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JP6963413B2 - Glass composition for sealing - Google Patents

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JP6963413B2 JP2017105126A JP2017105126A JP6963413B2 JP 6963413 B2 JP6963413 B2 JP 6963413B2 JP 2017105126 A JP2017105126 A JP 2017105126A JP 2017105126 A JP2017105126 A JP 2017105126A JP 6963413 B2 JP6963413 B2 JP 6963413B2
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Description

本発明は、電子部品等の封止に用いられる封止用ガラス組成物に関する。 The present invention relates to a sealing glass composition used for sealing electronic components and the like.

半導体等を含む電子部品は、それを外部環境から保護するために種々のガラス、樹脂等による封止、密閉等が施されることがある。そのような電子部品の一例として、サーミスタが挙げられる。サーミスタは、半導体の電気抵抗が温度変化に対して大きく変化する特性を利用することにより温度センサとして用いられる電子部品である。サーミスタにおいても、特に高い温度又は酸化性雰囲気で使用されるような場合には、その環境下での劣化を防ぐため、ガラス等により被覆封止されている。図1には、サーミスタの典型例であるビード型サーミスタ(リードタイプ)の基本構成を示す。このサーミスタ10は、半導体素子12を介して2本のリード線13が接続されており、半導体素子12及びリード線13を覆うように封止材層11で被覆封止されている。この封止材層11を構成する封止材としては、従来よりガラス、樹脂等が使用されているが、耐熱性等に優れているという点では特にガラスが多用されている。 Electronic components including semiconductors may be sealed, sealed, etc. with various glasses, resins, etc. in order to protect them from the external environment. An example of such an electronic component is a thermistor. A thermistor is an electronic component used as a temperature sensor by utilizing the characteristic that the electric resistance of a semiconductor changes significantly with respect to a temperature change. The thermistor is also coated and sealed with glass or the like in order to prevent deterioration in the environment, especially when it is used in a high temperature or an oxidizing atmosphere. FIG. 1 shows a basic configuration of a bead type thermistor (lead type), which is a typical example of a thermistor. Two lead wires 13 are connected to the thermistor 10 via a semiconductor element 12, and the thermistor 10 is coated and sealed with a sealing material layer 11 so as to cover the semiconductor element 12 and the lead wires 13. As the sealing material constituting the sealing material layer 11, glass, resin or the like has been conventionally used, but glass is particularly frequently used in terms of excellent heat resistance and the like.

封止材としてガラスを用いる場合においては、高い電気抵抗を有することに加え、半導体素子及びリード線を被覆封止した際、クラック及び隙間が生じないように半導体素子及びリード線の熱膨張係数と同一又はそれに近い熱膨張係数を有することが求められる。 When glass is used as the sealing material, in addition to having high electrical resistance, the coefficient of thermal expansion of the semiconductor element and lead wire is adjusted so that cracks and gaps do not occur when the semiconductor element and lead wire are coated and sealed. It is required to have the same or close coefficient of thermal expansion.

このような温度センサの封止材として、例えばホウケイ酸系ガラス(特許文献1、特許文献2)が提案されている。また、より高温で使用される温度センサの封止材として、ガラスを結晶化させたものが使用されている。例えばチタン酸ランタノイド結晶又はディオプサイド結晶の結晶が析出する結晶化ガラス(特許文献3)も知られている。 As a sealing material for such a temperature sensor, for example, borosilicate glass (Patent Document 1 and Patent Document 2) has been proposed. Further, as a sealing material for a temperature sensor used at a higher temperature, a crystallized glass is used. For example, crystallized glass (Patent Document 3) in which crystals of lanthanoid titanoide crystals or diopside crystals are precipitated is also known.

特開2002−037641号公報JP-A-2002-037641 WO2006/035882等公報WO2006 / 035882, etc. 特開2008−120648号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2008-120648

電子部品の封止材としてガラスを用いる場合、より高い耐熱性を有することが求められている。すなわち、電子部品が高温下に曝されても、封止材が軟化変形等を生じることなく、確実に封止機能を果たすことが要求されている。このような要求は、温度センサ(サーミスタ)等においてはより顕著になっているといえる。 When glass is used as a sealing material for electronic parts, it is required to have higher heat resistance. That is, even if the electronic component is exposed to a high temperature, the sealing material is required to surely perform the sealing function without causing softening and deformation. It can be said that such a requirement is becoming more prominent in temperature sensors (thermistors) and the like.

温度センサが使用される装置の一例として発電装置が挙げられる。近年、二酸化炭素排出量の増加、酸性雨等の環境問題を鑑み、CO、NOx等の有害ガスの発生を最小限にするために、発電装置の燃焼システム等では最適な運転状態に保つことが要求されている。このように燃焼システムの燃焼状態を最適にするためには、温度センサ等を含む温度管理システムにより燃焼システムの温度を制御することが必要となる。しかも、その管理すべき温度域は、より高温域もカバーすることが必要とされている。 An example of a device in which a temperature sensor is used is a power generation device. In recent years, in view of the increase in carbon dioxide emissions and environmental problems such as acid rain , in order to minimize the generation of harmful gases such as CO 2 and NOx, the combustion system of the power generation equipment should be kept in the optimum operating condition. Is required. In order to optimize the combustion state of the combustion system in this way, it is necessary to control the temperature of the combustion system by a temperature control system including a temperature sensor and the like. Moreover, the temperature range to be controlled needs to cover a higher temperature range as well.

しかしながら、従来の温度センサは、その封止材であるガラスの耐熱性はまだ十分とはいえない。また、封止材として結晶化ガラスを使用した温度センサは、比較的高温域でも軟化変形しないものの、さらなる高温域(例えば1100℃以上)で安定状態を維持することが困難であるため、実用上の観点では不安が残るものである。 However, the heat resistance of the glass, which is the sealing material of the conventional temperature sensor, is not yet sufficient. Further, although a temperature sensor using crystallized glass as a sealing material does not soften and deform even in a relatively high temperature range, it is difficult to maintain a stable state in a further high temperature range (for example, 1100 ° C. or higher), so that it is practically used. From this point of view, anxiety remains.

従って、本発明の主な目的は、電子部品の封止工程に適した物性を有しつつ、より高温域でも耐えられる封止材を形成できるガラス組成物を提供することにある。 Therefore, a main object of the present invention is to provide a glass composition capable of forming a sealing material which has physical properties suitable for a sealing process of electronic parts and can withstand a higher temperature range.

本発明者は、従来技術の問題点に鑑みて鋭意研究を重ねた結果、特定の組成を有するガラス組成物によって上記目的を達成できることを見出し、本発明を完成するに至った。 As a result of diligent research in view of the problems of the prior art, the present inventor has found that the above object can be achieved by a glass composition having a specific composition, and has completed the present invention.

