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JP6663142B2 - Organic electroluminescent device - Google Patents

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JP6663142B2
JP6663142B2 JP2015031028A JP2015031028A JP6663142B2 JP 6663142 B2 JP6663142 B2 JP 6663142B2 JP 2015031028 A JP2015031028 A JP 2015031028A JP 2015031028 A JP2015031028 A JP 2015031028A JP 6663142 B2 JP6663142 B2 JP 6663142B2
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正統 石原
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貴壽 山田
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雅考 長谷川
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Description

本発明は、有機エレクトロルミネセンス素子、特に、陽極電極にグラフェン膜を用いた有機エレクトロルミネセンス発光素子に関する。   The present invention relates to an organic electroluminescence device, and more particularly, to an organic electroluminescence device using a graphene film for an anode electrode.

有機エレクトロルミネセンス(EL)素子は、有機材料に電流を注入して発光をうる現象(有機エレクトロルミネセンス)を利用するものであり、透明な基板上に設けられた透明な導電性膜からなる陽極と、有機EL材料からなる発光層を含む有機層、金属膜からなる陰極が積層された基本構造を有している。
また、一般的な有機EL素子においては、透明電極(陽極)と有機EL材料との間に、例えばポリエチレンジオキシチオフェンとポリスルフォン酸の混合物(PEDOT:PSS)等の導電性ポリマーをホール注入層として挿入することで、ホール注入効率を向上させることが行われている。
BACKGROUND ART An organic electroluminescence (EL) element utilizes a phenomenon in which a current is injected into an organic material to emit light (organic electroluminescence), and is composed of a transparent conductive film provided on a transparent substrate. It has a basic structure in which an anode, an organic layer including a light emitting layer made of an organic EL material, and a cathode made of a metal film are stacked.
In a general organic EL element, a conductive polymer such as a mixture of polyethylene dioxythiophene and polysulfonic acid (PEDOT: PSS) is provided between a transparent electrode (anode) and an organic EL material. It has been performed to improve the hole injection efficiency.

有機EL素子に使用される透明電極(陽極)には、これまで、酸化インジウムスズ(ITO:Indium Tin Oxide)が使用されていたが、レアメタルの資源枯渇問題やフレキシブル性の観点から、ITOに代わる新しい電極材料が求められている。
こうしたなか、上記課題を解決する材料として、炭素のみで構成されたハニカム構造を有するグラフェンは、高移動度とともに、高いフレキシブル性、高熱導電性を有する材料であることから期待されている。
Until now, indium tin oxide (ITO) has been used for the transparent electrode (anode) used in the organic EL element. However, it has been replaced with ITO from the viewpoint of depletion of rare metal resources and flexibility. New electrode materials are needed.
Under these circumstances, graphene having a honeycomb structure composed of only carbon is expected to be a material having high mobility, high flexibility, and high thermal conductivity as a material for solving the above problems.

有機EL素子に使用される透明導電膜は、低抵抗かつ高い透過率が必要とされており、本発明者らは、その要求に対して、グラフェン膜の高品質化を目的とする研究を進め、Dバンドが低く、結晶性の高い1〜2層のグラフェン膜を用い、陰極/有機発光層/ホール注入層(PEDOT:PSS)/グラフェン膜(陽極)を基本構造として有機EL素子を作成する(非特許文献1)とともに、プラズマCVD法により、メタンガスなどの炭素含有ガスを使用することなく1層から6層のグラフェン膜を形成し、かつ層数を制御する手法を提案している(特許文献1)。   The transparent conductive film used for the organic EL element is required to have a low resistance and a high transmittance, and the present inventors have responded to this demand by conducting research aimed at improving the quality of the graphene film. An organic EL device is formed using one or two layers of graphene films having low D band and high crystallinity, and having a basic structure of a cathode / organic light emitting layer / hole injection layer (PEDOT: PSS) / graphene film (anode). Along with (Non-Patent Document 1), a method has been proposed in which one to six graphene films are formed by a plasma CVD method without using a carbon-containing gas such as methane gas, and the number of layers is controlled (Patent) Reference 1).

また、有機EL素子を用いた発光装置は、その可撓性(フレキシブル性)が図れることから、次世代のディスプレーとして注目されており(非特許文献2参照)、可撓性を有する基板(フレキシブル基板)の採用が検討されている。   In addition, a light emitting device using an organic EL element has attracted attention as a next-generation display because of its flexibility (flexibility) (see Non-Patent Document 2), and a flexible substrate (flexible). (Substrate) is being considered.

例えば、2013年のSID(Society for Information Display)で発表された試作品は、ポリエチレンナフタレート(PEN)をベースとしたPEN基板を用いた有機EL表示装置(OLED)や、ポリイミド(PI)板を用いたOLED等が挙げられている。しかしながら、これらのOLEDでは、透明電極は透明導電膜(ITO;Indium Tin Oxide)で構成されている。   For example, prototypes announced at the 2013 SID (Society for Information Display) include an organic EL display device (OLED) using a PEN substrate based on polyethylene naphthalate (PEN) and a polyimide (PI) plate. OLEDs and the like used are listed. However, in these OLEDs, the transparent electrode is made of a transparent conductive film (ITO: Indium Tin Oxide).

