspect further comprises a conversion transistor that converts the photocurrent into a voltage between a gate and a source, the source of the conversion transistor being connected to the cathode of the photodiode and the gate of the amplification transistor. and the drain of the amplification transistor may be connected to the gate of the conversion transistor. This brings about the effect of converting the photocurrent into a voltage.
また、この第1の側面において、上記フォトダイオードおよび上記増幅トランジスタは、遮光されていない有効画素と遮光された遮光画素とのそれぞれに配置され、上記電位供給部は、上記有効画素に対応する上記フォトダイオードのアノードに上記所定電位を供給し、上記遮光画素に対応する上記フォトダイオードのアノードに上記基準電位を供給してもよい。これにより、有効画素にのみ負電位が供給されるという作用をもたらす。 Further, in the first aspect, the photodiode and the amplifying transistor are arranged in an unshaded effective pixel and a shaded light-shielded pixel, respectively, and the potential supply section corresponds to the effective pixel. The predetermined potential may be supplied to the anode of the photodiode, and the reference potential may be supplied to the anode of the photodiode corresponding to the light-shielded pixel. This brings about the effect that the negative potential is supplied only to the effective pixels.
また、この第1の側面において、上記フォトダイオード、上記変換トランジスタおよび上記増幅トランジスタは、所定の受光基板に配置され、上記電位供給部は、上記受光基板に上記負電位を供給してもよい。これにより、フォトダイオードの逆バイアスと増幅トランジスタの閾値電圧が高くなるという作用をもたらす。 Further, in this first aspect, the photodiode, the conversion transistor, and the amplification transistor may be arranged on a predetermined light receiving substrate, and the potential supply section may supply the negative potential to the light receiving substrate. This has the effect of increasing the reverse bias of the photodiode and the threshold voltage of the amplifying transistor.
また、この第1の側面において、上記増幅トランジスタから出力された電圧信号を出力するバッファと、上記バッファからの上記電圧信号のレベルを低下させる減算器と、上記低下した電圧信号と所定の閾値とを比較する比較器とをさらに具備してもよい。これにより、アドレスイベントが検出されるという作用をもたらす。 Further, in this first aspect, a buffer that outputs the voltage signal output from the amplification transistor, a subtractor that reduces the level of the voltage signal from the buffer, the reduced voltage signal and a predetermined threshold, and and a comparator that compares the . This has the effect of detecting an address event.
また、この第1の側面において、上記変換トランジスタおよび上記増幅トランジスタは、上記光電流を上記電圧信号に変換する電流電圧変換回路内に配置され、上記電流電圧変換回路の電源電圧は、上記バッファ、上記減算器および上記比較器の電源電圧と異なってもよい。これにより、バッファ等の電流電圧より低い電源電圧により電流電圧変換が行われるという作用をもたらす。 Further, in this first aspect, the conversion transistor and the amplification transistor are arranged in a current-voltage conversion circuit that converts the photocurrent into the voltage signal, and the power supply voltage of the current-voltage conversion circuit is the buffer, It may be different from the power supply voltage of the subtractor and the comparator. This brings about the effect that current-voltage conversion is performed with a power supply voltage lower than the current voltage of a buffer or the like.
また、この第1の側面において、上記バッファ、上記減算器および上記コンパレータの少なくとも一部は、上記受光基板に積層された所定の回路基板に配置されてもよい。これにより、積層構造の固体撮像素子において、フォトダイオードの逆バイアスと増幅トランジスタの閾値電圧が高くなるという作用をもたらす。 Moreover, in this first aspect, at least part of the buffer, the subtractor, and the comparator may be arranged on a predetermined circuit board laminated on the light receiving substrate. As a result, in the solid-state imaging device having a stacked structure, the reverse bias of the photodiode and the threshold voltage of the amplification transistor are increased.
また、本技術の第2の側面は、入射光を光電流に変換するフォトダイオードと、上記光電流に応じた電位のゲートと所定の基準電位のソースとの間の電圧を増幅してドレインから出力する増幅トランジスタと、上記フォトダイオードのアノードおよび上記増幅トランジスタのバックゲートに上記基準電位よりも低い所定電位を供給する電位供給部と、上記増幅トランジスタから出力された信号を処理する信号処理回路とを具備する撮像装置である。これにより、フォトダイオードの逆バイアスと増幅トランジスタの閾値電圧が高くなった回路からの信号が処理されるという作用をもたらす。 A second aspect of the present technology is to amplify a voltage between a photodiode that converts incident light into a photocurrent, a gate having a potential corresponding to the photocurrent, and a source having a predetermined reference potential, and output the voltage from the drain. an amplifying transistor for outputting, a potential supply section for supplying a predetermined potential lower than the reference potential to the anode of the photodiode and the back gate of the amplifying transistor, and a signal processing circuit for processing the signal output from the amplifying transistor. An imaging device comprising: This brings about the effect of processing the signal from the circuit in which the reverse bias of the photodiode and the threshold voltage of the amplification transistor are increased.
本技術によれば、アドレスイベントを検出する固体撮像素子において、検出信号の信号品質を向上させることができるという優れた効果を奏し得る。なお、ここに記載された効果は必ずしも限定されるものではなく、本開示中に記載されたいずれかの効果であってもよい。 According to the present technology, a solid-state imaging device that detects an address event can exhibit an excellent effect of being able to improve the signal quality of a detection signal. Note that the effects described here are not necessarily limited, and may be any of the effects described in the present disclosure.
以下、本技術を実施するための形態(以下、実施の形態と称する)について説明する。説明は以下の順序により行う。
1.実施の形態(フォトダイオードのアノードに負電位を供給する例)
2.移動体への応用例
Hereinafter, a form for carrying out the present technology (hereinafter referred to as an embodiment) will be described. Explanation will be given in the following order.
