JP6877563B2 - 化合物の製造方法、および、化合物 - Google Patents
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Description
本発明は、化合物およびその製造方法に関する。より詳しくは、ヒドラジン化合物のスルホン酸塩およびその製造方法、ならびに、ヒドラジン化合物に由来する酸ヒドラジド化合物の製造方法に関する。
ヒドラジン化合物のスルホン酸塩の製造方法についてはいくつかの方法が知られている。例えば、特許文献１の実施例３には、ヒドラジンと２−エチルヘキサナールとを反応させて式（Ｅ−６）で表される化合物を合成した後、式（Ｅ−６）で表される化合物とエタノールとパラジウム−炭素触媒とをオートクレーブ中に加えて、４０気圧になるまで水素を充填し、８０℃で５時間攪拌して、式（Ｄ−６）で表される化合物のエタノール溶液を調製し、このエタノール溶液にナフタレン１，５−ジスルホン酸４水和物を添加して式（Ｄ−６）で表される化合物のナフタレン１，５−ジスルホン酸塩を製造することが記載されている。
従来より知られているヒドラジン化合物のスルホン酸塩の製造方法においては、中性のヒドラジン化合物を製造したのち、中性のヒドラジン化合物とスルホン酸とを反応させて製造している。特許文献１においても、中性のヒドラジン化合物である式（Ｄ−６）で表される化合物を合成し、この化合物とナフタレン１，５−ジスルホン酸４水和物とを反応させてヒドラジン化合物のスルホン酸塩としている。
しかしながら、中性のヒドラジン化合物は、分解しやすい化合物であるため、換気などを十分に行う必要があり、製造時の安全性に注意が必要であった。また、中性のヒドラジン化合物は、分解しやすい化合物であるため、最終生成物の収率が低下し易い傾向にあった。
よって、本発明の目的は、安全で、収率よくヒドラジン化合物のスルホン酸塩を製造できる化合物の製造方法を提供することにある。また、安全で、収率よくヒドラジン化合物に由来する酸ヒドラジド化合物を製造できる化合物の製造方法を提供することにある。また、安全性に優れたヒドラジン化合物のスルホン酸塩を提供することにある。
本発明者の検討によれば、後述する式（ＩＩ）で表わされる化合物と、式（ＩＩＩ）で表わされる化合物とを反応させることにより、中性のヒドラジン化合物の製造工程を経由することなくヒドラジン化合物のスルホン酸塩である後述する式（ＩＩ）で表わされる化合物を製造できることを見出し、本発明を完成するに至った。よって、本発明は以下を提供する。
＜１＞ 式（ＩＩ）で表わされる化合物と、式（ＩＩＩ）で表わされる化合物とを反応させることを含む、式（ＩＶ）で表わされる化合物の製造方法；
式中、Ｒ２１、Ｒ２２およびＲ３１は各々独立に脂肪族基、芳香族基または複素環基を表し、
ｍは正の整数を表し、ｑは正数を表し、
Ｒ２１とＲ２２は互いに結合して環を形成していてもよい。
＜２＞ 式（ＩＩ）で表される化合物のモル数に対する、式（ＩＩＩ）で表される化合物のモル数とｍの数との積の比が１．０以上である、＜１＞に記載の化合物の製造方法。
＜３＞ 式（ＩＶ）で表わされる化合物が式（Ｉ）で表わされる化合物である、＜１＞または＜２＞に記載の化合物の製造方法；
式中、Ｒ２１、Ｒ２２およびＲ３２は各々独立に脂肪族基、芳香族基または複素環基を表し、ｐは正数を表し、Ｒ２１とＲ２２は互いに結合して環を形成していてもよい。
＜４＞ ＜１＞〜＜３＞のいずれかに記載の化合物の製造方法により式（ＩＶ）で表わされる化合物を得たのち、式（ＩＶ）で表わされる化合物と式（Ｖ）で表わされる化合物とを反応させることを含む、式（ＶＩ）で表わされる化合物の製造方法；
式中、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ３１、Ｒ５１およびＲ５２は各々独立に脂肪族基、芳香族基または複素環基を表し、ｍは正の整数を表し、ｑは正数を表し、Ｒ２１とＲ２２は互いに結合して環を形成していてもよい。
＜５＞ ＜１＞〜＜３＞のいずれかに記載の化合物の製造方法により式（ＩＶ）で表わされる化合物を得たのち、式（ＩＶ）で表わされる化合物と式（ＶＩＩ）で表わされる化合物とを反応させることを含む、式（ＶＩＩＩ）で表わされる化合物の製造方法；
式中、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ３１およびＲ７１は各々独立に脂肪族基、芳香族基または複素環基を表し、Ｌ７１は２価の連結基を表し、ｍは正の整数を表し、ｑは正数を表し、Ｒ２１とＲ２２は互いに結合して環を形成していてもよい。
＜６＞ 式（Ｉ）で表わされる化合物；
式中、Ｒ２１、Ｒ２２およびＲ３２は各々独立に脂肪族基、芳香族基または複素環基を表し、ｐは正数を表し、Ｒ２１とＲ２２は互いに結合して環を形成していてもよい。
＜７＞ Ｒ２１およびＲ２２が各々独立に炭素数１〜１０の直鎖アルキル基である、＜６＞に記載の化合物。
＜８＞ Ｒ３２がアリール基である、＜６＞または＜７＞に記載の化合物。
＜９＞ 示差走査熱量分析における発熱開始温度が１５０℃以上である、＜６＞〜＜８＞のいずれかに記載の化合物。
＜１０＞ ＜４＞または＜５＞に記載の化合物の製造方法に用いられる、＜６＞〜＜９＞のいずれかに記載の化合物。
＜１１＞ 式（ＶＩ）で表される化合物または式（ＶＩＩＩ）で表される化合物の前駆体である、＜６＞〜＜９＞のいずれかに記載の化合物；
式中、Ｒ２１、Ｒ２２およびＲ５１は各々独立に脂肪族基、芳香族基または複素環基を表し、Ｌ７１は２価の連結基を表し、Ｒ２１とＲ２２は互いに結合して環を形成していてもよい。
＜１＞ 式（ＩＩ）で表わされる化合物と、式（ＩＩＩ）で表わされる化合物とを反応させることを含む、式（ＩＶ）で表わされる化合物の製造方法；
ｍは正の整数を表し、ｑは正数を表し、
Ｒ２１とＲ２２は互いに結合して環を形成していてもよい。
＜２＞ 式（ＩＩ）で表される化合物のモル数に対する、式（ＩＩＩ）で表される化合物のモル数とｍの数との積の比が１．０以上である、＜１＞に記載の化合物の製造方法。
＜３＞ 式（ＩＶ）で表わされる化合物が式（Ｉ）で表わされる化合物である、＜１＞または＜２＞に記載の化合物の製造方法；
＜４＞ ＜１＞〜＜３＞のいずれかに記載の化合物の製造方法により式（ＩＶ）で表わされる化合物を得たのち、式（ＩＶ）で表わされる化合物と式（Ｖ）で表わされる化合物とを反応させることを含む、式（ＶＩ）で表わされる化合物の製造方法；
＜５＞ ＜１＞〜＜３＞のいずれかに記載の化合物の製造方法により式（ＩＶ）で表わされる化合物を得たのち、式（ＩＶ）で表わされる化合物と式（ＶＩＩ）で表わされる化合物とを反応させることを含む、式（ＶＩＩＩ）で表わされる化合物の製造方法；
＜６＞ 式（Ｉ）で表わされる化合物；
＜７＞ Ｒ２１およびＲ２２が各々独立に炭素数１〜１０の直鎖アルキル基である、＜６＞に記載の化合物。
＜８＞ Ｒ３２がアリール基である、＜６＞または＜７＞に記載の化合物。
＜９＞ 示差走査熱量分析における発熱開始温度が１５０℃以上である、＜６＞〜＜８＞のいずれかに記載の化合物。
＜１０＞ ＜４＞または＜５＞に記載の化合物の製造方法に用いられる、＜６＞〜＜９＞のいずれかに記載の化合物。
＜１１＞ 式（ＶＩ）で表される化合物または式（ＶＩＩＩ）で表される化合物の前駆体である、＜６＞〜＜９＞のいずれかに記載の化合物；
本発明によれば、安全で、収率よくヒドラジン化合物のスルホン酸塩を製造できる化合物の製造方法を提供することができる。また、安全で、収率よくヒドラジン化合物に由来する酸ヒドラジド化合物を製造できる化合物の製造方法を提供することができる。また、安全性に優れたヒドラジン化合物のスルホン酸塩を提供することができる。
以下において、本発明の内容について詳細に説明する。
本明細書における基（原子団）の表記において、置換および無置換を記していない表記は、置換基を有さない基と共に置換基を有する基を包含する。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含する。
本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
本明細書において、全固形分とは、組成物の全成分から溶剤を除いた成分の合計量をいう。
本明細書において「工程」との語は、独立した工程を意味するだけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の作用が達成されれば、本用語に含まれる。
本明細書における基（原子団）の表記において、置換および無置換を記していない表記は、置換基を有さない基と共に置換基を有する基を包含する。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含する。
本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
本明細書において、全固形分とは、組成物の全成分から溶剤を除いた成分の合計量をいう。
本明細書において「工程」との語は、独立した工程を意味するだけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の作用が達成されれば、本用語に含まれる。
＜式（ＩＶ）で表わされる化合物の製造方法＞
本発明の化合物の製造方法は、式（ＩＩ）で表わされる化合物と、式（ＩＩＩ）で表わされる化合物とを反応させることを含む、式（ＩＶ）で表わされる化合物の製造方法である。
式中、Ｒ２１、Ｒ２２およびＲ３１は各々独立に脂肪族基、芳香族基または複素環基を表し、
ｍは正の整数を表し、ｑは正数を表し、
Ｒ２１とＲ２２は互いに結合して環を形成していてもよい。
本発明の化合物の製造方法は、式（ＩＩ）で表わされる化合物と、式（ＩＩＩ）で表わされる化合物とを反応させることを含む、式（ＩＶ）で表わされる化合物の製造方法である。
ｍは正の整数を表し、ｑは正数を表し、
Ｒ２１とＲ２２は互いに結合して環を形成していてもよい。
本発明によれば、中性のヒドラジン化合物の製造工程を経ることなく、ヒドラジン化合物のスルホン酸塩である式（ＩＶ）で表わされる化合物を製造することができる。このため、安全で、かつ、収率よくヒドラジン化合物のスルホン酸塩を製造できる。
式（ＩＩ）で表わされる化合物と、式（ＩＩＩ）で表わされる化合物との反応は、溶媒の存在下で行ってもよいし、溶媒を用いることなく反応を行ってもよい。また、前述の反応は、酸、塩基、塩、無機化合物などを添加して行ってもよい。
溶媒としては、水、アミド系溶媒（例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、１−メチルー２−ピロリドン）、スルホン系溶媒（例えばスルホラン）、スルホキシド系溶媒（例えばジメチルスルホキシド）、ウレイド系溶媒（例えばテトラメチルウレア）、アルコール系溶媒（例えばメタノール、オクタノール、ベンジルアルコール）、エーテル系溶媒（例えばジオキサン、アニソール、テトラヒドロフラン）、ケトン系溶媒（例えばアセトン、シクロヘキサノン）、炭化水素系溶媒（例えばトルエン、キシレン、メシチレン、ｎ−オクタン、ｎ−ドデカン）、ハロゲン系溶媒（例えばクロロベンセン、テトラクロロエタン、ジクロロベンゼン）、ピリジン系溶媒（例えばピリジン、γ―ピコリン、２，６−ルチジン）およびニトリル系溶媒（例えばアセトニトリル）が挙げられ、これらを単独で或いは混合して用いることが好ましい。これらの溶媒のうち好ましくは、水、アルコール系溶媒、アミド系溶媒、スルホン系溶媒、スルホキシド系溶媒、ウレイド系溶媒、エーテル系溶媒、炭化水素系溶媒、ハロゲン系溶媒およびニトリル系溶媒であり、より好ましくは、水、アルコール系溶媒、スルホン系溶媒、エーテル系溶媒、炭化水素系溶媒およびハロゲン系溶媒であり、更に好ましくは水、アルコール系溶媒およびエーテル系溶媒であり、特に好ましくは、水およびアルコール系溶媒である。
式（ＩＩ）で表わされる化合物と、式（ＩＩＩ）で表わされる化合物との反応温度は、０〜２５０℃が好ましい。下限は１０℃以上が好ましく、２０℃以上がより好ましく、２５℃以上が更に好ましく、３０℃以上が特に好ましい。上限は、２００℃以下が好ましく、１００℃以下がより好ましく、７０℃以下が更に好ましく、６０℃以下が特に好ましい。
式（ＩＩ）で表わされる化合物と、式（ＩＩＩ）で表わされる化合物は、式（ＩＩ）で表される化合物のモル数に対する、式（ＩＩＩ）で表される化合物のモル数とｍの数との積の比（式（ＩＩＩ）で表される化合物のモル数とｍの数との積／式（ＩＩ）で表される化合物のモル数）が０．０１以上となる割合で反応させることが好ましく、０．１以上となる割合で反応させることがより好ましく、０．８以上となる割合で反応させることが更に好ましく、収率の観点から１．０以上となる割合で反応させることがより一層好ましく、１．５以上となる割合で反応させることが特に好ましく、１．８以上となる割合で反応させることが最も好ましい。前述の比の上限は、収率の観点から１０．０以下であることが好ましく、６．０以下であることがより好ましく、５．０以下であることが更に好ましく、４．０以下であることがより一層好ましく、３．０以下であることが特に好ましく、２．５以下であることが最も好ましい。
次に、式（ＩＩ）で表わされる化合物、式（ＩＩＩ）で表わされる化合物および式（ＩＶ）で表わされる化合物について説明する。
（式（ＩＩ）で表される化合物）
式（ＩＩ）中、Ｒ２１およびＲ２２は各々独立に脂肪族基、芳香族基または複素環基を表す。Ｒ２１とＲ２２は互いに結合して環を形成していてもよい。
Ｒ２１およびＲ２２が表す脂肪族基の炭素数は、１〜３０が好ましく、１〜２０がより好ましく、１〜１５が更に好ましく、１〜１０が特に好ましく、１〜７が最も好ましい。脂肪族基の種類としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基およびアラルキル基が挙げられ、アルキル基またはアルケニル基が好ましく、アルキル基がより好ましい。アルキル基、アルケニル基、アルキニル基およびアラルキル基は置換基を有していてもよい。置換基としては後述する置換基Ｔで説明した基が挙げられる。
アルキル基の炭素数は、１〜３０が好ましく、１〜２０がより好ましく、１〜１５が更に好ましく、１〜１０が特に好ましく、１〜７が最も好ましい。アルキル基は直鎖、分岐および環状のいずれでもよく、直鎖または分岐であることが好ましく、直鎖であることがより好ましい。また、環状のアルキル基、および環状のアルコキシ基のアルキル基部位は、単環のシクロアルキル基であってもよく、多環アルキル基（ビシクロアルキル基、トリシクロアルキル基など）であってもよい。