また、透明電極にグラフェン膜を用いた例では、仕事関数を高く、シート抵抗を低くするためにグラフェン・アノードを修飾して、フレキシブルOLEDを作製したことが報告されており、フレキシブル基板として、ポリエチレンテレフタレート(PET)基板が用いられている(非特許文献3)。   In the case of using a graphene film for the transparent electrode, it was reported that a flexible OLED was manufactured by modifying the graphene anode to increase the work function and lower the sheet resistance. A terephthalate (PET) substrate is used (Non-Patent Document 3).

さらに、陽極にグラフェン膜ではなく、グラフェン酸化物をPEDOT:PSSと混合したものを用いたOLEDでは、基板にポリエチレンナフタレート(PEN)が用いられている(非特許文献4)。   Furthermore, in an OLED using a mixture of graphene oxide and PEDOT: PSS instead of a graphene film for the anode, polyethylene naphthalate (PEN) is used for the substrate (Non-Patent Document 4).

なお、樹脂基板にグラフェン膜を形成する場合、触媒金属上にCVD法によりグラフェン膜を形成した後、該触媒金属上に形成されたグラフェン膜を、種々の方法で、PET等のフレキシブル基材上に転写する方法が採用されている。例えば、特許文献2では、粘着力のある面を有するフィルム状の中間媒体を用い、該中間媒体の粘着力のある面を触媒金属上に形成されたグラフェン膜の表面に圧着して仮止めする工程を備えることが記載されており、また、特許文献3では、第1の基材である触媒能を有する金属薄膜上にロールツーロール法で堆積したグラフェンロールフィルムを第2の基材に転写することが記載されており、第2の基材として種々の樹脂が記載されている。
しかしながら、これらの特許文献には、具体的にはPET基板に転写した例が記載されているだけで、具体的なデバイス、特に有機EL素子については何ら言及されていない。
When a graphene film is formed on a resin substrate, a graphene film is formed on a catalyst metal by a CVD method, and then the graphene film formed on the catalyst metal is formed on a flexible base material such as PET by various methods. Is adopted. For example, in Patent Literature 2, a film-like intermediate medium having an adhesive surface is used, and the adhesive surface of the intermediate medium is pressure-bonded to the surface of a graphene film formed on a catalytic metal to be temporarily fixed. Patent Document 3 discloses that a graphene roll film deposited by a roll-to-roll method on a metal thin film having a catalytic ability, which is a first base material, is transferred to a second base material. And various resins are described as the second base material.
However, these patent documents only describe an example of transfer to a PET substrate, but do not mention a specific device, particularly an organic EL element.

特開2015−013797号公報JP-A-2013-013797 国際公開第2012/153674号International Publication No. 2012/153674 特開2014−24700号公報JP 2014-24700 A

2014年第61回応用物理学会春季学術講演会20a-2E−122014 61st JSAP Spring Meeting 20a-2E-12 フレキシブルディスプレイの研究・開発動向、NHK技研 R&D、No.145、4〜17頁(2014年5月)Research and development trend of flexible display, NHK Giken R & D, No. 145, pp. 4-17 (May 2014) Nature Photonics 6,105-110(2012)Nature Photonics 6,105-110 (2012) Journal of Materials Chemistry C,2014,2,4044-4050Journal of Materials Chemistry C, 2014,2,4044-4050

本発明者らは、非特許文献1、特許文献1等で報告しているグラフェン膜を用いた有機EL素子について、更に検討を重ねたところ、リーク電流の存在がデバイス性能に悪影響を与えている可能性があることが判明した。その一つの例として、リーク電流により発生するジュール熱の影響でその周りにある有機EL材料の劣化が進むと思われる。
このような背景から、グラフェンを用いた有機EL素子の高輝度化の1つの手法として、リーク電流の抑制が必須となると考えられる。
本発明の目的は、こうした知見に基づくものであって、透明導電膜としてグラフェン膜を用いた有機EL素子において、リーク電流を減少させ、かつ高輝度化を実現することにある。
The present inventors have further studied the organic EL device using the graphene film reported in Non-Patent Document 1, Patent Document 1, etc., and found that the presence of the leak current has a bad influence on the device performance. It turned out to be possible. As one example, it is considered that the influence of Joule heat generated by the leak current causes the deterioration of the organic EL material around it.
From such a background, it is considered that suppression of a leak current is indispensable as one technique for increasing the luminance of an organic EL element using graphene.
An object of the present invention is based on such knowledge, and it is an object of the present invention to reduce leakage current and realize high luminance in an organic EL device using a graphene film as a transparent conductive film.