1. Embodiment (Example of Supplying Negative Potential to Anode of Photodiode)
2. Example of application to mobile objects
<1.実施の形態>
[撮像装置の構成例]
図1は、本技術の実施の形態における撮像装置100の一構成例を示すブロック図である。この撮像装置100は、撮像レンズ110、固体撮像素子200、記録部120および制御部130を備える。撮像装置100としては、ウェアラブルデバイスに搭載されるカメラや、車載カメラなどが想定される。
<1. Embodiment>
[Configuration example of imaging device]
FIG. 1 is a block diagram showing a configuration example of an
撮像レンズ110は、入射光を集光して固体撮像素子200に導くものである。
The
固体撮像素子200は、複数の画素のそれぞれについて、輝度の変化量の絶対値が閾値を超えた旨をアドレスイベントとして検出するものである。このアドレスイベントは、例えば、輝度の上昇量が上限閾値を超えた旨を示すオンイベントと、輝度の低下量が上限閾値未満の下限閾値を下回った旨を示すオフイベントとを含む。そして、固体撮像素子200は、アドレスイベントの検出結果を示す検出信号を画素毎に生成する。それぞれの検出信号は、オンイベントの有無を示すオンイベント検出信号VCHと、オフイベントの有無を示すオフイベント検出信号VCLとを含む。なお、固体撮像素子200は、オンイベントおよびオフイベントの両方の有無を検出しているが、一方のみを検出することもできる。
The solid-
固体撮像素子200は、検出信号からなる画像データに対し、画像認識処理などの所定の信号処理を実行し、その処理後のデータを記録部120に信号線209を介して出力する。
The solid-
記録部120は、固体撮像素子200からのデータを記録するものである。制御部130は、固体撮像素子200を制御して画像データを撮像させるものである。
The
[固体撮像素子の構成例]
図2は、本技術の実施の形態における固体撮像素子200の積層構造の一例を示す図である。この固体撮像素子200は、回路基板202と、その回路基板202に積層された受光基板201とを備える。これらの基板は、ビアなどの接続部を介して電気的に接続される。なお、ビアの他、Cu-Cu接合やバンプにより接続することもできる。
[Configuration example of solid-state imaging device]
FIG. 2 is a diagram showing an example of the layered structure of the solid-
図3は、本技術の実施の形態における受光基板201の平面図の一例である。受光基板201には、受光部220と、ビア配置部211、212および213とが設けられる。
FIG. 3 is an example of a plan view of the
ビア配置部211、212および213には、回路基板202と接続されるビアが配置される。また、受光部220には、二次元格子状に複数の受光回路221が配列される。受光回路221は、入射光を光電変換して光電流を生成し、その光電流を電流電圧変換して電圧信号を出力するものである。これらの受光回路221のそれぞれには、行アドレスおよび列アドレスからなる画素アドレスが割り当てられる。
Vias connected to the
図4は、本技術の実施の形態における回路基板202の平面図の一例である。この回路基板202には、負電位供給部230と、ビア配置部231、232および233と、信号処理回路240と、行駆動回路251と、列駆動回路252と、アドレスイベント検出部260とが設けられる。ビア配置部231、232および233には、受光基板201と接続されるビアが配置される。
FIG. 4 is an example of a plan view of the
負電位供給部230は、所定の基準電位(接地電位など)より低い所定電位を負電位として受光基板201に供給するものである。例えば、チャージポンプ回路が負電位供給部230として用いられる。負電位の供給により生じる効果については後述する。なお、負電位供給部230は、特許請求の範囲に記載の電位供給部の一例である。
The negative
アドレスイベント検出部260は、複数の受光回路221のそれぞれの電圧信号から検出信号を生成して信号処理回路240に出力するものである。
The
行駆動回路251は、行アドレスを選択して、その行アドレスに対応する検出信号をアドレスイベント検出部260に出力させるものである。
The
列駆動回路252は、列アドレスを選択して、その列アドレスに対応する検出信号をアドレスイベント検出部260に出力させるものである。
The
信号処理回路240は、アドレスイベント検出部260からの検出信号に対して所定の信号処理を実行するものである。この信号処理回路240は、検出信号を画素信号として二次元格子状に配列し、画素毎に2ビットの情報を有する画像データを取得する。そして、信号処理回路240は、その画像データに対して画像認識処理などの信号処理を実行する。
The
図5は、本技術の実施の形態におけるアドレスイベント検出部260の平面図の一例である。このアドレスイベント検出部260には、二次元格子状に複数のアドレスイベント検出回路261が配列される。アドレスイベント検出回路261のそれぞれには画素アドレスが割り当てられ、同一アドレスの受光回路221と接続される。
FIG. 5 is an example of a plan view of the
アドレスイベント検出回路261は、受光回路221からの電圧信号を量子化し、検出信号として出力するものである。
The address
[有効画素の構成例]
図6は、本技術の実施の形態における有効画素310の構成を説明するための図である。有効画素310のそれぞれは、同一の画素アドレスが割り当てられた、受光基板201内の受光回路221と、回路基板202内のアドレスイベント検出回路261とから構成される。前述したように、基板のそれぞれには、複数の受光回路221と、複数のアドレスイベント検出回路261とが二次元格子状に配列されている。このため、固体撮像素子200においては、それらにより構成される複数の有効画素310が二次元格子状に配列される。
[Configuration example of effective pixels]
FIG. 6 is a diagram for explaining the configuration of the
図7は、本技術の実施の形態における有効画素310の一構成例を示す回路図である。この有効画素310は、フォトダイオード311、電流電圧変換回路320、バッファ330、減算器340、量子化器350および転送回路360を備える。
FIG. 7 is a circuit diagram showing one configuration example of the
フォトダイオード311は、入射光を光電変換して光電流を生成するものである。このフォトダイオード311は、生成した光電流を電流電圧変換回路320に供給する。
The
電流電圧変換回路320は、フォトダイオード311からの光電流を、その対数の電圧信号に変換するものである。この電流電圧変換回路320は、電圧信号をバッファ330に入力する。
The current-
バッファ330は、入力された電圧信号を減算器340に出力するものである。このバッファ330により、後段を駆動する駆動力を向上させることができる。また、バッファ330により、後段のスイッチング動作に伴うノイズのアイソレーションを確保することができる。
The