アルケニル基の炭素数は、２〜３０が好ましく、２〜２０がより好ましく、２〜１５が更に好ましく、２〜１０が特に好ましく、２〜７が最も好ましい。アルケニル基は直鎖、分岐および環状のいずれでもよく、直鎖または分岐であることが好ましく、直鎖であることがより好ましい。
アルキニル基の炭素数は、２〜３０が好ましく、２〜２０がより好ましく、２〜１５が更に好ましく、２〜１０が特に好ましく、２〜７が最も好ましい。アルキニル基は直鎖、分岐および環状のいずれでもよく、直鎖または分岐であることが好ましく、直鎖であることがより好ましい。
アラルキル基の炭素数は、７〜３０が好ましく、７〜２０がより好ましく、７〜１５が更に好ましい。アラルキル基のアルキル部分は、上記アルキル基と同様である。アラルキル基のアリール部分は下記アリール基と同様である。
アルキル基の炭素数は、１〜３０が好ましく、１〜２０がより好ましく、１〜１５が更に好ましく、１〜１０が特に好ましく、１〜７が最も好ましい。アルキル基は直鎖、分岐および環状のいずれでもよく、直鎖または分岐であることが好ましく、直鎖であることがより好ましい。また、環状のアルキル基、および環状のアルコキシ基のアルキル基部位は、単環のシクロアルキル基であってもよく、多環アルキル基（ビシクロアルキル基、トリシクロアルキル基など）であってもよい。
アルケニル基の炭素数は、２〜３０が好ましく、２〜２０がより好ましく、２〜１５が更に好ましく、２〜１０が特に好ましく、２〜７が最も好ましい。アルケニル基は直鎖、分岐および環状のいずれでもよく、直鎖または分岐であることが好ましく、直鎖であることがより好ましい。
アルキニル基の炭素数は、２〜３０が好ましく、２〜２０がより好ましく、２〜１５が更に好ましく、２〜１０が特に好ましく、２〜７が最も好ましい。アルキニル基は直鎖、分岐および環状のいずれでもよく、直鎖または分岐であることが好ましく、直鎖であることがより好ましい。
アラルキル基の炭素数は、７〜３０が好ましく、７〜２０がより好ましく、７〜１５が更に好ましい。アラルキル基のアルキル部分は、上記アルキル基と同様である。アラルキル基のアリール部分は下記アリール基と同様である。
芳香族基としては、アリール基が挙げられる。芳香族基の炭素数は６〜４０が好ましく、６〜３０がより好ましく、６〜２０が更に好ましく、６〜１５が特に好ましく、６〜１２が最も好ましい。アリール基としてはフェニル基およびナフチル基が好ましく、フェニル基がより好ましい。アリール基は置換基を有していてもよい。置換基としては後述する置換基Ｔで説明した基が挙げられる。
複素環基における複素環は５員または６員の飽和または不飽和複素環を含むことが好ましい。複素環基は炭素原子の部位が連結手であることが好ましい。複素環に脂肪族環、芳香族環または他の複素環が縮合していてもよい。複素環の環を構成するヘテロ原子としては、Ｂ、Ｎ、Ｏ、Ｓ、ＳｅおよびＴｅが挙げられ、Ｎ、ＯおよびＳが好ましい。
好ましい複素環基の炭素原子数は１〜４０であり、より好ましくは１〜３０であり、更に好ましくは１〜２０である。複素環基における飽和複素環の例として、ピロリジン環、モルホリン環、２−ボラ−１，３−ジオキソラン環および１，３−チアゾリジン環が挙げられる。複素環基における不飽和複素環の例として、イミダゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾトリアゾール環、ベンゾセレナゾール環、ピリジン環、ピリミジン環およびキノリン環が挙げられる。複素環基は置換基を有していても良い。置換基の例としては後述する置換基Ｔで説明した基が挙げられる。
好ましい複素環基の炭素原子数は１〜４０であり、より好ましくは１〜３０であり、更に好ましくは１〜２０である。複素環基における飽和複素環の例として、ピロリジン環、モルホリン環、２−ボラ−１，３−ジオキソラン環および１，３−チアゾリジン環が挙げられる。複素環基における不飽和複素環の例として、イミダゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾトリアゾール環、ベンゾセレナゾール環、ピリジン環、ピリミジン環およびキノリン環が挙げられる。複素環基は置換基を有していても良い。置換基の例としては後述する置換基Ｔで説明した基が挙げられる。
式（ＩＩ）において、Ｒ２１およびＲ２２は各々独立に脂肪族基または芳香族基であることが好ましく、炭素数１〜３０の脂肪族基または炭素数６〜３０の芳香族基であることがより好ましく、炭素数１〜２０の脂肪族基であることが更に好ましく、炭素数１〜２０のアルキル基または炭素数７〜２０のアラルキル基であることがより一層好ましく、炭素数１〜１５のアルキル基であることが更に一層好ましく、炭素数１〜１０の直鎖アルキル基であることが特に好ましく、炭素数１〜７の直鎖アルキル基であることが最も好ましい。
式（ＩＩ）において、Ｒ２１とＲ２２は互いに結合して環を形成していてもよい。Ｒ２１及びＲ２２が結合して形成される環は５または６員の環が好ましい。
（置換基Ｔ）
置換基Ｔとしては、
ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）；
アルキル基〔直鎖、分岐、環状のアルキル基。具体的には、直鎖または分岐のアルキル基（好ましくは炭素数１〜３０の直鎖または分岐のアルキル基、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、エイコシル基、２−クロロエチル基、２−シアノエチル基、２−エチルヘキシル基）、シクロアルキル基（好ましくは、炭素数３〜３０のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル基）、ビシクロアルキル基（好ましくは、炭素数５〜３０のビシクロアルキル基、つまり、炭素数５〜３０のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基。例えば、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル基、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル基）、更に環構造が多いトリシクロ構造なども包含するものである。以下に説明する置換基の中のアルキル基（例えばアルキルチオ基のアルキル基）もこのような概念のアルキル基を表す。］；
アルケニル基［直鎖、分岐、環状のアルケニル基。具体的には、直鎖または分岐のアルケニル基（好ましくは炭素数２〜３０の直鎖または分岐のアルケニル基、例えば、ビニル基、アリル基、プレニル基、ゲラニル基、オレイル基）、シクロアルケニル基（好ましくは、炭素数３〜３０のシクロアルケニル基。つまり、炭素数３〜３０のシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、２−シクロペンテン−１−イル基、２−シクロヘキセン−１−イル基）、ビシクロアルケニル基（好ましくは、炭素数５〜３０の置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基、つまり二重結合を一個持つビシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン−１−イル基、ビシクロ［２，２，２］オクト−２−エン−４−イル基）を包含するものである。］；
アルキニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の直鎖または分岐のアルキニル基。例えば、エチニル基、プロパルギル基、トリメチルシリルエチニル基；
置換基Ｔとしては、
ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）；
アルキル基〔直鎖、分岐、環状のアルキル基。具体的には、直鎖または分岐のアルキル基（好ましくは炭素数１〜３０の直鎖または分岐のアルキル基、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、エイコシル基、２−クロロエチル基、２−シアノエチル基、２−エチルヘキシル基）、シクロアルキル基（好ましくは、炭素数３〜３０のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル基）、ビシクロアルキル基（好ましくは、炭素数５〜３０のビシクロアルキル基、つまり、炭素数５〜３０のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基。例えば、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル基、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル基）、更に環構造が多いトリシクロ構造なども包含するものである。以下に説明する置換基の中のアルキル基（例えばアルキルチオ基のアルキル基）もこのような概念のアルキル基を表す。］；
アルケニル基［直鎖、分岐、環状のアルケニル基。具体的には、直鎖または分岐のアルケニル基（好ましくは炭素数２〜３０の直鎖または分岐のアルケニル基、例えば、ビニル基、アリル基、プレニル基、ゲラニル基、オレイル基）、シクロアルケニル基（好ましくは、炭素数３〜３０のシクロアルケニル基。つまり、炭素数３〜３０のシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、２−シクロペンテン−１−イル基、２−シクロヘキセン−１−イル基）、ビシクロアルケニル基（好ましくは、炭素数５〜３０の置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基、つまり二重結合を一個持つビシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン−１−イル基、ビシクロ［２，２，２］オクト−２−エン−４−イル基）を包含するものである。］；
アルキニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の直鎖または分岐のアルキニル基。例えば、エチニル基、プロパルギル基、トリメチルシリルエチニル基；
アリール基（好ましくは炭素数６〜３０のアリール基。例えばフェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基、ｍ−クロロフェニル基、ｏ−ヘキサデカノイルアミノフェニル基）；
ヘテロ環基（好ましくは５または６員の芳香族もしくは非芳香族のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、更に好ましくは、炭素数３〜３０の５もしくは６員の芳香族のヘテロ環基である。例えば、２−フリル基、２−チエニル基、２−ピリミジニル基、２−ベンゾチアゾリル基）；
シアノ基；
ヒドロキシル基；
ニトロ基；
カルボキシル基；
アルコキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の直鎖または分岐のアルコキシ基。例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−メトキシエトキシ基）；
アリールオキシ基（好ましくは、炭素数６〜３０のアリールオキシ基。例えば、フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、４−ｔ−ブチルフェノキシ基、３−ニトロフェノキシ基、２−テトラデカノイルアミノフェノキシ基）；
シリルオキシ基（好ましくは、炭素数３〜２０のシリルオキシ基。例えば、トリメチルシリルオキシ基、ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基）；
ヘテロ環オキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０のヘテロ環オキシ基。例えば、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ基、２−テトラヒドロピラニルオキシ基）；
アシルオキシ基（好ましくはホルミルオキシ基、炭素数２〜３０のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数６〜３０のアリールカルボニルオキシ基。例えば、ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ステアロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシ基）；
ヘテロ環基（好ましくは５または６員の芳香族もしくは非芳香族のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、更に好ましくは、炭素数３〜３０の５もしくは６員の芳香族のヘテロ環基である。例えば、２−フリル基、２−チエニル基、２−ピリミジニル基、２−ベンゾチアゾリル基）；
シアノ基；
ヒドロキシル基；
ニトロ基；
カルボキシル基；
アルコキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の直鎖または分岐のアルコキシ基。例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−メトキシエトキシ基）；
アリールオキシ基（好ましくは、炭素数６〜３０のアリールオキシ基。例えば、フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、４−ｔ−ブチルフェノキシ基、３−ニトロフェノキシ基、２−テトラデカノイルアミノフェノキシ基）；
シリルオキシ基（好ましくは、炭素数３〜２０のシリルオキシ基。例えば、トリメチルシリルオキシ基、ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基）；
ヘテロ環オキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０のヘテロ環オキシ基。例えば、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ基、２−テトラヒドロピラニルオキシ基）；
