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JP6810505B2 - 教師データ作成方法及び装置並びに欠陥検査方法及び装置 - Google Patents

教師データ作成方法及び装置並びに欠陥検査方法及び装置 Download PDF

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Description

本発明は教師データ作成方法及び装置並びに欠陥検査方法及び装置に係り、特に欠陥検査装置の学習に使用される教師データを作成する教師データ作成方法及び装置、並びに教師データを用いた学習を伴う欠陥検査方法及び装置に関する。
特許文献1には、被検物の欠陥の有無を検査する欠陥検査装置が開示されている。特許文献1では、人工欠陥画像にバンドパスフィルタを通して特定の周波数成分を検出し、人工欠陥画像をニューラルネットワーク部に学習させることにより、学習パターンのサンプル不足を補うようになっている([0031]から[0032])。
特許文献2には、繰り返しパターンを有する物体の欠陥検査装置が開示されている。特許文献2では、フーリエ変換された光から空間周波数フィルタにより繰り返しパターンを除去するようになっている([0008])。
特許文献3には、被検査物を照明して撮像することにより取得した検査画像に基づいて被検査物の良否を判定する欠陥検査方法が開示されている。特許文献3では、汎化能力を持つニューラルネットワークを利用することにより、より少ない教師データで高精度な欠陥検査を行うようになっている([0040])。
特開2004−354251号公報 特開平09−021757号公報 特開2004−191112号公報
石油の輸送等に用いられる配管等の設備は、一度事故が発生すると社会に重大なダメージを与える。このような配管等の設備は分解して検査することが困難である。このため、このような配管等の設備に対する検査は、検査対象の配管等に対する光線又は放射線の照射を伴う非破壊検査によって行われる。非破壊検査においては、検査対象の配管等に光線又は放射線を照射することにより得られた配管等の画像を読影者が読影することにより欠陥の検査を行う。
欠陥の種類としては、シミ、ヒビ、欠け、異物及び異種金属の混入に起因する欠陥、鋳造時の鋳型への空気の混入に起因する欠陥等がある。欠陥は、個別に形状及びサイズが異なっており、かつ、一画像から多数の欠陥が検出されることがある。このため、画像中の欠陥を漏れなく検査するためにはかなりの時間がかかる。
画像を用いた欠陥の検査を効率化するために、機械学習(Machine Learning)を利用することが考えられる。
配管等の検査対象の物体(以下、被検査体という。)を撮像した画像では、被検査体の形状、肉厚及び材質等によって輝度が異なるため、同じ種類の欠陥を撮像した画像であっても、欠陥の発生箇所に応じて濃淡が異なる場合がある。このため、機械学習を利用した欠陥の検査において検査の精度を確保するためには、欠陥の種類ごとに、多様な濃淡のバリエーションに対応する欠陥のサンプル画像を多数収集する必要がある。
しかしながら、例えば、発生頻度が低い欠陥の場合、又は検査対象の物体が機密に属する場合等には、欠陥のサンプル画像を多数入手することが困難である。欠陥の中には、発生頻度は低いものの、一部品の欠陥により設備全体に重大な影響が生じ得るものもある。このため、欠陥のサンプル画像を十分に入手することができない場合であっても、欠陥を漏れなく発見することが求められる。
本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、教師データの作成に使用する欠陥のサンプルの数が少ない場合であっても、欠陥検査の精度を確保することが可能な教師データ作成方法及び装置並びに欠陥検査方法及び装置を提供することを目的とする。
上記課題を解決するために、本発明の第1の態様に係る教師データ作成方法は、欠陥を有する被検査体に光線又は放射線を照射することにより得られた被検査体からの反射光又は透過光に基づいて作成された受光画像を含むトレーニング用画像を取得するトレーニング用画像取得ステップと、トレーニング用画像に対して周波数分布解析を実行する周波数分布解析ステップと、周波数帯域を指定するためのパラメータの入力を受け付ける入力ステップと、パラメータにより指定された周波数帯域に従って、周波数分布解析の解析結果から周波数帯域信号を選択する周波数帯域選択ステップと、周波数帯域信号に対応する画像に対して、欠陥を示す欠陥情報を取得し、欠陥情報に基づいて、被検査体の欠陥を検査するための欠陥検査装置の学習に使用される教師データを作成する教師データ作成ステップとを備える。
第1の態様によれば、トレーニング用画像に対して周波数分布解析を実行し、周波数分布解析の解析結果から周波数帯域信号を選択することにより、選択した周波数帯域信号に対応して濃淡が規格化された画像を得ることができる。この濃淡が規格化された画像を用いることにより、教師データの作成に使用するトレーニング用画像、すなわち、欠陥のサンプルの画像の数が少ない場合であっても、欠陥検査の精度を確保することが可能になる。
本発明の第2の態様に係る教師データ作成方法は、第1の態様において、周波数帯域選択ステップにおいて選択した周波数帯域信号に対応する画像を表示部に表示する表示ステップを更に備え、教師データ作成ステップでは、表示部に表示された周波数帯域信号に対応する画像に対して、欠陥か非欠陥かを示す指示の入力を受け付け、指示に基づいて教師データを作成するようにしたものである。
第2の態様は、周波数帯域信号に対応する画像の読影者からの指示入力に基づいて、教師データを作成するものである。
本発明の第3の態様に係る教師データ作成方法は、第1の態様において、トレーニング用画像取得ステップでは、トレーニング用画像に含まれる被検査体の欠陥を示す欠陥情報がトレーニング用画像と関連づけられて記憶部に格納され、教師データ作成ステップでは、トレーニング用画像と関連づけられて格納された欠陥情報を取得して、欠陥情報に基づいて教師データを作成するようにしたものである。
本発明の第4の態様に係る教師データ作成方法は、第3の態様において、教師データ作成ステップでは、被検査体の欠陥の種類及び欠陥の位置のうちの少なくとも1つを含む欠陥情報を取得するようにしたものである。
第3及び第4の態様は、トレーニング用画像に付属していた欠陥情報に基づいて、教師データを作成するものである。
本発明の第5の態様に係る教師データ作成方法は、第1から第4の態様のいずれかにおいて、被検査体の材質及び被検査体における欠陥に対応する複数のバンドパスフィルタの登録を受け付けるステップを更に備え、入力ステップでは、複数のバンドパスフィルタの中から、周波数帯域信号の選択に使用するバンドパスフィルタを指定するパラメータの入力を受け付け、周波数帯域選択ステップでは、パラメータにより指定されたバンドパスフィルタを用いて周波数帯域信号を選択するようにしたものである。
本発明の第6の態様に係る教師データ作成方法は、第5の態様において、入力ステップでは、被検査体の材質に応じて周波数帯域信号の選択に使用するバンドパスフィルタが指定されるようにしたものである。
第5及び第6の態様によれば、被検査体の材質及び欠陥に応じてバンドパスフィルタを指定することにより、被検査体の材質及び欠陥ごとに、濃淡が規格化された画像を得ることができる。
本発明の第7の態様に係る教師データ作成方法は、第1から第6の態様のいずれかにおいて、教師データ作成ステップでは、トレーニング用画像から選択された周波数帯域信号と、欠陥情報を含む教師データが作成されるようにしたものである。