減算器340は、減算により、補正信号の変化量を求めるものである。この減算器340は、変化量を微分信号として量子化器350に供給する。
The
量子化器350は、微分信号と所定の閾値との比較により、アナログの微分信号をデジタルの検出信号に変換(言い換えれば、量子化)するものである。この量子化器350は、微分信号と上限閾値および下限閾値のそれぞれとを比較し、それらの比較結果を2ビットの検出信号として転送回路360に供給する。なお、量子化器350は、特許請求の範囲に記載の比較器の一例である。
The
転送回路360は、列駆動回路252からの列駆動信号に従って、検出信号を信号処理回路240に転送するものである。
The
また、電流電圧変換回路320は、N型トランジスタ321および322とP型トランジスタ323とを備える。これらのトランジスタとして、例えば、MOS(Metal-Oxide-Semiconductor)トランジスタが用いられる。
Current-
N型トランジスタ321のソースはフォトダイオード311のカソードに接続され、ドレインは電源電圧VDD1の端子に接続される。P型トランジスタ323およびN型トランジスタ322は、電源電圧VDD2の端子と基準電位(接地電位GNDなど)の端子との間において、直列に接続される。また、P型トランジスタ323およびN型トランジスタ322の接続点は、N型トランジスタ321のゲートとバッファ330の入力端子とに接続される。また、P型トランジスタ323のゲートには、所定のバイアス電圧Vblogが印加される。
The N-
N型トランジスタ321および322のドレインは電源側に接続されており、このような回路はソースフォロワと呼ばれる。これらのうちN型トランジスタ321は、光電流をゲートおよびソースの間の電圧に変換し、N型トランジスタ322は、光電流に応じた電位のゲートと基準電位(接地電位GNDなど)のソースとの間の電圧を増幅してドレインから出力する。また、P型トランジスタ323は、一定の電流をN型トランジスタ322に供給する。このような構成により、フォトダイオード311からの光電流は電圧信号に変換される。
The drains of N-
なお、N型トランジスタ321は、特許請求の範囲に記載の変換トランジスタの一例であり、N型トランジスタ322は、特許し請求の範囲に記載の増幅トランジスタの一例である。
The N-
また、フォトダイオード311とN型トランジスタ321および322とは、受光基板201に配置され、P型トランジスタ323以降の回路は、回路基板202に配置される。
そして、負電位供給部230は、基準電位(接地電位GNDなど)よりも低い負電位Vnを受光基板201のPウェル領域に供給する。このPウェル領域には、フォトダイオード311が埋め込まれており、また、その領域にはN型トランジスタ321および322のバックゲート(バルク)が形成される。このため、Pウェル領域に負電位Vnを供給することにより、フォトダイオード311のアノードとN型トランジスタ321および322のそれぞれのバックゲートとに負電位Vnを供給することができる。
Then, the negative
フォトダイオード311のアノードを負電位Vnとすることにより、その電位を基準電位とする場合と比較して、フォトダイオード311の逆バイアスが大きくなる。これにより、フォトダイオード311の感度が高くなり、暗電流を低減することができる。また、N型トランジスタ321および322のバックゲートを負電位Vnとすることにより、それらの電位を基準電位とする場合と比較して、基板バイアス効果により、それぞれのトランジスタの閾値電圧が高くなる。これにより、それらのトランジスタのゲート-ソース間電圧が0以下になることを防止することができる。ゲート-ソース間電圧が0以下になると、電流電圧変換回路320の回路構成上、正常な出力が得られなくなるため、負電位Vnの供給により、そのような事態を抑制することができる。このように、フォトダイオード311の感度向上、暗電流の低下や、閾値電圧の上昇により、検出信号の信号品質を向上させることができる。
By setting the anode of the
バッファ330以降の後段の回路に含まれるN型トランジスタについても、負電位VnのPウェル領域に配置することが可能であるが、仮にそのような構成としても、電流電圧変換動作で説明したような特性観点での効果は得にくい。また、通常、電流電圧変換回路320は外乱から隔離したいモチベーションがある一方で、後段の回路は、大振幅もしくは論理レベルで動作する形となるため、基本的には、受光側のPウェル領域を後段回路から分離する構成が好ましい。
N-type transistors included in circuits subsequent to the
また、バッファ330は、P型トランジスタ331および332を備える。これらのトランジスタとして、例えば、MOSトランジスタが用いられる。
Buffer 330 also includes P-
P型トランジスタ331および332は、電源電圧VDD2の端子と基準電位(GND等)との間において直列に接続される。また、P型トランジスタ331のゲートには所定のバイアス電圧Vbsfが印加される。P型トランジスタ332のゲートは、電流電圧変換回路320の出力端子に接続される。そして、P型トランジスタ331および332の接続点からは、電圧信号が減算器340へ出力される。
P-
減算器340は、コンデンサ341および343と、P型トランジスタ342および344と、N型トランジスタ345とを備える。
P型トランジスタ344およびN型トランジスタ345は、電源電圧VDD2の端子と基準電位の端子との間に直列に接続される。P型トランジスタ344のゲートを入力端子、P型トランジスタ344およびN型トランジスタ345の接続点を出力端子として、P型トランジスタ344およびN型トランジスタ345は入力信号を反転するインバータとして機能する。
P-
コンデンサ341の一端は、バッファ330の出力端子に接続され、他端は、インバータの入力端子(すなわち、P型トランジスタ344のゲート)に接続される。コンデンサ343は、インバータに並列に接続される。P型トランジスタ342は、コンデンサ343の両端を接続する経路を行駆動信号に従って開閉するものである。
One end of
P型トランジスタ342をオンした際にコンデンサ341のバッファ330側に電圧信号Vinitが入力され、その逆側は仮想接地端子となる。この仮想接地端子の電位を便宜上、ゼロとする。このとき、コンデンサ341に蓄積されている電位Qinitは、コンデンサ341の容量をC1とすると、次の式により表される。一方、コンデンサ343の両端は、短絡されているため、その蓄積電荷はゼロとなる。
Qinit=C1×Vinit ・・・式1
When the P-
Q init =C1×V init Equation 1
次に、P型トランジスタ342がオフされて、コンデンサ341のバッファ330側の電圧が変化してVafterになった場合を考えると、コンデンサ341に蓄積される電荷Qafterは、次の式により表される。
Qafter=C1×Vafter ・・・式2
Next, considering the case where the P-
Q after = C1 x V after Equation 2
一方、コンデンサ343に蓄積される電荷Q2は、出力電圧をVoutとすると、次の式により表される。
Q2=-C2×Vout ・・・式3
On the other hand, the charge Q2 accumulated in the
Q2= -C2 ×Vout Expression 3
このとき、コンデンサ341および343の総電荷量は変化しないため、次の式が成立する。
Qinit=Qafter+Q2 ・・・式4
At this time, since the total amount of charge in the
Qinit = Qafter +Q2 Equation 4
式4に式1乃至式3を代入して変形すると、次の式が得られる。
