JP6798071B2 - 改善された靭性および耐高温性を有する付加造形用放射線硬化性組成物 - Google Patents
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- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 133
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 title claims description 61
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 139
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 139
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 99
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 claims description 98
- -1 fatty acid polyol Chemical class 0.000 claims description 98
- 239000005060 rubber Substances 0.000 claims description 98
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 90
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 50
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 claims description 47
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 claims description 44
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 claims description 41
- 229920002521 macromolecule Polymers 0.000 claims description 41
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims description 38
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 36
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims description 34
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 33
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 29
- 239000012952 cationic photoinitiator Substances 0.000 claims description 28
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 28
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 28
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 claims description 24
- 238000001723 curing Methods 0.000 claims description 21
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 20
- 239000012949 free radical photoinitiator Substances 0.000 claims description 19
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 17
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 claims description 14
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 claims description 14
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 claims description 14
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 claims description 13
- 239000012071 phase Substances 0.000 claims description 11
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 11
- 239000000539 dimer Substances 0.000 claims description 10
- 239000003784 tall oil Substances 0.000 claims description 10
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 claims description 10
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 claims description 8
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 7
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 claims description 7
- 229920000428 triblock copolymer Polymers 0.000 claims description 7
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 claims description 4
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 claims description 4
- 239000000376 reactant Substances 0.000 claims description 4
- 238000006735 epoxidation reaction Methods 0.000 claims description 3
- 238000003847 radiation curing Methods 0.000 claims description 3
- 235000015112 vegetable and seed oil Nutrition 0.000 claims description 3
- 239000008158 vegetable oil Substances 0.000 claims description 3
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 claims description 2
- RVGRUAULSDPKGF-UHFFFAOYSA-N Poloxamer Chemical compound C1CO1.CC1CO1 RVGRUAULSDPKGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 claims 1
- 238000007792 addition Methods 0.000 description 37
- 239000000463 material Substances 0.000 description 23
- 239000012745 toughening agent Substances 0.000 description 23
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 20
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 19
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 18
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 14
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 14
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 13
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 12
- LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N Bisphenol A diglycidyl ether Chemical compound C=1C=C(OCC2OC2)C=CC=1C(C)(C)C(C=C1)=CC=C1OCC1CO1 LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 description 11
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 10
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 9
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 9
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 9
- LWNGJAHMBMVCJR-UHFFFAOYSA-N (2,3,4,5,6-pentafluorophenoxy)boronic acid Chemical compound OB(O)OC1=C(F)C(F)=C(F)C(F)=C1F LWNGJAHMBMVCJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 8
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- AHHWIHXENZJRFG-UHFFFAOYSA-N oxetane Chemical class C1COC1 AHHWIHXENZJRFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 8
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 8
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 8
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 7
- 239000005041 Mylar™ Substances 0.000 description 7
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 7
- 239000000412 dendrimer Substances 0.000 description 7
- 229920000736 dendritic polymer Polymers 0.000 description 7
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 7
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 7
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 7
- JNELGWHKGNBSMD-UHFFFAOYSA-N xanthone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3OC2=C1 JNELGWHKGNBSMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 6
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 6
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 6
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 6
- 238000009864 tensile test Methods 0.000 description 6
- YXALYBMHAYZKAP-UHFFFAOYSA-N 7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-ylmethyl 7-oxabicyclo[4.1.0]heptane-4-carboxylate Chemical compound C1CC2OC2CC1C(=O)OCC1CC2OC2CC1 YXALYBMHAYZKAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 5
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 5
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- VYHBFRJRBHMIQZ-UHFFFAOYSA-N bis[4-(diethylamino)phenyl]methanone Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(CC)CC)C=C1 VYHBFRJRBHMIQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 5
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 5
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 description 5
- 125000005409 triarylsulfonium group Chemical group 0.000 description 5
- ULNJZOIDTANZKR-UHFFFAOYSA-N tris[4-(4-acetylphenyl)sulfanylphenyl]sulfanium Chemical compound C1=CC(C(=O)C)=CC=C1SC1=CC=C([S+](C=2C=CC(SC=3C=CC(=CC=3)C(C)=O)=CC=2)C=2C=CC(SC=3C=CC(=CC=3)C(C)=O)=CC=2)C=C1 ULNJZOIDTANZKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 1755-01-7 Chemical compound C1[C@H]2[C@@H]3CC=C[C@@H]3[C@@H]1C=C2 HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 0.000 description 4
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010547 Norrish type II reaction Methods 0.000 description 4
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910018286 SbF 6 Inorganic materials 0.000 description 4
- 241000271897 Viperidae Species 0.000 description 4