すなわち、本発明は、下記の封止用ガラス組成物及び封止材に係る。
1.SrO−SiO系結晶を含む結晶化ガラス封止材を製造するためのガラス組成物であって、少なくとも下記成分;
1)SiO:41〜55モル%、
2)SrO:6〜40モル%、
3)ZnO:1〜20モル%、
4)Al:3.1〜25モル%及び
5)RO(ただし、RはMg、Ca及びBaの少なくとも1種を示す。):合計0〜20モル%
を含むことを特徴とする封止用ガラス組成物。
2. 前記成分が、
1)SiO:42〜55モル%、
2)SrO:6〜40モル%、
3)ZnO:1〜20モル%、
4)Al:3.1〜25モル%及び
5)RO(ただし、RはMg、Ca及びBaの少なくとも1種を示す。):合計0〜20モル%である、前記項1に記載の封止用ガラス組成物。
3. 前記成分が、
1)SiO:41〜55モル%、
2)SrO:6〜40モル%、
3)ZnO:1〜20モル%、
4)Al:3.1〜25モル%及び
5)RO(ただし、RはMg、Ca及びBaの少なくとも1種を示す。):合計0〜17モル%
である、前記項1に記載の封止用ガラス組成物。
4. 前記成分が、
1)SiO:41〜55モル%、
2)SrO:6〜40モル%、
3)ZnO:1〜20モル%、
4)Al:3.1モル%以上13モル%未満及び
5)RO(ただし、RはMg、Ca及びBaの少なくとも1種を示す。):合計0〜20モル%
である、前記項1に記載の封止用ガラス組成物。
5. 前記成分が、
1)SiO:41〜55モル%、
2)SrO:6〜40モル%、
3)ZnO:1〜20モル%、
4)Al:13〜25モル%及び
5)RO(ただし、RはMg、Ca及びBaの少なくとも1種を示す。):合計0〜20モル%
である、前記項1に記載の封止用ガラス組成物。
6. SrO−SiO系結晶化ガラス封止材であって、
(1)少なくとも下記成分;
1)SiO:41〜55モル%、
2)SrO:6〜40モル%、
3)ZnO:1〜20モル%、
4)Al:3.1〜25モル%及び
5)RO(ただし、RはMg、Ca及びBaの少なくとも1種を示す。):合計0〜20モル%
を含み、
(2)SrO−SiO系結晶として、SrZnSi結晶、SrZnSi結晶、SrAlSi結晶及びSrAlSiO結晶の少なくとも1種を含む、
ことを特徴とするSrO−SiO系結晶化ガラス封止材。
7. 50〜850℃における熱膨張係数が35〜100×10−7/℃である、前記項5に記載のSrO−SiO系結晶化ガラス封止材。
8. 前記項6又は7に記載のSrO−SiO系結晶化ガラス封止材によって電子部品が封止されてなる電子デバイス。
9. 前記項1に記載の封止用ガラス組成物を1000〜1300℃の温度で熱処理する工程を含む、SrO−SiO系結晶化ガラス封止材の製造方法。
That is, the present invention relates to the following encapsulating glass composition and encapsulant.
1. 1. A glass composition for producing a crystallized glass encapsulant containing SrO-SiO 2 crystal, at least the following components;
1) SiO 2 : 41-55 mol%,
2) SrO: 6-40 mol%,
3) ZnO: 1 to 20 mol%,
4) Al 2 O 3 : 3.1 to 25 mol% and 5) RO (where R indicates at least one of Mg, Ca and Ba): 0 to 20 mol% in total.
A glass composition for sealing, which comprises.
2. The above ingredients
1) SiO 2 : 42-55 mol%,
2) SrO: 6-40 mol%,
3) ZnO: 1 to 20 mol%,
4) Al 2 O 3 : 3.1 to 25 mol% and 5) RO (where R indicates at least one of Mg, Ca and Ba): total 0 to 20 mol%, according to item 1 above. The sealing glass composition according to the above.
3. 3. The above ingredients
1) SiO 2 : 41-55 mol%,
2) SrO: 6-40 mol%,
3) ZnO: 1 to 20 mol%,
4) Al 2 O 3 : 3.1 to 25 mol% and 5) RO (where R indicates at least one of Mg, Ca and Ba): 0 to 17 mol% in total.
The sealing glass composition according to Item 1 above.
4. The above ingredients
1) SiO 2 : 41-55 mol%,
2) SrO: 6-40 mol%,
3) ZnO: 1 to 20 mol%,
4) Al 2 O 3 : 3.1 mol% or more and less than 13 mol% and 5) RO (where R indicates at least one of Mg, Ca and Ba): 0 to 20 mol% in total.
The sealing glass composition according to Item 1 above.
5. The above ingredients
1) SiO 2 : 41-55 mol%,
2) SrO: 6-40 mol%,
3) ZnO: 1 to 20 mol%,
4) Al 2 O 3 : 13 to 25 mol% and 5) RO (where R indicates at least one of Mg, Ca and Ba): 0 to 20 mol% in total.
The sealing glass composition according to Item 1 above.
6. SrO-SiO 2 system crystallized glass encapsulant
(1) At least the following components;
1) SiO 2 : 41-55 mol%,
2) SrO: 6-40 mol%,
3) ZnO: 1 to 20 mol%,
4) Al 2 O 3 : 3.1 to 25 mol% and 5) RO (where R indicates at least one of Mg, Ca and Ba): 0 to 20 mol% in total.
Including
(2) as SrO-SiO 2 based crystal, comprising SrZn 2 Si 2 O 7 crystals, Sr 2 ZnSi 2 O 7 crystals, at least one of SrAl 2 Si 2 O 8 crystal and Sr 2 Al 2 SiO 7 crystal,
A SrO-SiO 2 system crystallized glass encapsulant characterized by this.
7. Item 5. The SrO-SiO 2 system crystallized glass encapsulant according to Item 5, wherein the coefficient of thermal expansion at 50 to 850 ° C. is 35 to 100 × 10-7 / ° C.
8. An electronic device in which electronic components are sealed by the SrO-SiO 2 system crystallized glass encapsulant according to Item 6 or 7.
9. A method for producing a SrO-SiO 2- based crystallized glass encapsulant, which comprises a step of heat-treating the encapsulating glass composition according to Item 1 at a temperature of 1000 to 1300 ° C.

本発明の封止用ガラス組成物(本発明ガラス組成物)によれば、電子部品の封止工程に適した物性を有しつつ、焼成後はより高温域でも耐えられる封止材を形成することができる。すなわち、本発明ガラス組成物により、本発明の封止材を好適に提供することができる。 According to the sealing glass composition of the present invention (the glass composition of the present invention), a sealing material having physical properties suitable for the sealing process of electronic parts and capable of withstanding a higher temperature region after firing is formed. be able to. That is, the glass composition of the present invention can suitably provide the encapsulant of the present invention.

本発明ガラス組成物は使用時には焼成が行われるが、その焼成によりSrO−SiO系結晶を含む結晶化ガラス(本発明の封止材)が形成されるので、1100℃付近から当該結晶の融点(約1350℃)未満の範囲内において優れた耐熱性を発現させることができる。しかも、その結晶化ガラスは、電子部品(例えば金属及び/又は半導体)に近い熱膨張係数を示すことから、高温条件下で長期間曝されても劣化、変形等を効果的に抑制ないしは防止できることに加え、粘性低下のおそれもないため、高温条件下での封止材として好適に使用することができる。 The glass composition of the present invention is fired at the time of use, and since the crystallized glass containing the SrO-SiO 2 system crystal (encapsulating material of the present invention) is formed by the firing, the melting point of the crystal is formed from around 1100 ° C. Excellent heat resistance can be exhibited in the range of less than (about 1350 ° C.). Moreover, since the crystallized glass exhibits a coefficient of thermal expansion close to that of electronic components (for example, metals and / or semiconductors), deterioration, deformation, etc. can be effectively suppressed or prevented even when exposed for a long period of time under high temperature conditions. In addition, since there is no risk of viscosity decrease, it can be suitably used as a sealing material under high temperature conditions.

また、本発明ガラス組成物を用いた封止工程の段階(焼成時)においても、本発明ガラス組成物は高い流動性を発現できるため、電子部品に対する濡れ性、密着性又は追従性に優れており、隙間、気孔等のない効果的な封止(特に電子部品を本発明の封止材で直接覆って封止する被覆封止)を行うことができる。また、このことは、封止工程(ひいては電子デバイス製造)の効率化にも寄与することができる。 Further, even in the stage of the sealing step (during firing) using the glass composition of the present invention, the glass composition of the present invention can exhibit high fluidity, and therefore has excellent wettability, adhesion or followability to electronic parts. Effective sealing without gaps, pores, etc. (particularly, coating sealing in which electronic parts are directly covered with the sealing material of the present invention) can be performed. In addition, this can also contribute to the efficiency of the sealing process (and thus the manufacture of electronic devices).

このような特徴をもつ本発明ガラス組成物及び封止材は、例えば電子部品(半導体素子等)を外部環境から保護するための封止に好適に用いることができる。 The glass composition and encapsulant of the present invention having such characteristics can be suitably used for encapsulation for protecting electronic components (semiconductor elements and the like) from the external environment, for example.

一般的なビード型サーミスタの構成を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the structure of a general bead type thermistor.

10 サーミスタ
11 封止材層
12 半導体素子
13 リード線
10 Thermistor 11 Encapsulant layer 12 Semiconductor element 13 Lead wire

1.封止用ガラス組成物
(1)封止用ガラス組成物
本発明の封止用ガラス組成物(本発明ガラス組成物)は、SrO−SiO系結晶を含む結晶化ガラス封止材を製造するためのガラス組成物であって、少なくとも下記成分;
1)SiO:41〜55モル%、
2)SrO:6〜40モル%、
3)ZnO:1〜20モル%、
4)Al:3.1〜25モル%及び
5)RO(ただし、RはMg、Ca及びBaの少なくとも1種を示す。):合計0〜20モル%
を含むことを特徴とする。以下において、本発明の封止用ガラス組成物の各成分について説明する。
1. 1. Glass composition for sealing
(1) Glass composition for sealing
The sealing glass composition of the present invention (the glass composition of the present invention) is a glass composition for producing a crystallized glass sealing material containing SrO-SiO 2 system crystals, and has at least the following components;
1) SiO 2 : 41-55 mol%,
2) SrO: 6-40 mol%,
3) ZnO: 1 to 20 mol%,
4) Al 2 O 3 : 3.1 to 25 mol% and 5) RO (where R indicates at least one of Mg, Ca and Ba): 0 to 20 mol% in total.
It is characterized by including. Hereinafter, each component of the sealing glass composition of the present invention will be described.

SiO
本発明ガラス組成物において、SiOは、ガラス網目形成成分であり、主として、ガラスの製造時にガラスの安定性を向上させるとともに本発明ガラス組成物の使用時(すなわち、本発明ガラス組成物の焼成体)においてSrO−SiO系結晶(本発明結晶)を生成させるために有効な成分である。本発明結晶としては、SrO及びSiOを含む結晶であれば特に限定的されないが、特にはSrZnSi結晶、SrZnSi結晶、SrAlSi結晶及びSrAlSiO結晶の少なくとも1種であることが好ましい。これらの結晶を析出した結晶化ガラスは高い耐熱性を有するという点で優れた効果を得ることができる。
SiO 2
In the glass composition of the present invention, SiO 2 is a glass network forming component, which mainly improves the stability of the glass during the production of glass and at the time of using the glass composition of the present invention (that is, firing of the glass composition of the present invention). It is an effective component for producing SrO-SiO 2 system crystals (crystals of the present invention) in the body). The crystal of the present invention is not particularly limited as long as it is a crystal containing SrO and SiO 2 , but in particular, SrZn 2 Si 2 O 7 crystal, Sr 2 ZnSi 2 O 7 crystal, SrAl 2 Si 2 O 8 crystal and Sr 2 It is preferably at least one of Al 2 SiO 7 crystals. The crystallized glass in which these crystals are precipitated can obtain an excellent effect in that it has high heat resistance.

