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JP6910133B2 - Polyimide film laminate - Google Patents

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JP6910133B2
JP6910133B2 JP2016231663A JP2016231663A JP6910133B2 JP 6910133 B2 JP6910133 B2 JP 6910133B2 JP 2016231663 A JP2016231663 A JP 2016231663A JP 2016231663 A JP2016231663 A JP 2016231663A JP 6910133 B2 JP6910133 B2 JP 6910133B2
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Description

本発明は、屈曲耐性と表面硬度とを両立させたポリイミドフィルム積層体に関する。 The present invention relates to a polyimide film laminate having both bending resistance and surface hardness.

近年、スマートフォンやテレビの視認部を折曲げることが出来るフレキシブルディスプレイの開発が行われており、従来使用されてきたガラスは、曲げると割れるため使用できない。そのため、透明で傷がつきにくく、折曲げても割れない、屈曲耐性の高いポリマーフィルムの開発が必要である。
例えば引用文献1には、表示装置の視認側に配置されるタッチパネル用積層体であって、表示装置上に配置される際に、透明保護基板が表示装置側に位置し、透明保護基板が、有機層と無機層とをそれぞれ少なくとも1層以上有するバリア性積層体である、タッチパネル用積層体が記載されている。
In recent years, flexible displays have been developed that can bend the visible part of smartphones and televisions, and the glass that has been used conventionally cannot be used because it breaks when bent. Therefore, it is necessary to develop a polymer film that is transparent, scratch resistant, and does not break even when bent, and has high bending resistance.
For example, in Cited Document 1, the touch panel laminate is arranged on the visual side of the display device, and when arranged on the display device, the transparent protective substrate is located on the display device side, and the transparent protective substrate is described. A touch panel laminate, which is a barrier laminate having at least one organic layer and at least one inorganic layer, is described.

ポリイミド樹脂は、不溶、不融の超耐熱性樹脂であり、耐熱酸化性、耐熱特性、耐放射線性、耐低温性、耐薬品性等に優れた特性を有しており、絶縁コーティング剤、絶縁膜、半導体、TFT−LCDの電極保護膜等の電子材料を含む広範囲な分野で用いられ、最近は、光ファイバーや液晶配向膜のようなディスプレイ材料等にも用いられている。 Polyimide resin is an insoluble and infusible super heat resistant resin, and has excellent properties such as heat oxidation resistance, heat resistance, radiation resistance, low temperature resistance, and chemical resistance, and is an insulating coating agent and insulating material. It is used in a wide range of fields including electronic materials such as films, semiconductors, and electrode protective films for TFT-LCDs, and has recently been used for display materials such as optical fibers and liquid crystal alignment films.

一般的に透明フィルムとして用いられているポリエチレンテレフタレート(PET)やポリエチレンナフタレート(PEN)は結晶性があり、繰り返し屈曲を続けると折り曲げ部にクラックが発生する。一方、非晶性のポリイミドは高い屈曲耐性を有し、繰り返し屈曲を続けてもクラックは発生しない。
しかし、ポリイミドフィルムは、表面硬度が低くハードコート処理を施しても、PETやPENにハードコート処理を施した場合と比べて表面硬度が低下する。また、ポリイミドフィルムの表面硬度を向上する為に、本発明者らは、無機層を付与したが、その場合、収縮率(線膨張率)の差により、層界面ではがれたり、反ったりするという問題があった。
このように、従来のフィルム積層体では、屈曲耐性と表面硬度の両立は困難であった。
Polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN), which are generally used as transparent films, have crystallinity, and cracks occur in the bent portion when repeated bending is continued. On the other hand, amorphous polyimide has high bending resistance, and cracks do not occur even if repeated bending is continued.
However, the surface hardness of the polyimide film is low, and even if the hard coat treatment is applied, the surface hardness is lower than that when the PET or PEN is hard coated. Further, in order to improve the surface hardness of the polyimide film, the present inventors added an inorganic layer, but in that case, due to the difference in shrinkage rate (linear expansion rate), the film is peeled off or warped at the layer interface. There was a problem.
As described above, it has been difficult to achieve both bending resistance and surface hardness with the conventional film laminate.

国際公開第2015/045965号International Publication No. 2015/045965

本発明は、このような従来の実情に鑑みて提案されたものであり、本発明の目的は、優れた屈曲耐性と表面硬度とを両立させ、さらに反りを抑制したポリイミドフィルム積層体を提供することにある。 The present invention has been proposed in view of such conventional circumstances, and an object of the present invention is to provide a polyimide film laminate having both excellent bending resistance and surface hardness and further suppressing warpage. There is.

本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意検討を続けた結果、ポリイミドフィルム上に配される無機層を海島構造(無機層のある部分とない部分を作る)とし、無機層上に配されるハードコート層とポリイミドフィルムとが接する部位を設けることにより、各層間の密着性を高めることができることに想到し、本発明を完成させるに至った。
すなわち、本発明は以下のとおりである。
[1]
以下の要件:
(A)ポリイミドフィルムの少なくとも一方の面に、酸化ケイ素(SiO)からなる無機層とハードコート層とがこの順に配されたポリイミドフィルム積層体であって、
(B)前記積層体を前記ハードコート層側から平面視した場合に、以下の式:
実表面被覆率=無機層の表面占有率×無機層中に含有される無機化合物の表面被覆率
で定義される、前記無機層の実表面被覆率が10〜90%であること、
(C)前記積層体の中に、前記ポリイミドフィルムと前記ハードコート層とが接する部位が1か所以上あること、および
(D)前記ハードコート層側から平面視した前記積層体全体を1辺1cmの正方形で区画した場合に、前記ポリイミドフィルムと前記ハードコート層とが直接接する部位を含む区画が、全区画の90%以上であること、
を満たし、
前記積層体の透過率が80%以上であり、かつ減衰係数が1.0以下であることを特徴とするポリイミドフィルム積層体。

前記積層体を構成する各層の632.8nmにおける屈折率が、前記ポリイミドフィルム > 前記無機層 > 前記ハードコート層の順に高い、[]に記載のポリイミドフィルム積層体。

前記無機層が前記ポリイミドフィルム上で海島構造を有する、[1]又は[2]に記載のポリイミドフィルム積層体。

前記海島構造の海島部位の形状が、線状、湾曲部位を持つ円状、直線部位を持つ多角状、もしくはそれらの組み合わせからなるランダムな形状である、[]に記載のポリイミドフィルム積層体。
[5]
ポリイミドフィルムの少なくとも一方の面に、無機層とハードコート層とがこの順に配された透明フィルム積層体であって、前記無機層の膜厚が、10nm以上であり、且つ、前記透明フィルムの厚みに対し1/1000以下であること、を満たすことを特徴とする、[1]〜[4]のいずれかに記載のポリイミドフィルム積層体。
[6]
前記ポリイミドフィルムが下記一般式(1)で表されるポリイミドを含有し、前記一般式(1)におけるAとして、少なくとも下記一般式(A−1)で表される構造と下記一般式(A−2)で表される構造を含み、前記一般式(1)におけるBとして、少なくとも下記一般式(B)を含むことを特徴とする、[1]〜[のいずれかに記載のポリイミドフィルム積層体。

Figure 0006910133
{一般式(1)中、Aは2価の有機基、Bは4価の有機基であり、そしてnは2以上、である。}
Figure 0006910133
Figure 0006910133
Figure 0006910133

[1]〜[]のいずれかに記載のポリイミドフィルム積層体を用いた表示デバイス。

前記表示デバイスが、ポリイミドフィルム積層体を最表面部材として用いていることを特徴とする[]に記載の表示デバイス。

前記表示デバイスが屈曲部位を有する、[又は]に記載の表示デバイス。
10
前記表示デバイスが曲面を有する、[]又は[]に記載の表示デバイス。

As a result of diligent studies to achieve the above object, the present inventors have made the inorganic layer arranged on the polyimide film a sea-island structure (creating a part with and without an inorganic layer) on the inorganic layer. We have come up with the idea that the adhesion between each layer can be improved by providing a portion where the arranged hard coat layer and the polyimide film come into contact with each other, and have completed the present invention.
That is, the present invention is as follows.
[1]
The following requirements:
(A) A polyimide film laminate in which an inorganic layer made of silicon oxide (SiO) and a hard coat layer are arranged in this order on at least one surface of the polyimide film.
(B) When the laminated body is viewed in a plan view from the hard coat layer side, the following formula:
Defined by the surface coverage of the inorganic compound contained in the surface coverage × inorganic layer of the actual surface coverage = inorganic layer, the actual surface coverage is 10% to 90% der Rukoto of the inorganic layer,
(C) In the laminated body, there is at least one portion where the polyimide film and the hard coat layer are in contact with each other, and
(D) When the entire laminated body viewed from the hard coat layer side in a plan view is partitioned by a square having a side of 1 cm, 90 of all the partitions include a portion in which the polyimide film and the hard coat layer are in direct contact with each other. Being% or more,
Meet the,
A polyimide film laminate having a transmittance of 80% or more and an attenuation coefficient of 1.0 or less.
[ 2 ]
The polyimide film laminate according to [1 ], wherein the refractive index of each layer constituting the laminate at 632.8 nm is higher in the order of the polyimide film> the inorganic layer> the hard coat layer.
[ 3 ]
The polyimide film laminate according to [1] or [2] , wherein the inorganic layer has a sea-island structure on the polyimide film.
[ 4 ]
The polyimide film laminate according to [3 ], wherein the shape of the sea island portion of the sea island structure is a linear shape, a circular shape having a curved portion, a polygonal shape having a straight portion, or a random shape composed of a combination thereof.
[5]
A transparent film laminate in which an inorganic layer and a hard coat layer are arranged in this order on at least one surface of the polyimide film, the thickness of the inorganic layer is 10 nm or more, and the thickness of the transparent film. The polyimide film laminate according to any one of [1] to [4], which is characterized by satisfying that it is 1/1000 or less of the amount.
[6]
The polyimide film contains a polyimide represented by the following general formula (1), and as A in the general formula (1), at least a structure represented by the following general formula (A-1) and the following general formula (A-). The polyimide film according to any one of [1] to [5 ], which comprises the structure represented by 2) and at least includes the following general formula (B) as B in the general formula (1). Laminated body.
Figure 0006910133
{In the general formula (1), A is a divalent organic group, B is a tetravalent organic group, and n is 2 or more. }
Figure 0006910133
Figure 0006910133
Figure 0006910133
[ 7 ]
A display device using the polyimide film laminate according to any one of [1] to [ 6].
[ 8 ]
The display device according to [7 ], wherein the display device uses a polyimide film laminate as the outermost surface member.
[ 9 ]
The display device according to [7 ] or [ 8 ], wherein the display device has a flexion site.
[ 10 ]
The display device according to [7 ] or [ 8 ], wherein the display device has a curved surface.

