JP6782939B2 - Anti-itch agent - Google Patents
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Description
本発明は、抗掻痒剤に関するものである。 The present invention relates to an antipruritic agent.
痒みとは、「皮膚や粘膜を掻破したくなるような不快な感覚」と定義付けされる皮膚や粘膜に特有な感覚であり、その生物学的意義は病原体、昆虫、植物など、外部からの有害物に対する生体防御シグナルであると考えられている。この痒みは、アトピー性皮膚炎、接触性皮膚炎、蕁麻疹、乾癬、アレルギー疾患などの皮膚病、腎不全に伴う血液透析や胆汁うっ滞が原因で生じる黄疸や肝硬変などの肝疾患といった内臓疾患の症状の一つであり、これらの痒みは非常 に耐えがたく不快な感覚であることから、QOL(Quality Of Life)の低下を招く。また、帯状疱疹後神経痛や多発性硬化症など神経障害により生じる神経障害性掻痒、寄生虫症妄想やうつ病に伴う心因性掻痒なども存在する。さらに、この非常に耐えがたい痒みに対する掻破行動は、不快感を快感に導き、内因性の起痒物質の遊離を促進させ、さらなる痒みを引き起こすだけではなく、二次的な皮膚病変を形成する原因となる。このような痒みの悪循環を「itch・scratch cycle」と呼ぶ(非特許文献1参照)。そのため、痒みを抑えることは臨床において非常に重要であり、治療の目標とされている。しかしながら、問題となるこれらの皮膚疾患には、ヒスタミンH1受容体拮抗薬に抵抗性を示すものが多く(非特許文献2参照)、新規止痒薬の開発が望まれている。 Itching is a sensation peculiar to the skin and mucous membranes that is defined as "an unpleasant sensation that makes you want to scratch the skin and mucous membranes", and its biological significance is from external sources such as pathogens, insects, and plants. It is considered to be a biological defense signal against harmful substances. This itch is a skin disease such as atopic dermatitis, contact dermatitis, urticaria, psoriasis, allergic disease, and visceral diseases such as jaundice and cirrhosis caused by hemodialysis and cholestasis associated with renal failure. These itchiness is one of the symptoms of urticaria, and since it is a very unbearable and unpleasant sensation, it causes a decrease in QOL (Quality Of Life). In addition, there are also neuropathic pruritus caused by neurological disorders such as postherpetic neuralgia and multiple sclerosis, and psychogenic pruritus associated with parasitological delusions and depression. In addition, this highly intolerable scratching behavior for itching leads to pleasure, promotes the release of endogenous pruritus substances, causes further itching, and causes the formation of secondary skin lesions. Become. Such a vicious cycle of itch is called "itch / scratch cycle" (see Non-Patent Document 1). Therefore, controlling itching is very important in clinical practice and is a therapeutic goal. However, many of these problematic skin diseases are resistant to histamine H1 receptor antagonists (see Non-Patent Document 2), and the development of new antipruritic drugs is desired.
痒みの研究は、近年までその動物モデルが欠如し評価法がなかったことから、主にヒトで行われてきた。ヒスタミンを始めとする様々な物質を健常人に皮内注射して痒みの有無を評価し、また皮膚病などの痒みを伴う疾患の場合は痒みよりむしろ皮膚炎などの病理的変化の解析が主であり、痒みの機序の詳細な解析は遅れていた。そのためH1受容体拮抗薬抵抗性のアトピー性皮膚炎など、難治性掻痒性皮膚疾患の痒みに対する新たな薬の開発が遅れている。現在では、主にヒスタミン(非特許文献3参照)、セロトニン(非特許文献4参照)、サブスタンスP(非特許文献5参照)、トリプターゼ(非特許文献6参照)などの起痒物質を用いた痒みのモデルマウスが使用されている。マウスでは、ヒスタミンは必ずしも強い起痒物質ではなく、明確な掻き行動を示すのはICR系など一部の系統に限られている(非特許文献7参照)。それに対してセロトニンおよび4−メチルヒスタミン(非特許文献8参照)は痒みを引き起こす作用が強く、ほとんどの系統のマウスにおいて掻き行動が観察される(非特許文献7参照)。その他にもアトピー性皮膚炎の痒みモデルマウスとして、自然発症型(非特許文献9及び非特許文献10参照)または化学物質誘導型(非特許文献11参照)のNC系マウス、DS−Nh系マウス(非特許文献12参照)、ヘアレスマウス(非特許文献13参照)などが存在する。 Studies of itch have been conducted primarily in humans due to the lack of animal models and no evaluation method until recent years. Various substances such as histamine are injected intradermally into healthy people to evaluate the presence or absence of itching, and in the case of diseases accompanied by itching such as skin diseases, analysis of pathological changes such as dermatitis rather than itching is the main focus. Therefore, detailed analysis of the mechanism of itch was delayed. Therefore, the development of new drugs for itching of intractable pruritic skin diseases such as H1 receptor antagonist-resistant atopic dermatitis has been delayed. At present, itching mainly using itching substances such as histamine (see Non-Patent Document 3), serotonin (see Non-Patent Document 4), substance P (see Non-Patent Document 5), and tryptase (see Non-Patent Document 6). Model mouse is used. In mice, histamine is not necessarily a strong pruritus substance, and it is limited to some strains such as the ICR strain that show clear scratching behavior (see Non-Patent Document 7). On the other hand, serotonin and 4-methylhistamine (see Non-Patent Document 8) have a strong effect of causing itching, and scratching behavior is observed in most strains of mice (see Non-Patent Document 7). In addition, as a model mouse for itching of atopic dermatitis, a spontaneous type (see Non-Patent Document 9 and Non-Patent Document 10) or a chemical substance-induced type (see Non-Patent Document 11) NC mouse and DS-Nh mouse. (See Non-Patent Document 12), Hairless Mouse (See Non-Patent Document 13) and the like.
痒みはその伝達経路から末梢性の痒みと中枢性の痒みに分類される。末梢性の痒みは、表皮真皮境界部に分布するC線維神経終末が機械的、化学的、物理的刺激など外部からの刺激により興奮すると、生じた活動電位が脊髄、脊髄視 床路、視床を経由して大脳皮質の感覚野に達し、痒みとして認識される。一方、 中枢性の痒みは、内因性オピオイドペプチドが掻痒メディエーターとして中枢神経系に存在するオピオイドμ受容体に結合することによって惹起されると考えられている。モルヒネの副作用の1つとして、掻痒作用があるが、この作用は中枢のμ受容体を介して引きをこされるのである。 Itching is classified into peripheral itch and central itch according to its transmission pathway. Peripheral itch occurs when the C-fiber nerve endings distributed at the epidermal dermal boundary are excited by external stimuli such as mechanical, chemical, and physical stimuli, and the generated activity potential affects the spinal cord, spinal cord thalamus, and thalamus. It reaches the sensory area of the cerebral cortex via and is recognized as itching. On the other hand, central itch is thought to be caused by the binding of an endogenous opioid peptide as a pruritus mediator to opioid μ receptors present in the central nervous system. One of the side effects of morphine is pruritus, which is elicited via central μ-receptors.
オピオイド受容体は、μ、δおよびκの3種に分類され、それらの薬理学的特徴が解析されるとともに、各種オピオイド受容体作動薬や拮抗薬の臨床応用が試みられている。オピオイドκ受容体作動薬が、種々の痒みモデルに対して抑制効果を示し(非特許文献14及び非特許文献15参照)、特に血液透析患者における難治性掻痒に対して極めて有効であることが報告されている(非特許文献16参照)。血液透析患者における掻痒の発症因子は、複数あると考えられており、カルシウムおよびリン代謝異常による副甲状腺機能亢進(非特許文献17参照)、皮膚への神経線維の異常伸長(非特許文献18参照)、乾燥やサイトカインの増加による微小炎症状態(非特許文献19及び非特許文献20参照)、ヒスタミンやサブスタンスP濃度の 上昇など、末梢性機能変化の関与が報告されている(非特許文献21及び非特許文献22参照)。オピオイドκ受容体作動薬は血液透析患者の掻痒に対してオピオイドκ受容体の活性化を介して、止痒作用を発現している可能性が考えられている。 Opioid receptors are classified into three types, μ, δ, and κ, and their pharmacological characteristics are analyzed, and clinical application of various opioid receptor agonists and antagonists is being attempted. It has been reported that opioid kappa receptor agonists have an inhibitory effect on various itch models (see Non-Patent Document 14 and Non-Patent Document 15) and are extremely effective especially for intractable pruritus in hemodialysis patients. (See Non-Patent Document 16). It is thought that there are multiple factors that cause pruritus in hemodialysis patients, such as hyperparathyroidism due to abnormal calcium and phosphorus metabolism (see Non-Patent Document 17) and abnormal elongation of nerve fibers to the skin (see Non-Patent Document 18). ), Micro-inflammatory state due to drought or increase in cytokines (see Non-Patent Document 19 and Non-Patent Document 20), and involvement of peripheral functional changes such as increase in histamine and substance P concentrations have been reported (Non-Patent Document 21 and Non-Patent Document 20). See Non-Patent Document 22). It is considered that opioid κ receptor agonists may exert an antipruritic effect on pruritus in hemodialysis patients through activation of opioid κ receptors.
一方、近年、オピオイドμ受容体には数多くのスプライスヴァリアンスが存在し、μ受容体を介して、生体内のκ受容体作動薬であるダイノルフィンA、ダイノルフィンBおよびネオエンドルフィンを遊離させ、薬理効果を引き起こすことが報告されている。これらのμ受容体作動薬はこれまでのmorphineを代表とするオピオイドとは異なった薬理作用機構を持つことが報告されている。 On the other hand, in recent years, there are many splice varieties of opioid μ receptors, and dynorphin A, dynorphin B and neoendorphin, which are κ receptor agonists in vivo, are released via the μ receptor. It has been reported to cause pharmacological effects. It has been reported that these μ-receptor agonists have a different pharmacological mechanism of action from opioids typified by morphine.
本発明は、このような問題に基づきなされたものであり、優れた抗掻痒効果を有する新規の抗掻痒剤を提供することを目的とする。 The present invention has been made based on such a problem, and an object of the present invention is to provide a novel antipruritic agent having an excellent antipruritic effect.
本発明の抗掻痒剤は、下記の一般式(1)
Y1−AA1−AA2−AA3−AA4−Y2 (1)
で表される化合物又はその薬学的に許容できる塩を含み、
上記Y1は、水素原子、低級アルキル基、及び、下記の化学式(2)で表される基
R1N=C(R2)− (2)
から選ばれる1つであり、化学式(2)においてR1は、水素原子、ヒドロキシル基、低級アルキル基、及び、低級アルコキシル基から選ばれる1つであり、R2は、低級アルキル基、又は、アミノ基であり、
上記Y2は、ヒドロキシル基、又は、下記の化学式(3)
−N(R3)R4 (3)
で表される基であり、化学式(3)において、R3及びR4は、それぞれ独立に、水素原子、ヒドロキシル基、低級アルキル基、及び、低級アルコキシル基から選ばれる1つであるか、又は、R3及びR4はこれらが結合する窒素原子と一緒になった5員又は6員の含窒素複素環基であり、
上記AA1は下記の化学式(4)
−O−CO−R7 (5)
−O−CO−O−R8 (6)
から選ばれる1つであり、化学式(5)のR7、及び、化学式(6)のR8は、それぞれ独立に、C1−16アルキル基、ヒドロキシC1−16アルキル基、アミノC1−16アルキル基、(モノ低級アルキル)アミノC1−16アルキル基、(ジ低級アルキル)アミノC1−16アルキル基、C3−10シクロアルキル基、C3−10シクロアルキル置換低級アルキル基、C2−16アルケニル基、C2−16アルキニル基、複素環基、アリール基、及び、アリール置換低級アルキル基から選ばれる1つであり、
上記AA2は下記の化学式(7)
上記AA3は非置換フェニルアラニン残基、置換フェニルアラニン残基、非置換D−フェニルアラニン残基、及び、置換D−フェニルアラニン残基から選ばれる1つであり、
上記AA4は、下記の化学式(8)
−N(R10)−CH(R11)−CO− (8)
で表されるα−アミノ酸残基、又は、下記の化学式(9)
−N(R10)−CH(R11)−CH(R12)−CO− (9)
で表されるβ−アミノ酸残基であり、化学式(8)及び化学式(9)において、R10及びR12は、それぞれ独立に、水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、アリール基、及び、アリール置換低級アルキル基から選ばれる1つであり、R11は、水素原子、又は、下記の化学式(10)
−Z−N(R13)−R14 (10)
で表される基であり、化学式(10)において、Zは、低級アルキレン基、低級アルケニレン基、及び、低級アルキニレン基から選ばれる1つであり、R13及びR14は、それぞれ独立に、水素原子、低級アルキル基、アリール基、及び、アリール置換低級アルキル基から選ばれる1つ、又は、R13及びR14はこれらが結合する窒素原子と一緒になった5員又は6員の含窒素複素環基であることを特徴とするものである。
The antipruritic agent of the present invention has the following general formula (1).
Y 1- AA 1- AA 2- AA 3- AA 4- Y 2 (1)
Containing a compound represented by or a pharmaceutically acceptable salt thereof,
The above Y 1 is a hydrogen atom, a lower alkyl group, and a group represented by the following chemical formula (2) R 1 N = C (R 2 ) − (2).
In the chemical formula (2), R 1 is one selected from a hydrogen atom, a hydroxyl group, a lower alkyl group, and a lower alkoxyl group, and R 2 is a lower alkyl group or a lower alkyl group. It is an amino group
The above Y 2 is a hydroxyl group or the following chemical formula (3).
−N (R 3 ) R 4 (3)
In the chemical formula (3), R 3 and R 4 are each independently selected from a hydrogen atom, a hydroxyl group, a lower alkyl group, and a lower alkoxyl group, or are groups represented by , R 3 and R 4 are 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocyclic groups combined with the nitrogen atom to which they are attached.
The above AA 1 has the following chemical formula (4).
-O-CO-O-R 8 (6)
R 7 of chemical formula (5) and R 8 of chemical formula (6) are independently selected from C 1-16 alkyl group, hydroxy C 1-16 alkyl group, and amino C 1-. 16 Alkyl Group, (Mono Lower Alkyl) Amino C 1-16 Alkyl Group, (Di Lower Alkyl) Amino C 1-16 Alkyl Group, C 3-10 Cycloalkyl Group, C 3-10 Cycloalkyl Substituted Lower Alkyl Group, C It is one selected from a 2-16 alkenyl group, a C 2-16 alkynyl group, a heterocyclic group, an aryl group, and an aryl-substituted lower alkyl group.
The above AA 2 has the following chemical formula (7).
AA 3 is one selected from an unsubstituted phenylalanine residue, a substituted phenylalanine residue, an unsubstituted D-phenylalanine residue, and a substituted D-phenylalanine residue.
The above AA 4 has the following chemical formula (8).
-N (R 10 ) -CH (R 11 ) -CO- (8)
Α-Amino acid residue represented by, or the following chemical formula (9)
-N (R 10 ) -CH (R 11 ) -CH (R 12 ) -CO- (9)
It is a β-amino acid residue represented by, and in the chemical formula (8) and the chemical formula (9), R 10 and R 12 are independently a hydrogen atom, a lower alkyl group, a lower alkenyl group, a lower alkynyl group, and an aryl, respectively. It is one selected from a group and an aryl-substituted lower alkyl group, and R 11 is a hydrogen atom or the following chemical formula (10).
-Z-N (R 13 ) -R 14 (10)
In the chemical formula (10), Z is one selected from a lower alkylene group, a lower alkenylene group, and a lower alkynylene group, and R 13 and R 14 are independently hydrogen. One selected from an atom, a lower alkyl group, an aryl group, and an aryl-substituted lower alkyl group, or R 13 and R 14 are 5- or 6-membered nitrogen-containing complexes combined with the nitrogen atom to which they are attached. It is characterized by being a ring group.
本発明の抗掻痒剤によれば、特に、中枢性の痒みに対して優れた抗掻痒作用を得ることができ、経口投与、及び、非経口投与のどちらにおいても高い効果を得ることができる。 According to the antipruritic agent of the present invention, it is possible to obtain an excellent antipruritic effect particularly on central pruritus, and a high effect can be obtained in both oral administration and parenteral administration.
以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.
本実施の形態に係る抗掻痒剤は、下記の一般式(1)で表される化合物又はその薬学的に許容できる塩を含むものである。
Y1−AA1−AA2−AA3−AA4−Y2 (1)
The antipruritic agent according to the present embodiment contains a compound represented by the following general formula (1) or a pharmaceutically acceptable salt thereof.
Y 1- AA 1- AA 2- AA 3- AA 4- Y 2 (1)
一般式(1)において、Y1は、水素原子、低級アルキル基、及び、下記の化学式(2)で表される基から選ばれる1つである。
R1N=C(R2)− (2)
化学式(2)においてR1は、水素原子、ヒドロキシル基、低級アルキル基、及び、低級アルコキシル基から選ばれる1つであり、R2は、低級アルキル基、又は、アミノ基である。
In the general formula (1), Y 1 is one selected from a hydrogen atom, a lower alkyl group, and a group represented by the following chemical formula (2).
R 1 N = C (R 2 )-(2)
In the chemical formula (2), R 1 is one selected from a hydrogen atom, a hydroxyl group, a lower alkyl group, and a lower alkoxyl group, and R 2 is a lower alkyl group or an amino group.
一般式(1)において、Y2は、ヒドロキシル基、又は、下記の化学式(3)で表される基である。
−N(R3)R4 (3)
化学式(3)において、R3及びR4は、それぞれ独立に、水素原子、ヒドロキシル基、低級アルキル基、及び、低級アルコキシル基から選ばれる1つであるか、又は、R3及びR4はこれらが結合する窒素原子と一緒になった5員又は6員の含窒素複素環基である。
In the general formula (1), Y 2 is a hydroxyl group or a group represented by the following chemical formula (3).
−N (R 3 ) R 4 (3)
In the chemical formula (3), R 3 and R 4 are independently selected from a hydrogen atom, a hydroxyl group, a lower alkyl group, and a lower alkoxyl group, or R 3 and R 4 are these. Is a 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocyclic group combined with a nitrogen atom to which is bonded.
一般式(1)において、AA1は下記の化学式(4)で表されるα−アミノ酸残基である。
化学式(4)において、R5及びR6は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、及び、ハロゲン化低級アルキル基から選ばれる1つである。Xは、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、下記の化学式(5)で表される基、及び、下記の化学式(6)で表される基から選ばれる1つである。 In the chemical formula (4), R 5 and R 6 are one independently selected from a hydrogen atom, a halogen atom, a lower alkyl group, and a halogenated lower alkyl group, respectively. X is one selected from a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group, a group represented by the following chemical formula (5), and a group represented by the following chemical formula (6).
−O−CO−R7 (5)
−O−CO−O−R8 (6)
化学式(5)のR7、及び、化学式(6)のR8は、それぞれ独立に、C1−16アルキル基、ヒドロキシC1−16アルキル基、アミノC1−16アルキル基、(モノ低級アルキル)アミノC1−16アルキル基、(ジ低級アルキル)アミノC1−16アルキル基、C3−10シクロアルキル基、C3−10シクロアルキル置換低級アルキル基、C2−16アルケニル基、C2−16アルキニル基、複素環基、アリール基、及び、アリール置換低級アルキル基から選ばれる1つである。
-O-CO-R 7 (5)
-O-CO-O-R 8 (6)
R 7 of the chemical formula (5) and R 8 of the chemical formula (6) are independently C 1-16 alkyl group, hydroxy C 1-16 alkyl group, amino C 1-16 alkyl group, (mono lower alkyl). ) Amino C 1-16 Alkyl Group, (DiLower Alkyl) Amino C 1-16 Alkyl Group, C 3-10 Cycloalkyl Group, C 3-10 Cycloalkyl Substituted Lower Alkyl Group, C 2-16 Alkyl Group, C 2 -16 Alkinyl group, heterocyclic group, aryl group, and aryl substituted lower alkyl group.
