JP6996525B2 - ガス絶縁開閉機器 - Google Patents
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絶縁性ガスにCO2ガスを用いる場合、電極間に発生するアーク放電によりCO2ガスが分解され、微粒子状のカーボンが発生する。このカーボンは導電性物質であり、絶縁性の部品、特に絶縁ノズルに付着すると、付着した部分の電気絶縁性を著しく劣化させることがある。
このような絶縁性の劣化を抑止するため、ガス絶縁開閉機器の内部に酸化剤ガスが封入された酸化剤ガス保持手段を備え、電流遮断時に酸化剤ガスを放出し、カーボンを酸化しガス化することのより、カーボンが絶縁ノズル等に付着することを抑制する(例えば、特許文献1)。
さらに、ガス絶縁開閉機器の電極の接続動作および開離動作を繰り返すと、未反応のカーボンがガス絶縁開閉機器の内部に蓄積される。また、ガス絶縁開閉機器の電極の接続動作時に、未反応のカーボンが絶縁性ガスの気流により拡散し、絶縁性の部品に付着し電気絶縁性を低下させる問題があった。
さらに、固定電極と可動電極とが離れた状態から固定電極と可動電極とが接続する状態に変化するときに、フィルタでろ過された絶縁性ガスを第1の吸気口から吸気し、固定電極と可動電極とが接続した状態から固定電極と可動電極とが離れる状態に変化するときに、噴出口から吸気された絶縁性ガスを噴出することを特徴とする。
図1~図7は、この発明を実施するための実施の形態1を示すものである。
図1~図3を参照して、この発明を実施するための実施の形態1に係るガス絶縁開閉機器100の構造を説明し、図1、および図4~図7を参照して、ガス絶縁開閉機器100の開極動作および閉極動作を説明する。
図1は、この発明を実施するための実施の形態1に係るガス絶縁開閉機器100の閉状態の断面図であり、後述する軸線Aを含む面の断面を示す。なお、後述するように、図1中には、軸線Aに垂直な方向からのタンク1の内部1nの透視図を示す部分も記載する。図2は、図1に示す一点鎖線C1に示す位置における軸線Aに平行な方向のガス絶縁開閉機器100の断面図であり、図3は、図1に示す一点鎖線C2に示す位置における軸線Aに平行な方向のガス絶縁開閉機器100の断面図である。
さらに、電流遮断とは、開極動作により可動アーク電極21と固定アーク電極31との間に流れる電流を遮断することを言う。また、開極動作中に可動アーク電極21と固定アーク電極31との間にアーク放電Eが発生する場合は、アーク放電Eを消弧し、可動アーク電極21と固定アーク電極31との間に流れる電流を遮断することを言う。
駆動ロッド23は、駆動機構6に連結する。さらに、駆動ロッド23は、一点鎖線に示す固定アーク電極31の軸線A上を駆動機構6に駆動され稼動する。言い換えると、軸線Aは、固定アーク電極31と可動アーク電極21とが接続および切り離しをするときの可動アーク電極21の動線であり、さらに、この動線の延長線である。なお、駆動ロッド23と駆動機構6とは、電気的には絶縁するように構成される。
また、円筒形状のパッファシリンダ24は、駆動ロッド23を取り囲むように配置され、パッファシリンダ24の一端は、ロッドヘッド23hに取り付けられる。言い換えると、パッファシリンダ24は、軸線Aを取り囲むように配置され、可動アーク電極21と連動する。
可動アーク電極21、可動通電接触子22、駆動ロッド23、パッファシリンダ24、および絶縁ノズル25は、可動部2を構成する。可動部2は、駆動機構6に駆動され稼動する。
また、支持筒41の筒内に、固定ピストン42が配置される。支持筒41と固定ピストン42とは、支持部4を構成する。なお、支持筒41の側面41dは、前述した透視図の部分である。
