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JP6649259B2 - Composition of resin-linear organosiloxane block copolymer - Google Patents

Composition of resin-linear organosiloxane block copolymer Download PDF

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JP6649259B2 JP2016543988A JP2016543988A JP6649259B2 JP 6649259 B2 JP6649259 B2 JP 6649259B2 JP 2016543988 A JP2016543988 A JP 2016543988A JP 2016543988 A JP2016543988 A JP 2016543988A JP 6649259 B2 JP6649259 B2 JP 6649259B2
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Description

関連出願の相互参照Cross-reference of related applications

本出願は、2013年9月18日に出願された、米国特許仮出願第61/879,447号の利点を主張するものであり、これは、全体が本明細書に記載されているかのように、参照することにより組み込まれる。   This application claims the benefit of US Provisional Patent Application No. 61 / 879,447, filed September 18, 2013, as if fully set forth herein. Incorporated by reference.

多数の電子デバイスが、環境因子から電子部品を保護するために封入材コーティングを使用している。これらの保護コーティングは、強靭で耐久性があり、長持ちし、適用が容易であり、且つ不要な副生成物を生じることなく比較的短時間で硬化しなければならない。しかし、現在利用できるコーティングの多くは、強靭性に欠け、耐久性がなく、長持ちせず、適用が容易ではなく、特定の用途では、十分に短時間で硬化せず、場合によっては、硬化時に不要な副生成物を生じる。そのため、多くの新たな技術分野において、保護及び/又は機能性コーティングを特定することが引き続き必要とされている。   Many electronic devices use encapsulant coatings to protect electronic components from environmental factors. These protective coatings must be tough, durable, long lasting, easy to apply, and cure in a relatively short period of time without unwanted by-products. However, many of the currently available coatings lack toughness, are not durable, do not last long, are not easy to apply, and in certain applications do not cure quickly enough, and in some cases, This produces unwanted by-products. Therefore, there is a continuing need in many new technical fields to identify protective and / or functional coatings.

実施形態1は、オルガノシロキサンブロックコポリマーであって、
40〜90モルパーセントの式[R SiO2/2]のジシロキシ単位、
10〜60モルパーセントの式[RSiO3/2]のトリシロキシ単位、
0.5〜35モルパーセントのシラノール基[≡SiOH]を含み、
式中、
各Rは、それぞれ独立して、C〜C30ヒドロカルビル又は少なくとも1つの脂肪族不飽和結合を含むC〜C30ヒドロカルビル基であり、
各Rは、それぞれ独立して、C〜C30ヒドロカルビル又は少なくとも1つの脂肪族不飽和結合を含むC〜C30ヒドロカルビル基であり、
ここで、
上記ジシロキシ単位[R SiO2/2]は、直鎖状ブロック1つ当たり平均で50〜300個のジシロキシ単位[R SiO2/2]を有する直鎖状ブロックの中に配置され、
上記トリシロキシ単位[RSiO3/2]は、少なくとも500g/モルの分子量を有する非直鎖状ブロックの中に配置され、
この非直鎖状ブロックの少なくとも30%は、互いに架橋しており、
各直鎖状ブロックは、−Si−O−Si−結合を介して少なくとも1つの非直鎖状ブロックに連結されており、
上記オルガノシロキサンブロックコポリマーは、少なくとも20,000g/モルの重量平均分子量を有し、かつ、
上記オルガノシロキサンブロックコポリマーは、約0.5〜約5モル%の少なくとも1つの脂肪族不飽和結合を含むC〜C30ヒドロカルビル基を含む、オルガノシロキサンブロックコポリマーに関する。
Embodiment 1 is an organosiloxane block copolymer,
Disiloxy unit of the formula [R 1 2 SiO 2/2] of 40 to 90 mole percent,
Torishirokishi units of the formula [R 2 SiO 3/2] of 10 to 60 mole percent,
From 0.5 to 35 mole percent silanol groups [@SiOH];
Where:
Each R 1 is independently a C 1 -C 30 hydrocarbyl or a C 1 -C 30 hydrocarbyl group containing at least one aliphatic unsaturated bond;
Each R 2 is independently a C 1 -C 30 hydrocarbyl or a C 1 -C 30 hydrocarbyl group containing at least one aliphatic unsaturated bond;
here,
The disiloxy unit [R 1 2 SiO 2/2] are arranged in linear blocks having an average per linear block 50-300 amino disiloxy unit [R 1 2 SiO 2/2] ,
The trisiloxy units [R 2 SiO 3/2 ] are arranged in a non-linear block having a molecular weight of at least 500 g / mol;
At least 30% of the non-linear blocks are cross-linked to each other;
Each linear block is linked to at least one non-linear block via a -Si-O-Si- bond;
The organosiloxane block copolymer has a weight average molecular weight of at least 20,000 g / mol, and
Said organosiloxane block copolymer comprises C 1 -C 30 hydrocarbyl group containing at least one aliphatic unsaturation of from about 0.5 to about 5 mole%, relating to organosiloxane block copolymer.

実施形態2は、オルガノシロキサンブロックコポリマーが約40,000g/モル〜約250,000g/モルの重量平均分子量を有する、実施形態1のオルガノシロキサンブロックコポリマーに関する。   Embodiment 2 relates to the organosiloxane block copolymer of Embodiment 1, wherein the organosiloxane block copolymer has a weight average molecular weight of about 40,000 g / mol to about 250,000 g / mol.

実施形態3は、オルガノシロキサンブロックコポリマーが1〜35モルパーセントのシラノール基[≡SiOH]を含む、実施形態1〜2のオルガノシロキサンブロックコポリマーに関する。   Embodiment 3 relates to the organosiloxane block copolymer of Embodiments 1-2, wherein the organosiloxane block copolymer comprises 1-35 mole percent of silanol groups [@SiOH].

実施形態4は、オルガノシロキサンブロックコポリマーが30〜60モルパーセントの式[RSiO3/2]のトリシロキシ単位を含む、実施形態1〜3のオルガノシロキサンブロックコポリマーに関する。 Embodiment 4 is an organosiloxane block copolymer comprises Torishirokishi units of the formula [R 2 SiO 3/2] from 30 to 60 mole percent, about organosiloxane block copolymer embodiment 1-3.

実施形態5は、
A)樹脂直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマーであって、
40〜90モルパーセントの式[R SiO2/2]のジシロキシ単位、
10〜60モルパーセントの式[RSiO3/2]のトリシロキシ単位、
0.5〜35モルパーセントのシラノール基[≡SiOH]を含み、
式中、
各Rは、それぞれ独立して、脂肪族不飽和を含まないC〜C30ヒドロカルビルであり、
各Rは、それぞれ独立して、脂肪族不飽和を含まないC〜C30ヒドロカルビルであり、
ここで、
上記ジシロキシ単位[R SiO2/2]は、直鎖状ブロック1つ当たり平均で50〜300個のジシロキシ単位[R SiO2/2]を有する直鎖状ブロックの中に配置され、
トリシロキシ単位[RSiO3/2]は、少なくとも500g/モルの分子量を有する非直鎖状ブロックの中に配置され、この非直鎖状ブロックの少なくとも30%は互いに架橋しており、
各直鎖状ブロックは少なくとも1つの非直鎖状ブロックに連結されており、かつ、
上記オルガノシロキサンブロックコポリマーは、少なくとも20,000g/モルの重量平均分子量を有する、樹脂−直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマーと、
B)式R SiXの化合物であって、
式中、各Rは、それぞれ独立して、脂肪族不飽和を含まないC〜C30ヒドロカルビル又は少なくとも1つの脂肪族不飽和結合を含むC〜C30ヒドロカルビル基であり、
各Rは、それぞれ独立して、脂肪族不飽和を含まないC〜C30ヒドロカルビル又は少なくとも1つの脂肪族不飽和結合を含むC〜C30ヒドロカルビル基であり、
Xは、−OR、F、Cl、Br、I、−OC(O)R、−N(R、又は−ON=CR から選択される加水分解性基であって、式中、Rは、水素又は場合により置換されていてもよいC〜Cアルキル基である化合物と
の反応生成物を含む、組成物に関する。
Embodiment 5
A) A resin linear organosiloxane block copolymer,
Disiloxy unit of the formula [R 1 2 SiO 2/2] of 40 to 90 mole percent,
Torishirokishi units of the formula [R 2 SiO 3/2] of 10 to 60 mole percent,
From 0.5 to 35 mole percent silanol groups [@SiOH];
Where:
Each R 1 is independently C 1 -C 30 hydrocarbyl containing no aliphatic unsaturation;
Each R 2 is independently a C 1 -C 30 hydrocarbyl containing no aliphatic unsaturation;
here,
The disiloxy unit [R 1 2 SiO 2/2] are arranged in linear blocks having an average per linear block 50-300 amino disiloxy unit [R 1 2 SiO 2/2] ,
The trisiloxy units [R 2 SiO 3/2 ] are arranged in non-linear blocks having a molecular weight of at least 500 g / mol, at least 30% of the non-linear blocks being cross-linked to one another,
Each linear block is linked to at least one non-linear block, and
The organosiloxane block copolymer comprises a resin-linear organosiloxane block copolymer having a weight average molecular weight of at least 20,000 g / mol;
B) a compound of formula R 1 R 2 2 SiX,
Wherein each R 1 is independently a C 1 -C 30 hydrocarbyl containing no aliphatic unsaturation or a C 1 -C 30 hydrocarbyl group containing at least one aliphatic unsaturated bond;
Each R 2 is independently a C 1 -C 30 hydrocarbyl containing no aliphatic unsaturation or a C 1 -C 30 hydrocarbyl group containing at least one aliphatic unsaturated bond;
X is a -OR 4, F, Cl, Br , I, -OC (O) R 4, -N (R 4) 2, or a hydrolyzable group selected from -ON = CR 4 2, Wherein R 4 is hydrogen or an optionally substituted C 1 -C 6 alkyl group.

実施形態6は、樹脂直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマーが約40,000g/モル〜約250,000g/モルの重量平均分子量を有する、実施形態5の組成物に関する。   Embodiment 6 relates to the composition of Embodiment 5, wherein the resinous linear organosiloxane block copolymer has a weight average molecular weight of about 40,000 g / mol to about 250,000 g / mol.

実施形態7は、オルガノシロキサンブロックコポリマーが1〜35モルパーセントのシラノール基[≡SiOH]を含む、実施形態5〜6のオルガノシロキサンブロックコポリマーに関する。   Embodiment 7 relates to the organosiloxane block copolymers of Embodiments 5-6, wherein the organosiloxane block copolymer comprises 1-35 mole percent of silanol groups [@SiOH].

実施形態8は、オルガノシロキサンブロックコポリマーが30〜60モルパーセントの式[RSiO3/2]のトリシロキシ単位を含む、実施形態5〜7のオルガノシロキサンブロックコポリマーに関する。 Embodiment 8, the organosiloxane block copolymer comprises Torishirokishi units of the formula [R 2 SiO 3/2] from 30 to 60 mole percent, about organosiloxane block copolymer embodiment 5-7.

実施形態9は、
A)式:
3−p(E)SiO(R SiO2/2Si(E) 3−pを有する直鎖状オルガノシロキサンあって、
式中、各Rは、それぞれ独立して、脂肪族不飽和を含まないC〜C30ヒドロカルビルであり、
nは50〜300であり、
Eは、−OR、F、Cl、Br、I、−OC(O)R、−N(R、又は−ON=CR から選択される加水分解性基であって、式中、Rは、水素又はC〜Cアルキル基であり、
各pは、独立して、1、2又は3である、直鎖状オルガノシロキサンと、
B)単位式:
[R SiO1/2[RSiO2/2[RSiO3/2[RSiO3/2[SiO4/2、を含むオルガノシロキサン樹脂であって、
式中、
各Rは、それぞれ独立して、脂肪族不飽和を含まないC〜C30ヒドロカルビル又は少なくとも1つの脂肪族不飽和結合を含むC〜C30ヒドロカルビル基であり、
各Rは、それぞれ独立して、脂肪族不飽和を含まないC〜C30ヒドロカルビル又は少なくとも1つの脂肪族不飽和結合を含むC〜C30ヒドロカルビル基であり、
上記オルガノシロキサン樹脂は0〜35モル%のシラノール基[≡SiOH]を含み、
下付き文字a、b、c、d、及びeは、上記オルガノシロキサン樹脂中に存在する各シロキシ単位のモル分率を表し、その範囲は、
aは、約0〜約0.6であり、
bは、約0〜約0.6であり、
cは、約0〜約1であり、
dは、約0〜約1であり、
eは、約0〜約0.6であり、
但し、b+c+d+e>0及びa+b+c+d+e≦1である、オルガノシロキサン樹脂と
の反応生成物を含む組成物に関する。
Embodiment 9
A) Formula:
There linear organosiloxanes having R 1 3-p (E) p SiO (R 1 2 SiO 2/2) n Si (E) p R 1 3-p,
Wherein each R 1 is independently C 1 -C 30 hydrocarbyl containing no aliphatic unsaturation;
n is 50 to 300,
E is a -OR 4, F, Cl, Br , I, -OC (O) R 4, -N (R 4) 2, or a hydrolyzable group selected from -ON = CR 4 2, Wherein R 4 is hydrogen or a C 1 -C 6 alkyl group;
Each p is independently 1, 2, or 3, a linear organosiloxane;
B) Unit formula:
[R 1 2 R 2 SiO 1/2 ] a [R 1 R 2 SiO 2/2] b [R 1 SiO 3/2] c [R 2 SiO 3/2] d [SiO 4/2] e, the An organosiloxane resin comprising:
Where:
Each R 1 is independently a C 1 -C 30 hydrocarbyl containing no aliphatic unsaturation or a C 1 -C 30 hydrocarbyl group containing at least one aliphatic unsaturated bond;
Each R 2 is independently a C 1 -C 30 hydrocarbyl containing no aliphatic unsaturation or a C 1 -C 30 hydrocarbyl group containing at least one aliphatic unsaturated bond;
The organosiloxane resin contains 0 to 35 mol% of a silanol group [@SiOH];
Subscripts a, b, c, d, and e represent the mole fraction of each siloxy unit present in the organosiloxane resin, and the range is
a is from about 0 to about 0.6;
b is from about 0 to about 0.6;
c is from about 0 to about 1,
d is about 0 to about 1,
e is from about 0 to about 0.6;
However, it relates to a composition containing a reaction product with an organosiloxane resin, wherein b + c + d + e> 0 and a + b + c + d + e ≦ 1.

実施形態10は、
A)式:
3−p(E)SiO(R SiO2/2Si(E) 3−pを有する直鎖状オルガノシロキサンあって、
式中、各Rは、それぞれ独立して、脂肪族不飽和を含まないC〜C30ヒドロカルビルであり、
nは50〜300であり、
Eは、−OR、F、Cl、Br、I、−OC(O)R、−N(R、又は−ON=CR から選択される加水分解性基であって、式中、Rは、水素又はC〜Cアルキル基であり、
各pは、独立して、1、2又は3である、直鎖状オルガノシロキサンと、
B)単位式:
[R SiO1/2[RSiO2/2[RSiO3/2[RSiO3/2[SiO4/2を含むオルガノシロキサン樹脂であって、
式中、
各Rは、それぞれ独立して、脂肪族不飽和を含まないC〜C30ヒドロカルビルであり、
各Rは、それぞれ独立して、脂肪族不飽和を含まないC〜C30ヒドロカルビルであり、
上記オルガノシロキサン樹脂は0〜35モル%のシラノール基[≡SiOH]を含み、
下付き文字a、b、c、d、及びeは、上記オルガノシロキサン樹脂中に存在する各シロキシ単位のモル分率を表し、その範囲は、
aは、約0〜約0.6であり、
bは、約0〜約0.6であり、
cは、約0〜約1であり、
dは、約0〜約1であり、
eは、約0〜約0.6であり、
但し、b+c+d+e>0及びa+b+c+d+e≦1である、オルガノシロキサン樹脂と、
C)式R SiX4−qの化合物であって、
式中、各Rは、それぞれ独立して、脂肪族不飽和を含まないC〜C30ヒドロカルビル又は少なくとも1つの脂肪族不飽和結合を含むC〜C30ヒドロカルビル基であり、
qは0、1、又は2であり、
各Xは、独立して、−OR、F、Cl、Br、I、−OC(O)R、−N(R、又は−ON=CR から選択される加水分解性基であって、式中、Rは、水素又は場合により置換されていてもよいC〜Cアルキル基である化合物と
の反応生成物を含む組成物に関する。
Embodiment 10
A) Formula:
There linear organosiloxanes having R 1 3-p (E) p SiO (R 1 2 SiO 2/2) n Si (E) p R 1 3-p,
Wherein each R 1 is independently C 1 -C 30 hydrocarbyl containing no aliphatic unsaturation;
n is 50 to 300,
E is a -OR 4, F, Cl, Br , I, -OC (O) R 4, -N (R 4) 2, or a hydrolyzable group selected from -ON = CR 4 2, Wherein R 4 is hydrogen or a C 1 -C 6 alkyl group;
Each p is independently 1, 2, or 3, a linear organosiloxane;
B) Unit formula:
Containing [R 1 2 R 2 SiO 1/2 ] a [R 1 R 2 SiO 2/2] b [R 1 SiO 3/2] c [R 2 SiO 3/2] d [SiO 4/2] e An organosiloxane resin,
Where:
Each R 1 is independently C 1 -C 30 hydrocarbyl containing no aliphatic unsaturation;
Each R 2 is independently a C 1 -C 30 hydrocarbyl containing no aliphatic unsaturation;
The organosiloxane resin contains 0 to 35 mol% of a silanol group [@SiOH];
Subscripts a, b, c, d, and e represent the mole fraction of each siloxy unit present in the organosiloxane resin, and the range is
a is from about 0 to about 0.6;
b is from about 0 to about 0.6;
c is from about 0 to about 1,
d is about 0 to about 1,
e is from about 0 to about 0.6;
Where b + c + d + e> 0 and a + b + c + d + e ≦ 1;
C) a compound of the formula R 1 q SiX 4-q ,
Wherein each R 1 is independently a C 1 -C 30 hydrocarbyl containing no aliphatic unsaturation or a C 1 -C 30 hydrocarbyl group containing at least one aliphatic unsaturated bond;
q is 0, 1, or 2,
Each X is independently, -OR 4, F, Cl, Br, I, -OC (O) R 4, -N (R 4) 2, or -ON = hydrolyzable selected from CR 4 2 Wherein R 4 is hydrogen or an optionally substituted C 1 -C 6 alkyl group.

実施形態11は、A)とB)を接触させる工程の生成物をC)と接触させる、実施形態10の組成物に関する。   Embodiment 11 relates to the composition of embodiment 10, wherein the product of the step of contacting A) and B) is contacted with C).

実施形態12は、上記の反応生成物が式R SiX4−qの化合物と接触され、式中、各Rは、独立してC〜Cヒドロカルビル又はC〜Cハロゲン置換ヒドロカルビルであり、各Xは、独立して−OR、F、Cl、Br、I、−OC(O)R、−N(R、又は−ON=CR から選択される加水分解性基であって、式中、Rは、水素又は場合により置換されていてもよいC〜Cアルキル基である、実施形態5〜11の組成物に関する。 Embodiment 12 is the reaction product of the above is contacted with a compound of the formula R 5 q SiX 4-q, wherein each R 5 is independently C 1 -C 8 hydrocarbyl or C 1 -C 8 halogen substituted hydrocarbyl, each X is independently selected -OR 4, F, Cl, Br , I, -OC (O) R 4, -N (R 4) 2, or from -ON = CR 4 2 Embodiment 5. A composition according to embodiments 5-11, wherein the composition is a hydrolysable group, wherein R 4 is hydrogen or an optionally substituted C 1 -C 6 alkyl group.

実施形態13は、上記の反応生成物がオルガノシロキサンブロックコポリマーであり、このオルガノシロキサンブロックコポリマーが、約0.5〜約5モル%の少なくとも1つの脂肪族不飽和結合を含むC〜C30ヒドロカルビル基を含む、実施形態5〜11の組成物に関する。 Embodiment 13 provides that the reaction product is an organosiloxane block copolymer, wherein the organosiloxane block copolymer has from about 0.5 to about 5 mol% of a C 1 -C 30 containing at least one aliphatic unsaturated bond. Embodiment 5. The composition of embodiments 5 to 11 comprising a hydrocarbyl group.

実施形態14は、Eがアセトキシであり、pが1である、実施形態9又は10の組成物に関する。   Embodiment 14 relates to the composition of embodiment 9 or 10, wherein E is acetoxy and p is 1.

実施形態15は、単位式:
[R SiO1/2[RSiO2/2[RSiO3/2[RSiO3/2[SiO4/2を有し、
0〜35モル%のシラノール基[≡SiOH]を含む化合物であって、
式中、
各Rは、それぞれ独立して、H又は脂肪族不飽和を含まないC〜C30ヒドロカルビルであり、
各Rは、それぞれ独立して、H又は脂肪族不飽和を含まないC〜C30ヒドロカルビルであり、
下付き文字a、b、c、d、及びeは、存在する各シロキシ単位のモル分率を表し、その範囲は、
aは、約0〜約0.6であり、
bは、約0〜約0.6であり、
cは、約0〜約1であり、
dは、約0〜約1であり、
eは、約0〜約0.6であり、
但し、
b+c+d+e>0及びa+b+c+d+e≦1であり、
及び/又はRの少なくとも1モル%はHである化合物を更に含む、実施形態5〜14の組成物に関する。
Embodiment 15 uses the unit formula:
[R 1 2 R 2 SiO 1/2 ] a [R 1 R 2 SiO 2/2] b [R 1 SiO 3/2] c [R 2 SiO 3/2] d have a [SiO 4/2] e And
A compound containing 0 to 35 mol% of silanol groups [≡SiOH],
Where:
Each R 1 is independently H or C 1 -C 30 hydrocarbyl containing no aliphatic unsaturation;
Each R 2 is independently H or C 1 -C 30 hydrocarbyl free of aliphatic unsaturation;
The subscripts a, b, c, d, and e represent the mole fraction of each siloxy unit present, and the range is:
a is from about 0 to about 0.6;
b is from about 0 to about 0.6;
c is from about 0 to about 1,
d is about 0 to about 1,
e is from about 0 to about 0.6;
However,
b + c + d + e> 0 and a + b + c + d + e ≦ 1;
Embodiment 5. The composition of embodiments 5-14, further comprising a compound wherein at least 1 mol% of R 1 and / or R 2 is H.

実施形態16は、ヒドロシリル化触媒を更に含む、実施形態5〜15の組成物に関する。   Embodiment 16 relates to the compositions of Embodiments 5 through 15, further comprising a hydrosilylation catalyst.

実施形態17は、ブロックコポリマーの一部ではない遊離樹脂を更に含む、実施形態5〜16の組成物に関する。   Embodiment 17 relates to the compositions of Embodiments 5-16, further comprising a free resin that is not part of the block copolymer.

実施形態18は、前記組成物が硬化性である、実施形態5〜10の組成物に関する。   Embodiment 18 relates to the compositions of Embodiments 5 through 10, wherein the composition is curable.

実施形態19は、上記の硬化性組成物が5℃/分の加熱速度において、約1〜約20Pa/分のPa/分単位の硬化速度を有する、実施形態18の硬化性組成物に関する。   Embodiment 19 relates to the curable composition of Embodiment 18, wherein the curable composition has a cure rate of about 1 to about 20 Pa / min Pa / min at a heating rate of 5 ° C./min.

実施形態20は、前記硬化性組成物が少なくとも2種類の硬化機構によって硬化可能である、実施形態18の硬化性組成物に関する。   Embodiment 20 relates to the curable composition of Embodiment 18, wherein the curable composition is curable by at least two types of curing mechanisms.

実施形態21は、上記の少なくとも2種類の硬化機構がヒドロシリル化硬化及び縮合硬化を含む、実施形態20の硬化性組成物に関する。   Embodiment 21 relates to the curable composition of Embodiment 20, wherein the at least two curing mechanisms include a hydrosilylation cure and a condensation cure.

実施形態22は、上記組成物が固体である、実施形態5〜10に記載の組成物に関する。   Embodiment 22 relates to the compositions of embodiments 5-10, wherein the composition is a solid.

実施形態23は、ブロックコポリマーの一部ではない遊離樹脂を更に含む、実施形態22の組成物に関する。   Embodiment 23 relates to the composition of Embodiment 22, further comprising a free resin that is not part of the block copolymer.

実施形態24は、上記組成物が固体フィルム組成物である、実施形態22に記載の組成物に関する。   Embodiment 24 relates to the composition of embodiment 22, wherein the composition is a solid film composition.

実施形態25は、上記固体フィルム組成物が0.5mm以上のフィルム厚において少なくとも95%の光透過率を有する、実施形態24の組成物に関する。   Embodiment 25 relates to the composition of Embodiment 24, wherein the solid film composition has a light transmittance of at least 95% at a film thickness of 0.5 mm or more.

実施形態26は、実施形態5〜10の組成物の硬化生成物に関する。   Embodiment 26 relates to the cured product of the composition of Embodiments 5-10.

実施形態27は、上記生成物が縮合触媒不在下で硬化される、実施形態26の硬化生成物に関する。   Embodiment 27 relates to the cured product of Embodiment 26, wherein the product is cured in the absence of a condensation catalyst.

実施形態28は、上記生成物が蛍光体又は充填剤存在下で硬化される、実施形態26の硬化生成物に関する。   Embodiment 28 relates to the cured product of embodiment 26, wherein the product is cured in the presence of a phosphor or filler.

実施形態29は、225℃で50時間のエージング後の硬化生成物のヤング率とエージング前のヤング率との比が3未満である、実施形態26の硬化生成物に関する。   Embodiment 29 relates to the cured product of Embodiment 26, wherein the ratio of the Young's modulus of the cured product after aging at 225 ° C. for 50 hours to the Young's modulus before aging is less than 3.

実施形態30は、硬化生成物が180℃で30分後に200ppm未満のベンゼンを発生する、実施形態26の硬化生成物に関する。   Embodiment 30 relates to the cured product of embodiment 26, wherein the cured product generates less than 200 ppm of benzene after 30 minutes at 180 ° C.

実施形態31は、235℃で72時間のエージング後のCIE b値が約6以下である、実施形態26の硬化生成物に関する。 Embodiment 31 relates to the cured product of embodiment 26, wherein the CIE b * value after aging at 235 ° C. for 72 hours is about 6 or less.

本開示は、特定の「樹脂直鎖状」オルガノシロキサンブロックコポリマー、並びに「樹脂直鎖状」オルガノシロキサンブロックコポリマーを含む硬化性及び固体組成物を調製するための方法を提供する。「樹脂−直鎖状」オルガノシロキサンブロックコポリマーは、特定の、比較的少量(モル%単位で)の不飽和基を含有することから、「二重硬化」機構も想到されるが、少なくともヒドロシリル化によって硬化することができる。二重硬化機構を有する樹脂直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマーを包含する実施形態において、ヒドロシリル化は、1つの硬化機構となり得る。しかし、特定量(モル%)の不飽和基を有することに加え、樹脂直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマーは、例えば、縮合硬化機構、ディールスアルダー硬化、アジド−アルキン付加環化硬化、ラジカル硬化、UV又はラジカルアクリレート硬化、UVエポキシ硬化、マイケル付加、及び「クリックケミストリー」に分類される全ての反応等の少なくとも1つの第2の硬化機構をもたらすことができる、他の反応性官能基(例えば、シラノール、エポキシド基、シアン酸エステル基、アジドアルキン基等)も含むことができる。   The present disclosure provides certain “linear resin” organosiloxane block copolymers and methods for preparing curable and solid compositions that include the “linear resin” organosiloxane block copolymer. Although the "resin-linear" organosiloxane block copolymers contain certain, relatively small amounts (in mole percent) of unsaturated groups, a "double cure" mechanism is also envisioned, but at least hydrosilylation Can be cured. In embodiments involving a resinous linear organosiloxane block copolymer with a dual cure mechanism, hydrosilylation can be one cure mechanism. However, in addition to having a specific amount (mol%) of unsaturated groups, the resinous linear organosiloxane block copolymers may have, for example, a condensation cure mechanism, a Diels-Alder cure, an azide-alkyne cycloaddition cure, a radical cure, a UV cure. Or other reactive functional groups (e.g., silanols) that can provide at least one second cure mechanism such as radical acrylate cure, UV epoxy cure, Michael addition, and all reactions classified as "click chemistry". Epoxide groups, cyanate ester groups, azidoalkyne groups, etc.).

比較的少量の不飽和基を有するヒドロシリル化硬化性樹脂−直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマーは、その縮合硬化性の相対物と比較して、有意に速い硬化速度を有することが、驚くべきことに、かつ予想外に、見出された。より速い硬化速度は、発光ダイオード(LED)のような電子デバイスを、高スループットで封入及び硬化し、それによってプロセスの総コストを低下し、固体光源の広範な利用を助ける手段となってきた。LEDチップデバイスはまた、一般的にチップ及びダイオードのような背の高い構造体(tall structures)を含有し、これは例えば、積層プロセスによって封入することが特に困難である。調整可能な高速硬化系は、こうした状況で成功するために必要なレベルの制御を提供することができる。速い硬化速度を有することに加え、ヒドロシリル化硬化性オルガノシロキサンブロックコポリマーは、とりわけ、比較的高い樹脂ガラス転移温度(T)から生じる低粘着及び高い貯蔵安定性を示す。本明細書に記載の「樹脂直鎖状」オルガノシロキサンブロックコポリマー、並びに「樹脂直鎖状」オルガノシロキサンブロックコポリマーを含む硬化性固体組成物に関連するその他の利点としては、限定するものではないが、良好な散逸又は応力緩和挙動(これはLEDデバイスの応力散逸を助ける)、硬化速度に悪影響を及ぼすことなく蛍光体粒子を収容する能力が挙げられる。
オルガノシロキサンブロックコポリマー
It is surprising that hydrosilylated curable resin-linear organosiloxane block copolymers having a relatively small amount of unsaturated groups have significantly faster cure rates compared to their condensation-curable counterparts. And unexpectedly found. Faster cure rates have become a means of encapsulating and curing electronic devices such as light emitting diodes (LEDs) with high throughput, thereby reducing the overall cost of the process and facilitating widespread use of solid state light sources. LED chip devices also generally contain tall structures, such as chips and diodes, which are particularly difficult to encapsulate by, for example, a lamination process. An adjustable fast curing system can provide the level of control needed to succeed in such situations. In addition to having a fast cure rate, hydrosilylation-curable organosiloxane block copolymers exhibit, inter alia, low tack and high storage stability resulting from a relatively high resin glass transition temperature (T g ). Other benefits associated with the "linear resin" organosiloxane block copolymers described herein, as well as curable solid compositions comprising "linear resin" organosiloxane block copolymers include, but are not limited to, , Good dissipation or stress relaxation behavior (which aids the stress dissipation of the LED device), the ability to accommodate the phosphor particles without adversely affecting the cure rate.
Organosiloxane block copolymer

いくつかの実施形態において、「樹脂直鎖状」オルガノシロキサンブロックコポリマーは、
40〜90モルパーセントの式[R SiO2/2]のジシロキシ単位、
10〜60モルパーセントの式[RSiO3/2]のトリシロキシ単位、
0.5〜35モルパーセントのシラノール基[≡SiOH]を含み、
式中、
各Rは、それぞれ独立して、C〜C30ヒドロカルビル又は少なくとも1つの脂肪族不飽和結合を含むC〜C30ヒドロカルビル基であり、
各Rは、それぞれ独立して、C〜C30ヒドロカルビル又は少なくとも1つの脂肪族不飽和結合を含むC〜C30ヒドロカルビル基である、オルガノシロキサンブロックコポリマーであって、
ここで、
上記ジシロキシ単位[R SiO2/2](D)は、直鎖状ブロック1つ当たり平均で10〜400個のジシロキシ単位[R SiO2/2]を有する直鎖状ブロックの中に配置され、
上記トリシロキシ単位[RSiO3/2](T)は、少なくとも500g/モルの分子量を有する非直鎖状ブロックの中に配置され、
この非直鎖状ブロックの少なくとも30%は、互いに架橋しており、
各直鎖状ブロックは、−Si−O−Si−結合を介して少なくとも1つの非直鎖状ブロックに連結されており、
上記オルガノシロキサンブロックコポリマーは、少なくとも20,000g/モルの重量平均分子量を有し、かつ、
上記オルガノシロキサンブロックコポリマーは、約0.5〜約5モル%の少なくとも1つの脂肪族不飽和結合を含むC〜C30ヒドロカルビル基を含む、オルガノシロキサンブロックコポリマーである。
In some embodiments, the “resin linear” organosiloxane block copolymer is
Disiloxy unit of the formula [R 1 2 SiO 2/2] of 40 to 90 mole percent,
Torishirokishi units of the formula [R 2 SiO 3/2] of 10 to 60 mole percent,
From 0.5 to 35 mole percent silanol groups [@SiOH];
Where:
Each R 1 is independently a C 1 -C 30 hydrocarbyl or a C 1 -C 30 hydrocarbyl group containing at least one aliphatic unsaturated bond;
Each R 2 is independently an organosiloxane block copolymer, which is a C 1 -C 30 hydrocarbyl or a C 1 -C 30 hydrocarbyl group containing at least one aliphatic unsaturated bond,
here,
The disiloxy unit [R 1 2 SiO 2/2] ( D) is, in the linear block having an average per linear block 10-400 amino disiloxy unit [R 1 2 SiO 2/2] Placed in
The trisiloxy units [R 2 SiO 3/2 ] (T) are arranged in a non-linear block having a molecular weight of at least 500 g / mol;
At least 30% of the non-linear blocks are cross-linked to each other;
Each linear block is linked to at least one non-linear block via a -Si-O-Si- bond;
The organosiloxane block copolymer has a weight average molecular weight of at least 20,000 g / mol, and
It said organosiloxane block copolymer comprises C 1 -C 30 hydrocarbyl group containing at least one aliphatic unsaturation of from about 0.5 to about 5 mole%, an organosiloxane block copolymer.