本発明によれば、無機層の実表面被覆率を10〜90%とし、積層体の中に、ポリイミドフィルムとハードコート層とが接する部位を1か所以上設けることで、ハードコート層と無機層、ハードコート層とポリイミドフィルムの密着性を高めることができ、屈曲耐性を向上させるとともにハードコート層により高い表面硬度を有し、屈曲耐性と表面硬度とを両立させたポリイミドフィルム積層体を提供することができる。
また、ポリイミドフィルムと無機層とは線膨張係数が大きく違うため、熱処理すると積層体に反りが発生するが、本発明の構造では反りがほとんど発生せず、温度変化を伴うプロセスにおいて非常に有利となる。
According to the present invention, the actual surface coverage of the inorganic layer is set to 10 to 90%, and the hard coat layer and the hard coat layer are provided at one or more locations in the laminate in which the polyimide film and the hard coat layer are in contact with each other. Provided is a polyimide film laminate that can enhance the adhesion between the layer, the hard coat layer and the polyimide film, improve the bending resistance, have a higher surface hardness than the hard coat layer, and have both the bending resistance and the surface hardness. can do.
Further, since the linear expansion coefficient of the polyimide film and the inorganic layer are significantly different, the laminated body warps when heat-treated, but the structure of the present invention hardly warps, which is very advantageous in a process involving a temperature change. Become.

本発明のポリイミドフィルム積層体の一構成例を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically one structural example of the polyimide film laminated body of this invention. 従来の無機層パターンの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the conventional inorganic layer pattern. 従来の無機層パターンの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the conventional inorganic layer pattern. 本実施形態の無機層パターンの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the inorganic layer pattern of this embodiment. 本実施形態の無機層パターンの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the inorganic layer pattern of this embodiment. 本実施形態の無機層パターンの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the inorganic layer pattern of this embodiment.

以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。
図1は、本発明のポリイミドフィルム積層体の一構成例を模式的に示す断面図である。
本発明のポリイミドフィルム積層体1は、
以下の要件:
(A)ポリイミドフィルム2の少なくとも一方の面に、無機層3とハードコート層4とがこの順に配されたポリイミドフィルム積層体であって、
(B)前記積層体を前記ハードコート層4側から平面視した場合に、以下の式:
実表面被覆率=無機層の表面占有率×無機層中に含有される無機化合物の表面被覆率
で定義される、前記無機層3の実表面被覆率が10〜90%であり、および
(C)前記積層体の中に、前記ポリイミドフィルム2と前記ハードコート層4とが接する部位5が1か所以上あること、
を満たすことを特徴とする。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a configuration example of the polyimide film laminate of the present invention.
The polyimide film laminate 1 of the present invention
The following requirements:
(A) A polyimide film laminate in which an inorganic layer 3 and a hard coat layer 4 are arranged in this order on at least one surface of the polyimide film 2.
(B) When the laminated body is viewed in a plan view from the hard coat layer 4 side, the following equation:
The actual surface coverage of the inorganic layer 3 is 10 to 90%, which is defined by the actual surface coverage = the surface occupancy of the inorganic layer × the surface coverage of the inorganic compound contained in the inorganic layer, and (C. ) In the laminated body, there is at least one portion 5 where the polyimide film 2 and the hard coat layer 4 are in contact with each other.
It is characterized by satisfying.

本発明によれば、無機層3の実表面被覆率を10〜90%とし、積層体の中に、ポリイミドフィルムとハードコート層4とが接する部位5を1か所以上設けることで、各層間の密着性を高めることができ、屈曲耐性を向上させるとともにハードコート層4により高い表面硬度を有し、屈曲耐性と表面硬度とを両立させたポリイミドフィルム積層体1を提供することができる。
以下、各要件について具体的に説明する。
According to the present invention, the actual surface coverage of the inorganic layer 3 is set to 10 to 90%, and each layer is provided with one or more portions 5 where the polyimide film and the hard coat layer 4 are in contact with each other in the laminate. It is possible to provide a polyimide film laminate 1 which can enhance the adhesion of the film, improve the bending resistance, have a higher surface hardness due to the hard coat layer 4, and have both the bending resistance and the surface hardness.
Hereinafter, each requirement will be specifically described.

(A)ポリイミドフィルム2の少なくとも一方の面に、無機層3とハードコート層4とがこの順に配されている。
ポリイミドフィルム2は、ポリイミド樹脂からなるフィルムである。ポリイミド樹脂は、一般に、芳香族酸二無水物と芳香族ジアミンとを溶液重合し、ポリイミド前駆体を製造した後、高温で閉環脱水させ、熱イミド化して、又は、触媒を用いて化学イミド化して、製造される。特に、溶媒に可溶なポリイミド樹脂は、フィルム成形時の乾燥工程において脱水反応が起こらないため、応力歪が少なく、平面方向の寸法安定性に優れるフィルムを得ることが出来る。
(A) The inorganic layer 3 and the hard coat layer 4 are arranged in this order on at least one surface of the polyimide film 2.
The polyimide film 2 is a film made of a polyimide resin. In general, a polyimide resin is obtained by solution-polymerizing an aromatic acid dianhydride and an aromatic diamine to produce a polyimide precursor, which is then ring-closed and dehydrated at a high temperature to be thermally imidized, or chemically imidized using a catalyst. Is manufactured. In particular, since the solvent-soluble polyimide resin does not undergo a dehydration reaction in the drying step during film molding, it is possible to obtain a film having less stress strain and excellent dimensional stability in the plane direction.

ポリイミド樹脂は、例えば、酸二無水物とジアミンの縮合により得ることができる。酸二無水物として好ましいものとして、芳香族酸二無水物や脂環式酸二無水物等が挙げられる。その中でも、ポリイミド樹脂の溶媒可溶性とポリイミドフィルムの光学特性の観点から、酸二無水物としては、例えば4,4’−オキシジフタル酸二無水物、4,4’−(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物、9,9−ジフェニルフルオレン酸二無水物、ヒドロキシピロメリット酸二無水物、ビシクロ[2,2,2]オクト−7−エン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−5−(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)ナフト[1,2−c]フラン−1,3−ジオンが好ましい。
また同様にジアミンとして好ましいものとして、芳香族ジアミン、脂環式ジアミン、脂肪族ジアミン等が挙げられる。その中でも、例えば3,3’−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン、α,α’−ビス(4−アミノフェニル)−1,4−ジイソプロピルベンゼン、4,4‘−ビス(4−アミノフェノキシビフェニル)、シクロヘキシルジアミン、1,4−ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、ビス(アミノメチル)ノルボルナンが好ましい。これら酸二無水物とジアミンはそれぞれ1種類ずつでもよいし、複数組み合わせて用いてもよい。
なかでも好ましくは少なくとも酸二無水物として4,4’−オキシジフタル酸二無水物を含み、かつジアミンとして3,3’−ジアミノジフェニルスルホンおよび4,4’−ジアミノジフェニルスルホンから製造されるポリイミド樹脂である。
The polyimide resin can be obtained, for example, by condensation of an acid dianhydride and a diamine. Preferred acid dianhydrides include aromatic acid dianhydrides and alicyclic acid dianhydrides. Among them, from the viewpoint of the solvent solubility of the polyimide resin and the optical properties of the polyimide film, examples of the acid dianhydride include 4,4'-oxydiphthalic dianhydride and 4,4'-(hexafluoroisopropyridene) diphthalic acid. Dianhydride, 9,9-diphenylfluorenic dianhydride, hydroxypyromellitic dianhydride, bicyclo [2,2,2] octo-7-ene-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride The substance, 1,3,3a,4,5,9b-hexahydro-5- (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) naphtho [1,2-c] furan-1,3-dione is preferable.
Similarly, preferred diamines include aromatic diamines, alicyclic diamines, and aliphatic diamines. Among them, for example, 3,3'-diaminodiphenyl sulfone, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone, 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine, α, α'-bis (4-aminophenyl) -1, 4-diisopropylbenzene, 4,4'-bis (4-aminophenoxybiphenyl), cyclohexyldiamine, 1,4-bis (aminomethyl) cyclohexane, and bis (aminomethyl) norbornan are preferred. These acid dianhydrides and diamines may be used alone or in combination of two or more.
Of these, a polyimide resin containing at least 4,4'-oxydiphthalic dianhydride as an acid dianhydride and produced from 3,3'-diaminodiphenyl sulfone and 4,4'-diaminodiphenyl sulfone as a diamine. be.

