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JP6698291B2 - Touch panel and display device including the same - Google Patents

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JP6698291B2
JP6698291B2 JP2015159505A JP2015159505A JP6698291B2 JP 6698291 B2 JP6698291 B2 JP 6698291B2 JP 2015159505 A JP2015159505 A JP 2015159505A JP 2015159505 A JP2015159505 A JP 2015159505A JP 6698291 B2 JP6698291 B2 JP 6698291B2
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Description

本発明の実施形態は、タッチパネル及びこれを含む表示装置に関する。   Embodiments of the present invention relate to a touch panel and a display device including the touch panel.

タッチパネルは使用者が自分の手又は物体でタッチを行うことによって、所定の命令を入力する入力装置である。
このようなタッチパネルは、キーボード、マウス等のような別の入力装置の代わりになるので、モバイル機器を中心にその利用範囲が徐々に広がっている趨勢である。
The touch panel is an input device for inputting a predetermined command when the user touches with his/her hand or an object.
Since such a touch panel replaces another input device such as a keyboard and a mouse, its usage range is gradually expanding, mainly in mobile devices.

タッチパネルを具現する方式としては、抵抗膜方式、光感知方式及び靜電容量方式等が知られている。
この中で、最近に広く利用されている靜電容量方式のタッチパネルは、多数のタッチ電極を含み、人の手又は物体の接触によって靜電容量が変化される地点を検出して接触位置を把握する。
Known methods for implementing a touch panel include a resistance film method, a light sensing method, and a capacitance method.
Among them, the electrostatic capacitance type touch panel, which has been widely used recently, includes a large number of touch electrodes, and detects the point where the electrostatic capacitance is changed by the contact of a human hand or an object to grasp the contact position.

このようなタッチパネルはディスプレイパネルと結合されて製品化される場合が多い。
但し、この場合、タッチ電極とディスプレイパネルに含まれた構成要素(例えば、カソード電極)との間に存在する寄生容量(Parasitic Capacitance)によって相当なRCディレイ(RC Delay)が発生し、これはタッチパネルの誤作動をもたらすおそれがある。
Such a touch panel is often combined with a display panel to be commercialized.
However, in this case, a substantial RC delay is generated due to a parasitic capacitance existing between a touch electrode and a component (for example, a cathode electrode) included in the display panel, which is caused by a touch panel. May result in malfunction.

特許第5461732号公報Patent No. 5461732 特許第5359736号公報Japanese Patent No. 5359736 米国特許第8,946,690号公報US Pat. No. 8,946,690 米国特許第8,717,333号公報US Pat. No. 8,717,333 特許公開第2014―021522号明細書Patent Publication No. 2014-021522

上述した問題点を解決するために案出された本発明の目的は、補助メッシュ電極を具備することによってタッチ電極の抵抗を低下させ、これによってRCディレイを改善することができるタッチパネル及びこれを含む表示装置を提供することである。   An object of the present invention, which has been devised to solve the above-mentioned problems, is to provide a touch panel that includes an auxiliary mesh electrode to reduce the resistance of the touch electrode, thereby improving RC delay, and the touch panel. It is to provide a display device.

また、本発明の目的は、全領域で均一な視認性を確保することができるタッチパネル及びこれを含む表示装置を提供することである。   Another object of the present invention is to provide a touch panel capable of ensuring uniform visibility over the entire area and a display device including the touch panel.

上記したような目的を達成するための本発明の実施形態は、基板と、前記基板上に位置する多数の第1メッシュパターンを各々含む多数の第1タッチ電極と、前記第1タッチ電極上に位置する絶縁膜と、前記絶縁膜上に位置する多数の第2メッシュパターンを各々含む多数の第2タッチ電極と、前記基板上に位置し、前記第2メッシュパターンのうち少なくとも一部と各々電気的に接続される多数の第1補助メッシュ電極と、前記絶縁膜上に位置し、前記第1メッシュパターンのうち少なくとも一部と各々電気的に接続される多数の第2補助メッシュ電極と、を含み、前記第1メッシュパターン及び前記第2メッシュパターンは、各々多数の開口部を形成する金属ライン、及び前記金属ラインの交差点で外側に延長された拡張部を含み、前記第1補助メッシュ電極及び前記第2補助メッシュ電極は、各々多数の開口部を形成する金属ライン、及び前記金属ラインの交差点で外側に延長された拡張部を含むことを特徴とするAn embodiment of the present invention for achieving the above-mentioned object is to provide a substrate, a plurality of first touch electrodes each including a plurality of first mesh patterns located on the substrate, and a plurality of first touch electrodes on the first touch electrode. A plurality of second touch electrodes each including a plurality of second mesh patterns positioned on the insulation film, a second insulating pattern positioned on the substrate, and at least a part of the second mesh pattern positioned on the substrate. A plurality of first auxiliary mesh electrodes that are electrically connected to each other, and a plurality of second auxiliary mesh electrodes that are located on the insulating film and are electrically connected to at least a part of the first mesh pattern. unrealized, the first mesh pattern and the second mesh patterns, each plurality of metal lines forming an opening, and includes an extension portion extended to the outside at the intersection of the metal lines, the first auxiliary mesh electrode The second auxiliary mesh electrode may include a metal line forming a plurality of openings, and an extension part extended outward at an intersection of the metal lines .

また、前記絶縁膜に形成された多数の第1コンタクトホールを通じて、前記第1メッシュパターンのうち少なくとも一部と前記第2補助メッシュ電極との間を各々連結する第1コンタクトパターンと、前記絶縁膜に形成された多数の第2コンタクトホールを通じて、前記第2メッシュパターンのうち少なくとも一部と前記第1補助メッシュ電極との間を各々連結する第2コンタクトパターンと、をさらに含む。   A first contact pattern that connects at least a part of the first mesh pattern and the second auxiliary mesh electrode through a plurality of first contact holes formed in the insulating film; A second contact pattern for connecting at least a part of the second mesh pattern and the first auxiliary mesh electrode through the plurality of second contact holes formed in the second contact pattern.

また、前記第1タッチ電極は、前記基板上に位置して前記第1メッシュパターンを相互に連結する第1連結パターンをさらに含む。   The first touch electrode may further include a first connection pattern that is located on the substrate and connects the first mesh patterns to each other.

また、前記第2タッチ電極は、前記絶縁膜上に位置して前記第2メッシュパターンを相互に連結する第2連結パターンをさらに含む。   The second touch electrode may further include a second connection pattern that is located on the insulating layer and connects the second mesh patterns to each other.

また、相互に電気的に接続された第2メッシュパターンと第1補助メッシュ電極とは、少なくとも一部分が重畳し、相互に電気的に接続された第1メッシュパターンと第2補助メッシュ電極とは、少なくとも一部分が重畳することを特徴とする。   In addition, at least a part of the second mesh pattern and the first auxiliary mesh electrode electrically connected to each other is overlapped, and the first mesh pattern and the second auxiliary mesh electrode electrically connected to each other are: It is characterized in that at least a part thereof overlaps.

また、前記第1メッシュパターンと前記第1補助メッシュ電極とは、同一の物質で形成され、前記第2メッシュパターンと前記第2補助メッシュ電極とは、同一の物質で形成されることを特徴とする。   Further, the first mesh pattern and the first auxiliary mesh electrode are formed of the same material, and the second mesh pattern and the second auxiliary mesh electrode are formed of the same material. To do.

また、前記第1メッシュパターンと第2メッシュパターンとは、同一の物質又は異なる物質で形成されることを特徴とする。   Further, the first mesh pattern and the second mesh pattern are formed of the same material or different materials.

また、前記第1補助メッシュ電極に含まれた金属ラインの幅は、前記第2メッシュパターンに含まれた金属ラインの幅と異なり、前記第2補助メッシュ電極に含まれた金属ラインの幅は、前記第1メッシュパターンに含まれた金属ラインの幅と異なることを特徴とする。 Also, the width of the first auxiliary mesh electrode includes metal lines, wherein unlike the second width of the metal contained in the mesh pattern line width of the second auxiliary mesh electrode includes metal lines, It is different from the width of the metal line included in the first mesh pattern.

また、前記第2補助メッシュ電極に含まれた金属ラインの幅は、前記第1メッシュパターンに含まれた金属ラインの幅より大きく、前記第1補助メッシュ電極に含まれた金属ラインの幅は、前記第2メッシュパターンに含まれた金属ラインの幅より小さいことを特徴とする。   The width of the metal line included in the second auxiliary mesh electrode is larger than the width of the metal line included in the first mesh pattern, and the width of the metal line included in the first auxiliary mesh electrode is The width is smaller than the width of the metal line included in the second mesh pattern.

また、前記絶縁膜上に位置する多数の第1パッド及び第2パッドと、前記基板上に位置し、前記第1タッチ電極と各々電気的に接続される多数の第1トレースラインと、前記基板上に位置し、前記第1タッチ電極と各々電気的に接続される多数の第2トレースラインと、前記絶縁膜に形成された多数の第3コンタクトホールを通じて、前記第1パッドと前記第1トレースラインとの間を連結する多数の第3コンタクトパターンと、前記絶縁膜に形成された多数の第4コンタクトホールを通じて、前記第2パッドと前記第2トレースラインとの間を連結する多数の第4コンタクトパターンと、をさらに含む。 In addition, a plurality of first pads and second pads located on the insulating film, a plurality of first trace lines located on the substrate and electrically connected to the first touch electrodes, and the substrate. The first pad and the first trace are formed through a plurality of second trace lines located above and electrically connected to the first touch electrode and a plurality of third contact holes formed in the insulating film. A plurality of fourth contact patterns connecting the second pads and the second trace lines through a plurality of third contact patterns connecting the lines and a plurality of fourth contact holes formed in the insulating film. And a contact pattern.

また、前記第1トレースラインと電気的に接続される多数の第1補助ラインと、前記第2トレースラインと電気的に接続される多数の第2補助ラインと、をさらに含む。   In addition, a plurality of first auxiliary lines electrically connected to the first trace lines and a plurality of second auxiliary lines electrically connected to the second trace lines are further included.

また、前記第1補助ラインは、前記第1トレースラインの上側に直接連結され、前記第2補助ラインは、前記第2トレースラインの上側に直接連結されることを特徴とする。   The first auxiliary line is directly connected to the upper side of the first trace line, and the second auxiliary line is directly connected to the upper side of the second trace line.

また、前記第1補助ラインと前記第2補助ラインとは、前記絶縁膜上に位置し、前記タッチパネルは、前記絶縁膜に形成された多数の第5コンタクトホールを通じて前記第1トレースラインと前記第1補助ラインを各々連結する第5コンタクトパターンと、前記絶縁膜に形成された多数の第6コンタクトホールを通じて前記第2トレースラインと前記第2補助ラインとを各々連結する第6コンタクトパターンと、をさらに含む。   The first auxiliary line and the second auxiliary line are located on the insulating film, and the touch panel is provided with the first trace line and the first auxiliary line through a plurality of fifth contact holes formed in the insulating film. A fifth contact pattern connecting each of the first auxiliary lines and a sixth contact pattern connecting each of the second trace line and the second auxiliary line through a plurality of sixth contact holes formed in the insulating film. Further includes.

また、前記第1メッシュパターン、前記第1補助メッシュ電極、前記第1トレースライン、及び前記第2トレースラインは、同一の物質で形成され、前記第2メッシュパターン、前記第2補助メッシュ電極、前記第1補助ライン、及び前記第2補助ラインは、同一の物質で形成されることを特徴とする。   Also, the first mesh pattern, the first auxiliary mesh electrode, the first trace line, and the second trace line are formed of the same material, and the second mesh pattern, the second auxiliary mesh electrode, the The first auxiliary line and the second auxiliary line are formed of the same material.

また、前記第1補助ライン及び前記第2補助ラインと前記第1トレースライン及び前記第2トレースラインとは、同一の物質又は異なる物質で形成されることを特徴とする。   Further, the first auxiliary line and the second auxiliary line and the first trace line and the second trace line are formed of the same material or different materials.

また、前記第1補助ラインの幅は、前記第1トレースラインの幅と異なり、前記第2補助ラインの幅は、前記第2トレースラインの幅と異なることを特徴とする。   The width of the first auxiliary line is different from the width of the first trace line, and the width of the second auxiliary line is different from the width of the second trace line.

また、前記第1メッシュパターンと前記第2メッシュパターンとは、各々多数の開口部を形成する金属ライン及び、前記金属ラインの交差点で外側に延長された拡張部を含む。   In addition, the first mesh pattern and the second mesh pattern each include a metal line forming a plurality of openings, and an expansion portion extended outward at an intersection of the metal lines.

また、前記第1補助メッシュ電極と前記第2補助メッシュ電極とは、各々多数の開口部を形成する金属ライン及び、前記金属ラインの交差点で外側に延長された拡張部を含む。   In addition, the first auxiliary mesh electrode and the second auxiliary mesh electrode each include a metal line forming a plurality of openings, and an extended portion extended outward at an intersection of the metal lines.

また、前記第1メッシュパターンと前記第1補助メッシュ電極との間に位置する多数のダミーパターンをさらに含む。   In addition, a plurality of dummy patterns located between the first mesh pattern and the first auxiliary mesh electrode may be further included.

また、前記ダミーパターンは、フローティング状態であることを特徴とする。   Further, the dummy pattern is in a floating state.

本発明の一実施形態によるタッチパネルは、基板と、第1タッチ電極と、絶縁膜と、第2タッチ電極と、第1補助電極と、第2補助電極と、を含む。
前記第1タッチ電極は、前記基板上に位置し、各々が多数のメッシュパターンを含み、各々が第1方向に延在する。
前記絶縁膜は、前記第1タッチ電極上に位置する。
前記第2タッチ電極は、前記絶縁膜上に位置し、各々が前記第1方向と交差する第2方向に延在する。
前記第1補助電極は、前記第1タッチ電極と同一の層上に配置され、各々がメッシュ形状を有し、前記第2タッチ電極のうち少なくとも一部と電気的に接続される。
前記第2補助電極は、前記第2タッチ電極と同一の層上に配置され、前記第1タッチ電極のうち少なくとも一部と電気的に接続される。
前記第2タッチ電極は、第1領域に配置された第1部分及び第2領域に配置され、前記第1部分と互いに異なるパターン形状を有する第2部分を含むことができる。
A touch panel according to an exemplary embodiment of the present invention includes a substrate, a first touch electrode, an insulating film, a second touch electrode, a first auxiliary electrode, and a second auxiliary electrode.
The first touch electrodes are located on the substrate, each of the first touch electrodes includes a plurality of mesh patterns, and each of the first touch electrodes extends in the first direction.
The insulating film is located on the first touch electrode.
The second touch electrodes are located on the insulating film and each extend in a second direction intersecting the first direction.
The first auxiliary electrode is disposed on the same layer as the first touch electrode, each has a mesh shape, and is electrically connected to at least a part of the second touch electrode.
The second auxiliary electrode is disposed on the same layer as the second touch electrode and is electrically connected to at least a part of the first touch electrode.
The second touch electrode may include a first portion arranged in the first region and a second portion arranged in the second region and having a pattern shape different from that of the first portion.

前記第1部分は、前記第1補助電極のうち前記第1領域に配置された第1補助電極、前記第1タッチ電極のうち前記第1領域に配置された第1タッチ電極、前記第1領域に配置された前記第1補助電極によって画定された開口部、及び前記第1領域に配置された前記第1タッチ電極によって画定された開口部をカバーし、
前記第2部分は、前記第1補助電極のうち前記第2領域に配置された第1補助電極をカバーする第1重畳パターンと、前記第1重畳パターンと離隔され、前記第2領域に配置された前記第1補助電極によって画定された開口部内に配置された第1内側パターンと、を含むことができる。
The first portion includes a first auxiliary electrode of the first auxiliary electrode arranged in the first region, a first touch electrode of the first touch electrode arranged in the first region, and the first region. Covering the opening defined by the first auxiliary electrode arranged in, and the opening defined by the first touch electrode arranged in the first region,
The second portion is disposed in the second region, the first overlapping pattern covering the first auxiliary electrode disposed in the second region of the first auxiliary electrode and being spaced apart from the first overlapping pattern. And a first inner pattern disposed within the opening defined by the first auxiliary electrode.

前記第1部分は、前記第1タッチ電極と重畳する重畳部分及び前記重畳部分との間を連結する連結部分を含むことができる。前記第2部分は、前記連結部分に連結され、前記連結部分の外側に配置されてもよい。   The first portion may include an overlapping portion overlapping the first touch electrode and a connecting portion connecting between the overlapping portion. The second portion may be connected to the connecting portion and may be disposed outside the connecting portion.

前記第2補助電極は、第3領域に配置された第3部分と、第4領域に配置され、前記第3部分と互いに異なるパターン形状を有する第4部分と、を含むことができる。   The second auxiliary electrode may include a third portion arranged in the third region and a fourth portion arranged in the fourth region and having a pattern shape different from that of the third portion.

前記第3部分は、前記メッシュパターン前記第3領域に配置されたメッシュパターン及び前記第3領域に配置された前記メッシュパターンによって画定された開口部をカバーすることができる。   The third portion may cover the mesh pattern arranged in the third region and the opening defined by the mesh pattern arranged in the third region.

前記第4部分は、前記メッシュパターン前記第4領域に配置されたメッシュパターンをカバーする第2重畳パターンと、前記第2重畳パターンと離隔され、前記第4領域に配置された前記メッシュパターンによって画定された開口部内に配置された第2内側パターンと、を含むことができる。   The fourth portion is defined by a second overlapping pattern that covers the mesh pattern arranged in the fourth area, and the mesh pattern arranged in the fourth area, separated from the second overlapping pattern. A second inner pattern disposed within the opened opening.

タッチパネルは、第1コンタクトパターン及び第2コンタクトパターンをさらに含むことができる。前記第1コンタクトパターンは、前記絶縁膜に形成された多数の第1コンタクトホールを通じて前記第1補助電極の少なくとも一部と前記連結部分との間を電気的に接続することができる。前記第2コンタクトパターンは、前記絶縁膜に形成された多数の第2コンタクトホールを通じて前記メッシュパターンの少なくとも一部と前記第3部分との間を電気的に接続することができる。   The touch panel may further include a first contact pattern and a second contact pattern. The first contact pattern may electrically connect at least a part of the first auxiliary electrode and the connection part through a plurality of first contact holes formed in the insulating film. The second contact pattern may electrically connect at least a part of the mesh pattern and the third part through a plurality of second contact holes formed in the insulating film.