本発明の第8の態様に係る欠陥検査方法は、第1から第7の態様のうちのいずれかの態様に係る教師データ作成方法により作成された教師データを用いて欠陥検査装置における学習を行うステップと、検査対象の被検査体に光線又は放射線を照射することにより得られた検査対象の被検査体からの反射光又は透過光に基づいて作成された検査対象画像を取得するステップと、学習を行った欠陥検査装置により検査対象画像における欠陥を検出する欠陥検査ステップとを備える。
第8の態様によれば、濃淡が規格化された画像を用いることにより、教師データの作成に使用するトレーニング用画像のサンプルの数が少ない場合であっても、欠陥検査の精度を確保することが可能になる。
本発明の第9の態様に係る欠陥検査方法は、第8の態様において、欠陥検査ステップが、検査対象画像に対して周波数分布解析を実行するステップと、検査対象画像に対する周波数分布解析の解析結果から周波数帯域信号を選択するステップと、検査対象画像に対する周波数分布解析の解析結果から選択された周波数帯域信号と、教師データに基づいて、検査対象画像における欠陥を検出するステップとを備える。
第9の態様によれば、トレーニング用画像と同様に、検査対象画像の濃淡を規格化することにより、欠陥検査の精度を確保することが可能になる。
本発明の第10の態様に係る教師データ作成装置は、欠陥を有する被検査体に光線又は放射線を照射することにより得られた被検査体からの反射光又は透過光に基づいて作成された受光画像を含むトレーニング用画像を取得するトレーニング用画像取得部と、トレーニング用画像に対して周波数分布解析を実行する周波数分布解析部と、周波数帯域を指定するためのパラメータの入力を受け付ける入力部と、パラメータにより指定された周波数帯域に従って、周波数分布解析の解析結果から周波数帯域信号を選択する周波数帯域選択部と、周波数帯域信号に対応する画像に対して、欠陥を示す欠陥情報を取得する欠陥情報取得部と、欠陥情報に基づいて、被検査体の欠陥を検査するための欠陥検査装置の学習に使用される教師データを作成する教師データ作成部とを備える。
本発明の第11の態様に係る欠陥検査装置は、第10の態様に係る教師データ作成装置と、検査対象の被検査体に光線又は放射線を照射することにより得られた検査対象の被検査体からの反射光又は透過光に基づいて作成された検査対象画像を取得する検査対象画像取得部と、教師データ作成装置により作成された教師データを用いて学習を行い、検査対象画像における欠陥を検出する欠陥検査部とを備える。
本発明によれば、トレーニング用画像に対して周波数分布解析を実行し、周波数分布解析の解析結果から周波数帯域信号を選択することにより、選択した周波数帯域信号に対応して濃淡が規格化された画像を得ることができる。この濃淡が規格化された画像を用いることにより、教師データの作成に使用するトレーニング用画像、すなわち、欠陥のサンプルの画像の数が少ない場合であっても、欠陥検査の精度を確保することが可能になる。
図1は、本発明の第1の実施形態に係る欠陥検査システムを示すブロック図である。 図2は、本発明の第1の実施形態に係る教師データ作成装置を示すブロック図である。 図3は、本発明の第1の実施形態に係る欠陥検査装置を示すブロック図である。 図4は、本発明の第1の実施形態に係る欠陥検査システムのうち教師データの作成及び教師データを用いた学習に係る構成を抽出して示すブロック図である。 図5は、トレーニング用画像の例を示す図である。 図6は、変換後の画像の例を示す図である。 図7は、トレーニング用画像中の欠陥の画像と変換後の画像中の欠陥の画像とを対比して示す図である。 図8は、周波数分布解析に関する説明図である。 図9は、バンドパスフィルタに関する説明図である。 図10は、バンドパスフィルタを適用した画像の第1の例を示す図である。 図11は、バンドパスフィルタを適用した画像の第2の例を示す図である。 図12は、バンドパスフィルタを適用した画像の第3の例を示す図である。 図13は、教師データを模式的に示す図である。 図14は、教師データを簡略化して示す図である。 図15は、撮像システムの例を示すブロック図である。 図16は、本発明の第1の実施形態に係る教師データの作成、及び作成した教師データを用いた欠陥判定器の学習の処理の流れを示すフローチャートである。 図17は、図16の周波数帯域選択ステップにおける処理の流れを示すフローチャートである。 図18は、図16の欠陥情報取得ステップにおける処理の流れを示すフローチャートである。 図19は、図16の欠陥情報取得ステップにおける処理の流れの別の例を示すフローチャートである。 図20は、本発明の第1の実施形態に係る欠陥検査方法における処理の流れを示すフローチャートである。 図21は、本発明の第2の実施形態に係る欠陥検査システムを示すブロック図である。
以下、添付図面に従って本発明に係る教師データ作成方法及び装置並びに欠陥検査方法及び装置の実施の形態について説明する。
[第1の実施形態]
[欠陥検査システムの構成]
図1は、本発明の第1の実施形態に係る欠陥検査システムを示すブロック図である。
図1に示すように、本実施形態に係る欠陥検査システム10は、工業製品等の検査対象の物体(以下、被検査体という。)に対して、機械学習を伴う欠陥の検査を行うものであり、教師データ作成装置100と、欠陥検査装置200とを備える。
教師データ作成装置100は、トレーニング用画像P10の入力を受け付けて、トレーニング用画像P10に基づいて、欠陥判定器126(図4参照)の学習に使用する教師データ(図13及び図14参照)を作成する。ここで、トレーニング用画像P10とは、欠陥の発生のサンプルを含む画像であり、欠陥検査装置200により検査すべき被検査体OBJと、同一又は類似する工業製品等を撮像して得られた画像である。トレーニング用画像P10は、被検査体の使用中に自然に欠陥が発生した被検査体を撮像した画像であってもよいし、人工的に欠陥を付加した被検査体を撮像した画像であってもよい。トレーニング用画像P10としては、例えば、被検査体が取り付けられる施設等の設計者又は運営者からサンプルとして提供されるものを用いることができる。
教師データ作成装置100は、学習後の欠陥判定器222(図4参照)を、学習結果として欠陥検査装置200に転送する。
撮像システム300は、欠陥検査装置200により検査すべき被検査体OBJの画像を撮像する。撮像システム300は、被検査体OBJに対して放射線を照射し、被検査体OBJによって反射された反射光又は被検査体OBJを透過した透過光に基づいて、被検査体OBJの画像を撮像する。
欠陥検査装置200は、学習後の欠陥判定器222(図4参照)を用いて、撮像システム300等によって撮像された被検査体OBJの画像である被検査体画像P30に欠陥が含まれているかどうかを検査する。欠陥検査装置200は、被検査体画像P30に欠陥が含まれている場合に、学習後の欠陥判定器222(図4参照)を用いて、その欠陥の位置及び種類を特定する。
[教師データ作成装置の構成]
次に、本実施形態に係る教師データ作成装置100について、図2を参照して説明する。図2は、教師データ作成装置100を示すブロック図である。
図2に示すように、本実施形態に係る教師データ作成装置100は、制御部102、操作部104、メモリ106、記録部108、表示部110、通信インターフェース(通信I/F:interface)112、トレーニング用画像取得部114、周波数分布解析部116、周波数帯域選択部118、欠陥情報取得部120、教師データ作成部122及び学習部124を備える。
制御部102は、教師データ作成装置100の各部の動作を制御するCPU(Central Processing Unit)を含んでいる。制御部102は、バスB10を介して、教師データ作
