JP6690117B2 - 光学異方性フィルム部材の製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、光学異方性フィルム部材の製造方法に関する。

フラットパネル表示装置（ＦＰＤ）には、偏光板、位相差板などの、光学異方性フィルムが用いられている。このような光学異方性フィルムとして、液晶化合物を含む組成物を長尺フィルムロールに塗布することにより製造された光学異方性フィルム部材を有する光学異方性フィルムが知られている。例えば、特許文献１には、配向処理を施した基材に、液晶化合物を含む組成物を塗布することにより形成された光学異方性フィルム部材を有する光学異方性フィルムが記載されている。

特開２００７−１４８０９８号公報

従来の長尺フィルムロールを用いた光学異方性フィルム部材の製造方法では、光学異方性フィルム部材に欠陥が生じていた。

本発明は以下の発明を含む。
[１] 長尺フィルムロールの表面に連続して塗布膜を形成する光学異方性フィルム部材の製造方法であって、
前記塗布膜を形成した長尺フィルムロールの該塗布膜表面に連続送風しながら、長尺フィルムロールの搬送方向を変える工程を含む光学異方性フィルム部材の製造方法。
[２] 工程（１）及び（２）を行う[１]に記載の光学異方性フィルム部材の製造方法。
工程（１）長尺フィルムロールに光学異方性フィルム部材用組成物を塗布する工程
工程（２）塗布された光学異方性フィルム部材用組成物から塗布膜を形成する工程
[３] 光学異方性フィルム部材用組成物が配向膜形成用組成物であり、塗布膜が配向膜である[１]に記載の光学異方性フィルム部材の製造方法。
[４] 光学異方性フィルム部材用組成物が光学異方性膜形成用組成物であり、塗布膜が光学異方性膜である[１]に記載の光学異方性フィルム部材の製造方法。
[５] 工程（１１）〜（１４）を行う[１]に記載の光学異方性フィルム部材の製造方法。
工程（１１）長尺フィルムロールに第１の光学異方性フィルム部材用組成物を塗布する工程
工程（１２）塗布された第１の光学異方性フィルム部材用組成物から第一の塗布膜を形成する工程
工程（１３）第一の塗布膜の上に第２の光学異方性フィルム部材用組成物を塗布する工程
工程（１４）塗布された第２の光学異方性フィルム部材用組成物から第２の塗布膜を形成する工程
[６] 第１の光学異方性フィルム部材用組成物が配向膜形成用組成物であり、第一の塗布膜が配向膜であり、第２の光学異方性フィルム部材用組成物が光学異方性膜形成用組成物であり、第２の塗布膜が光学異方性膜である[５]に記載の光学異方性フィルム部材の製造方法。
[７] 送風を、送風型ガイド部材で行う[１]〜[６]のいずれかに記載の光学異方性フィルムの製造方法。
[８] 長尺フィルムロールを５０〜１５０Ｎ／ｍｍの張力で搬送する[１]〜[７]のいずれかに記載の光学異方性フィルム部材の製造方法。
[９] [１]〜[８]のいずれかに記載の光学異方性フィルム部材の製造方法によって得られる光学異方性フィルム部材を含む光学異方性フィルム。
[１０] [９]に記載の光学異方性フィルムを備える液晶表示装置。

本発明によれば、欠陥数が少ない光学異方性フィルム部材の製造方法を提供することができる。

光学異方性フィルム部材の連続的製造方法の要部を表す模式図である。 光学異方性フィルム部材の連続的製造方法の要部を表す模式図である。 塗布膜を形成した長尺フィルムロール搬送時の、塗布膜を形成した長尺フィルムロールと送風型ガイド部材の模式図である。

本発明の光学異方性フィルム部材の製造方法（以下、本製造方法ということがある）は、長尺フィルムロールの、表面に連続して塗布膜を形成する製造方法であって、前記塗布膜を形成した長尺フィルムロールの前記塗布膜表面に連続送風しながら、長尺フィルムロールの搬送方向を変える工程を含む製造方法である。好ましくは、塗布膜が形成された長尺フィルムロールの該塗布膜表面に風（気体）以外のものを接触させずに搬送方向を変える工程を含む。なお本明細書において「長尺フィルムロール」とは、「ロール状の長尺フィルム」および「ロール状の長尺フィルムから巻きだした長尺フィルム」を総称するものとする。

本製造方法は、通常、以下の工程（１）及び（２）を含む。
工程（１）長尺フィルムロールに光学異方性フィルム部材用組成物を塗布する工程
工程（２）塗布された光学異方性フィルム部材用組成物から塗布膜を形成する工程

また、本製造方法は、好ましくは以下の工程（１１）〜（１４）を含む
工程（１１）長尺フィルムロールに第１の光学異方性フィルム部材用組成物を塗布する工程
工程（１２）塗布された第１の光学異方性フィルム部材用組成物から第一の塗布膜を形成する工程
工程（１３）第一の塗布膜の上に第２の光学異方性フィルム部材用組成物を塗布する工程
工程（１４）塗布された第２の光学異方性フィルム部材用組成物から第２の塗布膜を形成する工程

＜長尺フィルムロール＞
長尺フィルムロールは、通常、樹脂製である。
長尺フィルムロールは、好ましくは、透明である。透明とは、光、特に可視光を透過し得る透光性を有する長尺フィルムロールを意味し、透光性とは、波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍにわたる光線に対しての透過率が８０％以上となる特性をいう。

長尺フィルムロールを構成する樹脂としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマー等のポリオレフィン；ポリビニルアルコール；ポリエチレンテレフタレート；ポリメタクリル酸エステル；ポリアクリル酸エステル；セルロースエステル；ポリエチレンナフタレート；ポリカーボネート；ポリスルフォン；ポリエーテルスルホン；ポリエーテルケトン；ポリフェニレンスルフィド；およびポリフェニレンオキシドが挙げられる。中でも、ポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマー等のポリオレフィンからなる長尺フィルムロールが好ましい。

このような長尺フィルムロールは市場から容易に入手できる。

長尺フィルムロールには、表面処理を施してもよい。表面処理の方法としては、例えば、真空から大気圧の雰囲気下で、コロナまたはプラズマで長尺フィルムロールの表面を処理する方法、長尺フィルムロール表面をレーザー処理する方法、長尺フィルムロール表面をオゾン処理する方法、長尺フィルムロール表面をケン化処理する方法、長尺フィルムロール表面を火炎処理する方法、長尺フィルムロール表面にカップリング剤を塗布する方法、長尺フィルムロール表面をプライマー処理する方法、及び、反応性モノマーや反応性を有するポリマーを長尺フィルムロール表面に付着させた後に放射線、プラズマ又は紫外線を照射して反応させるグラフト重合法などが挙げられる。中でも、真空から大気圧の雰囲気下で、長尺フィルムロール表面をコロナまたはプラズマ処理する方法が好ましい。

コロナまたはプラズマで長尺フィルムロールの表面処理を行う方法としては、大気圧近傍の圧力下で、対向した電極間に長尺フィルムロールを設置し、コロナまたはプラズマを発生させて、長尺フィルムロールの表面処理を行う方法、対向した電極間にガスを流し、電極間でガスをプラズマ化し、プラズマ化したガスを長尺フィルムロールに吹付ける方法、および、低圧条件下で、グロー放電プラズマを発生させて、長尺フィルムロールの表面処理を行う方法が挙げられる。

中でも、大気圧近傍の圧力下で、対向した電極間に長尺フィルムロールを設置し、コロナまたはプラズマを発生させて、長尺フィルムロールの表面処理を行う方法、または、対向した電極間にガスを流し、電極間でガスをプラズマ化し、プラズマ化したガスを長尺フィルムロールに吹付ける方法が好ましい。かかるコロナまたはプラズマによる表面処理は、通常、市販の表面処理装置により行われる。

長尺フィルムロールは、塗布膜を形成する面とは反対の面に保護フィルムを有していてもよい。保護フィルムとしては、ポリエチレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート及びポリオレフィンなどのフィルム、並びに、当該フィルムにさらに粘着層を有するフィルム等が挙げられる。中でも、乾燥時における熱変形が小さいため、ポリエチレンテレフタレートが好ましい。保護フィルムを、塗布膜を形成する面とは反対の面に有することで、長尺フィルムロール搬送時のフィルムのゆれや塗布面のわずかな振動を抑えることができ、塗布膜の均一性を向上させることができる。

長尺フィルムロールの厚さは、通常５μm〜３００μmであり、好ましくは２０μm〜２００μmである。

長尺フィルムロールの長尺方向の長さは、通常１０ｍ以上であり、好ましくは１００ｍ以上３０００ｍ以下である。長尺フィルムロールの短尺方向の長さは、通常０．１ｍ〜５ｍであり、好ましくは０．２ｍ〜２ｍである。

＜塗布膜、光学異方性フィルム部材用組成物＞
本発明における塗布膜とは、塗布によって形成される固体の膜のことであり、例えば、配向膜、光学異方性膜、保護膜及び接着剤層等が挙げられる。
光学異方性フィルム部材用組成物とは、塗布膜を形成するための溶液であり、好ましくは、塗布膜を形成するための材料及び溶剤を含む。