また、固定ピストン42のピストンヘッド42hとパッファシリンダ24の壁面とで囲まれた空間は、機械パッファ室Mpを形成する。さらに、後述するように、ガス絶縁開閉機器100が開極動作を実行した場合に、機械パッファ室Mpの容積は圧縮されるように構成される。
固定アーク電極31、固定通電接触子32、および固定通電板33は、固定部3を構成する。なお、固定通電接触子32の側面32dは、前述した透視図の部分である。
さらに、固定部3は、絶縁性の固定部側スペーサ71に支持されタンク1に固定される。また、固定通電接触子32は、固定部側導体51の一端と電気的に接続する。さらに、固定部側導体51はタンク1に接触しないように絶縁性の導体用スペーサ73に支持され、固定部側導体51のもう一端は、図示しない第2の端子に接続される。なお、可動部側固定部側スペーサ71は、前述した透視図の部分である。
機械パッファ室Mpの内部の圧力が、第1吸気口42pを介し連通する機械パッファ室Mpの外部の圧力より高い場合、逆止弁43は開状態となる。また、機械パッファ室Mpの内部の圧力が、第1吸気口42pを介し連通する機械パッファ室Mpの外部の圧力以下の場合、逆止弁43は閉状態となる。
前述したように、図1は、ガス絶縁開閉機器100の閉状態の断面図を示す。図4は、ガス絶縁開閉機器100の開極動作中の断面図を示し、図5は、ガス絶縁開閉機器100の開極動作完了後の開状態の断面図を示す。
さらに、図6は、ガス絶縁開閉機器100の閉極動作中の断面図を示し、図7は、ガス絶縁開閉機器100の閉極動作完了後の閉状態の断面図を示す。
図1を参照して、前述した第1の端子と前述した第2の端子とは、外部の回路に接続され、第1の端子と第2の端子との間に電圧が印加され、可動アーク電極21と固定アーク電極31との間に電流が流れている状態であるとする。
ガス絶縁開閉機器100が開極動作を実行する場合、可動アーク電極21と固定アーク電極31とが篏合した閉状態から、可動部2が紙面の左方向へ移動し、可動アーク電極21と固定アーク電極31とが開離し開状態に移行する。このとき、可動アーク電極21と固定アーク電極31との間にアーク放電Eが発生し、アーク放電Eを介して可動アーク電極21と固定アーク電極31との間に電流が流れる状態であるとする。
開極動作中では、固定ピストン42のピストンヘッド42hの位置は変化せず、可動部2が紙面左から右へ移動するので、機械パッファ室Mpの容積は圧縮される。そのため、機械パッファ室Mpの内部の圧力は、機械パッファ室Mpの外部の圧力に比べ高くなり、逆止弁43は閉状態を維持する。すなわち、逆止弁43が閉状態で、機械パッファ室Mpの容積は圧縮される。
機械パッファ室Mpの容積は圧縮により、機械パッファ室Mp内の絶縁性ガスは、噴出口23pから噴出するガス流Smを生じ、ガス流Smは可動アーク電極21と絶縁ノズル25との間を経由し、アーク放電Eに吹き付けられる。さらに、ガス流Smは、可動部2が停止するまで、アーク放電Eに吹き付けられる。ガス流Smが、アーク放電Eを構成する絶縁性ガスのイオンと電子とを吹き飛ばすことにより、アーク放電Eは消弧する。すなわち、ガス絶縁開閉機器100により電流遮断が遂行される。
絶縁性ガスにCO2ガスを用いる場合、電極間に発生するアーク放電によりCO2ガスは分解され、微粒子状のカーボンPcが発生する。カーボンPcは、ガス流Smにより吹き飛ばされ、タンク1の内部1nの部位に付着する。また、カーボンPcは、他の内部1nの部位に比べガス流Smの直撃を受ける固定部3に多く付着する。なお、図5に示すカーボンPcは、この発明の効果を説明するため、ガス絶縁開閉機器100の部位に比べ大きく表示している。
前述したように、図5はガス絶縁開閉機器100の開極動作完了後の開状態を示し、閉極動作の前と同様な状態である。
図6を参照して、閉極動作中のガス絶縁開閉機器100の状態を説明する。