本発明ガラス組成物中におけるSiOの含有量は、通常は41〜55モル%とし、好ましくは42〜55モル%とし、より好ましくは42〜47モル%とする。SiOの含有量が41モル%未満の場合、ガラス中に結晶が析出することがある。ガラス中に結晶が析出すると、これを粉砕して得たガラス粉末は、焼成時における結晶化の開始が早まるため、焼成開始後の初期の段階において流動性が低下する結果、焼成後の被封止物との間に空隙が生じ、所望の封止ができなくなるおそれがある。しかも、ガラス粉末を焼成した場合にSrO−SiO系結晶が十分生成されなくなることがある。他方、SiOの含有量が55モル%を超える場合は、ガラスが形成されないか、あるいはガラスが形成されたとしても、焼成後におけるSiO結晶の析出による異常膨張により、熱膨張係数の値が増大するおそれがある。 The content of SiO 2 in the glass composition of the present invention is usually 41 to 55 mol%, preferably 42 to 55 mol%, and more preferably 42 to 47 mol%. If the content of SiO 2 is less than 41 mol%, crystals may precipitate in the glass. When crystals are deposited in the glass, the glass powder obtained by crushing the crystals starts crystallization earlier at the time of firing, and as a result, the fluidity is lowered at the initial stage after the start of firing, and as a result, the glass powder is sealed after firing. There is a risk that a gap will be created between the stopper and the object, making it impossible to perform the desired sealing. Moreover, when the glass powder is fired, SrO-SiO 2 type crystals may not be sufficiently produced. On the other hand, when the content of SiO 2 exceeds 55 mol%, glass is not formed, or even if glass is formed, the value of the coefficient of thermal expansion increases due to abnormal expansion due to precipitation of SiO 2 crystals after firing. May increase.

SrO
本発明ガラス組成物において、SrOは、主として、本発明ガラス組成物を焼成して得られる結晶化ガラス中にSrO−SiO系結晶を析出させるために有効な成分である。
SrO
In the glass composition of the present invention, SrO is mainly an effective component for precipitating SrO-SiO 2 system crystals in the crystallized glass obtained by firing the glass composition of the present invention.

本発明ガラス組成物中におけるSrOの含有量は、通常は6〜40モル%とし、好ましくは10〜38モル%とし、より好ましくは12〜36モル%とする。SrOの含有量が6モル%未満の場合は、焼成後の結晶化ガラス中に所望の結晶が十分析出せず、結晶相に対するガラス相(非晶質相)の残存割合が大きくなるため、結晶化ガラスに良好な耐熱性を付与できなくなるおそれがある。SrOの含有量が40モル%を超える場合は、ガラス中に結晶が析出し、本発明ガラス組成物を焼成する際における流動性が不十分となるため、所望の封止ができなくなるおそれがある。 The content of SrO in the glass composition of the present invention is usually 6 to 40 mol%, preferably 10 to 38 mol%, and more preferably 12 to 36 mol%. When the SrO content is less than 6 mol%, the desired crystals are not sufficiently precipitated in the crystallized glass after firing, and the residual ratio of the glass phase (amorphous phase) to the crystal phase becomes large. There is a risk that good heat resistance cannot be imparted to the glass. If the SrO content exceeds 40 mol%, crystals will precipitate in the glass and the fluidity when firing the glass composition of the present invention will be insufficient, so that the desired sealing may not be possible. ..

ZnO
本発明ガラス組成物において、ZnOは、主として、本発明結晶のうち特にSrO−ZnO−SiO系結晶を生成させるために必要な成分である。
ZnO
In the glass composition of the present invention, ZnO is mainly a component necessary for producing SrO-ZnO-SiO 2 type crystals among the crystals of the present invention.

本発明ガラス組成物中におけるZnOの含有量は、通常は1〜20モル%とし、好ましくは3〜18モル%とし、より好ましくは5〜16モル%とし、最も好ましくは8〜13モル%とする。ZnOの含有量が1モル%未満の場合は、本発明ガラス組成物を焼成して得られる結晶化ガラスの結晶化度が不足するおそれがある。また、ZnOの含有量が20モル%を超える場合は、ガラスが形成されないか、あるいはガラスが形成されても結晶化温度が低くなりすぎるおそれがあり、本発明ガラス組成物の焼成時における流動性が低下するおそれがある。 The content of ZnO in the glass composition of the present invention is usually 1 to 20 mol%, preferably 3 to 18 mol%, more preferably 5 to 16 mol%, and most preferably 8 to 13 mol%. do. If the ZnO content is less than 1 mol%, the crystallinity of the crystallized glass obtained by firing the glass composition of the present invention may be insufficient. If the ZnO content exceeds 20 mol%, the glass may not be formed, or even if the glass is formed, the crystallization temperature may become too low, and the fluidity of the glass composition of the present invention during firing may be too low. May decrease.

Al
本発明ガラス組成物において、Alは、主として、ガラスの製造時における安定性を向上させ、結晶化開始温度の調整するための任意成分である。また、Alは、本発明結晶の中で、結晶化ガラス中において耐熱性の向上に寄与するSrO−Al−SiO系結晶を形成させるために有用な成分でもある。
Al 2 O 3
In the glass composition of the present invention, Al 2 O 3 is mainly an optional component for improving the stability of the glass during production and adjusting the crystallization start temperature. In addition, Al 2 O 3 is also a useful component for forming SrO-Al 2 O 3 -SiO 2 system crystals that contribute to the improvement of heat resistance in crystallized glass in the crystals of the present invention.

本発明ガラス組成物中におけるAlの含有量は、通常は3.1〜25モル%とし、好ましくは4〜16モル%とする。従って、例えば3.1モル%以上13モル%未満(特に3.1モル%以上12モル%以下)とすることができる。また例えば13〜25モル%(特に13.3〜15.5モル%)とすることもできる。Alの含有量が3.1モル%未満の場合は、特にSrO−Al−SiO系結晶を生成させようとする場合に十分に析出しないため、耐熱性が悪くなることがある。Alの含有量が25モル%を超えると、ガラス軟化温度と結晶化開始温度の差が小さくなりすぎることがあり、気密性が悪くなるおそれがある。 The content of Al 2 O 3 in the glass composition of the present invention is usually 3.1 to 25 mol%, preferably 4 to 16 mol%. Therefore, for example, it can be 3.1 mol% or more and less than 13 mol% (particularly 3.1 mol% or more and 12 mol% or less). It can also be, for example, 13 to 25 mol% (particularly 13.3 to 15.5 mol%). When the content of Al 2 O 3 is less than 3.1 mol%, the heat resistance deteriorates because it does not precipitate sufficiently especially when trying to generate SrO-Al 2 O 3 -SiO 2 system crystals. There is. If the content of Al 2 O 3 exceeds 25 mol%, the difference between the glass softening temperature and the crystallization start temperature may become too small, and the airtightness may deteriorate.

また、本発明では、主としてAl含有量を上記範囲内で変更することによって、得られる結晶化ガラスの熱膨張特性を自由かつ確実に制御することもできる。すなわち、Al含有量を3.1モル%以上13モル%未満の範囲内に設定することによって、比較的大きな熱膨張係数(特に60〜100×10−7/℃、好ましくは80〜96×10−7/℃)に制御することができる。一方、Al含有量を13モル%以上25モル%以下の範囲内に設定することによって、比較的小さな熱膨張係数(特に35〜65×10−7/℃、好ましくは40〜62×10−7/℃)に制御することができる。このように、本発明ガラス組成物では、被封止材の材質に応じて、その組成を適宜使い分けることができる結果、熱膨張特性を被封止材に可能な限り近づけることにより、より高い封止性を実現することができる。 Further, in the present invention, the thermal expansion characteristics of the obtained crystallized glass can be freely and surely controlled by mainly changing the Al 2 O 3 content within the above range. That is, by setting the Al 2 O 3 content within the range of 3.1 mol% or more and less than 13 mol%, a relatively large coefficient of thermal expansion (particularly 60 to 100 × 10-7 / ° C., preferably 80 to 80 to It can be controlled to 96 × 10 -7 / ° C.). On the other hand, by setting the Al 2 O 3 content within the range of 13 mol% or more and 25 mol% or less, a relatively small coefficient of thermal expansion (particularly 35 to 65 × 10-7 / ° C., preferably 40 to 62 ×) It can be controlled to 10-7 / ° C.). As described above, in the glass composition of the present invention, the composition can be appropriately used depending on the material of the material to be sealed, and as a result, the thermal expansion characteristics are made as close as possible to the material to be sealed, so that the sealing is higher. It is possible to realize the stopping property.

RO
本発明ガラス組成物において、RO(ただし、RはMg、Ca及びBaの少なくとも1種を示す。)は、ガラス製造時に溶融温度を低下させ、ガラスを製造しやすくするために有効な任意成分であり、また軟化点を下げる成分としても有効である。
RO
In the glass composition of the present invention, RO (where R indicates at least one of Mg, Ca and Ba) is an optional component effective for lowering the melting temperature during glass production and facilitating glass production. It is also effective as a component that lowers the softening point.

本発明ガラス組成物中におけるROの合計量は、通常は0〜20モル%とし、好ましくは018モル%とし、さらに好ましくは0〜17モル%とし、より好ましくは0〜10モル%とし、最も好ましくは0〜5モル%とする。ROの含有量が20モル%を超える場合は、ガラスの軟化点が低下しすぎるため、耐熱性が低下するおそれがある。以下においては、MgO、CaO及びBaOの各成分の役割及び好ましい含有量について説明する。 The total amount of RO in the glass composition of the present invention is usually 0 to 20 mol%, preferably 018 mol%, more preferably 0 to 17 mol%, more preferably 0 to 10 mol%, and most. It is preferably 0 to 5 mol%. When the RO content exceeds 20 mol%, the softening point of the glass is lowered too much, so that the heat resistance may be lowered. In the following, the role and preferable content of each component of MgO, CaO and BaO will be described.

