JP6735071B2 - Sealing resin sheet - Google Patents
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Description
本発明は、封止樹脂シートに関する。 The present invention relates to a sealing resin sheet.
今日、携帯電話等のモバイル機器の普及に伴い、電子機器に用いられる回路基板の小型化・高機能化の要望の度合いは強まっている。こうした要望に対応するべく、多層プリント配線板等における電子部品の実装密度の向上が図られており、電子部品自体の小型化や配線等の微細化が進められている。 2. Description of the Related Art Today, with the spread of mobile devices such as mobile phones, there is an increasing demand for miniaturization and high functionality of circuit boards used in electronic devices. In order to meet such demands, the packaging density of electronic components in multilayer printed wiring boards and the like has been improved, and electronic components themselves have been miniaturized and wiring and the like have been miniaturized.
多層プリント配線板の絶縁層等には、微細な電子部品や配線を充填可能なラミネート性が求められるところ、当該性能を考慮した樹脂組成物として、シアネートエステル樹脂、エポキシ樹脂、熱可塑性樹脂、タルク及びシリカを含有するプリント配線板用樹脂組成物が提案されている(特許文献1参照)。 Insulating layers and the like of multilayer printed wiring boards are required to have a laminating property capable of filling fine electronic components and wirings. As resin compositions considering such performance, cyanate ester resin, epoxy resin, thermoplastic resin, talc And a resin composition for printed wiring boards containing silica have been proposed (see Patent Document 1).
電子部品の実装密度の向上策として、電子部品自体の小型化や配線等の微細化とともに電子部品の配置についての工夫が進められている。例えば、これまで基板の表面に実装されてきた電子部品を基板の内部(厚さ方向の範囲内)に埋め込んで内蔵させる電子部品内蔵基板技術が展開されつつある。 As measures for improving the mounting density of electronic components, efforts have been made to reduce the size of electronic components themselves, miniaturize wiring, and the like, and to arrange electronic components. For example, an electronic component-embedded substrate technology for embedding and embedding an electronic component, which has been mounted on the surface of the substrate so far, inside the substrate (within the range in the thickness direction), is being developed.
電子部品内蔵基板の製造手順として、基板に設けられた開口部内に1つ以上の電子部品を配置し、開口部を覆うように封止用の封止樹脂シートを基板上に配置して、封止用の封止樹脂シートの上面側から加熱プレスして封止樹脂シートを流動させて基板の開口部を充填し、最後に封止樹脂シートを熱硬化させるという手順が検討されている。これによると、1つの基板に複数の開口部を形成し、それら開口部に所定数の電子部品を配置して基板全体を被覆可能な1枚の封止用の封止樹脂シートにより開口部及び電子部品を埋め込むことで、1つの基板に複数の電子部品を内蔵した電子部品内蔵基板を一括して作製することができる。 As a procedure for manufacturing an electronic component-embedded substrate, one or more electronic components are arranged in an opening provided in the substrate, a sealing resin sheet for sealing is arranged on the substrate so as to cover the opening, and a sealing is performed. A procedure for heating and pressing the sealing resin sheet for stopping to flow the sealing resin sheet to fill the opening of the substrate and finally to heat cure the sealing resin sheet has been studied. According to this, a plurality of openings are formed in one substrate, a predetermined number of electronic components are arranged in the openings, and the opening and By embedding electronic components, it is possible to collectively manufacture electronic component-embedded substrates in which a plurality of electronic components are embedded in one substrate.
上記のような製造手順を考慮すると、電子部品内蔵基板用の封止樹脂シートの要求特性として、基板の開口部の充填性とともに、基板上に配置した封止樹脂シートに位置ズレが生じた場合に剥離して封止樹脂シートを正しい位置に貼り直すことができる再剥離性が求められる。 In consideration of the above manufacturing procedure, when the encapsulating resin sheet placed on the substrate is misaligned, the required properties of the encapsulating resin sheet for electronic component built-in boards are the filling properties of the opening of the board. It is required to have removability so that the encapsulating resin sheet can be peeled off and reattached to the correct position.
充填性(流動性)を良くするためには封止樹脂シートの低粘度化が有効であり、低粘度化の方策としてフィラー含有量を下げることが挙げられるが、フィラー含有量を下げると有機成分の性質が強く表れる傾向にあり、この場合、有機成分に起因するタック(ベタつき)が現れて再剥離性が低下する。これに対し、フィラー含有量を上げると弾性率が高くなって再剥離性は向上するものの、封止樹脂シートの粘度が上昇し、充填性は低下することになる。このように充填性と再剥離性はトレードオフの関係にあり、これらを両立した封止樹脂シートが強く求められる。 Lowering the viscosity of the encapsulating resin sheet is effective for improving the filling property (fluidity), and reducing the filler content can be mentioned as a measure for lowering the viscosity. In this case, tackiness (stickiness) due to the organic component appears, and removability deteriorates. On the other hand, when the filler content is increased, the elastic modulus is increased and the removability is improved, but the viscosity of the sealing resin sheet is increased and the filling property is decreased. Thus, the filling property and the removability are in a trade-off relationship, and there is a strong demand for a sealing resin sheet that achieves both of them.
本発明は、充填性と再剥離性とを両立した封止樹脂シートの提供を目的とする。 It is an object of the present invention to provide a sealing resin sheet that has both filling properties and removability.
本発明者らは、鋭意検討した結果、下記構成を採用することにより上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成させた。 As a result of intensive studies, the present inventors have found that the above problems can be solved by adopting the following configuration, and have completed the present invention.
すなわち、本発明は、25℃でのタック力が150g以下であり、
50℃〜150℃の温度範囲における最低溶融粘度が50Pa・s以下である封止樹脂シートに関する。
That is, the present invention has a tack force at 25° C. of 150 g or less,
The present invention relates to a sealing resin sheet having a minimum melt viscosity of 50 Pa·s or less in a temperature range of 50°C to 150°C.