上記第１の光学異方性フィルム部材用組成物は、好ましくは配向膜形成用組成物であり、第一の塗布膜は、好ましくは配向膜であり、第２の光学異方性フィルム部材用組成物は、好ましくは光学異方性膜形成用組成物であり、第２の塗布膜は、好ましくは光学異方性膜である。

<配向膜>
配向膜とは、後述する液晶化合物を所望の方向に配向させる、配向規制力を有するものである。
配向膜としては、光学異方性膜形成用組成物の塗布等により溶解しない溶剤耐性を有し、また、溶剤の除去や液晶化合物の配向のための加熱処理における耐熱性を有するものが好ましい。配向膜としては、配向性ポリマーを含む配向膜、光配向膜及び表面に凹凸パターンや複数の溝を形成し配向させるグルブ配向膜が挙げられる。

このような配向膜は、液晶化合物の配向を容易にする。また、配向膜の種類やラビング条件によって、水平配向、垂直配向、ハイブリッド配向、傾斜配向等の様々な配向の制御が可能である。

配向膜の厚さは、通常１０ｎｍ〜１００００ｎｍの範囲であり、好ましくは１０ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲であり、より好ましくは５００ｎｍ以下であり、さらに好ましくは１０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲である。

配向膜形成用組成物とは、配向膜を形成するための溶液であり、好ましくは、配向膜を形成するための材料及び溶剤を含む。

＜配向性ポリマーを含む配向膜＞
配向性ポリマーとしては、アミド結合を有するポリアミドやゼラチン類、イミド結合を有するポリイミド及びその加水分解物であるポリアミック酸、ポリビニルアルコール、アルキル変性ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリオキサゾール、ポリエチレンイミン、ポリスチレン、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸及びポリアクリル酸エステル類が挙げられる。中でも、ポリビニルアルコールが好ましい。２種以上の配向性ポリマーを併用してもよい。

配向性ポリマーを含む配向膜は、通常、配向性ポリマーが溶剤に溶解した配向膜形成用組成物（以下、配向性ポリマー組成物ということがある。）を、長尺フィルムロール又は長尺フィルムロールに形成された塗布膜に塗布し、溶剤を除去する、又は、配向性ポリマー組成物を、長尺フィルムロール又は長尺フィルムロールに形成された塗布膜に塗布し、溶剤を除去し、ラビングすることで得られる。

前記溶剤としては、水、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、乳酸エチル等のエステル溶剤、アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルアミルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン溶剤、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素溶剤、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶剤、アセトニトリル等のニトリル溶剤、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル溶剤、及び、クロロホルム、クロロベンゼン等の塩素化炭化水素溶剤が挙げられる。溶剤は、二種以上を組み合わせてもよい。

配向性ポリマー組成物中の配向性ポリマーの濃度は、配向性ポリマーが溶剤に完溶できる範囲であればよい。配向性ポリマー組成物に対する配向性ポリマーの含有量は、好ましくは０．１〜２０％であり、より好ましくは０．１〜１０％である。

配向性ポリマー組成物は、市場から入手できる。市販の配向性ポリマー組成物としては、サンエバー（登録商標、日産化学工業（株）製）、オプトマー（登録商標、ＪＳＲ（株）製）等が挙げられる。

配向性ポリマー組成物を長尺フィルムロール又は長尺フィルムロールに形成された塗布膜に塗布する方法としては、グラビアコーティング法、ダイコーティング法、アプリケータ法及び、フレキソ法等が挙げられる。好ましくは、グラビアコーティング法、ダイコーティング法及びフレキソ法である。

配向性ポリマー組成物に含まれる溶剤を除去する方法としては、自然乾燥、通風乾燥、加熱乾燥、減圧乾燥およびこれらを組み合わせた方法が挙げられる。乾燥温度は、１０〜２５０℃が好ましく、２５〜２００℃がより好ましい。乾燥時間は、溶剤の種類にもよるが、５秒間〜６０分間が好ましく、１０秒間〜３０分間がより好ましい。

配向性ポリマー組成物から形成された塗布膜には、ラビング処理を施してもよい。ラビング処理を施すことにより、前記塗布膜に配向規制力を付与することができる。

ラビング処理の方法としては、ラビング布が巻きつけられ、回転しているラビングロールに、前記塗布膜を接触させる方法が挙げられる。
ラビング処理を行う時に、マスキングを行えば、配向の方向が異なる複数の領域（パターン）を配向膜に形成することもできる。

＜光配向膜＞
光配向膜は、通常、光反応性基を有するポリマー又はモノマーと溶剤とを含む配向膜形成用組成物（以下、光配向膜形成用組成物ということがある。）を、長尺フィルムロール又は長尺フィルムロールに形成された塗布膜に塗布し、偏光（好ましくは、偏光ＵＶ）を照射することで得られる。光配向膜は、照射する偏光の偏光方向を選択することにより、配向規制力の方向を任意に制御できる点でより好ましい。

光反応性基とは、光照射することにより配向能を生じる基をいう。具体的には、光照射により生じる分子の配向誘起反応、異性化反応、光二量化反応、光架橋反応もしくは光分解反応等の配向能の起源となる光反応に関与する基が挙げられる。中でも、光二量化反応又は光架橋反応に関与する基が、配向性に優れる点で好ましい。光反応性基としては、不飽和結合、特に二重結合を有する基が好ましく、炭素−炭素二重結合（Ｃ＝Ｃ結合）、炭素−窒素二重結合（Ｃ＝Ｎ結合）、窒素−窒素二重結合（Ｎ＝Ｎ結合）及び炭素−酸素二重結合（Ｃ＝Ｏ結合）からなる群より選ばれる少なくとも一つを有する基が特に好ましい。

Ｃ＝Ｃ結合を有する光反応性基としては、ビニル基、ポリエン基、スチルベン基、スチルバゾ−ル基、スチルバゾリウム基、カルコン基及びシンナモイル基が挙げられる。Ｃ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、芳香族シッフ塩基、芳香族ヒドラゾン等の構造を有する基が挙げられる。Ｎ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、アゾベンゼン基、アゾナフタレン基、芳香族複素環アゾ基、ビスアゾ基、ホルマザン基、及び、アゾキシベンゼン構造を有する基が挙げられる。Ｃ＝Ｏ結合を有する光反応性基としては、ベンゾフェノン基、クマリン基、アントラキノン基及びマレイミド基が挙げられる。これらの基は、アルキル基、アルコキシ基、アリ−ル基、アリルオキシ基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシル基、スルホン酸基、ハロゲン化アルキル基等の置換基を有していてもよい。

中でも、光二量化反応に関与する光反応性基が好ましく、配向に必要な偏光照射量が比較的少なく、かつ、熱安定性や経時安定性に優れる光配向膜が得られやすいという点で、シンナモイル基及びカルコン基が好ましい。光反応性基を有するポリマーとしては、当該ポリマー側鎖の末端部が桂皮酸構造となるようなシンナモイル基を有するものが特に好ましい。

光配向膜形成用組成物を、長尺フィルムロール又は長尺フィルムロールに形成された塗布膜に塗布することにより、長尺フィルムロール上に光配向誘起層を形成することができる。該組成物に含まれる溶剤としては、上述の配向性ポリマー組成物に含まれる溶剤と同様のものが挙げられ、光反応性基を有するポリマー又はモノマーの溶解性に応じて選択することができる。

光配向膜形成用組成物中の光反応性基を有するポリマー又はモノマーの含有量は、ポリマー又はモノマーの種類や目的とする光配向膜の厚みによって調節でき、少なくとも０．２質量％とすることが好ましく、０．３〜１０質量％の範囲がより好ましい。光配向膜の特性が著しく損なわれない範囲で、光配向膜形成用組成物は、ポリビニルアルコ−ルやポリイミド等の高分子材料や光増感剤を含んでいてもよい。

光配向膜形成用組成物を、長尺フィルムロール又は長尺フィルムロール形成された塗布膜に塗布する方法としては、配向性ポリマー組成物を長尺フィルムロールに塗布する方法と同様の方法が挙げられる。塗布された光配向膜形成用組成物から、溶剤を除去する方法としては、配向性ポリマー組成物から溶剤を除去する方法と同じ方法が挙げられる。

偏光を照射するには、長尺フィルムロール又は長尺フィルムロールに形成された塗布膜に塗布された光配向膜形成用組成物から、溶剤を除去したものに直接、偏光を照射する形式でも、長尺フィルムロール側から偏光を照射し、偏光を透過させて照射する形式でもよい。また、当該偏光は、実質的に平行光であると好ましい。照射する偏光の波長は、光反応性基を有するポリマー又はモノマーの光反応性基が、光エネルギーを吸収し得る波長領域のものがよい。具体的には、波長２５０〜４００ｎｍの範囲のＵＶ（紫外線）が特に好ましい。当該偏光を照射する光源としては、キセノンランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、ＫｒＦ、ＡｒＦ等の紫外光レ−ザ−等が挙げられる。中でも、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ及びメタルハライドランプが、波長３１３ｎｍの紫外線の発光強度が大きいため好ましい。前記光源からの光を、適当な偏光層を通過して照射することにより、偏光ＵＶを照射することができる。偏光層としては、偏光フィルター、グラントムソン及び、グランテ−ラ−等の偏光プリズム、並びに、ワイヤーグリッドタイプの偏光層が挙げられる。