MgOは、主として、ガラス製造時に溶融温度を低下させ、ガラスを製造しやすくするために有効な任意成分であり、またガラスの軟化点を下げる成分である。 MgO is an optional component that is effective mainly for lowering the melting temperature during glass production and facilitating glass production, and is also a component that lowers the softening point of glass.

本発明ガラス組成物中におけるMgOの含有量は、20モル%以下の範囲とすることが好ましく、さらに18モル以下とすることが好ましく、特に15モル%以下とすることがより好ましい。MgOの含有量が20モル%を超える場合、ガラスが形成されなくなるほか、本発明ガラス組成物による結晶化ガラスの結晶化温度が低くなり過ぎるおそれがある。また、本発明ガラス組成物による結晶化ガラス中において比較的低温で融解するMgO−CaO−SiO系結晶が析出しやすくなり、高温域における結晶化ガラスの耐熱性が悪くなるおそれがある。また、結晶化ガラスの熱膨張係数が上がり過ぎるおそれがある。得られるガラスの軟化点、流動性、結晶化ガラスの熱膨張係数を考慮すると、MgOの含有量は、より好ましくは10モル%以下、さらに好ましくは5モル%以下であり、またさらに好ましくは0〜1モル%であり、最も好ましくは実質的に含有しないことである。 The content of MgO in the glass composition of the present invention is preferably in the range of 20 mol% or less, more preferably 18 mol or less, and particularly preferably 15 mol% or less. If the MgO content exceeds 20 mol%, glass may not be formed and the crystallization temperature of the crystallized glass by the glass composition of the present invention may become too low. In addition, MgO-CaO-SiO 2 type crystals that melt at a relatively low temperature are likely to precipitate in the crystallized glass produced by the glass composition of the present invention, and the heat resistance of the crystallized glass in a high temperature range may deteriorate. In addition, the coefficient of thermal expansion of the crystallized glass may increase too much. Considering the softening point, fluidity, and coefficient of thermal expansion of the obtained glass, the content of MgO is more preferably 10 mol% or less, further preferably 5 mol% or less, and further preferably 0. It is ~ 1 mol%, and most preferably it is substantially free.

なお、本発明において「実質的に含有しない」とは、不純物レベルで含有されるような場合までをも禁止するものではなく、例えばガラスを作製する原材料等に単に不純物として含まれているレベルであれば、その含有は許容される。より具体的には、酸化物換算においてそれらの合計重量が1000ppm以下であれば、本発明の封止用ガラス組成物に含有されても実質上問題になるおそれは低くため、「実質的に含有しない」に該当する。 In addition, in the present invention, "substantially not contained" does not prohibit even the case where it is contained at the impurity level, for example, at the level where it is simply contained as an impurity in the raw material for producing glass or the like. If so, its inclusion is acceptable. More specifically, if their total weight is 1000 ppm or less in terms of oxides, even if they are contained in the sealing glass composition of the present invention, there is little possibility that they will cause a problem. Does not correspond to ".

BaOは、本発明では、主として1)軟化点を下げる作用、2)ガラス製造時の溶融温度を低下させる作用又は3)熱膨張係数を上げる作用を有する成分である。 In the present invention, BaO is a component having mainly 1) an action of lowering the softening point, 2) an action of lowering the melting temperature during glass production, or 3) an action of increasing the coefficient of thermal expansion.

本発明ガラス組成物中におけるBaOの含有量は、通常0〜20モル%の範囲とすることが好ましく、さらに18モル以下とすることが好ましく、特に0〜15モル%とすることがより好ましい。BaOの含有量が20モル%を超える場合、ガラスが生成されたとしても結晶化温度が低くなり過ぎるおそれがある。また、本発明ガラス組成物による結晶化ガラス中において比較的熱膨張係数の高いBaO−ZnO−SiO系の結晶が析出し易くなるため、結晶化ガラスの熱膨張係数が上がり過ぎるおそれがある。得られるガラスの軟化点、流動性等を考慮すると、BaOの含有量は、好ましくは0〜5モル%、より好ましくは0〜1モル%である。 The content of BaO in the glass composition of the present invention is usually preferably in the range of 0 to 20 mol%, more preferably 18 mol or less, and particularly preferably 0 to 15 mol%. If the BaO content exceeds 20 mol%, the crystallization temperature may become too low even if glass is produced. Further, since the BaO-ZnO-SiO 2 system crystals having a relatively high coefficient of thermal expansion are likely to precipitate in the crystallized glass according to the glass composition of the present invention, the coefficient of thermal expansion of the crystallized glass may increase too much. Considering the softening point, fluidity, etc. of the obtained glass, the content of BaO is preferably 0 to 5 mol%, more preferably 0 to 1 mol%.

CaOは、主として、ガラス製造時に溶融温度を低下させ、ガラスを製造しやすくするために有効な成分であるとともにガラスの軟化点を下げる成分である。 CaO is a component that is mainly effective for lowering the melting temperature during glass production and facilitating glass production, and is a component that lowers the softening point of glass.

本発明ガラス組成物中におけるCaOの含有量は、通常0〜20モル%の範囲とすることが望ましく、さらに18モル以下とすることが好ましい。本発明ガラス組成物中におけるCaOの含有量が20モル%を超える場合は、ガラスが得られたとしても結晶化温度が低くなり過ぎるおそれがある。得られるガラスの軟化点、流動性等を考慮すると、CaOの含有量は、より好ましくは0〜5モル%、さらに好ましくは0〜1モル%である。 The content of CaO in the glass composition of the present invention is usually preferably in the range of 0 to 20 mol%, and more preferably 18 mol or less. If the CaO content in the glass composition of the present invention exceeds 20 mol%, the crystallization temperature may become too low even if the glass is obtained. Considering the softening point, fluidity, etc. of the obtained glass, the CaO content is more preferably 0 to 5 mol%, still more preferably 0 to 1 mol%.

その他の成分
a)アルカリ金属
Na、K等のアルカリ金属は、特に高温域において周辺部材との反応が促進されるおそれがあることから、本発明ガラス組成物ではアルカリ金属を実質的に含有しないことが好ましい。
Other ingredients
a) Alkali metal
Since alkali metals such as Na and K may promote the reaction with peripheral members particularly in a high temperature region, it is preferable that the glass composition of the present invention does not substantially contain an alkali metal.

b)ホウ素
は、ガラスを作製する工程においてガラス状態を安定化させやすくする本発明ガラス組成物中におけるBの含有量は、通常0〜10モル%の範囲とすることが望ましい。本発明ガラス組成物中におけるBの含有量が10モル%を超える場合は、ガラスが得られないおそれがある。得られるガラスの軟化点、流動性等を考慮すると、Bの含有量は、より好ましくは0〜5モル%とし、最も好ましくは0〜1モル%である。
b) Boron
B 2 O 3 makes it easy to stabilize the glass state in the process of producing glass. The content of B 2 O 3 in the glass composition of the present invention is usually preferably in the range of 0 to 10 mol%. If the content of B 2 O 3 in the glass composition of the present invention exceeds 10 mol%, glass may not be obtained. Considering the softening point, fluidity, etc. of the obtained glass, the content of B 2 O 3 is more preferably 0 to 5 mol%, and most preferably 0 to 1 mol%.

c)中性成分
本発明ガラス組成物におけるSiO、Al、ZnO及びSrOの各含有量の間に上記のような関係が満たされていれば、本発明ガラス組成物及び結晶化ガラスの物性に対して大きな影響を与えない中性成分を、本発明の効果が著しく損なわれない範囲において加えることができる。この中性成分としては、例えばY、La、TiO、ZrO、CeO等の少なくとも1種が挙げられる。これらの成分の含有量は、一般的にはSiO、SrO、ZnO、Al、B及びROの合計が95モル%以上となる範囲内で適宜設定することができる。
c) Neutral component
If the above relationship is satisfied between the contents of SiO 2 , Al 2 O 3 , ZnO and SrO in the glass composition of the present invention, then the physical properties of the glass composition of the present invention and the crystallized glass A neutral component that does not have a large effect can be added as long as the effect of the present invention is not significantly impaired. Examples of this neutral component include at least one such as Y 2 O 3 , La 2 O 3 , TiO 2 , ZrO 2 , and CeO 2. Generally, the content of these components can be appropriately set within a range in which the total of SiO 2 , SrO, ZnO, Al 2 O 3 , B 2 O 3 and RO is 95 mol% or more.

上記のように、本発明ガラス組成物のガラス組成としては、各成分が上記含有量の範囲内に調整すれば良い。従って、例えば1)SiO:42〜47モル%、2)SrO:17〜34モル%、3)ZnO:8〜15モル%、4)Al:4〜15モル%及び5)RO:0〜5モル%を含むガラス組成を好適に採用することができる。 As described above, the glass composition of the glass composition of the present invention may be adjusted so that each component is within the above-mentioned content range. Therefore, for example, 1) SiO 2 : 42 to 47 mol%, 2) SrO: 17 to 34 mol%, 3) ZnO: 8 to 15 mol%, 4) Al 2 O 3 : 4 to 15 mol% and 5) RO : A glass composition containing 0 to 5 mol% can be preferably adopted.