成装置100の各部との間で制御信号及びデータの送受信が可能となっている。制御部102は、操作部104を介してオペレータからの操作入力を受け付け、バスB10を介してこの操作入力に応じた制御信号を教師データ作成装置100の各部に送信して各部の動作を制御する。
操作部104は、オペレータからの操作入力を受け付ける入力装置であり、文字入力等のためのキーボード、表示部110に表示されるポインタ及びアイコン等を操作するためのポインティングデバイス(例えば、マウス、トラックボール等)を含んでいる。なお、操作部104としては、キーボード及びポインティングデバイスに代えて、又は、キーボード及びポインティングデバイスに加えて、表示部110の表面にタッチパネルを設けてもよい。
メモリ106は、制御部102等により行われる各種演算のための作業領域として使用されるRAM(Random Access Memory)、及び表示部110に出力される画像データを一時記憶するための領域として使用されるVRAM(Video Random Access Memory)を含んでいる。
記録部108は、トレーニング用画像P10及び制御部102が使用する制御プログラム等を含むデータを格納する。記録部108としては、例えば、HDD(Hard Disk Drive)等の磁気ディスクを含む装置、eMMC(embedded Multi Media Card)、SSD(Solid State Drive)等のフラッシュメモリを含む装置等を用いることができる。
表示部110は、画像を表示するための装置である。表示部110としては、例えば、液晶モニタを用いることができる。
通信I/F112は、ネットワークを介して外部装置との間で通信を行うための手段である。教師データ作成装置100と外部装置との間のデータの送受信方法としては、有線通信又は無線通信(例えば、LAN(Local Area Network)、WAN(Wide Area Network)、インターネット接続等)を用いることができる。
トレーニング用画像取得部114は、通信I/F112を介してトレーニング用画像P10の入力を受け付けることが可能となっている。なお、トレーニング用画像P10を教師データ作成装置100に入力する方法は、ネットワークを介した通信に限定されるものではない。例えば、USB(Universal Serial Bus)ケーブル、Bluetooth(登録商標)、赤外線通信等を用いてもよいし、トレーニング用画像P10を、教師データ作成装置100に着脱及び読取可能な記録媒体(例えば、メモリカード)に格納し、トレーニング用画像取得部114は、この記録媒体を介してトレーニング用画像P10の入力を受け付けるようにしてもよい。
周波数分布解析部116は、トレーニング用画像P10に対して周波数分布解析を実行する。周波数分布解析部116は、トレーニング用画像P10に対して、フーリエ変換、例えば、FFT(Fast Fourier Transform)、又は離散コサイン変換(DCT:Discrete Cosine Transform)を施して、トレーニング用画像P10を周波数成分ごとの周波数帯域信号に分解する。そして、周波数分布解析部116は、トレーニング用画像P10から取得した周波数帯域信号から、大域的な濃淡の分布、例えば、低周波の濃淡の変化を除去して、欠陥に起因する濃淡差を、基準濃度(例えば、グレー50%)を中心とした濃淡差に規格化する。
周波数帯域選択部118は、トレーニング用画像P10に含まれる被検査体の材質と、被検査体において検査すべき欠陥の種類に応じて、周波数分布解析部116による解析結果から、教師データの作成に使用する周波数帯域信号を選択する。
欠陥情報取得部120は、周波数帯域選択部118により選択された周波数帯域信号に対応する画像に含まれる欠陥を示す欠陥情報を取得する。
教師データ作成部122は、欠陥情報に基づいて、変換後の画像P20から個別の欠陥の画像P20−1、P20−2、P20−3、…、P20−nを切り出す。そして、教師データ作成部122は、個別の欠陥の画像P20−1、P20−2、P20−3、…、P20−nを入力とし、欠陥の種類を出力とする教師データを作成する。
学習部124は、教師データ作成部122により作成された教師データを用いて欠陥判定器126(図4参照)に学習を行わせる。学習部124は、学習後の欠陥判定器222(図4参照)を欠陥検査装置200に転送する。
なお、トレーニング用画像取得部114、周波数分布解析部116、周波数帯域選択部118、欠陥情報取得部120、教師データ作成部122及び学習部124の機能の全部又は一部は、専用の電気回路により構築されていてもよいし、制御部102のCPUにより実現される機能として構築されていてもよい。
[欠陥検査装置の構成]
次に、本実施形態に係る欠陥検査装置200について、図3を参照して説明する。図3は、欠陥検査装置200を示すブロック図である。
図3に示すように、本実施形態に係る欠陥検査装置200は、制御部202、操作部204、メモリ206、記録部208、表示部210、通信インターフェース(通信I/F:interface)212、検査対象画像取得部214、周波数分布解析部216、周波数帯域選択部218及び欠陥検査部220を備える。
制御部202は、欠陥検査装置200の各部の動作を制御するCPU(Central Processing Unit)を含んでいる。制御部202は、バスB20を介して、欠陥検査装置200
の各部との間で、制御信号及びデータの送受信が可能となっている。制御部202は、操作部204を介してオペレータからの操作入力を受け付け、バスB20を介してこの操作入力に応じた制御信号を欠陥検査装置200の各部に送信して各部の動作を制御する。
操作部204は、オペレータからの操作入力を受け付ける入力装置であり、文字入力等のためのキーボード、表示部210に表示されるポインタ及びアイコン等を操作するためのポインティングデバイス(例えば、マウス、トラックボール等)を含んでいる。なお、操作部204としては、キーボード及びポインティングデバイスに代えて、又は、キーボード及びポインティングデバイスに加えて、表示部210の表面にタッチパネルを設けてもよい。
メモリ206は、制御部202等により行われる各種演算のための作業領域として使用されるRAM(Random Access Memory)、及び表示部210に出力される画像データを一時記憶するための領域として使用されるVRAM(Video Random Access Memory)を含んでいる。
記録部208は、検査対象の被検査体OBJを撮像して得られた被検査体画像P30及び制御部202が使用する制御プログラム等を含むデータを格納する。記録部208としては、例えば、HDD(Hard Disk Drive)等の磁気ディスクを含む装置、eMMC(embedded Multi Media Card)、SSD(Solid State Drive)等のフラッシュメモリを含む装置等を用いることができる。
表示部210は、画像を表示するための装置である。表示部210としては、例えば、液晶モニタを用いることができる。
通信I/F212は、ネットワークを介して外部装置との間で通信を行うための手段である。欠陥検査装置200と外部装置との間のデータの送受信方法としては、有線通信又は無線通信(例えば、LAN(Local Area Network)、WAN(Wide Area Network)、インターネット接続等)を用いることができる。
検査対象画像取得部214は、通信I/F212を介して、撮像システム300等によって撮像された被検査体OBJの画像である被検査体画像P30の入力を受け付ける。なお、被検査体画像P30を欠陥検査装置200に入力する方法は、ネットワークを介した通信に限定されるものではない。例えば、USB(Universal Serial Bus)ケーブル、Bluetooth(登録商標)、赤外線通信等を用いてもよいし、被検査体画像P30を、欠陥検査装置200に着脱及び読取可能な記録媒体(例えば、メモリカード)に格納して、この記録媒体を介して欠陥検査装置200に被検査体画像P30を入力するようにしてもよい。