前記第3部分は、前記メッシュパターン各々の中心部と重畳することができる。前記第4部分は、前記第3部分に連結され、前記第3部分の外側に配置されてもよい。   The third portion may overlap the central portion of each of the mesh patterns. The fourth portion may be connected to the third portion and may be disposed outside the third portion.

前記第2部分は、平面上で前記連結部分に比べて前記第1タッチ電極とさらに近い距離を有することができる。   The second portion may be closer to the first touch electrode than the connecting portion in a plane.

前記第4部分は、平面上で前記第3部分に比べて前記第2タッチ電極とさらに近い距離を有することができる。   The fourth portion may have a closer distance to the second touch electrode than the third portion in a plane.

前記第1部分及び第3部分は、内部に開口部を具備しなくともよい。   The first portion and the third portion may not have an opening portion inside.

前記第1及び第2内側パターンは電気的にフローティングされることができる。前記第1内側パターン1つは、前記第1補助電極によって画定された1つの開口部内に配置されてもよい。前記第2内側パターンの1つは、前記メッシュパターンによって画定された1つの開口部内に配置されてもよい。   The first and second inner patterns may be electrically floated. The one first inner pattern may be disposed in one opening defined by the first auxiliary electrode. One of the second inner patterns may be disposed within one opening defined by the mesh pattern.

前記第1及び第2内側パターンは、電気的にフローティングされることができる。前記第1内側パターン互いに離隔された複数個の第1内側パターンは、前記第1補助電極によって画定された1つの開口部内に配置されてもよい。前記第2内側パターン互いに離隔された複数個の第2内側パターンは、前記メッシュパターンによって画定された1つの開口部内に配置されてもよい。   The first and second inner patterns may be electrically floated. The plurality of first inner patterns separated from each other may be disposed in one opening defined by the first auxiliary electrode. The plurality of second inner patterns, which are spaced apart from each other, may be disposed in one opening defined by the mesh pattern.

前記第1補助電極に含まれた金属ラインと重畳した領域の中で、平面上で前記重畳部分と最も隣接する領域に形成された外殻コンタクトホールを通じて、前記第1補助電極の少なくとも一部と前記連結部分との間を電気的に接続する第1外殻コンタクトパターンをさらに含むことができる。   At least a part of the first auxiliary electrode is formed through an outer shell contact hole formed in a region of the first auxiliary electrode that overlaps with the metal line and that is closest to the overlapping part in the region. A first outer shell contact pattern for electrically connecting the connection part may be further included.

前記第1タッチ電極及び前記第1補助電極は、不透明な金属から形成されてもよい。前記第2タッチ電極及び前記第2補助電極は、透明導電性物質で形成されてもよい。   The first touch electrode and the first auxiliary electrode may be formed of an opaque metal. The second touch electrode and the second auxiliary electrode may be formed of a transparent conductive material.

平面上で前記メッシュパターンと前記第1補助電極との間に配置された多数のダミーパターンをさらに含むことができる。   The method may further include a plurality of dummy patterns arranged on the plane between the mesh pattern and the first auxiliary electrode.

タッチパネルは、第1トレースラインと、第2トレースラインと、第1補助ラインと、第2補助ラインと、をさらに含むことができる。   The touch panel may further include a first trace line, a second trace line, a first auxiliary line, and a second auxiliary line.

前記第1トレースラインは、前記基板上に位置し前記第1タッチ電極と各々連結されることができる。前記第2トレースラインは、前記第1トレースラインと同一の層上に配置され、前記第1補助電極と各々連結されることができる。前記第1補助ラインは、前記絶縁膜上に配置され、前記第1トレースラインと電気的に接続されることができる。前記第2補助ラインは、前記第1補助ラインと同一の層上に配置され、前記第1トレースラインと電気的に接続されることができる。   The first trace lines may be located on the substrate and connected to the first touch electrodes, respectively. The second trace line may be disposed on the same layer as the first trace line and may be connected to the first auxiliary electrode. The first auxiliary line may be disposed on the insulating film and electrically connected to the first trace line. The second auxiliary line may be disposed on the same layer as the first auxiliary line and may be electrically connected to the first trace line.

本発明の他の実施形態によるタッチパネルは、基板と、前記基板上に位置し、各々が多数のメッシュパターンを含み、各々が第1方向に延在する多数の第1タッチ電極と、前記第1タッチ電極上に位置する絶縁膜と、前記絶縁膜上に位置し、各々が前記第1方向と交差する第2方向に延在する多数の第2タッチ電極と、前記第1タッチ電極と同一の層上に配置され、各々がメッシュパターンを有し、前記第2タッチ電極のうち少なくとも一部と電気的に接続される多数の第1補助電極と、前記第2タッチ電極と同一の層上に配置され、前記第1タッチ電極のうち少なくとも一部と電気的に接続される多数の第2補助電極と、前記第1タッチ電極のメッシュパターンと前記第1補助電極との間に位置する多数のダミーパターンを含み、前記第2タッチ電極は、第1領域に配置された第1部分と、前記第1領域と互いに異なる第2領域に配置され、前記第1部分と互いに異なるパターン形状を有する第2部分と、を含み、前記ダミーパターンは、フローティング状態でありメッシュ形状を有することを特徴とする

A touch panel according to another embodiment of the present invention includes a substrate, a plurality of first touch electrodes that are located on the substrate, each of the first touch electrodes includes a plurality of mesh patterns, and the first touch electrodes each extend in a first direction. An insulating film located on the touch electrode, a plurality of second touch electrodes located on the insulating film and extending in a second direction intersecting with the first direction, and the same as the first touch electrode. A plurality of first auxiliary electrodes arranged on a layer, each having a mesh pattern and electrically connected to at least a part of the second touch electrodes, and on the same layer as the second touch electrodes. A plurality of second auxiliary electrodes arranged and electrically connected to at least a part of the first touch electrodes; and a plurality of second auxiliary electrodes positioned between the mesh pattern of the first touch electrodes and the first auxiliary electrodes. The second touch electrode includes a dummy pattern, and the second touch electrode is disposed in a first portion arranged in a first region and a second region different from the first region, and has a pattern shape different from that of the first portion. The dummy pattern is in a floating state and has a mesh shape .

第1部分は、前記第1補助電極の中で前記第1領域に配置された第1補助電極の一部及び前記第1タッチ電極の中で前記第1領域に配置された第1タッチ電極のうち一部を露出することができる。   The first portion includes a part of the first auxiliary electrode arranged in the first region in the first auxiliary electrode and a first touch electrode arranged in the first region in the first touch electrode. Some of them can be exposed.

前記第2部分は、前記第1補助電極の中で前記第2領域に配置された第2補助電極を全て露出することができる。   The second portion may expose all of the second auxiliary electrodes disposed in the second region of the first auxiliary electrode.

前記第1部分は、前記第1領域に配置された前記第1タッチ電極の残る一部をカバーする重畳部分及び前記重畳部分の間を連結する連結部分を含むことができる。   The first portion may include an overlapping portion that covers a remaining portion of the first touch electrode disposed in the first region and a connecting portion that connects the overlapping portions.

前記第2部分は、前記連結部分外側に配置され、前記第2領域に配置された前記第2補助電極によって画定された開口部内に配置された第1内側パターンを含むことができる。   The second portion may include a first inner pattern disposed outside the connection portion and disposed within an opening defined by the second auxiliary electrode disposed in the second region.

前記第2補助電極は、第3領域に配置された第3部分と、第4領域に配置され、前記第3部分と互いに異なるパターン形状を有する第4部分と、を含むことができる。   The second auxiliary electrode may include a third portion arranged in the third region and a fourth portion arranged in the fourth region and having a pattern shape different from that of the third portion.

前記第3部分は、前記メッシュパターン前記第3領域に配置されたメッシュパターンの一部を露出することができる。前記第4部分は、前記メッシュパターン前記第4領域に配置されたメッシュパターンを全て露出することができる。   The third portion may expose a part of the mesh pattern arranged in the third region of the mesh pattern. The fourth portion may expose all the mesh patterns arranged in the fourth area.

前記第4部分は、前記第4領域に配置された前記メッシュパターンによって画定された開口部内に配置された第2内側パターンを含むことができる。   The fourth portion may include a second inner pattern disposed within the opening defined by the mesh pattern disposed in the fourth region.

前記第1部分は、前記第1領域に配置された前記第1タッチ電極に含まれた金属ラインの交差点ではない部分を露出することができる。前記第3部分は、前記第3領域に配置された前記メッシュパターンに含まれた金属ラインの交差点ではない部分を露出することができる。   The first portion may expose a portion that is not an intersection of metal lines included in the first touch electrode disposed in the first region. The third portion may expose a portion that is not an intersection of metal lines included in the mesh pattern arranged in the third region.

前記第1部分は、前記第1領域に配置された前記第1タッチ電極に含まれた金属ラインの交差点を露出することができる。前記第3部分は、前記第3領域に配置された前記メッシュパターンに含まれた金属ラインの交差点を露出することができる。   The first portion may expose an intersection of metal lines included in the first touch electrode disposed in the first region. The third portion may expose intersections of metal lines included in the mesh pattern arranged in the third region.

前記第1タッチ電極及び前記第1補助電極は、不透明な金属から形成されることができる。前記第2タッチ電極及び前記第2補助電極は、透明導電性物質で形成されることができる。   The first touch electrode and the first auxiliary electrode may be formed of an opaque metal. The second touch electrode and the second auxiliary electrode may be formed of a transparent conductive material.

以上、上述したような本発明の実施形態によれば、補助メッシュ電極を具備することによって、タッチ電極の抵抗を低下させ、これによってRCディレイを改善するタッチパネルを提供することができる。   As described above, according to the above-described embodiment of the present invention, by providing the auxiliary mesh electrode, it is possible to provide a touch panel that reduces the resistance of the touch electrode and thereby improves the RC delay.

また、本発明の実施形態によれば、全領域で均一な視認性を確保できるタッチパネルを提供することができる。   Further, according to the embodiment of the present invention, it is possible to provide a touch panel capable of ensuring uniform visibility over the entire area.

本発明の実施形態によるタッチパネルを示した図面である。3 is a view showing a touch panel according to an exemplary embodiment of the present invention. 本発明の実施形態によるタッチパネルを示した図面である。3 is a view showing a touch panel according to an exemplary embodiment of the present invention. 図2に図示されたR1領域の拡大図である。FIG. 3 is an enlarged view of an R1 area illustrated in FIG. 2. 図3のA1−A2線を基準にした図3の断面図である。FIG. 4 is a sectional view of FIG. 3 based on the line A1-A2 of FIG. 3. 本発明の実施形態による拡張部を示した図面である。5 is a view showing an extension unit according to an exemplary embodiment of the present invention. 図2に図示されたR2領域の拡大図である。FIG. 3 is an enlarged view of an R2 area illustrated in FIG. 2. 図6のB1−B2線を基準にした図6の断面図である。7 is a cross-sectional view of FIG. 6 based on the line B1-B2 of FIG. 6. 図2に図示されたR3領域の拡大図である。FIG. 3 is an enlarged view of an R3 area illustrated in FIG. 2. 図8のC1−C2線を基準にした図8の断面図である。9 is a cross-sectional view of FIG. 8 based on the line C1-C2 of FIG. 8. 図2に図示されたR4領域の拡大図である。FIG. 3 is an enlarged view of an R4 area illustrated in FIG. 2. 図10のD1−D2線を基準にした図10の断面図である。FIG. 11 is a sectional view of FIG. 10 based on the line D1-D2 of FIG. 10. 図10のD1−D2線を基準にした図10の断面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view of FIG. 10 based on the line D1-D2 of FIG. 10. 図2に図示されたR5領域の拡大図である。FIG. 3 is an enlarged view of an R5 area illustrated in FIG. 2. 図12のE1−E2線を基準にした図12の断面図である。FIG. 13 is a cross-sectional view of FIG. 12 based on the line E1-E2 of FIG. 12. 図12のE1−E2線を基準にした図12の断面図である。FIG. 13 is a cross-sectional view of FIG. 12 based on the line E1-E2 of FIG. 12. 本発明の実施形態によるダミーパターンを示した図面である。6 is a view showing a dummy pattern according to an exemplary embodiment of the present invention. 本発明の実施形態によるタッチパネルを示した図面である。3 is a view showing a touch panel according to an exemplary embodiment of the present invention. 本発明の実施形態によるタッチパネルを示した図面である。3 is a view showing a touch panel according to an exemplary embodiment of the present invention. 図16のR6領域の拡大図である。It is an enlarged view of the R6 area|region of FIG. 図17のI−I’線を基準にした図17の断面図である。FIG. 18 is a cross-sectional view of FIG. 17 based on the line I-I′ of FIG. 17. 図16のR7領域の拡大図である。It is an enlarged view of the R7 area|region of FIG. 図19のII−II’線を基準にした図19の断面図である。It is sectional drawing of FIG. 19 based on the II-II' line of FIG. 図16のR8領域の拡大図である。It is an enlarged view of the R8 area|region of FIG. 図21のIII−III’線を基準にした図21の断面図である。FIG. 22 is a cross-sectional view of FIG. 21 based on the line III-III′ of FIG. 21. 図16のR9領域の拡大図である。It is an enlarged view of the R9 area|region of FIG. 図23のIV−IV’線を基準にした図23の断面図である。FIG. 24 is a cross-sectional view of FIG. 23 taken along line IV-IV′ of FIG. 23. 図16のR10領域の拡大図である。It is an enlarged view of the R10 area|region of FIG. 図25のV−V’線を基準にした図25の断面図である。FIG. 26 is a cross-sectional view of FIG. 25 based on the line V-V′ of FIG. 25. 図16のR8領域の拡大図であって、図21に図示された第2部分と異なる形態の実施形態を示した図面である。FIG. 23 is an enlarged view of a region R8 of FIG. 16, showing an embodiment of a form different from the second portion shown in FIG. 21. 図16のR11領域の拡大図である。It is an enlarged view of the R11 area|region of FIG. 図16に図示されたR12領域の拡大図である。FIG. 17 is an enlarged view of the R12 area shown in FIG. 16. 図29のVII−VII’線を基準にした図29の断面図である。FIG. 30 is a cross-sectional view of FIG. 29 based on the line VII-VII′ of FIG. 29. 図16に図示されたR13領域の拡大図である。FIG. 17 is an enlarged view of the R13 area shown in FIG. 16. 図31のVII−VII‘線を基準にした図31の断面図である。FIG. 32 is a cross-sectional view of FIG. 31 based on the line VII-VII′ of FIG. 31. 図31のVII−VII‘線を基準にした図31の断面図である。FIG. 32 is a cross-sectional view of FIG. 31 based on the line VII-VII′ of FIG. 31. 図16に図示されたR14領域の拡大図である。FIG. 17 is an enlarged view of the R14 area shown in FIG. 16. 図33のVIII−VIII’線を基準にした図33の断面図である。FIG. 34 is a cross-sectional view of FIG. 33 based on the line VIII-VIII′ of FIG. 33. 図33のVIII−VIII’線を基準にした図33の断面図である。FIG. 34 is a cross-sectional view of FIG. 33 based on the line VIII-VIII′ of FIG. 33. 図16のR6領域の拡大図である。It is an enlarged view of the R6 area|region of FIG. 図16のR7領域の拡大図である。It is an enlarged view of the R7 area|region of FIG. 図16のR8領域の拡大図である。It is an enlarged view of the R8 area|region of FIG. 図16のR6領域の拡大図であって、図35に図示された重畳部分と異なる形態の実施形態を示した図面である。FIG. 36 is an enlarged view of a region R6 in FIG. 16, showing an embodiment of a form different from the overlapping portion shown in FIG. 35. 図16のR9領域の拡大図である。It is an enlarged view of the R9 area|region of FIG. 図16のR10領域の拡大図である。It is an enlarged view of the R10 area|region of FIG. 本発明の実施形態によるダミーパターンを示した図面である。6 is a view showing a dummy pattern according to an exemplary embodiment of the present invention.

その他の実施形態の具体的な事項は詳細な説明及び図面に含まれている。   Specific details of other embodiments are included in the detailed description and the drawings.

本発明の長所及び特徴、そしてそれらを達成する方法は添付される図面と共に詳細に後術されている実施形態を参照すれば、明確になる。しかし、本発明は以下で開示される実施形態に限定されるものではなく、互いに異なる多様な形態に具現でき、以下の説明で所定の部分が他の部分と連結されているとされる場合、これは直接的に連結されている場合のみならず、その中間に他の素子を介して電気的に接続されている場合も含む。また、図面で本発明と関係ない部分は本発明の説明を明確にするために省略し、明細書の全体を通じて類似な部分に対しては同一の図面符号を付した。   The advantages and features of the present invention, and the method of achieving them, will be apparent with reference to the embodiments described in detail below together with the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below and can be embodied in various different forms, and in the following description, when a predetermined part is connected to another part, This includes not only the case where they are directly connected but also the case where they are electrically connected in the middle through another element. Further, in the drawings, parts not related to the present invention are omitted for the sake of clarity of description of the present invention, and similar parts are denoted by the same reference numerals throughout the specification.

以下、本発明の実施形態と関連された図面を参考して、本発明の実施形態によるタッチパネルについて説明する。   Hereinafter, a touch panel according to an exemplary embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings associated with the exemplary embodiment of the present invention.

図1及び図2は本発明の実施形態によるタッチパネルを示した図面である。説明を簡単にするために、図1は基板100上に存在する構成要素を中心に図示し、図2は絶縁膜200上に存在する構成要素を中心に図示した。   1 and 2 are views showing a touch panel according to an exemplary embodiment of the present invention. For simplification of description, FIG. 1 mainly shows components existing on the substrate 100, and FIG. 2 mainly shows components existing on the insulating film 200.

図1及び図2を参照すれば、本発明の実施形態によるタッチパネルは基板100、第1タッチ電極101、絶縁膜200、第2タッチ電極102、第1補助メッシュ電極210、及び第2補助メッシュ電極220を含む。   Referring to FIGS. 1 and 2, a touch panel according to an exemplary embodiment of the present invention includes a substrate 100, a first touch electrode 101, an insulating layer 200, a second touch electrode 102, a first auxiliary mesh electrode 210, and a second auxiliary mesh electrode. 220 is included.

基板100は、第1タッチ電極101、第1補助メッシュ電極210等が位置する場所として、多様な物質で形成される。
例えば、基板100はガラス、樹脂(resin)等のような絶縁性材料からなる。また、基板100は曲げられるか、或いは折られることが可能である柔軟性(flexibility)を有する材料からなり、単層構造又は多層構造を有する。
The substrate 100 is formed of various materials as a place where the first touch electrode 101, the first auxiliary mesh electrode 210, etc. are located.
For example, the substrate 100 is made of an insulating material such as glass or resin. In addition, the substrate 100 is made of a flexible material that can be bent or folded, and has a single-layer structure or a multi-layer structure.