Vout=-(C1/C2)×(Vafter-Vinit) ・・・式5
Substituting
V out =−(C1/C2)×(V after −V init ) Equation 5
式5は、電圧信号の減算動作を表し、減算結果の利得はC1/C2となる。通常、利得を最大化することが望まれるため、C1を大きく、C2を小さく設計することが好ましい。一方、C2が小さすぎると、kTCノイズが増大し、ノイズ特性が悪化するおそれがあるため、C2の容量削減は、ノイズを許容することができる範囲に制限される。また、有効画素310ごとに減算器340が搭載されるため、容量C1やC2には、面積上の制約がある。これらを考慮して、例えば、C1は、20乃至200フェムトファラッド(fF)の値に設定され、C2は、1乃至20フェムトファラッド(fF)の値に設定される。
Equation 5 represents the subtraction operation of the voltage signal, and the gain of the subtraction result is C1/C2. Since it is usually desired to maximize the gain, it is preferable to design C1 large and C2 small. On the other hand, if C2 is too small, the kTC noise may increase and the noise characteristics may deteriorate, so the reduction of the capacitance of C2 is limited to the extent that the noise can be tolerated. In addition, since the
量子化器350は、P型トランジスタ351および353とN型トランジスタ352および354とを備える。これらのトランジスタとして、例えば、MOSトランジスタが用いられる。
P型トランジスタ351およびN型トランジスタ352は、電源電圧VDD2の端子と基準電位の端子との間において直列に接続される。P型トランジスタ353およびN型トランジスタ354も、電源電圧VDD2の端子と基準電位の端子との間において直列に接続される。また、P型トランジスタ351および353のゲートは、減算器340の出力端子に接続される。N型トランジスタ352のゲートには上限閾値を示すバイアス電圧Vbonが印加され、N型トランジスタ354のゲートには下限閾値を示すバイアス電圧Vboffが印加される。
P-
P型トランジスタ351およびN型トランジスタ352の接続点は、転送回路360に接続され、この接続点の電圧が、オンイベント検出信号VCHとして出力される。P型トランジスタ353およびN型トランジスタ354の接続点も、転送回路360に接続され、この接続点の電圧が、オフイベント検出信号VCLとして出力される。このような接続により、微分信号が上限閾値を超えた場合に量子化器350は、ハイレベルのオンイベント検出信号VCHを出力し、微分信号が下限閾値を下回った場合にローレベルのオフイベント検出信号VCLを出力する。
A connection point between P-
なお、フォトダイオード311と電流電圧変換回路320の一部とを受光基板201に配置し、その後段の回路を回路基板202に配置しているが、それぞれのチップへ配置する回路は、この構成に限定されない。例えば、フォトダイオード311と電流電圧変換回路320の全体とを受光基板201に配置し、それ以外を回路基板202に配置することもできる。また、フォトダイオード311、電流電圧変換回路320およびバッファ330を受光基板201に配置し、それ以外を回路基板202に配置することもできる。また、フォトダイオード311、電流電圧変換回路320およびバッファ330とコンデンサ341を受光基板201に配置し、それ以外を回路基板202に配置することもできる。また、フォトダイオード311、電流電圧変換回路320、バッファ330、減算器340および量子化器350を受光基板201に配置し、それ以外を回路基板202に配置することもできる。
The
図8は、本技術の実施の形態における有効画素310の断面図の一例である。受光基板201のPウェル領域において、フォトダイオード311が埋め込まれ、N型トランジスタ321および322のバックゲートが形成される。N型トランジスタ321のドレインには電源電圧VDD1が供給され、N型トランジスタ322のソースの電位は、基準電位(GND等)である。また、隣接する有効画素310のそれぞれのPウェル領域は、一点鎖線の部分で分離されている。
FIG. 8 is an example of a cross-sectional view of
N型トランジスタ321のバックゲート(バルク)に負電位Vnを供給することにより、基準電位を印加する場合と比較してドレイン-バックゲート間に、高電圧が印加される。通常、電流電圧変換回路320の出力は、ダイナミックレンジ拡大のために大振幅動作が求められ、後段の電源電圧VDD2を下げることは難しいが、電源電圧VDD1に関してはダイナミックレンジに大きな影響は出ない。このため、電源電圧VDD1を電源電圧VDD2よりも低くすることが望ましい。
By supplying the negative potential Vn to the back gate (bulk) of the N-
負電位供給部230には、全ての有効画素310からの光電流が流れることになるが、仮にIRドロップにより画素面内の電位勾配が生じると画素特性自体もIRドロップ形状に依存した面内バラつきが生じる可能性がある。このため、受光基板201および回路基板202の複数個所にビアを配置し、画素面内の負電位勾配を無くすることが好ましい。
The photocurrent from all the
このように、本技術の実施の形態によれば、フォトダイオード311のアノードとN型トランジスタ321等のバックゲートとに負電位Vnを供給するため、フォトダイオード311の逆バイアスおよび閾値電圧を高くすることができる。逆バイアスを高くすることにより、フォトダイオード311の感度を向上させ、暗電流を低減することができる。また、閾値電圧を高くすることにより、正常な出力が得られなくなることを抑制することができる。したがって、検出信号の信号品質を向上させることができる。
As described above, according to the embodiment of the present technology, since the negative potential Vn is supplied to the anode of the
[変形例]
上述の実施の形態では、負電位供給部230が全画素に負電位Vnを供給していたが、画素数が多くなるほど、消費電力が大きくなるおそれがある。この実施の形態の固体撮像素子200は、遮光画素には負電位Vnを供給しない点において実施の形態と異なる。
[Modification]
In the above-described embodiment, the negative
図9は、本技術の実施の形態の変形例における画素アレイ部300の平面図の一例である。この画素アレイ部300は、積層された受光部220およびアドレスイベント検出部260から構成される。画素アレイ部300には、水平遮光画素領域301および303と有効画素領域302とが設けられる。
FIG. 9 is an example of a plan view of the
有効画素領域302には、複数の有効画素310が二次元格子状に配置される。これらの画素は遮光されない。
A plurality of
