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JP6981938B2 - Additive curable silicone compositions and semiconductor devices - Google Patents

Additive curable silicone compositions and semiconductor devices Download PDF

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JP6981938B2
JP6981938B2 JP2018159078A JP2018159078A JP6981938B2 JP 6981938 B2 JP6981938 B2 JP 6981938B2 JP 2018159078 A JP2018159078 A JP 2018159078A JP 2018159078 A JP2018159078 A JP 2018159078A JP 6981938 B2 JP6981938 B2 JP 6981938B2
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curable silicone
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sio
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利之 小材
真司 木村
中 小林
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Shin Etsu Chemical Co Ltd
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Shin Etsu Chemical Co Ltd
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Description

本発明は、付加硬化型シリコーン組成物、及び該組成物の硬化物により半導体素子が被覆された半導体装置に関する。 The present invention relates to an addition-curable silicone composition and a semiconductor device in which a semiconductor element is coated with a cured product of the composition.

ヒドロシリル化反応により硬化する付加硬化型シリコーン組成物は、フォトカプラー、発光ダイオード、固体撮像素子等の光学用半導体装置における半導体素子の保護コーティング剤として使用されている。このような半導体素子の保護コーティング剤は、半導体素子から発生する熱や光により、硬さや透明性が変化する場合がある。この変化を抑えるために、従来はQ単位(SiO)を分子内に導入したり(特許文献1〜4)、更にソフトセグメントを組成中に導入する事で対応してきた(特許文献5)。しかしながら、このような対応方法では恒久的な材料の硬さ変化に対応する事は出来なかった。また周辺素子が熱に弱い樹脂を使用するため、20〜80℃等低い温度で硬化させる場合に、一般的には硬化触媒を増量して対応するため、経済的ではないという欠点があった。 The addition-curable silicone composition that is cured by a hydrosilylation reaction is used as a protective coating agent for semiconductor devices in optical semiconductor devices such as photocouplers, light emitting diodes, and solid-state image pickup devices. The hardness and transparency of such a protective coating agent for a semiconductor element may change due to heat or light generated from the semiconductor element. In order to suppress this change, conventionally, Q units (SiO 2 ) have been introduced into the molecule (Patent Documents 1 to 4), and soft segments have been introduced into the composition (Patent Document 5). However, such a method cannot cope with a permanent change in the hardness of the material. Further, since the peripheral element uses a heat-sensitive resin, there is a drawback that it is not economical because the amount of the curing catalyst is generally increased when curing at a low temperature such as 20 to 80 ° C.

特開平7−252419号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 7-252419 特開2011−252175号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2011-252175 特開2013−067683号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2013-067683 特開2009−052038号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2009-052038 特開2007−63538号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2007-63538

本発明は、上記事情に鑑みなされたもので、硬化が速く、光透過率が高く、高温耐久性に優れる硬化物を与える付加硬化型シリコーン組成物、及びこれを用いた半導体装置を提供する事を目的とする。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and provides an addition-curable silicone composition that provides a cured product having fast curing, high light transmittance, and excellent high-temperature durability, and a semiconductor device using the same. With the goal.

上記課題を解決するために、本発明では、
付加硬化型シリコーン組成物であって、
(A)下記平均単位式(1)で表されるオルガノポリシロキサン、
[O{(3−k)/2)}Si(R−R−(RSiO{(3−k)/2)}(R SiO1/2(X1/2 ・・・(1)
(式中、Rは同一又は異なっていても良い、置換又は非置換の一価炭化水素基であり、全Rのうち0.1〜50%はアルケニル基である。Rは置換又は非置換の二価炭化水素基であり、kは同一又は異なっていても良い0,1,2の整数、Xは水素原子又はアルキル基である。a、b、cは0.1≦a≦1、0≦b≦0.75、0≦c≦0.1、かつa+b+c=1を満たす数である。)
(B)下記平均組成式(2)で表される、1分子中に少なくとも2個のSi−H結合を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン:前記(A)成分100質量部に対して1〜200質量部、
SiO[(4−d−e)/2] ・・・(2)
(式中、Rは脂肪族不飽和炭化水素基を除く、同一又は異なっていても良い、置換又は非置換の一価炭化水素基である。d、eは0.7≦d≦2.1、0.01≦e≦1.0、かつ0.8≦d+e≦2.7を満たす正数である。)
及び、
(C)ヒドロシリル化反応触媒:組成物全体に対して、金属原子の質量換算で0.01〜500ppmとなる量
を含有するものであることを特徴とする付加硬化型シリコーン組成物を提供する。
In order to solve the above problems, in the present invention,
Additive-curing silicone composition
(A) Organopolysiloxane represented by the following average unit formula (1),
[O {(3-k) / 2)} Si (R 1 ) k −R 2 − (R 1 ) k SiO {(3-k) / 2)} ] a (R 1 3 SiO 1/2 ) b (X 1 O 1/2 ) c ... (1)
(In the formula, R 1 is a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group which may be the same or different, and 0.1 to 50% of all R 1 is an alkenyl group. R 2 is a substituted or substituted group. It is an unsubstituted divalent hydrocarbon group, k is an integer of 0, 1, 2 which may be the same or different, X 1 is a hydrogen atom or an alkyl group. A, b, c are 0.1 ≦ a. ≦ 1, 0 ≦ b ≦ 0.75, 0 ≦ c ≦ 0.1, and a + b + c = 1).
(B) Organohydrogenpolysiloxane having at least two Si—H bonds in one molecule represented by the following average composition formula (2): 1 to 200 mass with respect to 100 parts by mass of the component (A). Department,
R 3 d He e SiO [(4-d-e) / 2] ... (2)
(In the formula, R 3 is a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group excluding the aliphatic unsaturated hydrocarbon group, which may be the same or different. D and e are 0.7 ≦ d ≦ 2. It is a positive number that satisfies 1, 0.01 ≦ e ≦ 1.0 and 0.8 ≦ d + e ≦ 2.7.)
as well as,
(C) Hydrosilylation Reaction Catalyst: Provided is an addition-curable silicone composition characterized by containing an amount of 0.01 to 500 ppm in terms of mass of metal atoms with respect to the entire composition.

このような本発明の付加硬化型シリコーン組成物からなる硬化物であれば、硬化が速く、光透過率が高く、高温耐久性に優れるため、光反射材料、例えば、発光装置用、特に発光ダイオード用の封止材料として有用である。 A cured product made of such an addition-curable silicone composition of the present invention cures quickly, has high light transmittance, and has excellent high-temperature durability. Therefore, it is a light-reflecting material, for example, for a light emitting device, particularly a light emitting diode. It is useful as a sealing material for.

また、前記(A)成分において、前記平均単位式(1)中のRの二価炭化水素基の炭素原子数が2〜8であることが好ましい。 Further, in the component (A), the number of carbon atoms of the divalent hydrocarbon group R 2 in said average unit formula (1) is preferably 2 to 8.

このようなものであれば、耐熱性に優れた有機基を含むため、より耐熱性に優れた硬化物を与えることができるものとなる。 In such a case, since it contains an organic group having excellent heat resistance, it is possible to give a cured product having more excellent heat resistance.

また、前記(A)成分において、前記平均単位式(1)中のRのうち、メチル基の含有率が20モル%以上であることが好ましい。 Further, in the component (A), of R 1 in said average unit formula (1), it is preferable that the content of methyl groups is 20 mol% or more.

このようなものであれば、より安定した耐熱性を有する硬化物を与えることができるものとなる。 If it is such a thing, it is possible to give a cured product having more stable heat resistance.

また、前記(A)成分において、前記平均単位式(1)中のa、b、及び、cは、(b+c)/aが0.4〜4であることが好ましい。 Further, in the component (A), a, b, and c in the average unit formula (1) preferably have (b + c) / a of 0.4 to 4.

このようなものであれば、(A)成分として好適に用いることができる。 If it is such a thing, it can be suitably used as the component (A).

また、本発明は、前記(A)成分において、前記平均単位式(1)中のcが0であるとすることができる。 Further, in the present invention, in the component (A), c in the average unit formula (1) can be set to 0.

このようなものも、(A)成分として好適に用いることができる。 Such a substance can also be suitably used as the component (A).

さらに、本発明は、上記付加硬化型シリコーン組成物の硬化物により半導体素子が被覆されたものであることを特徴とする半導体装置を提供する。 Further, the present invention provides a semiconductor device characterized in that a semiconductor element is coated with a cured product of the addition-curable silicone composition.