周波数分布解析部216は、被検査体画像P30に対して周波数分布解析を実行する。周波数分布解析部216は、被検査体画像P30に対して、フーリエ変換、例えば、FFT(Fast Fourier Transform)、又は離散コサイン変換(DCT:Discrete Cosine Transform)を施して、被検査体画像P30を周波数成分ごとの周波数帯域信号に分解する。そして、周波数分布解析部216は、被検査体画像P30から取得した周波数帯域信号から、大域的な濃淡の分布、例えば、低周波の濃淡の変化を除去して、欠陥に起因する濃淡差を、基準濃度(例えば、グレー50%)を中心とした濃淡差に規格化する。
周波数帯域選択部218は、被検査体画像P30に含まれる被検査体の材質と、被検査体において検査すべき欠陥の種類に応じて、周波数分布解析部216による解析結果から周波数帯域信号を選択する。
欠陥検査部220は、教師データ作成装置100の学習部124から転送された欠陥判定器222(図4参照)を用いて欠陥の有無(欠陥又は非欠陥)及び種類の判定を行う。欠陥検査部220は、欠陥検査の結果を表示部210に表示させる。
なお、検査対象画像取得部214、周波数分布解析部216、周波数帯域選択部218及び欠陥検査部220の機能の全部又は一部は、専用の電気回路により構築されていてもよいし、制御部202のCPUにより実現される機能として構築されていてもよい。
[教師データ作成及び学習に係る構成]
次に、教師データの作成及び教師データを用いた学習について、図4から図14を参照して説明する。
図4は、欠陥検査システム10のうち教師データの作成及び教師データを用いた学習に係る構成を抽出して示すブロック図である。
周波数分布解析部116は、トレーニング用画像取得部114により取得したトレーニング用画像P10に対してFFTを施す。そして、周波数分布解析部116は、トレーニング用画像P10から取得した周波数帯域信号から、大域的な濃淡の分布、例えば、低周波の濃淡の変化を除去して、欠陥に起因する濃淡差を、基準濃度(例えば、グレー50%)を中心とした濃淡差に規格化する。
周波数帯域選択部118は、トレーニング用画像P10に含まれる被検査体の材質と、被検査体において検査すべき欠陥の種類に応じて、周波数分布解析部116による解析結果から、教師データの作成に使用する周波数帯域信号を選択する。
欠陥情報取得部120は、周波数帯域選択部118により選択された周波数帯域信号に対応する画像に含まれる欠陥を示す欠陥情報を取得する。
図5は、トレーニング用画像P10の例を示す図であり、図6は、変換後の画像P20の例を示す図である。図7は、トレーニング用画像P10中の欠陥の画像と変換後の画像P20中の欠陥の画像とを対比して示す図である。
図5に示すトレーニング用画像P10の画像は、被検査体にX線を透過させた画像であり、被検体の形状、肉厚及び材質等に起因する輝度の差を含んでいる。このため、図7に示すように、トレーニング用画像P10から切り出した欠陥の画像P10−1、P10−2、P10−3、…、P10−nにおいては、欠陥に起因する濃淡の変化が、被検体の形状、肉厚及び材質等に起因する輝度の差の影響を受けて変化している。したがって、トレーニング用画像P10から切り出した欠陥の画像P10−1、P10−2、P10−3、…、P10−nを用いて学習を行う場合、欠陥検査の精度を確保するためには、欠陥の種類ごとに、多様な濃淡のバリエーションに対応する欠陥のサンプル画像を多数収集する必要が生じる。
これに対して、本実施形態に係る周波数分布解析部116は、トレーニング用画像P10を、一例でグレー50%を基準濃度とした256階調の濃淡差の画像に変換する。図6に示す変換後の画像P20では、濃淡が規格化されており、被検体の形状、肉厚及び材質等に起因する輝度の差の影響が除去されている。このため、図7に示すように、変換後の画像P20から切り出した欠陥の画像P20−1、P20−2、P20−3、…、P20−nにおいては、規格化された濃淡の下で、欠陥に起因する濃淡の変化が表れている。
本実施形態では、濃淡差が規格化された画像を用いることにより、教師データの作成に使用するトレーニング用画像P10の数を削減しつつ、欠陥検査の精度を確保することが可能になる。
図8は、周波数分布解析に関する説明図である。図8(a)から図8(d)において、横軸は周波数を示し、縦軸は信号の強度を示している。
図8(a)は、オリジナルのトレーニング用画像P10を示す図である。図8(a)では、低周波の濃淡の変化等の大域的な濃淡の分布、すなわち、被検体の形状、肉厚及び材質等に起因する輝度の差が表れている。
まず、周波数分布解析部116は、図8(a)の強度分布にFFTをかけて、低周波の濃淡の変化を除去する。これにより、図8(b)に示すように、図8(a)の強度分布から、被検体の形状、肉厚及び材質等に起因する輝度の差の影響が除去される。
次に、周波数分布解析部116は、図8(b)の強度分布において最大値及び最小値を調整する。周波数分布解析部116は、例えば、最大値と最小値との間の差が256階調となるように、強度分布の変換が行われる。この強度分布の変換は、図8(b)の強度分布を縦軸方向に拡縮する線形変換により行ってもよい。
なお、線形変換では、最大値と最小値との間の微小な濃淡の変化に関する情報が失われてしまう場合には、非線形変換を行って、微小な濃淡の変化を残すようにしてもよい。具体的には、微小な濃淡の変化がある部分の縮小率を下げる一方、微小な濃淡の変化がない部分、すなわち、濃淡の変化がないか、又は単調な部分の縮小率を上げるようにしてもよい。
次に、周波数分布解析部116は、図8(c)の強度分布を縦軸方向にシフトさせて、濃淡の最大値を255とし、かつ最小値を0とする。これにより、図8(d)に示すように、濃淡の分布が規格化された256階調の濃淡差の画像が作成される。
周波数帯域選択部118は、256階調の濃淡差の画像から、被検査体の材質及び欠陥の種類に応じて周波数帯域を選択する。周波数帯域選択部118は、被検査体の材質及び欠陥の種類に応じて周波数帯域を選択するためのバンドパスフィルタを備えている。
図9は、バンドパスフィルタに関する説明図である。図9において、横軸は周波数(cycle/mm)、縦軸は通過させる信号の相対的な強度(通過強度又は通過率)を示している。
図9に示すように、特性1、特性2、…、特性nは、通過させる周波数帯域が相互に異なる特性曲線(LUT:Look-Up Table)である。周波数帯域選択部118は、これらの特性曲線により表されるバンドパスフィルタを、被検査体の材質及び欠陥の種類に応じて選択する。オペレータは、操作部104からの操作入力により、バンドパスフィルタを指定するパラメータを入力することで、バンドパスフィルタを選択することができる。周波数帯域選択部118は、選択されたバンドパスフィルタを、256階調の濃淡差の画像にかけることにより、教師データの作成に使用する変換後の画像P20を作成する。
周波数帯域選択部118は、被検査体の材質及び欠陥の種類に応じて、欠陥の検出に適した周波数帯域に関する情報をあらかじめ記憶しておいてもよい。この場合、周波数帯域選択部118は、被検査体の材質及び欠陥の種類の入力を受け付けるための画面(GUI:Graphical User Interface)を表示部110に表示させる。操作部104からの操作入力により、被検査体の材質及び欠陥の種類が入力されると、周波数帯域選択部118は、入力された被検査体の材質及び欠陥の種類に応じて、欠陥の検出に適した周波数帯域を特定し、特定した周波数帯域の信号を通過させるバンドパスフィルタを選択する。これにより、教師データの作成に使用する変換後の画像P20が作成される。