ガス絶縁開閉機器100が閉極動作を実行する場合、可動アーク電極21と固定アーク電極31とが開離した開状態から、可動部2が紙面の左方向へ移動し、可動アーク電極21と固定アーク電極31とが篏合し閉状態に移行する。
このとき、固定ピストン42のピストンヘッド42hの位置は変化せず、可動部2が紙面右から左へ移動するので、機械パッファ室Mpの容積は伸張される。このため、機械パッファ室Mpの内部の圧力は、機械パッファ室Mpの外部の圧力に比べ低くなるので、逆止弁43は開状態になり、絶縁性ガスのガス流Stを生じる。
ガス流Stは、支持筒41の外側からフィルタ41fと第2吸気口41pとを通り、さらに、第1吸気口42pを経由し、機械パッファ室Mpの内部に流れ込む。また、ガス流Stが生じることにより、可動アーク電極21と絶縁ノズル25との間および噴出口23pを経由し機械パッファ室Mpの内部に流れ込むガス流Srを低減することができる。
可動部2が停止するので、機械パッファ室Mpの内部と機械パッファ室Mpの外部とは同じ圧力になる。よって、逆止弁43は閉状態になり、ガス流Stは消滅する。
ガス流Stにより、タンク1の内部1nの部位に付着したカーボンPcが、内部1nに拡散した場合でも、フィルタ41fのろ過性能を、カーボンPcの粒径に応じて設定しておけば、第2吸気口41pを経由し機械パッファ室Mpへ侵入するカーボンPcの量を低減することができる。
なお、図7中のフィルタ41f上のカーボンPcは、フィルタ41fによりろ過され、フィルタ41f内に残留するカーボンPcを模式化したものである。
また、固定部3に付着したカーボンPcが、機械パッファ室Mpの内部に侵入することも抑制できるので、開極動作中に、カーボンPcがガス流Smにより拡散され、絶縁ノズル25等の絶縁性の部品に付着することを抑制することができる。
実施の形態1では、支持筒41の壁面に第2吸気口41pが形成され、さらに、第2吸気口41pを覆うように、フィルタ41fが配置されることを説明した。
本実施の形態2では、フィルタ41gを、支持筒41と固定ピストン42との間の空間に配置する形態を説明する。
図中の図1~図7と同一記号および同一符号は、実施の形態1と同様あるいは同等品であるので、詳細な説明は省略する。
また、ガス絶縁開閉機器101の開極動作および閉極動作は、ガス絶縁開閉機器100と同様であるので、詳細な説明は省略する。
なお、フィルタ41gは、特許請求の範囲に記載の第2のフィルタの例示である。
この空間Taの内部に滞留したカーボンPcは、再度の閉極動作時にガス流Stにより拡散した場合でも、フィルタ41gの開口面積に比べ第2吸気口41pの開口面積が小さいために、第2吸気口41pから流出する可能性は低い。この滞留したカーボンPcは、フィルタ41gによりろ過されるか、あるいは支持筒41の壁面に再度吸着する。すなわち、ガス絶縁開閉機器101は、カーボンPcをフィルタ41gによりろ過する効果に加え、カーボンPcを空間Taの内部に蓄積する効果を備える。
なお、実施の形態1のフィルタ41fと同様に、フィルタ41gのろ過性能を、カーボンPcの粒径に応じて設定しておけば、第2吸気口41pを経由し機械パッファ室Mpへ侵入するカーボンPcの量を低減することができる。
すなわち、本実施の形態2では、実施の形態1の効果に加え、カーボンPcを空間Taの内部に蓄積する効果を備える。よって、開極動作および閉極動作を繰り返しても絶縁性の部品へのカーボンPcの付着を抑制し、高い電気絶縁性を維持する信頼性の高いガス絶縁開閉機器を提供することができる。
実施の形態1では、支持筒41の壁面に第2吸気口41pが形成され、さらに、第2吸気口41pを覆うように、フィルタ41fが配置されることを説明した。また、実施の形態2では、フィルタ41gを、支持筒41と固定ピストン42との間の空間に配置する形態を説明した。
