JP7059409B1 - 光吸収異方性板 - Google Patents
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Abstract
Description
[1]光吸収異方性膜の一方の面に配向膜を介してまたは介さずに第一拡散防止層を、他方の面に第二拡散防止層を、それぞれ隣接して積層してなる光吸収異方性板であって、
第一拡散防止層および第二拡散防止層の厚みが、それぞれ、0.05μm以上5μm以下であり、
光吸収異方性膜が、重合性液晶化合物と二色性色素とが該光吸収異方性膜平面に対して垂直方向に配向した状態で硬化した硬化膜であり、
第一拡散防止層、第二拡散防止層および光吸収異方性膜の各屈折率が、式(1)および式(2):
nλxy ≦ nλa ≦ nλz (1)
nλxy ≦ nλb ≦ nλz (2)
〔式(1)および式(2)中、nλは波長589nmにおける拡散防止層または光吸収異方性膜の屈折率nを表し、nλaは第一拡散防止層のnλ、nλbは第二拡散防止層のnλ、nλxyは光吸収異方性膜の膜平面に平行な方向のnλ、nλzは光吸収異方性膜の膜平面と垂直な方向のnλを表す〕
の少なくとも1つを満たす、光吸収異方性板。
[2]第一拡散防止層および第二拡散防止層のうちの少なくとも一方の厚みが0.05μm以上3μm以下である、前記[1]に記載の光吸収異方性板。
[3]第一拡散防止層および第二拡散防止層のいずれか一方がカチオン重合型の硬化性組成物の硬化層である、前記[1]または[2]に記載の光吸収異方性板。
[4]カチオン重合型の硬化性組成物がエポキシ化合物を含む、前記[3]に記載の光吸収異方性板。
[5]第一拡散防止層および第二拡散防止層のいずれか一方がラジカル重合型の硬化性組成物の硬化層である、前記[1]~[4]のいずれかに記載の光吸収異方性板。
[6]ラジカル重合型の硬化性組成物が多官能(メタ)アクリレート化合物を含む、前記[1]~[5]のいずれかに記載の光吸収異方性板。
[7]第一拡散防止層および第二拡散防止層のいずれか一方が接着剤層である、前記[1]~[6]のいずれかに記載の光吸収異方性板。
[8]重合性液晶化合物がスメクチック液晶相を呈する液晶化合物である、前記[1]~[7]のいずれかに記載の光吸収異方性板。
[9]二色性色素がアゾ色素である、前記[1]~[8]のいずれかに記載の光吸収異方性板。
[10]光吸収異方性膜が波長550μm以上700nm以下の間に極大吸収を有する、前記[1]~[9]のいずれかに記載の光吸収異方性板。
[11]光吸収異方性膜の厚みが0.1μm以上2μm以下である、前記[1]~[10]のいずれかに記載の光吸収異方性板。
[12]光吸収異方性膜がX線回折測定においてブラッグピークを示す、前記[1]~[11]のいずれかに記載の光吸収異方性板。
[13]光吸収異方性膜の一方の面に配向膜を介してまたは介さずに第一拡散防止層を、他方の面に第二拡散防止層を積層してなる光吸収異方性板の製造方法であって、
(i)第一拡散防止層上に、重合性液晶化合物と二色性色素とを含む液晶組成物の塗膜を形成する工程、
(ii)得られた塗膜を乾燥させて乾燥塗膜を得る工程、
(iii)重合性液晶化合物と二色性色素とが前記塗膜平面に対して垂直方向に配向した状態で該塗膜を硬化させて、光吸収異方性膜を形成する工程、および、
(iv)形成した光吸収異方性膜の第一拡散防止層とは反対側の面に、第二拡散防止層を形成する工程
を含む、製造方法。
[14]前記[1]~[12]のいずれかに記載の光吸収異方性板を含むディスプレイ材料。
[15]前記[1]~[12]のいずれかに記載の光吸収異方性板を含むディスプレイ装置。
nλxy ≦ nλa ≦ nλz (1)
nλxy ≦ nλb ≦ nλz (2)
式(1)および式(2)中、nλは波長589nmにおける拡散防止層または光吸収異方性膜の屈折率nを表し、nλaは第一拡散防止層のnλ、nλbは第二拡散防止層のnλ、nλxyは光吸収異方性膜の膜平面に平行な方向のnλ、nλzは光吸収異方性膜の膜平面と垂直な方向のnλを表す。
第一拡散防止層および第二拡散防止層の厚みは、それぞれ、0.05μm以上5μm以下であり、好ましくは4μm以下、より好ましくは3μm以下、さらに好ましくは2.5μm以下、特に好ましくは2μm以下である。
