JP6927222B2 - 光ファイバ及び光ファイバの製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、光ファイバ及びその製造方法に関する。
本出願は、２０１６年８月２日出願の日本出願２０１６−１５１９５７号に基づく優先権を主張し、前記日本出願に記載された全ての記載内容を援用するものである。

コアとクラッドを有する光ファイバの被覆は、機械的強度を得ることと、マイクロベンドロスを抑制することを考慮して、プライマリ被覆層とセカンダリ被覆層の二層を含むように構成されている（例えば、特許文献１）。非特許文献１には光ファイバにおける耐マイクロベンド特性が光ファイバの横剛性Ｄと曲げ剛性Ｈに関連し、以下の式によって求められることが記載されている。また、特許文献２では非特許文献１に基づいて、マイクロベンドロスを考察した記載がある。

日本国特開２０００−２４１６８０号公報 米国特許第８４５２１４６

Ｆ．Ｃｏｃｃｈｉｎｉ， "Ｔｈｅ ｌａｔｅｒａｌ ｒｉｇｉｄｉｔｙ ｏｆ ｄｏｕｂｌｅ−ｃｏａｔｅｄ ｏｐｔｉｃａｌ ｆｉｂｅｒｓ"， Ｊ． Ｌｉｇｈｔｗａｖｅ Ｔｅｃｈ． １３（１９９５）１７０６

本開示の一態様に係る光ファイバは、コアとクラッドからなる裸光ファイバの外周にプライマリ被覆層とセカンダリ被覆層が形成された光ファイバであって、
前記プライマリ被覆層のヤング率が０．１〜１．０ＭＰａであり、
前記光ファイバの下記式に示す横剛性Ｄと曲げ剛性Ｈの関係がＤ／Ｈ^２≦３×１０^１７Ｎ^−１ｍ^−６であり、
前記プライマリ被覆層が、リンを含む光開始剤を０．３〜２．０重量％含み、
前記プライマリ被覆層が、重量平均分子量が１０００〜５０００であるポリプロピレングリコールを含む。

式中、ｒは半径（ｍ）、Ｅはヤング率（Ｐａ）、添字ｇはガラス（裸光ファイバ）、添字ｐはプライマリ被覆層、添字ｓはセカンダリ被覆層をそれぞれ表す。

本開示の一態様に係る光ファイバの製造方法は、コアとクラッドからなる裸光ファイバの外周にプライマリ被覆層とセカンダリ被覆層を形成する光ファイバの製造方法であって、
前記プライマリ被覆層のヤング率が０．１〜１．０ＭＰａとなるように、かつ、
前記光ファイバの下記式に示す横剛性Ｄと曲げ剛性Ｈの関係がＤ／Ｈ^２≦３×１０^１７Ｎ^−１ｍ^−６を満たすように、前記プライマリ被覆層および前記セカンダリ被覆層を形成し、
前記プライマリ被覆層にリンを含む光開始剤を０．３〜２．０重量％含有させ、
前記プライマリ被覆層に重量平均分子量が１０００〜５０００であるポリプロピレングリコールを含有させる、
光ファイバの製造方法である。

式中、ｒは半径（ｍ）、Ｅはヤング率（Ｐａ）、添字ｇはガラス（裸光ファイバ）、添字ｐはプライマリ被覆層、添字ｓはセカンダリ被覆層をそれぞれ表す。

本発明の実施形態に係る光ファイバの製造方法を説明する装置の概略図である。 本発明の実施形態に係る光ファイバの構造を示す断面図である。

［本開示が解決しようとする課題］
しかしながら、非特許文献１に開示される上記式はプライマリ被覆層のヤング率が１０〜２０ＭＰａにおいて数値解析することにより算出した“近似式”であり、プライマリ被覆層のヤング率が１．０ＭＰａ以下の光ファイバにそのまま適用すると、理論値と実測値にずれがあり好ましくないことがわかった。
また、プライマリ被覆層のヤング率を小さくすると、巻き替え時やユニット化工程時等に光ファイバが外部より力を受けることによる、ガラスとプライマリ被覆層との界面の剥離或いは樹脂被覆の破壊が発生しやすくなる、といった問題がある。
本開示の目的は、プライマリ被覆層のヤング率が１．０ＭＰａ以下の光ファイバであっても、マイクロベンドロスが抑制されるとともに、巻き替え時やユニット化工程時等に光ファイバが外部より力を受けても、ガラスとプライマリ被覆層との界面の剥離或いは樹脂被覆の破壊が発生しにくくなる、光ファイバ及びその製造方法を提供することにある。

