JP7092576B2 - 18F reaction vessel - Google Patents
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- 229910052754 neon Inorganic materials 0.000 claims description 36
- GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N neon atom Chemical compound [Ne] GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 36
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 18
- 239000003507 refrigerant Substances 0.000 claims description 7
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 4
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 claims description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 12
- 230000005251 gamma ray Effects 0.000 description 8
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 206010028980 Neoplasm Diseases 0.000 description 5
- 201000011510 cancer Diseases 0.000 description 5
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 5
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000002600 positron emission tomography Methods 0.000 description 4
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 3
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid Substances OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 2
- 239000011224 oxide ceramic Substances 0.000 description 2
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- -1 sulfuric acid acidic salt Chemical class 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- WQZGKKKJIJFFOK-GASJEMHNSA-N Glucose Natural products OC[C@H]1OC(O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H]1O WQZGKKKJIJFFOK-GASJEMHNSA-N 0.000 description 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- INAHAJYZKVIDIZ-UHFFFAOYSA-N boron carbide Chemical compound B12B3B4C32B41 INAHAJYZKVIDIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 239000008103 glucose Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000002706 hydrostatic effect Effects 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- FWFGVMYFCODZRD-UHFFFAOYSA-N oxidanium;hydrogen sulfate Chemical compound O.OS(O)(=O)=O FWFGVMYFCODZRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052574 oxide ceramic Inorganic materials 0.000 description 1
- SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoyttriooxy)yttrium Chemical compound O=[Y]O[Y]=O SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 238000004445 quantitative analysis Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
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Description
本開示は、18F反応容器に関する。 The present disclosure relates to an 18F reaction vessel.
癌診断の方法として用いられているPET(陽電子放射断層撮影)検査では、癌患部が吸収しやすいブドウ糖に18-フッ素同位体(18F)を組み込み、これを癌患者に投与し、18Fから放出されるガンマ線を検出することで癌患部の位置を特定する。 In PET (positron emission tomography) examination, which is used as a method for diagnosing cancer, 18-fluorine isotope (18F) is incorporated into glucose that is easily absorbed by the affected area of cancer, and this is administered to cancer patients and released from 18F. The location of the affected area of cancer is identified by detecting gamma rays.
ここで、特許文献1には、18Fを含む固体から18Fを回収するPET用18Fの回収方法として、前記固体は、6Li及び16Oを含む硫酸酸性塩または18Oを含む硫酸酸性水を含む個体であり、前記18Fをガス状のガス化剤と反応させてガス化し、ガス化された18Fを吸収液に吸収して回収する方法が提案されている。
Here, in
近年では、癌を早期発見すれば完治できるまでに医療技術が進歩していることから、PET検査が多用されている。これに伴い、18Fを効率よく製造する方法が求められていた。 In recent years, PET examinations have been widely used because medical technology has advanced to the point where cancer can be completely cured if it is detected at an early stage. Along with this, there has been a demand for a method for efficiently producing 18F.
また、特許文献1で提案された方法では、使用する6Li及び16Oを含む硫酸酸性塩または18Oを含む硫酸酸性水が高価であるとともに、18Fを製造する際に、作業者が放射線被爆する可能性が高いという問題があった。
Further, in the method proposed in
そこで、放射線被爆の可能性が低いとともに、18Fを効率よく製造できる、18F反応容器の確立が望まれていた。 Therefore, it has been desired to establish an 18F reaction vessel capable of efficiently producing 18F while having a low possibility of radiation exposure.
本開示は、このような事情を鑑みて案出されたものであり、放射線被爆の可能性が低いとともに、18Fを効率よく製造できる、18F反応容器を提供することを目的とする。 The present disclosure has been devised in view of such circumstances, and an object of the present invention is to provide an 18F reaction vessel capable of efficiently producing 18F while having a low possibility of radiation exposure.
本開示の18F反応容器は、γ線の入口および出口を有するとともに、内部がネオンガスの流路である第1流路を備える。そして、前記入口を含む第1部位および前記出口を含む第2部位がセラミックスからなる。 The 18F reaction vessel of the present disclosure has an inlet and an outlet for γ-rays, and also has a first flow path whose inside is a flow path for neon gas. The first portion including the inlet and the second portion including the outlet are made of ceramics.