一般に、第一拡散防止層および第二拡散防止層の厚みが薄くなるほど、第一拡散防止層と光吸収異方性膜との界面で生じる界面反射と、第二拡散防止層と光吸収異方性膜との界面で生じる界面反射とが互いに干渉しやすくなり、干渉ムラが生じやすくなる傾向にある。このような場合においても、本発明の光吸収異方性板は、拡散防止層の屈折率と光吸収異方性膜の屈折率との差を制御することにより、各拡散防止層と光吸収異方性膜との界面における反射の発生を抑制しているため、第一拡散防止層および第二拡散防止層の厚みが薄くなっても、干渉ムラの発生を効果的に抑制し得るため有利である。第一拡散防止層の厚みおよび第二拡散防止層の厚みは、互いに同じであっても、異なっていてもよい。拡散防止層の厚みはレーザー顕微鏡や膜厚計等により測定でき、以下、光吸収異方性板を構成する光吸収異方性膜等の各層の厚みの測定も同様である。
アルカンジオールとして、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,3-プロパンジオール、2-メチル-1,3-プロパンジオール、2-ブチル-2-エチル-1,3-プロパンジオール、1,4-ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、3-メチル-2,4-ペンタンジオール、2,4-ペンタンジオール、1,5-ペンタンジオール、3-メチル-1,5-ペンタンジオール、2-メチル-2,4-ペンタンジオール、2,4-ジエチル-1,5-ペンタンジオール、1,6-ヘキサンジオール、1,7-ヘプタンジオール、3,5-ヘプタンジオール、1,8-オクタンジオール、2-メチル-1,8-オクタンジオール、1,9-ノナンジオール等;
オリゴアルキレングリコールとして、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール等;
脂環式ジオールとして、シクロヘキサンジオール、シクロヘキサンジメタノール等
が挙げられる。
芳香族スルホニウム塩は、トリアリールスルホニウムカチオンを有する化合物であり、当該カチオンとして、典型的にはトリフェニルスルホニウムカチオンや4,4’-ビス(ジフェニルスルホニオ)ジフェニルスルフィドカチオン等を挙げることができる。芳香族ジアゾニウム塩は、ジアゾニウムカチオンを有する化合物であり、当該カチオンとして、典型的にはベンゼンジアゾニウムカチオンを挙げることができる。また、鉄-アレーン錯体は、典型的にはシクロペンタジエニル鉄(II)アレーンカチオン錯塩である。
また、本発明の別の一実施態様において、第一拡散防止層および第二拡散防止層の少なくともいずれか一方は、ラジカル重合型の硬化性組成物の硬化層であることが好ましい。
本発明において、光吸収異方性膜は、重合性液晶化合物、重合性非液晶化合物および二色性色素を含む液晶組成物の硬化膜であり、前記重合性液晶化合物と二色性色素とが該光吸収異方性膜平面に対して垂直方向に配向した状態で硬化した硬化膜である。
U1-V1-W1-(X1-Y1)n-X2-W2-V2-U2 (A)
[式(A)中、
X1およびX2は、互いに独立して、2価の芳香族基または2価の脂環式炭化水素基を表し、ここで、該2価の芳香族基または2価の脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数1~4のアルキル基、炭素数1~4のフルオロアルキル基、炭素数1~4のアルコキシ基、シアノ基またはニトロ基に置換されていてもよく、該2価の芳香族基または2価の脂環式炭化水素基を構成する炭素原子が、酸素原子または硫黄原子または窒素原子に置換されていてもよい。ただし、X1およびX2のうち少なくとも1つは、置換基を有していてもよい1,4-フェニレン基または置換基を有していてもよいシクロヘキサン-1,4-ジイル基である。
Y1は、単結合または二価の連結基である。
nは1~3であり、nが2以上の場合、複数のX1は互いに同じであってもよいし、異なっていてもよい。X2は、複数のX1のうちのいずれかまたは全てと同じであってもよいし、異なっていてもよい。また、nが2以上の場合、複数のY1は互いに同じであってもよいし、異なっていてもよい。液晶性の観点からnは2以上が好ましい。
U1は、水素原子または重合性基を表わす。
U2は、重合性基を表わす。
W1およびW2は、互いに独立して、単結合または二価の連結基である。