ポリイミドフィルムは、下記一般式(1)で表されるポリイミドを含有し、前記一般式(1)におけるAとして、少なくとも下記一般式(A−1)で表される構造と下記一般式(A−2)で表される構造を含み、前記一般式(1)におけるBとして、少なくとも下記一般式(B)を含むことが好ましい。
ポリイミドフィルムが一般式(1)で表されるポリイミドは可溶性ポリイミドであり、応力歪が小さく、また透明性の観点からも好ましい。

Figure 0006910133
{一般式(1)中、Aは2価の有機基、Bは4価の有機基であり、そしてnは2以上、である。}
Figure 0006910133
Figure 0006910133
Figure 0006910133
The polyimide film contains a polyimide represented by the following general formula (1), and as A in the general formula (1), at least a structure represented by the following general formula (A-1) and the following general formula (A-). It is preferable that the structure represented by 2) is included and at least the following general formula (B) is included as B in the general formula (1).
The polyimide in which the polyimide film is represented by the general formula (1) is a soluble polyimide, which has low stress strain and is preferable from the viewpoint of transparency.
Figure 0006910133
{In the general formula (1), A is a divalent organic group, B is a tetravalent organic group, and n is 2 or more. }
Figure 0006910133
Figure 0006910133
Figure 0006910133

ポリイミドフィルム2の厚みとしては、特に限定されるものではないが、例えば10μm〜100μmとすることが好ましい。これにより、透明フィルムとしての光学特性のほか、膜強度、屈曲耐性に優れたポリイミドフィルムが得られる。 The thickness of the polyimide film 2 is not particularly limited, but is preferably, for example, 10 μm to 100 μm. As a result, a polyimide film having excellent film strength and bending resistance as well as optical characteristics as a transparent film can be obtained.

上述したようにポリイミドフィルム2は非晶性であり、結晶性のPETフィルムに比べて高い屈曲耐性を有し、繰り返し屈曲を続けてもクラックは発生しない。しかしその一方で柔らかいため、表面に傷がつきやすい。
そこで、ポリイミドフィルム2上に無機層3とハードコート層4とを配することにより、表面硬度を高めている。ハードコート層4だけでは、表面硬度を十分に発現できないため、無機層3を配することにより、十分な表面硬度が確保される。また、無機層3を配することにより、透明フィルムとしての光学特性のほか、弾性率、耐傷性が向上し、屈曲耐性が向上する。
As described above, the polyimide film 2 is amorphous, has high bending resistance as compared with the crystalline PET film, and cracks do not occur even if repeated bending is continued. However, on the other hand, because it is soft, the surface is easily scratched.
Therefore, the surface hardness is increased by arranging the inorganic layer 3 and the hard coat layer 4 on the polyimide film 2. Since the hard coat layer 4 alone cannot sufficiently develop the surface hardness, sufficient surface hardness can be ensured by arranging the inorganic layer 3. Further, by arranging the inorganic layer 3, in addition to the optical characteristics as a transparent film, the elastic modulus and scratch resistance are improved, and the bending resistance is improved.

無機層3は、無機物または無機化合物からなり、金属または金属化合物であることが好ましい。例えば、無機層3は、アルミニウム、ケイ素、チタン、アルミニウム化合物、ケイ素化合物及びチタン化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種を含む。具体的には、アルミニウム化合物として例えば、アルミナ、カオリン、水和アルミナなどが挙げられる。ケイ素化合物として例えば、シリカ、石英、ガラス、マイカ、タルク、クレイ、ウォラストナイト、窒化ケイ素、酸化ケイ素、炭化ケイ素などが挙げられる。チタン化合物として例えば、チタン酸カリウム、酸化チタンなどが挙げられる。更に、このようなアルミニウム化合物、ケイ素化合物及びチタン化合物の中でも、ハードコート層に含有されるアルコキシシランとの反応性がより高く、ハードコート層により高度の付着性を付与できるという観点から、ケイ素化合物が好ましく。その中でも特に、酸化ケイ素(SiO)が光学特性の観点で好ましい。また、前記無機層3は単層でも複数積層されていても良く、複数の無機物が混合されていてもよい。 The inorganic layer 3 is made of an inorganic substance or an inorganic compound, and is preferably a metal or a metal compound. For example, the inorganic layer 3 contains at least one selected from the group consisting of aluminum, silicon, titanium, aluminum compounds, silicon compounds and titanium compounds. Specific examples of the aluminum compound include alumina, kaolin, and hydrated alumina. Examples of the silicon compound include silica, quartz, glass, mica, talc, clay, wollastonite, silicon nitride, silicon oxide, silicon carbide and the like. Examples of the titanium compound include potassium titanate and titanium oxide. Further, among such aluminum compounds, silicon compounds and titanium compounds, silicon compounds have higher reactivity with alkoxysilane contained in the hard coat layer and can impart a high degree of adhesion to the hard coat layer. Is preferable. Among them, silicon oxide (SiO) is particularly preferable from the viewpoint of optical characteristics. Further, the inorganic layer 3 may be a single layer or a plurality of laminated layers, or a plurality of inorganic substances may be mixed.

無機層3の形成方法としては特に限定されないが、例えばスパッタリング法や、真空蒸着法、CVD法、イオンプレーティング法が挙げられるが、スパッタリング法が好適である。無機層3の形成温度が高いほうが、無機層の結晶性がよくなるため、耐熱性のあるポリイミドフィルム2を用いることにより、形成温度をより高くすることができ、有利である。
特に、ポリイミドフィルム2と無機層3とは線膨張係数が大きく違うため、熱処理すると積層体1に反りが発生するが、本発明の構造では反りがほとんど発生せず、温度変化を伴うプロセスにおいて非常に有利となる。
無機層3の厚みとしては特に限定されるものではないが、例えば、前記無機層の膜厚が、10nm以上であり、且つ、前記ポリイミドフィルムの厚みに対し1/1000以下であること、を満たすことが好ましい。これにより、ポリイミド積層体の反りをより確実に抑制することができる。
さらに、具体的には、10nm〜50nmとすることが好ましい。これにより、透明フィルムとしての光学特性を保持したまま、弾性率、耐傷性が向上し、屈曲耐性が向上する。その際、前記ポリイミドフィルムに替えて、透明フィルムとして、例えばポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート、シクロオレフィンポリマー、ポリカーボネートなどを用いた場合も前記無機層の膜厚が、10nm以上であり、且つ、透明フィルムの厚みに対し1/1000以下であること、を満たす場合に同様の効果を奏する。透明フィルムとしては、高い屈曲耐性の観点から非晶性であるポリイミドフィルムが好ましい。
The method for forming the inorganic layer 3 is not particularly limited, and examples thereof include a sputtering method, a vacuum deposition method, a CVD method, and an ion plating method, but the sputtering method is preferable. The higher the formation temperature of the inorganic layer 3, the better the crystallinity of the inorganic layer. Therefore, by using the heat-resistant polyimide film 2, the formation temperature can be raised, which is advantageous.
In particular, since the linear expansion coefficient of the polyimide film 2 and the inorganic layer 3 are significantly different from each other, warpage occurs in the laminated body 1 when heat-treated, but the structure of the present invention hardly causes warpage, which is extremely different in a process involving temperature change. It becomes advantageous to.
The thickness of the inorganic layer 3 is not particularly limited, but for example, the thickness of the inorganic layer is 10 nm or more and 1/1000 or less of the thickness of the polyimide film. Is preferable. As a result, the warp of the polyimide laminate can be suppressed more reliably.
Further, specifically, it is preferably 10 nm to 50 nm. As a result, the elastic modulus and scratch resistance are improved while maintaining the optical characteristics of the transparent film, and the bending resistance is improved. At that time, even when polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, cycloolefin polymer, polycarbonate, or the like is used as the transparent film instead of the polyimide film, the thickness of the inorganic layer is 10 nm or more and the transparent film. The same effect is obtained when the thickness is 1/1000 or less with respect to the thickness of. As the transparent film, an amorphous polyimide film is preferable from the viewpoint of high bending resistance.

前記無機層3は、632.8nmにおける屈折率が1.6以下であることが好ましい。無機層3の屈折率を1.6以下とすることで、光の散乱を抑えることができ、特にヘイズ値を低減できる。これにより光線透過率が高くなり、耐光性も向上する。 The inorganic layer 3 preferably has a refractive index of 1.6 or less at 632.8 nm. By setting the refractive index of the inorganic layer 3 to 1.6 or less, light scattering can be suppressed, and in particular, the haze value can be reduced. As a result, the light transmittance is increased and the light resistance is also improved.