タッチスクリーン機能を具現するために、本発明の実施形態によるタッチパネルはイメージを表示するディスプレイパネルと結合される。   To implement the touch screen function, the touch panel according to the embodiment of the present invention may be combined with a display panel displaying an image.

このために、本発明の実施形態に含まれた基板100はディスプレイパネルに付着される。
概ね、本発明の実施形態に含まれた基板100は、ディスプレイパネルに使用される封止薄膜(Encapsulation Thin Film)である。
また、基板100は光が透過できる透明性(Transparency)を有する。
To this end, the substrate 100 included in the embodiment of the present invention is attached to a display panel.
Generally, the substrate 100 included in the embodiment of the present invention is an encapsulation thin film used in a display panel.
In addition, the substrate 100 has a transparency that allows light to pass therethrough.

第1タッチ電極101は各々第1方向(例えば、y軸方向)に長く形成され、当該第1方向と交差する第2方向(例えば、x軸方向)に沿って基板100上に複数個が配列される。
例えば、各々の第1タッチ電極101は第1方向に沿って基板100上に配列される多数の第1メッシュパターン110を含む。
このとき、第1メッシュパターン110は相互に電気的に接続される。
このために、第1タッチ電極101は、基板100上に位置して第1メッシュパターン110を相互に連結する第1連結パターン112をさらに含む。
各々の第1メッシュパターン110は多数の開口部117を含むメッシュ形状を有し、薄い幅を有する金属ライン115からなる。
Each of the first touch electrodes 101 is formed to be long in a first direction (eg, the y-axis direction), and a plurality of first touch electrodes 101 are arranged on the substrate 100 along a second direction (eg, the x-axis direction) intersecting the first direction. To be done.
For example, each first touch electrode 101 includes a plurality of first mesh patterns 110 arranged on the substrate 100 along a first direction.
At this time, the first mesh patterns 110 are electrically connected to each other.
To this end, the first touch electrode 101 further includes a first connection pattern 112 located on the substrate 100 and connecting the first mesh patterns 110 to each other.
Each of the first mesh patterns 110 has a mesh shape including a large number of openings 117 and includes metal lines 115 having a thin width.

第1タッチ電極101は多様な導電性物質で形成される。例えば、第1タッチ電極101はAg、Al、Cu、Cr、Ni、Mo等のような不透明な金属で形成される。   The first touch electrode 101 is formed of various conductive materials. For example, the first touch electrode 101 is formed of an opaque metal such as Ag, Al, Cu, Cr, Ni or Mo.

絶縁膜200は基板100の上側に広い形態に形成される。これによって、絶縁膜200は第1タッチ電極101の上側に位置する。
また、絶縁膜200は、基板100上に位置する他の構成要素(例えば、第1補助メッシュ電極210、第1トレースライン151、及び第2トレースライン152)の上側にも位置している。
絶縁膜200はSiOx、SiNx等のような多様な絶縁物質で形成される。
The insulating film 200 is formed in a wide shape on the upper side of the substrate 100. Accordingly, the insulating film 200 is located above the first touch electrode 101.
In addition, the insulating film 200 is also located above other components (eg, the first auxiliary mesh electrode 210, the first trace line 151, and the second trace line 152) located on the substrate 100.
The insulating layer 200 is formed of various insulating materials such as SiOx and SiNx.

第2タッチ電極102は各々第2方向(例えば、x軸方向)に長く形成され、当該第2方向と交差する第1方向(例えば、y軸方向)に沿って絶縁膜200上に複数個が配列される。
例えば、各々の第2タッチ電極102は第2方向に沿って絶縁膜200上に配列される多数の第2メッシュパターン120を含む。
このとき、第2メッシュパターン120は相互に電気的に接続される。
このために、第2タッチ電極102は、絶縁膜200上に位置して第2メッシュパターン120を相互に連結する第2連結パターン122をさらに含む。
各々の第2メッシュパターン120は多数の開口部127を含むメッシュ形状を有し、薄い幅を有する金属ライン125からなる。
Each of the second touch electrodes 102 is formed to be long in the second direction (eg, the x-axis direction), and a plurality of second touch electrodes 102 are formed on the insulating film 200 along a first direction (eg, the y-axis direction) intersecting the second direction. Arranged.
For example, each of the second touch electrodes 102 includes a plurality of second mesh patterns 120 arranged on the insulating film 200 along the second direction.
At this time, the second mesh patterns 120 are electrically connected to each other.
To this end, the second touch electrode 102 further includes a second connection pattern 122 located on the insulating layer 200 and connecting the second mesh patterns 120 to each other.
Each second mesh pattern 120 has a mesh shape including a large number of openings 127, and includes metal lines 125 having a thin width.

第2タッチ電極102は多様な導電性物質で形成される。例えば、第2タッチ電極102はAg、Al、Cu、Cr、Ni、Mo等のような不透明な金属で形成される。   The second touch electrode 102 is formed of various conductive materials. For example, the second touch electrode 102 is formed of an opaque metal such as Ag, Al, Cu, Cr, Ni or Mo.

多数の第1補助メッシュ電極210は基板100上に位置する。
第1補助メッシュ電極210は、絶縁膜200上に位置する第2メッシュパターン120のうち少なくとも一部と各々電気的に接続される。
このために、各々の第1補助メッシュ電極210は、それと電気的に接続される各々の第2メッシュパターン120の下側に位置する。
これによって、相互に電気的に接続された特定の第2メッシュパターン120と第1補助メッシュ電極210とは、少なくとも一部分が重畳する。
A plurality of first auxiliary mesh electrodes 210 are located on the substrate 100.
The first auxiliary mesh electrode 210 is electrically connected to at least a part of the second mesh pattern 120 located on the insulating film 200.
To this end, each first auxiliary mesh electrode 210 is located below each second mesh pattern 120 electrically connected thereto.
Accordingly, at least a part of the specific second mesh pattern 120 and the first auxiliary mesh electrode 210 electrically connected to each other overlap.

一例として、図2ではすべての第2メッシュパターン120が第1補助メッシュ電極210と電気的に接続された形態を図示した。
この場合、第2メッシュパターン120と第1補助メッシュ電極210との個数は同一である。
概ね、第2メッシュパターン120のうち一部のみが第1補助メッシュ電極210と電気的に接続される。
この場合、第2メッシュパターン120と第1補助メッシュ電極210との個数は異なってもよい。
As an example, FIG. 2 illustrates a configuration in which all the second mesh patterns 120 are electrically connected to the first auxiliary mesh electrode 210.
In this case, the number of second mesh patterns 120 and the number of first auxiliary mesh electrodes 210 are the same.
Generally, only a part of the second mesh pattern 120 is electrically connected to the first auxiliary mesh electrode 210.
In this case, the number of second mesh patterns 120 and the number of first auxiliary mesh electrodes 210 may be different.

第1補助電極210を具備することによって、第2タッチ電極102の抵抗が低下し、これによってRCディレイ(RC Delay)を改善することができる。   By providing the first auxiliary electrode 210, the resistance of the second touch electrode 102 is reduced, thereby improving the RC delay.

各々の第1補助メッシュ電極210は多数の開口部217を含むメッシュ形状を有し、薄い幅を有する金属ライン215からなる。
第1補助メッシュ電極210は多様な導電性物質で形成される。例えば、第1補助メッシュ電極210はAg、Al、Cu、Cr、Ni、Mo等のような不透明な金属で形成される。
Each of the first auxiliary mesh electrodes 210 has a mesh shape including a plurality of openings 217 and includes metal lines 215 having a thin width.
The first auxiliary mesh electrode 210 is formed of various conductive materials. For example, the first auxiliary mesh electrode 210 is formed of an opaque metal such as Ag, Al, Cu, Cr, Ni or Mo.

工程を簡単にするために、同一の基板100上に位置する第1メッシュパターン110、第1連結パターン112、及び第1補助メッシュ電極210は同一の物質で形成される。   To simplify the process, the first mesh pattern 110, the first connection pattern 112, and the first auxiliary mesh electrode 210 located on the same substrate 100 are formed of the same material.

多数の第2補助メッシュ電極220は絶縁膜200上に位置する。
第2補助メッシュ電極220は、基板100上に位置する第1メッシュパターン110のうち少なくとも一部と各々電気的に接続される。
このために、各々の第2補助メッシュ電極220は、それと電気的に接続される各々の第1メッシュパターン110の上側に位置する。
これによって、相互に電気的に接続された特定の第1メッシュパターン110と第2補助メッシュ電極220とは、少なくとも一部分が重畳する。
The plurality of second auxiliary mesh electrodes 220 are located on the insulating layer 200.
The second auxiliary mesh electrode 220 is electrically connected to at least a part of the first mesh pattern 110 located on the substrate 100.
To this end, each second auxiliary mesh electrode 220 is located above each first mesh pattern 110 electrically connected thereto.
Accordingly, at least a part of the specific first mesh pattern 110 and the second auxiliary mesh electrode 220 electrically connected to each other overlap.

一例として、図2ではすべての第1メッシュパターン110が第2補助メッシュ電極220と電気的に接続された形態を図示した。
この場合、第1メッシュパターン110と第2補助メッシュ電極220との個数は同一である。
概ね、第1メッシュパターン110のうち一部のみが第2補助メッシュ電極220と電気的に接続される。
この場合、第1メッシュパターン110と第2補助メッシュ電極220との個数は異なってもよい。
As an example, in FIG. 2, all the first mesh patterns 110 are electrically connected to the second auxiliary mesh electrodes 220.
In this case, the numbers of the first mesh patterns 110 and the second auxiliary mesh electrodes 220 are the same.
Generally, only a part of the first mesh pattern 110 is electrically connected to the second auxiliary mesh electrode 220.
In this case, the numbers of the first mesh patterns 110 and the second auxiliary mesh electrodes 220 may be different.

第2補助メッシュ電極220を具備することによって、第1タッチ電極101の抵抗が低下し、これによってRCディレイ(RC Delay)を改善することができる。   By providing the second auxiliary mesh electrode 220, the resistance of the first touch electrode 101 is reduced, and thus the RC delay can be improved.

各々の第2補助メッシュ電極220は多数の開口部227を含むメッシュ形状を有し、薄い幅を有する金属ライン225からなる。
第2補助メッシュ電極220は多様な導電性物質で形成される。例えば、第2補助メッシュ電極220はAg、Al、Cu、Cr、Ni、Mo等のような不透明な金属で形成される。
Each of the second auxiliary mesh electrodes 220 has a mesh shape including a plurality of openings 227 and includes metal lines 225 having a thin width.
The second auxiliary mesh electrode 220 is formed of various conductive materials. For example, the second auxiliary mesh electrode 220 is formed of an opaque metal such as Ag, Al, Cu, Cr, Ni or Mo.

工程を簡単にするために、同一の絶縁膜200上に位置する第2メッシュパターン120、第2連結パターン122、及び第2補助メッシュ電極220は同一の物質で形成される。
第1タッチ電極101と第2タッチ電極102とは同一の物質又は異なる物質で形成されてもよい。
また、第1メッシュパターン110と第2メッシュパターン120とは同一の物質又は異なる物質で形成されてもよい。
In order to simplify the process, the second mesh pattern 120, the second connection pattern 122, and the second auxiliary mesh electrode 220 located on the same insulating layer 200 are formed of the same material.
The first touch electrode 101 and the second touch electrode 102 may be formed of the same material or different materials.
Also, the first mesh pattern 110 and the second mesh pattern 120 may be formed of the same material or different materials.

図3は図2に図示されたR1領域の拡大図であり、図4は図3のA1−A2線を基準にした図3の断面図である。
図3及び図4では第1メッシュパターン110と第2補助メッシュ電極220との間の連結構造を図示した。
また、図3では第1メッシュパターン110を点線で図示し、第2補助メッシュ電極220を実線で図示した。
3 is an enlarged view of the R1 region shown in FIG. 2, and FIG. 4 is a cross-sectional view of FIG. 3 based on the line A1-A2 of FIG.
3 and 4 illustrate a connection structure between the first mesh pattern 110 and the second auxiliary mesh electrode 220.
Further, in FIG. 3, the first mesh pattern 110 is shown by a dotted line, and the second auxiliary mesh electrode 220 is shown by a solid line.

図3及び図4を参照すれば、本発明の実施形態によるタッチパネルは第1コンタクトパターン410をさらに含む。
絶縁膜200は多数の第1コンタクトホール310を含む。
Referring to FIGS. 3 and 4, the touch panel according to the embodiment of the present invention further includes a first contact pattern 410.
The insulating film 200 includes a plurality of first contact holes 310.

第1コンタクトホール310は第1メッシュパターン110の上側に形成される。
例えば、第1コンタクトホール310は図3に示したように第1メッシュパターン110に含まれた金属ライン115の交差点と、第2補助メッシュ電極220に含まれた金属ライン225の交差点との間に位置する。
The first contact hole 310 is formed above the first mesh pattern 110.
For example, the first contact hole 310 is formed between the intersection of the metal line 115 included in the first mesh pattern 110 and the intersection of the metal line 225 included in the second auxiliary mesh electrode 220 as shown in FIG. To position.

第1コンタクトパターン410は、絶縁膜200に形成された多数の第1コンタクトホール310を通じて、第1メッシュパターン110のうち少なくとも一部と第2補助メッシュ電極220との間を各々連結する。
例えば、図4に示したように、第1コンタクトパターン410は、第1メッシュパターン110上に位置する多数の第1コンタクトホール310を通じて、第1メッシュパターン110と第2補助メッシュ電極220とを電気的に接続する。
第1コンタクトパターン410は第2補助メッシュ電極220と一体に形成される。
また、第1コンタクトホール310の位置及び個数は、多様に変更されることができる。
The first contact pattern 410 connects at least a part of the first mesh pattern 110 and the second auxiliary mesh electrode 220 through a plurality of first contact holes 310 formed in the insulating film 200.
For example, as shown in FIG. 4, the first contact pattern 410 may electrically connect the first mesh pattern 110 and the second auxiliary mesh electrode 220 to each other through a plurality of first contact holes 310 located on the first mesh pattern 110. Connect to each other.
The first contact pattern 410 is formed integrally with the second auxiliary mesh electrode 220.
Also, the position and number of the first contact holes 310 may be variously changed.

誤整列(Misalignment)によるモアレ(Moire)を防止するために、第2補助メッシュ電極220に含まれた金属ライン225の幅W1は第1メッシュパターン110に含まれた金属ライン115の幅W2と異なる。
特に、図3に示したように、第2補助メッシュ電極220に含まれた金属ライン225の幅W1は第1メッシュパターン110に含まれた金属ライン115の幅W2より大きい。
The width W1 of the metal line 225 included in the second auxiliary mesh electrode 220 is different from the width W2 of the metal line 115 included in the first mesh pattern 110 in order to prevent Moire due to misalignment. ..
In particular, as shown in FIG. 3, the width W1 of the metal line 225 included in the second auxiliary mesh electrode 220 is larger than the width W2 of the metal line 115 included in the first mesh pattern 110.

図5は本発明の実施形態による拡張部を示した図面である。
また、図5では図3と同様に、第1メッシュパターン110を点線で図示し、第2補助メッシュ電極220を実線で図示した。
FIG. 5 is a view showing an extension unit according to an exemplary embodiment of the present invention.
Further, in FIG. 5, as in FIG. 3, the first mesh pattern 110 is shown by a dotted line, and the second auxiliary mesh electrode 220 is shown by a solid line.

図5を参照すれば、本発明の実施形態による第2補助メッシュ電極220は金属ライン225の交差点で外側に延長された拡張部229をさらに含む。
したがって、金属ライン225が交差する部分の面積は広くなり、若干の誤整列が発生しても第1メッシュパターン110とのコンタクトが可能である。
また、第1メッシュパターン110は金属ライン115の交差点で外側に延長された拡張部119をさらに含む。
これによって、金属ライン115が交差する部分の面積は広くなり、若干の誤整列が発生しても第2補助メッシュ電極220とのコンタクトが可能である。
また、第1コンタクトホール310の大きさも増加し、第1メッシュパターン110と第2補助メッシュ電極210との間のコンタクト面積も広くなる。
Referring to FIG. 5, the second auxiliary mesh electrode 220 according to the embodiment of the present invention further includes an extension part 229 extended outward at an intersection of the metal lines 225.
Therefore, the area where the metal lines 225 intersect becomes large, and even if some misalignment occurs, it is possible to make contact with the first mesh pattern 110.
In addition, the first mesh pattern 110 may further include an extension part 119 extended outward at an intersection of the metal lines 115.
As a result, the area where the metal lines 115 intersect becomes large, and even if a slight misalignment occurs, the contact with the second auxiliary mesh electrode 220 is possible.
In addition, the size of the first contact hole 310 increases, and the contact area between the first mesh pattern 110 and the second auxiliary mesh electrode 210 also increases.

図6は図2に図示されたR2領域の拡大図であり、図7は図6のB1−B2線を基準にした図6の断面図である。
図6及び図7では第2メッシュパターン120と第1補助メッシュ電極210との間の連結構造を図示した。
また、図6では第2メッシュパターン120を実線で図示し、第1補助メッシュ電極210を点線で図示した。
6 is an enlarged view of the R2 region shown in FIG. 2, and FIG. 7 is a cross-sectional view of FIG. 6 based on the line B1-B2 of FIG.
6 and 7 illustrate a connection structure between the second mesh pattern 120 and the first auxiliary mesh electrode 210.
Further, in FIG. 6, the second mesh pattern 120 is shown by a solid line, and the first auxiliary mesh electrode 210 is shown by a dotted line.

図6及び図7を参照すれば、本発明の実施形態によるタッチパネルは第2コンタクトパターン420をさらに含む。
絶縁膜200は多数の第2コンタクトホール320を含む。
Referring to FIGS. 6 and 7, the touch panel according to the embodiment of the present invention further includes a second contact pattern 420.
The insulating film 200 includes a plurality of second contact holes 320.

第2コンタクトホール320は第1補助メッシュ電極210の上側に形成される。
例えば、第2コンタクトホール320は図6に示したように第1補助メッシュ電極210に含まれた金属ライン215の交差点と、第2メッシュパターン120に含まれた金属ライン125の交差点との間に位置する。
The second contact hole 320 is formed above the first auxiliary mesh electrode 210.
For example, the second contact hole 320 is formed between the intersection of the metal line 215 included in the first auxiliary mesh electrode 210 and the intersection of the metal line 125 included in the second mesh pattern 120 as shown in FIG. To position.