当該封止樹脂シートでは、25℃でのタック力(以下、単に「タック力」ともいう。)を150g以下としているので、良好な再剥離性を発揮することができる。同時に、50℃〜150℃の温度範囲における最低溶融粘度(以下、単に「最低溶融粘度」ともいう。)を50Pa・s以下としているので、封止樹脂シートの低粘度化が図られており、優れた充填性を発揮することができる。タック力が大きすぎると、封止樹脂シートを基板上に配置した後に剥離しようとしても基板から剥がれにくくなり、場合によっては封止樹脂シートが破損するおそれがある。最低溶融粘度に関しては、開口部の内部には電子部品が配置されるので、電子部品の表面構造はもとより、開口部の内壁と電子部品との間の空隙も密に充填する必要がある。最低溶融粘度が高すぎると、封止樹脂シートによる開口部の充填が不十分となり、開口部の内部にボイドが発生し、耐リフロー性等が低下して電子部品内蔵基板の信頼性が低下するおそれがある。 In the encapsulating resin sheet, the tack force at 25° C. (hereinafter, also simply referred to as “tack force”) is 150 g or less, so that good removability can be exhibited. At the same time, since the minimum melt viscosity in the temperature range of 50° C. to 150° C. (hereinafter, also simply referred to as “minimum melt viscosity”) is 50 Pa·s or less, the viscosity of the encapsulating resin sheet is reduced, It can exhibit excellent filling properties. If the tack force is too large, even if the sealing resin sheet is placed on the substrate and then peeled off, the sealing resin sheet is unlikely to peel off from the substrate, and the sealing resin sheet may be damaged in some cases. Regarding the minimum melt viscosity, since the electronic component is arranged inside the opening, not only the surface structure of the electronic component but also the space between the inner wall of the opening and the electronic component needs to be densely filled. If the minimum melt viscosity is too high, the opening will not be sufficiently filled with the encapsulating resin sheet, voids will occur inside the opening, and the reflow resistance etc. will decrease and the reliability of the electronic component built-in board will decrease. There is a risk.
当該封止樹脂シートは、平均粒径が0.1〜10μmである無機充填剤を含むことが好ましい。また、当該封止樹脂シートは、前記無機充填剤を前記封止樹脂シートの全固形分重量に対して65〜85重量%含むことが好ましい。これらの構成により、タック力の制御による再剥離性と最低溶融粘度の制御による充填性との両立を容易に行うことができる。 The encapsulating resin sheet preferably contains an inorganic filler having an average particle size of 0.1 to 10 μm. The encapsulating resin sheet preferably contains the inorganic filler in an amount of 65 to 85% by weight based on the total solid content of the encapsulating resin sheet. With these configurations, it is possible to easily achieve both the removability by controlling the tack force and the filling property by controlling the minimum melt viscosity.
当該封止樹脂シートは、下記化学式(1)で表わされるエポキシ樹脂を含むことが好ましい。
有機成分の中には結晶性が低く、一度熱融解した後に冷却しても融解前の結晶状態に戻らず、結晶性がより低い状態となる化合物がある。結晶性の低い有機成分では、タックが高まって再剥離性が低下する場合がある。有機成分としての上記化学式(1)で表わされるエポキシ樹脂(以下、「結晶性エポキシ樹脂」ともいう。)は熱融解後であっても結晶性が維持されるので、タックの増加を抑制することができ、再剥離性を良好なものとすることができる。 Among the organic components, there is a compound having low crystallinity, which does not return to the crystalline state before melting even if it is once melted by heating and then has a lower crystallinity. In the case of an organic component having low crystallinity, tack may increase and removability may decrease. The epoxy resin represented by the above chemical formula (1) as an organic component (hereinafter, also referred to as “crystalline epoxy resin”) maintains crystallinity even after thermal melting, and thus suppresses an increase in tack. It is possible to improve the removability.
当該封止樹脂シートでは、前記化学式(1)で表わされるエポキシ樹脂を前記封止樹脂シートの全固形分重量に対して5〜15重量%含むことが好ましい。結晶性エポキシ樹脂の含有量を上記範囲とすることで、再剥離性と充填性とをより高いレベルで発揮することができる。 The encapsulating resin sheet preferably contains the epoxy resin represented by the chemical formula (1) in an amount of 5 to 15% by weight based on the total solid weight of the encapsulating resin sheet. By setting the content of the crystalline epoxy resin within the above range, the removability and the filling property can be exhibited at a higher level.
当該封止樹脂シートでは、前記化学式(1)中、R1〜R4が全てメチル基であることが好ましい。これにより結晶性エポキシ樹脂の骨格の剛直性が高まって結晶性も高まり、良好な再剥離性をより効率良く発揮することができる。 In the encapsulating resin sheet, R1 to R4 in the chemical formula (1) are preferably all methyl groups. As a result, the rigidity of the skeleton of the crystalline epoxy resin is increased and the crystallinity is also increased, and good removability can be exhibited more efficiently.
当該封止樹脂シートは、電子部品内蔵基板における電子部品封止用であってもよく、層間絶縁用であってもよい。当該封止樹脂シートは、再剥離性と充填性とが要求されるプロセスに好適に適用可能である。 The encapsulating resin sheet may be for encapsulating electronic components in an electronic component built-in substrate or for interlayer insulation. The encapsulating resin sheet can be suitably applied to a process that requires removability and filling properties.
以下、本発明の一実施形態に係る偏光板について、図面を参照しながら説明する。ただし、図の一部又は全部において、説明に不要な部分は省略し、また説明を容易にするために拡大または縮小等して図示した部分がある。 Hereinafter, a polarizing plate according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. However, in some or all of the drawings, portions unnecessary for description are omitted, and there are portions illustrated in an enlarged or reduced form for ease of explanation.
《封止樹脂シート》
本発明の一実施形態に係る封止樹脂シート3(図1D参照)は、一定の厚さを有するシート状物であり、その平面視形状は、円形、矩形、正方形等、基板形状に合わせて適宜選択することができる。封止樹脂シート3は、代表的に、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムなどの支持体(図示せず)上に積層された状態で提供される。なお、支持体には封止樹脂シート3の剥離を容易に行うために離型処理が施されていてもよい。
<Sealing resin sheet>
The encapsulating resin sheet 3 (see FIG. 1D) according to one embodiment of the present invention is a sheet-like object having a constant thickness, and its plan view shape is a circle, a rectangle, a square, or the like in accordance with the substrate shape. It can be appropriately selected. Sealing resin sheet 3 is typically provided in a state of being laminated on a support (not shown) such as a polyethylene terephthalate (PET) film. It should be noted that the support may be subjected to a mold release treatment in order to easily peel off the sealing resin sheet 3.
