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JP7029624B2 - Display device and its manufacturing method - Google Patents

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JP7029624B2
JP7029624B2 JP2019184963A JP2019184963A JP7029624B2 JP 7029624 B2 JP7029624 B2 JP 7029624B2 JP 2019184963 A JP2019184963 A JP 2019184963A JP 2019184963 A JP2019184963 A JP 2019184963A JP 7029624 B2 JP7029624 B2 JP 7029624B2
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Description

実施形態は、表示装置及びその製造方法に関する。 The embodiment relates to a display device and a method for manufacturing the same.

特許文献1に示されているように、近年、マイクロLED(Light Emitting Diode:発光ダイオード)を画素として用いた表示装置が提案されている。このような表示装置は、画素が自発光素子によって構成されるため、液晶パネルを用いた表示装置と比較して、解像度、コントラスト及び色再現性が高い。また、マイクロLEDは主として無機の半導体材料により形成されるため、有機材料を用いる有機EL(Organic Electro-Luminescence)素子と比較して、寿命が長く、焼き付きが生じにくい。 As shown in Patent Document 1, in recent years, a display device using a micro LED (Light Emitting Diode) as a pixel has been proposed. Since the pixels of such a display device are composed of self-luminous elements, the resolution, contrast, and color reproducibility of such a display device are higher than those of a display device using a liquid crystal panel. Further, since the micro LED is mainly formed of an inorganic semiconductor material, it has a longer life and is less likely to cause seizure as compared with an organic EL (Organic Electro-Luminescence) element using an organic material.

しかしながら、マイクロLEDを用いた表示装置においては、発光素子の上面から光を取り出すと共に、発光素子の下面及び上面を配線と接続する必要がある。このため、発光素子の上面においては、高い導通性と高い光透過性を両立させることが要求される。この結果、マイクロLEDを用いた表示装置の製造工程において、基板に発光素子を実装する工程の難易度が高くなり、製造コストが高くなるという問題がある。 However, in a display device using a micro LED, it is necessary to extract light from the upper surface of the light emitting element and to connect the lower surface and the upper surface of the light emitting element to wiring. Therefore, on the upper surface of the light emitting element, it is required to achieve both high conductivity and high light transmission. As a result, in the manufacturing process of the display device using the micro LED, there is a problem that the process of mounting the light emitting element on the substrate becomes difficult and the manufacturing cost becomes high.

特開2006-140247号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2006-140247

本発明の一実施形態は、上述の問題点に鑑みてなされたものであって、画素としてマイクロLEDを用い、製造コストが低い表示装置及びその製造方法を提供することを目的とする。 One embodiment of the present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and an object of the present invention is to provide a display device having a low manufacturing cost and a manufacturing method thereof by using a micro LED as a pixel.

本発明の一実施形態に係る表示装置の製造方法は、サブピクセルが設定され、前記サブピクセル毎に第1配線が設けられた基板、及び、下面に第1電極が設けられ相互に交差する少なくとも2つの側面に第2電極が設けられた発光素子を準備する工程と、前記基板上に、前記発光素子を搭載し、前記第1電極を前記第1配線に電気的に接続する工程と、前記基板上に、前記発光素子を覆う樹脂部材を形成する工程と、前記樹脂部材の上部を除去することにより、前記第2電極の一部を前記樹脂部材の上面から露出させる工程と、前記樹脂部材上に、一部が前記発光素子上に配置されるように網目状の第2配線を形成し、前記第2配線を前記第2電極に電気的に接続する工程と、を備える。 In the method for manufacturing a display device according to an embodiment of the present invention, a substrate in which subpixels are set and a first wiring is provided for each subpixel, and a substrate in which a first electrode is provided on the lower surface and intersects with each other at least. A step of preparing a light emitting element provided with a second electrode on two side surfaces, a step of mounting the light emitting element on the substrate, and a step of electrically connecting the first electrode to the first wiring, and the above. A step of forming a resin member covering the light emitting element on a substrate, a step of exposing a part of the second electrode from the upper surface of the resin member by removing the upper portion of the resin member, and the resin member. Above, a step of forming a mesh-like second wiring so that a part of the wiring is arranged on the light emitting element and electrically connecting the second wiring to the second electrode is provided.

本発明の一実施形態に係る表示装置は、サブピクセルが設定された基板と、前記基板上に前記サブピクセル毎に設けられた第1配線と、前記基板に前記サブピクセル毎に搭載された発光素子と、前記発光素子の下部及び前記第1配線を覆う樹脂部材と、前記樹脂部材上に設けられ、一部が前記発光素子上に配置された網目状の第2配線と、を備える。前記発光素子は、半導体部材と、前記半導体部材の下面に設けられ、前記第1配線に電気的に接続された第1電極と、前記半導体部材の相互に交差する少なくとも2つの側面に設けられ、一部が前記樹脂部材の上面から露出した第2電極と、有する。前記第2配線は、前記第2電極における前記樹脂部材上に露出した部分に電気的に接続されている。 The display device according to the embodiment of the present invention includes a substrate on which subpixels are set, a first wiring provided for each subpixel on the substrate, and light emission mounted on the substrate for each subpixel. It includes an element, a resin member that covers the lower portion of the light emitting element and the first wiring, and a mesh-like second wiring provided on the resin member and partially arranged on the light emitting element. The light emitting element is provided on a semiconductor member, a first electrode provided on the lower surface of the semiconductor member and electrically connected to the first wiring, and at least two side surfaces intersecting each other of the semiconductor member. It has a second electrode partially exposed from the upper surface of the resin member. The second wiring is electrically connected to a portion of the second electrode exposed on the resin member.

本発明の一実施形態によれば、画素としてマイクロLEDを用い、製造コストが低い表示装置及びその製造方法を実現できる。 According to one embodiment of the present invention, a display device having a low manufacturing cost and a manufacturing method thereof can be realized by using a micro LED as a pixel.

第1の実施形態に係る表示装置を示す上面図である。It is a top view which shows the display device which concerns on 1st Embodiment. 図1に示すA-A’線による端面図である。It is an end view by the AA'line shown in FIG. 図1に示すB-B’線による端面図である。It is an end view by the BB'line shown in FIG. 第1の実施形態に係る表示装置の発光素子を示す上面図である。It is a top view which shows the light emitting element of the display device which concerns on 1st Embodiment. 第1の実施形態に係る表示装置の発光素子を示す端面図である。It is an end view which shows the light emitting element of the display device which concerns on 1st Embodiment. 第1の実施形態に係る表示装置の発光素子を示す平面図である。It is a top view which shows the light emitting element of the display device which concerns on 1st Embodiment. 図4Aに示すC-C’線による端面図である。FIG. 4 is an end view taken along the line CC'shown in FIG. 4A. 第1の実施形態に係る表示装置の発光素子の第2電極を示す平面図である。It is a top view which shows the 2nd electrode of the light emitting element of the display device which concerns on 1st Embodiment. 第1の実施形態に係る表示装置の発光素子の第1電極を示す平面図である。It is a top view which shows the 1st electrode of the light emitting element of the display device which concerns on 1st Embodiment. 第1の実施形態に係る表示装置の製造方法を示す端面図である。It is an end view which shows the manufacturing method of the display device which concerns on 1st Embodiment. 第1の実施形態に係る表示装置の製造方法を示す端面図である。It is an end view which shows the manufacturing method of the display device which concerns on 1st Embodiment. 第1の実施形態に係る表示装置の製造方法を示す端面図である。It is an end view which shows the manufacturing method of the display device which concerns on 1st Embodiment. 第1の実施形態に係る表示装置の製造方法を示す端面図である。It is an end view which shows the manufacturing method of the display device which concerns on 1st Embodiment. 第1の実施形態に係る表示装置の製造方法を示す端面図である。It is an end view which shows the manufacturing method of the display device which concerns on 1st Embodiment. 第2の実施形態に係る表示装置の発光素子を示す端面図である。It is an end view which shows the light emitting element of the display device which concerns on 2nd Embodiment. 第3の実施形態に係る表示装置の発光素子を示す端面図である。It is an end view which shows the light emitting element of the display device which concerns on 3rd Embodiment. 第4の実施形態に係る表示装置の発光素子を示す上面図である。It is a top view which shows the light emitting element of the display device which concerns on 4th Embodiment. 第5の実施形態に係る表示装置の発光素子を示す上面図である。It is a top view which shows the light emitting element of the display device which concerns on 5th Embodiment.