一方、水平遮光画素領域301および303のそれぞれには、複数の遮光画素315が二次元格子状に配列される。これらの画素は遮光されている。また、水平遮光画素領域301および303内の遮光画素315には、有効画素310と異なる列アドレスが割り当てられる。また、遮光画素315の回路構成は、有効画素310と同様である。
On the other hand, in each of the horizontal light-shielded
負電位供給部230は、有効画素310のPウェル領域に負電位Vn1を供給する。一方、負電位供給部230は、遮光画素315のPウェル領域に基準電位(GND)などのVn2を供給する。
The negative
信号処理回路240や、その後段の回路は、遮光画素315からの画素信号から暗電流量を求め、有効画素310からの画素信号において暗電流を除去する。
The
なお、水平遮光画素領域301および303を配置しているが、図10に例示するように、その代わりに垂直遮光画素領域304を配置してもよい。この垂直遮光画素領域304内の遮光画素315には、有効画素310と異なる行アドレスが割り当てられる。また、水平遮光画素領域301および303と垂直遮光画素領域304との両方を配置することもできる。
Although the horizontal light-shielded
このように、本技術の実施の形態の変形例によれば、負電位供給部230は、全画素のうち有効画素310にのみ負電位Vn1を供給するため、全画素に負電位Vn1を供給する場合と比較して消費電力を低減することができる。
As described above, according to the modification of the embodiment of the present technology, the negative
<移動体への応用例>
本開示に係る技術(本技術)は、様々な製品へ応用することができる。例えば、本開示に係る技術は、自動車、電気自動車、ハイブリッド電気自動車、自動二輪車、自転車、パーソナルモビリティ、飛行機、ドローン、船舶、ロボット等のいずれかの種類の移動体に搭載される装置として実現されてもよい。
<Example of application to a moving object>
The technology (the present technology) according to the present disclosure can be applied to various products. For example, the technology according to the present disclosure can be realized as a device mounted on any type of moving body such as automobiles, electric vehicles, hybrid electric vehicles, motorcycles, bicycles, personal mobility, airplanes, drones, ships, and robots. may
図11は、本開示に係る技術が適用され得る移動体制御システムの一例である車両制御システムの概略的な構成例を示すブロック図である。 FIG. 11 is a block diagram showing a schematic configuration example of a vehicle control system, which is an example of a mobile control system to which the technology according to the present disclosure can be applied.
車両制御システム12000は、通信ネットワーク12001を介して接続された複数の電子制御ユニットを備える。図11に示した例では、車両制御システム12000は、駆動系制御ユニット12010、ボディ系制御ユニット12020、車外情報検出ユニット12030、車内情報検出ユニット12040、及び統合制御ユニット12050を備える。また、統合制御ユニット12050の機能構成として、マイクロコンピュータ12051、音声画像出力部12052、及び車載ネットワークI/F(interface)12053が図示されている。
駆動系制御ユニット12010は、各種プログラムにしたがって車両の駆動系に関連する装置の動作を制御する。例えば、駆動系制御ユニット12010は、内燃機関又は駆動用モータ等の車両の駆動力を発生させるための駆動力発生装置、駆動力を車輪に伝達するための駆動力伝達機構、車両の舵角を調節するステアリング機構、及び、車両の制動力を発生させる制動装置等の制御装置として機能する。
Drive
ボディ系制御ユニット12020は、各種プログラムにしたがって車体に装備された各種装置の動作を制御する。例えば、ボディ系制御ユニット12020は、キーレスエントリシステム、スマートキーシステム、パワーウィンドウ装置、あるいは、ヘッドランプ、バックランプ、ブレーキランプ、ウィンカー又はフォグランプ等の各種ランプの制御装置として機能する。この場合、ボディ系制御ユニット12020には、鍵を代替する携帯機から発信される電波又は各種スイッチの信号が入力され得る。ボディ系制御ユニット12020は、これらの電波又は信号の入力を受け付け、車両のドアロック装置、パワーウィンドウ装置、ランプ等を制御する。
Body
車外情報検出ユニット12030は、車両制御システム12000を搭載した車両の外部の情報を検出する。例えば、車外情報検出ユニット12030には、撮像部12031が接続される。車外情報検出ユニット12030は、撮像部12031に車外の画像を撮像させるとともに、撮像された画像を受信する。車外情報検出ユニット12030は、受信した画像に基づいて、人、車、障害物、標識又は路面上の文字等の物体検出処理又は距離検出処理を行ってもよい。
External
撮像部12031は、光を受光し、その光の受光量に応じた電気信号を出力する光センサである。撮像部12031は、電気信号を画像として出力することもできるし、測距の情報として出力することもできる。また、撮像部12031が受光する光は、可視光であっても良いし、赤外線等の非可視光であっても良い。
The
車内情報検出ユニット12040は、車内の情報を検出する。車内情報検出ユニット12040には、例えば、運転者の状態を検出する運転者状態検出部12041が接続される。運転者状態検出部12041は、例えば運転者を撮像するカメラを含み、車内情報検出ユニット12040は、運転者状態検出部12041から入力される検出情報に基づいて、運転者の疲労度合い又は集中度合いを算出してもよいし、運転者が居眠りをしていないかを判別してもよい。
The vehicle interior
マイクロコンピュータ12051は、車外情報検出ユニット12030又は車内情報検出ユニット12040で取得される車内外の情報に基づいて、駆動力発生装置、ステアリング機構又は制動装置の制御目標値を演算し、駆動系制御ユニット12010に対して制御指令を出力することができる。例えば、マイクロコンピュータ12051は、車両の衝突回避あるいは衝撃緩和、車間距離に基づく追従走行、車速維持走行、車両の衝突警告、又は車両のレーン逸脱警告等を含むADAS(Advanced Driver Assistance System)の機能実現を目的とした協調制御を行うことができる。
The
また、マイクロコンピュータ12051は、車外情報検出ユニット12030又は車内情報検出ユニット12040で取得される車両の周囲の情報に基づいて駆動力発生装置、ステアリング機構又は制動装置等を制御することにより、運転者の操作に拠らずに自律的に走行する自動運転等を目的とした協調制御を行うことができる。
In addition, the