第2コンタクトパターン420は、絶縁膜200に形成された多数の第2コンタクトホール320を通じて、第2メッシュパターン120のうち少なくとも一部と第1補助メッシュ電極210との間を各々連結する。
例えば、図7に示したように、第2コンタクトパターン420は、第1補助メッシュ電極210上に位置する多数の第2コンタクトホール320を通じて、第2メッシュパターン120と第1補助メッシュ電極210とを電気的に接続する。
第2コンタクトパターン420は第2メッシュパターン120と一体に形成される。
また、第2コンタクトホール320の位置及び個数は、多様に変更されることができる。
The second contact pattern 420 connects at least a portion of the second mesh pattern 120 and the first auxiliary mesh electrode 210 through the plurality of second contact holes 320 formed in the insulating film 200.
For example, as shown in FIG. 7, the second contact pattern 420 connects the second mesh pattern 120 and the first auxiliary mesh electrode 210 through the plurality of second contact holes 320 located on the first auxiliary mesh electrode 210. Connect electrically.
The second contact pattern 420 is formed integrally with the second mesh pattern 120.
Also, the position and number of the second contact holes 320 may be variously changed.

誤整列(Misalignment)によるモアレ(Moire)を防止するために、第1補助メッシュ電極210に含まれた金属ライン215の幅W3は第2メッシュパターン120に含まれた金属ライン125の幅W4と異なる。
特に、図6に示したように、第1補助メッシュ電極210に含まれた金属ライン215の幅W3は第2メッシュパターン120に含まれた金属ライン125の幅W4より小さい。
The width W3 of the metal line 215 included in the first auxiliary mesh electrode 210 is different from the width W4 of the metal line 125 included in the second mesh pattern 120 to prevent Moire due to misalignment. ..
In particular, as shown in FIG. 6, the width W3 of the metal line 215 included in the first auxiliary mesh electrode 210 is smaller than the width W4 of the metal line 125 included in the second mesh pattern 120.

別途図示しないが、第2メッシュパターン120は図5に図示された第1メッシュパターン110と同様に、金属ライン125の交差点で外側に延長された拡張部(図示せず)をさらに含む。
また、第1補助メッシュ電極210は図5に図示された第2補助メッシュ電極220と同様に、金属ライン215の交差点で外側に延長された拡張部(図示せず)をさらに含む。
Although not shown separately, the second mesh pattern 120, similarly to the first mesh pattern 110 shown in FIG. 5, further includes an extension part (not shown) extended to the outside at the intersection of the metal lines 125.
In addition, the first auxiliary mesh electrode 210, like the second auxiliary mesh electrode 220 shown in FIG. 5, further includes an extension (not shown) extended to the outside at the intersection of the metal lines 215.

本発明の実施形態によるタッチパネルがディスプレイパネルと結合される場合、ディスプレイパネルに含まれた画素(図示せず)は各々メッシュパターン110、120の開口部117、127及び補助メッシュ電極210、220の開口部217、227と重畳するように配置される。
したがって、画素から放出される光がメッシュパターン110、120と補助メッシュ電極210、220とによって遮断されない。
このとき、メッシュパターン110、120の各開口部117、127内には少なくとも1つ以上の画素が位置する。
When the touch panel according to the exemplary embodiment of the present invention is combined with the display panel, the pixels (not shown) included in the display panel have openings 117 and 127 of the mesh patterns 110 and 120 and openings of the auxiliary mesh electrodes 210 and 220, respectively. It is arranged so as to overlap the parts 217 and 227.
Therefore, the light emitted from the pixel is not blocked by the mesh patterns 110 and 120 and the auxiliary mesh electrodes 210 and 220.
At this time, at least one pixel is located in each opening 117, 127 of the mesh patterns 110, 120.

図8は図2に図示されたR3領域の拡大図であり、図9は図8のC1−C2線を基準にした図8の断面図である。   8 is an enlarged view of the R3 region shown in FIG. 2, and FIG. 9 is a sectional view of FIG. 8 based on the line C1-C2 of FIG.

図1、図8、及び図9を参照すれば、本発明の実施形態によるタッチパネルは第1トレースライン151、第2トレースライン152、第1パッド231、第2パッド232、第3コンタクトパターン430、及び第4コンタクトパターン440を含む。   Referring to FIGS. 1, 8 and 9, a touch panel according to an exemplary embodiment of the present invention includes a first trace line 151, a second trace line 152, a first pad 231, a second pad 232, a third contact pattern 430, and And a fourth contact pattern 440.

図1を参照すれば、第1トレースライン151は基板100上に位置し、第1タッチ電極101と各々電気的に接続される。
例えば、第1トレースライン151は基板100の外殻領域に位置する。
また、第1トレースライン151の各一端部は、各第1タッチ電極101に含まれたメッシュパターン110の中で外側に位置するメッシュパターンに連結され、第1トレースライン151の各他端部は第1パッド231に向かって延長形成される。
Referring to FIG. 1, the first trace lines 151 are located on the substrate 100 and are electrically connected to the first touch electrodes 101, respectively.
For example, the first trace line 151 is located in the outer shell region of the substrate 100.
In addition, each one end of the first trace line 151 is connected to a mesh pattern located outside of the mesh pattern 110 included in each first touch electrode 101, and each other end of the first trace line 151 is connected to the other mesh pattern 110. The extension is formed toward the first pad 231.

図1を参照すれば、第2トレースライン152は基板100上に位置し、第2タッチ電極102と各々電気的に接続される。
例えば、第2トレースライン152は基板100の外殻領域に位置し、第1補助メッシュ電極210と第2コンタクトパターン420とを通じて絶縁膜200上に位置する第2タッチ電極102と電気的に接続される。
このために、第2トレースライン152の各一端部は、第1補助メッシュ電極210の中で外側に位置する第1補助メッシュ電極に連結され、第2トレースライン152の各他端部は第2パッド232に向かって延長形成される。
Referring to FIG. 1, the second trace lines 152 are located on the substrate 100 and are electrically connected to the second touch electrodes 102, respectively.
For example, the second trace line 152 is located in the outer shell region of the substrate 100 and is electrically connected to the second touch electrode 102 located on the insulating layer 200 through the first auxiliary mesh electrode 210 and the second contact pattern 420. It
To this end, one end of each second trace line 152 is connected to the first auxiliary mesh electrode positioned outside the first auxiliary mesh electrode 210, and each other end of the second trace line 152 is connected to the second auxiliary mesh electrode 210. The extension is formed toward the pad 232.

工程の便宜のために、第1メッシュパターン110、第1補助メッシュ電極210、第1トレースライン151、第2トレースライン152は同一の物質で形成される。   For convenience of the process, the first mesh pattern 110, the first auxiliary mesh electrode 210, the first trace line 151, and the second trace line 152 are formed of the same material.

絶縁膜200は多数の第3コンタクトホール330と多数の第4コンタクトホール340とを含む。
各々の第3コンタクトホール330は第1トレースライン151の各他端部上に形成される。
例えば、第3コンタクトホール330は第1トレースライン151と第1パッド231とが各々重畳する領域に位置する。
The insulating film 200 includes a large number of third contact holes 330 and a large number of fourth contact holes 340.
Each third contact hole 330 is formed on the other end of the first trace line 151.
For example, the third contact hole 330 is located in a region where the first trace line 151 and the first pad 231 overlap with each other.

また、各々の第4コンタクトホール340は第2トレースライン152の各他端部上に形成される。
例えば、第4コンタクトホール340は第2トレースライン152と第2パッド232とが各々重畳する領域に位置する。
In addition, each fourth contact hole 340 is formed on each other end of the second trace line 152.
For example, the fourth contact hole 340 is located in a region where the second trace line 152 and the second pad 232 overlap each other.

第1パッド231と第2パッド232とは絶縁膜200上に位置する。例えば、第1パッド231と第2パッド232とは絶縁膜200の外殻領域に位置する。   The first pad 231 and the second pad 232 are located on the insulating film 200. For example, the first pad 231 and the second pad 232 are located in the outer shell region of the insulating film 200.

第1パッド231は第3コンタクトパターン430を通じて第1トレースライン151の他端部と連結される。
また、第2パッド232は第4コンタクトパターン440を通じて第2トレースライン152の他端部と連結される。
第3コンタクトパターン430は、絶縁膜200に形成された多数の第3コンタクトホール330を通じて、第1パッド231と第1トレースライン151との間を各々連結する。
また、第3コンタクトパターン430は第1パッド231と一体に形成される。
第4コンタクトパターン440は、絶縁膜200に形成された多数の第4コンタクトホール340を通じて、第2パッド232と第2トレースライン152との間を各々連結する。
また、第4コンタクトパターン440は第2パッド232と一体に形成される。
The first pad 231 is connected to the other end of the first trace line 151 through the third contact pattern 430.
In addition, the second pad 232 is connected to the other end of the second trace line 152 through the fourth contact pattern 440.
The third contact pattern 430 connects the first pad 231 and the first trace line 151 to each other through a plurality of third contact holes 330 formed in the insulating film 200.
In addition, the third contact pattern 430 is formed integrally with the first pad 231.
The fourth contact pattern 440 connects the second pad 232 and the second trace line 152 through the plurality of fourth contact holes 340 formed in the insulating film 200.
In addition, the fourth contact pattern 440 is formed integrally with the second pad 232.

図10は図2に図示されたR4領域の拡大図であり、図11A及び図11Bは図10のD1−D2線を基準にした図10の断面図である。但し、図11Aと図11Bとでは各々異なる形態の実施形態を図示した。   10 is an enlarged view of the R4 region shown in FIG. 2, and FIGS. 11A and 11B are cross-sectional views of FIG. 10 based on the line D1-D2 of FIG. However, FIG. 11A and FIG. 11B illustrate different embodiments.

図2、図10、図11A、及び図11Bを参照すれば、本発明の実施形態によるタッチパネルは第1補助ライン251を含む。
第1補助ライン251は絶縁膜200上に位置する。例えば、第1補助ライン251は絶縁膜200の外殻領域に位置する。
第1補助ライン251は各々第1トレースライン151と電気的に接続される。
第1補助ライン251を具備することによって、第1トレースライン151の抵抗が低下し、これによってRCディレイ(RC Delay)を改善することができる。
このとき、第1補助ライン251は図11Aに示したように第1トレースライン151の上側に直接連結される。
例えば、第1補助ライン251の少なくとも一部分は第1トレースライン151上に直接的に接触する。
Referring to FIGS. 2, 10, 11A, and 11B, the touch panel according to the embodiment of the present invention includes a first auxiliary line 251.
The first auxiliary line 251 is located on the insulating film 200. For example, the first auxiliary line 251 is located in the outer shell region of the insulating film 200.
The first auxiliary lines 251 are electrically connected to the first trace lines 151, respectively.
By providing the first auxiliary line 251, the resistance of the first trace line 151 is reduced, and thus the RC delay can be improved.
At this time, the first auxiliary line 251 is directly connected to the upper side of the first trace line 151 as shown in FIG. 11A.
For example, at least a portion of the first auxiliary line 251 directly contacts the first trace line 151.

概ね、第1補助ライン251は図11Bに示したように第5コンタクトホール350と第5コンタクトパターン450とを通じて第1トレースライン151と各々連結される。
このために、絶縁膜200は第1トレースライン151上に位置する多数の第5コンタクトホール350を含む。
例えば、第5コンタクトホール350は第1トレースライン151と第1補助ライン251とが各々重畳する領域に位置する。
第5コンタクトパターン450は、絶縁膜200に形成された第5コンタクトホール350を通じて、第1トレースライン151と第1補助ライン251とを各々連結する。
これを通じて、第1トレースライン151と第1補助ライン251との間に絶縁膜200が存在しても、第1トレースライン151と第1補助ライン251とは電気的に接続される。
このとき、第5コンタクトパターン450を通じて相互に電気的に接続された第1トレースライン151と第1補助ライン251とは少なくとも一部分が重畳する。
In general, the first auxiliary line 251 is connected to the first trace line 151 through the fifth contact hole 350 and the fifth contact pattern 450, as shown in FIG. 11B.
To this end, the insulating layer 200 includes a plurality of fifth contact holes 350 located on the first trace lines 151.
For example, the fifth contact hole 350 is located in a region where the first trace line 151 and the first auxiliary line 251 overlap each other.
The fifth contact pattern 450 connects the first trace line 151 and the first auxiliary line 251 through the fifth contact hole 350 formed in the insulating film 200.
Through this, even if the insulating film 200 exists between the first trace line 151 and the first auxiliary line 251, the first trace line 151 and the first auxiliary line 251 are electrically connected.
At this time, at least a part of the first trace line 151 and the first auxiliary line 251 which are electrically connected to each other through the fifth contact pattern 450 overlap.

第1補助ライン251の幅W5は第1トレースライン151の幅W6と異なる。
例えば、図10に示したように、第1補助ライン251の幅W5は第1トレースライン151の幅W6より大きく設定される。
The width W5 of the first auxiliary line 251 is different from the width W6 of the first trace line 151.
For example, as shown in FIG. 10, the width W5 of the first auxiliary line 251 is set larger than the width W6 of the first trace line 151.

図12は図2に図示されたR5領域の拡大図であり、図13A及び図13Bは図12のE1−E2線を基準にした図12の断面図である。但し、図13Aと図13Bとでは各々異なる形態の実施形態を図示した。   12 is an enlarged view of the R5 region shown in FIG. 2, and FIGS. 13A and 13B are sectional views of FIG. 12 based on the line E1-E2 of FIG. However, FIG. 13A and FIG. 13B illustrate different embodiments.

図2、図12、図13A、及び図13Bを参照すれば、本発明の実施形態によるタッチパネルは第2補助ライン252を含む。
第2補助ライン252は絶縁膜200上に位置する。例えば、第2補助ライン252は絶縁膜200の外殻領域に位置する。
第2補助ライン252は各々第2トレースライン152と電気的に接続される。
第2補助ライン252を具備することによって、第2トレースライン152の抵抗が低下し、これによってRCディレイ(RC Delay)を改善することができる。
このとき、第2補助ライン252は図13Aに示したように第2トレースライン152の上側に直接連結される。
例えば、第2補助ライン252の少なくとも一部分は第2トレースライン152上に直接的に接触する。
Referring to FIGS. 2, 12, 13A, and 13B, the touch panel according to the embodiment of the present invention includes a second auxiliary line 252.
The second auxiliary line 252 is located on the insulating film 200. For example, the second auxiliary line 252 is located in the outer shell region of the insulating film 200.
The second auxiliary lines 252 are electrically connected to the second trace lines 152, respectively.
By providing the second auxiliary line 252, the resistance of the second trace line 152 may be reduced, thereby improving the RC delay.
At this time, the second auxiliary line 252 is directly connected to the upper side of the second trace line 152 as shown in FIG. 13A.
For example, at least a portion of the second auxiliary line 252 directly contacts the second trace line 152.

概ね、第2補助ライン252は図13Bに示したように第6コンタクトホール360と第6コンタクトパターン460とを通じて第2トレースライン152と各々連結される。
このために、絶縁膜200は第2トレースライン152上に位置する多数の第6コンタクトホール360を含む。
例えば、第6コンタクトホール360は第2トレースライン152と第2補助ライン252とが各々重畳する領域に位置する。
第6コンタクトパターン460は、絶縁膜200に形成された第6コンタクトホール360を通じて、第2トレースライン152と第2補助ライン252とを各々連結する。
これを通じて、第2トレースライン152と第2補助ライン252との間に絶縁膜200が存在しても、第2トレースライン152と第2補助ライン252とは電気的に接続される。
このとき、第6コンタクトパターン460を通じて相互に電気的に接続された第2トレースライン152と第2補助ライン252とは少なくとも一部分が重畳する。
In general, the second auxiliary line 252 is connected to the second trace line 152 through the sixth contact hole 360 and the sixth contact pattern 460 as shown in FIG. 13B.
To this end, the insulating layer 200 includes a plurality of sixth contact holes 360 located on the second trace lines 152.
For example, the sixth contact hole 360 is located in a region where the second trace line 152 and the second auxiliary line 252 overlap with each other.
The sixth contact pattern 460 connects the second trace line 152 and the second auxiliary line 252 through the sixth contact hole 360 formed in the insulating film 200.
Through this, even if the insulating film 200 exists between the second trace line 152 and the second auxiliary line 252, the second trace line 152 and the second auxiliary line 252 are electrically connected.
At this time, at least a part of the second trace line 152 and the second auxiliary line 252, which are electrically connected to each other through the sixth contact pattern 460, overlap each other.

第2補助ライン252の幅W7は第2トレースライン152の幅W8と異なる。
例えば、図12に示したように、第2補助ライン252の幅W7は第2トレースライン152の幅W8より大きく設定される。
The width W7 of the second auxiliary line 252 is different from the width W8 of the second trace line 152.
For example, as shown in FIG. 12, the width W7 of the second auxiliary line 252 is set larger than the width W8 of the second trace line 152.

工程を簡単にするために、第2メッシュパターン120、第2補助メッシュ電極220、第1補助ライン251、第2補助ライン252は同一の物質で形成される。
第1補助ライン251と第1トレースライン151とは同一の物質又は異なる物質で形成される。
また、第2補助ライン252と第2トレースライン152とは同一の物質又は異なる物質で形成される。
To simplify the process, the second mesh pattern 120, the second auxiliary mesh electrode 220, the first auxiliary line 251, and the second auxiliary line 252 are formed of the same material.
The first auxiliary line 251 and the first trace line 151 are formed of the same material or different materials.
In addition, the second auxiliary line 252 and the second trace line 152 are formed of the same material or different materials.

図14は本発明の実施形態によるダミーパターンを示した図面である。   FIG. 14 is a view showing a dummy pattern according to an exemplary embodiment of the present invention.

図14を参照すれば、本発明の実施形態によるタッチパネルはダミーパターン400を含む。   Referring to FIG. 14, the touch panel according to the embodiment of the present invention includes a dummy pattern 400.

第1メッシュパターン110と第1補助メッシュ電極210とが存在する領域と、第1メッシュパターン110と第1補助メッシュ電極210とが存在しない領域との間には反射率、透過度等の特性差が存在する。
したがって、当該特性の均一化のために、第1メッシュパターン110と第1補助メッシュ電極210との間に多数のダミーパターン400を配置する。
Characteristic differences such as reflectance and transmittance between a region where the first mesh pattern 110 and the first auxiliary mesh electrode 210 exist and a region where the first mesh pattern 110 and the first auxiliary mesh electrode 210 do not exist. Exists.
Therefore, in order to make the characteristics uniform, a large number of dummy patterns 400 are arranged between the first mesh pattern 110 and the first auxiliary mesh electrode 210.