このような半導体装置であれば、上記のように硬化が速く、光透過率が高く、高温耐久性に優れる硬化物からなるため、信頼性に優れた半導体装置となる。 Such a semiconductor device is a semiconductor device having excellent reliability because it is made of a cured product having high curing speed, high light transmittance, and excellent high temperature durability as described above.

本発明の付加硬化型シリコーン組成物からなる硬化物は、硬化が速く、光透過率が高く、高温耐久性に優れるため、光反射材料、例えば、発光装置用、特に発光ダイオード用の封止材料として有用である。 The cured product made of the addition-curable silicone composition of the present invention cures quickly, has high light transmittance, and has excellent high-temperature durability. It is useful as.

本発明の半導体装置の一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of the semiconductor device of this invention.

本発明者らは、上記課題について鋭意検討を重ねた結果、特定の構造を有するオルガノポリシロキサンを含有する付加硬化型シリコーン組成物が、硬化性、透明性、耐熱性に優れる硬化物を与えることを見出し、本発明を完成させた。 As a result of diligent studies on the above problems, the present inventors have found that an addition-curable silicone composition containing an organopolysiloxane having a specific structure provides a cured product having excellent curability, transparency, and heat resistance. And completed the present invention.

即ち、本発明は、
付加硬化型シリコーン組成物であって、
(A)下記平均単位式(1)で表されるオルガノポリシロキサン、
[O{(3−k)/2)}Si(R−R−(RSiO{(3−k)/2)}(R SiO1/2(X1/2 ・・・(1)
(式中、Rは同一又は異なっていても良い、置換又は非置換の一価炭化水素基であり、全Rのうち0.1〜50%はアルケニル基である。Rは置換又は非置換の二価炭化水素基であり、kは同一又は異なっていても良い0,1,2の整数、Xは水素原子又はアルキル基である。a、b、cは0.1≦a≦1、0≦b≦0.75、0≦c≦0.1、かつa+b+c=1を満たす数である。)
(B)下記平均組成式(2)で表される、1分子中に少なくとも2個のSi−H結合を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン:前記(A)成分100質量部に対して1〜200質量部、
SiO[(4−d−e)/2] ・・・(2)
(式中、Rは脂肪族不飽和炭化水素基を除く、同一又は異なっていても良い、置換又は非置換の一価炭化水素基である。d、eは0.7≦d≦2.1、0.01≦e≦1.0、かつ0.8≦d+e≦2.7を満たす正数である。)
及び、
(C)ヒドロシリル化反応触媒:組成物全体に対して、金属原子の質量換算で0.01〜500ppmとなる量
を含有する付加硬化型シリコーン組成物である。
That is, the present invention
Additive-curing silicone composition
(A) Organopolysiloxane represented by the following average unit formula (1),
[O {(3-k) / 2)} Si (R 1 ) k −R 2 − (R 1 ) k SiO {(3-k) / 2)} ] a (R 1 3 SiO 1/2 ) b (X 1 O 1/2 ) c ... (1)
(In the formula, R 1 is a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group which may be the same or different, and 0.1 to 50% of all R 1 is an alkenyl group. R 2 is a substituted or substituted group. It is an unsubstituted divalent hydrocarbon group, k is an integer of 0, 1, 2 which may be the same or different, X 1 is a hydrogen atom or an alkyl group. A, b, c are 0.1 ≦ a. ≦ 1, 0 ≦ b ≦ 0.75, 0 ≦ c ≦ 0.1, and a + b + c = 1).
(B) Organohydrogenpolysiloxane having at least two Si—H bonds in one molecule represented by the following average composition formula (2): 1 to 200 mass with respect to 100 parts by mass of the component (A). Department,
R 3 d He e SiO [(4-d-e) / 2] ... (2)
(In the formula, R 3 is a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group excluding the aliphatic unsaturated hydrocarbon group, which may be the same or different. D and e are 0.7 ≦ d ≦ 2. It is a positive number that satisfies 1, 0.01 ≦ e ≦ 1.0 and 0.8 ≦ d + e ≦ 2.7.)
as well as,
(C) Hydrosilylation reaction catalyst: An addition-curable silicone composition containing an amount of 0.01 to 500 ppm in terms of mass of metal atoms with respect to the entire composition.

以下、本発明について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、本明細書において、粘度は回転粘度計により測定した値である。 Hereinafter, the present invention will be described in detail, but the present invention is not limited thereto. In this specification, the viscosity is a value measured by a rotational viscometer.

<付加硬化型シリコーン組成物>
本発明の付加硬化型シリコーン組成物は、下記の(A)〜(C)成分を含有してなる。以下、各成分について詳細に説明する。
<Additional curable silicone composition>
The addition-curable silicone composition of the present invention contains the following components (A) to (C). Hereinafter, each component will be described in detail.

[(A)成分]
(A)成分は、下記平均単位式(1)で表されるオルガノポリシロキサンである。
[O{(3−k)/2)}Si(R−R−(RSiO{(3−k)/2)}(R SiO1/2(X1/2 ・・・(1)
(式中、Rは同一又は異なっていても良い、置換又は非置換の一価炭化水素基であり、全Rのうち0.1〜50%はアルケニル基である。Rは置換又は非置換の二価炭化水素基であり、kは同一又は異なっていても良い0,1,2の整数、Xは水素原子又はアルキル基である。a、b、cは0.1≦a≦1、0≦b≦0.75、0≦c≦0.1、かつa+b+c=1を満たす数である。)
[(A) component]
The component (A) is an organopolysiloxane represented by the following average unit formula (1).
[O {(3-k) / 2)} Si (R 1 ) k −R 2 − (R 1 ) k SiO {(3-k) / 2)} ] a (R 1 3 SiO 1/2 ) b (X 1 O 1/2 ) c ... (1)
(In the formula, R 1 is a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group which may be the same or different, and 0.1 to 50% of all R 1 is an alkenyl group. R 2 is a substituted or substituted group. It is an unsubstituted divalent hydrocarbon group, k is an integer of 0, 1, 2 which may be the same or different, X 1 is a hydrogen atom or an alkyl group. A, b, c are 0.1 ≦ a. ≦ 1, 0 ≦ b ≦ 0.75, 0 ≦ c ≦ 0.1, and a + b + c = 1).

中のアルケニル基として、好ましくは、ビニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基が例示され、ビニル基であることが特に好ましい。Rのうち、アルケニル基の含有率は、0.1〜50モル%、好ましくは0.1〜30モル%、特に好ましくは0.3〜20モル%である。0.1モル%未満では、組成物の硬化性が不十分となり、50モル%を超えると硬化物が脆くなる。 Examples of the alkenyl group in R 1 are preferably a vinyl group, an allyl group, a butenyl group, a pentenyl group and a hexenyl group, and a vinyl group is particularly preferable. The content of the alkenyl group in R 1 is 0.1 to 50 mol%, preferably 0.1 to 30 mol%, and particularly preferably 0.3 to 20 mol%. If it is less than 0.1 mol%, the curability of the composition becomes insufficient, and if it exceeds 50 mol%, the cured product becomes brittle.

また、R中のアルケニル基以外のケイ素原子結合有機基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基等のアルキル基;フェニル基、ナフチル基等のアリール基;ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基;クロロメチル基、3−クロロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基等のハロゲン化アルキル置換又は非置換の一価炭化水素基が例示され、中でも耐熱性の面からメチル基が最も好ましい。Rのうち、これらのアルケニル基以外のケイ素原子結合有機基の含有率として20モル%以上であれば、安定した耐熱性を付与できるため好ましく、より好ましくは40モル%以上である。 Examples of the silicon atom-bonded organic group other than the alkenyl group in R 1 include alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group and heptyl group; phenyl group, naphthyl group and the like. Alaryl groups such as benzyl group and phenethyl group; alkyl halide-substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon groups such as chloromethyl group, 3-chloropropyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group are exemplified. Of these, the methyl group is most preferable from the viewpoint of heat resistance. When the content of the silicon atom-bonded organic group other than these alkenyl groups in R 1 is 20 mol% or more, it is preferable because stable heat resistance can be imparted, and more preferably 40 mol% or more.

は置換又は非置換の二価炭化水素基であり、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンテン基、ヘキセン基等の炭素数が2〜8のアルキレン基の場合が耐熱性に優れているため好ましく、エチレン基であることが特に好ましい。 R 2 is a substituted or unsubstituted divalent hydrocarbon group, an ethylene group, a propylene group, a butylene group, pentene group, when the alkylene group is 2 to 8 carbon atoms, such as hexene group is excellent in heat resistance Therefore, it is preferable, and it is particularly preferable that it is an ethylene group.