また、マイクロコンピュータ12051は、車外情報検出ユニット12030で取得される車外の情報に基づいて、ボディ系制御ユニット12020に対して制御指令を出力することができる。例えば、マイクロコンピュータ12051は、車外情報検出ユニット12030で検知した先行車又は対向車の位置に応じてヘッドランプを制御し、ハイビームをロービームに切り替える等の防眩を図ることを目的とした協調制御を行うことができる。
Further, the
音声画像出力部12052は、車両の搭乗者又は車外に対して、視覚的又は聴覚的に情報を通知することが可能な出力装置へ音声及び画像のうちの少なくとも一方の出力信号を送信する。図11の例では、出力装置として、オーディオスピーカ12061、表示部12062及びインストルメントパネル12063が例示されている。表示部12062は、例えば、オンボードディスプレイ及びヘッドアップディスプレイの少なくとも一つを含んでいてもよい。
The audio/
図12は、撮像部12031の設置位置の例を示す図である。
FIG. 12 is a diagram showing an example of the installation position of the
図12では、撮像部12031として、撮像部12101,12102,12103,12104,12105を有する。
In FIG. 12 ,
撮像部12101,12102,12103,12104,12105は、例えば、車両12100のフロントノーズ、サイドミラー、リアバンパ、バックドア及び車室内のフロントガラスの上部等の位置に設けられる。フロントノーズに備えられる撮像部12101及び車室内のフロントガラスの上部に備えられる撮像部12105は、主として車両12100の前方の画像を取得する。サイドミラーに備えられる撮像部12102,12103は、主として車両12100の側方の画像を取得する。リアバンパ又はバックドアに備えられる撮像部12104は、主として車両12100の後方の画像を取得する。車室内のフロントガラスの上部に備えられる撮像部12105は、主として先行車両又は、歩行者、障害物、信号機、交通標識又は車線等の検出に用いられる。
The
なお、図12には、撮像部12101ないし12104の撮影範囲の一例が示されている。撮像範囲12111は、フロントノーズに設けられた撮像部12101の撮像範囲を示し、撮像範囲12112,12113は、それぞれサイドミラーに設けられた撮像部12102,12103の撮像範囲を示し、撮像範囲12114は、リアバンパ又はバックドアに設けられた撮像部12104の撮像範囲を示す。例えば、撮像部12101ないし12104で撮像された画像データが重ね合わせられることにより、車両12100を上方から見た俯瞰画像が得られる。
Note that FIG. 12 shows an example of the imaging range of the
撮像部12101ないし12104の少なくとも1つは、距離情報を取得する機能を有していてもよい。例えば、撮像部12101ないし12104の少なくとも1つは、複数の撮像素子からなるステレオカメラであってもよいし、位相差検出用の画素を有する撮像素子であってもよい。
At least one of the
例えば、マイクロコンピュータ12051は、撮像部12101ないし12104から得られた距離情報を基に、撮像範囲12111ないし12114内における各立体物までの距離と、この距離の時間的変化(車両12100に対する相対速度)を求めることにより、特に車両12100の進行路上にある最も近い立体物で、車両12100と略同じ方向に所定の速度(例えば、0km/h以上)で走行する立体物を先行車として抽出することができる。さらに、マイクロコンピュータ12051は、先行車の手前に予め確保すべき車間距離を設定し、自動ブレーキ制御(追従停止制御も含む)や自動加速制御(追従発進制御も含む)等を行うことができる。このように運転者の操作に拠らずに自律的に走行する自動運転等を目的とした協調制御を行うことができる。
For example, based on the distance information obtained from the
例えば、マイクロコンピュータ12051は、撮像部12101ないし12104から得られた距離情報を元に、立体物に関する立体物データを、2輪車、普通車両、大型車両、歩行者、電柱等その他の立体物に分類して抽出し、障害物の自動回避に用いることができる。例えば、マイクロコンピュータ12051は、車両12100の周辺の障害物を、車両12100のドライバが視認可能な障害物と視認困難な障害物とに識別する。そして、マイクロコンピュータ12051は、各障害物との衝突の危険度を示す衝突リスクを判断し、衝突リスクが設定値以上で衝突可能性がある状況であるときには、オーディオスピーカ12061や表示部12062を介してドライバに警報を出力することや、駆動系制御ユニット12010を介して強制減速や回避操舵を行うことで、衝突回避のための運転支援を行うことができる。
For example, based on the distance information obtained from the
撮像部12101ないし12104の少なくとも1つは、赤外線を検出する赤外線カメラであってもよい。例えば、マイクロコンピュータ12051は、撮像部12101ないし12104の撮像画像中に歩行者が存在するか否かを判定することで歩行者を認識することができる。かかる歩行者の認識は、例えば赤外線カメラとしての撮像部12101ないし12104の撮像画像における特徴点を抽出する手順と、物体の輪郭を示す一連の特徴点にパターンマッチング処理を行って歩行者か否かを判別する手順によって行われる。マイクロコンピュータ12051が、撮像部12101ないし12104の撮像画像中に歩行者が存在すると判定し、歩行者を認識すると、音声画像出力部12052は、当該認識された歩行者に強調のための方形輪郭線を重畳表示するように、表示部12062を制御する。また、音声画像出力部12052は、歩行者を示すアイコン等を所望の位置に表示するように表示部12062を制御してもよい。
At least one of the
以上、本開示に係る技術が適用され得る車両制御システムの一例について説明した。本開示に係る技術は、以上説明した構成のうち撮像部12031に適用され得る。具体的には、図1の撮像装置100は、撮像部12031に適用することができる。撮像部12031に本開示に係る技術を適用することにより、検出信号の信号品質を向上させることができるため、検出信号を用いる画像認識等の精度を向上させることができる。
An example of a vehicle control system to which the technology according to the present disclosure can be applied has been described above. The technology according to the present disclosure can be applied to the