アシルオキシ基（好ましくはホルミルオキシ基、炭素数２〜３０のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数６〜３０のアリールカルボニルオキシ基。例えば、ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ステアロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシ基）；
カルバモイルオキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０のカルバモイルオキシ基。例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ基、モルホリノカルボニルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ基、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシ基）；
アルコキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０のアルコキシカルボニルオキシ基。例えばメトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、ｔ−ブトキシカルボニルオキシ基、ｎ−オクチルカルボニルオキシ基）；
アリールオキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数７〜３０のアリールオキシカルボニルオキシ基。例えば、フェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ基）；
アミノ基（好ましくは、アミノ基、炭素数１〜３０のアルキルアミノ基、炭素数６〜３０のアニリノ基。例えば、アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、アニリノ基、Ｎ−メチル−アニリノ基、ジフェニルアミノ基）；
アシルアミノ基（好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素数１〜３０のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数６〜３０のアリールカルボニルアミノ基。例えば、ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、ピバロイルアミノ基、ラウロイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、３，４，５−トリ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニルアミノ基）；
アルコキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０のアルコキシカルボニルオキシ基。例えばメトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、ｔ−ブトキシカルボニルオキシ基、ｎ−オクチルカルボニルオキシ基）；
アリールオキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数７〜３０のアリールオキシカルボニルオキシ基。例えば、フェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ基）；
アミノ基（好ましくは、アミノ基、炭素数１〜３０のアルキルアミノ基、炭素数６〜３０のアニリノ基。例えば、アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、アニリノ基、Ｎ−メチル−アニリノ基、ジフェニルアミノ基）；
アシルアミノ基（好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素数１〜３０のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数６〜３０のアリールカルボニルアミノ基。例えば、ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、ピバロイルアミノ基、ラウロイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、３，４，５−トリ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニルアミノ基）；
アミノカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数１〜３０のアミノカルボニルアミノ基。例えば、カルバモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ基、モルホリノカルボニルアミノ基）；
アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜３０のアルコキシカルボニルアミノ基。例えば、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ基、Ｎ−メチルーメトキシカルボニルアミノ基）；
アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数７〜３０のアリールオキシカルボニルアミノ基。例えば、フェノキシカルボニルアミノ基、ｐ−クロロフェノキシカルボニルアミノ基、ｍ−ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ基）；
スルファモイルアミノ基（好ましくは、炭素数０〜３０のスルファモイルアミノ基。例えば、スルファモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ基、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノ基）；
アルキル又はアリールスルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜３０のアルキルスルホニルアミノ基、炭素数６〜３０のアリールスルホニルアミノ基。例えば、メチルスルホニルアミノ基、ブチルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ基、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ基）；
メルカプト基；
アルキルチオ基（好ましくは、炭素数１〜３０のアルキルチオ基。例えばメチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−ヘキサデシルチオ基）；
アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜３０のアリールチオ基。例えば、フェニルチオ基、ｐ−クロロフェニルチオ基、ｍ−メトキシフェニルチオ基）；
ヘテロ環チオ基（好ましくは炭素数２〜３０のヘテロ環チオ基。例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ基、１−フェニルテトラゾール−５−イルチオ基）；
アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜３０のアルコキシカルボニルアミノ基。例えば、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ基、Ｎ−メチルーメトキシカルボニルアミノ基）；
アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数７〜３０のアリールオキシカルボニルアミノ基。例えば、フェノキシカルボニルアミノ基、ｐ−クロロフェノキシカルボニルアミノ基、ｍ−ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ基）；
スルファモイルアミノ基（好ましくは、炭素数０〜３０のスルファモイルアミノ基。例えば、スルファモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ基、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノ基）；
アルキル又はアリールスルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜３０のアルキルスルホニルアミノ基、炭素数６〜３０のアリールスルホニルアミノ基。例えば、メチルスルホニルアミノ基、ブチルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ基、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ基）；
メルカプト基；
アルキルチオ基（好ましくは、炭素数１〜３０のアルキルチオ基。例えばメチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−ヘキサデシルチオ基）；
アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜３０のアリールチオ基。例えば、フェニルチオ基、ｐ−クロロフェニルチオ基、ｍ−メトキシフェニルチオ基）；
ヘテロ環チオ基（好ましくは炭素数２〜３０のヘテロ環チオ基。例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ基、１−フェニルテトラゾール−５−イルチオ基）；
スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜３０のスルファモイル基。例えば、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ−アセチルスルファモイル基、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル基、Ｎ−（Ｎ’−フェニルカルバモイル）スルファモイル基）；
スルホ基；
アルキル又はアリールスルフィニル基（好ましくは、炭素数１〜３０のアルキルスルフィニル基、６〜３０のアリールスルフィニル基。例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ｐ−メチルフェニルスルフィニル基）；
アルキル又はアリールスルホニル基（好ましくは、炭素数１〜３０のアルキルスルホニル基、６〜３０のアリールスルホニル基。例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、フェニルスルホニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニル基）；
スルホ基；
アルキル又はアリールスルフィニル基（好ましくは、炭素数１〜３０のアルキルスルフィニル基、６〜３０のアリールスルフィニル基。例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ｐ−メチルフェニルスルフィニル基）；
アルキル又はアリールスルホニル基（好ましくは、炭素数１〜３０のアルキルスルホニル基、６〜３０のアリールスルホニル基。例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、フェニルスルホニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニル基）；
アシル基（好ましくはホルミル基、炭素数２〜３０のアルキルカルボニル基、炭素数７〜３０のアリールカルボニル基、炭素数４〜３０の炭素原子でカルボニル基と結合しているヘテロ環カルボニル基。例えば、アセチル基、ピバロイル基、２−クロロアセチル基、ステアロイル基、ベンゾイル基、ｐ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニル基、２−ピリジルカルボニル基、２−フリルカルボニル基）；
アリールオキシカルボニル基（好ましくは、炭素数７〜３０のアリールオキシカルボニル基。例えば、フェノキシカルボニル基、ｏ−クロロフェノキシカルボニル基、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル基、ｐ−ｔ−ブチルフェノキシカルボニル基）；
アルコキシカルボニル基（好ましくは、炭素数２〜３０のアルコキシカルボニル基。例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル基）；
カルバモイル基（好ましくは、炭素数１〜３０のカルバモイル基。例えば、カルバモイル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル基、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル基）；
アリール又はヘテロ環アゾ基（好ましくは炭素数６〜３０のアリールアゾ基、炭素数３〜３０のヘテロ環アゾ基。例えば、フェニルアゾ基、ｐ−クロロフェニルアゾ基、５−エチルチオ−１，３，４−チアジアゾール−２−イルアゾ基）；
イミド基（好ましくは、Ｎ−スクシンイミド基、Ｎ−フタルイミド基）；
ホスフィノ基（好ましくは、炭素数２〜３０のホスフィノ基。例えば、ジメチルホスフィノ基、ジフェニルホスフィノ基、メチルフェノキシホスフィノ基）
ホスフィニル基（好ましくは、炭素数２〜３０のホスフィニル基。例えば、ホスフィニル基、ジオクチルオキシホスフィニル基、ジエトキシホスフィニル基）；
ホスフィニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０のホスフィニルオキシ基。例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ基、ジオクチルオキシホスフィニルオキシ基）；
ホスフィニルアミノ基（好ましくは、炭素数２〜３０のホスフィニルアミノ基。例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ基、ジメチルアミノホスフィニルアミノ基）；
シリル基（好ましくは、炭素数３〜３０のシリル基。例えば、トリメチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、フェニルジメチルシリル基）が挙げられる。