V1およびV2は、互いに独立して、置換基を有していてもよい炭素数1~20のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基を構成する-CH2-は、-O-、-CO-、-S-またはNH-に置き換わっていてもよい。]
-(X1-Y1)n-X2- (A1)
〔式中、X1、Y1、X2およびnはそれぞれ上記と同じ意味を示す。〕
で示される部分〔以下、部分構造(A1)ともいう〕が非対称構造であることが、スメクチック液晶性を発現し易い点で好ましい。
部分構造(A1)が非対称構造である重合性液晶化合物(A)としては、例えば、nが1であり、1つのX1とX2とが互いに異なる構造である重合性液晶化合物(A)が挙げられる。また、nが2であり、2つのY1が互いに同じ構造である化合物であって、2つのX1が互いに同じ構造であり、1つのX2はこれら2つのX1とは異なる構造である重合性液晶化合物(A)、2つのX1のうちのW1に結合するX1が、他方のX1およびX2とは異なる構造であり、他方のX1とX2とは互いに同じ構造である重合性液晶化合物(A)も挙げられる。さらに、nが3であり、3つのY1が互いに同じ構造である化合物であって、3つのX1および1つのX2のうちのいずれか1つが他の3つの全てと異なる構造である重合性液晶化合物(A)が挙げられる。
K1(-N=N-K2)p-N=N-K3 (I)
[式(I)中、K1およびK3は、互いに独立に、置換基を有していてもよいフェニル基、置換基を有していてもよいナフチル基、置換基を有していてもよい安息香酸フェニルエステル基または置換基を有していてもよい1価の複素環基を表わす。K2は、置換基を有していてもよいp-フェニレン基、置換基を有していてもよいナフタレン-1,4-ジイル基、置換基を有していてもよい4,4’-スチルベニレン基または置換基を有していてもよい2価の複素環基を表わす。pは0~4の整数を表わす。pが2以上の整数である場合、複数のK2は互いに同一でも異なっていてもよい。可視域に吸収を示す範囲で-N=N-結合が-C=C-、-COO-、-NHCO-、-N=CH-結合に置き換わっていてもよい。]
B1~B30は、互いに独立して、水素原子、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルケニル基、炭素数1~4のアルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、置換または無置換のアミノ基(置換アミノ基および無置換アミノ基の定義は前記のとおり)、塩素原子またはトリフルオロメチル基を表わす。
n1~n4は、互いに独立に0~3の整数を表わす。
n1が2以上である場合、複数のB2は互いに同一でも異なっていてもよく、
n2が2以上である場合、複数のB6は互いに同一でも異なっていてもよく、
n3が2以上である場合、複数のB9は互いに同一でも異なっていてもよく、
n4が2以上である場合、複数のB14は互いに同一でも異なっていてもよい。]
R1~R8は、互いに独立して、水素原子、-Rx、-NH2、-NHRx、-NRx 2、-SRxまたはハロゲン原子を表わす。
Rxは、炭素数1~4のアルキル基または炭素数6~12のアリール基を表わす。]
R9~R15は、互いに独立して、水素原子、-Rx、-NH2、-NHRx、-NRx 2、-SRxまたはハロゲン原子を表わす。
Rxは、炭素数1~4のアルキル基または炭素数6~12のアリール基を表わす。]
R16~R23は、互いに独立して、水素原子、-Rx、-NH2、-NHRx、-NRx 2、-SRxまたはハロゲン原子を表わす。
Rxは、炭素数1~4のアルキル基または炭素数6~12のアリール基を表わす。]
式(I-9)、式(I-10)および式(I-11)において、Rxの炭素数1~6のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基およびヘキシル基等が挙げられ、炭素数6~12のアリール基としては、フェニル基、トルイル基、キシリル基およびナフチル基等が挙げられる。
D1およびD2は、互いに独立に、式(I-12a)~式(I-12d)のいずれかで表される基を表わす。
D3およびD4は、互いに独立に、式(I-13a)~式(1-13h)のいずれかで表される基を表わす。