リーク電流の原因の一つは、グラフェン膜にドーピングする化学材料の凝集によるものと推測される。すなわち、グラフェンを用いた有機EL素子における高輝度化や低電圧駆動化において、グラフェンの仕事関数の増大化及び低抵抗化のために、これまで主に化学ドーピング材料が用いられてきた。しかしながら、化学ドーピング材料は大気安定性があまり良くなく、また材料によってはドーピング材料が凝集して粒子となり、それがリーク電流のもとになる可能性がある。凝集体の厚みが、EL材料や導電性ポリマー分子の厚み以上である場合、その凝集体が陽極と陰極とを電気的にショートさせてしまいリークしてしまう。   One of the causes of the leak current is presumed to be the aggregation of the chemical material that is doped into the graphene film. In other words, in organic EL devices using graphene, chemical doping materials have been mainly used so far in order to increase the work function and lower the resistance of graphene in driving high luminance and low voltage driving. However, chemical doping materials have poor atmospheric stability and, depending on the material, the doping material may aggregate into particles, which can be a source of leakage current. If the thickness of the aggregate is equal to or greater than the thickness of the EL material or the conductive polymer molecule, the aggregate causes an electrical short between the anode and the cathode, resulting in leakage.

そのため、本発明者らは、化学ドーピング材料なしで有機EL素子の高輝度化や低電圧駆動化を求めてきたが(特願2014−188104参照)、更に検討した結果、リーク電流の原因のもう一つは、透明基板自体の平坦性があまり高くないことがあげられることが判明した。
そして、本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、透明樹脂基板に、平坦性の高いポリエチレンナフタレート(PEN)基板を用いることで、有機EL素子のリーク電流を減少させ、また高輝度化を実現できるという知見を得た。
For this reason, the present inventors have sought to increase the luminance and lower the voltage of the organic EL element without using a chemical doping material (see Japanese Patent Application No. 2014-188104). One is that the flatness of the transparent substrate itself is not so high.
The present inventors have conducted intensive studies to achieve the above object, and as a result, by using a highly flat polyethylene naphthalate (PEN) substrate for the transparent resin substrate, the leakage current of the organic EL element was reduced. And found that high brightness can be realized.

本発明はこれらの知見に基づいて完成に至ったものであり、本発明によれば、以下の発明が提供される。
[1]ポリエチレンナフタレートからなる表面粗さ(Ra)が2nm以下である透明樹脂基板上に、2層のグラフェン膜、ホール注入層、有機EL層、及び陰極を積層する有機EL素子の製造方法において、前記2層のグラフェン膜を、水素ガスを主成分とするガスを用いるプラズマCVD法により触媒能のある金属上に形成した後、前記透明樹脂基板上に転写して形成することを特徴とする有機EL素子の製造方法。
The present invention has been completed based on these findings, and according to the present invention, the following inventions are provided.
[1] A method for manufacturing an organic EL device in which two graphene films, a hole injection layer, an organic EL layer, and a cathode are stacked on a transparent resin substrate made of polyethylene naphthalate and having a surface roughness (Ra) of 2 nm or less. Wherein the two-layer graphene film is formed on a metal having catalytic activity by a plasma CVD method using a gas containing hydrogen gas as a main component, and then transferred to the transparent resin substrate. Of manufacturing an organic EL device.

本発明によれば、用いるPEN基板の平坦性が非常に高いことから、有機EL素子を構成する各層は均一に厚みを保つことができており、リーク電流が低減でき、その結果、機発光EL素子において輝度が高くなるという効果が得られる。また、用いるPEN基板の耐熱性が高いことから(〜150℃)、素子作製プロセスを経てもPEN基板の表面構造はほとんど変わらないという効果が得られる。   According to the present invention, since the flatness of the PEN substrate used is very high, each layer constituting the organic EL element can be kept uniform in thickness, the leak current can be reduced, and as a result, the electroluminescence EL The effect of increasing the luminance in the element is obtained. In addition, since the heat resistance of the PEN substrate used is high (up to 150 ° C.), an effect is obtained that the surface structure of the PEN substrate hardly changes even after the device fabrication process.

本発明で作製した有機発光素子の構造を模式的に示す断面図。FIG. 2 is a cross-sectional view schematically illustrating the structure of an organic light-emitting device manufactured according to the present invention. 合成したグラフェン膜の典型的なラマンスペクトルを示す図。FIG. 4 is a diagram illustrating a typical Raman spectrum of a synthesized graphene film. グラフェン膜を透明基板へ転写する方法を模式的に示す図。The figure which shows typically the method of transferring a graphene film to a transparent substrate. 輝度−電圧測定結果を示す図であり、(a)はPEN基板、(b)はPET基板である。It is a figure which shows a luminance-voltage measurement result, (a) is a PEN substrate and (b) is a PET substrate. 輝度―電圧測定結果のLOGプロット図であり、(a)はPEN基板、(b)はPET基板である。It is a LOG plot of a luminance-voltage measurement result, (a) is a PEN substrate, (b) is a PET substrate. 電流―電圧測定結果を示す図であり、(a)はPEN基板、(b)はPET基板である。It is a figure which shows a current-voltage measurement result, (a) is a PEN board and (b) is a PET board. CCDカメラを用いたデバイス発光観察写真であり、(a)はPEN基板、(b)はPET基板である。It is a device light emission observation photograph using a CCD camera, (a) is a PEN substrate, (b) is a PET substrate. AFMを用いた透明基板の平坦性評価を示す図であり、(a)はPEN基板(ハードコート有り)、(b)はPEN基板(ハードコート無し)、(c)はPET基板、(d)は石英基板である。It is a figure which shows the flatness evaluation of the transparent substrate using AFM, (a) is a PEN substrate (with a hard coat), (b) is a PEN substrate (without a hard coat), (c) is a PET substrate, (d) Is a quartz substrate.