アリールオキシカルボニル基（好ましくは、炭素数７〜３０のアリールオキシカルボニル基。例えば、フェノキシカルボニル基、ｏ−クロロフェノキシカルボニル基、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル基、ｐ−ｔ−ブチルフェノキシカルボニル基）；
アルコキシカルボニル基（好ましくは、炭素数２〜３０のアルコキシカルボニル基。例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル基）；
カルバモイル基（好ましくは、炭素数１〜３０のカルバモイル基。例えば、カルバモイル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル基、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル基）；
アリール又はヘテロ環アゾ基（好ましくは炭素数６〜３０のアリールアゾ基、炭素数３〜３０のヘテロ環アゾ基。例えば、フェニルアゾ基、ｐ−クロロフェニルアゾ基、５−エチルチオ−１，３，４−チアジアゾール−２−イルアゾ基）；
イミド基（好ましくは、Ｎ−スクシンイミド基、Ｎ−フタルイミド基）；
ホスフィノ基（好ましくは、炭素数２〜３０のホスフィノ基。例えば、ジメチルホスフィノ基、ジフェニルホスフィノ基、メチルフェノキシホスフィノ基）
ホスフィニル基（好ましくは、炭素数２〜３０のホスフィニル基。例えば、ホスフィニル基、ジオクチルオキシホスフィニル基、ジエトキシホスフィニル基）；
ホスフィニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０のホスフィニルオキシ基。例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ基、ジオクチルオキシホスフィニルオキシ基）；
ホスフィニルアミノ基（好ましくは、炭素数２〜３０のホスフィニルアミノ基。例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ基、ジメチルアミノホスフィニルアミノ基）；
シリル基（好ましくは、炭素数３〜３０のシリル基。例えば、トリメチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、フェニルジメチルシリル基）が挙げられる。
上記で挙げた基のうち、水素原子を有する基については、１個以上の水素原子が上記の置換基Ｔで置換されていてもよい。そのような官能基の例としては、アルキルカルボニルアミノスルホニル基、アリールカルボニルアミノスルホニル基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基、アリールスルホニルアミノカルボニル基が挙げられる。具体例としては、メチルスルホニルアミノカルボニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノカルボニル基、アセチルアミノスルホニル基、ベンゾイルアミノスルホニル基などが挙げられる。
式（ＩＩ）で表される化合物の具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
（式（ＩＩＩ）で表される化合物）
式中、Ｒ３１は脂肪族基、芳香族基または複素環基を表し、ｍは正の整数を表す。
Ｒ３１が表わす脂肪族基、芳香族基または複素環基としては、上述したＲ２１およびＲ２２で説明したものが挙げられる。なかでも、Ｒ３１は脂肪族基または芳香族基であることが好ましく、芳香族基であることがより好ましく、式（ＩＶ）で表わされる化合物の収率および式（ＩＶ）で表わされる化合物の安定性の観点から、アリール基であることが更に好ましい。具体的には、Ｒ３１は、炭素数１〜１５の脂肪族基または炭素数６〜１５の芳香族基であることが好ましく、炭素数１〜１２の脂肪族基または炭素数６〜１２の芳香族基であることがより好ましく、炭素数１〜６のアルキル基または炭素数６〜１２のアリール基であることが更に好ましく、炭素数１〜４の直鎖アルキル基、フェニル基またはナフタレン−１，５−ジイル基であることがより一層好ましく、メチル基、フェニル基またはｐ−トリル基であることが特に好ましく、フェニル基またはｐ−トリル基であることが最も好ましい。
ｍは正の整数を表し、１〜３であることが好ましく、１または２であることがより好ましく、式（ＩＶ）で表わされる化合物の安定性の観点から、１であることが更に好ましい。
式（ＩＩＩ）で表される化合物の具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
（式（ＩＶ）で表される化合物）
式中、Ｒ２１、Ｒ２２およびＲ３１は各々独立に脂肪族基、芳香族基または複素環基を表し、ｍは正の整数を表し、ｑは正数を表し、Ｒ２１とＲ２２は互いに結合して環を形成していてもよい。
Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ３１、ｍについては、式（ＩＩ）のＲ２１、Ｒ２２、式（ＩＩＩ）のＲ３１、ｍと同義であり、好ましい範囲も同様である。式（ＩＶ）において、ｑは正数を表す。ｍとｑの積は、１〜３であることが好ましく、１．５〜２．５がより好ましく、１．８〜２．３が更に好ましく、２が特に好ましい。
式（ＩＶ）においてｍは１であることが好ましい。すなわち、式（ＩＶ）で表される化合物は、下記の式（Ｉ）で表される化合物であることが好ましい。式（Ｉ）で表される化合物は、熱分解温度が高く、安定性に優れている。また、式（Ｉ）で表される化合物を用いて、後述する式（ＶＩ）で表される化合物や式（ＶＩＩＩ）で表される化合物を製造することで、これらの化合物を高い収率で製造することができる。このため、これらの化合物の前駆体として好ましく用いることができる。式（Ｉ）で表される化合物は、本発明の化合物でもある。
式中、Ｒ２１、Ｒ２２およびＲ３２は各々独立に脂肪族基、芳香族基または複素環基を表し、ｐは正数を表し、Ｒ２１とＲ２２は互いに結合して環を形成していてもよい。Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ３２については、式（ＩＩ）のＲ２１、Ｒ２２、式（ＩＩＩ）のＲ３１と同義であり、好ましい範囲も同様である。式（Ｉ）において、ｐは正数を表し、１〜３が好ましく、１．５〜２．５がより好ましく、１．８〜２．３が更に好ましく、２が特に好ましい。式（Ｉ）で表される化合物の具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
式（ＩＶ）で表される化合物のうち、式（Ｉ）で表される化合物以外の化合物の具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
＜式（ＶＩ）で表わされる化合物の製造方法＞
次に、式（ＶＩ）で表わされる化合物の製造方法について説明する。
本発明における式（ＶＩ）で表わされる化合物の製造方法は、上述した方法により式（ＩＶ）で表わされる化合物を得たのち、式（ＩＶ）で表わされる化合物と式（Ｖ）で表わされる化合物とを反応させることを含む。
式中、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ３１、Ｒ５１およびＲ５２は各々独立に脂肪族基、芳香族基または複素環基を表し、ｍは正の整数を表し、ｑは正数を表し、Ｒ２１とＲ２２は互いに結合して環を形成していてもよい。
次に、式（ＶＩ）で表わされる化合物の製造方法について説明する。
本発明における式（ＶＩ）で表わされる化合物の製造方法は、上述した方法により式（ＩＶ）で表わされる化合物を得たのち、式（ＩＶ）で表わされる化合物と式（Ｖ）で表わされる化合物とを反応させることを含む。
式（ＶＩ）で表わされる化合物の製造方法において、式（ＩＩ）で表わされる化合物と、式（ＩＩＩ）で表わされる化合物との反応物から式（ＩＶ）で表わされる化合物を精製するなどして取り出したのち、式（Ｖ）で表わされる化合物と反応させて式（ＶＩ）で表わされる化合物を製造してもよく、前述の反応物から式（ＩＶ）で表わされる化合物を取り出すことなく前述の反応物と式（Ｖ）で表わされる化合物とを反応させることでも式（ＶＩ）で表わされる化合物を製造することができる。
式（ＩＶ）で表わされる化合物と式（Ｖ）で表わされる化合物との反応は、溶媒の存在下で行ってもよいし、溶媒を用いることなく反応を行ってもよい。また、前述の反応は、酸、塩基、塩、無機化合物などを添加して行ってもよい。
溶媒としては、アミド系溶媒（例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、１−メチルー２−ピロリドン）、スルホン系溶媒（例えばスルホラン）、スルホキシド系溶媒（例えばジメチルスルホキシド）、ウレイド系溶媒（例えばテトラメチルウレア）、アルコール系溶媒（例えばメタノール、オクタノール、ベンジルアルコール）、エーテル系溶媒（例えばジオキサン、アニソール、テトラヒドロフラン）、ケトン系溶媒（例えばアセトン、シクロヘキサノン）、炭化水素系溶媒（例えばトルエン、キシレン、メシチレン、ｎ−オクタン、ｎ−ドデカン）、ハロゲン系溶媒（例えばクロロベンセン、テトラクロロエタン、ジクロロベンゼン）、ピリジン系溶媒（例えばピリジン、γ―ピコリン、２，６−ルチジン）、ニトリル系溶媒（例えばアセトニトリル）および水を単独で或いは混合して用いることができる。また、式（ＩＶ）で表わされる化合物を溶媒として用いることもできる。これらの溶媒のうち好ましくはスルホン系溶媒、スルホキシド系溶媒、アルコール系溶媒、エーテル系溶媒、ケトン系溶媒、炭化水素系溶媒、ハロゲン系溶媒および水であり、より好ましくはスルホン系溶媒、エーテル系溶媒、ケトン系溶媒、炭化水素系溶媒、ハロゲン系溶媒および水であり、更に好ましくはエーテル系溶媒、炭化水素系溶媒、ハロゲン系溶媒であり、最も好ましくは炭化水素系溶媒である。
式（ＩＶ）で表わされる化合物と式（Ｖ）で表わされる化合物との反応温度は、０〜２５０℃が好ましい。下限は２０℃以上が好ましく、５０℃以上がより好ましく、９０℃以上が更に好ましい。上限は、２００℃以下が好ましく、１８０℃以下がより好ましく、１６０℃以下が更に好ましい。
式（ＩＶ）で表わされる化合物と、式（Ｖ）で表わされる化合物は、式（ＩＶ）で表される化合物のモル数に対する、式（Ｖ）で表される化合物のモル数の比が０．１以上となる割合で反応させることが好ましく、１．０以上となる割合で反応させることがより好ましく、１．５以上となる割合で反応させることが更に好ましく、１．６以上となる割合で反応させることがより一層好ましく、１．８以上となる割合で反応させることが特に好ましく、２．０以上となる割合で反応させることが最も好ましい。前述の比の上限は、２０．０以下であることが好ましく、１５．０以下であることがより好ましく、１０．０以下であることが更に好ましく、４．０以下であることがより一層好ましく、３．０以下であることが特に好ましく、２．６以下であることが最も好ましい。
次に、式（Ｖ）で表わされる化合物、式（ＶＩ）で表わされる化合物について説明する。
（式（Ｖ）で表わされる化合物）
式中、Ｒ５１およびＲ５２は各々独立に脂肪族基、芳香族基または複素環基を表す。
Ｒ５１およびＲ５２が表わす脂肪族基、芳香族基または複素環基としては、上述したＲ２１およびＲ２２で説明したものが挙げられる。
Ｒ５１およびＲ５２が表わす脂肪族基、芳香族基または複素環基としては、上述したＲ２１およびＲ２２で説明したものが挙げられる。
Ｒ５１は脂肪族基または芳香族基であることが好ましく、炭素数１〜３０の脂肪族基または炭素数６〜２０の芳香族基であることがより好ましく、炭素数１〜２０の脂肪族基または炭素数６〜２０の芳香族基であることが更に好ましく、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数７〜２０のアラルキル基、フェニル基またはナフチル基であることがより一層好ましく、炭素数１〜１５のアルキル基またはフェニル基であることが特に好ましく、炭素数１〜１０のアルキル基またはフェニル基であることが特に好ましい。これらの基は更に置換基を有していてもよい。置換基としては上述した置換基Ｔで説明した基が挙げられる。
Ｒ５２は脂肪族基または芳香族基であることが好ましく、炭素数１〜２０の脂肪族基または炭素数６〜２０の芳香族基であることがより好ましく、炭素数１〜１０の脂肪族基または炭素数６〜１０の芳香族基であることが更に好ましい。また、Ｒ５２は、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数７〜２０のアラルキル基、フェニル基またはナフチル基であることが好ましく、炭素数１〜１５のアルキル基またはフェニル基であることがより好ましく、炭素数１〜１０のアルキル基またはフェニル基であることが更に好ましく、炭素数１〜３のアルキル基またはフェニル基であることが最も好ましい。これらの基は更に置換基を有していてもよい。置換基としては上述した置換基Ｔで説明した基が挙げられる。
式（Ｖ）で表される化合物の具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
（式（ＶＩ）で表わされる化合物）
式中、Ｒ２１、Ｒ２２およびＲ５１は各々独立に脂肪族基、芳香族基または複素環基を表し、Ｒ２１とＲ２２は互いに結合して環を形成していてもよい。式（ＶＩ）におけるＲ２１およびＲ２２は、式（ＩＩ）におけるＲ２１およびＲ２２と同義であり、式（ＶＩ）におけるＲ５１は、式（Ｖ）におけるＲ５１と同義であり、好ましい範囲も同様である。式（ＶＩ）で表される化合物の具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
＜式（ＶＩＩＩ）で表わされる化合物の製造方法＞
次に、式（ＶＩＩＩ）で表わされる化合物の製造方法について説明する。
本発明における式（ＶＩＩＩ）で表わされる化合物の製造方法は、上述した方法により式（ＩＶ）で表わされる化合物を得たのち、式（ＩＶ）で表わされる化合物と式（ＶＩＩ）で表わされる化合物とを反応させることを含む。
式中、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ３１およびＲ７１は各々独立に脂肪族基、芳香族基または複素環基を表し、Ｌ７１は２価の連結基を表し、ｍは正の整数を表し、ｑは正数を表し、Ｒ２１とＲ２２は互いに結合して環を形成していてもよい。