本明細書で使用されるとき、「オルガノシロキサンブロックコポリマー」又は「樹脂−直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマー」とは、「直鎖状」Dシロキシ単位を「樹脂」Tシロキシ単位と組み合わせて含有するオルガノポリシロキサンを指す。いくつかの実施形態において、オルガノシロキサンコポリマーは、「ランダム」コポリマーとは対照的に、「ブロック」コポリマーである。本開示の実施形態の「樹脂−直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマー」は、それ自体はD及びTシロキシ単位を含有するオルガノポリシロキサンを指し、ここでD単位(すなわち、[R SiO2/2]単位)は主に互いに結合して、いくつかの実施形態において、平均で10〜400D単位(例えば、平均で約10〜約350D単位、約10〜約300D単位、約10〜約200D単位、約10〜約100D単位、約50〜約400D単位、約100〜約400D単位、約150〜約400D単位、約200〜約400D単位、約300〜約400D単位、約50〜約300D単位、約100〜約300D単位、約150〜約300D単位、約200〜約300D単位、約100〜約150D単位、約115〜約125D単位、約90〜約170D単位又は約110〜約140D単位)を有する高分子鎖を形成し、これは本明細書において「直鎖状ブロック」と称される。 As used herein, "organosiloxane block copolymer" or "resin-linear organosiloxane block copolymer" refers to a "linear" D siloxy unit in combination with a "resin" T siloxy unit. Refers to organopolysiloxane. In some embodiments, the organosiloxane copolymer is a "block" copolymer, as opposed to a "random" copolymer. Embodiments of the present disclosure "resin - linear organosiloxane block copolymer" itself refers to organopolysiloxane containing D and T siloxy units, where D units (i.e., [R 1 2 SiO 2 / 2 ] units) are predominantly linked to one another and, in some embodiments, average 10-400 D units (eg, average about 10-about 350 D units, about 10-about 300 D units, about 10-about 200 D units) About 10 to about 100 D units, about 50 to about 400 D units, about 100 to about 400 D units, about 150 to about 400 D units, about 200 to about 400 D units, about 300 to about 400 D units, about 50 to about 300 D units, About 100 to about 300 D units, about 150 to about 300 D units, about 200 to about 300 D units, about 100 to about 150 D units, about 115 to about 125 D units The polymer chains form having about 90 to about 170D units, or from about 110 to about 140D units), this is referred to as "linear block" herein.

T単位(すなわち、[RSiO3/2])は、いつくつかの実施形態において、主に互いに結合して、分枝状高分子鎖を形成し、これは「非直鎖状ブロック」と称される。いくつかの実施形態では、かなりの数のこれらの非直鎖状ブロックは、更に凝集して、「ナノドメイン」を形成し、この時、固体形態のブロックコポリマーが提供される。いくつかの実施形態では、これらのナノドメインは、D単位を有する直鎖状ブロックから形成される相から分離した相を形成し、その結果、樹脂リッチ相を形成する。いくつかの実施形態において、ジシロキシ単位[R SiO2/2]は、直鎖状ブロック1つ当たり平均で10〜400個のジシロキシ単位[R SiO2/2](例えば、平均で約10〜約350D単位、約10〜約300D単位、約10〜約200D単位、約10〜約100D単位、約50〜約400D単位、約100〜約400D単位、約150〜約400D単位、約200〜約400D単位、約300〜約400D単位、約50〜約300D単位、約100〜約300D単位、約150〜約300D単位、約200〜約300D単位、約100〜約150D単位、約115〜約125D単位、約90〜約170D単位又は約110〜約140D単位)を有する直鎖状ブロックの中に配列され、トリシロキシ単位[RSiO3/2]は、少なくとも500g/モルの分子量を有する非直鎖状ブロックの中に配列され、この非直鎖状ブロックの少なくとも30%は互いに架橋している。 The T units (ie, [R 2 SiO 3/2 ]), in some embodiments, are predominantly linked together to form a branched polymer chain, which is referred to as a “non-linear block”. Called. In some embodiments, a significant number of these non-linear blocks are further aggregated to form "nanodomains", providing a block copolymer in solid form. In some embodiments, these nanodomains form a separate phase from the phase formed from the linear blocks with D units, and thus form a resin-rich phase. In some embodiments, disiloxy unit [R 1 2 SiO 2/2] is 10 to 400 amino disiloxy unit on average per linear block [R 1 2 SiO 2/2] (e.g., average About 10 to about 350 D units, about 10 to about 300 D units, about 10 to about 200 D units, about 10 to about 100 D units, about 50 to about 400 D units, about 100 to about 400 D units, about 150 to about 400 D units, about 200 to about 400 D units, about 300 to about 400 D units, about 50 to about 300 D units, about 100 to about 300 D units, about 150 to about 300 D units, about 200 to about 300 D units, about 100 to about 150 D units, about 115 to about 125D units are arranged in a linear block with about 90 to about 170D units, or from about 110 to about 140D units), Torishirokishi units [R 2 S O 3/2] are arranged in non-linear block having a molecular weight of at least 500 g / mol, at least 30% of the non-linear blocks are crosslinked with each other.

いくつかの実施形態において、非直鎖状ブロックは、少なくとも500g/モル、例えば、少なくとも1000g/モル、少なくとも2000g/モル、少なくとも3000g/モル、少なくとも4000g/モル、少なくとも5000g/モル、少なくとも6000g/モル、少なくとも7000g/モル又は少なくとも8000g/モルの数平均分子量を有する、又は、約500g/モル〜8000g/モル、約500g/モル〜7000g/モル、約500g/モル〜6000g/モル、約500g/モル〜5000g/モル、約500g/モル〜約4000g/モル、約500g/モル〜約3000g/モル、約500g/モル〜約2000g/モル、約500g/モル〜約1000g/モル、約1000g/モル〜2000g/モル、約1000g/モル〜約1500g/モル、約1000g/モル〜約1200g/モル、約1000g/モル〜3000g/モル、約1000g/モル〜約2500g/モル、約1000g/モル〜約4000g/モル、約1000g/モル〜5000g/モル、約1000g/モル〜6000g/モル、約1000g/モル〜7000g/モル、約1000g/モル〜8000g/モル、約2000g/モル〜約3000g/モル、約2000g/モル〜約4000g/モル、約2000g/モル〜5000g/モル、約2000g/モル〜6000g/モル、約2000g/モル〜7000g/モル又は約2000g/モル〜8000g/モルの分子量を有する。   In some embodiments, the non-linear block is at least 500 g / mol, for example, at least 1000 g / mol, at least 2000 g / mol, at least 3000 g / mol, at least 4000 g / mol, at least 5000 g / mol, at least 6000 g / mol. Having a number average molecular weight of at least 7000 g / mol or at least 8000 g / mol, or about 500 g / mol to 8000 g / mol, about 500 g / mol to 7000 g / mol, about 500 g / mol to 6000 g / mol, about 500 g / mol. About 5000 g / mol, about 500 g / mol to about 4000 g / mol, about 500 g / mol to about 3000 g / mol, about 500 g / mol to about 2000 g / mol, about 500 g / mol to about 1000 g / mol, about 1000 g / mol. 2000g / mo About 1000 g / mol to about 1500 g / mol, about 1000 g / mol to about 1200 g / mol, about 1000 g / mol to about 3000 g / mol, about 1000 g / mol to about 2500 g / mol, about 1000 g / mol to about 4000 g / mol, About 1000 g / mol to 5000 g / mol, about 1000 g / mol to 6000 g / mol, about 1000 g / mol to 7000 g / mol, about 1000 g / mol to 8000 g / mol, about 2000 g / mol to about 3000 g / mol, about 2000 g / mol. It has a molecular weight of from about 4000 g / mol, from about 2000 g / mol to 5000 g / mol, from about 2000 g / mol to 6000 g / mol, from about 2000 g / mol to 7000 g / mol, or from about 2000 g / mol to 8000 g / mol.

いくつかの実施形態において、非直鎖状ブロックの少なくとも30%は、互いに架橋しており、例えば、非直鎖状ブロックの少なくとも40%は互いに架橋しており、非直鎖状ブロックの少なくとも50%は互いに架橋しており、非直鎖状ブロックの少なくとも60%は互いに架橋しており、非直鎖状ブロックの少なくとも70%は互いに架橋しており、又は、非直鎖状ブロックの少なくとも80%は互いに架橋しており、ここで、架橋した非直鎖状ブロックのパーセントを示すために本明細書で与えられる百分率は、全て重量パーセントである。他の実施形態において、非直鎖状ブロックの約30%〜約80%は互いに架橋しており、非直鎖状ブロックの約30%〜約70%は互いに架橋しており、非直鎖状ブロックの約30%〜約60%は互いに架橋しており、非直鎖状ブロックの約30%〜約50%は互いに架橋しており、非直鎖状ブロックの約30%〜約40%は互いに架橋しており、非直鎖状ブロックの約40%〜約80%は互いに架橋しており、非直鎖状ブロックの約40%〜約70%は互いに架橋しており、非直鎖状ブロックの約40%〜約60%は互いに架橋しており、非直鎖状ブロックの約40%〜約50%は互いに架橋しており、非直鎖状ブロックの約50%〜約80%は互いに架橋しており、非直鎖状ブロックの約50%〜約70%は互いに架橋しており、非直鎖状ブロックの約55%〜約70%は互いに架橋しており、非直鎖状ブロックの約50%〜約60%は互いに架橋しており、非直鎖状ブロックの約60%〜約80%は互いに架橋しており、又は、非直鎖状ブロックの約60%〜約70%は互いに架橋している。   In some embodiments, at least 30% of the non-linear blocks are cross-linked to each other, for example, at least 40% of the non-linear blocks are cross-linked to each other, and at least 50% of the non-linear blocks are % Are cross-linked to each other, at least 60% of the non-linear blocks are cross-linked to each other, at least 70% of the non-linear blocks are cross-linked to each other, or at least 80% of the non-linear blocks. The percentages are cross-linked to one another, wherein all percentages given herein to indicate the percentage of cross-linked non-linear blocks are weight percentages. In other embodiments, about 30% to about 80% of the non-linear blocks are cross-linked to each other, and about 30% to about 70% of the non-linear blocks are cross-linked to each other. About 30% to about 60% of the blocks are cross-linked to each other, about 30% to about 50% of the non-linear blocks are cross-linked to each other, and about 30% to about 40% of the non-linear blocks are Cross-linked to each other, about 40% to about 80% of the non-linear blocks are cross-linked to each other, and about 40% to about 70% of the non-linear blocks are cross-linked to each other, About 40% to about 60% of the blocks are cross-linked to each other, about 40% to about 50% of the non-linear blocks are cross-linked to each other, and about 50% to about 80% of the non-linear blocks are About 50% to about 70% of the non-linear blocks are cross-linked to each other and non-linear About 55% to about 70% of the blocks are cross-linked to each other, about 50% to about 60% of the non-linear blocks are cross-linked to each other, and about 60% to about 80% of the non-linear blocks are Cross-linked to each other, or about 60% to about 70% of the non-linear blocks are cross-linked to each other.

非直鎖状ブロックの架橋は、種々の化学的機構及び/又は部分を介して達成されてもよい。例えば、ブロックポリマー内の非直鎖状ブロックの架橋は、コポリマーの非直鎖状ブロック内に存在する残留シラノール基の縮合から生じてもよい。   Crosslinking of the non-linear block may be achieved via various chemical mechanisms and / or moieties. For example, crosslinking of non-linear blocks within the block polymer may result from condensation of residual silanol groups present within the non-linear blocks of the copolymer.

いくつかの実施形態において、本明細書に記載の実施形態のオルガノシロキサンブロックコポリマーは、40〜90モルパーセントの式[R SiO2/2]のジシロキシ単位、例えば、50〜90モルパーセントの式[R SiO2/2]のジシロキシ単位、60〜90モルパーセントの式[R SiO2/2]のジシロキシ単位、65〜90モルパーセントの式[R SiO2/2]のジシロキシ単位、70〜90モルパーセントの式[R SiO2/2]のジシロキシ単位、又は80〜90モルパーセントの式[R SiO2/2]のジシロキシ単位、40〜80モルパーセントの式[R SiO2/2]のジシロキシ単位、40〜70モルパーセントの式[R SiO2/2]のジシロキシ単位、40〜60モルパーセントの式[R SiO2/2]のジシロキシ単位、40〜50モルパーセントの式[R SiO2/2]のジシロキシ単位、50〜80モルパーセントの式[R SiO2/2]のジシロキシ単位、50〜70モルパーセントの式[R SiO2/2]のジシロキシ単位、50〜60モルパーセントの式[R SiO2/2]のジシロキシ単位、60〜80モルパーセントの式[R SiO2/2]のジシロキシ単位、60〜70モルパーセントの式[R SiO2/2]のジシロキシ単位、又は70〜80モルパーセントの式[R SiO2/2]のジシロキシ単位を含む。 In some embodiments, the organosiloxane block copolymer of the embodiments described herein, the 40 to 90 mole percent formula [R 1 2 SiO 2/2] disiloxy units, e.g., 50 to 90 mole percent formula [R 1 2 SiO 2/2] disiloxy units, disiloxy unit of the formula [R 1 2 SiO 2/2] of 60-90 mole percent, the formula of 65-90 mole percent [R 1 2 SiO 2/2] disiloxy unit disiloxy unit, or disiloxy unit of the formula [R 1 2 SiO 2/2] of 80-90 mole percent of 70 to 90 mole percent formula [R 1 2 SiO 2/2] of 40 to 80 mole percent disiloxy unit of the formula [R 1 2 SiO 2/2] a, castles of formula [R 1 2 SiO 2/2] from 40 to 70 mole percent Alkoxy units, disiloxy units of formula 40 to 60 mole percent [R 1 2 SiO 2/2], disiloxy unit of 40 to 50 mole percent formula [R 1 2 SiO 2/2], 50~80 mole percent of formula [R 1 2 SiO 2/2] disiloxy units, 50-70 mole percent formula [R 1 2 SiO 2/2] disiloxy units, 50 to 60 mole percent formula [R 1 2 SiO 2/2] disiloxy unit, disiloxy unit of formula 60-80 mole percent [R 1 2 SiO 2/2], of 60 to 70 mole percent formula [R 1 2 SiO 2/2] disiloxy units, or 70-80 mole percent including disiloxy unit of the formula [R 1 2 SiO 2/2].

いくつかの実施形態において、本明細書に記載の実施形態のオルガノシロキサンブロックコポリマーは、10〜60モルパーセントの式[RSiO3/2]のトリシロキシ単位、例えば、10〜20モルパーセントの式[RSiO3/2]のトリシロキシ単位、10〜30モルパーセントの式[RSiO3/2]のトリシロキシ単位、10〜35モルパーセントの式[RSiO3/2]のトリシロキシ単位、10〜40モルパーセントの式[RSiO3/2]のトリシロキシ単位、10〜50モルパーセントの式[RSiO3/2]のトリシロキシ単位、20〜30モルパーセントの式[RSiO3/2]のトリシロキシ単位、20〜35モルパーセントの式[RSiO3/2]のトリシロキシ単位、20〜40モルパーセントの式[RSiO3/2]のトリシロキシ単位、20〜50モルパーセントの式[RSiO3/2]のトリシロキシ単位、20〜60モルパーセントの式[RSiO3/2]のトリシロキシ単位、30〜40モルパーセントの式[RSiO3/2]のトリシロキシ単位、30〜50モルパーセントの式[RSiO3/2]のトリシロキシ単位、30〜60モルパーセントの式[RSiO3/2]のトリシロキシ単位、40〜50モルパーセントの式[RSiO3/2]のトリシロキシ単位、又は40〜60モルパーセントの式[RSiO3/2]のトリシロキシ単位を含む。 In some embodiments, the organosiloxane block copolymer of the embodiments described herein, Torishirokishi units 10 to 60 mole percent of the formula [R 2 SiO 3/2], for example, 10 to 20 mole percent of formula Torishirokishi units [R 2 SiO 3/2], Torishirokishi units 10 to 30 mole percent of the formula [R 2 SiO 3/2], of 10 to 35 mole percent formula [R 2 SiO 3/2] Torishirokishi units, Torishirokishi units 10 to 40 mole percent of the formula [R 2 SiO 3/2], Torishirokishi units of the formula of 10 to 50 mole percent [R 2 SiO 3/2], wherein 20 to 30 mole percent [R 2 SiO 3 / Torishirokishi units 2, Torishirokishi units 20 to 35 mole percent of the formula [R 2 SiO 3/2] Torishirokishi units 20 to 40 mole percent of the formula [R 2 SiO 3/2], Torishirokishi units of the formula 20 to 50 mole percent [R 2 SiO 3/2], wherein 20 to 60 mole percent [R 2 SiO 3 / Torishirokishi units 2, Torishirokishi units 30 to 40 mole percent of the formula [R 2 SiO 3/2], Torishirokishi units of the formula 30 to 50 mole percent [R 2 SiO 3/2], 30 to 60 mole percent formula Torishirokishi units [R 2 SiO 3/2], of 40 to 50 mole percent wherein Torishirokishi units [R 2 SiO 3/2], or 40 to 60 mole percent of the formula [R 2 SiO 3/2] of Contains trisiloxy units.

本明細書に記載の実施形態のオルガノシロキサンブロックコポリマーは、追加のシロキシ単位、例えば、Mシロキシ単位、Qシロキシ単位、その他の特異なD又はTシロキシ単位(例えば、R又はR以外の有機基を有するもの)を含有してもよいが、但し、そのオルガノシロキサンブロックコポリマーが、本明細書に記載のモル分率のジシロキシ及びトリシロキシ単位を含有し、約0.5〜約5モル%(例えば、約0.5〜約1モル%、約0.5〜約4.5モル%、約1〜約4モル%、約2〜約3モル%、約2〜約4モル%、約1〜約5モル%又は約2〜約5モル%)の、少なくとも1つの脂肪族不飽和結合を含むC〜C30ヒドロカルビル基を含むことを条件とする。 The organosiloxane block copolymers of the embodiments described herein may contain additional siloxy units, such as M siloxy units, Q siloxy units, or other unique D or T siloxy units (eg, organic groups other than R 1 or R 2). Having an siloxane group), provided that the organosiloxane block copolymer contains a mole fraction of disiloxy and trisiloxy units as described herein, and from about 0.5 to about 5 mole% ( For example, about 0.5 to about 1 mole%, about 0.5 to about 4.5 mole%, about 1 to about 4 mole%, about 2 to about 3 mole%, about 2 to about 4 mole%, about 1 to about 4 mole%. to about 5 mole% or about 2 to about 5 mol%), provided that comprises a C 1 -C 30 hydrocarbyl group containing at least one aliphatic unsaturation.

いくつかの実施形態では、樹脂−直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマーはシラノール基(≡SiOH)も含有する。オルガノシロキサンブロックコポリマーに存在するシラノール基の量は、0.5〜35モルパーセントのシラノール基[≡SiOH]、あるいは2〜32モルパーセントのシラノール基[≡SiOH]、あるいは8〜22モルパーセントのシラノール基[≡SiOH]、あるいは10〜20モルパーセントのシラノール基[≡SiOH]、あるいは15〜20モルパーセントのシラノール基[≡SiOH]、あるいは12〜22モルパーセントのシラノール基[≡SiOH]、あるいは15〜25モルパーセントのシラノール基[≡SiOH]、あるいは15〜35モルパーセントのシラノール基[≡SiOH]あるいは1〜35モルパーセントのシラノール基で変動してもよい。シラノール基は、オルガノシロキサンブロックコポリマー内の任意のシロキシ単位に存在してもよい。本明細書に記載の量は、オルガノシロキサンブロックコポリマー内に見出されるシラノール基の合計量を表す。いくつかの実施形態において、シラノール基の大部分(例えば、75%超、80%超、90%超、約75%〜約90%、約80%〜約90%、又は約75%〜約85%)は、トリシロキシ単位、すなわち、ブロックコポリマーの樹脂成分上に存在するであろう。いかなる理論にも束縛されるものではないが、オルガノシロキサンブロックコポリマーの樹脂成分に存在するシラノール基により、ブロックコポリマーを高温で更に反応又は硬化させることができる。   In some embodiments, the resin-linear organosiloxane block copolymer also contains silanol groups (≡SiOH). The amount of silanol groups present in the organosiloxane block copolymer may be from 0.5 to 35 mole percent silanol groups [@SiOH], or from 2 to 32 mole percent silanol groups [@SiOH], or from 8 to 22 mole percent silanol. Groups [@SiOH], or 10-20 mole percent silanol groups [@SiOH], or 15-20 mole percent silanol groups [@SiOH], or 12-22 mole percent silanol groups [@SiOH], or 15 It may vary from 2525 mole percent silanol groups [≡SiOH], or from 15 to 35 mole percent silanol groups [≡SiOH], or from 1 to 35 mole percent silanol groups. Silanol groups may be present on any siloxy unit in the organosiloxane block copolymer. The amounts described herein represent the total amount of silanol groups found in the organosiloxane block copolymer. In some embodiments, a majority of the silanol groups (eg, greater than 75%, greater than 80%, greater than 90%, about 75% to about 90%, about 80% to about 90%, or about 75% to about 85%). %) Will be present on the trisiloxy units, ie, the resin component of the block copolymer. Without being bound by any theory, the silanol groups present in the resin component of the organosiloxane block copolymer allow the block copolymer to further react or cure at elevated temperatures.

各Rはそれぞれ、本明細書に記載されるとき、独立して、C〜C30ヒドロカルビル(例えば、C〜C20ヒドロカルビル、C〜C10ヒドロカルビル又はC〜Cヒドロカルビル)であってもよく、このヒドロカルビル基は脂肪族不飽和を含まず、独立してアルキル、アリール又はアルキルアリール基であってもよい。各Rは、それぞれ独立して、C〜C30アルキル基でもよく、あるいは、各Rは、それぞれ、C〜C18アルキル基でもよい。あるいは、各Rは、それぞれ、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、又はヘキシル等のC〜Cアルキル基であってもよい。あるいは、各Rは、それぞれ、メチルであってもよい。各Rは、それぞれ、フェニル基、ナフチル基、又はアンスリル基等のアリール基であってもよい。あるいは、各Rは、それぞれ、上記のアルキル又はアリール基の任意の組み合わせであってもよく、その結果、いくつかの実施形態では、各ジシロキシ単位は2個のアルキル基(例えば、2個のメチル基)、2個のアリール基(例えば、2個のフェニル基)、又は1個のアルキル基(例えば、メチル)と1個のアリール基(例えば、フェニル)を有してもよい。あるいは、オルガノシロキサンブロックコポリマーが約0.5〜約5モル%(例えば、約0.5〜約1モル%、約0.5〜約4.5モル%、約1〜約4モル%、約2〜約3モル%、約2〜約4モル%、約1〜約5モル%又は約2〜約5モル%)の、少なくとも1つの脂肪族不飽和結合を含むC〜C30ヒドロカルビル基を含む限り、各Rは、それぞれ、フェニル又はメチルであってもよい。 Each R 1 , as described herein, is independently a C 1 -C 30 hydrocarbyl (eg, a C 1 -C 20 hydrocarbyl, a C 1 -C 10 hydrocarbyl or a C 1 -C 6 hydrocarbyl). The hydrocarbyl group may be free of aliphatic unsaturation and may independently be an alkyl, aryl or alkylaryl group. Each R 1 may be independently a C 1 -C 30 alkyl group, or each R 1 may be a C 1 -C 18 alkyl group, respectively. Alternatively, each R 1 may be a C 1 -C 6 alkyl group such as methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, or hexyl, respectively. Alternatively, each R 1 may each be methyl. Each R 1 may be an aryl group such as a phenyl group, a naphthyl group, or an anthryl group. Alternatively, each R 1 can each be any combination of the above alkyl or aryl groups, such that in some embodiments, each disiloxy unit has two alkyl groups (eg, two alkyl groups). A methyl group), two aryl groups (for example, two phenyl groups), or one alkyl group (for example, methyl) and one aryl group (for example, phenyl). Alternatively, the organosiloxane block copolymer comprises about 0.5 to about 5 mole% (e.g., about 0.5 to about 1 mole%, about 0.5 to about 4.5 mole%, about 1 to about 4 mole%, about 1 to about 4 mole%, 2 to about 3 mol%, about 2 to about 4 mol%, about 1 to about 5 mol% or about 2 to about 5 mol%) of C 1 -C 30 hydrocarbyl groups containing at least one aliphatic unsaturated bond. Each R 1 may be phenyl or methyl, respectively.

いくつかの実施形態において、各Rは、それぞれ、本明細書に記載されるとき、独立して、C〜C30ヒドロカルビルであり、このヒドロカルビル基は少なくとも1つの脂肪族不飽和結合を含む。脂肪族不飽和結合の例としては、アルケニル又はアルキニル結合が挙げられるが、これらに限定されない。いくつかの実施形態では、脂肪族不飽和結合は、末端二重結合である。C〜C30(例えば、C〜C20、C〜C12、C〜C、又はC〜C)ヒドロカルビル基の例としては、限定するものではないが、HC=CH−、HC=CHCH−、HC=C(CH)CH−、HC=CHC(CH−、HC=CHCHCH−、HC=CHCHCHCH−、HC=CHCHCHCHCH−等が挙げられる。C〜C30ヒドロカルビル基のその他の例としては、限定するものではないが、HC≡C−、HC≡CCH−、HC≡CCH(CH)−、HC≡CC(CH−、及びHC≡CC(CHCH−が挙げられる。あるいは、Rはビニル基、HC=CH−である。 In some embodiments, each R 1 , as described herein, is independently a C 1 -C 30 hydrocarbyl, wherein the hydrocarbyl group contains at least one aliphatic unsaturated bond. . Examples of aliphatic unsaturated bonds include, but are not limited to, alkenyl or alkynyl bonds. In some embodiments, the aliphatic unsaturation is a terminal double bond. C 2 -C 30 (e.g., C 2 ~C 20, C 2 ~C 12, C 2 ~C 8, or C 2 -C 4) Examples of hydrocarbyl groups include, but are not limited to, H 2 C = CH-, H 2 C = CHCH 2 -, H 2 C = C (CH 3) CH 2 -, H 2 C = CHC (CH 3) 2 -, H 2 C = CHCH 2 CH 2 -, H 2 C = CHCH 2 CH 2 CH 2 - , H 2 C = CHCH 2 CH 2 CH 2 CH 2 - and the like. Other examples of C 2 -C 30 hydrocarbyl group, but are not limited to, HC≡C-, HC≡CCH 2 -, HC≡CCH (CH 3) -, HC≡CC (CH 3) 2 - and HC≡CC (CH 3) 2 CH 2 - and the like. Alternatively, R 1 is a vinyl group, a H 2 C = CH-.

各Rは、それぞれ、本明細書に記載されるとき、独立してC〜C30ヒドロカルビル(例えば、C〜C20ヒドロカルビル、C〜C10ヒドロカルビル又はC〜Cヒドロカルビル)であってもよく、このヒドロカルビル基は脂肪族不飽和を含まず、独立してアルキル、アリール又はアルキルアリール基であってもよい。各Rは、それぞれ、独立してC〜C30アルキル基でもよく、あるいは、各Rは、それぞれ、C〜C18アルキル基でもよい。あるいは、各Rは、それぞれ、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、又はヘキシル等のC〜Cアルキル基であってもよい。あるいは、各Rは、それぞれ、メチルであってもよい。各Rは、それぞれ、フェニル基、ナフチル基、又はアンスリル基等のアリール基であってもよい。あるいは、各Rは、それぞれ、上記のアルキル又はアリール基の任意の組み合わせであってもよく、例えば、いくつかの実施形態では、各ジシロキシ単位は2個のアルキル基(例えば、2個のメチル基)、2個のアリール基(例えば、2個のフェニル基)、又は1個のアルキル基(例えば、メチル)と1個のアリール基(例えば、フェニル)を有してもよい。あるいは、オルガノシロキサンブロックコポリマーが約0.5〜約5モル%(例えば、約0.5〜約1モル%、約0.5〜約4.5モル%、約1〜約4モル%、約2〜約3モル%、約2〜約4モル%、約1〜約5モル%又は約2〜約5モル%)の、少なくとも1つの脂肪族不飽和結合を含むC〜C30ヒドロカルビル基を含む限り、各Rは、それぞれ、フェニル又はメチルであってもよい。 Each R 2 , as described herein, is independently a C 1 -C 30 hydrocarbyl (eg, a C 1 -C 20 hydrocarbyl, a C 1 -C 10 hydrocarbyl or a C 1 -C 6 hydrocarbyl). The hydrocarbyl group may be free of aliphatic unsaturation and may independently be an alkyl, aryl or alkylaryl group. Each R 2 may be independently a C 1 -C 30 alkyl group, or each R 2 may be each a C 1 -C 18 alkyl group. Alternatively, each R 2 may be a C 1 -C 6 alkyl group such as methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, or hexyl, respectively. Alternatively, each R 2 may each be methyl. Each R 2 may be an aryl group such as a phenyl group, a naphthyl group, or an anthryl group. Alternatively, each R 2 can each be any combination of the alkyl or aryl groups described above, eg, in some embodiments, each disiloxy unit has two alkyl groups (eg, two methyl groups). Group), two aryl groups (eg, two phenyl groups), or one alkyl group (eg, methyl) and one aryl group (eg, phenyl). Alternatively, about 0.5 to about 5 mole% (e.g., about 0.5 to about 1 mole%, about 0.5 to about 4.5 mole%, about 1 to about 4 mole%, about 1 to about 4 mole%) of the organosiloxane block copolymer. 2 to about 3 mol%, about 2 to about 4 mol%, about 1 to about 5 mol% or about 2 to about 5 mol%) of C 1 -C 30 hydrocarbyl groups containing at least one aliphatic unsaturated bond. Each R 2 may be phenyl or methyl, respectively.

いくつかの実施形態において、各Rは、それぞれ、本明細書に記載されるとき、独立して、C〜C30ヒドロカルビルであり、このヒドロカルビル基は少なくとも1つの脂肪族不飽和結合を含み、用語は本明細書に定義される通りである。 In some embodiments, each R 2 , as described herein, is independently a C 1 -C 30 hydrocarbyl, wherein the hydrocarbyl group comprises at least one aliphatic unsaturated bond. , Terms are as defined herein.