図10から図12は、バンドパスフィルタを適用した画像の例を示す図である。ここで、個別の欠陥の画像のサイズは、一例で30mm×30mmとすることができる。図10は、図9の特性2のバンドパスフィルタを用いて、欠陥の画像において0.5倍(2分周)周波数を強調した例を示している。図11は、図9の特性1のバンドパスフィルタを用いて、欠陥の画像において0.25倍(4分周)周波数を強調した例を示している。図12は、図9の特性1及び特性2のバンドパスフィルタを用いて、欠陥の画像において0.25倍(4分周)周波数と0.5倍(2分周)周波数とを同時に強調した例を示している。このように、トレーニング用画像P10中の被検査体の材質、及び検出すべき欠陥の種類に応じて、バンドパスフィルタを準備しておくことにより、欠陥の検出に適した教師データ用の画像を作成することができる。
教師データ作成部122は、周波数帯域選択部118から変換後の画像P20を取得する。
さらに、教師データ作成部122は、欠陥情報取得部120から、トレーニング用画像P10中の欠陥の位置及び種類に関する情報を取得する。欠陥情報の取得方法については、オペレータからの入力を受け付けることにより取得する方法(1)と、トレーニング用画像P10の付属情報から取得する方法(2)が考えられる。
方法(1)は、オペレータからの情報の入力に基づいて欠陥情報を取得する方法である。方法(1)の場合、欠陥情報取得部120は、周波数帯域選択部118により選択された周波数帯域信号に対応する画像(以下、変換後の画像P20という。)を表示部110に表示させる。そして、欠陥情報取得部120は、操作部104を介して、表示部110に表示された変換後の画像P20に含まれる欠陥の位置及び種類に関する情報を含む欠陥情報の入力を受け付ける(図18参照)。
方法(2)の場合、被検査体が取り付けられる施設等の設計者又は運営者からサンプルとして提供されるトレーニング用画像P10には、欠陥の位置及び種類に関する情報を含む欠陥情報が付属情報として関連づけられて記録されている。トレーニング用画像取得部114は、トレーニング用画像P10とともに、この欠陥情報を取得し、欠陥情報取得部120は、この欠陥情報から、トレーニング用画像P10中の欠陥の位置及び種類に関する情報を読み出す(図19参照)。
教師データ作成部122は、欠陥情報に基づいて、変換後の画像P20から個別の欠陥の画像P20−1、P20−2、P20−3、…、P20−nを切り出す。さらに、教師データ作成部122は、画像の濃淡の解析を行って、欠陥の画像P20−1、P20−2、P20−3、…、P20−nにおける特徴量をそれぞれ求める。そして、教師データ作成部122は、個別の欠陥の画像P20−1、P20−2、P20−3、…、P20−n及び個別の欠陥の画像における特徴量を入力とし、欠陥の種類を出力とする教師データを作成する。
図13は、教師データを模式的に示す図であり、図14は、教師データを簡略化して示す図である。
図13に示すように、教師データは、欠陥の画像P20−1、P20−2、P20−3、…、P20−nのデータ、欠陥の画像から取得した欠陥の画像における特徴量及び欠陥の種類を示す情報を含んでいる。ここで、欠陥の画像のP20−1、P20−2、P20−3、…、P20−nのサイズは、一例で30mm×30mmとすることができる。
図14に示すように、教師データは、「入力」としての個別の欠陥の画像P20−1、P20−2、P20−3、…、P20−n及び個別の欠陥の画像における特徴量と、「出力」としての欠陥の種類を示す情報とを含んでいる。教師データにおける「出力」については、教師信号、教示信号、正解データ、又はラベルと呼ばれることもある。なお、図14では、特徴量の図示は省略している。
図14に示す例では、欠陥の画像P20−1及びP20−2が、被検査体の鋳造時において被検査体の材料とは別の金属(異種金属)の混入に起因する欠陥に対応しており、欠陥の画像P20−3が、被検査体の鋳造時における空気の混入に起因する欠陥に対応している。
学習部124は、教師データ作成部122により作成された教師データを用いて欠陥判定器126に学習を行わせる。学習部124は、学習後の欠陥判定器222を欠陥検査装置200に転送する。ここで、欠陥判定器126及び222としては、例えば、ニューラルネットワーク、深層学習(Deep Learning)、決定木、線形分類器、SVM(Support Vector Machine)、判別分析等を利用するものを用いることができる。
学習部124では、教師データから読み出された欠陥の画像及び欠陥の画像における特徴量が学習前の欠陥判定器126に入力され、教師データにおいて、入力された欠陥の画像に含まれる欠陥の種類を示す情報と同じ出力が得られるように学習が行われる。ここで、欠陥の画像における特徴量としては、例えば、変換後の画像P20における明度又は輝度の平均、欠陥の面積、周囲長及び扁平度、並びに欠陥を楕円に近似した場合の長軸の長さ及び被検査体の特徴点(例えば、被検査体の端面、中心軸等)に対する長軸の傾き等が採用される。
学習部124は、学習結果、すなわち、学習後の欠陥判定器222を欠陥検査装置200の欠陥検査部220に転送する。ここで、欠陥判定器222とは、具体的には、欠陥判定器222の構造及び変数の値を示す情報を含む、欠陥検査部220における欠陥検査に用いられるデータである。
欠陥検査部220は、教師データ作成装置100の学習部124から転送された欠陥判定器222を用いて、被検査体画像P30に対する欠陥検査を行う。
[撮像システムの構成]
次に、被検査体OBJの画像を撮像するための撮像システム300について、図15を参照して説明する。図15は、撮像システム300の例を示すブロック図である。
撮像システム300は、撮像室R10内に置かれた被検査体OBJを撮像するためのものである。図15に示すように、撮像制御部302、撮像操作部304、画像記録部306、表示部308、通信インターフェース(通信I/F:interface)310、AD及びDA(analog to digital及びdigital to analog)変換部312、ステージ314、ステージ駆動部316、カメラ318並びに放射線源320及び322を備えている。
撮像制御部302は、撮像システム300の各部の動作を制御するCPU(Central Processing Unit)を含んでおり、バスB30を介して撮像システム300の各部と接続されている。撮像制御部302は、撮像操作部304を介してオペレータ(撮像者)からの操作入力を受け付け、この操作入力に応じた制御信号を撮像システム300の各部に送信して各部の動作を制御する。
撮像操作部304は、オペレータからの操作入力を受け付ける入力装置であり、文字入力のためのキーボード、表示部308に表示されるポインタ、アイコン等を操作するためのポインティングデバイス(例えば、マウス、トラックボール等)を含んでいる。オペレータは、撮像操作部304を介して、被検査体OBJに関する情報の入力、カメラ318に対する撮像実行の指示の入力(例えば、露出時間、焦点距離、絞り等の撮像条件、撮像角度、撮像箇所等の設定を含む)、放射線源320及び322に対する放射線の照射の指示の入力(例えば、照射開始時間、照射継続時間、照射角度、照射強度等の設定を含む)、取得した画像データを画像記録部306に記録する指示の入力を行うことができる。
画像記録部306は、カメラ318によって撮像された被検査体OBJの画像(被検査体画像P30)を記録する。画像記録部306には、被検査体OBJを特定するための情報が画像データと関連付けられて記録される。
