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JP6972212B2 - Display panel - Google Patents

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JP6972212B2
JP6972212B2 JP2020036973A JP2020036973A JP6972212B2 JP 6972212 B2 JP6972212 B2 JP 6972212B2 JP 2020036973 A JP2020036973 A JP 2020036973A JP 2020036973 A JP2020036973 A JP 2020036973A JP 6972212 B2 JP6972212 B2 JP 6972212B2
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Japan
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slit
display panel
insulating film
display area
wiring
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和也 大師
哲也 飯塚
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Japan Display Inc
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Japan Display Inc
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Description

本発明の実施形態は、表示パネルに関する。 Embodiments of the present invention relate to display panels.

表示パネルとして、例えば液晶表示パネルが知られている。液晶表示パネルは、コンピュータを中心とする情報機器分野およびテレビジョン受像機などを中心とする映像機器分野等において使用されている。一般に、液晶表示パネルは、アレイ基板と、対向基板と、これら両基板間に挟持された液晶層とを有している。アレイ基板は、有機絶縁膜などを有している。 As a display panel, for example, a liquid crystal display panel is known. Liquid crystal display panels are used in the field of information equipment centered on computers and the field of video equipment centered on television receivers and the like. Generally, a liquid crystal display panel has an array substrate, a facing substrate, and a liquid crystal layer sandwiched between the two substrates. The array substrate has an organic insulating film and the like.

アレイ基板及び対向基板は表示領域を有している。アレイ基板及び対向基板の間には、複数のスペーサとして、例えば複数の柱状スペーサが配置され、両基板間の隙間を一定に保持している。アレイ基板及び対向基板は、両基板の表示領域外側の額縁領域に配設された矩形枠状のシール材により接合されている。 The array substrate and the facing substrate have a display area. As a plurality of spacers, for example, a plurality of columnar spacers are arranged between the array substrate and the facing substrate, and the gap between the two substrates is kept constant. The array substrate and the facing substrate are joined by a rectangular frame-shaped sealing material arranged in a frame region outside the display region of both substrates.

特開2001−337334号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2001-337334

ところで、アレイ基板の有機絶縁膜は水分を浸透する性質を有している。そこで、アレイ基板の額縁領域の配線の外側の有機絶縁膜を幅200乃至300μmとして全周にわたって除去し、シール材を上記除去した領域に形成している。シール材は、水分を遮断する性質を有しているため、液晶表示パネル内部の配線への水分の浸入を遮断することができる。これにより、配線が腐食する懸念を排除することができる。 By the way, the organic insulating film of the array substrate has a property of permeating moisture. Therefore, the organic insulating film outside the wiring in the frame region of the array substrate is removed over the entire circumference with a width of 200 to 300 μm, and the sealing material is formed in the removed region. Since the sealing material has a property of blocking moisture, it is possible to block the infiltration of moisture into the wiring inside the liquid crystal display panel. This eliminates the concern that the wiring will corrode.

上記のように有機絶縁膜が除去されると、狭額縁化は妨げられる。そこで、狭額縁化を図るため、額縁領域の配線の外側の有機絶縁膜ではなく、額縁領域の配線上の有機絶縁膜を除去することが考えられる。しかしながら、この場合、額縁領域の配線は、有機絶縁膜で保護されず剥き出しになる。このため、配線に静電気が侵入し、この配線の周辺回路を破壊する可能性が高くなる。すなわち、ESD(Electro Static Discharge)耐圧が低下し、絶縁膜がESD破壊を起こす可能性が高くなる。
この発明は以上の点に鑑みなされたもので、その目的は、駆動回路の静電破壊を抑制することが可能な表示パネルを提供することにある。
When the organic insulating film is removed as described above, the narrowing of the frame is hindered. Therefore, in order to narrow the frame, it is conceivable to remove the organic insulating film on the wiring in the frame region instead of the organic insulating film outside the wiring in the frame region. However, in this case, the wiring in the frame region is not protected by the organic insulating film and is exposed. Therefore, there is a high possibility that static electricity will enter the wiring and destroy the peripheral circuits of the wiring. That is, the withstand voltage of ESD (Electro Static Discharge) decreases, and the possibility that the insulating film causes ESD destruction increases.
The present invention has been made in view of the above points, and an object of the present invention is to provide a display panel capable of suppressing electrostatic breakdown of a drive circuit.

一実施形態に係る表示パネルは、
表示領域と、前記表示領域を囲み、駆動回路が形成された周辺領域と、前記周辺領域に位置する無機絶縁膜と、前記周辺領域に位置し、前記駆動回路にクロック信号を供給するクロック配線と、前記周辺領域に位置し、前記駆動回路に電源信号を供給する電源配線と、前記無機絶縁膜に接触し、前記表示領域及び前記周辺領域に設けられた有機絶縁膜と、前記有機絶縁膜を貫通して形成されたスリットと、を有するアレイ基板と、前記アレイ基板に対向して配置される対向基板と、前記アレイ基板と前記対向基板とを接合するシール材と、を備え、前記クロック信号及び前記電源信号は、前記アレイ基板の第1端部と前記表示領域との間に位置する前記周辺領域に設けられたパッドを介して、それぞれ前記クロック配線及び前記電源配線に供給され、前記スリットは、前記シール材と重なる位置に設けられた第1スリット、第2スリット及び第3スリットを有しており、前記第1スリットは、前記電源配線の延在方向に延在する第1部分及び第2部分と、前記第1部分及び第2部分と交差する方向に延在する第3部分及び第4部分と、を有しており、前記第1部分は、前記配線に沿って設けられ、前記表示領域と前記アレイ基板の第2端部との間に位置しており、前記第2部分は、前記第2端部と対向する前記アレイ基板の第3端部と前記表示領域との間に位置しており、前記第3部分は、前記第1端部と対向する前記アレイ基板の第4端部と前記表示領域との間に位置しており、前記第4部分は、前記第1端部と前記表示領域との間に位置しており、前記第2スリットは、前記表示領域と前記第2端部との間に位置し、前記第1部分に沿って設けられ、前記第1部分と間隔をあけて配置され、前記第3スリットは、前記表示領域と前記第3端部との間に位置し、前記第2部分に沿って設けられ、前記第2部分と間隔をあけて配置され、平面視において、前記第1部分、前記第2部分、前記第2スリット及び前記第3スリットは、前記クロック配線及び前記電源配線と重なっておらず、前記電源配線は、前記第1スリットよりも前記表示領域側に位置している。
The display panel according to one embodiment is
A display area surrounds the display area, a peripheral area which the driver circuit is formed, an inorganic insulating film located in the peripheral region, located in the peripheral region, the clock distribution you supply a clock signal to the driving circuit and line, located in the peripheral region, and a power supply wiring for supplying a power signal to the drive circuit, in contact with the front-inorganic insulating film, an organic insulating film, wherein provided in the display region and the peripheral region, the organic An array substrate having a slit formed through the insulating film, an opposed substrate arranged to face the array substrate, and a sealing material for joining the array substrate and the opposed substrate are provided. wherein the clock signal and the power signal through the pads provided on the peripheral region located between the display area and the first end of the array substrate, supplied to the clock line and the power line, respectively is, the slit, the first slit provided in a position overlapping the sealing material has a second slit and a third slit, the first slit is extended in the extending direction of the front Symbol supply wiring It has a first portion and a second portion existing, and a third portion and a fourth portion extending in a direction intersecting the first portion and the second portion, and the first portion is the wiring. The second portion is provided between the display area and the second end portion of the array substrate, and the second portion is with the third end portion of the array substrate facing the second end portion. The third portion is located between the display area and the fourth end portion of the array substrate facing the first end portion and the display region. The portion is located between the first end and the display area, and the second slit is located between the display area and the second end and along the first portion. Provided and spaced apart from the first portion, the third slit is located between the display area and the third end and is provided along the second portion and the second. The first portion, the second portion, the second slit, and the third slit do not overlap with the clock wiring and the power supply wiring in a plan view and are arranged at intervals from the portions, and the power supply is not overlapped with the clock wiring and the power supply wiring. The wiring is located closer to the display area than the first slit.

図1は、第1の実施形態に係る液晶表示パネルを示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view showing a liquid crystal display panel according to the first embodiment. 図2は、上記液晶表示パネルを示す概略断面図である。FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing the liquid crystal display panel. 図3は、上記液晶表示パネルを示す概略平面図であり、配線の構造を示す図である。FIG. 3 is a schematic plan view showing the liquid crystal display panel, and is a diagram showing a wiring structure. 図4は、図1乃至図3に示したアレイ基板の一部を示す概略平面図である。FIG. 4 is a schematic plan view showing a part of the array substrate shown in FIGS. 1 to 3. 図5は、上記アレイ基板を示す拡大平面図であり、アレイ基板の配線構造を示す図である。FIG. 5 is an enlarged plan view showing the array board, and is a diagram showing a wiring structure of the array board. 図6は、上記液晶表示パネルを示す拡大断面図であり、液晶表示パネルの構造を示す図である。FIG. 6 is an enlarged cross-sectional view showing the liquid crystal display panel, and is a diagram showing the structure of the liquid crystal display panel. 図7は、図3の線VII−VIIに沿った上記液晶表示パネルの周縁部を概略的に示す拡大断面図である。FIG. 7 is an enlarged cross-sectional view schematically showing a peripheral portion of the liquid crystal display panel along the line VII-VII of FIG. 図8は、上記液晶表示パネルを示す概略平面図であり、スリットの構造を示す図である。FIG. 8 is a schematic plan view showing the liquid crystal display panel, and is a diagram showing the structure of the slit. 図9は、上記液晶表示パネルの製造工程において、マザーガラス上にアレイパターンを形成した状態を示す平面図である。FIG. 9 is a plan view showing a state in which an array pattern is formed on the mother glass in the manufacturing process of the liquid crystal display panel. 図10は、図9に続き、マザーガラス上に受止めパターン等を形成し、6枚のアレイ基板を形成した状態を示す平面図である。FIG. 10 is a plan view showing a state in which a receiving pattern or the like is formed on the mother glass to form six array substrates, following FIG. 9. 図11は、上記液晶表示パネルの製造工程において、マザーガラス上に6枚の対向基板を形成した状態を示す平面図である。FIG. 11 is a plan view showing a state in which six facing substrates are formed on the mother glass in the manufacturing process of the liquid crystal display panel. 図12は、図10に続き、マザーガラスにシール材を塗布した状態を示す平面図である。FIG. 12 is a plan view showing a state in which a sealing material is applied to the mother glass, following FIG. 10. 図13は、図11及び図12に示した2枚のマザーガラスが、シール材を介して貼り合せられている状態を示す平面図である。FIG. 13 is a plan view showing a state in which the two mother glasses shown in FIGS. 11 and 12 are bonded together via a sealing material. 図14は、図13の線XIV−XIVに沿った上記2枚のマザーガラスが、シール材を介して貼り合せられている状態を示す断面図である。FIG. 14 is a cross-sectional view showing a state in which the two mother glasses along the line XIV-XIV of FIG. 13 are bonded together via a sealing material. 図15は、第2の実施形態に係る液晶表示パネルを示す概略平面図であり、スリットの構造を示す図である。FIG. 15 is a schematic plan view showing the liquid crystal display panel according to the second embodiment, and is a diagram showing the structure of the slit. 図16は、図15の線XVI−XVIに沿った上記液晶表示パネルの周縁部を概略的に示す拡大断面図である。FIG. 16 is an enlarged cross-sectional view schematically showing a peripheral portion of the liquid crystal display panel along the line XVI-XVI of FIG. 図17は、第3の実施形態に係る液晶表示パネルの周縁部を概略的に示す拡大断面図である。FIG. 17 is an enlarged cross-sectional view schematically showing a peripheral edge portion of the liquid crystal display panel according to the third embodiment. 図18は、第4の実施形態に係る液晶表示パネルの周縁部を概略的に示す拡大断面図である。FIG. 18 is an enlarged cross-sectional view schematically showing a peripheral portion of the liquid crystal display panel according to the fourth embodiment.