一般式(1)において、AA2は下記の化学式(7)で表されるD−α−アミノ酸残基である。
化学式(7)において、R9は、アミノ基、(モノ低級アルキル)アミノ基、低級アシルアミノ基、グアニジノ基、低級アルキル基置換グアニジノ基、イミノ低級アルキル基、ウレイド基、低級アルキル基置換ウレイド基、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アシル基、及び、ヒドロキシ低級アルキル基から選ばれる1つである。なお、nは1〜4の整数である。 In the chemical formula (7), R 9 is an amino group, a (monolower alkyl) amino group, a lower acylamino group, a guanidino group, a lower alkyl group substituted guanidino group, an imino lower alkyl group, a ureido group, a lower alkyl group substituted ureido group, It is one selected from a lower alkylthio group, a lower alkylsulfinyl group, a lower alkylsulfonyl group, a lower acyl group, and a hydroxy lower alkyl group. Note that n is an integer of 1 to 4.
一般式(1)において、AA3は非置換フェニルアラニン残基、置換フェニルアラニン残基、非置換D−フェニルアラニン残基、及び、置換D−フェニルアラニン残基から選ばれる1つである。 In the general formula (1), AA 3 is one selected from an unsubstituted phenylalanine residue, a substituted phenylalanine residue, an unsubstituted D-phenylalanine residue, and a substituted D-phenylalanine residue.
一般式(1)において、AA4は、下記の化学式(8)で表されるα−アミノ酸残基、又は、下記の化学式(9)で表されるβ−アミノ酸残基である。
−N(R10)−CH(R11)−CO− (8)
−N(R10)−CH(R11)−CH(R12)−CO− (9)
In the general formula (1), AA 4 is an α-amino acid residue represented by the following chemical formula (8) or a β-amino acid residue represented by the following chemical formula (9).
-N (R 10 ) -CH (R 11 ) -CO- (8)
-N (R 10 ) -CH (R 11 ) -CH (R 12 ) -CO- (9)
化学式(8)及び化学式(9)において、R10及びR12は、それぞれ独立に、水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、アリール基、及び、アリール置換低級アルキル基から選ばれる1つである。R11は、水素原子、又は、下記の化学式(10)で表される基である。
−Z−N(R13)−R14 (10)
化学式(10)において、Zは、低級アルキレン基、低級アルケニレン基、及び、低級アルキニレン基から選ばれる1つであり、R13及びR14は、それぞれ独立に、水素原子、低級アルキル基、アリール基、及び、アリール置換低級アルキル基から選ばれる1つ、又は、R13及びR14はこれらが結合する窒素原子と一緒になった5員又は6員の含窒素複素環基である。
In the chemical formulas (8) and (9), R 10 and R 12 are independently selected from a hydrogen atom, a lower alkyl group, a lower alkenyl group, a lower alkynyl group, an aryl group, and an aryl-substituted lower alkyl group, respectively. There is one. R 11 is a hydrogen atom or a group represented by the following chemical formula (10).
-Z-N (R 13 ) -R 14 (10)
In the chemical formula (10), Z is one selected from a lower alkylene group, a lower alkenylene group, and a lower alkynylene group, and R 13 and R 14 are independently hydrogen atoms, lower alkyl groups, and aryl groups, respectively. , And one selected from the aryl-substituted lower alkyl groups, or R 13 and R 14, are 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocyclic groups combined with the nitrogen atom to which they are attached.
本実施の形態の抗掻痒剤は、アミノ末端に水素原子、低級アルキル基、又は、化学式(2)「R1N=C(R2)−」で表される非置換もしくは置換イミノ低級アルキル基を有しい、かつ、カルボキシル末端にヒドロキシル基、又は、化学式(3)「−N(R3)R4」で表される非置換もしくは置換アミド基を有する化合物又はその薬学的に許容できる塩を含む点に特徴がある。このような構造を有するペプチド誘導体は、優れた抗掻痒効果を有する。 The antipruritic agent of the present embodiment has a hydrogen atom at the amino terminal, a lower alkyl group, or an unsubstituted or substituted imino lower alkyl group represented by the chemical formula (2) "R 1 N = C (R 2 )-". A compound having a hydroxyl group at the carboxyl end or an unsubstituted or substituted amide group represented by the chemical formula (3) "-N (R 3 ) R 4 " or a pharmaceutically acceptable salt thereof. It is characterized by including. Peptide derivatives having such a structure have an excellent antipruritic effect.
一般式(1)において、Y1の好ましい例は、水素原子、及び、メチル基から選ばれる1つ、又は、化学式(2)においてR1が水素原子であり、R2が低級アルキル基又はアミノ基の基であるが、本抗掻痒剤はこれに限定されない。R2のより好ましい例は、メチル基、エチル基、又は、アミノ基である。 In the general formula (1), a preferable example of Y 1 is one selected from a hydrogen atom and a methyl group, or in the chemical formula (2), R 1 is a hydrogen atom and R 2 is a lower alkyl group or amino. Although it is a group of groups, this antipruritic agent is not limited to this. More preferred examples of R 2 include a methyl group, an ethyl group, or an amino group.
一般式(1)において、Y2の好ましい例は、ヒドロキシル基、又は、化学式(3)においてR3及びR4がともに水素原子であるか、あるいは、一方が水素原子であって他方がメチル基である組合せであり、すなわち、化学式(3)の好ましい例は−NH2又は−NH−CH3であるが、本抗掻痒剤はこれに限定されない。 In the general formula (1), a preferable example of Y 2 is a hydroxyl group, or in the chemical formula (3), both R 3 and R 4 are hydrogen atoms, or one is a hydrogen atom and the other is a methyl group. That is, a preferable example of the chemical formula (3) is -NH 2 or -NH-CH 3 , but the antipruritic agent is not limited thereto.
AA1を表す化学式(4)におけるR5及びR6と、化学式(11)又は(12)にお
けるR15及びR16とのベンゼン環上における置換位置は特に限定されない。
The substitution positions of R 5 and R 6 in the chemical formula (4) representing AA 1 and R 15 and R 16 in the chemical formula (11) or (12) on the benzene ring are not particularly limited.
一般式(1)において、AA1の好ましい例としては、チロシン残基、2,6−ジメチル−チロシン残基、o−アシル−チロシン残基、o−アルコキシカルボニル−チロシン残基、o−フェノキシカルボニル−チロシン残基、o−アセチルチロシン残基、2,6−ジメチル−フェニルアラニン残基等が挙げられるが、本抗掻痒剤はこれに限定されない。 In the general formula (1), preferred examples of AA 1 are tyrosine residue, 2,6-dimethyl-tyrosine residue, o-acyl-tyrosine residue, o-alkoxycarbonyl-tyrosine residue, o-phenoxycarbonyl. -Tyrosine residue, o-acetyltyrosine residue, 2,6-dimethyl-phenylalanine residue and the like can be mentioned, but the antipruritic agent is not limited thereto.
一般式(1)において、AA2の好ましい例としては、D−アルギニン残基、D−メチオニンスルホキシド残基、D−N5−アセチルオルニチン残基、D−5−オキソノルロイ
シン残基、D−シトルリン残基、D−5−ヒドロキシノルロイシン残基等が挙げられるが、本抗掻痒剤はこれに限定されない。
In the general formula (1), preferred examples of AA 2 are D-arginine residue, D-methionine sulfoxide residue, D-N5-acetylornithine residue, D-5-oxonorleucine residue, and D-citrulin. Residues, D-5-hydroxynorleucine residues and the like can be mentioned, but the antipruritic agent is not limited thereto.
一般式(1)において、AA3は下記の化学式(11)又は(12)で表されるα−アミノ酸残基又はD−α−アミノ酸残基の場合がある。 In the general formula (1), AA 3 may be an α-amino acid residue or a D-α-amino acid residue represented by the following chemical formula (11) or (12).
化学式(11)及び(12)において、R15及びR16は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、及び、ハロゲン化低級アルキル基から選ばれる1つである。 In the chemical formulas (11) and (12), R 15 and R 16 are one independently selected from a hydrogen atom, a halogen atom, a lower alkyl group, and a halogenated lower alkyl group, respectively.
一般式(1)において、AA3の好ましい例としては、フェニルアラニン残基、p−フルオロフェニルアラニン残基及びo−トリフルオロメチルフェニルアラニン残基、2,6
−ジメチル−フェニルアラニン残基、D−フェニルアラニン残基、D−p−フルオロフェニルアラニン残基、D−o−トリフルオロメチルフェニルアラニン残基等が挙げられるが、本抗掻痒剤はこれに限定されない。
In the general formula (1), preferred examples of AA 3 are phenylalanine residue, p-fluorophenylalanine residue and o-trifluoromethylphenylalanine residue, 2,6.
-Dimethyl-phenylalanine residue, D-phenylalanine residue, D-p-fluorophenylalanine residue, D-o-trifluoromethylphenylalanine residue and the like can be mentioned, but the antipruritic agent is not limited thereto.
一般式(1)において、AA4の好ましい例としては、リシン残基、N−メチル−β−アラニン残基等が挙げられるが、本抗掻痒剤はこれに限定されない。 In the general formula (1), preferable examples of AA 4 include, but are not limited to, a lysine residue, an N-methyl-β-alanine residue, and the like, but the antipruritic agent is not limited thereto.
本明細書に記載のアミノ酸、その残基について、D−体とL−体とが存在する場合、特にD−と表示していない場合には、そのアミノ酸、その残基はL−アミノ酸を意味する。 Regarding the amino acids and their residues described in the present specification, when D-form and L-form are present, especially when not indicated as D-, the amino acids and their residues mean L-amino acids. To do.
本明細書に記載の「低級アルキル」、「低級アルコキシル」、「低級アシル」及び「低級アルキレン」の用語において、「低級」とは、1、2、3、4、5又は6個の炭素原子を含むことを意味する。本明細書に記載の「低級アルケニル」、「低級アルキニル」、「低級アルケニレン」及び「低級アルキニレン」の用語において、「低級」とは、2、3、4、5又は6個の炭素原子を含むことを意味する。 In the terms "lower alkyl", "lower alkoxyl", "lower acyl" and "lower alkylene" described herein, "lower" means 1, 2, 3, 4, 5 or 6 carbon atoms. Means to include. In the terms "lower alkenyl", "lower alkynyl", "lower alkenylene" and "lower alkynylene" described herein, "lower" includes 2, 3, 4, 5 or 6 carbon atoms. Means that.
本明細書に記載の「アルキル」、「アルコキシル」、「アシル」、「アルキレン」、「アルケニル」、「アルキニル」、「アルケニレン」及び「アルキニレン」は、直鎖型異性体及び分岐鎖型異性体のいずれの場合であってもよい。分岐鎖型異性体としては、第2級炭素を含む分岐鎖型異性体と第3級炭素を含む分岐鎖型異性体とのいずれの場合であってもよい。 The "alkyl", "alkoxyl", "acyl", "alkylene", "alkenyl", "alkynyl", "alkenylene" and "alkynylene" described herein are linear isomers and branched chain isomers. In any case of. The branched-chain isomer may be any of a branched-chain isomer containing a secondary carbon and a branched-chain isomer containing a tertiary carbon.
前記低級アルキル基の好ましい例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、ネオペンチル基、n−ヘキシル基等があるが、これらの例に限定されない。また、本明細書に記載の「C1−16アルキル基」、「ヒドロキシC1−16アルキル基」、「アミノC1−16アルキル基」、「(モノ低級アルキル)アミノC1−16アルキル基」、「(ジ低級アルキル)アミノC1−16アルキル基」等における「C1−16アルキル基」の好ましい例としては、前記低級アルキル基の好ましい例に加えて、直鎖又は分岐鎖のヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基等があるが、これらの例に限定されない。C1−16アルキル基としては直鎖又は分岐鎖型のC6−12アルキル基が好ましく、C8−10アルキル基がより好ましい。特に好ましいのはC8及びC10の直鎖又は分岐鎖型アルキル基である。 Preferred examples of the lower alkyl group include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, neopentyl group and n-hexyl. There are groups, etc., but the present invention is not limited to these examples. In addition, "C 1-16 alkyl group", "hydroxy C 1-16 alkyl group", "amino C 1-16 alkyl group", "(mono lower alkyl) amino C 1-16 alkyl group" described in the present specification. , "(Dilower alkyl) amino C 1-16 alkyl group" and the like, examples of the "C 1-16 alkyl group" include, in addition to the preferred example of the lower alkyl group, a linear or branched heptyl. Groups, octyl groups, nonyl groups, decyl groups, undecyl groups, dodecyl groups, tridecyl groups, tetradecyl groups, pentadecyl groups, hexadecyl groups and the like are included, but are not limited to these examples. As the C 1-16 alkyl group, a linear or branched C 6-12 alkyl group is preferable, and a C 8-10 alkyl group is more preferable. Particularly preferred are C 8 and C 10 linear or branched alkyl groups.
本明細書に記載の「低級アルコキシル基」は、1、2、3、4、5又は6個の炭素原子数のアルコキシル基を指す。前記低級アルコキシル基の好ましい例としては、メトキシ基、エトキシ基等があるが、これらの例に限定されない。 The "lower alkoxyl group" described herein refers to an alkoxyl group having 1, 2, 3, 4, 5 or 6 carbon atoms. Preferred examples of the lower alkoxyl group include, but are not limited to, methoxy group, ethoxy group and the like.
本明細書に記載の「C3−10シクロアルキル基」と、「C3−10シクロアルキル置換低級アルキル基」における「C3−10シクロアルキル基」とは、ともに炭素原子の数が3、4、5、6、7、8、9又は10個のシクロアルキル基を指す。前記C3−10シクロアルキル基の好ましい例としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、アダマンチル基等があるが、これらの例には限定されない。本明細書に記載の「C3−10シクロアルキル置換低級アルキル基」における「C3−10シクロアルキル基」は低級アルキル基のどの炭素原子に置換していてもよく、低級アルキル基の炭素原子のうち何個の炭素原子に置換していてもよい。例えば1ないし4個、より好ましくは1ないし2個、特に好ましくは1個のC3−10シクロアルキル基が任意の位置の炭素原子に置換される場合がある。 As "C 3-10 cycloalkyl group" described in the present specification, the "C 3-10 cycloalkyl group" of the "C 3-10 cycloalkyl substituted lower alkyl group", both the number of carbon atoms 3, Refers to 4, 5, 6, 7, 8, 9 or 10 cycloalkyl groups. Preferred examples of the C 3-10 cycloalkyl group include, but are not limited to, cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, adamantyl group and the like. The "C 3-10 cycloalkyl group" in the "C 3-10 cycloalkyl substituted lower alkyl group" described in the present specification may be substituted with any carbon atom of the lower alkyl group, and the carbon atom of the lower alkyl group may be substituted. It may be replaced with any number of carbon atoms. For example, 1 to 4, more preferably 1 to 2, particularly preferably 1 C 3-10 cycloalkyl group may be substituted with a carbon atom at an arbitrary position.
本明細書に記載の「C2−16アルケニル基」及び「C2−16アルキニル基」は、それぞれ、炭素原子の数が2個から16個までのいずれかのアルケニル基及びアルキニル基であって、直鎖又は分岐鎖型のものを指す。前記C2−16アルケニル基及びC2−16アルケニル基にそれぞれ含まれる二重結合及び三重結合の位置及び数は特に限定されない,前記C2−16アルケニル基の好ましい例としては、ビニル基すなわちエテニル基、2−プロペニル基、cis−1−プロペニル基、trans−1−プロペニル基等があるが、これらの例に限定されない。前記C2−16アルキニル基の好ましい例としては、エチニル基、2−プロピニル基等があるが、本発明はこれらの例には限定されない。 The "C 2-16 alkenyl group" and "C 2-16 alkynyl group" described in the present specification are any alkenyl group and alkynyl group having 2 to 16 carbon atoms, respectively. , Linear or branched chain type. The position and number of double bonds and triple bonds contained in the C 2-16 alkenyl group and the C 2-16 alkenyl group are not particularly limited. A preferable example of the C 2-16 alkenyl group is a vinyl group or ethenyl. Groups, 2-propenyl groups, cis-1-propenyl groups, trans-1-propenyl groups and the like, but are not limited to these examples. Preferred examples of the C 2-16 alkynyl group include an ethynyl group and a 2-propynyl group, but the present invention is not limited to these examples.
本明細書に記載の「複素環基」は、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなるグループから選択される少なくとも1種類の原子と炭素原子とからなる、飽和、不飽和又は部分不鉋和の環状化合物を指す。前記複素環基の好ましい例は、ピリジル基、フラニル基、チオフェニル基等があるが、これらの例に限定されない。化学式(3)におけるR3及びR4と、化学式(10)におけるR13及びR14とは、これらが結合する窒素原子と一緒になった5員又は6員の含窒素複素環基を表す場合がある。該含窒素複素環基は、例えば、環を再成する原子として1個又は2個以上の窒素原子を含む5ないし6員の飽和又は部分不飽和の複素環基である場合がある。前記含窒素複素環基の好ましい例としては、ピロリジノ基、ピペリジノ基、3,4−デヒドロピロリジノ基、ピリジニオ基等が挙げられるが、本発明はこれらの例には限定されない。 The "heterocyclic group" described herein is a saturated, unsaturated or partially unsaturated sum consisting of at least one atom selected from the group consisting of nitrogen atom, oxygen atom and sulfur atom and a carbon atom. Refers to a cyclic compound. Preferred examples of the heterocyclic group include, but are not limited to, a pyridyl group, a furanyl group, a thiophenyl group and the like. When R 3 and R 4 in the chemical formula (3) and R 13 and R 14 in the chemical formula (10) represent a 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocyclic group together with the nitrogen atom to which they are bonded. There is. The nitrogen-containing heterocyclic group may be, for example, a 5- to 6-membered saturated or partially unsaturated heterocyclic group containing one or two or more nitrogen atoms as atoms for reforming the ring. Preferred examples of the nitrogen-containing heterocyclic group include, but are not limited to, pyrrolidino group, piperidino group, 3,4-dehydropyrrolidino group, pyridinio group and the like.
本明細書に記載の「アリール基」と、「アリール置換低級アルキル基」における「アリール基」とは、1個または2個以上の環からなる芳香族置換基を指す。前記アリール基の好ましい例としては、フェニル基、ナフチル基、アントラセニリル基、フェナントリル基等があるが、これらの例に限定されない。本明細書に記載の「アリール置換低級アルキル基」における「アリール基」は、低級アルキル基のどの炭素原子に置換していてもよく、低級アルキル基の炭素原子のうち何個の炭素原子に置換していてもよい。例えば1ないし4個、より好ましくは1ないし2個、特に好ましくは1個のアリール基が任意の位置の炭素原子に置換される場合がある。前記アリール置換低級アルキル基の好ましい例としては、ベンジル基、フェネチル基等があるが、これらの例に限定されない。 The "aryl group" described herein and the "aryl group" in the "aryl-substituted lower alkyl group" refer to an aromatic substituent consisting of one or more rings. Preferred examples of the aryl group include, but are not limited to, a phenyl group, a naphthyl group, an anthraceniryl group, a phenanthryl group and the like. The "aryl group" in the "aryl-substituted lower alkyl group" described in the present specification may be substituted with any carbon atom of the lower alkyl group, and may be substituted with any number of carbon atoms among the carbon atoms of the lower alkyl group. You may be doing it. For example, 1 to 4, more preferably 1 to 2, particularly preferably 1 aryl group may be substituted with a carbon atom at an arbitrary position. Preferred examples of the aryl-substituted lower alkyl group include, but are not limited to, a benzyl group, a phenethyl group and the like.
本明細書に記載の「低級アシル基」と、「低級アシルアミノ基」における「低級アシル基」とは、ともに1、2、3、4、5又は6個の炭素原子数のアシル基すなわちアルカノイル基を指す。前記低級アシル基の好ましい例としては、ホルミル基、アセチル基等があるが、これらの例に限定されない。基本明細書に記載の「低級アシルアミノ基」における「低級アシル基」は、アミノ基の水素原子の一方又は両方を置換する。前記低級アシルアミノ基の好ましい例としては、モノアセチルアミノ基、ジアセチルアミノ基等があるが、これらの例に限定されない。 The "lower acyl group" described in the present specification and the "lower acyl group" in the "lower acylamino group" are both acyl groups having 1, 2, 3, 4, 5 or 6 carbon atoms, that is, alkanoyl groups. Point to. Preferred examples of the lower acyl group include, but are not limited to, a formyl group, an acetyl group and the like. The "lower acyl group" in the "lower acylamino group" described in the basic specification substitutes one or both of the hydrogen atoms of the amino group. Preferred examples of the lower acylamino group include, but are not limited to, a monoacetylamino group, a diacetylamino group and the like.