- DBHQYYNDKZDVTN-UHFFFAOYSA-N [4-(4-methylphenyl)sulfanylphenyl]-phenylmethanone Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1SC1=CC=C(C(=O)C=2C=CC=CC=2)C=C1 DBHQYYNDKZDVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 4
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 4
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 4
- 230000001143 conditioned effect Effects 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 4
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 4
- 239000000852 hydrogen donor Substances 0.000 description 4
- 235000021388 linseed oil Nutrition 0.000 description 4
- 239000000944 linseed oil Substances 0.000 description 4
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 4
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 4
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 4
- 235000012424 soybean oil Nutrition 0.000 description 4
- 239000003549 soybean oil Substances 0.000 description 4
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YIKSHDNOAYSSPX-UHFFFAOYSA-N 1-propan-2-ylthioxanthen-9-one Chemical compound S1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2C(C)C YIKSHDNOAYSSPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BXGYYDRIMBPOMN-UHFFFAOYSA-N 2-(hydroxymethoxy)ethoxymethanol Chemical compound OCOCCOCO BXGYYDRIMBPOMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FNYWFRSQRHGKJT-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxymethyl]oxetane Chemical compound C1OCC1(CC)COCC1(CC)COC1 FNYWFRSQRHGKJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N Borate Chemical compound [O-]B([O-])[O-] BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HLJYBXJFKDDIBI-UHFFFAOYSA-N O=[PH2]C(=O)C1=CC=CC=C1 Chemical compound O=[PH2]C(=O)C1=CC=CC=C1 HLJYBXJFKDDIBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 3
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 3
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 3
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 3
- XUCHXOAWJMEFLF-UHFFFAOYSA-N bisphenol F diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COC(C=C1)=CC=C1CC(C=C1)=CC=C1OCC1CO1 XUCHXOAWJMEFLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000011960 computer-aided design Methods 0.000 description 3
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 3
- 239000011258 core-shell material Substances 0.000 description 3
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 3
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 3
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000009863 impact test Methods 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 125000003566 oxetanyl group Chemical group 0.000 description 3
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003356 phenylsulfanyl group Chemical group [*]SC1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 3
- UFTFJSFQGQCHQW-UHFFFAOYSA-N triformin Chemical compound O=COCC(OC=O)COC=O UFTFJSFQGQCHQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LENZDBCJOHFCAS-UHFFFAOYSA-N tris Chemical compound OCC(N)(CO)CO LENZDBCJOHFCAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N (+)-borneol Chemical group C1C[C@@]2(C)[C@@H](O)C[C@@H]1C2(C)C DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N 0.000 description 2
- WWMFRKPUQJRNBY-UHFFFAOYSA-N (2,3-dimethoxyphenyl)-phenylmethanone Chemical compound COC1=CC=CC(C(=O)C=2C=CC=CC=2)=C1OC WWMFRKPUQJRNBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UNMJLQGKEDTEKJ-UHFFFAOYSA-N (3-ethyloxetan-3-yl)methanol Chemical compound CCC1(CO)COC1 UNMJLQGKEDTEKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WXPWZZHELZEVPO-UHFFFAOYSA-N (4-methylphenyl)-phenylmethanone Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 WXPWZZHELZEVPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BPXVHIRIPLPOPT-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris(2-hydroxyethyl)-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound OCCN1C(=O)N(CCO)C(=O)N(CCO)C1=O BPXVHIRIPLPOPT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YQMXOIAIYXXXEE-UHFFFAOYSA-N 1-benzylpyrrolidin-3-ol Chemical compound C1C(O)CCN1CC1=CC=CC=C1 YQMXOIAIYXXXEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VKQJCUYEEABXNK-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-4-propoxythioxanthen-9-one Chemical compound S1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C(OCCC)=CC=C2Cl VKQJCUYEEABXNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012956 1-hydroxycyclohexylphenyl-ketone Substances 0.000 description 2
- BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 2,4-diethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC(CC)=C3SC2=C1 BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GHTVHGGJFHMYBA-UHFFFAOYSA-N 2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptane-4-carbonyloxy)ethyl 7-oxabicyclo[4.1.0]heptane-4-carboxylate Chemical compound C1CC2OC2CC1C(=O)OCCOC(=O)C1CC2OC2CC1 GHTVHGGJFHMYBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PUBNJSZGANKUGX-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)-2-[(4-methylphenyl)methyl]-1-(4-morpholin-4-ylphenyl)butan-1-one Chemical compound C=1C=C(N2CCOCC2)C=CC=1C(=O)C(CC)(N(C)C)CC1=CC=C(C)C=C1 PUBNJSZGANKUGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AOBIOSPNXBMOAT-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)ethoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCOCC1CO1 AOBIOSPNXBMOAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SHKUUQIDMUMQQK-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(oxiran-2-ylmethoxy)butoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCCCOCC1CO1 SHKUUQIDMUMQQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KUAUJXBLDYVELT-UHFFFAOYSA-N 2-[[2,2-dimethyl-3-(oxiran-2-ylmethoxy)propoxy]methyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCC(C)(C)COCC1CO1 KUAUJXBLDYVELT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 2-benzyl-2-(dimethylamino)-1-(4-morpholin-4-ylphenyl)butan-1-one Chemical compound C=1C=C(N2CCOCC2)C=CC=1C(=O)C(CC)(N(C)C)CC1=CC=CC=C1 UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GJYCVCVHRSWLNY-UHFFFAOYSA-N 2-butylphenol Chemical compound CCCCC1=CC=CC=C1O GJYCVCVHRSWLNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 2-chlorothioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(Cl)=CC=C3SC2=C1 ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TZLVUWBGUNVFES-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-5-methylpyrazol-3-amine Chemical compound CCN1N=C(C)C=C1N TZLVUWBGUNVFES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QPXVRLXJHPTCPW-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-(4-propan-2-ylphenyl)propan-1-one Chemical compound CC(C)C1=CC=C(C(=O)C(C)(C)O)C=C1 QPXVRLXJHPTCPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GYMFBYTZOGMSQJ-UHFFFAOYSA-N 2-methylanthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC(C)=CC=C3C=C21 GYMFBYTZOGMSQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NJWGQARXZDRHCD-UHFFFAOYSA-N 2-methylanthraquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C)=CC=C3C(=O)C2=C1 NJWGQARXZDRHCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SLJFKNONPLNAPF-UHFFFAOYSA-N 3-Vinyl-7-oxabicyclo[4.1.0]heptane Chemical compound C1C(C=C)CCC2OC21 SLJFKNONPLNAPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BIDWUUDRRVHZLQ-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-(2-ethylhexoxymethyl)oxetane Chemical compound