JP6670261B2 - タンデム圧延ミル制御装置およびタンデム圧延ミル制御方法 - Google Patents
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Description
を備えることを特徴とする。
図1は、本発明の第1の実施形態に係るタンデム圧延ミル制御装置100およびその制御対象150の構成の例を示した図である。図1に示すように、第1の実施形態に係るタンデム圧延ミル制御装置100は、制御対象150から種々の信号を受信し、それに応じて、種々の制御信号を制御対象150に出力する。
続いて、図1を参照しながら、タンデム圧延ミル制御装置100の構成について説明する。タンデム圧延ミル制御装置100は、セットアップ制御部101、設定荷重比算出部104、影響係数算出部105、圧下位置制御部106、圧延実績収集部107、速度制御部108などの処理機能ブロックを含んで構成される。また、タンデム圧延ミル制御装置100は、ドラフトスケジュール記憶部102、速度パターン記憶部103などの記憶機能ブロックを含んで構成される。
前記したように、セットアップ制御部101は、鋼板163の圧延に先立って、上位コンピュータ50から送信される、次に圧延される鋼板163の圧延仕様(鋼種、目標板厚、目標板幅など)を受信する。そして、その受信した圧延仕様に応じて、各圧延スタンド161(F1〜F7)に対する設定圧延荷重、設定圧下位置、設定ロール速度などの制御指令を算出する。これらの設定圧延荷重、設定圧下位置、設定ロール速度などの制御指令は、適宜補正された上で、制御対象150の仕上げミル160に出力される。
kf=Kεn (dε/dt)m exp(A/T) (1)
ここで、ε:ひずみ
(dε/dt):ひずみ速度
K,n,m,A:鋼種によりに決まる定数
Vsi=Vs7×hi/h7 (2)
ここで、Vsi:圧延スタンド(Fi)の出側板速
hi:圧延スタンド(Fi)の出側板厚
h7:圧延スタンド(F7)(最終段圧延スタンド)の出側板厚
Vri=Vsi/fi (3)
ここで、Vri:圧延スタンド(Fi)のロール速度
fi:圧延スタンド(Fi)の先進率
f=F(H,h,R’,Kp,tb,tf) (4)
ここで,H:入側板厚
h:出側板厚
R’:偏平ロール径,
Kp:変形抵抗
tb:入側張力
tf:出側張力
(パラメータの記号H,h,R’,Kp,tb,tfの意味は、式(5)以下の式でも同じ。また、式(4)、式(5)、式(6)では、圧延スタンド(Fi)を識別する記号iを省略。)
P=G(w,Kp,Qp,tf,tb,R’,H,h,μ) (5)
ここで、w:板幅
Kp:変形抵抗
Qp:圧下力関数
μ:摩擦係数
S=h−P/K (6)
ここで、S:圧下位置
P:圧延荷重
K:ミルばね定数
図5は、設定荷重比算出部104によって実行される設定荷重比算出処理の処理フローの例を示した図である。図5に示すように、設定荷重比算出部104は、各圧延スタンド161(F1〜F7)についての設定圧延荷重Pset_iの総和Ptotal_setを、次の式(7)により算出する(ステップS51)。
Ptotal_set=Pset_1+Pset_2+Pset_3+Pset_4+Pset_5+Pset_6+Pset_7 (7)
ここで、Pset_i:圧延スタンド(Fi)の設定圧延荷重
Prset_i=Pset_i/Ptotal_set (8)
図6は、影響係数算出部105によって実行される影響係数算出処理の処理フローの例を示した図である。図6に示すように、設定荷重比算出部104は、次に示す式(9)により圧延スタンド161(Fi)の影響係数φcoef_iを算出する(ステップS61)。
φcoef_i=(∂Si/∂Pi)(∂Pi/∂hi)(∂Hi+1/∂Pi+1) (9)