本明細書に記載の「ハロゲン」は、フッ素、塩素、臭素又はヨウ素のいずれでもよい。本明細書に記載の「ハロゲン化低級アルキル基」に置換するハロゲン原子の置換位置、個数及び種類は特に制限されず、モノハロゲン化低級アルキル基からパーハロゲン化低級アルキル基までいずれも利用可能である。2個以上のハロゲン原子が存在する場合には、それらは同一でも異なっていてもよい。前記ハロゲン化低級アルキル基の好ましい例としては、クロロメチル基、ブロモメチル基、フルオロメチル基、2−クロロエチル基、トリフルオロメチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基等があるが、本発明はこれらの例には限定されない。 The "halogen" described herein may be any of fluorine, chlorine, bromine or iodine. The substitution position, number, and type of the halogen atom to be substituted with the "lower halogenated lower alkyl group" described in the present specification are not particularly limited, and any of monohalogenated lower alkyl groups to per-halogenated lower alkyl groups can be used. is there. If two or more halogen atoms are present, they may be the same or different. Preferred examples of the halogenated lower alkyl group include a chloromethyl group, a bromomethyl group, a fluoromethyl group, a 2-chloroethyl group, a trifluoromethyl group, a 2,2,2-trifluoroethyl group and the like. Is not limited to these examples.
本明細書に記載の「ヒドロキシ低級アルキル基」又は「ヒドロキシC1−16アルキル基」における「ヒドロキシル基」は、アルキル基の炭素原子のうちどの炭素原子に置換していてもよく、アルキル基の炭素原子のうち何個の炭素原子に置換していてもよい。例えば1ないし4個、より好ましくは1ないし2個、特に好ましくは1個のヒドロキシル基が任意の位置の炭素原子に置換される場合がある。前記「ヒドロキシ低級アルキル基」及び「ヒドロキシC1−16アルキル基」の好ましい例としては、ヒドロキシメチル基、2−ヒドロキシエチル基等があるが、これらの例に限定されない。 The "hydroxyl group" in the "hydroxy lower alkyl group" or "hydroxy C 1-16 alkyl group" described in the present specification may be substituted with any carbon atom among the carbon atoms of the alkyl group, and the alkyl group may be substituted. It may be replaced with any number of carbon atoms among the carbon atoms. For example, 1 to 4, more preferably 1 to 2, particularly preferably 1 hydroxyl group may be substituted with a carbon atom at an arbitrary position. Preferred examples of the "hydroxy lower alkyl group" and the "hydroxy C 1-16 alkyl group" include, but are not limited to, a hydroxymethyl group and a 2-hydroxyethyl group.
本明細書に記載の「アミノC1−16アルキル基」における「アミノ基」は、C1−16アルキル基の炭素原子のうちどの炭素原子に置換していてもよく、アルキル基の炭素原子のうち何個の炭素原子に置換していてもよい。例えば1ないし4個、より好ましくは1ないし2個、特に好ましくは1個のアミノ基が任意の位置の炭素原子に置換される場合がある。前記「アミノC1−16アルキル基」の好ましい例としては、アミノメチル基、2−アミノエチル基等があるが、これらの例に限定されない。 The "amino group" in the "amino C 1-16 alkyl group" described in the present specification may be substituted with any carbon atom among the carbon atoms of the C 1-16 alkyl group, and the carbon atom of the alkyl group may be substituted. It may be replaced with any number of carbon atoms. For example, 1 to 4, more preferably 1 to 2, particularly preferably 1 amino group may be substituted with a carbon atom at an arbitrary position. Preferred examples of the "amino C 1-16 alkyl group" include, but are not limited to, an aminomethyl group and a 2-aminoethyl group.
本明細書に記載の「(モノ低級アルキル)アミノ基」と、「(モノ低級アルキル)アミノC1−16アルキル基」における「(モノ低級アルキル)アミノ基」とは、ともに、炭素原子の数が1、2、3、4、5又は6個のアルキル基がアミノ基の1個の水素原子を置換したものを指す。本明細書に記載の「(モノ低級アルキル)アミノ基」と、「(モノ低級アルキル)アミノC1−16アルキル基」における「(モノ低級アルキル)アミノ基」との好ましい例としては、メチルアミノ基、エチルアミノ基等があるが、これらの例に限定されない。本明細書に記載の「(ジ低級アルキル)アミノC1−16アルキル基」における「(ジ低級アルキル)アミノ基」とは、1、2、3、4、5又は6個の炭素原子数のアルキル基がアミノ基の2個の水素原子のそれぞれを置換したものを指す。それぞれの水素原子を置換する低級アルキル基は、同じ低級アルキル基であっても、異なる低級アルキル基であってもかまわない。前記(ジ低級アルキル)アミノ基の例としては、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等があるが、これらの例に限定されない。本明細書に記載の「(モノ低級アルキル)アミノC1−16アルキル基」は、前記(モノ低級アルキル)アミノ基が、C1−16アルキル基の炭素原子のどこに置換していてもよく、該アミノ基はさらに前記低級アルキル基1個で置換されていることを表す。前記(モノ低級アルキル)アミノC1−16アルキル基の好ましい例としては、3−(メチルアミノ)−n−プロニル基、2−(エチルアミノ)−n−ペンチル基等があるが、これらの例に限定されない。本明細書に記載の「(ジ低級アルキル)アミノC1−16アルキル基」は、前記(ジ低級アルキル)アミノ基が、C1−16アルキル基の炭素原子のどこに置換していてもよく、該アミノ基はさらに前記低級アルキル基2個で置換されていることを表す。前記(ジ低級アルキル)アミノC1−16アルキル基の好ましい例としては、2−(ジメチルアミノ)エチル基、2−(ジエチルアミノ)エチル基等があるが、これらの例には限定されない。 The "(monolower alkyl) amino group" described in the present specification and the "(monolower alkyl) amino group" in the "(monolower alkyl) amino C 1-16 alkyl group" are both the number of carbon atoms. Refers to one in which 1, 2, 3, 4, 5 or 6 alkyl groups are substituted with one hydrogen atom of the amino group. Preferred examples of the "(monolower alkyl) amino group" described in the present specification and the "(monolower alkyl) amino group" in the "(monolower alkyl) amino C 1-16 alkyl group" are methylamino. There are groups, ethylamino groups, etc., but the examples are not limited to these. The "(dilower alkyl) amino group" in the "( dilower alkyl) amino C 1-16 alkyl group" described in the present specification means 1, 2, 3, 4, 5 or 6 carbon atoms. An alkyl group in which each of the two hydrogen atoms of the amino group is substituted. The lower alkyl group substituting each hydrogen atom may be the same lower alkyl group or a different lower alkyl group. Examples of the (dilower alkyl) amino group include, but are not limited to, a dimethylamino group, a diethylamino group and the like. In the "(monolower alkyl) amino C 1-16 alkyl group" described herein, the (monolower alkyl) amino group may be substituted anywhere in the carbon atom of the C 1-16 alkyl group. The amino group further represents that it is substituted with the one lower alkyl group. Preferred examples of the (monolower alkyl) amino C 1-16 alkyl group include 3- (methylamino) -n-pronyl group, 2- (ethylamino) -n-pentyl group and the like. Not limited to. In the "(dilower alkyl) amino C 1-16 alkyl group" described herein, the (dilower alkyl) amino group may be substituted anywhere in the carbon atom of the C 1-16 alkyl group. The amino group is further substituted with the two lower alkyl groups. Preferred examples of the (dilower alkyl) amino C 1-16 alkyl group include, but are not limited to, 2- (dimethylamino) ethyl group, 2- (diethylamino) ethyl group and the like.
一般式(1)で表される化合物は、Y1がメチル基であり、Y2が−NH2であるとき、メチル−AA1−AA2−AA3−AA4−アミド又はメチル−AA1−AA2−AA3−AA4−NH2と表される。一般式(1)で表される化合物は、Y1が化学式(2)の「R1N=C(R2)−」で表され、R1が水素原子であり、R2がメチル基であり、Y2が−NH2であるとき、1−イミノエチル−AA1−AA2−AA3−AA4−アミド又は1−イミノエチル−AA1−AA2−AA3−AA4−NH2と表される。一般式(1)で表される化合物は、Y1が化学式(2)の「R1N=C(R2)−」で表され、R1及びR2が共に水素原子であり、Y2が−NH2であるとき、1−イミノメチル−AA1−AA2−AA3−AA4−アミド又は1−イミノメチル−AA1−AA2−AA3−AA4−NH2と表される。一般式(1)で表される化合物は、Y1が化学式(2)の「R1N=C(R2)−」で表され、R1が水素原子であり、R2が−NH2であり、Y2が−NH2であるとき、アミジノ−AA1−AA2−AA3−AA4−アミド又はアミジノ−AA1−AA2−AA3−AA4−NH2と表される。 The compound represented by the general formula (1) has methyl-AA 1- AA 2- AA 3- AA 4 -amide or methyl-AA 1 when Y 1 is a methyl group and Y 2 is -NH 2. It is expressed as −AA 2 −AA 3 −AA 4 −NH 2 . In the compound represented by the general formula (1), Y 1 is represented by "R 1 N = C (R 2 )-" of the chemical formula (2), R 1 is a hydrogen atom, and R 2 is a methyl group. Yes, when Y 2 is -NH 2 , 1-iminoethyl-AA 1- AA 2- AA 3- AA 4 -amide or 1-iminoethyl-AA 1- AA 2- AA 3- AA 4- NH 2 Will be done. In the compound represented by the general formula (1), Y 1 is represented by "R 1 N = C (R 2 )-" of the chemical formula (2), both R 1 and R 2 are hydrogen atoms, and Y 2 When is -NH 2, it is expressed as 1-iminomethyl-AA 1- AA 2- AA 3- AA 4 -amide or 1-iminomethyl-AA 1- AA 2- AA 3- AA 4- NH 2 . In the compound represented by the general formula (1), Y 1 is represented by "R 1 N = C (R 2 )-" of the chemical formula (2), R 1 is a hydrogen atom, and R 2 is -NH 2. When Y 2 is -NH 2, it is expressed as amidino-AA 1- AA 2- AA 3- AA 4 -amide or amidino-AA 1- AA 2- AA 3- AA 4- NH 2 .
一般式(1)で表される化合物は、Y1がメチル基であり、Y2が−NH−CH3であるとき、メチル−AA1−AA2−AA3−AA4−メチルアミド又はメチル−AA1−AA2−AA3−AA4−NH−CH3と表される。一般式(1)で表される化合物は、Y1が化学式(2)の「R1N=C(R2)−」で表され、R1が水素原子であり、R2がメチル基であり、Y2が−NH−CH3であるとき、1−イミノエチル−AA1−AA2−AA3−AA4−メチルアミド又は1−イミノエチル−AA1−AA2−AA3−AA4−NH−CH3と表される。一般式(1)で表される化合物は、Y1が化学式(2)の「R1N=C(R2)−」で表され、R1及びR2が共に水素原子であり、Y2が−NH−CH3であるとき、1−イミノメチル−AA1−AA2−AA3−AA4−メチルアミド又は1−イミノメチル−AA1−AA2−AA3−AA4−NH−CH3と表される。一般式(1)で表される化合物は、Y1が化学式(2)の「R1N=C(R2)−」で表され、R1が水素原子であり、R2が−NH2であり、Y2が−NH−CH3であるとき、アミジノ−AA1−AA2−AA3−AA4−メチルアミド又はアミジノ−AA1−AA2−AA3−AA4−NH−CH3と表される。 The compound represented by the general formula (1) has methyl-AA 1- AA 2- AA 3- AA 4 -methylamide or methyl-when Y 1 is a methyl group and Y 2 is -NH-CH 3. It is represented as AA 1- AA 2- AA 3- AA 4- NH-CH 3 . In the compound represented by the general formula (1), Y 1 is represented by "R 1 N = C (R 2 )-" of the chemical formula (2), R 1 is a hydrogen atom, and R 2 is a methyl group. Yes, when Y 2 is -NH-CH 3 , 1-iminoethyl-AA 1- AA 2- AA 3- AA 4 -methylamide or 1-iminoethyl-AA 1- AA 2- AA 3- AA 4- NH- Represented as CH 3 . In the compound represented by the general formula (1), Y 1 is represented by "R 1 N = C (R 2 )-" of the chemical formula (2), both R 1 and R 2 are hydrogen atoms, and Y 2 When is -NH-CH 3 , 1-iminomethyl-AA 1- AA 2- AA 3- AA 4 -methylamide or 1-iminomethyl-AA 1- AA 2- AA 3- AA 4- NH-CH 3 Will be done. In the compound represented by the general formula (1), Y 1 is represented by "R 1 N = C (R 2 )-" of the chemical formula (2), R 1 is a hydrogen atom, and R 2 is -NH 2. And when Y 2 is -NH-CH 3 , with amidino-AA 1- AA 2- AA 3- AA 4 -methylamide or amidino-AA 1- AA 2- AA 3- AA 4- NH-CH 3 . expressed.
本明細書において、一般式(1)においてY1が水素原子である場合には、ペプチド誘導体の構造の最も左端に「H−」を記載せず、アミノ末端のアミノ酸のアミノ基は無置換であることを示す。また、本明細書において、一般式(1)においてY2がヒドロキシル基であり、ペプチド誘導体のカルボキシル末端に「−OH」と記載される場合には、カルボキシル末端のアミノ酸のカルボキシル基は無置換であることを示す。 In the present specification, when Y 1 is a hydrogen atom in the general formula (1), "H-" is not described at the leftmost end of the structure of the peptide derivative, and the amino group of the amino acid at the amino terminal is not substituted. Indicates that there is. Further, in the present specification, when Y 2 is a hydroxyl group in the general formula (1) and "-OH" is described at the carboxyl end of the peptide derivative, the carboxyl group of the amino acid at the carboxyl terminal is not substituted. Indicates that there is.
本明細書において、「アミノ酸残基」という用語はペプチド化学の分野における通常の意味で用いられており、より具体的には、αアミノ酸においてα位の関係にあるアミノ基及びカルボキシル基、又はβアミノ酸においてβ位の関係にあるアミノ基及びカルボキシル基から、それぞれ水素原子及びヒドロキシル基を除いた残りの構造を意味する。アミノ酸残基の表記法は、生化学辞典(第3版、東京化学同人、1998年10月8日発行)、WIPO標準ST.25及び平成14年7月に特許庁が公表した「塩基配列又はアミノ酸配列を含む明細書等の作成のためのガイドライン」に準じる。D−アミノ酸残基を含む場合にはその旨を表示する。すなわち、化学式(1)において、「−AAi−」(iは1ないし4の整数)と表記される第i番目のアミノ酸残基が例えばチロシン残基のときには、「−[Tyr]−」、D−アルギニン残基のときには、「−[D−Arg]−」のようにアルファベット3文字による省略表記で表されるが、修飾アミノ酸残基の場合には、2,6−ジメチル−チロシン残基のときには、「−[2,6−ジメチル−Tyr]−」、N−メチルリジン残基のときには、「−[N−MeLys]−」、N−メチル−β−アラニン残基のときには、「−[N−MeβAla]−」、D−メチオニンスルホキシド残基のときには、「−[D−Met(O)]−」とそれぞれ表される。 In the present specification, the term "amino acid residue" is used in the usual meaning in the field of peptide chemistry, and more specifically, an amino group and a carboxyl group having an α-position relationship in an α amino acid, or β. It means the remaining structure of amino acids having a β-position relationship, excluding hydrogen atoms and hydroxyl groups, respectively. The notation of amino acid residues is described in the Biochemistry Dictionary (3rd edition, Tokyo Kagaku Dojin, published on October 8, 1998), WIPO standard ST. In accordance with the "Guidelines for Preparation of Specifications, etc. Containing Base Sequences or Amino Acid Sequences" published by the Japan Patent Office in 25 and July 2002. If it contains a D-amino acid residue, indicate that fact. That is, in the chemical formula (1), when the i-th amino acid residue represented by "-AA i- " (i is an integer of 1 to 4) is, for example, a tyrosine residue, "-[Tyr]-", In the case of D-arginine residue, it is represented by abbreviated notation with three letters of the alphabet such as "-[D-Arg]-", but in the case of modified amino acid residue, 2,6-dimethyl-tyrosine residue. In the case of "-[2,6-dimethyl-Tyr]-", in the case of N-methyllysine residue, "-[N-MeLys]-", in the case of N-methyl-β-alanine residue, "-[ N-MeβAla]-", and in the case of D-methionine sulfoxide residue, it is expressed as"-[D-Met (O)]-", respectively.
