JP6802162B2 - 皮膚老化を阻止するための新規な1,2−ジフェニルエチレングリコール化合物及びその美容的使用 - Google Patents
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Description
- 特に、皺及び/又は小皺の外観によって反映される、皺の多い皮膚、
- その粘弾性特性若しくは生体力学的特性の障害を示す皮膚、又は特に、皺だらけな、張りのない、弛緩した、若しくはたるんだ皮膚によって反映される、弾力性及び/若しくは伸縮性及び/若しくは堅さ及び/若しくは柔軟性及び/若しくは張りが低下していることを示す皮膚、
- その組織の結合の障害を示す皮膚、
- 薄い皮膚、並びに
- 皮膚のきめの障害、例えば、粗さによって特に反映される、その表面の外観の障害を示す皮膚
を識別することは可能である。
R3'は-OR基を表し、
Rは水素原子又は直鎖状C1〜C6若しくは分岐状C3〜C6アルキル基又は直鎖状C1〜6アシル基を表す]、
並びに、その光学異性体、立体異性体、及び/又はジアステレオ異性体、及び/又は塩の、皮膚老化の徴候、特に、皺の多い皮膚、その粘弾性特性又は生体力学的特性の障害を示す皮膚、その組織の結合における障害を示す皮膚、薄い皮膚、及びその表面の外観の障害を示す皮膚から選ばれる皮膚の徴候を予防し、かつ/又は減少させる薬剤としての使用に関する。
Rは水素原子又は直鎖状C1〜C6若しくは分岐状C3〜C6アルキル基又は直鎖状C1〜6アシル基を表す]、
並びに、その光学異性体、立体異性体、及び/又はジアステレオ異性体、及び/又は塩に相当する。
R1、R1'、R2、R2'、R3、R4、R4'、R5、及びR5'は独立に、水素原子又は-OR基を表し、
R3'は-OR基を表し、
Rは水素原子又は直鎖状C1〜C6若しくは分岐状C3〜C6アルキル基又は直鎖状C1〜6アシル基を表す。
R1、R1'、R5、及びR5'は水素原子を表し、
R2、R2'、R3、R4、及びR4'は独立に、水素原子又は-OT1基[式中、T1は水素原子又は直鎖状C1〜C4アルキル基を表し;好ましくはT1は水素原子又はメチル基を表す]を表し、
R3'は-OT1基[式中、T1は水素原子又は直鎖状C1〜C4アルキル基を表し;好ましくはT1は水素原子又はメチル基を表す]を表す。
- R1=R1'
- R2=R2'
- R3=R3'
- R4=R4'
- R5=R5'
の化合物、
すなわち、以下の式(II):
Rは、水素原子又は直鎖状C1〜C6若しくは分岐状C3〜C6アルキル基又は直鎖状C1〜6アシル基を表す]
に相当する化合物である。
R1、R2、R4、及びR5は独立に、水素原子又は-OR基[Rは、水素原子又は直鎖状C1〜C6若しくは分岐状C3〜C6アルキル基、又は直鎖状C1〜6アシル基を表す]を表し、
R3は-OR基[Rは、水素原子又は直鎖状C1〜C6若しくは分岐状C3〜C6アルキル基又は直鎖状C1〜6アシル基を表す]を表す。
R1及びR5は水素原子を表し、
R2、R3、及びR4は独立に、水素原子又は-OT2基[式中、T2は水素原子又は直鎖状C1〜C4アルキル基を表す]を表す。
より具体的には、T2は、水素原子又はメチル基を表す。
R1及びR5は水素原子を表し、
R2及びR4は独立に、水素原子又は-OT2基[式中、T2は水素原子又は直鎖状C1〜C4アルキル基を表し、より具体的には、T2は水素原子又はメチル基を表す]を表し、
R3は-OT2基[式中、T2は水素原子又は直鎖状C1〜C4アルキル基を表し、より具体的には、T2は水素原子又はメチル基を表す]を表す。
- R2及びR4は独立に、-OR基を表し、
- R1'、R2'、R3'、R4'、及びR5'は独立に、水素原子又は-OR基を表し、
- Rは、水素原子又は直鎖状C1〜C6若しくは分岐状C3〜C6アルキル基又は直鎖状C1〜6アシル基を表す]
に相当する化合物が選ばれる。
- R2及びR4は独立に、-OR基を表し、
- R1'、R2'、R4'、及びR5'は独立に、水素原子又は-OR基を表し、