表示部308は、画像を表示するための装置である。表示部308としては、例えば、液晶モニタを用いることができる。
通信I/F310は、ネットワーク等を介して外部装置との間で通信を行うための手段である。撮像システム300において撮像された被検査体画像P30は、通信I/F310を介して、欠陥検査装置200に転送することが可能である。
AD及びDA変換部312は、撮像制御部302から出力されるデジタルの制御信号をアナログの信号に変換して、撮像室R10内の各部、例えば、ステージ駆動部316、放射線源320及び322に伝達する。
AD及びDA変換部312は、撮像室R10内の各部から出力されるアナログの信号(例えば、ステージ駆動部316によって検出されたステージ314の位置を示す信号)をデジタルの信号に変換して、撮像制御部302に伝達する。撮像制御部302は、ステージ314の位置を示す信号に基づいて、例えば、ステージ314の移動可能範囲を表示部308に表示させることが可能になる。
カメラ318、放射線源320及び322は、撮像室R10の内部に配置されている。放射線源320及び322は、例えば、X線源であり、撮像室R10と外部との間の隔壁及び出入口には、X線防護材料(例えば、鉛、コンクリート等)によりX線防護が施されている。ここで、放射線源320及び322は、X線源に限定されるものではなく、例えば、電子線源又は可視光光源であってもよい。なお、被検査体OBJに可視光を照射して撮像を行う場合には、防護を施した撮像室R10を用いる必要はない。
放射線源320及び322は、撮像制御部302からの指示に従って、撮像室R10内のステージ314に載置された被検査体OBJに放射線を照射する。
カメラ318は、撮像制御部302からの撮像実行の指示にしたがって、放射線源320から被検査体OBJに照射されて被検査体OBJにより反射された放射線、又は放射線源322から被検査体OBJに照射されて被検査体OBJを透過した放射線を受光して被検査体OBJを撮像する。
被検査体OBJは、ステージ314に載置されている。ステージ駆動部316は、ステージ314を移動させるためのアクチュエータ又はモータ等を含んでおり、ステージ314を移動させることが可能となっている。また、カメラ318、放射線源320及び322は、撮像室R10内において移動可能に取り付けられている。オペレータは、撮像制御部302を介して、被検査体OBJ、カメラ318、放射線源320及び322の相対位置、距離及び角度を制御可能となっており、被検査体OBJの任意の箇所を撮像可能となっている。
放射線源320及び322は、カメラ318による撮像の実行の終了に同期して、被検査体OBJに対する放射線の照射を終了する。
図15に示す例では、カメラ318は、撮像室R10の内部に配置されているが、外部に配置されていてもよい。
また、図15に示す例では、カメラ318が1台、放射線源320及び322が2台設けられているが、カメラ及び放射線源の台数はこれに限定されるものではない。例えば、カメラ及び放射線源は、それぞれ複数台あってもよいし、1つずつであってもよい。
なお、図15に示す例では、被検査体OBJを撮像室R10内のステージ314に載置した状態で撮像を行っているが、本発明はこれに限定されるものではない。被検査体OBJが撮像室R10内に搬送することが困難なものである場合には、オペレータが携行可能なポータブル型のX線発生装置とX線撮像装置とを備えるX線非破壊検査装置を用いて、被検査体画像P30を撮像することも可能である。
[教師データ作成方法及び教師データを用いた学習]
次に、本実施形態に係る教師データ作成方法及び教師データを用いた学習について、図16から図19を参照して説明する。
図16は、本発明の第1の実施形態に係る教師データの作成、及び作成した教師データを用いた欠陥判定器の学習の処理の流れを示すフローチャートである。
まず、トレーニング用画像取得部114は、トレーニング用画像P10を取得する(ステップS10:トレーニング用画像取得ステップ)。ここで、トレーニング用画像P10は、被検査体が取り付けられる施設等の設計者又は運営者から欠陥画像のサンプルとして提供されたものであってもよいし、欠陥が発生した被検査体の画像を撮像システム300によって撮像した画像であってもよい。
次に、周波数分布解析部116は、トレーニング用画像P10に対して周波数分布解析を施し、トレーニング用画像P10から取得した周波数帯域信号から、大域的な濃淡の分布、例えば、低周波の濃淡の変化を除去して、欠陥に起因する濃淡差を、基準濃度(例えば、グレー50%)を中心とした濃淡差に規格化する(ステップS20:周波数分布解析ステップ)。ステップS20では、トレーニング用画像P10に対して、フーリエ変換、例えば、FFT(Fast Fourier Transform)、又は離散コサイン変換(DCT:Discrete Cosine Transform)を施すようにしてもよい。
次に、周波数帯域選択部118は、周波数分布解析部116による解析結果から、教師データの作成に使用する周波数帯域信号を選択する(ステップS30:周波数帯域選択ステップ)。
図17は、図16の周波数帯域選択ステップにおける処理の流れを示すフローチャートである。まず、周波数帯域選択部118は、操作部104を介して、被検査体の材質及び検査対象の欠陥の種類に応じた特性を有するバンドパスフィルタの指定を受け付ける(ステップS32:入力ステップ)。次に、周波数帯域選択部118は、ステップS32において指定されたバンドパスフィルタを選択する(ステップS34:周波数帯域選択ステップ)。
ステップS32では、例えば、周波数帯域選択部118は、被検査体の材質及び欠陥の種類の入力を受け付けるための画面(GUI:Graphical User Interface)を表示部110に表示させ、操作部104を介して、被検査体の材質及び欠陥の種類の入力を受け付ける。ステップS34では、周波数帯域選択部118は、入力された被検査体の材質及び欠陥の種類に応じて、欠陥の検出に適した周波数帯域を特定し、特定した周波数帯域の信号を通過させるバンドパスフィルタを選択する。
次に、周波数帯域選択部118は、トレーニング用画像P10を、ステップS30において選択した周波数帯域に対応する周波数帯域信号に変換する(ステップS40)。
次に、欠陥情報取得部120は、ステップS30において選択した周波数帯域に対応する画像について欠陥情報を取得する(ステップS50:教師データ作成ステップのうち欠陥情報取得ステップ)。
次に、教師データ作成部122は、選択した周波数帯域に対応する画像と欠陥情報に基づいて教師データを作成する(ステップS60:教師データ作成ステップ)。
次に、学習部124は、ステップS60において作成した教師データを用いて、欠陥判定器126の学習を行う(ステップS70:学習ステップ)。ステップS70の学習後の欠陥判定器222は、教師データ作成装置100から欠陥検査装置200に転送される。
図18は、図16の欠陥情報取得ステップにおける処理の流れを示すフローチャートである。
まず、欠陥情報取得部120は、ステップS30において選択した周波数帯域に対応する画像を表示部110に表示させる(ステップS52:表示ステップ)。
次に、欠陥情報取得部120は、操作部104を介して、表示部110に表示された画像に含まれる欠陥の位置及び種類に関する情報を含む欠陥情報の入力を受け付ける(ステップS54)。
図19は、図16の欠陥情報取得ステップにおける処理の流れの別の例を示すフローチャートである。
まず、欠陥情報取得部120は、トレーニング用画像P10の付属情報から、トレーニング用画像P10に含まれる欠陥の位置及び種類に関する情報を含む欠陥情報を取得する(ステップS56)。