本開示の18F反応容器は、放射線被爆の可能性が低いとともに、18Fを効率よく製造することができる。 The 18F reaction vessel of the present disclosure has a low possibility of being exposed to radiation and can efficiently produce 18F.
以下、本開示の18F反応容器について、以下に詳細に説明する。 Hereinafter, the 18F reaction vessel of the present disclosure will be described in detail below.
近年の研究から、ネオンガスにγ線を照射させ反応させる方法であれば、安価で、かつ放射線被爆の可能性が低い。しかしながら、この方法による18Fの製造方法では、γ線が通過する18F反応容器とγ線とが反応してしまったり、ネオンガスとγ線とが反応する際に生じる熱によりネオンガスが発熱することで、18Fの製造効率が低かった。 From recent research, a method of irradiating neon gas with γ-rays to react is inexpensive and has a low possibility of radiation exposure. However, in the method for producing 18F by this method, the 18F reaction vessel through which γ-rays pass reacts with γ-rays, or the heat generated when neon gas and γ-rays react causes the neon gas to generate heat. The production efficiency of 18F was low.
本開示の18F反応容器10は、図1に示すように、γ線の入口1および出口2を有するとともに、内部がネオンガスの流路である第1流路3を備える。ここで、γ線の入口1とは、γ線が18F反応容器10を通過する経路において、γ線が入射してから第1流路3に到達するまでに通過する部位のことである。一方、γ線の出口2とは、γ線が18F反応容器10を通過する経路において、第1流路3からγ線が出射するまでに通過する部位のことである。
As shown in FIG. 1, the
なお、図1では、18F反応容器10aが、第1流路3に繋がる、ネオンガスを第1流路3に流入させるための流路である第1流入路7および第1流路3から排出したネオンガスが流れる流路である第1排出路8を備えている例を示している。
In FIG. 1, the
さらに、本開示の18F反応容器10は、入口1を含む第1部位4および出口2を含む第2部位5がセラミックスからなる。ここで、第1部位4とは、18F反応容器10を全長が17等分となるように分割した際における、入口1側の17分の1の部分のことである。一方、第2部位5とは、18F反応容器10を全長が17等分となるように分割した際における、出口2側の17分の1の部分のことである。
Further, in the
このように、上記構成を満足していることで、γ線を18F反応容器10に照射し、入口1から第1流路3を通って出口2までγ線が通過する際に、第1流路3を流れるネオンガスとγ線とが反応し、18Fを生成させることができる。その後、生成した18Fを含むネオンガスを分離装置(不図示)に送り、ネオンガス中から18Fを分離・回収することができる。さらに、回収後のネオンガスは再利用することが可能である。そして、入口1を含む第1部位4および出口2を含む第2部位5がセラミックスからなることから、γ線がネオンガス以外と反応することなく、本開示の18F反応容器10は18Fを効率よく製造することができる。
As described above, by satisfying the above configuration, when the
なお、第1部位4および第2部位5を構成するセラミックスとは、例えば、酸化アルミニウム質セラミックス、酸化ジルコニウム質セラミックス、酸化アルミニウムおよび酸化ジルコニウムの複合セラミックス、窒化珪素質セラミックス、窒化アルミニウム質セラミックス、炭化珪素質セラミックスまたはムライト質セラミックス等である。特に、本開示の18F反応容器10における第1部位4および第2部位5が炭化珪素質セラミックスからなるならば、耐熱性に優れ、かつ熱伝導率が高いことから、ネオンガスとγ線とが反応する際に生じる熱を効率よく放熱することができる。なお、炭化珪素質セラミックスとは、セラミックスを構成する全成分100質量%のうち、炭化珪素を70質量%以上含有するものである。また、他のセラミックスについても同様である。
The ceramics constituting the
そして、本開示の18F反応容器10における第1部位4および第2部位5の材質は、以下の方法により確認することができる。まず、X線回折装置(XRD)を用いて、第1部位4および第2部位5をそれぞれ測定し、得られた2θ(2θは、回折角度である。)の値より、JCPDSカードを用いて同定を行なう。次に、ICP発光分光分析装置(ICP)または蛍光X線分析装置(XRF)を用いて、第1部位4および第2部位5それぞれの含有成分の定量分析を行なう。そして、例えば、上記同定により、炭化珪素の存在を