以下、図面を参照しながら第1の実施形態に係る液晶表示パネル及び液晶表示パネルの製造方法について詳細に説明する。始めに、液晶表示パネルの構成について説明する。この実施の形態において、液晶表示パネルは対向CF型であり、対向基板側にカラーフィルタが形成されている。 Hereinafter, the liquid crystal display panel and the method for manufacturing the liquid crystal display panel according to the first embodiment will be described in detail with reference to the drawings. First, the configuration of the liquid crystal display panel will be described. In this embodiment, the liquid crystal display panel is a facing CF type, and a color filter is formed on the facing substrate side.

図1乃至図6に示すように、液晶表示パネルは、アレイ基板1と、アレイ基板に所定の隙間を置いて対向配置された対向基板2と、これら両基板間に挟持された液晶層3と、カラーフィルタ4とを備えている。アレイ基板1及び対向基板2の外面には、図示しない偏光板がそれぞれ配置されている。アレイ基板1の外面側には、図示しないバックライトユニットが配置されている。アレイ基板1及び対向基板2は矩形状の表示領域R1を有している。カラーフィルタ4は、アレイ基板1の表示領域R1に設けられている。 As shown in FIGS. 1 to 6, the liquid crystal display panel includes an array substrate 1, a facing substrate 2 arranged to face each other with a predetermined gap between the array substrates, and a liquid crystal layer 3 sandwiched between the two substrates. , And a color filter 4. Polarizing plates (not shown) are arranged on the outer surfaces of the array substrate 1 and the facing substrate 2, respectively. A backlight unit (not shown) is arranged on the outer surface side of the array substrate 1. The array substrate 1 and the facing substrate 2 have a rectangular display area R1. The color filter 4 is provided in the display area R1 of the array substrate 1.

アレイ基板1は、透明な絶縁基板としてガラス基板11を有している。表示領域R1において、ガラス基板11上には、行方向Xに延びているとともに行方向Xと直交した列方向Yに間隔を置いて並んだ複数の走査線15と、複数の走査線15と交差して列方向Yに延びているとともに行方向Xに間隔を置いて並んだ複数の信号線21とが格子状に配置されている。 The array substrate 1 has a glass substrate 11 as a transparent insulating substrate. In the display area R1, a plurality of scanning lines 15 extending in the row direction X and arranged at intervals in the column direction Y orthogonal to the row direction X and a plurality of scanning lines 15 intersect on the glass substrate 11. A plurality of signal lines 21 extending in the column direction Y and arranged at intervals in the row direction X are arranged in a grid pattern.

ガラス基板11上には、補助容量素子24を構成し、かつ、複数の信号線21と交差して行方向Xに延びているとともに列方向Yに間隔を置いて並んだ複数の補助容量線17が形成されている。補助容量線17は走査線15と平行に延びている。 On the glass substrate 11, a plurality of auxiliary capacitance lines 17 constituting the auxiliary capacitance element 24, intersecting the plurality of signal lines 21 and extending in the row direction X and arranged at intervals in the column direction Y. Is formed. The auxiliary capacitance line 17 extends parallel to the scanning line 15.

ここで、アレイ基板1及び対向基板2は、複数の信号線21及び複数の補助容量線17で囲まれた領域に重なって設けられたマトリクス状の複数の画素20を有している。すなわち、各画素20は隣合う2本の信号線21及び隣合う2本の補助容量線17で囲まれた領域に重なって設けられている。アレイ基板1の画素20にはスイッチング素子としてのTFT(薄膜トランジスタ)19がそれぞれ設けられている。より詳しくは、TFT19は、走査線15と信号線21との各交差部近傍に設けられている。 Here, the array substrate 1 and the facing substrate 2 have a plurality of matrix-shaped pixels 20 provided so as to overlap with a region surrounded by a plurality of signal lines 21 and a plurality of auxiliary capacitance lines 17. That is, each pixel 20 is provided so as to overlap with a region surrounded by two adjacent signal lines 21 and two adjacent auxiliary capacitance lines 17. Each pixel 20 of the array substrate 1 is provided with a TFT (thin film transistor) 19 as a switching element. More specifically, the TFT 19 is provided in the vicinity of each intersection of the scanning line 15 and the signal line 21.

TFT19は、半導体としてのアモルファスシリコン(a−Si)又はポリシリコン(p−Si)からなる半導体層12と、走査線15の一部を延出してなるゲート電極16とを有している。本実施の形態では、半導体層12及び後述する補助容量電極13はp−Siで形成されている。 The TFT 19 has a semiconductor layer 12 made of amorphous silicon (a—Si) or polysilicon (p—Si) as a semiconductor, and a gate electrode 16 formed by extending a part of a scanning line 15. In the present embodiment, the semiconductor layer 12 and the auxiliary capacitance electrode 13 described later are formed of p—Si.

詳細に述べると、表示領域R1において、ガラス基板11上には、半導体層12と、補助容量電極13とが形成され、これら半導体層及び補助容量電極を含むガラス基板上にゲート絶縁膜14が成膜されている。ゲート絶縁膜14上に、走査線15、ゲート電極16及び補助容量線17が配設されている。補助容量線17及び補助容量電極13はゲート絶縁膜14を介し対向配置されている。走査線15、ゲート電極16及び補助容量線17を含むゲート絶縁膜14上には層間絶縁膜18が成膜されている。この実施形態において、層間絶縁膜18は無機絶縁膜である。 More specifically, in the display region R1, a semiconductor layer 12 and an auxiliary capacitance electrode 13 are formed on the glass substrate 11, and a gate insulating film 14 is formed on the glass substrate including the semiconductor layer and the auxiliary capacitance electrode. It is a film. A scanning line 15, a gate electrode 16, and an auxiliary capacitance line 17 are arranged on the gate insulating film 14. The auxiliary capacitance line 17 and the auxiliary capacitance electrode 13 are arranged to face each other via the gate insulating film 14. An interlayer insulating film 18 is formed on the gate insulating film 14 including the scanning line 15, the gate electrode 16, and the auxiliary capacitance line 17. In this embodiment, the interlayer insulating film 18 is an inorganic insulating film.

層間絶縁膜18上には、信号線21及びコンタクト電極22が形成されている。各コンタクト電極22は、ゲート絶縁膜14及び層間絶縁膜18に形成されたコンタクトホールを通って半導体層12のドレイン領域及び後述する画素電極26にそれぞれ接続されている。さらに、コンタクト電極22は、ゲート絶縁膜14及び層間絶縁膜18に形成された他のコンタクトホールを通って補助容量電極13に接続されている。ここで、補助容量線17は、補助容量電極13とコンタクト電極22との接続部を除いて形成されている。 A signal line 21 and a contact electrode 22 are formed on the interlayer insulating film 18. Each contact electrode 22 is connected to the drain region of the semiconductor layer 12 and the pixel electrode 26 described later, respectively, through the contact holes formed in the gate insulating film 14 and the interlayer insulating film 18. Further, the contact electrode 22 is connected to the auxiliary capacitance electrode 13 through other contact holes formed in the gate insulating film 14 and the interlayer insulating film 18. Here, the auxiliary capacitance line 17 is formed except for the connection portion between the auxiliary capacitance electrode 13 and the contact electrode 22.

信号線21は、ゲート絶縁膜14及び層間絶縁膜18に形成されたコンタクトホールを通って半導体層12のソース領域と接続されている。層間絶縁膜18、信号線21及びコンタクト電極22に重ねて保護絶縁膜23が形成されている。保護絶縁膜23は、基板上の配線等から生じる凹凸を平坦化する平坦化膜としての役割も果たす。この実施形態において、保護絶縁膜23は有機絶縁膜である。保護絶縁膜23は、表示領域R1だけでなく、表示領域R1を囲む額縁領域R2も覆っている。 The signal line 21 is connected to the source region of the semiconductor layer 12 through contact holes formed in the gate insulating film 14 and the interlayer insulating film 18. A protective insulating film 23 is formed on the interlayer insulating film 18, the signal line 21, and the contact electrode 22. The protective insulating film 23 also serves as a flattening film for flattening irregularities generated by wiring or the like on the substrate. In this embodiment, the protective insulating film 23 is an organic insulating film. The protective insulating film 23 covers not only the display area R1 but also the frame area R2 surrounding the display area R1.

保護絶縁膜23上には、ITO(インジウム・すず酸化物)等の透明な導電膜により画素電極26がそれぞれ形成されている。補助容量線17に重なった保護絶縁膜23及び着色層30R、30G、30Bには複数のコンタクトホール25が形成されている。これらのコンタクトホール25は、複数の画素20に設けられている。 Pixel electrodes 26 are formed on the protective insulating film 23 by a transparent conductive film such as ITO (indium tin oxide). A plurality of contact holes 25 are formed in the protective insulating film 23 and the colored layers 30R, 30G, and 30B overlapping the auxiliary capacitance line 17. These contact holes 25 are provided in a plurality of pixels 20.

各画素電極26は、コンタクトホール25を通ってコンタクト電極22に接続されている。各画素電極26の周縁部は、補助容量線17及び信号線21に重なっている。画素電極26は、画素20をそれぞれ形成している。 Each pixel electrode 26 is connected to the contact electrode 22 through the contact hole 25. The peripheral edge of each pixel electrode 26 overlaps the auxiliary capacitance line 17 and the signal line 21. Each of the pixel electrodes 26 forms a pixel 20.

上記のように、ガラス基板11上にアレイパターン1pが形成されている。表示領域R1において、アレイパターン1pは、ガラス基板11と画素電極26との間に積層されたものである。アレイパターン1p上には、複数のスペーサとしての複数の柱状スペーサ27が複数形成されている。柱状スペーサ27が形成されたアレイパターン1p(画素電極26等)上には配向膜28が形成されている。 As described above, the array pattern 1p is formed on the glass substrate 11. In the display region R1, the array pattern 1p is laminated between the glass substrate 11 and the pixel electrode 26. A plurality of columnar spacers 27 as a plurality of spacers are formed on the array pattern 1p. An alignment film 28 is formed on the array pattern 1p (pixel electrode 26 or the like) on which the columnar spacer 27 is formed.

一方、図3及び図7に示すように、額縁領域R2において、ガラス基板11上には、アレイパターン1pと、受止めパターン60とが形成されている。額縁領域R2において、アレイパターン1pは、駆動回路6a、6bと、ゲート絶縁膜14と、層間絶縁膜18と、配線w1、w2、w3、w4、w7、w8と、保護絶縁膜23と、を有している。 On the other hand, as shown in FIGS. 3 and 7, in the frame region R2, the array pattern 1p and the receiving pattern 60 are formed on the glass substrate 11. In the frame region R2, the array pattern 1p includes drive circuits 6a and 6b, a gate insulating film 14, an interlayer insulating film 18, wirings w1, w2, w3, w4, w7, w8, and a protective insulating film 23. Have.