本明細書におけるリシン残基又はLysは以下の化学式(13)で表される構造を有する。
本発明におけるN−メチル−β−アラニン残基又はN−MeβAlaは以下の化学式(14)で表される構造を有する。
本発明におけるD−メチオニンスルホキシド残基又はD−Met(O)は以下の化学式(15)で表される構造を有する。
一般式(1)で表される化合物は、Y1が、水素原子、及び、メチル基から選ばれる1つ、又は、化学式(2)で表され、化学式(2)におけるR1は水素原子であり、R2はメチル基、エチル基、及び、アミノ基から選ばれる1つである場合がある。すなわち、一般式(1)におけるY1が、水素原子、及び、メチル基から選ばれる1つ、又は、化学式(2)で表される基であり、化学式(2)におけるR1は水素原子であり、R2はメチル基、エチル基、及び、アミノ基から選ばれる1つであって、Y2は、ヒドロキシル基、又は、化学式(3)で表される基であり、化学式(3)におけるR3及びR4は、それぞれ独立に、水素原子、ヒドロキシル基、低級アルキル基、及び、低級アルコキシル基から選ばれる1つであるか、又は、R3及びR4はこれらが結合する窒素原子と一緒になった5員又は6員の含窒素複素環基であり、AA1は化学式(4)で表されるα−アミノ酸残基であり、化学式(4)におけるR5及びR6は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、及び、ハロゲン化低級アルキル基から選ばれる1つであり、Xは、水素原子、ハロゲン原子及びヒドロキシル基と、化学式(5)及び(6)とからなるグループから選択され、化学式(5)又は(6)のR7又はR8は、それぞれ独立に、C1−16アルキル基、ヒドロキシC1−16アルキル基、アミノC1−16アルキル基、(モノ低級アルキル)アミノC1−16アルキル基、(ジ低級アルキル)アミノC1−16アルキル基、C3−10シクロアルキル基、C3−10シクロアルキル置換低級アルキル基、C2−16アルケニル基、C2−16アルキニル基、複素環基、アリール基、及び、アリール置換低級アルキル基からなるグループから選択され、AA2は化学式(7)で表されるD−α−アミノ酸残基であり、化学式(7)におけるR9は、アミノ基、(モノ低級アルキル)アミノ基、低級アシルアミノ基、グアニジノ基、低級アルキル基置換グアニジノ基、イミノ低級アルキル基、ウレイド基、低級アルキル基置換ウレイド基、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アシル基、及び、ヒドロキシ低級アルキル基からなるグループから選択され、化学式(7)におけるnは1〜4の整数であり、AA3は非置換フェニルアラニン残基、置換フェニルアラニン残基、非置換D−フェニルアラニン残基、及び、置換D−フェニルアラニン残基から選ばれる1つであり、AA4は化学式(8)で表されるα−アミノ酸残基、又は、化学式(9)で表されるβ−アミノ酸残基であり、化学式(8)及び(9)におけるR10及びR12は、それぞれ独立に、水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、アリール基、及び、アリール置換低級アルキル基から選ばれる1つであり、R11は、水素原子、又は、化学式(10)で表される基であり、化学式(10)におけるZは、低級アルキレン基、低級アルケニレン基、及び、低級アルキニレン基から選ばれる1つであり、R13及びR14は、それぞれ独立に、水素原子、低級アルキル基、アリール基、及び、アリール置換低級アルキル基から選ばれる1つ、又は、R13及びR14はこれらが結合する窒素原子と一緒になった5員又は6員の含窒素複素環基である場合がある。本抗掻痒剤は、これらの化合物又はその薬学的に許容できる塩を含む場合がある。 In the compound represented by the general formula (1), Y 1 is one selected from a hydrogen atom and a methyl group, or is represented by the chemical formula (2), and R 1 in the chemical formula (2) is a hydrogen atom. Yes, R 2 may be one selected from a methyl group, an ethyl group, and an amino group. That is, Y 1 in the general formula (1) is a hydrogen atom and one selected from a methyl group, or a group represented by the chemical formula (2), and R 1 in the chemical formula (2) is a hydrogen atom. Yes, R 2 is one selected from a methyl group, an ethyl group, and an amino group, and Y 2 is a hydroxyl group or a group represented by the chemical formula (3), and is in the chemical formula (3). R 3 and R 4 are each independently selected from a hydrogen atom, a hydroxyl group, a lower alkyl group, and a lower alkoxyl group, or R 3 and R 4 are the nitrogen atoms to which they are bonded. It is a 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocyclic group combined, AA 1 is an α-amino acid residue represented by the chemical formula (4), and R 5 and R 6 in the chemical formula (4) are, respectively. It is one independently selected from a hydrogen atom, a halogen atom, a lower alkyl group, and a halogenated lower alkyl group, and X is a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group, and chemical formulas (5) and (6). R 7 or R 8 of the chemical formula (5) or (6), respectively, selected from the group consisting of C 1-16 alkyl group, hydroxy C 1-16 alkyl group, amino C 1-16 alkyl group, respectively, (Mono lower alkyl) Amino C 1-16 alkyl group, (Dilower alkyl) Amino C 1-16 alkyl group, C 3-10 cycloalkyl group, C 3-10 cycloalkyl substituted lower alkyl group, C 2-16 alkenyl Selected from the group consisting of groups, C 2-16 alkynyl groups, heterocyclic groups, aryl groups, and aryl substituted lower alkyl groups, AA 2 is a D-α-amino acid residue represented by chemical formula (7). , R 9 in the chemical formula (7) is an amino group, a (monolower alkyl) amino group, a lower acylamino group, a guanidino group, a lower alkyl group substituted guanidino group, an imino lower alkyl group, a ureido group, a lower alkyl group substituted ureido group, Selected from the group consisting of a lower alkylthio group, a lower alkylsulfinyl group, a lower alkylsulfonyl group, a lower acyl group, and a hydroxy lower alkyl group, n in the chemical formula (7) is an integer of 1 to 4, and AA 3 is non-. It is one selected from a substituted phenylalanine residue, a substituted phenylalanine residue, an unsubstituted D-phenylalanine residue, and a substituted D-phenylalanine residue, and AA 4 is an α-amino acid residue represented by the chemical formula (8). Or β-a represented by the chemical formula (9) R 10 and R 12 in the chemical formulas (8) and (9), which are minoic acid residues, are independently hydrogen atom, lower alkyl group, lower alkenyl group, lower alkynyl group, aryl group, and aryl substituted lower. One selected from alkyl groups, R 11 is a hydrogen atom or a group represented by the chemical formula (10), and Z in the chemical formula (10) is a lower alkylene group, a lower alkenylene group, and a lower group. One selected from the alkynylene group, R 13 and R 14 are independently selected from a hydrogen atom, a lower alkyl group, an aryl group, and an aryl substituted lower alkyl group, or R 13 and R, respectively. Reference numeral 14 may be a 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocyclic group together with the nitrogen atom to which they are bonded. The antipruritic agent may contain these compounds or pharmaceutically acceptable salts thereof.
一般式(1)で表される化合物は、Y2が、ヒドロキシル基、又は、化学式(3)で表され、化学式(3)におけるR3及びR4がともに水素原子であるか、あるいは、一方が水素原子であって他方がメチル基の組合せである場合がある。すなわち、一般式(1)におけるY1が、水素原子、低級アルキル基、及び、化学式(2)で表される基から選ばれる1つであり、化学式(2)におけるR1は、水素原子、ヒドロキシル基、低級アルキル基、及び、低級アルコキシル基から選ばれる1つであり、R2は、低級アルキル基、又は、アミノ基であり、Y2は、ヒドロキシル基、又は、化学式(3)で表される基であり、化学式(3)におけるR3及びR4がともに水素原子であるか、あるいは、一方が水素原子であって他方がメチル基の組合せであり、AA1は化学式(4)で表されるα−アミノ酸残基であり、化学式(4)におけるR5及びR6は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、及び、ハロゲン化低級アルキル基から選ばれる1つであり、Xは、水素原子、ハロゲン原子及びヒドロキシル基と、化学式(5)及び(6)とからなるグループから選択され、化学式(5)又は(6)のR7又はR8は、それぞれ独立に、C1−16アルキル基、ヒドロキシC1−16アルキル基、アミノC1−16アルキル基、(モノ低級アルキル)アミノC1−16アルキル基、(ジ低級アルキル)アミノC1−16アルキル基、C3−10シクロアルキル基、C3−10シクロアルキル置換低級アルキル基、C2−16アルケニル基、C2−16アルキニル基、複素環基、アリール基、及び、アリール置換低級アルキル基からなるグループから選択され、AA2は化学式(7)で表されるD−α−アミノ酸残基であり、化学式(7)におけるR9は、アミノ基、(モノ低級アルキル)アミノ基、低級アシルアミノ基、グアニジノ基、低級アルキル基置換グアニジノ基、イミノ低級アルキル基、ウレイド基、低級アルキル基置換ウレイド基、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アシル基、及び、ヒドロキシ低級アルキル基からなるグループから選択され、化学式(7)におけるnは1〜4の整数であり、AA3は非置換フェニルアラニン残基、置換フェニルアラニン残基、非置換D−フェニルアラニン残基、及び、置換D−フェニルアラニン残基から選ばれる1つであり、AA4は化学式(8)で表されるα−アミノ酸残基、又は、化学式(9)で表されるβ−アミノ酸残基であり、化学式(8)及び(9)におけるR10及びR12は、それぞれ独立に、水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、アリール基、及び、アリール置換低級アルキル基から選ばれる1つであり、R11は、水素原子、又は、化学式(10)で表される基であり、化学式(10)におけるZは、低級アルキレン基、低級アルケニレン基、及び、低級アルキニレン基から選ばれる1つであり、R13及びR14は、それぞれ独立に、水素原子、低級アルキル基、アリール基、及び、アリール置換低級アルキル基から選ばれる1つ、又は、R13及びR14はこれらが結合する窒素原子と一緒になった5員又は6員の含窒素複素環基である場合がある。本抗掻痒剤は、これらの化合物又はその薬学的に許容できる塩を含む場合がある。 In the compound represented by the general formula (1), Y 2 is represented by a hydroxyl group or a chemical formula (3), and both R 3 and R 4 in the chemical formula (3) are hydrogen atoms, or one of them. Is a hydrogen atom and the other is a combination of methyl groups. That is, Y 1 in the general formula (1) is one selected from a hydrogen atom, a lower alkyl group, and a group represented by the chemical formula (2), and R 1 in the chemical formula (2) is a hydrogen atom. It is one selected from a hydroxyl group, a lower alkyl group, and a lower alkoxyl group, R 2 is a lower alkyl group or an amino group, and Y 2 is a hydroxyl group or a chemical formula (3). R 3 and R 4 in the chemical formula (3) are both hydrogen atoms, or one is a hydrogen atom and the other is a combination of methyl groups, and AA 1 is a chemical formula (4). Represented α-amino acid residues, R 5 and R 6 in the chemical formula (4) are each independently selected from a hydrogen atom, a halogen atom, a lower alkyl group, and a halogenated lower alkyl group. Yes, X is selected from the group consisting of hydrogen atom, halogen atom and hydroxyl group and chemical formulas (5) and (6), and R 7 or R 8 of chemical formula (5) or (6) is independent of each other. , C 1-16 alkyl group, hydroxy C 1-16 alkyl group, amino C 1-16 alkyl group, (mono lower alkyl) amino C 1-16 alkyl group, (dilower alkyl) amino C 1-16 alkyl group, Group consisting of C 3-10 cycloalkyl group, C 3-10 cycloalkyl substituted lower alkyl group, C 2-16 alkenyl group, C 2-16 alkynyl group, heterocyclic group, aryl group, and aryl substituted lower alkyl group. AA 2 is a D-α-amino acid residue represented by the chemical formula (7), and R 9 in the chemical formula (7) is an amino group, a (monolower alkyl) amino group, a lower acylamino group, a guanidino. Consists of a group, a lower alkyl group-substituted guanidino group, an imino lower alkyl group, a ureido group, a lower alkyl group-substituted ureido group, a lower alkylthio group, a lower alkylsulfinyl group, a lower alkylsulfonyl group, a lower acyl group, and a hydroxy lower alkyl group. Selected from the group, n in the chemical formula (7) is an integer of 1-4, AA 3 is an unsubstituted phenylalanine residue, a substituted phenylalanine residue, an unsubstituted D-phenylalanine residue, and a substituted D-phenylalanine residue. AA 4 is an α-amino acid residue represented by the chemical formula (8) or a β-amino acid residue represented by the chemical formula (9), and is selected from the chemical formulas (8) and (9). ) R 10 and R 1 Reference numeral 2 is one independently selected from a hydrogen atom, a lower alkyl group, a lower alkenyl group, a lower alkynyl group, an aryl group, and an aryl substituted lower alkyl group, and R 11 is a hydrogen atom or a chemical formula. The group represented by (10), Z in the chemical formula (10) is one selected from a lower alkylene group, a lower alkylene group, and a lower alkylylene group, and R 13 and R 14 are independent of each other. , One selected from hydrogen atoms, lower alkyl groups, aryl groups, and aryl-substituted lower alkyl groups, or R 13 and R 14 contain 5 or 6 members combined with the nitrogen atom to which they are attached. It may be a nitrogen heterocyclic group. The antipruritic agent may contain these compounds or pharmaceutically acceptable salts thereof.
一般式(1)で表される化合物は、AA1が化学式(4)で表されるα−アミノ酸残基であり、化学式(4)におけるXがヒドロキシル基である場合がある。すなわち、一般式(1)におけるY1が、水素原子、低級アルキル基、及び、化学式(2)で表される基から選ばれる1つであり、化学式(2)におけるR1は、水素原子、ヒドロキシル基、低級アルキル基、及び、低級アルコキシル基から選ばれる1つであり、R2は、低級アルキル基、又は、アミノ基であり、Y2は、ヒドロキシル基、又は、化学式(3)で表される基であり、化学式(3)におけるR3及びR4は、それぞれ独立に、水素原子、ヒドロキシル基、低級アルキル基、及び、低級アルコキシル基から選ばれる1つであるか、又は、R3及びR4はこれらが結合する窒素原子と一緒になった5員又は6員の含窒素複素環基であり、AA1は化学式(4)で表されるα−アミノ酸残基であり、化学式(4)におけるXはヒドロキシル基であり、R5及びR6は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、及び、ハロゲン化低級アルキル基から選ばれる1つであり、AA2は化学式(7)で表されるD−α−アミノ酸残基であり、化学式(7)におけるR9は、アミノ基、(モノ低級アルキル)アミノ基、低級アシルアミノ基、グアニジノ基、低級アルキル基置換グアニジノ基、イミノ低級アルキル基、ウレイド基、低級アルキル基置換ウレイド基、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アシル基、及び、ヒドロキシ低級アルキル基からなるグループから選択され、化学式(7)におけるnは1〜4の整数であり、AA3は非置換フェニルアラニン残基、置換フェニルアラニン残基、非置換D−フェニルアラニン残基、及び、置換D−フェニルアラニン残基から選ばれる1つであり、AA4は化学式(8)で表されるα−アミノ酸残基、又は、化学式(9)で表されるβ−アミノ酸残基であり、化学式(8)及び(9)におけるR10及びR12は、それぞれ独立に、水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、アリール基、及び、アリール置換低級アルキル基から選ばれる1つであり、R11は、水素原子、又は、化学式(10)で表される基であり、化学式(10)におけるZは、低級アルキレン基、低級アルケニレン基、及び、低級アルキニレン基から選ばれる1つであり、R13及びR14は、それぞれ独立に、水素原子、低級アルキル基、アリール基、及び、アリール置換低級アルキル基から選ばれる1つ、又は、R13及びR14はこれらが結合する窒素原子と一緒になった5員又は6員の含窒素複素環基である場合がある。本抗掻痒剤は、これらの化合物又はその薬学的に許容できる塩を含む場合がある。 In the compound represented by the general formula (1), AA 1 may be an α-amino acid residue represented by the chemical formula (4), and X in the chemical formula (4) may be a hydroxyl group. That is, Y 1 in the general formula (1) is one selected from a hydrogen atom, a lower alkyl group, and a group represented by the chemical formula (2), and R 1 in the chemical formula (2) is a hydrogen atom. It is one selected from a hydroxyl group, a lower alkyl group, and a lower alkoxyl group, R 2 is a lower alkyl group or an amino group, and Y 2 is a hydroxyl group or a chemical formula (3). R 3 and R 4 in the chemical formula (3) are independently selected from a hydrogen atom, a hydroxyl group, a lower alkyl group, and a lower alkoxyl group, or R 3 And R 4 are 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocyclic groups combined with the nitrogen atom to which they are bonded, and AA 1 is an α-amino acid residue represented by the chemical formula (4), which is a chemical formula (4). X in 4) is a hydroxyl group, R 5 and R 6 are independently selected from a hydrogen atom, a halogen atom, a lower alkyl group, and a halogenated lower alkyl group, and AA 2 is a chemical formula. It is a D-α-amino acid residue represented by (7), and R 9 in the chemical formula (7) is an amino group, a (monolower alkyl) amino group, a lower acylamino group, a guanidino group, a lower alkyl group substituted guanidino group. , Imino lower alkyl group, ureido group, lower alkyl group substituted ureido group, lower alkylthio group, lower alkylsulfinyl group, lower alkylsulfonyl group, lower acyl group, and hydroxy lower alkyl group selected from the chemical formula (7). ) Is an integer of 1 to 4, and AA 3 is one selected from an unsubstituted phenylalanine residue, a substituted phenylalanine residue, an unsubstituted D-phenylalanine residue, and a substituted D-phenylalanine residue. AA 4 is an α-amino acid residue represented by the chemical formula (8) or a β-amino acid residue represented by the chemical formula (9), and R 10 and R 12 in the chemical formulas (8) and (9) are. , Each independently selected from a hydrogen atom, a lower alkyl group, a lower alkenyl group, a lower alkynyl group, an aryl group, and an aryl substituted lower alkyl group, and R 11 is a hydrogen atom or a chemical formula (10). ), And Z in the chemical formula (10) is one selected from a lower alkylene group, a lower alkylene group, and a lower alkylylene group, and R 13 and R 14 are independently hydrogen. Atomic, lower alkyl, aryl, and a One selected from reel-substituted lower alkyl groups, or R 13 and R 14, may be 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocyclic groups combined with the nitrogen atom to which they are attached. The antipruritic agent may contain these compounds or pharmaceutically acceptable salts thereof.
一般式(1)で表される化合物は、AA1が化学式(4)で表されるα−アミノ酸残基であり、化学式(4)におけるXが水素原子又はハロゲン原子の場合がある。すなわち、一般式(1)におけるY1が、水素原子、低級アルキル基、及び、化学式(2)で表される基から選ばれる1つであり、化学式(2)におけるR1は、水素原子、ヒドロキシル基、低級アルキル基、及び、低級アルコキシル基から選ばれる1つであり、R2は、低級アルキル基、又は、アミノ基であり、Y2は、ヒドロキシル基、又は、化学式(3)で表される基であり、化学式(3)におけるR3及びR4は、それぞれ独立に、水素原子、ヒドロキシル基、低級アルキル基、及び、低級アルコキシル基から選ばれる1つであるか、又は、R3及びR4はこれらが結合する窒素原子と一緒になった5員又は6員の含窒素複素環基であり、AA1は化学式(4)で表されるα−アミノ酸残基であり、化学式(4)におけるXは水素原子又はハロゲン原子であり、R5及びR6は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、及び、ハロゲン化低級アルキル基から選ばれる1つであり、AA2は化学式(7)で表されるD−α−アミノ酸残基であり、化学式(7)におけるR9は、アミノ基、(モノ低級アルキル)アミノ基、低級アシルアミノ基、グアニジノ基、低級アルキル基置換グアニジノ基、イミノ低級アルキル基、ウレイド基、低級アルキル基置換ウレイド基、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アシル基、及び、ヒドロキシ低級アルキル基からなるグループから選択され、化学式(7)におけるnは1〜4の整数であり、AA3は非置換フェニルアラニン残基、置換フェニルアラニン残基、非置換D−フェニルアラニン残基、及び、置換D−フェニルアラニン残基から選ばれる1つであり、AA4は化学式(8)で表されるα−アミノ酸残基、又は、化学式(9)で表されるβ−アミノ酸残基であり、化学式(8)及び(9)におけるR10及びR12は、それぞれ独立に、水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、アリール基、及び、アリール置換低級アルキル基から選ばれる1つであり、R11は、水素原子、又は、化学式(10)で表される基であり、化学式(10)におけるZは、低級アルキレン基、低級アルケニレン基、及び、低級アルキニレン基から選ばれる1つであり、R13及びR14は、それぞれ独立に、水素原子、低級アルキル基、アリール基、及び、アリール置換低級アルキル基から選ばれる1つ、又は、R13及びR14はこれらが結合する窒素原子と一緒になった5員又は6員の含窒素複素環基である場合がある。本抗掻痒剤は、これらの化合物又はその薬学的に許容できる塩を含む場合がある。 In the compound represented by the general formula (1), AA 1 may be an α-amino acid residue represented by the chemical formula (4), and X in the chemical formula (4) may be a hydrogen atom or a halogen atom. That is, Y 1 in the general formula (1) is one selected from a hydrogen atom, a lower alkyl group, and a group represented by the chemical formula (2), and R 1 in the chemical formula (2) is a hydrogen atom. It is one selected from a hydroxyl group, a lower alkyl group, and a lower alkoxyl group, R 2 is a lower alkyl group or an amino group, and Y 2 is a hydroxyl group or a chemical formula (3). R 3 and R 4 in the chemical formula (3) are independently selected from a hydrogen atom, a hydroxyl group, a lower alkyl group, and a lower alkoxyl group, or R 3 And R 4 are 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocyclic groups combined with the nitrogen atom to which they are bonded, and AA 1 is an α-amino acid residue represented by the chemical formula (4), which is a chemical formula (4). X in 4) is a hydrogen atom or a halogen atom, and R 5 and R 6 are independently selected from a hydrogen atom, a halogen atom, a lower alkyl group, and a halogenated lower alkyl group, respectively, and AA. Reference numeral 2 is a D-α-amino acid residue represented by the chemical formula (7), and R 9 in the chemical formula (7) is an amino group, a (monolower alkyl) amino group, a lower acylamino group, a guanidino group, or a lower alkyl group. Selected from the group consisting of a substituted guanidino group, an imino lower alkyl group, a ureido group, a lower alkyl group substituted ureido group, a lower alkylthio group, a lower alkylsulfinyl group, a lower alkylsulfonyl group, a lower acyl group, and a hydroxy lower alkyl group. In the chemical formula (7), n is an integer of 1 to 4, and AA 3 is one selected from an unsubstituted phenylalanine residue, a substituted phenylalanine residue, an unsubstituted D-phenylalanine residue, and a substituted D-phenylalanine residue. AA 4 is an α-amino acid residue represented by the chemical formula (8) or a β-amino acid residue represented by the chemical formula (9), and R 10 and R 10 in the chemical formulas (8) and (9). R 12 is one independently selected from a hydrogen atom, a lower alkyl group, a lower alkenyl group, a lower alkynyl group, an aryl group, and an aryl substituted lower alkyl group, and R 11 is a hydrogen atom or a lower alkyl group. It is a group represented by the chemical formula (10), and Z in the chemical formula (10) is one selected from a lower alkylene group, a lower alkalinylene group, and a lower alkylylene group, and R 13 and R 14 are independent of each other. Hydrogen atom, lower alkyl group, aryl group , And one selected from the aryl-substituted lower alkyl groups, or R 13 and R 14, may be 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocyclic groups combined with the nitrogen atom to which they are attached. The antipruritic agent may contain these compounds or pharmaceutically acceptable salts thereof.