確認され、ICPまたはXRFで測定した珪素(Si)の含有量から炭化珪素(SiC)に換算した含有量が70質量%以上であれば、炭化珪素質セラミックスである。
The materials of the
なお、本開示の18F反応容器10は、第1部位4および第2部位5に限らず、全体がセラミックスで構成されていてもよい。このような構成を満足するならば、より耐熱性が向上し、長時間の使用に耐えうるものとなる。
The
また、本開示の18F反応容器10における第1流路3は、どのような形状であっても構わないが、図1に示すように、入口1側から出口2側にかけて延びる形状であってもよい。このような構成を満足するならば、γ線が18F反応容器10を通過する経路において、γ線が通過する第1流路3の長さを長くすることができ、18Fをより効率よく製造することができる。なお、図1では、第1流路3が、入口1側から出口2側にかけて延びる円柱状である例を示している。
Further, the
また、本開示の18F反応容器10は、図2に示すように、第1流路3の外周側に位置する、冷媒の流路である第2流路6を備えていてもよい。ここで、第1流路3の外周側とは、第1流路3のネオンガスが流れる方向に直交する方向における第1流路3よりも外側のことである。また、第1流路3の外周側とは、第1流路3のネオンガスが流れる方向に直交する断面において、第1流路3の中心からの距離が、第1流路3の内表面よりも離れた位置のことである。このような構成を満足するならば、第1流路3を流れるネオンガスとγ線とが反応する際に生じる熱によりネオンガスが発熱しても、第2流路6を流れる冷媒で冷却することができることから、本開示の18F反応容器10は、18Fをより効率よく製造することができる。
Further, as shown in FIG. 2, the
また、本開示の18F反応容器10における第2流路6の流路方向は、第1流路3の流路方向に沿っていてもよい。なお、第1流路3の流路方向は、図2において上から下であり、第2流路6の流路方向が第1流路3の流路方向に沿うとは、第2流路6の流路方向も上から下ということである。このような構成を満足するならば、第1流路3を流れるネオンガスを、第2流路6を流れる冷媒で効率よく冷却することが可能となり、本開示の18F反応容器10は、18Fをより効率よく製造することができる。
Further, the flow path direction of the
また、本開示の18F反応容器10における第2流路6は、第1流路3に沿って第1流路3を囲繞していてもよい。ここで、第2流路6が第1流路3を囲繞しているとは、図3に示すように、第2流路6が筒状であり、第2流路6の内側に第1流路3が位置していることをいう。このような構成を満足するならば、第1流路3を流れるネオンガスを、第2流路6を流れる冷媒でさらに効率よく冷却することが可能となり、本開示の18F反応容器10は、18Fをより効率よく製造することができる。
Further, the
なお、図2および図3では、第2流路6が、入口1側から出口2側にかけて延びる環状の筒である例を示している。また、図2では、18F反応容器10bが、第2流路6に繋がる、冷媒を第2流路6に流入させるための流路である第2流入路9および第2流路6から排出した冷媒が流れる流路である第2排出路11を備えている例を示している。
Note that FIGS. 2 and 3 show an example in which the
また、本開示の18F反応容器10における第1流路3は、ネオンガスの流入口を有し、ネオンガスの流入方向が第1流路3の流路方向に交わっていてもよい。ここで、ネオンガスの流入口とは、第1流路3に第1流入路7が繋がる部分のことである。そして、このような構成を満足するならば、ネオンガスが第1流路3に流入した際に乱流が発生し、乱流となったネオンガスとγ線とが反応することで、本開示の18F反応容器10は、18Fをより効率よく製造することができる。
Further, the
特に、第1流入路7からのネオンガスの流入方向が第1流路3の流路方向に直交しているならば、ネオンガスが第1流路3に流入した際に乱流が効果的に発生し、本開示の18F反応容器10は、18Fをより一層効率よく製造することができる。
In particular, if the inflow direction of the neon gas from the
また、本開示の18F反応容器10は、図2に示すように、第1部位4および第2部位5を除く部分を第3部位12としたとき、第1流路3における第1部位4の表面の粗さ曲線から求められる算術平均粗さRa1は、第1流路3における第3部位12の表面の粗さ曲線から求められる算術平均粗さRa2よりも大きくてもよい。ここで、算術平均粗さRaとは、JIS B 0601(2013)に規定された値のことを言う。
Further, in the