ハードコート層4の材料としては、特に限定されるものではないが、例えば、無機系ハードコート材、有機樹脂系ハードコート材、有機無機ハイブリッド系ハードコート材、等が使用できる。無機系ハードコート材としては、例えば、ポリシロキサン、ポリシラザン、等が挙げられる。有機樹脂系ハードコート材としては、例えば、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アルキド樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、等が上げられる。有機無機ハイブリッド系ハードコート材としては、無機粒子分散有機樹脂、有機高分子分散シリカ、アクリルシリコン、等が挙げられる。耐傷性向上の観点から、例えば、ロタキサン骨格を有する自己修復性を持つ材料が好ましい。表面硬度改善の観点から、例えば、ポリオールアクリレート、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ホスファゼンアクリレート等の多官能アクリル樹脂が好ましい。
ハードコート層4の形成方法としては特に限定されないが、塗工法、転写法、真空蒸着法、スパッタ法等が挙げられる。
ハードコート層4の厚みは、特に限定されるものではないが、好ましくは1〜20μm、より好ましくは2〜10μm、更に好ましくは3〜8μmである。20μmより厚い場合、硬化時に発生する応力で、ハードコート層4にクラックが生じる場合があり、1μm未満であると、所望の表面硬度が発現しない場合がある。
The material of the hard coat layer 4 is not particularly limited, but for example, an inorganic hard coat material, an organic resin hard coat material, an organic-inorganic hybrid hard coat material, and the like can be used. Examples of the inorganic hard coat material include polysiloxane, polysilazane, and the like. Examples of the organic resin-based hard coat material include melamine resin, urethane resin, epoxy resin, alkyd resin, acrylic resin, and methacrylic resin. Examples of the organic-inorganic hybrid hard coat material include inorganic particle-dispersed organic resin, organic polymer-dispersed silica, acrylic silicon, and the like. From the viewpoint of improving scratch resistance, for example, a self-healing material having a rotaxane skeleton is preferable. From the viewpoint of improving the surface hardness, for example, polyfunctional acrylic resins such as polyol acrylate, polyester acrylate, urethane acrylate, epoxy acrylate and phosphazene acrylate are preferable.
The method for forming the hard coat layer 4 is not particularly limited, and examples thereof include a coating method, a transfer method, a vacuum vapor deposition method, and a sputtering method.
The thickness of the hard coat layer 4 is not particularly limited, but is preferably 1 to 20 μm, more preferably 2 to 10 μm, and even more preferably 3 to 8 μm. If it is thicker than 20 μm, cracks may occur in the hard coat layer 4 due to the stress generated during curing, and if it is less than 1 μm, the desired surface hardness may not be exhibited.

(B)積層体1をハードコート層4側から平面視した場合に、以下の式で定義される、無機層3の実表面被覆率が10〜90%である。
実表面被覆率=無機層3の表面占有率×無機層3中に含有される無機化合物の表面被覆率
被覆率が90%以上であると、ハードコート層4とポリイミドフィルム2との密着性を十分に確保できす、各層の収縮率の差に起因して積層体1が反ってしまう。一方、被覆率が10%未満であると、ポリイミドフィルム積層体の表面硬度改善の効果が得られない。被覆率を10〜90%とすることで、各層の収縮率の差に起因する応力を緩和し反りを抑制するとともに、十分な強度を有するものとなる。ポリイミドフィルム積層体の表面硬度改善の観点から、被覆率は、30%〜90%であることが更に好ましい。
(B) When the laminated body 1 is viewed in a plan view from the hard coat layer 4 side, the actual surface coverage of the inorganic layer 3 defined by the following formula is 10 to 90%.
Actual surface coverage = surface occupancy of the inorganic layer 3 × surface coverage of the inorganic compound contained in the inorganic layer 3 When the coverage is 90% or more, the adhesion between the hard coat layer 4 and the polyimide film 2 is improved. The laminated body 1 warps due to the difference in shrinkage ratio of each layer, which can be sufficiently secured. On the other hand, if the coverage is less than 10%, the effect of improving the surface hardness of the polyimide film laminate cannot be obtained. By setting the coverage to 10 to 90%, stress caused by the difference in shrinkage of each layer is relaxed, warping is suppressed, and sufficient strength is obtained. From the viewpoint of improving the surface hardness of the polyimide film laminate, the coverage is more preferably 30% to 90%.

なお、前述した引用文献1(WO/2015/045965)では、有機層と無機層とをそれぞれ少なくとも1層以上有するバリア性積層体である、タッチパネル用積層体が記載されている。この積層体において、無機層はガスバリア層としての役割を有する。実施例でCCP−CVDにより無機層を形成した際にマスクを使用したとの記載はなく、また、無機層が基板全面に形成されていないとガスバリア層としての機能を為さないことから、引用文献1において、無機層は基板上に被覆率100%で形成されているものと推測され、本発明の範囲には含まれない。 In the above-mentioned Cited Document 1 (WO / 2015/045965), a touch panel laminate, which is a barrier laminate having at least one organic layer and at least one inorganic layer, is described. In this laminate, the inorganic layer serves as a gas barrier layer. There is no description that a mask was used when the inorganic layer was formed by CCP-CVD in the examples, and it does not function as a gas barrier layer unless the inorganic layer is formed on the entire surface of the substrate. In Document 1, it is presumed that the inorganic layer is formed on the substrate with a coverage of 100%, and is not included in the scope of the present invention.

無機層3は、上述したような無機物または無機化合物からなり、分散媒、バインダ、フィラーなどの他の成分は実質的に含まないことが好ましい。
例えば特開2014−208469号公報には、基板の表面に、透明樹脂層を形成し、この透明樹脂層の上に金属ナノワイヤを含む透明導電パターンを形成した透明導電パターン形成基板が記載されている。透明導電パターンは、金属ナノワイヤと分散媒を含む導電性インクを、基板上に塗布することにより形成される。
しかしながら、導電パターンのうち、実質的な金属ナノワイヤ部分は非常に少ない。例えば図2に示すように、基板10上の導電パターン11(無機層)の表面占有率が50%、導電パターン11中に含有される金属ナノワイヤ11a(無機物)の表面被覆率が10%であると、実表面被覆率は50%×10%=5%となり、本発明の目的とする表面硬度向上の効果はない。
It is preferable that the inorganic layer 3 is composed of an inorganic substance or an inorganic compound as described above, and substantially does not contain other components such as a dispersion medium, a binder, and a filler.
For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2014-208469 describes a transparent conductive pattern-forming substrate in which a transparent resin layer is formed on the surface of the substrate and a transparent conductive pattern containing metal nanowires is formed on the transparent resin layer. .. The transparent conductive pattern is formed by applying a conductive ink containing metal nanowires and a dispersion medium onto a substrate.
However, there are very few substantial metal nanowire portions in the conductive pattern. For example, as shown in FIG. 2, the surface occupancy of the conductive pattern 11 (inorganic layer) on the substrate 10 is 50%, and the surface coverage of the metal nanowires 11a (inorganic substance) contained in the conductive pattern 11 is 10%. As a result, the actual surface coverage is 50% × 10% = 5%, and there is no effect of improving the surface hardness, which is the object of the present invention.

(C)積層体1の中に、ポリイミドフィルム2とハードコート層4とが接する部位5が1か所以上ある。
ポリイミドフィルム2のうち、無機層3が形成されず、無機層3から露出している部分が、この上にハードコート層4が形成された場合に、ポリイミドフィルム2とハードコート層4とが接する部位5となる。
平面視した場合に、ポリイミドフィルム2とハードコート層4とが接する部位5が1か所以上あることにより、ポリイミドフィルム2とハードコート層4との密着性を高め、各層の収縮率の差に起因する応力を緩和することができる。これによりフィルム積層体1の屈曲耐性の低下や反りを抑制することができる。
(C) In the laminated body 1, there is one or more portions 5 where the polyimide film 2 and the hard coat layer 4 are in contact with each other.
When the hard coat layer 4 is formed on the portion of the polyimide film 2 where the inorganic layer 3 is not formed and is exposed from the inorganic layer 3, the polyimide film 2 and the hard coat layer 4 come into contact with each other. It becomes part 5.
When viewed in a plan view, the adhesion between the polyimide film 2 and the hard coat layer 4 is enhanced by having one or more portions 5 where the polyimide film 2 and the hard coat layer 4 are in contact with each other, and the difference in shrinkage ratio between the layers is increased. The resulting stress can be relieved. As a result, it is possible to suppress a decrease in bending resistance and warpage of the film laminate 1.

ただし、本発明の効果を得るためには、上記部位5は、ある程度小さく、面内で分散して複数設けられていなければならない。
例えば図3に示すような、基板10上に、該基板10の外周部を残して、内側全面に無機層12が形成されている(図示しないが、基板及び無機層上にハードコート層が形成されているものとする)ような構造は、「(B)無機層の実表面被覆率が10〜90%であり、(C)ポリイミドフィルムとハードコート層とが接する部位5が1か所以上ある」構造ではあるが、本発明では、このような構造は想定していない。
However, in order to obtain the effect of the present invention, the said portion 5 must be small to some extent and provided in a plurality of dispersed portions in the plane.
For example, as shown in FIG. 3, an inorganic layer 12 is formed on the entire inner surface of the substrate 10 leaving the outer peripheral portion of the substrate 10 (not shown, but a hard coat layer is formed on the substrate and the inorganic layer). In such a structure, "(B) the actual surface coverage of the inorganic layer is 10 to 90%, and (C) there is one or more sites 5 where the polyimide film and the hard coat layer are in contact with each other. Although it is a "existing" structure, such a structure is not assumed in the present invention.