一般式(1)で表される化合物は、AA1がチロシン残基又は2,6−ジメチル−チロシン残基の場合がある。すなわち、一般式(1)におけるY1が、水素原子、低級アルキル基、及び、化学式(2)で表される基から選ばれる1つであり、化学式(2)におけるR1は、水素原子、ヒドロキシル基、低級アルキル基、及び、低級アルコキシル基から選ばれる1つであり、R2は、低級アルキル基、又は、アミノ基であり、Y2は、ヒドロキシル基、又は、化学式(3)で表される基であり、化学式(3)におけるR3及びR4は、それぞれ独立に、水素原子、ヒドロキシル基、低級アルキル基、及び、低級アルコキシル基から選ばれる1つであるか、又は、R3及びR4はこれらが結合する窒素原子と一緒になった5員又は6員の含窒素複素環基であり、AA1はチロシン残基又は2,6−ジメチル−チロシン残基であり、AA2は化学式(7)で表されるD−α−アミノ酸残基であり、化学式(7)におけるR9は、アミノ基、(モノ低級アルキル)アミノ基、低級アシルアミノ基、グアニジノ基、低級アルキル基置換グアニジノ基、イミノ低級アルキル基、ウレイド基、低級アルキル基置換ウレイド基、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アシル基、及び、ヒドロキシ低級アルキル基からなるグループから選択され、化学式(7)におけるnは1〜4の整数であり、AA3は非置換フェニルアラニン残基、置換フェニルアラニン残基、非置換D−フェニルアラニン残基、及び、置換D−フェニルアラニン残基から選ばれる1つであり、AA4は化学式(8)で表されるα−アミノ酸残基、又は、化学式(9)で表されるβ−アミノ酸残基であり、化学式(8)及び(9)におけるR10及びR12は、それぞれ独立に、水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、アリール基、及び、アリール置換低級アルキル基から選ばれる1つであり、R11は、水素原子、又は、化学式(10)で表される基であり、化学式(10)におけるZは、低級アルキレン基、低級アルケニレン基、及び、低級アルキニレン基から選ばれる1つであり、R13及びR14は、それぞれ独立に、水素原子、低級アルキル基、アリール基、及び、アリール置換低級アルキル基から選ばれる1つ、又は、R13及びR14はこれらが結合する窒素原子と一緒になった5員又は6員の含窒素複素環基である場合がある。本抗掻痒剤は、これらの化合物又はその薬学的に許容できる塩を含む場合がある。 In the compound represented by the general formula (1), AA 1 may be a tyrosine residue or a 2,6-dimethyl-tyrosine residue. That is, Y 1 in the general formula (1) is one selected from a hydrogen atom, a lower alkyl group, and a group represented by the chemical formula (2), and R 1 in the chemical formula (2) is a hydrogen atom. It is one selected from a hydroxyl group, a lower alkyl group, and a lower alkoxyl group, R 2 is a lower alkyl group or an amino group, and Y 2 is a hydroxyl group or a chemical formula (3). R 3 and R 4 in the chemical formula (3) are independently selected from a hydrogen atom, a hydroxyl group, a lower alkyl group, and a lower alkoxyl group, or R 3 And R 4 are 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocyclic groups combined with the nitrogen atom to which they are attached, AA 1 is a tyrosine residue or 2,6-dimethyl-tyrosine residue, and AA 2 Is a D-α-amino acid residue represented by the chemical formula (7), and R 9 in the chemical formula (7) is an amino group, a (monolower alkyl) amino group, a lower acylamino group, a guanidino group, or a lower alkyl group substitution. Selected from the group consisting of guanidino group, imino lower alkyl group, ureido group, lower alkyl group substituted ureido group, lower alkylthio group, lower alkylsulfinyl group, lower alkylsulfonyl group, lower acyl group, and hydroxy lower alkyl group. In (7), n is an integer of 1 to 4, and AA 3 is one selected from an unsubstituted phenylalanine residue, a substituted phenylalanine residue, an unsubstituted D-phenylalanine residue, and a substituted D-phenylalanine residue. Yes, AA 4 is an α-amino acid residue represented by the chemical formula (8) or a β-amino acid residue represented by the chemical formula (9), and R 10 and R in the chemical formulas (8) and (9). Reference numeral 12 is one independently selected from a hydrogen atom, a lower alkyl group, a lower alkenyl group, a lower alkynyl group, an aryl group, and an aryl substituted lower alkyl group, and R 11 is a hydrogen atom or a chemical formula. It is a group represented by (10), and Z in the chemical formula (10) is one selected from a lower alkylene group, a lower alkalinylene group, and a lower alkylylene group, and R 13 and R 14 are independent of each other. , A hydrogen atom, a lower alkyl group, an aryl group, and an aryl substituted lower alkyl group, or R 13 and R 14 contain 5 or 6 members together with the nitrogen atom to which they are bonded. It may be a nitrogen heterocyclic group. The antipruritic agent may contain these compounds or pharmaceutically acceptable salts thereof.
一般式(1)で表される化合物は、AA1がo−アシル−チロシン残基、o−アルコキシカルボニル−チロシン残基、o−フェノキシカルボニル−チロシン残基、o−アセチルチロシン残基又は2,6−ジメチル−フェニルアラニン残基の場合がある。すなわち、一般式(1)におけるY1が、水素原子、低級アルキル基、及び、化学式(2)で表される基から選ばれる1つであり、化学式(2)におけるR1は、水素原子、ヒドロキシル基、低級アルキル基、及び、低級アルコキシル基から選ばれる1つであり、R2は、低級アルキル基、又は、アミノ基であり、Y2は、ヒドロキシル基、又は、化学式(3)で表される基であり、化学式(3)におけるR3及びR4は、それぞれ独立に、水素原子、ヒドロキシル基、低級アルキル基、及び、低級アルコキシル基から選ばれる1つであるか、又は、R3及びR4はこれらが結合する窒素原子と一緒になった5員又は6員の含窒素複素環基であり、AA1はo−アシル−チロシン残基、o−アルコキシカルボニル−チロシン残基、o−フェノキシカルボニル−チロシン残基、o−アセチルチロシン残基又は2,6−ジメチル−フェニルアラニン残基であり、AA2は化学式(7)で表されるD−α−アミノ酸残基であり、化学式(7)におけるR9は、アミノ基、(モノ低級アルキル)アミノ基、低級アシルアミノ基、グアニジノ基、低級アルキル基置換グアニジノ基、イミノ低級アルキル基、ウレイド基、低級アルキル基置換ウレイド基、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アシル基、及び、ヒドロキシ低級アルキル基からなるグループから選択され、化学式(7)におけるnは1〜4の整数であり、AA3は非置換フェニルアラニン残基、置換フェニルアラニン残基、非置換D−フェニルアラニン残基、及び、置換D−フェニルアラニン残基から選ばれる1つであり、AA4は化学式(8)で表されるα−アミノ酸残基、又は、化学式(9)で表されるβ−アミノ酸残基であり、化学式(8)及び(9)におけるR10及びR12は、それぞれ独立に、水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、アリール基、及び、アリール置換低級アルキル基から選ばれる1つであり、R11は、水素原子、又は、化学式(10)で表される基であり、化学式(10)におけるZは、低級アルキレン基、低級アルケニレン基、及び、低級アルキニレン基から選ばれる1つであり、R13及びR14は、それぞれ独立に、水素原子、低級アルキル基、アリール基、及び、アリール置換低級アルキル基から選ばれる1つ、又は、R13及びR14はこれらが結合する窒素原子と一緒になった5員又は6員の含窒素複素環基である場合がある。本抗掻痒剤は、これらの化合物又はその薬学的に許容できる塩を含む場合がある。 In the compound represented by the general formula (1), AA 1 is an o-acyl-tyrosine residue, an o-alkoxycarbonyl-tyrosine residue, an o-phenoxycarbonyl-tyrosine residue, an o-acetyltyrosine residue or 2, It may be a 6-dimethyl-phenylalanine residue. That is, Y 1 in the general formula (1) is one selected from a hydrogen atom, a lower alkyl group, and a group represented by the chemical formula (2), and R 1 in the chemical formula (2) is a hydrogen atom. It is one selected from a hydroxyl group, a lower alkyl group, and a lower alkoxyl group, R 2 is a lower alkyl group or an amino group, and Y 2 is a hydroxyl group or a chemical formula (3). R 3 and R 4 in the chemical formula (3) are independently selected from a hydrogen atom, a hydroxyl group, a lower alkyl group, and a lower alkoxyl group, or R 3 And R 4 are 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocyclic groups combined with the nitrogen atom to which they are attached, and AA 1 is an o-acyl-tyrosine residue, an o-alkoxycarbonyl-tyrosine residue, o. -Phenoxycarbonyl-tyrosine residue, o-acetyltyrosine residue or 2,6-dimethyl-phenylalanine residue, AA 2 is a D-α-amino acid residue represented by the chemical formula (7), and the chemical formula ( R 9 in 7) is an amino group, a (monolower alkyl) amino group, a lower acylamino group, a guanidino group, a lower alkyl group substituted guanidino group, an imino lower alkyl group, a ureido group, a lower alkyl group substituted ureido group, a lower alkylthio group. , A lower alkylsulfinyl group, a lower alkylsulfonyl group, a lower acyl group, and a hydroxy lower alkyl group. N in the chemical formula (7) is an integer of 1 to 4, and AA 3 is an unsubstituted phenylalanine residue. It is one selected from a group, a substituted phenylalanine residue, an unsubstituted D-phenylalanine residue, and a substituted D-phenylalanine residue, and AA 4 is an α-amino acid residue represented by the chemical formula (8), or an α-amino acid residue. It is a β-amino acid residue represented by the chemical formula (9), and R 10 and R 12 in the chemical formulas (8) and (9) are independently a hydrogen atom, a lower alkyl group, a lower alkenyl group, and a lower alkynyl group, respectively. , An aryl group, and an aryl-substituted lower alkyl group, R 11 is a hydrogen atom or a group represented by the chemical formula (10), and Z in the chemical formula (10) is a lower alkylene. It is one selected from a group, a lower alkenylene group, and a lower alkynylene group, and R 13 and R 14 are independently selected from a hydrogen atom, a lower alkyl group, an aryl group, and an aryl substituted lower alkyl group, respectively. One, Alternatively, R 13 and R 14 may be 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocyclic groups combined with the nitrogen atom to which they are attached. The antipruritic agent may contain these compounds or pharmaceutically acceptable salts thereof.
一般式(1)で表される化合物は、AA2がD−アルギニン残基又はD−メチオニンスルホキシド残基の場合がある。すなわち、一般式(1)におけるY1が、水素原子、低級アルキル基、及び、化学式(2)で表される基から選ばれる1つであり、化学式(2)におけるR1は、水素原子、ヒドロキシル基、低級アルキル基、及び、低級アルコキシル基から選ばれる1つであり、R2は、低級アルキル基、又は、アミノ基であり、Y2は、ヒドロキシル基、又は、化学式(3)で表される基であり、化学式(3)におけるR3及びR4は、それぞれ独立に、水素原子、ヒドロキシル基、低級アルキル基、及び、低級アルコキシル基から選ばれる1つであるか、又は、R3及びR4はこれらが結合する窒素原子と一緒になった5員又は6員の含窒素複素環基であり、AA1は化学式(4)で表されるα−アミノ酸残基であり、化学式(4)におけるR5及びR6は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、及び、ハロゲン化低級アルキル基から選ばれる1つであり、Xは、水素原子、ハロゲン原子及びヒドロキシル基と、化学式(5)及び(6)とからなるグループから選択され、化学式(5)又は(6)のR7又はR8は、それぞれ独立に、C1−16アルキル基、ヒドロキシC1−16アルキル基、アミノC1−16アルキル基、(モノ低級アルキル)アミノC1−16アルキル基、(ジ低級アルキル)アミノC1−16アルキル基、C3−10シクロアルキル基、C3−10シクロアルキル置換低級アルキル基、C2−16アルケニル基、C2−16アルキニル基、複素環基、アリール基、及び、アリール置換低級アルキル基からなるグループから選択され、AA2はD−アルギニン残基又はD−メチオニンスルホキシド残基であり、AA3は非置換フェニルアラニン残基、置換フェニルアラニン残基、非置換D−フェニルアラニン残基、及び、置換D−フェニルアラニン残基から選ばれる1つであり、AA4は化学式(8)で表されるα−アミノ酸残基、又は、化学式(9)で表されるβ−アミノ酸残基であり、化学式(8)及び(9)におけるR10及びR12は、それぞれ独立に、水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、アリール基、及び、アリール置換低級アルキル基から選ばれる1つであり、R11は、水素原子、又は、化学式(10)で表される基であり、化学式(10)におけるZは、低級アルキレン基、低級アルケニレン基、及び、低級アルキニレン基から選ばれる1つであり、R13及びR14は、それぞれ独立に、水素原子、低級アルキル基、アリール基、及び、アリール置換低級アルキル基から選ばれる1つ、又は、R13及びR14はこれらが結合する窒素原子と一緒になった5員又は6員の含窒素複素環基である場合がある。本抗掻痒剤は、これらの化合物又はその薬学的に許容できる塩を含む場合がある。 In the compound represented by the general formula (1), AA 2 may be a D-arginine residue or a D-methionine sulfoxide residue. That is, Y 1 in the general formula (1) is one selected from a hydrogen atom, a lower alkyl group, and a group represented by the chemical formula (2), and R 1 in the chemical formula (2) is a hydrogen atom. It is one selected from a hydroxyl group, a lower alkyl group, and a lower alkoxyl group, R 2 is a lower alkyl group or an amino group, and Y 2 is a hydroxyl group or a chemical formula (3). R 3 and R 4 in the chemical formula (3) are independently selected from a hydrogen atom, a hydroxyl group, a lower alkyl group, and a lower alkoxyl group, or R 3 And R 4 are 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocyclic groups combined with the nitrogen atom to which they are bonded, and AA 1 is an α-amino acid residue represented by the chemical formula (4), which is a chemical formula (4). R 5 and R 6 in 4) are independently selected from a hydrogen atom, a halogen atom, a lower alkyl group, and a halogenated lower alkyl group, and X is a hydrogen atom, a halogen atom, and a hydroxyl group. And R 7 or R 8 of the chemical formula (5) or (6) are independently selected from the group consisting of the chemical formulas (5) and (6), respectively, with a C 1-16 alkyl group and a hydroxy C 1-16. Alkyl group, amino C 1-16 alkyl group, (mono lower alkyl) amino C 1-16 alkyl group, (dilower alkyl) amino C 1-16 alkyl group, C 3-10 cycloalkyl group, C 3-10 cyclo Selected from the group consisting of alkyl-substituted lower alkyl groups, C 2-16 alkenyl groups, C 2-16 alkynyl groups, heterocyclic groups, aryl groups, and aryl substituted lower alkyl groups, AA 2 is a D-arginine residue or A D-methionine sulfoxide residue, AA 3 is one selected from an unsubstituted phenylalanine residue, a substituted phenylalanine residue, an unsubstituted D-phenylalanine residue, and a substituted D-phenylalanine residue, and AA 4 is The α-amino acid residue represented by the chemical formula (8) or the β-amino acid residue represented by the chemical formula (9), and R 10 and R 12 in the chemical formulas (8) and (9) are independent of each other. Is one selected from a hydrogen atom, a lower alkyl group, a lower alkenyl group, a lower alkynyl group, an aryl group, and an aryl substituted lower alkyl group, and R 11 is represented by a hydrogen atom or a chemical formula (10). Z in the chemical formula (10) is a lower alkylene group. It is one selected from a lower alkenylene group and a lower alkynylene group, and R 13 and R 14 are independently selected from a hydrogen atom, a lower alkyl group, an aryl group, and an aryl-substituted lower alkyl group, respectively. , Or, R 13 and R 14 may be 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocyclic groups combined with the nitrogen atom to which they are attached. The antipruritic agent may contain these compounds or pharmaceutically acceptable salts thereof.
一般式(1)で表される化合物は、AA2がD−N5−アセチルオルニチン残基、D−5−オキソノルロイシン残基、D−シトルリン残基又はD−5−ヒドロキシノルロイシン残基の場合がある。すなわち、一般式(1)におけるY1が、水素原子、低級アルキル基、及び、化学式(2)で表される基から選ばれる1つであり、化学式(2)におけるR1は、水素原子、ヒドロキシル基、低級アルキル基、及び、低級アルコキシル基から選ばれる1つであり、R2は、低級アルキル基、又は、アミノ基であり、Y2は、ヒドロキシル基、又は、化学式(3)で表される基であり、化学式(3)におけるR3及びR4は、それぞれ独立に、水素原子、ヒドロキシル基、低級アルキル基、及び、低級アルコキシル基から選ばれる1つであるか、又は、R3及びR4はこれらが結合する窒素原子と一緒になった5員又は6員の含窒素複素環基であり、AA1は化学式(4)で表されるα−アミノ酸残基であり、化学式(4)におけるR5及びR6は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、及び、ハロゲン化低級アルキル基から選ばれる1つであり、Xは、水素原子、ハロゲン原子及びヒドロキシル基と、化学式(5)及び(6)とからなるグループから選択され、化学式(5)又は(6)のR7又はR8は、それぞれ独立に、C1−16アルキル基、ヒドロキシC1−16アルキル基、アミノC1−16アルキル基、(モノ低級アルキル)アミノC1−16アルキル基、(ジ低級アルキル)アミノC1−16アルキル基、C3−10シクロアルキル基、C3−10シクロアルキル置換低級アルキル基、C2−16アルケニル基、C2−16アルキニル基、複素環基、アリール基、及び、アリール置換低級アルキル基からなるグループから選択され、AA2はD−N5−アセチルオルニチン残基、D−5−オキソノルロイシン残基、D−シトルリン残基又はD−5−ヒドロキシノルロイシン残基であり、AA3は非置換フェニルアラニン残基、置換フェニルアラニン残基、非置換D−フェニルアラニン残基、及び、置換D−フェニルアラニン残基から選ばれる1つであり、AA4は化学式(8)で表されるα−アミノ酸残基、又は、化学式(9)で表されるβ−アミノ酸残基であり、化学式(8)及び(9)におけるR10及びR12は、それぞれ独立に、水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、アリール基、及び、アリール置換低級アルキル基から選ばれる1つであり、R11は、水素原子、又は、化学式(10)で表される基であり、化学式(10)におけるZは、低級アルキレン基、低級アルケニレン基、及び、低級アルキニレン基から選ばれる1つであり、R13及びR14は、それぞれ独立に、水素原子、低級アルキル基、アリール基、及び、アリール置換低級アルキル基から選ばれる1つ、又は、R13及びR14はこれらが結合する窒素原子と一緒になった5員又は6員の含窒素複素環基である場合がある。本抗掻痒剤は、これらの化合物又はその薬学的に許容できる塩を含む場合がある。 In the compound represented by the general formula (1), AA 2 is a DN 5 -acetylornithine residue, a D-5-oxonorleucine residue, a D-citrulline residue or a D-5-hydroxynorleucine residue. In some cases. That is, Y 1 in the general formula (1) is one selected from a hydrogen atom, a lower alkyl group, and a group represented by the chemical formula (2), and R 1 in the chemical formula (2) is a hydrogen atom. It is one selected from a hydroxyl group, a lower alkyl group, and a lower alkoxyl group, R 2 is a lower alkyl group or an amino group, and Y 2 is a hydroxyl group or a chemical formula (3). R 3 and R 4 in the chemical formula (3) are independently selected from a hydrogen atom, a hydroxyl group, a lower alkyl group, and a lower alkoxyl group, or R 3 And R 4 are 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocyclic groups combined with the nitrogen atom to which they are bonded, and AA 1 is an α-amino acid residue represented by the chemical formula (4), which is a chemical formula (4). R 5 and R 6 in 4) are independently selected from a hydrogen atom, a halogen atom, a lower alkyl group, and a halogenated lower alkyl group, and X is a hydrogen atom, a halogen atom, and a hydroxyl group. And R 7 or R 8 of the chemical formula (5) or (6) are independently selected from the group consisting of the chemical formulas (5) and (6), respectively, with a C 1-16 alkyl group and a hydroxy C 1-16. Alkyl group, amino C 1-16 alkyl group, (mono lower alkyl) amino C 1-16 alkyl group, (dilower alkyl) amino C 1-16 alkyl group, C 3-10 cycloalkyl group, C 3-10 cyclo Selected from the group consisting of alkyl-substituted lower alkyl groups, C 2-16 alkenyl groups, C 2-16 alkynyl groups, heterocyclic groups, aryl groups, and aryl substituted lower alkyl groups, AA 2 is DN 5 -acetyl. Ornithine residue, D-5-oxonorleucin residue, D-citrulin residue or D-5-hydroxynorleucin residue, AA 3 is an unsubstituted phenylalanine residue, a substituted phenylalanine residue, an unsubstituted D- It is one selected from a phenylalanine residue and a substituted D-phenylalanine residue, and AA 4 is an α-amino acid residue represented by the chemical formula (8) or a β-amino acid represented by the chemical formula (9). R 10 and R 12 in the chemical formulas (8) and (9) are residues, respectively, independently of a hydrogen atom, a lower alkyl group, a lower alkenyl group, a lower alkynyl group, an aryl group, and an aryl substituted lower alkyl group. R 11 is a hydrogen atom or a chemical formula. The group represented by (10), Z in the chemical formula (10) is one selected from a lower alkylene group, a lower alkenylene group, and a lower alkynylene group, and R 13 and R 14 are independent of each other. , A hydrogen atom, a lower alkyl group, an aryl group, and an aryl substituted lower alkyl group, or R 13 and R 14 contain 5 or 6 members together with the nitrogen atom to which they are attached. It may be a nitrogen heterocyclic group. The antipruritic agent may contain these compounds or pharmaceutically acceptable salts thereof.