自己開裂型の光重合開始剤として、自己開裂型のベンゾイン系化合物、アセトフェノン系化合物、ヒドロキシアセトフェノン系化合物、α-アミノアセトフェノン系化合物、オキシムエステル系化合物、アシルホスフィンオキサイド系化合物、アゾ系化合物等を使用できる。また、水素引き抜き型光重合開始剤として、水素引き抜き型のベンゾフェノン系化合物、ベンゾインエーテル系化合物、ベンジルケタール系化合物、ジベンゾスベロン系化合物、アントラキノン系化合物、キサントン系化合物、チオキサントン系化合物、ハロゲノアセトフェノン系化合物、ジアルコキシアセトフェノン系化合物、ハロゲノビスイミダゾール系化合物、ハロゲノトリアジン系化合物、トリアジン系化合物等を使用できる。
ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテルおよびベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾイン系化合物;
2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、1,2-ジフェニル-2,2-ジメトキシエタン-1-オン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-〔4-(2-ヒドロキシエトキシ)フェニル〕プロパン-1-オン、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンおよび2-ヒドロキシ-2-メチル-1-〔4-(1-メチルビニル)フェニル〕プロパン-1-オンのオリゴマー等のヒドロキシアセトフェノン系化合物;
2-メチル-2-モルホリノ-1-(4-メチルチオフェニル)プロパン-1-オン、2-ジメチルアミノ-2-ベンジル-1-(4-モルホリノフェニル)ブタン-1-オン等のα-アミノアセトフェノン系化合物;
1,2-オクタンジオン,1-[4-(フェニルチオ)-,2-(O-ベンゾイルオキシム)]、エタノン,1-[9-エチル-6-(2-メチルベンゾイル)-9H-カルバゾール-3-イル]-,1-(O-アセチルオキシム)等のオキシムエステル系化合物;
2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイドおよびビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィンオキサイド系化合物;
ベンゾフェノン、o-ベンゾイル安息香酸メチル、4-フェニルベンゾフェノン、4-ベンゾイル-4’-メチルジフェニルサルファイド、3,3’,4,4’-テトラ(tert-ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノンおよび2,4,6-トリメチルベンゾフェノン等のベンゾフェノン化合物;
ジエトキシアセトフェノンなどのジアルコキシアセトフェノン系化合物;
2,4-ビス(トリクロロメチル)-6-(4-メトキシフェニル)-1,3,5-トリアジン、2,4-ビス(トリクロロメチル)-6-(4-メトキシナフチル)-1,3,5-トリアジン、2,4-ビス(トリクロロメチル)-6-(4-メトキシスチリル)-1,3,5-トリアジン、2,4-ビス(トリクロロメチ_ル)-6-〔2-(5-メチルフラン-2-イル)エテニル〕-1,3,5-トリアジン、2,4-ビス(トリクロロメチル)-6-〔2-(フラン-2-イル)エテニル〕-1,3,5-トリアジン、2,4-ビス(トリクロロメチル)-6-〔2-(4-ジエチルアミノ-2-メチルフェニル)エテニル〕-1,3,5-トリアジンおよび2,4-ビス(トリクロロメチル)-6-〔2-(3,4-ジメトキシフェニル)エテニル〕-1,3,5-トリアジン等のトリアジン系化合物。
光重合開始剤は、例えば上記の光重合開始剤から光吸収異方性膜を形成する重合性液晶化合物および重合性非液晶化合物との関係において適宜選択すればよい。
Az>(Ax+Ay)/2 (3)
〔式(3)中、Ax、AyおよびAzは、いずれも光吸収異方性膜中の二色性色素の吸収極大波長における吸光度であって、
Axは、x軸方向に振動する直線偏光の吸光度を表し、
Ayは、y軸方向に振動する直線偏光の吸光度を表し、
Azは、z軸方向に振動する直線偏光の吸光度を表す。〕
y軸を回転軸として前記膜を30°および60°回転させた状態で、Axを測定した直線偏光と同一の直線偏光を入射することによりAx(z=30)およびAx(z=60)を測定し、同様に、x軸を回転軸として前記膜を30°および60°回転させた状態で、Ayを測定した直線偏光と同一の直線偏光を入射することによりAy(z=30)およびAy(z=60)を測定する。