本明細書全体を通して使用されるとき、「ヒドロカルビル」は、置換ヒドロカルビル基も含む。「置換」は、本明細書全体を通して使用されるとき、その基の水素原子の1つ以上を当業者に既知の置換基で置換して、本明細書に記載されるような安定した化合物を生じさせることを広く指す。好適な置換基の例としては、限定するものではないが、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アリール、アルカリール、ヒドロキシ、アルコキシ、アリールオキシ、カルボキシ(すなわち、COH)、カルボキシアルキル、カルボキシアリール、シアノ、シアン酸エステル、(すなわち、−OCN基)、シリル、シロキシ、ホスフィン、ハロゲン、硫黄含有基、ニトロ、エポキシ(2個の隣接する炭素原子が、それが結合する酸素原子と共に、エポキシド基を形成する)等が挙げられる。置換ヒドロカルビルは、ハロゲン置換ヒドロカルビルも含み、ここでハロゲンは、フッ素、塩素、臭素、又はこれらの組み合わせであってもよい。 As used throughout this specification, “hydrocarbyl” also includes substituted hydrocarbyl groups. "Substituted," as used throughout this specification, replaces one or more of the hydrogen atoms in the group with a substituent known to those of skill in the art to provide a stable compound as described herein. Broadly refers to causing. Examples of suitable substituents include, but are not limited to, alkyl, alkenyl, alkynyl, cycloalkyl, aryl, alkaryl, hydroxy, alkoxy, aryloxy, carboxy (ie, CO 2 H), carboxyalkyl, carboxy Aryl, cyano, cyanate ester (ie, -OCN group), silyl, siloxy, phosphine, halogen, sulfur-containing group, nitro, epoxy (two adjacent carbon atoms together with the oxygen atom to which it is attached Which forms a group). Substituted hydrocarbyls also include halogen-substituted hydrocarbyls, where the halogen may be fluorine, chlorine, bromine, or a combination thereof.

本明細書に記載する実施形態のオルガノシロキサンブロックコポリマーは、少なくとも20,000g/モルの重量平均分子量(M)、あるいは少なくとも40,000g/モルの重量平均分子量、あるいは少なくとも50,000g/モルの重量平均分子量、あるいは少なくとも60,000g/モルの重量平均分子量、あるいは少なくとも80,000g/モルの重量平均分子量、あるいは少なくとも100,000g/モルの重量平均分子量を有する。いくつかの実施形態では、本明細書に記載されるオルガノシロキサンブロックコポリマーは、約20,000g/モル〜約250,000g/モル、約40,000g/モル〜約250,000g/モル、約50,000g/モル〜約250,000g/モル又は約100,000g/モル〜約250,000g/モルの重量平均分子量(M)、あるいは約45,000g/モル〜約100,000g/モルの重量平均分子量、あるいは約50,000gモル〜約100,000g/モルの重量平均分子量、あるいは約50,000g/モル〜約80,000g/モルの重量平均分子量、あるいは約50,000g/モル〜約70,000g/モルの重量平均分子量、あるいは約50,000g/モル〜約60,000g/モルの重量平均分子量を有する。いくつかの実施形態において、本明細書に記載の実施形態のオルガノシロキサンブロックコポリマーは、約15,000〜約50,000g/モル、約15,000〜約30,000g/モル、約20,000〜約30,000g/モル、又は約20,000〜約25,000g/モルの数平均分子量(M)を有する。平均分子量は、実施例に記載されるもののような、ゲル透過クロマトグラフィー(GPC)技術を用いて容易に決定することができる。
オルガノシロキサンブロックコポリマーを生成する方法
The organosiloxane block copolymer of the embodiments described herein may have a weight average molecular weight (M w ) of at least 20,000 g / mol, alternatively a weight average molecular weight of at least 40,000 g / mol, or at least 50,000 g / mol. It has a weight average molecular weight, or at least 60,000 g / mol, or at least 80,000 g / mol, or at least 100,000 g / mol. In some embodiments, the organosiloxane block copolymer described herein comprises from about 20,000 g / mol to about 250,000 g / mol, from about 40,000 g / mol to about 250,000 g / mol, about 50 g / mol. A weight average molecular weight (M w ) of from 2,000 g / mol to about 250,000 g / mol or from about 100,000 g / mol to about 250,000 g / mol, or a weight of from about 45,000 g / mol to about 100,000 g / mol. Average molecular weight, or weight average molecular weight of about 50,000 gmol to about 100,000 g / mol, or weight average molecular weight of about 50,000 g / mol to about 80,000 g / mol, or about 50,000 g / mol to about 70 gmol A weight average molecular weight of 20,000 g / mol, or a weight average molecular weight of about 50,000 g / mol to about 60,000 g / mol. Having a molecular weight. In some embodiments, the organosiloxane block copolymer of the embodiments described herein comprises from about 15,000 to about 50,000 g / mol, from about 15,000 to about 30,000 g / mol, about 20,000. Has a number average molecular weight ( Mn ) of from about 20,000 to about 30,000 g / mol, or from about 20,000 to about 25,000 g / mol. Average molecular weight can be readily determined using gel permeation chromatography (GPC) techniques, such as those described in the examples.
Method for producing organosiloxane block copolymer

いくつかの実施形態において、本発明の実施形態の樹脂−直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマーは、
A)樹脂直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマーであって、
40〜90モルパーセントの式[R SiO2/2]のジシロキシ単位、
10〜60モルパーセントの式[RSiO3/2]のトリシロキシ単位、
0.5〜35モルパーセントのシラノール基[≡SiOH]を含み、
式中、
各Rは、それぞれ独立して、脂肪族不飽和を含まないC〜C30ヒドロカルビルであり、
各Rは、それぞれ独立して、脂肪族不飽和を含まないC〜C30ヒドロカルビルであり、
ここで、
上記ジシロキシ単位[R SiO2/2]は、直鎖状ブロック1つ当たり平均で10〜400個のジシロキシ単位[R SiO2/2]を有する直鎖状ブロックの中に配置され、
上記トリシロキシ単位[RSiO3/2]は、少なくとも500g/モルの分子量を有する非直鎖状ブロックの中に配置され、この非直鎖状ブロックの少なくとも30%は互いに架橋しており、
各直鎖状ブロックは、−Si−O−Si−結合を介して少なくとも1つの非直鎖状ブロックに連結されており、かつ、
上記オルガノシロキサンブロックコポリマーは、少なくとも20,000g/モルの重量平均分子量を有する、樹脂−直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマーを、
B)式R SiXの化合物であって、
式中、各Rは、それぞれ独立して、脂肪族不飽和を含まないC〜C30ヒドロカルビル又は少なくとも1つの脂肪族不飽和結合を含むC〜C30ヒドロカルビル基であり、
各Rは、それぞれ独立して、脂肪族不飽和を含まないC〜C30ヒドロカルビル又は少なくとも1つの脂肪族不飽和結合を含むC〜C30ヒドロカルビル基であり、
Xは、−OR、F、Cl、Br、I、−OC(O)R、−N(R、又は−ON=CR から選択される加水分解性基であって、式中、Rは、水素又は場合により置換されていてもよいC〜Cアルキル基である化合物と
接触させる(例えば、反応させる)ことによって調製されてもよい。
In some embodiments, the resin-linear organosiloxane block copolymer of the embodiments of the present invention comprises:
A) A resin linear organosiloxane block copolymer,
Disiloxy unit of the formula [R 1 2 SiO 2/2] of 40 to 90 mole percent,
Torishirokishi units of the formula [R 2 SiO 3/2] of 10 to 60 mole percent,
From 0.5 to 35 mole percent silanol groups [@SiOH];
Where:
Each R 1 is independently C 1 -C 30 hydrocarbyl containing no aliphatic unsaturation;
Each R 2 is independently a C 1 -C 30 hydrocarbyl containing no aliphatic unsaturation;
here,
The disiloxy unit [R 1 2 SiO 2/2] are arranged in linear blocks having an average per linear block 10-400 amino disiloxy unit [R 1 2 SiO 2/2] ,
The trisiloxy units [R 2 SiO 3/2 ] are arranged in non-linear blocks having a molecular weight of at least 500 g / mol, at least 30% of the non-linear blocks being cross-linked to one another,
Each linear block is linked to at least one non-linear block via a -Si-O-Si- bond, and
The organosiloxane block copolymer is a resin-linear organosiloxane block copolymer having a weight average molecular weight of at least 20,000 g / mol.
B) a compound of formula R 1 R 2 2 SiX,
Wherein each R 1 is independently a C 1 -C 30 hydrocarbyl containing no aliphatic unsaturation or a C 1 -C 30 hydrocarbyl group containing at least one aliphatic unsaturated bond;
Each R 2 is independently a C 1 -C 30 hydrocarbyl containing no aliphatic unsaturation or a C 1 -C 30 hydrocarbyl group containing at least one aliphatic unsaturated bond;
X is a -OR 4, F, Cl, Br , I, -OC (O) R 4, -N (R 4) 2, or a hydrolyzable group selected from -ON = CR 4 2, Wherein R 4 may be prepared by contacting (eg, reacting) with a compound that is hydrogen or an optionally substituted C 1 -C 6 alkyl group.

他の実施形態において、本発明の実施形態の樹脂−直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマーは、
A)式:
3−p(E)SiO(R SiO2/2Si(E) 3−pを有する直鎖状オルガノシロキサンあって、
式中、各Rは、それぞれ独立して、脂肪族不飽和を含まないC〜C30ヒドロカルビルであり、
nは10〜400であり、
Eは、−OR、F、Cl、Br、I、−OC(O)R、−N(R、又は−ON=CR から選択される加水分解性基であって、式中、Rは、水素又はC〜Cアルキル基であり、
各pは、独立して1、2又は3である、直鎖状オルガノシロキサンと、
B)単位式:
[R SiO1/2[RSiO2/2[RSiO3/2[RSiO3/2[SiO4/2を含むオルガノシロキサン樹脂であって、
式中、各Rは、それぞれ独立して、脂肪族不飽和を含まないC〜C30ヒドロカルビル又は少なくとも1つの脂肪族不飽和結合を含むC〜C30ヒドロカルビル基であり、
各Rは、それぞれ独立して、脂肪族不飽和を含まないC〜C30ヒドロカルビル又は少なくとも1つの脂肪族不飽和結合を含むC〜C30ヒドロカルビル基であり、
上記オルガノシロキサン樹脂は0〜35モル%のシラノール基[≡SiOH]を含み、かつ
下付き文字a、b、c、d、及びeは、前記オルガノシロキサン樹脂中に存在する各シロキシ単位のモル分率を表し、その範囲は、
aは、約0〜約0.6であり、
bは、約0〜約1であり、
cは、約0〜約1であり、
dは、約0〜約1であり、
eは、約0〜約0.6であり、
但し、b+c+d+e>0及びa+b+c+d+e≦1である、オルガノシロキサン樹脂と
を反応させる工程を含む方法によって調製されてもよい。
In another embodiment, the resin-linear organosiloxane block copolymer of the present embodiments is
A) Formula:
There linear organosiloxanes having R 1 3-p (E) p SiO (R 1 2 SiO 2/2) n Si (E) p R 1 3-p,
Wherein each R 1 is independently C 1 -C 30 hydrocarbyl containing no aliphatic unsaturation;
n is 10 to 400;
E is a -OR 4, F, Cl, Br , I, -OC (O) R 4, -N (R 4) 2, or a hydrolyzable group selected from -ON = CR 4 2, Wherein R 4 is hydrogen or a C 1 -C 6 alkyl group;
Each p is independently 1, 2 or 3, a linear organosiloxane;
B) Unit formula:
Containing [R 1 2 R 2 SiO 1/2 ] a [R 1 R 2 SiO 2/2] b [R 1 SiO 3/2] c [R 2 SiO 3/2] d [SiO 4/2] e An organosiloxane resin,
Wherein each R 1 is independently a C 1 -C 30 hydrocarbyl containing no aliphatic unsaturation or a C 1 -C 30 hydrocarbyl group containing at least one aliphatic unsaturated bond;
Each R 2 is independently a C 1 -C 30 hydrocarbyl containing no aliphatic unsaturation or a C 1 -C 30 hydrocarbyl group containing at least one aliphatic unsaturated bond;
The organosiloxane resin contains 0 to 35 mol% of silanol groups [≡SiOH], and the subscripts a, b, c, d, and e represent the mole fraction of each siloxy unit present in the organosiloxane resin. Rate, the range of which is
a is from about 0 to about 0.6;
b is about 0 to about 1;
c is from about 0 to about 1,
d is about 0 to about 1,
e is from about 0 to about 0.6;
However, b + c + d + e> 0 and a + b + c + d + e ≦ 1 may be prepared by a method including a step of reacting with an organosiloxane resin.

更に他の実施形態において、本発明の実施形態の樹脂−直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマーは、
A)式:
3−p(E)SiO(R SiO2/2Si(E) 3−pを有する直鎖状オルガノシロキサンあって、
式中、各Rは、それぞれ独立して、脂肪族不飽和を含まないC〜C30ヒドロカルビルであり、
nは10〜400であり、
Eは、−OR、F、Cl、Br、I、−OC(O)R、−N(R、又は−ON=CR から選択される加水分解性基であって、式中、Rは、水素又はC〜Cアルキル基であり、
各pは、独立して1、2又は3である、直鎖状オルガノシロキサンと、
B)単位式:
[R SiO1/2[RSiO2/2[RSiO3/2[RSiO3/2[SiO4/2を含むオルガノシロキサン樹脂であって、
式中、各Rは、それぞれ独立して、脂肪族不飽和を含まないC〜C30ヒドロカルビルであり、
各Rは、それぞれ独立して、脂肪族不飽和を含まないC〜C30ヒドロカルビルであり、
上記オルガノシロキサン樹脂は0〜35モル%のシラノール基[≡SiOH]を含み、かつ、
下付き文字a、b、c、d、及びeは、前記オルガノシロキサン樹脂中に存在する各シロキシ単位のモル分率を表し、その範囲は、
aは、約0〜約0.6であり、
bは、約0〜約0.6であり、
cは、約0〜約1であり、
dは、約0〜約1であり、
eは、約0〜約0.6であり、
但し、b+c+d+e>0及びa+b+c+d+e≦1である、オルガノシロキサン樹脂と、
C)式R SiX4−qの化合物であって、
式中、各Rは、それぞれ独立して、脂肪族不飽和を含まないC〜C30ヒドロカルビル又は少なくとも1つの脂肪族不飽和結合を含むC〜C30ヒドロカルビル基であり、
qは0、1、又は2であり、
各Xは、独立して−OR、F、Cl、Br、I、−OC(O)R、−N(R、又は−ON=CR から選択される加水分解性基であって、式中、Rは、水素又は場合により置換されていてもよいC〜Cアルキル基である化合物と
を接触させる工程を含む方法によって調製されてもよく、
上記「接触」は任意の好適な順序で実施されてもよい。例えば、A)とB)とを最初に接触させ、続いてC)と接触させてもよい。あるいは、A)とC)とを最初に接触させ、続いてB)と接触させてもよく、B)とC)とを最初に接触させ、続いてA)と接触させてもよく、又は、A)、B)、及びC)を実質的に同時に互いに接触させてもよい。いくつかの実施形態では、A)とB)とを接触させた生成物をC)と接触させる。
In yet another embodiment, the resin-linear organosiloxane block copolymer of the embodiments of the present invention comprises:
A) Formula:
There linear organosiloxanes having R 1 3-p (E) p SiO (R 1 2 SiO 2/2) n Si (E) p R 1 3-p,
Wherein each R 1 is independently C 1 -C 30 hydrocarbyl containing no aliphatic unsaturation;
n is 10 to 400;
E is a -OR 4, F, Cl, Br , I, -OC (O) R 4, -N (R 4) 2, or a hydrolyzable group selected from -ON = CR 4 2, Wherein R 4 is hydrogen or a C 1 -C 6 alkyl group;
Each p is independently 1, 2 or 3, a linear organosiloxane;
B) Unit formula:
Containing [R 1 2 R 2 SiO 1/2 ] a [R 1 R 2 SiO 2/2] b [R 1 SiO 3/2] c [R 2 SiO 3/2] d [SiO 4/2] e An organosiloxane resin,
Wherein each R 1 is independently C 1 -C 30 hydrocarbyl containing no aliphatic unsaturation;
Each R 2 is independently a C 1 -C 30 hydrocarbyl containing no aliphatic unsaturation;
The organosiloxane resin contains 0 to 35 mol% of a silanol group [≡SiOH], and
Subscripts a, b, c, d, and e represent the mole fraction of each siloxy unit present in the organosiloxane resin, and the range is
a is from about 0 to about 0.6;
b is from about 0 to about 0.6;
c is from about 0 to about 1,
d is about 0 to about 1,
e is from about 0 to about 0.6;
Where b + c + d + e> 0 and a + b + c + d + e ≦ 1;
C) a compound of the formula R 1 q SiX 4-q ,
Wherein each R 1 is independently a C 1 -C 30 hydrocarbyl containing no aliphatic unsaturation or a C 1 -C 30 hydrocarbyl group containing at least one aliphatic unsaturated bond;
q is 0, 1, or 2,
Each X is, -OR 4 independently, F, Cl, Br, I , -OC (O) R 4, -N (R 4) 2, or a hydrolyzable group selected from -ON = CR 4 2 Wherein R 4 may be prepared by a method comprising contacting with hydrogen or a compound that is an optionally substituted C 1 -C 6 alkyl group,
The "contacting" may be performed in any suitable order. For example, A) and B) may be contacted first, followed by C). Alternatively, A) and C) may be contacted first and then contacted with B), B) and C) may be contacted first and then contacted with A), or A), B) and C) may be contacted with each other substantially simultaneously. In some embodiments, the product of contacting A) and B) is contacted with C).

本明細書に記載のオルガノシロキサンブロックコポリマーの生成方法は、いくつかの実施形態において、
40〜90モルパーセントの式[R SiO2/2]のジシロキシ単位、
10〜60モルパーセントの式[RSiO3/2]のトリシロキシ単位、
0.5〜35モルパーセントのシラノール基[≡SiOH]を含む、オルガノシロキサンブロックコポリマーである反応生成物を生じ、
式中、
各Rは、それぞれ独立して、C〜C30ヒドロカルビル又は少なくとも1つの脂肪族不飽和結合を含むC〜C30ヒドロカルビル基であり、
各Rは、それぞれ独立して、C〜C30ヒドロカルビル又は少なくとも1つの脂肪族不飽和結合を含むC〜C30ヒドロカルビル基であり、
ここで、
上記ジシロキシ単位[R SiO2/2]は、直鎖状ブロック1つ当たり平均で10〜400個のジシロキシ単位[R SiO2/2]を有する直鎖状ブロックの中に配置され、
上記トリシロキシ単位[RSiO3/2]は、少なくとも500g/モルの分子量を有する非直鎖状ブロックの中に配置され、
非直鎖状ブロックの少なくとも30%は、互いに架橋しており、
各直鎖状ブロックは、−Si−O−Si−結合を介して少なくとも1つの非直鎖状ブロックに連結されており、
上記オルガノシロキサンブロックコポリマーは、少なくとも20,000g/モルの重量平均分子量を有し、かつ
上記オルガノシロキサンブロックコポリマーは、約0.5〜約5モル%の少なくとも1つの脂肪族不飽和結合を含むC〜C30ヒドロカルビル基を含む。
The method of forming organosiloxane block copolymers described herein includes, in some embodiments,
Disiloxy unit of the formula [R 1 2 SiO 2/2] of 40 to 90 mole percent,
Torishirokishi units of the formula [R 2 SiO 3/2] of 10 to 60 mole percent,
Producing a reaction product that is an organosiloxane block copolymer containing 0.5 to 35 mole percent silanol groups [@SiOH];
Where:
Each R 1 is independently a C 1 -C 30 hydrocarbyl or a C 1 -C 30 hydrocarbyl group containing at least one aliphatic unsaturated bond;
Each R 2 is independently a C 1 -C 30 hydrocarbyl or a C 1 -C 30 hydrocarbyl group containing at least one aliphatic unsaturated bond;
here,
The disiloxy unit [R 1 2 SiO 2/2] are arranged in linear blocks having an average per linear block 10-400 amino disiloxy unit [R 1 2 SiO 2/2] ,
The trisiloxy units [R 2 SiO 3/2 ] are arranged in a non-linear block having a molecular weight of at least 500 g / mol;
At least 30% of the non-linear blocks are cross-linked to each other;
Each linear block is linked to at least one non-linear block via a -Si-O-Si- bond;
The organosiloxane block copolymer has a weight average molecular weight of at least 20,000 g / mol, and the organosiloxane block copolymer has about 0.5 to about 5 mol% of a C containing at least one aliphatic unsaturated bond. including a 1 ~C 30 hydrocarbyl group.

いくつかの実施形態において、かかるオルガノシロキサンブロックコポリマー反応生成物を、式R SiX4−qの化合物と接触させてもよく、式中、各Rは、独立してC〜Cヒドロカルビル(例えば、C〜Cアルキル基、あるいはフェニル基、あるいはRはメチル、エチル、又はメチルとエチルの組み合わせである)又はC〜Cハロゲン置換ヒドロカルビルであり、各Xは、独立して−OR、F、Cl、Br、I、−OC(O)R、−N(R、又は−ON=CR から選択される加水分解性基であって、式中、Rは、水素又は場合により置換されていてもよいC〜Cアルキル基である。 In some embodiments, such organosiloxane block copolymer reaction product may be contacted with a compound of the formula R 5 q SiX 4-q, wherein each R 5 is, C 1 independently -C 8 A hydrocarbyl (eg, a C 1 -C 8 alkyl group, or a phenyl group, or R 5 is methyl, ethyl, or a combination of methyl and ethyl) or a C 1 -C 8 halogen-substituted hydrocarbyl, wherein each X is independently -OR 4, F and, Cl, Br, I, -OC (O) R 4, -N (R 4) 2, or a hydrolyzable group selected from -ON = CR 4 2, wherein Wherein R 4 is hydrogen or an optionally substituted C 1 -C 6 alkyl group.

一実施形態において、式R SiX4−qを有する化合物は、メチルトリアセトキシシラン、エチルトリアセトキシシラン、又はこの2つの組み合わせ等のアルキルトリアセトキシシランである。市販の代表的なアルキルトリアセトキシシランとしては、ETS−900(Dow Corning Corp.(Midland,MI))、メチル−トリス(メチルエチルケトキシム)シラン(MTO)、メチルトリアセトキシシラン、エチルトリアセトキシシラン、テトラアセトキシシラン、テトラオキシムシラン、ジメチルジアセトキシシラン、ジメチルジオキシムシラン、及びメチルトリス(メチルメチルケトキシム)シランが挙げられる。いくつかの実施形態において、オルガノシロキサンブロックコポリマー反応生成物を式R SiX4−qの化合物と接触させて、例えば、ヒドロシリル化硬化の後に湿気硬化機構によって硬化する基をオルガノシロキサンブロックコポリマーに導入してもよい。
直鎖状オルガノシロキサン
In one embodiment, compounds having the formula R 5 q SiX 4-q is an alkyl triacetoxy silane such as methyl triacetoxy silane, ethyltriacetoxysilane, or a combination of the two. Typical commercially available alkyltriacetoxysilanes include ETS-900 (Dow Corning Corp. (Midland, MI)), methyl-tris (methylethylketoxime) silane (MTO), methyltriacetoxysilane, ethyltriacetoxysilane, tetra Examples include acetoxysilane, tetraoximesilane, dimethyldiacetoxysilane, dimethyldioximesilane, and methyltris (methylmethylketoxime) silane. In some embodiments, the organosiloxane block copolymer reaction product is contacted with a compound of the formula R 5 q SiX 4-q, for example, a group which is cured by moisture curing mechanism after the hydrosilylation curing organosiloxane block copolymer May be introduced.
Linear organosiloxane

式R 3−p(E)SiO(R SiO2/2Si(E) 3−p(式中、各Rは、それぞれ独立して、脂肪族不飽和を含まないC〜C30ヒドロカルビルであり、nは10〜400であり、Eは、−OR、F、Cl、Br、I、−OC(O)R、−N(R、又は−ON=CR から選択される加水分解性基であって、式中、Rは、水素又はC〜Cアルキル基である)を有する直鎖状オルガノシロキサン。 Wherein R 1 3-p (E) p SiO (R 1 2 SiO 2/2) n Si (E) p R 1 3-p ( wherein each R 1 is, each independently, an aliphatic unsaturation Not containing C 1 -C 30 hydrocarbyl, n is 10-400, and E is —OR 4 , F, Cl, Br, I, —OC (O) R 4 , —N (R 4 ) 2 , or -ON = CR 4 a 2 hydrolyzable group selected from, wherein, R 4 is a linear organosiloxane having a hydrogen) or a C 1 -C 6 alkyl group.

下付き文字「n」は、直鎖状オルガノシロキサンの重合度(dp)とみなしてもよく、10〜400(例えば、平均で約10〜約350D単位、約10〜約300D単位、約10〜約200D単位、約10〜約100D単位、約50〜約400D単位、約100〜約400D単位、約150〜約400D単位、約200〜約400D単位、約300〜約400D単位、約50〜約300D単位、約100〜約300D単位、約150〜約300D単位、約200〜約300D単位、約100〜約150D単位、約115〜約125D単位、約90〜約170D単位又は約110〜約140D単位)で変動してもよい。   The subscript "n" may be considered to be the degree of polymerization (dp) of the linear organosiloxane, and may range from 10 to 400 (e.g., about 10 to about 350 D units, about 10 to about 300 D units, about 10 to about 300 D units on average, About 200 D units, about 10 to about 100 D units, about 50 to about 400 D units, about 100 to about 400 D units, about 150 to about 400 D units, about 200 to about 400 D units, about 300 to about 400 D units, about 50 to about 300 D units, about 100 to about 300 D units, about 150 to about 300 D units, about 200 to about 300 D units, about 100 to about 150 D units, about 115 to about 125 D units, about 90 to about 170 D units, or about 110 to about 140 D units. (Unit).

式R 3−p(E)SiO(R SiO2/2Si(E) 3−pを有するオルガノシロキサンは直鎖状として記載されるが、当業者は、直鎖状オルガノシロキサンが少量の別のシロキシ単位、例えばT(RSiO3/2)シロキシ単位を含んでもよいことを理解する。同様に、オルガノシロキサンは、D(R SiO2/2)シロキシ単位の大部分を有することにより「主に」直鎖状であるとみなされてもよい。更に、直鎖状オルガノシロキサンは、複数の直鎖状オルガノシロキサンの組み合わせであってもよい。なお更には、直鎖状オルガノシロキサンは、シラノール基を含んでもよい。いくつかの実施形態において、直鎖状オルガノシロキサンは、約0.5〜約5モル%のシラノール基、例えば、約1モル%〜約3モル%、約1モル%〜約2モル%又は約1モル%〜約1.5モル%のシラノール基を含む。
オルガノシロキサン樹脂
Although organosiloxane having the formula R 1 3-p (E) p SiO (R 1 2 SiO 2/2) n Si (E) p R 1 3-p are described as linear, those skilled in the art, a straight It is understood that the chain organosiloxane may include a small amount of another siloxy unit, for example, a T (R 1 SiO 3/2 ) siloxy unit. Similarly, the organosiloxane may be considered to be "predominantly" linear by having a majority of the D (R 1 2 SiO 2/2) siloxy units. Further, the linear organosiloxane may be a combination of a plurality of linear organosiloxanes. Still further, the linear organosiloxane may contain silanol groups. In some embodiments, the linear organosiloxane has about 0.5 to about 5 mole% silanol groups, for example, about 1 mole% to about 3 mole%, about 1 mole% to about 2 mole%, or about It contains from 1 mole% to about 1.5 mole% of silanol groups.
Organosiloxane resin

単位式[R SiO1/2[RSiO2/2[RSiO3/2[RSiO3/2[SiO4/2を含むオルガノシロキサン樹脂及びそれを調製する方法(式中、各Rは、それぞれ独立して、脂肪族不飽和を含まないC〜C30ヒドロカルビルであり、各Rは、それぞれ独立して、脂肪族不飽和を含まないC〜C30ヒドロカルビルである)は当該技術分野において既知である。例えば参照によりその全体を本明細書に援用する国際公開第2012/040302号及び国際公開第2012/040305号参照。いくつかの実施形態では、上記のオルガノシロキサン樹脂は、ケイ素原子上にハロゲン又はアルコキシ基等の加水分解性基を3個有するオルガノシランを有機溶媒中で加水分解することによって調製される。シルセスキオキサン樹脂の調製に関する代表的な実施例は、米国特許第5,075,103号に見出すことができる。更に、多くのオルガノシロキサン樹脂が市販されており、固体(フレーク又は粉末)又は有機溶媒に溶解したもののいずれかとして販売されている。好適で、非限定的な市販のオルガノシロキサン樹脂としては、Dow Corning(登録商標)217フレーク樹脂、233フレーク、220フレーク、249フレーク、255フレーク、Z−6018フレーク(Dow Corning Corporation(Midland MI))が挙げられる。 Unit formula [R 1 2 R 2 SiO 1/2 ] a [R 1 R 2 SiO 2/2] b [R 1 SiO 3/2] c [R 2 SiO 3/2] d [SiO 4/2] e And a method for preparing the same, wherein each R 1 is independently C 1 -C 30 hydrocarbyl containing no aliphatic unsaturation, and each R 2 is independently a C 1 -C 30 hydrocarbyl free of aliphatic unsaturation) are known in the art. See, for example, WO 2012/040302 and WO 2012/040305, which are hereby incorporated by reference in their entireties. In some embodiments, the above-mentioned organosiloxane resin is prepared by hydrolyzing an organosilane having three hydrolyzable groups such as a halogen or an alkoxy group on a silicon atom in an organic solvent. A representative example for the preparation of a silsesquioxane resin can be found in US Pat. No. 5,075,103. In addition, many organosiloxane resins are commercially available and are sold either as solids (flakes or powders) or dissolved in organic solvents. Suitable non-limiting commercially available organosiloxane resins include Dow Corning® 217 flake resin, 233 flake, 220 flake, 249 flake, 255 flake, Z-6018 flake (Dow Corning Corporation (Midland MI)). Is mentioned.