一般式(1)で表される化合物は、AA3がフェニルアラニン残基の場合がある。すなわち、一般式(1)におけるY1が、水素原子、低級アルキル基、及び、化学式(2)で表される基から選ばれる1つであり、化学式(2)におけるR1は、水素原子、ヒドロキシル基、低級アルキル基、及び、低級アルコキシル基から選ばれる1つであり、R2は、低級アルキル基、又は、アミノ基であり、Y2は、ヒドロキシル基、又は、化学式(3)で表される基であり、化学式(3)におけるR3及びR4は、それぞれ独立に、水素原子、ヒドロキシル基、低級アルキル基、及び、低級アルコキシル基から選ばれる1つであるか、又は、R3及びR4はこれらが結合する窒素原子と一緒になった5員又は6員の含窒素複素環基であり、AA1は化学式(4)で表されるα−アミノ酸残基であり、化学式(4)におけるR5及びR6は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、及び、ハロゲン化低級アルキル基から選ばれる1つであり、Xは、水素原子、ハロゲン原子及びヒドロキシル基と、化学式(5)及び(6)とからなるグループから選択され、化学式(5)又は(6)のR7又はR8は、それぞれ独立に、C1−16アルキル基、ヒドロキシC1−16アルキル基、アミノC1−16アルキル基、(モノ低級アルキル)アミノC1−16アルキル基、(ジ低級アルキル)アミノC1−16アルキル基、C3−10シクロアルキル基、C3−10シクロアルキル置換低級アルキル基、C2−16アルケニル基、C2−16アルキニル基、複素環基、アリール基、及び、アリール置換低級アルキル基からなるグループから選択され、AA2は化学式(7)で表されるD−α−アミノ酸残基であり、化学式(7)におけるR9は、アミノ基、(モノ低級アルキル)アミノ基、低級アシルアミノ基、グアニジノ基、低級アルキル基置換グアニジノ基、イミノ低級アルキル基、ウレイド基、低級アルキル基置換ウレイド基、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アシル基、及び、ヒドロキシ低級アルキル基からなるグループから選択され、化学式(7)におけるnは1〜4の整数であり、AA3はフェニルアラニン残基であり、AA4は化学式(8)で表されるα−アミノ酸残基、又は、化学式(9)で表されるβ−アミノ酸残基であり、化学式(8)及び(9)におけるR10及びR12は、それぞれ独立に、水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、アリール基、及び、アリール置換低級アルキル基から選ばれる1つであり、R11は、水素原子、又は、化学式(10)で表される基であり、化学式(10)におけるZは、低級アルキレン基、低級アルケニレン基、及び、低級アルキニレン基から選ばれる1つであり、R13及びR14は、それぞれ独立に、水素原子、低級アルキル基、アリール基、及び、アリール置換低級アルキル基から選ばれる1つ、又は、R13及びR14はこれらが結合する窒素原子と一緒になった5員又は6員の含窒素複素環基である場合がある。本抗掻痒剤は、これらの化合物又はその薬学的に許容できる塩を含む場合がある。 In the compound represented by the general formula (1), AA 3 may be a phenylalanine residue. That is, Y 1 in the general formula (1) is one selected from a hydrogen atom, a lower alkyl group, and a group represented by the chemical formula (2), and R 1 in the chemical formula (2) is a hydrogen atom. It is one selected from a hydroxyl group, a lower alkyl group, and a lower alkoxyl group, R 2 is a lower alkyl group or an amino group, and Y 2 is a hydroxyl group or a chemical formula (3). R 3 and R 4 in the chemical formula (3) are each independently selected from a hydrogen atom, a hydroxyl group, a lower alkyl group, and a lower alkoxyl group, or R 3 And R 4 are 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocyclic groups combined with the nitrogen atom to which they are bonded, and AA 1 is an α-amino acid residue represented by the chemical formula (4), which is a chemical formula (4). R 5 and R 6 in 4) are independently selected from a hydrogen atom, a halogen atom, a lower alkyl group, and a halogenated lower alkyl group, and X is a hydrogen atom, a halogen atom, and a hydroxyl group. And R 7 or R 8 of chemical formula (5) or (6) are independently selected from the group consisting of chemical formulas (5) and (6), respectively, C 1-16 alkyl group and hydroxy C 1-16. Alkyl group, amino C 1-16 alkyl group, (mono lower alkyl) amino C 1-16 alkyl group, (dilower alkyl) amino C 1-16 alkyl group, C 3-10 cycloalkyl group, C 3-10 cyclo Selected from the group consisting of an alkyl-substituted lower alkyl group, a C 2-16 alkenyl group, a C 2-16 alkynyl group, a heterocyclic group, an aryl group, and an aryl substituted lower alkyl group, AA 2 is represented by the chemical formula (7). R 9 in the chemical formula (7) is an amino group, a (monolower alkyl) amino group, a lower acylamino group, a guanidino group, a lower alkyl group substituted guanidino group, or an imino lower alkyl group. , A ureido group, a lower alkyl group substituted ureido group, a lower alkylthio group, a lower alkylsulfinyl group, a lower alkylsulfonyl group, a lower acyl group, and a hydroxy lower alkyl group, and n in the chemical formula (7) is 1. It is an integer of ~ 4, AA 3 is a phenylalanine residue, and AA 4 is an α-amino acid residue represented by the chemical formula (8) or a β-amino acid residue represented by the chemical formula (9). , R 10 and in chemical formulas (8) and (9) R 12 is one independently selected from a hydrogen atom, a lower alkyl group, a lower alkenyl group, a lower alkynyl group, an aryl group, and an aryl substituted lower alkyl group, and R 11 is a hydrogen atom or an aryl substituted lower alkyl group. It is a group represented by the chemical formula (10), and Z in the chemical formula (10) is one selected from a lower alkylene group, a lower alkenylene group, and a lower alkynylene group, and R 13 and R 14 are independent of each other. In addition, one selected from a hydrogen atom, a lower alkyl group, an aryl group, and an aryl-substituted lower alkyl group, or R 13 and R 14 are five or six members combined with a nitrogen atom to which they are bonded. It may be a nitrogen-containing heterocyclic group. The antipruritic agent may contain these compounds or pharmaceutically acceptable salts thereof.
一般式(1)で表される化合物は、AA3がp−フルオロフェニルアラニン残基、o−トリフルオロメチルフェニルアラニン残基、2,6−ジメチルフェニルアラニン残基、D−フェニルアラニン残基、D−p−フルオロフェニルアラニン残基又はD−o−トリフルオロメチルフェニルアラニン残基の場合がある。すなわち、一般式(1)におけるY1が、水素原子、低級アルキル基、及び、化学式(2)で表される基から選ばれる1つであり、化学式(2)におけるR1は、水素原子、ヒドロキシル基、低級アルキル基、及び、低級アルコキシル基から選ばれる1つであり、R2は、低級アルキル基、又は、アミノ基であり、Y2は、ヒドロキシル基、又は、化学式(3)で表される基であり、化学式(3)におけるR3及びR4は、それぞれ独立に、水素原子、ヒドロキシル基、低級アルキル基、及び、低級アルコキシル基から選ばれる1つであるか、又は、R3及びR4はこれらが結合する窒素原子と一緒になった5員又は6員の含窒素複素環基であり、AA1は化学式(4)で表されるα−アミノ酸残基であり、化学式(4)におけるR5及びR6は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、及び、ハロゲン化低級アルキル基から選ばれる1つであり、Xは、水素原子、ハロゲン原子及びヒドロキシル基と、化学式(5)及び(6)とからなるグループから選択され、化学式(5)又は(6)のR7又はR8は、それぞれ独立に、C1−16アルキル基、ヒドロキシC1−16アルキル基、アミノC1−16アルキル基、(モノ低級アルキル)アミノC1−16アルキル基、(ジ低級アルキル)アミノC1−16アルキル基、C3−10シクロアルキル基、C3−10シクロアルキル置換低級アルキル基、C2−16アルケニル基、C2−16アルキニル基、複素環基、アリール基、及び、アリール置換低級アルキル基からなるグループから選択され、AA2は化学式(7)で表されるD−α−アミノ酸残基であり、化学式(7)におけるR9は、アミノ基、(モノ低級アルキル)アミノ基、低級アシルアミノ基、グアニジノ基、低級アルキル基置換グアニジノ基、イミノ低級アルキル基、ウレイド基、低級アルキル基置換ウレイド基、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アシル基、及び、ヒドロキシ低級アルキル基からなるグループから選択され、化学式(7)におけるnは1〜4の整数であり、AA3はp−フルオロフェニルアラニン残基、o−トリフルオロメチルフェニルアラニン残基、2,6−ジメチルフェニルアラニン残基、D−フェニルアラニン残基、D−p−フルオロフェニルアラニン残基又はD−o−トリフルオロメチルフェニルアラニン残基であり、AA4は化学式(8)で表されるα−アミノ酸残基、又は、化学式(9)で表されるβ−アミノ酸残基であり、化学式(8)及び(9)におけるR10及びR12は、それぞれ独立に、水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、アリール基、及び、アリール置換低級アルキル基から選ばれる1つであり、R11は、水素原子、又は、化学式(10)で表される基であり、化学式(10)におけるZは、低級アルキレン基、低級アルケニレン基、及び、低級アルキニレン基から選ばれる1つであり、R13及びR14は、それぞれ独立に、水素原子、低級アルキル基、アリール基、及び、アリール置換低級アルキル基から選ばれる1つ、又は、R13及びR14はこれらが結合する窒素原子と一緒になった5員又は6員の含窒素複素環基である場合がある。本抗掻痒剤は、これらの化合物又はその薬学的に許容できる塩を含む場合がある。 In the compound represented by the general formula (1), AA 3 is a p-fluorophenylalanine residue, an o-trifluoromethylphenylalanine residue, a 2,6-dimethylphenylalanine residue, a D-phenylalanine residue, and D-p-. It may be a fluorophenylalanine residue or a Do-o-trifluoromethylphenylalanine residue. That is, Y 1 in the general formula (1) is one selected from a hydrogen atom, a lower alkyl group, and a group represented by the chemical formula (2), and R 1 in the chemical formula (2) is a hydrogen atom. It is one selected from a hydroxyl group, a lower alkyl group, and a lower alkoxyl group, R 2 is a lower alkyl group or an amino group, and Y 2 is a hydroxyl group or a chemical formula (3). R 3 and R 4 in the chemical formula (3) are each independently selected from a hydrogen atom, a hydroxyl group, a lower alkyl group, and a lower alkoxyl group, or R 3 And R 4 are 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocyclic groups combined with the nitrogen atom to which they are bonded, and AA 1 is an α-amino acid residue represented by the chemical formula (4), which is a chemical formula (4). R 5 and R 6 in 4) are independently selected from a hydrogen atom, a halogen atom, a lower alkyl group, and a halogenated lower alkyl group, and X is a hydrogen atom, a halogen atom, and a hydroxyl group. And R 7 or R 8 of chemical formula (5) or (6) are independently selected from the group consisting of chemical formulas (5) and (6), respectively, C 1-16 alkyl group and hydroxy C 1-16. Alkyl group, amino C 1-16 alkyl group, (mono lower alkyl) amino C 1-16 alkyl group, (dilower alkyl) amino C 1-16 alkyl group, C 3-10 cycloalkyl group, C 3-10 cyclo Selected from the group consisting of an alkyl-substituted lower alkyl group, a C 2-16 alkenyl group, a C 2-16 alkynyl group, a heterocyclic group, an aryl group, and an aryl substituted lower alkyl group, AA 2 is represented by the chemical formula (7). R 9 in the chemical formula (7) is an amino group, a (monolower alkyl) amino group, a lower acylamino group, a guanidino group, a lower alkyl group substituted guanidino group, or an imino lower alkyl group. , A ureido group, a lower alkyl group substituted ureido group, a lower alkylthio group, a lower alkylsulfinyl group, a lower alkylsulfonyl group, a lower acyl group, and a hydroxy lower alkyl group, and n in the chemical formula (7) is 1. An integer of ~ 4, AA 3 is a p-fluorophenylalanine residue, an o-trifluoromethylphenylalanine residue, a 2,6-dimethylphenylalanine residue, a D-phenylalanine residue, a D-p-fluorophenylalani. Residue or Deo-trifluoromethylphenylalanine residue, AA 4 is an α-amino acid residue represented by the chemical formula (8) or a β-amino acid residue represented by the chemical formula (9). Yes, R 10 and R 12 in the chemical formulas (8) and (9) are independently selected from a hydrogen atom, a lower alkyl group, a lower alkenyl group, a lower alkynyl group, an aryl group, and an aryl-substituted lower alkyl group, respectively. One, R 11 is a hydrogen atom or a group represented by the chemical formula (10), and Z in the chemical formula (10) is selected from a lower alkylene group, a lower alkenylene group, and a lower alkynylene group. R 13 and R 14 are each independently selected from a hydrogen atom, a lower alkyl group, an aryl group, and an aryl substituted lower alkyl group, or R 13 and R 14 are bonded to each other. It may be a 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocyclic group combined with a nitrogen atom. The antipruritic agent may contain these compounds or pharmaceutically acceptable salts thereof.
一般式(1)で表される化合物は、AA4がリシン残基又はn−メチル−β−アラニン残基の場合がある。すなわち、一般式(1)におけるY1が、水素原子、低級アルキル基、及び、化学式(2)で表される基から選ばれる1つであり、化学式(2)におけるR1は、水素原子、ヒドロキシル基、低級アルキル基、及び、低級アルコキシル基から選ばれる1つであり、R2は、低級アルキル基、又は、アミノ基であり、Y2は、ヒドロキシル基、又は、化学式(3)で表される基であり、化学式(3)におけるR3及びR4は、それぞれ独立に、水素原子、ヒドロキシル基、低級アルキル基、及び、低級アルコキシル基から選ばれる1つであるか、又は、R3及びR4はこれらが結合する窒素原子と一緒になった5員又は6員の含窒素複素環基であり、AA1は化学式(4)で表されるα−アミノ酸残基であり、化学式(4)におけるR5及びR6は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、及び、ハロゲン化低級アルキル基から選ばれる1つであり、Xは、水素原子、ハロゲン原子及びヒドロキシル基と、化学式(5)及び(6)とからなるグループから選択され、化学式(5)又は(6)のR7又はR8は、それぞれ独立に、C1−16アルキル基、ヒドロキシC1−16アルキル基、アミノC1−16アルキル基、(モノ低級アルキル)アミノC1−16アルキル基、(ジ低級アルキル)アミノC1−16アルキル基、C3−10シクロアルキル基、C3−10シクロアルキル置換低級アルキル基、C2−16アルケニル基、C2−16アルキニル基、複素環基、アリール基、及び、アリール置換低級アルキル基からなるグループから選択され、AA2は化学式(7)で表されるD−α−アミノ酸残基であり、化学式(7)におけるR9は、アミノ基、(モノ低級アルキル)アミノ基、低級アシルアミノ基、グアニジノ基、低級アルキル基置換グアニジノ基、イミノ低級アルキル基、ウレイド基、低級アルキル基置換ウレイド基、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アシル基、及び、ヒドロキシ低級アルキル基からなるグループから選択され、化学式(7)におけるnは1〜4の整数であり、AA3は非置換フェニルアラニン残基、置換フェニルアラニン残基、非置換D−フェニルアラニン残基、及び、置換D−フェニルアラニン残基から選ばれる1つであり、AA4はリシン残基又はn−メチル−β−アラニン残基である場合がある。本抗掻痒剤は、これらの化合物又はその薬学的に許容できる塩を含む場合がある。 In the compound represented by the general formula (1), AA 4 may be a lysine residue or an n-methyl-β-alanine residue. That is, Y 1 in the general formula (1) is one selected from a hydrogen atom, a lower alkyl group, and a group represented by the chemical formula (2), and R 1 in the chemical formula (2) is a hydrogen atom. It is one selected from a hydroxyl group, a lower alkyl group, and a lower alkoxyl group, R 2 is a lower alkyl group or an amino group, and Y 2 is a hydroxyl group or a chemical formula (3). R 3 and R 4 in the chemical formula (3) are each independently selected from a hydrogen atom, a hydroxyl group, a lower alkyl group, and a lower alkoxyl group, or R 3 And R 4 are 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocyclic groups combined with the nitrogen atom to which they are bonded, and AA 1 is an α-amino acid residue represented by the chemical formula (4), which is a chemical formula (4). R 5 and R 6 in 4) are independently selected from a hydrogen atom, a halogen atom, a lower alkyl group, and a halogenated lower alkyl group, and X is a hydrogen atom, a halogen atom, and a hydroxyl group. And R 7 or R 8 of chemical formula (5) or (6) are independently selected from the group consisting of chemical formulas (5) and (6), respectively, C 1-16 alkyl group and hydroxy C 1-16. Alkyl group, amino C 1-16 alkyl group, (mono lower alkyl) amino C 1-16 alkyl group, (dilower alkyl) amino C 1-16 alkyl group, C 3-10 cycloalkyl group, C 3-10 cyclo Selected from the group consisting of an alkyl-substituted lower alkyl group, a C 2-16 alkenyl group, a C 2-16 alkynyl group, a heterocyclic group, an aryl group, and an aryl substituted lower alkyl group, AA 2 is represented by the chemical formula (7). R 9 in the chemical formula (7) is an amino group, a (monolower alkyl) amino group, a lower acylamino group, a guanidino group, a lower alkyl group substituted guanidino group, or an imino lower alkyl group. , A ureido group, a lower alkyl group substituted ureido group, a lower alkylthio group, a lower alkylsulfinyl group, a lower alkylsulfonyl group, a lower acyl group, and a hydroxy lower alkyl group, and n in the chemical formula (7) is 1. An integer of ~ 4, AA 3 is one selected from an unsubstituted phenylalanine residue, a substituted phenylalanine residue, an unsubstituted D-phenylalanine residue, and a substituted D-phenylalanine residue, and AA 4 is a lysine residue. Group or n- It may be a methyl-β-alanine residue. The antipruritic agent may contain these compounds or pharmaceutically acceptable salts thereof.