このとき、Ax(z=30)<Ax(z=60)かつAy(z=30)=Ay(z=60)であれば、Ax(z=30)<Ax(z=60)<Ax(z=90)=Azであり、かつAy(z=30)<Ay(z=60)かつAx(z=30)=Ax(z=60)であれば、Ay(z=30)<Ay(z=60)<Ay(z=90)=Azであるから、必然的に式(3)を満たすということができる。
Ax(z=60)/Ax>5 (4)
Ay(z=60)/Ay>5 (5)
〔式(4)および(5)中、Ax、AyおよびAzは前記と同じ意味である。Ax(z=60)およびAy(z=60)は、いずれも光吸収異方性膜中の二色性色素の吸収極大波長における吸光度であって、
Ax(z=60)は、y軸を回転軸として前記膜を60°回転させたときのx軸方向に振動する直線偏光の吸光度を表し、
Ay(z=60)は、x軸を回転軸として前記膜を60°回転させたときのy軸方向に振動する直線偏光の吸光度を表す。〕
さらに、本発明において光吸収異方性膜が、下記式(6)および(7)を満たすことがより好ましい。
Ax(z=60)/Ax>10 (6)
Ay(z=60)/Ay>10 (7)
重合性液晶化合物として、スメクチック液晶相、特に高次スメクチック液晶相を形成する化合物を用いることで、上記式(4)および(5)、または、式(6)および(7)をも満たす光吸収異方性膜が得られやすくなる。
本発明において光吸収異方性膜は、二色性色素の吸収軸を膜面に直交した方向に配向させることによって得られる。このようなホスト-ゲスト型の光吸収異方性膜における二色性色素の吸収軸の方向は、通常、重合性液晶化合物が配向する方向によって制御される。重合性液晶化合物の分子長軸の配向方向を膜面に直交した方向にすることによって、通常、二色性色素の吸収軸を膜面に直交した方向に配向させることができる。重合性液晶化合物の配向方向は、重合性液晶化合物と、重合性非液晶化合物と二色性色素とを含む液晶組成物が塗布される基材、または配向膜の性質、並びに、重合性液晶化合物の性質によって制御し得る。
光吸収異方性膜の一方の面に配向膜を介してまたは介さずに第一拡散防止層を、他方の面に第二拡散防止層を積層してなる光吸収異方性板の製造方法であって、
(i)第一拡散防止層上に、重合性液晶化合物と二色性色素とを含む液晶組成物の塗膜を形成する工程、
(ii)得られた塗膜を乾燥させて乾燥塗膜を得る工程、
(iii)重合性液晶化合物と二色性色素とが前記塗膜平面に対して垂直方向に配向した状態で該塗膜を硬化させて、光吸収異方性膜を形成する工程、および、
(iv)形成した光吸収異方性膜の第一拡散防止層とは反対側の面に、第二拡散防止層を形成する工程
を含む、製造方法により製造できる。
基材フィルムとしては、光学フィルムの分野において従来公知の樹脂フィルム基材を用いることができ、本発明の光吸収異方性板を他の光学積層体や表示装置等に組み込む場合に、フィルム基材を転写して剥離しない場合には透明樹脂フィルム基材であることが好ましい。透明樹脂フィルム基材とは、光、特に可視光を透過し得る透光性を有するフィルム基材を意味し、透光性とは、波長380nm~780nmにわたる光線に対しての視感度補正透過率が80%以上となる特性をいう。
活性エネルギー線の照射エネルギーは、重合開始剤の活性化に有効な波長領域の照射強度が10~5000mJ/cm2となるように設定することが好ましく、より好ましくは100~2000mJ/cm2である。
(1)光吸収異方性膜形成用組成物の調製
下記成分を混合し、80℃で1時間攪拌することにより、光吸収異方性膜形成用組成物を得た。二色性色素には、特開2013-101328号公報の実施例に記載のアゾ系色素を用いた。
・レベリング剤:F-556(メガファックF-556、DIC(株)製) 1部
・溶剤:o-キシレン 650部
下記成分を混合し、80℃で1時間攪拌することにより、拡散防止層形成用硬化性組成物(X)を調製した。
・アクリレート化合物:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 50部
・ウレタンアクリレート化合物:ウレタンアクリレート(ダイセル・オルネクス(株)製、「エベクリル4858」) 50部
・ラジカル重合開始剤:2-[4-(メチルチオ)ベンゾイル]-2-(4-モルホリニル)プロパン(BASF社製、「イルガキュア907」) 3部