CCCCC(CC)COCC1(CC)COC1 BIDWUUDRRVHZLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HYYPKCMPDGCDHE-UHFFFAOYSA-N 4-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-ylmethyl)-7-oxabicyclo[4.1.0]heptane Chemical compound C1CC2OC2CC1CC1CC2OC2CC1 HYYPKCMPDGCDHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YFLRTUOBKDGQDO-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-ylmethoxy)ethoxymethyl]-7-oxabicyclo[4.1.0]heptane Chemical compound C1CC2OC2CC1COCCOCC1CC2OC2CC1 YFLRTUOBKDGQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XAYDWGMOPRHLEP-UHFFFAOYSA-N 6-ethenyl-7-oxabicyclo[4.1.0]heptane Chemical compound C1CCCC2OC21C=C XAYDWGMOPRHLEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910017008 AsF 6 Inorganic materials 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ILKOAJGHVUCDIV-UHFFFAOYSA-N FC1=CC=C(N2C=CC=C2)C(F)=C1[Ti]C(C=1F)=C(F)C=CC=1N1C=CC=C1 Chemical compound FC1=CC=C(N2C=CC=C2)C(F)=C1[Ti]C(C=1F)=C(F)C=CC=1N1C=CC=C1 ILKOAJGHVUCDIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQSMEZJWJJVYOI-UHFFFAOYSA-N Methyl 2-benzoylbenzoate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 NQSMEZJWJJVYOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010546 Norrish type I reaction Methods 0.000 description 2
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 2
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 2
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZGHGKVNECBNXBN-UHFFFAOYSA-N [4-[4-(3-chlorobenzoyl)phenyl]sulfanylphenyl]-bis(4-fluorophenyl)sulfanium Chemical compound C1=CC(F)=CC=C1[S+](C=1C=CC(SC=2C=CC(=CC=2)C(=O)C=2C=C(Cl)C=CC=2)=CC=1)C1=CC=C(F)C=C1 ZGHGKVNECBNXBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 150000008365 aromatic ketones Chemical class 0.000 description 2
- DJUWPHRCMMMSCV-UHFFFAOYSA-N bis(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-ylmethyl) hexanedioate Chemical compound C1CC2OC2CC1COC(=O)CCCCC(=O)OCC1CC2OC2CC1 DJUWPHRCMMMSCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LMMDJMWIHPEQSJ-UHFFFAOYSA-N bis[(3-methyl-7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)methyl] hexanedioate Chemical compound C1C2OC2CC(C)C1COC(=O)CCCCC(=O)OCC1CC2OC2CC1C LMMDJMWIHPEQSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N bis[2-(1-hydroxycyclohexyl)phenyl]methanone Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)C2(O)CCCCC2)C=1C1(O)CCCCC1 MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QDHFHIQKOVNCNC-UHFFFAOYSA-M butane-1-sulfonate Chemical compound CCCCS([O-])(=O)=O QDHFHIQKOVNCNC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- 150000004294 cyclic thioethers Chemical class 0.000 description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005520 diaryliodonium group Chemical group 0.000 description 2
- 239000012973 diazabicyclooctane Substances 0.000 description 2
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 2
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 2
- 229920003247 engineering thermoplastic Polymers 0.000 description 2
- 150000002118 epoxides Chemical class 0.000 description 2
- HOCOIDRZLNGZMV-UHFFFAOYSA-N ethoxy(oxido)phosphanium Chemical compound CCO[PH2]=O HOCOIDRZLNGZMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- MUTGBJKUEZFXGO-UHFFFAOYSA-N hexahydrophthalic anhydride Chemical compound C1CCCC2C(=O)OC(=O)C21 MUTGBJKUEZFXGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000587 hyperbranched polymer Polymers 0.000 description 2
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 2
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 2
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 2
- LGRLWUINFJPLSH-UHFFFAOYSA-N methanide Chemical compound [CH3-] LGRLWUINFJPLSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- YLHXLHGIAMFFBU-UHFFFAOYSA-N methyl phenylglyoxalate Chemical compound COC(=O)C(=O)C1=CC=CC=C1 YLHXLHGIAMFFBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002816 methylsulfanyl group Chemical group [H]C([H])([H])S[*] 0.000 description 2
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 2
- 235000019198 oils Nutrition 0.000 description 2
- HPAFOABSQZMTHE-UHFFFAOYSA-N phenyl-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 HPAFOABSQZMTHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 2
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920005906 polyester polyol Polymers 0.000 description 2
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 2
- 238000011417 postcuring Methods 0.000 description 2
- NGDMLQSGYUCLDC-UHFFFAOYSA-N pyren-1-ylmethanol Chemical compound C1=C2C(CO)=CC=C(C=C3)C2=C2C3=CC=CC2=C1 NGDMLQSGYUCLDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BBEAQIROQSPTKN-UHFFFAOYSA-N pyrene Chemical compound C1=CC=C2C=CC3=CC=CC4=CC=C1C2=C43 BBEAQIROQSPTKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007151 ring opening polymerisation reaction Methods 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N triethylenediamine Chemical compound C1CN2CCN1CC2 IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JFZKOODUSFUFIZ-UHFFFAOYSA-N trifluoro phosphate Chemical compound FOP(=O)(OF)OF JFZKOODUSFUFIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MXFQRSUWYYSPOC-UHFFFAOYSA-N (2,2-dimethyl-3-prop-2-enoyloxypropyl) prop-2-enoate Chemical class C=CC(=O)OCC(C)(C)COC(=O)C=C MXFQRSUWYYSPOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBBVGTDZNACBIW-UHFFFAOYSA-N (2,3,5,6-tetrafluoro-4-methoxyphenoxy)boronic acid Chemical compound COC1=C(F)C(F)=C(OB(O)O)C(F)=C1F XBBVGTDZNACBIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KQQSTPXKXXMWOJ-UHFFFAOYSA-N (3,5-difluoro-4-methoxyphenoxy)boronic acid Chemical compound FC=1C=C(C=C(C=1OC)F)OB(O)O KQQSTPXKXXMWOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MUTGBJKUEZFXGO-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,5,6,7,7a-hexahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1CCC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 MUTGBJKUEZFXGO-OLQVQODUSA-N 0.000 description 1
- QKAIFCSOWIMRJG-UHFFFAOYSA-N (4-methylphenyl)-(4-propan-2-ylphenyl)iodanium Chemical compound C1=CC(C(C)C)=CC=C1[I+]C1=CC=C(C)C=C1 QKAIFCSOWIMRJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CCEFMUBVSUDRLG-KXUCPTDWSA-N (4R)-limonene 1,2-epoxide Natural products C1[C@H](C(=C)C)CC[C@@]2(C)O[C@H]21 CCEFMUBVSUDRLG-KXUCPTDWSA-N 0.000 description 1