封止樹脂シートの25℃でのタック力は150g以下であることが好ましく、140g以下がより好ましく、130g以下がさらに好ましい。タック力を上記範囲とすることで良好な再剥離性を達成することができる。なお、タック力は小さいほど好ましいが、封止樹脂シートを基板に配置した後の作業性や充填性(流動性)等の観点から、0g以上が好ましく、5g以上がより好ましい。 The tack force at 25° C. of the sealing resin sheet is preferably 150 g or less, more preferably 140 g or less, and further preferably 130 g or less. When the tack force is within the above range, good removability can be achieved. The smaller the tacking force is, the more preferable. However, from the viewpoint of workability and filling property (fluidity) after placing the encapsulating resin sheet on the substrate, 0 g or more is preferable, and 5 g or more is more preferable.
封止樹脂シート3の50℃〜150℃の温度範囲における最低溶融粘度は50Pa・s以下が好ましく、40Pa・s以下がより好ましく、30Pa・s以下がさらに好ましい。封止樹脂シート3の最低溶融粘度を上記範囲とすることにより、基板の開口部への充填性を向上させてボイドの発生を抑制することができ、信頼性の高い電子部品内蔵基板を得ることができる。一方、最低溶融粘度が低すぎると、シート形状の維持が困難となったり、常温でのタック力が上昇したりするおそれがあることから、1Pa・s以上が好ましく、3Pa・s以上がより好ましい。 The minimum melt viscosity of the sealing resin sheet 3 in the temperature range of 50° C. to 150° C. is preferably 50 Pa·s or less, more preferably 40 Pa·s or less, further preferably 30 Pa·s or less. By setting the minimum melt viscosity of the encapsulating resin sheet 3 within the above range, it is possible to improve the filling property into the opening of the substrate and suppress the generation of voids, and to obtain a highly reliable electronic component-containing substrate. You can On the other hand, if the minimum melt viscosity is too low, it may be difficult to maintain the sheet shape or the tack force at room temperature may increase, so 1 Pa·s or more is preferable, and 3 Pa·s or more is more preferable. ..
封止樹脂シート3はエポキシ樹脂、及びフェノール樹脂を含むことが好ましい。これにより、良好な熱硬化性が得られる。 The sealing resin sheet 3 preferably contains an epoxy resin and a phenol resin. Thereby, good thermosetting property can be obtained.
エポキシ樹脂としては、特に限定されるものではない。例えば、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、変性ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、変性ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂などの各種のエポキシ樹脂を用いることができる。これらエポキシ樹脂は単独で用いてもよいし2種以上併用してもよい。 The epoxy resin is not particularly limited. For example, triphenylmethane type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, modified bisphenol A type epoxy resin, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, modified bisphenol F type epoxy resin, dicyclopentadiene type Various epoxy resins such as epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, and phenoxy resin can be used. These epoxy resins may be used alone or in combination of two or more kinds.
エポキシ樹脂の硬化後の靭性及びエポキシ樹脂の反応性を確保する観点からは、エポキシ当量150〜250、軟化点もしくは融点が50〜130℃の常温で固形のものが好ましく、信頼性の観点から、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂がより好ましい。中でも、ビフェニル型エポキシ樹脂が好ましく、特に、下記化学式(1)で表わされるエポキシ樹脂を含むことが好ましい。
有機成分の中には結晶性が低く、一度熱融解した後に冷却しても融解前の結晶状態に戻らず、結晶性がより低い状態となる化合物がある。結晶性の低い有機成分では、タックが高まって再剥離性が低下する場合がある。有機成分としての上記化学式(1)で表わされるエポキシ樹脂は熱融解後であっても結晶性が維持されるので、タックの増加を抑制することができ、再剥離性を良好なものとすることができる。 Among the organic components, there is a compound having low crystallinity, which does not return to the crystalline state before melting even if it is once melted by heating and then has a lower crystallinity. In the case of an organic component having low crystallinity, tack may increase and removability may decrease. Since the epoxy resin represented by the above chemical formula (1) as an organic component retains its crystallinity even after being melted by heat, it is possible to suppress an increase in tack and to improve removability. You can
封止樹脂シートは、前記化学式(1)で表わされるエポキシ樹脂を前記封止樹脂シートの全固形分重量に対して5〜15重量%含むことが好ましく、8〜12重量%含むことがより好ましい。結晶性エポキシ樹脂の含有量を上記範囲とすることで、再剥離性と充填性とをより高いレベルで発揮することができる。 The encapsulating resin sheet preferably contains the epoxy resin represented by the chemical formula (1) in an amount of 5 to 15% by weight, more preferably 8 to 12% by weight, based on the total solid content of the encapsulating resin sheet. .. By setting the content of the crystalline epoxy resin within the above range, the removability and the filling property can be exhibited at a higher level.
当該封止樹脂シートでは、前記化学式(1)中、R1〜R4が全てメチル基であることが好ましい。これにより結晶性エポキシ樹脂の骨格の剛直性が高まって結晶性も高まり、良好な再剥離性をより効率良く発揮することができる。 In the encapsulating resin sheet, R1 to R4 in the chemical formula (1) are preferably all methyl groups. As a result, the rigidity of the skeleton of the crystalline epoxy resin is increased and the crystallinity is also increased, and good removability can be exhibited more efficiently.
フェノール樹脂は、エポキシ樹脂との間で硬化反応を生起するものであれば特に限定されるものではない。例えば、フェノールノボラック樹脂、フェノールアラルキル樹脂、ビフェニルアラルキル樹脂、ジシクロペンタジエン型フェノール樹脂、クレゾールノボラック樹脂、レゾール樹脂などが用いられる。これらフェノール樹脂は単独で用いてもよいし、2種以上併用してもよい。 The phenol resin is not particularly limited as long as it causes a curing reaction with the epoxy resin. For example, a phenol novolac resin, a phenol aralkyl resin, a biphenyl aralkyl resin, a dicyclopentadiene type phenol resin, a cresol novolac resin, a resole resin or the like is used. These phenol resins may be used alone or in combination of two or more.