次に、欠陥情報取得部120は、欠陥情報に含まれる欠陥の位置及び種類に関する情報と、変換後の画像P20における欠陥の画像及びその位置を示す座標とを関連づけて保存する(ステップS58)。
図18又は図19に記載のプロセスにより、トレーニング用画像P10に含まれる欠陥の位置及び種類に関する情報が教師データ作成装置100に入力される。
[欠陥の検査]
次に、本実施形態に係る欠陥検査方法について、図20を参照して説明する。図20は、本発明の第1の実施形態に係る欠陥検査方法における処理の流れを示すフローチャートである。
まず、検査対象画像取得部214は、撮像システム300等から被検査体画像P30を取得する(ステップS100:検査対象画像取得ステップ)。
次に、周波数分布解析部216は、被検査体画像P30に対して周波数分布解析を施す(ステップS102)。ステップS102における周波数分布解析は、教師データ作成装置100における周波数分布解析(図16のステップS20)と同様の方法で行ってもよい。
次に、被検査体画像P30の被検査体OBJの材質に関する情報を取得する(ステップS104)。被検査体OBJの材質に関する情報は、例えば、操作部204を介して、オペレータからの入力を受け付けることにより取得してもよいし、あらかじめ被検査体画像P30に付属情報として付加されていてもよい。
次に、周波数帯域選択部218は、検査対象の欠陥の種類の指定を受け付ける(ステップS106)。ステップS106では、周波数帯域選択部218は、例えば、操作部204を介して、欠陥の種類の指定入力をオペレータから受け付けてもよい。
次に、周波数帯域選択部218は、ステップS104において取得した被検査体OBJの材質に関する情報と、ステップS106において指定された欠陥の種類に応じて周波数帯域信号を選択する(ステップS108)。ここで、周波数帯域選択部218は、教師データ作成装置100における周波数帯域選択部118と同様に、被検査体の材質及び欠陥の種類に応じて、欠陥の検出に適した周波数帯域に関する情報をあらかじめ記憶しておいてもよい。そして、周波数帯域選択部218は、入力された被検査体の材質及び欠陥の種類に応じて、欠陥の検出に適した周波数帯域を特定し、特定した周波数帯域の信号を通過させるバンドパスフィルタを選択するようにしてもよい。
次に、周波数帯域選択部218は、被検査体画像P30を、ステップS108において選択した周波数帯域に対応する周波数帯域信号に変換する(ステップS110)。ステップS110の変換後の被検査体画像は、教師データの作成に使用する変換後の画像P20と同様に、濃淡が規格化された256階調の濃淡差の画像となる。
次に、欠陥検査部220は、学習後の欠陥判定器222を用いて、ステップS108において選択した周波数帯域に対応する画像に対して欠陥検査を実行する(ステップS112:欠陥検査ステップ)。
次に、欠陥検査部220は、ステップS112における欠陥検査の結果を表示部210に表示させる(ステップS114)。
次に、制御部202は、すべての種類の欠陥について欠陥検査が終了したかどうかを判断する(ステップS116)。すべての種類の欠陥について欠陥検査が終了した場合には(ステップS116のYes)、制御部202は、ステップS114における欠陥検査の結果の表示に加えて、すべての種類の欠陥について欠陥検査が終了したことを示す表示を表示部210に表示させ(ステップS118)、ステップS120に進む。一方、すべての種類の欠陥について欠陥検査が終了していない場合には(ステップS116のNo)、ステップS120に進む。
次に、操作部204を介して、欠陥検査の終了の指示が入力された場合には(ステップS120のYes)、プロセスを終了する。一方、欠陥検査の終了の指示が入力されない場合には(ステップS120のNo)、ステップS114における欠陥検査の結果の表示が継続される。そして、操作部204からの操作入力に応じて、ほかの種類の欠陥の検査(ステップS106)に戻るようにしてもよい。
ステップS112では、欠陥検査部220は、ステップS110における変換後の被検査体画像から個別の欠陥の画像を切り出す。そして、ステップS114において、欠陥検査部220は、個別の欠陥の画像と、欠陥検査の結果としての欠陥の位置及び種類とを並べて表示部210に表示させるようにしてもよい。
さらに、変換後の被検査体画像から切り出した個別の欠陥の画像と、この画像から求められた特徴量を入力とし、欠陥の種類を出力とする教師データを作成して、この教師データを用いて欠陥判定器222に学習を行わせるようにしてもよい。
[第2の実施形態]
図21は、本発明の第2の実施形態に係る欠陥検査システムを示すブロック図である。
第1の実施形態では、教師データ作成装置100と欠陥検査装置200とをそれぞれ独立した装置としたが、教師データ作成装置100と欠陥検査装置200とは、1つの装置として構成されていてもよい。
図21に示すように、本実施形態に係る欠陥検査システム10Aは、図2及び図4に示した教師データ作成装置100の構成に加えて、検査対象画像取得部214及び欠陥検査部220を備えている。本実施形態では、制御部102、操作部104、メモリ106、記録部108、表示部110及び通信I/F112は、教師データ作成と欠陥検査の両プロセスにおいて共通して用いられる。また、周波数分布解析部116及び周波数帯域選択部118は、トレーニング用画像P10に対する処理に加えて、被検査体画像P30に対する処理にも用いられる。
なお、教師データ作成装置100及び欠陥検査装置200に加えて、撮像システム300を含むシステム全体を、同一の制御部、操作部及び表示部を介して制御可能としてもよい。
なお、本発明の各実施形態の適用範囲は、配管等の設備を撮像して得られた画像を用いた欠陥検査に限定されるものではない。本実施形態は、例えば、自動車等の塗装の欠陥の検査、及び半導体製造プロセスにおいて行われるSEM(Scanning Electron Microscope)画像を用いた自動欠陥分類(ADC:Automatic Defect Classification)に適用することも可能である。
本発明は、コンピュータに上記の処理を実現させるプログラム(教師データ作成プログラム欠陥検査プログラム)、又は、このようなプログラムを格納した非一時的な記録媒体又はプログラムプロダクトとして実現することも可能である。このようなプログラムをコンピュータに適用することにより、コンピュータの演算手段、記録手段等に、本実施形態に係る教師データ作成方法及び欠陥検査方法の各ステップに対応する機能を実現させることが可能になる。
各実施形態において、例えば、トレーニング用画像取得部114、周波数分布解析部116、周波数帯域選択部118、欠陥情報取得部120、教師データ作成部122及び学習部124、並びに検査対象画像取得部214、周波数分布解析部216、周波数帯域選択部218及び欠陥検査部220といった各種の処理を実行する処理部(processing unit)のハードウェア的な構造は、次に示すような各種のプロセッサ(processor)として実現することが可能である。各種のプロセッサには、ソフトウェア(プログラム)を実行して各種の処理部として機能する汎用的なプロセッサであるCPU(Central Processing Unit)、FPGA(Field Programmable Gate Array)などの製造後に回路構成を変更可能なプロセッサであるプログラマブルロジックデバイス(Programmable Logic Device:PLD)、ASIC(Application Specific Integrated Circuit)などの特定の処理を実行させるために専用に設計された回路構成を有するプロセッサである専用電気回路などが含まれる。