本発明の有機発光素子は、透明樹脂基板と、該透明樹脂基板上にグラフェン膜からなる陽極と、ホール注入層、有機発光層、および陰極をこの順に積層してなる有機発光素子において、前記透明樹脂基板に、平坦性の高いポリエチレンテレフタレートを用いたことを特徴とする。
該透明樹脂基板の表面粗さは、3nm以下であり、好ましくは、2nm以下である。
The organic light emitting device of the present invention is an organic light emitting device in which a transparent resin substrate, an anode made of a graphene film on the transparent resin substrate, a hole injection layer, an organic light emitting layer, and a cathode are laminated in this order. A highly flat polyethylene terephthalate is used for the resin substrate.
The surface roughness of the transparent resin substrate is 3 nm or less, preferably 2 nm or less.

図1に、本発明の有機発光素子の断面図を示す。
図1に示すように、本発明の有機発光素子は、下から順番に透明樹脂基板(101)、グラフェン膜(陽極)(102)、ホール注入層(103)、有機発光材料(104)、陰極(105)で構成されている。陽極(102)と陰極(105)の間に電圧を印加することで、陽極からはホールを、陰極からは電子を有機EL材料に注入して発光させる。
FIG. 1 shows a cross-sectional view of the organic light emitting device of the present invention.
As shown in FIG. 1, the organic light-emitting device of the present invention comprises, in order from the bottom, a transparent resin substrate (101), a graphene film (anode) (102), a hole injection layer (103), an organic light-emitting material (104), and a cathode. (105). By applying a voltage between the anode (102) and the cathode (105), holes are injected from the anode and electrons are injected into the organic EL material from the cathode to emit light.

以下、本発明におけるグラフェン膜の作製について記載する。
本発明におけるグラフェン膜の製造方法は特に限定されないが、グラフェン膜の層数を制御して1〜数層のグラフェン膜の形成が可能な方法として、以下の、水素ガスを主成分とするガスを用いたプラズマCVD法による方法が好ましく用いられる(前記特許文献1参照)。
すなわち、基板加熱を施しながら、プラズマにより生成された荷電粒子や電子のエネルギーにより基板中の炭素成分を活性化するとともに、基板に含まれた炭素源を用いてグラフェンを生成する。炭素源としては、炭素が溶けにくい金属である、銅、イリジウム又は白金、あるいはこれらの金属のいずれかとの炭素アロイのいずれかからなる金属製基材に含まれている炭素成分と、反応容器内に付着した微量の炭素成分及び/またはプラズマ処理に用いるガス中に含まれる微量の炭素成分とを用いるものである。この手法によれば、従来の熱CVD法や樹脂炭化法と比較して、より短時間でグラフェン形成が可能である。金属製基板の炭素含有量は4〜10000ppm以下であることが望ましい、また基板の表面粗さRaは200〜0.095nmであることが望ましい。更には、基材加熱条件としては、基板温度を850℃以下とすることが望ましい。
Hereinafter, preparation of a graphene film in the present invention will be described.
The method for producing a graphene film in the present invention is not particularly limited. However, as a method capable of forming one to several layers of graphene films by controlling the number of graphene films, the following gas containing hydrogen gas as a main component is used. The method by the used plasma CVD method is preferably used (see Patent Document 1).
That is, while heating the substrate, the carbon component in the substrate is activated by the energy of charged particles and electrons generated by the plasma, and graphene is generated using the carbon source contained in the substrate. As the carbon source, a carbon component contained in a metal base material made of any of carbon, hardly soluble metal, copper, iridium or platinum, or a carbon alloy with any of these metals, And / or a trace amount of carbon component contained in a gas used for plasma treatment. According to this method, graphene can be formed in a shorter time as compared with the conventional thermal CVD method or resin carbonization method. The metal content of the metal substrate is desirably 4 to 10,000 ppm or less, and the surface roughness Ra of the substrate is desirably 200 to 0.095 nm. Further, as the substrate heating condition, it is desirable that the substrate temperature be 850 ° C. or less.