フェノール樹脂としては、エポキシ樹脂との反応性の観点から、水酸基当量が70〜250、軟化点が50〜110℃のものを用いることが好ましく、なかでも硬化反応性が高いという観点から、フェノールノボラック樹脂を好適に用いることができる。また、信頼性の観点から、フェノールアラルキル樹脂やビフェニルアラルキル樹脂のような低吸湿性のものも好適に用いることができる。 From the viewpoint of reactivity with the epoxy resin, it is preferable to use a phenol resin having a hydroxyl group equivalent of 70 to 250 and a softening point of 50 to 110° C. Among them, phenol novolac is preferable from the viewpoint of high curing reactivity. Resin can be used suitably. Further, from the viewpoint of reliability, low hygroscopic materials such as phenol aralkyl resin and biphenyl aralkyl resin can be preferably used.
エポキシ樹脂とフェノール樹脂の配合割合は、硬化反応性という観点から、エポキシ樹脂中のエポキシ基1当量に対して、フェノール樹脂中の水酸基の合計が0.7〜1.5当量となるように配合することが好ましく、より好ましくは0.9〜1.2当量である。 From the viewpoint of curing reactivity, the mixing ratio of the epoxy resin and the phenol resin is such that the total amount of hydroxyl groups in the phenol resin is 0.7 to 1.5 equivalents relative to 1 equivalent of the epoxy groups in the epoxy resin. The amount is preferably 0.9 to 1.2 equivalents.
封止樹脂シート中のエポキシ樹脂及びフェノール樹脂の合計含有量の下限は、10重量%以上が好ましく、12重量%以上がより好ましい。10重量%以上であると、電子デバイス、基板などに対する接着力が良好に得られる。一方、上記合計含有量の上限は30重量%以下が好ましく、28重量%以下がより好ましい。30重量%以下であると、封止樹脂シートの吸湿性を低減させることができる。 The lower limit of the total content of the epoxy resin and the phenol resin in the encapsulating resin sheet is preferably 10% by weight or more, more preferably 12% by weight or more. When it is at least 10% by weight, good adhesion to electronic devices, substrates and the like can be obtained. On the other hand, the upper limit of the total content is preferably 30% by weight or less, more preferably 28% by weight or less. When it is 30% by weight or less, the hygroscopicity of the sealing resin sheet can be reduced.
封止樹脂シート3は、耐溶剤性が満たされる限り熱可塑性樹脂を含んでいてもよい。 The sealing resin sheet 3 may contain a thermoplastic resin as long as the solvent resistance is satisfied.
封止樹脂シートは無機充填剤を含むことが好ましい。無機充填剤の形状は特に限定されず、球状(楕円体状を含む。)、多面体状、多角柱状、不定形状等の任意の形状であってもよいが、中空構造付近での高充填状態の達成や適度な流動性の観点から、球状が好ましい。 The encapsulating resin sheet preferably contains an inorganic filler. The shape of the inorganic filler is not particularly limited, and may be any shape such as spherical shape (including ellipsoidal shape), polyhedral shape, polygonal columnar shape, and indefinite shape. From the viewpoint of achievement and proper fluidity, spherical shape is preferable.
無機質充填剤は、特に限定されるものではなく、従来公知の各種充填剤を用いることができ、例えば、石英ガラス、タルク、シリカ(溶融シリカや結晶性シリカなど)、アルミナ、窒化アルミニウム、窒化珪素、窒化ホウ素の粉末が挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、2種以上併用してもよい。なかでも、線膨張係数を良好に低減できるという理由から、シリカ、アルミナが好ましく、シリカがより好ましい。 The inorganic filler is not particularly limited, and various conventionally known fillers can be used. Examples thereof include quartz glass, talc, silica (such as fused silica and crystalline silica), alumina, aluminum nitride, and silicon nitride. , And boron nitride powder. These may be used alone or in combination of two or more. Among them, silica and alumina are preferable, and silica is more preferable, because the linear expansion coefficient can be favorably reduced.
シリカとしては、シリカ粉末が好ましく、溶融シリカ粉末がより好ましい。溶融シリカ粉末としては、球状溶融シリカ粉末、破砕溶融シリカ粉末が挙げられるが、流動性という観点から、球状溶融シリカ粉末が好ましい。 As silica, silica powder is preferable, and fused silica powder is more preferable. Examples of the fused silica powder include spherical fused silica powder and crushed fused silica powder, and spherical fused silica powder is preferable from the viewpoint of fluidity.
無機充填剤の平均粒径は0.1〜10μmの範囲のものを用いることが好ましく、0.5〜5μmの範囲のものを用いることがより好ましい。なお、平均粒径は、母集団から任意に抽出される試料を用い、レーザー回折散乱式粒度分布測定装置を用いて測定することにより導き出すことができる。無機充填剤の平均粒径が小さすぎると、封止樹脂シートの粘度が高くなって充填性が低下したりタック力が増加したりする傾向があり、大きすぎると、基板の開口部における空隙の充填が不十分になる場合がある。 The average particle diameter of the inorganic filler is preferably in the range of 0.1 to 10 μm, more preferably 0.5 to 5 μm. The average particle size can be derived by using a sample arbitrarily extracted from the population and using a laser diffraction/scattering particle size distribution measuring device. If the average particle size of the inorganic filler is too small, the viscosity of the encapsulating resin sheet tends to be high, and the filling property tends to be low or the tack force tends to increase, and if it is too large, the voids in the openings of the substrate The filling may be insufficient.
封止樹脂シートは、前記無機充填剤を前記封止樹脂シートの全固形分重量に対して65〜85重量%含むことが好ましく、70〜83重量%含むことがより好ましい。無機充填剤の含有量を上記範囲とすることにより、タック力の制御による再剥離性と最低溶融粘度の制御による充填性との両立を容易に行うことができる。 The encapsulating resin sheet preferably contains the inorganic filler in an amount of 65 to 85% by weight, and more preferably 70 to 83% by weight, based on the total solid weight of the encapsulating resin sheet. By setting the content of the inorganic filler in the above range, it is possible to easily achieve both the removability by controlling the tack force and the filling property by controlling the minimum melt viscosity.
封止樹脂シート3は、硬化促進剤を含むことが好ましい。 The encapsulating resin sheet 3 preferably contains a curing accelerator.