単位式[R SiO1/2[RSiO2/2[RSiO3/2[RSiO3/2[SiO4/2を含むオルガノシロキサン樹脂及びそれを調製する方法(式中、各Rは、それぞれ独立して、脂肪族不飽和を含まないC〜C30ヒドロカルビル又は少なくとも1つの脂肪族不飽和結合を含むC〜C30ヒドロカルビル基であり、各Rは、それぞれ独立して、脂肪族不飽和を含まないC〜C30ヒドロカルビル又は少なくとも1つの脂肪族不飽和結合を含むC〜C30ヒドロカルビル基である)は、同様の方法で製造されてもよい。
式R SiXの化合物
Unit formula [R 1 2 R 2 SiO 1/2 ] a [R 1 R 2 SiO 2/2] b [R 1 SiO 3/2] c [R 2 SiO 3/2] d [SiO 4/2] e And a method of preparing the same, wherein each R 1 is independently a C 1 -C 30 hydrocarbyl containing no aliphatic unsaturation or a C 1 containing at least one aliphatic unsaturated bond. A C 1 -C 30 hydrocarbyl group, wherein each R 2 is independently a C 1 -C 30 hydrocarbyl containing no aliphatic unsaturation or a C 1 -C 30 hydrocarbyl group containing at least one aliphatic unsaturated bond. ) May be manufactured in a similar manner.
Compounds of the formula R 1 R 2 2 SiX

いくつかの実施形態において、少なくとも1つの脂肪族不飽和結合を含むC〜C30ヒドロカルビル基は、
40〜90モルパーセントの式[R SiO2/2]のジシロキシ単位、
10〜60モルパーセントの式[RSiO3/2]のトリシロキシ単位、
0.5〜35モルパーセントのシラノール基[≡SiOH]を含む、樹脂直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマー
(式中、
各Rは、それぞれ独立して、脂肪族不飽和を含まないC〜C30ヒドロカルビルであり、
各Rは、それぞれ独立して、脂肪族不飽和を含まないC〜C30ヒドロカルビルであり、
ここで、
上記ジシロキシ単位[R SiO2/2]は、直鎖状ブロック1つ当たり平均で10〜400個のジシロキシ単位[R SiO2/2]を有する直鎖状ブロックの中に配置され、
上記トリシロキシ単位[RSiO3/2]は、少なくとも500g/モルの分子量を有する非直鎖状ブロックの中に配置され、この非直鎖状ブロックの少なくとも30%は互いに架橋しており、
各直鎖状ブロックは、−Si−O−Si−結合を介して少なくとも1つの非直鎖状ブロックに連結されており、かつ、
上記オルガノシロキサンブロックコポリマーは、少なくとも20,000g/モルの重量平均分子量を有する)又は
単位式[R SiO1/2[RSiO2/2[RSiO3/2[RSiO3/2[SiO4/2を含むオルガノシロキサン樹脂を、
式R SiXの化合物(式中、各Rは、それぞれ独立して、C〜C30ヒドロカルビル又は少なくとも1つの脂肪族不飽和結合を含むC〜C30ヒドロカルビル基であり、各Rは、それぞれ独立して、C〜C30ヒドロカルビル又は少なくとも1つの脂肪族不飽和結合を含むC〜C30ヒドロカルビル基であり、Xは−OR、F、Cl、Br、I、−OC(O)R、−N(R、又は−ON=CR から選択される加水分解性基であって、式中、Rは水素又は場合により置換されていてもよいC〜Cアルキル基である)
と接触させる(例えば、反応させる)ことによって、本発明の実施形態のオルガノシロキサンブロックコポリマーに導入される。
In some embodiments, the C 1 -C 30 hydrocarbyl group containing at least one aliphatic unsaturated bond is
Disiloxy unit of the formula [R 1 2 SiO 2/2] of 40 to 90 mole percent,
Torishirokishi units of the formula [R 2 SiO 3/2] of 10 to 60 mole percent,
Resin linear organosiloxane block copolymer containing 0.5 to 35 mole percent silanol groups [@SiOH], where:
Each R 1 is independently C 1 -C 30 hydrocarbyl containing no aliphatic unsaturation;
Each R 2 is independently a C 1 -C 30 hydrocarbyl containing no aliphatic unsaturation;
here,
The disiloxy unit [R 1 2 SiO 2/2] are arranged in linear blocks having an average per linear block 10-400 amino disiloxy unit [R 1 2 SiO 2/2] ,
The trisiloxy units [R 2 SiO 3/2 ] are arranged in non-linear blocks having a molecular weight of at least 500 g / mol, at least 30% of the non-linear blocks being cross-linked to one another,
Each linear block is linked to at least one non-linear block via a -Si-O-Si- bond, and
The organosiloxane block copolymer is at least 20,000 g / mol having a weight average molecular weight) or unit formula [R 1 2 R 2 SiO 1/2 ] a [R 1 R 2 SiO 2/2] b [R 1 SiO 3/2 ] c [R 2 SiO 3/2 ] d [SiO 4/2 ] e containing organosiloxane resin
Wherein R 1 R 2 2 SiX compound (wherein, each R 1 is independently a C 1 -C 30 hydrocarbyl or at least one C 1 -C 30 hydrocarbyl group containing an aliphatic unsaturated bond, Each R 2 is independently a C 1 -C 30 hydrocarbyl or a C 1 -C 30 hydrocarbyl group containing at least one aliphatic unsaturated bond, and X is —OR 4 , F, Cl, Br, I , -OC (O) R 4, an -N (R 4) 2, or a hydrolyzable group selected from -ON = CR 4 2, wherein, R 4 is optionally substituted by hydrogen or Or a C 1 -C 6 alkyl group)
Is introduced into the organosiloxane block copolymer of an embodiment of the present invention by contacting (eg, reacting).

一実施形態において、式R SiXの化合物は、式(ビニル)R SiX、(ビニル)R SiCl、(ビニル)(CHSiX、(ビニル)(CHSiCl、(ビニル)(フェニル)SiX、(ビニル)(フェニル)SiCl、(ビニル−フェニル)R SiX又は(ビニル−フェニル)R SiClの化合物であってもよい。 In one embodiment, the compound of the formula R 1 R 2 2 SiX the formula (vinyl) R 2 2 SiX, (vinyl) R 2 2 SiCl, (vinyl) (CH 3) 2 SiX, ( vinyl) (CH 3) 2 SiCl, (vinyl) (phenyl) 2 SiX, (vinyl) (phenyl) 2 SiCl, (vinyl - phenyl) R 2 2 SiX or (vinyl - phenyl) may be a compound of R 2 2 SiCl.

使用される場合、式R SiXを有するオルガノシランの量は様々であってもよいが、いくつかの実施形態においては、約0.5〜約20モル%(例えば、約0.5〜約1モル%、約0.5〜約4.5モル%、約1〜約4モル%、約2〜約3モル%、約2〜約4モル%、約1〜約5モル%、約2〜約5モル%、約2〜約10モル%、約5〜約10モル%、約5〜約15モル%、約10〜約20モル%又は約5〜約20モル%)の、少なくとも1つの脂肪族不飽和結合を含むC〜C30ヒドロカルビル基を含むオルガノシロキサンブロックコポリマーを最終的にもたらすのに十分な量である。
硬化性樹脂−直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマー組成物
When used, the amount of the organosilane having the formula R 1 R 2 2 SiX may vary, in some embodiments, from about 0.5 to about 20 mole% (e.g., about 0. 5 to about 1 mol%, about 0.5 to about 4.5 mol%, about 1 to about 4 mol%, about 2 to about 3 mol%, about 2 to about 4 mol%, about 1 to about 5 mol% , About 2 to about 5 mol%, about 2 to about 10 mol%, about 5 to about 10 mol%, about 5 to about 15 mol%, about 10 to about 20 mol%, or about 5 to about 20 mol%). is an amount sufficient to provide an organosiloxane block copolymer finally comprising C 1 -C 30 hydrocarbyl group containing at least one aliphatic unsaturation.
Curable resin-linear organosiloxane block copolymer composition

本開示は、とりわけ、約0.5〜約5モル%の少なくとも1つの脂肪族不飽和結合を含むC〜C30ヒドロカルビル基を含む樹脂直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマー及び好適な溶媒(例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、又はこれらの組み合わせ等の芳香族溶媒)を含む硬化性組成物も提供する。上記の硬化性組成物は、単位式:
[R SiO1/2[RSiO2/2[RSiO3/2[RSiO3/2[SiO4/2を有し、
0〜35モル%のシラノール基[≡SiOH]を含む化合物の存在下でのヒドロシリル化反応により硬化されてもよく、
式中、
各Rは、それぞれ独立して、H又は脂肪族不飽和を含まないC〜C30ヒドロカルビルであり、
各Rは、それぞれ独立して、H又は脂肪族不飽和を含まないC〜C30ヒドロカルビルであり、
下付き文字a、b、c、d、及びeは存在する各シロキシ単位のモル分率を表し、その範囲は、
aは、約0〜約0.6であり、
bは、約0〜約0.6であり、
cは、約0〜約1であり、
dは、約0〜約1であり、
eは、約0〜約0.6であり、
但し、
b+c+d+e>0及びa+b+c+d+e≦1であり、
少なくとも約1モル%(例えば、少なくとも約5モル%、少なくとも約10モル%、少なくとも約15モル%又は少なくとも約20モル%、又は約1〜約20モル%、約1〜約10モル%又は約1〜約5モル%)のR及び/又はRはHである。
This disclosure is drawn, inter alia, from about 0.5 to about 5 mole percent of at least one C 1 -C 30 resin linear organosiloxane block copolymer comprising a hydrocarbyl group and suitable solvents containing aliphatic unsaturated bonds (e.g., A curable composition comprising an aromatic solvent such as benzene, toluene, xylene, or a combination thereof is also provided. The above curable composition has the unit formula:
[R 1 2 R 2 SiO 1/2 ] a [R 1 R 2 SiO 2/2] b [R 1 SiO 3/2] c [R 2 SiO 3/2] d have a [SiO 4/2] e And
It may be cured by a hydrosilylation reaction in the presence of a compound containing 0 to 35 mol% of silanol groups [≡SiOH],
Where:
Each R 1 is independently H or C 1 -C 30 hydrocarbyl containing no aliphatic unsaturation;
Each R 2 is independently H or C 1 -C 30 hydrocarbyl free of aliphatic unsaturation;
The subscripts a, b, c, d, and e represent the mole fraction of each siloxy unit present, and the range is
a is from about 0 to about 0.6;
b is from about 0 to about 0.6;
c is from about 0 to about 1,
d is about 0 to about 1,
e is from about 0 to about 0.6;
However,
b + c + d + e> 0 and a + b + c + d + e ≦ 1;
At least about 1 mol% (e.g., at least about 5 mol%, at least about 10 mol%, at least about 15 mol% or at least about 20 mol%, or about 1 to about 20 mol%, about 1 to about 10 mol% or about R 1 and / or R 2 is H.

本開示は、とりわけ、約0.5〜約5モル%の少なくとも1つの脂肪族不飽和結合を含むC〜C30ヒドロカルビル基を含む樹脂直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマー及び好適な溶媒(例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、又はこれらの組み合わせ等の芳香族溶媒)を含む硬化性組成物も提供する。硬化性組成物は、単位式:
[R SiO1/2[RSiO2/2[RSiO3/2[RSiO3/2[SiO4/2を有し、
0〜35モル%のシラノール基[≡SiOH]を含む化合物の存在下でのヒドロシリル化反応により硬化されてもよく、
式中、
各Rは、それぞれ独立して、H、式−[RSi][RSiH](式中、R、Rは、独立してH又は脂肪族不飽和を含まないC〜C30ヒドロカルビルであり、kは0〜10の整数である)のシラン基又は脂肪族不飽和を含まないC〜C30ヒドロカルビルであり、
各Rは、それぞれ独立して、H、式−[RSi][RSiH](式中、R、Rは、独立してH又は脂肪族不飽和を含まないC〜C30ヒドロカルビルであり、kは0〜10の整数である)のシラン基又は脂肪族不飽和を含まないC〜C30ヒドロカルビルであり、
下付き文字a、b、c、d、及びeは存在する各シロキシ単位のモル分率を表し、その範囲は、
aは、約0〜約0.6であり、
bは、約0〜約0.6であり、
cは、約0〜約1であり、
dは、約0〜約1であり、
eは、約0〜約0.6であり、
但し、
b+c+d+e>0及びa+b+c+d+e≦1であり、
少なくとも約1モル%(例えば、少なくとも約5モル%、少なくとも約10モル%、少なくとも約15モル%又は少なくとも約20モル%、又は約1〜約20モル%、約1〜約10モル%又は約1〜約5モル%)のR及び/又はRは、H又は式−[RSi][RSiH]のシラン基である。
This disclosure is drawn, inter alia, from about 0.5 to about 5 mole percent of at least one C 1 -C 30 resin linear organosiloxane block copolymer comprising a hydrocarbyl group and suitable solvents containing aliphatic unsaturated bonds (e.g., A curable composition comprising an aromatic solvent such as benzene, toluene, xylene, or a combination thereof is also provided. The curable composition has the unit formula:
[R 1 2 R 2 SiO 1/2 ] a [R 1 R 2 SiO 2/2] b [R 1 SiO 3/2] c [R 2 SiO 3/2] d have a [SiO 4/2] e And
It may be cured by a hydrosilylation reaction in the presence of a compound containing 0 to 35 mol% of silanol groups [≡SiOH],
Where:
Each R 1 is independently H, and the formula — [R 6 R 7 Si] k [R 6 R 7 SiH] (wherein R 6 and R 7 independently represent H or aliphatic unsaturation. a C 1 -C 30 hydrocarbyl free, k is C 1 -C 30 hydrocarbyl containing no silane groups or aliphatic unsaturated and is) an integer of 0,
Each R 2 is independently H, and the formula — [R 6 R 7 Si] k [R 6 R 7 SiH] (wherein R 6 and R 7 independently represent H or aliphatic unsaturation. a C 1 -C 30 hydrocarbyl free, k is C 1 -C 30 hydrocarbyl containing no silane groups or aliphatic unsaturated and is) an integer of 0,
The subscripts a, b, c, d, and e represent the mole fraction of each siloxy unit present, and the range is
a is from about 0 to about 0.6;
b is from about 0 to about 0.6;
c is from about 0 to about 1,
d is about 0 to about 1,
e is from about 0 to about 0.6;
However,
b + c + d + e> 0 and a + b + c + d + e ≦ 1;
At least about 1 mol% (e.g., at least about 5 mol%, at least about 10 mol%, at least about 15 mol% or at least about 20 mol%, or about 1 to about 20 mol%, about 1 to about 10 mol% or about (1 to about 5 mol%) R 1 and / or R 2 is H or a silane group of the formula — [R 6 R 7 Si] k [R 6 R 7 SiH].

一実施形態において、単位式[R SiO1/2[RSiO2/2[RSiO3/2[RSiO3/2[SiO4/2を有する化合物は、式R (3−q)SiO(R SiO2/2SiR (3−q) の化合物であり、式中、各Rは、それぞれ独立して、脂肪族不飽和を含まないC〜C30ヒドロカルビルであり、mは0〜50(例えば、約10〜約50D単位、約20〜約50D単位、約5〜約40D単位、又は約10〜約40D単位)、あるいは0〜10、あるいは0〜5であり、あるいはmは0であり、qは0、1、又は2であり、あるいはqは2であり、各Rは、それぞれ独立してH又はRであり、但し、式R (3−q)SiO(R SiO2/2SiR (3−q) の化合物の各末端において少なくとも1つのRはHである。 In one embodiment, the unit formula [R 1 2 R 2 SiO 1/2 ] a [R 1 R 2 SiO 2/2] b [R 1 SiO 3/2] c [R 2 SiO 3/2] d [SiO compounds with 4/2] e is a compound of the formula R 1 q R 3 (3- q) SiO (R 1 2 SiO 2/2) m SiR 3 (3-q) R 1 q, where Each R 1 is independently a C 1 -C 30 hydrocarbyl containing no aliphatic unsaturation, and m is 0-50 (eg, about 10 to about 50 D units, about 20 to about 50 D units, about 5 To about 40 D units, or about 10 to about 40 D units), or 0 to 10, or 0 to 5, or m is 0, q is 0, 1, or 2, or q is 2. each R 3 is H or R 1 each independently, provided that the formula R 1 q R (3-q) SiO (R 1 2 SiO 2/2) m SiR 3 (3-q) at least one R 3 at each end of the compound of R 1 q is H.

いくつかの実施形態において、単位式[R SiO1/2[RSiO2/2[RSiO3/2[RSiO3/2[SiO4/2を有する化合物又は式R (3−q)SiO(R SiO2/2SiR (3−q) の化合物は、式H(CHSiO[(CHSiO2/2)]Si(CHHを有し、ここでnは10〜400(例えば、平均で約10〜約350D単位、約10〜約300D単位、約10〜約200D単位、約10〜約100D単位、約50〜約400D単位、約100〜約400D単位、約150〜約400D単位、約200〜約400D単位、約300〜約400D単位、約50〜約300D単位、約100〜約300D単位、約150〜約300D単位、約200〜約300D単位、約100〜約150D単位、約115〜約125D単位、約90〜約170D単位又は約110〜約140D単位で変動してもよい。 In some embodiments, the unit formula [R 1 2 R 2 SiO 1/2 ] a [R 1 R 2 SiO 2/2] b [R 1 SiO 3/2] c [R 2 SiO 3/2] d [SiO 4/2] a compound having the e or the formula R 1 q R 3 (3- q) SiO (R 1 2 SiO 2/2) m SiR 3 (3-q) compound of R 1 q has the formula H ( CH 3 ) 2 SiO [(CH 3 ) 2 SiO 2/2 )] n Si (CH 3 ) 2 H, where n is 10 to 400 (eg, about 10 to about 350 D units on average, about 10 About 300 D units, about 10 to about 200 D units, about 10 to about 100 D units, about 50 to about 400 D units, about 100 to about 400 D units, about 150 to about 400 D units, about 200 to about 400 D units, about 300 to about 400 D units. About 400D units, about 50 to about 300D units, 100 to about 300 D units, about 150 to about 300 D units, about 200 to about 300 D units, about 100 to about 150 D units, about 115 to about 125 D units, about 90 to about 170 D units, or about 110 to about 140 D units. You may.

更なる実施形態において、単位式[R SiO1/2[RSiO2/2[RSiO3/2[RSiO3/2[SiO4/2を有する化合物又は式R (3−q)SiO(R SiO2/2SiR (3−q) の化合物は、式H(CHSiOSi(CHH、H(CH)(Ph)SiOSi(CHH、H(Ph)SiOSi(CHH、H(CH)(Ph)SiOSi(CH)(Ph)H、H(Ph)SiOSi(Ph)H、H(CHSiOSi(CHOSi(CHH、H(CHSiOSi(Ph)(CH)OSi(CHH、H(CHSiOSi(Ph)OSi(CHH、H(CH)(Ph)SiOSi(Ph)(CH)OSi(Ph)(CH)H、H(CH)(Ph)SiOSi(Ph)OSi(Ph)(CH)H又はH(CHSiOSi(Ph)OSi(Ph)OSi(CHHを有する。 In a further embodiment, the unit formula [R 1 2 R 2 SiO 1/2 ] a [R 1 R 2 SiO 2/2] b [R 1 SiO 3/2] c [R 2 SiO 3/2] d [ SiO 4/2] a compound having the e or the formula R 1 q R 3 (3- q) SiO (R 1 2 SiO 2/2) m SiR 3 (3-q) compound of R 1 q has the formula H (CH 3) 2 SiOSi (CH 3) 2 H, H (CH 3) (Ph) SiOSi (CH 3) 2 H, H (Ph) 2 SiOSi (CH 3) 2 H, H (CH 3) (Ph) SiOSi ( CH 3) (Ph) H, H (Ph) 2 SiOSi (Ph) 2 H, H (CH 3) 2 SiOSi (CH 3) 2 OSi (CH 3) 2 H, H (CH 3) 2 SiOSi (Ph) (CH 3) OSi (CH 3 ) 2 H, H (CH 3 2 SiOSi (Ph) 2 OSi ( CH 3) 2 H, H (CH 3) (Ph) SiOSi (Ph) (CH 3) OSi (Ph) (CH 3) H, H (CH 3) (Ph) SiOSi ( Ph) having 2 OSi (Ph) (CH 3 ) H or H (CH 3) 2 SiOSi ( Ph) 2 OSi (Ph) 2 OSi (CH 3) 2 H.

他の実施形態において、硬化性組成物は、単位式:
[RSiO1/2[RSiO2/2[RSiO3/2を有する化合物の存在下でヒドロシリル化反応により硬化されてもよく、
In another embodiment, the curable composition has a unit formula:
It may be cured by a hydrosilylation reaction in the presence of a compound having [R 1 R 2 R 8 SiO 1/2 ] f [R 1 R 9 SiO 2/2 ] g [R 1 SiO 3/2 ] h ,

式中、R及びRは、独立して、脂肪族不飽和を含まないC〜C30ヒドロカルビルであり、R及びRは、独立してH、脂肪族不飽和を含まないC〜C30ヒドロカルビル又は式−[R1011Si][R1011SiH](式中、R10、R11は、独立してH又は脂肪族不飽和を含まないC〜C30ヒドロカルビルであり、pは0〜10の整数である)のシラン基であり、fは0〜100(例えば、2〜100、40〜50、40〜60、50〜70、40〜80、40〜70、1〜80、1〜10、0〜10、1〜6又は10〜70)の整数であり、gは0〜50(例えば、1〜50、1〜30、1〜8、1〜6又は1〜4)の整数であり、hは0〜60(例えば、30〜50、0〜15、0〜40、10〜40、20〜40、0〜10、0〜5又は1〜5)の整数であり、単位式[RSiO1/2[RSiO2/2[RSiO3/2を有する化合物中のSiH基の数は1分子当たり≧2(例えば、1分子当たり≧4、≧6、≧8、≧10、又は2〜10)である。 Wherein R 1 and R 2 are independently C 1 -C 30 hydrocarbyl containing no aliphatic unsaturation, and R 8 and R 9 are independently H, C containing no aliphatic unsaturation. 1 -C 30 hydrocarbyl or formula - [10 R 11 Si R] p [R 10 R 11 SiH] ( wherein, R 10, R 11 is independently C 1 that does not contain H or aliphatic unsaturation -C 30 is hydrocarbyl, p is an integer of 0 to 10), and f is 0 to 100 (for example, 2 to 100, 40 to 50, 40 to 60, 50 to 70, 40 to 80, 40). To 70, 1 to 80, 1 to 10, 0 to 10, 1 to 6, or 10 to 70), and g is 0 to 50 (for example, 1 to 50, 1 to 30, 1 to 8, 1 to 1). 6 or 1 to 4), and h is 0 to 60 (for example, 30 to 50, 0 to 15, 0 to 0). An integer of 0,10~40,20~40,0~10,0~5 or 1-5), unit formula [R 1 R 2 R 8 SiO 1/2] f [R 1 R 9 SiO 2 / 2 ] g [R 1 SiO 3/2 ] The number of SiH groups in the compound having h is ≧ 2 (for example, ≧ 4, ≧ 6, ≧ 8, ≧ 10, or 2 to 10 per molecule). It is.

単位式[RSiO1/2[RSiO2/2[RSiO3/2(式中、gは0である)を有する化合物の非限定例としては、
[RSiO1/2[RSiO3/2が挙げられ、
式中、R及びRは、独立して、脂肪族不飽和を含まないC〜C30ヒドロカルビルであり、Rは、独立してH、脂肪族不飽和を含まないC〜C30ヒドロカルビル又は式−[R1011Si][R1011SiH](式中、R10、R11は、独立してH又は脂肪族不飽和を含まないC〜C30ヒドロカルビルであり、pは0〜10の整数である)のシラン基であり、fは2〜100(例えば、40〜50、40〜60、50〜70、40〜80、40〜70、2〜80、2〜10、2〜6又は10〜70)の整数であり、hは0〜60(例えば、30〜50、0〜15、0〜40、10〜40、20〜40、0〜10、0〜5又は1〜5)の整数であり、単位式[RSiO1/2[RSiO3/2を有する化合物中のSiH基の数は1分子当たり≧2(例えば、1分子当たり≧4、≧6、≧8、≧10、又は2〜10)である。
Non-compounds having the unit formula [R 1 R 2 R 8 SiO 1/2 ] f [R 1 R 9 SiO 2/2 ] g [R 1 SiO 3/2 ] h (where g is 0) As a limited example,
[R 1 R 2 R 8 SiO 1/2 ] f [R 1 SiO 3/2 ] h ,
Wherein R 1 and R 2 are independently C 1 -C 30 hydrocarbyl containing no aliphatic unsaturation, and R 8 is independently H, C 1 -C containing no aliphatic unsaturation. 30 hydrocarbyl or formula - [10 R 11 Si R] p [R 10 R 11 SiH] ( wherein, R 10, R 11 is a C 1 -C 30 hydrocarbyl independently contains no H or aliphatic unsaturated And p is an integer of 0 to 10), and f is 2 to 100 (for example, 40 to 50, 40 to 60, 50 to 70, 40 to 80, 40 to 70, 2 to 80, H is an integer of 0 to 60 (for example, 30 to 50, 0 to 15, 0 to 40, 10 to 40, 20 to 40, 0 to 10, 0). To 5 or 1 to 5), and has a unit formula of [R 1 R 2 R 8 SiO 1/2 ] f The number of SiH groups in the compound having [R 1 SiO 3/2 ] h is ≧ 2 per molecule (eg, ≧ 4, ≧ 6, ≧ 8, ≧ 10, or 2 to 10 per molecule).

単位式[RSiO1/2[RSiO2/2[RSiO3/2(式中、gは0である)を有する化合物のその他の非限定例としては、
[RSiO1/2[RSiO3/2が挙げられ、
式中、R及びRは、独立してC〜C10アルキル(例えば、C〜Cアルキル、C〜Cアルキル又はC〜Cアルキル)又はC〜C14アリール(例えば、C〜C10アリール)であり、Rは、独立してH又はC〜C10アルキル(例えば、C〜Cアルキル、C〜Cアルキル又はC〜Cアルキル)又はC〜C14アリール(例えば、C〜C10アリール)であり、fは2〜100(例えば、40〜50、40〜60、50〜70、40〜80、40〜70、2〜80、2〜10、2〜6又は10〜70)の整数であり、hは0〜60(例えば、30〜50、0〜15、0〜40、10〜40、20〜40、0〜10、0〜5又は1〜5)の整数であり、少なくとも2個のRはHであり、その結果単位式[RSiO1/2[RSiO3/2を有する化合物中のSiH基の数は、1分子当たり≧2(例えば、1分子当たり≧4、≧6、≧8、≧10、又は2〜10)である。
Others of compounds having the unit formula [R 1 R 2 R 8 SiO 1/2 ] f [R 1 R 9 SiO 2/2 ] g [R 1 SiO 3/2 ] h (where g is 0) Non-limiting examples of
[R 1 R 2 R 8 SiO 1/2 ] f [R 1 SiO 3/2 ] h ,
Wherein R 1 and R 2 are independently C 1 -C 10 alkyl (eg, C 1 -C 8 alkyl, C 1 -C 5 alkyl or C 1 -C 3 alkyl) or C 6 -C 14 aryl. (Eg, C 6 -C 10 aryl), and R 8 is independently H or C 1 -C 10 alkyl (eg, C 1 -C 8 alkyl, C 1 -C 5 alkyl or C 1 -C 3 alkyl). alkyl) or C 6 -C 14 aryl (e.g., a C 6 -C 10 aryl), f is 2 to 100 (e.g., 40~50,40~60,50~70,40~80,40~70, 2 to 80, 2 to 10, 2 to 6 or 10 to 70), and h is 0 to 60 (for example, 30 to 50, 0 to 15, 0 to 40, 10 to 40, 20 to 40, 0). -10, 0-5 or 1-5), and at least two 8 is H, the number of SiH groups in the compound having the result unit formula [R 1 R 2 R 8 SiO 1/2] f [R 1 SiO 3/2] h is, ≧ per molecule 2 (e.g. ≧ 4, ≧ 6, ≧ 8, ≧ 10, or 2 to 10) per molecule.

単位式[RSiO1/2[RSiO2/2[RSiO3/2(式中、gは0である)を有する化合物の更なる他の非限定例としては、
[RSiO1/2[RSiO3/2が挙げられ、
式中、R及びRは、独立してC〜Cアルキル又はC〜C10アリールであり、Rは、独立してH、C〜Cアルキル又はC〜C10アリールであり、fは2〜100(例えば、40〜50、40〜60、50〜70、40〜80、40〜70、2〜80、2〜10、2〜6又は10〜70)の整数であり、hは0〜60(例えば、30〜50、0〜15、0〜40、10〜40、20〜40、0〜10、0〜5又は1〜5)の整数であり、少なくとも2個のRはHであり、その結果、単位式[RSiO1/2[RSiO3/2を有する化合物中のSiH基の数は、1分子当たり≧2(例えば、≧4、≧6、≧8、≧10、又は2〜10)である。
Further addition of the compound having the unit formula [R 1 R 2 R 8 SiO 1/2 ] f [R 1 R 9 SiO 2/2 ] g [R 1 SiO 3/2 ] h (where g is 0) Another non-limiting example is
[R 1 R 2 R 8 SiO 1/2 ] f [R 1 SiO 3/2 ] h ,
Wherein R 1 and R 2 are independently C 1 -C 3 alkyl or C 6 -C 10 aryl, and R 8 is independently H, C 1 -C 3 alkyl or C 6 -C 10. Aryl, and f is an integer of 2 to 100 (for example, 40 to 50, 40 to 60, 50 to 70, 40 to 80, 40 to 70, 2 to 80, 2 to 10, 2 to 6, or 10 to 70) And h is an integer of 0 to 60 (for example, 30 to 50, 0 to 15, 0 to 40, 10 to 40, 20 to 40, 0 to 10, 0 to 5, or 1 to 5), and at least 2 R 8 are H, such that the number of SiH groups in the compound having the unit formula [R 1 R 2 R 8 SiO 1/2 ] f [R 1 SiO 3/2 ] h is per molecule ≧ 2 (eg, ≧ 4, ≧ 6, ≧ 8, ≧ 10, or 2 to 10).

単位式[RSiO1/2[RSiO2/2[RSiO3/2(式中、gは0である)を有する化合物の更なる他の非限定例としては、
[RSiO1/2[RSiO3/2が挙げられ、
式中、Rはメチル又はフェニルであり、Rはメチル又はフェニルであり、RはHであり、fは2〜100(例えば、40〜50、40〜60、50〜70、40〜80、40〜70、2〜80、2〜10、2〜6又は10〜70)の整数であり、hは0〜60(例えば、30〜50、0〜15,0〜40、10〜40、20〜40、0〜10、0〜5又は1〜5)の整数であり、その結果、架橋剤分子中のSiH基の数は、架橋剤1分子当たり≧2(例えば、架橋剤1分子当たり≧4、≧6、≧8、≧10、又は2〜10)である。あるいは、いくつかの実施形態において、Rはメチル又はフェニルであり、Rはメチル又はフェニルであり、RはHであり、eは40〜80(例えば、40〜50、40〜60又は50〜70)の整数であり、gは30〜60の整数であり、その結果、単位式[RSiO1/2[RSiO3/2を有する化合物中のSiH基の数は1分子当たり≧2(例えば、1分子当たり≧4、≧6、≧8、≧10、又は2〜10)である。
Further addition of the compound having the unit formula [R 1 R 2 R 8 SiO 1/2 ] f [R 1 R 9 SiO 2/2 ] g [R 1 SiO 3/2 ] h (where g is 0) Another non-limiting example is
[R 1 R 2 R 8 SiO 1/2 ] f [R 1 SiO 3/2 ] h ,
Wherein R 1 is methyl or phenyl, R 2 is methyl or phenyl, R 8 is H, and f is 2-100 (eg, 40-50, 40-60, 50-70, 40- 80, 40 to 70, 2 to 80, 2 to 10, 2 to 6, or 10 to 70), and h is 0 to 60 (for example, 30 to 50, 0 to 15, 0 to 40, 10 to 40). , 20 to 40, 0 to 10, 0 to 5 or 1 to 5), so that the number of SiH groups in the cross-linking agent molecule is ≧ 2 per cross-linking agent molecule (for example, one cross-linking agent molecule) ≧ 4, ≧ 6, ≧ 8, ≧ 10, or 2 to 10). Alternatively, in some embodiments, R 1 is methyl or phenyl, R 2 is methyl or phenyl, R 8 is H, and e is 40-80 (eg, 40-50, 40-60 or 50 to 70), and g is an integer of 30 to 60. As a result, in the compound having the unit formula [R 1 R 2 R 8 SiO 1/2 ] f [R 1 SiO 3/2 ] h Is 2 or more per molecule (eg, ≧ 4, ≧ 6, ≧ 8, ≧ 10, or 2 to 10 per molecule).

単位式[RSiO1/2[RSiO2/2[RSiO3/2(式中、hは0である)を有する化合物の非限定例としては、
[RSiO1/2[RSiO2/2が挙げられ、
式中、R及びRは、独立して、脂肪族不飽和を含まないC〜C30ヒドロカルビルであり、R及びRは、独立してH、脂肪族不飽和を含まないC〜C30ヒドロカルビル又は式−[R1011Si][R1011SiH](式中、R10、R11は、独立してH又は脂肪族不飽和を含まないC〜C30ヒドロカルビルであり、pは0〜10の整数である)のシラン基であり、fは0〜10の整数(例えば、0〜9、1〜9、2〜8、2〜6又は2〜4)であり、gは0〜10の整数(例えば、0〜9、0〜7、0〜5、1〜8、1〜6又は1〜4)であり、単位式[RSiO1/2[RSiO2/2を有する化合物中のSiH基の数は1分子当たり≧2(例えば、1分子当たり≧4、≧6、≧8、≧10、又は2〜10)である。
Non-compounds having the unit formula [R 1 R 2 R 8 SiO 1/2 ] f [R 1 R 9 SiO 2/2 ] g [R 1 SiO 3/2 ] h (where h is 0) As a limited example,
[R 1 R 2 R 8 SiO 1/2 ] f [R 1 R 9 SiO 2/2 ] g ,
Wherein R 1 and R 2 are independently C 1 -C 30 hydrocarbyl containing no aliphatic unsaturation, and R 8 and R 9 are independently H, C containing no aliphatic unsaturation. 1 -C 30 hydrocarbyl or formula - [10 R 11 Si R] p [R 10 R 11 SiH] ( wherein, R 10, R 11 is independently C 1 that does not contain H or aliphatic unsaturation -C 30 is hydrocarbyl, p is an integer of 0 to 10), and f is an integer of 0 to 10 (for example, 0 to 9, 1 to 9, 2 to 8, 2 to 6 or 2 to 4). G is an integer of 0 to 10 (for example, 0 to 9, 0 to 7, 0 to 5, 1 to 8, 1 to 6, or 1 to 4), and has the unit formula [R 1 R 2 R 8 The number of SiH groups in the compound having [SiO 1/2 ] f [R 1 R 9 SiO 2/2 ] g is ≧ 2 per molecule (for example, ≧ 4, ≧ 6, ≧ 8, ≧ 10, or 2 to 10) per molecule.