(2)封止用ガラス組成物の形態等
本発明ガラス組成物の形態は限定的ではないが、通常は粉末の形態とすることが好ましい。この場合の粒径は特に制限されないが、平均粒径が2〜10μmであり、かつ、最大粒径が150μm以下(特に110μm以下)とすることが好ましい。特に、本発明ガラス組成物を用いて電子部品を被覆封止する場合において、ガラス粉末は焼成時に一旦収縮し、軟化流動しながら被処理体(電子部品)の表面を濡らすことが求められるが、上記粒度に制御することによって焼成時により高い流動性が得られる。
(2) Form of glass composition for sealing, etc. The form of the glass composition of the present invention is not limited, but it is usually preferably in the form of powder. The particle size in this case is not particularly limited, but it is preferable that the average particle size is 2 to 10 μm and the maximum particle size is 150 μm or less (particularly 110 μm or less). In particular, when an electronic component is coated and sealed using the glass composition of the present invention, the glass powder is required to shrink once during firing and soften and flow to wet the surface of the object to be processed (electronic component). By controlling the particle size, higher fluidity can be obtained during firing.

すなわち、上記ガラス粉末の粒径が小さすぎる微粉では結晶化開始が早くなり、封止焼成時の流れ性が低下して流動が阻害されるおそれを有し、封止材の塗布・焼成の回数を増加させる必要が生じて当該封止材を用いて製造される製品の製造コストを増大させるおそれがある。一方、粒子径が過度に大きい粗粉は、粉末をペースト化する際、あるいは塗布、乾燥の際に、粉末粒子が沈降し、分離するという問題が起こるほか、結晶化が不均一又は不十分となりやすく焼成体の強度不足を招くおそれがある。このため、微粉及び粗粉(特に粗粉)を分級等の操作により取り除くことによって粒径を調整することが好ましい。このように、本発明ガラス組成物においては、粉末の粒度を平均粒径2〜10μmにしつつ、最大粒径が150μm以下(特に110μm以下)となるように調整することが好ましい。 That is, if the particle size of the glass powder is too small, crystallization starts earlier, which may reduce the flowability during sealing and firing and hinder the flow, and the number of times the sealing material is applied and fired. There is a risk of increasing the manufacturing cost of products manufactured using the sealing material. On the other hand, coarse powder having an excessively large particle size causes a problem that the powder particles settle and separate when the powder is pasted, or when the powder is applied or dried, and the crystallization becomes non-uniform or insufficient. It is easy to cause insufficient strength of the fired body. Therefore, it is preferable to adjust the particle size by removing fine powder and coarse powder (particularly coarse powder) by an operation such as classification. As described above, in the glass composition of the present invention, it is preferable to adjust the particle size of the powder so that the average particle size is 2 to 10 μm and the maximum particle size is 150 μm or less (particularly 110 μm or less).

本発明ガラス組成物のガラス転移点(Tg)は、限定的ではないが、通常は680〜800℃程度の範囲であれば良い。従って、例えば690〜770℃とすることができる。また例えば650〜720℃とすることができる。
また、本発明ガラス組成物の軟化点(Ts)は、限定的ではないが、通常は700〜900℃程度の範囲であれば良い。従って、例えば760〜880℃とすることができる。また例えば760〜850℃とすることができる。
さらに、本発明ガラス組成物の結晶化開始温度(Tx)は、限定的ではないが、通常は750〜1100℃程度の範囲であれば良い。従って、例えば900〜1050℃とすることができる。また例えば790〜950℃とすることもできる。
The glass transition point (Tg) of the glass composition of the present invention is not limited, but is usually in the range of about 680 to 800 ° C. Therefore, it can be set to, for example, 690 to 770 ° C. Further, for example, it can be set to 650 to 720 ° C.
The softening point (Ts) of the glass composition of the present invention is not limited, but is usually in the range of about 700 to 900 ° C. Therefore, it can be set to, for example, 760 to 880 ° C. Further, for example, it can be set to 760 to 850 ° C.
Further, the crystallization start temperature (Tx) of the glass composition of the present invention is not limited, but is usually in the range of about 750 to 1100 ° C. Therefore, it can be set to, for example, 900 to 1050 ° C. It can also be set to, for example, 790 to 950 ° C.

本発明ガラス組成物においては、ガラスのフロー性、気密性等の観点から、特に結晶化開始温度(Tx)と軟化点(Ts)との差ΔTが大きい方が好ましい。例えば、前記ΔTが20℃以上とし、さらに60℃以上とし、またさらに70℃以上とし、特に100℃以上とすることもできる。このように、より大きなΔTに制御することによって、ガラスが結晶化するまでに十分な時間を確保することが可能となり、その結果として良好なフロー性とともに高い気密性をより確実に得ることができる。なお、ΔTの上限値は限定的ではないが、例えば200℃程度とすれば良い。 In the glass composition of the present invention, from the viewpoint of glass flowability, airtightness, etc., it is particularly preferable that the difference ΔT between the crystallization start temperature (Tx) and the softening point (Ts) is large. For example, the ΔT may be 20 ° C. or higher, further 60 ° C. or higher, further 70 ° C. or higher, and particularly 100 ° C. or higher. By controlling to a larger ΔT in this way, it is possible to secure a sufficient time for the glass to crystallize, and as a result, good flowability and high airtightness can be obtained more reliably. .. The upper limit of ΔT is not limited, but may be, for example, about 200 ° C.

(3)封止用ガラス組成物の製造方法
本発明ガラス組成物の製造方法自体は、特に限定的でなく、例えば1)本発明ガラス組成物の組成となるように調合された原料を混合する工程(混合工程)、2)得られた混合物を1400〜1600℃の温度で溶融することにより溶融ガラスを調製する工程(溶融工程)、3)溶融ガラスを結晶化させないようにして冷却する工程(冷却)を含む製造方法によって製造することができる。
(3) Method for Producing Glass Composition for Encapsulation The method for producing the glass composition of the present invention is not particularly limited, and for example, 1) raw materials prepared so as to have the composition of the glass composition of the present invention are mixed. Step (Mixing step), 2) Preparing molten glass by melting the obtained mixture at a temperature of 1400 to 1600 ° C. (Melting step), 3) Cooling the molten glass without crystallizing it (Mixing step) It can be manufactured by a manufacturing method including cooling).

原料としては、ガラス成分の供給源となる化合物を出発原料として使用すれば良い。通常は、本発明ガラス組成物に含まれる元素(Si、Ca、Al、Zn等)の酸化物を出発原料として使用すれば良いが、水酸化物、炭酸塩、硝酸塩等も用いることができる。すなわち、SiではSiO等、SrではSrO、SrCO等、AlではAl、Al(OH)等、ZnではZnO等を適宜使用することができる。これら原料は、通常は粉末のものを使用すれば良く、これらの粉末を均一に混合して混合粉末を調製することができる。 As the raw material, a compound that is a source of the glass component may be used as a starting material. Usually, oxides of elements (Si, Ca, Al, Zn, etc.) contained in the glass composition of the present invention may be used as a starting material, but hydroxides, carbonates, nitrates and the like can also be used. That is, SiO 2 or the like for Si, SrO or SrCO 3 or the like for Sr, Al 2 O 3 or Al (OH) 3 or the like for Al, ZnO or the like for Zn can be appropriately used. As these raw materials, powders may usually be used, and these powders can be uniformly mixed to prepare a mixed powder.

このようにして得られた混合物(混合粉末)を通常1400〜1600℃の温度で溶融することにより溶融ガラスを調製する。溶融雰囲気は限定的でないが、通常は大気中(ないしは酸化性雰囲気中)で大気圧下にて溶融工程を実施すれば良い。 A molten glass is prepared by melting the mixture (mixed powder) thus obtained at a temperature of usually 1400 to 1600 ° C. The melting atmosphere is not limited, but usually the melting step may be carried out in the atmosphere (or in an oxidizing atmosphere) under atmospheric pressure.

次いで、冷却工程において、溶融ガラスを結晶化させないようにして冷却する。このような冷却条件は、公知のガラス製造の場合と同様とすれば良く、例えば溶融ガラスをステンレス鋼製の冷却ロールに接触させて急冷する方法を採用することができる。 Next, in the cooling step, the molten glass is cooled without crystallizing. Such cooling conditions may be the same as in the case of known glass production, and for example, a method of bringing molten glass into contact with a cooling roll made of stainless steel to quench it can be adopted.

このようにして本発明ガラス組成物が得られるが、必要に応じて粉砕、分級等の公知の処理を施しても良い。なお、粉砕、分級等により粒度調整する場合は、前記のように平均粒径2〜10μmにしつつ、最大粒径が150μm以下(特に最大粒径が110μm以下)となるように調整することが好ましい。 Although the glass composition of the present invention is obtained in this way, known treatments such as pulverization and classification may be performed if necessary. When adjusting the particle size by pulverization, classification, etc., it is preferable to adjust the particle size so that the average particle size is 2 to 10 μm as described above and the maximum particle size is 150 μm or less (particularly, the maximum particle size is 110 μm or less). ..

(3)封止用ガラス組成物の使用
本発明ガラス組成物は、例えば粉末(乾燥粉末)の形態で使用することもできるが、粉末状の本発明ガラス組成物をバインダー及び/又は溶媒に分散させたスラリー、ペースト等の液状組成物の形態で使用することもできる。
(3) Use of sealing glass composition
The glass composition of the present invention can be used, for example, in the form of powder (dry powder), but is a liquid composition such as a slurry or paste in which the glass composition of the present invention in powder form is dispersed in a binder and / or a solvent. It can also be used in the form.