硬化促進剤としては、エポキシ樹脂とフェノール樹脂の硬化を進行させるものであれば特に限定されず、例えば、トリフェニルホスフィン、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレートなどの有機リン系化合物;2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾールなどのイミダゾール系化合物;などが挙げられる。なかでも、混練時の温度上昇によっても硬化反応が急激に進まず、封止樹脂シート3を良好に作製できるという理由から、2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾールが好ましい。 The curing accelerator is not particularly limited as long as it accelerates the curing of the epoxy resin and the phenol resin, and examples thereof include organophosphorus compounds such as triphenylphosphine and tetraphenylphosphonium tetraphenylborate; 2-phenyl-4, Imidazole compounds such as 5-dihydroxymethylimidazole and 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole; and the like. Among them, 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole is preferable because the curing reaction does not rapidly proceed even when the temperature rises during kneading and the encapsulating resin sheet 3 can be produced well.
硬化促進剤の含有量は、エポキシ樹脂及びフェノール樹脂の合計100重量部に対して0.1〜5重量部が好ましい。 The content of the curing accelerator is preferably 0.1 to 5 parts by weight based on 100 parts by weight of the total of the epoxy resin and the phenol resin.
封止樹脂シート3は、難燃剤成分を含むことが好ましい。これにより、部品ショートや発熱などにより発火した際の、燃焼拡大を低減できる。難燃剤組成分としては、例えば水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、水酸化鉄、水酸化カルシウム、水酸化スズ、複合化金属水酸化物などの各種金属水酸化物;ホスファゼン系難燃剤などを用いることができる。 The encapsulating resin sheet 3 preferably contains a flame retardant component. As a result, it is possible to reduce the spread of combustion when a component is short-circuited or heat is generated. As the flame retardant composition, for example, various metal hydroxides such as aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, iron hydroxide, calcium hydroxide, tin hydroxide and complex metal hydroxides; phosphazene flame retardants should be used. You can
封止樹脂シート3は、シランカップリング剤を含むことが好ましい。シランカップリング剤としては特に限定されず、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。 The encapsulating resin sheet 3 preferably contains a silane coupling agent. The silane coupling agent is not particularly limited, and examples thereof include 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane.
封止樹脂シート3中のシランカップリング剤の含有量は、0.1〜3重量%が好ましい。上記含有量が0.1重量%以上であると、硬化後の封止樹脂シートの強度を高めることができるとともに、吸水率を低減させることができる。一方、上記含有量が3重量%以下であると、アウトガスの発生を抑制することができる。 The content of the silane coupling agent in the sealing resin sheet 3 is preferably 0.1 to 3% by weight. When the content is 0.1% by weight or more, the strength of the encapsulating resin sheet after curing can be increased and the water absorption rate can be reduced. On the other hand, when the content is 3% by weight or less, generation of outgas can be suppressed.
封止樹脂シート3は、顔料を含むことが好ましい。顔料としては特に限定されず、カーボンブラックなどが挙げられる。 The encapsulating resin sheet 3 preferably contains a pigment. The pigment is not particularly limited, and examples thereof include carbon black.
封止樹脂シート3中の顔料の含有量は、0.1〜2重量%が好ましい。0.1重量%以上であると、良好なマーキング性が得られる。一方、2重量%以下であると、硬化後の封止樹脂シートの強度を確保することができる。 The content of the pigment in the sealing resin sheet 3 is preferably 0.1 to 2% by weight. Good marking properties are obtained as it is 0.1% by weight or more. On the other hand, when the content is 2% by weight or less, the strength of the cured encapsulating resin sheet can be secured.
なお、樹脂組成物には、上記の各成分以外に必要に応じて、他の添加剤を適宜配合できる。 In addition to the above components, other additives may be appropriately added to the resin composition, if necessary.
《封止樹脂シートの製造方法》
封止樹脂シート3の製造方法は特に限定されないが、混練物を調製し、得られた混練物をシート状に加工する方法が好ましい。具体的には、上述の各成分をミキシングロール、加圧式ニーダー、押出機などの公知の混練機で溶融混練することにより混練物を調製し、得られた混練物をシート状に加工する。混練条件として、温度は、上述の各成分の軟化点以上であることが好ましく、例えば30〜150℃、エポキシ樹脂の熱硬化性を考慮すると、好ましくは40〜140℃、さらに好ましくは60〜120℃である。時間は、例えば1〜30分間、好ましくは5〜15分間である。
<<Method for manufacturing encapsulating resin sheet>>
The method for producing the encapsulating resin sheet 3 is not particularly limited, but a method of preparing a kneaded product and processing the obtained kneaded product into a sheet shape is preferable. Specifically, the above-mentioned components are melt-kneaded by a known kneader such as a mixing roll, a pressure kneader and an extruder to prepare a kneaded product, and the obtained kneaded product is processed into a sheet. As the kneading conditions, the temperature is preferably equal to or higher than the softening point of each component described above, for example, 30 to 150° C., considering the thermosetting property of the epoxy resin, preferably 40 to 140° C., more preferably 60 to 120° C. ℃. The time is, for example, 1 to 30 minutes, preferably 5 to 15 minutes.
混練は、減圧条件下(減圧雰囲気下)で行うことが好ましい。減圧条件下の圧力の上限は、好ましくは0.1kg/cm2以下、より好ましくは0.05kg/cm2以下である。減圧条件下の圧力の下限は低いほど好ましいが、生産性や物理的限界から、1×10−4kg/cm2以上であってもよい。これにより、混練物への気体の混入を防止でき、得られる混練物における気孔の発生を抑制することができる。 The kneading is preferably performed under reduced pressure conditions (under reduced pressure atmosphere). The upper limit of the pressure under the reduced pressure condition is preferably 0.1 kg/cm 2 or less, more preferably 0.05 kg/cm 2 or less. The lower the lower limit of the pressure under the reduced pressure condition is, the more preferable, but it may be 1×10 −4 kg/cm 2 or more in view of productivity and physical limit. As a result, it is possible to prevent gas from being mixed into the kneaded product, and to suppress the generation of pores in the obtained kneaded product.