駆動回路6a、6bは、表示領域R1を挟んで行方向Xに対向配置されている。駆動回路6a、6bは、TFT19等を形成する際に、同一材料で同時に形成されている。駆動回路6a、6bは、走査線15及び補助容量線17に接続されたYドライバである。 The drive circuits 6a and 6b are arranged so as to face each other in the row direction X with the display area R1 interposed therebetween. The drive circuits 6a and 6b are made of the same material at the same time when the TFT 19 and the like are formed. The drive circuits 6a and 6b are Y drivers connected to the scanning line 15 and the auxiliary capacitance line 17.

配線w1、w2、w3、w4、w7、w8は、額縁領域R2の左側と右側にそれぞれ設けられ駆動回路6a、6bを形成している。配線w1、w2、w3、w4、w7、w8は、列方向Yに延在し、行方向Xに間隔を置いて設けられている。配線w1、w2、w3、w4、w7、w8は、層間絶縁膜18上に形成され、保護絶縁膜23で覆われている。配線w1、w2、w3、w4は、ガラス基板11の端部まで引き延ばされ、アウターリードボンディングのパッドに接続されている。 The wirings w1, w2, w3, w4, w7, and w8 are provided on the left side and the right side of the frame region R2, respectively, and form the drive circuits 6a and 6b, respectively. The wirings w1, w2, w3, w4, w7, and w8 extend in the column direction Y and are provided at intervals in the row direction X. The wirings w1, w2, w3, w4, w7, and w8 are formed on the interlayer insulating film 18 and covered with the protective insulating film 23. The wirings w1, w2, w3, and w4 are extended to the end of the glass substrate 11 and connected to the outer lead bonding pad.

配線w1、w2はそれぞれ第1配線としての制御信号配線であり、配線w3、w4はそれぞれ第2配線としての電源配線である。配線w1には、パッドを介してスタートパルス信号STが与えられる。配線w2には、パッドを介してクロック信号CLKが与えられる。配線w3には、パッドを介して図示しない高電位電源から電圧V1(VDD)が与えられる。配線w4には、パッドを介して図示しない低電位電源から電圧V2(VSS)が与えられる。配線w3及び配線w4は互いに電位の異なる電源配線である。例えば、電圧V1は+10Vであり、電圧V2は−5Vである。 Wiring w1 and w2 are control signal wirings as the first wiring, respectively, and wirings w3 and w4 are power supply wirings as the second wiring, respectively. A start pulse signal ST is given to the wiring w1 via the pad. A clock signal CLK is given to the wiring w2 via the pad. A voltage V1 (VDD) is applied to the wiring w3 from a high-potential power source (not shown) via a pad. A voltage V2 (VSS) is applied to the wiring w4 from a low potential power source (not shown) via a pad. The wiring w3 and the wiring w4 are power supply wirings having different potentials from each other. For example, the voltage V1 is + 10V and the voltage V2 is −5V.

配線w5、w6は、接続配線であり、後述するスリット23h1と交差する方向に延出している。この実施形態において、配線w5、w6は行方向Xに延出している。配線w5、w6は、少なくとも額縁領域R2のゲート絶縁膜14上に形成されている。配線w5、w6は層間絶縁膜18で覆われている。この実施形態において、配線w5、w6は、表示領域R1まで延出して形成されている。額縁領域R2において、層間絶縁膜18は、配線w5に対向したスルーホールと、配線w6に対向したスルーホールとを有している。配線w3はスルーホールを通って配線w5に電気的に接続され、配線w4はスルーホールを通って配線w6に電気的に接続されている。 The wirings w5 and w6 are connection wirings and extend in a direction intersecting the slit 23h1 described later. In this embodiment, the wirings w5 and w6 extend in the row direction X. The wirings w5 and w6 are formed on at least the gate insulating film 14 of the frame region R2. The wirings w5 and w6 are covered with the interlayer insulating film 18. In this embodiment, the wirings w5 and w6 are formed so as to extend to the display area R1. In the frame region R2, the interlayer insulating film 18 has a through hole facing the wiring w5 and a through hole facing the wiring w6. The wiring w3 is electrically connected to the wiring w5 through the through hole, and the wiring w4 is electrically connected to the wiring w6 through the through hole.

図3、図7及び図8に示すように、保護絶縁膜23はスリット23h1を有している。スリット23h1は貫通して形成されている。スリット23h1は、配線が剥き出しにならないように形成され、層間絶縁膜18を剥き出しの状態にするように形成されている。スリット23h1は、枠状に形成され、ここでは矩形枠状に連続して形成されている。額縁領域R2の左側又は右側において、スリット23h1は、配線w2及び配線w3の延出した方向に沿って延在して形成されている。ここで、スリット23h1は、5乃至10μmの幅を有している。 As shown in FIGS. 3, 7, and 8, the protective insulating film 23 has a slit 23h1. The slit 23h1 is formed through the slit 23h1. The slit 23h1 is formed so that the wiring is not exposed, and the interlayer insulating film 18 is formed so as to be exposed. The slits 23h1 are formed in a frame shape, and here, they are continuously formed in a rectangular frame shape. On the left side or the right side of the frame region R2, the slit 23h1 is formed so as to extend along the extending direction of the wiring w2 and the wiring w3. Here, the slit 23h1 has a width of 5 to 10 μm.

なお、配線w1、w2は、スリット23h1よりアレイ基板1の外縁側に位置している。配線w3、w4、w7、w8は、スリット23h1より表示領域R1側に位置している。なお、スリット23h1は、アレイパターン1pの最上部に位置している。スリットには、防湿部材29aが充填され層間絶縁膜18に接している。 The wirings w1 and w2 are located on the outer edge side of the array substrate 1 from the slit 23h1. The wirings w3, w4, w7, and w8 are located on the display area R1 side of the slit 23h1. The slit 23h1 is located at the uppermost portion of the array pattern 1p. The slit is filled with a moisture-proof member 29a and is in contact with the interlayer insulating film 18.

図3及び図7に示すように、受止めパターン60は、表示領域R1の周縁に間隔を置いて位置した樹脂膜の対応する部分にアレイ基板1及び対向基板2の少なくとも一方に設けられ、アレイ基板1及び対向基板2の少なくとも一方に隙間を置いて形成された壁状の突起を有している。 As shown in FIGS. 3 and 7, the receiving pattern 60 is provided on at least one of the array substrate 1 and the facing substrate 2 at the corresponding portion of the resin film located at intervals on the peripheral edge of the display region R1. It has wall-shaped protrusions formed with a gap on at least one of the substrate 1 and the facing substrate 2.

この実施形態において、受止めパターン60は、表示領域R1の周縁に間隔を置いてアレイ基板1に設けられ、対向基板2に隙間を置いて形成された壁状の突起61、62を有している。 In this embodiment, the receiving pattern 60 has wall-shaped protrusions 61 and 62 provided on the array substrate 1 at intervals on the peripheral edge of the display region R1 and formed with a gap on the facing substrate 2. There is.

突起61、62は、保護絶縁膜23上に形成されている。突起61、62は、列方向Yに延出している。突起61は、駆動回路6aに対して表示領域R1の反対側で、アレイ基板1及び対向基板2の周縁に間隔を置いて位置している。突起62は、駆動回路6bに対して表示領域R1の反対側で、アレイ基板1及び対向基板2の周縁に間隔を置いて位置している。 The protrusions 61 and 62 are formed on the protective insulating film 23. The protrusions 61 and 62 extend in the row direction Y. The protrusion 61 is located on the opposite side of the display region R1 with respect to the drive circuit 6a, at intervals on the peripheral edges of the array substrate 1 and the facing substrate 2. The protrusions 62 are located on the opposite side of the display region R1 with respect to the drive circuit 6b, at intervals from the peripheral edges of the array substrate 1 and the facing substrate 2.

突起61、62は、アレイ基板1及び対向基板2の周縁側への後述するシール材51の広がりを抑制するものである。突起61、62は、アレイ基板1に柱状スペーサ27と同一材料で同時に形成されている。突起61、62は、柱状スペーサ27より低く形成されている。但し、突起61、62は柱状スペーサ27と同じ高さでも良い。受止めパターン60は、後述する液晶注入口52と対向した領域を除いて形成されている。 The protrusions 61 and 62 suppress the spread of the sealing material 51, which will be described later, toward the peripheral edges of the array substrate 1 and the facing substrate 2. The protrusions 61 and 62 are simultaneously formed on the array substrate 1 with the same material as the columnar spacer 27. The protrusions 61 and 62 are formed lower than the columnar spacer 27. However, the protrusions 61 and 62 may have the same height as the columnar spacer 27. The receiving pattern 60 is formed except for a region facing the liquid crystal injection port 52, which will be described later.

図1、図2、図3、図6及び図7に示すように、対向基板2は、透明な絶縁基板としてガラス基板41を備えている。このガラス基板41上には、カラーフィルタ4が設けられている。カラーフィルタ4は、遮光部31と、周辺遮光部32と、複数の着色層とを有している。複数の着色層は、例えば赤色の着色層30R、緑色の着色層30G、青色の着色層30Bを有している。 As shown in FIGS. 1, 2, 3, 6, and 7, the facing substrate 2 includes a glass substrate 41 as a transparent insulating substrate. A color filter 4 is provided on the glass substrate 41. The color filter 4 has a light-shielding portion 31, a peripheral light-shielding portion 32, and a plurality of colored layers. The plurality of colored layers include, for example, a red colored layer 30R, a green colored layer 30G, and a blue colored layer 30B.

遮光部31は、格子状に形成されている。遮光部31は、補助容量線17及び信号線21に対向して形成されている。周辺遮光部32は、矩形枠状に形成され、額縁領域R2の全体に形成されている。周辺遮光部32は、表示領域R1の外側から漏れる光(バックライト)の遮光に寄与している。 The light-shielding portion 31 is formed in a grid pattern. The light-shielding portion 31 is formed so as to face the auxiliary capacitance line 17 and the signal line 21. The peripheral light-shielding portion 32 is formed in a rectangular frame shape, and is formed in the entire frame region R2. The peripheral light-shielding unit 32 contributes to light-shielding light (backlight) leaking from the outside of the display area R1.

着色層30R、30G、30Bは、ガラス基板41及び遮光部31上に形成されている。着色層30R、30G、30Bは、列方向Yに沿って帯状に延在している。着色層30R、30G、30Bは、行方向Xに互いに隣接し、交互に並べられている。着色層30R、30G、30Bの周縁部は、遮光部31に重なっている。
なお、カラーフィルタ4上には、図示しないオーバーコート層を配置してもよい。これにより、遮光部31及びカラーフィルタ4の表面の凹凸の影響を緩和することができる。
The colored layers 30R, 30G, and 30B are formed on the glass substrate 41 and the light-shielding portion 31. The colored layers 30R, 30G, and 30B extend in a band shape along the column direction Y. The colored layers 30R, 30G, and 30B are adjacent to each other in the row direction X and are arranged alternately. The peripheral edges of the colored layers 30R, 30G, and 30B overlap the light-shielding portion 31.
An overcoat layer (not shown) may be arranged on the color filter 4. As a result, the influence of the unevenness on the surface of the light-shielding portion 31 and the color filter 4 can be alleviated.