<第1の実施形態>
先ず、第1の実施形態について説明する。
<First Embodiment>
First, the first embodiment will be described.

本実施形態に係る表示装置1は、基板20と、基板20上にサブピクセル11毎に設けられた第1配線21と、基板20にサブピクセル11毎に搭載された発光素子30と、発光素子30の下部及び第1配線21を覆う樹脂部材23と、樹脂部材23上に設けられ、一部が発光素子30上に配置された網目状の第2配線24と、を備える。発光素子30は、半導体部材31と、半導体部材31の下面31aに設けられ、第1配線21に電気的に接続された第1電極35と、半導体部材31の相互に交差する少なくとも2つの側面31bに設けられ、一部が樹脂部材23の上面23aから露出した第2電極33と、を有する。第2配線24は、第2電極33における樹脂部材23上に露出した部分に電気的に接続されている。 The display device 1 according to the present embodiment includes a substrate 20, a first wiring 21 provided for each subpixel 11 on the substrate 20, a light emitting element 30 mounted on the substrate 20 for each subpixel 11, and a light emitting element. It includes a resin member 23 that covers the lower portion of the 30 and the first wiring 21, and a mesh-like second wiring 24 that is provided on the resin member 23 and is partially arranged on the light emitting element 30. The light emitting element 30 is provided on the semiconductor member 31, the lower surface 31a of the semiconductor member 31, the first electrode 35 electrically connected to the first wiring 21, and at least two side surfaces 31b of the semiconductor member 31 intersecting each other. The second electrode 33 is provided in the above and is partially exposed from the upper surface 23a of the resin member 23. The second wiring 24 is electrically connected to a portion of the second electrode 33 exposed on the resin member 23.

以下、表示装置1の構成を詳細に説明する。
図1、図2A及び図2Bに示すように、本実施形態に係る表示装置1においては、基板20が設けられている。基板20においては、絶縁性の母材中に配線が設けられている。また、基板20上には、アクティブ・マトリクス・トランジスタが形成されている。アクティブ・マトリクス・トランジスタは、サブピクセル11毎に、発光素子30に電力を供給するか否かを切り替えるスイッチング素子である。
Hereinafter, the configuration of the display device 1 will be described in detail.
As shown in FIGS. 1, 2A and 2B, the display device 1 according to the present embodiment is provided with the substrate 20. In the substrate 20, wiring is provided in the insulating base material. Further, an active matrix transistor is formed on the substrate 20. The active matrix transistor is a switching element that switches whether or not to supply electric power to the light emitting element 30 for each subpixel 11.

基板20には複数のピクセル10が設定されている。ピクセル10は相互に直交する第1方向及び第2方向に沿ってマトリクス状に配列されている。各ピクセル10には、1つ以上、例えば3つのサブピクセル11が設定されている。一例では、各ピクセル10に含まれる3つのサブピクセル11は、赤色の光を出力するサブピクセル11R、緑色の光を出力するサブピクセル11G、及び、青色の光を出力するサブピクセル11Bである。なお、各ピクセル10に含まれるサブピクセル11の数は3には限定されない。図1においては、1つのピクセル10の外縁を二点鎖線で表し、1つのサブピクセル11Rの外縁を破線で表している。 A plurality of pixels 10 are set on the substrate 20. Pixels 10 are arranged in a matrix along a first direction and a second direction orthogonal to each other. One or more, for example, three sub-pixels 11 are set in each pixel 10. In one example, the three sub-pixels 11 included in each pixel 10 are a sub-pixel 11R that outputs red light, a sub-pixel 11G that outputs green light, and a sub-pixel 11B that outputs blue light. The number of sub-pixels 11 included in each pixel 10 is not limited to three. In FIG. 1, the outer edge of one pixel 10 is represented by a two-dot chain line, and the outer edge of one sub-pixel 11R is represented by a broken line.

基板20上には、第1配線21が設けられている。上方から見て、第1配線21の形状はサブピクセル11毎に区画された島状であり、基板20の配線に電気的に接続されている。第1配線21の表面は、光の反射率が高いことが好ましい。これにより、発光素子30から出射した光の一部を上方に向けて反射し、サブピクセル11の明るさを向上させることができる。また、基板20上には、サブピクセル11間に、電極22が設けられている。上方から見て、電極22の形状は、例えば格子状である。第1配線21及び電極22は金属を含み、例えば、同じ導電性を有する金属材料からなり、例えば、銀(Ag)又は銅(Cu)からなる。例えば、第1配線21の厚さは電極22の厚さに略等しい。電極22の表面における光の反射率は、第1配線21の表面における光の反射率よりも低いことが好ましい。これにより、サブピクセル11間の領域の明るさを低減し、画面のコントラストを向上させることができる。電極22の表面には、光の反射率を低減するために、例えば、粗化処理が施されていてもよく、黒色皮膜が形成されていてもよい。 The first wiring 21 is provided on the substrate 20. When viewed from above, the shape of the first wiring 21 is an island shape partitioned by each subpixel 11, and is electrically connected to the wiring of the substrate 20. The surface of the first wiring 21 preferably has a high reflectance of light. As a result, a part of the light emitted from the light emitting element 30 is reflected upward, and the brightness of the subpixel 11 can be improved. Further, on the substrate 20, electrodes 22 are provided between the sub-pixels 11. When viewed from above, the shape of the electrode 22 is, for example, a grid pattern. The first wiring 21 and the electrode 22 contain a metal and are made of, for example, a metal material having the same conductivity, for example, silver (Ag) or copper (Cu). For example, the thickness of the first wiring 21 is substantially equal to the thickness of the electrode 22. The reflectance of light on the surface of the electrode 22 is preferably lower than the reflectance of light on the surface of the first wiring 21. As a result, the brightness of the area between the sub-pixels 11 can be reduced and the contrast of the screen can be improved. In order to reduce the reflectance of light, the surface of the electrode 22 may be, for example, roughened or formed with a black film.

第1配線21上には、発光素子30が設けられている。発光素子30は第1配線21を介して基板20に搭載されている。発光素子30はマイクロLEDである。上面視で、マイクロLEDの形状は、例えば、一辺の長さが5μm~100μm程度であり、好ましくは10μm~50μm程度の矩形である。各サブピクセル11には1以上、好ましくは2以上、例えば2つの発光素子30が配置されている。一例では、サブピクセル11Rには赤色の光を出力する発光素子30が配置され、サブピクセル11Gには緑色の光を出力する発光素子30が配置され、サブピクセル11Bには青色の光を出力する発光素子30が配置されている。発光素子30は、各サブピクセル11に1以上配置されていればよく、必ずしも一方向に沿って整列されていなくてもよい。 A light emitting element 30 is provided on the first wiring 21. The light emitting element 30 is mounted on the substrate 20 via the first wiring 21. The light emitting element 30 is a micro LED. When viewed from above, the shape of the micro LED is, for example, a rectangle having a side length of about 5 μm to 100 μm, preferably about 10 μm to 50 μm. One or more, preferably two or more, for example, two light emitting elements 30 are arranged in each subpixel 11. In one example, a light emitting element 30 that outputs red light is arranged in the subpixel 11R, a light emitting element 30 that outputs green light is arranged in the subpixel 11G, and a blue light is output to the subpixel 11B. The light emitting element 30 is arranged. The light emitting element 30 may be arranged in one or more in each subpixel 11, and may not necessarily be arranged in one direction.