溶融混練後の混練物は、冷却することなく高温状態のままで加工することが好ましい。加工方法としては特に制限されず、平板プレス法、Tダイ押出法、ロール圧延法、ロール混練法、インフレーション押出法、共押出法、カレンダー成形法などなどが挙げられる。加工温度としては上述の各成分の軟化点以上が好ましく、エポキシ樹脂の熱硬化性および成形性を考慮すると、例えば40〜150℃、好ましくは50〜140℃、さらに好ましくは70〜120℃である。 The kneaded product after melt-kneading is preferably processed in a high temperature state without cooling. The processing method is not particularly limited, and examples thereof include a flat plate pressing method, a T-die extrusion method, a roll rolling method, a roll kneading method, an inflation extrusion method, a coextrusion method, and a calender molding method. The processing temperature is preferably equal to or higher than the softening point of each component described above, and is 40 to 150° C., preferably 50 to 140° C., more preferably 70 to 120° C. in consideration of the thermosetting property and moldability of the epoxy resin. ..
封止樹脂シート3の厚さは特に限定されないが、50〜700μmであることが好ましい。上記範囲内であると、良好に基板の開口部を充填することができる。また、封止樹脂シートを薄型にすることで、発熱量を低減でき、硬化収縮が起こりにくくなる。この結果、パッケージ反り量を低減でき、より信頼性の高い電子部品内蔵基板が得られる。 The thickness of the sealing resin sheet 3 is not particularly limited, but is preferably 50 to 700 μm. Within the above range, it is possible to satisfactorily fill the opening of the substrate. Further, by making the sealing resin sheet thin, the amount of heat generated can be reduced, and curing shrinkage hardly occurs. As a result, the amount of package warpage can be reduced, and a more reliable electronic component built-in substrate can be obtained.
封止樹脂シート3は、単層構造であってもよいし、2以上の封止樹脂シートを積層した多層構造であってもよいが、層間剥離のおそれがなく、シート厚の均一性が高く、低吸湿化し易いという理由から、単層構造が好ましい。 The encapsulating resin sheet 3 may have a single-layer structure or a multi-layer structure in which two or more encapsulating resin sheets are laminated, but there is no fear of delamination, and the sheet thickness is highly uniform. A single-layer structure is preferable because it easily lowers moisture absorption.
封止樹脂シート3は、上述のように電子部品内蔵基板における電子部品封止用であってもよく、多層回路基板における層間絶縁用であってもよい。さらに、SAW(Surface Acoustic Wave)フィルタ;圧力センサ、振動センサなどのMEMS(Micro Electro Mechanical Systems);LSIなどのIC、トランジスタなどの半導体;コンデンサ;抵抗;CMOSセンサなどの表面実装型の電子デバイスの封止に使用することもできる。 The encapsulating resin sheet 3 may be for encapsulating electronic components in the electronic component built-in board as described above, or for interlayer insulation in a multilayer circuit board. Further, a SAW (Surface Acoustic Wave) filter; a MEMS (Micro Electro Mechanical Systems) such as a pressure sensor and a vibration sensor; an IC such as an LSI; a semiconductor such as a transistor; a capacitor; a resistor; a surface mount type electronic device such as a CMOS sensor. It can also be used for sealing.
《電子部品内蔵基板の製造方法》
図1A〜図1Eはそれぞれ、本発明の一実施形態に係る電子部品内蔵基板の製造方法の一工程を模式的に示す図である。電子部品内蔵基板の製造手順としては特に限定されないものの、基板1に設けられた開口部O内に1つ以上の電子部品2を配置し、開口部Oを覆うように封止樹脂シート3を基板1上に配置して、封止樹脂シート3の上面側から加熱プレスして封止樹脂シートを流動させて基板1の開口部Oを充填し、封止樹脂シート3を熱硬化させるという手順を好適に採用することができる。
<< Manufacturing method of electronic component built-in board >>
1A to 1E are diagrams schematically showing one step of a method for manufacturing an electronic component-embedded substrate according to an embodiment of the present invention. Although the manufacturing procedure of the electronic component built-in substrate is not particularly limited, one or more
(基板準備工程)
基板1(図1A参照)としては特に限定されず、例えば、銅基板等の金属基板、(多層)プリント配線基板、セラミック基板、シリコン基板等が挙げられる。
(Substrate preparation process)
The substrate 1 (see FIG. 1A) is not particularly limited, and examples thereof include a metal substrate such as a copper substrate, a (multilayer) printed wiring board, a ceramic substrate, and a silicon substrate.
(開口部形成工程)
次に、基板1に開口部Oを形成する(図1B参照)。開口部Oの形成方法は特に限定されず、エッチングやレーザー加工、打ち抜き加工等が挙げられる。1つの基板に対して形成する開口部の数も特に限定されず、目的とする電子部品内蔵基板の設計に応じて適宜変更すればよい。
(Opening process)
Next, the opening O is formed in the substrate 1 (see FIG. 1B). The method of forming the opening O is not particularly limited, and examples thereof include etching, laser processing, and punching processing. The number of openings formed on one substrate is not particularly limited, and may be appropriately changed according to the intended design of the electronic component built-in substrate.