一例として、後述する実施例において得られたグラフェン膜のラマンスペクトルを図2に示す。なお、レーザー波長は638nmを使用した。
図2では、Dバンド(〜1350cm−1)の強度(I)がGバンド(〜1585cm−1)の強度(I)と比較して小さく(I<I)、また強い2Dピークが出ていることが特徴である。Dバンドの強度(I とGバンドの強度( の強度比が1より小さく、2Dピークの強度(I 2D )とGバンドの強度(I )強度比が、約1である。
As an example, FIG. 2 shows a Raman spectrum of a graphene film obtained in an example described later. The laser wavelength used was 638 nm.
In Figure 2, a small D intensity of the bands (~1350cm -1) (I D) is compared to the intensity (I G) of G-band (~1585cm -1) (I D < I G), also strong 2D peak Is characterized by the appearance. D intensity ratio of the intensity of the band intensity (I D) and G band (I G) is rather smaller than 1, the intensity of the 2D peak (I 2D) and the intensity of G-band (I G) intensity ratio, of about 1 is there.

Dバンドの起源であるが、格子欠陥の数やドメインサイズ、グラフェンのエッジを反映していると考えられている。特にID/IGはグラフェンのドメインサイズを見積もるときに使われている。ドメインサイズを見積もる計算式はLa(nm)=(2.4×10-10)λ4(ID/IG-1で与えられており、λはラマンのレーザー波長である(APL 88,163106(2006))。ID/IG=1の場合、ドメインサイズは約40nmとなる。これらの見積もりから、作製したグラフェン膜は平均ドメインサイズ40nm以上のフレークが集まった膜とも言い換えることが可能である。 It is thought that the origin of the D band reflects the number of lattice defects, the domain size, and the edge of graphene. In particular, I D / I G is used to estimate the domain size of graphene. The calculation formula for estimating the domain size is given by La (nm) = (2.4 × 10 −10 ) λ 4 ( ID / IG ) −1 , where λ is the Raman laser wavelength (APL 88, 163106 (2006)). When I D / I G = 1, the domain size is about 40 nm. From these estimates, the produced graphene film can be rephrased as a film in which flakes having an average domain size of 40 nm or more are collected.

本発明において、PEN基板を用いることで有機EL素子の高輝度化が可能な原因として、まずPEN基板の平坦性が非常に高いことが挙げられる。透明基板の平坦性があまり良くない場合、PEDOT:PSSやEL層の厚みにむらが生じてしまい、層の厚みが薄いところからリーク電流が発生しやすくなる可能性がある。また、デバイスの高輝度化の要因として、PENの熱収縮率が小さいことも上げられる。デバイスプロセス中にかかる熱によって基板が収縮する割合が小さく、基板収縮によるグラフェンの割れ(クラック)を減少させることができると推測される。   In the present invention, the reason why the organic EL element can have high luminance by using the PEN substrate is that the flatness of the PEN substrate is very high. If the flatness of the transparent substrate is not very good, the thickness of the PEDOT: PSS or the EL layer becomes uneven, and there is a possibility that a leak current is likely to be generated from a thin layer. In addition, as a factor for increasing the luminance of the device, the heat shrinkage of PEN is small. It is presumed that the rate at which the substrate shrinks due to the heat applied during the device process is small, and it is possible to reduce graphene cracks (cracks) due to the shrinkage of the substrate.

以下、本発明を実施例に基づいて説明するが、本発明はこの実施例に限定されるものではない。
(グラフェン膜の製造)
具体的には以下の通りである。まず触媒金属として厚み18μm程度の銅箔を準備し、表面波プラズマCVDチャンバー中にセットした。通電加熱により銅箔の温度を上げた状態でプラズマを120秒間照射した。なお、ガスは水素(500sccm)とメタン(5sccm)を使用し、合成温度は約900℃で合成を行った。
図2に、得られた高品質グラフェン膜のラマンスペクトルを示す。
Hereinafter, the present invention will be described based on examples, but the present invention is not limited to these examples.
(Manufacture of graphene film)
Specifically, it is as follows. First, a copper foil having a thickness of about 18 μm was prepared as a catalyst metal and set in a surface wave plasma CVD chamber. Plasma was irradiated for 120 seconds while the temperature of the copper foil was raised by energizing heating. The gas was hydrogen (500 sccm) and methane (5 sccm), and the synthesis was performed at a synthesis temperature of about 900 ° C.
FIG. 2 shows a Raman spectrum of the obtained high-quality graphene film.