基板20上には、サブピクセル11毎に、樹脂部材23が設けられている。樹脂部材23は、絶縁性の樹脂材料からなる。樹脂部材23の形状は、例えば、略直方体又は四角錘台形である。第1配線21は全体が樹脂部材23によって覆われている。発光素子30の下部は樹脂部材23によって覆われており、上部は樹脂部材23の上面23aから露出している。電極22の幅方向両端部は樹脂部材23によって覆われており、電極22の幅方向中央部は樹脂部材23間で露出している。 A resin member 23 is provided on the substrate 20 for each subpixel 11. The resin member 23 is made of an insulating resin material. The shape of the resin member 23 is, for example, a substantially rectangular parallelepiped or a square pyramidal trapezoid. The first wiring 21 is entirely covered with the resin member 23. The lower portion of the light emitting element 30 is covered with the resin member 23, and the upper portion is exposed from the upper surface 23a of the resin member 23. Both ends in the width direction of the electrode 22 are covered with the resin member 23, and the central portion in the width direction of the electrode 22 is exposed between the resin members 23.

樹脂部材23の上面23a上及び側面23b上には、網目状の第2配線24が設けられている。第2配線24は、第1方向に延びる複数の第1直線部分24aと、第2方向に延びる複数の第2直線部分24bとを有する。第2直線部分24bは第1直線部分24aに連結されている。第2配線24の一部は、発光素子30上に配置されており、発光素子30の上面を通過している。このため、各発光素子30の上面の一部又は側面の一部は、第2配線24に接触している。第2配線24の第1直線部分24aの両端部及び第2直線部分24bの両端部は、電極22に接続されている。これにより、全ての第2配線24が電極22を介して相互に接続されている。 A mesh-like second wiring 24 is provided on the upper surface 23a and the side surface 23b of the resin member 23. The second wiring 24 has a plurality of first straight line portions 24a extending in the first direction and a plurality of second straight line portions 24b extending in the second direction. The second straight line portion 24b is connected to the first straight line portion 24a. A part of the second wiring 24 is arranged on the light emitting element 30, and passes through the upper surface of the light emitting element 30. Therefore, a part of the upper surface or a part of the side surface of each light emitting element 30 is in contact with the second wiring 24. Both ends of the first straight line portion 24a and both ends of the second straight line portion 24b of the second wiring 24 are connected to the electrode 22. As a result, all the second wirings 24 are connected to each other via the electrodes 22.

次に、発光素子30の構成を詳細に説明する。
図3A及び図3B、図4A及び図4B、図5A及び図5Bに示すように、発光素子30においては、半導体部材31、光反射層32、第2電極33、絶縁層34、第1電極35、保護層36、第1導電層37及び第2導電層38が設けられている。上方から見て、発光素子30の形状は、例えば矩形である。なお、図3A及び図3Bは概略図であり、半導体部材31、第1電極35、第2電極33及び光反射層32のみを単純化して示し、他の構成要素は省略している。後述する図10及び図11においても同様である。図4A~図5Bは発光素子30の構成を詳細に示す図である。図を見やすくするために、図5Aにおいては、第2電極33にハッチングを付しており、図5Bにおいては、第1電極35にハッチングを付している。また、図4A、図5A、図5Bにおいては、半導体部材31を省略している。
Next, the configuration of the light emitting element 30 will be described in detail.
As shown in FIGS. 3A and 3B, FIGS. 4A and 4B, and FIGS. 5A and 5B, in the light emitting element 30, the semiconductor member 31, the light reflecting layer 32, the second electrode 33, the insulating layer 34, and the first electrode 35 are used. , A protective layer 36, a first conductive layer 37, and a second conductive layer 38 are provided. When viewed from above, the shape of the light emitting element 30 is, for example, a rectangle. 3A and 3B are schematic views, and only the semiconductor member 31, the first electrode 35, the second electrode 33, and the light reflecting layer 32 are shown in a simplified manner, and other components are omitted. The same applies to FIGS. 10 and 11 described later. 4A to 5B are views showing the configuration of the light emitting element 30 in detail. In order to make the figure easier to see, in FIG. 5A, the second electrode 33 is hatched, and in FIG. 5B, the first electrode 35 is hatched. Further, in FIGS. 4A, 5A, and 5B, the semiconductor member 31 is omitted.

半導体部材31の形状は、例えば、図4Bに示すように、概ね逆四角錐台形であり、下面31a、4つの側面31b、上面31cを有している。例えば、上面31cは粗面化されている。半導体部材31においては、第1半導体層31p、発光層31t及び第2半導体層31nが積層されている。第1半導体層31pの下面には第1導電層37が設けられており、第2半導体層31nの下面の例えば中央部には第2導電層38が設けられている。 As shown in FIG. 4B, the shape of the semiconductor member 31 is substantially an inverted quadrangular pyramid trapezoid, and has a lower surface 31a, four side surfaces 31b, and an upper surface 31c. For example, the upper surface 31c is roughened. In the semiconductor member 31, the first semiconductor layer 31p, the light emitting layer 31t, and the second semiconductor layer 31n are laminated. A first conductive layer 37 is provided on the lower surface of the first semiconductor layer 31p, and a second conductive layer 38 is provided on, for example, the central portion of the lower surface of the second semiconductor layer 31n.

半導体部材31の下面31a及び側面31bには、絶縁性の光反射層32が設けられている。光反射層32は、例えば、DBR(Distributed Bragg Reflector:分布ブラッグ反射層)であり、例えば、酸化ニオブ層(NbO)と酸化アルミニウム層(AlO)が交互に積層された多層膜である。光反射層32における半導体部材31の下方に配置された部分には、開口部32a及び32bが形成されている。開口部32aは、例えば、下面31aの中心を含む領域に1ヶ所形成されており、その形状は例えば円形である。平面視で、開口部32aの内部には第2導電層38が配置されている。開口部32bは、例えば、下面31aの対角周辺に2ヶ所形成されており、その形状は例えば斜辺が凹状の円弧となった略直角二等辺三角形である。平面視で、半導体部材31の第1半導体層31p及び発光層31t、並びに、第1導電層37は、開口部32bの内部のみに配置されている。これに対して、平面視で、半導体部材31の第2半導体層31nは、光反射層32によって囲まれる領域の全体に配置されている。 An insulating light reflecting layer 32 is provided on the lower surface 31a and the side surface 31b of the semiconductor member 31. The light reflecting layer 32 is, for example, a DBR (Distributed Bragg Reflector), and is, for example, a multilayer film in which niobium oxide layers (NbO) and aluminum oxide layers (AlO) are alternately laminated. The openings 32a and 32b are formed in the portion of the light reflecting layer 32 arranged below the semiconductor member 31. The opening 32a is formed, for example, in a region including the center of the lower surface 31a, and the shape thereof is, for example, a circle. In a plan view, the second conductive layer 38 is arranged inside the opening 32a. The openings 32b are formed in two places, for example, around the diagonal of the lower surface 31a, and the shape thereof is, for example, a substantially right-angled isosceles triangle whose hypotenuse is a concave arc. In a plan view, the first semiconductor layer 31p and the light emitting layer 31t of the semiconductor member 31, and the first conductive layer 37 are arranged only inside the opening 32b. On the other hand, in a plan view, the second semiconductor layer 31n of the semiconductor member 31 is arranged in the entire region surrounded by the light reflecting layer 32.