カラーフィルタ4(オーバーコート層)上に、ITO等の透明な導電膜により対向電極42が形成されている。対向電極42上には配向膜43が形成されている。上記のように、ガラス基板41上に対向パターン2pが形成されている。対向パターン2pは、カラーフィルタ4、対向電極42及び配向膜43を有している。対向パターン2pは、オーバーコート層をさらに有していてもよい。 A counter electrode 42 is formed on the color filter 4 (overcoat layer) by a transparent conductive film such as ITO. An alignment film 43 is formed on the counter electrode 42. As described above, the facing pattern 2p is formed on the glass substrate 41. The facing pattern 2p has a color filter 4, a facing electrode 42, and an alignment film 43. The facing pattern 2p may further have an overcoat layer.

アレイ基板1及び対向基板2は、複数の柱状スペーサ27により所定の隙間を置いて対向配置されている。シール材51は、額縁領域R2に対向し、アレイ基板1及び対向基板2間に設けられ、表示領域R1の周縁と突起61、62の間に位置し矩形枠状に連続して形成されている。アレイ基板1及び対向基板2の周縁全体に亘って、シール材51は、アレイ基板1及び対向基板2の周縁に間隔を置いて位置している。 The array substrate 1 and the facing substrate 2 are arranged to face each other with a predetermined gap between the plurality of columnar spacers 27. The sealing material 51 faces the frame region R2, is provided between the array substrate 1 and the facing substrate 2, is located between the peripheral edge of the display region R1 and the protrusions 61, 62, and is continuously formed in a rectangular frame shape. .. The sealing material 51 is located at intervals on the peripheral edges of the array substrate 1 and the opposed substrate 2 over the entire peripheral edge of the array substrate 1 and the opposed substrate 2.

アレイ基板1及び対向基板2は、シール材51により互いに接合されている。シール材51は、防湿部材29a上に形成されている。この実施形態において、防湿部材29aは、スリット23h1に充填され層間絶縁膜18に接したシール材51の一部で形成されている。シール材51は、水分を遮断する性質を有している。シール材51は、アクリル等の樹脂を利用して形成することができる。このため、保護絶縁膜23や保護絶縁膜23の表面(界面)を伝い、スリット23h1より表示領域R1側の配線w3、w4、w7、w8等への水分の浸入を遮断することができる。 The array substrate 1 and the facing substrate 2 are joined to each other by a sealing material 51. The sealing material 51 is formed on the moisture-proof member 29a. In this embodiment, the moisture-proof member 29a is formed of a part of the sealing material 51 that is filled in the slit 23h1 and is in contact with the interlayer insulating film 18. The sealing material 51 has a property of blocking moisture. The sealing material 51 can be formed by using a resin such as acrylic. Therefore, it is possible to block the infiltration of water into the wirings w3, w4, w7, w8, etc. on the display region R1 side from the slit 23h1 along the surface (interface) of the protective insulating film 23 and the protective insulating film 23.

シール材51は、駆動回路6a、6b全体を覆っている。シール材51は、突起61、62(受止めパターン60)によりアレイ基板1及び対向基板2の周縁側への広がり(行方向Xへの広がり)が抑制されている。なお、突起61、62は、シール材51の側面で接するが、突起61、62は、シール材51の広がりを抑制するためのものであるため、すべての箇所で接しているとは限らず部分的に接している形状になる場合もある。 The sealing material 51 covers the entire drive circuits 6a and 6b. In the sealing material 51, the protrusions 61 and 62 (reception pattern 60) suppress the spread of the array substrate 1 and the facing substrate 2 toward the peripheral edge side (spread in the row direction X). The protrusions 61 and 62 are in contact with each other on the side surface of the sealing material 51, but since the protrusions 61 and 62 are for suppressing the spread of the sealing material 51, they are not always in contact with each other. In some cases, the shape is in contact with the target.

液晶層3は、アレイ基板1、対向基板2及びシール材51で囲まれた空間に形成されている。
上記のように液晶表示パネルが形成されている。
The liquid crystal layer 3 is formed in a space surrounded by the array substrate 1, the facing substrate 2, and the sealing material 51.
The liquid crystal display panel is formed as described above.

次に、上記液晶表示パネルの一層詳しい構成を、その製造方法と併せて説明する。
図1乃至図8、及び図9に示すように、まず、透明な絶縁基板としてアレイ基板1よりも寸法の大きい第1マザー基板としてのマザーガラス101を用意する。この実施形態によれば、マザーガラス101は、アレイ基板1を形成するため6つの矩形状のアレイ基板形成領域R6と、アレイ基板形成領域R6から外れた非有効領域R7とを有している。マザーガラス101は、アレイ基板形成領域R6の周縁に重なった第1分断予定線e1を有している。
Next, a more detailed configuration of the liquid crystal display panel will be described together with a manufacturing method thereof.
As shown in FIGS. 1 to 8 and 9, first, a mother glass 101 as a first mother substrate having a size larger than that of the array substrate 1 is prepared as a transparent insulating substrate. According to this embodiment, the mother glass 101 has six rectangular array substrate forming regions R6 for forming the array substrate 1 and an ineffective region R7 deviating from the array substrate forming region R6. The mother glass 101 has a first planned division line e1 that overlaps the peripheral edge of the array substrate forming region R6.

用意したマザーガラス101上には、成膜およびパターニングを繰り返す等、通常の製造工程により、TFT19、補助容量素子24、駆動回路6a、6b、スリット23h1を有した保護絶縁膜23等を含むアレイパターン1pを形成する。 An array pattern including a TFT 19, an auxiliary capacitance element 24, drive circuits 6a and 6b, a protective insulating film 23 having a slit 23h1 and the like on the prepared mother glass 101 by a normal manufacturing process such as repeating film formation and patterning. Form 1p.

次いで、スピンナを用い、例えば感光性アクリル性の透明樹脂をマザーガラス101上全面に塗布する。続いて、透明樹脂を乾燥させる。次いで、所定のフォトマスクを用い、透明樹脂にパターニングを露光する。次に、露光された透明樹脂を現像した後、焼成し硬化させる。 Next, using a spinner, for example, a photosensitive acrylic transparent resin is applied to the entire surface of the mother glass 101. Then, the transparent resin is dried. Next, the patterning is exposed on the transparent resin using a predetermined photomask. Next, the exposed transparent resin is developed and then fired and cured.

図1乃至図8、及び図10に示すように、これにより、柱状スペーサ27及び突起61、62が同時に形成される。なお、突起61、62及び柱状スペーサ27を同時に形成できるため、製造工程を増やすことなく形成可能である。 As shown in FIGS. 1 to 8 and 10, this causes the columnar spacer 27 and the protrusions 61 and 62 to be formed at the same time. Since the protrusions 61 and 62 and the columnar spacer 27 can be formed at the same time, they can be formed without increasing the number of manufacturing steps.

その後、表示領域R1を含むマザーガラス101上全面に、配向膜材料を塗布し、パターニングすることにより、配向膜28を形成する。なお、配向膜28には、必要に応じて所定の配向処理(ラビング)が施される。
これにより、1枚のマザーガラス101にて6個のアレイ基板1が完成する。
After that, the alignment film material is applied to the entire surface of the mother glass 101 including the display region R1 and patterned to form the alignment film 28. The alignment film 28 is subjected to a predetermined alignment treatment (rubbing) as necessary.
As a result, six array substrates 1 are completed with one mother glass 101.

図1、図2、図3、図6、図7及び図8、並びに図11に示すように、一方、対向基板2の製造方法においては、まず、透明な絶縁基板として対向基板2よりも寸法の大きい第2マザー基板としてのマザーガラス102を用意する。この実施形態によれば、マザーガラス102は、対向基板2を形成するため6つの矩形状の対向基板形成領域R8と、対向基板形成領域R8から外れた非有効領域R9とを有している。マザーガラス102は、対向基板形成領域R8の周縁に重なった第2分断予定線e2を有している。 As shown in FIGS. 1, 2, 3, 6, 7, 8 and 11, on the other hand, in the method of manufacturing the facing substrate 2, first, as a transparent insulating substrate, the dimensions are larger than those of the facing substrate 2. A mother glass 102 as a second mother substrate having a large size is prepared. According to this embodiment, the mother glass 102 has six rectangular facing substrate forming regions R8 for forming the facing substrate 2 and an ineffective region R9 deviating from the facing substrate forming region R8. The mother glass 102 has a second planned division line e2 that overlaps the peripheral edge of the facing substrate forming region R8.

用意したマザーガラス102上には、通常の製造工程により、対向パターン2pを形成する。なお、配向膜43には、必要に応じて所定の配向処理(ラビング)が施される。
これにより、1枚のマザーガラス102にて6個の対向基板2が完成する。
The facing pattern 2p is formed on the prepared mother glass 102 by a normal manufacturing process. The alignment film 43 is subjected to a predetermined alignment treatment (rubbing) as necessary.
As a result, six opposed substrates 2 are completed with one mother glass 102.

次いで、図7、図8及び図12に示すように、アレイ基板1の額縁領域R2に全周に亘って、シール材51を形成する材料として、例えば紫外線硬化型の樹脂を印刷法により塗布する。これにより、枠状のシール材51が形成される。また、シール材51を形成する際、アレイ基板1から対向基板2に電圧を印加するための電極転移材をシール材51の周辺の図示しない電極転移電極上に形成することができる。 Next, as shown in FIGS. 7, 8 and 12, as a material for forming the sealing material 51 over the entire circumference of the frame region R2 of the array substrate 1, for example, an ultraviolet curable resin is applied by a printing method. .. As a result, the frame-shaped sealing material 51 is formed. Further, when forming the sealing material 51, an electrode transition material for applying a voltage from the array substrate 1 to the facing substrate 2 can be formed on an electrode transition electrode (not shown) around the sealing material 51.

図11乃至図14に示すように、その後、シール材51で囲まれた領域に液晶材料を滴下する。続いて、配向膜28及び配向膜43が対向するよう、マザーガラス101及びマザーガラス102を対向配置し、アレイ基板1及び対向基板2を複数の柱状スペーサ27により所定の隙間を保持して対向配置し、アレイ基板1及び対向基板2の周縁部同士をシール材51により貼り合せる。この際、シール材51は、スリット23h1に充填される。また、突起61、62によりシール材51の広がりが抑制される。 As shown in FIGS. 11 to 14, the liquid crystal material is then dropped onto the region surrounded by the sealing material 51. Subsequently, the mother glass 101 and the mother glass 102 are arranged to face each other so that the alignment film 28 and the alignment film 43 face each other, and the array substrate 1 and the facing substrate 2 are arranged to face each other while holding a predetermined gap by a plurality of columnar spacers 27. Then, the peripheral edges of the array substrate 1 and the facing substrate 2 are bonded to each other by the sealing material 51. At this time, the sealing material 51 is filled in the slit 23h1. Further, the protrusions 61 and 62 suppress the spread of the sealing material 51.

次いで、外部よりシール材51に紫外線を照射してシール材51を硬化させ、さらに熱硬化処理を施し、本硬化させる。これにより、シール材51を介してマザーガラス101及びマザーガラス102が接合される。 Next, the sealing material 51 is irradiated with ultraviolet rays from the outside to cure the sealing material 51, and further subjected to a thermosetting treatment to be main-cured. As a result, the mother glass 101 and the mother glass 102 are joined via the sealing material 51.