- R3'は-OR基を表し、
- Rは、水素原子又は直鎖状C1〜C6若しくは分岐状C3〜C6アルキル基又は直鎖状C1〜6アシル基を表す]
が選ばれる。
ここで、Rは水素原子又は直鎖状C1〜C4アルキル基を表し、より好ましくは、ここで、Rは水素原子又はメチル基を表す]
である。
R4'は、水素原子又は-OR基を表し、
R3'は-OR基
[式中、Rは水素原子又は直鎖状C1〜C4アルキル基を表し、好ましくは、式中、Rは水素原子又はメチル基を表す]
を表す化合物である。
- R2及びR4は独立に、-OR基を表し、
- R1'、R2'、R3'、R4'、及びR5'は独立に、水素原子又は-OR基を表し、
- Rは、水素原子又は直鎖状C1〜C6若しくは分岐状C3〜C6アルキル基又は直鎖状C2〜C6アシル基を表す]
に相当し、但し以下の3つの化合物を除く、新規な化合物である。
- R2及びR4は独立に、-OR基を表し、
- R1'、R2'、R4'、及びR5'は独立に、水素原子又は-OR基を表し、
- R3'は-OR基を表し、
- Rは、水素原子又は直鎖状C1〜C6若しくは分岐状C3〜C6アルキル基又は直鎖状C2〜C6アシル基を表す]
に相当し、但し以下の2つの化合物を除く、新規な化合物である。
ここで、Rは、水素原子又は直鎖状C1〜C4アルキル基を表し、Rは水素原子又はメチル基を表すことが好ましい]
を挙げることができ、但し以下の化合物を除く。
R3'は-OR基を表し、ここでRは水素原子又は直鎖状C1〜C4アルキル基を表し、Rは水素原子又はメチル基を表すことが好ましい]
を挙げることができ、但し以下の化合物を除く。
R1〜R5及び/又はR1'〜R5'のうちの少なくとも1つがヒドロキシル基OHを表すとき、対応するR1a〜R5a基及び/又はR1a'〜R5a'基は、O-Protを表し、Protはヒドロキシル官能基の保護基、特に、-CO-CH3又は-CH2-Phを表す。
置換基R1〜R5及び/又はR1'〜R5'の少なくとも1つがOHを表さないとき、対応するR1a〜R5a基及び/又はR1a'〜R5a'基は、R1〜R5及び/又はR1'〜R5'を表す。
反応は、市販のSharpless系AD-mix-α(供給会社Sigma社、USAから問い合わせ番号392758で市販されている)又はAD-mix-β(供給会社Sigma社、USAから問い合わせ番号392766で市販されている)を使用して実施することができる。
- メタンスルホンアミド(2当量)
- 第1の工程から得られた中間体(すなわち、保護された中間体(B))(1当量)
- ジクロロメタン等の非プロトン性溶媒。
反応媒体は、2〜96時間にわたって0〜70℃に保つ。室温に冷却した後、亜硫酸ナトリウムと接触させながら撹拌し、過酸化物を中和する。生成物を有機溶媒で抽出し、有機相を合わせ、乾燥させ、濃縮する。残渣を、一般的には、シリカゲルのカラムクロマトグラフィーによって精製する。
したがって、例えば、ルテニウム錯体(0.0005当量〜0.20当量)を、無水ジクロロメタン又は無水トルエン等の無水非プロトン性溶媒中のスチレン誘導体(1当量)の溶液に添加する。反応混合物を、不活性雰囲気下で、0.5〜24時間にわたって還流(50〜150℃)する。室温に冷却した後、溶媒を減圧下で留去し、残渣を精製し、予想される中間体(A)を、アセトニトリル等の極性非プロトン性溶媒からの再結晶によって、又はシリカゲルのカラムクロマトグラフィーによってのいずれかで単離する。
特に、組成物は、皮膚、特に、ヒト個体の皮膚への局所適用に適する。
Zhan触媒(供給会社Sigma社、USAから問い合わせ番号762261で市販されている)(44mg、0.061mmol、0.01当量)を、無水トルエン中の市販のアネトール(298mg、2.0mmol)の溶液へ添加する。反応混合物を、不活性雰囲気下(N2)、2時間にわたって110℃に加熱する。室温に冷却した後、トルエンを減圧下で留去し、残渣をシリカゲルのカラムクロマトグラフィー(5/1 ヘキサン/ジクロロメタン)によって精製し、溶媒を留去した後に、白色固形物の形態で中間体(433mg、90%の収率)が単離される。
