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JP6673635B2 - Method of manufacturing bonded body, method of manufacturing power module substrate with heat sink, method of manufacturing heat sink, and bonded body, power module substrate with heat sink, and heat sink - Google Patents

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JP6673635B2 JP2014235438A JP2014235438A JP6673635B2 JP 6673635 B2 JP6673635 B2 JP 6673635B2 JP 2014235438 A JP2014235438 A JP 2014235438A JP 2014235438 A JP2014235438 A JP 2014235438A JP 6673635 B2 JP6673635 B2 JP 6673635B2
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Description

この発明は、銅、ニッケル、又は銀からなる金属部材と、固相線温度が前記金属部材を構成する金属元素とアルミニウムとの共晶温度未満とされたアルミニウム合金からなるアルミニウム合金部材とが接合されてなる接合体の製造方法、パワーモジュール用基板とヒートシンクとを備えたヒートシンク付パワーモジュール用基板の製造方法、ヒートシンク本体と金属部材層とを備えたヒートシンクの製造方法、及び、接合体、ヒートシンク付パワーモジュール用基板、ヒートシンクに関するものである。   According to the present invention, a metal member made of copper, nickel, or silver is joined to an aluminum alloy member made of an aluminum alloy having a solidus temperature lower than a eutectic temperature of aluminum and a metal element constituting the metal member. Method for manufacturing a bonded body, a method for manufacturing a power module substrate with a heat sink including a power module substrate and a heat sink, a method for manufacturing a heat sink including a heat sink body and a metal member layer, a bonded body, and a heat sink The present invention relates to a power module substrate and a heat sink.

LEDやパワーモジュール等の半導体装置においては、導電材料からなる回路層の上に半導体素子が接合された構造とされている。
風力発電、電気自動車、ハイブリッド自動車等を制御するために用いられる大電力制御用のパワー半導体素子においては、発熱量が多いことから、これを搭載する基板としては、例えばAlN(窒化アルミ)、Al(アルミナ)などからなるセラミックス基板と、このセラミックス基板の一方の面に導電性の優れた金属板を接合して形成した回路層と、を備えたパワーモジュール用基板が、従来から広く用いられている。なお、パワージュール用基板としては、セラミックス基板の他方の面に金属層を形成したものも提供されている。
A semiconductor device such as an LED or a power module has a structure in which a semiconductor element is bonded on a circuit layer made of a conductive material.
A power semiconductor element for large power control used for controlling a wind power generation, an electric vehicle, a hybrid vehicle, and the like generates a large amount of heat, and therefore, as a substrate on which it is mounted, for example, AlN (aluminum nitride), Al 2. Description of the Related Art Power module substrates including a ceramic substrate made of 2 O 3 (alumina) and a circuit layer formed by bonding a metal plate having excellent conductivity to one surface of the ceramic substrate have been widely used. Used. As a power joule substrate, a ceramic substrate having a metal layer formed on the other surface thereof is also provided.

例えば、特許文献1に示すパワーモジュールにおいては、セラミックス基板の一方の面及び他方の面にAlからなる回路層及び金属層が形成されたパワーモジュール用基板と、この回路層上にはんだ材を介して接合された半導体素子と、を備えた構造とされている。
そして、パワーモジュール用基板の金属層側には、ヒートシンクが接合されており、半導体素子からパワーモジュール用基板側に伝達された熱を、ヒートシンクを介して外部へ放散する構成とされている。
For example, in a power module disclosed in Patent Document 1, a power module substrate in which a circuit layer and a metal layer made of Al are formed on one surface and the other surface of a ceramic substrate, and a solder material is interposed on the circuit layer. And a semiconductor element joined by bonding.
Then, a heat sink is joined to the metal layer side of the power module substrate, and heat transmitted from the semiconductor element to the power module substrate side is radiated to the outside via the heat sink.

ところで、特許文献1に記載されたパワーモジュールのように、回路層及び金属層をAlで構成した場合には、表面にAlの酸化皮膜が形成されるため、はんだ材によって半導体素子やヒートシンクを接合することができない。
そこで、従来、例えば特許文献2に開示されているように、回路層及び金属層の表面に無電解めっき等によってNiめっき膜を形成した上で、半導体素子やヒートシンクをはんだ接合している。
また、特許文献3には、はんだ材の代替として、酸化銀粒子と有機物からなる還元剤とを含む酸化銀ペーストを用いて、回路層と半導体素子、金属層とヒートシンクを接合する技術が提案されている。
By the way, when the circuit layer and the metal layer are made of Al as in the power module described in Patent Document 1, an Al oxide film is formed on the surface, so that the semiconductor element and the heat sink are joined by a solder material. Can not do it.
Therefore, conventionally, as disclosed in Patent Document 2, for example, after a Ni plating film is formed on the surfaces of the circuit layer and the metal layer by electroless plating or the like, the semiconductor element and the heat sink are soldered.
Patent Document 3 proposes a technique for joining a circuit layer and a semiconductor element, and a metal layer and a heat sink, using a silver oxide paste containing silver oxide particles and a reducing agent made of an organic substance as an alternative to a solder material. ing.

しかしながら、特許文献2に記載されたように、回路層及び金属層表面にNiめっき膜を形成したパワーモジュール用基板においては、半導体素子及びヒートシンクを接合するまでの過程においてNiめっき膜の表面が酸化等によって劣化し、はんだ材を介して接合した半導体素子及びヒートシンクとの接合信頼性が低下するおそれがあった。ここで、ヒートシンクと金属層との接合が不十分であると、熱抵抗が上昇し、放熱特性が低下するおそれがあった。また、Niめっき工程では、不要な領域にNiめっきが形成されて電食等のトラブルが発生しないように、マスキング処理を行うことがある。このように、マスキング処理をした上でめっき処理をする場合、回路層表面及び金属層表面にNiめっき膜を形成する工程に多大な労力が必要となり、パワーモジュールの製造コストが大幅に増加してしまうといった問題があった。   However, as described in Patent Document 2, in a power module substrate in which a Ni plating film is formed on the surface of a circuit layer and a metal layer, the surface of the Ni plating film is oxidized in the process until the semiconductor element and the heat sink are joined. And the like, and there is a possibility that the reliability of bonding between the semiconductor element and the heat sink bonded via the solder material may be reduced. Here, if the bonding between the heat sink and the metal layer is insufficient, there is a possibility that the thermal resistance increases and the heat radiation characteristics deteriorate. In the Ni plating process, a masking process may be performed so that Ni plating is not formed in an unnecessary area and a trouble such as electrolytic corrosion does not occur. As described above, in the case of performing the plating process after performing the masking process, a large amount of labor is required in the process of forming the Ni plating film on the circuit layer surface and the metal layer surface, and the manufacturing cost of the power module is greatly increased. There was a problem that it would.

また、特許文献3に記載されたように、酸化銀ペーストを用いて回路層と半導体素子、金属層とヒートシンクを接合する場合には、Alと酸化銀ペーストの焼成体との接合性が悪いために、予め回路層表面及び金属層表面にAg下地層を形成する必要があった。Ag下地層をめっきにより形成する場合には、Niめっきと同様に多大な労力が必要となるといった問題があった。   Further, as described in Patent Literature 3, when a circuit layer and a semiconductor element and a metal layer and a heat sink are joined by using a silver oxide paste, the bonding property between Al and a fired body of the silver oxide paste is poor. In addition, it was necessary to previously form an Ag underlayer on the surface of the circuit layer and the surface of the metal layer. When the Ag underlayer is formed by plating, there is a problem that much labor is required as in the case of Ni plating.

そこで、特許文献4には、回路層及び金属層をAl層とCu層の積層構造としたパワーモジュール用基板が提案されている。このパワーモジュール用基板においては、回路層及び金属層の表面にはCu層が配置されるため、はんだ材を用いて半導体素子及びヒートシンクを良好に接合することができる。このため、積層方向の熱抵抗が小さくなり、半導体素子から発生した熱をヒートシンク側へと効率良く伝達することが可能となる。   Thus, Patent Document 4 proposes a power module substrate in which a circuit layer and a metal layer have a laminated structure of an Al layer and a Cu layer. In this power module substrate, since the Cu layer is disposed on the surfaces of the circuit layer and the metal layer, the semiconductor element and the heat sink can be satisfactorily joined using a solder material. Therefore, the thermal resistance in the stacking direction is reduced, and the heat generated from the semiconductor element can be efficiently transmitted to the heat sink.

また、特許文献5には、金属層及びヒートシンクの一方がアルミニウム又はアルミニウム合金で構成され、他方が銅又は銅合金で構成されており、これら前記金属層と前記ヒートシンクとが固相拡散接合されたヒートシンク付パワーモジュール用基板が提案されている。このヒートシンク付パワーモジュール用基板においては、金属層とヒートシンクとが固相拡散接合されているので、熱抵抗が小さく、放熱特性に優れている。   Further, in Patent Document 5, one of a metal layer and a heat sink is made of aluminum or an aluminum alloy, and the other is made of copper or a copper alloy, and the metal layer and the heat sink are solid-phase diffusion bonded. A power module substrate with a heat sink has been proposed. In this power module substrate with a heat sink, the metal layer and the heat sink are solid-phase diffusion bonded, so that the heat resistance is small and the heat radiation characteristics are excellent.

特許第3171234号公報Japanese Patent No. 3171234 特開2004−172378号公報JP-A-2004-172378 特開2008−208442号公報JP 2008-208442 A 特開2014−160799号公報JP 2014-160799 A 特開2014−099596号公報JP 2014-099596 A

ところで、内部に冷却媒体の流路等が形成された複雑な構造のヒートシンクにおいては、比較的固相線温度が低いアルミニウム鋳物合金を用いて製造されることがある。
ここで、固相線温度の低いアルミニウム鋳物合金からなるアルミニウム合金部材と、銅又は銅合金からなる金属部材とを、特許文献5に記載されたように、固相拡散接合した場合には、接合界面近傍にカーケンダルボイドが多数発生することが確認された。このようなカーケンダルボイドがパワーモジュール用基板とヒートシンクとの間に存在すると、熱抵抗が上昇し、放熱特性が低下してしまうといった問題があった。
Meanwhile, a heat sink having a complicated structure in which a cooling medium flow path and the like are formed inside may be manufactured using an aluminum casting alloy having a relatively low solidus temperature.
Here, when an aluminum alloy member made of an aluminum casting alloy having a low solidus temperature and a metal member made of copper or a copper alloy are subjected to solid-state diffusion bonding as described in Patent Document 5, the joining is performed. It was confirmed that many Kirkendall voids were generated near the interface. When such Kirkendall voids exist between the power module substrate and the heat sink, there is a problem that thermal resistance increases and heat radiation characteristics deteriorate.

この発明は、前述した事情に鑑みてなされたものであって、比較的固相線温度の低いアルミニウム合金からなるアルミニウム合金部材と、銅、ニッケル、又は銀からなる金属部材とが良好に接合され、積層方向の熱抵抗が低い接合体を製造可能な接合体の接合方法、この接合体を備えたヒートシンク付パワーモジュール用基板の製造方法及びヒートシンクの製造方法、及び、接合体、ヒートシンク付パワーモジュール用基板、ヒートシンクを提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and an aluminum alloy member made of an aluminum alloy having a relatively low solidus temperature and a metal member made of copper, nickel, or silver are satisfactorily joined. Patent application title: Method of joining joined body capable of producing joined body having low thermal resistance in lamination direction, method of manufacturing substrate for power module with heat sink equipped with this joined body, method of manufacturing heat sink, and joined body, power module with heat sink And a heat sink.

前述の課題を解決するために、本発明の接合体の製造方法は、銅、ニッケル、又は銀からなる金属部材と、固相線温度が前記金属部材を構成する金属元素とアルミニウムとの共晶温度未満とされたアルミニウム合金からなるアルミニウム合金部材と、が接合されてなる接合体の製造方法であって、前記アルミニウム合金部材と前記金属部材との間には、純度が99質量%以上のアルミニウムからなるアルミニウム介在層が配設されており、前記アルミニウム合金部材と前記アルミニウム介在層とを固相拡散接合するアルミニウム合金部材/アルミニウム介在層固相拡散接合工程と、前記アルミニウム介在層と前記金属部材とを積層し、積層方向に加圧した状態で加熱して保持することにより、前記アルミニウム介在層と前記金属部材とを固相拡散接合するアルミニウム介在層/金属部材固相拡散接合工程と、を備えており、前記アルミニウム介在層/金属部材固相拡散接合工程においては、加熱温度を400℃以上とすることを特徴としている。
なお、本発明において、金属部材は、銅又は銅合金、ニッケル又はニッケル合金、もしくは銀又は銀合金で構成されたものとしている。
In order to solve the above-mentioned problem, a method for manufacturing a joined body according to the present invention provides a method of manufacturing a metal member made of copper, nickel, or silver, and having a solidus temperature of eutectic of a metal element and aluminum constituting the metal member. A method for manufacturing a joined body in which an aluminum alloy member made of an aluminum alloy at a temperature lower than a temperature is joined, wherein an aluminum having a purity of 99% by mass or more is provided between the aluminum alloy member and the metal member. An aluminum alloy member / aluminum interposed layer solid phase diffusion bonding step of solid phase diffusion bonding between the aluminum alloy member and the aluminum interposed layer; and the aluminum interposed layer and the metal member laminating the door, by holding the heated pressurized state in the stacking direction, the solid phase and the metal member and the aluminum intermediate layer An aluminum intermediate layer / metal member solid phase diffusion bonding step of diffusing bonding, and wherein the in aluminum intermediate layer / metal member solid phase diffusion bonding process, is characterized in that the heating temperature and 400 ° C. or higher.
In the present invention, the metal member is made of copper or a copper alloy, nickel or a nickel alloy, or silver or a silver alloy.