すなわち、本発明のポリイミドフィルム積層体1は、(D)ハードコート層4側から平面視した積層体全体を1辺1cmの正方形で区画した場合に、ポリイミドフィルム2とハードコート層4とが直接接する部位5を含む区画が、全区画の90%以上になる。
図3に示す場合において、例えば枠Aで囲まれた部分では、部位5が1か所以上ある(A〜A,A10,A11,A15,A16,A20,A21〜A25も同じ)。一方、例えば枠Aで囲まれた部分では、ポリイミドフィルム2とハードコート層4との間に無機層12が全面被覆されており、ポリイミドフィルム2とハードコート層4とが直接接する部位5を含まない(A、A、A12〜A14、A17〜A19も同じ)。図3における部位5を含む区画の割合は、全区画数25当り部位5を含む区画数が16なので、64%である。
無機層12の実表面被覆率が、例えば70%以上と高い場合であっても、ポリイミドフィルム2とハードコート層4とが接する部位5が、例えば1cm未満の比較的小さい大きさで、規則的またはランダムに面内全体に分散していることにより、実表面被覆率を高く維持しつつ、かつ積層体の全面に亘ってポリイミドフィルム2とハードコート層4との密着性を高め、また、各層の収縮率の差に起因する応力を緩和することができる。これにより、ポリイミドフィルム積層体1は、十分な屈曲耐性と十分な強度、特にハードコート層4による高い表面硬度を有し、さらに反りが抑えられたものとなる。
That is, in the polyimide film laminate 1 of the present invention, the polyimide film 2 and the hard coat layer 4 are directly connected to each other when the entire laminate viewed in plan from the (D) hard coat layer 4 side is divided into squares having a side of 1 cm. The section including the contacting portion 5 accounts for 90% or more of the total section.
In the case shown in FIG. 3, for example, in the portion enclosed by the frame A 6, part 5 has more than one location (A 1 ~A 5, A 10 , A 11, A 15, A 16, A 20, A 21 ~ A 25 is the same). On the other hand, for example, in a portion surrounded by a frame A 7, the inorganic layer 12 between the polyimide film 2 and the hard coat layer 4 are entirely covered, the portion 5 and the polyimide film 2 and the hard coat layer 4 is in direct contact Not included (same for A 8 , A 9 , A 12 to A 14 , and A 17 to A 19 ). The ratio of the compartments including the portion 5 in FIG. 3 is 64% because the number of compartments including the portion 5 is 16 per the total number of compartments 25.
Even when the actual surface coverage of the inorganic layer 12 is as high as 70% or more, the portion 5 in contact between the polyimide film 2 and the hard coat layer 4 has a relatively small size of , for example, less than 1 cm 2. By being dispersed throughout the in-plane targetly or randomly, the adhesion between the polyimide film 2 and the hard coat layer 4 is enhanced over the entire surface of the laminated body while maintaining a high actual surface coverage, and also. The stress caused by the difference in shrinkage of each layer can be relaxed. As a result, the polyimide film laminate 1 has sufficient bending resistance and sufficient strength, particularly high surface hardness due to the hard coat layer 4, and warpage is further suppressed.

具体的に、無機層3がポリイミドフィルム上で海島構造を有することが好ましい。無機層3を海島構造とすることにより、ポリイミドフィルム2とハードコート層4とが接する部位5を、ある程度小さく、面内に分散して複数設けることができる。
海島構造の海島の形状としては特に限定されるものではないが、例えば、線状(図4参照)、湾曲を持つ円状(図5(A),(B)参照)、直線部位を持つ多角状(図6参照)、もしくはそれらの組み合わせからなるランダムな形状が挙げられる。
海島構造の島部分は、無機層であってもポリイミドフィルム表面であっても、何れでもよい。
Specifically, it is preferable that the inorganic layer 3 has a sea-island structure on the polyimide film. By forming the inorganic layer 3 into a sea-island structure, a plurality of portions 5 in which the polyimide film 2 and the hard coat layer 4 are in contact with each other can be provided in a small size to some extent and dispersed in the plane.
The shape of the sea island of the sea island structure is not particularly limited, but for example, a linear shape (see FIG. 4), a curved circular shape (see FIGS. 5A and 5B), and a polygon having a straight line portion. A random shape consisting of a shape (see FIG. 6) or a combination thereof can be mentioned.
The island portion of the sea-island structure may be an inorganic layer or a polyimide film surface.

このようなポリイミドフィルム積層体1は、透過率が80%以上であり、かつ減衰係数(光学吸光係数)が1.0以下であることが好ましい。
透過率とはフィルムに入射する光がフィルムを透過する割合のことであり、ここでいう光とは300nm〜800nmの可視光である。
透過率が80%以上であることにより透明感が良好であり、減衰係数が1.0以下であることにより、黄色度が低く明瞭性に優れ、例えば表示デバイスの最外層として用いられた場合に、視認性を妨げない。
Such a polyimide film laminate 1 preferably has a transmittance of 80% or more and an attenuation coefficient (optical absorption coefficient) of 1.0 or less.
The transmittance is the ratio of light incident on the film transmitted through the film, and the light here is visible light having a thickness of 300 nm to 800 nm.
When the transmittance is 80% or more, the transparency is good, and when the attenuation coefficient is 1.0 or less, the yellowness is low and the clarity is excellent. For example, when used as the outermost layer of a display device. , Does not interfere with visibility.

ポリイミドフィルム積層体1を構成する各層の屈折率が、ポリイミドフィルム2 > 無機層3 > ハードコート層4 の順に高いことが好ましい。
本実施形態のポリイミドフィルム積層体1が、例えば表示デバイスの最外層として用いられる場合、ポリイミドフィルム2を内側(デバイス側)、ハードコート層4を外側(使用者側)として取り付けられる。この場合、各層の屈折率を上記のようにすることで反射を抑制し、光線透過率を高めることができる。
It is preferable that the refractive index of each layer constituting the polyimide film laminate 1 is higher in the order of polyimide film 2> inorganic layer 3> hard coat layer 4.
When the polyimide film laminate 1 of the present embodiment is used as, for example, the outermost layer of a display device, the polyimide film 2 is attached as the inside (device side) and the hard coat layer 4 is attached as the outside (user side). In this case, by setting the refractive index of each layer as described above, reflection can be suppressed and the light transmittance can be increased.

以上説明してきたような本発明のポリイミドフィルム積層体は、無機層の実表面被覆率が10〜90%、更に好ましくは30〜90%であり、積層体の中に、ポリイミドフィルムとハードコート層とが接する部位が1か所以上設けられているので、ハードコート層と無機層、ハードコート層とポリイミドフィルムの密着性が高められ、屈曲耐性が向上するとともにハードコート層により高い表面硬度を有し、屈曲耐性と表面硬度とを両立させたものとなる。
なお、上述した説明ではポリイミドフィルムの一面のみに、無機層とハードコート層が積層形成された場合を例として挙げて説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、ポリイミドフィルムの両面にそれぞれ、無機層とハードコート層が積層形成されていてもよい。
In the polyimide film laminate of the present invention as described above, the actual surface coverage of the inorganic layer is 10 to 90%, more preferably 30 to 90%, and the polyimide film and the hard coat layer are contained in the laminate. Since there is one or more parts in contact with the hard coat layer, the adhesion between the hard coat layer and the inorganic layer, and the hard coat layer and the polyimide film is improved, the bending resistance is improved, and the hard coat layer has a higher surface hardness. However, both bending resistance and surface hardness are achieved.
In the above description, the case where the inorganic layer and the hard coat layer are laminated and formed on only one surface of the polyimide film has been described as an example, but the present invention is not limited to this, and both sides of the polyimide film are not limited to this. An inorganic layer and a hard coat layer may be laminated and formed on each of the two.

さらに、本実施形態のポリイミドフィルム積層体に、最外層として、任意の樹脂又は無機化合物からなる層を1層又は2層以上積層してもよい。このような最外層には、保護膜、反射防止膜、フィルター等の役割、又は、ディスプレイの視野角の調整、曇り止め等の機能を持たせることができる。 Further, one layer or two or more layers made of any resin or inorganic compound may be laminated on the polyimide film laminate of the present embodiment as the outermost layer. Such an outermost layer can have a role of a protective film, an antireflection film, a filter, or the like, or a function of adjusting the viewing angle of the display, preventing fogging, and the like.

上述したような本実施形態のポリイミドフィルム積層体1は、高い表面硬度を有するため、表示デバイスの最表面部材として用いられることが好ましい。
特許4757709号記載明細書には、樹脂ガラス用高分子基板と、樹脂ガラス用高分子基板上にアルミニウム、ケイ素、チタン、アルミニウム化合物、ケイ素化合物及びチタン化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種の微粒子を付着してなる無機層と、無機層を介して樹脂ガラス用高分子基板に積層されたアルコキシシラン含有ハードコート層とを備えた、樹脂ガラス用積層体が記載されている。しかしながら、この積層体は、自動車用ガラスに用いることを想定しており、本発明のポリイミドフィルム積層体のように、表示デバイスに用いることを想定したものではない。
Since the polyimide film laminate 1 of the present embodiment as described above has a high surface hardness, it is preferably used as the outermost surface member of the display device.
The specification described in Patent No. 4757709 states that the polymer substrate for resin glass and at least one fine particle selected from the group consisting of aluminum, silicon, titanium, aluminum compound, silicon compound and titanium compound on the polymer substrate for resin glass. A resin glass laminate having an inorganic layer to which the compound is adhered and an alkoxysilane-containing hard coat layer laminated on a polymer substrate for resin glass via the inorganic layer is described. However, this laminate is intended to be used for automobile glass, and is not intended to be used for display devices like the polyimide film laminate of the present invention.