光反射層32の外側には、第2電極33が設けられている。すなわち、第2電極33は、光反射層32を介して、半導体部材31の下面31a上及び側面31b上に配置されている。換言すれば、光反射層32は、半導体部材31の下面31a及び側面31bと第2電極33との間に設けられている。第2電極33は、半導体部材31の側面31bの上端まで到達しており、第2電極33の一部は樹脂部材23の上面23aから露出している。第2電極33は金属材料からなり、例えば、銀又はアルミニウムからなる。 A second electrode 33 is provided on the outside of the light reflecting layer 32. That is, the second electrode 33 is arranged on the lower surface 31a and the side surface 31b of the semiconductor member 31 via the light reflecting layer 32. In other words, the light reflecting layer 32 is provided between the lower surface 31a and the side surface 31b of the semiconductor member 31 and the second electrode 33. The second electrode 33 reaches the upper end of the side surface 31b of the semiconductor member 31, and a part of the second electrode 33 is exposed from the upper surface 23a of the resin member 23. The second electrode 33 is made of a metal material, for example, silver or aluminum.

第2電極33における光反射層32の開口部32aに相当する部分は、開口部32a内に進入するように上方に向けて突出している。第2電極33は、光反射層32の開口部32aを介して、第2導電層38に電気的に接続されている。第2導電層38は、半導体部材31の下面31aにおいて、半導体部材31の第2半導体層31nに電気的に接続されている。一方、第2電極33における光反射層32の開口部32bに相当する部分には、開口部33aが形成されている。すなわち、開口部32bの直下域には、第2電極33は設けられていない。 The portion of the second electrode 33 corresponding to the opening 32a of the light reflecting layer 32 projects upward so as to enter the opening 32a. The second electrode 33 is electrically connected to the second conductive layer 38 via the opening 32a of the light reflecting layer 32. The second conductive layer 38 is electrically connected to the second semiconductor layer 31n of the semiconductor member 31 on the lower surface 31a of the semiconductor member 31. On the other hand, an opening 33a is formed in a portion of the second electrode 33 corresponding to the opening 32b of the light reflecting layer 32. That is, the second electrode 33 is not provided in the region directly below the opening 32b.

本実施形態においては、第2電極33の形状は半導体部材31の上面31c以外の表面を包むカップ状であり、上方から見て、第2電極33は半導体部材31の周囲に設けられている。すなわち、半導体部材31の4つの側面31bの全てに第2電極33が設けられている。但し、後述するように、第2電極33は、半導体部材31の相互に交差する少なくとも2つの側面31bに設けられていればよい。また、第2電極33は、半導体部材31の下面31aにおいて、光反射層32の開口部32aに相当する領域に配置されており、第2電極33における側面31bに設けられた部分に接続されている。 In the present embodiment, the shape of the second electrode 33 is a cup shape that wraps the surface other than the upper surface 31c of the semiconductor member 31, and the second electrode 33 is provided around the semiconductor member 31 when viewed from above. That is, the second electrode 33 is provided on all four side surfaces 31b of the semiconductor member 31. However, as will be described later, the second electrode 33 may be provided on at least two side surfaces 31b of the semiconductor member 31 that intersect each other. Further, the second electrode 33 is arranged in a region corresponding to the opening 32a of the light reflecting layer 32 on the lower surface 31a of the semiconductor member 31, and is connected to a portion provided on the side surface 31b of the second electrode 33. There is.

第2電極33の下部を覆うように、絶縁層34が設けられている。絶縁層34における光反射層32の開口部32aに相当する部分は、開口部32a内に進入するように、上方に向けて突出している。一方、絶縁層34における光反射層32の開口部32bに相当する部分には、開口部34aが形成されている。すなわち、開口部32bの直下域には、絶縁層34は設けられていない。絶縁層34の上端は、第2電極33の上端よりも低い位置にある。このため、絶縁層34は、第2電極33の上部は覆っていない。絶縁層34が第2電極33の上部を覆っていないことにより、後述するように、第2電極33は第2配線24と電気的に接続可能となる。 An insulating layer 34 is provided so as to cover the lower portion of the second electrode 33. The portion of the insulating layer 34 corresponding to the opening 32a of the light reflecting layer 32 projects upward so as to enter the opening 32a. On the other hand, an opening 34a is formed in a portion of the insulating layer 34 corresponding to the opening 32b of the light reflecting layer 32. That is, the insulating layer 34 is not provided in the region directly below the opening 32b. The upper end of the insulating layer 34 is located lower than the upper end of the second electrode 33. Therefore, the insulating layer 34 does not cover the upper part of the second electrode 33. Since the insulating layer 34 does not cover the upper part of the second electrode 33, the second electrode 33 can be electrically connected to the second wiring 24, as will be described later.

絶縁層34の下方には、第1電極35が設けられている。第1電極35は金属材料からなり、例えば、銀又は銅を含む金属であって、銀又は銅であってもよい。第1電極35は、光反射層32、第2電極33及び絶縁層34を介して、半導体部材31の下面31a上の略全体に設けられている。第1電極35における光反射層42の開口部32a及び開口部32bに相当する部分は、それぞれ、開口部32a内及び開口部32b内に進入するように、上方に向けて突出している。第1電極35は、絶縁層34の開口部34a、第2電極33の開口部33a及び光反射層32の開口部32bを介して、第1導電層37に電気的に接続されている。第1導電層37は、半導体部材31の下面31aにおいて、半導体部材31の第1半導体層31pに電気的に接続されている。半導体部材31の上面31cには、保護層36が設けられている。 A first electrode 35 is provided below the insulating layer 34. The first electrode 35 is made of a metal material, for example, a metal containing silver or copper, and may be silver or copper. The first electrode 35 is provided on substantially the entire lower surface 31a of the semiconductor member 31 via the light reflecting layer 32, the second electrode 33, and the insulating layer 34. The portions of the first electrode 35 corresponding to the opening 32a and the opening 32b of the light reflecting layer 42 project upward so as to enter the inside of the opening 32a and the inside of the opening 32b, respectively. The first electrode 35 is electrically connected to the first conductive layer 37 via the opening 34a of the insulating layer 34, the opening 33a of the second electrode 33, and the opening 32b of the light reflecting layer 32. The first conductive layer 37 is electrically connected to the first semiconductor layer 31p of the semiconductor member 31 on the lower surface 31a of the semiconductor member 31. A protective layer 36 is provided on the upper surface 31c of the semiconductor member 31.

そして、発光素子30の下面において、第1電極35が第1配線21に電気的に接続されている。発光素子30の半導体部材31の第1半導体層31pは、第1導電層37、第1電極35、第1配線21、基板20内に配線を介して、アクティブ・マトリクス・トランジスタに接続される。一方、第2半導体層31nは、第2導電層38を介して第2電極33に接続されている。発光素子30の上部において、第2電極33における樹脂部材23の上面23aから露出した部分の一部は、第2配線24に電気的に接続されている。これにより、半導体部材31の第1半導体層31pと第2半導体層31nとの間に電力が供給される。なお、図4Bにおいては、第2配線24は二点鎖線で示している。 Then, on the lower surface of the light emitting element 30, the first electrode 35 is electrically connected to the first wiring 21. The first semiconductor layer 31p of the semiconductor member 31 of the light emitting element 30 is connected to the active matrix transistor via wiring in the first conductive layer 37, the first electrode 35, the first wiring 21, and the substrate 20. On the other hand, the second semiconductor layer 31n is connected to the second electrode 33 via the second conductive layer 38. A part of the upper portion of the light emitting element 30 exposed from the upper surface 23a of the resin member 23 in the second electrode 33 is electrically connected to the second wiring 24. As a result, electric power is supplied between the first semiconductor layer 31p and the second semiconductor layer 31n of the semiconductor member 31. In FIG. 4B, the second wiring 24 is shown by a two-dot chain line.

図1に示すように、表示装置1においては、第2配線24に断線部24cを形成することができる。これにより、欠陥を有する発光素子30xを第2配線24から分離することができる。発光素子30xの欠陥とは、例えば、短絡、断線及び不安定な導通等である。 As shown in FIG. 1, in the display device 1, the disconnection portion 24c can be formed in the second wiring 24. As a result, the defective light emitting element 30x can be separated from the second wiring 24. The defect of the light emitting element 30x is, for example, a short circuit, a disconnection, an unstable continuity, or the like.