本実施の形態3では、ガス絶縁開閉機器100の絶縁ノズル25に代わり、アブレーション性材料26aを有する絶縁ノズル26を配置する形態を説明する。
図中の図1~図7と同一記号および同一符号は、実施の形態1と同様あるいは同等品であるので、詳細な説明は省略する。
また、ガス絶縁開閉機器102の開極動作および閉極動作は、ガス絶縁開閉機器100と同様であるので、詳細な説明は省略する。
図9を参照して、前述したようにガス絶縁開閉機器102は、絶縁ノズル25に代わり絶縁ノズル26を配置する以外は、ガス絶縁開閉機器100と同様あるいは同等品であり、絶縁ノズル26のアーク放電Eに晒される部位に、アブレーション性材料26aを有する。
さらに、アブレーション性材料26aには、パーフルオロエーテル系重合体、フッ素エラストマー、および4-ビニルオキシ-1-ブテン(BVE)環化重合体からなる群より選ばれた少なくとも1種の化合物を用いることができる。
ガス流Shにより、アーク放電Eを構成する絶縁性ガスのイオンと電子とは、吹き飛ばされ、アーク放電Eは消弧する。また、ガス流Shは、絶縁ノズル26の表面上を流れるので、カーボンPcは、ガス流Shにより絶縁ノズル26の表面に付着することなく、固定アーク電極31の方向へ押し流される。なお、図中のカーボンPcは、押し流されるカーボンPcを模式化したもので、この発明の効果を説明するため、ガス絶縁開閉機器102の部位に比べ大きく表示している。
実施の形態3では、ガス絶縁開閉機器100の絶縁ノズル25に代わり、アブレーション性材料26aを有する絶縁ノズル26を配置する形態を説明した。
本実施の形態4では、ガス絶縁開閉機器100の絶縁ノズル25に代わり、開極動作時に酸素(O)を発生する絶縁ノズル27を配置する形態を説明する。
図中の図1~図7と同一記号および同一符号は、実施の形態1と同様あるいは同等品であるので、詳細な説明は省略する。
また、ガス絶縁開閉機器103の開極動作および閉極動作は、ガス絶縁開閉機器100と同様であるので、詳細な説明は省略する。
図10を参照して、前述したようにガス絶縁開閉機器103は、絶縁ノズル25に代わり絶縁ノズル27を配置する以外は、ガス絶縁開閉機器100と同様あるいは同等品である。
り、各実施の形態を適宜変更、省略することが可能である。
例えば、実施の形態2に示すガス絶縁開閉機器101に、実施の形態3に示すアブレーション性材料26aを有する絶縁ノズル26を配置しても良い。また、実施の形態2に示すガス絶縁開閉機器101に、実施の形態4に示す酸素を放出する絶縁ノズル27を配置しても良い。さらには、実施の形態4に示す酸素を放出する絶縁ノズル27にアブレーション性材料26aを有しても良い。
例えば、パッファシリンダ24の筒面上に、機械パッファ室Mpの内部と機械パッファ室Mpの外部が直接通じる吸気口を配置し、さらに逆止弁を配置しても良く、この場合、第2吸気口41pを配置する必要はない。なお、パッファシリンダ24の筒面とは、機械パッファ室Mpの内部と機械パッファ室Mpの外部を仕切る部位である。
なお、この場合の吸気口は、特許請求の範囲に記載の第1の吸気口の例示である。
さらに、実施の形態1~4において、逆止弁を例示したが、ガス絶縁開閉機器(100~103)の開極動作時に閉状態になり、かつガス絶縁開閉機器(100~103)の閉極動作時に開状態になる機構であるならば、逆止弁でなくても良い。例えば、逆止弁の代わりに電磁弁を配置し、この電磁弁をガス絶縁開閉機器(100~103)の開極動作時に閉状態になり、ガス絶縁開閉機器(100~103)の閉極動作時に開状態になるように上位の制御装置で制御しても良い。
例えば、タンク1の内壁と支持筒41との間にフィルタを配置し、第2吸気口41pにガス流Smが流入する前に、ガス流Smをろ過しても良い。さらに、この場合、フィルタの一端側が設置されるタンク1の内壁と接触し、フィルタのもう一端側に電圧が印加される支持筒41に接触するので、フィルタの配置位置においてタンク1の内壁と支持筒41とを電気的に絶縁する必要がある。