続いて、マザーガラス101を第1分断予定線e1に沿って分割するとともに、マザーガラス102を第2分断予定線e2に沿って分割する。分割する際、例えば、第1分断予定線e1及び第2分断予定線e2に沿ってスクライブラインを引いて分割する。これにより、マザーガラス101からアレイ基板1が、マザーガラス102から対向基板2がそれぞれ切出される。
これにより、図3に示すように、分断されたマザーガラス101及びマザーガラス102から、液晶表示パネルが6組取出される。そして、6つの液晶表示パネルがそれぞれ完成する。
Subsequently, the mother glass 101 is divided along the first planned division line e1, and the mother glass 102 is divided along the second planned division line e2. At the time of division, for example, a scribe line is drawn along the first planned division line e1 and the second planned division line e2 to divide. As a result, the array substrate 1 is cut out from the mother glass 101, and the facing substrate 2 is cut out from the mother glass 102.
As a result, as shown in FIG. 3, six liquid crystal display panels are taken out from the divided mother glass 101 and mother glass 102. Then, each of the six liquid crystal display panels is completed.

上記のように構成された第1の実施形態に係る液晶表示パネル及び液晶表示パネルの製造方法によれば、液晶表示パネルは、アレイ基板1と、対向基板2と、液晶層3とシール材51とを備えている。アレイ基板1は、配線w1乃至w8と、層間絶縁膜18と、保護絶縁膜23と、防湿部材29aとを有している。保護絶縁膜23は、表示領域R1及び額縁領域R2上に形成され、配線w1乃至w4、w7及びw8を覆っている。保護絶縁膜23は、配線w2及び配線w3の間を貫通して形成されたスリット23h1を有している。防湿部材29aは、スリット23h1に充填され層間絶縁膜18に接したシール材51の一部で形成されている。 According to the method for manufacturing a liquid crystal display panel and a liquid crystal display panel according to the first embodiment configured as described above, the liquid crystal display panel includes an array substrate 1, a facing substrate 2, a liquid crystal layer 3, and a sealing material 51. And have. The array substrate 1 has wirings w1 to w8, an interlayer insulating film 18, a protective insulating film 23, and a moisture-proof member 29a. The protective insulating film 23 is formed on the display region R1 and the frame region R2, and covers the wirings w1 to w4, w7, and w8. The protective insulating film 23 has a slit 23h1 formed so as to penetrate between the wiring w2 and the wiring w3. The moisture-proof member 29a is formed of a part of the sealing material 51 that is filled in the slit 23h1 and is in contact with the interlayer insulating film 18.

シール材51は、水分を遮断する性質を有している。このため、有機絶縁膜である保護絶縁膜23や保護絶縁膜23と層間絶縁膜18との界面を伝う水分は、スリット23h1と防湿部材29aによって表示領域R1側への浸入が遮断される。なお、層間絶縁膜(無機絶縁膜)18は水分を遮断する性質を有している。この実施形態において、配線w3、w4、w7、w8等への水分の浸入を遮断することができる。特に、隣接配線との電位差が大きい配線間にスリット23h1と防湿部材29aを配置すると水分と電位差に起因する配線の腐食を防止することができる。本実施形態では、腐食が発生し易い配線w3、w4への水分の浸入を遮断することができる。これにより、配線w3、w4、w7、w8等が腐食する懸念を排除することができる。 The sealing material 51 has a property of blocking moisture. Therefore, the protective insulating film 23, which is an organic insulating film, and the moisture transmitted through the interface between the protective insulating film 23 and the interlayer insulating film 18 are blocked from entering the display region R1 side by the slit 23h1 and the moisture-proof member 29a. The interlayer insulating film (inorganic insulating film) 18 has a property of blocking moisture. In this embodiment, it is possible to block the infiltration of water into the wiring w3, w4, w7, w8 and the like. In particular, if the slit 23h1 and the moisture-proof member 29a are arranged between the wirings having a large potential difference with the adjacent wirings, it is possible to prevent the wiring from being corroded due to the moisture and the potential difference. In the present embodiment, it is possible to block the infiltration of water into the wirings w3 and w4, which are prone to corrosion. This makes it possible to eliminate the concern that the wiring w3, w4, w7, w8 and the like will be corroded.

この実施形態において、スリット23h1は枠状に形成され、スリット23h1全域にシール材51が充填されているため、液晶表示パネル内部への水分の侵入を一層遮断することができ、配線の腐食など、水分による悪影響を一層排除することができる。 In this embodiment, since the slit 23h1 is formed in a frame shape and the entire area of the slit 23h1 is filled with the sealing material 51, it is possible to further block the intrusion of moisture into the inside of the liquid crystal display panel, and the wiring is corroded. The adverse effect of moisture can be further eliminated.

スリット23h1は、5乃至10μmの幅を有している。これにより、空いているスペース(配線等の非利用スペース)にスリット23h1を形成することができる。なお、保護絶縁膜23のパターニングが可能であれば、スリット23h1の幅は、5μm未満でもよい。この場合も、上記防湿効果を得ることができる。また、配線等の非利用スペースに余裕がある場合、スリット23h1の幅は10μm以上であってもよい。また、配線と配線の間において、配線に沿ってスリット23h1を形成しても良い。例えば、コモン電位を持つ配線とHighレベルを電位を与える電源配線との間において、少なくとも一方の配線に沿って平行にスリット23h1を形成しても良い。 The slit 23h1 has a width of 5 to 10 μm. Thereby, the slit 23h1 can be formed in the vacant space (unused space such as wiring). The width of the slit 23h1 may be less than 5 μm as long as the protective insulating film 23 can be patterned. In this case as well, the above-mentioned moisture-proof effect can be obtained. Further, when there is a margin in unused space such as wiring, the width of the slit 23h1 may be 10 μm or more. Further, a slit 23h1 may be formed along the wiring between the wirings. For example, a slit 23h1 may be formed in parallel along at least one of the wirings between the wiring having a common potential and the power supply wiring that gives a high level potential.

配線w2及び配線w3の間にスリット23h1を形成することができる。配線w1乃至w4、w7及びw8よりアレイ基板1の外縁側の保護絶縁膜23を幅200乃至300μmとして全周にわたって除去し、上記除去した空間にシール材を形成する必要がなくなる。このため、狭額縁化を図ることができる。 A slit 23h1 can be formed between the wiring w2 and the wiring w3. The protective insulating film 23 on the outer edge side of the array substrate 1 is removed from the wirings w1 to w4, w7 and w8 over the entire circumference with a width of 200 to 300 μm, and it is not necessary to form a sealing material in the removed space. Therefore, the frame can be narrowed.

スリット23h1の幅は狭いため、配線w1乃至w4、w7及びw8等を剥き出しにすること無しにスリット23h1を形成することができる。配線w1乃至w4、w7及びw8への静電気の侵入を防止することができるため、上記配線の周辺回路(駆動回路6a、6b)の破壊を防止することができる。このため、ESD(Electro Static Discharge)耐圧の低下を防止することができる。
スリット23h1は、コンタクトホール25を形成する際、同時に形成できるため、製造工程を増やすことなく形成可能である。
Since the width of the slit 23h1 is narrow, the slit 23h1 can be formed without exposing the wirings w1 to w4, w7, w8 and the like. Since it is possible to prevent static electricity from entering the wirings w1 to w4, w7 and w8, it is possible to prevent the peripheral circuits (drive circuits 6a and 6b) of the wiring from being destroyed. Therefore, it is possible to prevent a decrease in ESD (Electro Static Discharge) withstand voltage.
Since the slit 23h1 can be formed at the same time when the contact hole 25 is formed, it can be formed without increasing the number of manufacturing steps.

突起61、62は、表示領域R1の周縁に間隔を置いてアレイ基板1に設けられ、対向基板2に隙間を置いて形成されている。シール材51は、表示領域R1の周縁及び突起61の間、並びに表示領域R1の周縁及び突起62の間に位置している。シール材51は、突起61、62によりアレイ基板1及び対向基板2の周縁側への広がりが抑制されている。 The protrusions 61 and 62 are provided on the array substrate 1 at intervals on the peripheral edge of the display region R1, and are formed with a gap on the facing substrate 2. The sealing material 51 is located between the peripheral edge of the display area R1 and the protrusion 61, and between the peripheral edge of the display area R1 and the protrusion 62. The sealing material 51 is prevented from spreading toward the peripheral edges of the array substrate 1 and the facing substrate 2 by the protrusions 61 and 62.

アレイ基板1(対向基板2)の周縁に近い領域にシール材51を塗布することができる。このため、額縁幅の狭い液晶表示パネルにおいても、表示領域R1内へのシール材51の広がりを抑制することができ、表示異常を防止することができる。アレイ基板1及び対向基板2の周縁側へのシール材51の広がりは、突起61、62により抑制され、シール材51が第1分断予定線e1(第2分断予定線e2)に重なるまで広がることはないため、マザーガラス101、102からアレイ基板1及び対向基板2を良好に分断することができる。 The sealing material 51 can be applied to a region near the peripheral edge of the array substrate 1 (opposing substrate 2). Therefore, even in a liquid crystal display panel having a narrow frame width, it is possible to suppress the spread of the sealing material 51 in the display area R1 and prevent display abnormalities. The spread of the sealing material 51 toward the peripheral edge side of the array substrate 1 and the facing substrate 2 is suppressed by the protrusions 61 and 62, and the sealing material 51 spreads until it overlaps the first planned dividing line e1 (second scheduled cutting line e2). Therefore, the array substrate 1 and the facing substrate 2 can be satisfactorily separated from the mother glasses 101 and 102.

また、マザーガラス101、102から液晶表示パネルを切り出す際に、ガラスを切断する刃は突起61、62の間、すなわち、分断予定線e1、e2にあたる。この刃がガラス面に接する時、壁状の突起61、62がガラスを支持することによって、ガラス面にかかる刃の圧力はガラス面で均等に分散される。したがって、ガラス切断の際にガラスが欠ける、割れる等の不具合が生じずに切断することが可能となる。 Further, when cutting out the liquid crystal display panel from the mother glasses 101 and 102, the blade for cutting the glass corresponds between the protrusions 61 and 62, that is, the planned division lines e1 and e2. When the blade comes into contact with the glass surface, the wall-shaped protrusions 61 and 62 support the glass, so that the pressure of the blade applied to the glass surface is evenly distributed on the glass surface. Therefore, it is possible to cut the glass without causing problems such as chipping or breaking of the glass.

本実施形態では、液晶表示パネルの表示領域R1の周囲の左右両側に突起61、62を配置している。すなわち、アウターリードボンディングのパッドが配置されている端辺と垂直に交わる端辺に沿って突起61、62は配置される。また、同じく上記パッドが配置されている端辺と垂直に交わる端辺に沿ってスリット23h1と防湿部材29aが配置されている。また、表示領域R1の周囲の上側及び/又は下側、すなわち、上記パッドが配置されている側の端辺と、この端辺に対向する端辺の側に突起を配置してもよい。
このように受止めパターン60を配置すれば、上述の通りガラス切断の際にガラスが欠ける等の不具合が生じずに、良好に切断することが可能となる。
上記したことから、狭額縁化を図ることができる、製品歩留まりの高い液晶表示パネル及び液晶表示装置の製造方法を得ることができる。
In the present embodiment, protrusions 61 and 62 are arranged on both the left and right sides around the display area R1 of the liquid crystal display panel. That is, the protrusions 61 and 62 are arranged along the edge perpendicular to the edge on which the outer lead bonding pad is arranged. Further, the slit 23h1 and the moisture-proof member 29a are arranged along the end edge perpendicularly intersecting the end edge where the pad is also arranged. Further, the protrusions may be arranged on the upper side and / or the lower side of the periphery of the display area R1, that is, on the end side on the side where the pad is arranged and on the side of the end side facing the end side.
By arranging the receiving pattern 60 in this way, it is possible to cut the glass satisfactorily without causing problems such as chipping of the glass when cutting the glass as described above.
From the above, it is possible to obtain a method for manufacturing a liquid crystal display panel and a liquid crystal display device having a high product yield, which can reduce the frame size.