ダミーパターン400は基板100上に位置し、電気的にフローティング(floating)状態である。
このために、ダミーパターン400は第1メッシュパターン110及び第1補助メッシュ電極210と所定距離だけ離隔して位置する。
また、ダミーパターン400は第1メッシュパターン110のようにメッシュ形状を有する。
The dummy pattern 400 is located on the substrate 100 and is in an electrically floating state.
For this reason, the dummy pattern 400 is spaced apart from the first mesh pattern 110 and the first auxiliary mesh electrode 210 by a predetermined distance.
The dummy pattern 400 has a mesh shape like the first mesh pattern 110.

図15及び図16は本発明の実施形態によるタッチパネルを示した図面である。説明を簡単にするために、図15は基板500上に存在する構成要素を中心に図示し、図16は絶縁膜600上に存在する構成要素を中心に図示した。   15 and 16 are views showing a touch panel according to an exemplary embodiment of the present invention. For simplification of description, FIG. 15 mainly shows components existing on the substrate 500, and FIG. 16 mainly shows components existing on the insulating film 600.

図15及び図16を参照すれば、本発明の実施形態によるタッチパネルは基板500、第1タッチ電極501、絶縁膜600、第2タッチ電極502、第1補助電極610、及び第2補助電極620を含む。   Referring to FIGS. 15 and 16, a touch panel according to an exemplary embodiment of the present invention includes a substrate 500, a first touch electrode 501, an insulating film 600, a second touch electrode 502, a first auxiliary electrode 610, and a second auxiliary electrode 620. Including.

基板500上に第1タッチ電極501及び第1補助電極610が配置される。   The first touch electrode 501 and the first auxiliary electrode 610 are disposed on the substrate 500.

基板500は多様な物質で形成される。基板500はガラス、樹脂(resin)等のような絶縁性材料からなる。また、基板500は曲げられるか、或いは折られることが可能である柔軟性(flexibility)を有する材料からなり、単層構造又は多層構造を有する。また、基板500は光が透過できる透明性(Transparency)を有する。   The substrate 500 is formed of various materials. The substrate 500 is made of an insulating material such as glass or resin. Also, the substrate 500 is made of a flexible material that can be bent or folded, and has a single-layer structure or a multi-layer structure. In addition, the substrate 500 has a transparency that allows light to pass therethrough.

タッチスクリーン機能を具現するために、本発明の実施形態によるタッチパネルはイメージを表示するディスプレイパネルと結合される。本発明の実施形態によるタッチパネルはディスプレイパネルとの結合方式によって、アウトセル(outcell)、オンセル(on−cell)、及びインセル(in−cell)方式に分けられる。   To implement the touch screen function, the touch panel according to the embodiment of the present invention may be combined with a display panel displaying an image. The touch panel according to the exemplary embodiment of the present invention may be classified into an out cell, an on-cell, and an in-cell according to a combination method with a display panel.

アウトセル方式に結合されるタッチパネルでは、基板500はディスプレイパネルに付着される。オンセル方式に結合されるタッチパネルでは、基板500はディスプレイパネルに使用される封止薄膜(Encapsulation Thin Film)である。インセル方式に結合されるタッチパネルでは、基板500はディスプレイパネルの内部のいずれか一層である。   In the touch panel combined with the out-cell type, the substrate 500 is attached to the display panel. In the touch panel combined with the on-cell type, the substrate 500 is an encapsulation thin film used in a display panel. In the in-cell type touch panel, the substrate 500 is one of the layers inside the display panel.

第1タッチ電極501は各々第1方向(例えば、y軸方向)に長く形成され、当該第1方向と交差する第2方向(例えば、x軸方向)に沿って基板500上に複数個が配列される。
例えば、各々の第1タッチ電極501は第1方向に沿って基板500上に配列される多数のメッシュパターン510を含む。
このとき、メッシュパターン510は相互に電気的に接続される。
このために、第1タッチ電極501は基板500上に位置してメッシュパターン510を相互に連結する連結パターン512をさらに含む。
第1タッチ電極501の各々は多数の開口部517を含むメッシュ形状を有し、薄い幅を有する金属ライン515からなる。
The first touch electrodes 501 are each formed to be long in the first direction (eg, the y-axis direction), and a plurality of first touch electrodes 501 are arranged on the substrate 500 along a second direction (eg, the x-axis direction) intersecting the first direction. To be done.
For example, each first touch electrode 501 includes a plurality of mesh patterns 510 arranged on the substrate 500 along a first direction.
At this time, the mesh patterns 510 are electrically connected to each other.
To this end, the first touch electrode 501 further includes a connection pattern 512 located on the substrate 500 and connecting the mesh patterns 510 to each other.
Each of the first touch electrodes 501 has a mesh shape including a plurality of openings 517, and includes metal lines 515 having a thin width.

第1タッチ電極501に含まれた金属ライン515の各々は第1方向及び第2方向と交差する方向に延在する直線形状を有する。平面上で第1タッチ電極501に含まれた金属ライン515はディスプレイパネル(図示せず)のブラックマトリックスのような非表示領域のみでなく、表示領域に重畳するように配置されてもよい。   Each of the metal lines 515 included in the first touch electrode 501 has a linear shape extending in a direction intersecting the first direction and the second direction. The metal line 515 included in the first touch electrode 501 on the plane may be disposed not only in a non-display area such as a black matrix of a display panel (not shown) but also in a display area.

第1タッチ電極501は多様な導電性物質で形成される。例えば、第1タッチ電極501はAg、Ti、Al、Cu、Cr、Ni、Mo等のような不透明な金属又はこれらの合金で形成される。   The first touch electrode 501 is formed of various conductive materials. For example, the first touch electrode 501 is formed of an opaque metal such as Ag, Ti, Al, Cu, Cr, Ni, Mo, or an alloy thereof.

多数の第1補助電極610は基板500上に配置される。第1補助電極610は第1タッチ電極501と同一の層上に配置される。
第1補助電極610は、絶縁膜600上に位置する第2タッチ電極502のうち少なくとも一部と各々電気的に接続される。
このために、各々の第1補助電極610はそれと電気的に接続される各々の第2タッチ電極502の下側に位置する。
これによって、相互に電気的に接続された第2タッチ電極502と第1補助電極610とは少なくとも一部分が重畳する。
The plurality of first auxiliary electrodes 610 are disposed on the substrate 500. The first auxiliary electrode 610 is disposed on the same layer as the first touch electrode 501.
The first auxiliary electrode 610 is electrically connected to at least a part of the second touch electrode 502 located on the insulating film 600.
To this end, each first auxiliary electrode 610 is located under each second touch electrode 502 that is electrically connected to it.
As a result, the second touch electrode 502 and the first auxiliary electrode 610, which are electrically connected to each other, at least partially overlap each other.

第1補助電極610を具備することによって、第2タッチ電極502の抵抗が低下し、これによってRCディレイ(RC Delay)を改善することができる。   By providing the first auxiliary electrode 610, the resistance of the second touch electrode 502 is reduced, and thus the RC delay can be improved.

第1補助電極610の各々は多数の開口部617を含むメッシュ形状を有し、薄い幅を有する金属ライン615からなる。
第1補助電極610に含まれた金属ライン615の各々は第1方向及び第2方向と交差する方向に延在する直線形状を有する。平面上で第1補助電極610に含まれた金属ライン615はディスプレイパネル(図示せず)のブラックマトリックスのような非表示領域のみでなく、表示領域に重畳するように配置される。
第1補助電極610は多様な導電性物質で形成される。例えば、第1補助電極610はAg、Ti、Al、Cu、Cr、Ni、Mo等のような不透明な金属又はこれらの合金で形成される。
Each of the first auxiliary electrodes 610 has a mesh shape including a plurality of openings 617, and includes metal lines 615 having a thin width.
Each of the metal lines 615 included in the first auxiliary electrode 610 has a linear shape extending in a direction intersecting the first direction and the second direction. The metal line 615 included in the first auxiliary electrode 610 on the plane is disposed not only in a non-display area such as a black matrix of a display panel (not shown) but also in a display area.
The first auxiliary electrode 610 is formed of various conductive materials. For example, the first auxiliary electrode 610 is formed of an opaque metal such as Ag, Ti, Al, Cu, Cr, Ni, Mo, or an alloy thereof.

工程を簡単にするために、同一の基板500上に位置する第1タッチ電極501及び第1補助電極610は同一の物質で形成される。   In order to simplify the process, the first touch electrode 501 and the first auxiliary electrode 610 located on the same substrate 500 are formed of the same material.

絶縁膜600は基板500の上側に広い形態に形成される。これによって、絶縁膜600は第1タッチ電極501の上側に位置する。
また、絶縁膜600は、基板500上に位置する他の構成要素(例えば、第1補助電極610、第1トレースライン551、及び第2トレースライン552)の上側に位置する。
絶縁膜600はSiOx、SiNx等のような多様な絶縁物質で形成される。
The insulating film 600 is formed in a wide shape on the upper side of the substrate 500. As a result, the insulating film 600 is located above the first touch electrode 501.
In addition, the insulating film 600 is located above other components (eg, the first auxiliary electrode 610, the first trace line 551, and the second trace line 552) located on the substrate 500.
The insulating layer 600 is formed of various insulating materials such as SiOx and SiNx.

第2タッチ電極502は各々第2方向(例えば、x軸方向)に長く形成され、当該第2方向と交差する第1方向(例えば、y軸方向)に沿って絶縁膜600上に複数個が配列される。
例えば、各々の第2タッチ電極502は第2方向に沿って互いに隣接する第1補助電極610と重畳する。
第2タッチ電極502は互いに異なるパターン形状を有する第1部分560及び第2部分570を含む。第1部分560は第1領域(図示せず)に配置され、第2部分570は第2領域(図示せず)に配置される。
Each of the second touch electrodes 502 is formed to be long in the second direction (eg, the x-axis direction), and a plurality of second touch electrodes 502 are formed on the insulating film 600 along a first direction (eg, the y-axis direction) intersecting the second direction. Arranged.
For example, each of the second touch electrodes 502 overlaps the first auxiliary electrodes 610 that are adjacent to each other in the second direction.
The second touch electrode 502 includes a first portion 560 and a second portion 570 having different pattern shapes. The first portion 560 is arranged in the first region (not shown) and the second portion 570 is arranged in the second region (not shown).

図16で、第1領域は3段階の陰影表示の中で最も濃い濃度と中間濃度の陰影が表示された領域であり、第2領域は最も薄い濃度の陰影が表示された領域である。   In FIG. 16, the first area is an area in which the shades of the highest density and the intermediate density are displayed in the shade display of three stages, and the second area is the area in which the shade of the lowest density is displayed.

第1部分560は重畳部分561及び連結部分563を含む。
重畳部分561は第1タッチ電極501と重畳する。具体的には、重畳部分561は連結パターン512と重畳する。
The first portion 560 includes an overlapping portion 561 and a connecting portion 563.
The overlapping portion 561 overlaps the first touch electrode 501. Specifically, the overlapping portion 561 overlaps the connection pattern 512.

連結部分563は重畳部分561の間を連結する。連結部分563の各々は第1補助電極610各々の中心部と重畳する。   The connecting portions 563 connect the overlapping portions 561. Each of the connecting portions 563 overlaps the center of each of the first auxiliary electrodes 610.

第2部分570は連結部分563に連結され、連結部分563の外側に配置される。   The second portion 570 is connected to the connecting portion 563 and is disposed outside the connecting portion 563.

連結部分563は、平面上で連結部分563に連結された第2部分570に比べて、隣接する第2補助電極620からさらに遠く離隔されている。
連結部分563のうち1つとこれに連結された第2部分570のうち1つとは、第1補助電極610のうち1つをカバーする。
The connection part 563 is farther away from the adjacent second auxiliary electrode 620 than the second part 570 connected to the connection part 563 in a plane.
One of the connection parts 563 and one of the second parts 570 connected thereto cover one of the first auxiliary electrodes 610.

重畳部分561、連結部分563、及び第2部分570のパターン形状を含む構造は後述される。   The structure including the pattern shape of the overlapping portion 561, the connecting portion 563, and the second portion 570 will be described later.

第2タッチ電極502は多様な透明導電性物質で形成される。例えば、第2タッチ電極502はITO、IZO、IGZO等のような物質からなる。   The second touch electrode 502 is formed of various transparent conductive materials. For example, the second touch electrode 502 is made of a material such as ITO, IZO, and IGZO.

多数の第2補助電極620は絶縁膜600上に位置する。第2補助電極620は第2タッチ電極502と同一の層上に配置される。
第2補助電極620は、基板500上に位置するメッシュパターン510のうち少なくとも一部と各々電気的に接続される。
このために、各々の第2補助電極620はそれと電気的に接続される各々のメッシュパターン510の上側に位置する。
これによって、相互に電気的に接続された特定メッシュパターン510と第2補助電極620とは、少なくとも一部分が重畳する。
第2補助電極620を具備することによって、第1タッチ電極501の抵抗が低下し、これによってRCディレイ(RC Delay)を改善することができる。
The plurality of second auxiliary electrodes 620 are located on the insulating film 600. The second auxiliary electrode 620 is disposed on the same layer as the second touch electrode 502.
The second auxiliary electrode 620 is electrically connected to at least a part of the mesh pattern 510 located on the substrate 500.
To this end, each second auxiliary electrode 620 is located above each mesh pattern 510 electrically connected to it.
As a result, at least a part of the specific mesh pattern 510 and the second auxiliary electrode 620 electrically connected to each other overlap.
By providing the second auxiliary electrode 620, the resistance of the first touch electrode 501 is reduced, and thus the RC delay can be improved.

第1方向に互いに隣接する第2補助電極620は第1タッチ電極501のうち1つの少なくとも一部と重畳する。
第2補助電極620は互いに異なるパターン形状を有する第3部分660及び第4部分670を含む。第3部分660は第3領域(図示せず)に配置され、第4部分670は第4領域(図示せず)に配置される。図16で第3領域は中間濃度の陰影で表示し、第4領域は最も薄い濃度の陰影で表示した。
The second auxiliary electrodes 620 adjacent to each other in the first direction overlap at least a part of one of the first touch electrodes 501.
The second auxiliary electrode 620 includes a third portion 660 and a fourth portion 670 having different pattern shapes. The third portion 660 is disposed in the third region (not shown) and the fourth portion 670 is disposed in the fourth region (not shown). In FIG. 16, the third region is displayed with a shade of medium density, and the fourth region is displayed with a shade of lightest density.

第3部分660はメッシュパターン510各々の中心部と重畳する。
第4部分670は第3部分660に連結され、第3部分660の外側に配置される。第4部分670のうち1つは第3部分660のうち1つを囲む。
第4部分670は、第4部分670に連結された第3部分660に比べて、隣接する第2タッチ電極502とさらに近く離隔されている。
第3部分660のうち1つとこれに連結された第4部分670のうち1つとは、メッシュパターン510のうち1つをカバーする。
The third portion 660 overlaps the center of each mesh pattern 510.
The fourth portion 670 is connected to the third portion 660 and is disposed outside the third portion 660. One of the fourth portions 670 surrounds one of the third portions 660.
The fourth portion 670 is further closer to the adjacent second touch electrode 502 than the third portion 660 connected to the fourth portion 670.
One of the third parts 660 and one of the fourth parts 670 connected thereto cover one of the mesh patterns 510.

第3部分660及び第4部分670のパターン形状を含む構造は後述される。   The structure including the pattern shapes of the third portion 660 and the fourth portion 670 will be described later.

第2補助電極620は多様な透明導電性物質で形成される。例えば、第2補助電極620はITO、IZO、IGZO等のような物質からなる。   The second auxiliary electrode 620 is formed of various transparent conductive materials. For example, the second auxiliary electrode 620 is made of a material such as ITO, IZO, and IGZO.

工程を簡単にするために、同一の絶縁膜600上に位置する第2補助電極620及び第2タッチ電極502は同一の物質で形成される。   To simplify the process, the second auxiliary electrode 620 and the second touch electrode 502 located on the same insulating film 600 are formed of the same material.

以下、本発明の一実施形態による図16の第2タッチ電極502のパターン形状を説明する。   Hereinafter, the pattern shape of the second touch electrode 502 of FIG. 16 according to an exemplary embodiment of the present invention will be described.

図17は図16のR6領域の拡大図であり、図18は図17のI−I’線を基準にした図17の断面図である。   17 is an enlarged view of the R6 region of FIG. 16, and FIG. 18 is a sectional view of FIG. 17 based on the line I-I′ of FIG.

図15乃至図18を参照すれば、重畳部分561は第1領域に配置された連結パターン512をカバーし、第1領域に配置された連結パターン512によって画定された開口部517をカバーする。重畳部分561は抵抗値を最小化して第2タッチ電極502のRCディレイを減らすために内部に開口部を具備しなくともよい。   Referring to FIGS. 15 to 18, the overlapping portion 561 covers the connection pattern 512 disposed in the first region and covers the opening 517 defined by the connection pattern 512 disposed in the first region. The overlapping portion 561 does not need to have an opening therein in order to minimize the resistance value and reduce the RC delay of the second touch electrode 502.

絶縁膜600は重畳部分561と重畳する領域でコンタクトホールを含まない。重畳部分561を含む第2タッチ電極602と第1タッチ電極501とは互いに絶縁されなければならないためである。   The insulating film 600 does not include a contact hole in a region overlapping with the overlapping portion 561. This is because the second touch electrode 602 including the overlapping portion 561 and the first touch electrode 501 have to be insulated from each other.

図19は図16のR7領域の拡大図であり、図20は図19のII−II’線を基準にした図19の断面図である。   19 is an enlarged view of the region R7 of FIG. 16, and FIG. 20 is a cross-sectional view of FIG. 19 based on the line II-II′ of FIG.

図15、図16、図19、及び図20を参照すれば、連結部分563は第1領域に配置された第1補助電極610をカバーし、第1領域に配置された第1補助電極610によって画定された開口部617をカバーする。連結部分563は内部に開口部を具備しなくともよい。   Referring to FIG. 15, FIG. 16, FIG. 19, and FIG. 20, the connection part 563 covers the first auxiliary electrode 610 arranged in the first region, and the connecting part 563 is formed by the first auxiliary electrode 610 arranged in the first region. Cover the defined opening 617. The connecting portion 563 does not have to have an opening therein.

連結部分563は平面上で第2部分570に比べて第1タッチ電極501との距離が遠いので、タッチ感度を高くするために内部に開口部を具備しなくともよい。   Since the connecting portion 563 is farther from the first touch electrode 501 than the second portion 570 on the plane, it is not necessary to provide an opening inside to increase touch sensitivity.