は水素原子又はアルキル基であり、このアルキル基としては、Rとして例示したものと同様の基が挙げられ、特に、メチル基又はエチル基であることが好ましい。 X 1 is a hydrogen atom or an alkyl group, and examples of the alkyl group include the same groups as those exemplified as R 1 , and a methyl group or an ethyl group is particularly preferable.

aは0.1〜1であり、bは0〜0.75であり、cは0〜0.1であり、a+b+cは1である。a、b及びcが上記範囲外であると、得られる硬化物の硬さ及び/又は強度が不十分となる。 a is 0.1 to 1, b is 0 to 0.75, c is 0 to 0.1, and a + b + c is 1. If a, b and c are out of the above range, the hardness and / or strength of the obtained cured product will be insufficient.

aは好ましくは0.15〜0.9、特に好ましくは0.2〜0.8であり、bは好ましくは0〜0.5、特に好ましくは0〜0.4であり、cは好ましくは0〜0.05である。 a is preferably 0.15 to 0.9, particularly preferably 0.2 to 0.8, b is preferably 0 to 0.5, particularly preferably 0 to 0.4, and c is preferably. It is 0 to 0.05.

a、b、及び、cは、(b+c)/aが0.4〜4であることが好ましい。(b+c)/aがこのような範囲内であれば、(A)成分として好適に用いることができる。 For a, b, and c, (b + c) / a is preferably 0.4 to 4. If (b + c) / a is within such a range, it can be suitably used as the component (A).

また、cは0であるとすることができる。cが0であっても、(A)成分として好適に用いることができる。 Further, c can be set to 0. Even if c is 0, it can be suitably used as the component (A).

(A)成分の分子量は限定されないが、THF溶媒を用いたゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)測定による標準ポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)が500〜20,000であることが好ましく、より好ましくは700〜15,000、特に好ましくは、1,000〜10,000である。 The molecular weight of the component (A) is not limited, but the weight average molecular weight (Mw) in terms of standard polystyrene as measured by gel permeation chromatography (GPC) using a THF solvent is preferably 500 to 20,000, more preferably. It is 700 to 15,000, particularly preferably 1,000 to 10,000.

[(B)成分]
(B)成分は下記平均組成式(2)で表されるオルガノハイドロジェンポリシロキサンである。
SiO[(4−d−e)/2] ・・・(2)
(式中、Rは脂肪族不飽和炭化水素基を除く、同一又は異なっていても良い、置換又は非置換の一価炭化水素基である。d,eは0.7≦d≦2.1、0.01≦e≦1.0、かつ0.8≦d+e≦2.7を満たす正数である。)
[(B) component]
The component (B) is an organohydrogenpolysiloxane represented by the following average composition formula (2).
R 3 d He e SiO [(4-d-e) / 2] ... (2)
(In the formula, R 3 is a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group excluding the aliphatic unsaturated hydrocarbon group, which may be the same or different. D and e are 0.7 ≦ d ≦ 2. It is a positive number that satisfies 1, 0.01 ≦ e ≦ 1.0 and 0.8 ≦ d + e ≦ 2.7.)

で表される一価炭化水素基は、炭素原子数が好ましくは1〜20、より好ましくは1〜10であり、このような炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、tert−ブチル基、ヘキシル基等のアルキル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基等の飽和炭化水素基、フェニル基、トリル基等のアリール基、ベンジル基、フェニルエチル基等のアラルキル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基等のハロゲン置換炭化水素基、シアノ置換炭化水素基等が挙げられ、メチル基であることが好ましい。 The monovalent hydrocarbon group represented by R 3 has preferably 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 10 carbon atoms, and examples of such a hydrocarbon group include a methyl group, an ethyl group, and a propyl group. Alkyl groups such as isopropyl group, butyl group, tert-butyl group and hexyl group, saturated hydrocarbon groups such as cycloalkyl group such as cyclohexyl group, aryl groups such as phenyl group and trill group, benzyl group, phenylethyl group and the like. Examples thereof include a halogen-substituted hydrocarbon group such as an aralkyl group, a 3,3,3-trifluoropropyl group, a cyano-substituted hydrocarbon group, and the like, and a methyl group is preferable.

(A)成分との相溶性及び硬化物の物性等の点から、ケイ素原子に結合した全RとH(水素原子)のうち20モル%以上がメチル基であるものが好ましく、50モル%以上がメチル基であるものがより好ましい。 From the viewpoint of physical properties such as compatibility and the cured product of the component (A) preferably has at least 20 mol% of all R 3 and H bonded to a silicon atom (hydrogen atom) is a methyl group, 50 mol% It is more preferable that the above is a methyl group.

(B)成分は、1分子中に少なくとも2個、好ましくは3個以上のSi−H結合(即ち、ケイ素原子に結合した水素原子)を有し、25℃での粘度が好ましくは0.5〜1,000mPa・sであり、1〜500mPa・sであることがより好ましい。 The component (B) has at least two, preferably three or more Si—H bonds (that is, hydrogen atoms bonded to silicon atoms) in one molecule, and the viscosity at 25 ° C. is preferably 0.5. It is ~ 1,000 mPa · s, more preferably 1 to 500 mPa · s.

(B)成分のシロキサン鎖の構造としては特に限定されるものではないが、好ましくは直鎖状又は環状のオルガノハイドロジェンポリシロキサンである。 The structure of the siloxane chain of the component (B) is not particularly limited, but is preferably a linear or cyclic organohydrogenpolysiloxane.

d、eは0.7≦d≦2.1、0.01≦e≦1.0、かつ0.8≦d+e≦2.7を満たす正数であり、d、eが上記範囲外であると、得られる硬化物の硬さ及び/又は強度が不十分となる。 d and e are positive numbers satisfying 0.7 ≦ d ≦ 2.1, 0.01 ≦ e ≦ 1.0 and 0.8 ≦ d + e ≦ 2.7, and d and e are outside the above range. Then, the hardness and / or strength of the obtained cured product becomes insufficient.

dは、好ましくは1.0≦d≦1.8、eは、好ましくは0.02≦e≦1.0、より好ましくは0.10≦e≦1.0、d+eは、好ましくは1.01≦d+e≦2.4、より好ましくは1.6≦d+e≦2.2を満たす正数である。 d is preferably 1.0 ≦ d ≦ 1.8, e is preferably 0.02 ≦ e ≦ 1.0, more preferably 0.10 ≦ e ≦ 1.0, and d + e is preferably 1. It is a positive number that satisfies 01 ≦ d + e ≦ 2.4, more preferably 1.6 ≦ d + e ≦ 2.2.

(B)成分の配合量は、(A)成分100質量部に対して1〜200質量部、好ましくは5〜80質量部であり、配合量が1質量部未満では、硬化性が不十分となり、200質量部を超えると十分な硬度及び/又は強度が得られない。 The blending amount of the component (B) is 1 to 200 parts by mass, preferably 5 to 80 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the component (A), and if the blending amount is less than 1 part by mass, the curability becomes insufficient. If it exceeds 200 parts by mass, sufficient hardness and / or strength cannot be obtained.

(B)成分は、(A)成分中のアルケニル基に対する(B)成分中のケイ素原子結合水素原子(即ち、SiH基)のモル比が0.5〜5モル/モル、特には1〜3モル/モルとなる量で配合することがより好ましい。 In the component (B), the molar ratio of the silicon atom-bonded hydrogen atom (that is, the SiH group) in the component (B) to the alkenyl group in the component (A) is 0.5 to 5 mol / mol, particularly 1 to 3. It is more preferable to mix in an amount of mol / mol.