次に、第2の実施形態に係る液晶表示パネルについて説明する。本実施形態に係る液晶表示パネルは、上記第1の実施形態に係る液晶表示パネルの製造方法と同様の手法を利用して形成可能である。本実施形態において、上述した第1の実施形態と同一機能部分には同一符号を付し、その詳細な説明は省略する。 Next, the liquid crystal display panel according to the second embodiment will be described. The liquid crystal display panel according to the present embodiment can be formed by using the same method as the method for manufacturing the liquid crystal display panel according to the first embodiment. In the present embodiment, the same functional parts as those in the first embodiment described above are designated by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.

図3、図15及び図16に示すように、保護絶縁膜23はスリット23h1の他、スリット23h2及びスリット23h3を有している。スリット23h1と同様、スリット23h2及びスリット23h3も保護絶縁膜23を貫通して形成されている。また、スリット23h2、23h3は、配線が剥き出しにならないように形成され、層間絶縁膜18を剥き出しの状態にするように形成されている。スリット23h2、23h3は、帯状に形成され、列方向Yに枠状に延出して形成されている。スリット23h2、23h3は、それぞれ配線w3及び配線w4の延出した方向に沿って延在して形成されている。スリット23h2、23h3は、例えば、それぞれ5乃至10μmの幅を有している。 As shown in FIGS. 3, 15 and 16, the protective insulating film 23 has a slit 23h2 and a slit 23h3 in addition to the slit 23h1. Like the slit 23h1, the slit 23h2 and the slit 23h3 are also formed so as to penetrate the protective insulating film 23. Further, the slits 23h2 and 23h3 are formed so that the wiring is not exposed and the interlayer insulating film 18 is exposed. The slits 23h2 and 23h3 are formed in a band shape and are formed so as to extend in a frame shape in the row direction Y. The slits 23h2 and 23h3 are formed so as to extend along the extending direction of the wiring w3 and the wiring w4, respectively. The slits 23h2 and 23h3 have a width of, for example, 5 to 10 μm, respectively.

額縁領域R2の左側で、スリット23h2は、配線w3及び配線w4の間に形成されている。額縁領域R2の右側で、スリット23h3は、配線w3及び配線w4の間に形成されている。スリット23h1、23h2、23h3は、アレイパターン1pの最上部に位置している。スリット23h1には防湿部材29aが充填され層間絶縁膜18に接している。スリット23h2には防湿部材29bが充填され層間絶縁膜18に接している。スリット23h3には防湿部材29cが充填され層間絶縁膜18に接している。シール材51は、防湿部材29a、29b、29c上に形成されている。この実施形態において、スリット23h1、23h2、23h3にそれぞれシール材51の一部が充填されることにより、防湿部材29a、29b、29cが形成されている。 On the left side of the frame region R2, the slit 23h2 is formed between the wiring w3 and the wiring w4. On the right side of the frame region R2, the slit 23h3 is formed between the wiring w3 and the wiring w4. The slits 23h1, 23h2, and 23h3 are located at the uppermost part of the array pattern 1p. The slit 23h1 is filled with a moisture-proof member 29a and is in contact with the interlayer insulating film 18. The slit 23h2 is filled with a moisture-proof member 29b and is in contact with the interlayer insulating film 18. The slit 23h3 is filled with a moisture-proof member 29c and is in contact with the interlayer insulating film 18. The sealing material 51 is formed on the moisture-proof members 29a, 29b, and 29c. In this embodiment, the slits 23h1, 23h2, and 23h3 are filled with a part of the sealing material 51 to form the moisture-proof members 29a, 29b, and 29c, respectively.

上記のように構成された第2の実施形態に係る液晶表示パネル及び液晶表示パネルの製造方法によれば、液晶表示パネルは、アレイ基板1と、対向基板2と、液晶層3とシール材51とを備えている。保護絶縁膜23は、配線w3及び配線w4の間を貫通して形成されたスリット23h2、23h3を有している。すなわち、スリットが二重に形成されている。スリット23h2、23h3には、それぞれシール材51の一部が充填され層間絶縁膜18に接し、防湿部材29b、29cを形成している。 According to the method for manufacturing a liquid crystal display panel and a liquid crystal display panel according to the second embodiment configured as described above, the liquid crystal display panel includes an array substrate 1, a facing substrate 2, a liquid crystal layer 3, and a sealing material 51. And have. The protective insulating film 23 has slits 23h2 and 23h3 formed so as to penetrate between the wiring w3 and the wiring w4. That is, the slit is doubly formed. The slits 23h2 and 23h3 are filled with a part of the sealing material 51 and are in contact with the interlayer insulating film 18, respectively, to form the moisture-proof members 29b and 29c.

この実施形態において、スリット23h1に形成された防湿部材29a(シール材51)により配線w3、w4、w7、w8等への水分の浸入を遮断することができ、スリット23h2、23h3に形成された防湿部材29b、29c(シール材51)により配線w4、w7、w8等への水分の浸入を一層遮断することができる。これにより、配線w3、w4、w7、w8等が腐食する懸念を排除することができる。上記のように、配線w4への水分の浸入を一層遮断することができるため、隣接配線間の電位差の大きい配線w3、w4の腐食を一層低減することができる。 In this embodiment, the moisture-proof member 29a (sealing material 51) formed in the slit 23h1 can block the infiltration of moisture into the wirings w3, w4, w7, w8, etc., and the moisture-proof member formed in the slits 23h2, 23h3. The members 29b and 29c (sealing material 51) can further block the infiltration of water into the wirings w4, w7, w8 and the like. This makes it possible to eliminate the concern that the wiring w3, w4, w7, w8 and the like will be corroded. As described above, since it is possible to further block the infiltration of water into the wiring w4, it is possible to further reduce the corrosion of the wirings w3 and w4 having a large potential difference between the adjacent wirings.

スリット23h2、23h3を、配線w3及び配線w4の間に形成することができる。スリット23h1同様、スリット23h2、23h3も空いているスペース(配線等の非利用スペース)に形成することができるため、狭額縁化を図ることができる。その他、上記第1の実施形態と同様の効果を得ることができる。
上記したことから、狭額縁化を図ることができる、製品歩留まりの高い液晶表示パネル及び液晶表示装置の製造方法を得ることができる。
The slits 23h2 and 23h3 can be formed between the wiring w3 and the wiring w4. Similar to the slit 23h1, the slits 23h2 and 23h3 can also be formed in an empty space (unused space such as wiring), so that the frame can be narrowed. In addition, the same effect as that of the first embodiment can be obtained.
From the above, it is possible to obtain a method for manufacturing a liquid crystal display panel and a liquid crystal display device having a high product yield, which can reduce the frame size.

次に、第3の実施形態に係る液晶表示パネルについて説明する。本実施形態に係る液晶表示パネルは、上記第1の実施形態に係る液晶表示パネルの製造方法と同様の手法を利用して形成可能である。本実施形態において、上述した第1の実施形態と同一機能部分には同一符号を付し、その詳細な説明は省略する。 Next, the liquid crystal display panel according to the third embodiment will be described. The liquid crystal display panel according to the present embodiment can be formed by using the same method as the method for manufacturing the liquid crystal display panel according to the first embodiment. In the present embodiment, the same functional parts as those in the first embodiment described above are designated by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.

図17に示すように、配向膜28は、保護絶縁膜23より水分浸透性の低い無機系の材料で形成されている。配向膜28は、水分を遮断する性質を有している。防湿部材29aは、配向膜28と同一の材料で形成されている。配向膜28は、額縁領域R2のスリット23h1と対向する位置まで延在して形成されている。好ましくは、配向膜28は、額縁領域R2のスリット23h1を越える位置まで延在して形成されている。防湿部材29aは、スリット23h1に充填され層間絶縁膜18に接した配向膜28の一部で形成されている。上記のように、本実施形態において、表示領域R1の配向膜28と防湿部材29aとが一体に形成されているが、防湿部材29aが表示領域R1の配向膜28から分離して形成されていてもよい。 As shown in FIG. 17, the alignment film 28 is made of an inorganic material having a lower water permeability than the protective insulating film 23. The alignment film 28 has a property of blocking water. The moisture-proof member 29a is made of the same material as the alignment film 28. The alignment film 28 is formed so as to extend to a position facing the slit 23h1 of the frame region R2. Preferably, the alignment film 28 is formed so as to extend beyond the slit 23h1 of the frame region R2. The moisture-proof member 29a is formed of a part of the alignment film 28 that is filled in the slit 23h1 and is in contact with the interlayer insulating film 18. As described above, in the present embodiment, the alignment film 28 of the display region R1 and the moisture-proof member 29a are integrally formed, but the moisture-proof member 29a is formed separately from the alignment film 28 of the display region R1. May be good.

上記のように構成された第3の実施形態に係る液晶表示パネル及び液晶表示パネルの製造方法によれば、液晶表示パネルは、アレイ基板1と、対向基板2と、液晶層3とシール材51とを備えている。保護絶縁膜23は、配線w2及び配線w2の間を貫通して形成されたスリット23h1を有している。配向膜28が水分を遮断する性質を有している場合、配向膜28の一部をスリット23h1に充填し、防湿部材29aを形成してもよい。 According to the method for manufacturing a liquid crystal display panel and a liquid crystal display panel according to a third embodiment configured as described above, the liquid crystal display panel includes an array substrate 1, a facing substrate 2, a liquid crystal layer 3, and a sealing material 51. And have. The protective insulating film 23 has a slit 23h1 formed so as to penetrate between the wiring w2 and the wiring w2. When the alignment film 28 has a property of blocking water, a part of the alignment film 28 may be filled in the slit 23h1 to form a moisture-proof member 29a.

この実施形態において、スリット23h1に形成された防湿部材29aにより配線w3、w4、w7、w8等への水分の浸入を遮断することができる。これにより、配線w3、w4、w7、w8等が腐食する懸念を排除することができる。上記のように、配線w4への水分の浸入を一層遮断することができるため、隣接配線間において電位差の大きい配線w3、w4の腐食を一層低減することができる。 In this embodiment, the moisture-proof member 29a formed in the slit 23h1 can block the infiltration of water into the wirings w3, w4, w7, w8 and the like. This makes it possible to eliminate the concern that the wiring w3, w4, w7, w8 and the like will be corroded. As described above, since it is possible to further block the infiltration of water into the wiring w4, it is possible to further reduce the corrosion of the wirings w3 and w4 having a large potential difference between the adjacent wirings.

なお、配向膜28を形成する材料をスリット23h1に充填することができれば、上記効果を得ることができる。スリット23h1の幅が5乃至10μmであれば、スリット23h1に配向膜28を形成する材料を充填することができる。配向膜28を形成する材料をスリット23h1に充填することができれば、スリット23h1の幅が10μmを超えてもよい。 If the material forming the alignment film 28 can be filled in the slit 23h1, the above effect can be obtained. When the width of the slit 23h1 is 5 to 10 μm, the slit 23h1 can be filled with a material for forming the alignment film 28. If the material forming the alignment film 28 can be filled in the slit 23h1, the width of the slit 23h1 may exceed 10 μm.