なお、上述の実施の形態は本技術を具現化するための一例を示したものであり、実施の形態における事項と、特許請求の範囲における発明特定事項とはそれぞれ対応関係を有する。同様に、特許請求の範囲における発明特定事項と、これと同一名称を付した本技術の実施の形態における事項とはそれぞれ対応関係を有する。ただし、本技術は実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において実施の形態に種々の変形を施すことにより具現化することができる。 In addition, the above-described embodiment shows an example for embodying the present technology, and the matters in the embodiment and the matters specifying the invention in the scope of claims have corresponding relationships. Similarly, the matters specifying the invention in the scope of claims and the matters in the embodiments of the present technology with the same names have corresponding relationships. However, the present technology is not limited to the embodiments, and can be embodied by various modifications to the embodiments without departing from the scope of the present technology.
なお、本明細書に記載された効果はあくまで例示であって、限定されるものではなく、また、他の効果があってもよい。 It should be noted that the effects described in this specification are only examples and are not limited, and other effects may be provided.
なお、本技術は以下のような構成もとることができる。
(1)入射光を光電流に変換するフォトダイオードと、
前記光電流に応じた電位のゲートと所定の基準電位のソースとの間の電圧を増幅してドレインから出力する増幅トランジスタと、
前記フォトダイオードのアノードおよび前記増幅トランジスタのバックゲートに前記基準電位よりも低い所定電位を供給する電位供給部と
を具備する固体撮像素子。
(2)前記光電流をゲートおよびソースの間の電圧に変換する変換トランジスタをさらに具備し、
前記変換トランジスタのソースは、前記フォトダイオードのカソードと前記増幅トランジスタのゲートとに接続され、
前記増幅トランジスタのドレインは、前記変換トランジスタのゲートに接続される
前記(1)記載の固体撮像素子。
(3)前記フォトダイオードおよび前記増幅トランジスタは、遮光されていない有効画素と遮光された遮光画素とのそれぞれに配置され、
前記電位供給部は、前記有効画素に対応する前記フォトダイオードのアノードに前記所定電位を供給し、前記遮光画素に対応する前記フォトダイオードのアノードに前記基準電位を供給する
前記(2)記載の固体撮像素子。
(4)前記フォトダイオード、前記変換トランジスタおよび前記増幅トランジスタは、所定の受光基板に配置され、
前記電位供給部は、前記受光基板に前記所定電位を供給する
前記(2)または(3)に記載の固体撮像素子。
(5)前記増幅トランジスタから出力された電圧信号を出力するバッファと、
前記バッファからの前記電圧信号のレベルを低下させる減算器と、
前記低下した電圧信号と所定の閾値とを比較する比較器と
をさらに具備する前記(4)記載の固体撮像素子。
(6)前記変換トランジスタおよび前記増幅トランジスタは、前記光電流を前記電圧信号に変換する電流電圧変換回路内に配置され、
前記電流電圧変換回路の電源電圧は、前記バッファ、前記減算器および前記比較器の電源電圧と異なる
前記(5)記載の固体撮像素子。
(7)前記バッファ、前記減算器および前記コンパレータの少なくとも一部は、前記受光基板に積層された所定の回路基板に配置される
前記(5)または(6)に記載の固体撮像素子。
(8)入射光を光電流に変換するフォトダイオードと、
前記光電流に応じた電位のゲートと所定の基準電位のソースとの間の電圧を増幅してドレインから出力する増幅トランジスタと、
前記フォトダイオードのアノードおよび前記増幅トランジスタのバックゲートに前記基準電位よりも低い所定電位を供給する電位供給部と、
前記増幅トランジスタから出力された信号を処理する信号処理回路と
を具備する撮像装置。
Note that the present technology can also have the following configuration.
(1) a photodiode that converts incident light into a photocurrent;
an amplification transistor that amplifies a voltage between a gate having a potential corresponding to the photocurrent and a source having a predetermined reference potential and outputs the amplified voltage from a drain;
A solid-state imaging device, comprising: a potential supply unit that supplies a predetermined potential lower than the reference potential to the anode of the photodiode and the backgate of the amplification transistor.
(2) further comprising a conversion transistor that converts the photocurrent to a voltage between a gate and a source;
the source of the conversion transistor is connected to the cathode of the photodiode and the gate of the amplification transistor;
The solid-state imaging device according to (1), wherein the drain of the amplification transistor is connected to the gate of the conversion transistor.
(3) the photodiode and the amplifying transistor are arranged in each of an unshaded effective pixel and a shaded light-shielded pixel;
The solid state according to (2), wherein the potential supply unit supplies the predetermined potential to the anode of the photodiode corresponding to the effective pixel, and supplies the reference potential to the anode of the photodiode corresponding to the light-shielded pixel. image sensor.
(4) the photodiode, the conversion transistor and the amplification transistor are arranged on a predetermined light-receiving substrate;
The solid-state imaging device according to (2) or (3), wherein the potential supply section supplies the predetermined potential to the light receiving substrate.