［本開示の効果］
本開示によれば、プライマリ被覆層のヤング率が１．０ＭＰａ以下の光ファイバであっても、マイクロベンドロスが抑制されるとともに、巻き替え時やユニット化工程時等に光ファイバが外部より力を受けても、ガラスとプライマリ被覆層との界面の剥離或いは樹脂被覆の破壊が発生しにくくなる。

［本発明の実施形態の説明］
本発明の実施形態を列記して説明する。
（１）コアとクラッドからなる裸光ファイバの外周にプライマリ被覆層とセカンダリ被覆層が形成された光ファイバであって、
前記プライマリ被覆層のヤング率が０．１〜１．０ＭＰａであり、
前記光ファイバの下記式に示す横剛性Ｄと曲げ剛性Ｈの関係がＤ／Ｈ^２≦３×１０^１７Ｎ^−１ｍ^−６を満たす、光ファイバであり、
前記プライマリ被覆層が、リンを含む光開始剤を０．３〜２．０重量％含み、
前記プライマリ被覆層が、重量平均分子量が１０００〜５０００であるポリプロピレングリコールを含む。

式中、ｒは半径（ｍ）、Ｅはヤング率（Ｐａ）、添字ｇはガラス（裸光ファイバ）、添字ｐはプライマリ被覆層、添字ｓはセカンダリ被覆層をそれぞれ表す。
これより、プライマリ被覆層のヤング率が１．０ＭＰａ以下の光ファイバであっても、マイクロベンドロスが抑制されるとともに、巻き替え時やユニット化工程時等に光ファイバが外部より力を受けても、ガラスとプライマリ被覆層との界面の剥離或いは樹脂被覆の破壊が発生しにくくなる。

（２）前記プライマリ被覆層のヤング率が０．１〜０．７ＭＰａである（１）に記載の光ファイバである。
これより、さらにマイクロベンドロスを抑制することができる。
（３）前記プライマリ被覆層のヤング率が０．１〜０．５ＭＰａである（１）又は（２）に記載の光ファイバである。
これより、さらに一層マイクロベンドロスを抑制することができる。
（４）前記コアのコア径が４７．５〜５２．５μｍ、前記コアの前記クラッドに対する比屈折率差が０．８〜１．２％であり、前記クラッド領域にトレンチ部が設けられたマルチモード光ファイバである、（１）〜（３）のいずれかに記載の光ファイバである。
マイクロベンドロスが抑制されるため比屈折率差を小さくすることが可能となり、（１）の被覆と低比屈折率差の組み合わせが好ましい形態である。また、クラッド部にトレンチを付与することで、さらにマイクロベンドロスを抑制できる。

（５）コアとクラッドからなる裸光ファイバの外周にプライマリ被覆層とセカンダリ被覆層を形成する光ファイバの製造方法であって、
前記プライマリ被覆層のヤング率が０．１〜１．０ＭＰａとなるように、かつ、
前記光ファイバの下記式に示す横剛性Ｄと曲げ剛性Ｈの関係がＤ／Ｈ^２≦３×１０^１７Ｎ^−１ｍ^−６を満たすように、前記プライマリ被覆層および前記セカンダリ被覆層を形成し、
前記プライマリ被覆層にリンを含む光開始剤を０．３〜２．０重量％含有させ、
前記プライマリ被覆層に重量平均分子量が１０００〜５０００であるポリプロピレングリコールを含有させる、
光ファイバの製造方法である。