次に、式（ＶＩＩＩ）で表わされる化合物の製造方法について説明する。
本発明における式（ＶＩＩＩ）で表わされる化合物の製造方法は、上述した方法により式（ＩＶ）で表わされる化合物を得たのち、式（ＩＶ）で表わされる化合物と式（ＶＩＩ）で表わされる化合物とを反応させることを含む。
式（ＶＩＩＩ）で表わされる化合物の製造方法において、式（ＩＩ）で表わされる化合物と、式（ＩＩＩ）で表わされる化合物との反応物から式（ＩＶ）で表わされる化合物を精製するなどして取り出したのち、式（ＶＩＩ）で表わされる化合物と反応させて式（ＶＩＩＩ）で表わされる化合物を製造してもよく、前述の反応物から式（ＩＶ）で表わされる化合物を取り出すことなく前述の反応物と式（ＶＩＩ）で表わされる化合物とを反応させることでも式（ＶＩＩＩ）で表わされる化合物を製造することができる。
式（ＩＶ）で表わされる化合物と式（ＶＩＩ）で表わされる化合物との反応は、溶媒の存在下で行ってもよいし、溶媒を用いることなく反応を行ってもよい。溶媒については、式（ＶＩ）で表わされる化合物の製造方法で説明したものが挙げられ、好ましい範囲も同様である。また、前述の反応は、酸、塩基、塩、無機化合物などを添加して行ってもよい。
式（ＩＶ）で表わされる化合物と式（ＶＩＩ）で表わされる化合物との反応温度は、０〜２５０℃が好ましい。下限は２０℃以上が好ましく、５０℃以上がより好ましく、９０℃以上が更に好ましい。上限は、２００℃以下が好ましく、１８０℃以下がより好ましく、１６０℃以下が更に好ましい。
式（ＩＶ）で表わされる化合物と、式（ＶＩＩ）で表わされる化合物は、式（ＩＶ）で表される化合物のモル数に対する、式（ＶＩＩ）で表される化合物のモル数の比が０．０５以上となる割合で反応させることが好ましく、０．５以上となる割合で反応させることがより好ましく、０．７５以上となる割合で反応させることが更に好ましく、０．８以上となる割合で反応させることがより一層好ましく、０．９以上となる割合で反応させることが特に好ましく、１．０以上となる割合で反応させることが最も好ましい。前述の比の上限は、１０．０以下であることが好ましく、７．５以下であることがより好ましく、５．０以下であることが更に好ましく、２．０以下であることがより一層好ましく、１．５以下であることが特に好ましく、１．３以下であることが最も好ましい。
次に、式（ＶＩＩ）で表わされる化合物、式（ＶＩＩＩ）で表わされる化合物について説明する。
（式（ＶＩＩ）で表わされる化合物）
式中、Ｒ７１は脂肪族基、芳香族基または複素環基を表し、Ｌ７１は２価の連結基を表す。
Ｒ７１が表わす脂肪族基、芳香族基または複素環基としては、上述したＲ２１およびＲ２２で説明したものが挙げられる。Ｒ７１は脂肪族基または芳香族基であることが好ましく、炭素数１〜２０の脂肪族基または炭素数６〜２０の芳香族基であることがより好ましく、炭素数１〜１０の脂肪族基または炭素数６〜１０の芳香族基であることが更に好ましい。また、Ｒ７１は炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数７〜２０のアラルキル基、フェニル基またはナフチル基であることが好ましく、炭素数１〜１５のアルキル基またはフェニル基であることがより好ましく、炭素数１〜１０のアルキル基またはフェニル基であることが更に好ましく、炭素数１〜３のアルキル基またはフェニル基であることが最も好ましい。これらの基は更に置換基を有していてもよい。置換基としては上述した置換基Ｔで説明した基が挙げられる。
Ｌ７１が表す２価の連結基としては、アルキレン基、アリーレン基、複素環基、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、またはこれらの基の組み合わせからなる基が好ましく、アルキレン基またはアリーレン基であることがより好ましく、炭素数１〜１０のアルキレン基または炭素数６〜１０のアリーレン基であることが更に好ましく、メチレン基、エチレン基またはｏ−フェニレン基であることが特に好ましく、メチレン基であることが最も好ましい。
式（ＶＩＩ）で表される化合物の具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
（式（ＶＩＩＩ）で表わされる化合物）
式中、Ｒ２１およびＲ２２は各々独立に脂肪族基、芳香族基または複素環基を表し、Ｌ７１は２価の連結基を表し、Ｒ２１とＲ２２は互いに結合して環を形成していてもよい。
式（ＶＩＩＩ）におけるＲ２１およびＲ２２は、式（ＩＩ）のＲ２１およびＲ２２と同義であり、式（ＶＩＩＩ）におけるＬ７１は、式（ＶＩＩ）におけるＬ７１と同義であり、それぞれ好ましい範囲も同様である。式（ＶＩＩＩ）で表される化合物の具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
式（ＶＩＩＩ）におけるＲ２１およびＲ２２は、式（ＩＩ）のＲ２１およびＲ２２と同義であり、式（ＶＩＩＩ）におけるＬ７１は、式（ＶＩＩ）におけるＬ７１と同義であり、それぞれ好ましい範囲も同様である。式（ＶＩＩＩ）で表される化合物の具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
＜化合物＞
次に、本発明の化合物について説明する。
本発明の化合物は、上述した式（Ｉ）で表される化合物である。
本発明の化合物は、熱分解温度が高く、安定性に優れている。本発明の化合物は、色素、医薬、農薬などの原料として好ましく用いることができる。また、本発明の化合物は、上述した式（ＶＩ）で表される化合物や式（ＶＩＩＩ）で表される化合物を製造するための原料として好ましく用いることができる。すなわち、本発明の化合物は、前述の化合物の前駆体として好ましく用いることができる。
次に、本発明の化合物について説明する。
本発明の化合物は、上述した式（Ｉ）で表される化合物である。
本発明の化合物は、熱分解温度が高く、安定性に優れている。本発明の化合物は、色素、医薬、農薬などの原料として好ましく用いることができる。また、本発明の化合物は、上述した式（ＶＩ）で表される化合物や式（ＶＩＩＩ）で表される化合物を製造するための原料として好ましく用いることができる。すなわち、本発明の化合物は、前述の化合物の前駆体として好ましく用いることができる。
本発明の化合物は、示差走査熱量分析における発熱開始温度が１５０℃以上であることが好ましく、１８０℃以上であることがより好ましく、２００℃以上であることが更に好ましい。発熱開始温度の上限は特に限定はない。高いほど安定性に優れるので好ましい。例えば、上限は３８０℃以下とすることができる。なお、示差走査熱量分析における発熱開始温度とは、室温（２５℃）の状態から昇温速度１０℃／分の条件で昇温して現れる発熱ピークの接線とベースラインの交点の温度のことである。
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」、「％」は、質量基準である。
＜製造例１＞（実施例１）
以下のスキームに従い化合物（ＶＩＩＩ−１）を合成した。
以下のスキームに従い化合物（ＶＩＩＩ−１）を合成した。
３口フラスコに化合物（１）（ヒドラジン１水和物）の６２．６ｇ、イソプロピルアルコールの１０９ｍL、ギ酸１２５．４ｇを入れ、加熱還流下にて３時間攪拌した。その後、フラスコを水冷し、１５℃にて１時間攪拌した後、析出した結晶を濾過して、乾燥して、化合物（２）の８４．７ｇを得た（収率９６％）。
次に、３口フラスコに化合物（２）の６９．９ｇ、炭酸カリウム３３２．０ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１０５ｍＬ、アセトニトリル２５３ｍＬを入れ、加熱還流下にてｎ−ブロモブタン２６０．６ｇを滴下した。滴下後、そのまま３時間加熱還流した後、冷却し、酢酸エチル７７６ｍＬと水７７７ｍＬを添加して攪拌し、抽出を行った。得られた酢酸エチル相を食塩１１．６ｇと水８１７ｍＬを混合して調製した食塩水にて３回洗浄した後、ロータリーエバポレーターで濃縮し、化合物（ＩＩ−１）の１５２．７ｇを得た（収率９６％）。
次に、３口フラスコに化合物（ＩＩ−１）の１００．１ｇ、ｐ−トルエンスルホン酸１水和物の１９０．２ｇ、メタノール２３０ｍＬを入れて４０℃にて２時間、加熱攪拌した。ついで、ロータリーエバポレーターで濃縮した後、酢酸エチル５００ｍＬを添加して結晶を分散させた後、濾過、乾燥して、化合物（Ｉ−１）の２４４．３ｇを得た（収率１００％）。ヒドラジン１水和物から、化合物（Ｉ−１）までの総収率は９２％であった。
次に、３口フラスコにディーンシュタークコンデンサーを付けて、化合物（Ｉ−１）の４８．９ｇ、キシレン４８９ｍＬ、マロン酸ジメチル２６．４ｇを入れ、ディーンシュタークコンデンサーに溜まった、水などを含む蒸留物を抜きながら、加熱還流下にて６時間攪拌した。途中、抜き取った蒸留物と等量のキシレンを継ぎ足した。その後、反応混合物を１２０℃まで冷却し、水２４０ｍＬを滴下した後、加熱還流下にて１時間攪拌した。このものを室温まで冷却し、水２４０ｍＬを追加して、抽出し、得られた水相を水酸化ナトリウム水溶液で中和した後、トルエン２４０ｍＬにて抽出した。得られたトルエン相と先の抽出で得られたキシレン相を併せて、０．０２ｍｏｌ／Ｌの塩酸２４０ｍＬで洗浄し、次いで、炭酸水素ナトリウム４．２ｇと食塩７６ｇを水４４０ｍＬに溶解した水溶液で洗浄し、次いで食塩７６ｇを水４４０ｍＬに溶解した水溶液にて洗浄した。その後、ロータリーエバポレーターにて濃縮し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、化合物（ＶＩＩＩ−１）の２０．５ｇを得た（収率９６％）。ヒドラジン１水和物から、化合物（ＶＩＩＩ−１）までの総収率は８８％であった。
次に、３口フラスコに化合物（２）の６９．９ｇ、炭酸カリウム３３２．０ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１０５ｍＬ、アセトニトリル２５３ｍＬを入れ、加熱還流下にてｎ−ブロモブタン２６０．６ｇを滴下した。滴下後、そのまま３時間加熱還流した後、冷却し、酢酸エチル７７６ｍＬと水７７７ｍＬを添加して攪拌し、抽出を行った。得られた酢酸エチル相を食塩１１．６ｇと水８１７ｍＬを混合して調製した食塩水にて３回洗浄した後、ロータリーエバポレーターで濃縮し、化合物（ＩＩ−１）の１５２．７ｇを得た（収率９６％）。
次に、３口フラスコに化合物（ＩＩ−１）の１００．１ｇ、ｐ−トルエンスルホン酸１水和物の１９０．２ｇ、メタノール２３０ｍＬを入れて４０℃にて２時間、加熱攪拌した。ついで、ロータリーエバポレーターで濃縮した後、酢酸エチル５００ｍＬを添加して結晶を分散させた後、濾過、乾燥して、化合物（Ｉ−１）の２４４．３ｇを得た（収率１００％）。ヒドラジン１水和物から、化合物（Ｉ−１）までの総収率は９２％であった。
次に、３口フラスコにディーンシュタークコンデンサーを付けて、化合物（Ｉ−１）の４８．９ｇ、キシレン４８９ｍＬ、マロン酸ジメチル２６．４ｇを入れ、ディーンシュタークコンデンサーに溜まった、水などを含む蒸留物を抜きながら、加熱還流下にて６時間攪拌した。途中、抜き取った蒸留物と等量のキシレンを継ぎ足した。その後、反応混合物を１２０℃まで冷却し、水２４０ｍＬを滴下した後、加熱還流下にて１時間攪拌した。このものを室温まで冷却し、水２４０ｍＬを追加して、抽出し、得られた水相を水酸化ナトリウム水溶液で中和した後、トルエン２４０ｍＬにて抽出した。得られたトルエン相と先の抽出で得られたキシレン相を併せて、０．０２ｍｏｌ／Ｌの塩酸２４０ｍＬで洗浄し、次いで、炭酸水素ナトリウム４．２ｇと食塩７６ｇを水４４０ｍＬに溶解した水溶液で洗浄し、次いで食塩７６ｇを水４４０ｍＬに溶解した水溶液にて洗浄した。その後、ロータリーエバポレーターにて濃縮し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、化合物（ＶＩＩＩ−１）の２０．５ｇを得た（収率９６％）。ヒドラジン１水和物から、化合物（ＶＩＩＩ−１）までの総収率は８８％であった。
＜製造例２＞ （化合物（Ｉ−１）を取出さない化合物（ＶＩＩＩ−１）の合成）
製造例１と同様の方法で化合物（ＩＩ−１）を合成した。
次に、３口フラスコにディーンシュタークコンデンサーを付けて、化合物（ＩＩ−１）の２０．０ｇ、ｐ−トルエンスルホン酸１水和物の３８．０ｇ、メタノール５０ｍＬを入れて４０℃にて２時間、加熱攪拌した。ここへキシレン４８９ｍＬを添加して、外温を上げ、留出物を除きながら、内温１３５℃まで加熱した。さらにここへキシレン３００ｍＬ、マロン酸ジメチル２６．４ｇを入れ、ディーンシュタークコンデンサーに溜まった、水などを含む蒸留物を抜きながら、加熱還流下にて６時間攪拌した。途中、抜き取った蒸留物と等量のキシレンを継ぎ足した。その後、反応混合物を１２０℃まで冷却し、水２４０ｍＬを滴下した後、加熱還流下にて１時間攪拌した。このものを室温まで冷却し、水２４０ｍＬを追加して、抽出し、得られた水相を水酸化ナトリウム水溶液で中和した後、トルエン２４０ｍＬにて抽出した。得られたトルエン相と先の抽出で得られたキシレン相を併せて、０．０２ｍｏｌ／Ｌの塩酸２４０ｍＬで洗浄し、次いで炭酸水素ナトリウム４．２ｇと食塩７６ｇを水４４０ｍＬに溶解した水溶液で洗浄し、次いで、食塩７６ｇを水４４０ｍＬに溶解した水溶液にて洗浄した。その後、ロータリーエバポレーターにて濃縮し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、化合物（ＶＩＩＩ−１）の２０．２ｇを得た（収率９５％）。ヒドラジン１水和物から、化合物（ＶＩＩＩ−１）までの総収率は８８％であった。
製造例１と同様の方法で化合物（ＩＩ−１）を合成した。
次に、３口フラスコにディーンシュタークコンデンサーを付けて、化合物（ＩＩ−１）の２０．０ｇ、ｐ−トルエンスルホン酸１水和物の３８．０ｇ、メタノール５０ｍＬを入れて４０℃にて２時間、加熱攪拌した。ここへキシレン４８９ｍＬを添加して、外温を上げ、留出物を除きながら、内温１３５℃まで加熱した。さらにここへキシレン３００ｍＬ、マロン酸ジメチル２６．４ｇを入れ、ディーンシュタークコンデンサーに溜まった、水などを含む蒸留物を抜きながら、加熱還流下にて６時間攪拌した。途中、抜き取った蒸留物と等量のキシレンを継ぎ足した。その後、反応混合物を１２０℃まで冷却し、水２４０ｍＬを滴下した後、加熱還流下にて１時間攪拌した。このものを室温まで冷却し、水２４０ｍＬを追加して、抽出し、得られた水相を水酸化ナトリウム水溶液で中和した後、トルエン２４０ｍＬにて抽出した。得られたトルエン相と先の抽出で得られたキシレン相を併せて、０．０２ｍｏｌ／Ｌの塩酸２４０ｍＬで洗浄し、次いで炭酸水素ナトリウム４．２ｇと食塩７６ｇを水４４０ｍＬに溶解した水溶液で洗浄し、次いで、食塩７６ｇを水４４０ｍＬに溶解した水溶液にて洗浄した。その後、ロータリーエバポレーターにて濃縮し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、化合物（ＶＩＩＩ−１）の２０．２ｇを得た（収率９５％）。ヒドラジン１水和物から、化合物（ＶＩＩＩ−１）までの総収率は８８％であった。