偏光照射を行う時に、マスキングを行えば、配向の方向が異なる複数の領域（パターン）を、配向膜に形成することができる。

＜グルブ配向膜＞
グルブ（ｇｒｏｏｖｅ）配向膜は、膜表面に凹凸パターン又は複数のグルブ（溝）を有する膜である。等間隔に並んだ複数の直線状のグルブを有する膜に液晶分子を置いた場合、その溝に沿った方向に液晶分子が配向する。

グルブ配向膜を得る方法としては、感光性ポリイミド膜表面にパターン形状のスリットを有する露光用マスクを介して露光後、現像及びリンス処理を行って凹凸パターンを形成する方法、表面に溝を有する板状の原盤に、硬化前のＵＶ硬化樹脂層を形成し、樹脂層を長尺フィルムロール又は長尺フィルムロールに形成された塗布膜へ移してから硬化する方法、及び、長尺フィルムロール又は長尺フィルムロールに形成された塗布膜上に形成した硬化前のＵＶ硬化樹脂の膜に、複数の溝を有するロール状の原盤を押し当てて凹凸を形成し、その後硬化する方法等が挙げられる。具体的には、特開平６−３４９７６号公報及び、特開２０１１−２４２７４３号公報記載の方法等が挙げられる。

上記方法の中でも、複数の溝を有するロール状の原盤を、硬化前のＵＶ硬化樹脂層表面に押し当てて凹凸を形成し、その後硬化する方法が好ましい。ロール状原盤としては、耐久性の観点からステンレス（ＳＵＳ）鋼が好ましい。

ＵＶ硬化樹脂としては、単官能アクリレート、多官能アクリレート又はこれらの混合物が挙げられる。
単官能アクリレートとは、アクリロイルオキシ基（ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−）及びメタクリロイルオキシ基（ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＯＯ−）からなる群より選ばれる基（以下、（メタ）アクリロイルオキシ基と記すこともある。）を１個有する化合物である。また、（メタ）アクリレートとは、アクリレート又はメタクリレートを意味する。

（メタ）アクリロイルオキシ基を１個有する単官能アクリレートとしては、炭素数４から１６のアルキル（メタ）アクリレート、炭素数２から１４のβカルボキシアルキル（メタ）アクリレート、炭素数２から１４のアルキル化フェニル（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート及びイソボニル（メタ）アクリレート等が挙げられる。

多官能アクリレートとは、２以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物であり、（メタ）アクリロイルオキシ基を２から６個有する化合物が好ましい。

（メタ）アクリロイルオキシ基を２個有する２官能アクリレートとしては、１，３−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート；１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート；エチレングリコールジ（メタ）アクリレート；ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート；ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート；トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート；テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート；ポリエチレングリコールジアクリレート；ビスフェノールＡのビス（アクリロイロキシエチル）エーテル；エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート；プロポキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート；エトキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート及び３−メチルペンタンジオールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

（メタ）アクリロイルオキシ基を３〜６個有する多官能アクリレートとしては、
トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート；ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート；トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート；エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート；プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート；ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート；ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート；ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート；トリペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート；トリペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート；トリペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート；トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート；トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート；
ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物；ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物；
トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物；
カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート；カプロラクトン変性ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート；カプロラクトン変性トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート；カプロラクトン変性ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート；カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート；カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート；カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート；カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート；カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート；カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート；カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート；カプロラクトン変性ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物；カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物、及びカプロラクトン変性トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレートと酸無水物等が挙げられる。
カプロラクトン変性とは、（メタ）アクリレート化合物のアルコール由来部位と（メタ）アクリロイルオキシ基との間に、カプロラクトンの開環体、又は、開環重合体が導入されていることを意味する。

多官能アクリレートは市場から入手することができる。市販品としては、Ａ−ＤＯＤ−Ｎ、Ａ−ＨＤ−Ｎ、Ａ−ＮＯＤ−Ｎ、ＡＰＧ−１００、ＡＰＧ−２００、ＡＰＧ−４００、Ａ−ＧＬＹ−９Ｅ、Ａ−ＧＬＹ−２０Ｅ、Ａ−ＴＭＭ−３、Ａ−ＴＭＰＴ、ＡＤ−ＴＭＰ、ＡＴＭ−３５Ｅ、Ａ−ＴＭＭＴ、Ａ−９５５０、Ａ−ＤＰＨ、ＨＤ−Ｎ、ＮＯＤ−Ｎ、ＮＰＧ、ＴＭＰＴ［新中村化学（株）］、“ＡＲＯＮＩＸ Ｍ−２２０”、同“Ｍ−３２５”、同“Ｍ−２４０”、同“Ｍ−２７０”同“Ｍ−３０９”同“Ｍ−３１０”、同“Ｍ−３２１”、同“Ｍ−３５０”、同“Ｍ−３６０”、同“Ｍ−３０５”、同“Ｍ−３０６”、同“Ｍ−４５０”、同“Ｍ−４５１”、同“Ｍ−４０８”、同“Ｍ−４００”、同“Ｍ−４０２”、同“Ｍ−４０３”、同“Ｍ−４０４”、同“Ｍ−４０５”、同“Ｍ−４０６”［東亜合成（株）］、“ＥＢＥＣＲＹＬ１１”、同“１４５”、同“１５０”、同“４０”、同“１４０”、同“１８０”、ＤＰＧＤＡ、ＨＤＤＡ、ＴＰＧＤＡ、ＨＰＮＤＡ、ＰＥＴＩＡ、ＰＥＴＲＡ、ＴＭＰＴＡ、ＴＭＰＥＯＴＡ、ＤＰＨＡ、ＥＢＥＣＲＹＬシリーズ［ダイセル・サイテック（株）］等を挙げることができる。

配向乱れの小さな配向を得るためには、グルブ配向膜の凸部の幅は０．０５μｍ〜５μｍであることが好ましく、凹部の幅は０．１μｍ〜５μｍであることが好ましく、凹凸の段差の深さは２μｍ以下であることが好ましく、０．０１μｍ〜１μｍ以下であることが好ましい。

<光学異方性膜>
光学異方性膜は、通常、液晶化合物及び溶剤を含む光学異方性膜形成用組成物から形成される。

<液晶化合物>
液晶化合物としては、例えば、式（Ｘ）で表される基を含む化合物（以下「化合物（Ｘ）」という場合がある）が挙げられる。液晶化合物は一種類でもよいし、異なる構造の化合物を複数組み合わせてもよい。
Ｐ^１１−Ｂ^１１−Ｅ^１１−Ｂ^１２−Ａ^１１−Ｂ^１３− （Ｘ）
［式（Ｘ）中、Ｐ^１１は、水素原子又は重合性基を表わす。
Ａ^１１は、２価の脂環式炭化水素基または２価の芳香族炭化水素基を表わす。該２価の脂環式炭化水素基および２価の芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６アルコキシ基、シアノ基またはニトロ基で置換されていてもよく、該炭素数１〜６のアルキル基および該炭素数１〜６アルコキシ基に含まれる水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよい。
Ｂ^１１は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ^１６−、−ＮＲ^１６−ＣＯ−、−ＣＯ−、−ＣＳ−または単結合を表わす。Ｒ^１６は、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表わす。
Ｂ^１２およびＢ^１３は、それぞれ独立に、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^１６−、−ＮＲ^１６−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣＨ_２−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−または単結合を表わす。
Ｅ^１１は、炭素数１〜１２のアルカンジイル基を表わし、該アルカンジイル基に含まれる水素原子は、炭素数１〜５のアルコキシ基で置換されていてもよく、該アルコキシ基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよい。また、該アルカンジイル基を構成する−ＣＨ_２−は、−Ｏ−または−ＣＯ−に置き換わっていてもよい。］

Ａ^１１で表される２価の芳香族炭化水素基および２価の脂環式炭化水素基の炭素数は、３〜１８の範囲であることが好ましく、５〜１２の範囲であることがより好ましく、５または６であることが特に好ましい。Ａ^１１としては、シクロヘキサン−１，４−ジイル基、１，４−フェニレン基が好ましい。