そして、このような構成を満足するならば、第1流路3の表面における算術平均粗さRaが場所に拠らず一定である場合に比べて、第1流路3における第1部位4でネオンガスの乱流を効果的に発生させることができる。そして、第1流入路7が第1部位4に位置している場合、最もネオンガスとγ線とが反応する第1部位4において、本開示の18F反応容器10は、18Fを効率よく製造することができる。
Then, if such a configuration is satisfied, the arithmetic mean roughness Ra on the surface of the
なお、第1流路3における第1部位4の表面の算術平均粗さRa1は、例えば、0.8μm以上であってもよく、第1流路3における第3部位12の表面の算術平均粗さRa2は、例えば、0.5μm以下であってもよい。
The arithmetic mean roughness Ra1 of the surface of the
また、本開示の18F反応容器10において、第1流路3における第1部位4の表面の粗さ曲線から求められるスキューネスRskが0より小さくてもよい。ここで、スキューネスRskとは、JIS B 0601(2013)に規定されており、粗さ曲線における平均高さを中心線とした際における山部と谷部との比率を示す指標である。そして、そして、スキューネスRskが0より小さければ、谷部よりも山部となる領域の方が広いことを示している。
Further, in the
そして、このような構成を満足するならば、繰り返しネオンガスを再利用する場合、ネオンガスに不純物が混入する可能性があるが、この不純物を第1流路3における第1部位4の表面の谷部でトラップして除去することができる。よって、繰り返しネオンガスを再利用しても、不純物を除去することにより、ネオンガスの純度を維持することができ、本開示の18F反応容器10は、18Fを効率よく製造することができる。
If such a configuration is satisfied, impurities may be mixed in the neon gas when the neon gas is repeatedly reused, but the impurities are introduced into the valley portion of the surface of the
ここで、算術平均粗さRa1、2およびスキューネスRskは、JIS B 0601(2013)に準拠して、第1流路3における第1部位4の表面、第1流路3における第3部位12の表面をそれぞれ測定することにより求めることができる。なお、測定条件としては、例えば、測定長さを2.5mm、カットオフ値を0.08mmとし、触針半径が2μmの触針を用い、走査速度を0.6mm/秒に設定すればよい。そして、各表面において、少なくとも5ヵ所以上測定し、その平均値を求めればよい。
Here, the arithmetic mean roughness Ra1 and 2 and the skewness Rsk are the surface of the
次に、本開示の18F反応容器10の製造方法の一例について説明する。なお、以下では、18F反応容器10の全体が炭化珪素質セラミックスからなる場合を例に挙げて説明する。
Next, an example of the method for producing the
まず、出発原料として、主原料である炭化珪素(SiC)粉末と、焼結助剤として炭化硼素(B4C)粉末あるいは酸化アルミニウム(Al2O3)粉末および酸化イットリウム(Y2O3)粉末を準備し、所定量秤量する。その後、所定量の溶媒としての水とともに出発原料をボールミル等の粉砕機に投入して、混合・粉砕する。その後、ポリエチレングリコール、ポリエチレンオキサイド等のバインダーを適量添加してスラリーとした後、スプレードライヤーを用いてスラリーを噴霧造粒することにより顆粒を得る。 First, as a starting material, silicon carbide (SiC) powder, which is the main raw material, and boron carbide (B 4C ) powder or aluminum oxide (Al 2 O 3 ) powder and yttrium oxide (Y 2 O 3 ) as sintering aids. Prepare the powder and weigh a predetermined amount. Then, the starting raw material is put into a crusher such as a ball mill together with a predetermined amount of water as a solvent, and mixed and pulverized. Then, an appropriate amount of a binder such as polyethylene glycol or polyethylene oxide is added to form a slurry, and then the slurry is spray-granulated using a spray dryer to obtain granules.