[(C)成分]
(C)成分のヒドロシリル化反応触媒は、(A)成分中のアルケニル基と、(B)成分中のケイ素原子結合水素原子とのヒドロシリル化反応を促進するための触媒である。このような(C)成分としては、白金系触媒、ロジウム系触媒、パラジウム系触媒が例示され、本発明の組成物の硬化を著しく促進できることから白金系触媒であることが好ましい。この白金系触媒としては、白金微粉末、塩化白金酸、塩化白金酸のアルコール溶液、白金−アルケニルシロキサン錯体、白金−オレフィン錯体、白金−カルボニル錯体が例示され、特に、白金−アルケニルシロキサン錯体であることが好ましい。アルケニルシロキサンとしては、1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン、1,3,5,7−テトラメチル−1,3,5,7−テトラビニルシクロテトラシロキサン、これらのアルケニルシロキサンのメチル基の一部をエチル基、フェニル基等の基で置換したアルケニルシロキサン、これらのアルケニルシロキサンのビニル基をアリル基、ヘキセニル基等の基で置換したアルケニルシロキサンが例示される。特に、この白金−アルケニルシロキサン錯体の安定性が良好であることから、1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサンであることが好ましい。
[(C) component]
The hydrosilylation reaction catalyst of the component (C) is a catalyst for promoting the hydrosilylation reaction between the alkenyl group in the component (A) and the hydrogen atom bonded hydrogen atom in the component (B). Examples of such a component (C) include a platinum-based catalyst, a rhodium-based catalyst, and a palladium-based catalyst, and platinum-based catalysts are preferable because they can significantly accelerate the curing of the composition of the present invention. Examples of the platinum-based catalyst include platinum fine powder, platinum chloride acid, an alcohol solution of platinum chloride acid, a platinum-alkenylsiloxane complex, a platinum-olefin complex, and a platinum-carbonyl complex, and in particular, a platinum-alkenylsiloxane complex. Is preferable. Examples of the alkenylsiloxane include 1,3-divinyl-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane, 1,3,5,7-tetramethyl-1,3,5,7-tetravinylcyclotetrasiloxane, and these. Examples thereof include alkenylsiloxanes in which a part of the methyl group of the alkenylsiloxane is substituted with a group such as an ethyl group or a phenyl group, and an alkenylsiloxane in which the vinyl group of these alkenylsiloxanes is substituted with a group such as an allyl group or a hexenyl group. In particular, 1,3-divinyl-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane is preferable because the platinum-alkenylsiloxane complex has good stability.

また、この白金−アルケニルシロキサン錯体の安定性を向上させるために、1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン、1,3−ジアリル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン、1,3−ジビニル−1,3−ジメチル−1,3−ジフェニルジシロキサン、1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラフェニルジシロキサン、1,3,5,7−テトラメチル−1,3,5,7−テトラビニルシクロテトラシロキサン等のアルケニルシロキサンやジメチルシロキサンオリゴマー等のオルガノシロキサンオリゴマーを添加することが好ましく、特に、アルケニルシロキサンを添加することが好ましい。 Further, in order to improve the stability of this platinum-alkenylsiloxane complex, 1,3-divinyl-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane and 1,3-diallyl-1,1,3,3- Tetramethyldisiloxane, 1,3-divinyl-1,3-dimethyl-1,3-diphenyldisiloxane, 1,3-divinyl-1,1,3,3-tetraphenyldisiloxane, 1,3,5 It is preferable to add an alkenylsiloxane such as 7-tetramethyl-1,3,5,7-tetravinylcyclotetrasiloxane or an organosiloxane oligomer such as a dimethylsiloxane oligomer, and it is particularly preferable to add an alkenylsiloxane.

(C)成分の含有量は、本発明の組成物の硬化(ヒドロシリル化反応)を促進する量であればよいが、具体的には、組成物に対して、本成分中の金属原子の質量換算で0.01〜500ppmの範囲であり、0.05〜100ppmの範囲内となる量であることが好ましく、特には、0.01〜50ppmの範囲内となる量であることが好ましい。(C)成分の含有量が上記範囲外であると、組成物が十分に硬化しなかったり、得られる硬化物に金属起因の着色等の問題を生じるおそれがあると共に経済的でない。 The content of the component (C) may be any amount as long as it promotes the curing (hydrosilylation reaction) of the composition of the present invention, but specifically, the mass of the metal atom in the component with respect to the composition. In terms of conversion, the amount is in the range of 0.01 to 500 ppm, preferably in the range of 0.05 to 100 ppm, and particularly preferably in the range of 0.01 to 50 ppm. If the content of the component (C) is out of the above range, the composition may not be sufficiently cured, or the obtained cured product may have problems such as coloration due to metal, and it is not economical.

[任意成分]
本発明の組成物には、その他任意の成分として、エチニルシクロヘキサノール、2−メチル−3−ブチン−2−オール、3,5−ジメチル−1−ヘキシン−3−オール、2−フェニル−3−ブチン−2−オール等のアルキンアルコール;3−メチル−3−ペンテン−1−イン、3,5−ジメチル−3−ヘキセン−1−イン等のエンイン化合物;1,3,5,7−テトラメチル−1,3,5,7−テトラビニルシクロテトラシロキサン、1,3,5,7−テトラメチル−1,3,5,7−テトラヘキセニルシクロテトラシロキサン、ベンゾトリアゾール等の反応抑制剤を含有しても良い。この反応抑制剤の含有量は限定されないが、(A)成分と(B)成分の合計100質量部に対して0.0001〜5質量部の範囲内であることが好ましい。
[Arbitrary ingredient]
In the composition of the present invention, as other optional components, ethynylcyclohexanol, 2-methyl-3-butyne-2-ol, 3,5-dimethyl-1-hexin-3-ol, 2-phenyl-3-ol Alkyne alcohols such as butin-2-ol; enein compounds such as 3-methyl-3-pentene-1-in, 3,5-dimethyl-3-hexene-1-in; 1,3,5,7-tetramethyl Contains reaction inhibitors such as -1,3,5,7-tetravinylcyclotetrasiloxane, 1,3,5,7-tetramethyl-1,3,5,7-tetrahexenylcyclotetrasiloxane and benzotriazole. May be. The content of this reaction inhibitor is not limited, but is preferably in the range of 0.0001 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total of the component (A) and the component (B).

また、本発明の組成物には、その接着性を向上させるための接着付与剤を含有していても良い。この接着付与剤としては、ケイ素原子に結合したアルコキシ基を一分子中に少なくとも1個、好ましくは2個以上有する有機ケイ素化合物であることが好ましい。このアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、メトキシエトキシ基が例示され、特に、メトキシ基であることが好ましい。また、この有機ケイ素化合物のケイ素原子に結合するアルコキシ基以外の基としては、R等として例示した、前記アルキル基、前記アルケニル基、前記アリール基、前記アラルキル基、前記ハロゲン化アルキル基等の置換もしくは非置換の一価炭化水素基;3−グリシドキシプロピル基、4−グリシドキシブチル基等のグリシドキシアルキル基;2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチル基、3−(3,4−エポキシシクロヘキシル)プロピル基等のエポキシシクロヘキシルアルキル基;4−オキシラニルブチル基、8−オキシラニルオクチル基等のオキシラニルアルキル基等のエポキシ基含有一価有機基;3−メタクリロキシプロピル基等のアクリル基含有一価有機基;水素原子が例示される。具体的にはエポキシ基含有シランカップリング剤、(メタ)アクリル基含有シランカップリング剤等のシランカップリング剤やその部分加水分解縮合物(シランカップリング剤のオリゴマー)等が例示される。 Further, the composition of the present invention may contain an adhesive-imparting agent for improving the adhesiveness thereof. The adhesion-imparting agent is preferably an organosilicon compound having at least one, preferably two or more alkoxy groups bonded to a silicon atom in one molecule. Examples of this alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group, and a methoxyethoxy group, and a methoxy group is particularly preferable. As the groups other than alkoxy groups bonded to the silicon atom of the organosilicon compound, exemplified as R 1 and the like, the alkyl group, the alkenyl group, the aryl group, the aralkyl group, such as the halogenated alkyl group Substituent or unsubstituted monovalent hydrocarbon group; glycidoxyalkyl group such as 3-glycidoxypropyl group, 4-glycidoxybutyl group; 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl group, 3- ( 3,4-Epoxycyclohexyl) Epoxycyclohexylalkyl group such as propyl group; Epoxy group-containing monovalent organic group such as oxylanylalkyl group such as 4-oxylanylbutyl group and 8-oxylanyloctyl group; 3- Acrylic group-containing monovalent organic groups such as methacryloxypropyl groups; hydrogen atoms are exemplified. Specific examples thereof include a silane coupling agent such as an epoxy group-containing silane coupling agent and a (meth) acrylic group-containing silane coupling agent, and a partially hydrolyzed condensate thereof (oligomer of the silane coupling agent).

より具体的には、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン等のシラン化合物;一分子中にケイ素原子結合アルケニル基もしくはケイ素原子結合水素原子、及びケイ素原子結合アルコキシ基をそれぞれ少なくとも1個ずつ有するシロキサン化合物、ケイ素原子結合アルコキシ基を少なくとも1個有するシラン化合物又はシロキサン化合物と一分子中にケイ素原子結合ヒドロキシ基とケイ素原子結合アルケニル基をそれぞれ少なくとも1個ずつ有するシロキサン化合物との混合物、メチルポリシリケート、エチルポリシリケート、エポキシ基含有エチルポリシリケートが例示される。 More specifically, silane compounds such as 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 2- (3,4-epoxidecyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane; silicon atom in one molecule. Silicon atom-bonded hydroxy in one molecule with a siloxane compound having at least one bonded alkenyl group or silicon atom-bonded hydrogen atom and at least one silicon atom-bonded alkoxy group, and a silane compound or siloxane compound having at least one silicon atom-bonded alkoxy group. Examples thereof include a mixture of a siloxane compound having at least one group and at least one silicon atom-bonded alkenyl group, a methyl polysilicate, an ethyl polysilicate, and an epoxy group-containing ethyl polysilicate.