＜製造例３＞
以下のスキームに従い化合物（ＶＩＩＩ−１）を合成した。
以下のスキームに従い化合物（ＶＩＩＩ−１）を合成した。
製造例１と同様の方法で化合物（ＩＩ−１）を合成した。
次に、３口フラスコに化合物（ＩＩ−１）の１００．１ｇ、ナフタレン−１，５−ジスルホン酸４水和物の１８０ｇ、メタノール２３０ｍＬを入れて４０℃にて２時間、加熱攪拌した。このものをロータリーエバポレーターで濃縮した後、酢酸エチル５００ｍＬを添加して結晶を分散させた後、濾過、乾燥して、化合物（ＩＶ−２１）の１９０．３ｇを得た（収率８８％）。ヒドラジン１水和物から、化合物（ＩＶ−２１）までの総収率は８１％であった。
次に、３口フラスコにディーンシュタークコンデンサーを付けて、化合物（ＩＶ−２１）の４３．３ｇ、キシレン４３３ｍＬ、マロン酸ジメチル２６．４ｇを入れ、ディーンシュタークコンデンサーに溜まった、水などを含む蒸留物を抜きながら、加熱還流下にて６時間攪拌した。途中、抜き取った蒸留物と等量のキシレンを継ぎ足した。その後、反応混合物を１２０℃まで冷却し、水２４０ｍＬを滴下した後、加熱還流下にて１時間攪拌した。このものを室温まで冷却し、水２４０ｍＬを追加して、抽出し、得られた水相を水酸化ナトリウム水溶液で中和した後、トルエン２４０ｍＬにて抽出した。得られたトルエン相と先の抽出で得られたキシレン相を併せて、０．０２ｍｏｌ／Ｌの塩酸２４０ｍＬで洗浄し、次いで、炭酸水素ナトリウム４．２ｇと食塩７６ｇを水４４０ｍＬに溶解した水溶液で洗浄し、次いで食塩７６ｇを水４４０ｍＬに溶解した水溶液にて洗浄した。その後、ロータリーエバポレーターにて濃縮し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、化合物（ＶＩＩＩ−１）の１７．２ｇを得た（収率８１％）。ヒドラジン１水和物から、化合物（ＶＩＩＩ−１）までの総収率は６６％であった。
次に、３口フラスコに化合物（ＩＩ−１）の１００．１ｇ、ナフタレン−１，５−ジスルホン酸４水和物の１８０ｇ、メタノール２３０ｍＬを入れて４０℃にて２時間、加熱攪拌した。このものをロータリーエバポレーターで濃縮した後、酢酸エチル５００ｍＬを添加して結晶を分散させた後、濾過、乾燥して、化合物（ＩＶ−２１）の１９０．３ｇを得た（収率８８％）。ヒドラジン１水和物から、化合物（ＩＶ−２１）までの総収率は８１％であった。
次に、３口フラスコにディーンシュタークコンデンサーを付けて、化合物（ＩＶ−２１）の４３．３ｇ、キシレン４３３ｍＬ、マロン酸ジメチル２６．４ｇを入れ、ディーンシュタークコンデンサーに溜まった、水などを含む蒸留物を抜きながら、加熱還流下にて６時間攪拌した。途中、抜き取った蒸留物と等量のキシレンを継ぎ足した。その後、反応混合物を１２０℃まで冷却し、水２４０ｍＬを滴下した後、加熱還流下にて１時間攪拌した。このものを室温まで冷却し、水２４０ｍＬを追加して、抽出し、得られた水相を水酸化ナトリウム水溶液で中和した後、トルエン２４０ｍＬにて抽出した。得られたトルエン相と先の抽出で得られたキシレン相を併せて、０．０２ｍｏｌ／Ｌの塩酸２４０ｍＬで洗浄し、次いで、炭酸水素ナトリウム４．２ｇと食塩７６ｇを水４４０ｍＬに溶解した水溶液で洗浄し、次いで食塩７６ｇを水４４０ｍＬに溶解した水溶液にて洗浄した。その後、ロータリーエバポレーターにて濃縮し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、化合物（ＶＩＩＩ−１）の１７．２ｇを得た（収率８１％）。ヒドラジン１水和物から、化合物（ＶＩＩＩ−１）までの総収率は６６％であった。
＜製造例４＞
以下のスキームに従い化合物（ＶＩＩＩ−１８）を合成した。
以下のスキームに従い化合物（ＶＩＩＩ−１８）を合成した。
製造例１と同様の方法で化合物（２）を合成した。
次いで、３口フラスコに化合物（２）の８８．０７ｇ、炭酸カリウム４１４．６ｇ、Ｎ−メチルピロリドン６００ｍＬを入れ、内温８０℃にてｎ−オクチルブロミド４６３．５ｇを滴下した。滴下後、そのまま４時間加熱攪拌した後、冷却し、酢酸エチル１０００ｍＬと水１０００ｍＬを添加して攪拌し、抽出を行った。得られた酢酸エチル相を水１０００ｍＬと食塩２０．０ｇからなる水溶液にて３回洗浄した後、ロータリーエバポレーターで濃縮して、化合物（ＩＩ−２０）の３０６．３ｇを得た（収率９８％）。
次に、３ツ口フラスコに化合物（ＩＩ−２０）の１５６．３ｇ、ｐ−トルエンスルホン酸１水和物の１９０．２ｇ、メタノール５００ｍＬを入れて５０℃で３時間加熱攪拌した。このものをロータリーエバポレーターで濃縮した後、アセトニトリル１０００ｍＬを添加して結晶を分散させた後、濾過、乾燥して、化合物（Ｉ−１２）の２９７．５ｇを得た（収率９９％）。ヒドラジン１水和物から、化合物（Ｉ−１２）までの総収率は９３％であった。
次に、３口フラスコにディーンシュタークコンデンサーを付けて、化合物（Ｉ−１２）の６０．１ｇ、キシレン５００ｍＬ、マロン酸ジエチル３２．０ｇを入れ、ディーンシュタークコンデンサーに溜まった、水などを含む蒸留物を抜きながら、加熱還流下にて８時間攪拌した。途中、抜き取った蒸留物と等量のキシレンを継ぎ足した。その後、反応混合物を９０℃まで冷却し、水２００ｍＬを滴下した後、内温９０〜１００℃にて１時間攪拌した。このものを室温まで冷却し、水３００ｍＬを追加して、抽出し、得られた水相を水酸化ナトリウム水溶液で中和した後、トルエン３００ｍＬにて抽出した。得られたトルエン相と先の抽出で得られたキシレン相を併せて、０．０２ｍｏｌ／Ｌの塩酸５００ｍＬで洗浄し、次いで炭酸水素ナトリウム７．０ｇと食塩１００ｇを水７００ｍＬに溶解した水溶液で洗浄し、次いで食塩１００ｇを水７００ｍＬに溶解した水溶液にて洗浄した。その後、ロータリーエバポレーターにて濃縮し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、化合物（ＶＩＩＩ―１８）の３１．８ｇを得た（収率９８％）。ヒドラジン１水和物から、化合物（ＶＩＩＩ−１８）までの総収率は９１％であった。
次いで、３口フラスコに化合物（２）の８８．０７ｇ、炭酸カリウム４１４．６ｇ、Ｎ−メチルピロリドン６００ｍＬを入れ、内温８０℃にてｎ−オクチルブロミド４６３．５ｇを滴下した。滴下後、そのまま４時間加熱攪拌した後、冷却し、酢酸エチル１０００ｍＬと水１０００ｍＬを添加して攪拌し、抽出を行った。得られた酢酸エチル相を水１０００ｍＬと食塩２０．０ｇからなる水溶液にて３回洗浄した後、ロータリーエバポレーターで濃縮して、化合物（ＩＩ−２０）の３０６．３ｇを得た（収率９８％）。
次に、３ツ口フラスコに化合物（ＩＩ−２０）の１５６．３ｇ、ｐ−トルエンスルホン酸１水和物の１９０．２ｇ、メタノール５００ｍＬを入れて５０℃で３時間加熱攪拌した。このものをロータリーエバポレーターで濃縮した後、アセトニトリル１０００ｍＬを添加して結晶を分散させた後、濾過、乾燥して、化合物（Ｉ−１２）の２９７．５ｇを得た（収率９９％）。ヒドラジン１水和物から、化合物（Ｉ−１２）までの総収率は９３％であった。
次に、３口フラスコにディーンシュタークコンデンサーを付けて、化合物（Ｉ−１２）の６０．１ｇ、キシレン５００ｍＬ、マロン酸ジエチル３２．０ｇを入れ、ディーンシュタークコンデンサーに溜まった、水などを含む蒸留物を抜きながら、加熱還流下にて８時間攪拌した。途中、抜き取った蒸留物と等量のキシレンを継ぎ足した。その後、反応混合物を９０℃まで冷却し、水２００ｍＬを滴下した後、内温９０〜１００℃にて１時間攪拌した。このものを室温まで冷却し、水３００ｍＬを追加して、抽出し、得られた水相を水酸化ナトリウム水溶液で中和した後、トルエン３００ｍＬにて抽出した。得られたトルエン相と先の抽出で得られたキシレン相を併せて、０．０２ｍｏｌ／Ｌの塩酸５００ｍＬで洗浄し、次いで炭酸水素ナトリウム７．０ｇと食塩１００ｇを水７００ｍＬに溶解した水溶液で洗浄し、次いで食塩１００ｇを水７００ｍＬに溶解した水溶液にて洗浄した。その後、ロータリーエバポレーターにて濃縮し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、化合物（ＶＩＩＩ―１８）の３１．８ｇを得た（収率９８％）。ヒドラジン１水和物から、化合物（ＶＩＩＩ−１８）までの総収率は９１％であった。
＜製造例５＞
以下のスキームに従い化合物（ＶＩＩＩ−１８）を合成した。
以下のスキームに従い化合物（ＶＩＩＩ−１８）を合成した。
製造例４と同様の方法で化合物（ＩＩ−２０）を合成した。
３口フラスコに化合物（ＩＩ−２０）の１５６．３ｇ、ナフタレン−１，５−ジスルホン酸４水和物の１８０．０ｇ、メタノール５００ｍＬを入れて５０℃で３時間加熱攪拌した。このものをロータリーエバポレーターで濃縮した後、アセトニトリル１０００ｍＬを添加して結晶を分散させた後、濾過、乾燥して、化合物（ＩＶ−２２）の２３７．０ｇを得た（収率８７％）。ヒドラジン１水和物から、化合物（ＩＶ−２２）までの総収率は８２％であった。
次に、３口フラスコにディーンシュタークコンデンサーを付けて、化合物（ＩＶ−２２）の５４．５ｇ、キシレン５００ｍＬ、マロン酸ジエチル３２．０ｇを入れ、ディーンシュタークコンデンサーに溜まった、水などを含む蒸留物を抜きながら、加熱還流下にて８時間攪拌した。途中、抜き取った蒸留物と等量のキシレンを継ぎ足した。その後、反応混合物を９０℃まで冷却し、水２００ｍＬを滴下した後、内温９０〜１００℃にて１時間攪拌した。このものを室温まで冷却し、水３００ｍＬを追加して、抽出し、得られた水相を水酸化ナトリウム水溶液で中和した後、トルエン３００ｍＬにて抽出した。得られたトルエン相と先の抽出で得られたキシレン相を併せて、０．０２ｍｏｌ／Ｌの塩酸５００ｍＬで洗浄し、次いで炭酸水素ナトリウム７．０ｇと食塩１００ｇを水７００ｍＬに溶解した水溶液で洗浄し、次いで、食塩１００ｇを水７００ｍＬに溶解した水溶液にて洗浄した。その後、ロータリーエバポレーターにて濃縮し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、化合物（ＶＩＩＩ−１８）の２６．７ｇを得た（収率８２％）。ヒドラジン１水和物から、化合物（ＶＩＩＩ−１８）までの総収率は６７％であった。
３口フラスコに化合物（ＩＩ−２０）の１５６．３ｇ、ナフタレン−１，５−ジスルホン酸４水和物の１８０．０ｇ、メタノール５００ｍＬを入れて５０℃で３時間加熱攪拌した。このものをロータリーエバポレーターで濃縮した後、アセトニトリル１０００ｍＬを添加して結晶を分散させた後、濾過、乾燥して、化合物（ＩＶ−２２）の２３７．０ｇを得た（収率８７％）。ヒドラジン１水和物から、化合物（ＩＶ−２２）までの総収率は８２％であった。
次に、３口フラスコにディーンシュタークコンデンサーを付けて、化合物（ＩＶ−２２）の５４．５ｇ、キシレン５００ｍＬ、マロン酸ジエチル３２．０ｇを入れ、ディーンシュタークコンデンサーに溜まった、水などを含む蒸留物を抜きながら、加熱還流下にて８時間攪拌した。途中、抜き取った蒸留物と等量のキシレンを継ぎ足した。その後、反応混合物を９０℃まで冷却し、水２００ｍＬを滴下した後、内温９０〜１００℃にて１時間攪拌した。このものを室温まで冷却し、水３００ｍＬを追加して、抽出し、得られた水相を水酸化ナトリウム水溶液で中和した後、トルエン３００ｍＬにて抽出した。得られたトルエン相と先の抽出で得られたキシレン相を併せて、０．０２ｍｏｌ／Ｌの塩酸５００ｍＬで洗浄し、次いで炭酸水素ナトリウム７．０ｇと食塩１００ｇを水７００ｍＬに溶解した水溶液で洗浄し、次いで、食塩１００ｇを水７００ｍＬに溶解した水溶液にて洗浄した。その後、ロータリーエバポレーターにて濃縮し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、化合物（ＶＩＩＩ−１８）の２６．７ｇを得た（収率８２％）。ヒドラジン１水和物から、化合物（ＶＩＩＩ−１８）までの総収率は６７％であった。
＜製造例６＞
以下のスキームに従い化合物（ＶＩＩＩ−９）を合成した。
以下のスキームに従い化合物（ＶＩＩＩ−９）を合成した。
製造例１と同様の方法で化合物（２）を合成した。
次いで、３口フラスコに化合物（２）の８８．０７ｇ、炭酸カリウム４１４．６ｇ、Ｎ−メチルピロリドン６００ｍＬを入れ、内温８０℃にてｎ−ヘキシルブロミド４１２．９ｇを滴下した。滴下後、そのまま４時間加熱攪拌した後、冷却し、酢酸エチル１０００ｍＬと水１０００ｍＬを添加して攪拌し、抽出を行った。得られた酢酸エチル相を水１０００ｍＬと食塩２０．０ｇからなる水溶液にて３回洗浄した後、ロータリーエバポレーターで濃縮して、化合物（ＩＩ−５）の２５３．９ｇを得た（収率９９％）。
次に、３口フラスコに化合物（ＩＩ−５）の１２８．２ｇ、ｐ−トルエンスルホン酸１水和物の１９０．２ｇ、メタノール５００ｍＬを入れて４５℃で３時間加熱攪拌した。このものをロータリーエバポレーターで濃縮した後、酢酸エチル１０００ｍＬを添加して結晶を分散させた後、濾過、乾燥して、化合物（Ｉ−４）２６９．８ｇを得た（収率９９％）。ヒドラジン１水和物から、化合物（Ｉ−４）までの総収率は９４％であった。
次に、３口フラスコにディーンシュタークコンデンサーを付けて、化合物（Ｉ−４）の５４．５ｇ、キシレン５００ｍＬ、マロン酸ジメチル２６．４ｇを入れ、ディーンシュタークコンデンサーに溜まった、水などを含む蒸留物を抜きながら、加熱還流下にて８時間攪拌した。途中、抜き取った蒸留物と等量のキシレンを継ぎ足した。その後、反応混合物を９０℃まで冷却し、水２００ｍＬを滴下した後、内温９０〜１００℃にて１時間攪拌した。このものを室温まで冷却し、水３００ｍＬを追加して、抽出し、得られた水相を水酸化ナトリウム水溶液で中和した後、トルエン３００ｍＬにて抽出した。得られたトルエン相と先の抽出で得られたキシレン相を併せて、０．０２ｍｏｌ／Ｌの塩酸５００ｍＬで洗浄し、次いで炭酸水素ナトリウム７．０ｇと食塩１００ｇを水７００ｍＬに溶解した水溶液で洗浄し、次いで食塩１００ｇを水７００ｍＬに溶解した水溶液にて洗浄した。その後、ロータリーエバポレーターにて濃縮し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、化合物（ＶＩＩＩ−９）の２６．０ｇを得た（収率９７％）。ヒドラジン１水和物から、化合物（ＶＩＩＩ−９）までの総収率は９１％であった。