ここで、Si:圧延スタンド(Fi)の圧下位置
Pi:圧延スタンド(Fi)の圧延荷重
hi:圧延スタンド(Fi)の入側板厚
Hi:圧延スタンド(Fi)の出側板厚(ただし、Hi+1=hi)
以上、ここまでに示したセットアップ制御部101、設定荷重比算出部104、影響係数算出部105の処理は、鋼板163が仕上げミル160で圧延されるのに先立って実行される。そして、圧下位置制御部106は、鋼板163の先端部が各圧延スタンド161に噛み込まれていく際には、セットアップ制御部101から出力される設定圧下位置に従いワークロール162の圧下位置を制御する。同様に、速度制御部108は、鋼板163の先端部が各圧延スタンド161に噛み込まれていく際には、セットアップ制御部101から出力される設定ロール速度に従いワークロール162のロール速度を制御する。
Pract_i+1=Pact_i+1/Ptotal_act (10)
ここで、Ptotal_act=Pact_1+Pact_2+Pact_3+Pact_4+Pact_5+Pact_6+Pact_7
Pact_i+1:下流の圧延スタンド(Fi+1)の実績圧延荷重
Dr_i=φcoef_i・ΔPri+1・Kpi・(1+1/(Ti・s)) (11)
ここで、ΔPri+1=Pract_i+1−Prset_i+1
Kpi:比例ゲイン
Ti:積分時間
s:ラプラス演算子
Dbsr_i=A1_i・(Pact_i−Plock_i) (12)
ここで、Plock_i:鋼板163の先端でロックオンしたときの実績荷重
A1_i:比例係数
Dgmt_i=A2_i・(htarget_i−hest_i) (13)
ここで、hest_i=Sact_i+Pact_i/Ki+ΔDi
htarget_i:圧延スタンド(Fi)の望ましい出側板厚
hest_i:圧延スタンド(Fi)の推定出側板厚
Sact_i:圧延スタンド(Fi)の実績圧下位置
ΔDi:補正係数
Ki:圧延スタンド(Fi)のバネ係数
A2_i:係数
Dmnt_i=A3_i・(htarget_7−hact_7) (14)
ここで、htarget_7:圧延スタンド(Fi)の望ましい出側板厚(目標板厚)
hact_7:圧延スタンド(Fi)の実績出側板厚,
A3_i:係数
図10は、本発明の第2の実施形態に係るタンデム圧延ミル制御装置100aの構成の例を、荷重バランス維持部110における処理構成を中心として示した図である。第2の実施形態に係るタンデム圧延ミル制御装置100aは、制御パラメータ抽出部1001、制御パラメータ記憶部1002および制御パラメータ検索補助記憶部1003が追加された点でのみ、第1の実施形態に係るタンデム圧延ミル制御装置100と相違する。
図14は、本発明の第2の実施形態の変形例に係る制御パラメータ検索補助記憶部1003に記憶される制御パラメータ検索補助テーブル1003Taの構成の例を示した図である。なお、本変形例では、制御パラメータテーブル1002Tの構成は、図11に示した構成と同じである。
100,100a タンデム圧延ミル制御装置
101 セットアップ制御部
102 ドラフトスケジュール記憶部
102T ドラフトスケジュールテーブル
103 速度パターン記憶部
103T 速度パターンテーブル
104 設定荷重比算出部
105 影響係数算出部
106 圧下位置制御部
107 圧延実績収集部
108 速度制御部
110 荷重バランス維持部
111 BISRA AGC
112 ゲージメータAGC
113 モニタAGC
150 制御対象
160 仕上げミル
161 圧延スタンド
162 ワークロール
163 鋼板(被圧延材)
164 マルチゲージ
165 粗材(被圧延材)
901 上流スタンド(第2の圧延スタンド)
902 下流スタンド(第1の圧延スタンド)
904 実績荷重比算出部
906 圧下位置補正量算出部