- CYIGRWUIQAVBFG-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(2-ethenoxyethoxy)ethane Chemical class C=COCCOCCOCCOC=C CYIGRWUIQAVBFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VNQXSTWCDUXYEZ-UHFFFAOYSA-N 1,7,7-trimethylbicyclo[2.2.1]heptane-2,3-dione Chemical compound C1CC2(C)C(=O)C(=O)C1C2(C)C VNQXSTWCDUXYEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WEEGYLXZBRQIMU-UHFFFAOYSA-N 1,8-cineole Natural products C1CC2CCC1(C)OC2(C)C WEEGYLXZBRQIMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AWOGBOARESKNBA-UHFFFAOYSA-N 1-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxy]propan-2-ol Chemical class CC(O)COCC1(CC)COC1 AWOGBOARESKNBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SRIHSAFSOOUEGL-UHFFFAOYSA-N 1-chloroanthracene Chemical compound C1=CC=C2C=C3C(Cl)=CC=CC3=CC2=C1 SRIHSAFSOOUEGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOCJQSFSGAZAPQ-UHFFFAOYSA-N 1-chloroanthracene-9,10-dione Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2Cl BOCJQSFSGAZAPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SDXHBDVTZNMBEW-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-hydroxyethoxy)ethanol Chemical compound CCOC(O)COCCO SDXHBDVTZNMBEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CSCSROFYRUZJJH-UHFFFAOYSA-N 1-methoxyethane-1,2-diol Chemical compound COC(O)CO CSCSROFYRUZJJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLPJNCYCZORXHG-UHFFFAOYSA-N 1-morpholin-4-ylprop-2-en-1-one Chemical compound C=CC(=O)N1CCOCC1 XLPJNCYCZORXHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZONJATNKKGGVSU-UHFFFAOYSA-N 14-methylpentadecanoic acid Chemical compound CC(C)CCCCCCCCCCCCC(O)=O ZONJATNKKGGVSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVSKIKFHRZPJSS-UHFFFAOYSA-N 2,4-D Chemical compound OC(=O)COC1=CC=C(Cl)C=C1Cl OVSKIKFHRZPJSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUBDPQJOLOUJRM-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)oxirane;4-[2-(4-hydroxyphenyl)propan-2-yl]phenol Chemical compound ClCC1CO1.C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 KUBDPQJOLOUJRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZGHZSTWONPNWHV-UHFFFAOYSA-N 2-(oxiran-2-yl)ethyl octadecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCCC1CO1 ZGHZSTWONPNWHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJKGAPPUXSSCFI-UHFFFAOYSA-N 2-Hydroxy-4'-(2-hydroxyethoxy)-2-methylpropiophenone Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=C(OCCO)C=C1 GJKGAPPUXSSCFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MJNGDTGKCWWIOP-UHFFFAOYSA-N 2-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxy]ethanol Chemical class OCCOCC1(CC)COC1 MJNGDTGKCWWIOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SYEWHONLFGZGLK-UHFFFAOYSA-N 2-[1,3-bis(oxiran-2-ylmethoxy)propan-2-yloxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCC(OCC1OC1)COCC1CO1 SYEWHONLFGZGLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-hydroxypropoxy)propoxy]propan-1-ol Chemical compound CC(O)COC(C)COC(C)CO LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DVSDTPMZVLDKRT-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxy]butoxy]ethanol Chemical compound OCCOCC(CC)OCC1(CC)COC1 DVSDTPMZVLDKRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WTYYGFLRBWMFRY-UHFFFAOYSA-N 2-[6-(oxiran-2-ylmethoxy)hexoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCCCCCOCC1CO1 WTYYGFLRBWMFRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SURWYRGVICLUBJ-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-9,10-dimethoxyanthracene Chemical compound C1=CC=CC2=C(OC)C3=CC(CC)=CC=C3C(OC)=C21 SURWYRGVICLUBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 2-ethylanthraquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC=C3C(=O)C2=C1 SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical class OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYBPLXLPOLAWTE-UHFFFAOYSA-N 2-pentylanthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC(CCCCC)=CC=C3C=C21 WYBPLXLPOLAWTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMWZLYTVXQBTTE-UHFFFAOYSA-N 2-pentylanthracene-9,10-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CCCCC)=CC=C3C(=O)C2=C1 UMWZLYTVXQBTTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RLQZIECDMISZHS-UHFFFAOYSA-N 2-phenylcyclohexa-2,5-diene-1,4-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)C(C=2C=CC=CC=2)=C1 RLQZIECDMISZHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OILWEQNBDUGJQS-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-9,10-dimethoxyanthracene Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C2C(OC)=C(C=CC=C3)C3=C(OC)C2=C1 OILWEQNBDUGJQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBPXZSIKOVBSAS-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butylanthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC(C(C)(C)C)=CC=C3C=C21 WBPXZSIKOVBSAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTPSFXZMJKMUJE-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butylanthracene-9,10-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C(C)(C)C)=CC=C3C(=O)C2=C1 YTPSFXZMJKMUJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXCRXPYEAMCJKH-UHFFFAOYSA-N 3,3,4-trimethyloxepan-2-one Chemical compound CC1CCCOC(=O)C1(C)C XXCRXPYEAMCJKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKBJETRCOHGWRJ-UHFFFAOYSA-N 3-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxy]propan-1-ol Chemical compound OCCCOCC1(CC)COC1 DKBJETRCOHGWRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FVGDNYRHKDREFL-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-(1-phenoxyethoxymethyl)oxetane Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC(C)OCC1(CC)COC1 FVGDNYRHKDREFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWGAXPBJOGFFMY-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-(2-methylpropoxymethoxymethyl)oxetane Chemical compound CC(C)COCOCC1(CC)COC1 PWGAXPBJOGFFMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUXZNIDKDPLYBY-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-(phenoxymethyl)oxetane Chemical compound C=1C=CC=CC=1OCC1(CC)COC1 JUXZNIDKDPLYBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PENKVNGNXDMJKV-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-[(4-methoxyphenyl)methoxymethyl]oxetane Chemical compound C=1C=C(OC)C=CC=1COCC1(CC)COC1 PENKVNGNXDMJKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LMIOYAVXLAOXJI-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-[[4-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxymethyl]phenyl]methoxymethyl]oxetane Chemical compound C=1C=C(COCC2(CC)COC2)C=CC=1COCC1(CC)COC1 LMIOYAVXLAOXJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MECNWXGGNCJFQJ-UHFFFAOYSA-N 3-piperidin-1-ylpropane-1,2-diol Chemical compound OCC(O)CN1CCCCC1 MECNWXGGNCJFQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RBMGGZPJAZDWNE-UHFFFAOYSA-N 4-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxy]butan-1-ol Chemical compound OCCCCOCC1(CC)COC1 RBMGGZPJAZDWNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YHTLGFCVBKENTE-UHFFFAOYSA-N 4-methyloxan-2-one Chemical compound CC1CCOC(=O)C1 YHTLGFCVBKENTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OECTYKWYRCHAKR-UHFFFAOYSA-N 4-vinylcyclohexene dioxide Chemical compound C1OC1C1CC2OC2CC1 OECTYKWYRCHAKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XEUBDFWTYXHKJO-UHFFFAOYSA-N 5-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxy]pentan-1-ol Chemical compound OCCCCCOCC1(CC)COC1 XEUBDFWTYXHKJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXQXGKNECHBVMO-UHFFFAOYSA-N 7-oxabicyclo[4.1.0]heptane-4-carboxylic acid Chemical compound C1C(C(=O)O)CCC2OC21 OXQXGKNECHBVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KSMGAOMUPSQGTB-UHFFFAOYSA-N 9,10-dibutoxyanthracene Chemical compound C1=CC=C2C(OCCCC)=C(C=CC=C3)C3=C(OCCCC)C2=C1 KSMGAOMUPSQGTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUWFDADDJOUNDL-UHFFFAOYSA-N 9,10-diethoxy-2-ethylanthracene Chemical compound CCC1=CC=C2C(OCC)=C(C=CC=C3)C3=C(OCC)C2=C1 FUWFDADDJOUNDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSMYTXQTSBPOET-UHFFFAOYSA-N 9,10-diethoxy-2-methylanthracene Chemical compound CC1=CC=C2C(OCC)=C(C=CC=C3)C3=C(OCC)C2=C1 GSMYTXQTSBPOET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJNKQJAJXSUJBO-UHFFFAOYSA-N 9,10-diethoxyanthracene Chemical compound C1=CC=C2C(OCC)=C(C=CC=C3)C3=C(OCC)C2=C1 GJNKQJAJXSUJBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POZLBXWIDXSEJK-UHFFFAOYSA-N 9,10-dimethoxy-2-methylanthracene Chemical compound CC1=CC=C2C(OC)=C(C=CC=C3)C3=C(OC)C2=C1 POZLBXWIDXSEJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JWJMBKSFTTXMLL-UHFFFAOYSA-N 9,10-dimethoxyanthracene Chemical compound C1=CC=C2C(OC)=C(C=CC=C3)C3=C(OC)C2=C1 JWJMBKSFTTXMLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBQJFQVDEJMUTF-UHFFFAOYSA-N 9,10-dipropoxyanthracene Chemical compound C1=CC=C2C(OCCC)=C(C=CC=C3)C3=C(OCCC)C2=C1 LBQJFQVDEJMUTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZYVSUCHYXIIWRE-UHFFFAOYSA-N C(C=C)(=O)O.C(C=C)(=O)O.CO.CO.C=CC=CC Chemical class C(C=C)(=O)O.C(C=C)(=O)O.CO.CO.C=CC=CC ZYVSUCHYXIIWRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- 241000579895 Chlorostilbon Species 0.000 description 1