単位式[RSiO1/2[RSiO2/2[RSiO3/2(式中、hは0である)を有する化合物のその他の非限定例としては、
[RSiO1/2[RSiO2/2が挙げられ、
式中、R、R、及びRは、独立してC〜C10アルキル(例えば、C〜Cアルキル、C〜Cアルキル又はC〜Cアルキル)又はC〜C14アリール(例えば、C〜C10アリール)であり、Rは、独立してH又はC〜C10アルキル(例えば、C〜Cアルキル、C〜Cアルキル又はC〜Cアルキル)又はC〜C14アリール(例えば、C〜C10アリール)であり、fは2〜10(例えば、2〜8、2〜6又は2〜4)の整数であり、gは0〜10(例えば、1〜8、1〜6又は1〜4)の整数であり、少なくとも2個のRはHであり、その結果、単位式[RSiO1/2[RSiO2/2を有する化合物中のSiH基の数は1分子当たり≧2(例えば、1分子当たり≧4、≧6、≧8、≧10、又は2〜10)である。
Others of compounds having the unit formula [R 1 R 2 R 8 SiO 1/2 ] f [R 1 R 9 SiO 2/2 ] g [R 1 SiO 3/2 ] h (where h is 0) Non-limiting examples of
[R 1 R 2 R 8 SiO 1/2 ] f [R 1 R 9 SiO 2/2 ] g ,
Wherein R 1 , R 2 , and R 9 are independently C 1 -C 10 alkyl (eg, C 1 -C 8 alkyl, C 1 -C 5 alkyl or C 1 -C 3 alkyl) or C 6. -C 14 aryl (e.g., C 6 -C 10 aryl) and, R 8 is independently H or C 1 -C 10 alkyl (e.g., C 1 -C 8 alkyl, C 1 -C 5 alkyl or C 1 to C 3 alkyl) or C 6 to C 14 aryl (for example, C 6 to C 10 aryl), and f is an integer of 2 to 10 (for example, 2 to 8, 2 to 6, or 2 to 4). , G is an integer of 0 to 10 (for example, 1 to 8 , 1 to 6, or 1 to 4), and at least two R 8 are H, so that the unit formula [R 1 R 2 R 8 SiO 1/2] f [R 1 R 9 SiO 2/2] SiH groups in the compound having a g The number ≧ per molecule 2 (e.g., ≧ per molecule 4, ≧ 6, ≧ 8, ≧ 10, or 2 to 10) is.

単位式[RSiO1/2[RSiO2/2[RSiO3/2(式中、hは0である)を有する化合物の更なる他の非限定例としては、
[RSiO1/2[RSiO2/2が挙げられ、
式中、R、R、及びRは、独立してC〜Cアルキル又はC〜C10アリールであり、Rは、独立してH、C〜Cアルキル又はC〜C10アリールであり、fは2〜10(例えば、2〜8、2〜6又は2〜4)の整数であり、gは0〜10(例えば、0〜9、0〜7、0〜5、1〜8、1〜6又は1〜4)の整数であり、少なくとも2個のRはHであり、その結果、単位式[RSiO1/2[RSiO2/2を有する化合物中のSiH基の数は、1分子当たり≧2(例えば、1分子当たり≧4、≧6、≧8、≧10、又は2〜10)である。
Further addition of the compound having the unit formula [R 1 R 2 R 8 SiO 1/2 ] f [R 1 R 9 SiO 2/2 ] g [R 1 SiO 3/2 ] h (where h is 0) Another non-limiting example is
[R 1 R 2 R 8 SiO 1/2 ] f [R 1 R 9 SiO 2/2 ] g ,
Wherein R 1 , R 2 and R 9 are independently C 1 -C 3 alkyl or C 6 -C 10 aryl, and R 8 is independently H, C 1 -C 3 alkyl or C 9 6 to C 10 aryl, f is an integer of 2 to 10 (for example, 2 to 8, 2 to 6 , or 2 to 4), and g is 0 to 10 (for example, 0 to 9, 0 to 7, 0). , 5, 1-8, 1-6 or 1-4), and at least two R 8 are H, resulting in the unit formula [R 1 R 2 R 8 SiO 1/2 ] f [ R 1 R 9 SiO 2/2 ] g , the number of SiH groups in the compound having ≧ 2 (for example, ≧ 4, ≧ 6, ≧ 8, ≧ 10, or 2 to 10 per molecule). is there.

単位式[RSiO1/2[RSiO2/2[RSiO3/2(式中、hは0である)を有する化合物の更なる他の非限定例としては、
[RSiO1/2[RSiO2/2が挙げられ、
式中、Rはメチル又はフェニルであり、Rはメチル又はフェニルであり、R、Rはメチル又はフェニルであり、RはHであり、fは2〜10(例えば、2〜8、2〜6又は2〜4)の整数であり、gは1〜10(例えば、1〜8、1〜6又は1〜4)の整数である。あるいは、いくつかの実施形態において、Rはメチル又はフェニルであり、Rはメチル又はフェニルであり、R、Rはメチル又はフェニルであり、RはHであり、fは2〜10(例えば、2〜8、2〜6又は2〜4)の整数であり、gは0〜10(例えば、0〜9、0〜7、0〜5、1〜8、1〜6又は1〜4)の整数である。
Further addition of the compound having the unit formula [R 1 R 2 R 8 SiO 1/2 ] f [R 1 R 9 SiO 2/2 ] g [R 1 SiO 3/2 ] h (where h is 0) Another non-limiting example is
[R 1 R 2 R 8 SiO 1/2 ] f [R 1 R 9 SiO 2/2 ] g ,
In the formula, R 1 is methyl or phenyl, R 2 is methyl or phenyl, R 9 and R 2 are methyl or phenyl, R 8 is H, and f is 2 to 10 (for example, 2 to 10). 8, 2 to 6 or 2 to 4), and g is an integer of 1 to 10 (for example, 1 to 8, 1 to 6, or 1 to 4). Alternatively, in some embodiments, R 1 is methyl or phenyl, R 2 is methyl or phenyl, R 9 , R 2 is methyl or phenyl, R 8 is H, and f is 2- 10 (for example, 2 to 8, 2 to 6, or 2 to 4), and g is 0 to 10 (for example, 0 to 9, 0 to 7, 0 to 5, 1 to 8, 1 to 6, or 1). To 4).

いくつかの実施形態において、式[RSiO1/2[RSiO2/2及び[RSiO1/2[RSiO3/2(例えば、それぞれM Ph 及びM60TPh 40)の組み合わせが、本発明の硬化性組成物の様々な実施形態に使用される。式[RSiO1/2[RSiO2/2及び[RSiO1/2[RSiO3/2の2つの異なる化合物の組み合わせを使用する場合、化合物を任意の好適な量及び任意の好適な比で使用することができる。いくつかの例において、式[RSiO1/2[RSiO2/2及び[RSiO1/2[RSiO3/2の2つの異なる化合物の好適なw/w比は、約8:1〜約1:8(例えば、約6:1〜約1:1、約5:1〜約1:1、約5:1〜約2:1、又は約5:1〜約3:1w/w)である。 In some embodiments, the formulas [R 1 R 2 R 8 SiO 1/2 ] f [R 1 R 9 SiO 2/2 ] g and [R 1 R 2 R 8 SiO 1/2 ] f [R 1 SiO 3/2 ] h (eg, MH 2 D Ph 2 and MH 60T Ph 40 , respectively) are used in various embodiments of the curable compositions of the present invention. Formulas [R 1 R 2 R 8 SiO 1/2 ] e [R 1 R 9 SiO 2/2 ] f and [R 1 R 2 R 8 SiO 1/2 ] e [R 1 SiO 3/2 ] g 2 If a combination of two different compounds is used, the compounds can be used in any suitable amount and in any suitable ratio. In some examples, the formulas [R 1 R 2 R 8 SiO 1/2 ] e [R 1 R 9 SiO 2/2 ] f and [R 1 R 2 R 8 SiO 1/2 ] e [R 1 SiO 3 / 2 ] g of the two different compounds has a suitable w / w ratio of about 8: 1 to about 1: 8 (eg, about 6: 1 to about 1: 1, about 5: 1 to about 1: 1, About 5: 1 to about 2: 1, or about 5: 1 to about 3: 1 w / w).

ヒドロシリル化反応は、ヒドロシリル化反応を実施するための当該技術分野において既知の任意の好適な条件下で行ってもよい。   The hydrosilylation reaction may be performed under any suitable conditions known in the art for performing a hydrosilylation reaction.

硬化性組成物は、ヒドロシリル化触媒を含有してもよい。ヒドロシリル化触媒は、白金、ロジウム、イリジウム、パラジウム、ルテニウム又は鉄から選択される第VIII族金属系触媒等の、任意の好適なヒドロシリル化触媒であってよい。ヒドロシリル化反応を触媒するのに有用な第VIII族金属含有触媒は、ケイ素結合水素原子と不飽和炭化水素基を含むケイ素結合部分との反応を触媒することが知られている任意の触媒であってよい。いくつかの実施形態では、ヒドロシリル化をもたらすための触媒として使用する第VIII族金属は、白金金属、白金化合物及び白金錯体等の白金系触媒である。   The curable composition may contain a hydrosilylation catalyst. The hydrosilylation catalyst may be any suitable hydrosilylation catalyst, such as a Group VIII metal-based catalyst selected from platinum, rhodium, iridium, palladium, ruthenium or iron. Group VIII metal-containing catalysts useful for catalyzing the hydrosilylation reaction are any catalysts known to catalyze the reaction of a silicon-bonded hydrogen atom with a silicon-bonded moiety comprising an unsaturated hydrocarbon group. May be. In some embodiments, the Group VIII metal used as a catalyst to effect hydrosilylation is a platinum-based catalyst such as platinum metal, platinum compounds and platinum complexes.

好適な白金触媒としては、その両方の全体が本明細書に完全に記載されているかのように参照により援用される、米国特許第2,823,218号(例えば、「Speier触媒」)及び米国特許第3,923,705号に記載される触媒が挙げられるが、これらに限定されない。他の好適な白金触媒としては、米国特許第3,715,334号及び第3,814,730号に記載される「Karstedt触媒」と称される白金触媒が挙げられるが、これに限定されない。Karstedt触媒は、場合によっては、トルエン等の溶媒中に約1重量パーセントの白金を含有する白金ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体である。あるいは、白金触媒としては、その全体が本明細書に完全に記載されているかのように参照により援用される、米国特許第3,419,593号に記載の触媒を含む、塩化白金酸と末端脂肪族不飽和を含有する有機ケイ素化合物との反応生成物が挙げられるが、これに限定されない。あるいは、ヒドロシリル化触媒としては、米国特許第5,175,325号に記載される塩化白金及びジビニルテトラメチルジシロキサンの中和された錯体が挙げられるが、これに限定されない。更なる好適なヒドロシリル化触媒は、例えば、米国特許第3,159,601号、同第3,220,972号、同第3,296,291号、同第3,516,946号、同第3,989,668号、同第4,784,879号、同第5,036,117号、及び同第5,175,325号及び欧州特許第0 347 895(B1)号に記載されている。   Suitable platinum catalysts include U.S. Pat. No. 2,823,218 (e.g., "Speier catalyst") and U.S. Pat. Examples include, but are not limited to, the catalysts described in Patent No. 3,923,705. Other suitable platinum catalysts include, but are not limited to, platinum catalysts referred to as "Karstedt catalysts" described in U.S. Patent Nos. 3,715,334 and 3,814,730. Karstedt's catalyst is a platinum divinyltetramethyldisiloxane complex, optionally containing about 1 weight percent platinum in a solvent such as toluene. Alternatively, platinum catalysts include chloroplatinic acid and terminal chloroplatinic acids, including those described in US Pat. No. 3,419,593, which are incorporated by reference as if fully set forth herein. Examples include, but are not limited to, reaction products with an organosilicon compound containing aliphatic unsaturation. Alternatively, hydrosilylation catalysts include, but are not limited to, neutralized complexes of platinum chloride and divinyltetramethyldisiloxane as described in US Pat. No. 5,175,325. Further suitable hydrosilylation catalysts are described, for example, in U.S. Patent Nos. 3,159,601; 3,220,972; 3,296,291; 3,516,946; Nos. 3,989,668, 4,784,879, 5,036,117, and 5,175,325, and EP 0 347 895 (B1). .

ヒドロシリル化触媒は、全反応組成物の100万部当たり0.001重量部(ppm)という少量の白金族金属元素に相当する量で添加されてもよい。いくつかの実施形態では、反応組成物の固体に対するヒドロシリル化触媒の濃度は、少なくとも1ppm相当の白金族金属元素を提供することが可能な濃度である。1〜500、あるいは50〜500、あるいは50〜200ppmに相当する白金族金属元素をもたらす触媒濃度が使用されてもよい。   The hydrosilylation catalyst may be added in an amount corresponding to a small amount of a platinum group metal element of 0.001 parts by weight (ppm) per million parts of the total reaction composition. In some embodiments, the concentration of the hydrosilylation catalyst relative to the solids of the reaction composition is a concentration that is capable of providing at least 1 ppm equivalent of a platinum group metal element. A catalyst concentration that results in a platinum group metal element corresponding to 1-500, alternatively 50-500, or 50-200 ppm may be used.

本開示は、とりわけ、約0.5〜約5モル%の少なくとも1つの脂肪族不飽和結合を含むC〜C30ヒドロカルビル基を含む樹脂直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマーを含む硬化性組成物も提供し、上記硬化性組成物は、Pa/分単位での硬化速度(貯蔵弾性率G’の増大を温度の関数として測定したレオロジーから決定した、時間に対するG’の傾き)が、5℃/分の加熱速度において、少なくとも約1Pa/分、少なくとも約2Pa/分、少なくとも約4Pa/分、少なくとも約10Pa/分又は少なくとも約20Pa/分、例えば、5℃/分の加熱速度において、約1Pa/分〜約10Pa/分、約1Pa/分〜約20Pa/分、約1Pa/分〜約6Pa/分、約2Pa/分〜約6Pa/分、約1Pa/分〜約100Pa/分、約5Pa/分〜約50Pa/分、約10Pa/分〜約100Pa/分、約20Pa/分〜約80Pa/分、約20Pa/分〜約60Pa/分、約50Pa/分〜約100Pa/分、又は約30Pa/分〜約90Pa/分である。
固体樹脂−直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマー組成物
This disclosure is drawn, inter alia, also a curable composition comprising about 0.5 to about 5 mole percent of C 1 -C 30 resin linear organosiloxane block copolymer containing hydrocarbyl group containing at least one aliphatic unsaturated bond Provided, wherein the curable composition has a cure rate in Pa / min (the slope of G 'versus time, determined from the rheology of the increase in storage modulus G' as a function of temperature) of 5 ° C / At a heating rate of at least about 1 Pa / min, at least about 2 Pa / min, at least about 4 Pa / min, at least about 10 Pa / min or at least about 20 Pa / min, for example, at a heating rate of 5 ° C./min, about 1 Pa / min. Min to about 10 Pa / min, about 1 Pa / min to about 20 Pa / min, about 1 Pa / min to about 6 Pa / min, about 2 Pa / min to about 6 Pa / min, about 1 Pa / min to about 100 Pa / min. About 5 Pa / min to about 50 Pa / min, about 10 Pa / min to about 100 Pa / min, about 20 Pa / min to about 80 Pa / min, about 20 Pa / min to about 60 Pa / min, about 50 Pa / min to about 100 Pa / min. Or about 30 Pa / min to about 90 Pa / min.
Solid resin-linear organosiloxane block copolymer composition

本発明の実施形態の樹脂−直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマーを含有する固体組成物は、本明細書に記載されるような硬化性オルガノシロキサンブロックコポリマー組成物から一部又は実質的に全ての溶媒を除去することによって調製されてもよい。溶媒は、任意の既知の処理技術によって除去されてもよい。一実施形態では、オルガノシロキサンブロックコポリマーを含有する硬化性組成物のフィルムが形成され、そのフィルムから溶媒を蒸発させる。フィルムを高温及び/又は減圧にかけることは、溶媒除去、及びその後の固体硬化性組成物の形成を促進する場合がある。あるいは、硬化性組成物を押出成形機に通して、溶媒を除去し、リボン又はペレットの形態の固体組成物を得てもよい。剥離フィルムに対するコーティング作業もまた、スロットダイコーティング、ナイフオーバーロール、ロッド、又はグラビアコーティングの場合と同様に使用できる。また、ロールツーロールコーティング作業も、固体フィルムの調製に使用できる。コーティング作業では、コンベアオーブン又はその他の溶液の加熱及び真空排気手段を使用して、溶媒を除去し、最終的な固体フィルムを得ることができる。   The solid composition containing the resin-linear organosiloxane block copolymer of an embodiment of the present invention may comprise some or substantially all solvent from the curable organosiloxane block copolymer composition as described herein. May be prepared by removing The solvent may be removed by any known processing techniques. In one embodiment, a film of the curable composition containing the organosiloxane block copolymer is formed and the solvent is evaporated from the film. Exposure of the film to elevated temperatures and / or reduced pressure may facilitate solvent removal and subsequent formation of a solid curable composition. Alternatively, the curable composition may be passed through an extruder to remove the solvent and obtain a solid composition in the form of a ribbon or pellet. Coating operations on release films can also be used as in the case of slot die coating, knife over roll, rod, or gravure coating. Roll-to-roll coating operations can also be used to prepare solid films. In the coating operation, a conveyor oven or other solution heating and evacuation means may be used to remove the solvent and obtain the final solid film.

いかなる理論にも束縛されるものではないが、ブロックコポリマーの固体組成物が形成されるとき、本明細書に記載するようなオルガノシロキサンブロックコポリマー中のジシロキシ単位及びトリシロキシ単位が構造的な規則性をもつことで、特定の独自の物理的特性の特徴を有するコポリマーをもたらす可能性がある。例えば、コポリマー内でジシロキシ単位及びトリシロキシ単位が構造的な規則性をもつと、可視光(例えば、350nmを超える波長)の高い光透過率を可能にする固体コーティングをもたらし得る。また、構造的な規則性をもつことで、オルガノシロキサンブロックコポリマーが、加熱時に流動及び硬化するが、室温では安定を保持することを可能にし得る。これらはまた、積層技術を使用して加工され得る。これらの特性は、様々な電子物品の耐候性及び耐久性を改善させ、一方で、エネルギー効率のよい、低コストかつ容易な手順を提供するためのコーティングを生成するのに有用である。コポリマー内のジシロキシ及びトリシロキシ単位が構造的な規則性をもつことで、とりわけ、ガラス転移温度T(コポリマーが高いT相を有する)、粘着性(コポリマーが低粘着性を有する)、コポリマーの強度(とりわけ、引張強度で証明されるようなもの)、及び貯蔵安定性に影響する。 Without wishing to be bound by any theory, when the solid composition of the block copolymer is formed, the disiloxy and trisiloxy units in the organosiloxane block copolymer as described herein maintain structural regularity. This can result in copolymers having certain unique physical property characteristics. For example, the structural regularity of disiloxy and trisiloxy units in a copolymer can result in a solid coating that allows for high light transmission of visible light (eg, wavelengths greater than 350 nm). Also, having structural regularity may allow the organosiloxane block copolymer to flow and cure when heated, but to maintain stability at room temperature. These can also be processed using lamination techniques. These properties are useful for improving the weatherability and durability of various electronic articles, while creating coatings to provide energy efficient, low cost and easy procedures. The structural regularity of the disiloxy and trisiloxy units in the copolymer allows for, among other things, glass transition temperatures T g (the copolymer has a high T g phase), tackiness (the copolymer has a low tackiness), Affects strength, especially as evidenced by tensile strength, and storage stability.

いくつかの実施形態では、上記のオルガノシロキサンブロックコポリマーは、例えば、ブロックコポリマーの有機溶媒(例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン又はこれらの組み合わせ)溶液のフィルムを流延して溶媒を蒸発させることにより、固体形態で分離される。これらの条件において、上記オルガノシロキサンブロックコポリマーは、約50重量%〜約80重量%の固形分、例えば、約60重量%〜約80重量%、約70重量%〜約80重量%又は約75重量%〜約80重量%の固形分を含有する有機溶媒の溶液として供給することができる。いくつかの実施形態では、溶媒はトルエンである。いくつかの実施形態において、このような溶液は、25℃で約1500mm/s〜約10000mm/s(約1500cSt〜約10000cSt)、例えば、25℃で約1500mm/s〜約3000mm/s、約2000mm/s〜約4000mm/s、約2000mm/s〜約3000mm/s、約2000mm/s〜約8000mm/s、約5000mm/s〜約10000mm/s又は約8000mm/s〜約10000mm/s(約1500cSt〜約3000cSt、約2000cSt〜約4000cSt、約2000cSt〜約3000cSt、約2000cSt〜約8000cSt、約5000cSt〜約10000cSt又は約8000cSt〜約10000cSt)の粘度を有してもよい。 In some embodiments, the organosiloxane block copolymer described above can be prepared, for example, by casting a film of a solution of the block copolymer in an organic solvent (eg, benzene, toluene, xylene, or a combination thereof) to evaporate the solvent. Separated in solid form. Under these conditions, the organosiloxane block copolymer has a solids content of about 50% to about 80% by weight, for example, about 60% to about 80%, about 70% to about 80% or about 75% by weight. % To about 80% by weight solids. In some embodiments, the solvent is toluene. In some embodiments, such a solution is about 1500 mm 2 / s to about 10000 mm 2 / s (about 1500cSt~ about 10,000 cSt) at 25 ° C., for example, about at 25 ℃ 1500mm 2 / s~ about 3000 mm 2 / s, from about 2000 mm 2 / s to about 4000 mm 2 / s, about 2000 mm 2 / s to about 3000 mm 2 / s, about 2000 mm 2 / s to about 8000mm 2 / s, about 5000 mm 2 / s to about 10000 mm 2 / s or about 8000mm 2 / s to about 10000 mm 2 / s (about 1500cSt~ about 3000 cSt, about 2000cSt~ about 4000CSt, about 2000cSt~ about 3000 cSt, about 2000cSt~ about 8000CSt, about 5000cSt~ about 10,000 cSt, or about 8000cSt~ about 10,000 cSt) May be provided.

いくつかの実施形態において、本発明の実施形態の樹脂−直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマーを含有する硬化性組成物の硬化生成物は、225℃で50時間のエージング後に、225℃で50時間のエージング前のヤング率と実質的に差異のないヤング率を有する。いくつかの実施形態において、225℃で50時間のエージング後のヤング率の、エージング前のヤング率に対する比は、3以下(例えば、エージング後に約2.5以下、約2.0以下、又は約1.5以下;又は約1〜約2.5、約1.25〜約2、約1.5〜約1.8又は約1.4〜約2.25、この比が1である場合、エージングの前後のヤング率は同じであると理解される)である。   In some embodiments, the cured product of a curable composition containing a resin-linear organosiloxane block copolymer of an embodiment of the present invention has a 50 hour aging at 225 ° C. after aging at 225 ° C. for 50 hours. It has a Young's modulus that is not substantially different from the Young's modulus before aging. In some embodiments, the ratio of the Young's modulus after aging at 225 ° C. for 50 hours to the Young's modulus before aging is 3 or less (eg, about 2.5 or less, about 2.0 or less, or about 2 hours after aging). 1.5 or less; or about 1 to about 2.5, about 1.25 to about 2, about 1.5 to about 1.8 or about 1.4 to about 2.25, if the ratio is 1, The Young's modulus before and after aging is understood to be the same).

いくつかの実施形態において、本発明の実施形態の樹脂−直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマーを含有する硬化性組成物の硬化生成物は、225℃で30時間のエージング後に、225℃で30時間のエージング前のヤング率と実質的に差異のないヤング率を有する。いくつかの実施形態において、225℃で30時間のエージング後のヤング率は、エージング前のヤング率に対して1.5以下(例えば、エージング後に約1.4以下、約1.3以下、又は約1.2以下;又はエージング後に約0〜約1.5、約0.5〜約1.5、約1.0〜約1.5又は約1.0〜約1.5、この比が1である場合、エージングの前後のヤング率は同じであると理解される)である。   In some embodiments, the cured product of a curable composition containing a resin-linear organosiloxane block copolymer of an embodiment of the present invention is aged at 225 ° C. for 30 hours after aging at 225 ° C. for 30 hours. It has a Young's modulus that is not substantially different from the Young's modulus before aging. In some embodiments, the Young's modulus after aging at 225 ° C. for 30 hours is 1.5 or less relative to the Young's modulus before aging (eg, about 1.4 or less after aging, about 1.3 or less, or About 1.2 or less; or about 0 to about 1.5, about 0.5 to about 1.5, about 1.0 to about 1.5 or about 1.0 to about 1.5 after aging, wherein the ratio is If 1, the Young's modulus before and after aging is understood to be the same).

いくつかの実施形態において、本発明の実施形態の樹脂−直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマーを含有する硬化性組成物の硬化生成物は、225℃で30又は50時間のエージングの前のヤング率が、エージング前に約70MPa〜約200MPa(例えば、約70MPa〜100MPa、約100MPa〜約150MPa、約120MPa〜約180MPa、約150MPa〜約180MPa又は約130MPa〜約180MPa)である。   In some embodiments, the cured product of the curable composition containing the resin-linear organosiloxane block copolymer of an embodiment of the present invention has a Young's modulus before aging at 225 ° C. for 30 or 50 hours. About 70 MPa to about 200 MPa before aging (e.g., about 70 MPa to 100 MPa, about 100 MPa to about 150 MPa, about 120 MPa to about 180 MPa, about 150 MPa to about 180 MPa, or about 130 MPa to about 180 MPa).

いくつかの実施形態において、225℃で30時間のエージングの後のヤング率は実質的に変化しない。225℃で30時間のエージング後にヤング率が変化する場合、エージング後のヤング率は、225℃で30時間のエージング後に約100MPa〜約250MPa(例えば、約100MPa〜約150MPa、約150MPa〜約180MPa、約130MPa〜180MPa、約100MPa〜約140MPa又は約140MPa〜約180MPa)である。   In some embodiments, the Young's modulus after aging at 225 ° C. for 30 hours does not substantially change. When the Young's modulus changes after aging at 225 ° C. for 30 hours, the Young's modulus after aging is about 100 MPa to about 250 MPa after aging at 225 ° C. for 30 hours (eg, about 100 MPa to about 150 MPa, about 150 MPa to about 180 MPa, About 130 MPa to 180 MPa, about 100 MPa to about 140 MPa, or about 140 MPa to about 180 MPa).

いくつかの実施形態において、225℃で50時間のエージングの後のヤング率は実質的に変化しない。225℃で50時間のエージング後にヤング率が変化する場合、エージング後のヤング率は、225℃で50時間のエージング後に約130MPa〜約250MPa(例えば、約130MPa〜約200MPa、約150MPa〜約250MPa、約180MPa〜240MPa、約150MPa〜約240MPa又は約180MPa〜約250MPa)である。   In some embodiments, the Young's modulus after aging at 225 ° C. for 50 hours does not substantially change. When the Young's modulus changes after aging at 225 ° C. for 50 hours, the Young's modulus after aging is about 130 MPa to about 250 MPa after aging at 225 ° C. for 50 hours (eg, about 130 MPa to about 200 MPa, about 150 MPa to about 250 MPa, About 180 MPa to 240 MPa, about 150 MPa to about 240 MPa, or about 180 MPa to about 250 MPa).

いくつかの実施形態において、本発明の実施形態の樹脂−直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマーを含有する硬化性組成物の硬化生成物は、縮合触媒の不在下で硬化されてもよい。その他の実施形態において、本発明の実施形態の樹脂−直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマーを含有する硬化性組成物の硬化生成物は、蛍光体又は充填剤の存在下で硬化し、硬化される。好適な蛍光体及び充填剤の代表例は、PCT出願第PCT/US2013/031253号に見出される。   In some embodiments, the cured product of a curable composition containing a resin-linear organosiloxane block copolymer of an embodiment of the present invention may be cured in the absence of a condensation catalyst. In another embodiment, the cured product of the curable composition containing the resin-linear organosiloxane block copolymer of the present invention is cured and cured in the presence of a phosphor or filler. Representative examples of suitable phosphors and fillers are found in PCT Application No. PCT / US2013 / 031253.

固体の乾燥又は生成時に、ブロックコポリマーの非直鎖状ブロックは、更に一緒に凝集して、「ナノドメイン」を形成する。本明細書で使用するとき、「主に凝集される」は、オルガノシロキサンブロックコポリマーの非直鎖状ブロックの大部分(例えば50%超、60%超、75%超、80%超、90%超、約75%〜約90%、約80%〜約90%、又は約75%〜約85%)は、固体組成物の特定領域(本発明で「ナノドメイン」と記述される)に見出されることを意味する。本明細書で使用するとき、「ナノドメイン」は、固体ブロックコポリマー組成物内で相分離し、サイズが1〜100ナノメートルである少なくとも1つの寸法を有する、固体ブロックコポリマー組成物内の相領域を指す。ナノドメインの形状は様々であってよいが、但し、ナノドメインの少なくとも1つの寸法のサイズは1〜100ナノメートルである。したがって、ナノドメインは、規則的又は不規則的な形状であり得る。ナノドメインは、球状、管状、及び、場合によっては層状であってもよい。   Upon drying or formation of the solid, the non-linear blocks of the block copolymer further aggregate together to form "nanodomains." As used herein, “predominantly agglomerated” refers to the majority (eg, greater than 50%, greater than 60%, greater than 75%, greater than 80%, 90%) of the non-linear blocks of the organosiloxane block copolymer. Greater than, about 75% to about 90%, about 80% to about 90%, or about 75% to about 85%) are found in certain regions of the solid composition (referred to herein as "nanodomains"). Means that As used herein, a “nanodomain” is a phase region in a solid block copolymer composition that is phase separated within the solid block copolymer composition and has at least one dimension that is between 1 and 100 nanometers in size. Point to. The shape of the nanodomain can vary, provided that the size of at least one dimension of the nanodomain is between 1 and 100 nanometers. Thus, nanodomains can be of regular or irregular shape. Nanodomains may be spherical, tubular, and optionally lamellar.

更なる実施形態では、本明細書に記載の固体オルガノシロキサンブロックコポリマーは、第1相及び不相溶性の第2相を含み、第1相は主に、本明細書の定義によるジシロキシ単位[R SiO2/2]を含有し、第2相は主に、本願の定義によるトリシロキシ単位[RSiO3/2]を含有し、非直鎖状ブロックは、十分に凝集されて、第1相と不相溶性であるナノドメインとなる。 In a further embodiment, the solid organosiloxane block copolymer described herein comprises a first phase and an incompatible second phase, wherein the first phase is primarily composed of disiloxy units [R 12 2 SiO 2/2 ], the second phase mainly contains trisiloxy units [R 2 SiO 3/2 ] according to the definition of the present application, and the non-linear blocks are fully agglomerated, It becomes a nanodomain that is incompatible with one phase.

いくつかの実施形態において、本発明の実施形態の樹脂−直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマーは、オルガノシロキサン樹脂(例えば、ブロックコポリマーの一部ではない遊離樹脂)を更に含有してもよい。この例において、オルガノシロキサン樹脂も、ナノドメイン内で主に凝集する。いくつかの実施形態において、遊離樹脂は、約5〜約30重量%、好ましくは約10〜約30重量%の量で存在する。   In some embodiments, the resin-linear organosiloxane block copolymer of embodiments of the present invention may further contain an organosiloxane resin (eg, a free resin that is not part of the block copolymer). In this example, the organosiloxane resin also aggregates predominantly within the nanodomain. In some embodiments, the free resin is present in an amount of about 5% to about 30%, preferably about 10% to about 30% by weight.