この接着付与剤は低粘度液状であることが好ましく、その粘度は限定されないが、25℃において1〜500mPa・sの範囲内であることが好ましい。 The adhesive is preferably a low-viscosity liquid, and its viscosity is not limited, but is preferably in the range of 1 to 500 mPa · s at 25 ° C.

また、上記組成物において、この接着付与剤の含有量は限定されないが、(A)成分100質量部に対して0.01〜10質量部であることが好ましい。 Further, in the above composition, the content of the adhesive is not limited, but is preferably 0.01 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the component (A).

また、本発明の組成物には、その他任意の成分として、シリカ、ガラス、アルミナ、酸化亜鉛等の無機質充填剤;ポリメタクリレート樹脂等の有機樹脂微粉末;耐熱剤、染料、顔料、難燃性付与剤、溶剤等を含有しても良い。 Further, in the composition of the present invention, as any other component, an inorganic filler such as silica, glass, alumina, zinc oxide; an organic resin fine powder such as a polymethacrylate resin; a heat resistant agent, a dye, a pigment, and flame retardancy. It may contain an imparting agent, a solvent and the like.

また、本発明の組成物は、硬化して、JISに規定の硬さがデュロメータAで10以上、特に30〜90である硬化物を形成するものが好ましい。 Further, the composition of the present invention is preferably cured to form a cured product having a hardness specified in JIS of 10 or more with a durometer A, particularly 30 to 90.

また、本発明の組成物は、組成物の硬化物により被覆された半導体素子を有する半導体装置に十分な信頼性を付与するため、硬化して得られる硬化物の可視光(589nm)における屈折率(25℃)が1.4以上であり、硬化物の光透過率(25℃)が80%以上であることが好ましい。 Further, the composition of the present invention has a refractive index in visible light (589 nm) of the cured product obtained by curing in order to impart sufficient reliability to the semiconductor device having the semiconductor element coated with the cured product of the composition. It is preferable that (25 ° C.) is 1.4 or more and the light transmittance (25 ° C.) of the cured product is 80% or more.

尚、この屈折率は、例えば、アッベ式屈折率計により測定することができる。この際、アッベ式屈折率計における光源の波長を変えることにより任意の波長における屈折率を測定することができる。また、この光透過率は、例えば、光路長2.0mmの硬化物を分光光度計により測定することにより求めることができる。 The refractive index can be measured by, for example, an Abbe type refractive index meter. At this time, the refractive index at an arbitrary wavelength can be measured by changing the wavelength of the light source in the Abbe type refractive index meter. Further, this light transmittance can be obtained, for example, by measuring a cured product having an optical path length of 2.0 mm with a spectrophotometer.

また、本発明の組成物を硬化して得られる硬化物の200nm〜250nmの波長における紫外線透過率(25℃)が10%以下であることが好ましい。これは、本発明の組成物の硬化物により半導体素子を被覆してなる半導体装置が、200nm〜250nmの短波長の紫外線を受けた場合に、その半導体装置を構成する材料の劣化を防止するためである。この紫外線透過率は、例えば、光路長2.0mmの硬化物を分光光度計により測定することにより求めることができる。 Further, it is preferable that the ultraviolet transmittance (25 ° C.) at a wavelength of 200 nm to 250 nm of the cured product obtained by curing the composition of the present invention is 10% or less. This is to prevent deterioration of the material constituting the semiconductor device when the semiconductor device having the semiconductor element coated with the cured product of the composition of the present invention receives ultraviolet rays having a short wavelength of 200 nm to 250 nm. Is. This ultraviolet transmittance can be obtained, for example, by measuring a cured product having an optical path length of 2.0 mm with a spectrophotometer.

本発明の組成物は、室温又は加熱により硬化が進行するが、迅速に硬化させるためには加熱することが好ましい。この加熱温度としては、50〜200℃の範囲内であることが好ましい。 Curing of the composition of the present invention proceeds at room temperature or by heating, but heating is preferable for rapid curing. The heating temperature is preferably in the range of 50 to 200 ° C.

本発明の組成物を硬化して得られる硬化物はエラストマー状、例えばゲル状、あるいは柔軟なゴム状から弾性を有する樹脂状まで得られる。このような本発明の組成物は、電気・電子用の接着剤、ポッティング剤、保護コーティング剤、アンダーフィル剤として使用することができ、特に、光透過率が高いことから、光学用途の半導体素子の接着剤、ポッティング剤、保護コーティング剤、アンダーフィル剤として好適である。 The cured product obtained by curing the composition of the present invention can be obtained in an elastomeric form, for example, a gel form, or a flexible rubber form to an elastic resin form. Such a composition of the present invention can be used as an adhesive for electric / electronic use, a potting agent, a protective coating agent, and an underfill agent. In particular, since it has a high light transmittance, it is a semiconductor device for optical applications. It is suitable as an adhesive, a potting agent, a protective coating agent, and an underfill agent.

上記のような付加硬化型シリコーン組成物からなる硬化物であれば、硬化が速く、光透過率が高く、高温耐久性に優れるため、光反射材料、例えば、発光装置用、特に発光ダイオード用の封止材料として有用である。 A cured product made of the addition-curable silicone composition as described above has a high curing rate, a high light transmittance, and excellent high-temperature durability. It is useful as a sealing material.

本発明では更に、このような本発明の付加硬化型シリコーン組成物を用いた半導体装置を提供する。 The present invention further provides a semiconductor device using such an addition-curable silicone composition of the present invention.

以下、図面を参照に、本発明の半導体装置について説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 Hereinafter, the semiconductor device of the present invention will be described with reference to the drawings, but the present invention is not limited thereto.

図1は、本発明の半導体装置の一例(この場合LED(発光ダイオード))を示す概略断面図である。 FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of the semiconductor device of the present invention (in this case, an LED (light emitting diode)).

本発明の半導体装置1は、銀メッキ基板2が形成されたパッケージ3上に、半導体チップ4がダイボンドされており、この半導体チップ4は、ボンディングワイヤ5によりワイヤボンディングされている。 In the semiconductor device 1 of the present invention, a semiconductor chip 4 is die-bonded on a package 3 on which a silver-plated substrate 2 is formed, and the semiconductor chip 4 is wire-bonded by a bonding wire 5.

そして、上述した本発明の付加硬化型シリコーン組成物の硬化物6により、半導体チップ4が被覆されている。 The semiconductor chip 4 is coated with the cured product 6 of the addition-curable silicone composition of the present invention described above.

半導体チップ4の被覆は、上述した本発明の付加硬化型シリコーン組成物6を塗布し、加熱により付加硬化型シリコーン組成物6を硬化させることにより行われる。またその他公知の硬化条件下で公知の硬化方法により硬化させてももちろん良い。 The coating of the semiconductor chip 4 is performed by applying the above-mentioned addition-curable silicone composition 6 of the present invention and curing the addition-curable silicone composition 6 by heating. Of course, it may be cured by a known curing method under other known curing conditions.

尚、この場合、外部応力の影響を受け難くし、又、ゴミ等の付着を極力抑えるという観点から、付加硬化型シリコーン組成物6は、硬化により、JISに規定の硬さがデュロメータAで30以上の硬化物を形成するものであることが好ましい。 In this case, from the viewpoint of making it less susceptible to the influence of external stress and suppressing the adhesion of dust and the like as much as possible, the addition-curable silicone composition 6 has a hardness specified in JIS of 30 by the durometer A by curing. It is preferable that the above cured product is formed.

本発明の付加硬化型シリコーン組成物は、光透過率が高く、基材に対する密着性が高く、耐クラック性に優れ、耐熱後の硬さ変化が小さい硬化物を形成するので、このような本発明の組成物を用いた本発明の半導体装置は、信頼性に優れたものとなり、ダイオード、LED等として特に好適である。 The addition-curable silicone composition of the present invention forms a cured product having high light transmittance, high adhesion to a substrate, excellent crack resistance, and a small change in hardness after heat resistance. The semiconductor device of the present invention using the composition of the present invention has excellent reliability and is particularly suitable as a diode, an LED, or the like.