Ｅ^１１で表される炭素数１〜１２のアルカンジイル基としては、直鎖状の炭素数１〜１２のアルカンジイル基が好ましい。炭素数１〜１２のアルカンジイル基を構成する−ＣＨ_２−は、−Ｏ−に置き換っていてもよい。
具体的には、メチレン基、エチレン基、プロパン−１，３−ジイル基、ブタン−１，４−ジイル基、ペンタン−１，５−ジイル基、へキサン−１，６−ジイル基、へプタン−１，７−ジイル基、オクタン−１，８−ジイル基、ノナン−１，９−ジイル基、デカン−１，１０−ジイル基、ウンデカン−１，１１−ジイル基およびドデカン−１，１２−ジイル基等の炭素数１〜１２の直鎖状アルカンジイル基；−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−および−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−等が挙げられる。
Ｂ^１１としては、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−が好ましく、中でも、−ＣＯ−Ｏ−がより好ましい。
Ｂ^１２およびＢ^１３としては、それぞれ独立に、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−が好ましく、中でも、−Ｏ−または−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−がより好ましい。

Ｐ^１１は好ましくは重合性基である。Ｐ^１１で示される重合性基としては、光重合反応がし易いという点で、ラジカル重合性基またはカチオン重合性基が好ましく、取り扱いが容易な上、液晶化合物の製造も容易であることから、重合性基は、下記の式（Ｐ−１１）〜式（Ｐ−１５）のいずれかで表わされる基、またはｐ-スチルベン基であることが好ましい。

［式（Ｐ−１１）〜（Ｐ−１３）中、
Ｒ^１７〜Ｒ^２１はそれぞれ独立に、炭素数１〜６のアルキル基または水素原子を表わす。］

式（Ｐ−１１）〜式（Ｐ−１３）で表わされる基の具体例としては、下記式（Ｐ−１６）〜式（Ｐ−２０）で表わされる基が挙げられる。

Ｐ^１１は、式（Ｐ−１４）〜式（Ｐ−２０）のいずれかで表わされる基、またはｐ−スチルベン基であることが好ましく、ビニル基、ｐ−スチルベン基、エポキシ基またはオキセタニル基がより好ましい。
Ｐ^１１−Ｂ^１１−で表わされる基が、アクリロイルオキシ基またはメタアクリロイルオキシ基であることがさらに好ましい。

化合物（Ｘ）としては、式（Ｉ）、式（ＩＩ）、式（ＩＩＩ）、式（ＩＶ）、式（Ｖ）または式（ＶＩ）で表わされる化合物が挙げられる。
P¹¹-B¹¹-E¹¹-B¹²-A¹¹-B¹³-A¹²-B¹⁴-A¹³-B¹⁵-A¹⁴-B¹⁶-E¹²-B¹⁷-P¹² （Ｉ）
P¹¹-B¹¹-E¹¹-B¹²-A¹¹-B¹³-A¹²-B¹⁴-A¹³-B¹⁵-A¹⁴-F¹¹ （ＩＩ）
P¹¹-B¹¹-E¹¹-B¹²-A¹¹-B¹³-A¹²-B¹⁴-A¹³-B¹⁵-E¹²-B¹⁷-P¹² （ＩＩＩ）
P¹¹-B¹¹-E¹¹-B¹²-A¹¹-B¹³-A¹²-B¹⁴-A¹³-F¹¹ （ＩＶ）
P¹¹-B¹¹-E¹¹-B¹²-A¹¹-B¹³-A¹²-B¹⁴-E¹²-B¹⁷-P¹² （Ｖ）
P¹¹-B¹¹-E¹¹-B¹²-A¹¹-B¹³-A¹²-F¹¹ （ＶＩ）
（式中、
Ａ^１２〜Ａ^１４はそれぞれ独立に、Ａ^１１と同義であり、Ｂ^１４〜Ｂ^１６はそれぞれ独立に、Ｂ^１２と同義であり、Ｂ^１７は、Ｂ^１１と同義であり、Ｅ^１２は、Ｅ^１１と同義である。
Ｆ^１１は、水素原子、炭素数１〜１３のアルキル基、炭素数１〜１３のアルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、ジメチルアミノ基、ヒドロキシ基、メチロール基、ホルミル基、スルホ基（−ＳＯ_３Ｈ）、カルボキシ基、炭素数１〜１０のアルコキシカルボニル基またはハロゲン原子を表わし、該アルキル基およびアルコキシ基を構成する−ＣＨ_２−は、−Ｏ−に置き換っていてもよい。
Ｐ^１２は、水素原子又は重合性基を表し、好ましくは重合性基である。重合性基としては、上記Ｐ^１１と同様の重合性基が挙げられる。Ｐ^１１及びＰ^１２は少なくとも一方が、重合性基である。）

液晶化合物の具体例としては、液晶便覧（液晶便覧編集委員会編、丸善（株）平成１２年１０月３０日発行）の「３．８．６ ネットワーク（完全架橋型）」、「６．５．１ 液晶材料 ｂ．重合性ネマチック液晶材料」に記載された化合物、特開２０１０−３１２２３号公報、特開２０１０−２７０１０８号公報、特開２０１１−６３６０号公報および特開２０１１−２０７７６５号公報記載の液晶化合物が挙げられる。
液晶化合物は好ましくは重合性基を有する。かかる重合性基としては、上記したＰ^１１で示される重合性基が挙げられる。

化合物（Ｘ）の具体例としては、下記式（Ｉ−１）〜式（Ｉ−４）、式（ＩＩ−１）〜式（ＩＩ−４）、式（ＩＩＩ−１）〜式（ＩＩＩ−２６）、式（ＩＶ−１）〜式（ＩＶ−２６）、式（Ｖ−１）〜式（Ｖ−２）および式（ＶＩ−１）〜式（ＶＩ−６）で表わされる化合物が挙げられる。なお、下記式中、ｋ1およびｋ2は、それぞれ独立して、２〜１２の整数を表わす。これらの化合物（Ｘ）は、その合成の容易さ、または、入手の容易さの点で、好ましい。

光学異方性膜形成用組成物における液晶化合物の含有量は、光学異方性膜形成用組成物１００質量部に対して、通常５〜５０質量部であり、好ましくは１０〜３０質量部である。

<溶剤>
溶剤としては、液晶化合物等の光学異方性膜形成用組成物の構成成分を溶解し得る有機溶剤が好ましく、液晶化合物等の光学異方性膜形成用組成物の構成成分を溶解し得る溶剤であって、さらに、液晶化合物が重合性基を有する場合は、液晶化合物の重合反応に不活性な溶剤がより好ましい。
具体的には、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル、フェノール等のアルコール溶剤；酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、乳酸エチル、プロピオン酸ブチル、酢酸２−メトキシエチル、酢酸２−エトキシエチル、酢酸イソアミル、アセト酢酸エチル、３−エトキシプロピオン酸エチル等のエステル溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルアミルケトン、メチルイソブチルケトン、Ｎ−メチル−２−ピロリジノン等のケトン溶剤；ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の非塩素化脂肪族炭化水素溶剤；トルエン、キシレン等の非塩素化芳香族炭化水素溶剤；アセトニトリル等のニトリル溶剤；テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル溶剤；およびクロロホルム、クロロベンゼン等の塩素化炭化水素溶剤；が挙げられる。二種以上の有機溶剤を組み合わせて用いてもよい。
好ましくは、アルコール溶剤、エステル溶剤、ケトン溶剤、非塩素化脂肪族炭化水素溶剤及び非塩素化芳香族炭化水素溶剤である。

溶剤の含有量は、固形分１００質量部に対して、１０〜１００００質量部が好ましく、より好ましくは１００〜５０００質量部である。光学異方性膜形成用組成物中の固形分濃度は、通常１〜９０質量％であり、好ましくは２〜５０質量％であり、より好ましくは５〜５０質量％である。”固形分”とは、光学異方性膜形成用組成物から溶剤を除いた成分の合計を意味する。

光学異方性膜形成用組成物は、上記液晶化合物及び溶剤に加えて、重合開始剤、重合禁止剤、光増感剤、レベリング剤、カイラル剤、反応性添加剤等を含んでもよい。液晶化合物が重合性基を有する場合は、光学異方性膜形成用組成物は重合開始剤を含むのが好ましい。

<重合開始剤>
重合開始剤としては、光重合開始剤が好ましく、光照射によりラジカルを発生する光重合開始剤が好ましい。
光重合開始剤としては、ベンゾイン化合物、ベンゾフェノン化合物、ベンジルケタール化合物、α−ヒドロキシケトン化合物、α−アミノケトン化合物、α−アセトフェノン化合物、トリアジン化合物、ヨードニウム塩およびスルホニウム塩が挙げられる。具体的には、イルガキュア（Irgacure）９０７、イルガキュア１８４、イルガキュア６５１、イルガキュア８１９、イルガキュア２５０、イルガキュア３６９（以上、全てチバ・ジャパン株式会社製）、セイクオールＢＺ、セイクオールＺ、セイクオールＢＥＥ（以上、全て精工化学株式会社製）、カヤキュアー（kayacure）ＢＰ１００（日本化薬株式会社製）、カヤキュアーＵＶＩ−６９９２（ダウ社製）、アデカオプトマーＳＰ−１５２、アデカオプトマーＳＰ−１７０（以上、全て株式会社ＡＤＥＫＡ製）、ＴＡＺ−Ａ、ＴＡＺ−ＰＰ（以上、日本シイベルヘグナー社製）およびＴＡＺ−１０４（三和ケミカル社製）等が挙げられる。中でも、α−アセトフェノン化合物が好ましく、α−アセトフェノン化合物としては、２−メチル−２−モルホリノ−１−（４−メチルスルファニルフェニル）プロパン−１−オン、２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−２−ベンジルブタン−１−オン及び２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−２−（４−メチルフェニルメチル）ブタン−１−オン等が挙げられ、より好ましくは２−メチル−２−モルホリノ−１−（４−メチルスルファニルフェニル）プロパン−１−オン及び２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−２−ベンジルブタン−１−オンが挙げられる。α−アセトフェノン化合物の市販品としては、イルガキュア３６９、３７９ＥＧ、９０７（以上、ＢＡＳＦジャパン（株）製）及びセイクオールＢＥＥ（精工化学社製）等が挙げられる。