次いで、３口フラスコに化合物（２）の８８．０７ｇ、炭酸カリウム４１４．６ｇ、Ｎ−メチルピロリドン６００ｍＬを入れ、内温８０℃にてｎ−ヘキシルブロミド４１２．９ｇを滴下した。滴下後、そのまま４時間加熱攪拌した後、冷却し、酢酸エチル１０００ｍＬと水１０００ｍＬを添加して攪拌し、抽出を行った。得られた酢酸エチル相を水１０００ｍＬと食塩２０．０ｇからなる水溶液にて３回洗浄した後、ロータリーエバポレーターで濃縮して、化合物（ＩＩ−５）の２５３．９ｇを得た（収率９９％）。
次に、３口フラスコに化合物（ＩＩ−５）の１２８．２ｇ、ｐ−トルエンスルホン酸１水和物の１９０．２ｇ、メタノール５００ｍＬを入れて４５℃で３時間加熱攪拌した。このものをロータリーエバポレーターで濃縮した後、酢酸エチル１０００ｍＬを添加して結晶を分散させた後、濾過、乾燥して、化合物（Ｉ−４）２６９．８ｇを得た（収率９９％）。ヒドラジン１水和物から、化合物（Ｉ−４）までの総収率は９４％であった。
次に、３口フラスコにディーンシュタークコンデンサーを付けて、化合物（Ｉ−４）の５４．５ｇ、キシレン５００ｍＬ、マロン酸ジメチル２６．４ｇを入れ、ディーンシュタークコンデンサーに溜まった、水などを含む蒸留物を抜きながら、加熱還流下にて８時間攪拌した。途中、抜き取った蒸留物と等量のキシレンを継ぎ足した。その後、反応混合物を９０℃まで冷却し、水２００ｍＬを滴下した後、内温９０〜１００℃にて１時間攪拌した。このものを室温まで冷却し、水３００ｍＬを追加して、抽出し、得られた水相を水酸化ナトリウム水溶液で中和した後、トルエン３００ｍＬにて抽出した。得られたトルエン相と先の抽出で得られたキシレン相を併せて、０．０２ｍｏｌ／Ｌの塩酸５００ｍＬで洗浄し、次いで炭酸水素ナトリウム７．０ｇと食塩１００ｇを水７００ｍＬに溶解した水溶液で洗浄し、次いで食塩１００ｇを水７００ｍＬに溶解した水溶液にて洗浄した。その後、ロータリーエバポレーターにて濃縮し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、化合物（ＶＩＩＩ−９）の２６．０ｇを得た（収率９７％）。ヒドラジン１水和物から、化合物（ＶＩＩＩ−９）までの総収率は９１％であった。
＜製造例７＞
以下のスキームに従い化合物（ＶＩＩＩ−９）を合成した。
以下のスキームに従い化合物（ＶＩＩＩ−９）を合成した。
製造例６と同様の方法で化合物（ＩＩ−５）を合成した。
次いで、３口フラスコに化合物（ＩＩ―５）１２８．２ｇ、ナフタレンジスルホン酸４水和物１８０ｇ、メタノール５００ｍＬを入れて４５℃で３時間加熱攪拌した。このものをロータリーエバポレーターで濃縮した後、酢酸エチル１０００ｍＬを添加して結晶を分散させた後、濾過、乾燥して、化合物（ＩＶ−２３）の２１７．５ｇを得た（収率８９％）。ヒドラジン１水和物から、化合物（ＩＶ−２３）までの総収率は８５％であった。
次いで、３口フラスコにディーンシュタークコンデンサーを付けて、化合物（ＩＶ−２３）の４８．９ｇ、キシレン５００ｍＬ、マロン酸ジメチル２６．４ｇを入れ、ディーンシュタークコンデンサーに溜まった、水などを含む蒸留物を抜きながら、加熱還流下にて８時間攪拌した。途中、抜き取った蒸留物と等量のキシレンを継ぎ足した。その後、反応混合物を９０℃まで冷却し、水２００ｍＬを滴下した後、内温９０〜１００℃にて１時間攪拌した。このものを室温まで冷却し、水３００ｍＬを追加して、抽出し、得られた水相を水酸化ナトリウム水溶液で中和した後、トルエン３００ｍＬにて抽出した。得られたトルエン相と先の抽出で得られたキシレン相を併せて、０．０２ｍｏｌ／Ｌの塩酸５００ｍＬで洗浄し、ついで、炭酸水素ナトリウム７．０ｇと食塩１００ｇを水７００ｍＬに溶解した水溶液で洗浄し、ついで、食塩１００ｇを水７００ｍＬに溶解した水溶液にて洗浄した。その後、ロータリーエバポレーターにて濃縮し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、化合物（ＶＩＩＩ−９）の２１．７ｇを得た（収率８１％）。ヒドラジン１水和物から、化合物（ＶＩＩＩ−９）までの総収率は６９％であった。
次いで、３口フラスコに化合物（ＩＩ―５）１２８．２ｇ、ナフタレンジスルホン酸４水和物１８０ｇ、メタノール５００ｍＬを入れて４５℃で３時間加熱攪拌した。このものをロータリーエバポレーターで濃縮した後、酢酸エチル１０００ｍＬを添加して結晶を分散させた後、濾過、乾燥して、化合物（ＩＶ−２３）の２１７．５ｇを得た（収率８９％）。ヒドラジン１水和物から、化合物（ＩＶ−２３）までの総収率は８５％であった。
次いで、３口フラスコにディーンシュタークコンデンサーを付けて、化合物（ＩＶ−２３）の４８．９ｇ、キシレン５００ｍＬ、マロン酸ジメチル２６．４ｇを入れ、ディーンシュタークコンデンサーに溜まった、水などを含む蒸留物を抜きながら、加熱還流下にて８時間攪拌した。途中、抜き取った蒸留物と等量のキシレンを継ぎ足した。その後、反応混合物を９０℃まで冷却し、水２００ｍＬを滴下した後、内温９０〜１００℃にて１時間攪拌した。このものを室温まで冷却し、水３００ｍＬを追加して、抽出し、得られた水相を水酸化ナトリウム水溶液で中和した後、トルエン３００ｍＬにて抽出した。得られたトルエン相と先の抽出で得られたキシレン相を併せて、０．０２ｍｏｌ／Ｌの塩酸５００ｍＬで洗浄し、ついで、炭酸水素ナトリウム７．０ｇと食塩１００ｇを水７００ｍＬに溶解した水溶液で洗浄し、ついで、食塩１００ｇを水７００ｍＬに溶解した水溶液にて洗浄した。その後、ロータリーエバポレーターにて濃縮し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、化合物（ＶＩＩＩ−９）の２１．７ｇを得た（収率８１％）。ヒドラジン１水和物から、化合物（ＶＩＩＩ−９）までの総収率は６９％であった。
＜製造例８＞
以下のスキームに従い化合物（ＶＩＩＩ−２）を合成した。
以下のスキームに従い化合物（ＶＩＩＩ−２）を合成した。
製造例１と同様の方法で化合物（２）を合成した。
次いで、３口フラスコに化合物（２）の８８．０７ｇ、炭酸カリウム４１４．６ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１３３ｍＬとアセトニトリル３１７ｍＬを入れ、加熱還流下にて２−エチルヘキシルブロミド４６３．５ｇを滴下した。滴下後、そのまま３時間加熱還流した後、冷却し、酢酸エチル１０００ｍＬと水１０００ｍＬを添加して攪拌し、抽出を行った。得られた酢酸エチル相を食塩１４．５ｇと水１，０００ｍＬから調製した食塩水にて３回洗浄した後、ロータリーエバポレーターで濃縮して、残渣物として化合物（ＩＩ−２）の２９７．０ｇを得た（収率９５％）。
次に、３口フラスコに化合物（ＩＩ−２）の３１．３ｇ、ｐ−トルエンスルホン酸１水和物の３８．１ｇ、メタノール９０ｍＬを入れて４０℃にて２時間、加熱攪拌した。このものをロータリーエバポレーターで濃縮した後、酢酸エチル５００ｍＬを添加して結晶を分散させた後、濾過、乾燥して、化合物（Ｉ−２）の５５．３ｇを得た（収率９２％）。ヒドラジン１水和物から、化合物（Ｉ−２）までの総収率は８４％であった。
次に、３口フラスコにディーンシュタークコンデンサーを付けて、化合物（Ｉ−２）の６０．１ｇ、キシレン４００ｍＬ、マロン酸ジメチル２６．４ｇを入れ、ディーンシュタークコンデンサーに溜まった、水などを含む蒸留物を抜きながら、加熱還流下にて６時間攪拌した。途中、抜き取った蒸留物と等量のキシレンを継ぎ足した。その後、反応混合物を１２０℃まで冷却し、水２５０ｍＬを滴下した後、加熱還流下にて１時間攪拌した。このものを室温まで冷却し、水２５０ｍＬを追加して、抽出し、得られた水相を水酸化ナトリウム水溶液で中和した後、トルエン４００ｍＬにて抽出した。得られたトルエン相と先の抽出で得られたキシレン相を併せて、０．０２ｍｏｌ／Ｌの塩酸８００ｍＬで洗浄し、次いで炭酸水素ナトリウム６ｇと食塩１００ｇを水７００ｍＬに溶解した水溶液で洗浄し、次いで食塩１００ｇを水７００ｍＬに溶解した水溶液にて洗浄した。その後、ロータリーエバポレーターにて濃縮し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、化合物（ＶＩＩＩ−２）の２９．９ｇを得た（収率９２％）。ヒドラジン１水和物から、化合物（ＶＩＩＩ−２）までの総収率は７７％であった。
次いで、３口フラスコに化合物（２）の８８．０７ｇ、炭酸カリウム４１４．６ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１３３ｍＬとアセトニトリル３１７ｍＬを入れ、加熱還流下にて２−エチルヘキシルブロミド４６３．５ｇを滴下した。滴下後、そのまま３時間加熱還流した後、冷却し、酢酸エチル１０００ｍＬと水１０００ｍＬを添加して攪拌し、抽出を行った。得られた酢酸エチル相を食塩１４．５ｇと水１，０００ｍＬから調製した食塩水にて３回洗浄した後、ロータリーエバポレーターで濃縮して、残渣物として化合物（ＩＩ−２）の２９７．０ｇを得た（収率９５％）。
次に、３口フラスコに化合物（ＩＩ−２）の３１．３ｇ、ｐ−トルエンスルホン酸１水和物の３８．１ｇ、メタノール９０ｍＬを入れて４０℃にて２時間、加熱攪拌した。このものをロータリーエバポレーターで濃縮した後、酢酸エチル５００ｍＬを添加して結晶を分散させた後、濾過、乾燥して、化合物（Ｉ−２）の５５．３ｇを得た（収率９２％）。ヒドラジン１水和物から、化合物（Ｉ−２）までの総収率は８４％であった。
次に、３口フラスコにディーンシュタークコンデンサーを付けて、化合物（Ｉ−２）の６０．１ｇ、キシレン４００ｍＬ、マロン酸ジメチル２６．４ｇを入れ、ディーンシュタークコンデンサーに溜まった、水などを含む蒸留物を抜きながら、加熱還流下にて６時間攪拌した。途中、抜き取った蒸留物と等量のキシレンを継ぎ足した。その後、反応混合物を１２０℃まで冷却し、水２５０ｍＬを滴下した後、加熱還流下にて１時間攪拌した。このものを室温まで冷却し、水２５０ｍＬを追加して、抽出し、得られた水相を水酸化ナトリウム水溶液で中和した後、トルエン４００ｍＬにて抽出した。得られたトルエン相と先の抽出で得られたキシレン相を併せて、０．０２ｍｏｌ／Ｌの塩酸８００ｍＬで洗浄し、次いで炭酸水素ナトリウム６ｇと食塩１００ｇを水７００ｍＬに溶解した水溶液で洗浄し、次いで食塩１００ｇを水７００ｍＬに溶解した水溶液にて洗浄した。その後、ロータリーエバポレーターにて濃縮し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、化合物（ＶＩＩＩ−２）の２９．９ｇを得た（収率９２％）。ヒドラジン１水和物から、化合物（ＶＩＩＩ−２）までの総収率は７７％であった。
＜製造例９＞
以下のスキームに従い化合物（ＶＩＩＩ−２）を合成した。
以下のスキームに従い化合物（ＶＩＩＩ−２）を合成した。
製造例８と同様の方法で化合物（ＩＩ−２）を合成した。
ついで、３口フラスコに化合物（ＩＩ−２）の３１．３ｇ、メタンスルホン酸１９．２ｇ、メタノール９０ｍＬを入れて４０℃にて２時間、加熱攪拌した。このものをロータリーエバポレーターで濃縮した後、酢酸エチル５００ｍＬを添加して結晶を分散させた後、濾過、乾燥して、化合物（Ｉ−１１）の４１．７ｇを得た（収率９３％）。ヒドラジン１水和物から、化合物（Ｉ−１１）までの総収率は８５％であった。
次に、３口フラスコにディーンシュタークコンデンサーを付けて、化合物（Ｉ−１１）の４４．８ｇ、キシレン４００ｍＬ、マロン酸ジメチル２６．４ｇを入れ、ディーンシュタークコンデンサーに溜まった、水などを含む蒸留物を抜きながら、加熱還流下にて６時間攪拌した。途中、抜き取った蒸留物と等量のキシレンを継ぎ足した。その後、反応混合物を１２０℃まで冷却し、水２５０ｍＬを滴下した後、加熱還流下にて１時間攪拌した。このものを室温まで冷却し、水２５０ｍＬを追加して、抽出し、得られた水相を水酸化ナトリウム水溶液で中和した後、トルエン４００ｍＬにて抽出した。得られたトルエン相と先の抽出で得られたキシレン相を併せて、０．０２ｍｏｌ／Ｌの塩酸８００ｍＬで洗浄し、次いで炭酸水素ナトリウム６ｇと食塩１００ｇを水７００ｍＬに溶解した水溶液で洗浄し、次いで食塩１００ｇを水７００ｍＬに溶解した水溶液にて洗浄した。その後、ロータリーエバポレーターにて濃縮し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、化合物（ＶＩＩＩ−２）の２９．５ｇを得た（収率９１％）。ヒドラジン１水和物から、化合物（ＶＩＩＩ−２）までの総収率は７７％であった。
ついで、３口フラスコに化合物（ＩＩ−２）の３１．３ｇ、メタンスルホン酸１９．２ｇ、メタノール９０ｍＬを入れて４０℃にて２時間、加熱攪拌した。このものをロータリーエバポレーターで濃縮した後、酢酸エチル５００ｍＬを添加して結晶を分散させた後、濾過、乾燥して、化合物（Ｉ−１１）の４１．７ｇを得た（収率９３％）。ヒドラジン１水和物から、化合物（Ｉ−１１）までの総収率は８５％であった。
次に、３口フラスコにディーンシュタークコンデンサーを付けて、化合物（Ｉ−１１）の４４．８ｇ、キシレン４００ｍＬ、マロン酸ジメチル２６．４ｇを入れ、ディーンシュタークコンデンサーに溜まった、水などを含む蒸留物を抜きながら、加熱還流下にて６時間攪拌した。途中、抜き取った蒸留物と等量のキシレンを継ぎ足した。その後、反応混合物を１２０℃まで冷却し、水２５０ｍＬを滴下した後、加熱還流下にて１時間攪拌した。このものを室温まで冷却し、水２５０ｍＬを追加して、抽出し、得られた水相を水酸化ナトリウム水溶液で中和した後、トルエン４００ｍＬにて抽出した。得られたトルエン相と先の抽出で得られたキシレン相を併せて、０．０２ｍｏｌ／Ｌの塩酸８００ｍＬで洗浄し、次いで炭酸水素ナトリウム６ｇと食塩１００ｇを水７００ｍＬに溶解した水溶液で洗浄し、次いで食塩１００ｇを水７００ｍＬに溶解した水溶液にて洗浄した。その後、ロータリーエバポレーターにて濃縮し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、化合物（ＶＩＩＩ−２）の２９．５ｇを得た（収率９１％）。ヒドラジン１水和物から、化合物（ＶＩＩＩ−２）までの総収率は７７％であった。