1つの処理部は、これら各種のプロセッサのうちの1つで構成されていてもよいし、同種または異種の2つ以上のプロセッサ(例えば、複数のFPGA、あるいはCPUとFPGAの組み合わせ)で構成されてもよい。また、複数の処理部を1つのプロセッサで構成してもよい。複数の処理部を1つのプロセッサで構成する例としては、第1に、クライアントやサーバなどのコンピュータに代表されるように、1つ以上のCPUとソフトウェアの組合せで1つのプロセッサを構成し、このプロセッサが複数の処理部として機能する形態がある。第2に、システムオンチップ(System On Chip:SoC)などに代表されるように、複数の処理部を含むシステム全体の機能を1つのIC(Integrated Circuit)チップで実現するプロセッサを使用する形態がある。このように、各種の処理部は、ハードウェア的な構造として、上記各種のプロセッサを1つ以上用いて構成される。
さらに、これらの各種のプロセッサのハードウェア的な構造は、より具体的には、半導体素子などの回路素子を組み合わせた電気回路(circuitry)である。
10、10A 欠陥検査システム
100 教師データ作成装置
102 制御部
104 操作部
106 メモリ
108 記録部
110 表示部
112 通信インターフェース
114 トレーニング用画像取得部
116 周波数分布解析部
118 周波数帯域選択部
120 欠陥情報取得部
122 教師データ作成部
124 学習部
126 学習前の欠陥判定器
200 欠陥検査装置
202 制御部
204 操作部
206 メモリ
208 記録部
210 表示部
212 通信インターフェース
214 検査対象画像取得部
216 周波数分布解析部
218 周波数帯域選択部
220 欠陥検査部
222 学習後の欠陥判定器
P10 トレーニング用画像
P10−1、P10−2、P10−3、…、P10−n トレーニング用画像中の欠陥の画像
P20 変換後のトレーニング用画像
P20−1、P20−2、P20−3、…、P20−n 変換後のトレーニング用画像中の欠陥の画像
P30 被検査体画像
300 撮像システム
302 撮像制御部
304 撮像操作部
306 画像記録部
308 表示部
310 通信インターフェース
312 AD及びDA変換部
314 ステージ
316 ステージ駆動部
318 カメラ
320、322 放射線源
OBJ 被検査体
S10〜S70 教師データ作成方法の各工程
S100〜S120 欠陥検査方法の各工程

Claims (11)

  1. 欠陥を有する被検査体に光線又は放射線を照射することにより得られた前記被検査体からの反射光又は透過光に基づいて作成された受光画像を含むトレーニング用画像を取得するトレーニング用画像取得ステップと、
    前記トレーニング用画像に対して周波数分布解析を実行する周波数分布解析ステップと、
    周波数帯域を指定するためのパラメータの入力を受け付ける入力ステップと、
    前記パラメータにより指定された前記周波数帯域に従って、前記周波数分布解析の解析結果から周波数帯域信号を選択する周波数帯域選択ステップと、
    前記周波数帯域信号に対応する画像に対して、欠陥を示す欠陥情報を取得し、前記欠陥情報に基づいて、前記被検査体の欠陥を検査するための欠陥検査装置の学習に使用される教師データを作成する教師データ作成ステップと、
    を備える教師データ作成方法。
  2. 前記周波数帯域選択ステップにおいて選択した前記周波数帯域信号に対応する画像を表示部に表示する表示ステップを更に備え、
    前記教師データ作成ステップでは、前記表示部に表示された前記周波数帯域信号に対応する画像に対して、欠陥か非欠陥かを示す指示の入力を受け付け、前記指示に基づいて前記教師データを作成する、請求項1記載の教師データ作成方法。
  3. 前記トレーニング用画像取得ステップでは、前記トレーニング用画像に含まれる前記被検査体の欠陥を示す欠陥情報が前記トレーニング用画像と関連づけられて記憶部に格納され、
    前記教師データ作成ステップでは、前記トレーニング用画像と関連づけられて格納された前記欠陥情報を取得して、前記欠陥情報に基づいて前記教師データを作成する、請求項1記載の教師データ作成方法。
  4. 前記教師データ作成ステップでは、前記被検査体の欠陥の種類及び欠陥の位置のうちの少なくとも1つを含む欠陥情報を取得する、請求項3記載の教師データ作成方法。
  5. 前記被検査体の材質及び前記被検査体における欠陥に対応する複数のバンドパスフィルタの登録を受け付けるステップを更に備え、
    前記入力ステップでは、前記複数のバンドパスフィルタの中から、前記周波数帯域信号の選択に使用するバンドパスフィルタを指定するパラメータの入力を受け付け、
    前記周波数帯域選択ステップでは、前記パラメータにより指定されたバンドパスフィルタを用いて前記周波数帯域信号を選択する、請求項1から4のいずれか1項記載の教師データ作成方法。
  6. 前記入力ステップでは、前記被検査体の材質に応じて前記周波数帯域信号の選択に使用するバンドパスフィルタが指定される、請求項5記載の教師データ作成方法。
  7. 前記教師データ作成ステップでは、前記トレーニング用画像から選択された前記周波数帯域信号と、前記欠陥情報を含む教師データが作成される、請求項1から6のいずれか1項記載の教師データ作成方法。
  8. 請求項1から7のいずれか1項記載の教師データ作成方法により作成された教師データを用いて欠陥検査装置における学習を行うステップと、
    検査対象の被検査体に光線又は放射線を照射することにより得られた前記検査対象の被検査体からの反射光又は透過光に基づいて作成された検査対象画像を取得するステップと、
    前記学習を行った前記欠陥検査装置により前記検査対象画像における欠陥を検出する欠陥検査ステップと、
    を備える欠陥検査方法。
  9. 前記欠陥検査ステップは、
    前記検査対象画像に対して周波数分布解析を実行するステップと、
    前記検査対象画像に対する前記周波数分布解析の解析結果から周波数帯域信号を選択するステップと、
    前記検査対象画像に対する前記周波数分布解析の解析結果から選択された周波数帯域信号と、前記教師データに基づいて、前記検査対象画像における欠陥を検出するステップと、
    を備える請求項8記載の欠陥検査方法。
  10. 欠陥を有する被検査体に光線又は放射線を照射することにより得られた前記被検査体からの反射光又は透過光に基づいて作成された受光画像を含むトレーニング用画像を取得するトレーニング用画像取得部と、
    前記トレーニング用画像に対して周波数分布解析を実行する周波数分布解析部と、
    周波数帯域を指定するためのパラメータの入力を受け付ける入力部と、
    前記パラメータにより指定された前記周波数帯域に従って、前記周波数分布解析の解析結果から周波数帯域信号を選択する周波数帯域選択部と、
    前記周波数帯域信号に対応する画像に対して、欠陥を示す欠陥情報を取得する欠陥情報取得部と、
    前記欠陥情報に基づいて、前記被検査体の欠陥を検査するための欠陥検査装置の学習に使用される教師データを作成する教師データ作成部と、
    を備える教師データ作成装置。
  11. 請求項10記載の教師データ作成装置と、
    検査対象の被検査体に光線又は放射線を照射することにより得られた前記検査対象の被検査体からの反射光又は透過光に基づいて作成された検査対象画像を取得する検査対象画像取得部と、
    前記教師データ作成装置により作成された教師データを用いて学習を行い、前記検査対象画像における欠陥を検出する欠陥検査部と、
    を備える欠陥検査装置。
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