この構成の接合体の製造方法によれば、銅、ニッケル、又は銀からなる金属部材と、固相線温度が前記金属部材を構成する金属元素とアルミニウムとの共晶温度未満とされたアルミニウム合金からなるアルミニウム合金部材との間に、純度が99質量%以上のアルミニウムからなるアルミニウム介在層が介在しており、前記アルミニウム合金部材と前記アルミニウム介在層とを固相拡散接合するアルミニウム合金部材/アルミニウム介在層固相拡散接合工程と、前記アルミニウム介在層と前記金属部材とを固相拡散接合するアルミニウム介在層/金属部材固相拡散接合工程と、を備えているので、アルミニウム合金部材と金属部材とが直接接合されておらず、アルミニウム合金部材と金属部材との間にカーケンダルボイドが多数生成することを抑制できる。これにより、積層方向の熱抵抗が低く、伝熱部材等に適した接合体を得ることができる。   According to the method for manufacturing a joined body having this configuration, a metal member made of copper, nickel, or silver, and an aluminum alloy whose solidus temperature is lower than the eutectic temperature of the metal element and aluminum constituting the metal member Aluminum alloy member comprising aluminum having a purity of 99% by mass or more interposed between the aluminum alloy member and the aluminum alloy member, wherein the aluminum alloy member and the aluminum intermediate layer are solid-phase diffusion-bonded to each other. Since the method includes the intervening layer solid phase diffusion bonding step and the aluminum interposed layer / metal member solid phase diffusion bonding step of solid phase diffusion bonding the aluminum interposed layer and the metal member, the aluminum alloy member and the metal member Is not directly bonded, and many Kirkendall voids are formed between the aluminum alloy member and the metal member It can be suppressed. Thereby, a joined body suitable for a heat transfer member or the like having a low thermal resistance in the laminating direction can be obtained.

なお、本発明の接合体の製造方法においては、アルミニウム合金部材/アルミニウム介在層固相拡散接合工程、及び、アルミニウム介在層/金属部材固相拡散接合工程の実施順序に制限はなく、アルミニウム合金部材/アルミニウム介在層固相拡散接合工程の後にアルミニウム介在層/金属部材固相拡散接合工程を実施してもよいし、アルミニウム介在層/金属部材固相拡散接合工程の後にアルミニウム合金部材/アルミニウム介在層固相拡散接合工程を実施してもよい。
あるいは、アルミニウム介在層/金属部材固相拡散接合工程と、アルミニウム合金部材/アルミニウム介在層固相拡散接合工程を、同時に実施してもよい。この場合、製造工程が少なくなり、製造コストの低減を図ることが可能となる。
In the method for manufacturing a joined body according to the present invention, there is no limitation on the order in which the aluminum alloy member / aluminum intermediate layer solid-phase diffusion bonding step and the aluminum intermediate layer / metal member solid-phase diffusion bonding step are performed. Aluminum / intermediate layer / solid phase diffusion bonding step may be followed by an aluminum / intermediate layer / metal member solid phase diffusion bonding step; A solid phase diffusion bonding step may be performed.
Alternatively, the aluminum interposed layer / metal member solid phase diffusion bonding step and the aluminum alloy member / aluminum interposed layer solid phase diffusion bonding step may be performed simultaneously. In this case, the number of manufacturing steps is reduced, and the manufacturing cost can be reduced.

本発明のヒートシンク付パワーモジュール用基板の製造方法は、絶縁層と、この絶縁層の一方の面に形成された回路層と、前記絶縁層の他方の面に形成された金属層と、この金属層の前記絶縁層とは反対側の面に配置されたヒートシンクと、を備えたヒートシンク付パワーモジュール用基板の製造方法であって、前記金属層と前記ヒートシンクとの間には、純度が99質量%以上のアルミニウムからなるアルミニウム介在層が配設されており、前記金属層のうち前記アルミニウム介在層との接合面は、銅、ニッケル、又は銀で構成され、前記ヒートシンクのうち前記アルミニウム介在層との接合面は、固相線温度が前記金属層の前記接合面を構成する金属元素とアルミニウムとの共晶温度未満とされたアルミニウム合金で構成されており、前記ヒートシンクと前記アルミニウム介在層とを固相拡散接合するヒートシンク/アルミニウム介在層固相拡散接合工程と、前記アルミニウム介在層と前記金属層とを積層し、積層方向に加圧した状態で加熱して保持することにより、前記アルミニウム介在層と前記金属層とを固相拡散接合するアルミニウム介在層/金属層固相拡散接合工程と、を備えており、前記アルミニウム介在層/金属層固相拡散接合工程においては、加熱温度を400℃以上とすることを特徴としている。 The method for manufacturing a power module substrate with a heat sink according to the present invention comprises: an insulating layer; a circuit layer formed on one surface of the insulating layer; a metal layer formed on the other surface of the insulating layer; And a heat sink disposed on a surface of the layer opposite to the insulating layer, wherein a purity of 99 mass between the metal layer and the heat sink is provided between the metal layer and the heat sink. % Of aluminum is disposed, and a bonding surface of the metal layer with the aluminum interposition layer is formed of copper, nickel, or silver, and the aluminum heat treatment layer is formed of copper, nickel, or silver. Is formed of an aluminum alloy having a solidus temperature lower than the eutectic temperature of the metal element and aluminum constituting the bonding surface of the metal layer, And a heat sink / aluminum intermediate layer solid phase diffusion bonding step of solid phase diffusion bonding between the heat sink and the aluminum intermediate layer, said laminated with aluminum intermediate layer and said metal layer, held heated in a pressurized state in the stacking direction And a solid-phase diffusion bonding step of an aluminum-intercalated layer / metal layer for solid-phase diffusion bonding of the aluminum-intercalated layer and the metal layer. Is characterized in that the heating temperature is 400 ° C. or higher .

この構成のヒートシンク付パワーモジュール用基板の製造方法によれば、前記金属層と前記ヒートシンクとの間に、純度が99質量%以上のアルミニウムからなるアルミニウム介在層が介在しており、前記ヒートシンクと前記アルミニウム介在層とを固相拡散接合するヒートシンク/アルミニウム介在層固相拡散接合工程と、前記アルミニウム介在層と前記金属層とを固相拡散接合するアルミニウム介在層/金属層固相拡散接合工程と、を備えているので、ヒートシンクと金属層とが直接接合されておらず、ヒートシンクと金属層との間にカーケンダルボイドが多数生成することを抑制できる。よって、積層方向における熱抵抗が低く、放熱特性に優れたヒートシンク付パワーモジュール用基板を製造することが可能となる。   According to the method of manufacturing a power module substrate with a heat sink having this configuration, an aluminum interposed layer made of aluminum having a purity of 99% by mass or more is interposed between the metal layer and the heat sink. A heat sink / aluminum interposed layer solid phase diffusion bonding step of solid phase diffusion bonding with the aluminum interposed layer; an aluminum interposed layer / metal layer solid phase diffusion bonding step of solid phase diffusion bonding of the aluminum interposed layer and the metal layer; Therefore, the heat sink and the metal layer are not directly joined to each other, and the generation of a large number of Kirkendall voids between the heat sink and the metal layer can be suppressed. Therefore, it is possible to manufacture a power module substrate with a heat sink having a low thermal resistance in the stacking direction and excellent heat radiation characteristics.

なお、本発明のヒートシンク付パワーモジュール用基板の製造方法においては、ヒートシンク/アルミニウム介在層固相拡散接合工程、及び、アルミニウム介在層/金属層固相拡散接合工程の実施順序に制限はなく、ヒートシンク/アルミニウム介在層固相拡散接合工程の後にアルミニウム介在層/金属層固相拡散接合工程程を実施してもよいし、アルミニウム介在層/金属層固相拡散接合工程の後にヒートシンク/アルミニウム介在層固相拡散接合工程を実施してもよい。
あるいは、ヒートシンク/アルミニウム介在層固相拡散接合工程と、アルミニウム介在層/金属層固相拡散接合工程を、同時に実施してもよい。この場合、製造工程が少なくなり、製造コストの低減を図ることが可能となるとともに、絶縁層への熱負荷を抑えることができる。
In the method for manufacturing a power module substrate with a heat sink according to the present invention, there is no limitation on the order of execution of the heat sink / intermediate layer solid phase diffusion bonding step and the aluminum intermediate layer / metal layer solid phase diffusion bonding step. The aluminum / metal intermediate layer solid phase diffusion bonding step may be followed by the aluminum / metal layer solid phase diffusion bonding step, or the aluminum / intermediate layer / metal layer solid phase diffusion bonding step may be followed by a heat sink / aluminum intermediate layer solid phase bonding step. A phase diffusion bonding step may be performed.
Alternatively, the heat sink / intermediate aluminum layer solid phase diffusion bonding step and the aluminum intervening layer / metal layer solid phase diffusion bonding step may be performed simultaneously. In this case, the number of manufacturing steps is reduced, the manufacturing cost can be reduced, and the thermal load on the insulating layer can be suppressed.

本発明のヒートシンクの製造方法は、ヒートシンク本体と、金属部材層と、を備えたヒートシンクの製造方法であって、前記ヒートシンク本体と前記金属部材層との間に、純度が99質量%以上のアルミニウムからなるアルミニウム介在層が配設されており、前記金属部材層は、銅、ニッケル、又は銀からなり、前記ヒートシンク本体は、固相線温度が前記金属部材層を構成する金属元素とアルミニウムとの共晶温度未満とされたアルミニウム合金で構成されており、前記ヒートシンク本体と前記アルミニウム介在層とを固相拡散接合するヒートシンク本体/アルミニウム介在層固相拡散接合工程と、前記アルミニウム介在層と前記金属部材層とを積層し、積層方向に加圧した状態で加熱して保持することにより、前記アルミニウム介在層と前記金属部材層とを固相拡散接合するアルミニウム介在層/金属部材層固相拡散接合工程と、を備えており、前記アルミニウム介在層/金属部材層固相拡散接合工程においては、加熱温度を400℃以上とすることを特徴としている。 The method for manufacturing a heat sink according to the present invention is a method for manufacturing a heat sink including a heat sink body and a metal member layer, wherein the heat sink body and the metal member layer have an aluminum purity of 99% by mass or more. An aluminum intervening layer made of copper, nickel, or silver is provided, and the heat sink main body has a solidus temperature of a metal element and aluminum which constitute the metal member layer. A heat sink body / aluminum intervening layer solid phase diffusion bonding step of solid phase diffusion bonding between the heat sink body and the aluminum intervening layer, which is made of an aluminum alloy having a temperature lower than a eutectic temperature; by the member layer are stacked, held by heating at pressurized state in a stacking direction, and the aluminum intermediate layer And a serial metal member layer and the aluminum intermediate layer / metal member layer solid phase diffusion bonding step of solid phase diffusion bonding, comprises a, in the aluminum intermediate layer / metal member layer solid phase diffusion bonding step, the heating temperature 400 It is characterized by a temperature of at least ° C.

この構成のヒートシンクの製造方法によれば、前記金属部材層と前記ヒートシンク本体との間に、純度が99質量%以上のアルミニウムからなるアルミニウム介在層が介在し、前記ヒートシンク本体と前記アルミニウム介在層とを固相拡散接合するヒートシンク本体/アルミニウム介在層固相拡散接合工程と、前記アルミニウム介在層と前記金属部材層とを固相拡散接合するアルミニウム介在層/金属部材層固相拡散接合工程と、を備えているので、ヒートシンク本体と金属部材層とが直接接合されておらず、ヒートシンク部材と金属部材層との間にカーケンダルボイドが多数生成することを抑制できる。よって、積層方向における熱抵抗が低く、放熱特性に優れたヒートシンクを製造することが可能となる。   According to the method for manufacturing a heat sink having this configuration, an aluminum interposed layer made of aluminum having a purity of 99% by mass or more is interposed between the metal member layer and the heat sink main body. A heat sink body / aluminum intervening layer solid phase diffusion bonding step of solid-phase diffusion bonding, and an aluminum interposing layer / metal member layer solid phase diffusion bonding step of solid-phase diffusion bonding of the aluminum interposition layer and the metal member layer. Since it is provided, the heat sink body and the metal member layer are not directly joined, and it is possible to suppress the generation of a large number of Kirkendall voids between the heat sink member and the metal member layer. Therefore, it is possible to manufacture a heat sink having low heat resistance in the stacking direction and excellent heat radiation characteristics.