本開示の固体ブロックコポリマー内のジシロキシ及びトリシロキシ単位の構造的な規則性、並びに、ナノドメインの特徴は、透過型電子顕微鏡(TEM)法、原子間力顕微鏡法(AFM)、中性子線小角散乱法、X線小角散乱法及び走査型電子顕微鏡法等の特定の分析技術を使用して明示的に測定され得る。   The structural regularity of the disiloxy and trisiloxy units in the solid block copolymers of the present disclosure, as well as the characteristics of the nanodomains, are determined by transmission electron microscopy (TEM), atomic force microscopy (AFM), small angle neutron scattering. , Can be explicitly measured using certain analytical techniques such as X-ray small angle scattering and scanning electron microscopy.

あるいは、ブロックコポリマー内のジシロキシ及びトリシロキシ単位の構造的な規則性、並びにナノドメインの形成は、本発明のオルガノシロキサンブロックコポリマーから生じるコーティングの特定の物理的特性を特徴付けることによって示され得る。例えば、本発明のオルガノシロキサンコポリマーは、95%を超える可視光透過率を有するコーティングをもたらす場合がある。当業者は、このような光学的透明性が可能であるのは、(2つの相の屈折率が一致する以外に)可視光がこのような媒質を通過することができ、かつ150ナノメートルを超える粒径を有する粒子(又は本明細書で使用されるようなドメイン)によって回折されない場合にのみである、ことを理解している。粒径又はドメインが更に小さくなるにつれて、光学的透明度は更に改善され得る。したがって、本発明のオルガノシロキサンコポリマーから誘導されるコーティング又は封入材は、少なくとも95%の可視光透過率、例えば、少なくとも96%、少なくとも97%、少なくとも98%、少なくとも99%、又は100%の可視光透過率を、コーティング又は封入材又はフィルム厚0.5mm以上のフィルムにおいて、有してもよい。本明細書で使用するとき、「可視光」という用語には、350nmを超える波長の光が包含される。   Alternatively, the structural regularity of the disiloxy and trisiloxy units within the block copolymer, as well as the formation of nanodomains, can be shown by characterizing certain physical properties of the coating resulting from the organosiloxane block copolymer of the present invention. For example, the organosiloxane copolymers of the present invention can result in coatings having visible light transmission greater than 95%. One skilled in the art will recognize that such optical clarity is only possible because visible light can pass through such media (besides the two phases having matching refractive indices), and 150 nm It is understood that only if not diffracted by particles (or domains as used herein) having a larger particle size. As the particle size or domain becomes smaller, the optical clarity can be further improved. Thus, coatings or encapsulants derived from the organosiloxane copolymers of the present invention have a visible light transmission of at least 95%, for example, at least 96%, at least 97%, at least 98%, at least 99%, or 100% visible light. Light transmission may be provided in the coating or encapsulant or film with a film thickness of 0.5 mm or more. As used herein, the term "visible light" includes light of wavelengths greater than 350 nm.

本発明の実施形態のいくつかは、本明細書に記載の組成物を含む光学アセンブリ及び物品、例えば、国際公開第2013/101674号(2012年12月2日出願);国際公開第2013/109607号(2013年1月16日出願);国際公開第2013/119796号(2013年2月7日出願)に記載のものに関し、これらの全てを本明細書に完全に記載されているかのように、参照により援用する。したがって、本発明のいくつかの実施形態は、本明細書に記載のオルガノシロキサンブロックコポリマーを含む、LED封入材に関する。   Some embodiments of the present invention are directed to optical assemblies and articles comprising the compositions described herein, such as WO 2013/101675 (filed December 2, 2012); WO 2013/109607. No. (filed Jan. 16, 2013); those described in WO 2013/119796 (filed Feb. 7, 2013), all of which are as if fully set forth herein. , Incorporated by reference. Accordingly, some embodiments of the present invention relate to LED encapsulants that include the organosiloxane block copolymers described herein.

本明細書で使用するとき、用語「約」は、値又は範囲の変動の程度、例えば、記載される値又は記載される範囲の限度の10%以内、5%以内又は1%以内を許容することができる。   As used herein, the term "about" allows for a degree of variation in the value or range, for example, within 10%, 5%, or 1% of the stated value or range limit. be able to.

範囲の形式で表される値は、範囲の限度として明示的に記載される数値だけではなく、各数値及び部分範囲が明示的に記載されているかのように、その範囲内に包含される全ての個々の数値又は部分範囲も含むと柔軟に解釈すべきである。例えば、「約0.1%〜約5%」又は「約0.1%〜5%」の範囲は、約0.1%〜約5%を含むだけでなく、示される範囲内の個々の値(例えば、1%、2%、3%、及び4%)及び部分的範囲(例えば、0.1%〜0.5%、1.1%〜2.2%、3.3%〜4.4%)も含むものと解釈されるべきである。   A value expressed in a range format is not limited to only the numerical value explicitly stated as the limit of the range, but to all values subsumed within that range as if each numerical value and subrange were explicitly stated. Should be interpreted flexibly to include individual values or subranges of. For example, a range of "about 0.1% to about 5%" or "about 0.1% to 5%" includes not only about 0.1% to about 5%, but also individual numbers within the indicated range. Values (e.g., 1%, 2%, 3%, and 4%) and subranges (e.g., 0.1% -0.5%, 1.1% -2.2%, 3.3% -4) .4%).

本明細書に記載及び特許請求される本発明の実施形態は、これらの実施形態が本開示のいくつかの態様の例示として意図されているため、本明細書で開示された特定の実施形態によって範囲が限定されるべきではない。いかなる等価な実施形態も、本開示の範囲内にあることが意図される。事実、当業者には、本明細書に表示及び説明する実施形態に加えて、実施形態の様々な変更が前述の説明から明らかになるであろう。かかる変更はまた、添付の特許請求の範囲内にあることを意図するものである。   The embodiments of the invention described and claimed herein are not limited to the specific embodiments disclosed herein, since these embodiments are intended to be illustrative of some aspects of the present disclosure. The scope should not be limited. Any equivalent embodiments are intended to be within the scope of the present disclosure. Indeed, various modifications of the embodiments in addition to those shown and described herein will become apparent to those skilled in the art from the foregoing description. Such modifications are also intended to fall within the scope of the appended claims.

要約書は、読者が技術的開示の性質を迅速に確認できるように提供されているものである。要約書は、特許請求の範囲の範囲又は目的を解釈又は限定するために使用されないという理解の下で提出されている。   The Abstract has been provided so that the reader may quickly ascertain the nature of the technical disclosure. The Abstract has been submitted with the understanding that it will not be used to interpret or limit the scope or objectives of the claims.

以下の実施例は、本発明の特定の実施形態を示すために含まれる。しかしながら、当業者は、本開示を考慮すれば、開示される具体的な実施形態において多くの変更を行うことができ、それでもなお本発明の趣旨及び範囲から逸脱せずに同様の又は類似の結果をもたらすことができることを理解すべきである。全ての百分率は、重量%である。全ての測定は、特に記載のない限り、23℃で行った。
実施例1:樹脂−直鎖状(RL)ブロックコポリマーの代表的な調製
The following examples are included to demonstrate certain embodiments of the present invention. However, one of ordinary skill in the art, in light of the present disclosure, may make many changes in the specific embodiments disclosed and still have the same or similar results without departing from the spirit and scope of the invention. It should be understood that All percentages are percentages by weight. All measurements were performed at 23 0 C unless otherwise noted.
Example 1 Representative Preparation of a Resin-Linear (RL) Block Copolymer

12Lの3つ口丸底フラスコに、フェニル−T樹脂(1800g、13.18モルSi、Dow Corning 217フレーク)及びトルエン(1482g)を窒素下で入れた。このフラスコに、温度計、Teflon撹拌パドル、及び水冷凝縮器に取り付けたDean Stark装置を装着した(Dean Starkには予めトルエンを充満した)。反応混合物を30分間還流加熱し、8.18gの水を除去した。反応溶液を108℃に冷却した後、MTA/ETA(メチルトリアセトキシシラン/エチルトリアセトキシシラン)で封止したシラノール末端PhMeシロキサン(50/50重量%のMTA/ETA(メチルトリアセトキシシラン/エチルトリアセトキシシラン)(46.96g、0.207モルSi)をシロキサン(2200g、16.13モルSi、DP=127;ここで「DP」はNMRで決定した重合度を表す)に添加し、グローブボックス内で室温下、1時間撹拌することによって合成した)を素早く添加した。反応混合物を窒素下で2時間還流加熱し、14.66gの水を除去した。反応溶液を再度108℃に冷却し、50/50重量%のMTA/ETA(メチルトリアセトキシシラン/エチルトリアセトキシシラン)(314.49g、1.348モル)を加えた後、1時間還流して0.56gの水を除去し、次いで反応混合物を90℃に冷却して、脱イオン(DI)水(430g)を添加し、次いで還流して共沸蒸留により水を除去した。上記の水添加−除去プロセスを2回繰り返し、合計で1045.9gの水相を除去した。最後に、蒸留及び118℃でいくらかの揮発物(1331.4g)を除去することによって、溶液の固形分を約70重量%まで増大した。合成されたRL溶液は無色透明であり、後で使用するために室温で保管された。
実施例2:3.5モル%のViを有するMVi樹脂−直鎖状ブロックコポリマーの調製
To a 12 L three neck round bottom flask was charged phenyl-T resin (1800 g, 13.18 mol Si, Dow Corning 217 flakes) and toluene (1482 g) under nitrogen. The flask was equipped with a thermometer, a Teflon stirring paddle, and a Dean Stark apparatus attached to a water-cooled condenser (the Dean Stark was pre-filled with toluene). The reaction mixture was heated at reflux for 30 minutes to remove 8.18 g of water. After the reaction solution was cooled to 108 ° C., silanol-terminated PhMe siloxane (50/50 wt% MTA / ETA (methyltriacetoxysilane / ethyltriethyl) was sealed with MTA / ETA (methyltriacetoxysilane / ethyltriacetoxysilane). Acetoxysilane) (46.96 g, 0.207 mol Si) was added to the siloxane (2200 g, 16.13 mol Si, DP = 127; where "DP" represents the degree of polymerization determined by NMR) and a glove box (Synthesized by stirring at room temperature for 1 hour). The reaction mixture was heated at reflux under nitrogen for 2 hours to remove 14.66 g of water. The reaction solution was cooled again to 108 ° C., 50/50% by weight of MTA / ETA (methyltriacetoxysilane / ethyltriacetoxysilane) (314.49 g, 1.348 mol) was added, and the mixture was refluxed for 1 hour. 0.56 g of water was removed, then the reaction mixture was cooled to 90 ° C., deionized (DI) water (430 g) was added and then refluxed to remove water by azeotropic distillation. The above water addition-removal process was repeated twice to remove a total of 1045.9 g of aqueous phase. Finally, the solids content of the solution was increased to about 70% by weight by distillation and removal of some volatiles (1331.4 g) at 118 ° C. The synthesized RL solution was clear and colorless and was stored at room temperature for later use.
Example 2: Preparation of MVi resin-linear block copolymer with 3.5 mol% Vi

1Lの乾燥した3つ口丸底フラスコに、実施例1に従って調製した樹脂−直鎖状ブロックコポリマー(100g、0.77モルSi、0.138モルのシラノール)のトルエン(150g)溶液及びトリエチルアミン(TEA、5.76mL、0.0414モル)を窒素下で添加し、続いて10分間撹拌した。ビニルジメチルクロロシラン(5.7mL、0.0414モル)を、フラスコに注射器で10分以内にゆっくりと添加した。クロロシランの添加後1分以内に、白色の塩沈殿物が形成した。反応混合物を窒素下、室温にて3時間撹拌し、続いて1mLのDI水を添加して、未反応のクロロシランをクエンチした。最後に5gの無水NaSOをフラスコに添加し、続いて空気下で一晩撹拌して、溶液を完全に乾燥した。2日目に、1.2μmの濾紙を用いて138kPa(20psi)で反応溶液を濾過して、白色の塩沈殿物を除去した。溶媒及び少量のTEA及びクエンチしたビニル前駆体を、Rotavaporを使用して、80℃及び667kPa(5mmHg)の真空にて完全に除去した。MViRL製品は、3.5モル%のViを含有する柔らかく無色のガム様材料で、トルエンに再溶解できる。
実施例3:2モル%のViを有するMVi改質樹脂−直鎖状ブロックポリマーの調製
In a 1 L dry, three-necked round bottom flask, a solution of the resin-linear block copolymer prepared according to Example 1 (100 g, 0.77 mol Si, 0.138 mol silanol) in toluene (150 g) and triethylamine ( TEA, 5.76 mL, 0.0414 mol) was added under nitrogen, followed by stirring for 10 minutes. Vinyldimethylchlorosilane (5.7 mL, 0.0414 mol) was added slowly to the flask via syringe within 10 minutes. Within one minute after the addition of the chlorosilane, a white salt precipitate formed. The reaction mixture was stirred at room temperature under nitrogen for 3 hours, followed by addition of 1 mL of DI water to quench unreacted chlorosilane. Finally, 5 g of anhydrous Na 2 SO 4 was added to the flask, followed by stirring overnight under air to dry the solution completely. On the second day, the reaction solution was filtered at 138 kPa (20 psi) using 1.2 μm filter paper to remove white salt precipitate. The solvent and a small amount of TEA and the quenched vinyl precursor were completely removed using a Rotavapor at 80 ° C. and a vacuum of 667 kPa (5 mmHg). The MVi RL product is a soft, colorless, gum-like material containing 3.5 mol% Vi and can be redissolved in toluene.
Example 3: Preparation of MVi modified resin having 2 mol% Vi-linear block polymer

(i)MVi 0.045Ph 0.955樹脂の調製:3Lの3つ口丸底フラスコに、DI水(1011.9g)を加え、続いて氷水浴で4℃に冷却した。このフラスコに、温度計、Teflon撹拌パドル、及び水冷凝縮器を装着した。フェニルトリクロロシラン(500.5g、2.366モル)、ビニルジメチルクロロシラン(15.03g、0.125モル)及びトルエン(494.4g)の予備混合溶液を、上記の冷却した水に2分以内に加え、続いて氷水浴から外して5分間撹拌した(反応中の溶液の最高温度は、74℃以下であった)。反応混合物を、底部ドレイン付きの2L丸底フラスコに移し、続いて水相を除去した。残留物質にDI水(82.4g)を添加し、続いて80℃で10分間加熱し、続いて冷却し、水相を除去した。残留物質に2−プロパノール(20.6g)及びDI水(61.8g)の混合物を添加し、続いて80℃で10分間加熱して水相を除去し、この工程を、最終的な洗浄水相のpHが4.0になるまで、数回繰り返した。次いで、反応混合物を還流加熱して、残留水を共沸蒸留により除去した。合成したMVi 0.045Ph 0.955樹脂を、rotavaporを使用して、120℃で乾燥した。MVi 0.045Ph 0.955生成物は、室温で「パリパリした」固体であり、収率は314gで、4.5モル%のViを含有した。 (I) Preparation of M Vi 0.045 T Ph 0.955 resin: To a 3 L 3-neck round bottom flask was added DI water (1011.9 g), followed by cooling to 4 ° C. in an ice water bath. The flask was equipped with a thermometer, a Teflon stirring paddle, and a water-cooled condenser. A premixed solution of phenyltrichlorosilane (500.5 g, 2.366 mol), vinyldimethylchlorosilane (15.03 g, 0.125 mol) and toluene (494.4 g) was added to the above cooled water within 2 minutes. Addition was followed by removal from the ice-water bath and stirring for 5 minutes (the maximum temperature of the solution during the reaction was 74 ° C. or less). The reaction mixture was transferred to a 2 L round bottom flask with a bottom drain, followed by removal of the aqueous phase. DI water (82.4 g) was added to the residual material, followed by heating at 80 ° C. for 10 minutes, followed by cooling and removal of the aqueous phase. To the residual material was added a mixture of 2-propanol (20.6 g) and DI water (61.8 g), followed by heating at 80 ° C. for 10 minutes to remove the aqueous phase, and combining this step with the final wash water It was repeated several times until the pH of the phase was 4.0. The reaction mixture was then heated to reflux and residual water was removed by azeotropic distillation. The synthesized M Vi 0.045 T Ph 0.955 resin was dried at 120 ° C. using rotavapor. The MVi 0.045 T Ph 0.955 product was a "crisp" solid at room temperature, yielding 314 g and containing 4.5 mol% Vi.

(ii)MViRLs(2モル% Vi)の調製:500mL 4つ口丸底フラスコに、MVi 0.045Ph 0.955樹脂(72g、0.541モルSi)及びトルエン(59.3g)を窒素下で入れた。このフラスコに、温度計、Teflon撹拌パドル、及び水冷凝縮器に取り付けたDean Stark装置を装着した(Dean Starkには予めトルエンを充満した)。反応混合物を30分間還流加熱し、0.01gの水を除去した。反応溶液を108℃に冷却した後、MTA/ETA(メチルトリアセトキシシラン/エチルトリアセトキシシラン)で封止したシラノール末端PhMeシロキサン(MTA/ETA(50/50、1.85g、0.00813モルSi)をシロキサン(88g、0.645モルSi、DP=129)に添加し、それを室温下、グローブボックス内で1時間撹拌することによって合成した)を素早く添加した。反応混合物を窒素下で2時間還流加熱し、0.65gの水を除去した。反応溶液を再度108℃に冷却し、MTA/ETA(50/50、4.92g、0.0216モルSi)を加えた後、1時間還流して0.25gの水を除去し、次いで反応混合物を90℃に冷却して、DI水(8.05g)を添加し、次いで還流して共沸蒸留により水を除去した。この水の添加−除去を3回繰り返した。最後に、蒸留及び118℃でいくらかの揮発物(39.2g)を除去することによって、溶液の固形分を約70重量%まで増大した。合成されたMViRLs溶液は無色透明であり、2モル%のViを含有した。
実施例4:3.7モル%のViを有するMVi改質樹脂−直鎖状ブロックポリマーの調製
(Ii) Preparation of M Vi RLs (2 mol% Vi): In a 500 mL four-necked round bottom flask, add M Vi 0.045 T Ph 0.955 resin (72 g, 0.541 mol Si) and toluene (59.3 g). ) Was placed under nitrogen. The flask was equipped with a thermometer, a Teflon stirring paddle, and a Dean Stark apparatus attached to a water-cooled condenser (the Dean Stark was pre-filled with toluene). The reaction mixture was heated at reflux for 30 minutes to remove 0.01 g of water. After cooling the reaction solution to 108 ° C., silanol-terminated PhMe siloxane (MTA / ETA (50/50, 1.85 g, 0.00813 mol Si) was sealed with MTA / ETA (methyltriacetoxysilane / ethyltriacetoxysilane). ) Was added to siloxane (88 g, 0.645 mol Si, DP = 129), which was synthesized by stirring at room temperature in a glove box for 1 hour. The reaction mixture was heated at reflux under nitrogen for 2 hours to remove 0.65 g of water. The reaction solution was cooled again to 108 ° C., MTA / ETA (50/50, 4.92 g, 0.0216 mol Si) was added, and then refluxed for 1 hour to remove 0.25 g of water. Was cooled to 90 ° C., DI water (8.05 g) was added, then refluxed to remove water by azeotropic distillation. This addition and removal of water was repeated three times. Finally, the solids content of the solution was increased to about 70% by weight by distillation and removal of some volatiles (39.2 g) at 118 ° C. The synthesized M Vi RLs solution was clear and colorless and contained 2 mol% Vi.
Example 4: Preparation of MVi modified resin having 3.7 mol% Vi-linear block polymer

(i)MVi 0.078Ph 0.922樹脂の調製:3Lの3つ口丸底フラスコに、DI水(1011.9g)を加え、続いて氷水浴で4℃に冷却した。このフラスコに、温度計、Teflon撹拌パドル、及び水冷凝縮器を取り付けた。フェニルトリクロロシラン(500.5g、2.366モル)、ビニルジメチルクロロシラン(26.55g、0.22モル)及びトルエン(508.5g)の予備混合溶液を、上記の冷却した水に2分以内に加え、続いて氷水浴から外して5分間撹拌した(反応中の溶液の最高温度は、71℃以下であった)。反応混合物を、底部ドレイン付きの2L丸底フラスコに移し、続いて水相を除去した。残留物質にDI水(84.8g)を添加し、続いて80℃で10分間加熱し、続いて冷却し、水相を除去した。残留物質に2−プロパノール(21.2g)及びDI水(63.6g)の混合物を添加し、続いて80℃で10分間加熱して水相を除去し、この工程を、最終的な洗浄水相のpHが4.0になるまで、数回繰り返した。次いで、反応混合物を還流加熱して、残留水を共沸蒸留により除去した。合成されたMViPh樹脂を、rotavaporを使用して、120℃で乾燥した。生成物は、室温でパリパリした固体であり、収率は332gで、7.8モル%のViを含有した。   (I) MVi 0.078TPh 0.922Preparation of resin: To a 3 L 3-neck round bottom flask was added DI water (1011.9 g), followed by cooling to 4 ° C. in an ice water bath. The flask was fitted with a thermometer, a Teflon stirring paddle, and a water-cooled condenser. A premixed solution of phenyltrichlorosilane (500.5 g, 2.366 mol), vinyldimethylchlorosilane (26.55 g, 0.22 mol) and toluene (508.5 g) was added to the cooled water within 2 minutes. Addition was followed by removal from the ice-water bath and stirring for 5 minutes (the maximum temperature of the solution during the reaction was 71 ° C. or less). The reaction mixture was transferred to a 2 L round bottom flask with a bottom drain, followed by removal of the aqueous phase. DI water (84.8 g) was added to the residual material, followed by heating at 80 ° C. for 10 minutes, followed by cooling and removal of the aqueous phase. To the residual material was added a mixture of 2-propanol (21.2 g) and DI water (63.6 g), followed by heating at 80 ° C. for 10 minutes to remove the aqueous phase, and this step was repeated in the final wash water. This was repeated several times until the pH of the phase was 4.0. The reaction mixture was then heated to reflux and residual water was removed by azeotropic distillation. Synthesized MViPhThe resin was dried at 120 ° C. using rotavapor. The product was a crisp solid at room temperature, yield 332 g and contained 7.8 mol% Vi.

(ii)MViRL(3.7モル% Vi)の調製:500mL 4つ口丸底フラスコに、MVi 0.078Ph 0.922樹脂(72g、0.547モルSi)及びトルエン(59.3g)を窒素下で入れた。このフラスコに、温度計、Teflon撹拌パドル、及び水冷凝縮器に取り付けたDean Stark装置を装着した(Dean Starkには予めトルエンを充満した)。反応混合物を30分間還流加熱し、0.05gの水を除去した。反応溶液を108℃に冷却した後、MTA/ETAで封止したシラノール末端PhMeシロキサン(MTA/ETA(50/50、1.85g、0.00813モルSi)をシロキサン(88g、0.645モルSi、DP=129)に添加し、それを室温下、グローブボックス内で1時間撹拌することによって合成した)を素早く添加した。反応混合物を窒素下で2時間還流加熱し、0.7gの水を除去した。反応溶液を再度108℃に冷却し、MTA/ETA(50/50、4.98g、0.0219モルSi)を加えた後、1時間還流して0.3gの水を除去し、次いで反応混合物を90℃に冷却して、DI水(8.12g)を添加し、次いで還流して共沸蒸留により水を除去した。この水の添加−除去を3回繰り返した。最後に、蒸留及び118℃でいくらかの揮発物(38.4g)を除去することによって、溶液の固形分を約70重量%まで増大した。合成されたMViRL溶液は無色透明であり、3.7モル%のViを含有した。
実施例5:3.7モル%のViを有するDVi改質樹脂−直鎖状ブロックポリマーの調製
(Ii) Preparation of M Vi RL (3.7 mol% Vi): In a 500 mL four-necked round bottom flask, add M Vi 0.078 T Ph 0.922 resin (72 g, 0.547 mol Si) and toluene (59). .3 g) under nitrogen. The flask was equipped with a thermometer, a Teflon stirring paddle, and a Dean Stark apparatus attached to a water-cooled condenser (the Dean Stark was pre-filled with toluene). The reaction mixture was heated at reflux for 30 minutes to remove 0.05 g of water. After the reaction solution was cooled to 108 ° C., silanol-terminated PhMe siloxane (MTA / ETA (50/50, 1.85 g, 0.00813 mol Si)) sealed with MTA / ETA was added to siloxane (88 g, 0.645 mol Si , DP = 129), which was synthesized by stirring for 1 hour in a glove box at room temperature). The reaction mixture was heated at reflux under nitrogen for 2 hours to remove 0.7 g of water. The reaction solution was cooled again to 108 ° C., MTA / ETA (50/50, 4.98 g, 0.0219 mol Si) was added, and then refluxed for 1 hour to remove 0.3 g of water. Was cooled to 90 ° C., DI water (8.12 g) was added, then refluxed to remove water by azeotropic distillation. This addition and removal of water was repeated three times. Finally, the solids content of the solution was increased to about 70% by weight by distillation and removal of some volatiles (38.4 g) at 118 ° C. The synthesized M Vi RL solution was clear and colorless and contained 3.7 mol% Vi.
Example 5: Preparation of DVi modified resin with 3.7 mol% Vi-linear block polymer

(i)DVi 0.08Ph 0.92樹脂の調製:3Lの3つ口丸底フラスコに、DI水(1011.9g)を加え、続いて氷水浴で4℃に冷却した。このフラスコに、温度計、Teflon撹拌パドル、及び水冷凝縮器を取り付けた。フェニルトリクロロシラン(500.5g、2.366モル)、ビニルメチルジクロロシラン(31.04g、0.22モル)及びトルエン(506.1g)の予備混合溶液を、上記の冷却した水に2分以内で加え、続いて氷水浴から外して5分間撹拌した(反応中の溶液の最高温度は、75℃以下であった)。反応混合物を、底部ドレイン付きの2L丸底フラスコに移し、続いて水相を除去した。残留物質にDI水(84.8g)を添加し、続いて80℃で10分間加熱し、続いて冷却し、水相を除去した。残留物質に2−プロパノール(21.2g)及びDI水(63.6g)の混合物を添加し、続いて80℃で10分間加熱して水相を除去し、この工程を、最終的な洗浄水相のpHが4.0になるまで、数回繰り返した。次いで、反応混合物を還流加熱して、残留水を共沸蒸留により除去した。合成されたDViPh樹脂を、rotavaporを使用して、120℃で乾燥した。生成物は、室温でパリパリした固体であり、収率は335gで、8モル%のViを含有した。 (I) Preparation of D Vi 0.08 T Ph 0.92 resin: To a 3 L 3-neck round bottom flask was added DI water (1011.9 g), followed by cooling to 4 ° C. in an ice water bath. The flask was fitted with a thermometer, a Teflon stirring paddle, and a water-cooled condenser. A premixed solution of phenyltrichlorosilane (500.5 g, 2.366 mol), vinylmethyldichlorosilane (31.04 g, 0.22 mol) and toluene (506.1 g) was added to the above-mentioned cooled water within 2 minutes. And stirred for 5 minutes after removing from the ice-water bath (the maximum temperature of the solution during the reaction was 75 ° C. or less). The reaction mixture was transferred to a 2 L round bottom flask with a bottom drain, followed by removal of the aqueous phase. DI water (84.8 g) was added to the residual material, followed by heating at 80 ° C. for 10 minutes, followed by cooling and removal of the aqueous phase. To the residual material was added a mixture of 2-propanol (21.2 g) and DI water (63.6 g), followed by heating at 80 ° C. for 10 minutes to remove the aqueous phase, and this step was repeated in the final wash water. This was repeated several times until the pH of the phase was 4.0. The reaction mixture was then heated to reflux and residual water was removed by azeotropic distillation. The synthesized D Vi T Ph resin was dried at 120 ° C. using rotavapor. The product was a crisp solid at room temperature, yield 335 g and contained 8 mol% Vi.