以下、実施例と比較例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例等に制限されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to the following Examples and the like.

尚、実施例中の粘度は回転粘度計を用いて測定した25℃における値であり、重量平均分子量はTHF溶媒を用いたゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)により測定した標準ポリスチレン換算の値である。また、付加硬化型シリコーン組成物、及びその硬化物の特性は次のようにして評価し、結果を表1に示した。 The viscosity in the examples is a value at 25 ° C. measured using a rotational viscometer, and the weight average molecular weight is a value in terms of standard polystyrene measured by gel permeation chromatography (GPC) using a THF solvent. The characteristics of the addition-curable silicone composition and the cured product thereof were evaluated as follows, and the results are shown in Table 1.

[硬化性]
付加硬化型シリコーン組成物を、アルファテクノロジー社製レオメーターMDR2000を用いて120℃で30分間測定を行い、終了時と比較して10%のトルクに到達した時間をT10、90%トルクに到達した時間をT90として、材料が硬化状態に到達する速さを評価した。T10とT90の間の差が小さいほど硬化に達する時間が早い、すなわち硬化性が良好であることを示している。
[Curability]
The addition-curable silicone composition was measured at 120 ° C. for 30 minutes using a rheometer MDR2000 manufactured by Alpha Technology, and the time when the torque reached 10% compared to the end time reached T10 and 90% torque. With time as T90, the speed at which the material reached the cured state was evaluated. The smaller the difference between T10 and T90, the faster the time to reach curing, that is, the better the curing property.

[硬さ]
付加硬化型シリコーン組成物を、熱風循環式オーブンを用いて150℃の3時間加熱することにより硬化物を作製した。この硬化物の硬さを、デュロメータA硬度計を使用して測定した。
[Hardness]
A cured product was prepared by heating the addition-curable silicone composition at 150 ° C. for 3 hours using a hot air circulation oven. The hardness of this cured product was measured using a Durometer A hardness tester.

[光透過率]
付加硬化型シリコーン組成物を150℃の熱風循環式オーブンで3時間加熱することにより作製した硬化物(光路長2.0mm)の25℃における400nmの波長の光透過率を測定した。
[Light transmittance]
The light transmittance of a cured product (optical path length 2.0 mm) prepared by heating the addition-curable silicone composition in a hot air circulation oven at 150 ° C. at a wavelength of 400 nm at 25 ° C. was measured.

[耐クラック性]
図1のように作製して150℃×4時間の加熱で硬化したパッケージを、{−40℃(30分)、100℃(30分)}を1サイクルとする熱衝撃試験機の中に入れ、100サイクル経過後のパッケージを光学顕微鏡で観察し、硬化物にクラックが見られた場合を×、クラックが見られなかった場合を○、クラックの有無が明瞭でなかった場合を△とした。
[Crack resistance]
The package prepared as shown in FIG. 1 and cured by heating at 150 ° C. × 4 hours is placed in a thermal shock tester having {-40 ° C. (30 minutes), 100 ° C. (30 minutes)} as one cycle. The package after 100 cycles was observed with an optical microscope, and the case where cracks were found in the cured product was evaluated as x, the case where no cracks were observed was evaluated as ◯, and the case where the presence or absence of cracks was not clear was evaluated as Δ.

[耐熱性(透明性)]
上記の光透過率測定で用いた硬化物を、更に180℃の熱風循環式オーブンで500時間加熱後、25℃における400nmの波長の光透過率を測定し、加熱前の光透過率を100とした値に換算して評価した。
[Heat resistance (transparency)]
The cured product used in the above light transmittance measurement was further heated in a hot air circulation oven at 180 ° C. for 500 hours, and then the light transmittance at a wavelength of 400 nm at 25 ° C. was measured, and the light transmittance before heating was set to 100. It was evaluated by converting it into the value obtained.

[耐熱性(硬さ)]
上記硬さ測定で用いた硬化物を、更に180℃の熱風循環式オーブンで500時間加熱後、この硬化物の硬さを、デュロメータA硬度計を使用して測定し、加熱前の硬さを100とした値に換算して評価した。測定値が測定限界以上に達した場合、限界以上とした。
[Heat resistance (hardness)]
The cured product used in the above hardness measurement is further heated in a hot air circulation oven at 180 ° C. for 500 hours, and then the hardness of the cured product is measured using a durometer A hardness meter to determine the hardness before heating. It was evaluated by converting it to a value of 100. When the measured value reached the measurement limit or more, it was considered to be above the limit.

[実施例1]
下記平均単位式(I)で表される分岐鎖状オルガノポリシロキサン{性状=固体状(25℃)、ケイ素原子結合全有機基中のケイ素原子結合ビニル基の含有率=3.9モル%、ケイ素原子結合全有機基中のケイ素原子結合メチル基の含有率=78モル%、重量平均分子量=3,000}50質量部、分子鎖末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン(粘度5,000mPa・s、ケイ素原子結合ビニル基の含有率=0.6モル%)50質量部、下記式(II)で表されるオルガノハイドロジェンポリシロキサン(粘度5,000mPa・s)5.0質量部、白金の1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン錯体を組成物全体に対して白金金属の質量換算で20ppmとなる量、反応抑制剤としてエチニルシクロヘキサノール0.1質量部、接着付与剤として下記構造式(III)で表される化合物0.5質量部を混合して、粘度3,500mPa・sである付加硬化型シリコーン組成物を調製した。
(O3/2Si−C−(CH)SiO)0.45((CH=CH)(CHSiO1/20.1((CHSiO1/20.45 (I)
(CHSiO((H)(CH)SiO)10Si(CH (II)

Figure 0006981938
[Example 1]
Branched chain organopolysiloxane represented by the following average unit formula (I) {property = solid state (25 ° C.), content of silicon atom-bonded vinyl group in all silicon atom-bonded organic groups = 3.9 mol%, Silicon atom-bonded content of silicon atom-bonded methyl group in all organic groups = 78 mol%, weight average molecular weight = 3,000} 50 parts by mass, molecular chain terminal dimethylvinylsiloxy group sealed dimethylpolysiloxane (viscosity 5,000 mPa. s, content of silicon atom-bonded vinyl group = 0.6 mol%) 50 parts by mass, organohydrogenpolysiloxane represented by the following formula (II) 5.0 parts by mass, platinum 1,3-Divinyl-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane complex in an amount of 20 ppm in terms of mass of platinum metal with respect to the entire composition, 0.1 part by mass of ethynylcyclohexanol as a reaction inhibitor , 0.5 parts by mass of the compound represented by the following structural formula (III) was mixed as an adhesion-imparting agent to prepare an addition-curable silicone composition having a viscosity of 3,500 mPa · s.
(O 3/2 Si-C 2 H 4 - (CH 3) SiO) 0.45 ((CH 2 = CH) (CH 3) 2 SiO 1/2) 0.1 ((CH 3) 3 SiO 1 / 2 ) 0.45 (I)
(CH 3 ) 3 SiO ((H) (CH 3 ) SiO) 10 Si (CH 3 ) 3 (II)
Figure 0006981938

[実施例2]
下記平均単位式(IV)で表される分岐鎖状オルガノポリシロキサン{性状=固体状(25℃)、ケイ素原子結合全有機基中のケイ素原子結合ビニル基の含有率=3.3モル%、ケイ素原子結合全有機基中のケイ素原子結合メチル基の含有率=82モル%、重量平均分子量=5,000}50質量部、分子鎖末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン(粘度5,000mPa・s、ケイ素原子結合ビニル基の含有率=0.6モル%)50質量部、上記式(II)で表されるオルガノハイドロジェンポリシロキサン3.3質量部、白金の1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン錯体を組成物全体に対して白金金属の質量換算で20ppmとなる量、反応抑制剤としてエチニルシクロヘキサノール0.1質量部、接着付与剤として下記構造式(V)で表される化合物2.0質量部を混合して、粘度3,500mPa・sである付加硬化型シリコーン組成物を調製した。
(OSi(CH)−C−(CH)SiO)0.55((CH=CH)(CHSiO1/20.1((CHSiO1/20.35 (IV)