なお、本発明のヒートシンクの製造方法においては、ヒートシンク本体/アルミニウム介在層固相拡散接合工程、及び、アルミニウム介在層/金属部材層固相拡散接合工程の実施順序に制限はなく、ヒートシンク本体/アルミニウム介在層固相拡散接合工程の後にアルミニウム介在層/金属部材層固相拡散接合工程を実施してもよいし、アルミニウム介在層/金属部材層固相拡散接合工程の後にヒートシンク本体/アルミニウム介在層固相拡散接合工程を実施してもよい。
あるいは、ヒートシンク本体/アルミニウム介在層固相拡散接合工程と、アルミニウム介在層/金属部材層固相拡散接合工程を、同時に実施してもよい。この場合、製造工程が少なくなり、製造コストの低減を図ることが可能となる。
In the method for manufacturing a heat sink according to the present invention, there is no limitation on the order of performing the heat sink body / aluminum interposed layer solid phase diffusion bonding step and the aluminum interposed layer / metal member layer solid phase diffusion bonding step. The aluminum intermediate layer / metal member layer solid phase diffusion bonding step may be performed after the intermediate layer solid phase diffusion bonding step, or the heat sink body / the aluminum intermediate layer solid state may be performed after the aluminum intermediate layer / metal member layer solid phase diffusion bonding step. A phase diffusion bonding step may be performed.
Alternatively, the heat sink body / aluminum interposed layer solid phase diffusion bonding step and the aluminum interposed layer / metal member layer solid phase diffusion bonding step may be performed simultaneously. In this case, the number of manufacturing steps is reduced, and the manufacturing cost can be reduced.

本発明の接合体は、銅、ニッケル、又は銀からなる金属部材と、固相線温度が前記金属部材を構成する金属元素とアルミニウムとの共晶温度未満とされたアルミニウム合金からなるアルミニウム合金部材と、が接合されてなる接合体であって、前記アルミニウム合金部材と前記金属部材との間には、純度が99質量%以上のアルミニウムからなるアルミニウム介在層が配設されており、前記アルミニウム合金部材と前記アルミニウム介在層とが固相拡散接合され、前記アルミニウム介在層と前記金属部材とが固相拡散接合され、前記アルミニウム介在層と前記金属部材との接合界面には、金属間化合物層が形成されており、前記金属間化合物層は、複数の金属間化合物が接合界面に沿って積層した構造とされ、厚さが1μm以上8μm以下の範囲内とされていることを特徴としている。 The joined body of the present invention is a metal member made of copper, nickel, or silver, and an aluminum alloy member made of an aluminum alloy having a solidus temperature lower than a eutectic temperature of a metal element and aluminum constituting the metal member. And an aluminum interposed layer made of aluminum having a purity of 99% by mass or more is provided between the aluminum alloy member and the metal member. The member and the aluminum intermediate layer are solid-phase diffusion bonded, the aluminum intermediate layer and the metal member are solid-phase diffusion bonded, and an intermetallic compound layer is formed at a bonding interface between the aluminum intermediate layer and the metal member. The intermetallic compound layer has a structure in which a plurality of intermetallic compounds are stacked along a bonding interface, and has a thickness of 1 μm or more and 8 μm or less. It is characterized by being enclosed .

この構成の接合体によれば、銅、ニッケル、又は銀からなる金属部材と、前記金属部材を構成する金属元素とアルミニウムとの共晶温度未満とされたアルミニウム合金からなるアルミニウム合金部材とが、純度が99質量%以上のアルミニウムからなるアルミニウム介在層を介して接合されており、前記アルミニウム合金部材と前記アルミニウム介在層とが固相拡散接合され、前記アルミニウム介在層と前記金属部材とが固相拡散接合されているので、アルミニウム合金部材と金属部材との間におけるカーケンダルボイドの発生が抑制されており、熱抵抗が低く、伝熱部材として特に適している。   According to the joined body having this configuration, a metal member made of copper, nickel, or silver, and an aluminum alloy member made of an aluminum alloy having a eutectic temperature lower than the eutectic temperature of the metal element and aluminum constituting the metal member, The aluminum alloy member and the aluminum intervening layer are joined by a solid-phase diffusion joint, and the aluminum intervening layer and the metal member are joined by a solid phase. Due to the diffusion bonding, the occurrence of Kirkendall voids between the aluminum alloy member and the metal member is suppressed, the thermal resistance is low, and it is particularly suitable as a heat transfer member.

本発明のヒートシンク付パワーモジュール用基板は、絶縁層と、この絶縁層の一方の面に形成された回路層と、前記絶縁層の他方の面に形成された金属層と、この金属層の前記絶縁層とは反対側の面に配置されたヒートシンクと、を備えたヒートシンク付パワーモジュール用基板であって、前記金属層と前記ヒートシンクとの間には、純度が99質量%以上のアルミニウムからなるアルミニウム介在層が配設されており、前記金属層のうち前記アルミニウム介在層との接合面は、銅、ニッケル、又は銀で構成され、前記ヒートシンクのうち前記アルミニウム介在層との接合面は、固相線温度が前記金属層の前記接合面を構成する金属元素とアルミニウムとの共晶温度未満とされたアルミニウム合金で構成されており、前記ヒートシンクと前記アルミニウム介在層とが固相拡散接合され、前記アルミニウム介在層と前記金属層とが固相拡散接合され、前記アルミニウム介在層と前記金属層との接合界面には、金属間化合物層が形成されており、前記金属間化合物層は、複数の金属間化合物が接合界面に沿って積層した構造とされ、厚さが1μm以上8μm以下の範囲内とされていることを特徴としている。 The power module substrate with a heat sink of the present invention includes an insulating layer, a circuit layer formed on one surface of the insulating layer, a metal layer formed on the other surface of the insulating layer, A power module substrate with a heat sink, comprising: a heat sink disposed on a surface opposite to the insulating layer, wherein the metal layer and the heat sink are made of aluminum having a purity of 99% by mass or more. An aluminum interposed layer is provided, and a bonding surface of the metal layer with the aluminum interposed layer is made of copper, nickel, or silver, and a bonding surface of the heat sink with the aluminum interposed layer is fixed. The aluminum alloy having a phase line temperature lower than a eutectic temperature of aluminum and a metal element forming the bonding surface of the metal layer, the heat sink and the A solid phase diffusion bond is formed between the aluminum interposed layer and the metal layer, and an intermetallic compound layer is formed at a joint interface between the aluminum interposed layer and the metal layer. The intermetallic compound layer has a structure in which a plurality of intermetallic compounds are stacked along a bonding interface, and has a thickness of 1 μm or more and 8 μm or less .

この構成のヒートシンク付パワーモジュール用基板によれば、前記金属層と前記ヒートシンクとの間に、純度が99質量%以上のアルミニウムからなるアルミニウム介在層が介在し、前記ヒートシンクと前記アルミニウム介在層とが固相拡散接合され、前記アルミニウム介在層と前記金属層とが固相拡散接合されているので、ヒートシンクと金属層の間におけるカーケンダルボイドの発生が抑制されており、熱抵抗が低く、放熱特性に特に優れている。   According to the power module substrate with a heat sink having this configuration, an aluminum interposed layer made of aluminum having a purity of 99% by mass or more is interposed between the metal layer and the heat sink, and the heat sink and the aluminum interposed layer are separated from each other. Since the solid-state diffusion bonding is performed and the aluminum intermediate layer and the metal layer are solid-phase diffusion bonded, the occurrence of Kirkendall voids between the heat sink and the metal layer is suppressed, the thermal resistance is low, and the heat radiation property is low. Especially excellent.

本発明のヒートシンクは、ヒートシンク本体と、金属部材層と、を備えたヒートシンクであって、前記ヒートシンク本体と前記金属部材層との間に、純度が99質量%以上のアルミニウムからなるアルミニウム介在層が配設されており、前記金属部材層は、銅、ニッケル、又は銀からなり、前記ヒートシンク本体は、固相線温度が前記金属部材層を構成する金属元素とアルミニウムとの共晶温度未満とされたアルミニウム合金で構成されており、前記ヒートシンク本体と前記アルミニウム介在層とが固相拡散接合され、前記アルミニウム介在層と前記金属部材層とが固相拡散接合され、前記アルミニウム介在層と前記金属部材層との接合界面には、金属間化合物層が形成されており、前記金属間化合物層は、複数の金属間化合物が接合界面に沿って積層した構造とされ、厚さが1μm以上8μm以下の範囲内とされていることを特徴としている。 The heat sink according to the present invention is a heat sink including a heat sink body and a metal member layer, wherein an aluminum intervening layer made of aluminum having a purity of 99% by mass or more is provided between the heat sink body and the metal member layer. The metal member layer is made of copper, nickel, or silver, and the heat sink body has a solidus temperature lower than a eutectic temperature of a metal element and aluminum constituting the metal member layer. Wherein the heat sink body and the aluminum interposed layer are solid-phase diffusion bonded, the aluminum interposed layer and the metal member layer are solid-phase diffusion bonded, and the aluminum interposed layer and the metal member An intermetallic compound layer is formed at a bonding interface with the layer, and the intermetallic compound layer has a plurality of intermetallic compounds at the bonding interface. Is a laminated I structure, is characterized in that it is in the range of 1μm or more 8μm or less in thickness.

この構成のヒートシンクによれば、前記ヒートシンク本体と前記金属部材層との間に、純度が99質量%以上のアルミニウムからなるアルミニウム介在層が介在しており、前記ヒートシンク本体と前記アルミニウム介在層とが固相拡散接合され、前記アルミニウム介在層と前記金属部材層とが固相拡散接合されているので、ヒートシンク本体と金属部材層との間におけるカーケンダルボイドの発生が抑制されており、熱抵抗が低く、放熱特性に特に優れている。   According to the heat sink having this configuration, an aluminum interposed layer made of aluminum having a purity of 99% by mass or more is interposed between the heat sink main body and the metal member layer, and the heat sink main body and the aluminum interposed layer are interposed. Since the solid-phase diffusion bonding is performed and the aluminum intermediate layer and the metal member layer are solid-phase diffusion bonded, the occurrence of Kirkendall voids between the heat sink body and the metal member layer is suppressed, and the thermal resistance is reduced. Low, especially excellent in heat dissipation characteristics.

本発明によれば、比較的固相線温度の低いアルミニウム合金からなるアルミニウム合金部材と、銅、ニッケル、又は銀からなる金属部材とが良好に接合され、積層方向の熱抵抗が低い接合体を製造可能な接合体の接合方法、この接合体を備えたヒートシンク付パワーモジュール用基板の製造方法及びヒートシンクの製造方法、及び、接合体、ヒートシンク付パワーモジュール用基板、ヒートシンクを提供することが可能となる。   According to the present invention, an aluminum alloy member made of an aluminum alloy having a relatively low solidus temperature and a metal member made of copper, nickel, or silver are satisfactorily joined, and a joined body having a low thermal resistance in the lamination direction is formed. It is possible to provide a bonding method of a bonded body that can be manufactured, a method of manufacturing a power module substrate with a heat sink including the bonded body, a method of manufacturing a heat sink, and a bonded body, a power module substrate with a heat sink, and a heat sink. Become.

本発明の第一実施形態に係るヒートシンク付パワーモジュール用基板を備えたパワーモジュールの概略説明図である。FIG. 1 is a schematic explanatory view of a power module including a power module substrate with a heat sink according to a first embodiment of the present invention. 第一実施形態に係るヒートシンク付パワーモジュール用基板の製造方法を説明するフロー図である。It is a flow figure explaining the manufacturing method of the substrate for power modules with a heat sink concerning a first embodiment. 第一実施形態に係るヒートシンク付パワーモジュール用基板の製造方法の概略説明図である。It is a schematic explanatory view of the manufacturing method of the substrate for power modules with a heat sink concerning a first embodiment. 本発明の第二実施形態に係るヒートシンクの概略説明図である。It is a schematic explanatory view of a heat sink according to a second embodiment of the present invention. 第二実施形態に係るヒートシンクの製造方法を説明するフロー図である。It is a flowchart explaining the manufacturing method of the heat sink which concerns on 2nd embodiment. 第二実施形態に係るヒートシンクの製造方法の概略説明図である。It is a schematic explanatory view of the manufacturing method of the heat sink concerning a second embodiment. 本発明の他の実施形態であるヒートシンク付パワーモジュール用基板を備えたパワーモジュールの概略説明図である。It is a schematic explanatory view of a power module provided with a substrate for power modules with a heat sink which is another embodiment of the present invention.

(第一実施形態)
以下に、本発明の実施形態について、添付した図面を参照して説明する。
図1に、本発明の第一実施形態であるヒートシンク付パワーモジュール用基板30を用いたパワーモジュール1を示す。
このパワーモジュール1は、ヒートシンク付パワーモジュール用基板30と、このヒートシンク付パワーモジュール用基板30の一方の面(図1において上面)にはんだ層2を介して接合された半導体素子3と、を備えている。
ヒートシンク付パワーモジュール用基板30は、パワーモジュール用基板10と、パワーモジュール用基板10に接合されたヒートシンク31と、を備えている。
(First embodiment)
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
FIG. 1 shows a power module 1 using a power module substrate 30 with a heat sink according to a first embodiment of the present invention.
The power module 1 includes a power module substrate 30 with a heat sink, and a semiconductor element 3 bonded to one surface (the upper surface in FIG. 1) of the power module substrate 30 with a solder layer 2 via the solder layer 2. ing.
The power module substrate 30 with a heat sink includes the power module substrate 10 and a heat sink 31 joined to the power module substrate 10.

パワーモジュール用基板10は、絶縁層を構成するセラミックス基板11と、このセラミックス基板11の一方の面(図1において上面)に配設された回路層12と、セラミックス基板11の他方の面に配設された金属層13と、を備えている。   The power module substrate 10 includes a ceramic substrate 11 constituting an insulating layer, a circuit layer 12 disposed on one surface (the upper surface in FIG. 1) of the ceramic substrate 11, and a circuit substrate 12 disposed on the other surface of the ceramic substrate 11. And a metal layer 13 provided.