その1H NMRスペクトル及び質量スペクトルは、予想される構造と一致する。
第1の工程から得られた中間体及びAD-mix-β(1.9g)を、t-BuOH/水の二相混合物(1/1の割合)8mLに溶解し、媒体を室温で16時間にわたって撹拌する。
その1H NMRスペクトル及び質量スペクトルは、予想される構造と一致する。
化合物3は、下記の順序によって、4つの工程で得られる。
Zhan触媒(供給会社Sigma社、USAから問い合わせ番号762261で市販されている)(447mg、0.061mmol、0.01当量)を、無水トルエン(50mL)中の市販のイソオイゲノール(10g、61mmol、1当量)の溶液へ添加する。反応混合物を、不活性雰囲気下、24時間にわたって110℃で加熱する。室温に冷却した後、トルエンを減圧下で留去し、残渣をアセトニトリルから再結晶させると、灰色固形物の形態で予想される中間体(6.0g、75%の収率)が得られる。
DMF(100mL)に溶解した第1の工程から得られた中間体(5.9g、21.8mmol、1当量)を炭酸カリウム(12.0g、87.2mmol、4当量)の存在下、臭化ベンジル(11.2g、65.4mmol、3当量)で処理する。反応混合物を、室温で12時間にわたって撹拌し、次いで、生成物を大量の水(100mL)を添加することによって沈殿させる。ろ過した後に、固形物を水で、次いでヘキサンで洗浄し、真空下で乾燥させる。中間体が、淡黄色固形物(9.8g、95%の収率)の形態で得られる。
AD-mix-β(9g)を、t-BuOH/水の二相混合物(1/1の割合)120mLに溶解し、媒体を、完全に溶解するまで、室温で撹拌する。次いで、以下のものを続けて添加する。
- メタンスルホンアミド(1.3g、13.3mmol、2当量)
- 第2の工程から得られた中間体(3.0g、6.6mmol)
- ジクロロメタン(50ml)
10%Pd/C触媒(200mg)を、1/1のMeOH/EtOAc混合物(40mL)中の第3の工程から得られた中間体の溶液中に懸濁させる。反応媒体を、H2雰囲気下、室温で24時間にわたって撹拌する。触媒をろ過によって除去した後、ろ液を濃縮し、残渣をシリカゲルでのカラムクロマトグラフィー(ジクロロメタン/EtOAc:1/2)によって精製し、溶媒を留去させた後、白色固形物の形態で化合物3(1.0g、85%の収率)が得られる。
1H NMRスペクトル及び質量スペクトルは、予想される構造と一致する。
化合物4は、市販のレスベラトロールから、下記の保護-ジヒドロキシル化-脱保護の順序に従って、3つの工程で得られる。
以下のものを3つ口フラスコへ入れる。
レスベラトロール(1.0g、4.4mmol)
N,N-ジメチルホルムアミド(15ml)
臭化ベンジル(3.4g、19.7mmol、4.5当量)
炭酸カリウム(3.6g、26.3mmol、6当量)
反応混合物を、室温で16時間にわたって撹拌し、次いで、水20mLに注ぎ入れる。こうして形成された固形物をろ別し、水で、次いで石油エーテルで洗浄する。これを真空下で乾燥させると、保護されたレスベラトロールに相当する白色粉末状物(m=2.1g、95%の収率)が得られる。
こうして得られた中間体を、得られたものとして、下記の工程で使用する。
AD-mix-β(26g)を、t-BuOH/水の二相混合物(1/1の割合)200mLに溶解し、媒体を、完全に溶解するまで室温で撹拌する。次いで、以下のものを続けて添加する。
- メタンスルホンアミド(3.5g、37.2mmol)
- 第1の工程から得られた中間体(9.3g、18.6mmol)
- ジクロロメタン(30ml)
反応媒体を、72時間にわたって50℃に保つ。室温に冷却した後、反応媒体を、室温で、亜硫酸ナトリウム(10g)と接触させながら撹拌し、過酸化物を中和する。生成物をジクロロメタンで3回抽出し、有機相を合わせ、硫酸ナトリウムで乾燥させ、濃縮乾固させる。残渣をシリカゲルでのカラムクロマトグラフィー(EtOAc/ヘキサン=1/2)によって精製し、溶媒を留去した後に、淡黄色固形物の形態で予想される中間体(保護された化合物4)(m=7.4g、70%の収率)が得られる。