重合開始剤の含有量は、液晶化合物の配向を乱さないためには、液晶化合物１００質量部に対して、通常０．１〜３０質量部であり、好ましくは０．５〜１０質量部である。

<重合禁止剤>
重合禁止剤としては、ハイドロキノンおよびアルキルエーテル等の置換基を有するハイドロキノン類；ブチルカテコール等のアルキルエーテル等の置換基を有するカテコール類；ピロガロール類、２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジニルオキシラジカル等のラジカル補足剤；チオフェノール類；β−ナフチルアミン類およびβ−ナフトール類が挙げられる。
重合禁止剤の含有量は、液晶化合物の配向を乱さないためには、液晶化合物１００質量部に対して、通常０．１〜３０質量部であり、好ましくは０．５〜１０質量部である。

<光増感剤>
光増感剤としては、キサントン、チオキサントン等のキサントン類；アントラセンおよびアルキルエーテル等の置換基を有するアントラセン類；フェノチアジン；ルブレンが挙げられる。
光増感剤を用いることにより、光重合開始剤を高感度化することができる。光増感剤の含有量は、液晶化合物１００質量部に対して、通常０．１質量部〜３０質量部であり、好ましくは０．５質量部〜１０質量部である。

<レベリング剤>
レベリング剤としては、有機変性シリコーンオイル系、ポリアクリレート系およびパーフルオロアルキル系のレベリング剤が挙げられる。具体的には、ＤＣ３ＰＡ、ＳＨ７ＰＡ、ＤＣ１１ＰＡ、ＳＨ２８ＰＡ、ＳＨ２９ＰＡ、ＳＨ３０ＰＡ、ＳＴ８０ＰＡ、ＳＴ８６ＰＡ、ＳＨ８４００、ＳＨ８７００、ＦＺ２１２３（以上、全て東レ・ダウコーニング（株）製）、ＫＰ３２１、ＫＰ３２３、ＫＰ３２４、ＫＰ３２６、ＫＰ３４０、ＫＰ３４１、Ｘ２２−１６１Ａ、ＫＦ６００１（以上、全て信越化学工業（株）製）、ＴＳＦ４００、ＴＳＦ４０１、ＴＳＦ４１０、ＴＳＦ４３００、ＴＳＦ４４４０、ＴＳＦ４４４５、ＴＳＦ−４４４６、ＴＳＦ４４５２、ＴＳＦ４４６０（以上、全てモメンティブ パフォーマンス マテリアルズ ジャパン合同会社製）、フロリナート（fluorinert）（登録商標）ＦＣ−７２、同ＦＣ−４０、同ＦＣ−４３、同ＦＣ−３２８３（以上、全て住友スリーエム（株）製）、メガファック（登録商標）Ｒ−０８、同Ｒ−３０、同Ｒ−９０、同Ｆ−４１０、同Ｆ−４１１、同Ｆ−４４３、同Ｆ−４４５、同Ｆ−４７０、同Ｆ−４７７、同Ｆ−４７９、同Ｆ−４８２、同Ｆ−４８３（以上、いずれもＤＩＣ（株）製）、エフトップ（商品名）ＥＦ３０１、同ＥＦ３０３、同ＥＦ３５１、同ＥＦ３５２（以上、全て三菱マテリアル電子化成（株）製）、サーフロン（登録商標）Ｓ−３８１、同Ｓ−３８２、同Ｓ−３８３、同Ｓ−３９３、同ＳＣ−１０１、同ＳＣ−１０５、ＫＨ−４０、ＳＡ−１００（以上、全てＡＧＣセイミケミカル（株）製）、商品名Ｅ１８３０、同Ｅ５８４４（（株）ダイキンファインケミカル研究所製）、ＢＭ−１０００、ＢＭ−１１００、ＢＹＫ−３５２、ＢＹＫ−３５３及びＢＹＫ−３６１Ｎ（いずれも商品名：ＢＭ Ｃｈｅｍｉｅ社製）が挙げられる。２種以上のレベリング剤を組み合わせてもよい。

レベリング剤を用いることにより、より平滑な光学異方性膜を形成することができる。また、光学異方性膜の製造過程で、光学異方性膜形成用組成物の流動性を制御することができる。レベリング剤の含有量は、液晶化合物１００質量部に対して、通常０．１〜３０質量部であり、好ましくは０．１〜１０質量部である。

<カイラル剤>
カイラル剤としては、公知のカイラル剤（例えば、液晶デバイスハンドブック、第３章４−３項、ＴＮ、ＳＴＮ用カイラル剤、１９９頁、日本学術振興会第１４２委員会編、１９８９に記載）が挙げられる。
カイラル剤は、一般に不斉炭素原子を含むが、不斉炭素原子を含まない軸性不斉化合物あるいは面性不斉化合物もカイラル剤として用いることができる。軸性不斉化合物または面性不斉化合物としては、ビナフチル、ヘリセン、パラシクロファンおよびこれらの誘導体が挙げられる。
具体的には、特開２００７−２６９６４０号公報、特開２００７−２６９６３９号公報、特開２００７−１７６８７０号公報、特開２００３−１３７８８７号公報、特表２０００−５１５４９６号公報、特開２００７−１６９１７８号公報および特表平９−５０６０８８号公報に記載されているような化合物が挙げられ、好ましくはＢＡＳＦジャパン（株）製のｐａｌｉｏｃｏｌｏr（登録商標） ＬＣ７５６である。
カイラル剤の含有量は、液晶化合物の配向を乱さないためには、液晶化合物１００質量部に対して、通常０．１〜３０質量部であり、好ましくは１．０〜２５質量部である。

<反応性添加剤>
反応性添加剤としては、その分子内に炭素−炭素不飽和結合と活性水素反応性基とを有するものが好ましい。なお、ここでいう「活性水素反応性基」とは、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）、水酸基（−ＯＨ）、アミノ基（−ＮＨ_２）等の活性水素を有する基に対して反応性を有する基を意味し、エポキシ基、オキサゾリン基、カルボジイミド基、アジリジン基、イミド基、イソシアナート基、チオイソシアナート基、無水マレイン酸基等がその代表例である。

反応性添加剤において、活性水素反応性基は少なくとも２つ存在すると好ましく、この場合、複数存在する活性水素反応性基は同一でも、異なるものであってもよい。

反応性添加剤が有する炭素−炭素不飽和結合は、炭素−炭素二重結合、炭素−炭素三重結合又は、それらの組み合わせであってよく、好ましくは炭素−炭素二重結合である。中でも、反応性添加剤が、ビニル基及び／又は（メタ）アクリル基を含むと好ましい。さらに、活性水素反応性基が、エポキシ基、グリシジル基及びイソシアナート基からなる群から選ばれる少なくとも１種であるものが好ましく、アクリル基と、イソシアナート基とを有する反応性添加剤が特に好ましい。

反応性添加剤の具体例としては、メタクリロキシグリシジルエーテルやアクリロキシグリシジルエーテルなどの、（メタ）アクリル基とエポキシ基とを有する化合物；オキセタンアクリレートやオキセタンメタクリレートなどの、（メタ）アクリル基とオキセタン基とを有する化合物；ラクトンアクリレートやラクトンメタクリレートなどの、（メタ）アクリル基とラクトン基とを有する化合物；ビニルオキサゾリンやイソプロペニルオキサゾリンなどの、ビニル基とオキサゾリン基とを有する化合物；イソシアナートメチルアクリレート、イソシアナートメチルメタクリレート、２−イソシアナートエチルアクリレート及び２０イソシアナートエチルメタクリレートなどの、（メタ）アクリル基とイソシアナート基とを有する化合物のオリゴマー等が挙げられる。また、メタクリル酸無水物、アクリル酸無水物、無水マレイン酸及びビニル無水マレイン酸などの、ビニル基やビニレン基と酸無水物とを有する化合物などが挙げられる。中でも、メタクリロキシグリシジルエーテル、アクリロキシグリシジルエーテル、イソシアナートメチルアクリレート、イソシアナートメチルメタクリレート、ビニルオキサゾリン、２−イソシアナートエチルアクリレート、２−イソシアナートエチルメタクリレート及び前記のオリゴマーが好ましく、イソシアナートメチルアクリレート、２−イソシアナートエチルアクリレート及び前記のオリゴマーが特に好ましい。