次に、本実施形態に係る表示装置の製造方法について説明する。
図6A~図7Cは、本実施形態に係る表示装置の製造方法を示す端面図である。
Next, a method of manufacturing the display device according to the present embodiment will be described.
6A to 7C are end views showing a method of manufacturing a display device according to the present embodiment.

(基板20及び発光素子30を準備する工程)
先ず、図6Aに示すように、基板20及び発光素子30を準備する。基板20には、ピクセル10がマトリクス状に配列されており、各ピクセル10には1以上のサブピクセル11が含まれている。基板20の上面20aには、サブピクセル11毎に第1配線21が設けられており、サブピクセル11間に電極22が設けられている。第1配線21上には導電性ペースト層102が設けられている。
(Step of preparing the substrate 20 and the light emitting element 30)
First, as shown in FIG. 6A, the substrate 20 and the light emitting element 30 are prepared. Pixels 10 are arranged in a matrix on the substrate 20, and each pixel 10 contains one or more sub-pixels 11. A first wiring 21 is provided for each subpixel 11 on the upper surface 20a of the substrate 20, and an electrode 22 is provided between the subpixels 11. A conductive paste layer 102 is provided on the first wiring 21.

発光素子30は、例えば、支持基板100の下面100aに接着シート101によって接着されている。支持基板100における各サブピクセル11に相当する領域に、1つ以上、好ましくは2つ以上、例えば2つの発光素子30が接着されている。発光素子30の構成は上述のとおりである。すなわち、発光素子30の下面には第1電極35が設けられており、相互に交差する少なくとも2つの側面、例えば4つの側面には、第2電極33が設けられている。 The light emitting element 30 is adhered to, for example, the lower surface 100a of the support substrate 100 by an adhesive sheet 101. One or more, preferably two or more, for example, two light emitting elements 30 are adhered to a region corresponding to each subpixel 11 in the support substrate 100. The configuration of the light emitting element 30 is as described above. That is, the first electrode 35 is provided on the lower surface of the light emitting element 30, and the second electrode 33 is provided on at least two side surfaces that intersect each other, for example, four side surfaces.

(基板20に発光素子30を搭載し、第1電極35を第1配線21に接続する工程)
次に、図6Bに示すように、発光素子30が接着された支持基板100の下面100aを基板20の上面20aに対向させて、発光素子30の第1電極35を導電性ペースト層102に当接させる。次に、導電性ペースト層102を焼結させる。これにより、発光素子30の第1電極35が第1配線21に電気的に接続されると共に、発光素子30が基板20に搭載される。以後、導電性ペースト層102は第1配線21の一部として示す。
(Step of mounting the light emitting element 30 on the substrate 20 and connecting the first electrode 35 to the first wiring 21)
Next, as shown in FIG. 6B, the lower surface 100a of the support substrate 100 to which the light emitting element 30 is adhered faces the upper surface 20a of the substrate 20, and the first electrode 35 of the light emitting element 30 hits the conductive paste layer 102. Get in touch. Next, the conductive paste layer 102 is sintered. As a result, the first electrode 35 of the light emitting element 30 is electrically connected to the first wiring 21, and the light emitting element 30 is mounted on the substrate 20. Hereinafter, the conductive paste layer 102 is shown as a part of the first wiring 21.

次に、接着シート101を例えば溶解させることにより除去する。これにより、支持基板100を発光素子30から剥離する。このようにして、発光素子30が支持基板100から基板20に転写される。このとき、例えば、各サブピクセル11には2つの発光素子30が搭載される。また、上方から見て、発光素子30の形状は例えば矩形である。 Next, the adhesive sheet 101 is removed, for example, by dissolving it. As a result, the support substrate 100 is peeled off from the light emitting element 30. In this way, the light emitting element 30 is transferred from the support substrate 100 to the substrate 20. At this time, for example, two light emitting elements 30 are mounted on each subpixel 11. Further, when viewed from above, the shape of the light emitting element 30 is, for example, a rectangle.

(樹脂部材23を形成する工程)
次に、図7Aに示すように、基板20上に発光素子30を覆う樹脂部材23を形成する。例えば、基板20の上面20aに感光性樹脂を塗布し、現像して硬化させる。又は、感光性樹脂からなるドライフィルムを基板20の上面20aに貼付する。このようにして、樹脂部材23が形成される。この時点では、樹脂部材23は複数のサブピクセル11に搭載された複数の発光素子30を全て覆う。
(Step of forming the resin member 23)
Next, as shown in FIG. 7A, a resin member 23 that covers the light emitting element 30 is formed on the substrate 20. For example, a photosensitive resin is applied to the upper surface 20a of the substrate 20, developed and cured. Alternatively, a dry film made of a photosensitive resin is attached to the upper surface 20a of the substrate 20. In this way, the resin member 23 is formed. At this point, the resin member 23 covers all of the plurality of light emitting elements 30 mounted on the plurality of subpixels 11.

(第2電極33を樹脂部材23から露出させる工程)
次に、図7Bに示すように、樹脂部材23の上面23aに対してエッチング、例えば、酸素ガス(O)を用いたRIE(Reactive Ion Etching:反応性イオンエッチング)を施すことにより、樹脂部材23の上部を除去する。これにより、第2電極33の上部を含む発光素子30の上部が、樹脂部材23の上面23aから露出する。また、このとき、樹脂部材23をサブピクセル11毎に区画して、電極22を露出させる。これにより、樹脂部材23の形状は、例えば、略直方体又は四角錘台形となる。
(Step of exposing the second electrode 33 from the resin member 23)
Next, as shown in FIG. 7B, the resin member is subjected to etching, for example, RIE (Reactive Ion Etching) using oxygen gas (O 2 ) on the upper surface 23a of the resin member 23. Remove the top of 23. As a result, the upper portion of the light emitting element 30 including the upper portion of the second electrode 33 is exposed from the upper surface 23a of the resin member 23. Further, at this time, the resin member 23 is divided into subpixels 11 to expose the electrodes 22. As a result, the shape of the resin member 23 becomes, for example, a substantially rectangular parallelepiped or a square trapezoid.

(樹脂部材23上に第2配線24を形成する工程)
次に、図1及び図7Cに示すように、樹脂部材23上に網目状の第2配線24を形成する。例えば、スピンコート法により導電性ペーストを全面に塗布し、焼結させた後、フォトリソグラフィ法により、網目状に加工する。これにより、樹脂部材23の上面23a及び側面23bに、第1方向に延びる第1直線部分24a及び第2方向に延びる第2直線部分24bを含む第2配線24が形成される。
(Step of forming the second wiring 24 on the resin member 23)
Next, as shown in FIGS. 1 and 7C, a mesh-like second wiring 24 is formed on the resin member 23. For example, a conductive paste is applied to the entire surface by a spin coating method, sintered, and then processed into a mesh shape by a photolithography method. As a result, a second wiring 24 including a first straight line portion 24a extending in the first direction and a second straight line portion 24b extending in the second direction is formed on the upper surface 23a and the side surface 23b of the resin member 23.

例えば、第1方向及び第2方向は、ピクセル10が配列された2方向であるが、これには限定されない。2本の第1直線部分24a及び2本の第2直線部分24bによって囲まれる図形は長方形には限定されず、平行四辺形であってもよい。また、第2配線24は第3方向に延びる第3直線部分を有してもよく、例えば、上方から見た第2配線24の形状は、三角形を配列させた形状であってもよく、六角形を配列させたハニカム形状であってもよい。本明細書においては、これらの形状も「網目状」に含むものとする。 For example, the first direction and the second direction are, but are not limited to, two directions in which the pixels 10 are arranged. The figure surrounded by the two first straight line portions 24a and the two second straight line portions 24b is not limited to a rectangle, and may be a parallelogram. Further, the second wiring 24 may have a third straight line portion extending in the third direction. For example, the shape of the second wiring 24 seen from above may be a shape in which triangles are arranged. It may be a honeycomb shape in which squares are arranged. In the present specification, these shapes are also included in the "mesh-like".