(PEN基板を用いた有機発光素子の製造)
本実施例では、透明樹脂基板として、2種類の40mm×40mmのPENフィルム(デュポンフィルム株式会社製、テオネックス(登録商標))を用いた。1つは、ハードコート付きPENフィルム(PQDA5)であり、もう1つは、ハードコート無しPENフィルム(Q65F)である。
それぞれの基板上に、前記のグラフェン膜を以下のようにして、剥離・転写した。
図3は、グラフェン膜を銅箔から剥離させ、透明基板に転写する方法を模式的に示す図である。
まず銅箔(106)上に形成したグラフェン膜(102)を日東電工社製の熱剥離シート(リバアルファー)(107)に貼りあわせた。その後、過硫酸アンモニウム(0.5mol/l)を用いて銅箔をエッチングし、流水により基板を洗浄する。
(Manufacture of organic light-emitting device using PEN substrate)
In this example, two types of 40 mm × 40 mm PEN films (Teonex (registered trademark) manufactured by DuPont Film Co., Ltd.) were used as transparent resin substrates. One is a PEN film with a hard coat (PQDA5), and the other is a PEN film without a hard coat (Q65F).
The graphene film was peeled and transferred on each substrate as follows.
FIG. 3 is a diagram schematically showing a method of peeling a graphene film from a copper foil and transferring the graphene film to a transparent substrate.
First, the graphene film (102) formed on the copper foil (106) was bonded to a heat release sheet (Riba Alpha) (107) manufactured by Nitto Denko Corporation. Thereafter, the copper foil is etched using ammonium persulfate (0.5 mol / l), and the substrate is washed with running water.

銅箔をエッチングした熱剥離シート/グラフェン膜を透明基板(101)に貼り付けた後、熱剥離シートを加熱することで剥離して、透明基板上にグラフェン膜を形成した。最後に、熱剥離シートをホットプレートで加熱することで除去し、透明基板上にグラフェン膜が積層した透明導電膜を作製した。   After attaching the heat-peelable sheet / graphene film obtained by etching the copper foil to the transparent substrate (101), the heat-peelable sheet was peeled off by heating to form a graphene film on the transparent substrate. Finally, the heat release sheet was removed by heating with a hot plate, and a transparent conductive film in which a graphene film was stacked on a transparent substrate was produced.

(透明導電膜のシート抵抗の測定)
得られたグラフェン付きPENのシート抵抗に対して4端子測定を行った。シート抵抗の平均値はハードコート有り、ハードコート無しのPEN基板において、それぞれ約810Ω、830Ωであった。
(Measurement of sheet resistance of transparent conductive film)
Four-terminal measurement was performed on the sheet resistance of the obtained PEN with graphene. The average value of the sheet resistance was about 810Ω and 830Ω for the PEN substrate with and without the hard coat, respectively.

ホール注入層(PEDOT:PSS)の濡れ性を向上させるために、グラフェン膜に対してUVオゾン処理を行った。装置にはFilgen社製のものを用いた。照射時間は20分とした。なお、別実験において、UVオゾンを20分照射した前後でシート抵抗の変化を評価したが、シート抵抗にほとんど変化はなかったことを確認している。   In order to improve the wettability of the hole injection layer (PEDOT: PSS), the graphene film was subjected to UV ozone treatment. An apparatus manufactured by Filgen was used. The irradiation time was 20 minutes. In another experiment, changes in sheet resistance before and after irradiation with UV ozone for 20 minutes were evaluated, and it was confirmed that there was almost no change in sheet resistance.

前記の処理を行った後、有機EL素子に関する材料を積層していった。まず、ホール注入層をスピンコートにより塗布し、プリベークにより固めた。本実施例では、ホール注入層にPEDOT:PSSを使用した。次に、有機EL材料を塗布、スピンコートし、プリベークを行った。使用した有機EL材料はMERCK社製のSUPER YELLOWを使用しており、溶媒はトルエンを用いた。最後の層である陰極は、LiF/Al電極を真空蒸着装置により蒸着した。   After performing the above-described processing, materials related to the organic EL element were laminated. First, a hole injection layer was applied by spin coating and hardened by pre-baking. In this example, PEDOT: PSS was used for the hole injection layer. Next, an organic EL material was applied, spin-coated, and prebaked. The organic EL material used was SUPER YELLOW manufactured by MERCK, and toluene was used as the solvent. For the cathode as the last layer, a LiF / Al electrode was deposited by a vacuum deposition apparatus.

有機EL材料が可能な限り劣化しないように、封止作業を行った。具体的には、まずSAES Getters社製の乾燥剤(DryPaste)を陰極上にのせる。その後、湿気が回りから入らないように、テフロン(登録商標)テープでデバイス上を覆った。   A sealing operation was performed so that the organic EL material did not deteriorate as much as possible. Specifically, first, a desiccant (DryPaste) manufactured by SAES Getters is placed on the cathode. Thereafter, the device was covered with Teflon (registered trademark) tape so that moisture did not enter from around.

(電流―電圧測定及び輝度の測定)
電流―電圧測定にはケースレー社製のソースメータ(2400)を、また輝度測定はTOPCON社製の輝度計(BM9)を用いた。
(Current-voltage measurement and luminance measurement)
A source meter (2400) manufactured by Keithley KK was used for the current-voltage measurement, and a luminance meter (BM9) manufactured by TOPCON was used for the luminance measurement.