本発明の実施形態によるタッチパネルは第1コンタクトパターン810をさらに含む。   The touch panel according to the embodiment of the present invention further includes a first contact pattern 810.

絶縁膜600は第1コンタクトホール710を含む。
第1コンタクトホール710は第1補助電極610の上側に形成される。
例えば、第1コンタクトホール710は図19に示したように第1補助電極610に含まれた金属ライン615の交差点に位置する。
The insulating film 600 includes a first contact hole 710.
The first contact hole 710 is formed above the first auxiliary electrode 610.
For example, the first contact hole 710 is located at the intersection of the metal lines 615 included in the first auxiliary electrode 610, as shown in FIG.

第1コンタクトパターン810は、絶縁膜600に形成された第1コンタクトホール710内に形成されて、第1補助電極610の少なくとも一部と連結部分563の間を電気的に接続する。   The first contact pattern 810 is formed in the first contact hole 710 formed in the insulating film 600, and electrically connects at least a portion of the first auxiliary electrode 610 and the connection portion 563.

第1コンタクトパターン810は連結部分563の抵抗を減らしてRCディレイとタッチ感度とを改善することができる。   The first contact pattern 810 may reduce resistance of the connection portion 563 and improve RC delay and touch sensitivity.

第1コンタクトパターン810は第2タッチ電極502と一体に形成される。また、第1コンタクトホール710の位置と個数は多様に変更されることができる。   The first contact pattern 810 is formed integrally with the second touch electrode 502. Also, the position and number of the first contact holes 710 may be variously changed.

図21は図16のR8領域の拡大図であり、図22は図21のIII−III’線を基準にした図21の断面図である。   21 is an enlarged view of the R8 region of FIG. 16, and FIG. 22 is a cross-sectional view of FIG. 21 based on the line III-III′ of FIG.

図15、図16、図21、及び図22を参照すれば、第2部分570は第1重畳パターン571及び第1内側パターン573を含む。第1重畳パターン571は第2領域に配置された第1補助電極610をカバーする。第1内側パターン573は第1重畳パターン571と離隔されて平面上で第1補助電極610によって画定された開口部617内に配置される。第1内側パターン573のうち1つは第1補助電極610によって画定された1つの開口部617内に配置される。   Referring to FIGS. 15, 16, 21, and 22, the second portion 570 includes a first overlapping pattern 571 and a first inner pattern 573. The first overlapping pattern 571 covers the first auxiliary electrode 610 arranged in the second region. The first inner pattern 573 is spaced apart from the first overlapping pattern 571 and is disposed in the opening 617 defined by the first auxiliary electrode 610 on a plane. One of the first inner patterns 573 is disposed in one opening 617 defined by the first auxiliary electrode 610.

第2部分570は平面上で連結部分563に比べて第1タッチ電極501との距離が近い。第2部分570と連結部分563のタッチ感度を類似に調節するために第2部分570の内部に開口部572を具備する。例示的に、第2部分570内に具備された開口部572は一定の間隔を有し、第1重畳パターン571と第1内側パターン573とは一定の間隔に互いに離隔される。   The second portion 570 is closer to the first touch electrode 501 on the plane than the connecting portion 563. An opening 572 is provided inside the second portion 570 to adjust the touch sensitivity of the second portion 570 and the connection portion 563. Exemplarily, the openings 572 provided in the second portion 570 have a constant distance, and the first overlapping pattern 571 and the first inner pattern 573 are spaced apart from each other at a constant distance.

第1内側パターン573は電気的にフローティングされる。   The first inner pattern 573 is electrically floated.

絶縁膜600は第2部分570と重畳する領域でコンタクトホールを含まない。これは、第2部分570と連結部分563とのタッチ感度を類似に調節するためである。   The insulating film 600 does not include a contact hole in a region overlapping with the second portion 570. This is for adjusting the touch sensitivity of the second portion 570 and the connection portion 563 in a similar manner.

以下、本発明の一実施形態による図16の第2補助電極620のパターン形状を説明する。   Hereinafter, the pattern shape of the second auxiliary electrode 620 of FIG. 16 according to an exemplary embodiment of the present invention will be described.

図23は図16のR9領域の拡大図であり、図24は図23のIV−IV’線を基準にした図23の断面図である。   23 is an enlarged view of the R9 region of FIG. 16, and FIG. 24 is a cross-sectional view of FIG. 23 based on the line IV-IV′ of FIG.

図15、図16、図23、及び図24を参照すれば、第3部分660は図19及び図20を参照して説明した連結部分563と類似なパターン形状を有する。   Referring to FIGS. 15, 16, 23, and 24, the third portion 660 has a pattern shape similar to that of the connection portion 563 described with reference to FIGS. 19 and 20.

第3部分660は第3領域に配置されたメッシュパターン510をカバーし、第3領域に配置されたメッシュパターン510によって画定された開口部517をカバーする。第3部分660は内部に開口部を具備しなくともよい。   The third portion 660 covers the mesh pattern 510 arranged in the third region and covers the opening 517 defined by the mesh pattern 510 arranged in the third region. The third portion 660 may not have an opening inside.

第3部分660は平面上で第4部分670に比べて第2タッチ電極502との距離が遠いので、タッチ感度を高くするために内部に開口部を具備しなくともよい。   Since the third portion 660 is farther from the second touch electrode 502 on the plane than the fourth portion 670, an opening may not be provided inside to increase touch sensitivity.

本発明の実施形態によるタッチパネルは第2コンタクトパターン820をさらに含む。   The touch panel according to the embodiment of the present invention further includes a second contact pattern 820.

絶縁膜600は第2コンタクトホール720を含む。
第2コンタクトホール720はメッシュパターン510の上側に形成される。
例えば、第2コンタクトホール720は図23に示したようにメッシュパターン510に含まれた金属ライン515の交差点に位置する。
第2コンタクトパターン820は、絶縁膜600に形成された第2コンタクトホール720内に形成されて、メッシュパターン510の少なくとも一部と第3部分660との間を電気的に接続する。
The insulating film 600 includes a second contact hole 720.
The second contact hole 720 is formed above the mesh pattern 510.
For example, the second contact hole 720 is located at the intersection of the metal lines 515 included in the mesh pattern 510 as shown in FIG.
The second contact pattern 820 is formed in the second contact hole 720 formed in the insulating film 600, and electrically connects at least a part of the mesh pattern 510 and the third part 660.

第2コンタクトパターン820は第3部分660の抵抗を減らしてRCディレイとタッチ感度とを改善することができる。   The second contact pattern 820 may reduce the resistance of the third portion 660 to improve RC delay and touch sensitivity.

第2コンタクトパターン820は第2補助電極620と一体に形成される。また、第1コンタクトホール710の位置及び個数は、多様に変更されることができる。   The second contact pattern 820 is formed integrally with the second auxiliary electrode 620. Also, the position and number of the first contact holes 710 can be variously changed.

図25は図16のR10領域の拡大図であり、図26は図25のV−V’線を基準にした図25の断面図である。   25 is an enlarged view of the region R10 in FIG. 16, and FIG. 26 is a cross-sectional view of FIG. 25 based on the line V-V′ of FIG.

図15、図16、図25、及び図26を参照すれば、第4部分670は図21及び図22を参照して説明した第2部分570と類似なパターン形状を有する。   Referring to FIGS. 15, 16, 25, and 26, the fourth portion 670 has a pattern shape similar to that of the second portion 570 described with reference to FIGS. 21 and 22.

第4部分670は第2重畳パターン671及び第2内側パターン673を含む。第2重畳パターン671は第4領域に配置されたメッシュパターン510をカバーする。第2内側パターン673は第2重畳パターン671と離隔されて第4領域に配置されたメッシュパターン510によって画定された開口部517内に配置される。   The fourth portion 670 includes a second overlapping pattern 671 and a second inner pattern 673. The second overlapping pattern 671 covers the mesh pattern 510 arranged in the fourth area. The second inner pattern 673 is disposed in the opening 517 defined by the mesh pattern 510 disposed in the fourth region and separated from the second overlapping pattern 671.

第4部分670は平面上で第3部分660に比べて第2タッチ電極502との距離が近い。第4部分670と第3部分660とのタッチ感度を類似に調節するために第4部分670の内部に開口部672を具備する。例示的に、第4部分670内に具備された開口部672は一定の間隔を有し、第2重畳パターン671と第2内側パターン673とは一定の間隔に互いに離隔される。   The fourth portion 670 is closer to the second touch electrode 502 than the third portion 660 on the plane. An opening 672 is provided inside the fourth portion 670 to adjust the touch sensitivity of the fourth portion 670 and the third portion 660 similarly. Exemplarily, the openings 672 provided in the fourth portion 670 have a constant distance, and the second overlapping pattern 671 and the second inner pattern 673 are spaced apart from each other at a constant distance.

第2内側パターン673は電気的にフローティングされる。   The second inner pattern 673 is electrically floated.

絶縁膜600は第4部分670と重畳する領域でコンタクトホールを含まない。これは、第4部分670と第3部分660とのタッチ感度を類似に調節するためである。   The insulating film 600 does not include a contact hole in a region overlapping with the fourth portion 670. This is to adjust the touch sensitivity of the fourth portion 670 and the third portion 660 to be similar.

再び、図15乃至図26を参照すれば、第2タッチ電極502が金属ライン515、615のうち一部のみをカバーする場合、カバーする領域とカバーしない領域との間に視認性差異が発生する。例えば、第2タッチ電極502をなす物質が特定屈折率を有するので、第2タッチ電極502を通過して金属ライン515、615で反射された光と第2タッチ電極502を通過せず、金属ライン515、615で反射された光とは光学的な差を有する。同様に、第2補助電極620が金属ライン515のうち一部のみをカバーする場合にもカバーする領域とカバーしない領域との間に視認性差が発生する。   Referring again to FIGS. 15 to 26, when the second touch electrode 502 covers only a part of the metal lines 515 and 615, a visibility difference occurs between a covered region and a non-covered region. . For example, since the material forming the second touch electrode 502 has a specific refractive index, the light that has passed through the second touch electrode 502 and is reflected by the metal lines 515 and 615 and the second touch electrode 502 does not pass through the metal line. There is an optical difference from the light reflected by 515 and 615. Similarly, when the second auxiliary electrode 620 covers only a part of the metal line 515, there is a difference in visibility between the covered area and the non-covered area.

第2タッチ電極502は、第1補助電極610に含まれた金属ライン615を全てカバーし、連結パターン512の少なくとも一部に含まれた金属ライン515をカバーする。具体的には、連結部分563及び第2部分570は全て第1補助電極610に含まれた金属ライン615をカバーし、重畳部分561は連結パターン512の少なくとも一部に含まれた金属ライン515をカバーする。   The second touch electrode 502 covers the metal line 615 included in the first auxiliary electrode 610 and the metal line 515 included in at least a part of the connection pattern 512. Specifically, the connection part 563 and the second part 570 cover the metal line 615 included in the first auxiliary electrode 610, and the overlapping part 561 covers the metal line 515 included in at least a part of the connection pattern 512. Cover.

第2補助電極620は、第1タッチ電極501の少なくとも一部に含まれた金属ライン515をカバーする。第2補助電極620はメッシュパターン510に含まれた金属ライン515を全てカバーする。   The second auxiliary electrode 620 covers the metal line 515 included in at least a part of the first touch electrode 501. The second auxiliary electrode 620 covers all the metal lines 515 included in the mesh pattern 510.

本発明の実施形態によるタッチパネルでは、第2タッチ電極502及び第2補助電極620は、第1タッチ電極501に含まれた金属ライン515と第1補助電極610に含まれた金属ライン615とをカバーして全領域で均一な視認性を確保する。   In the touch panel according to the exemplary embodiment of the present invention, the second touch electrode 502 and the second auxiliary electrode 620 cover the metal line 515 included in the first touch electrode 501 and the metal line 615 included in the first auxiliary electrode 610. This ensures uniform visibility in all areas.

図27は図16のR8領域の拡大図であって、図21に図示された第2部分と異なる形態の実施形態を示した図面である。
図27を参照して、図21を参照して説明した第2部分と差異点を中心に説明する。
FIG. 27 is an enlarged view of the R8 region of FIG. 16, showing an embodiment of a form different from the second portion shown in FIG.
The difference from the second portion described with reference to FIG. 21 will be mainly described with reference to FIG. 27.

第2部分580は第1重畳パターン581及び第1内側パターン583を含む。第1重畳パターン581は図21を参照して説明した第1重畳パターン571と実質的に同一であるので、具体的な説明を省略する。   The second portion 580 includes a first overlapping pattern 581 and a first inner pattern 583. The first overlapping pattern 581 is substantially the same as the first overlapping pattern 571 described with reference to FIG. 21, and thus a detailed description thereof will be omitted.

複数個の第1内側パターン583は平面上で第1補助電極610によって画定された1つの開口部617内に配置される。例えば、4つの第1内側パターン583は平面上で第1補助電極610によって画定された1つの開口部617内に配置される。
第1補助電極610によって画定された1つの開口部617内に配置された複数個の第1内側パターン583は互いに離隔される。
図27の実施形態の1つの第1内側パターン583は図21の実施形態の1つの第1内側パターン573より小さい。
The plurality of first inner patterns 583 are arranged in one opening 617 defined by the first auxiliary electrode 610 on a plane. For example, the four first inner patterns 583 are arranged in one opening 617 defined by the first auxiliary electrode 610 on the plane.
The plurality of first inner patterns 583 arranged in the opening 617 defined by the first auxiliary electrode 610 are separated from each other.
One first inner pattern 583 of the embodiment of FIG. 27 is smaller than one first inner pattern 573 of the embodiment of FIG.

第1内側パターン583は電気的にフローティングされるので、第1重畳パターン581を含む隣接する導電性パターンと寄生キャパシターを形成する。   Since the first inner pattern 583 is electrically floated, it forms a parasitic capacitor with the adjacent conductive pattern including the first overlapping pattern 581.

図27によるタッチパネルによれば、第1内側パターン583の大きさを小さく形成して寄生キャパシターの靜電容量を減らし、タッチパネルの感度を改善することができる。   According to the touch panel of FIG. 27, the size of the first inner pattern 583 can be reduced to reduce the electrostatic capacitance of the parasitic capacitor and improve the sensitivity of the touch panel.

再び、図25を参照すれば、第2補助電極620の第4部分670は図27の第2部分580と類似な構造を有する。具体的には、第2部分670の互いに離隔された複数個の第2内側パターン673は平面上でメッシュパターン510によって画定された1つの開口部517内に配置される。   Referring again to FIG. 25, the fourth portion 670 of the second auxiliary electrode 620 has a structure similar to that of the second portion 580 of FIG. 27. Specifically, the plurality of spaced apart second inner patterns 673 of the second portion 670 are disposed in one opening 517 defined by the mesh pattern 510 on the plane.

図28は図16のR11領域の拡大図である。   FIG. 28 is an enlarged view of the R11 area in FIG.

図15、図16、及び図28を参照すれば、絶縁膜600は外殻コンタクトホール711をさらに含む。外殻コンタクトホール711は第1コンタクトホール710と類似な機能を遂行する。図28で便宜上第1コンタクトホール710を省略し、図示した。   Referring to FIGS. 15, 16 and 28, the insulating film 600 further includes an outer shell contact hole 711. The outer shell contact hole 711 performs a function similar to that of the first contact hole 710. In FIG. 28, the first contact hole 710 is omitted for convenience of illustration.

外殻コンタクトホール711は第1補助電極610に含まれた金属ライン615と重畳した領域の中で、平面上で重畳部分561と第2方向に最も隣接する領域に位置する。   The outer shell contact hole 711 is located in a region that is closest to the overlapping portion 561 in the second direction on the plane in the region that overlaps the metal line 615 included in the first auxiliary electrode 610.

外殻コンタクトホール711内には第1外殻コンタクトパターン(図示せず)が配置される。第1外殻コンタクトパターン(図示せず)は、第1補助電極610の少なくとも一部と第2タッチ電極502の連結部分563との間を電気的に接続する。   A first outer shell contact pattern (not shown) is arranged in the outer shell contact hole 711. The first outer shell contact pattern (not shown) electrically connects at least a portion of the first auxiliary electrode 610 and the connection portion 563 of the second touch electrode 502.

外殻コンタクトホール711は、平面上で重畳部分563と第2方向に第1距離T1だけ離隔される。例示的に、第1距離T1は10μm以内である。   The outer shell contact hole 711 is separated from the overlapping portion 563 on the plane by the first distance T1 in the second direction. Illustratively, the first distance T1 is within 10 μm.

外殻コンタクトホール711は第1方向に沿って互いに隣接するように配置される。
外殻コンタクトホール711は第1補助電極610に含まれた金属ライン615と重畳すれば、金属ライン615の交差点ではない位置に形成される。
The outer shell contact holes 711 are arranged to be adjacent to each other along the first direction.
If the outer shell contact hole 711 overlaps with the metal line 615 included in the first auxiliary electrode 610, the outer shell contact hole 711 is formed at a position other than the intersection of the metal lines 615.

第1補助電極610と第2タッチ電極502とを連結するコンタクトホールの中で、平面上で重畳部分563と最も隣接するように位置するコンタクトホールは、第1補助電極610に含まれた金属ライン615の交差点に位置しても第1コンタクトホール710ではない外殻コンタクトホール711として定義される。   Among the contact holes that connect the first auxiliary electrode 610 and the second touch electrode 502, the contact hole located closest to the overlapping portion 563 on the plane is a metal line included in the first auxiliary electrode 610. It is defined as an outer shell contact hole 711 that is not the first contact hole 710 even if it is located at the intersection 615.

図29は図16に図示されたR12領域の拡大図であり、図30は図29のVI−VI’線を基準にした図29の断面図である。   29 is an enlarged view of the R12 region shown in FIG. 16, and FIG. 30 is a cross-sectional view of FIG. 29 taken along the line VI-VI′ of FIG. 29.

図15、図16、図29、及び図30を参照すれば、本発明の実施形態によるタッチパネルは第1トレースライン551、第2トレースライン552、第1パッド631、第2パッド632、第3コンタクトパターン830、及び第4コンタクトパターン840を含む。   Referring to FIGS. 15, 16, 29, and 30, a touch panel according to an exemplary embodiment of the present invention includes a first trace line 551, a second trace line 552, a first pad 631, a second pad 632, and a third contact. The pattern 830 and the fourth contact pattern 840 are included.