一般式(1)で表される化合物は、Y1が、水素原子、及び、メチル基から選ばれる1つ、又は、化学式(2)で表される基であり、化学式(2)におけるR1は水素原子であり、R2はメチル基、エチル基、及び、アミノ基から選ばれる1つであり、Y2は、ヒドロキシル基、又は、化学式(3)で表される基であり、化学式(3)におけるR3及びR4がともに水素原子であるか、あるいは、一方が水素原子であって他方がメチル基の組合せであり、AA1はチロシン残基、2,6−ジメチル−チロシン残基、o−アシル−チロシン残基、o−アルコキシカルボニル−チロシン残基、o−フェノキシカルボニル−チロシン残基、o−アセチルチロシン残基又は2,6−ジメチル−フェニルアラニン残基であり、AA2はD−メチオニンスルホキシド残基、D−アルギニン残基、D−シトルリン残基、D−N5−アセチルオルニチン残基、D−5−オキソノルロイシン残基又はD−5−ヒドロキシノルロイシン残基であり、AA3はフェニルアラニン残基、D−フェニルアラニン残基、p−フルオロフェニルアラニン残基、D−p−フルオロフェニルアラニン残基、o−トリフルオロメチルフェニルアラニン残基又はD−o−トリフルオロメチルフェニルアラニン残基であり、AA4はリシン残基又はn−メチル−β−アラニン残基である場合がある。本抗掻痒剤は、これらの化合物又はその薬学的に許容できる塩を含む場合がある。 In the compound represented by the general formula (1), Y 1 is one selected from a hydrogen atom and a methyl group, or a group represented by the chemical formula (2), and R 1 in the chemical formula (2). Is a hydrogen atom, R 2 is one selected from a methyl group, an ethyl group, and an amino group, and Y 2 is a hydroxyl group or a group represented by the chemical formula (3), and has a chemical formula ( In 3), R 3 and R 4 are both hydrogen atoms, or one is a hydrogen atom and the other is a combination of methyl groups, and AA 1 is a tyrosine residue and a 2,6-dimethyl-tyrosine residue. , O-acyl-tyrosine residue, o-alkoxycarbonyl-tyrosine residue, o-phenoxycarbonyl-tyrosine residue, o-acetyltyrosine residue or 2,6-dimethyl-phenylalanine residue, AA 2 is D -Methylthionin sulfoxide residue, D-arginine residue, D-citrulin residue, D-N5-acetylornithine residue, D-5-oxonorleucine residue or D-5-hydroxynorleucine residue, AA Reference numeral 3 denotes a phenylalanine residue, a D-phenylalanine residue, a p-fluorophenylalanine residue, a Dp-fluorophenylalanine residue, an o-trifluoromethylphenylalanine residue or a D-o-trifluoromethylphenylalanine residue. AA 4 may be a lysine residue or an n-methyl-β-alanine residue. The antipruritic agent may contain these compounds or pharmaceutically acceptable salts thereof.
一般式(1)で表される好ましい化合物としては、Y1が水素原子であり、Y2がヒドロキシル基である、[2,6−ジメチル−Tyr]−[D−Arg]−[Phe]−[N−MeβAla]−OH、[Tyr]−[D−Arg]−[Phe]−[N−MeβAla]−OH、[2,6−ジメチル−Tyr]−[D−Met(O)]−[Phe]−[N−MeβAla]−OH、[Tyr]−[D−Met(O)]−[Phe]−[N−MeβAla]−OH、[2,6−ジメチル−Tyr]−[D−Arg]−[Phe]−[Lys]−OH、[Tyr]−[D−Arg]−[Phe]−[Lys]−OH、[2,6−ジメチル−Tyr]−[D−Met(O)]−[Phe]−[Lys]−OH、[Tyr]−[D−Met(O)]−[Phe]−[Lys]−OHがあるが、これらに限定されない。本抗掻痒剤は、これらの化合物又はその薬学的に許容できる塩を含む場合がある。 As a preferable compound represented by the general formula (1), Y 1 is a hydrogen atom and Y 2 is a hydroxyl group, [2,6-dimethyl-Tyrosine]-[D-Arg]-[Phe]-. [N-MeβAla] -OH, [Tyr]-[D-Arg]-[Phe]-[N-MeβAla] -OH, [2,6-dimethyl-Tyr]-[D-Met (O)]-[ Phe]-[N-MeβAla] -OH, [Tyrosine]-[D-Met (O)]-[Phe]-[N-MeβAla] -OH, [2,6-dimethyl-Tyr]-[D-Arg ]-[Phe]-[Lys] -OH, [Tyr]-[D-Arg]-[Phe]-[Lys] -OH, [2,6-dimethyl-Tyr]-[D-Met (O)] -[Phe]-[Lys] -OH, [Tyr]-[D-Met (O)]-[Phe]-[Lys] -OH, but not limited to these. The antipruritic agent may contain these compounds or pharmaceutically acceptable salts thereof.
一般式(1)で表される好ましい化合物としては、Y1が水素原子であり、Y2がアミノ基である、[2,6−ジメチル−Tyr]−[D−Arg]−[Phe]−[N−MeβAla]−アミド、[Tyr]−[D−Arg]−[Phe]−[N−MeβAla]−アミド、[2,6−ジメチル−Tyr]−[D−Met(O)]−[Phe]−[N−MeβAla]−アミド、[Tyr]−[D−Met(O)]−[Phe]−[N−MeβAla]−アミド、[2,6−ジメチル−Tyr]−[D−Arg]−[Phe]−[Lys]−アミド、[Tyr]−[D−Arg]−[Phe]−[Lys]−アミド、[2,6−ジメチル−Tyr]−[D−Met(O)]−[Phe]−[Lys]−アミド、[Tyr]−[D−Met(O)]−[Phe]−[Lys]−アミドがあるが、これらに限定されない。本抗掻痒剤は、これらの化合物又はその薬学的に許容できる塩を含む場合がある。 As a preferable compound represented by the general formula (1), Y 1 is a hydrogen atom and Y 2 is an amino group, [2,6-dimethyl-Tyr]-[D-Arg]-[Phe]-. [N-MeβAla] -amide, [Tyr]-[D-Arg]-[Phe]-[N-MeβAla] -amide, [2,6-dimethyl-Tyr]-[D-Met (O)]-[ Phe]-[N-MeβAla] -amide, [Tyr]-[D-Met (O)]-[Phe]-[N-MeβAla] -amide, [2,6-dimethyl-Tyr]-[D-Arg ]-[Phe]-[Lys] -amide, [Tyr]-[D-Arg]-[Phe]-[Lys] -amide, [2,6-dimethyl-Tyr]-[D-Met (O)] -[Phe]-[Lys] -amide, [Tyr]-[D-Met (O)]-[Phe]-[Lys] -amide, but not limited to these. The antipruritic agent may contain these compounds or pharmaceutically acceptable salts thereof.
一般式(1)で表される好ましい化合物としては、Y1がメチル基であり、Y2がヒドロキシル基である、メチル−[2,6−ジメチル−Tyr]−[D−Arg]−[Phe]−[N−MeβAla]−OH、メチル−[Tyr]−[D−Arg]−[Phe]−[N−MeβAla]−OH、メチル−[2,6−ジメチル−Tyr]−[D−Met(O)]−[Phe]−[N−MeβAla]−OH、メチル−[Tyr]−[D−Met(O)]−[Phe]−[N−MeβAla]−OH、メチル−[2,6−ジメチル−Tyr]−[D−Arg]−[Phe]−[Lys]−OH、メチル−[Tyr]−[D−Arg]−[Phe]−[Lys]−OH、メチル−[2,6−ジメチル−Tyr]−[D−Met(O)]−[Phe]−[Lys]−OH、メチル−[Tyr]−[D−Met(O)]−[Phe]−[Lys]−OHがあるが、これらに限定されない。本抗掻痒剤は、これらの化合物又はその薬学的に許容できる塩を含む場合がある。 Preferred compounds represented by the general formula (1) are methyl- [2,6-dimethyl-Tyr]-[D-Arg]-[Phe, in which Y 1 is a methyl group and Y 2 is a hydroxyl group. ]-[N-MeβAla] -OH, Methyl- [Tyr]-[D-Arg]-[Phe]-[N-MeβAla] -OH, Methyl- [2,6-dimethyl-Tyr]-[D-Met (O)]-[Phe]-[N-MeβAla] -OH, Methyl- [Tyr]-[D-Met (O)]-[Phe]-[N-MeβAla] -OH, Methyl- [2,6 -Dimethyl-Tyr]-[D-Arg]-[Phe]-[Lys] -OH, Methyl- [Tyr]-[D-Arg]-[Phe]-[Lys] -OH, Methyl- [2,6 -Dimethyl-Tyr]-[D-Met (O)]-[Phe]-[Lys] -OH, Methyl- [Tyr]-[D-Met (O)]-[Phe]-[Lys] -OH Yes, but not limited to these. The antipruritic agent may contain these compounds or pharmaceutically acceptable salts thereof.
一般式(1)で表される好ましい化合物としては、Y1がメチル基であり、Y2がアミノ基である、メチル−[2,6−ジメチル−Tyr]−[D−Arg]−[Phe]−[N−MeβAla]−アミド、メチル−[Tyr]−[D−Arg]−[Phe]−[N−MeβAla]−アミド、メチル−[2,6−ジメチル−Tyr]−[D−Met(O)]−[Phe]−[N−MeβAla]−アミド、メチル−[Tyr]−[D−Met(O)]−[Phe]−[N−MeβAla]−アミド、メチル−[2,6−ジメチル−Tyr]−[D−Arg]−[Phe]−[Lys]−アミド、メチル−[Tyr]−[D−Arg]−[Phe]−[Lys]−アミド、メチル−[2,6−ジメチル−Tyr]−[D−Met(O)]−[Phe]−[Lys]−アミド、メチル−[Tyr]−[D−Met(O)]−[Phe]−[Lys]−アミドがあるが、これらに限定されない。本抗掻痒剤は、これらの化合物又はその薬学的に許容できる塩を含む場合がある。 Preferred compounds represented by the general formula (1) are methyl- [2,6-dimethyl-Tyr]-[D-Arg]-[Phe, in which Y 1 is a methyl group and Y 2 is an amino group. ]-[N-MeβAla] -amide, methyl- [Tyr]-[D-Arg]-[Phe]-[N-MeβAla] -amide, methyl- [2,6-dimethyl-Tyr]-[D-Met (O)]-[Phe]-[N-MeβAla] -amide, methyl- [Tyr]-[D-Met (O)]-[Phe]-[N-MeβAla] -amide, methyl- [2,6 -Dimethyl-Tyr]-[D-Arg]-[Phe]-[Lys] -amide, methyl- [Tyr]-[D-Arg]-[Phe]-[Lys] -amide, methyl- [2,6 -Dimethyl-Tyr]-[D-Met (O)]-[Phe]-[Lys] -amide, methyl- [Tyr]-[D-Met (O)]-[Phe]-[Lys] -amide Yes, but not limited to these. The antipruritic agent may contain these compounds or pharmaceutically acceptable salts thereof.
一般式(1)で表される好ましい化合物としては、Y1が1−イミノエチル基であり、Y2がヒドロキシル基である、1−イミノエチル−[2,6−ジメチル−Tyr]−[D−Arg]−[Phe]−[N−MeβAla]−OH、1−イミノエチル−[Tyr]−[D−Arg]−[Phe]−[N−MeβAla]−OH、1−イミノエチル−[2,6−ジメチル−Tyr]−[D−Met(O)]−[Phe]−[N−MeβAla]−OH、1−イミノエチル−[Tyr]−[D−Met(O)]−[Phe]−[N−MeβAla]−OH、1−イミノエチル−[2,6−ジメチル−Tyr]−[D−Arg]−[Phe]−[Lys]−OH、1−イミノエチル−[Tyr]−[D−Arg]−[Phe]−[Lys]−OH、1−イミノエチル−[2,6−ジメチル−Tyr]−[D−Met(O)]−[Phe]−[Lys]−OH、1−イミノエチル−[Tyr]−[D−Met(O)]−[Phe]−[Lys]−OHがあるが、これらに限定されない。本抗掻痒剤は、これらの化合物又はその薬学的に許容できる塩を含む場合がある。 Preferred compounds represented by the general formula (1) are 1-iminoethyl- [2,6-dimethyl-Tyr]-[D-Arg, in which Y 1 is a 1-iminoethyl group and Y 2 is a hydroxyl group. ]-[Phe]-[N-MeβAla] -OH, 1-iminoethyl- [Tyrosine]-[D-Arg]-[Phe]-[N-MeβAla] -OH, 1-iminoethyl- [2,6-dimethyl] -Tyr]-[D-Met (O)]-[Phe]-[N-MeβAla] -OH, 1-iminoethyl- [Tyr]-[D-Met (O)]-[Phe]-[N-MeβAla] ] -OH, 1-iminoethyl- [2,6-dimethyl-Tyr]-[D-Arg]-[Phe]-[Lys] -OH, 1-iminoethyl- [Tyr]-[D-Arg]-[Phe ]-[Lys] -OH, 1-iminoethyl- [2,6-dimethyl-Tyr]-[D-Met (O)]-[Phe]-[Lys] -OH, 1-iminoethyl- [Tyr]-[ There are, but are not limited to, D-Met (O)]-[Phe]-[Lys] -OH. The antipruritic agent may contain these compounds or pharmaceutically acceptable salts thereof.
一般式(1)で表される好ましい化合物としては、Y1が1−イミノエチル基であり、Y2がアミノ基である、1−イミノエチル−[2,6−ジメチル−Tyr]−[D−Arg]−[Phe]−[N−MeβAla]−アミド、1−イミノエチル−[Tyr]−[D−Arg]−[Phe]−[N−MeβAla]−アミド、1−イミノエチル−[2,6−ジメチル−Tyr]−[D−Met(O)]−[Phe]−[N−MeβAla]−アミド、1−イミノエチル−[Tyr]−[D−Met(O)]−[Phe]−[N−MeβAla]−アミド、1−イミノエチル−[2,6−ジメチル−Tyr]−[D−Arg]−[Phe]−[Lys]−アミド、1−イミノエチル−[Tyr]−[D−Arg]−[Phe]−[Lys]−アミド、1−イミノエチル−[2,6−ジメチル−Tyr]−[D−Met(O)]−[Phe]−[Lys]−アミド、1−イミノエチル−[Tyr]−[D−Met(O)]−[Phe]−[Lys]−アミドがあるが、これらに限定されない。本抗掻痒剤は、これらの化合物又はその薬学的に許容できる塩を含む場合がある。 Preferred compounds represented by the general formula (1) are 1-iminoethyl- [2,6-dimethyl-Tyr]-[D-Arg, in which Y 1 is a 1-iminoethyl group and Y 2 is an amino group. ]-[Phe]-[N-MeβAla] -amide, 1-iminoethyl- [Tyr]-[D-Arg]-[Phe]-[N-MeβAla] -amide, 1-iminoethyl- [2,6-dimethyl] -Tyr]-[D-Met (O)]-[Phe]-[N-MeβAla] -amide, 1-iminoethyl- [Tyr]-[D-Met (O)]-[Phe]-[N-MeβAla] ] -Amide, 1-iminoethyl- [2,6-dimethyl-Tyr]-[D-Arg]-[Phe]-[Lys] -amide, 1-iminoethyl- [Tyr]-[D-Arg]-[Phe ]-[Lys] -amide, 1-iminoethyl- [2,6-dimethyl-Tyr]-[D-Met (O)]-[Phe]-[Lys] -amide, 1-iminoethyl- [Tyr]-[ There are, but are not limited to, D-Met (O)]-[Phe]-[Lys] -amides. The antipruritic agent may contain these compounds or pharmaceutically acceptable salts thereof.
一般式(1)で表される好ましい化合物としては、Y1がアミジノ基であり、Y2がヒドロキシル基である、アミジノ−[2,6−ジメチル−Tyr]−[D−Arg]−[Phe]−[N−MeβAla]−OH、アミジノ−[Tyr]−[D−Arg]−[Phe]−[N−MeβAla]−OH、アミジノ−[2,6−ジメチル−Tyr]−[D−Met(O)]−[Phe]−[N−MeβAla]−OH、アミジノ−[Tyr]−[D−Met(O)]−[Phe]−[N−MeβAla]−OH、アミジノ−[2,6−ジメチル−Tyr]−[D−Arg]−[Phe]−[Lys]−OH、アミジノ−[Tyr]−[D−Arg]−[Phe]−[Lys]−OH、アミジノ−[2,6−ジメチル−Tyr]−[D−Met(O)]−[Phe]−[Lys]−OH、アミジノ−[Tyr]−[D−Met(O)]−[Phe]−[Lys]−OHがあるが、これらに限定されない。本抗掻痒剤は、これらの化合物又はその薬学的に許容できる塩を含む場合がある。 As a preferable compound represented by the general formula (1), Y 1 is an amidino group and Y 2 is a hydroxyl group. Amidino- [2,6-dimethyl-Tyr]-[D-Arg]-[Phe ]-[N-MeβAla] -OH, Amidino- [Tyr]-[D-Arg]-[Phe]-[N-MeβAla] -OH, Amidino- [2,6-dimethyl-Tyr]-[D-Met (O)]-[Phe]-[N-MeβAla] -OH, Amidino- [Tyrosine]-[D-Met (O)]-[Phe]-[N-MeβAla] -OH, Amidino- [2,6 -Dimethyl-Tyr]-[D-Arg]-[Phe]-[Lys] -OH, Amidino- [Tyr]-[D-Arg]-[Phe]-[Lys] -OH, Amidino- [2,6 -Dimethyl-Tyr]-[D-Met (O)]-[Phe]-[Lys] -OH, Amidino- [Tyr]-[D-Met (O)]-[Phe]-[Lys] -OH Yes, but not limited to these. The antipruritic agent may contain these compounds or pharmaceutically acceptable salts thereof.
一般式(1)で表される好ましい化合物としては、Y1がアミジノ基であり、Y2がアミノ基である、アミジノ−[2,6−ジメチル−Tyr]−[D−Arg]−[Phe]−[N−MeβAla]−アミド、アミジノ−[Tyr]−[D−Arg]−[Phe]−[N−MeβAla]−アミド、アミジノ−[2,6−ジメチル−Tyr]−[D−Met(O)]−[Phe]−[N−MeβAla]−アミド、アミジノ−[Tyr]−[D−Met(O)]−[Phe]−[N−MeβAla]−アミド、アミジノ−[2,6−ジメチル−Tyr]−[D−Arg]−[Phe]−[Lys]−アミド、アミジノ−[Tyr]−[D−Arg]−[Phe]−[Lys]−アミド、アミジノ−[2,6−ジメチル−Tyr]−[D−Met(O)]−[Phe]−[Lys]−アミド、アミジノ−[Tyr]−[D−Met(O)]−[Phe]−[Lys]−アミドがあるが、これらに限定されない。本抗掻痒剤は、これらの化合物又はその薬学的に許容できる塩を含む場合がある。 Preferred compounds represented by the general formula (1) are amidino- [2,6-dimethyl-Tyr]-[D-Arg]-[Phe, in which Y 1 is an amidino group and Y 2 is an amino group. ]-[N-MeβAla] -amide, amidino- [Tyr]-[D-Arg]-[Phe]-[N-MeβAla] -amide, amidino- [2,6-dimethyl-Tyr]-[D-Met (O)]-[Phe]-[N-MeβAla] -amide, amidino- [Tyr]-[D-Met (O)]-[Phe]-[N-MeβAla] -amide, amidino- [2,6 -Dimethyl-Tyr]-[D-Arg]-[Phe]-[Lys] -amide, amidino- [Tyr]-[D-Arg]-[Phe]-[Lys] -amide, amidino- [2,6 -Dimethyl-Tyr]-[D-Met (O)]-[Phe]-[Lys] -amide, amidino- [Tyr]-[D-Met (O)]-[Phe]-[Lys] -amide Yes, but not limited to these. The antipruritic agent may contain these compounds or pharmaceutically acceptable salts thereof.