式中、ｒは半径（ｍ）、Ｅはヤング率（Ｐａ）、添字ｇはガラス（裸光ファイバ）、添字ｐはプライマリ被覆層、添字ｓはセカンダリ被覆層をそれぞれ表す。
これより、プライマリ樹脂のヤング率が１．０ＭＰａ以下の樹脂であっても、マイクロベンドロスが抑制されるとともに、巻き替え時やユニット化工程時等に光ファイバが外部より力を受けても、ガラスとプライマリ被覆層との界面の剥離或いは樹脂被覆の破壊が発生しにくくなる、光ファイバを提供できる。

［本発明の実施形態の詳細］
次に、添付図面を参照しながら、本発明の光ファイバ及びその製造方法に係る実施の形態について説明する。
なお、本発明はこれらの例示に限定されるものではなく、特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味及び範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。

図１は、本発明の実施形態に係る光ファイバの製造方法で使用する製造装置の概略構成図である。図２は、本実施形態の光ファイバの製造方法で製造された光ファイバの構造を示す断面図である。
図１に示すように、光ファイバの製造装置１は、線引炉２、プライマリ樹脂塗布装置３、プライマリ樹脂用紫外線照射装置４、セカンダリ樹脂塗布装置５、セカンダリ樹脂用紫外線照射装置６、ガイドローラ７、巻き取りボビン８を備えている。なお、図１では、プライマリ樹脂塗布装置３とセカンダリ樹脂塗布装置５とを個別に備え、各々を個別に塗布する場合を例に説明しているが、プライマリ樹脂とセカンダリ樹脂を同時に塗布する装置により、同時に塗布することとしても良い。

図１に示すように、光ファイバの製造装置１は、石英ガラスからなる光ファイバ母材１１を線引炉２のヒータ２ａによりその先端から加熱溶融して延伸し、外径約１２５μｍの裸光ファイバ１２に溶融紡糸する。裸光ファイバ１２は、プライマリ樹脂塗布装置３を通り、その外周に紫外線硬化型樹脂であるプライマリ樹脂が塗布される。続いて、プライマリ樹脂が塗布された光ファイバ１３はプライマリ樹脂用紫外線照射装置４に入り、紫外線が照射される。これにより、塗布されたプライマリ樹脂が硬化されプライマリ被覆層２３（図２参照）が形成される。

プライマリ被覆層２３が形成された光ファイバ１４は、セカンダリ樹脂塗布装置５を通り、その外周に紫外線硬化型樹脂が塗布される。続いて、セカンダリ樹脂が塗布された光ファイバ１５はセカンダリ樹脂用紫外線照射装置６に入り、紫外線が照射される。これにより、セカンダリ樹脂が硬化されセカンダリ被覆層２４（図２参照）が形成される。そして、セカンダリ被覆層２４が形成された光ファイバ１６は、ガイドローラ７等を経て巻き取りボビン８に巻取られる。

以上のような製造方法で製造された本実施形態の光ファイバ１６は、図２に示すように、コア２１、クラッド２２を有する石英ガラスからなる裸光ファイバ１２の外周に、プライマリ被覆層２３が、例えばその外径が１７０〜２１５μｍとなるような厚さで設けられている。さらにその外周に、例えばヤング率が８００〜１２００ＭＰａである、プライマリ被覆層２３よりもヤング率が大きいセカンダリ被覆層２４が、その外径が例えば約２４５μｍとなるような厚さで設けられている。本実施形態では、プライマリ被覆層２３のヤング率が０．１ＭＰａ以上１．０ＭＰａ以下となるように、プライマリ樹脂塗布装置３に供給する樹脂組成物を決定した。

なお、本願の発明はセカンダリ被覆層の外径が約２４５μｍの光ファイバに限定されるものではなく、例えばセカンダリ被覆層の外径が１６０μｍ〜２１０μｍの細径ファイバにも適用可能である。

本願発明者は、このような比較的低ヤング率のプライマリ被覆層を有する光ファイバにおいて、光ファイバの横剛性Ｄと曲げ剛性Ｈとの関係に着目し、マイクロベンドロスを抑制できる条件について鋭意検討を行った。