その他、上記第1の実施形態と同様の効果を得ることができる。
上記したことから、狭額縁化を図ることができる、製品歩留まりの高い液晶表示パネル及び液晶表示装置の製造方法を得ることができる。
In addition, the same effect as that of the first embodiment can be obtained.
From the above, it is possible to obtain a method for manufacturing a liquid crystal display panel and a liquid crystal display device having a high product yield, which can reduce the frame size.

次に、第4の実施形態に係る液晶表示パネルについて説明する。本実施形態に係る液晶表示パネルは、上記第1の実施形態に係る液晶表示パネルの製造方法と同様の手法を利用して形成可能である。本実施形態において、上述した第1の実施形態と同一機能部分には同一符号を付し、その詳細な説明は省略する。 Next, the liquid crystal display panel according to the fourth embodiment will be described. The liquid crystal display panel according to the present embodiment can be formed by using the same method as the method for manufacturing the liquid crystal display panel according to the first embodiment. In the present embodiment, the same functional parts as those in the first embodiment described above are designated by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.

図18に示すように、柱状スペーサ27は、保護絶縁膜23より水分浸透性の低い材料で形成されている。柱状スペーサ27を形成する材料は、水分を遮断する性質を有している。防湿部材29aは、柱状スペーサ27と同一の材料で形成されている。柱状スペーサ27を形成する材料は、スリット23h1に充填され層間絶縁膜18に接し、防湿部材29aを形成している。柱状スペーサ27、突起61、62及び防湿部材29aは、同一材料で同時に形成されている。 As shown in FIG. 18, the columnar spacer 27 is made of a material having a lower water permeability than the protective insulating film 23. The material forming the columnar spacer 27 has a property of blocking moisture. The moisture-proof member 29a is made of the same material as the columnar spacer 27. The material forming the columnar spacer 27 is filled in the slit 23h1 and is in contact with the interlayer insulating film 18 to form the moisture-proof member 29a. The columnar spacer 27, the protrusions 61 and 62, and the moisture-proof member 29a are simultaneously formed of the same material.

上記のように構成された第4の実施形態に係る液晶表示パネル及び液晶表示パネルの製造方法によれば、液晶表示パネルは、アレイ基板1と、対向基板2と、液晶層3とシール材51とを備えている。保護絶縁膜23は、配線w2及び配線w2の間を貫通して形成されたスリット23h1を有している。柱状スペーサ27を形成する材料が水分を遮断する性質を有している場合、柱状スペーサ27を形成する材料をスリット23h1に充填し、防湿部材29aを形成してもよい。 According to the method for manufacturing a liquid crystal display panel and a liquid crystal display panel according to a fourth embodiment configured as described above, the liquid crystal display panel includes an array substrate 1, a facing substrate 2, a liquid crystal layer 3, and a sealing material 51. And have. The protective insulating film 23 has a slit 23h1 formed so as to penetrate between the wiring w2 and the wiring w2. When the material forming the columnar spacer 27 has a property of blocking moisture, the slit 23h1 may be filled with the material forming the columnar spacer 27 to form the moisture-proof member 29a.

この実施形態において、スリット23h1に形成された防湿部材29aにより配線w3、w4、w7、w8等への水分の浸入を遮断することができる。これにより、配線w3、w4、w7、w8等が腐食する懸念を排除することができる。上記のように、配線w4への水分の浸入を一層遮断することができるため、隣接配線間において電位差の大きい配線w3、w4の腐食を一層低減することができる。その他、上記第1の実施形態と同様の効果を得ることができる。
上記したことから、狭額縁化を図ることができる、製品歩留まりの高い液晶表示パネル及び液晶表示装置の製造方法を得ることができる。
In this embodiment, the moisture-proof member 29a formed in the slit 23h1 can block the infiltration of water into the wirings w3, w4, w7, w8 and the like. This makes it possible to eliminate the concern that the wiring w3, w4, w7, w8 and the like will be corroded. As described above, since it is possible to further block the infiltration of water into the wiring w4, it is possible to further reduce the corrosion of the wirings w3 and w4 having a large potential difference between the adjacent wirings. In addition, the same effect as that of the first embodiment can be obtained.
From the above, it is possible to obtain a method for manufacturing a liquid crystal display panel and a liquid crystal display device having a high product yield, which can reduce the frame size.

本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。 Although some embodiments of the present invention have been described, these embodiments are presented as examples and are not intended to limit the scope of the invention. These novel embodiments can be implemented in various other embodiments, and various omissions, replacements, and changes can be made without departing from the gist of the invention. These embodiments and modifications thereof are included in the scope and gist of the invention, and are also included in the scope of the invention described in the claims and the equivalent scope thereof.

例えば、複数の配線の中、最もアレイ基板1の外縁側に位置した配線を最外周配線とする。すると、最外周配線は、スリットより表示領域R1側に位置していてもよい。これにより、最外周配線を含む複数の配線への水分の浸入を一層遮断することができる。 For example, among the plurality of wirings, the wiring located on the outer edge side of the array board 1 is defined as the outermost wiring. Then, the outermost wiring may be located on the display area R1 side from the slit. As a result, it is possible to further block the infiltration of moisture into a plurality of wirings including the outermost wiring.

防湿部材29a、29b、29cは、シール材51を形成する材料、配向膜28を形成する材料、柱状スペーサ27を形成する材料、以外の材料で形成されていてもよい。防湿部材29a、29b、29cを形成する材料は、無機系の材料に限定されるものではなく、保護絶縁膜23(有機絶縁膜)より水分浸透性の低い材料であれば上述した効果を得ることができる。 The moisture-proof members 29a, 29b, and 29c may be made of a material other than the material forming the sealing material 51, the material forming the alignment film 28, and the material forming the columnar spacer 27. The material forming the moisture-proof members 29a, 29b, and 29c is not limited to the inorganic material, and the above-mentioned effect can be obtained if the material has a lower water permeability than the protective insulating film 23 (organic insulating film). Can be done.

上述した実施形態の技術は、上記液晶表示パネルに限定されるものではなく、各種の液晶表示パネルに適用可能である。液晶注入法は、滴下注入法の利用に限定されるものではなく、真空注入法を利用することも可能である。また、上述した実施形態の技術は、液晶表示パネル以外の表示パネルにも適用可能である。 The technique of the above-described embodiment is not limited to the liquid crystal display panel, and can be applied to various liquid crystal display panels. The liquid crystal injection method is not limited to the use of the drop injection method, and the vacuum injection method can also be used. Further, the technique of the above-described embodiment can be applied to a display panel other than the liquid crystal display panel.

以下に、本願出願の原出願に記載された発明を付記する。
[1]基板上に形成され表示領域及び前記表示領域を囲んだ額縁領域に位置した無機絶縁膜と、前記無機絶縁膜上に間隔を置いて形成され前記額縁領域に位置した第1配線及び第2配線と、前記無機絶縁膜上に形成され前記表示領域及び額縁領域に位置し前記第1配線及び第2配線を覆う有機絶縁膜と、前記第1配線及び第2配線の間において前記有機絶縁膜を貫通して形成されたスリットと、前記スリットに充填され前記無機絶縁膜に接している防湿部材と、を有したアレイ基板と、
前記アレイ基板に隙間を置いて対向配置された対向基板と、を備えている表示パネル。
[2]前記第1配線及び第2配線は、互いに電位の異なる配線である[1]に記載の表示パネル。
[3]前記第1配線は、前記スリットより前記表示領域側に位置している電源配線であり、
前記第2配線は、前記スリットより前記アレイ基板の外縁側に位置している制御信号配線である[1]に記載の表示パネル。
[4]少なくとも前記基板の額縁領域上に形成された前記無機絶縁膜で覆われ前記スリットと交差した接続配線をさらに備え、
前記第1配線は、前記スリットより前記表示領域側に位置し、
前記第2配線は、前記スリットより前記アレイ基板の外縁側に位置し、前記接続配線に電気的に接続されている[1]に記載の表示パネル。
[5]前記スリットは、前記第1配線及び第2配線の延出した方向に沿って延在して形成されている[1]に記載の表示パネル。
[6]前記有機絶縁膜は、前記第1配線及び第2配線より前記アレイ基板の外縁側に位置し、貫通して形成された枠状の他のスリットを有し、
前記アレイ基板は、前記他のスリットに充填され前記無機絶縁膜に接している他の防湿部材を有している[1]に記載の表示パネル。
[7]基板上に形成され表示領域及び前記表示領域を囲んだ額縁領域に位置した無機絶縁膜と、前記無機絶縁膜上に間隔を置いて形成され前記額縁領域に位置した最外周配線と、前記無機絶縁膜上に形成され前記表示領域及び額縁領域に位置し前記最外周配線を覆う有機絶縁膜と、前記有機絶縁膜を貫通して形成されたスリットと、前記スリットに充填され前記無機絶縁膜に接している防湿部材と、を有したアレイ基板と、
前記アレイ基板に隙間を置いて対向配置された対向基板と、を備え、
前記最外周配線は、前記スリットより前記表示領域側に位置している表示パネル。
[8]前記スリットは、前記最外周配線の延出した方向に沿って延在して形成されている[7]に記載の表示パネル。
[9]前記スリットは、枠状に形成されている[7]に記載の表示パネル。
[10]前記額縁領域に対向し、前記アレイ基板及び対向基板を接合したシール材をさらに備え、
前記防湿部材は、前記スリットに充填された前記シール材の一部で形成されている[1]又は[7]に記載の表示パネル。
[11]前記額縁領域に対向し、前記アレイ基板及び対向基板を接合し、前記防湿部材に接したシール材をさらに備え、
前記防湿部材は、前記シール材と異なる材料で形成されている[1]又は[7]に記載の表示パネル。
[12]前記アレイ基板、対向基板及びシール材で囲まれた空間に形成された液晶層をさらに備え、
前記アレイ基板は、少なくとも前記表示領域に形成され前記額縁領域の前記スリットと対向する位置まで延在して形成された無機系の配向膜をさらに有し、
前記防湿部材は、前記スリットに充填された前記配向膜の一部で形成されている[11]に記載の表示パネル。
[13]前記アレイ基板は、前記アレイ基板と前記対向基板との間の前記隙間を保持する柱状スペーサをさらに有し、
前記防湿部材は、前記柱状スペーサを形成する材料で形成されている[11]に記載の表示パネル。
[14]前記スリットは、5乃至10μmの幅を有している[1]又は[7]に記載の表示パネル。
The inventions described in the original application of the present application are described below.
[1] An inorganic insulating film formed on a substrate and located in a display area and a frame area surrounding the display area, and a first wiring and a first wiring formed on the inorganic insulating film at intervals and located in the frame area. The organic insulation between the two wirings, the organic insulating film formed on the inorganic insulating film and located in the display area and the frame area and covering the first wiring and the second wiring, and the first wiring and the second wiring. An array substrate having a slit formed through the film and a moisture-proof member filled in the slit and in contact with the inorganic insulating film.
A display panel comprising facing boards arranged opposite to each other with a gap between the array boards.
[2] The display panel according to [1], wherein the first wiring and the second wiring are wirings having different potentials from each other.
[3] The first wiring is a power supply wiring located on the display area side of the slit.
The display panel according to [1], wherein the second wiring is a control signal wiring located on the outer edge side of the array substrate from the slit.
[4] Further provided with a connection wiring covered with the inorganic insulating film formed on at least the frame region of the substrate and intersecting with the slit.
The first wiring is located on the display area side of the slit.
The display panel according to [1], wherein the second wiring is located on the outer edge side of the array substrate from the slit and is electrically connected to the connection wiring.
[5] The display panel according to [1], wherein the slit extends along the extending direction of the first wiring and the second wiring.
[6] The organic insulating film is located on the outer edge side of the array substrate from the first wiring and the second wiring, and has other frame-shaped slits formed through the organic insulating film.
The display panel according to [1], wherein the array substrate has another moisture-proof member that is filled in the other slit and is in contact with the inorganic insulating film.
[7] An inorganic insulating film formed on a substrate and located in a display area and a frame area surrounding the display area, and an outermost peripheral wiring formed on the inorganic insulating film at intervals and located in the frame area. An organic insulating film formed on the inorganic insulating film, located in the display area and the frame area and covering the outermost peripheral wiring, a slit formed through the organic insulating film, and the inorganic insulating film filled in the slit. An array substrate having a moisture-proof member in contact with the film, and
The array board is provided with a facing board arranged so as to face each other with a gap.
The outermost wiring is a display panel located on the display area side of the slit.
[8] The display panel according to [7], wherein the slit extends along the extending direction of the outermost peripheral wiring.
[9] The display panel according to [7], wherein the slit is formed in a frame shape.
[10] Further provided with a sealing material facing the frame region and joining the array substrate and the facing substrate.
The display panel according to [1] or [7], wherein the moisture-proof member is formed of a part of the sealing material filled in the slit.
[11] Further provided with a sealing material facing the frame region, joining the array substrate and the facing substrate, and contacting the moisture-proof member.
The display panel according to [1] or [7], wherein the moisture-proof member is made of a material different from the sealing material.
[12] Further, a liquid crystal layer formed in a space surrounded by the array substrate, the facing substrate, and the sealing material is further provided.
The array substrate further has an inorganic alignment film formed in at least the display region and extending to a position facing the slit in the frame region.
The display panel according to [11], wherein the moisture-proof member is formed of a part of the alignment film filled in the slit.
[13] The array substrate further has a columnar spacer that holds the gap between the array substrate and the facing substrate.
The display panel according to [11], wherein the moisture-proof member is made of a material forming the columnar spacer.
[14] The display panel according to [1] or [7], wherein the slit has a width of 5 to 10 μm.