上方から見て、第1直線部分24aの間隔、及び、第2直線部分24bの間隔を、発光素子30の一辺の長さ以下とすることにより、第2配線24の一部は確実に発光素子30上に配置される。上方から見て、発光素子30の半導体部材31の周囲には第2電極33が設けられているため、第2配線24は各発光素子30の第2電極33に接触し、電気的に接続される。また、第2配線24は電極22にも接触し、電気的に接続される。この結果、全ての発光素子30の第2電極33は、第2配線24に共通接続される。このようにして、発光素子30は、第1配線21及び第2配線24に接続される。 When viewed from above, the distance between the first straight line portion 24a and the distance between the second straight line portions 24b are set to be equal to or less than the length of one side of the light emitting element 30, so that a part of the second wiring 24 is surely a light emitting element. Placed on 30. When viewed from above, since the second electrode 33 is provided around the semiconductor member 31 of the light emitting element 30, the second wiring 24 comes into contact with the second electrode 33 of each light emitting element 30 and is electrically connected. Ru. Further, the second wiring 24 also contacts the electrode 22 and is electrically connected. As a result, the second electrodes 33 of all the light emitting elements 30 are commonly connected to the second wiring 24. In this way, the light emitting element 30 is connected to the first wiring 21 and the second wiring 24.

(欠陥を有する発光素子30xを第2配線24から分離する工程)
次に、図1に示すように、各発光素子30を検査し、欠陥を有する発光素子30xを検出したら、この発光素子30xに接続された第2配線24の第1直線部分24a及び第2直線部分24bを例えばレーザー加工によって切断し、発光素子30xを第2配線24から分離する。その後、電極22及び第2配線24の表面に対して粗化処理を施して、表面をマット状にしたり、黒化処理等を施して黒色被膜を形成することにより、電極22及び第2配線24における光の反射率を低下させる。これにより、画面のコントラストが向上する。このようにして、本実施形態に係る表示装置1が製造される。
(Step of separating the defective light emitting element 30x from the second wiring 24)
Next, as shown in FIG. 1, when each light emitting element 30 is inspected and a defective light emitting element 30x is detected, the first straight portion 24a and the second straight line of the second wiring 24 connected to the light emitting element 30x are detected. The portion 24b is cut by, for example, laser processing, and the light emitting element 30x is separated from the second wiring 24. After that, the surfaces of the electrode 22 and the second wiring 24 are roughened to make the surface matte, or blackened to form a black film, whereby the electrodes 22 and the second wiring 24 are formed. Reduces the reflectance of light in. This improves the contrast of the screen. In this way, the display device 1 according to the present embodiment is manufactured.

次に、本実施形態の効果について説明する。
本実施形態に係る表示装置1においては、各発光素子30において、半導体部材31の相互に交差する少なくとも2つの側面31bに第2電極33が設けられている。また、第2配線24の形状は上面視において網目状である。このため、発光素子30の位置及び角度が設計から多少ずれたとしても、各発光素子30の第2電極33は、いずれかの部分で第2配線24に接触する。したがって、発光素子30を基板20に搭載するときの位置精度を過度に精密にしなくても、発光素子30の第1電極35が第1配線21に当接する程度に精密であれば、発光素子30を第1配線21と第2配線24に電気的に接続することができる。このため、発光素子30を基板20に搭載する際の位置及び角度のマージンが大きい。この結果、表示装置1は製造が容易であり、製造コストが低い。
Next, the effect of this embodiment will be described.
In the display device 1 according to the present embodiment, in each light emitting element 30, the second electrode 33 is provided on at least two side surfaces 31b of the semiconductor member 31 that intersect each other. Further, the shape of the second wiring 24 is mesh-like in the top view. Therefore, even if the position and angle of the light emitting element 30 deviate slightly from the design, the second electrode 33 of each light emitting element 30 comes into contact with the second wiring 24 at any part. Therefore, even if the position accuracy when the light emitting element 30 is mounted on the substrate 20 is not excessively precise, the light emitting element 30 is as long as the first electrode 35 of the light emitting element 30 is accurate enough to come into contact with the first wiring 21. Can be electrically connected to the first wiring 21 and the second wiring 24. Therefore, the margin of the position and the angle when the light emitting element 30 is mounted on the substrate 20 is large. As a result, the display device 1 is easy to manufacture and the manufacturing cost is low.

また、本実施形態においては、第2電極33を発光素子30の側面に配置しているため、第2電極33は半導体部材31の上面を覆う必要がない。このため、半導体部材31から上方に出射する光を、効率的に利用することができる。また、第2配線24の形状を網目状とすることで、発光素子30から側方に出射した光の一部を、第2配線24によって上方に向けて反射することができる。これによっても、光の利用効率を向上させることができる。 Further, in the present embodiment, since the second electrode 33 is arranged on the side surface of the light emitting element 30, the second electrode 33 does not need to cover the upper surface of the semiconductor member 31. Therefore, the light emitted upward from the semiconductor member 31 can be efficiently used. Further, by making the shape of the second wiring 24 into a mesh shape, a part of the light emitted laterally from the light emitting element 30 can be reflected upward by the second wiring 24. This also makes it possible to improve the efficiency of light utilization.

更に、第2配線24を金属により形成しているため、ITO(Indium-Tin-Oxide:酸化インジウムスズ)等の導電性透明材料により形成する場合と比較して、配線の電気抵抗が低い。このため、表示装置1は電力の利用効率が高い。 Further, since the second wiring 24 is made of metal, the electrical resistance of the wiring is lower than that of the case where the second wiring 24 is made of a conductive transparent material such as ITO (Indium-Tin-Oxide). Therefore, the display device 1 has high power utilization efficiency.

更にまた、表示装置1においては、各サブピクセル11に2つの発光素子30を設けている。この2つの発光素子30は第1配線21と第2配線24との間に並列に接続される。あるサブピクセル11に配置された2つの発光素子30がいずれも正常であれば、この2つの発光素子30には並列に電流が流れる。これに対して、2つの発光素子30のうち一方が欠陥を有する場合は、第2配線24に断線部24cを形成することにより、欠陥を有する発光素子30xを第2配線24から分離する。これにより、発光素子30の欠陥が、直ちにサブピクセル11の欠陥、例えば、輝点又は暗点となることを防止できる。この場合は、欠陥を有する発光素子30xが電流回路から切り離されるため、正常な1つの発光素子30に通常の2倍の電流が流れ、約2倍の光を出力する。このため、サブピクセル11に欠陥を有する発光素子30が存在しない場合も、欠陥を有する発光素子30が1つ存在する場合も、サブピクセル11全体の輝度は略同じとなる。 Furthermore, in the display device 1, two light emitting elements 30 are provided for each subpixel 11. The two light emitting elements 30 are connected in parallel between the first wiring 21 and the second wiring 24. If the two light emitting elements 30 arranged in a certain subpixel 11 are both normal, a current flows in parallel to the two light emitting elements 30. On the other hand, when one of the two light emitting elements 30 has a defect, the defective light emitting element 30x is separated from the second wiring 24 by forming the disconnection portion 24c in the second wiring 24. This makes it possible to prevent the defect of the light emitting element 30 from immediately becoming a defect of the subpixel 11, for example, a bright spot or a dark spot. In this case, since the defective light emitting element 30x is separated from the current circuit, twice the normal current flows through one normal light emitting element 30, and about twice as much light is output. Therefore, the brightness of the entire subpixel 11 is substantially the same regardless of whether the light emitting element 30 having a defect is present in the subpixel 11 or one light emitting element 30 having a defect is present.