まず、プライマリ被覆層のヤング率が１．０ＭＰａ以下の光ファイバにおいて用いるモデル式（４）の導出について説明する。

非特許文献１では、

というモデル式を導出しているが、Ｅｐ／Ｅｓの指数係数をα、（Ｒｓ−Ｒｐ）／（Ｒｓ−Ｒｇ）の指数係数をβとおいて、プライマリ被覆層のヤング率が１．０ＭＰａ以下の条件で、指数係数を算出したところ、適切なフィッティングが得られなかった。
そこで、

とする、非特許文献１に記載のない定数γを設定して、プライマリ被覆層のヤング率が１．０ＭＰａ以下の条件で、最小二乗法によりそれぞれの定数を算出し、それらを用いたところ、良好なフィッティングが得られた。

また、非特許文献１では次の近似式を用いているが、プライマリ被覆層のヤング率が１．０ＭＰａ以下の光ファイバでは、この関係式が成立しないことが確認された。

そこで、前記式を以下に置き換えて、

最小二乗法によりｘを算出し、以下の式

と合わせて、本願の科学的、工学的に妥当な式（４）を導出した。

ところで、マイクロベンドロスは１．０ｄＢ／ｋｍより大きいと光伝送効率が悪く好ましくない。マイクロベンドロスαは光ファイバの伝搬特性等による比例定数Ａを用いて以下の式により表され、

Ｄ／Ｈ^２からαを算出することができる。
このＡを、実測のα及びＤ／Ｈ^２から最小二乗法により算出した。そして、光ファイバの製造時の品質のばらつきを考慮して、Ａに標準偏差σの２倍の数を足した値（Ａ＋２σ）を用いて、Ｄ／Ｈ^２から想定されるマイクロベンドロスα_２σを表す下記式により、

α_２σが１．０ｄＢ／ｋｍになる、Ｄ／Ｈ^２の値：３×１０^１７Ｎ^−１ｍ^−６を算出した。
以上より、Ｄ／Ｈ^２≦３×１０^１７Ｎ^−１ｍ^−６を満たすことにより、製造時の品質のばらつきを考慮しても、側圧ロスαが１．０ｄＢ／ｋｍ以下である光伝送効率の良好な光ファイバを得ることができるといえる。

なお、光ファイバの種類にはシングルモードファイバ（ＳＭＦ）とマルチモードファイバ（ＭＭＦ）があり、Ｄ／Ｈ^２が同じ場合、ＭＭＦの方がＳＭＦよりマイクロベンドロスが大きくなる傾向がある。よって、Ｄ／Ｈ^２≦３×１０^１７はＭＭＦのマイクロベンド実測値をもとに決めたものだが、この範囲であればＳＭＦにおいてもマイクロベンドロスが問題になることはない。

本実施形態の光ファイバ１６は、上記式（２）及び式（４）に基づいて算出される横剛性Ｄと曲げ剛性Ｈの関係が、Ｄ／Ｈ^２≦３×１０^１７Ｎ^−１ｍ^−６を満たすように、プライマリ被覆層２３とセカンダリ被覆層２４が形成されている。これより、プライマリ被覆層２３のヤング率が１．０ＭＰａ以下であっても、マイクロベンドロスが抑制される。
なお、Ｄ、Ｈは裸光ファイバのパラメータを除けば、プライマリ樹脂、セカンダリ樹脂それぞれのヤング率と厚みだけで決まるため、これらのパラメータを適正に設定することでＤ／Ｈ^２≦３×１０^１７を実現できる。

本実施形態において、プライマリ被覆層２３のヤング率は好ましくは０．１ＭＰａ以上０．７ＭＰａ以下である。これより、さらにマイクロベンドロスを抑制することができる。プライマリ被覆層２３のヤング率はさらに好ましくは０．１ＭＰａ以上０．５ＭＰａ以下である。これより、さらに一層マイクロベンドロスを抑制することができる。