[表示デバイス]
本実施形態に関る表示デバイスは、上述したポリイミドフィルム積層体1を備えている表示デバイスであれば、特に限定されない。 表示デバイスとは、例えば、液晶ディスプレイ(LCD)、プラズマディスプレイ(PDP)、フィールドエミッションディスプレイ(FED)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(EL)、有機ELディスプレイ、レーザーディスプレイ、などによる表示部を伴う、テレビ、ノートパソコン、コンピューター用モニター、携帯電話の表示部、PDA、スマートフォン、コンソール、デジタルサイネージ、など、非常に多くの電子装置に使用されるが、これに限定されるものではない。これらの表示デバイスはタッチパネルの機能を有していてもよい。
[Display device]
The display device according to the present embodiment is not particularly limited as long as it is a display device including the above-mentioned polyimide film laminate 1. The display device is, for example, a television, a notebook, or the like, which includes a display unit such as a liquid crystal display (LCD), a plasma display (PDP), a field emission display (FED), an electroluminescence display (EL), an organic EL display, or a laser display. It is used in a large number of electronic devices such as personal computers, computer monitors, mobile phone displays, PDA, smartphones, consoles, digital signage, etc., but is not limited to this. These display devices may have a touch panel function.

本実施形態のポリイミドフィルム積層体1は、優れた屈曲耐性を有するため、曲面または屈曲部を有する表示デバイスに適用されるときに、特に好適である。
特に有機ELディスプレイにおいては、基板もフレキシブルなプラスチック等を利用することにより、曲面ディスプレイやフレキシブルディスプレイの製造も可能である。
曲面を有する表示デバイスとしては、例えば曲面ディスプレイが挙げられる。この場合、デバイスの曲面の曲がり方向は特に限定されるものではなく、積層体フィルムが凸となるように曲がっている、凸曲面であってもよいし、積層体フィルムが凹となるように曲がっている、凹曲面であってもよい。
また、屈曲部を有する表示デバイスとしては、フレキシブルディスプレイが挙げられる。例えば、折り畳み可能なスマートフォン、フレキシブル有機ELディスプレイが挙げられる。この場合、デバイスの曲げ方向は特に限定されるものではなく、積層体フィルムが凸となるように曲げる、外曲げであってもよいし、積層体フィルムが凹となるように曲げる、内曲げであってもよい。
The polyimide film laminate 1 of the present embodiment has excellent bending resistance, and is particularly suitable when applied to a display device having a curved surface or a bent portion.
In particular, in an organic EL display, a curved display or a flexible display can be manufactured by using a flexible plastic or the like as the substrate.
Examples of the display device having a curved surface include a curved surface display. In this case, the bending direction of the curved surface of the device is not particularly limited, and the laminated film may be bent so as to be convex, may be a convex curved surface, or may be bent so that the laminated film is concave. It may be a concave curved surface.
Further, as a display device having a bent portion, a flexible display can be mentioned. Examples include foldable smartphones and flexible organic EL displays. In this case, the bending direction of the device is not particularly limited, and the laminated film may be bent so as to be convex, may be bent outward, or may be bent so that the laminated film is concave, or may be bent inward. There may be.

[有機ELディスプレイ]
有機ELディスプレイは、画素ごとに、発光素子が構成されている。その発光素子は、例えば、金属等の陰電極/電子注入層/電子輸送層/発光層/正孔輸送層/正孔注入層/ITO等の陽電極、そしてガラス基板や透明な光学フィルムからなる。
上記のようなサンドイッチ構造はヘテロ構造と呼ばれ、電子と正孔をそれぞれ別の層に閉じ込めることによって効率的な反応を起こすことができる。各層の材料にはジアミン、アントラセン、金属錯体などの有機物が使用されている。
電極間の各層の厚さは数nmから数百nmであり、一般的には、全体で1μm以下の厚さである。また基板もフレキシブルなプラスチック等を利用することにより、フレキシブルディスプレイの製造も可能である。
有機ELディスプレイは、駆動方式によりアクティブマトリクス型(AM−OLED、アモレッド)とパッシブマトリクス型(PM−OLED)に大別され、カラー化方式では、3色方式、色変換方式、カラーフィルター方式の3種に分類される。本実施形態のポリイミドフィルム積層体1は、有機ELディスプレイに組み込む場合、最表面部材として用いることができる。
[Organic EL display]
In the organic EL display, a light emitting element is configured for each pixel. The light emitting element is composed of, for example, a negative electrode such as metal / electron injection layer / electron transport layer / light emitting layer / hole transport layer / hole injection layer / positive electrode such as ITO, and a glass substrate or a transparent optical film. ..
The sandwich structure as described above is called a heterostructure, and an efficient reaction can be caused by confining electrons and holes in separate layers. Organic substances such as diamines, anthracenes, and metal complexes are used as materials for each layer.
The thickness of each layer between the electrodes is several nm to several hundred nm, and generally, the total thickness is 1 μm or less. A flexible display can also be manufactured by using a flexible plastic or the like for the substrate.
Organic EL displays are roughly classified into active matrix type (AM-OLED, Amored) and passive matrix type (PM-OLED) according to the drive method. There are three colorization methods: three-color method, color conversion method, and color filter method. Classified as a species. The polyimide film laminate 1 of the present embodiment can be used as the outermost surface member when incorporated into an organic EL display.

[タッチパネル]
本実施形態のポリイミドフィルム積層体1は、タッチパネルに組み込むことも可能である。タッチパネルとは、LCDや有機ELディスプレイ等の表示装置と、タッチパッドのような位置入力装置を組み合わせた電子部品であり、画面上の表示を押すことで機器を操作する入力装置である。
タッチパネルに組み込まれた本実施形態のポリイミドフィルム積層体1は、銀行など金融機関ATM、自動販売機、携帯電話、携帯情報端末(PDA)、デジタルオーディオプレーヤー、携帯ゲーム機、コピー機、ファックス、カーナビ、スマートフォン、など、デジタル情報機器等に組み込まれ、使用することが可能である。本実施形態のポリイミドフィルム積層体1は、タッチパネルに組み込む場合、最外層として用いることができる。
[Touch panel]
The polyimide film laminate 1 of the present embodiment can also be incorporated into a touch panel. A touch panel is an electronic component that combines a display device such as an LCD or an organic EL display with a position input device such as a touch pad, and is an input device that operates a device by pressing a display on the screen.
The polyimide film laminate 1 of the present embodiment incorporated in the touch panel is a financial institution ATM such as a bank, a vending machine, a mobile phone, a personal digital assistant (PDA), a digital audio player, a portable game machine, a copier, a fax, a car navigation system. , Smartphones, etc., can be incorporated and used in digital information devices. The polyimide film laminate 1 of the present embodiment can be used as the outermost layer when incorporated into a touch panel.

以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明はこれに限定されるものではなく、発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更可能である。 Although the embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to this, and can be appropriately changed without departing from the spirit of the invention.

以下、本発明の効果を確認するために行った実施例、参考例および比較例について説明する。
(ポリイミドフィルム作製)
(作製例1)
ディーン・スターク管及び還流管を上部に備えた撹拌棒付き500mLセパラブルフラスコに、窒素ガスを導入しながら4,4’−ジアミノジフェニルスルホン(以下、4,4‘−DDSともいう)8.6g(34.7mmol)、3,3’−ジアミノジフェニルスルホン(以下、3,3‘−DDSともいう)8.6g(34.7mmol)、γ−ブチロラクトン(以下、GBLともいう)50.0gを加えた。続いて4,4’−オキシジフタル酸二無水物(以下、ODPAともいう)21.7g(70.0mmol)、GBL22.3g、トルエン26.0gを室温で加えた後、内温160℃まで昇温し、160℃で1時間加熱還流を行い、イミド化を行った。イミド化完了後、180℃まで昇温し、トルエンを抜き出しながら反応を続けた。12時間反応後、オイルバスを外して室温に戻し、ポリイミドGBL溶液(以下、ポリイミドワニスともいう)を得た。
得られたポリイミドワニスをポリイミドフィルムの膜厚が20μmとなる塗工厚で支持体のPETフィルム(コスモシャイン100A4100、東洋紡製)上に塗工し、50℃にて10分、100℃で10分乾燥した後、樹脂組成物層を支持体のPETフィルム上から剥離し、270℃で30分間空気雰囲気下で乾燥を行い、ポリイミドフィルム(以下、PI−Aともいう)を得た。
Hereinafter, Examples, Reference Examples, and Comparative Examples performed for confirming the effects of the present invention will be described.
(Polyimide film production)
(Production Example 1)
8.6 g of 4,4'-diaminodiphenyl sulfone (hereinafter, also referred to as 4,4'-DDS) while introducing nitrogen gas into a 500 mL separable flask with a stirring rod equipped with a Dean-Stark tube and a reflux tube at the top. (34.7 mmol), 8.6 g (34.7 mmol) of 3,3'-diaminodiphenyl sulfone (hereinafter, also referred to as 3,3'-DDS), and 50.0 g of γ-butyrolactone (hereinafter, also referred to as GBL) are added. rice field. Subsequently, 21.7 g (70.0 mmol) of 4,4'-oxydiphthalic dianhydride (hereinafter, also referred to as ODPA), 22.3 g of GBL, and 26.0 g of toluene were added at room temperature, and then the temperature was raised to 160 ° C. Then, the mixture was heated under reflux at 160 ° C. for 1 hour to imidize. After the imidization was completed, the temperature was raised to 180 ° C., and the reaction was continued while extracting toluene. After the reaction for 12 hours, the oil bath was removed and the temperature was returned to room temperature to obtain a polyimide GBL solution (hereinafter, also referred to as polyimide varnish).
The obtained polyimide varnish is coated on a PET film (Cosmo Shine 100A4100, manufactured by Toyo Boseki) of a support with a coating thickness of 20 μm, and the temperature is 50 ° C. for 10 minutes and 100 ° C. for 10 minutes. After drying, the resin composition layer was peeled off from the PET film of the support and dried at 270 ° C. for 30 minutes in an air atmosphere to obtain a polyimide film (hereinafter, also referred to as PI-A).