回路層12は、図3に示すように、セラミックス基板11の一方の面に、アルミニウム又はアルミニウム合金からなるアルミニウム板22が接合されることにより形成されている。本実施形態においては、回路層12は、純度が99質量%以上のアルミニウム(2Nアルミニウム)の圧延板(アルミニウム板22)がセラミックス基板11に接合されることで形成されている。なお、回路層12となるアルミニウム板22の厚さは0.1mm以上1.0mm以下の範囲内に設定されており、本実施形態では、0.6mmに設定されている。   As shown in FIG. 3, the circuit layer 12 is formed by joining an aluminum plate 22 made of aluminum or an aluminum alloy to one surface of the ceramic substrate 11. In the present embodiment, the circuit layer 12 is formed by joining a rolled plate (aluminum plate 22) of aluminum (2N aluminum) having a purity of 99% by mass or more to the ceramic substrate 11. The thickness of the aluminum plate 22 serving as the circuit layer 12 is set within a range of 0.1 mm or more and 1.0 mm or less, and is set to 0.6 mm in the present embodiment.

金属層13は、図1に示すように、セラミックス基板11の他方の面に配設されたAl層13Aと、このAl層13Aのうちセラミックス基板11が接合された面と反対側の面に積層されたCu層13Bと、を有している。
Al層13Aは、図3に示すように、セラミックス基板11の他方の面に、アルミニウム又はアルミニウム合金からなるアルミニウム板23Aが接合されることにより形成されている。本実施形態においては、Al層13Aは、純度が99質量%以上のアルミニウム(2Nアルミニウム)の圧延板(アルミニウム板23A)がセラミックス基板11に接合されることで形成されている。接合されるアルミニウム板23Aの厚さは0.1mm以上1.0mm以下の範囲内に設定されており、本実施形態では、0.6mmに設定されている。
Cu層13Bは、Al層13Aの他方の面に、銅又は銅合金からなる銅板23Bが接合されることにより形成されている。本実施形態においては、Cu層13Bは、無酸素銅の圧延板(銅板23B)が接合されることで形成されている。銅層13Bの厚さは0.1mm以上6mm以下の範囲内に設定されており、本実施形態では、1mmに設定されている。
As shown in FIG. 1, the metal layer 13 is laminated on an Al layer 13A provided on the other surface of the ceramic substrate 11, and on the surface of the Al layer 13A opposite to the surface to which the ceramic substrate 11 is joined. Cu layer 13B.
As shown in FIG. 3, the Al layer 13A is formed by joining an aluminum plate 23A made of aluminum or an aluminum alloy to the other surface of the ceramic substrate 11. In the present embodiment, the Al layer 13 </ b> A is formed by joining a rolled plate (aluminum plate 23 </ b> A) of aluminum (2N aluminum) having a purity of 99% by mass or more to the ceramic substrate 11. The thickness of the aluminum plate 23A to be joined is set in the range of 0.1 mm or more and 1.0 mm or less, and is set to 0.6 mm in the present embodiment.
The Cu layer 13B is formed by joining a copper plate 23B made of copper or a copper alloy to the other surface of the Al layer 13A. In the present embodiment, the Cu layer 13B is formed by joining a rolled plate of oxygen-free copper (copper plate 23B). The thickness of the copper layer 13B is set in the range of 0.1 mm or more and 6 mm or less, and is set to 1 mm in the present embodiment.

ヒートシンク31は、パワーモジュール用基板10側の熱を放散するためのものであり、本実施形態では、図1に示すように、冷却媒体が流通する流路32が設けられている。このヒートシンク31は、固相線温度が金属層13の接合面(Cu層13B)を構成するCuとAlとの共晶温度(548℃)未満とされたアルミニウム合金で構成されており、具体的には、JIS H 2118:2006で規定されたダイカスト用アルミニウム合金であるADC12(固相線温度515℃)で構成されている。なお、このADC12は、Cuを1.5〜3.5質量%の範囲内、Siを9.6〜12.0質量%の範囲内で含むアルミニウム合金である。   The heat sink 31 is for dissipating heat on the power module substrate 10 side. In the present embodiment, as shown in FIG. 1, a flow path 32 through which a cooling medium flows is provided. The heat sink 31 is made of an aluminum alloy whose solidus temperature is lower than the eutectic temperature (548 ° C.) of Cu and Al constituting the bonding surface (Cu layer 13B) of the metal layer 13. Is composed of ADC12 (solidus temperature 515 ° C.) which is an aluminum alloy for die casting specified in JIS H 2118: 2006. The ADC 12 is an aluminum alloy containing Cu in a range of 1.5 to 3.5% by mass and Si in a range of 9.6 to 12.0% by mass.

そして、ヒートシンク31と金属層13(Cu層13B)との間には、アルミニウム介在層18が介在している。
このアルミニウム介在層18は、純度が99質量%以上の2Nアルミニウム、純度が99.9質量%以上の3Nアルミニウム又は純度が99.99質量%以上の4Nアルミニウムからなるアルミニウム板28が接合させることで構成されている。本実施形態では、アルミニウム介在層18を構成するアルミニウム板28として純度が99質量%以上の2Nアルミニウム板を用い、厚さは0.05mm以上0.6mm以下の範囲内に設定されている。より望ましくは、0.05mm以上0.3mm以下に設定される。
ここで、金属層13(Cu層13B)とアルミニウム介在層18、アルミニウム介在層18とヒートシンク31が、それぞれ固相拡散接合されている。
The aluminum intervening layer 18 is interposed between the heat sink 31 and the metal layer 13 (Cu layer 13B).
The aluminum interposed layer 18 is joined to an aluminum plate 28 made of 2N aluminum having a purity of 99% by mass or more, 3N aluminum having a purity of 99.9% by mass or more, or 4N aluminum having a purity of 99.99% by mass or more. It is configured. In the present embodiment, a 2N aluminum plate having a purity of 99% by mass or more is used as the aluminum plate 28 constituting the aluminum interposed layer 18, and the thickness is set in a range of 0.05 mm to 0.6 mm. More preferably, it is set to be 0.05 mm or more and 0.3 mm or less.
Here, the metal layer 13 (Cu layer 13B) and the aluminum interposed layer 18, and the aluminum interposed layer 18 and the heat sink 31 are respectively solid-phase diffusion bonded.

そして、金属層13(Cu層13B)とアルミニウム介在層18との接合界面には、金属間化合物層が形成されている。
この金属間化合物層は、アルミニウム介在層18のAl原子と、Cu層13BのCu原子とが相互拡散することによって形成されるものである。この金属間化合物層においては、アルミニウム介在層18からCu層13Bに向かうにしたがい、漸次Al原子の濃度が低くなり、かつCu原子の濃度が高くなる濃度勾配を有している。
金属間化合物層は、CuとAlからなる金属間化合物で構成されており、本実施形態では、複数の金属間化合物が接合界面に沿って積層した構造とされている。ここで、金属間化合物層の厚さは、1μm以上80μm以下の範囲内、好ましくは、5μm以上80μm以下の範囲内に設定されている。
An intermetallic compound layer is formed at the bonding interface between the metal layer 13 (Cu layer 13B) and the aluminum interposed layer 18.
This intermetallic compound layer is formed by interdiffusion of Al atoms of the aluminum interposed layer 18 and Cu atoms of the Cu layer 13B. The intermetallic compound layer has a concentration gradient in which the concentration of Al atoms gradually decreases and the concentration of Cu atoms gradually increases from the aluminum intervening layer 18 toward the Cu layer 13B.
The intermetallic compound layer is composed of an intermetallic compound composed of Cu and Al. In the present embodiment, the intermetallic compound layer has a structure in which a plurality of intermetallic compounds are stacked along a bonding interface. Here, the thickness of the intermetallic compound layer is set in the range of 1 μm to 80 μm, preferably in the range of 5 μm to 80 μm.

また、本実施形態では、金属間化合物層は、3種の金属間化合物が積層された構造とされており、アルミニウム介在層18側からCu層13B側に向けて順に、アルミニウム介在層18とCu層13Bとの接合界面に沿って、θ相、η相が積層し、さらにζ相、δ相、及びγ相のうち少なくとも一つの相が積層して構成されている
また、この金属間化合物層とCu層13Bとの接合界面には、酸化物が接合界面に沿って層状に分散している。なお、本実施形態においては、この酸化物は、アルミナ(Al)等のアルミニウム酸化物とされている。なお、酸化物は、金属間化合物層とCu層13Bとの界面に分断された状態で分散しており、金属間化合物層とCu層13Bとが直接接触している領域も存在している。また、酸化物がθ相、η相もしくは、ζ相、δ相、及びγ相のうち少なくとも一つの相の内部に層状に分散している場合もある。
In the present embodiment, the intermetallic compound layer has a structure in which three kinds of intermetallic compounds are stacked, and the aluminum intercalating layer 18 and the Cu intercalating layer 18 are sequentially arranged from the aluminum intercalating layer 18 side to the Cu layer 13B side. The θ phase and the η 2 phase are laminated along the joint interface with the layer 13B, and at least one phase of the ζ 2 phase, the δ phase, and the γ 2 phase is laminated. At the joint interface between the inter-compound layer and the Cu layer 13B, an oxide is dispersed in a layer along the joint interface. In this embodiment, this oxide is an aluminum oxide such as alumina (Al 2 O 3 ). The oxide is dispersed in a state of being divided at the interface between the intermetallic compound layer and the Cu layer 13B, and there is a region where the intermetallic compound layer and the Cu layer 13B are in direct contact. In some cases, the oxide is dispersed in a layer form in at least one of the θ phase, η 2 phase, ζ 2 phase, δ phase, and γ 2 phase.

また、ヒートシンク31とアルミニウム介在層18との接合界面においては、それぞれの接合面に酸化物が層状に分散している。本実施形態においては、この酸化物はアルミナ(Al)等のアルミニウム酸化物等とされている。なお、酸化物は、ヒートシンク31とアルミニウム介在層18との界面に分断された状態で分散しており、ヒートシンク31とアルミニウム介在層18とが直接接触している領域も存在している。この酸化物は、ヒートシンク31及びアルミニウム介在層18の表面に形成されていた酸化皮膜に起因したものと推測される。 Further, at the joint interface between the heat sink 31 and the aluminum interposed layer 18, the oxide is dispersed in a layered manner on each joint surface. In the present embodiment, this oxide is an aluminum oxide such as alumina (Al 2 O 3 ). Note that the oxide is dispersed in a state of being divided at the interface between the heat sink 31 and the aluminum interposed layer 18, and there is a region where the heat sink 31 is directly in contact with the aluminum interposed layer 18. This oxide is presumed to be caused by the oxide film formed on the surfaces of the heat sink 31 and the aluminum interposed layer 18.

次に、本実施形態であるヒートシンク付パワーモジュール用基板30の製造方法について、図2及び図3を参照して説明する。   Next, a method for manufacturing the power module substrate 30 with a heat sink according to the present embodiment will be described with reference to FIGS.

(アルミニウム板積層工程S01)
まず、図3に示すように、セラミックス基板11の一方の面に、回路層12となるアルミニウム板22を、Al−Si系のろう材箔26を介して積層する。
また、セラミックス基板11の他方の面に、Al層13Aとなるアルミニウム板23A、Al−Si系のろう材箔26を介して積層する。なお、本実施形態では、Al−Si系のろう材箔26として、厚さ10μmのAl−8質量%Si合金箔を用いた。
(Aluminum plate laminating step S01)
First, as shown in FIG. 3, an aluminum plate 22 serving as the circuit layer 12 is laminated on one surface of the ceramic substrate 11 with an Al-Si brazing material foil 26 interposed therebetween.
Further, on the other surface of the ceramic substrate 11, an aluminum plate 23A serving as the Al layer 13A and an Al-Si brazing material foil 26 are laminated. In this embodiment, an Al-8 mass% Si alloy foil having a thickness of 10 μm is used as the Al-Si brazing material foil 26.

(回路層及びAl層形成工程S02)
そして、積層方向に加圧(圧力1〜35kgf/cm)した状態で真空加熱炉内に配置し加熱して、アルミニウム板22とセラミックス基板11を接合して回路層12を形成する。また、セラミックス基板11とアルミニウム板23Aを接合してAl層13Aを形成する。
ここで、真空加熱炉内の圧力は10−6Pa以上10−3Pa以下の範囲内に、加熱温度は600℃以上643℃以下、保持時間は30分以上180分以下の範囲内に設定されることが好ましい。
(Circuit layer and Al layer forming step S02)
Then, the circuit layer 12 is formed by placing in a vacuum heating furnace and heating the aluminum plate 22 and the ceramic substrate 11 while applying pressure (pressure: 1 to 35 kgf / cm 2 ) in the laminating direction. Also, the ceramic substrate 11 and the aluminum plate 23A are joined to form the Al layer 13A.
Here, the pressure in the vacuum heating furnace is set within a range from 10 −6 Pa to 10 −3 Pa, the heating temperature is set within a range from 600 ° C. to 643 ° C., and the holding time is set within a range from 30 minutes to 180 minutes. Preferably.

(Cu層(金属層)形成工程S03)
次に、Al層13Aの他方の面側に、Cu層13Bとなる銅板23Bを積層する。
(Cu layer (metal layer) forming step S03)
Next, a copper plate 23B to be the Cu layer 13B is laminated on the other surface side of the Al layer 13A.