この好ましい反応性添加剤は、下記式（Ｙ）で表される。

［式（Ｙ）中、
ｎは１〜１０までの整数を表わし、Ｒ^１’は、炭素数２〜２０の２価の脂肪族又は脂環式炭化水素基、或いは炭素数５〜２０の２価の芳香族炭化水素基を表わす。各繰り返し単位にある２つのＲ^２’は、一方が−ＮＨ−であり、他方が＞Ｎ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ^３’で示される基である。Ｒ^３’は、水酸基又は炭素−炭素不飽和結合を有する基を表す。
式（Ｙ）中のＲ^３’のうち、少なくとも１つのＲ^３’は炭素−炭素不飽和結合を有する基である。］

前記式（Ｙ）で表される反応性添加剤の中でも、下記式（ＹＹ）で表される化合物（以下、場合により「化合物（ＹＹ）」という。）が特に好ましい（なお、ｎは前記と同じ意味である）。

化合物（ＹＹ）には、市販品をそのまま又は必要に応じて精製して用いることができる。市販品としては、例えば、Ｌａｒｏｍｅｒ（登録商標）ＬＲ−９０００（ＢＡＳＦ社製）等が挙げられる。

反応性添加剤の含有量は、液晶化合物１００質量部に対して、通常０．１〜３０質量部であり、好ましくは０．１〜５質量部である。

光学異方性膜形成用組成物を長尺フィルムロール又は長尺フィルムロールに形成された塗布膜に塗布する方法としては、配向膜と同じ方法が挙げられる。

乾燥する方法としては、自然乾燥法、通風乾燥法、加熱乾燥法及び減圧乾燥法等が挙げられる。好ましくは、通風乾燥法と加熱乾燥法とを組み合わせた方法である。乾燥温度としては、１０〜２５０℃好ましく、２５〜２００℃がさらに好ましい。乾燥時間としては、１０秒間〜６０分間が好ましく、３０秒間〜３０分間がより好ましい。乾燥することで光学異方性膜形成用組成物に含まれる溶剤が除去される。

塗布された光学異方性膜形成用組成物を加熱乾燥し、溶剤を除去し、液晶相に転移させることで、該光学異方性膜形成用組成物に含まれる液晶化合物は、通常、配向する。
配向した液晶化合物をそのまま光学異方性膜として用いてもよいが、液晶化合物が重合性基を有する場合は、液晶化合物を重合して硬化させるのが好ましい。液晶化合物が重合した光学異方性膜は、液晶化合物の配向が固定化されるため、熱による複屈折の変化の影響を受けにくい。

重合性基を有する液晶化合物を重合する方法としては、光重合が好ましい。光重合によれば、低温で重合を実施できるため、耐熱性の観点で、用いる樹脂長尺フィルムロールの選択幅が広がる。光重合反応は、通常、可視光、紫外光又はレーザー光を照射することにより行われ、好ましくは紫外光を照射することで行われる。

光を照射する時間は、通常５秒〜１０分であり、好ましくは５秒〜２分であり、より好ましくは５秒〜１分であり、さらに好ましくは５秒〜３０秒である。上記範囲であれば、透明性に優れた光学異方性膜を得ることができる。

光学異方性膜の厚さは、０．１μｍ〜１０μｍであることが好ましく、光弾性を小さくする点で０．２μｍ〜５μｍであることがさらに好ましい。

＜保護膜＞
保護膜は、通常、多官能アクリレート（メタクリレート）、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート等からなるアクリル系オリゴマーあるいはポリマー、ポリビニルアルコール、エチレン−ビニルアルコール共重合体、ポリビニルピロリドン、デンプン類、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、アルギン酸ナトリウム等の水溶性ポリマーと溶剤とを含有する保護膜形成用組成物から形成される。保護膜形成用組成物は、光学異方性フィルム部材用組成物のひとつである。

保護膜形成用組成物に含有される溶剤は、前記した溶剤と同様のものが挙げられ、中でも、水、アルコール溶剤およびエーテル溶剤からなる群より選ばれる少なくとも一つの溶剤が、保護膜を形成する層を溶解させることがない点で、好ましい。アルコール溶剤としては、メタノール、エタノール、ブタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールブチルエーテルおよびプロピレングリコールモノメチルエーテルが挙げられる。エーテル溶剤としては、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテートおよびプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートが挙げられる。中でも、エタノール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコールモノメチルエーテルおよびプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートが好ましい。

保護膜形成用組成物を塗布する方法及び乾燥する方法としては、配向膜と同じものが挙げられる。

保護膜の厚さは、通常２０μｍ以下である。保護膜の厚さは、０．５μｍ以上１０μｍ以下が好ましく、１μｍ以上５μｍ以下がより好ましい。保護膜の厚さは、通常、干渉膜厚計、レーザー顕微鏡または触針式膜厚計による測定によって求めることができる。

＜接着剤層＞
接着剤層は、通常、粘着剤、接着剤又は活性エネルギー線硬化型接着剤を含む接着剤組成物から形成される。接着剤組成物は、光学異方性フィルム部材用組成物のひとつである。

粘着剤としては、ガラス転移温度（Ｔｇ）が２０℃以下である、エチレン性不飽和基を有するモノマーの重合体が挙げられる。Ｔｇは、モノマー比率等の重合条件によって適宜調整することができる。

エチレン性不飽和基を有するモノマーとしては、（メタ）アクリロイル基を有するモノマー、ビニル基を有するモノマー及びオレフィン炭化水素等が挙げられる。

粘着剤に含まれるエチレン性不飽和基を有するモノマーの重合体は、溶液重合法、乳化重合法、塊状重合法、懸濁重合法等の公知の方法によって製造することができる。

接着剤としては、水酸基、カルボキシ基若しくはアミノ基等のプロトン性官能基とエチレン性不飽和基を有するモノマーの重合体、又は、ウレタン樹脂を主成分として含有し、さらに、多価アルデヒド、エポキシ化合物、エポキシ樹脂、メラミン化合物、ジルコニア化合物、及び亜鉛化合物等の架橋剤又は硬化性化合物を含有する組成物等が挙げられる。

活性エネルギー線硬化型接着剤とは、活性エネルギー線の照射を受けて硬化する接着剤である。
活性エネルギー線硬化型接着剤としては、エポキシ化合物とカチオン重合開始剤とを含有するカチオン重合性のもの、アクリル系硬化成分とラジカル重合開始剤とを含有するラジカル重合性のもの、エポキシ化合物等のカチオン重合性の硬化成分及びアクリル系化合物等のラジカル重合性の硬化成分の両者を含有し、さらにカチオン重合開始剤及びラジカル重合開始剤を含有するもの、及び、重合開始剤を含まずに電子ビームを照射することで硬化されるもの等が挙げられる。中でも、エポキシ化合物とカチオン重合開始剤を含有するカチオン重合性の活性エネルギー線硬化型接着剤が好ましい。かかる接着剤は、実質的に無溶剤で使用できるため好ましい。

本明細書における活性エネルギー線とは、活性種を発生する化合物を分解して活性種を発生させることのできるエネルギー線と定義される。このような活性エネルギー線としては、可視光、紫外線、赤外線、Ｘ線、α線、β線、γ線及び電子線等が挙げられる。本発明における活性エネルギー線硬化型接着剤には通常、紫外線及び電子線が用いられる。

接着剤組成物を塗布する方法及び乾燥する方法としては、配向膜と同じものが挙げられる。

＜搬送＞
上記の塗布膜が形成された長尺フィルムロールの搬送方向は、上記塗布膜が形成された上記塗布膜表面を連続送風しながら変えられる。好ましくは、塗布膜が形成された表面に風（気体）以外のものを接触させずに搬送方向を変えるものであり、塗布膜が形成された表面側に搬送方向を変えるものである。

長尺フィルムロールを搬送する場合には、その張力を維持するために、ガイドロールを用いるのが一般的である。しかしながら、ガイドロールと塗布膜の表面とが接触することによって塗布膜に欠陥が生じ、かかる欠陥によって液晶化合物の配向に乱れが生じることにより、光学異方性膜の特性が低下することがある。
長尺フィルムロールに形成された塗布膜表面に連続送風しながら、長尺フィルムロールの搬送方向を変えることによって、張力を維持しながら長尺フィルムロールを搬送することができる。

連続送風しながら変える搬送方向は、通常５°〜２２０°であり、好ましくは２０°〜１８０°であり、より好ましくは４５°〜１３０°である。
ここでの角度は、塗布膜面を上層とし、長尺フィルムロール面を下層とした場合において、上層側に搬送方向を変えたときの、変化した角度を意味する。つまり、搬送方向を変える前の搬送方向を基準（０°）とした時の、搬送方向を変えた後の搬送方向の角度を意味する。