コア２１のコア径は４７．５〜５２．５μｍであることが好ましく、コア２１のクラッド２２に対する比屈折率差は０．８〜１．２％であることが好ましく、クラッド２２領域にトレンチ部が設けられることが好ましい。本実施形態では、マイクロベンドロスが抑制されるため比屈折率差を小さくすることが可能となり、また、クラッド部にトレンチを付与することで、さらにマイクロベンドロスを抑制できる。なお、トレンチ部とは、クラッド領域における他の領域より比屈折率差が低い領域である。

プライマリ被覆層２３はリンを含む光開始剤を０．３〜２．０重量％含み、また、プライマリ被覆層２３は重量平均分子量が１０００〜５０００であるポリプロピレングリコールを含む。これより、比較的低ヤング率のプライマリ被覆層を有する光ファイバにおいて、巻き替え時やユニット化工程時等に光ファイバが外部より力を受けても、ガラスとプライマリ被覆層との界面の剥離或いは樹脂被覆の破壊が発生しにくくなる。

プライマリ被覆層２３の残存アクリレート量は少ない方が好ましい。この場合、プライマリ樹脂層内の架橋を適正に形成することができ、より樹脂被覆の破壊が発生しにくくなる。残存アクリレート量が多い場合、プライマリ樹脂層内の架橋が十分進んでいないことによる樹脂被覆の破壊が発生しやすいため、好ましくない。またそれだけでなく、時間の経過により架橋が進行するため、プライマリ樹脂被覆層のヤング率等の物性が変化し、当初はマイクロベンドロスが抑制されていても経時的に増加する可能性があり、好ましくない。残存アクリレート量を適正範囲内にするには、樹脂材料の配合を変えたり、架橋のために照射する紫外線量を増加するといった方法がある。

プライマリ樹脂には、ポリエーテル系或いはポリエステル系ウレタンアクリレートの使用が好ましく、必要に応じて反応性希釈モノマー、光開始剤を含んでも良い。

反応性希釈モノマーとしては、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、Ｎ−ビニルアセトアミド、メトキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、芳香族ポリエチレングリコールモノアクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシポリプロピレン（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリルアクリレート、イソボロニルオキシエチル（メタ）アクリレート、モルホリン（メタ）アクリレート等の単官能性化合物；２，２−ジメチル−３−ヒドロキシプロピル−２，２−ジメチル−３−ヒドロキシプロピオネートのジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加物のジ（メタ）アクリレート、２，２−ジ（ヒドロキシエトキシフェニル）プロパンのジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメチロールのジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタジエンジ（メタ）アクリレート等の２官能性化合物が挙げられ、これらは１種使用しても良いし、２種以上併用しても良い。

光開始剤としては、公知のものを使用でき、例えばＢＡＳＦ社のＬＵＣＩＲＩＮ（登録商標）ＴＰＯまたはＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）８１９等が挙げられ、これらは１種使用しても良いし、２種以上併用しても良い。

この場合、プライマリ被覆層２３のヤング率は、例えば紫外線硬化型樹脂のポリエーテル部分の分子量及び希釈モノマーの種類により調整した。即ち、プライマリ被覆層２３は、ポリエーテル部分の分子量を大きくすること及び直鎖状の分子量の大きな単官能希釈モノマーを選定することでヤング率を小さくすることができる。

前記セカンダリ樹脂には、ポリエーテル系或いはポリエステル系ウレタンアクリレートの使用が好ましく、必要に応じて反応性希釈モノマー、光開始剤を含んでも良い。

反応性希釈モノマーとしては、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、Ｎ−ビニルアセトアミド、メトキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシポリプロピレン（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソボロニルオキシエチル（メタ）アクリレート、モルホリン（メタ）アクリレート等の単官能性化合物；２，２−ジメチル−３−ヒドロキシプロピル−２，２−ジメチル−３−ヒドロキシプロピオネートのジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加物のジ（メタ）アクリレート、２，２−ジ（ヒドロキシエトキシフェニル）プロパンのジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメチロールのジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタジエンジ（メタ）アクリレート等の２官能性化合物；トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリオキシエチル（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリヒドロキシエチルイソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレート、トリス（アクリロキシメチル）イソシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート等の多官能性化合物が挙げられ、これらは１種使用しても良いし、２種以上併用しても良い。