(電子部品配置工程)
図1Cに示すように、基板1に形成した開口部Oの内部に1つ以上の電子部品2を配置する。電子部品としても何ら限定されず、半導体チップやコンデンサ、センサデバイス、発光素子、振動素子等、任意の電子部品を用いることができる。図1Cにおいては、1つの開口部Oに対して1つの電子部品2を配置しているものの、1つの開口部に対して配置する電子部品の数は1つに限定されず、目的とする電子部品内蔵基板の設計に応じて適宜変更すればよい。
(Electronic component placement process)
As shown in FIG. 1C, one or more
(充填工程)
充填工程では、図1D及び図1Eに示すように、開口部Oを覆うように基板1上に封止樹脂シート3を積層し、次いで、封止樹脂シート3の上面側から加熱プレスして封止樹脂シート3を流動させて基板1の開口部Oを充填し、充填後、封止樹脂シート3を熱硬化させる。
(Filling process)
In the filling step, as shown in FIGS. 1D and 1E, the encapsulating resin sheet 3 is laminated on the
封止樹脂シート3を加熱プレスして開口部Oを充填する際の加熱プレス条件としては、温度が、例えば、50〜100℃、好ましくは60〜90℃であり、圧力が、例えば、0.1〜3.0MPa、好ましくは0.5〜2.5MPaであり、時間が、例えば5〜120分間、好ましくは10〜60分間である。また、開口部Oの内壁及び電子部品2への封止樹脂シート3の密着性および追従性の向上を考慮すると、減圧条件下(例えばゲージ圧として−90〜−100kPaG)においてプレスすることが好ましい。
As the hot pressing conditions for hot pressing the encapsulating resin sheet 3 to fill the openings O, the temperature is, for example, 50 to 100° C., preferably 60 to 90° C., and the pressure is, for example, 0. It is 1 to 3.0 MPa, preferably 0.5 to 2.5 MPa, and the time is, for example, 5 to 120 minutes, preferably 10 to 60 minutes. Further, in consideration of the improvement in adhesion and followability of the encapsulating resin sheet 3 to the inner wall of the opening O and the
開口部の埋め込みが完了した後、封止樹脂シート3を熱硬化処理する。熱硬化処理の条件として、加熱温度が好ましくは100℃以上、より好ましくは120℃以上である。一方、加熱温度の上限が、好ましくは200℃以下、より好ましくは190℃以下である。加熱時間が、好ましくは5分以上、より好ましくは10分以上である。一方、加熱時間の上限が、好ましくは120分以下、より好ましくは60分以下である。また、必要に応じて加圧してもよく、好ましくは0.5MPa以上、より好ましくは1.0MPa以上である。一方、上限は好ましくは5.0MPa以下、より好ましくは3.0MPa以下である。これにより、基板1の内部に電子部品2が埋め込まれた電子部品内蔵基板10が得られる。
After the filling of the opening is completed, the encapsulating resin sheet 3 is heat-cured. As a condition for the thermosetting treatment, the heating temperature is preferably 100° C. or higher, more preferably 120° C. or higher. On the other hand, the upper limit of the heating temperature is preferably 200°C or lower, more preferably 190°C or lower. The heating time is preferably 5 minutes or longer, more preferably 10 minutes or longer. On the other hand, the upper limit of the heating time is preferably 120 minutes or less, more preferably 60 minutes or less. In addition, the pressure may be increased if necessary, preferably 0.5 MPa or more, more preferably 1.0 MPa or more. On the other hand, the upper limit is preferably 5.0 MPa or less, more preferably 3.0 MPa or less. Thereby, the electronic component built-in
以下に、この発明の好適な実施例を例示的に詳しく説明する。ただし、この実施例に記載されている材料や配合量などは、特に限定的な記載がない限りは、この発明の範囲をそれらのみに限定する趣旨のものではない。 Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be illustratively described in detail. However, the materials, compounding amounts, and the like described in this example are not intended to limit the scope of the present invention to them unless otherwise specified.
実施例で使用した成分について説明する。
エポキシ樹脂1:三菱化学社製のYX4000H(ビフェニル型エポキシ樹脂、エポキシ当量190g/eq.)
エポキシ樹脂2:新日鐵化学(株)製のYSLV−80XY(ビスフェノールF型エポキシ樹脂、エポキン当量200g/eq.)
エポキシ樹脂3:三菱化学社製のエピコート828(エポキシ当量190g/eq.)
フェノール樹脂1:明和化成社製のMEH−7500−3S(水酸基当量103g/eq.)
フェノール樹脂2:明和化成社製のMEH−7851−SS(ビフェニルアラルキル骨格を有するフェノール樹脂、水酸基当量203g/eq.)
熱可塑性樹脂:(株)カネカ製のSIBSTER 072T(スチレン−イソブチレン−スチレンブロック共重合体)
無機充填剤1:電気化学工業社製のFB−5SDC(溶融球状シリカ、平均粒子径5μm)
無機充填剤2:電気化学工業社製のFB−9454FC(溶融球状シリカ、平均粒子径17μm)
無機充填剤3:(株)アドマテックス製のSO−25R(溶融球状シリカ、平均粒子径0.5μm)
カーボンブラック:三菱化学社製の#20
硬化促進剤:四国化成工業社製の2PHZ−PW(2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾール)
シランカップリング剤:信越化学社製のKBM−403(3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン)
The components used in the examples will be described.
Epoxy resin 1: YX4000H (biphenyl type epoxy resin, epoxy equivalent 190 g/eq.) manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation.
Epoxy resin 2: YSLV-80XY (bisphenol F type epoxy resin, Epokin equivalent 200 g/eq.) manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.
Epoxy resin 3: Epicoat 828 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation (epoxy equivalent 190 g/eq.)
Phenolic resin 1: MEH-7500-3S manufactured by Meiwa Kasei Co. (hydroxyl group equivalent 103 g/eq.)
Phenol resin 2: MEH-7851-SS (phenol resin having a biphenylaralkyl skeleton, hydroxyl equivalent 203 g/eq.) manufactured by Meiwa Kasei Co., Ltd.
Thermoplastic resin: SIBSTER 072T (styrene-isobutylene-styrene block copolymer) manufactured by Kaneka Corporation
Inorganic filler 1: FB-5SDC manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd. (fused spherical silica, average particle size 5 μm)
Inorganic filler 2: FB-9454FC manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd. (fused spherical silica, average particle size 17 μm)
Inorganic filler 3: SO-25R (fused spherical silica, average particle size 0.5 μm) manufactured by Admatechs Co., Ltd.
Carbon black: Mitsubishi Chemical Corporation #20
Curing accelerator: 2PHZ-PW (2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole) manufactured by Shikoku Chemicals Co., Ltd.
Silane coupling agent: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. KBM-403 (3-glycidoxypropyltrimethoxysilane)
[実施例1〜4及び比較例1〜3]
表1に記載の配合比に従い、各成分を配合し、ロール混練機により60〜120℃、10分間、減圧条件下(0.01kg/cm2)で溶融混練し、混練物を調製した。次いで、得られた混練物を平板プレス法によりシート状(100mm×100mm)に成形して、厚さ200μmの封止樹脂シートを作製した。
[Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3]
Each component was blended according to the blending ratio shown in Table 1 and melt-kneaded under reduced pressure (0.01 kg/cm 2 ) at 60 to 120° C. for 10 minutes by a roll kneader to prepare a kneaded product. Next, the obtained kneaded product was molded into a sheet shape (100 mm×100 mm) by a flat plate pressing method to prepare a sealing resin sheet having a thickness of 200 μm.
(評価)
作製した封止樹脂シートについて、以下の項目を評価した。結果を表1に示す。
(Evaluation)
The following items were evaluated with respect to the produced sealing resin sheet. The results are shown in Table 1.