以下のものを丸底フラスコへ入れる。
- 第2の工程から得られた中間体(11g、20.7mmol)
- 酢酸エチル(50mL)
- メタノール(50mL)
- 10%Pd/C(1.1g)
反応媒体を、水素雰囲気下、室温で8時間にわたって撹拌する。次いで、触媒を、ろ過によって除去し、ろ液を減圧下で濃縮する。残渣を、シリカゲルでのカラムクロマトグラフィー(ジクロロメタン/EtOAc:1/2)によって精製し、溶媒を留去した後に、白色固形物の形態で化合物4(m=4.7g、87%の収率)が得られる。
1H NMRスペクトル及び質量スペクトルは、予想される構造と一致する。
対照(100%)と比較したp-AMPK型/GAPDH比を表す。
百分率は質量ベースで示されている。
グリセロール 12%
40%AMのポリアクリルアミド(SEPPIC社から提供されるSepigel 305)1%AM
α,ω-ヒドロキシル基及びシクロペンタジメチルシロキサン基(15/85)を含むポリジメチルシロキサンの混合物 2%
保存剤 適量
芳香剤 適量
水 全体を100%にする適量
AM:活性物質
Claims (20)
R3'は-OR基を表し、
Rは水素原子又は直鎖状C1〜C6若しくは分岐状C3〜C6アルキル基又は直鎖状C1〜6アシル基を表す]
の化合物、並びにその光学異性体、立体異性体、ジアステレオ異性体、及び/又は塩の、
皮膚老化の徴候、特に、皺の多い皮膚、その粘弾性特性又は生体力学的特性の障害を示す皮膚、その組織の結合における障害を示す皮膚、薄い皮膚、及びその表面の外観の障害を示す皮膚から選ばれる皮膚の徴候を予防及び/又は減少させる薬剤としての使用。
R1、R1'、R5、及びR5'は水素原子を表し、
R2、R2'、R3、R4、及びR4'は独立に、水素原子又は-OT1基[式中、T1は、水素原子又は直鎖状C1〜C4アルキル基を表し、好ましくはT1は水素原子又はメチル基を表す]を表し、
R3'は-OT1基[式中、T1は水素原子又は直鎖状C1〜C4アルキル基を表し、好ましくはT1は水素原子又はメチル基を表す]を表すことを特徴とする、
請求項1に記載の使用。
Rは水素原子又は直鎖状C1〜C6若しくは分岐状C3〜C6アルキル基又は直鎖状C1〜6アシル基を表し、
R3は-OR基を表し、Rは水素原子又は直鎖状C1〜C6若しくは分岐状C3〜C6アルキル基又は直鎖状C1〜6アシル基を表す]
であることを特徴とする、請求項1又は2に記載の使用。
R2及びR4は独立に、水素原子又は-OT2基を表し、T2は水素原子又は直鎖状C1〜C4アルキル基を表し、特に、T2は水素原子又はメチル基を表し、
R3は-OT2基を表し、T2は水素原子又は直鎖状C1〜C4アルキル基を表し、特に、T2は水素原子又はメチル基を表す、
請求項3に記載の使用。
- R2及びR4は独立に、-ORを表し、
- R1'、R2'、R4'、及びR5'は独立に、水素原子又は-OR基を表し、
- R3'は-OR基を表し、
- Rは、水素原子又は直鎖状C1〜C6若しくは分岐状C3〜C6アルキル基又は直鎖状C1〜6アシル基を表す]
であることを特徴とする、請求項1又は2に記載の使用。
- R2及びR4は独立に、-OR基を表し、
- R1'、R2'、R4'、及びR5'は独立に、水素原子又は-OR基を表し、
- R3'は-OR基を表し、
- Rは、水素原子又は直鎖状C1〜C6若しくは分岐状C3〜C6アルキル基又は直鎖状C2〜C6アシル基を表す]
であって、
但し以下の3つの化合物を除く、化合物。
R3'は-OR基を表し、ここで、Rは水素原子又は直鎖状C1〜C4アルキル基を表し、Rは水素原子又はメチル基を表すことが好ましい]
であり、
但し以下の化合物を除くことを特徴とする、請求項11に記載の化合物。
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