- 239000004971 Cross linker Substances 0.000 description 1
- 239000004803 Di-2ethylhexylphthalate Substances 0.000 description 1
- 239000004129 EU approved improving agent Substances 0.000 description 1
- CCEFMUBVSUDRLG-XNWIYYODSA-N Limonene-1,2-epoxide Chemical compound C1[C@H](C(=C)C)CCC2(C)OC21 CCEFMUBVSUDRLG-XNWIYYODSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical class C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019484 Rapeseed oil Nutrition 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M Sodium bicarbonate-14C Chemical compound [Na+].O[14C]([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M 0.000 description 1
- 244000062793 Sorghum vulgare Species 0.000 description 1
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000705989 Tetrax Species 0.000 description 1
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical compound ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 description 1
- 230000037338 UVA radiation Effects 0.000 description 1
- 235000019498 Walnut oil Nutrition 0.000 description 1
- REUQOSNMSWLNPD-UHFFFAOYSA-N [2-(diethylamino)phenyl]-phenylmethanone Chemical compound CCN(CC)C1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 REUQOSNMSWLNPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- INXWLSDYDXPENO-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(CO)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C INXWLSDYDXPENO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MZVQCMJNVPIDEA-UHFFFAOYSA-N [CH2]CN(CC)CC Chemical group [CH2]CN(CC)CC MZVQCMJNVPIDEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTVPWGHMBHYUAX-UHFFFAOYSA-N [Fe].[CH]1C=CC=C1 Chemical compound [Fe].[CH]1C=CC=C1 OTVPWGHMBHYUAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GUCYFKSBFREPBC-UHFFFAOYSA-N [phenyl-(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphoryl]-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C(=O)C1=C(C)C=C(C)C=C1C GUCYFKSBFREPBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- JCJNNHDZTLRSGN-UHFFFAOYSA-N anthracen-9-ylmethanol Chemical compound C1=CC=C2C(CO)=C(C=CC=C3)C3=CC2=C1 JCJNNHDZTLRSGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-M benzenesulfonate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940077388 benzenesulfonate Drugs 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 1
- CQAIBOSCGCTHPV-UHFFFAOYSA-N bis(1-hydroxycyclohexa-2,4-dien-1-yl)methanone Chemical class C1C=CC=CC1(O)C(=O)C1(O)CC=CC=C1 CQAIBOSCGCTHPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULDQRQPAMMXVIS-UHFFFAOYSA-N bis(4-fluorophenyl)-phenylsulfanium Chemical compound C1=CC(F)=CC=C1[S+](C=1C=CC(F)=CC=1)C1=CC=CC=C1 ULDQRQPAMMXVIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229930006711 bornane-2,3-dione Natural products 0.000 description 1
- 125000006226 butoxyethyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000001728 carbonyl compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000002843 carboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000000306 component Substances 0.000 description 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 1
- 230000003750 conditioning effect Effects 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- 150000004292 cyclic ethers Chemical group 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000006356 dehydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009795 derivation Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 230000001627 detrimental effect Effects 0.000 description 1
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 description 1
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002147 dimethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- OGGXGZAMXPVRFZ-UHFFFAOYSA-N dimethylarsinic acid Chemical compound C[As](C)(O)=O OGGXGZAMXPVRFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUXJJBJXVZIIMV-UHFFFAOYSA-N dioctyl cyclohexane-1,2-dicarboxylate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)C1CCCCC1C(=O)OCCCCCCCC FUXJJBJXVZIIMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PODOEQVNFJSWIK-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphoryl-(2,4,6-trimethoxyphenyl)methanone Chemical compound COC1=CC(OC)=CC(OC)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 PODOEQVNFJSWIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphoryl-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007884 disintegrant Substances 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 229910052876 emerald Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010976 emerald Substances 0.000 description 1
- 229920006351 engineering plastic Polymers 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000005448 ethoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- KTWOOEGAPBSYNW-UHFFFAOYSA-N ferrocene Chemical compound [Fe+2].C=1C=C[CH-]C=1.C=1C=C[CH-]C=1 KTWOOEGAPBSYNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012847 fine chemical Substances 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N fluoranthrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=C22)=C3C2=CC=CC3=C1 GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DWYMPOCYEZONEA-UHFFFAOYSA-L fluoridophosphate Chemical class [O-]P([O-])(F)=O DWYMPOCYEZONEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004216 fluoromethyl group Chemical group [H]C([H])(F)* 0.000 description 1
- 239000012634 fragment Substances 0.000 description 1
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 1
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 1
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- JMOLZNNXZPAGBH-UHFFFAOYSA-N hexyldecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCC(C(O)=O)CCCCCC JMOLZNNXZPAGBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229950004531 hexyldecanoic acid Drugs 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 125000004029 hydroxymethyl group Chemical group [H]OC([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 1
- MGFYSGNNHQQTJW-UHFFFAOYSA-N iodonium Chemical compound [IH2+] MGFYSGNNHQQTJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001812 iodosyl group Chemical group O=I[*] 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-N isoquinoline Chemical class C1=NC=CC2=CC=CC=C21 AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M methacrylate group Chemical group C(C(=C)C)(=O)[O-] CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OTRIMLCPYJAPPD-UHFFFAOYSA-N methanol prop-2-enoic acid Chemical compound OC.OC.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C OTRIMLCPYJAPPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-BJUDXGSMSA-N methanone Chemical compound O=[11CH2] WSFSSNUMVMOOMR-BJUDXGSMSA-N 0.000 description 1