このように、本実施形態によれば、サブピクセル11に配置する発光素子30に冗長性を持たせることができ、1つの発光素子30に欠陥が発生した場合でも、サブピクセル11を正常に機能させることができる。これにより、表示装置1の歩留まりが向上し、製造コストを低減することができる。なお、各サブピクセル11には、3つ以上の発光素子30を設けてもよい。 As described above, according to the present embodiment, the light emitting element 30 arranged in the sub pixel 11 can be provided with redundancy, and even if a defect occurs in one light emitting element 30, the sub pixel 11 functions normally. Can be made to. As a result, the yield of the display device 1 can be improved and the manufacturing cost can be reduced. In addition, each subpixel 11 may be provided with three or more light emitting elements 30.

<第2の実施形態>
次に、第2の実施形態について説明する。
図8は、本実施形態に係る表示装置の発光素子を示す端面図である。
<Second embodiment>
Next, the second embodiment will be described.
FIG. 8 is an end view showing a light emitting element of the display device according to the present embodiment.

図8に示すように、本実施形態に係る表示装置においては、発光素子30aが設けられている。発光素子30aにおいては、第2電極33が半導体部材31の上面31cにおける周辺部まで到達している。これにより、第2配線24を第2電極33に確実に接続することができる。本実施形態における上記以外の構成、製造方法及び効果は、第1の実施形態と同様である。 As shown in FIG. 8, in the display device according to the present embodiment, a light emitting element 30a is provided. In the light emitting element 30a, the second electrode 33 reaches the peripheral portion on the upper surface 31c of the semiconductor member 31. As a result, the second wiring 24 can be reliably connected to the second electrode 33. The configurations, manufacturing methods, and effects other than the above in the present embodiment are the same as those in the first embodiment.

<第3の実施形態>
次に、第3の実施形態について説明する。
図9は、本実施形態に係る表示装置の発光素子を示す端面図である。
<Third embodiment>
Next, a third embodiment will be described.
FIG. 9 is an end view showing a light emitting element of the display device according to the present embodiment.

図9に示すように、本実施形態に係る表示装置においては、発光素子30bが設けられている。発光素子30bにおいては、第2電極33が第1部分33bと第2部分33cとに分かれている。第1部分33bは半導体部材31の下面31a及び側面31bに設けられており、第2部分33cは半導体部材31の上面31cの周辺部に設けられている。第2部分33cは第1部分33bから離隔している。また、発光素子30bにおいては、金属めっき層39が設けられている。金属めっき層39は、第2電極33の第1部分33bを第2部分33cに電気的に接続している。金属めっき層39は、例えば、電解めっき法により形成されたものである。 As shown in FIG. 9, in the display device according to this embodiment, a light emitting element 30b is provided. In the light emitting element 30b, the second electrode 33 is divided into a first portion 33b and a second portion 33c. The first portion 33b is provided on the lower surface 31a and the side surface 31b of the semiconductor member 31, and the second portion 33c is provided on the peripheral portion of the upper surface 31c of the semiconductor member 31. The second portion 33c is separated from the first portion 33b. Further, the light emitting element 30b is provided with a metal plating layer 39. The metal plating layer 39 electrically connects the first portion 33b of the second electrode 33 to the second portion 33c. The metal plating layer 39 is formed by, for example, an electrolytic plating method.

本実施形態によれば、第2電極33を形成する際の成膜状態により、第2電極33が第1部分33bと第2部分33cとに分離されてしまった場合でも、金属めっき層39を形成することにより、第2部分33cを第2電極33の一部として機能させることができる。本実施形態における上記以外の構成、製造方法及び効果は、第1の実施形態と同様である。 According to the present embodiment, even if the second electrode 33 is separated into the first portion 33b and the second portion 33c due to the film forming state when the second electrode 33 is formed, the metal plating layer 39 is provided. By forming, the second portion 33c can function as a part of the second electrode 33. The configurations, manufacturing methods, and effects other than the above in the present embodiment are the same as those in the first embodiment.

<第4の実施形態>
次に、第4の実施形態について説明する。
図10は、本実施形態に係る表示装置の発光素子を示す上面図である。
<Fourth Embodiment>
Next, a fourth embodiment will be described.
FIG. 10 is a top view showing a light emitting element of the display device according to the present embodiment.

図10に示すように、本実施形態に係る表示装置においては、発光素子30cが設けられている。発光素子30cにおいては、第2電極33が半導体部材31の3つの側面31bに設けられている。この場合でも第1の実施形態と同様な効果を得ることができる。 As shown in FIG. 10, in the display device according to this embodiment, a light emitting element 30c is provided. In the light emitting element 30c, the second electrode 33 is provided on the three side surfaces 31b of the semiconductor member 31. Even in this case, the same effect as that of the first embodiment can be obtained.

<第5の実施形態>
次に、第5の実施形態について説明する。
図11は、本実施形態に係る表示装置の発光素子を示す上面図である。
<Fifth Embodiment>
Next, a fifth embodiment will be described.
FIG. 11 is a top view showing a light emitting element of the display device according to the present embodiment.

図11に示すように、本実施形態に係る表示装置においては、発光素子30dが設けられている。発光素子30dにおいては、第2電極33が半導体部材31の相互に交差する2つの側面31bに設けられている。この場合でも第1の実施形態と同様な効果を得ることができる。 As shown in FIG. 11, in the display device according to the present embodiment, a light emitting element 30d is provided. In the light emitting device 30d, the second electrode 33 is provided on two side surfaces 31b of the semiconductor member 31 that intersect each other. Even in this case, the same effect as that of the first embodiment can be obtained.

本発明は、例えば、視覚的に情報を表示する装置に利用することができ、例えば、携帯用電子機器、テレビ受像器、多人数向けのディスプレイ等に利用することができる。 The present invention can be used, for example, in a device for visually displaying information, and can be used in, for example, a portable electronic device, a television receiver, a display for a large number of people, and the like.

1:表示装置
10:ピクセル
11、11B、11G、11R:サブピクセル
20:基板
20a:上面
21:第1配線
22:電極
23:樹脂部材
23a:上面
23b:側面
24:第2配線
24a:第1直線部分
24b:第2直線部分
24c:断線部
30、30a、30b、30c、30d、30x:発光素子
31:半導体部材
31a:下面
31b:側面
31c:上面
31n:第2半導体層
31t:発光層
31p:第1半導体層
32:光反射層
32a、32b:開口部
33:第2電極
33a:開口部
33b:第1部分
33c:第2部分
34:絶縁層
34a:開口部
35:第1電極
36:保護層
37:第1導電層
38:第2導電層
39:金属めっき層
100:支持基板
100a:下面
101:接着シート
102:導電性ペースト層
1: Display device 10: Pixel 11, 11B, 11G, 11R: Subpixel 20: Substrate 20a: Top surface 21: First wiring 22: Electrode 23: Resin member 23a: Top surface 23b: Side surface 24: Second wiring 24a: First Straight portion 24b: Second straight portion 24c: Disconnected portion 30, 30a, 30b, 30c, 30d, 30x: Light emitting element 31: Semiconductor member 31a: Bottom surface 31b: Side surface 31c: Top surface 31n: Second semiconductor layer 31t: Light emitting layer 31p : First semiconductor layer 32: Light reflecting layer 32a, 32b: Opening 33: Second electrode 33a: Opening 33b: First part 33c: Second part 34: Insulating layer 34a: Opening 35: First electrode 36: Protective layer 37: First conductive layer 38: Second conductive layer 39: Metal plating layer 100: Support substrate 100a: Bottom surface 101: Adhesive sheet 102: Conductive paste layer

Claims (16)