光開始剤としては、公知のものを使用でき、例えば１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、フェニルアセトフェノンジエチルケタール、アルコキシアセトフェノン、ベンジルメチルケタール、ベンゾフェノン等のフェノン類；２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキサイド等のホスフィンオキサイド誘導体等が挙げられ、これらは１種使用しても良いし、２種以上併用しても良い。

この場合、セカンダリ被覆層２４のヤング率は、例えば紫外線硬化型樹脂のポリエーテル部分の分子量及び希釈モノマーの種類により調整した。即ち、ポリエステル又はポリエーテル部分の分子量を小さくすること、ウレタン基濃度を上げること、及びベンゼン環等の剛直な分子構造を有するモノマーや多官能モノマーを選定することでヤング率を大きくすることができる。

１ 光ファイバの製造装置
２ 線引炉
２ａ ヒータ
３ プライマリ樹脂塗布装置
４ プライマリ樹脂用紫外線照射装置
５ セカンダリ樹脂塗布装置
６ セカンダリ樹脂用紫外線照射装置
７ ガイドローラ
８ 巻き取りボビン
１１ 光ファイバ母材
１２ 裸光ファイバ
１３ プライマリ樹脂が塗布された光ファイバ
１４ プライマリ被覆層が形成された光ファイバ
１５ セカンダリ樹脂が塗布された光ファイバ
１６ 光ファイバ
２１ コア
２２ クラッド
２３ プライマリ被覆層
２４ セカンダリ被覆層

Claims (5)

1. コアとクラッドからなる裸光ファイバの外周にプライマリ被覆層とセカンダリ被覆層が形成された光ファイバであって、
   前記プライマリ被覆層のヤング率が０．１〜１．０ＭＰａであり、
   前記光ファイバの下記式に示す横剛性Ｄと曲げ剛性Ｈの関係がＤ／Ｈ^２≦３×１０^１７Ｎ^−１ｍ^−６を満たし、
   前記プライマリ被覆層が、リンを含む光開始剤を０．３〜２．０重量％含み、
   前記プライマリ被覆層が、重量平均分子量が１０００〜５０００であるポリプロピレングリコールを含む、
   光ファイバ。
   

   

   
   式中、ｒは半径（ｍ）、Ｅはヤング率（Ｐａ）、添字ｇはガラス（裸光ファイバ）、添字ｐはプライマリ被覆層、添字ｓはセカンダリ被覆層をそれぞれ表す。
2. 前記プライマリ被覆層のヤング率が０．１〜０．７ＭＰａである請求項１に記載の光ファイバ。
3. 前記プライマリ被覆層のヤング率が０．１〜０．５ＭＰａである請求項１又は請求項２に記載の光ファイバ。
4. 前記コアのコア径が４７．５〜５２．５μｍ、前記コアの前記クラッドに対する比屈折率差が０．８〜１．２％であり、前記クラッドの領域にトレンチ部が設けられたマルチモード光ファイバである、請求項１〜請求項３のいずれか一項に記載の光ファイバ。
5. コアとクラッドからなる裸光ファイバの外周にプライマリ被覆層とセカンダリ被覆層を形成する光ファイバの製造方法であって、
   前記プライマリ被覆層のヤング率が０．１〜１．０ＭＰａとなるように、かつ、
   前記光ファイバの下記式に示す横剛性Ｄと曲げ剛性Ｈの関係がＤ／Ｈ^２≦３×１０^１７Ｎ^−１ｍ^−６を満たすように、前記プライマリ被覆層および前記セカンダリ被覆層を形成し、
   前記プライマリ被覆層にリンを含む光開始剤を０．３〜２．０重量％含有させ、
   前記プライマリ被覆層に重量平均分子量が１０００〜５０００であるポリプロピレングリコールを含有させる、
   光ファイバの製造方法。
   

   

   
   式中、ｒは半径（ｍ）、Ｅはヤング率（Ｐａ）、添字ｇはガラス（裸光ファイバ）、添字ｐはプライマリ被覆層、添字ｓはセカンダリ被覆層をそれぞれ表す。

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