- YDKNBNOOCSNPNS-UHFFFAOYSA-N methyl 1,3-benzoxazole-2-carboxylate Chemical compound C1=CC=C2OC(C(=O)OC)=NC2=C1 YDKNBNOOCSNPNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000386 microscopy Methods 0.000 description 1
- 235000019713 millet Nutrition 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- 150000004712 monophosphates Chemical class 0.000 description 1
- 125000004573 morpholin-4-yl group Chemical group N1(CCOCC1)* 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- RZFODFPMOHAYIR-UHFFFAOYSA-N oxepan-2-one;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.O=C1CCCCCO1 RZFODFPMOHAYIR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006340 pentafluoro ethyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 239000013500 performance material Substances 0.000 description 1
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 1
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MRBDMNSDAVCSSF-UHFFFAOYSA-N phentolamine Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1N(C=1C=C(O)C=CC=1)CC1=NCCN1 MRBDMNSDAVCSSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004714 phosphonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000006303 photolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000015843 photosynthesis, light reaction Effects 0.000 description 1
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-L phthalate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)C1=CC=CC=C1C([O-])=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920002239 polyacrylonitrile Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 1
- 239000010491 poppyseed oil Substances 0.000 description 1
- 229910000028 potassium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000015497 potassium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 239000011736 potassium bicarbonate Substances 0.000 description 1
- TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M potassium hydrogencarbonate Chemical compound [K+].OC([O-])=O TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000003918 potentiometric titration Methods 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229920005604 random copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 description 1
- WPFGFHJALYCVMO-UHFFFAOYSA-L rubidium carbonate Chemical compound [Rb+].[Rb+].[O-]C([O-])=O WPFGFHJALYCVMO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000026 rubidium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007017 scission Effects 0.000 description 1
- 125000003748 selenium group Chemical class *[Se]* 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 1
- 150000003384 small molecules Chemical class 0.000 description 1
- 241000894007 species Species 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000007619 statistical method Methods 0.000 description 1
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O sulfonium Chemical compound [SH3+] RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 125000005537 sulfoxonium group Chemical group 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N tetraethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCOCCO UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 239000012815 thermoplastic material Substances 0.000 description 1
- 239000004634 thermosetting polymer Substances 0.000 description 1
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 1
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 1
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 description 1
- OKYDCMQQLGECPI-UHFFFAOYSA-N thiopyrylium Chemical class C1=CC=[S+]C=C1 OKYDCMQQLGECPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002889 tridecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-M triflate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 1
- 125000005457 triglyceride group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002948 undecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 239000008170 walnut oil Substances 0.000 description 1
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 1
- PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N ε-Caprolactone Chemical compound O=C1CCCCCO1 PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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Description
[001]本出願は、2016年3月14日出願の米国仮特許出願第62/308023号(その全体があたかも本明細書に完全に明記されたごとく本出願をもって参照により組み込まれる)に基づく優先権を主張する。
[002]本発明は、改善された靭性を有する付加造形用放射線硬化性組成物および付加造形プロセスにおけるその適用に関する。
[003]三次元物体を製造するための付加造形プロセスは周知である。付加造形プロセスでは、物体のコンピューター支援設計(CAD)データを利用して三次元部品を構築する。この三次元部品は、液状樹脂、粉末、または他の材料から形成しうる。
[018]特許請求される本発明の第1の態様は、
以下:
カチオン重合性成分と、
ラジカル重合性成分と、
カチオン光開始剤と、
フリーラジカル光開始剤と、
任意選択的に慣用的添加剤と、
をさらに含むゴム靭性化性ベース樹脂と、
液状相分離靭性化剤と、
を含み、
液状相分離靭性化剤が、ゴム靭性化性ベース樹脂の重量に対して約1:99〜約1:3、より好ましくは約1:99〜約1:4、より好ましくは約1:99〜約1:9、より好ましくは約1:50〜約1:12、より好ましくは約1:19の比の量で存在し、かつ
ゴム靭性化性ベース樹脂の架橋間平均分子量(MC)が、130g/mol超、より好ましくは150g/mol超、他の実施形態ではより好ましくは160g/mol超、他の実施形態では180g/mol超である、
改善された靭性を有する付加造形用放射線硬化性組成物である。
以下:
(1)任意選択的にカチオン重合性成分と、
(2)ラジカル重合性成分と、
(3)任意選択的にカチオン光開始剤と、
(4)フリーラジカル光開始剤と、
(5)任意選択的に慣用的添加剤と、
をさらに含むゴム靭性化性ベース樹脂と、
液状相分離靭性化剤と、
を含み、
液状相分離靭性化剤がエポキシ化プレ反応疎水性マクロ分子である、
改善された靭性を有する付加造形用放射線硬化性組成物である。
[022]本文書全体を通じて、分子が「高分子量」という場合、かかる分子は約2,000ダルトン超の分子量を有すると理解されるものとする。
以下:
カチオン重合性成分と、
ラジカル重合性成分と、
カチオン光開始剤と、
フリーラジカル光開始剤と、
任意選択的に慣用的添加剤と、
をさらに含むゴム靭性化性ベース樹脂と、
液状相分離靭性化剤と、
を含み、
液状相分離靭性化剤が、ゴム靭性化性ベース樹脂の重量に対して約1:99〜約1:3、より好ましくは約1:99〜約1:4、より好ましくは約1:99〜約1:9、より好ましくは約1:50〜約1:12、より好ましくは約1:19%の比の量で存在し、かつ
ゴム靭性化性ベース樹脂の架橋間平均分子量(MC)が、130g/mol超、より好ましくは150g/mol超、他の実施形態ではより好ましくは160g/mol超、他の実施形態では180g/mol超である、
改善された靭性を有する付加造形用放射線硬化性組成物である。
[024]本発明に係る改善された靭性を有する付加造形用放射線硬化性組成物の実施形態はすべて、少なくとも構成要素部分としてゴム靭性化性ベース樹脂を有する。このベース樹脂はポリマーマトリックスを形成し、ポリマーマトリックス内では、それ自体液体でありうるとともに硬化前にベース樹脂に可溶でありうる靭性化剤が、硬化プロセス時にベース樹脂の周囲ポリマーネットワークから相分離してドメインを形成する。かかるゴム靭性化性ベース樹脂は、それ単独で付加造形プロセスにより三次元部品の形成を十分に可能にするが、それから形成される三次元部品は、多くの最終用途に好適であると考えられる所要の靭性が欠如しているおそれがある。本明細書で用いられる場合、「ゴム靭性化性」とは、ベース樹脂を靭性化するためにゴムを明示的に使用することを必要とするものではなく、もっと正確に言えば、かかる樹脂を軟質相分離機構により靭性化しうることを単に意味する。
[026]実施形態によれば、ゴム靭性化性ベース樹脂は、少なくとも1種のカチオン重合性成分を含み、これは、カチオンによりまたは酸発生剤の存在下で開始される重合を行う成分である。カチオン重合性成分は、モノマー、オリゴマー、および/またはポリマーでありうるとともに、脂肪族部分、芳香族部分、環式脂肪族部分、アリール脂肪族部分、ヘテロ環式部分、およびそれらの任意の組合せを含有しうる。好適な環状エーテル化合物は、側基としてまたは脂環式もしくはヘテロ環式の環系の一部を形成する基として環状エーテル基を含みうる。
[036]本発明の実施形態によれば、ゴム靭性化性ベース樹脂は、少なくとも1種のフリーラジカル重合性成分、すなわち、フリーラジカルにより開始される重合を行う成分を含む。フリーラジカル重合性成分は、モノマー、オリゴマー、および/またはポリマーであり、単官能性または多官能性の材料であり、すなわち、フリーラジカル開始により重合可能な1、2、3、4、5、6、7、8、9、10...20...30...40...50...100個、またはそれ以上の官能基を有し、脂肪族、芳香族、環式脂肪族、アリール脂肪族、ヘテロ環式の部分またはそれらの任意の組合せを含有しうる。多官能性材料の例としては、デンドリマー、リニアデンドリティックポリマー、デンドリグラフトポリマー、ハイパーブランチポリマー、スターブランチポリマー、ハイパーグラフトポリマーなどのデンドリティックポリマーが挙げられる。たとえば、米国特許出願公開第2009/0093564A1号明細書を参照されたい。デンドリティックポリマーは、1つのタイプの重合性官能基または異なるタイプの重合性官能基、たとえば、アクリレート官能基およびメタクリレート官能基を含有しうる。
[046]実施形態によれば、ゴム靭性化性ベース樹脂はカチオン光開始剤を含む。カチオン光開始剤は、光照射時にカチオン開環重合を開始する。好ましい実施形態では、スルホニウム塩光開始剤、たとえば、ジアルキルフェナシルスルホニウム塩、芳香族スルホニウム塩、トリアリールスルホニウム塩、およびそれらの任意の組合せが使用される。
[066]典型的には、フリーラジカル光開始剤は、「ノリッシュI型」として知られる開裂によりラジカルを生成するものと、「ノリッシュII型」として知られる水素引抜きによりラジカルを生成するものと、に分類される。ノリッシュII型光開始剤は、フリーラジカル源として機能する水素供与体を必要とする。開始は二分子反応に基づくので、ノリッシュII型光開始剤は、ラジカルの単分子生成に基づくノリッシュI型光開始剤よりも一般に遅い。一方、ノリッシュII型光開始剤は、近UV分光領域でより良好な光吸収性を有する。アルコール、アミン、チオールなどの水素供与体の存在下でベンゾフェノン、チオキサントン、ベンジル、キノンなどの芳香族ケトンを光分解すると、カルボニル化合物から生じるラジカル(ケチル型ラジカル)と水素供与体から誘導される他のラジカルとが生成される。ビニルモノマーの光重合は、通常、水素供与体から生じるラジカルにより開始される。ケチルラジカルは、通常、立体障害および不対電子の非局在化が原因でビニルモノマーに対して反応性でない。