(ii)DViRL(3.7モル% Vi)の調製:500mLの4つ口丸底フラスコに、DVi 0.08Ph 0.92樹脂(72g、0.55モルSi)及びトルエン(59.3g)を窒素下で入れた。このフラスコに、温度計、Teflon撹拌パドル、及び水冷凝縮器に取り付けたDean Stark装置を装着した(Dean Starkには予めトルエンを充満した)。反応混合物を30分間還流加熱し(113℃)、0.03gの水を除去した。反応溶液を108℃に冷却した後、MTA/ETAで封止したシラノール末端PhMeシロキサン(MTA/ETA(50/50、1.85g、0.00813モルSi)をシロキサン(88g、0.645モルSi、DP=129)に添加し、それを室温下、グローブボックス内で1時間撹拌することによって合成した)を素早く添加した。反応混合物を窒素下で2時間還流加熱し、0.7gの水を除去した。反応溶液を再度108℃に冷却し、MTA/ETA(50/50、1.25g、0.0055モルSi)を加えた後、1時間還流して0.27gの水を除去し、次いで反応混合物を90℃に冷却して、DI水(7.37g)を添加し、次いで還流して共沸蒸留により水を除去した。この水の添加−除去を3回繰り返した。最後に、蒸留及び118℃でいくらかの揮発物(38.3g)を除去することによって、溶液の固形分を約70重量%まで増大した。合成されたDViRL溶液は無色透明であり、3.7モル%のViを含有した。
実施例6:3.5モル%のViを有するDVi改質樹脂−直鎖状ブロックポリマーの調製
(Ii) Preparation of D Vi RL (3.7 mol% Vi): In a 500 mL four-necked round bottom flask, D Vi 0.08 T Ph 0.92 resin (72 g, 0.55 mol Si) and toluene ( 59.3 g) were charged under nitrogen. The flask was equipped with a thermometer, a Teflon stirring paddle, and a Dean Stark apparatus attached to a water-cooled condenser (the Dean Stark was pre-filled with toluene). The reaction mixture was heated at reflux (113 ° C.) for 30 minutes to remove 0.03 g of water. After the reaction solution was cooled to 108 ° C., silanol-terminated PhMe siloxane (MTA / ETA (50/50, 1.85 g, 0.00813 mol Si)) sealed with MTA / ETA was added to siloxane (88 g, 0.645 mol Si , DP = 129), which was synthesized by stirring for 1 hour in a glove box at room temperature). The reaction mixture was heated at reflux under nitrogen for 2 hours to remove 0.7 g of water. The reaction solution was cooled again to 108 ° C., MTA / ETA (50/50, 1.25 g, 0.0055 mol Si) was added, and the mixture was refluxed for 1 hour to remove 0.27 g of water. Was cooled to 90 ° C., DI water (7.37 g) was added and then refluxed to remove water by azeotropic distillation. This addition and removal of water was repeated three times. Finally, the solids content of the solution was increased to about 70% by weight by distillation and removal of some volatiles (38.3 g) at 118 ° C. The synthesized D Vi RL solution was clear and colorless and contained 3.7 mol% Vi.
Example 6: Preparation of DVi modified resin with 3.5 mol% Vi-linear block polymer

500mLの4つ口丸底フラスコに、フェニル−T樹脂(72g、0.527モルSi、Dow Corning 217フレーク)及びトルエン(59.3g)を窒素下で入れた。このフラスコに、温度計、Teflon撹拌パドル、及び水冷凝縮器に取り付けたDean Stark装置を装着した(Dean Starkには予めトルエンを充満した)。反応混合物を30分間還流加熱し(113℃)、0.1gの水を除去した。反応溶液を108℃に冷却した後、MTAで封止したシラノール末端PhMeシロキサン(MTA(メチルトリアセトキシシラン、1.79g、0.00813モルSi)をシロキサン(88g、0.645モルSi、DP=129)に添加し、それを室温下、グローブボックス内で1時間撹拌することによって合成した)を素早く添加した。反応混合物を窒素下で2時間還流加熱し、0.95gの水を除去した。反応溶液を再度108℃に冷却し、VMDA(ビニルメチルジアセトキシシラン、8.14g、0.0432モルSi)を加えた後、1時間還流して0.65gの水を除去し、次いで反応混合物を90℃に冷却して、DI水(17.14g)を添加し、次いで還流して共沸蒸留により水を除去した。反応溶液を再度108℃に冷却し、MTA(2.67g、0.0121モルSi)を加えた後、1時間還流し、次いで反応混合物を90℃に冷却して、DI水(17.14g)を添加し、次いで還流して共沸蒸留により水を除去した(この水の添加−除去を2回繰り返した)。最後に、蒸留及び118℃でいくらかの揮発物(36.5g)を除去することによって、溶液の固形分を約70重量%まで増大した。合成されたDViRL溶液は無色透明であり、3.5モル%のViを含有した。
実施例7:4.5モル%のViを有するTVi改質樹脂−直鎖状ブロックポリマーの調製
A 500 mL four-neck round bottom flask was charged with phenyl-T resin (72 g, 0.527 mol Si, Dow Corning 217 flakes) and toluene (59.3 g) under nitrogen. The flask was equipped with a thermometer, a Teflon stirring paddle, and a Dean Stark apparatus attached to a water-cooled condenser (the Dean Stark was pre-filled with toluene). The reaction mixture was heated at reflux (113 ° C.) for 30 minutes to remove 0.1 g of water. After the reaction solution was cooled to 108 ° C., silanol-terminated PhMe siloxane (MTA (methyltriacetoxysilane, 1.79 g, 0.00813 mol Si)) sealed with MTA was replaced with siloxane (88 g, 0.645 mol Si, DP = 129), which was synthesized by stirring for 1 hour in a glove box at room temperature). The reaction mixture was heated at reflux under nitrogen for 2 hours to remove 0.95 g of water. The reaction solution was cooled again to 108 ° C., VMDA (vinyl methyl diacetoxysilane, 8.14 g, 0.0432 mol Si) was added, and the mixture was refluxed for 1 hour to remove 0.65 g of water. Was cooled to 90 ° C., DI water (17.14 g) was added, then refluxed to remove water by azeotropic distillation. The reaction solution was cooled again to 108 ° C., MTA (2.67 g, 0.0121 mol Si) was added and refluxed for 1 hour, then the reaction mixture was cooled to 90 ° C. and DI water (17.14 g) Was added and then refluxed to remove water by azeotropic distillation (this addition-removal of water was repeated twice). Finally, the solids content of the solution was increased to about 70% by weight by distillation and removal of some volatiles (36.5 g) at 118 ° C. The synthesized D Vi RL solution was clear and colorless and contained 3.5 mol% Vi.
Example 7: Preparation of TVi modified resin with 4.5 mol% Vi-linear block polymer

500mLの4つ口丸底フラスコに、フェニル−T樹脂(72g、0.527モルSi、Dow Corning 217フレーク)及びトルエン(59.3g)を窒素下で入れた。このフラスコに、温度計、Teflon撹拌パドル、及び水冷凝縮器に取り付けたDean Stark装置を装着した(Dean Starkには予めトルエンを充満した)。反応混合物を30分間還流加熱し(113℃)、0.1gの水を除去した。反応溶液を108℃に冷却した後、MTAで封止したシラノール末端PhMeシロキサン(MTA/ETA(50/50、1.85g、0.00813モルSi)をシロキサン(88g、0.645モルSi、DP=129)に添加し、それを室温下、グローブボックス内で1時間撹拌することによって合成した)を素早く添加した。反応混合物を窒素下で2時間還流加熱し、0.94gの水を除去した。反応溶液を再度108℃に冷却し、VTA(ビニルトリアセトキシシラン、12.84g、0.0553モルSi)を加えた後、1時間還流して0.71gの水を除去し、次いで反応混合物を90℃に冷却して、DI水(17.14g)を添加し、次いで還流して共沸蒸留により水を除去した。この水の添加−除去を3回繰り返し、合計で59.1gの水を除去した。最後に、蒸留及び118℃でいくらかの揮発物(38.6g)を除去することによって、溶液の固形分を約70重量%まで増大した。合成されたTViRL溶液は無色透明であり、4.5モル%のViを含有した。
実施例8:1モル%のViを有するDVi改質樹脂−直鎖状ブロックポリマーの調製
A 500 mL four-neck round bottom flask was charged with phenyl-T resin (72 g, 0.527 mol Si, Dow Corning 217 flakes) and toluene (59.3 g) under nitrogen. The flask was equipped with a thermometer, a Teflon stirring paddle, and a Dean Stark apparatus attached to a water-cooled condenser (the Dean Stark was pre-filled with toluene). The reaction mixture was heated at reflux (113 ° C.) for 30 minutes to remove 0.1 g of water. After cooling the reaction solution to 108 ° C., silanol-terminated PhMe siloxane (MTA / ETA (50/50, 1.85 g, 0.00813 mol Si)) sealed with MTA was replaced with siloxane (88 g, 0.645 mol Si, DP = 129), which was synthesized by stirring for 1 hour in a glove box at room temperature). The reaction mixture was heated at reflux under nitrogen for 2 hours to remove 0.94 g of water. The reaction solution was cooled again to 108 ° C., and after adding VTA (vinyltriacetoxysilane, 12.84 g, 0.0553 mol Si), the mixture was refluxed for 1 hour to remove 0.71 g of water. Upon cooling to 90 ° C., DI water (17.14 g) was added, then refluxed to remove water by azeotropic distillation. This addition and removal of water was repeated three times to remove a total of 59.1 g of water. Finally, the solids content of the solution was increased to about 70% by weight by distillation and removal of some volatiles (38.6 g) at 118 ° C. The synthesized T Vi RL solution was clear and colorless and contained 4.5 mol% Vi.
Example 8: Preparation of DVi modified resin with 1 mol% Vi-linear block polymer

500mLの4つ口丸底フラスコに、フェニル−T樹脂(72g、0.535モルSi、Dow Corning 217フレーク)及びトルエン(59.3g)を窒素下で入れた。このフラスコに、温度計、Teflon撹拌パドル、及び水冷凝縮器に取り付けたDean Stark装置を装着した(Dean Starkには予めトルエンを充満した)。反応混合物を30分間還流加熱し(113℃)、0.01gの水を除去した。反応溶液を108℃に冷却した後、MTAで封止したシラノール末端PhMeシロキサン(MTA(メチルトリアセトキシシラン、1.79g、0.00813モルSi)をシロキサン(88g、0.645モルSi、DP=129)に添加し、それを室温下、グローブボックス内で1時間撹拌することによって合成した)を素早く添加した。反応混合物を窒素下で2時間還流加熱し、0.67gの水を除去した。反応溶液を再度108℃に冷却し、VMDA(ビニルメチルジアセトキシシラン、2.33g、0.0124モルSi)を加えた後、1時間還流して0.24gの水を除去し、次いで反応混合物を90℃に冷却して、DI水(14g)を添加し、次いで還流して共沸蒸留により水を除去した。反応溶液を再度108℃に冷却し、MTA(1.77g、0.00804モルSi)を加えた後、1時間還流し、次いで反応混合物を90℃に冷却して、DI水(15.4g)を添加し、次いで還流して共沸蒸留により水を除去した(この水の添加−除去を2回繰り返した)。最後に、蒸留及び118℃でいくらかの揮発物(31.5g)を除去することによって、溶液の固形分を約70重量%まで増大した。合成されたDViRL溶液は無色透明であり、1モル%のViを含有した。
実施例9:2モル%のViを有するDVi改質樹脂−直鎖状ブロックポリマーの調製
A 500 mL four-neck round bottom flask was charged with phenyl-T resin (72 g, 0.535 mol Si, Dow Corning 217 flakes) and toluene (59.3 g) under nitrogen. The flask was equipped with a thermometer, a Teflon stirring paddle, and a Dean Stark apparatus attached to a water-cooled condenser (the Dean Stark was pre-filled with toluene). The reaction mixture was heated at reflux (113 ° C.) for 30 minutes to remove 0.01 g of water. After the reaction solution was cooled to 108 ° C., silanol-terminated PhMe siloxane (MTA (methyltriacetoxysilane, 1.79 g, 0.00813 mol Si)) sealed with MTA was replaced with siloxane (88 g, 0.645 mol Si, DP = 129), which was synthesized by stirring for 1 hour in a glove box at room temperature). The reaction mixture was heated at reflux under nitrogen for 2 hours to remove 0.67 g of water. The reaction solution was cooled again to 108 ° C., VMDA (vinyl methyl diacetoxysilane, 2.33 g, 0.0124 mol Si) was added, and the mixture was refluxed for 1 hour to remove 0.24 g of water. Was cooled to 90 ° C., DI water (14 g) was added, then refluxed to remove water by azeotropic distillation. The reaction solution was cooled again to 108 ° C., MTA (1.77 g, 0.00804 mol Si) was added and refluxed for 1 hour, then the reaction mixture was cooled to 90 ° C. and DI water (15.4 g) Was added and then refluxed to remove water by azeotropic distillation (this addition-removal of water was repeated twice). Finally, the solids content of the solution was increased to about 70% by weight by distillation and removal of some volatiles (31.5 g) at 118 ° C. The synthesized D Vi RL solution was clear and colorless and contained 1 mol% Vi.
Example 9: Preparation of DVi modified resin with 2 mol% Vi-linear block polymer

500mLの4つ口丸底フラスコに、フェニル−T樹脂(180g、1.318モルSi、Dow Corning 217フレーク)及びトルエン(138.6g)を窒素下で入れた。このフラスコに、温度計、Teflon撹拌パドル、及び水冷凝縮器に取り付けたDean Stark装置を装着した(Dean Starkには予めトルエンを充満した)。反応混合物を30分間還流加熱し、0.54gの水を除去した。反応溶液を108℃に冷却した後、MTA/ETAで封止したシラノール末端PhMeシロキサン(50/50のMTA/ETA(メチルトリアセトキシシラン/エチルトリアセトキシシラン、4.24g、0.0187モルSi)をシロキサン(220g、1.614モルSi、DP=181)に添加し、それを室温下、グローブボックス内で1時間撹拌することによって合成した)を素早く添加した。反応混合物を窒素下で2時間還流加熱し、2.01gの水を除去した。反応溶液を再度108℃に冷却し、VMDA(ビニルメチルジアセトキシシラン、11.91g、0.0633モルSi)を加えた後、1時間還流して1.05gの水を除去し、次いで反応混合物を90℃に冷却して、DI水(47.8g)を添加し、次いで還流して共沸蒸留により水を除去した。反応溶液を再度108℃に冷却し、50/50のMTA/ETA(21.57g、0.0949モルSi)を加えた後、1時間還流し、次いで反応混合物を90℃に冷却して、DI水(47.8g)を添加し、次いで還流して共沸蒸留により水を除去した(この水の添加−除去を2回繰り返した)。同じ水処理を3回実施し、最後に、蒸留及び118℃でいくらかの揮発物(103.6g)を除去することによって、溶液の固形分を約70重量%まで増大した。合成されたDViRL溶液は無色透明であり、2モル%のViを含有した。
実施例10:2モル%のVi及び1ppmのPt触媒を有するDViRL
A 500 mL four-neck round bottom flask was charged with phenyl-T resin (180 g, 1.318 mol Si, Dow Corning 217 flakes) and toluene (138.6 g) under nitrogen. The flask was equipped with a thermometer, a Teflon stirring paddle, and a Dean Stark apparatus attached to a water-cooled condenser (the Dean Stark was pre-filled with toluene). The reaction mixture was heated at reflux for 30 minutes to remove 0.54 g of water. After cooling the reaction solution to 108 ° C., silanol-terminated PhMe siloxane sealed with MTA / ETA (50/50 MTA / ETA (methyltriacetoxysilane / ethyltriacetoxysilane, 4.24 g, 0.0187 mol Si) Was added to siloxane (220 g, 1.614 mol Si, DP = 181), which was synthesized by stirring at room temperature in a glove box for 1 hour. The reaction mixture was heated at reflux under nitrogen for 2 hours to remove 2.01 g of water. The reaction solution was cooled again to 108 ° C., VMDA (vinyl methyl diacetoxysilane, 11.91 g, 0.0633 mol Si) was added, and the mixture was refluxed for 1 hour to remove 1.05 g of water. Was cooled to 90 ° C., DI water (47.8 g) was added, then refluxed to remove water by azeotropic distillation. The reaction solution was cooled again to 108 ° C., 50/50 MTA / ETA (21.57 g, 0.0949 mol Si) was added and refluxed for 1 hour, then the reaction mixture was cooled to 90 ° C. and DI Water (47.8 g) was added and then refluxed to remove water by azeotropic distillation (this addition-removal of water was repeated twice). The same water treatment was performed three times, and finally the solids content of the solution was increased to about 70% by weight by distillation and removal of some volatiles (103.6 g) at 118 ° C. The synthesized D Vi RL solution was clear and colorless and contained 2 mol% Vi.
Example 10: D Vi RL with 2 mol% Vi and 1 ppm Pt catalyst

実施例9のDViRLを使用して、1ppmのPt触媒を入れて実施例10を調製した。
実施例11:2モル%のViを有するTViRL
Example 10 was prepared using the D Vi RL of Example 9 with 1 ppm of Pt catalyst.
Example 11: T Vi RL with 2 mol% Vi

500mLの4つ口丸底フラスコに、フェニル−T樹脂(180g、1.318モルSi、Dow Corning 217フレーク)及びトルエン(148.2g)を窒素下で入れた。このフラスコに、温度計、Teflon撹拌パドル、及び水冷凝縮器に取り付けたDean Stark装置を装着した(Dean Starkには予めトルエンを充満した)。反応混合物を30分間還流加熱し、1.05gの水を除去した。反応溶液を108℃に冷却した後、MTA/ETAで封止したシラノール末端PhMeシロキサン(50/50のMTA/ETA(メチルトリアセトキシシラン/エチルトリアセトキシシラン、4.43g、0.0195モルSi)をシロキサン(220g、1.614モルSi、DP=181)に添加し、それを室温下、グローブボックス内で1時間撹拌することによって合成した)を素早く添加した。反応混合物を窒素下で2時間還流加熱し、2.05gの水を除去した。反応溶液を再度108℃に冷却し、VTA(ビニルトリアセトキシシラン、14.29g、0.0615モルSi)及び50/50のMTA/ETA(14.48g、0.0637モルSi)を加えた後、1時間還流し、次いで反応混合物を90℃に冷却して、DI水(39.1g)を添加し、次いで還流して共沸蒸留により水を除去した。水処理(39.1gのDI水)を更に2回繰り返した。最後に、蒸留及び118℃でいくらかの揮発物(113g)を除去することによって、溶液の固形分を約70重量%まで増大した。合成されたDViRL溶液は無色透明であり、2モル%のViを含有した。
実施例12:ヒドロシリル化硬化配合物
A 500 mL four-neck round bottom flask was charged with phenyl-T resin (180 g, 1.318 mol Si, Dow Corning 217 flakes) and toluene (148.2 g) under nitrogen. The flask was equipped with a thermometer, a Teflon stirring paddle, and a Dean Stark apparatus attached to a water-cooled condenser (the Dean Stark was pre-filled with toluene). The reaction mixture was heated at reflux for 30 minutes to remove 1.05 g of water. After cooling the reaction solution to 108 ° C., silanol terminated PhMe siloxane sealed with MTA / ETA (50/50 MTA / ETA (methyltriacetoxysilane / ethyltriacetoxysilane, 4.43 g, 0.0195 mol Si) Was added to siloxane (220 g, 1.614 mol Si, DP = 181), which was synthesized by stirring at room temperature in a glove box for 1 hour. The reaction mixture was heated at reflux under nitrogen for 2 hours to remove 2.05 g of water. The reaction solution was cooled again to 108 ° C. and after adding VTA (vinyltriacetoxysilane, 14.29 g, 0.0615 mol Si) and 50/50 MTA / ETA (14.48 g, 0.0637 mol Si) Refluxed for 1 hour, then cooled the reaction mixture to 90 ° C., added DI water (39.1 g) and then refluxed to remove water by azeotropic distillation. The water treatment (39.1 g DI water) was repeated two more times. Finally, the solids content of the solution was increased to about 70% by weight by distillation and removal of some volatiles (113 g) at 118 ° C. The synthesized D Vi RL solution was clear and colorless and contained 2 mol% Vi.
Example 12: Hydrosilylation cured formulation

実施例2〜11に従って生成した樹脂−直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマーを含有する、ヒドロシリル化硬化配合物は、表2に示す量の樹脂直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマー、式R (3−q)SiO(R SiO2/2SiR (3−q) を有する化合物、及びPt触媒を含有するように調製された。樹脂−直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマーは、トルエン中60重量%の溶液として調製し、次いでこの溶液をTeflonコーティングされたアルミパンに注いで、厚さ0.5〜2mmのフィルムを作製した。アルミパンをフード内に一晩放置して、溶媒のトルエンを除去した後に、透明な、固体の、未硬化フィルムが、アルミパン内に均一に形成された。固体フィルムを含有するパンを、オーブン内で、70℃で数時間、続いて120℃で1時間、最後に160℃で3時間、加熱して、硬化したフィルムを得た。
比較例1:
Resins produced in accordance with Examples 2 to 11 - containing linear organosiloxane block copolymers, hydrosilylation cured formulation, the amounts shown in Table 2 of the resin linear organosiloxane block copolymer, wherein R 1 q R 3 ( 3-q) SiO (R 1 2 SiO 2/2) m SiR 3 (3-q) compounds with R 1 q, and were prepared to contain Pt catalyst. The resin-linear organosiloxane block copolymer was prepared as a 60% by weight solution in toluene, which was then poured into Teflon-coated aluminum pans to make 0.5-2 mm thick films. After leaving the aluminum pan in the hood overnight to remove the solvent toluene, a clear, solid, uncured film was uniformly formed in the aluminum pan. The bread containing the solid film was heated in an oven at 70 ° C. for several hours, followed by 120 ° C. for 1 hour, and finally at 160 ° C. for 3 hours to obtain a cured film.
Comparative Example 1:

12Lの3つ口丸底フラスコに、フェニル−T樹脂(1800g、13.18モルSi、Dow Corning 217フレーク)及びトルエン(1482g)を窒素下で入れた。このフラスコに、温度計、Teflon撹拌パドル、及び水冷凝縮器に取り付けたDean Stark装置を装着した(Dean Starkには予めトルエンを充満した)。反応混合物を30分間還流加熱し、8.18gの水を除去した。反応溶液を108℃に冷却した後、MTA/ETA(メチルトリアセトキシシラン/エチルトリアセトキシシラン)で封止したシラノール末端PhMeシロキサン(50/50重量%のMTA/ETA(メチルトリアセトキシシラン/エチルトリアセトキシシラン)(49.96g、0.207モルSi)をシロキサン(2200g、16.13モルSi、DP=127)に添加し、それを室温下、グローブボックス内で1時間撹拌することによって合成した)を素早く添加した。反応混合物を窒素下で2時間還流加熱し、14.66gの水を除去した。反応溶液を再度108℃に冷却し、50/50重量% MTA/ETA(メチルトリアセトキシシラン/エチルトリアセトキシシラン)(314.49g、1.348モル)を加えた後、1時間還流して0.56gの水を除去し、次いで反応混合物を90℃に冷却して、脱イオン(DI)水(430g)を添加し、次いで還流して共沸蒸留により水を除去した。上記の水添加−除去プロセスを2回繰り返し、合計で1045.9gの水相を除去した。最後に、蒸留及び118℃でいくらかの揮発物(1331.4g)を除去することによって、溶液の固形分を約70重量%まで増大した。合成された樹脂−直鎖状溶液は無色透明であった。上記の樹脂−直鎖状ブロックコポリマーを、50ppmのDBUの存在下で硬化し、DBU硬化樹脂−直鎖状固体組成物を得た。
比較例2:
To a 12 L three neck round bottom flask was charged phenyl-T resin (1800 g, 13.18 mol Si, Dow Corning 217 flakes) and toluene (1482 g) under nitrogen. The flask was equipped with a thermometer, a Teflon stirring paddle, and a Dean Stark apparatus attached to a water-cooled condenser (the Dean Stark was pre-filled with toluene). The reaction mixture was heated at reflux for 30 minutes to remove 8.18 g of water. After the reaction solution was cooled to 108 ° C., silanol-terminated PhMe siloxane (50/50 wt% MTA / ETA (methyltriacetoxysilane / ethyltriethyl) was sealed with MTA / ETA (methyltriacetoxysilane / ethyltriacetoxysilane). Acetoxysilane) (49.96 g, 0.207 mol Si) was added to siloxane (2200 g, 16.13 mol Si, DP = 127), and the mixture was stirred at room temperature in a glove box for 1 hour. ) Was added quickly. The reaction mixture was heated at reflux under nitrogen for 2 hours to remove 14.66 g of water. The reaction solution was cooled again to 108 ° C., and 50/50 wt% MTA / ETA (methyltriacetoxysilane / ethyltriacetoxysilane) (314.49 g, 1.348 mol) was added. .56 g of water was removed, then the reaction mixture was cooled to 90 ° C., deionized (DI) water (430 g) was added, and then refluxed to remove water by azeotropic distillation. The above water addition-removal process was repeated twice to remove a total of 1045.9 g of aqueous phase. Finally, the solids content of the solution was increased to about 70% by weight by distillation and removal of some volatiles (1331.4 g) at 118 ° C. The synthesized resin-linear solution was colorless and transparent. The above resin-linear block copolymer was cured in the presence of 50 ppm DBU to obtain a DBU cured resin-linear solid composition.
Comparative Example 2:

樹脂直鎖状溶液は、比較例1に示した手順と同じ手順を用いて合成した。Al硬化樹脂−直鎖状固体組成物を調製するため、上記の樹脂−直鎖状ブロックコポリマーを、100ppmのAlを含有するAl(acac)存在下で硬化した。
比較例3:
The resin linear solution was synthesized using the same procedure as that shown in Comparative Example 1. To prepare an Al-cured resin-linear solid composition, the above resin-linear block copolymer was cured in the presence of Al (acac) 3 containing 100 ppm Al.
Comparative Example 3:

以下に記載の成分を、真空プラネタリミキサ、Thinky ARV−310使用して、2kPa下、1600rpmで2分間混合して、液体組成物を形成する。
成分1:平均単位分子式:(MeViSiO1/20.25(PhSiO3/20.75;5.8g;
成分2:平均単位分子式:MeViSiO(MePhSiO)25OSiMeVi;1.8g;
成分3:平均単位分子式:HMeSiO(PhSiO)SiMeH;2.0g;
成分4:平均単位分子式:(HMeSiO1/20.60(PhSiO3/20.4;0.24g;
成分5:平均単位分子式:
(MeViSiO1/20.18(PhSiO3/20.54(EpMeSiO)0.28、式中、(Ep=グリシドキシプロピル);0.23g;
成分6:平均単位分子式:環状(ViSiMeO1/2;0.02g;
1−エチニル−1−シクロヘキサノール、240ppm;及び
Pt触媒(1.3−ジビニルテトラメチルシロキサン錯体);2.5ppm。
比較例4:ヒドロシリル化反応による2.7モル%のViを有するMVi改質樹脂−直鎖状ブロックポリマーの調製
The components described below are mixed using a vacuum planetary mixer, Thinky ARV-310, under 2 kPa at 1600 rpm for 2 minutes to form a liquid composition.
Component 1: average unit molecular formula: (Me 2 ViSiO 1/2 ) 0.25 (PhSiO 3/2 ) 0.75 ; 5.8 g;
Component 2: average unit molecular formula: Me 2 ViSiO (MePhSiO) 25 OSiMe 2 Vi; 1.8 g;
Component 3: average unit molecular formula: HMe 2 SiO (Ph 2 SiO) SiMe 2 H; 2.0 g;
Component 4: average unit molecular formula: (HMe 2 SiO 1/2 ) 0.60 (PhSiO 3/2 ) 0.4 ; 0.24 g;
Component 5: Average unit molecular formula:
(Me 2 ViSiO 1/2 ) 0.18 (PhSiO 3/2 ) 0.54 (EpMeSiO) 0.28 , wherein (Ep = glycidoxypropyl); 0.23 g;
Component 6: average unit molecular formula: cyclic (ViSiMeO 1/2 ) n ; 0.02 g;
1-ethynyl-1-cyclohexanol, 240 ppm; and Pt catalyst (1.3-divinyltetramethylsiloxane complex); 2.5 ppm.
Comparative Example 4: Preparation of MVi modified resin-linear block polymer with 2.7 mol% Vi by hydrosilylation reaction

(i)MVi 0.147Ph 0.853樹脂の調製:3Lの3つ口丸底フラスコに、DI水(1011.9g)を加え、続いて氷水浴で4℃に冷却した。このフラスコに、温度計、Teflon撹拌パドル、及び水冷凝縮器を取り付けた。フェニルトリクロロシラン(444.26g、2.1モル)、ビニルジメチルクロロシラン(48.26g、0.4モル)及びトルエン(481.5g)の予備混合溶液を、上記の冷却した水に3分間かけて添加し(反応中の溶液の最高温度は71℃以下であった)、その後直ちに氷水浴を外して、80℃で15分間加熱した。反応混合物を、底部ドレイン付きの2L丸底フラスコに移し、水相を除去し、続いて再度80℃で15分間加熱して、分子量増大を促進した。残留物質にDI水(80.25g)を添加し、次いで80℃で10分間加熱し、次いで冷却し、水相を除去した。残留物質に2−プロパノール(20.06g)及びDI水(60.19g)の混合物を添加し、続いて80℃で10分間加熱して水相を除去した(この工程を、最終的な洗浄水相のpHが4.0になるまで、数回繰り返した)。次いで、反応混合物を還流加熱して、残留水を共沸蒸留により除去した。合成されたMVi 0.147Ph 0.853樹脂を、ロータリーエバポレータを使用して、120℃で乾燥した。生成物は、室温で「パリパリした」固体であり、収率は332gで、14.7モル%のViを含有した。 (I) Preparation of M Vi 0.147 T Ph 0.853 resin: To a 3 L 3-neck round bottom flask was added DI water (1011.9 g), followed by cooling to 4 ° C. in an ice water bath. The flask was fitted with a thermometer, a Teflon stirring paddle, and a water-cooled condenser. A premixed solution of phenyltrichlorosilane (444.26 g, 2.1 mol), vinyldimethylchlorosilane (48.26 g, 0.4 mol) and toluene (481.5 g) was added to the cooled water over 3 minutes. Addition (the maximum temperature of the solution during the reaction was 71 ° C. or less), and then immediately removed the ice water bath and heated at 80 ° C. for 15 minutes. The reaction mixture was transferred to a 2 L round bottom flask with a bottom drain and the aqueous phase was removed followed by heating again at 80 ° C. for 15 minutes to promote molecular weight build-up. To the residual material was added DI water (80.25 g), then heated at 80 ° C. for 10 minutes, then cooled and the aqueous phase was removed. A mixture of 2-propanol (20.06 g) and DI water (60.19 g) was added to the residual material, followed by heating at 80 ° C. for 10 minutes to remove the aqueous phase (this step was performed with the final wash water). It was repeated several times until the pH of the phase was 4.0). The reaction mixture was then heated to reflux and residual water was removed by azeotropic distillation. The synthesized M Vi 0.147 T Ph 0.853 resin was dried at 120 ° C. using a rotary evaporator. The product was a "crisp" solid at room temperature, yield 332 g, and contained 14.7 mol% Vi.

(ii)SiH末端PhMeシロキサン(DP=129、M Ph 129)の調製:1Lの乾燥した3つ口丸底フラスコに、シラノール末端PhMeシロキサン(DPh 129(OH)、300.8g、2.207モルSi、0.0265モルのシラノール)、トルエン(450g)及びトリエチルアミン(TEA、4.47mL、0.032モル)を窒素下で入れた後、10分間撹拌した。ジメチルクロロシラン(3.53mL、0.0318モル)を、フラスコに注射器で10分以内にゆっくりと添加した。クロロシランの添加後1分以内に、白色の塩沈殿物が形成した。反応混合物を窒素下、室温にて3時間撹拌し、続いて1mLのDI水を添加して、未反応のクロロシランをクエンチした。最後に10gの無水NaSOをフラスコに添加し、続いて空気下で一晩撹拌して、溶液を完全に乾燥した。2日目に、1.2μmの濾紙を用いて207kPa(30psi)で反応溶液を濾過して、白色の塩沈殿物を除去した。溶媒及び少量のTEA及びクエンチしたビニル前駆体を、Rotavaporを使用して、80℃及び667kPa(5mmHg)の真空にて完全に除去した。M Ph 129生成物は、高粘度の無色透明な液体物質である。 (Ii) Preparation of SiH-terminated PhMe siloxane (DP = 129, MH 2 D Ph 129 ): 10.8 L of silanol-terminated PhMe siloxane (D Ph 129 (OH) 2 in a dry three-necked round bottom flask. 2.207 mol Si, 0.0265 mol silanol), toluene (450 g) and triethylamine (TEA, 4.47 mL, 0.032 mol) were charged under nitrogen and then stirred for 10 minutes. Dimethylchlorosilane (3.53 mL, 0.0318 mol) was added slowly to the flask via syringe within 10 minutes. Within one minute after the addition of the chlorosilane, a white salt precipitate formed. The reaction mixture was stirred at room temperature under nitrogen for 3 hours, followed by addition of 1 mL of DI water to quench unreacted chlorosilane. Finally, 10 g of anhydrous Na 2 SO 4 was added to the flask, followed by stirring overnight under air to dry the solution completely. On the second day, the reaction solution was filtered at 207 kPa (30 psi) using 1.2 μm filter paper to remove white salt precipitates. The solvent and a small amount of TEA and the quenched vinyl precursor were completely removed using a Rotavapor at 80 ° C. and a vacuum of 667 kPa (5 mmHg). The MH 2 D Ph 129 product is a high viscosity, colorless, transparent liquid material.

(iii)MViRLsSysD(2.7モル% Vi)の調製:500mL 4つ口丸底フラスコに、MVi 0.147Ph 0.853樹脂(72g、0.56モルSi)、M Ph 129(88g)及びトルエン(59.3g)を窒素下で入れた。このフラスコに、温度計、Teflon撹拌パドル、及び水冷凝縮器に取り付けたDean Stark装置を装着した(Dean Starkには予めトルエンを充満した)。反応混合物を90℃に加熱し、続いて、Pt触媒(TSA−276、4g、全固体重量を基準にして2.5ppmのPt)を添加した。反応混合物を2.5時間還流加熱し、その間にSiHの消費を観測するために試料のIRをとった。反応は、2時間の還流後に完了し、0.63gの水が除去された。反応溶液を108℃に冷却し、続いて、SiH末端シロキサンMPh2(7.46g、0.0224モル)を添加して、2時間還流した。反応は2時間後に完了し、0.31gの水が除去された(IRによるSiHの観測)。最後に、蒸留及び118℃でいくらかの揮発物を除去することによって、溶液の固形分を約60重量%まで増大した。合成された60% MViRLsSysD溶液は無色透明で粘稠であり、2.7モル%のViを含有した。 (Iii) Preparation of M Vi RLs SysD (2.7 mol% Vi): In a 500 mL four-necked round bottom flask, add M Vi 0.147 T Ph 0.853 resin (72 g, 0.56 mol Si), MH 2 D Ph 129 (88g) and toluene (59.3 g) were placed under nitrogen. The flask was equipped with a thermometer, a Teflon stirring paddle, and a Dean Stark apparatus attached to a water-cooled condenser (the Dean Stark was pre-filled with toluene). The reaction mixture was heated to 90 ° C., followed by the addition of Pt catalyst (TSA-276, 4 g, 2.5 ppm Pt based on total solids weight). The reaction mixture was heated at reflux for 2.5 hours, during which time an IR of the sample was taken to observe the consumption of SiH. The reaction was complete after 2 hours of reflux and 0.63 g of water was removed. The reaction solution was cooled to 108 ° C., followed by, SiH terminated siloxane M H D Ph2 M H (7.46g , 0.0224 mol) was added and refluxed for 2 hours. The reaction was complete after 2 hours and 0.31 g of water was removed (IRH observation of SiH). Finally, the solids content of the solution was increased to about 60% by weight by distillation and removal of some volatiles at 118 ° C. The synthesized 60% M Vi RLs SysD solution was colorless, transparent and viscous and contained 2.7 mol% Vi.