＜製造例１０＞
以下のスキームに従い化合物（ＶＩＩＩ−２）を合成した。
以下のスキームに従い化合物（ＶＩＩＩ−２）を合成した。
製造例８と同様の方法で化合物（ＩＩ−２）を合成した。
次に、３口フラスコに化合物（ＩＩ−２）の３１．３ｇ、ｐ−トルエンスルホン酸１水和物の３８．０ｇ、メタノール９０ｍＬを入れて４０℃にて２時間、加熱攪拌した。このものをロータリーエバポレーターで濃縮した後、酢酸エチル５００ｍＬを添加して結晶を分散させた後、濾過、乾燥して、化合物（ＩＶ−２０）の４５．８ｇを得た（収率８４％）。ヒドラジン１水和物から、化合物（ＩＶ−２０）までの総収率は７７％であった。
次に、３口フラスコにディーンシュタークコンデンサーを付けて、化合物（ＩＶ−２０）の５４．５ｇ、キシレン４００ｍＬ、マロン酸ジメチル２６．４ｇを入れ、ディーンシュタークコンデンサーに溜まった、水などを含む蒸留物を抜きながら、加熱還流下にて６時間攪拌した。途中、抜き取った蒸留物と等量のキシレンを継ぎ足した。その後、反応混合物を１２０℃まで冷却し、水２５０ｍＬを滴下した後、加熱還流下にて１時間攪拌した。このものを室温まで冷却し、水２５０ｍＬを追加して、抽出し、得られた水相を水酸化ナトリウム水溶液で中和した後、トルエン４００ｍＬにて抽出した。得られたトルエン相と先の抽出で得られたキシレン相を併せて、０．０２ｍｏｌ／Ｌの塩酸８００ｍＬで洗浄し、次いで炭酸水素ナトリウム６ｇと食塩１００ｇを水７００ｍＬに溶解した水溶液で洗浄し、次いで、食塩１００ｇを水７００ｍＬに溶解した水溶液にて洗浄した。その後、ロータリーエバポレーターにて濃縮し、目的の化合物（ＶＩＩＩ−２）の２６．９ｇを得た（収率８３％）。ヒドラジン１水和物から、化合物（ＶＩＩＩ−２）までの総収率は６４％であった。
次に、３口フラスコに化合物（ＩＩ−２）の３１．３ｇ、ｐ−トルエンスルホン酸１水和物の３８．０ｇ、メタノール９０ｍＬを入れて４０℃にて２時間、加熱攪拌した。このものをロータリーエバポレーターで濃縮した後、酢酸エチル５００ｍＬを添加して結晶を分散させた後、濾過、乾燥して、化合物（ＩＶ−２０）の４５．８ｇを得た（収率８４％）。ヒドラジン１水和物から、化合物（ＩＶ−２０）までの総収率は７７％であった。
次に、３口フラスコにディーンシュタークコンデンサーを付けて、化合物（ＩＶ−２０）の５４．５ｇ、キシレン４００ｍＬ、マロン酸ジメチル２６．４ｇを入れ、ディーンシュタークコンデンサーに溜まった、水などを含む蒸留物を抜きながら、加熱還流下にて６時間攪拌した。途中、抜き取った蒸留物と等量のキシレンを継ぎ足した。その後、反応混合物を１２０℃まで冷却し、水２５０ｍＬを滴下した後、加熱還流下にて１時間攪拌した。このものを室温まで冷却し、水２５０ｍＬを追加して、抽出し、得られた水相を水酸化ナトリウム水溶液で中和した後、トルエン４００ｍＬにて抽出した。得られたトルエン相と先の抽出で得られたキシレン相を併せて、０．０２ｍｏｌ／Ｌの塩酸８００ｍＬで洗浄し、次いで炭酸水素ナトリウム６ｇと食塩１００ｇを水７００ｍＬに溶解した水溶液で洗浄し、次いで、食塩１００ｇを水７００ｍＬに溶解した水溶液にて洗浄した。その後、ロータリーエバポレーターにて濃縮し、目的の化合物（ＶＩＩＩ−２）の２６．９ｇを得た（収率８３％）。ヒドラジン１水和物から、化合物（ＶＩＩＩ−２）までの総収率は６４％であった。
＜製造例１１＞
以下のスキームに従い化合物（ＶＩ−２）を合成した。
以下のスキームに従い化合物（ＶＩ−２）を合成した。
製造例１と同様の方法で化合物（２）を合成した。
次に、３口フラスコに化合物（２）の８８．０７ｇ、炭酸カリウム４１４．６ｇ、Ｎ−メチルピロリドン６００ｍＬを入れ、内温７０℃にてベンジルブロミド３７６．３ｇを滴下した。滴下後、そのまま２時間加熱攪拌した後、冷却し、酢酸エチル１０００ｍＬと水１０００ｍＬを添加して攪拌し、抽出を行った。得られた酢酸エチル相を水１０００ｍＬにて３回洗浄した後、ロータリーエバポレーターで濃縮して、残渣物として化合物（ＩＩ−６）の２６９ｇを得た（収率１００％）。
次に、３口フラスコに化合物（ＩＩ−６）の２６．８ｇ、ベンゼンスルホン酸３１．６ｇ、イソプロピルアルコール２００ｍＬを入れて６０℃で３時間加熱攪拌した。このものをロータリーエバポレーターで濃縮した後、アセトニトリル５００ｍＬを添加して結晶を分散させた後、濾過、乾燥して、化合物（Ｉ−６）の４９．２ｇを得た（収率９３％）。ヒドラジン１水和物から、化合物（Ｉ−６）までの総収率は８９％であった。
次に、３口フラスコにディーンシュタークコンデンサーを付けて、化合物（Ｉ−６）の４９．２ｇ、キシレン４００ｍＬ、安息香酸メチル６８．１ｇを入れ、ディーンシュタークコンデンサーに溜まった、水などを含む蒸留物を抜きながら、加熱還流下にて８時間攪拌した。途中、抜き取った蒸留物と等量のキシレンを継ぎ足した。その後、反応混合物を９０℃まで冷却し、水６００ｍＬを滴下した後、内温９０〜１００℃にて１時間攪拌した。このものを室温まで冷却し、水６００ｍＬを追加して、抽出し、得られた水相を水酸化ナトリウム水溶液で中和した後、トルエン６００ｍＬにて抽出した。得られたトルエン相と先の抽出で得られたキシレン相を併せて、０．０２ｍｏｌ／Ｌの塩酸１．２１Ｌで洗浄し、次いで炭酸水素ナトリウム１２．９ｇと食塩２３２ｇを水１．２１Ｌに溶解した水溶液で洗浄し、次いで食塩２３２ｇを水１．２１Ｌに溶解した水溶液にて洗浄した。その後、ロータリーエバポレーターにて濃縮し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、化合物（ＶＩ−２）の３５．２ｇを得た（収率９０％）。ヒドラジン１水和物から、化合物（ＶＩ−２）までの総収率は８０％であった。
次に、３口フラスコに化合物（２）の８８．０７ｇ、炭酸カリウム４１４．６ｇ、Ｎ−メチルピロリドン６００ｍＬを入れ、内温７０℃にてベンジルブロミド３７６．３ｇを滴下した。滴下後、そのまま２時間加熱攪拌した後、冷却し、酢酸エチル１０００ｍＬと水１０００ｍＬを添加して攪拌し、抽出を行った。得られた酢酸エチル相を水１０００ｍＬにて３回洗浄した後、ロータリーエバポレーターで濃縮して、残渣物として化合物（ＩＩ−６）の２６９ｇを得た（収率１００％）。
次に、３口フラスコに化合物（ＩＩ−６）の２６．８ｇ、ベンゼンスルホン酸３１．６ｇ、イソプロピルアルコール２００ｍＬを入れて６０℃で３時間加熱攪拌した。このものをロータリーエバポレーターで濃縮した後、アセトニトリル５００ｍＬを添加して結晶を分散させた後、濾過、乾燥して、化合物（Ｉ−６）の４９．２ｇを得た（収率９３％）。ヒドラジン１水和物から、化合物（Ｉ−６）までの総収率は８９％であった。
次に、３口フラスコにディーンシュタークコンデンサーを付けて、化合物（Ｉ−６）の４９．２ｇ、キシレン４００ｍＬ、安息香酸メチル６８．１ｇを入れ、ディーンシュタークコンデンサーに溜まった、水などを含む蒸留物を抜きながら、加熱還流下にて８時間攪拌した。途中、抜き取った蒸留物と等量のキシレンを継ぎ足した。その後、反応混合物を９０℃まで冷却し、水６００ｍＬを滴下した後、内温９０〜１００℃にて１時間攪拌した。このものを室温まで冷却し、水６００ｍＬを追加して、抽出し、得られた水相を水酸化ナトリウム水溶液で中和した後、トルエン６００ｍＬにて抽出した。得られたトルエン相と先の抽出で得られたキシレン相を併せて、０．０２ｍｏｌ／Ｌの塩酸１．２１Ｌで洗浄し、次いで炭酸水素ナトリウム１２．９ｇと食塩２３２ｇを水１．２１Ｌに溶解した水溶液で洗浄し、次いで食塩２３２ｇを水１．２１Ｌに溶解した水溶液にて洗浄した。その後、ロータリーエバポレーターにて濃縮し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、化合物（ＶＩ−２）の３５．２ｇを得た（収率９０％）。ヒドラジン１水和物から、化合物（ＶＩ−２）までの総収率は８０％であった。
＜製造例１２＞
特開２０１０−０１８５９５号公報の実施例３に記載された方法に準じて化合物（ＩＶ−２０）を合成した。
すなわち、ヒドラジン１水和物４６．２ｇ（０．９２モル）にエタノール９００ｍＬを加えて氷冷下（内温０℃以下）で攪拌し、次いで、これに２−エチルヘキサナール２３６．７ｇ（１．８４モル）をエタノール６００ｍＬに溶解した混合液を３０分かけて滴下した（内温２〜５℃）。この反応液を室温で２時間攪拌した後、反応液全量が２．０Ｌになるようにエタノールを加えて化合物（Ｅ−６）のエタノール溶液を調製した。
調製した化合物（Ｅ−６）のエタノール溶液１１０ｍＬ（理論モル数５０ミリモル）とエタノール１０ｍＬとラネーニッケル触媒１．０ｇをオートクレーブ中に加えて、４０気圧になるまで水素を充填し、８０℃で５時間攪拌した。反応液を空冷した後、セライトろ過により触媒を除去して、化合物（Ｄ−６）のエタノール溶液を調製した。このエタノール溶液にナフタレン１，５−ジスルホン酸４水和物１９．８ｇ（５５ミリモル）を添加した後、エタノールを減圧濃縮して全量を約１００ｍＬにして、さらにアセトニトリル２００ｍＬを加えると結晶が析出した。室温で３０分攪拌した後、この結晶をろ取、乾燥して化合物（ＩＶ−２０）の１４．９ｇを得た。ヒドラジン１水和物から化合物（ＩＶ−２０）までの総収率は５６％であった。
特開２０１０−０１８５９５号公報の実施例３に記載された方法に準じて化合物（ＩＶ−２０）を合成した。
すなわち、ヒドラジン１水和物４６．２ｇ（０．９２モル）にエタノール９００ｍＬを加えて氷冷下（内温０℃以下）で攪拌し、次いで、これに２−エチルヘキサナール２３６．７ｇ（１．８４モル）をエタノール６００ｍＬに溶解した混合液を３０分かけて滴下した（内温２〜５℃）。この反応液を室温で２時間攪拌した後、反応液全量が２．０Ｌになるようにエタノールを加えて化合物（Ｅ−６）のエタノール溶液を調製した。
調製した化合物（Ｅ−６）のエタノール溶液１１０ｍＬ（理論モル数５０ミリモル）とエタノール１０ｍＬとラネーニッケル触媒１．０ｇをオートクレーブ中に加えて、４０気圧になるまで水素を充填し、８０℃で５時間攪拌した。反応液を空冷した後、セライトろ過により触媒を除去して、化合物（Ｄ−６）のエタノール溶液を調製した。このエタノール溶液にナフタレン１，５−ジスルホン酸４水和物１９．８ｇ（５５ミリモル）を添加した後、エタノールを減圧濃縮して全量を約１００ｍＬにして、さらにアセトニトリル２００ｍＬを加えると結晶が析出した。室温で３０分攪拌した後、この結晶をろ取、乾燥して化合物（ＩＶ−２０）の１４．９ｇを得た。ヒドラジン１水和物から化合物（ＩＶ−２０）までの総収率は５６％であった。
製造例１〜１２における各工程で得られた化合物の収率を以下の表にまとめて記す。
製造例１〜１１は、本発明の実施例に該当する製造例であり、製造例１２は本発明に対する比較例に該当する製造例である。
上記表から明らかなように、製造例１、３〜１１は、化合物（Ｉ）又は化合物（ＩＶ）のヒドラジン１水和物からの総収率が製造例１２よりも著しく高く、同化合物の収率が顕著に優れていた。
なお、製造例２は、化合物（Ｉ−１）を取出すことなく化合物（ＶＩＩＩ−１）を合成したため、化合物（Ｉ−１）の収率は算出していないが、最終生成物である化合物（ＶＩＩＩ−１）のヒドラジン１水和物の総収率が製造例１と同じであったため、製造例２においても、化合物（Ｉ−１）の収率は、製造例１と同程度の高い収率であることが理解できる。
また、製造例１〜１１は、中性のヒドラジン化合物の合成工程を経ることなく化合物（Ｉ）又は化合物（ＩＶ）を製造できたため、同化合物の製造時の安全性に優れていた。
上記表から明らかなように、製造例１、３〜１１は、化合物（Ｉ）又は化合物（ＩＶ）のヒドラジン１水和物からの総収率が製造例１２よりも著しく高く、同化合物の収率が顕著に優れていた。
なお、製造例２は、化合物（Ｉ−１）を取出すことなく化合物（ＶＩＩＩ−１）を合成したため、化合物（Ｉ−１）の収率は算出していないが、最終生成物である化合物（ＶＩＩＩ−１）のヒドラジン１水和物の総収率が製造例１と同じであったため、製造例２においても、化合物（Ｉ−１）の収率は、製造例１と同程度の高い収率であることが理解できる。
また、製造例１〜１１は、中性のヒドラジン化合物の合成工程を経ることなく化合物（Ｉ）又は化合物（ＩＶ）を製造できたため、同化合物の製造時の安全性に優れていた。
（発熱開始温度の評価）
化合物（Ｉ−１）、（ＩＶ−２１）、（Ｒ−１）、（Ｒ−２）の示差走査熱量分析における発熱開始温度を測定した。化合物（Ｉ−１）の発熱開始温度は２３３℃で、化合物（ＩＶ−２１）の発熱開始温度は２２３℃で、化合物（Ｒ−１）の発熱開始温度は５６℃で、化合物（Ｒ−２）の発熱開始温度は８５℃であった。化合物（Ｉ−１）は本発明の実施例に該当する化合物であり、この化合物は化合物（ＩＶ−２１）、（Ｒ−１）、（Ｒ−２）よりも発熱開始温度が高く、より安定な化合物であった。
化合物（Ｉ−１）、（ＩＶ−２１）、（Ｒ−１）、（Ｒ−２）の示差走査熱量分析における発熱開始温度を測定した。化合物（Ｉ−１）の発熱開始温度は２３３℃で、化合物（ＩＶ−２１）の発熱開始温度は２２３℃で、化合物（Ｒ−１）の発熱開始温度は５６℃で、化合物（Ｒ−２）の発熱開始温度は８５℃であった。化合物（Ｉ−１）は本発明の実施例に該当する化合物であり、この化合物は化合物（ＩＶ−２１）、（Ｒ−１）、（Ｒ−２）よりも発熱開始温度が高く、より安定な化合物であった。
Claims (5)
- 式（ＩＩ）で表わされる化合物と、式（ＩＩＩ）で表わされる化合物とを反応させることを含む、式（ＩＶ）で表わされる化合物の製造方法；
ｍは正の整数を表し、ｑは正数を表し、
Ｒ21とＲ22は互いに結合して環を形成していてもよい。 - 式（ＩＩ）で表される化合物のモル数に対する、式（ＩＩＩ）で表される化合物のモル数とｍの数との積の比が１．０以上である、請求項１に記載の化合物の製造方法。
- 式（ＩＶ）で表わされる化合物が式（Ｉ）で表わされる化合物である、請求項１または２に記載の化合物の製造方法；
- 請求項１〜３のいずれか１項に記載の化合物の製造方法により式（ＩＶ）で表わされる化合物を得たのち、式（ＩＶ）で表わされる化合物と式（Ｖ）で表わされる化合物とを反応させることを含む、式（ＶＩ）で表わされる化合物の製造方法；
- 請求項１〜３のいずれか１項に記載の化合物の製造方法により式（ＩＶ）で表わされる化合物を得たのち、式（ＩＶ）で表わされる化合物と式（ＶＩＩ）で表わされる化合物とを反応させることを含む、式（ＶＩＩＩ）で表わされる化合物の製造方法；
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