次に、得られた顆粒を用いて、静水圧プレス成形法(ラバープレス)または粉末プレス成形法等にて所定形状に成形し、切削加工を施すことにより、18F反応容器10の第1部位4、第2部位5および第3部位13となる、それぞれの成形体を得る。次に、これら成形体の乾燥、脱脂を行ない、焼成炉に入れ、非酸化雰囲気中において最高温度1800℃以上2100℃以下の温度で焼成する。その後、必要に応じて研削加工を施すことにより、任意の形状の第1流路3および第2流路6を有する、18F反応容器10の第1部位4、第2部位5および第3部位12を得る。そして、この研削加工により、第1流路3における第1部位4の表面、第1流路3における第3部位12の表面の表面性状を任意の値にすることができる。
Next, using the obtained granules, the granules are formed into a predetermined shape by a hydrostatic pressure press molding method (rubber press), a powder press molding method, or the like, and are subjected to a cutting process to obtain the
そして、得られた第1部位4、第2部位5および第3部位12のそれぞれの接合部に、ガラス、バインダおよび溶媒を混合して作製したガラスペーストを塗布し、第1部位4、第2部位5および第3部位12を接合した後、非酸化雰囲気中において最高温度1300℃以上1700℃以下の温度で熱処理することで、本開示の18F反応容器10を得る。
Then, a glass paste prepared by mixing glass, a binder and a solvent is applied to each of the obtained joints of the
1:入口
2:出口
3:第1流路
4:第1部位
5:第2部位
6:第2流路
7:第1流入路
8:第1排出路
9:第2流入路
10、10a、10b:18F反応容器
11:第2排出路
12:第3部位
1: Inlet 2: Exit 3: First flow path 4: First part 5: Second part 6: Second flow path 7: First inflow path 8: First discharge path 9:
Claims (6)
前記入口を含む第1部位および前記出口を含む第2部位がセラミックスからなり、
前記第1部位および前記第2部位を除く部分を第3部位としたとき、
前記第1流路における前記第1部位の表面の粗さ曲線から求められる算術平均粗さRa1は、前記第1流路における前記第3部位の表面の粗さ曲線から求められる算術平均粗さRa2よりも大きい18F反応容器。 It has an inlet and an outlet for gamma rays, and has a first flow path inside which is a flow path for neon gas.
The first part including the entrance and the second part including the exit are made of ceramics.
When the part excluding the first part and the second part is the third part,
The arithmetic average roughness Ra1 obtained from the surface roughness curve of the first portion in the first flow path is the arithmetic average roughness Ra2 obtained from the surface roughness curve of the third portion in the first flow path. Larger 18F reaction vessel.
前記入口を含む第1部位および前記出口を含む第2部位がセラミックスからなり、
前記第1流路における前記第1部位の表面の粗さ曲線から求められるスキューネスRskが0より小さい18F反応容器。 It has an inlet and an outlet for gamma rays, and has a first flow path inside which is a flow path for neon gas.
The first part including the entrance and the second part including the exit are made of ceramics.
An 18F reaction vessel having a skewness Rsk smaller than 0 obtained from the roughness curve of the surface of the first portion in the first flow path.
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JP2018123304A JP7092576B2 (en) | 2018-06-28 | 2018-06-28 | 18F reaction vessel |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018123304A JP7092576B2 (en) | 2018-06-28 | 2018-06-28 | 18F reaction vessel |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020003353A JP2020003353A (en) | 2020-01-09 |
JP7092576B2 true JP7092576B2 (en) | 2022-06-28 |
Family
ID=69099529
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018123304A Active JP7092576B2 (en) | 2018-06-28 | 2018-06-28 | 18F reaction vessel |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7092576B2 (en) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20050201504A1 (en) | 2001-06-13 | 2005-09-15 | Zeisler Stefan K. | Apparatus for generating 18F-Fluoride by ion beams |
JP2018084570A (en) | 2016-11-16 | 2018-05-31 | 株式会社京都メディカルテクノロジー | Ri-labelled compound manufacturing installation and ri-labelled compound manufacturing method |
-
2018
- 2018-06-28 JP JP2018123304A patent/JP7092576B2/en active Active
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20050201504A1 (en) | 2001-06-13 | 2005-09-15 | Zeisler Stefan K. | Apparatus for generating 18F-Fluoride by ion beams |
JP2018084570A (en) | 2016-11-16 | 2018-05-31 | 株式会社京都メディカルテクノロジー | Ri-labelled compound manufacturing installation and ri-labelled compound manufacturing method |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2020003353A (en) | 2020-01-09 |
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|
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