910 圧下位置補正量算出部の出力
1001 制御パラメータ抽出部
1002 制御パラメータ記憶部
1003 制御パラメータ検索補助記憶部
1002T 制御パラメータテーブル
1003T,1003Ta 制御パラメータ検索補助テーブル
Pset_i 圧延スタンド(Fi)の設定圧延荷重
Pact_i 圧延スタンド(Fi)の実績圧延荷重
Prset_i 圧延スタンド(Fi)の設定荷重比
Pract_i 圧延スタンド(Fi)の実績荷重比
ΔPri 圧延スタンド(Fi)の実績荷重比の設定荷重比からの偏差
Si 圧延スタンド(Fi)の圧下位置
Sset_i 圧延スタンド(Fi)の設定圧下位置
Sact_i 圧延スタンド(Fi)の実績圧下位置
φcoef_i 圧延スタンド(Fi)の影響係数
Dr_i 下流の圧延スタンド(Fi+1)の荷重バランスを維持するための上流の圧延
スタンド(Fi)の圧下位置補正量
Dbsr_i 圧延スタンド(Fi)のBISRA AGCに基づく圧下位置補正量
Dgmt_i 圧延スタンド(Fi)のゲージメータAGCに基づく圧下位置補正量
Dmnt_i 圧延スタンド(Fi)のモニタAGCに基づく圧下位置補正量
Claims (10)
- 複数の圧延スタンドにより被圧延材を連続的に圧延するタンデム圧延ミルを制御するタンデム圧延ミル制御装置であって、
前記被圧延材の圧延に先立って、前記複数の圧延スタンドそれぞれに対し、前記被圧延材の目標板厚を実現するための設定圧延荷重および設定圧下位置を設定するセットアップ制御部と、
前記複数の圧延スタンドから選択された1つの圧延スタンドである第1の圧延スタンドについて、前記第1の圧延スタンドに設定された前記設定圧延荷重と、前記複数の圧延スタンドそれぞれに設定された前記設定圧延荷重とに基づき、前記第1の圧延スタンドについての設定荷重比を算出する設定荷重比算出部と、
前記被圧延材の圧延中に、前記第1の圧延スタンドから得られる実績圧延荷重と、前記複数の圧延スタンドそれぞれから得られる実績圧延荷重とに基づき、前記第1の圧延スタンドについての実績荷重比を算出する実績荷重比算出部と、
前記被圧延材の圧延中に、前記第1の圧延スタンドにおける前記実績荷重比の前記設定荷重比からの偏差が小さくなるように、前記第1の圧延スタンドの荷重比を単位量補正するのに必要な前記第1の圧延スタンドの上流に位置する第2の圧延スタンドの圧下位置補正量として算出される影響係数と前記第1の圧延スタンドにおける前記実績荷重比の前記設定荷重比からの偏差とに基づき算出した圧下位置補正量と、BISRA AGCに基づく圧下位置補正量と、ゲージメータAGCに基づく圧下位置補正量と、モニタAGCに基づく圧下位置補正量と、を加算して求めた前記第2の圧延スタンドの圧下位置補正量により、前記第2の圧延スタンドの圧下位置を制御する圧下位置制御部と、
を備えること
を特徴とするタンデム圧延ミル制御装置。 - 前記第1の圧延スタンドは、
前記複数の圧延スタンドのうち、最上流に位置する初段の圧延スタンドを含まない圧延スタンドから、順次選択された圧延スダンドであること
を特徴とする請求項1に記載のタンデム圧延ミル制御装置。 - 前記第2の圧延スタンドは、
前記第1の圧延スタンドの上流に隣接する圧延スタンドであること
を特徴とする請求項2に記載のタンデム圧延ミル制御装置。 - 前記設定荷重比算出部は、
前記複数の圧延スタンドそれぞれに設定された設定圧延荷重を、前記複数の圧延スタンドそれぞれに設定された設定圧延荷重の総和で除した値を、前記複数の圧延スタンドそれぞれの設定荷重比として計算し、
前記実績荷重比算出部は、
前記複数の圧延スタンドそれぞれで得られた実績圧延荷重を、前記複数の圧延スタンドそれぞれで得られた実績圧延荷重の総和で除した値を、前記複数の圧延スタンドそれぞれの実績荷重比として計算すること