図15を参照すれば、第1トレースライン551は基板500上に位置し、第1タッチ電極501と各々電気的に接続される。
例えば、第1トレースライン551は基板500の外殻領域に位置する。
また、第1トレースライン551の各一端部は、各第1タッチ電極501に含まれたメッシュパターン510の中で外側に位置するメッシュパターンに連結され、第1トレースライン551の各他端部は第1パッド631に向かって延長形成される。
Referring to FIG. 15, the first trace lines 551 are located on the substrate 500 and are electrically connected to the first touch electrodes 501, respectively.
For example, the first trace line 551 is located in the outer shell region of the substrate 500.
In addition, each one end of the first trace line 551 is connected to a mesh pattern located outside of the mesh pattern 510 included in each first touch electrode 501, and each other end of the first trace line 551 is The extension is formed toward the first pad 631.

図15を参照すれば、第2トレースライン552は第1トレースライン551と同一の層上に配置され、第1補助電極610と各々電気的に接続される。
第2トレースライン552は基板500の外殻領域に位置し、第1補助電極610と第2コンタクトパターン820とを通じて絶縁膜600上に位置する第2タッチ電極502と電気的に接続される。
このために、第2トレースライン552の各一端部は、第1補助電極610の中で外側に位置する第1補助電極に連結され、第2トレースライン552の各他端部は第2パッド632に向かって延長形成される。
Referring to FIG. 15, the second trace line 552 is disposed on the same layer as the first trace line 551 and is electrically connected to the first auxiliary electrode 610.
The second trace line 552 is located in the outer shell region of the substrate 500 and is electrically connected to the second touch electrode 502 located on the insulating film 600 through the first auxiliary electrode 610 and the second contact pattern 820.
To this end, one end of the second trace line 552 is connected to the first auxiliary electrode located outside the first auxiliary electrode 610, and the other end of the second trace line 552 is connected to the second pad 632. Is formed extending toward.

工程の便宜のために、メッシュパターン510、第1補助電極610、第1トレースライン551、第2トレースライン552は同一の物質で形成される。   For convenience of the process, the mesh pattern 510, the first auxiliary electrode 610, the first trace line 551, and the second trace line 552 are formed of the same material.

絶縁膜600は多数の第3コンタクトホール730と多数の第4コンタクトホール740とを含む。
各々の第3コンタクトホール730は第1トレースライン551の各他端部上に形成される。
例えば、第3コンタクトホール730は第1トレースライン551と第1パッド631とが各々重畳する領域に位置する。
The insulating film 600 includes a large number of third contact holes 730 and a large number of fourth contact holes 740.
Each third contact hole 730 is formed on the other end of the first trace line 551.
For example, the third contact hole 730 is located in a region where the first trace line 551 and the first pad 631 overlap each other.

また、各々の第4コンタクトホール740は第2トレースライン552の各他端部上に形成される。
例えば、第4コンタクトホール740は第2トレースライン552と第2パッド632とが各々重畳する領域に位置する。
In addition, each fourth contact hole 740 is formed on the other end of the second trace line 552.
For example, the fourth contact hole 740 is located in a region where the second trace line 552 and the second pad 632 overlap each other.

第1パッド631と第2パッド632とは絶縁膜600上に位置する。例えば、第1パッド631と第2パッド632とは絶縁膜600の外殻領域に位置する。   The first pad 631 and the second pad 632 are located on the insulating film 600. For example, the first pad 631 and the second pad 632 are located in the outer shell region of the insulating film 600.

第1パッド631は第3コンタクトパターン830を通じて第1トレースライン551の他端部と連結される。
また、第2パッド632は第4コンタクトパターン840を通じて第2トレースライン552の他端部と連結される。
第3コンタクトパターン830は、絶縁膜600に形成された多数の第3コンタクトホール730を通じて、第1パッド631と第1トレースライン551との間を各々連結する。
また、第3コンタクトパターン830は第1パッド631と一体に形成される。
第4コンタクトパターン840は、絶縁膜600に形成された多数の第4コンタクトホール740を通じて、第2パッド632と第2トレースライン552との間を各々連結する。
また、第4コンタクトパターン840は第2パッド632と一体に形成される。
The first pad 631 is connected to the other end of the first trace line 551 through the third contact pattern 830.
In addition, the second pad 632 is connected to the other end of the second trace line 552 through the fourth contact pattern 840.
The third contact pattern 830 connects the first pad 631 and the first trace line 551 to each other through a plurality of third contact holes 730 formed in the insulating film 600.
In addition, the third contact pattern 830 is formed integrally with the first pad 631.
The fourth contact pattern 840 connects the second pad 632 and the second trace line 552 to each other through a plurality of fourth contact holes 740 formed in the insulating film 600.
Also, the fourth contact pattern 840 is formed integrally with the second pad 632.

図31は図16に図示されたR13領域の拡大図であり、図32A及び図32Bは図31のVII−VII’線を基準にした図31の断面図である。但し、図32Aと図32Bとでは各々異なる形態の実施形態を図示した。   31 is an enlarged view of the R13 region shown in FIG. 16, and FIGS. 32A and 32B are sectional views of FIG. 31 based on the line VII-VII′ of FIG. 31. However, FIG. 32A and FIG. 32B illustrate different embodiments.

図16、図31、図32A、及び図32Bを参照すれば、本発明の実施形態によるタッチパネルは第1補助ライン651を含む。   Referring to FIGS. 16, 31, 32A, and 32B, the touch panel according to the embodiment of the present invention includes a first auxiliary line 651.

第1補助ライン651は絶縁膜600上に位置する。例えば、第1補助ライン651は絶縁膜600の外殻領域に位置する。
第1補助ライン651は各々第1トレースライン551と電気的に接続される。
第1補助ライン651を具備することによって、第1トレースライン551の抵抗が低下し、これによってRCディレイ(RC Delay)を改善することができる。
このとき、第1補助ライン651は図32Aに示したように第1トレースライン551の上側に直接連結される。
例えば、第1補助ライン651の少なくとも一部分は第1トレースライン551上に直接的に接触する。
The first auxiliary line 651 is located on the insulating film 600. For example, the first auxiliary line 651 is located in the outer shell region of the insulating film 600.
The first auxiliary lines 651 are electrically connected to the first trace lines 551, respectively.
By providing the first auxiliary line 651, the resistance of the first trace line 551 can be reduced, and thus the RC delay can be improved.
At this time, the first auxiliary line 651 is directly connected to the upper side of the first trace line 551 as shown in FIG. 32A.
For example, at least a portion of the first auxiliary line 651 directly contacts the first trace line 551.

概ね、第1補助ライン651は図32Bに示したように第5コンタクトホール750と第5コンタクトパターン850とを通じて第1トレースライン551と各々連結される。
このために、絶縁膜600は第1トレースライン551上に位置する多数の第5コンタクトホール750を含む。
例えば、第5コンタクトホール750は第1トレースライン551と第1補助ライン651とが各々重畳する領域に位置する。
第5コンタクトパターン850は、絶縁膜600に形成された第5コンタクトホール750を通じて、第1トレースライン551と第1補助ライン651とを各々連結する。
これを通じて、第1トレースライン551と第1補助ライン651との間に絶縁膜600が存在しても、第1トレースライン551と第1補助ライン651とは電気的に接続される。
このとき、第5コンタクトパターン850を通じて相互に電気的に接続された第1トレースライン551と第1補助ライン651とは少なくとも一部分が重畳する。
In general, the first auxiliary line 651 is connected to the first trace line 551 through the fifth contact hole 750 and the fifth contact pattern 850 as shown in FIG. 32B.
To this end, the insulating layer 600 includes a plurality of fifth contact holes 750 located on the first trace lines 551.
For example, the fifth contact hole 750 is located in a region where the first trace line 551 and the first auxiliary line 651 overlap each other.
The fifth contact pattern 850 connects the first trace line 551 and the first auxiliary line 651 to each other through the fifth contact hole 750 formed in the insulating film 600.
Through this, even if the insulating film 600 exists between the first trace line 551 and the first auxiliary line 651, the first trace line 551 and the first auxiliary line 651 are electrically connected.
At this time, at least a part of the first trace line 551 and the first auxiliary line 651, which are electrically connected to each other through the fifth contact pattern 850, overlap each other.

図33は図16に図示されたR14領域の拡大図であり、図34A及び図34Bは図33のVIII−VIII’線を基準にした図33の断面図である。但し、図34Aと図34Bとでは各々異なる形態の実施形態を図示した。   33 is an enlarged view of the R14 region shown in FIG. 16, and FIGS. 34A and 34B are cross-sectional views of FIG. 33 based on the line VIII-VIII′ of FIG. 33. However, different embodiments are illustrated in FIGS. 34A and 34B.

図16、図33、図34A、及び図34Bを参照すれば、本発明の実施形態によるタッチパネルは第2補助ライン652を含む。   Referring to FIGS. 16, 33, 34A, and 34B, the touch panel according to the embodiment of the present invention includes a second auxiliary line 652.

第2補助ライン652は第1補助ライン651と同一の層上に配置される。第2補助ライン652は絶縁膜600上に位置する。例えば、第2補助ライン652は絶縁膜600の外殻領域に位置する。
第2補助ライン652は各々第2トレースライン552と電気的に接続される。
第2補助ライン652を具備することによって、第2トレースライン552の抵抗が低下し、これによってRCディレイ(RC Delay)を改善することができる。
このとき、第2補助ライン652は図34Aに示したように第2トレースライン552の上側に直接連結される。
例えば、第2補助ライン652の少なくとも一部分は第2トレースライン552上に直接的に接触する。
The second auxiliary line 652 is arranged on the same layer as the first auxiliary line 651. The second auxiliary line 652 is located on the insulating film 600. For example, the second auxiliary line 652 is located in the outer shell region of the insulating film 600.
Each second auxiliary line 652 is electrically connected to each second trace line 552.
By providing the second auxiliary line 652, the resistance of the second trace line 552 may be reduced, thereby improving the RC delay.
At this time, the second auxiliary line 652 is directly connected to the upper side of the second trace line 552 as shown in FIG. 34A.
For example, at least a portion of the second auxiliary line 652 directly contacts the second trace line 552.

概ね、第2補助ライン652は図34Bに示したように第6コンタクトホール760と第6コンタクトパターン860とを通じて第2トレースライン552と各々連結される。
このために、絶縁膜600は第2トレースライン552上に位置する多数の第6コンタクトホール760を含む。
例えば、第6コンタクトホール760は第2トレースライン552と第2補助ライン652とが各々重畳する領域に位置する。
第6コンタクトパターン860は、絶縁膜600に形成された第6コンタクトホール760を通じて、第2トレースライン552と第2補助ライン652とを各々連結する。
これを通じて、第2トレースライン552と第2補助ライン652との間に絶縁膜600が存在しても、第2トレースライン552と第2補助ライン652とは電気的に接続される。
このとき、第6コンタクトパターン860を通じて相互に電気的に接続された第2トレースライン552と第2補助ライン652とは少なくとも一部分が重畳する。
In general, the second auxiliary line 652 is connected to the second trace line 552 through the sixth contact hole 760 and the sixth contact pattern 860 as shown in FIG. 34B.
To this end, the insulating layer 600 includes a plurality of sixth contact holes 760 located on the second trace lines 552.
For example, the sixth contact hole 760 is located in a region where the second trace line 552 and the second auxiliary line 652 overlap each other.
The sixth contact pattern 860 connects the second trace line 552 and the second auxiliary line 652 through the sixth contact hole 760 formed in the insulating film 600.
Through this, even if the insulating film 600 exists between the second trace line 552 and the second auxiliary line 652, the second trace line 552 and the second auxiliary line 652 are electrically connected.
At this time, at least a part of the second trace line 552 and the second auxiliary line 652, which are electrically connected to each other through the sixth contact pattern 860, overlap each other.

工程を簡単にするために、第2タッチ電極502、第2補助電極620、第1補助ライン651、第2補助ライン652は同一の物質で形成される。   The second touch electrode 502, the second auxiliary electrode 620, the first auxiliary line 651, and the second auxiliary line 652 are formed of the same material to simplify the process.

以下、本発明の他の実施形態による図16の第2タッチ電極502のパターン形状を説明する。   Hereinafter, the pattern shape of the second touch electrode 502 of FIG. 16 according to another embodiment of the present invention will be described.

図35は図16のR6領域の拡大図である。図15、図16、及び図35を参照して重畳部分561’を図17に図示された重畳部分561と差異点を中心に説明する。   FIG. 35 is an enlarged view of the R6 area in FIG. The difference between the overlapping portion 561' and the overlapping portion 561 shown in FIG. 17 will be mainly described with reference to FIGS. 15, 16 and 35.

重畳部分561’は第1領域に配置された連結パターン512の一部をカバーする。言い換えれば、重畳部分561’は第1領域に配置された連結パターン512の一部を露出する。
重畳部分561’は連結パターン512を露出する開口部562を具備する。
重畳部分561’は連結パターン512に含まれた金属ライン515の交差点をカバーする。重畳部分561’は開口部562を通じて連結パターン512に含まれた金属ライン515の交差点ではない部分を露出する。
The overlapping portion 561′ covers a part of the connection pattern 512 arranged in the first region. In other words, the overlapping portion 561′ exposes a part of the connection pattern 512 arranged in the first region.
The overlapping portion 561 ′ has an opening 562 that exposes the connection pattern 512.
The overlapping portion 561 ′ covers the intersection of the metal lines 515 included in the connection pattern 512. The overlapping portion 561 ′ exposes a portion that is not an intersection of the metal lines 515 included in the connection pattern 512 through the opening 562.

図35で開口部562は直方形であるものを例示的に図示した。但し、これに制限されるものではなく、開口部562は多様な形態の形状、例えば、楕円形、多角形等の形状を有してもよい。   In FIG. 35, the opening 562 has a rectangular shape as an example. However, the opening 562 is not limited thereto, and may have various shapes, for example, an elliptical shape, a polygonal shape, and the like.

図36は図16のR7領域の拡大図である。図15、図16、及び図36を参照して連結部分563’を図19に図示された連結部分563と差異点を中心に説明する。   FIG. 36 is an enlarged view of the R7 area in FIG. The connection part 563' will be described with reference to FIGS. 15, 16 and 36, focusing on the differences from the connection part 563 shown in FIG.

図36を参照すれば、連結部分563’は第1領域に配置された第1補助電極610の一部をカバーする。言い換えれば、連結部分563’は第1領域に配置された第1補助電極610の一部を露出する。
連結部分563’は第1補助電極610を露出する開口部564を具備する。開口部564は多様な形態の形状、例えば、楕円形、多角形等の形状を有する。
連結部分563’は第1補助電極610に含まれた金属ライン615の交差点をカバーする。連結部分563’は開口部564を通じて第1補助電極610に含まれた金属ライン615の交差点ではない部分を露出する。
Referring to FIG. 36, the connection part 563 ′ covers a portion of the first auxiliary electrode 610 disposed in the first region. In other words, the connection part 563' exposes a part of the first auxiliary electrode 610 arranged in the first region.
The connection part 563 ′ has an opening 564 exposing the first auxiliary electrode 610. The opening 564 has various shapes, for example, an elliptical shape and a polygonal shape.
The connection part 563 ′ covers the intersection of the metal lines 615 included in the first auxiliary electrode 610. The connection part 563 ′ exposes a part of the metal line 615 included in the first auxiliary electrode 610, which is not an intersection, through the opening 564.

第1コンタクトホール710及び第1コンタクトパターン810に対する説明は図19及び図20を参照して説明したことと実質的に同一であるので、具体的な説明を省略する。   Since the description of the first contact hole 710 and the first contact pattern 810 is substantially the same as that described with reference to FIGS. 19 and 20, a detailed description thereof will be omitted.

図37は図16のR8領域の拡大図である。図15、図16、及び図37を参照して第2部分570’を図21に図示された第2部分570と差異点を中心に説明する。   FIG. 37 is an enlarged view of the R8 area in FIG. The second portion 570' will be described with reference to FIGS. 15, 16 and 37, focusing on the difference from the second portion 570 shown in FIG.

図37を参照すれば、第2部分570’は連結部分563’の外側に配置されてもよい。第2部分570’は第1内側パターン574を含む。第1内側パターン574は平面上で第1補助電極610によって画定された開口部617内に配置される。図37では、第1内側パターン574のうち1つが第1補助電極610によって画定された1つの開口部617内に配置されているものを一例として図示した。   Referring to FIG. 37, the second portion 570' may be disposed outside the connection portion 563'. The second portion 570' includes a first inner pattern 574. The first inner pattern 574 is disposed in the opening 617 defined by the first auxiliary electrode 610 on the plane. In FIG. 37, one of the first inner patterns 574 arranged in one opening 617 defined by the first auxiliary electrode 610 is illustrated as an example.

第2部分570’は、隣接する第1補助電極610との間に具備された開口部575を具備する。第2部分570’は開口部575を通じて第2領域に配置された第1補助電極610に含まれた金属ライン615を露出する。例示的に、第2部分570’内に具備された開口部575は一定の間隔を有する。   The second portion 570' has an opening 575 provided between the second portion 570' and the adjacent first auxiliary electrode 610. The second portion 570' exposes the metal line 615 included in the first auxiliary electrode 610 disposed in the second region through the opening 575. Illustratively, the openings 575 provided in the second portion 570' have a constant space.

第1内側パターン574は電気的にフローティングされる。   The first inner pattern 574 is electrically floated.

図38は図16のR6領域の拡大図であって、図35に図示された重畳部分と異なる形態の実施形態を示した図面である。   FIG. 38 is an enlarged view of the R6 region of FIG. 16, showing an embodiment of a form different from the overlapping portion shown in FIG. 35.

重畳部分561”は第1領域に配置された連結パターン512の一部をカバーする。言い換えれば、重畳部分561”は第1領域に配置された連結パターン512の一部を露出する。
重畳部分561”は連結パターン512を露出する開口部568を具備する。
重畳部分561”は連結パターン512に含まれた金属ライン515の交差点ではない部分をカバーする。重畳部分561”は開口部562を通じて連結パターン512に含まれた金属ライン515の交差点を露出する。
The overlapping portion 561″ covers a part of the connecting pattern 512 arranged in the first region. In other words, the overlapping portion 561″ exposes a part of the connecting pattern 512 arranged in the first region.
The overlapping portion 561″ includes an opening 568 exposing the connection pattern 512.
The overlapping portion 561″ covers a portion of the metal line 515 included in the connection pattern 512 that is not an intersection. The overlapping portion 561″ exposes an intersection of the metal line 515 included in the connection pattern 512 through the opening 562.