Figure 0006981938
[Example 2]
Branched chain organopolysiloxane represented by the following average unit formula (IV) {property = solid state (25 ° C.), content of silicon atom-bonded vinyl group in all silicon atom-bonded organic groups = 3.3 mol%, Silicon atom-bonded content of silicon atom-bonded methyl group in all organic groups = 82 mol%, weight average molecular weight = 5,000} 50 parts by mass, molecular chain terminal dimethylvinylsiloxy group-sealed dimethylpolysiloxane (viscosity 5,000 mPa. s, content of silicon atom-bonded vinyl group = 0.6 mol%) 50 parts by mass, 3.3 parts by mass of organohydrogenpolysiloxane represented by the above formula (II), 1,3-divinyl-1 of platinum , 1, 3,3-Tetramethyldisiloxane complex in an amount of 20 ppm in terms of mass of platinum metal with respect to the entire composition, 0.1 part by mass of ethynylcyclohexanol as a reaction inhibitor, and the following structural formula as an adhesion-imparting agent. 2.0 parts by mass of the compound represented by (V) was mixed to prepare an addition-curable silicone composition having a viscosity of 3,500 mPa · s.
(OSi (CH 3) -C 2 H 4 - (CH 3) SiO) 0.55 ((CH 2 = CH) (CH 3) 2 SiO 1/2) 0.1 ((CH 3) 3 SiO 1 / 2 ) 0.35 (IV)
Figure 0006981938

[比較例1]
下記平均単位式(VI)で表される分岐鎖状のオルガノポリシロキサン{性状=固体状(25℃)、ケイ素原子結合全有機基中のケイ素原子結合ビニル基の含有率=7.4モル%、ケイ素原子結合全有機基中のケイ素原子結合メチル基の含有率=92.6モル%、重量平均分子量=3,600}50質量部、分子鎖末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン(粘度5,000mPa・s、ケイ素原子結合ビニル基の含有率=0.6モル%)50質量部、上記式(II)で表されるオルガノハイドロジェンポリシロキサン4.0質量部、白金の1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン錯体を組成物全体に対して白金金属の質量換算で20ppmとなる量、反応抑制剤としてエチニルシクロヘキサノール0.1質量部、接着付与剤として上記構造式(V)で表される化合物2.0質量部を混合して、粘度6,500mPa・sである付加硬化型シリコーン組成物を調製した。
(SiO0.55[(CH=CH)(CHSiO1/20.1((CHSiO1/20.35 (VI)
[Comparative Example 1]
Branched chain-shaped organopolysiloxane represented by the following average unit formula (VI) {property = solid state (25 ° C.), content of silicon atom-bonded vinyl group in all silicon atom-bonded organic groups = 7.4 mol% , Content of silicon atom-bonded methyl group in silicon atom-bonded total organic group = 92.6 mol%, weight average molecular weight = 3,600} 50 parts by mass, molecular chain terminal dimethylvinylsiloxy group sealed dimethylpolysiloxane (viscosity 5) 000 mPa · s, silicon atom-bonded vinyl group content = 0.6 mol%) 50 parts by mass, organohydrogenpolysiloxane represented by the above formula (II) 4.0 parts by mass, 1,3- of platinum The amount of divinyl-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane complex to be 20 ppm in terms of mass of platinum metal with respect to the entire composition, 0.1 part by mass of ethynylcyclohexanol as a reaction inhibitor, and as an adhesion-imparting agent. 2.0 parts by mass of the compound represented by the structural formula (V) was mixed to prepare an addition-curable silicone composition having a viscosity of 6,500 mPa · s.
(SiO 2 ) 0.55 [(CH 2 = CH) (CH 3 ) 2 SiO 1/2 ] 0.1 ((CH 3 ) 3 SiO 1/2 ) 0.35 (VI)

[比較例2]
下記平均単位式(VII)で表される分岐鎖状のオルガノポリシロキサン{性状=固体状(25℃)、ケイ素原子結合全有機基中のケイ素原子結合ビニル基の含有率=6.3モル%、ケイ素原子結合全有機基中のケイ素原子結合メチル基の含有率=93.8モル%、重量平均分子量=5,600}50質量部、分子鎖末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン(粘度5,000mPa・s、ケイ素原子結合ビニル基の含有率=0.6モル%)50質量部、上記式(II)で表されるオルガノハイドロジェンポリシロキサン4.5質量部、白金の1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン錯体を組成物全体に対して白金金属の質量換算で20ppmとなる量、反応抑制剤としてエチニルシクロヘキサノール0.1質量部、接着付与剤として上記構造式(V)で表される化合物2.0質量部を混合して、粘度6,500mPa・sである付加硬化型シリコーン組成物を調製した。
(CHSiO3/20.70[(CH=CH)(CH)SiO]0.1((CHSiO1/20.2 (VII)
[Comparative Example 2]
Branched chain-shaped organopolysiloxane represented by the following average unit formula (VII) {property = solid state (25 ° C.), content of silicon atom-bonded vinyl group in all silicon atom-bonded organic groups = 6.3 mol% , Silicon atom-bonded total organic group content of silicon atom-bonded methyl group = 93.8 mol%, weight average molecular weight = 5,600} 50 parts by mass, molecular chain terminal dimethylvinylsiloxy group sealed dimethylpolysiloxane (viscosity 5) 000 mPa · s, content of silicon atom-bonded vinyl group = 0.6 mol%) 50 parts by mass, 4.5 parts by mass of organohydrogenpolysiloxane represented by the above formula (II), 1,3- of platinum The amount of divinyl-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane complex to be 20 ppm in terms of mass of platinum metal with respect to the entire composition, 0.1 part by mass of ethynylcyclohexanol as a reaction inhibitor, and as an adhesion-imparting agent. 2.0 parts by mass of the compound represented by the structural formula (V) was mixed to prepare an addition-curable silicone composition having a viscosity of 6,500 mPa · s.
(CH 3 SiO 3/2 ) 0.70 [(CH 2 = CH) (CH 3 ) SiO] 0.1 ((CH 3 ) 3 SiO 1/2 ) 0.2 (VII)

[比較例3]
下記平均単位式(VIII)で表される分岐鎖状のオルガノポリシロキサン{性状=固体状(25℃)、ケイ素原子結合全有機基中のケイ素原子結合ビニル基の含有率=20モル%、ケイ素原子結合全有機基中のケイ素原子結合フェニル基の含有率=60モル%、重量平均分子量=1,600}45質量部、分子鎖末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン(粘度3,500mPa・s、ケイ素原子結合ビニル基の含有率=0.2モル%、ケイ素原子結合全有機基中のケイ素原子結合フェニル基の含有率=49モル%)55質量部、下記式(IX)で表される分子鎖両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖メチルフェニルポリシロキサン24質量部、白金の1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン錯体を組成物全体に対して白金金属の質量換算で2.5ppmとなる量、接着付与剤として上記構造式(V)で表される化合物2.0質量部を混合して、粘度1,700mPa・sである付加硬化型シリコーン組成物を調製した。
(CSiO3/20.75[(CH=CH)(CHSiO1/20.25 (VIII)
H(CHSiO[CH(C)SiO]Si(CHH (IX)
[Comparative Example 3]
Branched chain organopolysiloxane represented by the following average unit formula (VIII) {property = solid (25 ° C), silicon atom-bonded vinyl group content in all organic groups = 20 mol%, silicon Atomic bond Content of silicon atom-bonded phenyl group in all organic groups = 60 mol%, weight average molecular weight = 1,600} 45 parts by mass, molecular chain terminal dimethylvinylsiloxy group sealed dimethylpolysiloxane (viscosity 3,500 mPa · s) , Silicon atom-bonded vinyl group content = 0.2 mol%, silicon atom-bonded phenyl group content in all silicon atom-bonded organic groups = 49 mol%) 55 parts by mass, represented by the following formula (IX) 24 parts by mass of methylphenylpolysiloxane, which is a dimethylhydrogensiloxy group-sealed methylphenylpolysiloxane at both ends of the molecular chain, and 1,3-divinyl-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane complex of platinum is added to the entire composition by the mass of platinum metal. An addition-curable silicone composition having a viscosity of 1,700 mPa · s is prepared by mixing 2.0 parts by mass of the compound represented by the above structural formula (V) as an adhesive-imparting agent in an amount of 2.5 ppm in terms of conversion. did.
(C 6 H 5 SiO 3/2 ) 0.75 [(CH 2 = CH) (CH 3 ) 2 SiO 1/2 ] 0.25 (VIII)
H (CH 3 ) 2 SiO [CH 3 (C 6 H 5 ) SiO] 4 Si (CH 3 ) 2 H (IX)