そして、積層方向に加圧(圧力3〜35kgf/cm)した状態で真空加熱炉内に配置し加熱して、Al層13Aと銅板23Bとを固相拡散接合し、金属層13を形成する。
ここで、真空加熱炉内の圧力は10−6Pa以上10−3Pa以下の範囲内に、加熱温度は400℃以上548℃以下、保持時間は5分以上240分以下の範囲内に設定されることが好ましい。
なお、Al層13A、銅板23Bのうち固相拡散接合されるそれぞれの接合面は、予め当該面の傷が除去されて平滑にされている。
Then, the Al layer 13A and the copper plate 23B are solid-phase diffusion-bonded to each other to form a metal layer 13 while being placed in a vacuum heating furnace and heated in a state where pressure is applied in the stacking direction (pressure 3 to 35 kgf / cm 2 ). .
Here, the pressure in the vacuum heating furnace is set in the range of 10 −6 Pa to 10 −3 Pa, the heating temperature is set in the range of 400 ° C. to 548 ° C., and the holding time is set in the range of 5 minutes to 240 minutes. Preferably.
The bonding surfaces of the Al layer 13A and the copper plate 23B to be subjected to solid-phase diffusion bonding are smoothed in advance by removing scratches on the surfaces.

(アルミニウム介在層/金属層固相拡散接合工程S04及びヒートシンク/アルミニウム介在層固相拡散接合工程S05)
次に、金属層13(Cu層13B)と、アルミニウム介在層18となるアルミニウム板28と、ヒートシンク31と、を積層し、積層方向に加圧(圧力5〜35kgf/cm)した状態で真空加熱炉内に配置し加熱して、金属層13(Cu層13B)とアルミニウム介在層18(アルミニウム板28)、アルミニウム介在層18(アルミニウム板28)とヒートシンク31をそれぞれ固相拡散接合する。なお、金属層13(Cu層13B)、アルミニウム板28、ヒートシンク31のうち固相拡散接合されるそれぞれの接合面は、予め当該面の傷が除去されて平滑にされている。
ここで、真空加熱炉内の圧力は10−6Pa以上10−3Pa以下の範囲内に、加熱温度は400℃以上520℃以下、保持時間は0.5時間以上3時間以下の範囲内に設定されることが好ましい。
このようにして、本実施形態であるヒートシンク付パワーモジュール用基板30が製造される。
(Aluminum interposed layer / metal layer solid phase diffusion bonding step S04 and heat sink / aluminum interposed layer solid phase diffusion bonding step S05)
Next, the metal layer 13 (Cu layer 13B), the aluminum plate 28 serving as the aluminum interposed layer 18, and the heat sink 31 are stacked, and the vacuum is applied in a state where pressure is applied in the stacking direction (pressure 5 to 35 kgf / cm 2 ). The metal layer 13 (Cu layer 13B) and the intervening aluminum layer 18 (aluminum plate 28), and the intervening aluminum layer 18 (aluminum plate 28) and the heat sink 31 are solid-phase diffusion-bonded, respectively, in a heating furnace. The bonding surfaces of the metal layer 13 (Cu layer 13B), the aluminum plate 28, and the heat sink 31, which are to be subjected to solid-phase diffusion bonding, are previously smoothed by removing scratches on the surfaces.
Here, the pressure in the vacuum heating furnace is in the range of 10 −6 Pa to 10 −3 Pa, the heating temperature is in the range of 400 ° C. to 520 ° C., and the holding time is in the range of 0.5 hour to 3 hours. Preferably, it is set.
Thus, the power module substrate 30 with a heat sink according to the present embodiment is manufactured.

(半導体素子接合工程S06)
次いで、回路層12の一方の面(表面)に、はんだ材を介して半導体素子3を積層し、還元炉内においてはんだ接合する。
上記のようにして、本実施形態であるパワーモジュール1が製造される。
(Semiconductor element bonding step S06)
Next, the semiconductor element 3 is stacked on one surface (front surface) of the circuit layer 12 with a solder material interposed therebetween, and soldered in a reduction furnace.
As described above, the power module 1 according to the present embodiment is manufactured.

以上のような構成とされた本実施形態に係るヒートシンク付パワーモジュール用基板30によれば、ヒートシンク31が、固相線温度が金属層13の接合面(Cu層13B)を構成するCuとAlとの共晶温度(548℃)未満とされたアルミニウム合金で構成されており、具体的には、JIS H 2118:2006で規定されたダイカスト用アルミニウム合金であるADC12(固相線温度515℃)で構成されているので、流路32を有する複雑な構造のヒートシンク31を構成することができ、放熱性能を向上させることが可能となる。   According to the power module substrate 30 with a heat sink according to the present embodiment having the above-described configuration, the heat sink 31 is configured such that the solidus temperature is equal to Cu and Al forming the bonding surface (Cu layer 13B) of the metal layer 13. ADC12 (solidus temperature 515 ° C), which is an aluminum alloy for die-casting specified in JIS H 2118: 2006. Therefore, the heat sink 31 having a complicated structure having the flow path 32 can be configured, and the heat radiation performance can be improved.

そして、本実施形態では、金属層13がAl層13AとCu層13Bとを有し、金属層13(Cu層13B)と比較的融点の低いアルミニウム合金からなるヒートシンク31との間に、純度が99質量%以上のアルミニウムからなるアルミニウム介在層18が介在しており、金属層13(Cu層13B)とアルミニウム介在層18、アルミニウム介在層18とヒートシンク31がそれぞれ固相拡散接合されているので、ヒートシンク31とアルミニウム介在層18との接合界面及びアルミニウム介在層18と金属層13(Cu13B)との接合界面にカーケンダルボイドの発生を抑制することができる。よって、積層方向における熱抵抗が低く、放熱特性に優れたヒートシンク付パワーモジュール用基板30を製造することが可能となる。   In the present embodiment, the metal layer 13 has an Al layer 13A and a Cu layer 13B, and the purity between the metal layer 13 (Cu layer 13B) and the heat sink 31 made of an aluminum alloy having a relatively low melting point. Since the aluminum interposed layer 18 made of 99% by mass or more of aluminum is interposed, and the metal layer 13 (Cu layer 13B) and the aluminum interposed layer 18 and the aluminum interposed layer 18 and the heat sink 31 are solid-phase diffusion bonded, respectively. The occurrence of Kirkendall voids at the bonding interface between the heat sink 31 and the aluminum interposed layer 18 and the bonding interface between the aluminum interposed layer 18 and the metal layer 13 (Cu13B) can be suppressed. Therefore, it becomes possible to manufacture the power module substrate 30 with a heat sink having a low thermal resistance in the laminating direction and having excellent heat radiation characteristics.

また、本実施形態では、アルミニウム介在層/金属層固相拡散接合工程S04及びヒートシンク/アルミニウム介在層固相拡散接合工程S05を同時に実施しているので、製造工程が少なくすることができ、このヒートシンク付パワーモジュール用基板30の製造コスト低減を図ることが可能となる。   Further, in this embodiment, since the aluminum intermediate layer / metal layer solid phase diffusion bonding step S04 and the heat sink / aluminum intermediate layer solid phase diffusion bonding step S05 are simultaneously performed, the number of manufacturing steps can be reduced. It is possible to reduce the manufacturing cost of the attached power module substrate 30.

さらに、固相拡散接合する際に、接合面に傷がある場合には接合界面に隙間が生じるおそれがあるが、本実施形態では、Cu層13B(銅板23B)、アルミニウム介在層18(アルミニウム板28)、ヒートシンク31の接合される面は、予め当該面の傷が除去されて平滑にされた後に固相拡散接合されているので、それぞれの接合界面に隙間が生じることを抑制することができ、確実に固相拡散接合することができる。   Further, in the solid-phase diffusion bonding, if there is a flaw in the bonding surface, a gap may be generated at the bonding interface. However, in the present embodiment, the Cu layer 13B (copper plate 23B) and the aluminum intervening layer 18 (aluminum plate) are used. 28) Since the surface of the heat sink 31 to be joined is solid-phase diffusion-bonded after the surface of the surface has been removed and smoothed in advance, it is possible to suppress the formation of a gap at each joint interface. Thus, solid phase diffusion bonding can be performed reliably.

また、本実施形態では、金属層13(Cu層13B)とアルミニウム介在層18との接合界面に、CuとAlの金属間化合物層からなる金属間化合物層が形成されており、この金属間化合物層は、複数の金属間化合物が接合界面に沿って積層した構造とされているので、脆い金属間化合物が大きく成長してしまうことを抑制できる。また、金属間化合物層内部における体積変動が小さくなり、内部歪みが抑えられることになる。   Further, in the present embodiment, an intermetallic compound layer composed of an intermetallic compound layer of Cu and Al is formed at a bonding interface between the metal layer 13 (Cu layer 13B) and the aluminum intervening layer 18. Since the layer has a structure in which a plurality of intermetallic compounds are stacked along the bonding interface, it is possible to suppress the brittle intermetallic compound from growing significantly. Further, the volume fluctuation inside the intermetallic compound layer is reduced, and the internal strain is suppressed.

さらに、本実施形態では、Cu層13Bと金属間化合物層との接合界面においては、酸化物がこれらの接合界面に沿ってそれぞれ層状に分散しているので、アルミニウム介在層18(アルミニウム板28)の接合面に形成された酸化膜が確実に破壊され、CuとAlの相互拡散が十分に進行していることになり、Cu層13Bとアルミニウム介在層18とが確実に接合されている。   Furthermore, in the present embodiment, at the bonding interface between the Cu layer 13B and the intermetallic compound layer, the oxide is dispersed in a layer along each of the bonding interfaces, so that the aluminum intervening layer 18 (the aluminum plate 28) The oxide film formed on the bonding surface is surely destroyed, and the interdiffusion of Cu and Al has sufficiently proceeded, and the Cu layer 13B and the aluminum interposed layer 18 are securely bonded.

(第二実施形態)
次に、本発明の第二実施形態であるヒートシンクについて説明する。図4に、本発明の第二実施形態に係るヒートシンク101を示す。
このヒートシンク101は、ヒートシンク本体110と、ヒートシンク本体110の一方の面(図4において上側)に積層された銅、ニッケル又は銀からなる金属部材層117と、を備えている。本実施形態では、金属部材層117は、図6に示すように、無酸素銅の圧延板からなる金属板127を接合することによって構成されている。
(Second embodiment)
Next, a heat sink according to a second embodiment of the present invention will be described. FIG. 4 shows a heat sink 101 according to the second embodiment of the present invention.
The heat sink 101 includes a heat sink body 110 and a metal member layer 117 made of copper, nickel, or silver laminated on one surface (upper side in FIG. 4) of the heat sink body 110. In this embodiment, as shown in FIG. 6, the metal member layer 117 is configured by joining a metal plate 127 made of a rolled plate of oxygen-free copper.

ヒートシンク本体110は、冷却媒体が流通する流路111が設けられている。このヒートシンク本体110は、固相線温度が金属部材層117を構成する金属元素(本実施形態ではCu)とAlとの共晶温度(548℃)未満とされたアルミニウム合金で構成されており、具体的には、JIS H 2118:2006で規定されたダイカスト用アルミニウム合金であるADC5(固相線温度535℃)で構成されている。なお、このADC5は、Mgを4.1〜8.5質量%の範囲内で含むアルミニウム合金である。   The heat sink body 110 is provided with a flow path 111 through which a cooling medium flows. The heat sink body 110 is made of an aluminum alloy whose solidus temperature is lower than the eutectic temperature (548 ° C.) of Al with the metal element (Cu in the present embodiment) constituting the metal member layer 117, Specifically, it is composed of ADC5 (solidus temperature 535 ° C.) which is an aluminum alloy for die casting specified in JIS H 2118: 2006. The ADC 5 is an aluminum alloy containing Mg in a range of 4.1 to 8.5% by mass.

ここで、ヒートシンク本体110と金属部材層117との間には、アルミニウム介在層118が介在している。
このアルミニウム介在層118は、純度が99質量%以上の2Nアルミニウム、純度が99.9質量%以上の3Nアルミニウム又は純度が99.99質量%以上の4Nアルミニウムからなるアルミニウム板128が接合させることで構成されている。本実施形態では、アルミニウム介在層118を構成するアルミニウム板128として純度が99質量%以上の2Nアルミニウムを用い、厚さは0.05mm以上0.6mm以下の範囲内に設定されている。より望ましくは、0.05mm以上0.3mm以下に設定される。
ここで、金属部材層117とアルミニウム介在層118、アルミニウム介在層118とヒートシンク本体110とが、それぞれ固相拡散接合されている。
Here, an aluminum intervening layer 118 is interposed between the heat sink body 110 and the metal member layer 117.
The aluminum interposed layer 118 is joined to an aluminum plate 128 made of 2N aluminum having a purity of 99% by mass or more, 3N aluminum having a purity of 99.9% by mass or more, or 4N aluminum having a purity of 99.99% by mass or more. It is configured. In the present embodiment, 2N aluminum having a purity of 99% by mass or more is used as the aluminum plate 128 constituting the aluminum interposed layer 118, and the thickness is set in a range of 0.05 mm or more and 0.6 mm or less. More preferably, it is set to be 0.05 mm or more and 0.3 mm or less.
Here, the metal member layer 117 and the aluminum interposed layer 118, and the aluminum interposed layer 118 and the heat sink main body 110 are solid-phase diffusion bonded, respectively.