輝度−電圧測定結果を図4(a)に示す。なお、ここでは4つのデバイスの測定結果を示している。電圧を12V印加した場合、輝度は2240〜6400cd/m2を示した。なお、平均値は4340cd/m2であった。なお、2種類のPEN基板のうち、ハードコート無しのPEN基板の方が輝度は高くなっている傾向も見つかった。 FIG. 4A shows the luminance-voltage measurement results. Here, the measurement results of four devices are shown. When a voltage of 12 V was applied, the luminance showed 2240 to 6400 cd / m 2 . The average value was 4340 cd / m 2 . In addition, among the two types of PEN substrates, it was found that the brightness of the PEN substrate without the hard coat was higher than that of the PEN substrate.

輝度-電圧測定から閾値電圧を調べるために、図4(a)の縦軸をLOGプロットしたものを図5(a)に示す。なお、閾値電圧は、1cd/m2を超えた電圧を定義する。PEN基板を用いたデバイスの閾値は2.4Vから2.7Vであった。 FIG. 5A is a LOG plot of the vertical axis of FIG. 4A to check the threshold voltage from the luminance-voltage measurement. Note that the threshold voltage is defined as a voltage exceeding 1 cd / m 2 . The threshold value of the device using the PEN substrate was from 2.4 V to 2.7 V.

上記輝度測定と同時に測定した電流―電圧測定結果を図6(a)に示す。おおよそ2Vから3Vで0.1mA以上の電流が流れ始めていることが確認できる。また、12V印加時には10mA〜17mAの電流が流れている。   FIG. 6A shows the current-voltage measurement results measured simultaneously with the luminance measurement. It can be confirmed that a current of 0.1 mA or more starts flowing at approximately 2 V to 3 V. When 12 V is applied, a current of 10 mA to 17 mA flows.

発光中の様子をCCDカメラにて撮影したデバイス素子の典型的な一例を図7に示す。面一様に発光している様子が確認できた。   FIG. 7 shows a typical example of a device element in which light emission is photographed by a CCD camera. It was confirmed that light was emitted uniformly on the surface.

(比較例)
PEN基板を用いた有機EL素子の有用性を確かめる比較対象として、PET基板を用いた有機EL素子を作製した。
有機EL素子の作製手順や評価は、実施例1とほぼ同一である。異なるのは、有機EL素子として使用した透明基板の材料が異なる点である。なお、シート抵抗は約500Ωであり、PEN基板の場合と比較して低い値を示している。
(Comparative example)
An organic EL device using a PET substrate was manufactured as a comparative object for confirming the usefulness of the organic EL device using a PEN substrate.
The manufacturing procedure and evaluation of the organic EL element are almost the same as those in Example 1. The difference is that the material of the transparent substrate used as the organic EL element is different. Note that the sheet resistance is about 500Ω, which is lower than that of the PEN substrate.

輝度−電圧測定結果を図4(b)に示す。なお、ここでは6つのデバイスの測定結果を示す。電圧を12V印加した場合、輝度は322〜1620cd/m2を示した。なお、平均値は740cd/m2であった。 FIG. 4B shows the luminance-voltage measurement results. Here, the measurement results of six devices are shown. When a voltage of 12 V was applied, the luminance showed 322 to 1620 cd / m 2 . The average value was 740 cd / m 2 .

輝度−電圧測定から閾値電圧を調べるために、図4(b)の縦軸をLOGプロットしたものを図5(b)に示す。PET基板を用いたデバイスの閾値は2.7Vから4.2Vであった。これらの結果から、PENとPETを比較すると、PEN基板の方が、閾値電圧が低い傾向にあることが分かった。   FIG. 5B is a LOG plot of the vertical axis of FIG. 4B for checking the threshold voltage from the luminance-voltage measurement. The threshold value of the device using the PET substrate was 2.7V to 4.2V. From these results, when PEN and PET were compared, it was found that the threshold voltage of the PEN substrate tended to be lower.

上記輝度測定と同時に測定した電流―電圧測定結果を図6(b)に示す。1V印加時ですでに0.1mA以上の電流が流れ始めているデバイスが多いことが確認できる。また、12V印加時には28mA〜38mAの電流が流れている。これらの結果から、PEN基板はPET基板と比較してリーク電流が少なく、また全体に流れる電流も小さいことが分かった。   FIG. 6B shows the current-voltage measurement results measured simultaneously with the luminance measurement. It can be confirmed that there are many devices in which a current of 0.1 mA or more has already started flowing when 1 V is applied. When 12 V is applied, a current of 28 mA to 38 mA flows. From these results, it was found that the PEN substrate had a smaller leak current and a smaller current flowing as a whole than the PET substrate.

発光中の様子をCCDカメラにて撮影したデバイス素子の典型的な一例を図7(b)に示す。発光していない領域(黒粒子)が存在した。
この結果と、上記実施例の結果から、PEN基板を用いることで、有機EL素子の輝度を数倍増大させられる可能性を示した。
FIG. 7B shows a typical example of a device element in which light emission is photographed by a CCD camera. There was a non-light emitting region (black particles).
From these results and the results of the above examples, it was shown that the brightness of the organic EL element could be increased several times by using the PEN substrate.