一般式(1)で表される化合物は、任意の光学活性体またはラセミ体、ジアステレオ異性体またはそれらの任意の混合物がすべて含まれる。また、一般式(1)で表される化合物の薬学的に許容できる塩の好ましい例としては、塩酸塩、酢酸塩、又はパラトルエンスルホン酸などの酸付加塩、アンモニウム塩又は有機アミン塩などの塩基付加塩、遊離形態及び塩の形態のペプチド誘導体の任意の水和物及び溶媒和物等があるが、これらに限定されない。一般式(1)で表される化合物には、一般式(1)で表されるペプチド誘導体の2量体ないし多量体である化合物と、これらのペプチド誘導体のC−末端とn−末端が結合した環状の化合物も含まれる場合がある。 The compound represented by the general formula (1) includes any optically active substance or racemate, diastereoisomers, or any mixture thereof. Moreover, as a preferable example of a pharmaceutically acceptable salt of the compound represented by the general formula (1), an acid addition salt such as a hydrochloride salt, an acetate salt or paratoluenesulfonic acid, an ammonium salt or an organic amine salt and the like There are, but are not limited to, base addition salts, arbitrary hydrates and solvates of peptide derivatives in free and salt forms, and the like. The compound represented by the general formula (1) includes a compound that is a dimer or a multimer of the peptide derivative represented by the general formula (1) and the C-terminal and n-terminal of these peptide derivatives. Cyclic compounds may also be included.
本抗掻痒剤は、一般式(1)で表される化合物又はその薬学的に許容できる塩の少なくとも1つを有効成分として含む。本抗掻痒剤は、少なくとも1つの一般式(1)で表される化合物又はその薬学的に許容できる塩と、少なくとも1つの薬学的に許容できる担体とを含む場合がある。本抗掻痒剤は、経口投与でも、非経口投与でも適用可能であり、非経口投与の場合、例えば、静脈内投与、皮下投与、直腸内投与、経粘膜投与、又は経皮投与により適用可能である。これらの投与経路に適する剤形は当業者に種々知られており、当業者は所望の投与形態に適する剤形を適宜選択し、必要に応じて当業界で利用可能な1又は2以上の薬学的に許容できる担体又は製剤用添加物を用いて抗掻痒剤の形態の製剤を製造することが可能である。本抗掻痒剤の有効成分として、一般式(1)で表される化合物又はその薬学的に許容できる塩の水和物又は溶媒和物が用いられる場合がある。投与量は特に限定されないが、例えば、経皮投与又は経粘膜投与の場合には単回投与量を0.1〜10mgとし、経口投与の場合には単回投与量を1〜100mgとして、一日あたり2〜3回投与することができる。あるいは、通常成人1日あたり約0.1〜1,000mg、好ましくは、約1〜300mg投与することができる。また、投与量を患者の体重、年齢、遺伝子型、病状等のパラメータと関連づけて設定することができる。 The antipruritic agent contains at least one of a compound represented by the general formula (1) or a pharmaceutically acceptable salt thereof as an active ingredient. The antipruritic agent may include at least one compound represented by the general formula (1) or a pharmaceutically acceptable salt thereof, and at least one pharmaceutically acceptable carrier. This antipruritic agent can be applied by oral administration or parenteral administration, and in the case of parenteral administration, for example, it can be applied by intravenous administration, subcutaneous administration, rectal administration, transmucosal administration, or transdermal administration. is there. Various dosage forms suitable for these routes of administration are known to those skilled in the art, and those skilled in the art will appropriately select a dosage form suitable for the desired dosage form and, if necessary, one or more pharmaceuticals available in the art. It is possible to produce a formulation in the form of an antipruritic agent using a generally acceptable carrier or formulation additive. As the active ingredient of this antipruritic agent, a hydrate or solvate of a compound represented by the general formula (1) or a pharmaceutically acceptable salt thereof may be used. The dose is not particularly limited, but for example, in the case of transdermal administration or transmucosal administration, the single dose is 0.1 to 10 mg, and in the case of oral administration, the single dose is 1 to 100 mg. It can be administered 2-3 times daily. Alternatively, usually about 0.1 to 1,000 mg, preferably about 1 to 300 mg per day for adults can be administered. In addition, the dose can be set in association with parameters such as the patient's weight, age, genotype, and medical condition.
本抗掻痒剤は、錠剤、顆粒剤(細粒)、カプセル剤、注射剤(点滴静注剤)、貼布剤、坐剤、懸濁液及びエマルジョン、ペースト、軟膏、クリーム、ローション、点鼻剤、点眼剤等の剤形で提供される場合があるが、これらに限定されない。本抗掻痒剤は、持続時間を長時間維持することを目的として徐放化される場合がある。 This antipruritic agent includes tablets, granules (fine granules), capsules, injections (intravenous drip), patches, suppositories, suspensions and emulsions, pastes, ointments, creams, lotions, and nasal drops. It may be provided in the form of a drug, eye drop, etc., but is not limited thereto. The antipruritic agent may be sustained-release for the purpose of maintaining its duration for a long period of time.
本抗掻痒剤に含まれる薬学的に許容できる担体又は製剤用添加物には、安定化剤、界面活性剤、可溶化剤、吸着剤等が含まれるが、これらに限定されない。本抗掻痒剤に含まれる薬学的に許容できる担体又は製剤用添加物は、上記に列挙される抗掻痒剤の剤形に対応して選択される。 Pharmaceutically acceptable carriers or pharmaceutical additives contained in the antipruritic agent include, but are not limited to, stabilizers, surfactants, solubilizers, adsorbents and the like. The pharmaceutically acceptable carrier or pharmaceutical additive contained in the antipruritic agent is selected according to the dosage form of the antipruritic agent listed above.
一般式(1)で表される化合物の製造方法は特に限定されないが、通常のペプチド合成に通常用いられる固相法および液相法で合成することができる。アミノ基等の保護基および縮合反応の縮合剤等は、優れたものが種々知られており、以下の実施例を参考に、また、例えば:鈴木紘一編「タンパク質工学−基礎と応用」丸善(株)(1992)及びそこに引用された文献;M.Bondanszky,etal.,“PeptideSynthesis”,JohnWiley&Sons,n.Y.,1976;並びにJ.M.StewartandD.J.Young,”SolidPhasePeptideSynthesis”,W.H.FreemanandCo.,SanFrancisco,1969等を参照して適宜選択使用することができる。固相法では市販の各種ペプチド合成装置、例えば株式会社パーキン・エルマー・ジャパン製モデル430A、株式会社島津製作所製PSSM−8等を利用するのが便利な場合がある。合成に使用する樹脂、試薬等は市販品等を容易に入手できる。 The method for producing the compound represented by the general formula (1) is not particularly limited, but the compound can be synthesized by the solid phase method and the liquid phase method usually used for peptide synthesis. Various excellent protecting groups such as amino groups and condensing agents for condensation reactions are known. Refer to the following examples, and for example: Koichi Suzuki, "Protein Engineering-Basics and Applications" Maruzen ( Co., Ltd. (1992) and the literature cited therein; Bondanzaky, etal. , "PeptideSynthesis", John Willey & Sons, n. Y. , 1976; and J.M. M. Stewartand D. J. Young, "SolidPhasePeptideSynthesis", W. et al. H. Freemand Co. , San Francisco, 1969, etc., and can be appropriately selected and used. In the solid phase method, it may be convenient to use various commercially available peptide synthesizers, for example, model 430A manufactured by Perkin Elmer Japan Co., Ltd., PSSM-8 manufactured by Shimadzu Corporation, and the like. Commercially available products such as resins and reagents used for synthesis can be easily obtained.
起痒物質である4−メチル−ヒスタミンが誘発する掻痒関連行動(scratching)を指標として、オピオイドμ受容体作動薬の抗掻痒作用について検討を行った。 The antipruritic effect of opioid μ receptor agonists was investigated using the pruritus-related behavior (scratching) induced by the pruritus substance 4-methyl-histamine as an index.
(実施例1〜5)
1.1使用動物
実験には体重21g〜24gのddY系雄性マウスを用いた。マウスは実験に供するまで室温22±2℃、湿度50±5%、明暗サイクル(明期7:00〜19:00、暗期19:00〜7:00)の一定環境下で飼育し、固形飼料(F2:株式会社船橋農場製)及び水道水を自由に摂取させた。なお、実験は東北薬科大学実験規定に従い、東北薬科大学動物実験委員会の承認を受けた実験計画に従って行った。
(Examples 1 to 5)
1.1 Animals used In the experiments, ddY male mice weighing 21 g to 24 g were used. Mice were bred in a constant environment of room temperature 22 ± 2 ° C.,
1.2使用薬物
起痒物質には、実施例1〜実施例5のいずれについても4−メチル−ヒスタミン(TOCRIS社製)を用いた。抗掻痒剤には、実施例1〜実施例5において、表1に示した合成ペプチドをそれぞれ用いた。また、実施例1〜実施例5で用いた化合物の構造は化学式(16)〜化学式(20)でそれぞれ表される。これらの薬物は頚部皮下投与(s.c.)及び経口投与(p.o.)については生理食塩水(扶桑薬品工業株式会社製)に溶解し、経皮投与(application)についてはホホバ油(和光純薬工業株式会社製)に溶解し使用した。
1.2 Drugs used 4-Methyl-histamine (manufactured by TOCRIS) was used as the pruritus substance in all of Examples 1 to 5. As the antipruritic agent, the synthetic peptides shown in Table 1 were used in Examples 1 to 5, respectively. The structures of the compounds used in Examples 1 to 5 are represented by chemical formulas (16) to (20), respectively. These drugs are dissolved in physiological saline (manufactured by Fuso Yakuhin Kogyo Co., Ltd.) for subcutaneous administration (s.c.) and oral administration (po.) Of the neck, and jojoba oil (jojoba oil) for transdermal administration (application). It was dissolved in Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) and used.
なお、実施例4で用いた合成ペプチドは、次のようにして合成した。ペプチド合成用の試薬としてFmoc・Meβ・Ala・OH、Fmoc・Phe・OH、Fmoc・D・Arg(Pbf)・OH、Fmoc・Dmt(tBu)・OH、及び、Rink Amide Resin(C末端合成開始樹脂)(いずれも渡辺化学工業株式会社製)を用意した。固相法自動ペプチド合成装置PSSM−8(株式会社島津製作所製)を用いてFmoc/PyBOP/HOBt法によりH・Dmt(tBu)−D・Arg(Pbf)−Phe− Meβ・Ala・NH2・Resinを合成した。合成後、N末端を1MのO−Methylisourea(Sigma・Aldrich製)と4℃、24時間反応させ、Amidino−Dmt(tBu)−D・Arg(Pbf)−Phe−Meβ・Ala・NH2・Resinを合成した。次いで、90%TFA/5%anisole/5%thioanisole(v/v/v)溶液中、室温、3時間反応させResinからの切り出しと側鎖の脱保護を行った。その後、HPLCを用いて切り出したペプチドを精製した(精製純度98 %以上)。得られたペプチドについてMALDI−TOF−MS或いはLC−MSにて質量数を確認した。その結果、m/z;理論値638.5(M+H+)、実験値638.7であった。 The synthetic peptide used in Example 4 was synthesized as follows. Fmoc / Meβ / Ala / OH, Fmoc / Phe / OH, Fmoc / D / Arg (Pbf) / OH, Fmoc / Dmt (tBu) / OH, and Link Amide Resin (start of C-terminal synthesis) as reagents for peptide synthesis. Resin) (both manufactured by Watanabe Chemical Industry Co., Ltd.) were prepared. H · Dmt (tBu) -D · Arg (Pbf) -Phe- Meβ · Ala · NH 2 · by Fmoc / PyBOP / HOBt method using solid phase automatic peptide synthesizer PSSM-8 (manufactured by Shimadzu Corporation) Resin was synthesized. After synthesis, O-Methylisourea of the N-terminal 1M (manufactured by Sigma · Aldrich) and 4 ° C., allowed to react for 24 hours, Amidino-Dmt (tBu) -D · Arg (Pbf) -Phe-Meβ · Ala · NH 2 · Resin Was synthesized. Then, the reaction was carried out in a 90% TFA / 5% anisole / 5% thioanisole (v / v / v) solution at room temperature for 3 hours to cut out from Resin and deprotect the side chains. Then, the peptide cut out by HPLC was purified (purification purity of 98% or more). The mass number of the obtained peptide was confirmed by MALDI-TOF-MS or LC-MS. As a result, m / z; theoretical value 638.5 (M + H + ) and experimental value 638.7.
また、実施例5で用いた合成ペプチドは、次のようにして合成した。ペプチド合成用の試薬としてFmoc・Lys(Boc)・OH、及び、Rink Amide Resin(C末端合成開始樹脂)(いずれも渡辺化学工業株式会社製)を用意した。実施例4の合成ペプチドと同様の方法でH・Dmt(tBu)−D・Arg(Pbf)−Phe− Lys(Boc)・NH2・Resinを合成した。次いで、実施例4と同様の方法でResinからの切り出しと側鎖の脱保護を行った。その後、HPLCを用いて切り出したペプチドを精製した(精製純度98 %以上)。得られたペプチドについてMALDI−TOF−MS或いはLC−MSにて質量数を確認した。その結果、m/z; 理論値639.7(M+H+)、実験値639.7であった。 The synthetic peptide used in Example 5 was synthesized as follows. As reagents for peptide synthesis, Fmoc, Lys (Boc), OH, and Link Amide Resin (C-terminal synthesis initiation resin) (both manufactured by Watanabe Chemical Industry Co., Ltd.) were prepared. Was synthesized H · Dmt (tBu) -D · Arg (Pbf) -Phe- Lys (Boc) · NH 2 · Resin in a manner similar to the synthetic peptide of Example 4. Then, the resin was cut out and the side chain was deprotected in the same manner as in Example 4. Then, the peptide cut out by HPLC was purified (purification purity of 98% or more). The mass number of the obtained peptide was confirmed by MALDI-TOF-MS or LC-MS. As a result, the theoretical value was 639.7 (M + H + ) and the experimental value was 639.7.
1.3投与方法
起痒物質である4−メチル−ヒスタミンの投与は、測定24時間前にマウス背頚部を1cm×1cmの大きさで抜毛し、そこに50μl/マウスの割合で皮内投与(i.d.)した。抗掻痒剤は、頚部皮下投与(s.c.)、経口投与(p.o.)、又は、経皮投与(application)を行った。抗掻痒剤の頚部皮下投与(s.c.)及び経口投与(p.o.)は、0.1ml/10gの割合で行い、経皮投与(application)はマイクロピペットを用いて、20μl/マウスの割合で抜毛した背頚部に塗布することで行った。抗掻痒剤の投与量は、溶液における抗掻痒剤の濃度を変えることに調整した。
1.3 Administration method For the administration of 4-methyl-histamine, which is an pruritus substance, the back and neck of the mouse was plucked 24 hours before the measurement in a size of 1 cm × 1 cm, and the hair was intradermally administered at a rate of 50 μl / mouse. i.d.). The antipruritic agent was administered subcutaneously to the neck (s.c.), orally (po.), Or transdermally (application). Subcutaneous cervical administration (s.c.) and oral administration (po.) Of antipruritic agents were performed at a ratio of 0.1 ml / 10 g, and percutaneous administration (application) was performed using a micropipette at 20 μl / mouse. It was applied to the dorsal neck where the hair was removed at the rate of. The dose of antipruritic agent was adjusted to vary the concentration of antipruritic agent in the solution.
1.4行動観察
掻痒関連行動の観察は、後肢による引っ掻き行動(Scratching)を指標として観察した。マウスをあらかじめ測定用の透明プラスチックゲージ(22cm×15cm×12.5cm)に1匹ずつ入れ、約1時間放置して自発行動の消失を確認した後に、抗掻痒剤を投与し、所定時間経過後に、起痒物質である4−メチル−ヒスタミンを投与した。抗掻痒剤を投与した後、4−メチル−ヒスタミンを投与するまでの時間は、30分、60分、120分、又は、180分とし、表2に、After30min、After60min、After120min、又は、After180minと記載した。掻痒行動は4−メチル−ヒスタミンを皮内投与(i.d.)投与し、投与直後から30分間における引っ掻き行動(Scratching)の持続時間を計測した。
1.4 Behavioral observations The pruritus-related behaviors were observed using the scratching behavior (scratching) of the hind limbs as an index. Mice were placed one by one in a transparent plastic gauge (22 cm x 15 cm x 12.5 cm) for measurement in advance, left for about 1 hour to confirm the disappearance of self-issued behavior, and then an antipruritic agent was administered. , 4-Methyl-histamine, which is an pruritus substance, was administered. The time from administration of the antipruritic agent to administration of 4-methyl-histamine was 30 minutes, 60 minutes, 120 minutes, or 180 minutes, and Table 2 shows After30min, After60min, After120min, or After180min. Described. For pruritic behavior, 4-methyl-histamine was administered intradermally (id), and the duration of scratching behavior (Scratching) was measured for 30 minutes immediately after the administration.
1.5実験結果
図1〜図15は、各実施例において抗掻痒剤を皮下投与(s.c.)、経口投与(p.o.)又は経皮投与 (application)した時の用量反応曲線を示したものである。表2は、抗掻痒剤を皮下投与(s.c.)、経口投与(p.o.)及び経皮投与 (application)した時における4−メチル−ヒスタミンによる誘発性引っ掻き行動(scratching) の秒数に対する抑制のID50値を示したものである。なお、表2において、括弧の前に記載した数字は平均値であり、括弧の中に記載した数字は信頼限界値である。
1.5 Experimental Results Figures 1 to 15 show the dose-response curves when the antipruritic agent was subcutaneously (s.c.), orally (po.) Or transdermally (applied) in each example. Is shown. Table 2 shows the seconds of 4-methyl-histamine-induced scratching behavior when antipruritic agents were administered subcutaneously (s.c.), Orally (po.), And transdermally (application). It shows the ID 50 value of suppression with respect to the number. In Table 2, the numbers before the parentheses are the average values, and the numbers in the parentheses are the confidence limit values.
図1〜図15及び表2に示したように、各実施例についていずれも抗掻痒効果が見られた。中でも、皮下投与(s.c.)及び経口投与(p.o.)の場合には、実施例2のアミジノ−[Tyr]−[D−Arg]−[Phe]−[N−MeβAla]−OHにおいて極めて強力な引っ掻き行動(scratching)の抑制が見られた。また、経皮投与 (application)の場合には、実施例5の[2,6−ジメチル−Tyr]−[D−Arg]−[Phe]−[Lys]−アミドにおいて極めて強力な引っ掻き行動(scratching)の抑制が見られた。すなわち、本抗掻痒剤によれば、優れた抗掻痒作用を得ることができ、経口投与、及び、非経口投与のいずれにおいても高い効果を得ることができることが分かった。 As shown in FIGS. 1 to 15 and Table 2, an anti-itch effect was observed in each of the examples. Among them, in the case of subcutaneous administration (s.c.) and oral administration (po.), Amidino- [Tyrosine]-[D-Arg]-[Phe]-[N-MeβAla]-of Example 2 Extremely strong suppression of scratching behavior was observed in OH. Further, in the case of transdermal application, extremely strong scratching behavior (scratching) in [2,6-dimethyl-Tyr]-[D-Arg]-[Phe]-[Lys] -amide of Example 5 ) Was suppressed. That is, it was found that according to this antipruritic agent, an excellent antipruritic effect can be obtained, and a high effect can be obtained in both oral administration and parenteral administration.
(比較例1)
抗掻痒剤として、アミジノ−[2,6−ジメチル−Tyr]−[D−Arg]−[NH(CH2)3]−Ph(Phはフェニル基を表す)を用いたことを除き、他は実施例1〜5と同様にして抗掻痒作用を調べた。20μg/20μL貼付時及び10mg/kg経口投与時には抗掻痒作用が認められなかった。
(Comparative Example 1)
Other than the use of amidino- [2,6-dimethyl-Tyr]-[D-Arg]-[NH (CH 2 ) 3 ] -Ph (Ph represents a phenyl group) as an antipruritic agent. The antipruritic effect was examined in the same manner as in Examples 1 to 5. No antipruritic effect was observed when 20 μg / 20 μL was applied and when 10 mg / kg was orally administered.
以上、実施の形態及び実施例を挙げて本発明を説明したが、本発明は上記実施の形態及び実施例に限定されるものではなく、種々変形可能である。 Although the present invention has been described above with reference to embodiments and examples, the present invention is not limited to the above embodiments and examples, and can be variously modified.
抗掻痒剤に用いることができる。 It can be used as an antipruritic agent.
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