(作製例2)
作製例1の4‘4−オキシジフタル酸二無水物(ODPA)21.7g(70.0mmol)を4,4’−(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物(以下、6FDAともいう)31.1g(70.0mmol)に、GBLをN−メチル−2−ピロリドン(以下、NMPともいう)に、ポリイミドフィルムの乾燥条件を空気雰囲気下から窒素雰囲気下に変更した以外は、同様の方法でポリイミドフィルム(以下、PI−Bともいう)を得た。
(Production Example 2)
21.7 g (70.0 mmol) of 4'4-oxydiphthalic acid dianhydride (ODPA) of Preparation Example 1 was added to 4,4'-(hexafluoroisopropyridene) diphthalic acid dianhydride (hereinafter, also referred to as 6FDA) 31. Polyimide was added to 1 g (70.0 mmol) in the same manner except that GBL was changed to N-methyl-2-pyrrolidone (hereinafter, also referred to as NMP) and the drying condition of the polyimide film was changed from an air atmosphere to a nitrogen atmosphere. A film (hereinafter, also referred to as PI-B) was obtained.

(作製例3)
500mLセパラブルフラスコに、窒素ガスを導入しながら4,4’−DDSを17.2g(69.3mmol)に、GBL50.0gを加えた。続いて4,4’−オキシジフタル酸二無水物(ODPA)21.7g(70.0mmol)、GBL22.3gを室温で加えた後、内温50℃まで昇温し、50℃で12時間反応後、オイルバスを外して室温に戻し、ポリアミック酸GBL溶液(以下、ポリアミック酸ワニスともいう)を得た。
得られたポリアミック酸ワニスをポリイミドフィルムの膜厚が20μmとなる塗工厚で支持体のPETフィルム(コスモシャイン100A4100、東洋紡製)上に塗工し、50℃にて10分、100℃で10分乾燥した後、樹脂組成物層を支持体のPETフィルム上から剥離し、270℃で30分間空気雰囲気下で乾燥を行い、ポリイミドフィルム(以下、PI−Cともいう)を得た。
(Production Example 3)
To a 500 mL separable flask, 50.0 g of GBL was added to 17.2 g (69.3 mmol) of 4,4'-DDS while introducing nitrogen gas. Subsequently, 21.7 g (70.0 mmol) of 4,4'-oxydiphthalic acid dianhydride (ODPA) and 22.3 g of GBL were added at room temperature, the temperature was raised to an internal temperature of 50 ° C., and the reaction was carried out at 50 ° C. for 12 hours. , The oil bath was removed and the temperature was returned to room temperature to obtain a polyamic acid GBL solution (hereinafter, also referred to as polyamic acid varnish).
The obtained polyamic acid varnish was coated on a PET film (Cosmo Shine 100A4100, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) of a support with a coating thickness of a polyimide film having a thickness of 20 μm, and applied at 50 ° C. for 10 minutes and at 100 ° C. for 10 minutes. After the minute drying, the resin composition layer was peeled off from the PET film of the support and dried at 270 ° C. for 30 minutes in an air atmosphere to obtain a polyimide film (hereinafter, also referred to as PI-C).

(作製例4)
作製例3の4‘4−オキシジフタル酸二無水物(ODPA)21.7g(70.0mmol)を、4,4’−(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物(6FDA)31.1g(70.0mmol)に、GBLをN−メチル−2−ピロリドン(以下、NMPともいう)に、ポリイミドフィルムの乾燥条件を空気雰囲気下から窒素雰囲気下に、変更した以外は、同様の方法でポリイミドフィルム(以下、PI−Dともいう)を得た。
(Production Example 4)
21.7 g (70.0 mmol) of 4'4-oxydiphthalic acid dianhydride (ODPA) of Preparation Example 3 and 31.1 g (70) of 4,4'-(hexafluoroisopropyridene) diphthalic acid dianhydride (6FDA). In the same way as for the polyimide film (0.0 mmol), GBL was changed to N-methyl-2-pyrrolidone (hereinafter, also referred to as NMP), and the drying condition of the polyimide film was changed from an air atmosphere to a nitrogen atmosphere. Hereinafter, it is also referred to as PI-D).

(作製例5)
作製例1の4,4’−DDS8.60g(34.7mmol)および3,3’−DDS8.60g(34.7mmol)を2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン(以下、TFMBともいう)22.2g(69.3mmol)に変更した以外は、同様の方法でポリイミドフィルム(以下、PI−Eともいう)を得た。
(Production Example 5)
4.4'-DDS 8.60 g (34.7 mmol) and 3,3'-DDS 8.60 g (34.7 mmol) of Production Example 1 are also referred to as 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine (hereinafter, also referred to as TFMB). A polyimide film (hereinafter, also referred to as PI-E) was obtained in the same manner except that the amount was changed to 22.2 g (69.3 mmol).

(作製例6)
作製例5の4,4’−オキシジフタル酸二無水物(ODPA)21.7g(70.0mmol)を、4,4’−(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物(6FDA)31.1g(70.0mmol)に、GBLをN−メチル−2−ピロリドン(以下、NMPともいう)に、ポリイミドフィルムの乾燥条件を空気雰囲気下から窒素雰囲気下に、変更した以外は、同様の方法でポリイミドフィルム(以下、PI−Fともいう)を得た。
(Production Example 6)
21.7 g (70.0 mmol) of 4,4′-oxydiphthalic acid dianhydride (ODPA) of Preparation Example 5 and 31.1 g (6FDA) of 4,4′- (hexafluoroisopropyridene) diphthalic acid dianhydride (6FDA). 70.0 mmol), GBL to N-methyl-2-pyrrolidone (hereinafter, also referred to as NMP), and the drying condition of the polyimide film was changed from an air atmosphere to a nitrogen atmosphere, but the polyimide film was formed in the same manner. (Hereinafter, also referred to as PI-F) was obtained.

(実施例、参考例及び比較例)
以上のようにして作製されたポリイミドフィルムPI−A〜PI−Fを用いて、表1に示す構成にてポリイミドフィルム積層体を作製した。
(Examples, reference examples and comparative examples)
Using the polyimide films PI-A to PI-F produced as described above, a polyimide film laminate was produced with the configurations shown in Table 1.

(無機層の作製)
作製したポリイミドフィルムを100mm×100mmのサイズに切りだし、酸化ケイ素層を海島構造の島の部分が正方形の形状となるようにマスクを用いてスパッタし、無機層蒸着フィルムを作製した。無機層の厚み及び被覆率は表1の通りである。
(Preparation of inorganic layer)
The produced polyimide film was cut into a size of 100 mm × 100 mm, and the silicon oxide layer was sputtered using a mask so that the island portion of the sea-island structure had a square shape to prepare an inorganic layer-deposited film. Table 1 shows the thickness and coverage of the inorganic layer.

(ハードコート層の作製)
得られた無機層蒸着フィルム上にハードコート剤A(リオデュラス2514、東洋インキ製)を硬化後の膜厚が5μm又は10μmとなる条件でバーコータで塗工し、空気下80℃で10分間乾燥させた後、センエンジニアリング株式会社製HC−98(高圧水銀ランプ:HL400DL−1)を用いて、積算のi線(365nm)光量が1600mJとなる条件でUV照射を行いポリイミドフィルム積層体を得た。ハードコート層の厚みは表1の通りである。
(Preparation of hard coat layer)
Hard coating agent A (Riodurus 2514, manufactured by Toyo Ink Co., Ltd.) is applied onto the obtained inorganic layer-deposited film with a bar coater under the condition that the film thickness after curing is 5 μm or 10 μm, and dried at 80 ° C. for 10 minutes under air. Then, using HC-98 (high pressure mercury lamp: HL400DL-1) manufactured by Sen Engineering Co., Ltd., UV irradiation was performed under the condition that the integrated i-line (365 nm) light amount was 1600 mJ to obtain a polyimide film laminate. The thickness of the hard coat layer is as shown in Table 1.

得られた各実施例、参考例及び比較例のポリイミドフィルム積層体に対し、以下に示す方法により試験を行い、鉛筆硬度、フィルムの反りおよび屈曲耐性について評価した。結果を表2に示す。 The obtained polyimide film laminates of Examples, Reference Examples and Comparative Examples were tested by the methods shown below, and the pencil hardness, warpage and bending resistance of the film were evaluated. The results are shown in Table 2.