本発明ガラス組成物を液状組成物として使用する場合は、溶剤及び有機バインダーの少なくとも1種を混合して調製すれば良い。例えば、粉末状の本発明ガラス組成物と、溶剤及び有機バインダーの少なくとも1種とを混合することによって液状組成物を好適に調製することができる。液状組成物を調製する場合、本発明ガラス組成物の粉末における平均粒径は特に限定されないが、通常は2〜10μmとすることが好ましく、特に5〜10μmとすることがより好ましい。また、前記粉末は、最大粒径が150μm以下、特に110μm以下とすることが好ましい。 When the glass composition of the present invention is used as a liquid composition, it may be prepared by mixing at least one of a solvent and an organic binder. For example, a liquid composition can be suitably prepared by mixing the powdered glass composition of the present invention with at least one of a solvent and an organic binder. When preparing the liquid composition, the average particle size of the powder of the glass composition of the present invention is not particularly limited, but is usually preferably 2 to 10 μm, and more preferably 5 to 10 μm. Further, the powder preferably has a maximum particle size of 150 μm or less, particularly 110 μm or less.

前記有機バインダーは特に制限されず、本発明ガラス組成物の具体的用途(被封止物等)に応じて公知のバインダーの中から適宜採用することができる。例えば、エチルセルロース等のセルロース樹脂等が挙げられるが、これらに限定されない。 The organic binder is not particularly limited, and can be appropriately adopted from known binders according to the specific use (object to be sealed, etc.) of the glass composition of the present invention. Examples thereof include, but are not limited to, cellulose resins such as ethyl cellulose.

前記溶剤としては、用いる前記バインダーの種類等に応じて公知の有機溶剤から適宜選択すれば良い。例えば、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類のほか、テルピネオール(α―テルピネオール又はα―テルピネオールを主成分としたβ―テルピネオール、γ―テルピネオールの混合体)等の有機溶剤が挙げられるが、これらに限定されない。なお、有機溶剤は、単独で用いても良く、2種以上を併用しても良い。 The solvent may be appropriately selected from known organic solvents according to the type of the binder used and the like. For example, in addition to alcohols such as ethanol and isopropanol, organic solvents such as terpineol (a mixture of α-terpineol or β-terpineol containing α-terpineol as a main component and γ-terpineol) can be mentioned, but are not limited thereto. .. The organic solvent may be used alone or in combination of two or more.

また、本発明では、前記の液状組成物の調製においては、必要に応じて、例えば可塑剤、増粘剤、増感剤、界面活性剤、分散剤、着色剤等の公知の添加剤を適宜配合することができる。 Further, in the present invention, in the preparation of the above liquid composition, known additives such as a plasticizer, a thickener, a sensitizer, a surfactant, a dispersant, a colorant and the like are appropriately added, if necessary. Can be blended.

本発明では、本発明ガラス組成物を用いて電子部品の封止を行うことができる。封止方法自体は、公知の封止方法に従って実施することができる。例えば、電子部品等の被封止体の表面に接するように本発明ガラス組成物で直接覆う工程及び前記表面上に配置された本発明ガラス組成物を焼成する工程を含む方法のほか、電子部品を収容する容器とその蓋材との間に本発明ガラス組成物を配置する工程及び前記配置された本発明ガラス組成物を焼成する工程を含む方法等を採用することができる。 In the present invention, the glass composition of the present invention can be used to seal electronic components. The sealing method itself can be carried out according to a known sealing method. For example, in addition to a method including a step of directly covering with the glass composition of the present invention so as to be in contact with the surface of an object to be sealed such as an electronic component and a step of firing the glass composition of the present invention arranged on the surface, the electronic component. A method including a step of arranging the glass composition of the present invention between the container accommodating the glass and the lid material thereof and a step of firing the arranged glass composition of the present invention can be adopted.

この場合、本発明ガラス組成物を用いて被覆等を行う場合、そのまま粉末の形態で必要な箇所に配置する方法、あるいはその液状組成物を公知の方法(ローラー、スプレー等)に従って塗布する方法等をとれば良い。その他、本発明ガラス組成物を予め所定の成形体とし、その成形体を必要な箇所に配置する方法も採用できる。 In this case, when coating or the like is performed using the glass composition of the present invention, a method of arranging the liquid composition as it is in a required place in the form of a powder, or a method of applying the liquid composition according to a known method (roller, spray, etc.), etc. Should be taken. In addition, a method in which the glass composition of the present invention is prepared in advance as a predetermined molded body and the molded body is arranged at a required position can also be adopted.

2.SrO−SiO系結晶化ガラス封止材
本発明は、SrO−SiO系結晶化ガラス封止材であって、
(1)少なくとも下記成分;
1)SiO:41〜55モル%、
2)SrO:6〜40モル%、
3)ZnO:1〜20モル%、
4)Al:3.1〜25モル%及び
5)RO(ただし、RはMg、Ca及びBaの少なくとも1種を示す。):合計0〜20モル%
を含み、
(2)SrO−SiO系結晶として、SrZnSi結晶、SrZnSi結晶、SrAlSi結晶及びSrAlSiO結晶の少なくとも1種を含む、
ことを特徴とするSrO−SiO系結晶化ガラス封止材(本発明封止材)を包含する。
2. SrO-SiO 2 system crystallized glass encapsulant The present invention is an SrO-SiO 2 system crystallized glass encapsulant.
(1) At least the following components;
1) SiO 2 : 41-55 mol%,
2) SrO: 6-40 mol%,
3) ZnO: 1 to 20 mol%,
4) Al 2 O 3 : 3.1 to 25 mol% and 5) RO (where R indicates at least one of Mg, Ca and Ba): 0 to 20 mol% in total.
Including
(2) as SrO-SiO 2 based crystal, comprising SrZn 2 Si 2 O 7 crystals, Sr 2 ZnSi 2 O 7 crystals, at least one of SrAl 2 Si 2 O 8 crystal and Sr 2 Al 2 SiO 7 crystal,
The SrO-SiO 2 system crystallized glass encapsulant (encapsulating material of the present invention) is included.

本発明封止材は、実質的にSrO−SiO系結晶化ガラスから構成されるものである。SrO−SiO系の結晶としては、SrZnSi結晶、SrZnSi結晶、SrAlSi結晶及びSrAlSiO結晶の少なくとも1種の結晶相(本発明結晶)を含んでいる限りは特に限定されず、他の結晶相(すなわち、これらの結晶の置換型固溶体又は侵入型固溶体)が含まれていても良い。また、本発明の効果を妨げない範囲内において、本発明結晶以外の結晶相が含まれていても良い。このような結晶としては、CaO−Al−SiO系結晶(例えばCaAlSi結晶)、CaO−SiO系結晶等が挙げられる。 The encapsulant of the present invention is substantially composed of SrO-SiO 2 system crystallized glass. As the SrO-SiO 2 system crystal, at least one crystal phase of SrZn 2 Si 2 O 7 crystal, Sr 2 ZnSi 2 O 7 crystal, SrAl 2 Si 2 O 8 crystal and Sr 2 Al 2 SiO 7 crystal (this The crystals are not particularly limited as long as they contain (invention crystals), and other crystal phases (that is, substituted solid solutions or penetrating solid solutions of these crystals) may be contained. Further, a crystal phase other than the crystal of the present invention may be contained within a range that does not interfere with the effect of the present invention. Such crystals, CaO-Al 2 O 3 -SiO 2 based crystal (e.g. CaAl 2 Si 2 O 8 crystal), CaO-SiO 2 based crystal like can be mentioned.

本発明封止材は、例えば本発明ガラス組成物を出発原料として得られる。出発原料として本発明ガラス組成物を用いる場合は、本発明ガラス組成物を焼成することによって本発明封止材を得ることができる。 The encapsulant of the present invention is obtained, for example, using the glass composition of the present invention as a starting material. When the glass composition of the present invention is used as a starting material, the encapsulant of the present invention can be obtained by firing the glass composition of the present invention.

焼成条件としては、通常は少なくとも本発明結晶が形成される限りは特に制限されない。焼成温度は、通常は1000〜1300℃程度とすれば良い。また、焼成雰囲気は一般的には大気中ないしは酸化性雰囲気とすれば良い。また、圧力は、大気圧下で焼成すれば良い。 The firing conditions are usually not particularly limited as long as the crystals of the present invention are formed. The firing temperature is usually about 1000 to 1300 ° C. In addition, the firing atmosphere may generally be the atmosphere or an oxidizing atmosphere. Moreover, the pressure may be fired under atmospheric pressure.

本発明封止材は、本発明ガラス組成物と同様の組成を有し、その好ましい範囲も本発明ガラス組成物と同様の範囲を好適に採用することができる。従って、例えば1)SiO:42〜47モル%、2)SrO:17〜34モル%、3)ZnO:8〜15モル%、4)Al:4〜15モル%及び5)RO:0〜5モル%を含むガラス組成を好適に採用することができる。 The encapsulant of the present invention has the same composition as the glass composition of the present invention, and the preferred range thereof can be preferably the same as that of the glass composition of the present invention. Therefore, for example, 1) SiO 2 : 42 to 47 mol%, 2) SrO: 17 to 34 mol%, 3) ZnO: 8 to 15 mol%, 4) Al 2 O 3 : 4 to 15 mol% and 5) RO : A glass composition containing 0 to 5 mol% can be preferably adopted.