図38で開口部568は連結パターン512に含まれた金属ライン515の交差点とその周辺の一部を露出する十字形状であるものを例示的に図示した。但し、これに制限されるものではなく、開口部568は多様な形態の形状、例えば、楕円形、多角形等の形状を有してもよい。   In FIG. 38, the opening 568 exemplarily shows a cross shape exposing the intersection of the metal line 515 included in the connection pattern 512 and a part of the periphery thereof. However, the opening 568 is not limited to this, and may have various shapes, for example, an elliptical shape and a polygonal shape.

以下、本発明の他の実施形態による図16の第2補助電極620のパターン形状を説明する。   Hereinafter, the pattern shape of the second auxiliary electrode 620 of FIG. 16 according to another embodiment of the present invention will be described.

図39は図16のR9領域の拡大図である。図15、図16、及び図39を参照して第3部分660’を図23に図示された第3部分660と差異点を中心に説明する。   FIG. 39 is an enlarged view of the R9 area in FIG. The difference between the third portion 660' and the third portion 660 shown in FIG. 23 will be mainly described with reference to FIGS. 15, 16 and 39.

第3部分660’は第3領域に配置されたメッシュパターン510の一部をカバーする。言い換えれば、第3部分660’は第3領域に配置されたメッシュパターン510の一部を露出する。
第3部分660’はメッシュパターン510を露出する開口部664を具備する。開口部664は多様な形態の形状、例えば、楕円形、多角形等の形状を有する。
第3部分660’はメッシュパターン510に含まれた金属ライン515の交差点をカバーする。第3部分660’は開口部664を通じてメッシュパターン510に含まれた金属ライン515の交差点ではない部分を露出する。
The third portion 660′ covers a part of the mesh pattern 510 arranged in the third region. In other words, the third portion 660′ exposes a part of the mesh pattern 510 arranged in the third region.
The third portion 660 ′ has an opening 664 exposing the mesh pattern 510. The opening 664 has various shapes, such as an ellipse and a polygon.
The third portion 660 ′ covers the intersection of the metal lines 515 included in the mesh pattern 510. The third portion 660 ′ exposes a portion of the mesh pattern 510 that is not an intersection of the metal lines 515 through the opening 664.

第2コンタクトホール720及び第2コンタクトパターン820に対する説明は図23及び図24を参照して説明したことと実質的に同一であるので、具体的な説明を省略する。   Since the description of the second contact hole 720 and the second contact pattern 820 is substantially the same as that described with reference to FIGS. 23 and 24, a detailed description thereof will be omitted.

図40は図16のR10領域の拡大図である。図15、図16、及び図40を参照して第4部分670’を図25に図示された第4部分670と差異点を中心に説明する。   FIG. 40 is an enlarged view of the R10 area in FIG. The difference between the fourth portion 670' and the fourth portion 670 shown in FIG. 25 will be mainly described with reference to FIGS. 15, 16 and 40.

第4部分670’は第2内側パターン674を含む。第2内側パターン674は平面上でメッシュパターン510によって画定された開口部517内に配置される。図39では、第2内側パターン674のうち1つがメッシュパターン510によって画定された1つの開口部517内に配置されているものを一例として図示した。
第4部分670’は隣接する第2内側パターン674との間に具備された開口部675を具備する。第4部分670’は開口部675を通じて第4領域に配置されたメッシュパターン510に含まれた金属ライン515を露出する。例示的に、第4部分670’内に具備された開口部675は一定の間隔を有する。
The fourth portion 670' includes a second inner pattern 674. The second inner pattern 674 is disposed in the opening 517 defined by the mesh pattern 510 on the plane. In FIG. 39, one in which one of the second inner patterns 674 is arranged in one opening 517 defined by the mesh pattern 510 is illustrated as an example.
The fourth portion 670 ′ has an opening 675 provided between the fourth portion 670 ′ and the adjacent second inner pattern 674. The fourth portion 670 ′ exposes the metal line 515 included in the mesh pattern 510 arranged in the fourth region through the opening 675. Exemplarily, the openings 675 provided in the fourth portion 670' have a constant space.

第2内側パターン674は電気的にフローティングされる。   The second inner pattern 674 is electrically floated.

図35乃至図40を参照すれば、第2タッチ電極502は第1補助電極610に含まれた金属ライン615を露出し、連結パターン512の少なくとも一部に含まれた金属ライン515を露出する。具体的には、連結部分563’は第1補助電極610に含まれた金属ライン615の一部を露出し、第2部分570’は第1補助電極610に含まれた金属ライン615を露出し、重畳部分561’は連結パターン512の一部を露出する。   Referring to FIGS. 35 to 40, the second touch electrode 502 exposes the metal line 615 included in the first auxiliary electrode 610 and the metal line 515 included in at least a part of the connection pattern 512. Specifically, the connection part 563' exposes a part of the metal line 615 included in the first auxiliary electrode 610, and the second part 570' exposes the metal line 615 included in the first auxiliary electrode 610. The overlapping portion 561′ exposes a part of the connection pattern 512.

第2補助電極620は第1タッチ電極501に含まれた金属ライン515の一部を露出する。具体的には、第3部分660’は第1タッチ電極501に含まれた金属ライン515を露出し、第4部分670’は第1タッチ電極501に含まれた金属ライン515を露出する。   The second auxiliary electrode 620 exposes a part of the metal line 515 included in the first touch electrode 501. Specifically, the third portion 660' exposes the metal line 515 included in the first touch electrode 501, and the fourth portion 670' exposes the metal line 515 included in the first touch electrode 501.

本発明の実施形態によるタッチパネルでは、第2タッチ電極502及び第2補助電極620は、第1タッチ電極501に含まれた金属ライン515と第1補助電極610に含まれた金属ライン615とを露出して、全領域で均一な視認性を確保することができる。   In the touch panel according to the embodiment of the present invention, the second touch electrode 502 and the second auxiliary electrode 620 expose the metal line 515 included in the first touch electrode 501 and the metal line 615 included in the first auxiliary electrode 610. As a result, uniform visibility can be ensured in the entire area.

図41は本発明の実施形態によるダミーパターンを示した図面である。   FIG. 41 is a view showing a dummy pattern according to an exemplary embodiment of the present invention.

図41を参照すれば、本発明の実施形態によるタッチパネルはダミーパターン800を含む。   Referring to FIG. 41, the touch panel according to the embodiment of the present invention includes a dummy pattern 800.

メッシュパターン510と第1補助電極610とが存在する領域と、メッシュパターン510と第1補助電極610とが存在しない領域との間には反射率、透過度等の特性差が存在する。
したがって、当該特性の均一化のために、平面上でメッシュパターン110と第1補助電極610との間に多数のダミーパターン800を配置する。
There is a difference in characteristics such as reflectance and transmittance between a region where the mesh pattern 510 and the first auxiliary electrode 610 exist and a region where the mesh pattern 510 and the first auxiliary electrode 610 do not exist.
Therefore, in order to make the characteristics uniform, a large number of dummy patterns 800 are arranged between the mesh pattern 110 and the first auxiliary electrode 610 on a plane.

ダミーパターン800は基板500上に位置し、電気的にフローティング(floating)状態である。
このために、ダミーパターン800はメッシュパターン510及び第1補助電極610と所定距離だけ離隔して位置する。
また、ダミーパターン800はメッシュパターン510のようにメッシュ形状を有する。
The dummy pattern 800 is located on the substrate 500 and is in an electrically floating state.
Therefore, the dummy pattern 800 is spaced apart from the mesh pattern 510 and the first auxiliary electrode 610 by a predetermined distance.
The dummy pattern 800 has a mesh shape like the mesh pattern 510.

本発明が属する技術分野の通常の知識を有する者は、本発明について、その技術的思想や必須的な特徴を変更せず、他の具体的な形態を実施可能であることは、容易に理解することができる。したがって、以上で記述した実施形態はすべての面で例示的なものであり、限定的なものではないと理解しなければならない。本発明の範囲は上述の詳細な説明より後述する特許請求の範囲によって定められ、特許請求の範囲の意味及び範囲そしてその均等概念から導出されるすべての変更又は変形された形態が本発明の範囲に含まれるものと解釈されなければならない。   A person having ordinary knowledge in the technical field to which the present invention pertains can easily understand that the present invention can be embodied in other specific forms without changing the technical idea and essential characteristics of the present invention. can do. Therefore, it should be understood that the embodiments described above are illustrative in all aspects and not restrictive. The scope of the present invention is defined by the claims which will be described later from the above detailed description, and all modifications and variations derived from the meaning and scope of the claims and their equivalents are within the scope of the present invention. Should be construed as included in.

500 基板
501 第1タッチ電極
502 第2タッチ電極
510 メッシュパターン
512 連結パターン
551 第1トレースライン
552 第2トレースライン
600 絶縁膜
610 第1補助電極
620 第2補助電極
651 第1補助ライン
652 第2補助ライン
500 substrate 501 first touch electrode 502 second touch electrode 510 mesh pattern 512 connection pattern 551 first trace line 552 second trace line 600 insulating film 610 first auxiliary electrode 620 second auxiliary electrode 651 first auxiliary line 652 second auxiliary line

Claims (10)

基板と、
前記基板上に位置する多数の第1メッシュパターンを各々含む多数の第1タッチ電極と、
前記第1タッチ電極上に位置する絶縁膜と、
前記絶縁膜上に位置する多数の第2メッシュパターンを各々含む多数の第2タッチ電極と、
前記基板上に位置し、前記第2メッシュパターンのうち少なくとも一部と各々電気的に接続される多数の第1補助メッシュ電極と、
前記絶縁膜上に位置し、前記第1メッシュパターンのうち少なくとも一部と各々電気的に接続される多数の第2補助メッシュ電極と、を含み、
前記第1メッシュパターン及び前記第2メッシュパターンは、各々多数の開口部を形成する金属ライン、及び前記金属ラインの交差点で外側に延長された拡張部を含み、
前記第1補助メッシュ電極及び前記第2補助メッシュ電極は、各々多数の開口部を形成する金属ライン、及び前記金属ラインの交差点で外側に延長された拡張部を含むことを特徴とするタッチパネル。
Board,
A plurality of first touch electrodes each including a plurality of first mesh patterns located on the substrate;
An insulating film located on the first touch electrode,
A plurality of second touch electrodes each including a plurality of second mesh patterns located on the insulating film;
A plurality of first auxiliary mesh electrodes located on the substrate and electrically connected to at least a part of the second mesh patterns,
Wherein located on the insulating film, seen including and a plurality of second auxiliary mesh electrode which is at least a portion of each electrically connected among the first mesh patterns,
Each of the first mesh pattern and the second mesh pattern includes a metal line forming a plurality of openings, and an extended portion extending outward at an intersection of the metal lines.
Each of the first auxiliary mesh electrode and the second auxiliary mesh electrode includes a metal line forming a plurality of openings, and an extension part extended outward at an intersection of the metal lines .
前記絶縁膜に形成された多数の第1コンタクトホールを通じて、前記第1メッシュパターンのうち少なくとも一部と前記第2補助メッシュ電極との間を各々連結する第1コンタクトパターンと、
前記絶縁膜に形成された多数の第2コンタクトホールを通じて、前記第2メッシュパターンのうち少なくとも一部と前記第1補助メッシュ電極との間を各々連結する第2コンタクトパターンと、をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載のタッチパネル。
A first contact pattern connecting at least a part of the first mesh pattern and the second auxiliary mesh electrode through a plurality of first contact holes formed in the insulating film;
Through the plurality of second contact holes formed in the insulating film, and a second contact pattern to each connecting between at least a portion between the first auxiliary mesh electrode of the second mesh pattern, further comprising a The touch panel according to claim 1, wherein the touch panel is a touch panel.
相互に電気的に接続された第2メッシュパターンと第1補助メッシュ電極とは、少なくとも一部分が重畳し、
相互に電気的に接続された第1メッシュパターンと第2補助メッシュ電極とは、少なくとも一部分が重畳することを特徴とする請求項1に記載のタッチパネル。
The second mesh pattern and the first auxiliary mesh electrode electrically connected to each other at least partially overlap each other,
The touch panel as set forth in claim 1, wherein the first mesh pattern and the second auxiliary mesh electrode electrically connected to each other at least partially overlap each other.
前記第1メッシュパターンと前記第1補助メッシュ電極とは、同一の物質で形成され、
前記第2メッシュパターンと前記第2補助メッシュ電極とは、同一の物質で形成されることを特徴とする請求項1に記載のタッチパネル。
The first mesh pattern and the first auxiliary mesh electrode are formed of the same material,
The touch panel as set forth in claim 1, wherein the second mesh pattern and the second auxiliary mesh electrode are formed of the same material.
記第1補助メッシュ電極に含まれた金属ラインの幅は、前記第2メッシュパターンに含まれた金属ラインの幅より小さく、
前記第2補助メッシュ電極に含まれた金属ラインの幅は、前記第1メッシュパターンに含まれた金属ラインの幅より大きいことを特徴とする請求項1に記載のタッチパネル。
Before SL width of the metal lines included in the first auxiliary mesh electrode is smaller than the width of the second metal contained in the mesh pattern lines,
The touch panel as set forth in claim 1, wherein a width of a metal line included in the second auxiliary mesh electrode is larger than a width of a metal line included in the first mesh pattern.
前記絶縁膜上に位置する多数の第1パッド及び第2パッドと、
前記第1タッチ電極と同一の層上に位置し、前記第1タッチ電極と各々電気的に接続される多数の第1トレースラインと、
前記第1タッチ電極と同一の層上に位置し、前記第2タッチ電極と各々電気的に接続される多数の第2トレースラインと、
前記絶縁膜に形成された多数の第3コンタクトホールを通じて、前記第1パッドと前記第1トレースラインとの間を連結する多数の第3コンタクトパターンと、
前記絶縁膜に形成された多数の第4コンタクトホールを通じて、前記第2パッドと前記第2トレースラインとの間を連結する多数の第4コンタクトパターンと、
前記絶縁膜上に位置し、前記第1トレースラインと電気的に接続される多数の第1補助ラインと、
前記絶縁膜上に位置し、前記第2トレースラインと電気的に接続される多数の第2補助ラインと、をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載のタッチパネル。
A plurality of first pads and second pads located on the insulating film;
A plurality of first trace lines located on the same layer as the first touch electrodes and electrically connected to the first touch electrodes;
A plurality of second trace lines located on the same layer as the first touch electrodes and electrically connected to the second touch electrodes;
A plurality of third contact patterns connecting the first pad and the first trace line through a plurality of third contact holes formed in the insulating film;
A plurality of fourth contact patterns connecting the second pad and the second trace line through a plurality of fourth contact holes formed in the insulating film;
A plurality of first auxiliary lines located on the insulating film and electrically connected to the first trace lines;
The touch panel as set forth in claim 1, further comprising a plurality of second auxiliary lines located on the insulating film and electrically connected to the second trace lines.
前記第1補助ラインの幅は、前記第1トレースラインの幅と異なり、
前記第2補助ラインの幅は、前記第2トレースラインの幅と異なることを特徴とする請求項6に記載のタッチパネル。
The width of the first auxiliary line is different from the width of the first trace line,
The touch panel as set forth in claim 6, wherein a width of the second auxiliary line is different from a width of the second trace line.
前記第1メッシュパターンと前記第1補助メッシュ電極との間に位置する多数のダミーパターンをさらに含み、前記ダミーパターンは、フローティング状態であることを特徴とする請求項1に記載のタッチパネル。 The touch panel as set forth in claim 1, further comprising a plurality of dummy patterns located between the first mesh pattern and the first auxiliary mesh electrode, wherein the dummy patterns are in a floating state. 基板と、
前記基板上に位置し、各々が多数のメッシュパターンを含み、各々が第1方向に延在する多数の第1タッチ電極と、
前記第1タッチ電極上に位置する絶縁膜と、
前記絶縁膜上に位置し、各々が前記第1方向と交差する第2方向に延在する多数の第2タッチ電極と、
前記第1タッチ電極と同一の層上に配置され、各々がメッシュパターンを有し、前記第2タッチ電極のうち少なくとも一部と電気的に接続される多数の第1補助電極と、
前記第2タッチ電極と同一の層上に配置され、前記第1タッチ電極のうち少なくとも一部と電気的に接続される多数の第2補助電極と、
前記第1タッチ電極のメッシュパターンと前記第1補助電極との間に位置する多数のダミーパターンを含み、
前記第2タッチ電極は、第1領域に配置された第1部分と、
前記第1領域と互いに異なる第2領域に配置され、前記第1部分と互いに異なるパターン形状を有する第2部分と、を含み、
前記ダミーパターンは、フローティング状態でありメッシュ形状を有することを特徴とするタッチパネル。
Board,
A plurality of first touch electrodes each of which is located on the substrate and includes a plurality of mesh patterns, each of the first touch electrodes extending in a first direction;
An insulating film located on the first touch electrode,
Located on the insulating film, and a plurality of second touch electrodes, each extending in the second direction crossing the first direction,
A plurality of first auxiliary electrodes arranged on the same layer as the first touch electrodes, each having a mesh pattern , and electrically connected to at least a part of the second touch electrodes;
A plurality of second auxiliary electrodes arranged on the same layer as the second touch electrodes and electrically connected to at least a part of the first touch electrodes ;
A plurality of dummy patterns located between the mesh pattern of the first touch electrode and the first auxiliary electrode;
The second touch electrode has a first portion disposed in the first region,
Located in different second regions to each other and the first region, seen including a second portion having a first portion and different pattern,
The touch panel , wherein the dummy pattern is in a floating state and has a mesh shape .
前記第1部分は、前記第1補助電極のうち前記第1領域に配置された第1補助電極と、前記第1タッチ電極のうち前記第1領域に配置された第1タッチ電極の一部と、前記第1領域に配置された前記第1補助電極によって画定された開口部と、前記第1領域に配置された前記第1タッチ電極の一部によって画定された開口部と、をカバーし、
前記第2部分は、前記第1補助電極のうち前記第2領域に配置された第1補助電極をカバーする第1重畳パターンと、前記第1重畳パターンと離隔され、前記第2領域に配置された前記第1補助電極によって画定された前記開口部内に配置された第1内側パターンと、を含むことを特徴とする請求項9に記載のタッチパネル。
The first portion includes a first auxiliary electrode disposed on the first region of the first auxiliary electrode, a part of the first touch electrode disposed on the first region of the first touch electrode Covering an opening defined by the first auxiliary electrode arranged in the first region and an opening defined by a part of the first touch electrode arranged in the first region,
The second portion is disposed in the second region, the first overlapping pattern covering the first auxiliary electrode disposed in the second region of the first auxiliary electrode and being spaced apart from the first overlapping pattern. the touch panel according to claim 9, characterized in that it comprises a first inner pattern disposed in said opening defined by said first auxiliary electrode.
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