なお、この場合のフィルタは、特許請求の範囲に記載の第1のフィルタの例示である。フィルタ41fおよびフィルタ41gと同様に、この第1のフィルタのろ過性能を、カーボンPcの粒径に応じて設定しておけば、機械パッファ室Mpへ侵入するカーボンPcの量を低減することができる。
第2吸気口41pとカーボンPcが比較的大量に付着する固定部3との距離は、固定部3と絶縁ノズル(25、26、27)との距離に比べ遠い。このため、固定部3から、第2吸気口41pを経由し機械パッファ室Mpに流入するカーボンPc量は、従来のガス絶縁開閉機器に比べ少なくなり、絶縁ノズル(25、26、27)に付着するカーボンPcも低減することができる。
Claims (8)
- 絶縁性ガスが充填されるタンク内に、
導電性の固定電極と、
前記固定電極の軸線上を稼動し前記固定電極と接離可能な可動電極と、
前記可動電極と連動し前記軸線を取り囲む可動側筐体と、
前記可動側筐体を支持する支持筒と、
前記可動側筐体とで機械パッファ室を形成するピストンと、
前記機械パッファ室の前記絶縁性ガスを噴出する噴出口と、
前記機械パッファ室へ前記絶縁性ガスを吸気する第1の吸気口と、
前記支持筒の内側と外側とを通じる第2の吸気口と、
前記第2の吸気口から吸気する前記絶縁性ガスをろ過するフィルタとを備え、
前記固定電極と前記可動電極とが離れた状態から前記固定電極と前記可動電極とが接続する状態に変化するときに、前記フィルタでろ過された前記絶縁性ガスを前記第1の吸気口から吸気し、
前記固定電極と前記可動電極とが接続した状態から前記固定電極と前記可動電極とが離れる状態に変化するときに、前記噴出口から吸気された前記絶縁性ガスを噴出することを特徴とするガス絶縁開閉機器。 - 前記フィルタは、前記絶縁性ガス中に含まれる1μmから500μmの粒径の異物の内、予め設定された粒径以上の異物を除去し、前記絶縁性ガスをろ過することを特徴とする請求項1に記載のガス絶縁開閉機器。
- 前記可動側筐体の筒面上に前記第1の吸気口を備えることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のガス絶縁開閉機器。
- 前記可動電極と連動し前記可動電極を取り囲む絶縁物で構成された絶縁性ノズルを備え、
前記絶縁性ノズルは、アブレーション性材料を有することを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載のガス絶縁開閉機器。 - 前記可動電極と連動し前記可動電極を取り囲む絶縁物で構成された絶縁性ノズルを備え、
前記絶縁性ノズルは、酸素を分子構造に含む酸素含有添加材が混合されていることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載のガス絶縁開閉機器。 - 前記アブレーション性材料は、ポリテトラフルオロエチレンあるいはパーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体であることを特徴とする請求項4に記載のガス絶縁開閉機器。
- 前記アブレーション性材料は、パーフルオロエーテル系重合体、フッ素エラストマー、および4-ビニルオキシ-1-ブテン(BVE)環化重合体からなる群より選ばれた少なくとも1種の化合物であることを特徴とする請求項4に記載のガス絶縁開閉機器。
- 前記酸素含有添加材は、酸化ホウ素、酸化カルシウム、酸化ケイ素、酸化ベリリウム、酸化タンタル、および酸化ニオブのうちで少なくとも1種の化合物であることを特徴とする請求項5に記載のガス絶縁開閉機器。
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