実施例2〜11に従って調製された樹脂−直鎖状オルガノシロキサンのいくつかの物理的及び化学的特性を、下の表1に示す。

Figure 0006649259
Some physical and chemical properties of the resin-linear organosiloxane prepared according to Examples 2-11 are shown in Table 1 below.
Figure 0006649259

本発明の実施形態の樹脂−直鎖状オルガノシロキサンを含む上記の新規組成物は、いずれも1モル%超のビニル官能性及びシラノールのモル%を有する。これは、例えば、Si−Hヒドロシリル化を用いた、ビニルによる単一硬化だけでなく、例えば、ビニル/Si−H及びSiOH/SiOH縮合による二重硬化も可能にする。

Figure 0006649259
Karstedt触媒、及び2:3の比のPt:ビニル(CHSiOSi(CHビニルを含有全試料で[SiH]/[Vi]=1
「N/A」は、データが得られなかったことを示す。 The novel compositions described above, including the resin-linear organosiloxane of embodiments of the present invention, all have greater than 1 mole percent vinyl functionality and mole percent silanol. This allows not only a single cure with vinyl, for example using Si-H hydrosilylation, but also a double cure with, for example, vinyl / Si-H and SiOH / SiOH condensation.
Figure 0006649259
* [SiH] / [Vi] = 1 for all samples containing Karstedt's catalyst and Pt: vinyl (CH 3 ) 2 SiOSi (CH 3 ) 2 vinyl in a 2: 3 ratio.
"N / A" indicates that no data was obtained.

表2に示す硬化速度データは、実施例2〜11に従って調製された樹脂−直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマーが、DBU又はAl(acac)触媒の存在下での縮合のみでしか硬化できない樹脂−直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマーで観察された硬化速度に匹敵する硬化速度を示す。比較例1及び2のデータを参照のこと。更に、実施例2〜11に従って調製された樹脂−直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマーは全て、比較例2に記載の方法に従って調製された樹脂直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマーよりも速い硬化速度を示す。 The cure rate data shown in Table 2 shows that the resins prepared according to Examples 2-11-resins in which the linear organosiloxane block copolymer can only be cured by condensation in the presence of DBU or Al (acac) 3 catalyst- It shows cure rates comparable to those observed with linear organosiloxane block copolymers. See data for Comparative Examples 1 and 2. Further, all of the resin-linear organosiloxane block copolymers prepared according to Examples 2-11 show faster cure rates than the resinous linear organosiloxane block copolymer prepared according to the method described in Comparative Example 2.

実施例2〜11に従って調製された樹脂−直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマーは、蛍光体(例えば、全固体に対して50重量%以下で使用されるCe:YAG)を含有する場合に硬化可能であった。更に、実施例2〜11に従って調製された樹脂−直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマーは、室温(すなわち、25℃)及び標準圧力(101kPa(1atm))で少なくとも15週間の貯蔵安定性を有し、G’minの変化が、15週間で約50%未満(例えば、約25%未満、約20%未満、約15%未満、約10%未満、約5%未満、約3%、約0%、約0%〜約50%、約3%〜約25%、約5%〜約20%又は約15%〜約45%)であった。対照的に、比較例4に従って調製された樹脂−直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマーは、15週間で200%を超えるG’minの変化を示し、比較例3に従って調製された樹脂−直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマーは、1週間で1300%を超えるG’minの変化を示した。上記の結果は、本発明の実施形態の樹脂−直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマーは、ヒドロシリル化によって硬化される、当該技術分野において既知の他の物質よりも優れた貯蔵安定性を達成することを実証する。例えば、比較例3を参照。 Resin-linear organosiloxane block copolymers prepared according to Examples 2-11 are curable when containing a phosphor (eg, Ce: YAG used at 50% by weight or less based on total solids). there were. Further, the resin-linear organosiloxane block copolymer prepared according to Examples 2-11 has a storage stability of at least 15 weeks at room temperature (ie, 25 ° C.) and standard pressure (1 atm), The change in G ′ min is less than about 50% at 15 weeks (eg, less than about 25%, less than about 20%, less than about 15%, less than about 10%, less than about 5%, about 3%, about 0%, (From about 0% to about 50%, from about 3% to about 25%, from about 5% to about 20%, or from about 15% to about 45%). In contrast, the resin-linear organosiloxane block copolymer prepared according to Comparative Example 4 showed a change in G ′ min of greater than 200% in 15 weeks, and the resin-linear organosiloxane prepared according to Comparative Example 3 The siloxane block copolymer showed a change in G ′ min of over 1300% in one week. The above results demonstrate that the resin-linear organosiloxane block copolymers of embodiments of the present invention achieve superior storage stability over other materials known in the art that are cured by hydrosilylation. Demonstrate. See, for example, Comparative Example 3.

実施例2〜11及び比較例1〜4に従って調製された樹脂−直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマー樹脂−直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマーの色(エージングの前及び後)、ヤング率データ(エージングの前及び後)、及びtanδデータを表3に示す。

Figure 0006649259
表3に示すb値は、BYK比色計を使用して、厚さ約1mmの試料から得た。
「N/A」は、データが得られなかったことを示す。 Resin-linear organosiloxane block copolymer resin-linear organosiloxane block copolymer prepared according to Examples 2-11 and Comparative Examples 1-4 (before and after aging), Young's modulus data (before aging) And tan δ data are shown in Table 3.
Figure 0006649259
* B * values shown in Table 3 were obtained from a sample about 1 mm thick using a BYK colorimeter.
"N / A" indicates that no data was obtained.

表3に示すデータは、本発明の実施形態に従って調製された樹脂−直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマーは、235℃で72時間のエージング後に、エージング前と後とのCIE b値の比が10未満(例えば、235℃で72時間のエージング後に約9未満、約8未満、約7未満、約6未満、又約5未満の比、又は235℃で72時間のエージング後に約2〜約10、3〜約9、又は約5〜約10の比)であることを示す。本発明の特定の実施形態に従って調製された樹脂−直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマーは、235℃で72時間のエージング後に、エージング前と後とのCIE b値の比が30未満(例えば、エージング後に約25未満、約20未満、又は約15未満;又は235℃で72時間のエージング後に、約14倍〜約30倍、15倍〜約20倍、又は約20倍〜約30倍の色変化)である。対照的に、比較例2及び3に従って調製された樹脂−直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマーは、235℃で72時間のエージングの前及び後のCIE b値の比が約50という許容できない値を示す。いくつかの実施形態において、本発明の特定の実施形態に従って調製された樹脂−直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマーは、235℃で72時間のエージング後に、約6以下のCIE b値(例えば、約6以下、約5以下、約4以下若しくは約3以下、又は約3〜約6若しくは約4〜約6)を示す。 The data shown in Table 3 shows that the resin-linear organosiloxane block copolymer prepared according to an embodiment of the present invention has a CIE b * value ratio of 10 before and after aging at 235 ° C. for 72 hours. Less than (e.g., less than about 9, less than about 8, less than about 7, less than about 6, or less than about 5 after aging at 235C for 72 hours, or from about 2 to about 10, after aging at 235C for 72 hours. 3 to about 9, or about 5 to about 10). Resin-linear organosiloxane block copolymers prepared according to certain embodiments of the present invention have a CIE b * value ratio of less than 30 before and after aging at 235 ° C. for 72 hours (eg, aging). Less than about 25, less than about 20, or less than about 15; or about 14 times to about 30 times, 15 times to about 20 times, or about 20 times to about 30 times the color change after aging at 235 ° C. for 72 hours. ). In contrast, resin-linear organosiloxane block copolymers prepared according to Comparative Examples 2 and 3 have an unacceptable value of about 50 CIE b * values before and after aging at 235 ° C. for 72 hours. Show. In some embodiments, the resin-linear organosiloxane block copolymer prepared according to certain embodiments of the present invention, after aging at 235 ° C. for 72 hours, has a CIE b * value of about 6 or less (eg, about 6 or less, about 5 or less, about 4 or less or about 3 or less, or about 3 to about 6 or about 4 to about 6).

表3に示すデータは、本発明の特定の実施形態に従って調製された樹脂−直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマーが、エージング前に室温で許容可能な高いヤング率を有し、樹脂−直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマーがエージング後に脆くなるといった、ヤング率がエージング後に有意に変化することも示さなかった。

Figure 0006649259
ΔG’:225℃で500時間のエージングの前及び後に23℃で測定した弾性率の変化率 The data shown in Table 3 shows that the resin-linear organosiloxane block copolymer prepared according to certain embodiments of the present invention has an acceptable high Young's modulus at room temperature before aging and the resin-linear organosiloxane It also did not show that the Young's modulus changed significantly after aging, such as the siloxane block copolymer becoming brittle after aging.
Figure 0006649259
* R ΔG ' : Percent change in modulus measured at 23 ° C before and after aging at 225 ° C for 500 hours.

表4に示すデータは、本発明の特定の実施形態に従って調製された樹脂−直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマーが、225℃で500時間の熱的エージングの後でも、高い熱安定性を示すことを示す。500時間後の弾性率の変化率が低く、DViRLのb値の変化が小さいことは、熱安定性において、DViRLがMViRL又はTViRLよりも有利であることを示す。 The data shown in Table 4 show that resin-linear organosiloxane block copolymers prepared according to certain embodiments of the present invention show high thermal stability even after 500 hours of thermal aging at 225 ° C. Show. Low 500 hours after the elastic modulus change rate, the change in the b * value of D Vi RL is small, the thermal stability, indicating that D Vi RL is an advantage over M Vi RL or T Vi RL .

本発明の特定の実施形態に従って調製された樹脂−直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマーの1つの重要な利点は、T基がフェニルを含む場合に、ベンゼン脱離の傾向が有意にかつ驚くほど低いことである。いくつかの実施形態において、本発明の特定の実施形態に従って生成された樹脂−直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマーは、180℃で30分後に200ppm未満のベンゼン(例えば、180℃で30分後に150ppm未満、125ppm未満、100ppm未満、75ppm未満、50ppm未満、25ppm未満、20ppm未満、15ppm未満、10ppm未満、若しくは6ppm未満のベンゼン、又は180℃で30分後に約0ppm〜約200ppm、約10ppm〜約100ppm、約25ppm〜約100ppm、約2〜約20ppm、約10ppm〜約20ppm若しくは約10〜約18ppmのベンゼン)を発生する。   One significant advantage of the resin-linear organosiloxane block copolymer prepared according to certain embodiments of the present invention is that the tendency for benzene elimination is significantly and surprisingly low when the T group comprises phenyl. It is. In some embodiments, the resin-linear organosiloxane block copolymer produced in accordance with certain embodiments of the present invention has less than 200 ppm of benzene after 30 minutes at 180 ° C. (eg, less than 150 ppm after 30 minutes at 180 ° C.) Less than 125 ppm, less than 100 ppm, less than 75 ppm, less than 50 ppm, less than 25 ppm, less than 20 ppm, less than 15 ppm, less than 10 ppm, or less than 6 ppm benzene, or about 0 ppm to about 200 ppm, about 10 ppm to about 100 ppm after 30 minutes at 180 ° C. About 25 ppm to about 100 ppm, about 2 to about 20 ppm, about 10 ppm to about 20 ppm, or about 10 to about 18 ppm of benzene).

本発明の特定の実施形態に従って生成された樹脂−直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマーの別の重要な利点は、代表的な縮合触媒で硬化された樹脂−直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマー、例えば、比較例1及び2と比べて、硬化後に蛍光体阻害を受ける傾向が有意にかつ驚くほど低いことである。更に、樹脂−直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマーの硬化速度は、蛍光体の投入量の影響をはるかに受けにくく、例えば、硬化の初期温度は蛍光体の投入量が変動しても変化しない。例えば、硬化の初期温度(温度スキャンにおいて、メルトフローに対応する温度での初期低下後にG’が増大する温度として定義される)の変化は、50℃未満、40℃未満、30℃未満、20℃未満又は15℃未満である。更に、エージング後に0.05を超えるtanδが維持でき、これはヒドロシリル化により硬化することが当該技術分野において知られている物質では実現されない。例えば、比較例4を参照。   Another significant advantage of resin-linear organosiloxane block copolymers produced in accordance with certain embodiments of the present invention is that typical condensation catalyst cured resin-linear organosiloxane block copolymers, e.g., Compared to Examples 1 and 2, the tendency to undergo phosphor inhibition after curing is significantly and surprisingly low. Furthermore, the curing rate of the resin-linear organosiloxane block copolymer is much less affected by the phosphor dosage, for example, the initial curing temperature does not change with varying phosphor dosage. For example, the change in the initial temperature of cure (defined in the temperature scan as the temperature at which G ′ increases after the initial drop at the temperature corresponding to the melt flow) is less than 50 ° C., less than 40 ° C., less than 30 ° C., It is less than 15 degreeC or less than 15 degreeC. In addition, after aging, tan δ greater than 0.05 can be maintained, which is not realized with materials known in the art to cure by hydrosilylation. See, for example, Comparative Example 4.

Claims (9)

オルガノシロキサンブロックコポリマーであって、
40〜80モルパーセントの式[R SiO2/2]のジシロキシ単位、
10〜50モルパーセントの式[RSiO3/2]のトリシロキシ単位、
0.5〜35モルパーセントのシラノール基[≡SiOH]を含み、
式中、
各Rは、それぞれ独立して、C〜C30ヒドロカルビル又は少なくとも1つの脂肪族不飽和結合を含むC〜C30ヒドロカルビル基であり、
各Rは、それぞれ独立して、C〜C30ヒドロカルビル又は少なくとも1つの脂肪族不飽和結合を含むC〜C30ヒドロカルビル基であり、
ここで、
前記ジシロキシ単位[R SiO2/2]は、直鎖状ブロック1つ当たり平均で100〜300個のジシロキシ単位[R SiO2/2]を有する直鎖状ブロックの中に配置され、
前記トリシロキシ単位[RSiO3/2]は、少なくとも500g/モルの分子量を有する非直鎖状ブロックの中に配置され、
前記非直鎖状ブロックの少なくとも30%は、互いに架橋しており、
各直鎖状ブロックは、−Si−O−Si−結合を介して少なくとも1つの非直鎖状ブロックに連結されており、
前記オルガノシロキサンブロックコポリマーは、少なくとも20,000g/モルの重量平均分子量を有し、かつ、
前記オルガノシロキサンブロックコポリマーは、約0.5〜約4.5モル%の少なくとも1つの脂肪族不飽和結合を含むC〜C30ヒドロカルビル基を含み、
ジシロキシ単位の2つのブロック間、トリシロキシ単位の2つのブロック間、または、ジシロキシ単位とトリシロキシ単位とのブロック間に、脂肪族不飽和結合を有する、
オルガノシロキサンブロックコポリマー。
An organosiloxane block copolymer,
Disiloxy unit of the formula [R 1 2 SiO 2/2] of 40 to 80 mole percent,
Torishirokishi units of the formula [R 2 SiO 3/2] of 10-50 mole percent,
From 0.5 to 35 mole percent silanol groups [@SiOH];
Where:
Each R 1 is independently a C 1 -C 30 hydrocarbyl or a C 2 -C 30 hydrocarbyl group containing at least one aliphatic unsaturated bond;
Each R 2 is independently a C 1 -C 30 hydrocarbyl or a C 2 -C 30 hydrocarbyl group containing at least one aliphatic unsaturated bond;
here,
The disiloxy unit [R 1 2 SiO 2/2] are arranged in linear blocks having 100 to 300 amino disiloxy unit on average per linear block [R 1 2 SiO 2/2] ,
The trisiloxy units [R 2 SiO 3/2 ] are arranged in a non-linear block having a molecular weight of at least 500 g / mol;
At least 30% of the non-linear blocks are cross-linked to each other;
Each linear block is linked to at least one non-linear block via a -Si-O-Si- bond;
The organosiloxane block copolymer has a weight average molecular weight of at least 20,000 g / mol, and
Said organosiloxane block copolymer comprises about 0.5 to about 4.5 mole percent of at least one C 2 -C 30 hydrocarbyl group containing an aliphatic unsaturated bond,
Having an aliphatic unsaturated bond between two blocks of disiloxy units, between two blocks of trisiloxy units, or between blocks of disiloxy units and trisiloxy units;
Organosiloxane block copolymer.
組成物であって、
A)樹脂直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマーであって、
40〜80モルパーセントの式[R SiO2/2]のジシロキシ単位、
10〜50モルパーセントの式[RSiO3/2]のトリシロキシ単位、
0.5〜35モルパーセントのシラノール基[≡SiOH]を含み、
式中、
各Rは、それぞれ独立して、脂肪族不飽和を含まないC〜C30ヒドロカルビルであり、
各Rは、それぞれ独立して、脂肪族不飽和を含まないC〜C30ヒドロカルビルであり、
ここで、
前記ジシロキシ単位[R SiO2/2]は、直鎖状ブロック1つ当たり平均で50〜300個のジシロキシ単位[R SiO2/2]を有する直鎖状ブロックの中に配置され、
前記トリシロキシ単位[RSiO3/2]は、少なくとも500g/モルの分子量を有する非直鎖状ブロックの中に配置され、前記非直鎖状ブロックの少なくとも30%は互いに架橋しており、
各直鎖状ブロックは少なくとも1つの非直鎖状ブロックに連結されており、かつ、
前記オルガノシロキサンブロックコポリマーは、少なくとも20,000g/モルの重量平均分子量を有する、樹脂直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマーと、
B)式R SiXの化合物であって、
式中、各Rは、それぞれ独立して、脂肪族不飽和を含まないC〜C30ヒドロカルビル又は少なくとも1つの脂肪族不飽和結合を含むC〜C30ヒドロカルビル基であり、
各Rは、それぞれ独立して、脂肪族不飽和を含まないC〜C30ヒドロカルビル又は少なくとも1つの脂肪族不飽和結合を含むC〜C30ヒドロカルビル基であり、
Xは、−OR、F、Cl、Br、I、−OC(O)R、−N(R、又は−ON=CR から選択される加水分解性基であって、式中、Rは水素又は場合により置換されていてもよいC〜Cアルキル基である化合物と、
の反応生成物を含み、
前記反応生成物がオルガノシロキサンブロックコポリマーであり、前記オルガノシロキサンブロックコポリマーが、約0.5〜約5モル%の少なくとも1つの脂肪族不飽和結合を含む 〜C30ヒドロカルビル基を含む、組成物。
A composition,
A) A resin linear organosiloxane block copolymer,
Disiloxy unit of the formula [R 1 2 SiO 2/2] of 40 to 80 mole percent,
Torishirokishi units of the formula [R 2 SiO 3/2] of 10-50 mole percent,
From 0.5 to 35 mole percent silanol groups [@SiOH];
Where:
Each R 1 is independently C 1 -C 30 hydrocarbyl containing no aliphatic unsaturation;
Each R 2 is independently a C 1 -C 30 hydrocarbyl containing no aliphatic unsaturation;
here,
The disiloxy unit [R 1 2 SiO 2/2] are arranged in linear blocks having an average per linear block 50-300 amino disiloxy unit [R 1 2 SiO 2/2] ,
The trisiloxy units [R 2 SiO 3/2 ] are arranged in non-linear blocks having a molecular weight of at least 500 g / mol, at least 30% of the non-linear blocks being cross-linked to each other;
Each linear block is linked to at least one non-linear block, and
The organosiloxane block copolymer has a weight average molecular weight of at least 20,000 g / mol; a resin linear organosiloxane block copolymer;
B) a compound of formula R 1 R 2 2 SiX,
Wherein each R 1 is independently a C 1 -C 30 hydrocarbyl containing no aliphatic unsaturation or a C 2 -C 30 hydrocarbyl group containing at least one aliphatic unsaturated bond;
Each R 2 is independently a C 1 -C 30 hydrocarbyl containing no aliphatic unsaturation or a C 2 -C 30 hydrocarbyl group containing at least one aliphatic unsaturated bond;
X is a -OR 4, F, Cl, Br , I, -OC (O) R 4, -N (R 4) 2, or a hydrolyzable group selected from -ON = CR 4 2, Wherein R 4 is hydrogen or an optionally substituted C 1 -C 6 alkyl group;
Containing the reaction product of
Said reaction product is an organosiloxane block copolymer, said organosiloxane block copolymer comprises a C 2 -C 30 hydrocarbyl group containing at least one aliphatic unsaturation of from about 0.5 to about 5 mole%, the composition object.
組成物であって、
A)式:
3−p(E)SiO(R SiO2/2Si(E) 3−pを有する直鎖状オルガノシロキサンあって、
式中、各Rは、それぞれ独立して、脂肪族不飽和を含まないC〜C30ヒドロカルビルであり、
nは50〜300であり、
Eは、I、−OC(O)R、−N(R、又は−ON=CR から選択される加水分解性基であって、式中、Rは水素又はC〜Cアルキル基であり、かつ、
各pは、独立して1、2又は3である、直鎖状オルガノシロキサンと、
B)単位式:
[R SiO1/2[RSiO2/2[RSiO3/2[RSiO3/2[SiO4/2を含むオルガノシロキサン樹脂であって、
式中、
各Rは、それぞれ独立して、脂肪族不飽和を含まないC〜C30ヒドロカルビル又は少なくとも1つの脂肪族不飽和結合を含むC〜C30ヒドロカルビル基であり、
各Rは、それぞれ独立して、脂肪族不飽和を含まないC〜C30ヒドロカルビル又は少なくとも1つの脂肪族不飽和結合を含むC〜C30ヒドロカルビル基であり、 前記オルガノシロキサン樹脂は0〜35モル%のシラノール基[≡SiOH]を含み、
前記下付き文字a、b、c、d、及びeは、前記オルガノシロキサン樹脂中に存在する各シロキシ単位のモル分率を表し、その範囲は、
aは、約0〜約0.6であり、
bは、約0〜約0.6であり、
cは、約0〜約1であり、
dは、約0〜約1であり、
eは、約0〜約0.6であり、
但し、b+c+d+e>0及び0.65≦a+b+c+d+e≦1である、オルガノシロキサン樹脂と、の反応生成物を含み、
前記反応生成物がオルガノシロキサンブロックコポリマーであり、前記オルガノシロキサンブロックコポリマーが、約0.5〜約5モル%の少なくとも1つの脂肪族不飽和結合を含むC〜C30ヒドロカルビル基を含む、組成物。
A composition,
A) Formula:
There linear organosiloxanes having R 1 3-p (E) p SiO (R 1 2 SiO 2/2) n Si (E) p R 1 3-p,
Wherein each R 1 is independently C 1 -C 30 hydrocarbyl containing no aliphatic unsaturation;
n is 50 to 300,
E is, I, -OC (O) R 4, -N (R 4) 2, or a hydrolyzable group selected from -ON = CR 4 2, wherein, R 4 hydrogen or C 1 A C 6 alkyl group; and
Each p is independently 1, 2 or 3, a linear organosiloxane;
B) Unit formula:
Containing [R 1 2 R 2 SiO 1/2 ] a [R 1 R 2 SiO 2/2] b [R 1 SiO 3/2] c [R 2 SiO 3/2] d [SiO 4/2] e An organosiloxane resin,
Where:
Each R 1 is independently a C 1 -C 30 hydrocarbyl containing no aliphatic unsaturation or a C 2 -C 30 hydrocarbyl group containing at least one aliphatic unsaturated bond;
Each R 2 is independently a C 1 -C 30 hydrocarbyl group containing no aliphatic unsaturation or a C 2 -C 30 hydrocarbyl group containing at least one aliphatic unsaturated bond; ~ 35 mol% silanol groups [≡SiOH],
The subscripts a, b, c, d, and e represent the mole fraction of each siloxy unit present in the organosiloxane resin, and the range is
a is from about 0 to about 0.6;
b is from about 0 to about 0.6;
c is from about 0 to about 1,
d is about 0 to about 1,
e is from about 0 to about 0.6;
Wherein b + c + d + e> 0 and a reaction product with an organosiloxane resin satisfying 0.65 ≦ a + b + c + d + e ≦ 1,
Said reaction product is an organosiloxane block copolymer, said organosiloxane block copolymer comprises a C 2 -C 30 hydrocarbyl group containing at least one aliphatic unsaturation of from about 0.5 to about 5 mole%, the composition object.
組成物であって、
A)式:
3−p(E)SiO(R SiO2/2Si(E) 3−pを有する直鎖状オルガノシロキサンあって、
式中、各Rは、それぞれ独立して、脂肪族不飽和を含まないC〜C30ヒドロカルビルであり、
nは50〜300であり、
Eは、−OR、F、Cl、Br、I、−OC(O)R、−N(R、又は−ON=CR から選択される加水分解性基であって、式中、Rは、水素又はC〜Cアルキル基であり、
各pは、独立して1、2又は3である、直鎖状オルガノシロキサンと、
B)単位式:
[R SiO1/2[RSiO2/2[RSiO3/2[RSiO3/2[SiO4/2を含むオルガノシロキサン樹脂であって、
式中、
各Rは、それぞれ独立して、脂肪族不飽和を含まないC〜C30ヒドロカルビルであり、
各Rは、それぞれ独立して、脂肪族不飽和を含まないC〜C30ヒドロカルビルであり、
前記オルガノシロキサン樹脂は0〜35モル%のシラノール基[≡SiOH]を含み、
前記下付き文字a、b、c、d、及びeは、前記オルガノシロキサン樹脂中に存在する各シロキシ単位のモル分率を表し、その範囲は、
aは、約0〜約0.6であり、
bは、約0〜約0.6であり、
cは、約0〜約1であり、
dは、約0〜約1であり、
eは、約0〜約0.6であり、
但し、b+c+d+e>0及び0.65≦a+b+c+d+e≦1である、オルガノシロキサン樹脂と、
C)式R SiX4−qの化合物であって、
式中、各Rは、それぞれ独立して、脂肪族不飽和を含まないC〜C30ヒドロカルビル又は少なくとも1つの脂肪族不飽和結合を含むC〜C30ヒドロカルビル基であり、
qは0、1、又は2であり、
各Xは、独立して、−OR、F、Cl、Br、I、−OC(O)R、−N(R、又は−ON=CR から選択される加水分解性基であって、式中、Rは、水素又は場合により置換されていてもよいC〜Cアルキル基である化合物と、
の反応生成物を含み、
前記反応生成物がオルガノシロキサンブロックコポリマーであり、前記オルガノシロキサンブロックコポリマーが、約0.5〜約5モル%の少なくとも1つの脂肪族不飽和結合を含む 〜C30ヒドロカルビル基を含む、組成物。
A composition,
A) Formula:
There linear organosiloxanes having R 1 3-p (E) p SiO (R 1 2 SiO 2/2) n Si (E) p R 1 3-p,
Wherein each R 1 is independently C 1 -C 30 hydrocarbyl containing no aliphatic unsaturation;
n is 50 to 300,
E is a -OR 4, F, Cl, Br , I, -OC (O) R 4, -N (R 4) 2, or a hydrolyzable group selected from -ON = CR 4 2, Wherein R 4 is hydrogen or a C 1 -C 6 alkyl group;
Each p is independently 1, 2 or 3, a linear organosiloxane;
B) Unit formula:
Containing [R 1 2 R 2 SiO 1/2 ] a [R 1 R 2 SiO 2/2] b [R 1 SiO 3/2] c [R 2 SiO 3/2] d [SiO 4/2] e An organosiloxane resin,
Where:
Each R 1 is independently C 1 -C 30 hydrocarbyl containing no aliphatic unsaturation;
Each R 2 is independently a C 1 -C 30 hydrocarbyl containing no aliphatic unsaturation;
The organosiloxane resin contains 0 to 35 mol% of silanol groups [≡SiOH];
The subscripts a, b, c, d, and e represent the mole fraction of each siloxy unit present in the organosiloxane resin, and the range is
a is from about 0 to about 0.6;
b is from about 0 to about 0.6;
c is from about 0 to about 1,
d is about 0 to about 1,
e is from about 0 to about 0.6;
Wherein b + c + d + e> 0 and 0.65 ≦ a + b + c + d + e ≦ 1, and an organosiloxane resin;
C) a compound of the formula R 1 q SiX 4-q ,
Wherein each R 1 is independently a C 1 -C 30 hydrocarbyl containing no aliphatic unsaturation or a C 2 -C 30 hydrocarbyl group containing at least one aliphatic unsaturated bond;
q is 0, 1, or 2,
Each X is independently, -OR 4, F, Cl, Br, I, -OC (O) R 4, -N (R 4) 2, or -ON = hydrolyzable selected from CR 4 2 A compound, wherein R 4 is hydrogen or an optionally substituted C 1 -C 6 alkyl group,
Containing the reaction product of
Said reaction product is an organosiloxane block copolymer, said organosiloxane block copolymer comprises a C 2 -C 30 hydrocarbyl group containing at least one aliphatic unsaturation of from about 0.5 to about 5 mole%, the composition object.
前記反応生成物が式R SiX4−qの化合物と接触され、式中、各Rは、独立してC〜Cヒドロカルビル又はC〜Cハロゲン置換ヒドロカルビルであり、各Xは、独立して−OR、F、Cl、Br、I、−OC(O)R、−N(R、又は−ON=CR から選択される加水分解性基であって、式中、Rは、水素又は場合により置換されていてもよいC〜Cアルキル基である、請求項2〜4のいずれか一項に記載の組成物。 It said reaction product is contacted with a compound of the formula R 5 q SiX 4-q, wherein each R 5 is C 1 -C 8 hydrocarbyl or C 1 -C 8 halogen substituted independently hydrocarbyl, each X is a independent -OR 4, F and, Cl, Br, I, -OC (O) R 4, -N (R 4) 2, or -ON = hydrolyzable group selected from CR 4 2 Te, wherein, R 4 is substituted by hydrogen or is also good C 1 -C 6 alkyl group, a composition according to any one of claims 2-4. Eがアセトキシであり、pが1である、請求項3又は4に記載の組成物。   The composition according to claim 3 or 4, wherein E is acetoxy and p is 1. 単位式:
[R SiO1/2[RSiO2/2[RSiO3/2[RSiO3/2[SiO4/2を有し、
0〜35モル%のシラノール基[≡SiOH]を含む化合物であって、
式中、
各Rは、それぞれ独立して、H、式−[RSi][RSiH](式中、R、Rは、独立してH又は脂肪族不飽和を含まないC〜C30ヒドロカルビルであり、kは0〜10の整数である)のシラン基又は脂肪族不飽和を含まないC〜C30ヒドロカルビルであり、
各Rは、それぞれ独立して、H、又は式−[RSi][RSiH](式中、R、Rは、独立してH又は脂肪族不飽和を含まないC〜C30ヒドロカルビルであり、kは0〜10の整数である)のシラン基、脂肪族不飽和を含まないC〜C30ヒドロカルビルであり、
前記下付き文字a、b、c、d、及びeは存在する各シロキシ単位のモル分率を表し、その範囲は、
aは、約0〜約0.6であり、
bは、約0〜約0.6であり、
cは、約0〜約1であり、
dは、約0〜約1であり、
eは、約0〜約0.6であり、
但し、
b+c+d+e>0及び0.65≦a+b+c+d+e≦1であり、
及び/又はRの少なくとも1モル%はH又はシラン基を含有するSiHである化合物、を更に含む、請求項2〜6のいずれか一項に記載の組成物。
Unit formula:
[R 1 2 R 2 SiO 1/2 ] a [R 1 R 2 SiO 2/2] b [R 1 SiO 3/2] c [R 2 SiO 3/2] d have a [SiO 4/2] e And
A compound containing 0 to 35 mol% of silanol groups [≡SiOH],
Where:
Each R 1 independently represents H, a formula — [R 5 R 6 Si] k [R 5 R 6 SiH] (wherein R 5 and R 6 independently represent H or aliphatic unsaturation, a C 1 -C 30 hydrocarbyl free, k is C 1 -C 30 hydrocarbyl containing no silane groups or aliphatic unsaturated and is) an integer of 0,
Each R 2 is independently H or a group represented by the formula — [R 5 R 6 Si] k [R 5 R 6 SiH] (where R 5 and R 6 are independently H or aliphatic unsaturated the a C 1 -C 30 hydrocarbyl free, k is C 1 -C 30 hydrocarbyl containing no silane groups of an a) integer of 0, the aliphatic unsaturation,
The subscripts a, b, c, d, and e represent the mole fraction of each siloxy unit present, and the range is:
a is from about 0 to about 0.6;
b is from about 0 to about 0.6;
c is from about 0 to about 1,
d is about 0 to about 1,
e is from about 0 to about 0.6;
However,
b + c + d + e> 0 and 0.65 ≦ a + b + c + d + e ≦ 1,
At least 1 mole percent of the R 1 and / or R 2 the compound is SiH containing H or silane group further comprises A composition according to any one of claims 2-6.
前記ブロックコポリマーの一部ではない遊離樹脂を更に含む、請求項2〜7のいずれか一項に記載の組成物。   The composition according to any one of claims 2 to 7, further comprising a free resin that is not part of the block copolymer. 前記組成物が固体である、請求項2〜4のいずれか一項に記載の組成物。   The composition according to any one of claims 2 to 4, wherein the composition is a solid.
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