ここで、金属部材層117とアルミニウム介在層118との接合界面には、金属間化合物層が形成されている。
この金属間化合物層は、アルミニウム介在層118のAl原子と、金属部材層117のCu原子とが相互拡散することによって形成されるものである。この金属間化合物層においては、アルミニウム介在層118から金属部材層117に向かうにしたがい、漸次Al原子の濃度が低くなり、かつCu原子の濃度が高くなる濃度勾配を有している。
金属間化合物層は、CuとAlからなる金属間化合物で構成されており、本実施形態では、複数の金属間化合物が接合界面に沿って積層した構造とされている。ここで、金属間化合物層の厚さは、1μm以上80μm以下の範囲内、好ましくは、5μm以上80μm以下の範囲内に設定されている。
Here, an intermetallic compound layer is formed at the joint interface between the metal member layer 117 and the aluminum intervening layer 118.
This intermetallic compound layer is formed by interdiffusion of Al atoms of the aluminum interposed layer 118 and Cu atoms of the metal member layer 117. This intermetallic compound layer has a concentration gradient in which the concentration of Al atoms gradually decreases and the concentration of Cu atoms gradually increases from the aluminum intervening layer 118 toward the metal member layer 117.
The intermetallic compound layer is composed of an intermetallic compound composed of Cu and Al. In the present embodiment, the intermetallic compound layer has a structure in which a plurality of intermetallic compounds are stacked along a bonding interface. Here, the thickness of the intermetallic compound layer is set in the range of 1 μm to 80 μm, preferably in the range of 5 μm to 80 μm.

また、本実施形態では、金属間化合物層は、3種の金属間化合物が積層された構造とされており、アルミニウム介在層118側から金属部材層117側に向けて順に、アルミニウム介在層118と金属部材層117との接合界面に沿って、θ相、η相が積層し、さらにζ相、δ相、及びγ相のうち少なくとも一つの相が積層して構成されている。
また、この金属間化合物層と金属部材層117との接合界面には、酸化物が接合界面に沿って層状に分散している。なお、本実施形態においては、この酸化物は、アルミナ(Al)等のアルミニウム酸化物とされている。なお、酸化物は、金属間化合物層と金属部材層117との界面に分断された状態で分散しており、金属間化合物層と金属部材層117とが直接接触している領域も存在している。また、酸化物がθ相、η相もしくは、ζ相、δ相、及びγ相のうち少なくとも一つの相の内部に層状に分散している場合もある。
Further, in the present embodiment, the intermetallic compound layer has a structure in which three kinds of intermetallic compounds are laminated, and the aluminum intercalating layer 118 and the metal member layer 117 are sequentially arranged from the aluminum interposing layer 118 side to the metal member layer 117 side. A θ phase and an η 2 phase are stacked along a bonding interface with the metal member layer 117, and at least one of ζ 2 phase, δ phase and γ 2 phase is stacked.
At the joint interface between the intermetallic compound layer and the metal member layer 117, an oxide is dispersed in a layer along the joint interface. In this embodiment, this oxide is an aluminum oxide such as alumina (Al 2 O 3 ). Note that the oxide is dispersed in a state of being separated at the interface between the intermetallic compound layer and the metal member layer 117, and there is a region where the intermetallic compound layer and the metal member layer 117 are in direct contact. I have. In some cases, the oxide is dispersed in a layer form in at least one of the θ phase, η 2 phase, ζ 2 phase, δ phase, and γ 2 phase.

また、ヒートシンク本体110とアルミニウム介在層118との接合界面においては、それぞれの接合面に酸化物が層状に分散している。本実施形態においては、この酸化物はアルミナ(Al)等のアルミニウム酸化物とされている。なお、酸化物は、ヒートシンク本体110とアルミニウム介在層118との界面に分断された状態で分散しており、ヒートシンク本体110とアルミニウム介在層118とが直接接触している領域も存在している。この酸化物は、ヒートシンク本体110及びアルミニウム介在層118の表面に形成されていた酸化皮膜に起因したものと推測される。 Further, at the bonding interface between the heat sink body 110 and the aluminum intervening layer 118, the oxide is dispersed in a layer form on each bonding surface. In the present embodiment, this oxide is an aluminum oxide such as alumina (Al 2 O 3 ). The oxide is dispersed at the interface between the heat sink body 110 and the aluminum interposed layer 118 in a state of being divided, and there is a region where the heat sink body 110 and the aluminum interposed layer 118 are in direct contact. This oxide is presumed to be caused by the oxide film formed on the surfaces of the heat sink body 110 and the aluminum intervening layer 118.

次に、本実施形態であるヒートシンク101の製造方法について、図5及び図6を参照して説明する。   Next, a method for manufacturing the heat sink 101 according to the present embodiment will be described with reference to FIGS.

(ヒートシンク本体/アルミニウム介在層固相拡散接合工程S101)
まず、図6に示すように、ヒートシンク本体110と、アルミニウム介在層118となるアルミニウム板128とを積層し、積層方向に加圧(圧力5〜35kgf/cm)した状態で真空加熱炉内に配置し加熱することにより、アルミニウム板128とヒートシンク本体110とを固相拡散接合する。なお、アルミニウム板128、ヒートシンク本体110のうち固相拡散接合されるそれぞれの接合面は、予め当該面の傷が除去されて平滑にされている。
ここで、真空加熱炉内の圧力は10−6Pa以上10−3Pa以下の範囲内に、加熱温度は400℃以上520℃以下、保持時間は30分以上240分以下の範囲内に設定されることが好ましい。
(Sink body / Aluminum intervening layer solid phase diffusion bonding step S101)
First, as shown in FIG. 6, a heat sink main body 110 and an aluminum plate 128 serving as an aluminum intervening layer 118 are laminated and pressurized (pressure 5-35 kgf / cm 2 ) in a laminating direction and placed in a vacuum heating furnace. By arranging and heating, the aluminum plate 128 and the heat sink body 110 are solid-phase diffusion bonded. The bonding surfaces of the aluminum plate 128 and the heat sink body 110 to be subjected to the solid phase diffusion bonding are smoothed in advance by removing the scratches on the surfaces.
Here, the pressure in the vacuum heating furnace is set in the range of 10 −6 Pa to 10 −3 Pa, the heating temperature is set in the range of 400 ° C. to 520 ° C., and the holding time is set in the range of 30 minutes to 240 minutes. Preferably.

(アルミニウム介在層/金属部材層固相拡散接合工程S102)
次に、図6に示すように、アルミニウム介在層118と金属部材層117となる金属板127とを積層し、積層方向に加圧(圧力1〜35kgf/cm)した状態で真空加熱炉内に配置し加熱することにより、金属板127とアルミニウム介在層118とを固相拡散接合する。なお、金属板127、アルミニウム介在層118のうち固相拡散接合されるそれぞれの接合面は、予め当該面の傷が除去されて平滑にされている。
ここで、真空加熱炉内の圧力は10−6Pa以上10−3Pa以下の範囲内に、加熱温度は400℃以上548℃以下、保持時間は15分以上180分以下の範囲内に設定されることが好ましい。
このようにして、本実施形態であるヒートシンク101が製造される。
(Aluminum interposed layer / metal member layer solid phase diffusion bonding step S102)
Next, as shown in FIG. 6, the aluminum interposed layer 118 and the metal plate 127 to be the metal member layer 117 are laminated, and are pressed in the laminating direction (pressure: 1 to 35 kgf / cm 2 ) in a vacuum heating furnace. And heating is performed, so that the metal plate 127 and the aluminum interposed layer 118 are solid-phase diffusion bonded. The bonding surfaces of the metal plate 127 and the aluminum interposed layer 118 to be subjected to solid-phase diffusion bonding are smoothed in advance by removing scratches on the surfaces.
Here, the pressure in the vacuum heating furnace is set in the range of 10 −6 Pa to 10 −3 Pa, the heating temperature is set in the range of 400 ° C. to 548 ° C., and the holding time is set in the range of 15 minutes to 180 minutes. Preferably.
Thus, the heat sink 101 according to the present embodiment is manufactured.

以上のような構成とされた本実施形態に係るヒートシンク101によれば、ヒートシンク本体110の一方の面側に、無酸素銅の圧延板からなる金属板127を接合することによって金属部材層117が形成されているので、熱を金属部材層117によって面方向に広げることができ、放熱特性を大幅に向上させることができる。また、はんだ等を用いて他の部材とヒートシンク101とを良好に接合することができる。   According to the heat sink 101 according to the present embodiment having the above-described configuration, the metal member layer 117 made of a rolled plate of oxygen-free copper is joined to one surface of the heat sink main body 110 to form the metal member layer 117. Since it is formed, heat can be spread in the plane direction by the metal member layer 117, and the heat radiation characteristics can be greatly improved. Further, another member and the heat sink 101 can be satisfactorily joined using solder or the like.

また、ヒートシンク本体110が、固相線温度が金属部材層117を構成する金属元素と(Cu)とAlとの共晶温度(548℃)未満とされたアルミニウム合金で構成されており、具体的には、JIS H 2118:2006で規定されたダイカスト用アルミニウム合金であるADC5(固相線温度535℃)で構成されているので、流路等を有する複雑な構造のヒートシンク本体110を構成することができる。   Further, the heat sink body 110 is made of an aluminum alloy whose solidus temperature is lower than the eutectic temperature (548 ° C.) of the metal element constituting the metal member layer 117 and (Cu) and Al. Is composed of ADC5 (solidus temperature: 535 ° C.) which is an aluminum alloy for die casting specified in JIS H 2118: 2006, so that the heat sink body 110 having a complicated structure having a flow path and the like is required. Can be.

そして、本実施形態では、比較的融点の低いアルミニウム合金からなるヒートシンク本体110と金属部材層117との間に、純度が99質量%以上のアルミニウムからなるアルミニウム介在層118が介在しており、ヒートシンク本体110とアルミニウム介在層118、アルミニウム介在層118と金属部材層117がそれぞれ固相拡散接合されているので、ヒートシンク本体110とアルミニウム介在層118との接合界面及びアルミニウム介在層118と金属部材層117との接合界面にカーケンダルボイドの発生を抑制することができる。よって、積層方向における熱抵抗が低く、放熱特性に優れたヒートシンク101を製造することが可能となる。   In the present embodiment, an aluminum interposed layer 118 made of aluminum having a purity of 99% by mass or more is interposed between the heat sink body 110 made of an aluminum alloy having a relatively low melting point and the metal member layer 117. Since the main body 110 and the aluminum interposed layer 118 and the aluminum interposed layer 118 and the metal member layer 117 are respectively solid-phase diffusion bonded, the bonding interface between the heat sink main body 110 and the aluminum interposed layer 118 and the aluminum interposed layer 118 and the metal member layer 117 are formed. The occurrence of Kirkendall voids at the bonding interface with the metal can be suppressed. Therefore, it is possible to manufacture the heat sink 101 having low heat resistance in the stacking direction and excellent heat radiation characteristics.

また、本実施形態では、金属部材層117とアルミニウム介在層118との接合界面が、第1の実施形態のCu層13Bとアルミニウム介在層18との接合界面と同様の構成とされているので、第1の実施形態と同様の作用効果を奏することが可能となる。   Further, in the present embodiment, the bonding interface between the metal member layer 117 and the aluminum intervening layer 118 has the same configuration as the bonding interface between the Cu layer 13B and the aluminum intervening layer 18 in the first embodiment. The same operation and effect as in the first embodiment can be obtained.

以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明はこれに限定されることはなく、その発明の技術的思想を逸脱しない範囲で適宜変更可能である。
例えば、上記実施の形態では、金属部材層として銅からなるCu層とが接合される場合について説明したが、Cu層に代えて、ニッケル又はニッケル合金からなるNi層、もしくは銀又は銀合金からなるAg層が接合されても良い。
As described above, the embodiments of the present invention have been described, but the present invention is not limited thereto, and can be appropriately changed without departing from the technical idea of the present invention.
For example, in the above embodiment, the case where the Cu layer made of copper is joined as the metal member layer has been described, but instead of the Cu layer, a Ni layer made of nickel or a nickel alloy, or a silver layer or a silver alloy is used. An Ag layer may be joined.

Cu層に代えてNi層を形成した場合には、はんだ付け性が良好となり、他の部材との接合信頼性を向上できる。さらに、固相拡散接合によってNi層を形成する場合には、無電解めっき等でNiめっき膜を形成する際に行われるマスキング処理が不要なので、製造コストを低減できる。この場合、Ni層の厚さは1μm以上30μm以下とすることが望ましい。Ni層の厚さが1μm未満の場合には他の部材との接合信頼性の向上の効果が無くなるおそれがあり、30μmを超える場合にはNi層が熱抵抗体となり効率的に熱を伝達できなくなるおそれがある。また、固相拡散接合によってNi層を形成する場合、Al層とNiの固相拡散接合については、接合温度を400℃以上630℃以下に設定されるが、その他の条件は前述の実施形態と同様の条件で形成することができる。   When a Ni layer is formed instead of the Cu layer, the solderability is improved and the reliability of joining with other members can be improved. Furthermore, when the Ni layer is formed by solid-phase diffusion bonding, the masking process performed when forming the Ni plating film by electroless plating or the like is unnecessary, so that the manufacturing cost can be reduced. In this case, it is desirable that the thickness of the Ni layer be 1 μm or more and 30 μm or less. If the thickness of the Ni layer is less than 1 μm, the effect of improving the reliability of joining with other members may be lost. If the thickness exceeds 30 μm, the Ni layer becomes a thermal resistor and can efficiently transfer heat. It may disappear. In the case where the Ni layer is formed by solid phase diffusion bonding, the bonding temperature is set at 400 ° C. or higher and 630 ° C. or lower for the solid phase diffusion bonding of the Al layer and Ni. It can be formed under similar conditions.