本発明封止材における熱膨張係数(α値)は特に限定されないが、50〜850℃における熱膨張係数が35〜100×10−7/℃であり、特に40〜90×10−7/℃であることが好ましく、さらに70〜85×10−7/℃であることがより好ましい。このような範囲に制御すれば電子部品の封止性をより向上させることができる。 Thermal expansion coefficient in the present invention a sealing material (alpha value) is not particularly limited, the thermal expansion coefficient at 50 to 850 ° C. is 35~100 × 10 -7 / ℃, especially 40~90 × 10 -7 / ℃ Is more preferable, and more preferably 70 to 85 × 10 -7 / ° C. Controlling within such a range can further improve the sealing performance of electronic components.

また、本発明では、上述したように、主としてAl含有量を上記範囲内で変更することによって、得られる結晶化ガラスの熱膨張特性を自由かつ確実に変えることができる。従って、比較的大きな熱膨張係数を有する場合として、通常60〜100×10−7/℃の範囲内に設定することができ、特に80〜96×10−7/℃に制御することができる。これに対し、比較的小さな熱膨張係数を有する場合として、特に35〜65×10−7/℃に設定することができ、特に40〜62×10−7/℃に制御することができる。このように、本発明ガラス組成物では、幅広い熱膨張係数の中から特定の熱膨張例数を有する封止材を提供することができる。 Further, in the present invention, as described above, the thermal expansion characteristics of the obtained crystallized glass can be freely and surely changed by mainly changing the Al 2 O 3 content within the above range. Therefore, when it has a relatively large coefficient of thermal expansion, it can usually be set in the range of 60 to 100 × 10 -7 / ° C, and in particular, it can be controlled to 80 to 96 × 10 -7 / ° C. On the other hand, when it has a relatively small coefficient of thermal expansion, it can be set to 35 to 65 × 10 -7 / ° C, and particularly 40 to 62 × 10 -7 / ° C. As described above, the glass composition of the present invention can provide a sealing material having a specific number of thermal expansion examples from a wide range of coefficient of thermal expansion.

<実施の形態>
本発明ガラス組成物を出発材料として用いることにより、半導体素子を本発明の封止材を封止する場合の実施形態を以下に示す。
<Embodiment>
An embodiment in the case where the semiconductor element is sealed with the sealing material of the present invention by using the glass composition of the present invention as a starting material is shown below.

封止工程としては、種々の態様をとり得ることができる。例えば、(1)a)電子部品の表面に接触するように電子部品の一部又は全部を本発明ガラス組成物で覆うことにより前駆体層を形成する工程、b)前記前駆体層を焼成することにより結晶化ガラスを含む封止材層を形成させる工程を含む方法(被覆封止方法)、(2)a)電子部品が収納された容器と、その蓋材との接触領域に本発明ガラス組成物による前駆体層を形成する工程、b)前記容器に蓋材を被せる工程、c)前記前駆体層を焼成することにより結晶化ガラスを含む封止材層を形成させる工程を含む方法(接着封止方法)等が挙げられる。 Various modes can be taken as the sealing step. For example, (1) a) a step of forming a precursor layer by covering a part or all of the electronic part with the glass composition of the present invention so as to come into contact with the surface of the electronic part, b) firing the precursor layer. A method including a step of forming a sealing material layer containing crystallized glass (coating sealing method), (2) a) The glass of the present invention is formed in a contact region between a container containing an electronic component and a lid material thereof. A method including a step of forming a precursor layer by the composition, b) a step of covering the container with a lid material, and c) a step of forming a sealing material layer containing crystallized glass by firing the precursor layer (a step of forming a sealing material layer containing crystallized glass). Adhesive sealing method) and the like.

特に、本発明ガラス組成物では、例えば良好な流動性、適切な熱膨張係数等を有するという見地より、前記の被覆封止方法に有利に採用することができる。例えば図1に示すように、電子デバイスとしてサーミスタ10を製造する場合、2本のリード線13が接続された半導体素子12を電子部品として用意したうえで、a)半導体素子12の全体及び2本のリード線13の一部を本発明ガラス組成物で直接覆うことにより前駆体層を形成する工程、b)前記前駆体層を焼成することにより結晶化ガラスを含む封止材層11を形成させる工程を含む方法によって、電子部品の被覆封止を好適に行うことができる。このように被覆封止処理を施すことにより、電子デバイスはSrO−SiO系結晶化ガラス封止材(後記に示す本発明封止材)中に少なくとも電子部品全体が埋設された状態になる結果、外部環境から電子部品が効果的に保護されることになる。 In particular, the glass composition of the present invention can be advantageously adopted in the above-mentioned coating and sealing method from the viewpoint of having, for example, good fluidity, an appropriate coefficient of thermal expansion, and the like. For example, as shown in FIG. 1, when the thermistor 10 is manufactured as an electronic device, a semiconductor element 12 to which two lead wires 13 are connected is prepared as an electronic component, and then a) the whole semiconductor element 12 and two semiconductor elements 12 are prepared. Step of forming a precursor layer by directly covering a part of the lead wire 13 of the above with the glass composition of the present invention, b) By firing the precursor layer, a sealing material layer 11 containing crystallized glass is formed. By a method including a step, the coating and sealing of the electronic component can be preferably performed. By performing the coating sealing treatment in this way, the electronic device is in a state where at least the entire electronic component is embedded in the SrO-SiO 2 system crystallized glass sealing material (the sealing material of the present invention described later). , Electronic components will be effectively protected from the external environment.

なお、本発明ガラス組成物を用いて電子部品の封止を行う場合、上記の焼成温度等は、前記「2.SrO−SiO系結晶化ガラス封止材」に記載されている焼成条件等に従って実施すれば良い。 When sealing an electronic component using the glass composition of the present invention, the above firing temperature and the like are the firing conditions and the like described in the above "2. SrO-SiO 2 system crystallized glass sealing material". It may be carried out according to.

以下に実施例及び比較例を示し、本発明の特徴をより具体的に説明する。ただし、本発明の範囲は、実施例に限定されない。 Examples and comparative examples are shown below, and the features of the present invention will be described more specifically. However, the scope of the present invention is not limited to the examples.

実施例1〜18及び比較例1
表1〜表4に示すガラス組成となるように原料を調合・混合し、調合原料を白金るつぼに入れて1450〜1600℃で2時間かけて溶融した後、溶融ガラスをステンレス鋼製の冷却ロールに接触させて急冷することによりガラスフレークを得た。ポットミルに前記ガラスフレークを入れ、平均粒径が約5〜10μmになるように調整しながら粉砕した。その後、目開きが106μmの篩にて粗粒を除去し、各実施例及び比較例のガラス粉末をそれぞれ得た。
Examples 1-18 and Comparative Example 1
The raw materials are mixed and mixed so as to have the glass composition shown in Tables 1 to 4, the mixed raw materials are placed in a platinum crucible and melted at 1450 to 1600 ° C. for 2 hours, and then the molten glass is melted in a stainless steel cooling roll. Glass flakes were obtained by contacting with and quenching. The glass flakes were placed in a pot mill and pulverized while adjusting the average particle size to about 5 to 10 μm. Then, coarse particles were removed with a sieve having a mesh size of 106 μm to obtain glass powders of Examples and Comparative Examples, respectively.

なお、実施例及び比較例のガラス組成物を作製するための上記出発原料(各成分の供給源)として、SiO、Al(OH)、CaCO、SrCO、Mg(OH)、BaCO及びZnOをそれぞれ用いた。 As the starting materials (sources of each component) for producing the glass compositions of Examples and Comparative Examples, SiO 2 , Al (OH) 3 , CaCO 3 , SrCO 3 , Mg (OH) 2 , BaCO 3 and ZnO were used, respectively.

試験例1
各実施例及び比較例のガラス粉末について、下記の方法によりガラス粉末のガラス転移点、軟化点、結晶化開始温度、平均粒径を測定した。また、ガラス粉末を大気中にて焼成し、圧粉体のフロー径、熱膨張係数をそれぞれ測定し、評価した。これらの結果を表1〜表4に示す。なお、各物性の測定方法は、それぞれ以下のようにして実施した。
Test Example 1
For the glass powders of each Example and Comparative Example, the glass transition point, softening point, crystallization start temperature, and average particle size of the glass powder were measured by the following methods. Further, the glass powder was fired in the air, and the flow diameter and the coefficient of thermal expansion of the green compact were measured and evaluated. These results are shown in Tables 1 to 4. The methods for measuring each physical property were carried out as follows.

(1)ガラス転移点、軟化点及び結晶化開始温度
ガラス粉末約40mgを白金セルに充填し、DTA測定装置(リガク社製Thermo Plus TG8120)を用いて、室温から20℃/分で昇温させてガラス転移点(Tg)、軟化点(Ts)及び結晶化開始温度(Tx)を測定した。
(1) Glass transition point, softening point and crystallization start temperature
Approximately 40 mg of glass powder is filled in a platinum cell, and the temperature is raised from room temperature at 20 ° C./min using a DTA measuring device (Thermo Plus TG8120 manufactured by Rigaku Co., Ltd.) to obtain a glass transition point (Tg), a softening point (Ts), and a softening point (Ts). The crystallization start temperature (Tx) was measured.

(2)ガラス粉末の粒度(平均粒径)
レーザー散乱式粒度分布計を用いて、体積分布モードのD50の値を求めた。
(2) Particle size of glass powder (average particle size)
The value of D50 in the volume distribution mode was determined using a laser scattering particle size distribution meter.