(平坦性の測定)
2種類のPEN基板とPET基板とで基板の平坦性を比較した。なお、リファレンスとして石英基板を用意した。平坦性の測定には、原子間力顕微鏡(AFM)を用い、5μm角のスキャン領域で得られた算術平均値(Ra)で表した。測定した結果を図7に示す。
ハードコート有りのPEN基板、ハードコート無しのPEN基板、PET基板、石英基板の平坦性を表す指標(Ra)は、それぞれ、0.76、1.46、5.67、0.23nmであった。
これらの結果から、PEN基板はPET基板より平坦性が高いことが明らかになった。
(Measurement of flatness)
The flatness of the substrate was compared between the two types of PEN substrate and PET substrate. Note that a quartz substrate was prepared as a reference. The flatness was measured using an atomic force microscope (AFM) and represented by an arithmetic average value (Ra) obtained in a scan area of 5 μm square. FIG. 7 shows the measured results.
The indexes (Ra) representing the flatness of the PEN substrate with hard coat, the PEN substrate without hard coat, the PET substrate, and the quartz substrate were 0.76, 1.46, 5.67, and 0.23 nm, respectively. .
These results revealed that the PEN substrate had higher flatness than the PET substrate.

本発明によれば、透明樹脂基板として、平坦性の高いPEN基板を使うことでリーク電流を抑制し、高輝度化を実現できる。   According to the present invention, by using a highly flat PEN substrate as the transparent resin substrate, it is possible to suppress a leak current and realize high luminance.

101:透明樹脂基板
102:グラフェン膜(陽極)
103:ホール注入層
104:有機発光材料
105:陰極
106:銅箔
107:熱剥離シート
101: transparent resin substrate 102: graphene film (anode)
103: hole injection layer 104: organic light emitting material 105: cathode 106: copper foil 107: heat release sheet

Claims (1)

ポリエチレンナフタレートからなる表面粗さ(Ra)が2nm以下である透明樹脂基板上に、2層のグラフェン膜、ホール注入層、有機EL層、及び陰極を積層する有機EL素子の製造方法において、前記2層のグラフェン膜を、水素ガスを主成分とするガスを用いるプラズマCVD法により触媒能のある金属上に形成した後、前記透明樹脂基板上に転写して形成することを特徴とする有機EL素子の製造方法。 In the method for manufacturing an organic EL device, two graphene films, a hole injection layer, an organic EL layer, and a cathode are stacked on a transparent resin substrate made of polyethylene naphthalate and having a surface roughness (Ra) of 2 nm or less. An organic EL device comprising: forming a two-layer graphene film on a metal having catalytic activity by a plasma CVD method using a gas containing hydrogen gas as a main component ; and transferring the formed graphene film onto the transparent resin substrate. Device manufacturing method.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP6725122B2 (en) * 2017-06-07 2020-07-15 国立研究開発法人産業技術総合研究所 Method for improving conductivity of graphene sheet and electrode structure using graphene sheet with improved conductivity

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5790651B2 (en) * 2010-06-29 2015-10-07 コニカミノルタ株式会社 Transparent conductor, organic EL element, and organic photoelectric conversion element
JP5627390B2 (en) * 2010-10-22 2014-11-19 株式会社東芝 Photoelectric conversion element and manufacturing method thereof
JP5883571B2 (en) * 2011-03-31 2016-03-15 三井金属鉱業株式会社 Electrode foil and organic device
KR101993382B1 (en) * 2011-05-06 2019-06-27 삼성전자주식회사 Graphene on substrate and process for preparing the same
KR101237351B1 (en) * 2011-05-27 2013-03-04 포항공과대학교 산학협력단 Electrode and electronic device comprising the same
JP2013016293A (en) * 2011-07-01 2013-01-24 Konica Minolta Holdings Inc Transparent conductive film and manufacturing method therefor, organic electronic element, organic light-emitting element, and organic power generation element
KR101802946B1 (en) * 2011-07-29 2017-11-30 삼성전자주식회사 Process for formation of metal oxide film on graphene
KR101221581B1 (en) * 2011-10-20 2013-01-14 한국기계연구원 Fabrication method of flexible transparent electrode substrate with graphene, and the flexible transparent electrode substrate substrate thereby
JP2013242988A (en) * 2012-05-18 2013-12-05 Konica Minolta Inc Organic electroluminescent light emitter
JP6147542B2 (en) * 2013-04-01 2017-06-14 株式会社東芝 Transparent conductive film and electric element
JP2015013797A (en) * 2013-06-07 2015-01-22 独立行政法人産業技術総合研究所 Manufacturing method of graphene transparent conductive film and graphene transparent conductive film manufactured therewith
CN104091892B (en) * 2014-06-13 2016-10-05 中国科学院重庆绿色智能技术研究院 A kind of photoconductive organic semiconductor device based on Graphene electrodes

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