Cu層に代えてAg層を形成した場合には、例えば酸化銀粒子と有機物からなる還元剤とを含む酸化銀ペーストを用いて他の部材を接合する際に、酸化銀が還元された銀とAg層とが同種の金属同士の接合となるため、接合信頼性を向上させることができる。さらには、熱伝導率の良好なAg層が形成されるので、熱を面方向に拡げて効率的に伝達することができる。この場合、Ag層の厚さは1μm以上20μm以下とすることが望ましい。Ag層の厚さが1μm未満の場合には他の部材との接合信頼性を向上の効果が無くなるおそれがあり、20μmを超える場合には接合信頼性向上の効果が観られなくなり、コストの増加を招く。また、固相拡散接合によってAg層を形成する場合、Al層とAgの固相拡散接合については、接合温度を400℃以上560℃以下に設定されるが、その他は前述の実施形態と同様の条件で形成することができる。   When an Ag layer is formed instead of the Cu layer, for example, when joining other members using a silver oxide paste containing silver oxide particles and a reducing agent made of an organic material, the silver oxide is reduced with the reduced silver. Since the same type of metal is bonded to the Ag layer, bonding reliability can be improved. Furthermore, since an Ag layer having good thermal conductivity is formed, heat can be spread in the plane direction and can be efficiently transmitted. In this case, it is desirable that the thickness of the Ag layer be 1 μm or more and 20 μm or less. When the thickness of the Ag layer is less than 1 μm, there is a possibility that the effect of improving the bonding reliability with other members may be lost. When the thickness is more than 20 μm, the effect of improving the bonding reliability may not be observed and the cost may increase. Invite. When the Ag layer is formed by solid-phase diffusion bonding, the bonding temperature is set at 400 ° C. or more and 560 ° C. or less for the solid-phase diffusion bonding of the Al layer and Ag. It can be formed under conditions.

さらに、第一の実施形態では、金属層13を、Al層13AとCu層13Bとを有するものとして説明したが、これに限定されることはなく、図7に示すように、金属層全体を銅又は銅合金で構成してもよい。この図7に示すパワーモジュール201及びヒートシンク付パワーモジュール用基板230においては、セラミックス基板11の他方の面(図70において下側)に銅板がDBC法あるいは活性金属ろう付け法等によって接合され、銅又は銅合金からなる金属層213が形成されている。そして、この金属層213とヒートシンク31と間に、アルミニウム介在層18が介在しており、金属層213とアルミニウム介在層18、アルミニウム介在層18とヒートシンク31が、それぞれ固相拡散接合されている。なお、図7に示すパワーモジュール用基板210においては、回路層212も銅又は銅合金によって構成されたものとされている。   Further, in the first embodiment, the metal layer 13 has been described as having the Al layer 13A and the Cu layer 13B, but is not limited to this. As shown in FIG. It may be composed of copper or a copper alloy. In the power module 201 and the power module substrate 230 with a heat sink shown in FIG. 7, a copper plate is bonded to the other surface (the lower side in FIG. 70) of the ceramic substrate 11 by a DBC method, an active metal brazing method, or the like. Alternatively, a metal layer 213 made of a copper alloy is formed. An aluminum interposed layer 18 is interposed between the metal layer 213 and the heat sink 31, and the metal layer 213 and the aluminum interposed layer 18, and the aluminum interposed layer 18 and the heat sink 31 are solid-phase diffusion bonded. In the power module substrate 210 shown in FIG. 7, the circuit layer 212 is also made of copper or a copper alloy.

また、第1の実施形態において、回路層を純度99質量%のアルミニウム板を接合することで形成したものとして説明したが、これに限定されることはなく、他のアルミニウム又はアルミニウム合金、銅又は銅合金等の他の金属で構成したものであってもよい。また、回路層をAl層とCu層の2層構造のものとしてもよい。これは、図7に示すパワーモジュール用基板210でも同様である。   In the first embodiment, the circuit layer is described as being formed by bonding an aluminum plate having a purity of 99% by mass. However, the present invention is not limited to this, and other circuit elements such as aluminum or aluminum alloy, copper or It may be made of another metal such as a copper alloy. Further, the circuit layer may have a two-layer structure of an Al layer and a Cu layer. The same applies to the power module substrate 210 shown in FIG.

また、第1の実施形態において、アルミニウム介在層/金属層固相拡散接合工程S04と、ヒートシンク/アルミニウム介在層固相拡散接合工程S05とを、同時に実施するものとして説明したが、これに限定されることはなく、アルミニウム介在層/金属層固相拡散接合工程S04を実施した後にヒートシンク/アルミニウム介在層固相拡散接合工程S05を実施してもよいし、ヒートシンク/アルミニウム介在層固相拡散接合工程S05を実施した後にアルミニウム介在層/金属層固相拡散接合工程S04を実施してもよい。   In the first embodiment, the description has been given assuming that the aluminum interposed layer / metal layer solid phase diffusion bonding step S04 and the heat sink / aluminum interposed layer solid phase diffusion bonding step S05 are performed simultaneously, but the present invention is not limited to this. The heat sink / intermediate layer solid phase diffusion bonding step S05 may be performed after the aluminum interposed layer / metal layer solid phase diffusion bonding step S04, or the heat sink / aluminum intermediate layer solid phase diffusion bonding step may be performed. After performing S05, an aluminum intercalation layer / metal layer solid phase diffusion bonding step S04 may be performed.

なお、第1の実施形態において、Cu層(金属層)形成工程S03とアルミニウム介在層/金属層固相拡散接合工程S04を同時に行うこともできる。
また、第1の実施形態において、Cu層(金属層)形成工程S03とアルミニウム介在層/金属層固相拡散接合工程S04とヒートシンク/アルミニウム介在層固相拡散接合工程S05を同時に行うこともできる。
これらの場合、接合温度は450℃以上520℃以下の範囲内とすることが好ましい。
In the first embodiment, the Cu layer (metal layer) forming step S03 and the aluminum interposed layer / metal layer solid phase diffusion bonding step S04 can be performed simultaneously.
Further, in the first embodiment, the Cu layer (metal layer) forming step S03, the aluminum intermediate layer / metal layer solid phase diffusion bonding step S04, and the heat sink / aluminum intermediate layer solid phase diffusion bonding step S05 can be performed simultaneously.
In these cases, it is preferable that the bonding temperature be in the range of 450 ° C. or more and 520 ° C. or less.

さらに、第2の実施形態において、ヒートシンク本体/アルミニウム介在層固相拡散接合工程S101を実施した後にアルミニウム介在層/金属部材層固相拡散接合工程S102を実施するものとして説明したが、これに限定されることはなく、アルミニウム介在層/金属部材層固相拡散接合工程S102を実施した後にヒートシンク本体/アルミニウム介在層固相拡散接合工程S101を実施してもよいし、ヒートシンク本体/アルミニウム介在層固相拡散接合工程S101及びアルミニウム介在層/金属部材層固相拡散接合工程S102を同時に実施してもよい。   Further, in the second embodiment, the description has been made assuming that the aluminum intermediate layer / metal member layer solid phase diffusion bonding step S102 is performed after the heat sink body / aluminum intermediate layer solid phase diffusion bonding step S101 is performed. However, the heat sink body / aluminum interposed layer solid phase diffusion bonding step S101 may be performed after the aluminum interposed layer / metal member layer solid phase diffusion bonding step S102 is performed. The phase diffusion bonding step S101 and the aluminum intermediate layer / metal member layer solid phase diffusion bonding step S102 may be performed simultaneously.

以下に、本発明の効果を確認すべく行った確認実験の結果について説明する。
表1に示すアルミニウム合金板(50mm×50mm×厚さ5mm)及び金属板(40mm×40mm)を準備した。また、純度99質量%の2Nアルミニウムからなるアルミニウム介在層(40mm×40mm×厚さ0.1mm)を準備した。
Hereinafter, results of confirmation experiments performed to confirm the effects of the present invention will be described.
An aluminum alloy plate (50 mm × 50 mm × thickness 5 mm) and a metal plate (40 mm × 40 mm) shown in Table 1 were prepared. Further, an aluminum interposed layer (40 mm × 40 mm × thickness 0.1 mm) made of 2N aluminum having a purity of 99% by mass was prepared.

本発明例1〜6においては、表1の金属板とアルミニウム介在層、アルミニウム介在層とアルミニウム合金板を、それぞれ表1に示す条件で固相拡散接合した。
なお、比較例1−3においては、金属板とアルミニウム合金板との間にアルミニウム介在層を介在させずに、金属板とアルミニウム合金板とを直接固相拡散接合した。接合を同時に実施した。
In Examples 1 to 6 of the present invention, the metal plate and the aluminum interposed layer shown in Table 1 and the aluminum interposed layer and the aluminum alloy plate were solid-phase diffusion bonded under the conditions shown in Table 1, respectively.
In Comparative Example 1-3, the metal plate and the aluminum alloy plate were directly solid-phase diffusion-bonded without interposing an aluminum intervening layer between the metal plate and the aluminum alloy plate. Joining was performed simultaneously.

このようにして製造された接合体において、積層方向の熱抵抗を測定した。
ヒータチップ(13mm×10mm×0.25mm)を金属板の表面に半田付けし、アルミニウム合金板を冷却器にろう付け接合した。次に、ヒータチップを100Wの電力で加熱し、熱電対を用いてヒータチップの温度を実測した。また、冷却器を流通する冷却媒体(エチレングリコール:水=9:1)の温度を実測した。そして、ヒータチップの温度と冷却媒体の温度差を電力で割った値を熱抵抗とした。なお、アルミニウム介在層を介在させずにアルミニウム合金板と銅板とを直接拡散接合した比較例1を基準として1とし、この比較例1との比率で熱抵抗を評価した。評価結果を表1に示す。
The thermal resistance in the stacking direction was measured for the joined body thus manufactured.
A heater chip (13 mm × 10 mm × 0.25 mm) was soldered to the surface of a metal plate, and an aluminum alloy plate was brazed to a cooler. Next, the heater chip was heated with a power of 100 W, and the temperature of the heater chip was measured using a thermocouple. Further, the temperature of a cooling medium (ethylene glycol: water = 9: 1) flowing through the cooler was actually measured. The value obtained by dividing the difference between the temperature of the heater chip and the temperature of the cooling medium by the electric power was defined as the thermal resistance. Note that the thermal resistance was evaluated based on the ratio of Comparative Example 1 in which the aluminum alloy plate and the copper plate were directly diffusion-bonded without the intervening aluminum layer, and set to 1 as a reference. Table 1 shows the evaluation results.

Figure 0006673635
Figure 0006673635

金属板(銅板)とアルミニウム合金板とを直接固相拡散接合した比較例1においては、本発明例1〜4と比べ熱抵抗が大きくなっていることが確認される。また、金属板としてニッケルを用いた比較例2と本発明例5を比べると、比較例2の熱抵抗が大きくなっていることが確認される。同様に金属板として銀を用いた比較例3と本発明例6を比べると比較例3の熱抵抗が大きくなっていることが確認される。これは、カーケンダルボイドが形成されたためと推測される。
これに対して、金属板とアルミニウム合金板との間に純度99質量%以上の2Nアルミニウムからなるアルミニウム介在層を介在させた本発明例においては、比較例に比べて熱抵抗が小さくなっていることが確認される。アルミニウム介在層を介在させることにより、カーケンダルボイドの形成が抑制されたためと推測される。
In Comparative Example 1 in which a metal plate (copper plate) and an aluminum alloy plate were directly subjected to solid phase diffusion bonding, it was confirmed that the thermal resistance was higher than those of Examples 1 to 4 of the present invention. In addition, when Comparative Example 2 using nickel as the metal plate is compared with Inventive Example 5, it is confirmed that Comparative Example 2 has a large thermal resistance. Similarly, when Comparative Example 3 using silver as the metal plate is compared with Inventive Example 6, it is confirmed that Comparative Example 3 has a large thermal resistance. This is presumed to be due to the formation of Kirkendall voids.
On the other hand, in the example of the present invention in which the aluminum interposed layer made of 2N aluminum having a purity of 99% by mass or more is interposed between the metal plate and the aluminum alloy plate, the thermal resistance is smaller than that of the comparative example. It is confirmed that. It is presumed that the formation of Kirkendall voids was suppressed by interposing the aluminum intervening layer.