[比較例4]
実施例1において、上記平均単位式(I)で表される分岐鎖状オルガノポリシロキサンを下記平均単位式(X)で表される分岐鎖状のオルガノポリシロキサン{性状=固体状(25℃)、ケイ素原子結合全有機基中のケイ素原子結合ビニル基の含有率=16.7モル%、ケイ素原子結合全有機基中のケイ素原子結合フェニル基の含有率=3.3モル%、重量平均分子量2,100}とした以外は実施例1と同様にして、粘度2,300mPa・sである付加硬化型シリコーン組成物を調製した。
(CSiO3/20.05(CHSiO3/20.70[(CH=CH)(CHSiO1/20.25 (X)
[Comparative Example 4]
In Example 1, the branched organopolysiloxane represented by the above average unit formula (I) is represented by the following average unit formula (X) in a branched organopolysiloxane {property = solid state (25 ° C.). , Content of silicon atom-bonded vinyl group in all silicon atom-bonded organic groups = 16.7 mol%, content of silicon atom-bonded phenyl group in silicon atom-bonded all organic groups = 3.3 mol%, weight average molecular weight An addition-curable silicone composition having a viscosity of 2,300 mPa · s was prepared in the same manner as in Example 1 except that the setting was 2,100}.
(C 6 H 5 SiO 3/2 ) 0.05 (CH 3 SiO 3/2 ) 0.70 [(CH 2 = CH) (CH 3 ) 2 SiO 1/2 ] 0.25 (X)

Figure 0006981938
Figure 0006981938

表1に示すように、実施例1及び2は、硬化物の硬さも十分であり、硬化物の硬化性、光透過率及び耐熱性も良好で、硬化物にクラックの発生も見られなかった。更に、触媒毒による剥離も発生せず、密着性の高いものであった。 As shown in Table 1, in Examples 1 and 2, the hardness of the cured product was sufficient, the curability, light transmittance and heat resistance of the cured product were also good, and no cracks were observed in the cured product. .. Furthermore, peeling due to catalytic poison did not occur, and the adhesion was high.

一方、比較例1、3、4においては、硬さは充分であったもののクラックの発生が見られ、SiO単位を有する比較例1は硬化性が悪いものであった。式(1)で表される(A)成分を有しない比較例2も、クラックの発生は無かったものの、耐熱性に劣るものであった。また比較例3・4も、(A)成分を有さず、耐熱性に劣るものであった。更に、触媒毒による剥離が発生してしまった。 On the other hand, in Comparative Examples 1, 3 and 4, although the hardness was sufficient, cracks were observed, and Comparative Example 1 having 2 units of SiO had poor curability. Comparative Example 2 having no component (A) represented by the formula (1) also had no cracks, but was inferior in heat resistance. Further, Comparative Examples 3 and 4 also did not have the component (A) and were inferior in heat resistance. Furthermore, exfoliation due to catalytic poison has occurred.

以上のことから、本発明の付加硬化型シリコーン組成物であれば、光透過率が高く、基材に対する密着性が高く、耐熱性・耐クラック性に優れた硬化物を形成するため、各種光学用途等に好適なものであることが実証された。 From the above, the addition-curable silicone composition of the present invention has high light transmittance, high adhesion to the substrate, and various optics in order to form a cured product having excellent heat resistance and crack resistance. It was proved that it is suitable for applications.

上記実施例では、半導体素子のポッティング剤として本発明の付加硬化型シリコーン組成物を用いたが、本発明の付加硬化型シリコーン組成物は、特に、光透過率が高いことから、その他にも光学用途の半導体素子の接着剤、保護コーティング剤、アンダーフィル剤等として好適であり、また、電気・電子用の接着剤、ポッティング剤、保護コーティング剤、アンダーフィル剤等としても使用することができる。 In the above embodiment, the addition-curable silicone composition of the present invention was used as a potting agent for a semiconductor device. However, since the addition-curable silicone composition of the present invention has a particularly high light transmittance, other optics are used. It is suitable as an adhesive, a protective coating agent, an underfill agent, etc. for semiconductor elements of use, and can also be used as an adhesive for electric / electronic use, a potting agent, a protective coating agent, an underfill agent, and the like.

尚、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。 The present invention is not limited to the above embodiment. The above embodiment is an example, and any one having substantially the same configuration as the technical idea described in the claims of the present invention and having the same effect and effect is the present invention. It is included in the technical scope of the invention.

1…半導体装置、 2…銀メッキ基板、 3…パッケージ、 4…半導体チップ、
5…ボンディングワイヤ、 6…付加硬化型シリコーン組成物(の硬化物)。
1 ... semiconductor device, 2 ... silver-plated substrate, 3 ... package, 4 ... semiconductor chip,
5 ... Bonding wire, 6 ... Additive curable silicone composition (cured product).

Claims (4)

付加硬化型シリコーン組成物であって、
(A)下記平均単位式(1)で表されるオルガノポリシロキサン、
[O{(3−k)/2)}Si(R−R−(RSiO{(3−k)/2)}(R SiO1/2(X1/2 ・・・(1)
(式中、Rは同一又は異なっていても良い、置換又は非置換の一価炭化水素基であり、全Rのうち0.1〜50%はアルケニル基である。Rは置換又は非置換の二価炭化水素基であり、kは同一又は異なっていても良い0,1,2の整数、Xは水素原子又はアルキル基である。a、b、cは0.1≦a≦1、0≦b≦0.75、(b+c)/aが0.4〜4であり、cが0であり、かつa+b+c=1を満たす数である。)
(B)下記平均組成式(2)で表される、1分子中に少なくとも2個のSi−H結合を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン:前記(A)成分100質量部に対して1〜200質量部、
SiO[(4−d−e)/2] ・・・(2)
(式中、Rは脂肪族不飽和炭化水素基を除く、同一又は異なっていても良い、置換又は非置換の一価炭化水素基である。d、eは0.7≦d≦2.1、0.01≦e≦1.0、かつ0.8≦d+e≦2.7を満たす正数である。)
及び、
(C)ヒドロシリル化反応触媒:組成物全体に対して、金属原子の質量換算で0.01〜500ppmとなる量
を含有するものであることを特徴とする付加硬化型シリコーン組成物。
Additive-curing silicone composition
(A) Organopolysiloxane represented by the following average unit formula (1),
[O {(3-k) / 2)} Si (R 1 ) k −R 2 − (R 1 ) k SiO {(3-k) / 2)} ] a (R 1 3 SiO 1/2 ) b (X 1 O 1/2 ) c ... (1)
(In the formula, R 1 is a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group which may be the same or different, and 0.1 to 50% of all R 1 is an alkenyl group. R 2 is a substituted or substituted group. It is an unsubstituted divalent hydrocarbon group, k is an integer of 0, 1, 2 which may be the same or different, X 1 is a hydrogen atom or an alkyl group. A, b, c are 0.1 ≦ a. ≦ 1, 0 ≦ b ≦ 0.75, (b + c) / a is 0.4 to 4, c is 0 , and a + b + c = 1 is satisfied.)
(B) Organohydrogenpolysiloxane having at least two Si—H bonds in one molecule represented by the following average composition formula (2): 1 to 200 mass with respect to 100 parts by mass of the component (A). Department,
R 3 d He e SiO [(4-d-e) / 2] ... (2)
(In the formula, R 3 is a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group excluding the aliphatic unsaturated hydrocarbon group, which may be the same or different. D and e are 0.7 ≦ d ≦ 2. It is a positive number that satisfies 1, 0.01 ≦ e ≦ 1.0 and 0.8 ≦ d + e ≦ 2.7.)
as well as,
(C) Hydrosilylation reaction catalyst: An addition-curable silicone composition characterized by containing an amount of 0.01 to 500 ppm in terms of mass of metal atoms with respect to the entire composition.
前記(A)成分において、前記平均単位式(1)中のRの二価炭化水素基の炭素原子数が2〜8であることを特徴とする請求項1に記載の付加硬化型シリコーン組成物。 Wherein the component (A) addition-curable silicone composition of claim 1, number of carbon atoms of the divalent hydrocarbon group R 2 in the average unit formula (1) is characterized in that it is a 2-8 thing. 前記(A)成分において、前記平均単位式(1)中のRのうち、メチル基の含有率が20モル%以上であることを特徴とする請求項1又は2に記載の付加硬化型シリコーン組成物。 The addition-curable silicone according to claim 1 or 2, wherein in the component (A), the content of a methyl group among R 1 in the average unit formula (1) is 20 mol% or more. Composition. 請求項1〜のいずれか1項に記載の付加硬化型シリコーン組成物の硬化物により半導体素子が被覆されたものであることを特徴とする半導体装置。
A semiconductor device comprising a semiconductor device coated with a cured product of the addition-curable silicone composition according to any one of claims 1 to 3.
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