(3)気密性
ガラス粉末5gを用いて直径20mm×高さ10〜15mmの円筒形の圧粉体を成形した。この成形体をアルミナ基板の上に載せ、1100℃で1時間焼成し、得られた焼成体の外観を評価した。評価基準は、フローしている場合又は焼成体が収縮している場合は「○」とし、収縮しない場合又は融解した場合は「×」とした。
(3) Airtightness
Using 5 g of glass powder, a cylindrical green compact having a diameter of 20 mm and a height of 10 to 15 mm was formed. This molded product was placed on an alumina substrate and fired at 1100 ° C. for 1 hour, and the appearance of the obtained fired product was evaluated. The evaluation criteria were "○" when flowing or when the fired body was shrinking, and "x" when not shrinking or melting.

(4)熱膨張係数
上記(3)で得られた焼成体を約5mm×5mm×15mmの大きさに切り出し、試験体を作製した。この試験体について、TMA測定装置を用いて、室温から10℃/分で昇温したときに得られる熱膨張曲線から、50℃と850℃の2点に基づく熱膨張係数α(×10−7/℃)を求めた。
(4) Coefficient of thermal expansion
The fired body obtained in (3) above was cut into a size of about 5 mm × 5 mm × 15 mm to prepare a test body. From the thermal expansion curve obtained when the temperature of this test piece is raised from room temperature to 10 ° C./min using a TMA measuring device, the coefficient of thermal expansion α (× 10-7) based on two points of 50 ° C. and 850 ° C. / ° C) was calculated.

(5)結晶形
上記(3)で得られた焼成体について、粉末X線回折分析を行った。その結果に基づいて、SrZnSi結晶、SrZnSi結晶、SrAlSi結晶及びSrAlSiO結晶の少なくとも1種の結晶相の有無を確認した。
(5) Crystal form
The fired body obtained in (3) above was subjected to powder X-ray diffraction analysis. Based on the results, SrZn 2 Si 2 O 7 crystals, to confirm the presence or absence of Sr 2 ZnSi 2 O 7 crystal, at least one crystalline phase of SrAl 2 Si 2 O 8 crystal and Sr 2 Al 2 SiO 7 crystals.

Figure 0006963413
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Figure 0006963413
Figure 0006963413

Figure 0006963413
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Figure 0006963413
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表1〜4の結果からも明らかなように、各実施例のガラス組成物では、本発明結晶が発現されており、優れた耐熱性が期待できることがわかる。また、気密性も良好であることから、本発明ガラス組成物の使用時における流動性等において優れた性能が発揮できることがわかる。また、SrO−SiO系の組成において、特にAl含有量を変えることによって、低い熱膨張係数から高い熱膨張係数まで自由に制御できることもわかる。 As is clear from the results in Tables 1 to 4, the crystals of the present invention are expressed in the glass compositions of each example, and excellent heat resistance can be expected. In addition, since the airtightness is also good, it can be seen that excellent performance can be exhibited in terms of fluidity and the like when the glass composition of the present invention is used. It is also found that the composition of the SrO-SiO 2 system can be freely controlled from a low coefficient of thermal expansion to a high coefficient of thermal expansion by changing the Al 2 O 3 content in particular.

本発明の封止用ガラス組成物は、金属と半導体の表面に適用し、例えば1100℃程度の温度で焼成することにより前記部材間を好適に封止することができる。本発明の封止材は、例えば1100℃以上の高温条件で使用される温度センサを封止するための封止材として特に有用である。 The sealing glass composition of the present invention is applied to the surfaces of a metal and a semiconductor, and can be suitably sealed between the members by firing at a temperature of, for example, about 1100 ° C. The encapsulant of the present invention is particularly useful as an encapsulant for encapsulating a temperature sensor used under high temperature conditions of, for example, 1100 ° C. or higher.

Claims (9)

SrO−SiO系結晶を含む結晶化ガラス封止材を製造するためのガラス組成物であって、少なくとも下記成分;
1)SiO:41〜55モル%、
2)SrO:17〜40モル%、
3)ZnO:1〜20モル%、
4)Al:3.1〜25モル%及び
5)RO(ただし、RはMg、Ca及びBaの少なくとも1種を示す。):合計0〜20モル%
を含むことを特徴とする封止用ガラス組成物。
A glass composition for producing a crystallized glass encapsulant containing SrO-SiO 2 crystal, at least the following components;
1) SiO 2 : 41-55 mol%,
2) SrO: 17 ~40 mol%,
3) ZnO: 1 to 20 mol%,
4) Al 2 O 3 : 3.1 to 25 mol% and 5) RO (where R indicates at least one of Mg, Ca and Ba): 0 to 20 mol% in total.
A glass composition for sealing, which comprises.
前記成分が、
1)SiO:42〜55モル%、
2)SrO:17〜40モル%、
3)ZnO:1〜20モル%、
4)Al:3.1〜25モル%及び
5)RO(ただし、RはMg、Ca及びBaの少なくとも1種を示す。):合計0〜20モル%である、請求項1に記載の封止用ガラス組成物。
The above ingredients
1) SiO 2 : 42-55 mol%,
2) SrO: 17 ~40 mol%,
3) ZnO: 1 to 20 mol%,
4) Al 2 O 3 : 3.1 to 25 mol% and 5) RO (where R indicates at least one of Mg, Ca and Ba): a total of 0 to 20 mol%, claim 1. The sealing glass composition according to the above.
前記成分が、
1)SiO:41〜55モル%、
2)SrO:17〜40モル%、
3)ZnO:1〜20モル%、
4)Al:3.1〜25モル%及び
5)RO(ただし、RはMg、Ca及びBaの少なくとも1種を示す。):合計0〜17モル%
である、請求項1に記載の封止用ガラス組成物。
The above ingredients
1) SiO 2 : 41-55 mol%,
2) SrO: 17 ~40 mol%,
3) ZnO: 1 to 20 mol%,
4) Al 2 O 3 : 3.1 to 25 mol% and 5) RO (where R indicates at least one of Mg, Ca and Ba): 0 to 17 mol% in total.
The sealing glass composition according to claim 1.
前記成分が、
1)SiO:41〜55モル%、
2)SrO:17〜40モル%、
3)ZnO:1〜20モル%、
4)Al:3.1モル%以上13モル%未満及び
5)RO(ただし、RはMg、Ca及びBaの少なくとも1種を示す。):合計0〜20モル%
である、請求項1に記載の封止用ガラス組成物。
The above ingredients
1) SiO 2 : 41-55 mol%,
2) SrO: 17 ~40 mol%,
3) ZnO: 1 to 20 mol%,
4) Al 2 O 3 : 3.1 mol% or more and less than 13 mol% and 5) RO (where R indicates at least one of Mg, Ca and Ba): 0 to 20 mol% in total.
The sealing glass composition according to claim 1.
前記成分が、
1)SiO:41〜55モル%、
2)SrO:17〜40モル%、
3)ZnO:1〜20モル%、
4)Al:13〜25モル%及び
5)RO(ただし、RはMg、Ca及びBaの少なくとも1種を示す。):合計0〜20モル%
である、請求項1に記載の封止用ガラス組成物。
The above ingredients
1) SiO 2 : 41-55 mol%,
2) SrO: 17 ~40 mol%,
3) ZnO: 1 to 20 mol%,
4) Al 2 O 3 : 13 to 25 mol% and 5) RO (where R indicates at least one of Mg, Ca and Ba): 0 to 20 mol% in total.
The sealing glass composition according to claim 1.
SrO−SiO系結晶化ガラス封止材であって、
(1)少なくとも下記成分;
1)SiO:41〜55モル%、
2)SrO:17〜40モル%、
3)ZnO:1〜20モル%、
4)Al:3.1〜25モル%及び
5)RO(ただし、RはMg、Ca及びBaの少なくとも1種を示す。):合計0〜20モル%
を含み、
(2)SrO−SiO系結晶として、SrZnSi結晶、SrZnSi結晶、SrAlSi結晶及びSrAlSiO結晶の少なくとも1種を含む、
ことを特徴とするSrO−SiO系結晶化ガラス封止材。
SrO-SiO 2 system crystallized glass encapsulant
(1) At least the following components;
1) SiO 2 : 41-55 mol%,
2) SrO: 17 ~40 mol%,
3) ZnO: 1 to 20 mol%,
4) Al 2 O 3 : 3.1 to 25 mol% and 5) RO (where R indicates at least one of Mg, Ca and Ba): 0 to 20 mol% in total.
Including
(2) as SrO-SiO 2 based crystal, comprising SrZn 2 Si 2 O 7 crystals, Sr 2 ZnSi 2 O 7 crystals, at least one of SrAl 2 Si 2 O 8 crystal and Sr 2 Al 2 SiO 7 crystal,
A SrO-SiO 2 system crystallized glass encapsulant characterized by this.
50〜850℃における熱膨張係数が35〜100×10−7/℃である、請求項5に記載のSrO−SiO系結晶化ガラス封止材。 The SrO-SiO 2 system crystallized glass encapsulant according to claim 5, wherein the coefficient of thermal expansion at 50 to 850 ° C. is 35 to 100 × 10-7 / ° C. 請求項6又は7に記載のSrO−SiO系結晶化ガラス封止材によって電子部品が封止されてなる電子デバイス。 An electronic device in which electronic components are sealed by the SrO-SiO 2 system crystallized glass encapsulant according to claim 6 or 7. 請求項1に記載の封止用ガラス組成物を1000〜1300℃の温度で熱処理する工程を含む、SrO−SiO系結晶化ガラス封止材の製造方法。 A method for producing a SrO-SiO 2- based crystallized glass encapsulant, which comprises a step of heat-treating the encapsulating glass composition according to claim 1 at a temperature of 1000 to 1300 ° C.
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