[076]本発明の実施形態では、ゴム靭性化性ベース樹脂は慣用的添加剤をさらに含有する。ゴム靭性化性ベース樹脂への慣用的添加剤としては、限定されるものではないが安定剤、充填剤、染料、顔料、酸化防止剤、湿潤剤、連鎖移動剤たとえばポリオール、レベリング剤、消泡剤、界面活性剤、気泡崩壊剤、酸捕捉剤、増粘剤、難燃剤、シランカップリング剤、紫外線吸収剤、樹脂粒子、コア−シェル粒子耐衝撃性改良剤などが挙げられうる。かかる成分は、既知量で所望の効果に応じて添加しうる。
[081]ベース樹脂はすべて、本発明に係る指定の各種液状相分離靭性化剤を組み込んだときに十分に耐熱性を維持しつつ十分に靭性化しうるとは限らないことを、発明者らは発見した。したがって、かかる液状相分離靭性化剤は適切な適合性の靭性化性ベース樹脂マトリックスでのみ要望に応じて機能することを、このたび発見した。本発明の実施形態では、この適合性はベース樹脂の架橋密度に関連付けられた。
式中、MC=架橋間分子量(g/mol単位)
ρ=ネットワークの密度(g/立方センチメートル単位)
υ=ネットワーク鎖の全モル数(mol単位)
V=ネットワークの体積(cc単位)
[094]本発明に係る改善された靭性を有する付加造形用放射線硬化性組成物はまた、少なくとも1種の液状相分離靭性化剤を有する。かかる作用剤は室温で液体であり、典型的には硬化前にベース樹脂内に溶解可能である。次いで、それが組み込まれた放射線硬化性組成物全体を硬化させると、靭性化剤は相分離して、周囲熱硬化性ポリマーにより形成された架橋マトリックス内の間隙空間に存在するゴム状ドメインをin−situで形成する。この相ドメインは、ポリマーマトリックスの残りの部分と対比したそのサイズおよび屈折率に依存して、光屈折性でありうるかまたはそうでないこともありうる。十分にサイズ調整されかつ光屈折性であれば、それは最終硬化物に白色を付与するであろう。この視覚効果は、ある特定の用途ではとくに望ましく、顔料などの添加剤の組込みの必要性を回避する。こうした添加剤は、かかる顔料が関連組成物の粘度および光感度に望ましくない形で影響を及ぼすおそれがあるという事実と共に、バット内で材料が経時的に沈殿するという望ましくない作用を有する。
液状相分離靭性化剤と、
以下:
(1)任意選択的にカチオン重合性成分と、
(2)ラジカル重合性成分と、
(3)任意選択的にカチオン光開始剤と、
(4)フリーラジカル光開始剤と、
(5)任意選択的に慣用的添加剤と、
をさらに含むゴム靭性化性ベース樹脂と、
を含み、
液状相分離靭性化剤がエポキシ化プレ反応疎水性マクロ分子である、
改善された靭性を有する付加造形用放射線硬化性組成物である。
[0101]特許請求される本発明の第2の態様に合致する他の実施形態によれば、改善された靭性を有する付加造形用放射線硬化性組成物は、エポキシ化プレ反応疎水性マクロ分子の液状相分離靭性化剤を少なくとも1種含む。本明細書の目的では、「エポキシ化」とは、かかる靭性化剤がエポキシ官能性であることを意味する。すなわち、その分子上の任意の位置に存在する1つ以上のエポキシ部分の開環反応を行うことが可能である。かかる部分は末端エポキシ基である必要はない。本明細書の目的では「プレ反応」とは、周囲ゴム靭性化性ベース樹脂中へのかかる靭性化剤のいずれの組込みを行うときもその前にかかるエポキシ化および/またはマクロ分子合成が終了していることを意味する。「疎水性」とは、合成後、近接する水塊からかかるマクロ分子が引力を受けないことを意味する。いかなる理論にも拘束されることを望むものではないが、靭性化剤の疎水性レベルは、硬化時に周囲ゴム靭性化性ベース樹脂からそれが相分離する速度の促進に相関付けられると考えられる。
(式中、R1、R2、およびR3は、同一であるかまたは異なり、それぞれ、C4〜C50不飽和アルキル鎖であり、不飽和は、少なくとも2%エポキシ化、より好ましくは10%エポキシ化、より好ましくは30%エポキシ化される)
の化合物から誘導される。他の実施形態では、エポキシ化プレ反応疎水性マクロ分子は、エポキシ化ダイズ油(ESO)、たとえば、以下:
から誘導される。
[0110]驚くべきことに、関連するゴム靭性化性ベース樹脂内への液状相分離靭性化剤の溶解性は、その最適有用性を確保する場合、きわめて重要であることを、発明者らはさらに発見した。具体的には、本発明のある特定の実施形態によれば、液状相分離靭性化剤およびその関連するゴム靭性化性ベース樹脂の溶解度δがある特定の範囲内にある場合、得られる硬化三次元物品の靭性が改善されるとともにその耐熱性が十分に維持される。本発明の実施形態では、この因子は、対応するゴム靭性化性ベース樹脂の上述したMC値と共に、硬化三次元物体に優れた靭性および耐熱性を付与する最適な適合性の構成置換基の当業者による選択を可能にする。
[0115]これらの実施例は、本発明に係る改善された靭性を有する付加造形用放射線硬化性組成物の実施形態を例示する。表1には、本実施例で使用される改善された靭性を有する付加造形用放射線硬化性組成物の各種成分または場合により副成分を構成するさまざまな市販原料が記載されている。一方、表2には、本実施例で使用される市販されていない液状疎水性マクロ分子相分離靭性化剤の合成が記載されている。
[0116]トリブロックコポリマー「ABA」型疎水性マクロ分子相分離靭性化剤は、極性および反応性の「A」ブロックでエンドキャップされた疎水性センター「B」ブロックから一般的に合成した。BとAとを接続するために、無水物小分子をリンカーとして使用した。典型的な合成手順は次の通りであった。温度計と機械撹拌機とを備えた三口丸底フラスコに−OH末端基官能価を有する疎水性センター「B」オリゴマーブロックを1当量(Xモル)添加した。温和な撹拌を行いながら、0.1wt%の塩基触媒(DABCO)と共に2当量(2倍モル)の一無水物すなわちHHPAを添加した。この混合物を典型的には80℃に数時間加熱した(典型的には2時間であるが、ヒドロキシル基と無水物との完全結合を確保してカルボン酸末端基官能性オリゴマーを形成するためには4時間程度の長い時間)。次いで、前述の容器に過剰量のジエポキシド末端「A」ブロックを添加した。使用した典型的な過剰量は、疎水性センターブロックオリゴマー1当量(モル)当たりジエポキシドモノマー5当量(モル)であった。センターブロックの分子量は、ほとんどの場合、ジエポキシド末端ブロックの分子量よりもかなり大きかったので、完全反応後の遊離ジエポキシドの実際の過剰量は最小限に抑えられた。酸+エポキシカップリング触媒も0.1wt%で添加した。使用した典型的な触媒はトリフェニルホスフィン(TPP)であったが、AMC−2触媒や他のクロム触媒などの他の触媒も同様にこのカップリング反応に有効である。次いで、温和な撹拌を行いながら混合物を105℃に5〜6時間加熱した。この時点で、サンプルの少量のアリコートを反応系から採取して、メトローム751GPDチトリノ(Metrohm 751 GPD Titrino)電位差滴定システムを用いて酸価(A.V.)を分析した。A.V.が十分に低くカルボン酸基の>95%消費に相当した場合、生成物を注いで取り出して貯蔵した。そうでなければ、反応を継続し、反応終了が達成されるまで定期的にサンプル採取してA.V.を調べた。エポキシ官能性ESO系靭性化添加剤に対してはわずかに異なる合成を適用した。この場合には、ESOがエポキシド基を備えた状態をとるので、ESO)を疎水化するためにカルボン酸との直接反応を行った(すなわち、リンカーとしてHHPAを使用しない)。それに従って合成し実施例で使用したさまざまなエポキシ化プレ反応疎水性マクロ分子は、以下の表2に示される。
[0117]入手可能なベース樹脂を1種以上の液状相分離靭性化剤と共に利用して当技術分野で周知の方法に従って各種付加造形用放射線硬化性組成物を調製した。特定の組成物を以下の表3に報告する。次いで、ヤング率、破断点伸び、HDT、アイゾットノッチ付き衝撃、および粘度の1つ以上を評価するために、これらのサンプルを以下に記載の方法に従って試験した。結果は表3に示される。
[0120]可撓性マイラー(Mylar)PETのシート(厚さ4ミル)をガラスプレートのトップにテープで留めた。約20グラム±2グラムの樹脂をガラスプレートの一端に注加してマイラーシートの幅全体に展延させた。次いで、ビコ−ドライブ自動アプリケーター(BYK)および10ミルドローダウンバーを用いて、この樹脂サンプルを制御厚さになるようにドローダウンした。次いで、3DシステムズバイパーSLA機にロードされた標準的構築プラットフォームのトップにこの薄い樹脂層を配置した。次いで、4つのASTM D256引張り試験バーモデルからなる3Dパーツファイルをロードし、薄いドローダウン樹脂層上に1層の像形成を行った。Ecは典型的には15に設定し、Dpは典型的には5に設定した。この層の終了後、構築を停止した。ガラスプレート、マイラーフィルム、および樹脂層(この時点では像形成された引張り試験バーストリップはマイラーに固定されている)の全体をSLA機から取り出した。余分な樹脂を穏やかにワイピングして清浄化し、像形成された引張り試験バーストリップを残存させた。次いで、ガラスプレート、マイラーフィルム、および残存する像形成された引張り試験バーストリップの全体を30分間にわたりUV後硬化させた。UVPCの後、マイラーフィルムを曲げてストリップを引き剥がすことにより引張り試験バーストリップを穏やかに取り出した。次いで、ストリップを反転させ、さらに30分間にわたりUV後硬化させた。次いで、典型的には、本研究では3Dパーツを熱的に後硬化させるために使用される手順を用いてストリップを熱的に後硬化させた(すなわち100℃で2時間)。
[0121]本明細書に記載されるように変更を加えた以外はASTM D638−10に準拠してサンプルを試験した。3Dシステムズ社製のバイパーSLA機(S/N 03FB0244、またはS/N 02FB0160)により、全長が6.5インチ、全幅が1インチの3/4(0.75インチ)、および全厚さが1インチの1/8(0.125インチ)である当技術分野で認められた標準的なI型「ドッグボーン」形状のサンプルを構築した。サンプルは、摂氏23度、相対湿度50%で7日間にわたりコンディショニングした。コンディショニング期間は、ハイブリッド系のカチオン硬化で最大安定化が確保されるようにASTM618−13規格で指示された最小値を超える。サンプルを測定し、次いで、50%エクステンソメーターSN#と共に6500NロードセルS/N#を用いたシンテック(Sintech)引張り試験S/Nに配置した。試験速度は5.1mm/minに設定し、試験開始時の公称歪み速度は0.1mm/minに設定した。ヤング率または弾性率は、荷重−伸び曲線の初期線形部分を延長してこの直線上のセクションの任意のセグメントに対応する応力差を対応する歪み差で除算することにより計算した。弾性率値はすべて、計算時に試料のゲージ長セグメントの元の平均断面領域を用いて計算した。破断点伸びパーセントは、試料破断点伸びを読み取ってその伸びを元のゲージ長で除算してから100を乗算することにより計算した。標準偏差は既知の統計的方法に従って計算した。
[0122]熱撓み温度(HDT)は、以上に記載したように構築、洗浄、およびUV後硬化を行ったパーツで試験される。試料は、番号付けされ、48時間以上にわたり23℃、相対湿度50%でコンディショニングされる。パーツの寸法および試験方法は、ASTM D648−00a方法Bに記載の通りである。報告されたHDT値は、0.45MPa(66psi)の応力を加えたときのものである。HDT試験機の試験接触がポリマーパーツの平滑表面に接触した状態であることが保証されるように注意を払った。表面不規則性(すなわち非平滑表面)は平滑パーツ表面を測定するときよりも低いHDTを与える可能性があることを見いだした。HDTパーツのトップ表面は、典型的には変化がなく平滑である。側壁および底対向表面は、測定前に平滑試験表面を確保するために、粒度100番、続いて粒度250番のサンドペーパーでサンダー処理した。列挙されたHDTデータは、熱的後硬化を受けなかったパーツのものである。
[0123]各サンプルの粘度は、直径25mmのZ3/Q1メスシリンダー(S/N 10571)を用いてアントンパール(Anton Paar)のレオプラス(Rheoplus)レオメーター(S/N 80325376)により取得した。温度は摂氏30度に設定し、剪断速度は50s−1に設定した。回転速度は38.5min−1に設定した。測定容器は、21.4グラムのサンプル(スピンドルに対しては十分である)が充填されたH−Z3/SMカップ(直径27.110mm)であった。測定値はミリパスカル・秒(mPa・s)で記録したが、本明細書ではセンチポアズ(cP)に変換して報告した。
[0124]試料のアイゾット衝撃試験は、ASTM D256Aに準拠して試験した。パーツは、ASTM D256Aに準拠した固定試験サイズに合わせて3Dシステムズ社製のバイパーSLA機(S/N 03FB0244、またはS/N 02FB0160)により構築した。試料は、熱的後硬化後に摂氏23度、相対湿度50%で少なくとも48時間コンディショニングした。次いで、クオリテスト(Qualitest)ソーを用いて試料にノッチを設けた。次いで、2.75Jのアイゾットハンマーを用いてツビック/ロエル(Zwick/Roell)HIT5.5P装置で試験した。少なくとも5つの試験試料の平均を報告する。
[0125]本発明の第1の追加の例示的な実施形態の第1の形態は、
以下:
カチオン重合性成分と、
ラジカル重合性成分と、
カチオン光開始剤と、
フリーラジカル光開始剤と、
任意選択的に慣用的添加剤と、
をさらに含むゴム靭性化性ベース樹脂と、
液状相分離靭性化剤と、
を含み、
液状相分離靭性化剤が、ゴム靭性化性ベース樹脂の重量に対して約1:99〜約1:3、より好ましくは約1:99〜約1:4、より好ましくは約1:99〜約1:9、より好ましくは約1:50〜約1:12、より好ましくは約1:19の比の量で存在し、
ゴム靭性化性ベース樹脂の架橋間平均分子量(MC)が、130g/mol超、より好ましくは150g/mol超、他の実施形態ではより好ましくは160g/mol超、他の実施形態では180g/mol超である、
改善された靭性を有する付加造形用放射線硬化性組成物である。
以下:
(1)任意選択的にカチオン重合性成分と、
(2)ラジカル重合性成分と、
(3)任意選択的にカチオン光開始剤と、
(4)フリーラジカル光開始剤と、
(5)任意選択的に慣用的添加剤と、
をさらに含むゴム靭性化性ベース樹脂と、
液状相分離靭性化剤と、
を含み、
液状相分離靭性化剤がエポキシ化プレ反応疎水性マクロ分子である、
改善された靭性を有する付加造形用放射線硬化性組成物である。
末端エポキシまたはアクリレート官能性ハードブロックと、
少なくとも1つの非混和性ソフトブロックと、
を有するトリブロックコポリマーである、第2の追加の例示的な実施形態の先の形態のいずれかに記載の付加造形用放射線硬化性組成物である。
(式中、R1、R2、およびR3は、同一であるかまたは異なり、それぞれ、C4〜C50不飽和アルキル鎖であり、不飽和は、少なくとも10%エポキシ化、より好ましくは30%エポキシ化される)
の化合物から誘導される、第2の追加の例示的な実施形態の先の形態のいずれかに記載の付加造形用放射線硬化性組成物である。
から誘導される、第2の追加の例示的な実施形態の先の形態のいずれかに記載の付加造形用放射線硬化性組成物である。
の化合物からなる群から選択される、第2の追加の例示的な実施形態の先の形態のいずれかに記載の付加造形用放射線硬化性組成物である。
を有する、第2の追加の例示的な実施形態の先の形態のいずれかに記載の付加造形用放射線硬化性組成物である。
を有する、第2の追加の例示的な実施形態の先の形態のいずれかに記載の付加造形用放射線硬化性組成物である。
Claims (20)
- 以下:
カチオン重合性成分と、
ラジカル重合性成分と、
カチオン光開始剤と、
フリーラジカル光開始剤と、
任意選択的に慣用的添加剤と、
をさらに含むゴム靭性化性ベース樹脂と、
液状相分離靭性化剤と、
を含み、
前記液状相分離靭性化剤が、前記ゴム靭性化性ベース樹脂の重量に対して1:50〜1:12の比の量で存在し、かつ
前記ゴム靭性化性ベース樹脂の架橋間平均分子量(MC)が、150g/mol超である、
改善された靭性を有する付加造形用放射線硬化性組成物。 - 前記液状相分離靭性化剤が高分子量ダイマー脂肪酸ポリオールである、請求項1に記載の改善された靭性を有する付加造形用放射線硬化性組成物。