を特徴とする請求項1に記載のタンデム圧延ミル制御装置。 - 前記被圧延材の圧延仕様毎に、比例積分制御により板厚制御する圧延スタンドにおいて圧下位置補正量の計算で用いられる比例ゲインと積分時間の制御パラメータを記憶した制御パラメータ記憶部と、
前記被圧延材の圧延に先立って、前記制御パラメータ記憶部から前記被圧延材の圧延仕
様に応じた制御パラメータを抽出し、前記抽出した制御パラメータを出力する制御パラメータ抽出部と、
をさらに備えること
を特徴とする請求項3に記載のタンデム圧延ミル制御装置。 - 前記制御パラメータ記憶部には、前記被圧延材の圧延仕様毎に、前記複数の圧延スタンドのうち最終段の圧延スタンドを除くそれぞれの圧延スタンドについて、その圧延スタンドの圧下位置補正量を計算するか否かを指示する情報が記憶されており、
前記指示する情報が計算を指示する情報であった場合に限って、前記圧延スタンドの圧下位置補正量を計算すること
を特徴とする請求項5に記載のタンデム圧延ミル制御装置。 - 複数の圧延スタンドにより被圧延材を連続的に圧延するタンデム圧延ミルを制御するコンピュータが、
前記被圧延材の圧延に先立って、前記複数の圧延スタンドそれぞれに対し、前記被圧延材の目標板厚を実現するための設定圧延荷重および設定圧下位置を設定する第1のステップと、
前記複数の圧延スタンドから選択された1つの圧延スタンドである第1の圧延スタンドについて、前記第1の圧延スタンドに設定された前記設定圧延荷重と、前記複数の圧延スタンドそれぞれに設定された前記設定圧延荷重とに基づき、前記第1の圧延スタンドについての設定荷重比を算出する第2のステップと、
前記被圧延材の圧延中に、前記第1の圧延スタンドから得られる実績圧延荷重と、前記複数の圧延スタンドそれぞれから得られる実績圧延荷重とに基づき、前記第1の圧延スタンドについての実績荷重比を算出する第3のステップと、
前記被圧延材の圧延中に、
前記第1の圧延スタンドにおける前記実績荷重比の前記設定荷重比からの偏差が小さくなるように、前記第1の圧延スタンドの荷重比を単位量補正するのに必要な前記第1の圧延スタンドの上流に位置する第2の圧延スタンドの圧下位置補正量として算出される影響係数と前記第1の圧延スタンドにおける前記実績荷重比の前記設定荷重比からの偏差とに基づき圧下位置補正量を算出し、BISRA AGCに基づく圧下位置補正量を算出し、ゲージメータAGCに基づく圧下位置補正量を算出し、モニタAGCに基づく圧下位置補正量を算出し、4つの前記圧下位置補正量を加算して求めた前記第2の圧延スタンドの圧下位置補正量により、前記第2の圧延スタンドの圧下位置を制御する第4のステップと、
を実行すること
を特徴とするタンデム圧延ミル制御方法。 - 前記第1の圧延スタンドは、
前記複数の圧延スタンドのうち、最上流に位置する初段の圧延スタンドを含まない圧延スタンドから、順次選択された圧延スタンドであること
を特徴とする請求項7に記載のタンデム圧延ミル制御方法。 - 前記第2の圧延スタンドは、
前記第1の圧延スタンドの上流に隣接する圧延スタンドであること
を特徴とする請求項8に記載のタンデム圧延ミル制御方法。 - 前記コンピュータは、
前記第2のステップでは、
前記複数の圧延スタンドそれぞれに設定された設定圧延荷重を、前記複数の圧延スタンドそれぞれに設定された設定圧延荷重の総和で除した値を、前記複数の圧延スタンドそれぞれの設定荷重比として計算し、
前記第3のステップでは、
前記複数の圧延スタンドそれぞれで得られた実績圧延荷重を、前記複数の圧延スタンドそれぞれで得られた実績圧延荷重の総和で除した値を、前記複数の圧延スタンドそれぞれの実績荷重比として計算すること
を特徴とする請求項7に記載のタンデム圧延ミル制御方法。
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