・溶剤:メチルエチルケトン 10部
離型処理が施されたポリエチレンテレフタレートフィルム(リンテック社製SP-PLR382050)(離型フィルム)の離型処理面に、コロナ処理を施した後に、第一拡散防止層形成用の硬化性組成物として前記拡散防止層形成用硬化性組成物(X)をバーコート法(#2 30mm/s)により塗布し、UV照射装置(SPOT CURE SP-7;ウシオ電機株式会社製)を用いて、露光量500mJ/cm2(365nm基準)の紫外線を、拡散防止層形成用硬化性組成物(X)の塗膜に照射することにより、離型フィルム表面に硬化性樹脂(1)からなる第一拡散防止層が形成された拡散防止層付き離型フィルムを得た。接触式膜厚計で測定した、第一拡散防止層の厚みは2μmであった。
(4)光吸収異方性膜の作製
前記第一拡散防止層の表面にバーコーターを用いて前記光吸収異方性膜形成用組成物を塗布した後、100℃に設定した乾燥オーブンで1分間乾燥した。
前記のようにして得た積層体(1)の光吸収異方性膜の表面に、コロナ処理を施した後、第二拡散防止層形成用の硬化性組成物として前記拡散防止層形成用硬化性組成物(X)をバーコート法(#2 30mm/s)により塗布し、UV照射装置(SPOT CURE SP-7;ウシオ電機株式会社製)を用いて、露光量500mJ/cm2(365nm基準)の紫外線を、該拡散防止層形成用硬化性組成物(X)の塗膜に照射することにより、硬化性樹脂(1)からなる第二拡散防止層を得た。結果、離型フィルム/第一拡散防止層/光吸収異方性膜/第二拡散防止層からなる積層体(2)を得た。次いで、積層体(2)から離型フィルムを剥離することで、第一拡散防止層/光吸収異方性膜/第二拡散防止層からなる光吸収異方性板(1)を得た。なお、接触式膜厚計で測定した、第二拡散防止層の厚みは2μmであった。
[屈折率の評価]
拡散防止層および光吸収異方性膜の波長589nmにおける平均屈折率は屈折率計(株式会社アタゴ製「多波長アッベ屈折計DR-M4」)を用いて測定した。
上記で作製した光吸収異方性板(1)(80mm×80mm)を、アクリル系粘着剤(膜厚25μm)を介してアルミ反射板に貼りつけ、3波長形蛍光灯下で正面から斜め方向に傾けて目視観察し、以下の基準に基づいて評価した。結果を表1に示す。
<評価基準>
A:干渉ムラが視認されない
B:干渉ムラがわずかに視認される
C:干渉ムラが視認される
D:干渉ムラが強く視認される
E:干渉ムラが非常に強く視認される
上記で作製した光吸収異方性板(1)の両面に、アクリル系粘着剤(膜厚25μm)を介してシクロオレフィンポリマーフィルムに貼合し、初期の偏光性能(偏光度Py、単体透過率Ty)を測定後、100℃120時間後に再度測定し、偏光度の変化を測定した。結果を表1に示す。
<評価基準>
A:偏光度変化が2%未満
B:偏光度変化が2%以上5%未満
C:偏光度変化が5%以上
(1)拡散防止層形成用水溶性ポリマー含有樹脂組成物の調製
水100部に、カルボキシル基変性ポリビニルアルコール〔(株)クラレ製「クラレポバール KL318」〕7部と、熱架橋剤として水溶性ポリアミドエポキシ樹脂〔住化ケムテックス(株)から入手した「スミレーズレジン650」(固形分濃度30質量%の水溶液)〕3.5部を添加、混合して拡散防止層形成用の水溶性ポリマー含有樹脂組成物(粘度:92cP)を調製した。
第二拡散防止層を、拡散防止層形成用硬化性組成物(X)に代えて前記水溶性ポリマー含有樹脂組成物を用いて以下のように作製した以外は、実施例1と同様にして、硬化性樹脂(1)からなる第一拡散防止層/光吸収異方性膜/水溶性ポリマー(1)からなる第二拡散防止層からなる光吸収異方性板(2)を得た。
<第二拡散防止層の形成方法>
実施例1と同様の手順で作製した光吸収異方性膜上に、ワイヤーバーコーター(#30)により前記水溶性ポリマー含有樹脂組成物を塗布した。次いで、該塗膜を80℃で5分間乾燥することにより前記水溶液を乾燥させて、第二拡散防止層を形成した。接触式膜厚計で測定した、第二拡散防止層の厚みは1μmであった。
得られた光吸収異方性板(2)について、実施例1と同様に特性評価を行った。結果を表1に示す。
(1)拡散防止層形成用硬化性組成物(Y)の調製
下記に記載のカチオン重合性化合物およびカチオン重合開始剤を混合した後、脱泡して、カチオン重合型の拡散防止層形成用硬化性組成物(Y)を調製した。