長尺フィルムロールを搬送する際の張力は、好ましくは５０〜１５０Ｎ／ｍｍであり、より好ましくは６０〜１３０Ｎ／ｍｍであり、さらに好ましくは７０〜１２０Ｎ／ｍｍである。
長尺フィルムロールの搬送速度は好ましくは３〜２０ｍ／分である。

連続送風しながら長尺フィルムロールの搬送方向を変える方法としては、例えば、送風型ガイド部材を用いる方法等が挙げられる。送風型ガイド部材を用いて長尺フィルムロールの搬送方向を変える場合、送風型ガイド部材と長尺フィルムロールに形成された塗布膜との間に空間が生じる。
該送風型ガイド部材と該塗布膜との空間距離は、通常０．０１〜１０ｍｍであり、好ましくは０．１〜５ｍｍである。

送風型ガイド部材としては、例えば、ＷＯ２０１３／１０５３１７号公報の図２に記載されたエアターンバーが挙げられる。エアターンバーは、基板の表面積に応じた圧力の風を送風し、非接触で搬送方向を変え、かつ張力を与えることが可能である。したがって、エアターンバーを用いて搬送する際には、搬送速度、搬送する基材の幅に応じて、風速を調整する。

かくして本製造方法により製造された光学異方性フィルム部材（以下、本部材ということがある）が得られる。
本部材としては、以下の構成をこの順に有する部材等が挙げられる。
・長尺フィルムロール、配向膜
・長尺フィルムロール、光学異方性膜
・長尺フィルムロール、配向膜、光学異方性膜
・長尺フィルムロール、配向膜、光学異方性膜、保護膜
・長尺フィルムロール、配向膜、光学異方性膜、接着剤層
・長尺フィルムロール、配向膜、光学異方性膜、保護膜、配向膜
・長尺フィルムロール、配向膜、光学異方性膜、保護膜、配向膜、光学異方性膜
・配向膜、長尺フィルムロール、配向膜
・光学異方性膜、長尺フィルムロール、光学異方性膜
・光学異方性膜、配向膜、長尺フィルムロール、配向膜、光学異方性膜
このような本部材の塗布膜は連続して形成されるのが好ましい。

以下、図１を参照して「長尺フィルムロール、配向膜、光学異方性膜」の構成を有する光学異方性フィルム部材を得るための本製造方法を説明する。
第１ロール２１０から長尺フィルムロールを巻き出す。長尺フィルムロールを巻き出す方法は該第１ロール２１０の巻芯２１０Ａに適当な回転手段を設置し、当該回転手段により第１ロール２１０を回転させることにより行われる。また、第１ロール２１０から長尺フィルムロールを搬送する方向に、適当なガイドロール３１０を設置し、当該ガイドロール３１０の回転手段で長尺フィルムロールを巻き出す形式でもよい。さらに、第１の巻芯２１０Ａ及びガイドロール３１０ともに回転手段を設置することで、長尺フィルムロールに適度な張力を付与しながら、長尺基材を巻き出す形式でもよい。

前記第１ロール２１０から巻き出された長尺フィルムロールは、塗布装置２１１Ａを通過する際に、その表面上に塗布装置２１１Ａにより光配向膜形成用組成物が塗布される。これ以降、光配向膜形成用組成物が塗布された表面にはガイドロール３１０を接触させず、送風型ガイド部材３００によって搬送方向は変えられる。

塗布装置２１１Ａを通過した長尺フィルムロールは、乾燥炉２１２Ａへ搬送され、乾燥炉２１２Ａによって溶剤が除去される。乾燥炉２１２Ａは、互いに異なる設定温度の複数のゾーンからなるものであってもよいし、互いに異なる設定温度の複数の乾燥炉を直列に設置したものであってもよい。

乾燥後、光照射装置２１３Ａによって偏光が照射されることにより、配向膜が形成される。

続いて、配向膜が形成された長尺フィルムロールは、塗布装置２１１Ｂを通過する。塗布装置２１１Ｂによって、前記配向膜上に光学異方性膜形成用組成物が塗布される。その後、乾燥炉２１２Ｂを通過することにより、溶媒が除去される。乾燥炉２１２Ｂは、乾燥炉２１２Ａと同様に、互いに異なる設定温度の複数のゾーンからなるものであってもよいし、互いに異なる設定温度の複数の乾燥炉を直列に設置したものであってもよい。

前記乾燥炉２１２Ｂを通過することにより、光学異方性膜形成用組成物に含まれる液晶化合物が配向する。かかる液晶化合物が配向した状態で、光照射装置２１３Ｂによって光を照射することにより、該液晶化合物は配向を保持したまま重合され、光学異方性膜が形成される。なお、ここでいう液晶化合物は、重合性基を有するものである。

かくして得られた光学異方性フィルム部材は、第２の巻芯２２０Ａに巻き取られ、第２ロール２２０が得られる。なお、巻き取る際には、適当なスペーサを用いた供巻きを行ってもよい。

このように、長尺フィルムロールが、第１ロール２１０から、塗布装置２１１Ａ、乾燥炉２１２Ａ、光照射装置２１３Ａ、塗布装置２１１Ｂ、乾燥炉２１２Ｂ及び光照射装置２１３Ｂの順で通過し、塗布膜が形成された表面を連続送風しながら搬送方向を変えることにより、長尺フィルムロールの張力を維持しながら連続的に光学異方性フィルム部材を製造することができる。

また、図１において、例えば、長尺フィルムロールを、第１ロール２１０から、塗布装置２１１Ａ、乾燥炉２１２Ａ、及び光照射装置２１３Ａの順で通過させ、これを巻芯に巻き取ることで、配向膜が形成された光学異方性フィルム部材を得ることができる。さらに、巻芯に巻き取られた、前記光学異方性フィルム部材を巻き出し、塗布装置２１１Ｂ、乾燥炉２１２Ｂ及び光照射装置２１３Ｂの順で通過させ、光学異方性膜を形成してもよい。
より欠陥の少ない光学異方性膜を得るためには、図１に示したように、配向膜の形成と、光学異方性膜の形成とを連続して行うのが好ましい。

以下、図２を参照して「光学異方性膜、配向膜、長尺フィルムロール、配向膜、光学異方性膜」の構成を有する光学異方性フィルム部材を得るための本製造方法を説明する。なお、配向膜の形成については詳細を省略する。

長尺フィルムロールが巻き取られている第１ロール２１０を準備する。第１ロール２１０から長尺フィルムロール１１０を連続的に巻き出し、長尺フィルムロールの片面に、配向膜を形成（図示はしない）することにより、片面に配向膜が形成された長尺フィルムロール１２０が得られる。以降、配向膜が形成された表面にはガイドロール３１０を接触させず、送風型ガイド部材３００によって搬送方向は変えられる。

続いて、形成された配向膜上に、塗布装置２１１Ａによって光学異方性膜形成用組成物が塗布される。乾燥炉２１２Ａを通過することにより、塗布された光学異方性膜形成用組成物から溶剤が除去される。さらに、光照射装置２１３Ａにより光照射を行うことにより、長尺フィルムロールと、配向膜と、光学異方性膜とがこの順で積層された光学異方性フィルム部材１４０が得られる。なお、ここでいう液晶化合物は、重合性基を有するものである。

光学異方性フィルム部材１４０の光学異方性膜が形成された面とは反対の面に、配向膜を形成（図示はしない）し、配向膜が形成された長尺フィルムロール１５０が得られる。

得られた、長尺フィルムロール１５０の配向膜上に、塗布装置２１１Ｂによって光学異方性膜形成用組成物を塗布し、乾燥炉２１２Ｂによって溶剤を除去し、さらに、光照射装置２１３Ｂによって光照射することにより光学異方性膜が形成される。なお、ここでいう液晶化合物は、重合性基を有するものである。

得られた光学異方性フィルム部材１００は、第２の巻芯２２０Ａに巻き取られる。なお、巻き取る際には、適当なスペーサを用いた供巻きを行ってもよい。

図３は塗布膜を形成した長尺フィルムロール搬送時の、塗布膜を形成した長尺フィルムロールと送風型ガイド部材の模式図である。塗布膜１７０が表面に形成された長尺フィルムロール１１０は、送風型ガイド部材３００から連続送風されながら、送風型ガイド部材３００に接触することなく搬送方向が変えられる。ここで塗布膜１７０と送風型ガイド部材３００との間には空間３２０が存在する。

光学異方性膜を有する本部材は、光学異方性フィルムとして使用することができる。該光学異方性フィルムは、複数枚積層してもよいし、他のフィルムと組み合わせてもよい。液晶化合物の配向状態の異なる前記光学異方性フィルムを複数枚積層する、又は、他のフィルムと組み合わせると、視野角補償フィルム、視野角拡大フィルム、反射防止フィルム、偏光板、円偏光板、楕円偏光板又は輝度向上フィルムとして利用できる。