サブピクセルが設定され、前記サブピクセル毎に第1配線が設けられ前記サブピクセル間に電極が設けられた基板、及び、下面に第1電極が設けられ相互に交差する少なくとも2つの側面に第2電極が設けられた発光素子を準備する工程と、
前記基板上に、前記発光素子を搭載し、前記第1電極を前記第1配線に電気的に接続する工程と、
前記基板上に、前記発光素子及び前記電極を覆う樹脂部材を形成する工程と、
前記樹脂部材の上部を除去することにより、前記第2電極の一部を前記樹脂部材の上面から露出させると共に、前記樹脂部材の一部を除去することにより、前記電極の一部を前記樹脂部材の上面よりも下方において露出させる工程と、
前記樹脂部材上に、一部が前記発光素子上に配置されるように網目状の第2配線を形成し、前記第2配線を前記第2電極及び前記電極に電気的に接続する工程と、
を備えた表示装置の製造方法。
A substrate in which sub-pixels are set, a first wiring is provided for each sub-pixel and electrodes are provided between the sub-pixels , and a second electrode is provided on the lower surface and a second surface is provided on at least two side surfaces intersecting with each other. The process of preparing a light emitting element provided with electrodes and
A step of mounting the light emitting element on the substrate and electrically connecting the first electrode to the first wiring.
A step of forming the light emitting element and a resin member covering the electrodes on the substrate,
By removing the upper part of the resin member, a part of the second electrode is exposed from the upper surface of the resin member, and by removing a part of the resin member, a part of the electrode is exposed to the resin member. And the process of exposing below the top surface of
A step of forming a mesh-like second wiring on the resin member so that a part of the wiring is arranged on the light emitting element, and electrically connecting the second wiring to the second electrode and the electrode .
A method of manufacturing a display device equipped with.
前記発光素子は半導体部材を含み、上方から見て、前記第2電極は前記半導体部材の周囲に設けられている請求項1記載の表示装置の製造方法。 The method for manufacturing a display device according to claim 1, wherein the light emitting element includes a semiconductor member, and the second electrode is provided around the semiconductor member when viewed from above. 前記発光素子は半導体部材を含み、前記第2電極は前記半導体部材の上面の一部にも設けられている請求項1記載の表示装置の製造方法。 The method for manufacturing a display device according to claim 1, wherein the light emitting element includes a semiconductor member, and the second electrode is also provided on a part of the upper surface of the semiconductor member. 上方から見たときに、前記発光素子の形状は矩形である請求項1~3のいずれか1つに記載の表示装置の製造方法。 The method for manufacturing a display device according to any one of claims 1 to 3, wherein the shape of the light emitting element is rectangular when viewed from above. 前記第2配線は、
第1方向に延びる第1直線部分と、
前記第1方向と交差する第2方向に延び、前記第1直線部分と連結された第2直線部分と、
を有する請求項1~4のいずれか1つに記載の表示装置の製造方法。
The second wiring is
The first straight line part extending in the first direction and
A second straight line portion extending in a second direction intersecting the first direction and connected to the first straight line portion,
The method for manufacturing a display device according to any one of claims 1 to 4.
少なくとも1つの前記サブピクセルに2つ以上の前記発光素子を搭載する請求項1~5のいずれか1つに記載の表示装置の製造方法。 The method for manufacturing a display device according to any one of claims 1 to 5, wherein two or more of the light emitting elements are mounted on at least one of the sub-pixels. 欠陥を有する1つの前記発光素子を前記第2配線から分離する工程をさらに備えた請求項6記載の表示装置の製造方法。 The method for manufacturing a display device according to claim 6, further comprising a step of separating one defective light emitting element from the second wiring. 前記樹脂部材を形成する工程において、前記樹脂部材は複数の前記サブピクセルに搭載された複数の前記発光素子を覆い、
前記露出させる工程において、前記樹脂部材を前記サブピクセル毎に区画する請求項1~7のいずれか1つに記載の表示装置の製造方法。
In the step of forming the resin member, the resin member covers a plurality of the light emitting elements mounted on the plurality of the subpixels.
The method for manufacturing a display device according to any one of claims 1 to 7, wherein in the step of exposing, the resin member is partitioned for each sub-pixel.
前記第2配線の網目の大きさを、前記発光素子の大きさと同程度とする請求項1~8のいずれか1つに記載の表示装置の製造方法。 The method for manufacturing a display device according to any one of claims 1 to 8, wherein the size of the mesh of the second wiring is about the same as the size of the light emitting element. 前記第2配線を前記第2電極及び前記電極に電気的に接続する工程の後、前記電極の表面に粗化処理を施す工程をさらに備えた請求項1~9のいずれか1つに記載の表示装置の製造方法。 The invention according to any one of claims 1 to 9, further comprising a step of applying a roughening treatment to the surface of the electrode after the step of electrically connecting the second wiring to the second electrode and the electrode. How to manufacture the display device. サブピクセルが設定された基板と、
前記基板上に前記サブピクセル毎に設けられた第1配線と、
前記基板に前記サブピクセル毎に搭載された発光素子と、
前記サブピクセル毎に設けられ前記発光素子の下部及び前記第1配線を覆う樹脂部材と、
前記樹脂部材上に設けられ、一部が前記発光素子上に配置された網目状の第2配線と、
前記基板上の前記サブピクセル間に設けられ、前記樹脂部材の上面よりも下方に配置された電極と、
を備え、
前記発光素子は、
半導体部材と、
前記半導体部材の下面に設けられ、前記第1配線に電気的に接続された第1電極と、
前記半導体部材の相互に交差する少なくとも2つの側面に設けられ、一部が前記樹脂部材の上面から露出した第2電極と、
有し、
前記第2配線は、前記第2電極における前記樹脂部材上に露出した部分及び前記電極に電気的に接続されている表示装置。
A board with sub-pixels set and
The first wiring provided for each subpixel on the substrate,
A light emitting element mounted on the substrate for each subpixel,
A resin member provided for each subpixel and covering the lower portion of the light emitting element and the first wiring, and
A mesh-like second wiring provided on the resin member and partially arranged on the light emitting element,
An electrode provided between the sub-pixels on the substrate and arranged below the upper surface of the resin member, and
Equipped with
The light emitting element is
With semiconductor members
A first electrode provided on the lower surface of the semiconductor member and electrically connected to the first wiring,
A second electrode provided on at least two mutually intersecting surfaces of the semiconductor member and partially exposed from the upper surface of the resin member,
Have and
The second wiring is a display device electrically connected to a portion of the second electrode exposed on the resin member and the electrode .
前記発光素子は、前記半導体部材の側面と前記第2電極との間に設けられた絶縁性の光反射層をさらに有し、
上方から見て、前記第2電極は前記半導体部材の周囲に設けられており、
前記第2電極は前記半導体部材の下面に電気的に接続されている請求項11記載の表示装置。
The light emitting device further has an insulating light reflecting layer provided between the side surface of the semiconductor member and the second electrode.
When viewed from above, the second electrode is provided around the semiconductor member.
The display device according to claim 11 , wherein the second electrode is electrically connected to the lower surface of the semiconductor member.
少なくとも1つの前記サブピクセルに2つ以上の前記発光素子が設けられた請求項11または12に記載の表示装置。 The display device according to claim 11 or 12 , wherein at least one of the sub-pixels is provided with two or more of the light emitting elements. 欠陥を有する1つの前記発光素子が前記第2配線から分離されている請求項13記載の表示装置。 13. The display device according to claim 13 , wherein the one light emitting element having a defect is separated from the second wiring. 前記第2配線の網目の大きさは、前記発光素子の大きさと同程度である請求項11~14のいずれか1つに記載の表示装置。 The display device according to any one of claims 11 to 14, wherein the size of the mesh of the second wiring is about the same as the size of the light emitting element. 前記電極の表面における前記発光素子からの光に対する反射率は、前記第1配線の表面における前記発光素子からの光に対する反射率よりも低い請求項11~15のいずれか1つに記載の表示装置。 The display device according to any one of claims 11 to 15, wherein the reflectance of the surface of the electrode to the light from the light emitting element is lower than the reflectance of the surface of the first wiring to the light from the light emitting element. ..
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