- 前記高分子量ダイマー脂肪酸ポリオールが、2000g/mol超の分子量を有する、請求項2に記載の改善された靭性を有する付加造形用放射線硬化性組成物。
- 前記高分子量ダイマー脂肪酸ポリオールがプロピレンオキシドの付加物またはエチレンオキシドの付加物である、請求項2または3に記載の改善された靭性を有する付加造形用放射線硬化性組成物。
- 前記液状相分離靭性化剤が、平均相ドメインサイズ手順に従って測定したとき、前記放射線硬化性組成物の硬化後、2ミクロン〜25ミクロンの平均サイズを有する相ドメインを形成するように構成すべく選択される、請求項1〜4のいずれか一項に記載の改善された靭性を有する付加造形用放射線硬化性組成物。
- 前記ゴム靭性化性ベース樹脂のMC が200g/mol未満である、請求項1〜5のいずれか一項に記載の改善された靭性を有する付加造形用放射線硬化性組成物。
- 前記組成物から付加造形プロセスにより形成される三次元コンポーネントが、前記放射線硬化性組成物の構成要素の前記ゴム靭性化性ベース樹脂から形成される三次元コンポーネントの対応する伸び値よりも少なくとも50%大きい、請求項1〜6のいずれか一項に記載の改善された靭性を有する付加造形用放射線硬化性組成物。
- 前記組成物から付加造形プロセスにより形成される三次元コンポーネントが、前記放射線硬化性組成物の構成要素の前記ゴム靭性化性ベース樹脂から形成される三次元コンポーネントの対応する伸び値の少なくとも摂氏5度以内のHDT値を生成する、請求項1〜7のいずれか一項に記載の改善された靭性を有する付加造形用放射線硬化性組成物。
- 以下:
(1)任意選択的にカチオン重合性成分と、
(2)ラジカル重合性成分と、
(3)任意選択的にカチオン光開始剤と、
(4)フリーラジカル光開始剤と、
(5)任意選択的に慣用的添加剤と、
をさらに含むゴム靭性化性ベース樹脂と、
液状相分離靭性化剤と、
を含み、
前記液状相分離靭性化剤がエポキシ化プレ反応疎水性マクロ分子であり、
前記ゴム靭性化性ベース樹脂の架橋間平均分子量(MC)が、150g/mol超であり、かつ
前記ゴム靭性化性ベース樹脂のMCが、260g/mol未満である、
改善された靭性を有する付加造形用放射線硬化性組成物。 - 前記ゴム靭性化性ベース樹脂が、前記ゴム靭性化性ベース樹脂の全重量を基準にして、
40wt.%未満の少なくとも1種の芳香族グリシジルエポキシと、
少なくとも5wt.%のポリオール成分と、
をさらに含有する、請求項9に記載の改善された靭性を有する付加造形用放射線硬化性組成物。 - 前記エポキシ化プレ反応疎水性マクロ分子が、
末端エポキシまたはアクリレート官能性ハードブロックと、
少なくとも1つの非混和性ソフトブロックと、
を有するトリブロックコポリマーである、請求項9または10に記載の改善された靭性を有する付加造形用放射線硬化性組成物。 - 前記トリブロックコポリマーが、
ソフトブロックオリジネーターと、
単官能性無水物と、
の反応生成物を得た後、
エポキシ官能性反応剤をさらに反応させることにより形成される、請求項11に記載の改善された靭性を有する付加造形用放射線硬化性組成物。 - 前記ソフトブロックオリジネーターが、ポリブタジエン、ポリオール、およびポリドメチルシロキサンならびにそれらの任意の組合せからなる群から選択される、請求項12に記載の改善された靭性を有する付加造形用放射線硬化性組成物。
- 前記エポキシ化プレ反応疎水性マクロ分子がトリグリセリド脂肪酸から誘導される、請求項9〜13のいずれか一項に記載の改善された靭性を有する付加造形用放射線硬化性組成物。
- 前記エポキシ化プレ反応疎水性マクロ分子がトール油から誘導され、このエポキシ化トール油がエポキシ化植物油である、請求項9〜13のいずれか一項に記載の改善された靭性を有する付加造形用放射線硬化性組成物。
- 前記エポキシ化プレ反応疎水性マクロ分子が、800g/mol〜4000g/molの分子量を有する、請求項9〜16のいずれか一項に記載の改善された靭性を有する付加造形用放射線硬化性組成物。
- 前記エポキシ化プレ反応疎水性マクロ分子が、全組成物の重量を基準にして1%〜20%の量で存在する、請求項9〜17のいずれか一項に記載の改善された靭性を有する付加造形用放射線硬化性組成物。
- 請求項1〜18のいずれか一項に記載の改善された靭性を有する付加造形用放射線硬化性樹脂組成物の液状層を形成して化学線で選択的に硬化させる工程と、請求項1〜18のいずれか一項に記載の付加造形用放射線硬化性樹脂組成物の液状層を形成して選択的に硬化させる工程を複数回繰り返して三次元物体を得る工程と、を含む三次元物体の形成プロセス。
- 前記三次元物体が、少なくとも10%の破断点伸び値と、少なくとも摂氏85度のHDT値と、を有する、請求項1〜18のいずれか一項に記載の改善された靭性を有する付加造形用放射線硬化性組成物から請求項19に記載のプロセスにより形成される三次元物体。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201662308023P | 2016-03-14 | 2016-03-14 | |
US62/308,023 | 2016-03-14 | ||
PCT/US2017/022311 WO2017160845A1 (en) | 2016-03-14 | 2017-03-14 | Radiation curable compositions for additive fabrication with improved toughness and high temperature resistance |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019513842A JP2019513842A (ja) | 2019-05-30 |
JP6798071B2 true JP6798071B2 (ja) | 2020-12-09 |
Family
ID=58548850
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018544303A Active JP6798071B2 (ja) | 2016-03-14 | 2017-03-14 | 改善された靭性および耐高温性を有する付加造形用放射線硬化性組成物 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US20190077073A1 (ja) |
EP (1) | EP3429833B1 (ja) |
JP (1) | JP6798071B2 (ja) |
KR (1) | KR102427130B1 (ja) |
CN (1) | CN108778688B (ja) |
WO (1) | WO2017160845A1 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11444245B2 (en) * | 2018-10-22 | 2022-09-13 | The Board Of Trustees Of The University Of Alabama | Rapid layer-specific photonic annealing of perovskite thin films |
US10822517B2 (en) * | 2018-11-28 | 2020-11-03 | Industrial Technology Research Institute | Resin composition and cured resin composition |
CN114243203B (zh) * | 2021-12-01 | 2024-06-21 | 远景动力技术(江苏)有限公司 | 高延伸隔膜、其制备方法和锂离子电池 |
Family Cites Families (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4575330A (en) | 1984-08-08 | 1986-03-11 | Uvp, Inc. | Apparatus for production of three-dimensional objects by stereolithography |
US5047568A (en) | 1988-11-18 | 1991-09-10 | International Business Machines Corporation | Sulfonium salts and use and preparation thereof |
US5380923A (en) | 1993-04-29 | 1995-01-10 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Polymeric sulfonium salts and method of preparation thereof |
JP3786480B2 (ja) * | 1996-10-14 | 2006-06-14 | Jsr株式会社 | 光硬化性樹脂組成物 |
JP4204113B2 (ja) | 1997-12-04 | 2009-01-07 | 株式会社Adeka | 新規な芳香族スルホニウム化合物、これからなる光酸発生剤およびこれを含む光重合性組成物、光造形用樹脂組成物ならびに光学的立体造形法 |
DE69940916D1 (de) * | 1998-02-18 | 2009-07-09 | Dsm Ip Assets Bv | Fotohärtbare flüssige Harzzusammensetzung |
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AU2003303482A1 (en) | 2002-12-23 | 2004-07-22 | Aprilis, Inc. | Fluoroarylsulfonium photoacid generators |
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CN101300527B (zh) * | 2005-10-27 | 2011-11-23 | 亨斯迈先进材料(瑞士)有限公司 | 含有包括环丁二醇的聚酯和均质聚酰胺共混物的透明、多层制品的制备 |
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CN102558510B (zh) | 2006-05-01 | 2015-05-20 | Dsmip财产有限公司 | 辐射固化树脂组合物及应用其的快速三维成像方法 |
JP5304977B2 (ja) | 2007-10-04 | 2013-10-02 | セイコーエプソン株式会社 | 光硬化組成物を用いた硬化物の形成方法およびその硬化物 |
CN101925594B (zh) | 2007-11-28 | 2013-11-20 | 住友精化株式会社 | 光致酸发生剂及光反应性组合物 |
JP5208573B2 (ja) | 2008-05-06 | 2013-06-12 | サンアプロ株式会社 | スルホニウム塩、光酸発生剤、光硬化性組成物及びこの硬化体 |
KR101653427B1 (ko) | 2008-10-20 | 2016-09-01 | 바스프 에스이 | 술포늄 유도체 및 잠재성 산으로서의 그의 용도 |
US8617787B2 (en) | 2009-02-20 | 2013-12-31 | San-Apro, Ltd. | Sulfonium salt, photo-acid generator, and photosensitive resin composition |
US8501033B2 (en) * | 2009-03-13 | 2013-08-06 | Dsm Ip Assets B.V. | Radiation curable resin composition and rapid three-dimensional imaging process using the same |
US20120259031A1 (en) | 2009-12-17 | 2012-10-11 | Dsm Ip Assets, B.V. | Led curable liquid resin compositions for additive fabrication |
US9221216B2 (en) * | 2011-08-09 | 2015-12-29 | University Of Southern California | Computer numerical control (CNC) additive manufacturing |
CN104345562B (zh) | 2013-08-09 | 2020-04-24 | 帝斯曼知识产权资产管理有限公司 | 用于增材制造的低粘度液体辐射可固化的牙对准器模具树脂组合物 |
CN109503761B (zh) * | 2013-11-05 | 2022-02-01 | 科思创(荷兰)有限公司 | 用于加成制造的稳定的基质填充的液体可辐射固化树脂组合物 |
WO2016106062A1 (en) * | 2014-12-23 | 2016-06-30 | Bridgestone Americas Tire Operations, Llc | Actinic radiation curable polymeric mixtures, cured polymeric mixtures and related processes |
EP3294780A4 (en) * | 2015-06-08 | 2018-11-21 | DSM IP Assets B.V. | Liquid, hybrid uv/vis radiation curable resin compositions for additive fabrication |
-
2017
- 2017-03-14 EP EP17717919.9A patent/EP3429833B1/en active Active
- 2017-03-14 KR KR1020187029537A patent/KR102427130B1/ko active IP Right Grant
- 2017-03-14 US US16/084,645 patent/US20190077073A1/en not_active Abandoned
- 2017-03-14 CN CN201780017178.9A patent/CN108778688B/zh active Active
- 2017-03-14 JP JP2018544303A patent/JP6798071B2/ja active Active
- 2017-03-14 WO PCT/US2017/022311 patent/WO2017160845A1/en active Application Filing
-
2022
- 2022-01-21 US US17/580,747 patent/US20220134641A1/en active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2017160845A1 (en) | 2017-09-21 |
US20190077073A1 (en) | 2019-03-14 |
KR20180121992A (ko) | 2018-11-09 |
EP3429833A1 (en) | 2019-01-23 |
CN108778688B (zh) | 2022-05-13 |
EP3429833B1 (en) | 2022-04-13 |
CN108778688A (zh) | 2018-11-09 |
JP2019513842A (ja) | 2019-05-30 |
KR102427130B1 (ko) | 2022-08-01 |
US20220134641A1 (en) | 2022-05-05 |
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Legal Events
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S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
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R350 | Written notification of registration of transfer |
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