(5) a buffer that outputs the voltage signal output from the amplification transistor;
a subtractor that reduces the level of the voltage signal from the buffer;
The solid-state imaging device according to (4) above, further comprising a comparator that compares the lowered voltage signal with a predetermined threshold.
(6) the conversion transistor and the amplification transistor are arranged in a current-voltage conversion circuit that converts the photocurrent into the voltage signal;
The solid-state imaging device according to (5), wherein a power supply voltage of the current-voltage conversion circuit is different from power supply voltages of the buffer, the subtractor and the comparator.
(7) The solid-state imaging device according to (5) or (6), wherein at least part of the buffer, the subtractor and the comparator are arranged on a predetermined circuit board laminated on the light receiving substrate.
(8) a photodiode that converts incident light into photocurrent;
an amplification transistor that amplifies a voltage between a gate having a potential corresponding to the photocurrent and a source having a predetermined reference potential and outputs the amplified voltage from a drain;
a potential supply unit that supplies a predetermined potential lower than the reference potential to the anode of the photodiode and the backgate of the amplification transistor;
and a signal processing circuit that processes a signal output from the amplification transistor.
100 撮像装置
110 撮像レンズ
120 記録部
130 制御部
200 固体撮像素子
201 受光基板
202 回路基板
211、212、213、231、232、233 ビア配置部
220 受光部
221 受光回路
230 負電位供給部
240 信号処理回路
251 行駆動回路
252 列駆動回路
260 アドレスイベント検出部
261 アドレスイベント検出回路
300 画素アレイ部
310 有効画素
311 フォトダイオード
315 遮光画素
320 電流電圧変換回路
321、322、345、352、354 N型トランジスタ
323、331、332、342、344、351、353 P型トランジスタ
330 バッファ
340 減算器
341、343 コンデンサ
350 量子化器
360 転送回路
12031 撮像部
REFERENCE SIGNS
Claims (8)
前記光電流に応じた電位のゲートと所定の基準電位のソースとの間の電圧を増幅してドレインから出力する増幅トランジスタと、
前記フォトダイオードのアノードおよび前記増幅トランジスタのバックゲートに前記基準電位よりも低い所定電位を供給する電位供給部と
を具備する固体撮像素子。 a photodiode that converts incident light into a photocurrent;
an amplification transistor that amplifies a voltage between a gate having a potential corresponding to the photocurrent and a source having a predetermined reference potential and outputs the amplified voltage from a drain;
A solid-state imaging device, comprising: a potential supply unit that supplies a predetermined potential lower than the reference potential to the anode of the photodiode and the backgate of the amplification transistor.
前記変換トランジスタのソースは、前記フォトダイオードのカソードと前記増幅トランジスタのゲートとに接続され、
前記増幅トランジスタのドレインは、前記変換トランジスタのゲートに接続される
請求項1記載の固体撮像素子。 further comprising a conversion transistor that converts the photocurrent to a voltage between a gate and a source;
the source of the conversion transistor is connected to the cathode of the photodiode and the gate of the amplification transistor;
2. A solid-state imaging device according to claim 1, wherein the drain of said amplification transistor is connected to the gate of said conversion transistor.
前記電位供給部は、前記有効画素に対応する前記フォトダイオードのアノードに前記所定電位を供給し、前記遮光画素に対応する前記フォトダイオードのアノードに前記基準電位を供給する
請求項2記載の固体撮像素子。 the photodiode and the amplifying transistor are arranged in each of an unshaded effective pixel and a shaded light-shielded pixel;
3. The solid-state imaging device according to claim 2, wherein the potential supply unit supplies the predetermined potential to the anode of the photodiode corresponding to the effective pixel, and supplies the reference potential to the anode of the photodiode corresponding to the light-shielded pixel. element.
前記電位供給部は、前記受光基板に前記所定電位を供給する
請求項2記載の固体撮像素子。 the photodiode, the conversion transistor and the amplification transistor are arranged on a predetermined light-receiving substrate;
3. The solid-state imaging device according to claim 2, wherein said potential supply section supplies said predetermined potential to said light receiving substrate.
前記バッファからの前記電圧信号のレベルを低下させる減算器と、
前記低下した電圧信号と所定の閾値とを比較する比較器と
をさらに具備する請求項4記載の固体撮像素子。 a buffer that outputs the voltage signal output from the amplification transistor;
a subtractor that reduces the level of the voltage signal from the buffer;
5. The solid-state imaging device according to claim 4, further comprising a comparator for comparing said reduced voltage signal with a predetermined threshold.
前記電流電圧変換回路の電源電圧は、前記バッファ、前記減算器および前記比較器の電源電圧と異なる
請求項5記載の固体撮像素子。 the conversion transistor and the amplification transistor are arranged in a current-voltage conversion circuit that converts the photocurrent into the voltage signal;
6. A solid-state imaging device according to claim 5, wherein the power supply voltage of said current-voltage conversion circuit is different from the power supply voltages of said buffer, said subtractor and said comparator.
請求項5記載の固体撮像素子。 6. A solid-state imaging device according to claim 5, wherein at least part of said buffer, said subtractor and said comparator are arranged on a predetermined circuit board laminated on said light receiving substrate.
前記光電流に応じた電位のゲートと所定の基準電位のソースとの間の電圧を増幅してドレインから出力する増幅トランジスタと、
前記フォトダイオードのアノードおよび前記増幅トランジスタのバックゲートに前記基準電位よりも低い所定電位を供給する電位供給部と、
前記増幅トランジスタから出力された信号を処理する信号処理回路と
を具備する撮像装置。 a photodiode that converts incident light into a photocurrent;
an amplification transistor that amplifies a voltage between a gate having a potential corresponding to the photocurrent and a source having a predetermined reference potential and outputs the amplified voltage from a drain;
a potential supply unit that supplies a predetermined potential lower than the reference potential to the anode of the photodiode and the backgate of the amplification transistor;
and a signal processing circuit that processes a signal output from the amplification transistor.
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