10、210 パワーモジュール用基板
11 セラミックス基板
13,213 金属層
13B Cu層(金属部材)
18 アルミニウム介在層
31 ヒートシンク(アルミニウム合金部材)
101 ヒートシンク
110 ヒートシンク本体(アルミニウム合金部材)
117 金属部材層
118 アルミニウム介在層
10, 210 Power module substrate 11 Ceramic substrate 13, 213 Metal layer 13B Cu layer (metal member)
18 Aluminum interposed layer 31 Heat sink (aluminum alloy member)
101 heat sink 110 heat sink body (aluminum alloy member)
117 metal member layer 118 aluminum intervening layer

Claims (9)

銅、ニッケル、又は銀からなる金属部材と、固相線温度が前記金属部材を構成する金属元素とアルミニウムとの共晶温度未満とされたアルミニウム合金からなるアルミニウム合金部材と、が接合されてなる接合体の製造方法であって、
前記アルミニウム合金部材と前記金属部材との間には、純度が99質量%以上のアルミニウムからなるアルミニウム介在層が配設されており、
前記アルミニウム合金部材と前記アルミニウム介在層とを固相拡散接合するアルミニウム合金部材/アルミニウム介在層固相拡散接合工程と、
前記アルミニウム介在層と前記金属部材とを積層し、積層方向に加圧した状態で加熱して保持することにより、前記アルミニウム介在層と前記金属部材とを固相拡散接合するアルミニウム介在層/金属部材固相拡散接合工程と、を備えており、
前記アルミニウム介在層/金属部材固相拡散接合工程においては、加熱温度を400℃以上とすることを特徴とする接合体の製造方法。
A metal member made of copper, nickel, or silver is joined to an aluminum alloy member made of an aluminum alloy whose solidus temperature is lower than the eutectic temperature of the metal element and aluminum constituting the metal member. A method of manufacturing a joined body,
An aluminum interposed layer made of aluminum having a purity of 99% by mass or more is disposed between the aluminum alloy member and the metal member,
An aluminum alloy member / aluminum interposed layer solid phase diffusion bonding step of solid phase diffusion bonding the aluminum alloy member and the aluminum interposed layer;
An aluminum interposed layer / metal member for laminating the aluminum interposed layer and the metal member, and heating and holding the aluminum interposed layer and the metal member in a state where the aluminum interposed layer and the metal member are pressurized in the laminating direction to solid-phase diffusion bond the aluminum interposed layer and the metal member And a solid phase diffusion bonding process .
The method for manufacturing a joined body, wherein the heating temperature is set to 400 ° C. or more in the aluminum interposed layer / metal member solid phase diffusion joining step .
前記アルミニウム合金部材/アルミニウム介在層固相拡散接合工程と、前記アルミニウム介在層/金属部材固相拡散接合工程と、を同時に実施することを特徴とする請求項1に記載の接合体の製造方法。   The method for manufacturing a joined body according to claim 1, wherein the aluminum alloy member / aluminum interposed layer solid phase diffusion bonding step and the aluminum interposed layer / metal member solid phase diffusion bonding step are simultaneously performed. 絶縁層と、この絶縁層の一方の面に形成された回路層と、前記絶縁層の他方の面に形成された金属層と、この金属層の前記絶縁層とは反対側の面に配置されたヒートシンクと、を備えたヒートシンク付パワーモジュール用基板の製造方法であって、
前記金属層と前記ヒートシンクとの間には、純度が99質量%以上のアルミニウムからなるアルミニウム介在層が配設されており、
前記金属層のうち前記アルミニウム介在層との接合面は、銅、ニッケル、又は銀で構成され、
前記ヒートシンクのうち前記アルミニウム介在層との接合面は、固相線温度が前記金属層の前記接合面を構成する金属元素とアルミニウムとの共晶温度未満とされたアルミニウム合金で構成されており、
前記ヒートシンクと前記アルミニウム介在層とを固相拡散接合するヒートシンク/アルミニウム介在層固相拡散接合工程と、
前記アルミニウム介在層と前記金属層とを積層し、積層方向に加圧した状態で加熱して保持することにより、前記アルミニウム介在層と前記金属層とを固相拡散接合するアルミニウム介在層/金属層固相拡散接合工程と、を備えており、
前記アルミニウム介在層/金属層固相拡散接合工程においては、加熱温度を400℃以上とすることを特徴とするヒートシンク付パワーモジュール用基板の製造方法。
An insulating layer, a circuit layer formed on one surface of the insulating layer, a metal layer formed on the other surface of the insulating layer, and a metal layer disposed on a surface of the metal layer opposite to the insulating layer. A heat sink, and a method for manufacturing a power module substrate with a heat sink, comprising:
An aluminum interposed layer made of aluminum having a purity of 99% by mass or more is provided between the metal layer and the heat sink,
A bonding surface of the metal layer with the aluminum interposed layer is made of copper, nickel, or silver,
The joining surface of the heat sink and the aluminum interposed layer is made of an aluminum alloy having a solidus temperature lower than a eutectic temperature of a metal element and aluminum constituting the joining surface of the metal layer,
A heat sink / aluminum interposed layer solid phase diffusion bonding step of solid phase diffusion bonding the heat sink and the aluminum interposed layer;
The aluminum intervening layer / metal layer, which is formed by laminating the aluminum intervening layer and the metal layer, and heating and holding the aluminum intervening layer and the metal layer in a state of being pressed in the laminating direction, thereby solid-phase diffusion-bonding the aluminum intervening layer and the metal layer And a solid phase diffusion bonding process .
The method for manufacturing a power module substrate with a heat sink , wherein the heating temperature is 400 ° C. or more in the aluminum interposed layer / metal layer solid phase diffusion bonding step .
ヒートシンク/アルミニウム介在層固相拡散接合工程と、前記アルミニウム介在層/金属層固相拡散接合工程と、を同時に実施することを特徴とする請求項3に記載のヒートシンク付パワーモジュール用基板の製造方法。   The method for manufacturing a power module substrate with a heat sink according to claim 3, wherein the heat sink / intermediate layer solid phase diffusion bonding step and the aluminum intermediate layer / metal layer solid phase diffusion bonding step are simultaneously performed. . ヒートシンク本体と、金属部材層と、を備えたヒートシンクの製造方法であって、
前記ヒートシンク本体と前記金属部材層との間に、純度が99質量%以上のアルミニウムからなるアルミニウム介在層が配設されており、
前記金属部材層は、銅、ニッケル、又は銀からなり、
前記ヒートシンク本体は、固相線温度が前記金属部材層を構成する金属元素とアルミニウムとの共晶温度未満とされたアルミニウム合金で構成されており、
前記ヒートシンク本体と前記アルミニウム介在層とを固相拡散接合するヒートシンク本体/アルミニウム介在層固相拡散接合工程と、
前記アルミニウム介在層と前記金属部材層とを積層し、積層方向に加圧した状態で加熱して保持することにより、前記アルミニウム介在層と前記金属部材層とを固相拡散接合するアルミニウム介在層/金属部材層固相拡散接合工程と、を備えており、
前記アルミニウム介在層/金属部材層固相拡散接合工程においては、加熱温度を400℃以上とすることを特徴とするヒートシンクの製造方法。
A method for manufacturing a heat sink including a heat sink body and a metal member layer,
An aluminum interposed layer made of aluminum having a purity of 99% by mass or more is provided between the heat sink body and the metal member layer,
The metal member layer is made of copper, nickel, or silver,
The heat sink body is made of an aluminum alloy having a solidus temperature lower than a eutectic temperature of a metal element and aluminum constituting the metal member layer,
A heat sink body / aluminum interposed layer solid phase diffusion bonding step of solid phase diffusion bonding the heat sink body and the aluminum interposed layer;
By laminating the aluminum intervening layer and the metal member layer, and heating and holding the aluminum intervening layer and the metal member layer in a state of being pressed in the laminating direction, an aluminum intervening layer for solid-phase diffusion bonding between the aluminum intervening layer and the metal member layer / Metal member layer solid phase diffusion bonding step ,
A method for manufacturing a heat sink, wherein the heating temperature is set to 400 ° C. or more in the aluminum interposed layer / metal member layer solid phase diffusion bonding step .
前記ヒートシンク本体/アルミニウム介在層固相拡散接合工程と、前記アルミニウム介在層/金属部材層固相拡散接合工程と、を同時に実施することを特徴とする請求項5に記載のヒートシンクの製造方法。   The method for manufacturing a heat sink according to claim 5, wherein the heat sink body / aluminum interposed layer solid phase diffusion bonding step and the aluminum interposed layer / metal member layer solid phase diffusion bonding step are simultaneously performed. 銅、ニッケル、又は銀からなる金属部材と、固相線温度が前記金属部材を構成する金属元素とアルミニウムとの共晶温度未満とされたアルミニウム合金からなるアルミニウム合金部材と、が接合されてなる接合体であって、
前記アルミニウム合金部材と前記金属部材との間には、純度が99質量%以上のアルミニウムからなるアルミニウム介在層が配設されており、
前記アルミニウム合金部材と前記アルミニウム介在層とが固相拡散接合され、
前記アルミニウム介在層と前記金属部材とが固相拡散接合され、前記アルミニウム介在層と前記金属部材との接合界面には、金属間化合物層が形成されており、
前記金属間化合物層は、複数の金属間化合物が接合界面に沿って積層した構造とされ、厚さが1μm以上8μm以下の範囲内とされていることを特徴とする接合体。
A metal member made of copper, nickel, or silver is joined to an aluminum alloy member made of an aluminum alloy whose solidus temperature is lower than the eutectic temperature of the metal element and aluminum constituting the metal member. A conjugate,
An aluminum interposed layer made of aluminum having a purity of 99% by mass or more is disposed between the aluminum alloy member and the metal member,
The aluminum alloy member and the aluminum interposed layer are solid-phase diffusion bonded,
The aluminum intervening layer and the metal member are solid-phase diffusion bonded, and an intermetallic compound layer is formed at a bonding interface between the aluminum intervening layer and the metal member.
The joined body, wherein the intermetallic compound layer has a structure in which a plurality of intermetallic compounds are stacked along a joining interface, and has a thickness in a range of 1 μm or more and 8 μm or less .
絶縁層と、この絶縁層の一方の面に形成された回路層と、前記絶縁層の他方の面に形成された金属層と、この金属層の前記絶縁層とは反対側の面に配置されたヒートシンクと、を備えたヒートシンク付パワーモジュール用基板であって、
前記金属層と前記ヒートシンクとの間には、純度が99質量%以上のアルミニウムからなるアルミニウム介在層が配設されており、
前記金属層のうち前記アルミニウム介在層との接合面は、銅、ニッケル、又は銀で構成され、
前記ヒートシンクのうち前記アルミニウム介在層との接合面は、固相線温度が前記金属層の前記接合面を構成する金属元素とアルミニウムとの共晶温度未満とされたアルミニウム合金で構成されており、
前記ヒートシンクと前記アルミニウム介在層とが固相拡散接合され、
前記アルミニウム介在層と前記金属層とが固相拡散接合され、前記アルミニウム介在層と前記金属層との接合界面には、金属間化合物層が形成されており、
前記金属間化合物層は、複数の金属間化合物が接合界面に沿って積層した構造とされ、厚さが1μm以上8μm以下の範囲内とされていることを特徴とするヒートシンク付パワーモジュール用基板。
An insulating layer, a circuit layer formed on one surface of the insulating layer, a metal layer formed on the other surface of the insulating layer, and a metal layer disposed on a surface of the metal layer opposite to the insulating layer. A power module substrate with a heat sink, comprising:
An aluminum interposed layer made of aluminum having a purity of 99% by mass or more is provided between the metal layer and the heat sink,
A bonding surface of the metal layer with the aluminum interposed layer is made of copper, nickel, or silver,
The joining surface of the heat sink and the aluminum interposed layer is made of an aluminum alloy having a solidus temperature lower than a eutectic temperature of a metal element and aluminum constituting the joining surface of the metal layer,
The heat sink and the aluminum interposed layer are solid-phase diffusion bonded,
The aluminum intervening layer and the metal layer are solid-phase diffusion bonded, and an intermetallic compound layer is formed at a bonding interface between the aluminum intervening layer and the metal layer,
The power module substrate with a heat sink, wherein the intermetallic compound layer has a structure in which a plurality of intermetallic compounds are stacked along a bonding interface, and has a thickness in a range of 1 μm or more and 8 μm or less .
ヒートシンク本体と、金属部材層と、を備えたヒートシンクであって、
前記ヒートシンク本体と前記金属部材層との間に、純度が99質量%以上のアルミニウムからなるアルミニウム介在層が配設されており、
前記金属部材層は、銅、ニッケル、又は銀からなり、
前記ヒートシンク本体は、固相線温度が前記金属部材層を構成する金属元素とアルミニウムとの共晶温度未満とされたアルミニウム合金で構成されており、
前記ヒートシンク本体と前記アルミニウム介在層とが固相拡散接合され、
前記アルミニウム介在層と前記金属部材層とが固相拡散接合され、前記アルミニウム介在層と前記金属部材層との接合界面には、金属間化合物層が形成されており、
前記金属間化合物層は、複数の金属間化合物が接合界面に沿って積層した構造とされ、厚さが1μm以上8μm以下の範囲内とされていることを特徴とするヒートシンク。
A heat sink comprising a heat sink body and a metal member layer,
An aluminum interposed layer made of aluminum having a purity of 99% by mass or more is provided between the heat sink body and the metal member layer,
The metal member layer is made of copper, nickel, or silver,
The heat sink body is made of an aluminum alloy having a solidus temperature lower than a eutectic temperature of a metal element and aluminum constituting the metal member layer,
The heat sink body and the aluminum interposed layer are solid-phase diffusion bonded,
The aluminum intervening layer and the metal member layer are solid-phase diffusion bonded, and a bonding interface between the aluminum intervening layer and the metal member layer is formed with an intermetallic compound layer,
A heat sink, wherein the intermetallic compound layer has a structure in which a plurality of intermetallic compounds are stacked along a bonding interface, and has a thickness in a range of 1 μm or more and 8 μm or less .
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