1…アレイ基板、2…対向基板、3…液晶層、6a,6b…駆動回路、11…ガラス基板、18…層間絶縁膜、23…保護絶縁膜、23h1,23h2,23h3…スリット、27…柱状スペーサ、28…配向膜、29a,29b,29c…防湿部材、51…シール材、w1,w2,w3,w4,w5,w6,w7,w8…配線、R1…表示領域、R2…額縁領域、X…行方向、Y…列方向。 1 ... Array substrate, 2 ... Opposing substrate, 3 ... Liquid crystal layer, 6a, 6b ... Drive circuit, 11 ... Glass substrate, 18 ... Interlayer insulating film, 23 ... Protective insulating film, 23h1, 23h2, 23h3 ... Slit, 27 ... Columnar Spacer, 28 ... alignment film, 29a, 29b, 29c ... moisture-proof member, 51 ... sealing material, w1, w2, w3, w4, w5, w6, w7, w8 ... wiring, R1 ... display area, R2 ... frame area, X ... row direction, Y ... column direction.

Claims (16)

表示領域と、
前記表示領域を囲み、駆動回路が形成された周辺領域と、
前記周辺領域に位置する無機絶縁膜と、
前記周辺領域に位置し、前記駆動回路にクロック信号を供給するクロック配線と
前記周辺領域に位置し、前記駆動回路に電源信号を供給する電源配線と、
前記無機絶縁膜に接触し、前記表示領域及び前記周辺領域に設けられた有機絶縁膜と、
前記有機絶縁膜を貫通して形成されたスリットと、
を有するアレイ基板と、
前記アレイ基板に対向して配置される対向基板と、
前記アレイ基板と前記対向基板とを接合するシール材と、を備え、
前記クロック信号及び前記電源信号は、前記アレイ基板の第1端部と前記表示領域との間に位置する前記周辺領域に設けられたパッドを介して、それぞれ前記クロック配線及び前記電源配線に供給され、
前記スリットは、前記シール材と重なる位置に設けられた第1スリット、第2スリット及び第3スリットを有しており、
前記第1スリットは、前記電源配線の延在方向に延在する第1部分及び第2部分と、前記第1部分及び第2部分と交差する方向に延在する第3部分及び第4部分と、を有しており、
前記第1部分は、前記配線に沿って設けられ、前記表示領域と前記アレイ基板の第2端部との間に位置しており、
前記第2部分は、前記第2端部と対向する前記アレイ基板の第3端部と前記表示領域との間に位置しており、
前記第3部分は、前記第1端部と対向する前記アレイ基板の第4端部と前記表示領域との間に位置しており、
前記第4部分は、前記第1端部と前記表示領域との間に位置しており、
前記第2スリットは、前記表示領域と前記第2端部との間に位置し、前記第1部分に沿って設けられ、前記第1部分と間隔をあけて配置され、
前記第3スリットは、前記表示領域と前記第3端部との間に位置し、前記第2部分に沿って設けられ、前記第2部分と間隔をあけて配置され、
平面視において、前記第1部分、前記第2部分、前記第2スリット及び前記第3スリットは、前記クロック配線及び前記電源配線と重なっておらず、
前記電源配線は、前記第1スリットよりも前記表示領域側に位置している、
示パネル。
Display area and
Surrounding the display area, the peripheral area where the drive circuit is formed, and
The inorganic insulating film located in the peripheral region and
Located in the peripheral region, and the clock distribution lines that to supply the clock signal to the drive circuit,
The power supply wiring located in the peripheral area and supplying the power supply signal to the drive circuit,
An organic insulating film that comes into contact with the inorganic insulating film and is provided in the display area and the peripheral area.
A slit formed through the organic insulating film and
Array board with
A facing board arranged to face the array board and a facing board.
A sealing material for joining the array substrate and the facing substrate is provided.
Wherein the clock signal and the power signal through the pads provided on the peripheral region located between the display area and the first end of the array substrate, supplied to the clock line and the power line, respectively Being done
The slit has a first slit, a second slit, and a third slit provided at positions overlapping with the sealing material.
Wherein the first slit has a first portion and a second portion extending in the extending direction of the front Symbol supply wiring, the third portion and the fourth extending in a direction intersecting with the first portion and the second portion Has a part, and
The first portion is provided along the wiring and is located between the display area and the second end portion of the array substrate.
The second portion is located between the third end portion of the array substrate facing the second end portion and the display area.
The third portion is located between the fourth end portion of the array substrate facing the first end portion and the display area.
The fourth portion is located between the first end portion and the display area.
The second slit is located between the display area and the second end portion, is provided along the first portion, and is arranged at a distance from the first portion.
The third slit is located between the display area and the third end portion, is provided along the second portion, and is arranged at a distance from the second portion .
In a plan view, the first portion, the second portion, the second slit, and the third slit do not overlap with the clock wiring and the power supply wiring.
The power supply wiring is located on the display area side of the first slit.
Table display panel.
前記シール材は、前記第1スリット、前記第2スリット及び前記第3スリットに充填されている、
請求項1に記載の表示パネル。
The sealing material is filled in the first slit, the second slit and the third slit.
The display panel according to claim 1.
前記無機絶縁膜は、前記第1スリット、前記第2スリット及び前記第3スリットによって、前記有機絶縁膜から露出している、
請求項1に記載の表示パネル。
The inorganic insulating film is exposed from the organic insulating film by the first slit, the second slit and the third slit.
The display panel according to claim 1.
前記シール材は、前記第1スリット、前記第2スリット及び前記第3スリットにおいて、前記無機絶縁膜と接する、
請求項3に記載の表示パネル。
The sealing material is in contact with the inorganic insulating film in the first slit, the second slit and the third slit.
The display panel according to claim 3.
前記第2スリットは、前記第1部分よりも前記表示領域側に位置し、
前記第3スリットは、前記第2部分よりも前記表示領域側に位置する、
請求項1に記載の表示パネル。
The second slit is located closer to the display area than the first portion.
The third slit is located closer to the display area than the second portion.
The display panel according to claim 1.
前記シール材は、防湿部材である、
請求項1乃至5の何れか1項に記載の表示パネル。
The sealing material is a moisture-proof member.
The display panel according to any one of claims 1 to 5.
前記シール材で囲まれた空間に形成された液晶層をさらに備え、
前記アレイ基板は、少なくとも前記表示領域に形成された配向膜をさらに有し、
前記配向膜の一部は、前記第2スリット及び前記第3スリットを含むスリット群と、前記第1スリットと、の少なくとも一方にまで形成されている、
請求項1に記載の表示パネル。
Further provided with a liquid crystal layer formed in the space surrounded by the sealing material,
The array substrate further has an alignment film formed in at least the display region.
A part of the alignment film is formed in at least one of a slit group including the second slit and the third slit, and the first slit.
The display panel according to claim 1.
前記配向膜は、防湿部材である、
請求項7に記載の表示パネル。
The alignment film is a moisture-proof member.
The display panel according to claim 7.
前記アレイ基板は、前記アレイ基板と前記対向基板との間の隙間を保持するスペーサをさらに有し、
前記スペーサは、前記第1スリット、前記第2スリット及び前記第3スリットよりも前記表示領域側に位置する、
請求項1に記載の表示パネル。
The array substrate further comprises a spacer that holds a gap between the array substrate and the facing substrate.
The spacer is located closer to the display area than the first slit, the second slit, and the third slit.
The display panel according to claim 1.
前記アレイ基板と前記対向基板との間に設けられた突起をさらに有し、
前記突起は、前記アレイ基板及び前記対向基板のいずれか一方とのみ接触している、
請求項1に記載の表示パネル。
Further, it has a protrusion provided between the array substrate and the facing substrate, and has a protrusion.
The protrusion is in contact with only one of the array substrate and the facing substrate.
The display panel according to claim 1.
前記第1スリット、前記第2スリット及び前記第3スリットは、前記突起よりも前記表示領域側に位置する、
請求項10に記載の表示パネル。
The first slit, the second slit, and the third slit are located on the display area side of the protrusion.
The display panel according to claim 10.
前記駆動回路は、前記アレイ基板上に直接形成された周辺回路である、
請求項1に記載の表示パネル。
The drive circuit is a peripheral circuit directly formed on the array substrate.
The display panel according to claim 1.
前記第3部分は、前記第1部分の一端及び前記第2部分の一端と接続し、
前記第4部分は、前記第1部分の他端及び前記第2部分の他端と接続している、
請求項1に記載の表示パネル。
The third portion is connected to one end of the first portion and one end of the second portion.
The fourth portion is connected to the other end of the first portion and the other end of the second portion.
The display panel according to claim 1.
前記表示領域は、前記第1部分、前記第2部分、前記第3部分、及び前記第4部分によって囲まれている、
請求項1乃至13のいずれか1項に記載の表示パネル。
The display area is surrounded by the first portion, the second portion, the third portion, and the fourth portion.
Display panel according to any one of claims 1乃optimum 13.
前記電源配線は、前記第1部分と前記第2スリットとの間、及び、前記第2部分と前記第3スリットとの間に位置している、請求項1に記載の表示パネル。 The display panel according to claim 1, wherein the power supply wiring is located between the first portion and the second slit, and between the second portion and the third slit. 前記第1スリットは、前記クロック配線よりも前記表示領域側に位置している、請求項1に記載の表示パネル。 The display panel according to claim 1, wherein the first slit is located on the display area side of the clock wiring.
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