光学異方性膜を有する本部材は、必要に応じて裁断し、さまざまな表示装置に用いることができる。表示装置とは、表示素子を有する装置であり、発光源として発光素子又は発光装置を含む。表示装置としては、例えば、液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置、無機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置、電子放出表示装置（例えば電場放出表示装置（ＦＥＤ）、表面電界放出表示装置（ＳＥＤ））、電子ペーパー（電子インクや電気泳動素子を用いた表示装置、プラズマ表示装置、投射型表示装置（例えばグレーティングライトバルブ（ＧＬＶ）表示装置、デジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）を有する表示装置）及び圧電セラミックディスプレイなどが挙げられる。液晶表示装置は、透過型液晶表示装置、半透過型液晶表示装置、反射型液晶表示装置、直視型液晶表示装置及び投写型液晶表示装置などのいずれをも含む。これらの表示装置は、２次元画像を表示する表示装置であってもよいし、３次元画像を表示する立体表示装置であってもよい。前記光学異方性フィルムは、特にＩＰＳ（in-plane switching）モードの液晶表示装置の補償に適している。

以下、実施例により本発明をより具体的に説明するが、本発明は、下記実施例によって限定されるものではない。なお、例中の「％」および「部」は、特記ない限り、質量％および質量部を意味する。

［配向性ポリマー組成物の調製］
配向性ポリマー組成物の組成を、表１に示す。市販の配向性ポリマーであるサンエバーＳＥ−６１０（日産化学工業株式会社製）にＮ−メチル−２−ピロリドン、２−ブトキシエタノールおよびエチルシクロヘキサンを加えて配向性ポリマー組成物（１）を得た。

表１の値は、調製した組成物の全量に対する各成分の含有割合を表す。ＳＥ−６１０については、固形分量を納品仕様書に記載の濃度から換算した。

［光学異方性膜形成用組成物の調製］
光学異方性膜形成用組成物の組成を表２に示す。各成分を混合し、得られた溶液を８０℃で１時間攪拌した後、室温まで冷却し、光学異方性膜形成用組成物（１）を得た。

表２における括弧内の値は、調製した組成物の全量に対する各成分の含有割合を表す。
表２におけるＬＲ９０００は、ＢＡＳＦジャパン社製のＬａｒｏｍｅｒ（登録商標）ＬＲ−９０００を、Ｉｒｇ９０７は、ＢＡＳＦジャパン社製のイルガキュア９０７を、ＢＹＫ３６１Ｎは、ビックケミージャパン製のレベリング剤を、ＬＣ２４２は、下記式で示されるＢＡＳＦ社製の液晶化合物を、ＰＧＭＥＧＡは、プロピレングリコール１−モノメチルエーテル２−アセタートを表す。

実施例１
常圧プラズマ表面処理装置（ロールダイレクトヘッド型 ＡＰ−Ｔ０４Ｓ−Ｒ８９０、積水化学工業株式会社製）を用いて、窒素と酸素とを含む雰囲気（体積比 窒素：酸素＝９９．９：０．１）下で、１．３ｋＶ下の条件でプラズマを発生させ、ロール状のシクロオレフィンポリマーフィルム（ＺＦ−１４、日本ゼオン株式会社製）の表面を１００ｍ処理した。ここで、ロール状のシクロオレフィンポリマーフィルムの巻出及び、巻取張力は７０Ｎ／ｍｍに設定した。プラズマ処理を施したシクロオレフィンポリマーフィルム表面に、ダイコーターを用いて配向性ポリマー組成物（１）を塗布し、９０℃の乾燥炉に搬送して１分間乾燥して配向膜（１）を形成した。配向膜（１）が形成されたロール状のシクロオレフィンポリマーフィルムの搬送方向を、送風型ガイド部材を用いて配向膜（１）表面に連続送風しながら９０°変えた。配向膜（１）と送風型ガイド部材との空間距離は略１ｍｍであった。続いて、得られた配向膜（１）の表面にダイコーターを用いて光学異方性膜形成用組成物（１）を塗布し、８０℃の乾燥炉に搬送して１分間乾燥し、高圧水銀ランプ（ＧＳユアサ株式会社製）を用いて、紫外線を、波長３６５ｎｍにおいて１６０Ｗ／ｃｍの照度で照射し、光学異方性膜（１）を形成した。配向膜及び光学異方性膜が形成されたシクロオレフィンポリマーフィルムを巻き取ることで、ロール状の光学異方性フィルム部材（１）を得た。

参考例１
常圧プラズマ表面処理装置（ロールダイレクトヘッド型 ＡＰ−Ｔ０４Ｓ−Ｒ８９０、積水化学工業株式会社製）を用いて、窒素と酸素とを含む雰囲気（体積比 窒素：酸素＝９９．９：０．１）下で、１．３ｋＶ下の条件でプラズマを発生させ、ロール状のシクロオレフィンポリマーフィルム（ＺＦ−１４、日本ゼオン株式会社製）の表面を１００ｍ処理した。ここで、ロール状のシクロオレフィンポリマーフィルムの巻出及び、巻取張力は７０Ｎ／ｍｍに設定した。プラズマ処理を施したシクロオレフィンポリマーフィルム表面に、ダイコーターを用いて配向性ポリマー組成物（１）を塗布し、９０℃の乾燥炉に搬送して１分間乾燥して配向膜（２）を形成した。配向膜（２）が形成されたロール状のシクロオレフィンポリマーフィルムの搬送方向を、通常のガイドロールを用いて９０°変えた。配向膜（２）と通常のガイドロールとは接触した。続いて、得られた配向膜（２）の表面にダイコーターを用いて光学異方性膜形成用組成物（１）を塗布し、８０℃の乾燥炉に搬送して１分間乾燥し、高圧水銀ランプ（ＧＳユアサ株式会社製）を用いて、紫外線を、波長３６５ｎｍにおいて１６０Ｗ／ｃｍの照度で照射し光学異方性膜（２）を形成した。配向膜及び光学異方性膜が形成されたシクロオレフィンポリマーフィルムを巻き取ることで、ロール状の光学異方性フィルム部材（２）を得た。

［欠陥数の測定］
クロスニコル間に光学異方性フィルム部材（１）及び（２）を設置し、それぞれ８ｍ^２をＣＣＤカメラで観察し、光学異方性膜（１）及び（２）の、１ｍ^２当たりにおける３０μｍ以上の大きさの欠陥の数を数えた。結果を表３に示す。

［光学特性の測定］
光学異方性フィルム部材の位相差を測定機（ＫＯＢＲＡ−ＷＲ、王子計測機器社製）により測定した。サンプルへの光の入射角を変えて測定し、光学異方性膜（１）及び（２）に含まれる重合した液晶化合物の配向を確認した。結果を表３に示す。

比較例で作製した光学異方性膜（２）に比較して、実施例で作製した光学異方性膜（１）の欠陥数は低減された。

本発明によれば、欠陥の少ない光学異方性フィルム部材を製造することができる。

１１０ 長尺フィルムロール
１７０ 塗布膜
２１０ 第１ロール
２１０Ａ 巻芯
２２０ 第２ロール
２２０Ａ 巻芯
２１１Ａ，２１１Ｂ 塗布装置
２１２Ａ，２１２Ｂ 乾燥炉
２１３Ａ，２１３Ｂ 光照射装置
３００ 送風型ガイド部材
３１０ ガイドロール
３２０ 空間

Claims (5)

1. 長尺フィルムロールの表面に連続して塗布膜を形成する光学異方性フィルム部材の製造方法であって、
   前記塗布膜を形成した長尺フィルムロールの該塗布膜表面に連続送風しながら、長尺フィルムロールの搬送方向を変える工程を含み、
   前記送風を、送風型ガイド部材で行い、
   前記送風型ガイド部材と前記塗布膜との空間距離が、０．１〜５ｍｍであり、
   工程（１１）〜工程（１４）を行う光学異方性フィルム部材の製造方法。
   工程（１１）長尺フィルムロールに第１の配向膜形成用組成物を塗布する工程
   工程（１２）塗布された第１の配向膜形成用組成物から配向膜を形成する工程
   工程（１３）配向膜の上に光学異方性膜形成用組成物を塗布する工程
   工程（１４）塗布された光学異方性膜形成用組成物から重合した液晶化合物が垂直配向した光学異方性膜を形成する工程
2. 長尺フィルムロールの搬送方向を変える工程が、工程（１２）の後でかつ、工程（１３）の前に実施される請求項１に記載の光学異方性フィルム部材の製造方法。
3. 塗布膜が形成された長尺フィルムロールの該塗布膜表面に気体以外のものを接触させずに長尺フィルムロールの搬送方向を変える請求項１又は２に記載の光学異方性フィルム部材の製造方法。
4. 長尺フィルムロールを５０〜１５０Ｎ／ｍｍの張力で搬送する請求項１〜３のいずれかに記載の光学異方性フィルム部材の製造方法。
5. 長尺フィルムロールの表面に連続して塗布膜を形成する光学異方性フィルム部材の製造方法であって、
   前記長尺フィルムロールを５０〜１５０Ｎ／ｍｍの張力で搬送し、
   前記塗布膜を形成した長尺フィルムロールの該塗布膜表面に連続送風しながら、長尺フィルムロールの搬送方向を変える工程を含む光学異方性フィルム部材の製造方法。

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