なお、カチオン重合開始剤は、50質量%プロピレンカーボネート溶液として配合し、その固形分量を示した。
・1,6-ヘキサンジオールジグリシジルエーテル(商品名:EX-212L、ナガセケムテックス(株)製) 25部
・4-ヒドロキシブチルビニルエーテル 10部
・ビスフェノールF型エポキシ樹脂(商品名:EXA-830CRP、DIC(株)製)65部
・カチオン重合開始剤(商品名:CPI-100P、サンアプロ(株)製、50質量%溶液)3部
拡散防止層形成用硬化性組成物(X)に代えて前記拡散防止層形成用硬化性組成物(Y)を用いて硬化性樹脂(2)からなる第二拡散防止層を以下のように作製した以外は、実施例1と同様にして、硬化性樹脂(1)からなる第一拡散防止層/光吸収異方性膜/硬化性樹脂(2)からなる第二拡散防止層からなる光吸収異方性板(3)を得た。
<第二拡散防止層の形成方法>
実施例1と同様の手順で作製した光吸収異方性膜上に、実施例1と同様の条件にて、硬化性樹脂(2)からなる第二拡散防止層を形成した。接触式膜厚計で測定した、第二拡散防止層の厚みは1.8μmであった。
得られた光吸収異方性板(3)について、実施例1と同様に特性評価を行った。結果を表1に示す。
光吸収異方性膜形成用組成物においてレベリング剤の種類および配合量、溶媒の配合量、並びに、光吸収異方性膜の膜厚を表1の通り変更した以外は実施例3と同様にして、硬化性樹脂(1)からなる第一拡散防止層/光吸収異方性膜/硬化性樹脂(2)からなる第二拡散防止層からなる光吸収異方性板(4)を得た。なお、レベリング剤として、BYK-361N(BYK Chemie社)を用いた。
得られた光吸収異方性板(4)について、実施例1と同様に特性評価を行った。結果を表1に示す。
光吸収異方性膜形成用組成物において、二色性色素(1)に代えて下記に示す二色性色素(2)を用いた以外は、実施例3と同様にして、硬化性樹脂(1)からなる第一拡散防止層/光吸収異方性膜/硬化性樹脂(2)からなる第二拡散防止層からなる光吸収異方性板(5)を得た。得られた光吸収異方性板(5)について、実施例1と同様に特性評価を行った。結果を表1に示す。
二色性色素(2)(極大吸収波長:522nm)
光吸収異方性膜形成用組成物において、二色性色素(1)に代えて下記に示す二色性色素(3)を用いた以外は、実施例3と同様にして、硬化性樹脂(1)からなる第一拡散防止層/光吸収異方性膜/硬化性樹脂(2)からなる第二拡散防止層からなる光吸収異方性板(6)を得た。得られた光吸収異方性板(6)について、実施例1と同様に特性評価を行った。結果を表1に示す。
二色性色素(3)(極大吸収波長:468nm)
光吸収異方性膜形成用組成物において、二色性色素(1)に代えて二色性色素(1)(2.5部)、二色性色素(2)(2.5部)および二色性色素(3)(2.5部)を用いた以外は実施例3と同様にして、硬化性樹脂(1)からなる第一拡散防止層/光吸収異方性膜/硬化性樹脂(2)からなる第二拡散防止層からなる光吸収異方性板(7)を得た。得られた光吸収異方性板(7)について、実施例1と同様に特性評価を行った。結果を表1に示す。
第二拡散防止層を作成しなかったこと以外は実施例1と同様にして、硬化性樹脂(1)からなる第一拡散防止層/光吸収異方性膜からなる光吸収異方性板(8)を得た。得られた光吸収異方性板(8)について、実施例1と同様に特性評価を行った。結果を表1に示す。
第一拡散防止層および第二拡散防止層を作成しなかったこと以外は実施例1と同様にして光吸収異方性膜からなる光吸収異方性板(9)を得た。得られた光吸収異方性板(9)について、実施例1と同様に特性評価を行った。結果を表1に示す。
特開2017-83843号の実施例1に記載の水溶性ポリマー(2)からなる第一拡散防止層/光吸収異方性膜(水平配向型)/水溶性ポリマー(2)からなる第二拡散防止層からなる光吸収異方性板(10)を得た。接触式膜厚計で測定した、第一拡散防止層および第二拡散防止層の厚みは、それぞれ1μmであった。得られた光吸収異方性板(10)について、実施例1と同様に特性評価を行った。結果を表1に示す。
光吸収異方性膜として実施例1の光吸収異方性膜を用いた以外は比較例3と同様にして、水溶性ポリマー(2)からなる第一拡散防止層/光吸収異方性膜/水溶性ポリマー(2)からなる第二拡散防止層からなる光吸収異方性板(11)を得た。得られた光吸収異方性板(11)について、実施例1と同様に特性評価を行った。結果を表1に示す。