(最低溶融粘度)
各封止樹脂シートから直径25mmの円形に打ち抜いたものを5枚積層し、直径25mm、厚さ1mmの円柱形の測定サンプルを作製した。この測定サンプルについて、最低溶融粘度を、Rheometric Scientific社製の粘弾性測定装置「ARES」(測定条件:測定温度範囲50〜150℃、昇温速度10℃/min、周波数1Hz、ひずみ量10%)で粘度変化を追跡した際、粘度の最低値を測定した。
(Minimum melt viscosity)
Five pieces, each having a diameter of 25 mm and punched out in a circular shape, were laminated to form a cylindrical measurement sample having a diameter of 25 mm and a thickness of 1 mm. About this measurement sample, the minimum melt viscosity was measured by a rheometric scientific viscoelasticity measuring device “ARES” (measurement conditions: measurement temperature range 50 to 150° C.,
(タック力)
未硬化の各封止樹脂シートから直径25mmの円形に打ち抜いたものを測定サンプル(直径25mm、厚さ200μm)とした。評価装置としてRSA3(TA Instruments社製)を用い、パラレルプレート圧縮ジオメトリ(TA Instruments社製)の上側プレート(直径8mm)と下側プレート(直径25mm)との間に挟み込んだサンプルから上側プレートが離れた際の荷重を測定してタック力とした。具体的には、測定サンプルの片面に両面テープを貼り付け、テープ面を治具の下側プレートに貼りつけた。その状態のまま、サンプル周囲温度を25℃に安定させるために5分間保持し、上側プレートを測定サンプルに僅かに接触する距離まで近づけた。そこからさらに上側プレートを測定サンプルに押し当て、上側プレートに100Nの荷重が加わった時点で、上側プレートが測定サンプルから離れるように上側プレートの動きを反転させた。上側プレートが測定サンプルから離れた際の最大荷重(接着力)をタック力とした。
(Tack force)
A measurement sample (diameter 25 mm, thickness 200 μm) was obtained by punching each uncured sealing resin sheet into a circular shape having a diameter of 25 mm. RSA3 (manufactured by TA Instruments) was used as an evaluation device, and the upper plate separated from the sample sandwiched between the upper plate (diameter 8 mm) and the lower plate (diameter 25 mm) of the parallel plate compression geometry (manufactured by TA Instruments). The load at that time was measured and used as the tack force. Specifically, a double-sided tape was attached to one surface of the measurement sample, and the tape surface was attached to the lower plate of the jig. In that state, the sample ambient temperature was held for 5 minutes to stabilize the sample ambient temperature at 25° C., and the upper plate was brought close to the measurement sample until a slight contact was made. From there, the upper plate was further pressed against the measurement sample, and when a load of 100 N was applied to the upper plate, the movement of the upper plate was reversed so that the upper plate was separated from the measurement sample. The maximum load (adhesive force) when the upper plate separated from the measurement sample was taken as the tack force.
(再剥離性)
室温(25℃)条件下、100×100mm四方、厚さ0.5mmのSUS板の上に各封止樹脂シートをセパレータを剥離した状態で配置し、3分静置した。その後、封止樹脂シートの破断、割れ、残渣を生じることなく封止樹脂シートをSUS板から再び剥離することができた場合を「○」、封止樹脂シートの破断、割れ、残渣が生じた場合を「×」として評価した。
(Removability)
Under room temperature (25° C.) conditions, each encapsulating resin sheet was placed on a 100×100 mm square, 0.5 mm thick SUS plate in a state where the separator was peeled off, and allowed to stand for 3 minutes. After that, when the sealing resin sheet could be peeled again from the SUS plate without breaking, cracking, or residue of the sealing resin sheet, "○" was given, and the sealing resin sheet had breakage, cracking, or residue. The case was evaluated as "x".
(樹脂充填性)
150mm×150mmの銅板(厚さ500μm)にエッチングで10mm×8mmのパターン(開口部)を作製した。パターンニングされた銅板の上に封止樹脂シートを設置し、100℃で100kN、30秒の真空プレスを行いパターン(開口部)内に樹脂を充填させた。その後、光学顕微鏡(20倍)でパターン(開口部)内の表裏面を観察し、ボイドが発生してないか、ボイドの最大径が1μm以下の場合は「○」、ボイドの最大径が1μmを超えていた場合は「×」として評価した。
(Resin filling property)
A 10 mm×8 mm pattern (opening) was formed on a 150 mm×150 mm copper plate (thickness: 500 μm) by etching. The encapsulating resin sheet was placed on the patterned copper plate, and vacuum-pressed at 100° C. for 100 kN for 30 seconds to fill the resin in the pattern (opening). Then, observe the front and back surfaces in the pattern (opening) with an optical microscope (20 times), and if there are no voids or if the maximum diameter of the void is 1 μm or less, “◯”, the maximum diameter of the void is 1 μm. When it exceeded, it was evaluated as "x".
表1から分かるように、実施例1〜4の封止樹脂シートでは、再剥離性及び樹脂充填性がともに良好であった。一方、比較例1〜3では、再剥離性及び樹脂充填性のいずれか又は両方が劣る結果となった。 As can be seen from Table 1, in the encapsulating resin sheets of Examples 1 to 4, both the removability and the resin filling property were good. On the other hand, in Comparative Examples 1 to 3, one or both of the removability and the resin filling property was inferior.
1 基板
2 電子部品
3 封止樹脂シート
10 電子部品内蔵基板
DESCRIPTION OF
Claims (4)
25℃でのタック力が150g以下であり、
50℃〜150℃の温度範囲における最低溶融粘度が50Pa・s以下であり、
平均粒径が5〜10μmである無機充填剤を含み、
前記無機充填剤を前記封止樹脂シートの全固形分重量に対して65〜85重量%含む封止樹脂シート。 An encapsulating resin sheet for encapsulating electronic components in an electronic component-embedded substrate, in which electronic components are embedded and embedded within a range in the thickness direction of the substrate,
Tack force at 25 ℃ is less than 150g,
Minimum melt viscosity in the temperature range of 50 ° C. to 150 DEG ° C. is Ri der less 50 Pa · s,
Including an inorganic filler having an average particle size of 5 to 10 μm,
A sealing resin sheet containing the inorganic filler in an amount of 65 to 85% by weight based on the total solid weight of the sealing resin sheet.
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