(鉛筆硬度の測定)
JIS K−5600―5−4の方法によって、自動鉛筆引掻試験機(株式会社井本製作所製)を用い、750gの荷重で5回往復を行い、5回往復3回以上傷がつかない硬さを鉛筆硬度とした。
(Measurement of pencil hardness)
Using an automatic pencil scratch tester (manufactured by Imoto Seisakusho Co., Ltd.) by the method of JIS K-5600-5-4, reciprocate 5 times with a load of 750 g, and reciprocate 5 times 3 times or more. Was the pencil hardness.

(フィルムの反りの測定)
100mm×100mm以上の大きさのフィルムの任意の場所から幅15mm、長さ100mmのフィルム片を切りとり、温度23℃±1℃、湿度50%±5%の環境下、静電気が−0.01V以下に保たれた除電マットの上にフィルムを1日静置した。静置後、フィルム片の端部が除電マットより浮いた高さを測定した。浮いた高さが1mm以下のものを◎、1mm以上〜5mm以下を〇、5mm以上浮くものを×とした。
(Measurement of film warpage)
A piece of film having a width of 15 mm and a length of 100 mm is cut from an arbitrary place of a film having a size of 100 mm × 100 mm or more, and the static electricity is −0.01 V or less in an environment of a temperature of 23 ° C ± 1 ° C and a humidity of 50% ± 5%. The film was allowed to stand on the static eliminator mat kept in place for one day. After standing, the height at which the end of the film piece floated from the static elimination mat was measured. Those having a floating height of 1 mm or less were evaluated as ⊚, those having a floating height of 1 mm or more to 5 mm were evaluated as 0, and those having a floating height of 5 mm or more were evaluated as x.

(屈曲耐性評価方法)
MIT型繰り返し折り曲げ試験機(MIT−DA、株式会社東洋精機製作所製)を用い、幅15mm、長さ100mmの試験片に250gの荷重をかけた状態で、折り曲げ半径R2mm、折り曲げ角度135°、速度90回/分の条件で10,000回、30,000回往復での繰り返し折曲げ試験を行った。試験後サンプルを装置から外し、目視で傷がついていないものを〇、傷がついているものおよび白濁が見られるものを×とした。
(Bending resistance evaluation method)
Using a MIT type repetitive bending tester (MIT-DA, manufactured by Toyo Seiki Seisakusho Co., Ltd.), a test piece with a width of 15 mm and a length of 100 mm is loaded with 250 g, and has a bending radius of R2 mm, a bending angle of 135 °, and a speed. Repeated bending tests were performed 10,000 times and 30,000 times under the condition of 90 times / minute. After the test, the sample was removed from the device, and those that were not visually scratched were marked with 〇, and those with scratches and white turbidity were marked with x.

Figure 0006910133
Figure 0006910133

Figure 0006910133
Figure 0006910133

表2から明らかなように、実施例のポリイミドフィルム積層体では、比較例のポリイミドフィルム積層体に比較して、優れた屈曲耐性と表面硬度とを両立させ、さらに反りも抑制されていることがわかる。
表2から明らかなように、参考例のポリイミドフィルム積層体では、比較例のポリイミドフィルム積層体に比較して、優れた屈曲耐性と表面硬度とを両立させ、さらに反りも抑制されていることがわかる。
As is clear from Table 2, the polyimide film laminate of the example has both excellent bending resistance and surface hardness as compared with the polyimide film laminate of the comparative example, and warpage is also suppressed. Understand.
As is clear from Table 2, the polyimide film laminate of the reference example has both excellent bending resistance and surface hardness as compared with the polyimide film laminate of the comparative example, and warpage is also suppressed. Understand.

本発明によるポリイミドフィルム積層体を用いることで、屈曲耐性と表面硬度とを両立するとともに反りが抑えられたものとなり、表示デバイスの最表面部材として広く利用することができる。 By using the polyimide film laminate according to the present invention, both bending resistance and surface hardness can be achieved and warpage can be suppressed, so that it can be widely used as the outermost surface member of a display device.

1 :ポリイミドフィルム積層体
2 :ポリイミドフィルム
3 :無機層
4 :ハードコート層
5 :部位
1: Polyimide film laminate 2: Polyimide film 3: Inorganic layer 4: Hard coat layer 5: Site

Claims (10)

以下の要件:
(A)ポリイミドフィルムの少なくとも一方の面に、酸化ケイ素(SiO)からなる無機層とハードコート層とがこの順に配されたポリイミドフィルム積層体であって、
(B)前記積層体を前記ハードコート層側から平面視した場合に、以下の式:
実表面被覆率=無機層の表面占有率×無機層中に含有される無機化合物の表面被覆率
で定義される、前記無機層の実表面被覆率が10〜90%であること、
(C)前記積層体の中に、前記ポリイミドフィルムと前記ハードコート層とが接する部位が1か所以上あること、および
(D)前記ハードコート層側から平面視した前記積層体全体を1辺1cmの正方形で区画した場合に、前記ポリイミドフィルムと前記ハードコート層とが直接接する部位を含む区画が、全区画の90%以上であること、
を満たし、
前記積層体の透過率が80%以上であり、かつ減衰係数が1.0以下であることを特徴とするポリイミドフィルム積層体。
The following requirements:
(A) A polyimide film laminate in which an inorganic layer made of silicon oxide (SiO) and a hard coat layer are arranged in this order on at least one surface of the polyimide film.
(B) When the laminated body is viewed in a plan view from the hard coat layer side, the following formula:
Defined by the surface coverage of the inorganic compound contained in the surface coverage × inorganic layer of the actual surface coverage = inorganic layer, the actual surface coverage is 10% to 90% der Rukoto of the inorganic layer,
(C) In the laminated body, there is at least one portion where the polyimide film and the hard coat layer are in contact with each other, and
(D) When the entire laminated body viewed from the hard coat layer side in a plan view is partitioned by a square having a side of 1 cm, 90 of all the partitions include a portion in which the polyimide film and the hard coat layer are in direct contact with each other. Being% or more,
Meet the,
A polyimide film laminate having a transmittance of 80% or more and an attenuation coefficient of 1.0 or less.
前記積層体を構成する各層の632.8nmにおける屈折率が、前記ポリイミドフィルム > 前記無機層 > 前記ハードコート層の順に高い、請求項に記載のポリイミドフィルム積層体。 The refractive index at 632.8nm of each layer constituting the laminate is higher in the order of the polyimide film> The inorganic layer> the hard coat layer, a polyimide film laminate of claim 1. 前記無機層が前記ポリイミドフィルム上で海島構造を有する、請求項1又は2に記載のポリイミドフィルム積層体。 The polyimide film laminate according to claim 1 or 2 , wherein the inorganic layer has a sea-island structure on the polyimide film. 前記海島構造の海島部位の形状が、線状、湾曲部位を持つ円状、直線部位を持つ多角状、もしくはそれらの組み合わせからなるランダムな形状である、請求項に記載のポリイミドフィルム積層体。 The polyimide film laminate according to claim 3 , wherein the shape of the sea island portion of the sea island structure is a linear shape, a circular shape having a curved portion, a polygonal shape having a straight portion, or a random shape composed of a combination thereof. ポリイミドフィルムの少なくとも一方の面に、無機層とハードコート層とがこの順に配された透明フィルム積層体であって、前記無機層の膜厚が、10nm以上であり、且つ、前記透明フィルムの厚みに対し1/1000以下であること、を満たすことを特徴とする、請求項1〜4のいずれか1項に記載のポリイミドフィルム積層体。 A transparent film laminate in which an inorganic layer and a hard coat layer are arranged in this order on at least one surface of the polyimide film, the thickness of the inorganic layer is 10 nm or more, and the thickness of the transparent film. The polyimide film laminate according to any one of claims 1 to 4, wherein the polyimide film laminate is 1/1000 or less of the amount. 前記ポリイミドフィルムが下記一般式(1)で表されるポリイミドを含有し、前記一般式(1)におけるAとして、少なくとも下記一般式(A−1)で表される構造と下記一般式(A−2)で表される構造を含み、前記一般式(1)におけるBとして、少なくとも下記一般式(B)を含むことを特徴とする、請求項1〜5のいずれか1項に記載のポリイミドフィルム積層体。
Figure 0006910133
{一般式(1)中、Aは2価の有機基、Bは4価の有機基であり、そしてnは2以上、である。}
Figure 0006910133
Figure 0006910133
Figure 0006910133
The polyimide film contains a polyimide represented by the following general formula (1), and as A in the general formula (1), at least a structure represented by the following general formula (A-1) and the following general formula (A-). The polyimide film according to any one of claims 1 to 5, which comprises the structure represented by 2) and at least includes the following general formula (B) as B in the general formula (1). Laminated body.
Figure 0006910133
{In the general formula (1), A is a divalent organic group, B is a tetravalent organic group, and n is 2 or more. }
Figure 0006910133
Figure 0006910133
Figure 0006910133
請求項1〜のいずれか1項に記載のポリイミドフィルム積層体を用いた表示デバイス。 A display device using the polyimide film laminate according to any one of claims 1 to 6. 前記表示デバイスが、ポリイミドフィルム積層体を最表面部材として用いていることを特徴とする請求項に記載の表示デバイス。 The display device according to claim 7 , wherein the display device uses a polyimide film laminate as the outermost surface member. 前記表示デバイスが屈曲部位を有する、請求項又はに記載の表示デバイス。 The display device according to claim 7 or 8 , wherein the display device has a bending portion. 前記表示デバイスが曲面を有する、請求項又はに記載の表示デバイス。 The display device according to claim 7 or 8 , wherein the display device has a curved surface.
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