Claims (15)
- 光吸収異方性膜の一方の面に第一拡散防止層を、他方の面に第二拡散防止層を、それぞれ隣接して積層してなる光吸収異方性板であって、
第一拡散防止層および第二拡散防止層の厚みが、それぞれ、0.05μm以上5μm以下であり、
光吸収異方性膜が、重合性液晶化合物と二色性色素とが該光吸収異方性膜平面に対して垂直方向に配向した状態で硬化した硬化膜であり、
第一拡散防止層、第二拡散防止層および光吸収異方性膜の各屈折率が、式(1)および式(2):
nλxy < nλa ≦ nλz (1)
nλxy < nλb ≦ nλz (2)
〔式(1)および式(2)中、nλは波長589nmにおける拡散防止層または光吸収異方性膜の屈折率nを表し、nλaは第一拡散防止層のnλ、nλbは第二拡散防止層のnλ、nλxyは光吸収異方性膜の膜平面に平行な方向のnλ、nλzは光吸収異方性膜の膜平面と垂直な方向のnλを表す〕
を満たし、
式(1)における、屈折率nλaと屈折率nλzとの差(絶対値:|nλz-nλa|)が0.12以下であり、
式(2)における、屈折率nλbと屈折率nλzとの差(絶対値:|nλz-nλb|)が0.12以下である、光吸収異方性板。 - 第一拡散防止層および第二拡散防止層のうちの少なくとも一方の厚みが0.05μm以上3μm以下である、請求項1に記載の光吸収異方性板。
- 第一拡散防止層および第二拡散防止層のいずれか一方がカチオン重合型の硬化性組成物の硬化層である、請求項1または2に記載の光吸収異方性板。
- カチオン重合型の硬化性組成物がエポキシ化合物を含む、請求項3に記載の光吸収異方性板。
- 第一拡散防止層および第二拡散防止層のいずれか一方がラジカル重合型の硬化性組成物の硬化層である、請求項1~4のいずれかに記載の光吸収異方性板。
- ラジカル重合型の硬化性組成物が多官能(メタ)アクリレート化合物を含む、請求項5に記載の光吸収異方性板。
- 第一拡散防止層および第二拡散防止層のいずれか一方が接着剤層である、請求項1~6のいずれかに記載の光吸収異方性板。
- 重合性液晶化合物がスメクチック液晶相を呈する液晶化合物である、請求項1~7のいずれかに記載の光吸収異方性板。
- 二色性色素がアゾ色素である、請求項1~8のいずれかに記載の光吸収異方性板。
- 光吸収異方性膜が波長550μm以上700nm以下の間に極大吸収を有する、請求項1~9のいずれかに記載の光吸収異方性板。
- 光吸収異方性膜の厚みが0.1μm以上2μm以下である、請求項1~10のいずれかに記載の光吸収異方性板。
- 光吸収異方性膜がX線回折測定においてブラッグピークを示す、請求項1~11のいずれかに記載の光吸収異方性板。
- 光吸収異方性膜の一方の面に第一拡散防止層を、他方の面に第二拡散防止層を、それぞれ隣接して積層してなり、
第一拡散防止層、第二拡散防止層および光吸収異方性膜の各屈折率が、式(1)および式(2):
nλxy < nλa ≦ nλz (1)
nλxy < nλb ≦ nλz (2)
〔式(1)および式(2)中、nλは波長589nmにおける拡散防止層または光吸収異方性膜の屈折率nを表し、nλaは第一拡散防止層のnλ、nλbは第二拡散防止層のnλ、nλxyは光吸収異方性膜の膜平面に平行な方向のnλ、nλzは光吸収異方性膜の膜平面と垂直な方向のnλを表す〕
を満たし、
式(1)における、屈折率nλaと屈折率nλzとの差(絶対値:|nλz-nλa|)が0.12以下であり、
式(2)における、屈折率nλbと屈折率nλzとの差(絶対値:|nλz-nλb|)が0.12以下である光吸収異方性板の製造方法であって、
(i)第一拡散防止層上に、重合性液晶化合物と二色性色素とを含む液晶組成物の塗膜を形成する工程、
(ii)得られた塗膜を乾燥させて乾燥塗膜を得る工程、
(iii)重合性液晶化合物と二色性色素とが前記塗膜平面に対して垂直方向に配向した状態で該塗膜を硬化させて、光吸収異方性膜を形成する工程、および、
(iv)形成した光吸収異方性膜の第一拡散防止層とは反対側の面に、第二拡散防止層を形成する工程
を含む、製造方法。 - 請求項1~12のいずれかに記載の光吸収異方性板を含むディスプレイ材料。
- 請求項1~12のいずれかに記載の光吸収異方性板を含むディスプレイ装置。
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