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JP6623970B2 - 圧電素子 - Google Patents

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JP6623970B2
JP6623970B2 JP2016152843A JP2016152843A JP6623970B2 JP 6623970 B2 JP6623970 B2 JP 6623970B2 JP 2016152843 A JP2016152843 A JP 2016152843A JP 2016152843 A JP2016152843 A JP 2016152843A JP 6623970 B2 JP6623970 B2 JP 6623970B2
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Description

本発明は、圧電素子に関する。
例えば特許文献1には、インクジェット方式のプリンタのプリンタヘッドに用いられる積層型圧電素子が記載されている。この積層型圧電素子は、圧電体層と第1及び第2の駆動用内部電極とが交互に積層された駆動部、及び圧電体層と接続用内部電極とが積層された接続部とを有する積層体と、当該積層体の一方の側面に形成され第1の駆動用内部電極と導通する駆動用外部電極と、積層体の一方の側面に形成され接続用内部電極と導通する接続用外部電極と、積層体の他方の側面に形成され第2の駆動用内部電極及び接続用内部電極と導通する共通外部電極とを備えている。駆動部には、積層体の上面側から下面側へと向かうスリットにより分断された複数個のアクチュエータユニットが構成されている。
特開2003−037307号公報
特許文献1に記載されるような圧電素子では、機械加工によりスリットを形成すると、圧電体層と電極との間で剥離が発生する場合がある。また、電極が複数の電極層で構成されていると、電極内で剥離が発生する場合もある。前者の場合は、圧電特性及び外観への影響が製造直後から比較的顕著に表れる。したがって、検査による不良品のスクリーニングが比較的容易である。これに対し、後者の場合は、圧電特性及び外観への影響が製造直後は比較的少ない。したがって、検査による不良品のスクリーニングが比較的困難である。検査から漏れた不良品は経年劣化し易いため、信頼性が低下する懼れがある。
本発明は、電極内の剥離を抑制し、信頼性を向上させることが可能な圧電素子を提供することを目的とする。
本発明に係る圧電素子は、圧電体と、圧電体上に設けられたスパッタ電極と、を備え、スパッタ電極は、第一金属材料からなる第一電極領域と、第一電極領域上に位置し、第一金属材料とは異なる第二金属材料からなる第二電極領域と、第一電極領域と第二電極領域との間に設けられた第三電極領域と、を有し、第三電極領域は、第一金属材料及び第二金属材料が混在している領域である。
本発明に係る圧電素子では、スパッタ電極が、第一電極領域及び第二電極領域に加えて、第一電極領域と第二電極領域との間に第三電極領域を有している。第三電極領域では、第一電極領域を構成する第一金属材料、及び第二電極領域を構成する第二金属材料が混在している。第三電極領域と第一電極領域との接合強度(密着強度)、及び第三電極領域と第二電極領域との接合強度はいずれも、互いに全く異なる金属材料からなる第一電極領域と第二電極領域との接合強度よりも高い。このため、電極内の剥離を抑制し、信頼性を向上させることができる。
本発明に係る圧電素子において、スパッタ電極は、スリットにより複数の電極部分に分けられていてもよい。この場合、例えば、機械的加工によりスパッタ電極を分けるとすると、電極内の剥離が生じ易いので、電極領域間の接合強度を高める上記構成が特に有効となる。
本発明に係る圧電素子において、スリットは、圧電体まで達しており、圧電体は、各電極部分に対応する複数の圧電体部分に分けられていてもよい。この場合、各圧電体部分を互いに独立して駆動することができる。
本発明に係る圧電素子において、第三電極領域では、第一金属材料に対して第二金属材料が混在する割合が、第一電極領域から第二電極領域に向かうにしたがって徐々に増加していてもよい。この場合、第三電極領域の第一電極領域側に第一金属材料が多く含まれるので、第三電極領域と第一電極領域との接合強度を更に高めることができる。また、第三電極領域の第二電極領域側に第二金属材料が多く含まれるので、第三電極領域と第二電極領域との接合強度を更に高めることができる。この結果、電極内の剥離を更に抑制することができる。
本発明に係る圧電素子において、第一金属材料はCrであり、第二金属材料はCuであってもよく、第一金属材料はCuであり、第二金属材料はSnAgであってもよい。
本発明に係る圧電素子によれば、電極内の剥離を抑制し、信頼性を向上させることが可能となる。
図1は、圧電素子を上方から見た斜視図である。 図2は、圧電素子を下方から見た斜視図である。 図3は、図1の矢印III方向から見た圧電素子の正面図である。 図4は、図1の矢印IV方向から見た圧電素子の背面図である。 図5の(a)は、図1のVA−VA線断面図であり、図5の(b)は、図1のVB−VB線断面図である。 図6は、駆動部を拡大して示す斜視図である。 図7は、図5の(a)のVII−VII線断面図である。 図8は、外部電極の構成を示す拡大断面図である。 図9は、スパッタリング装置の構成図である。 図10は、スパッタ電極の断面のSEM写真である。
本発明の実施形態について図面を参照して説明する。以下の本実施形態は、本発明を説明するための例示であり、本発明を以下の内容に限定する趣旨ではない。説明において、同一要素又は同一機能を有する要素には同一符号を用いることとし、重複する説明は省略する。
図1〜図4に示されるように、圧電素子1は、いわゆる積層型圧電素子であり、積層体2と、外部電極3,4とを備える。圧電素子1の長さ(図1〜図4のX軸方向における大きさ)は、例えば27.85mm以上27.91mm以下程度である。圧電素子1の幅(図1〜図4のY軸方向における大きさ)は、例えば2.56mm以上2.66mm以下程度である。圧電素子1の厚さ(図1〜図4のZ軸方向における大きさ)は、例えば0.27mm以上0.54mm以下程度である。
積層体2は、一対の端面2a,2bと、一対の主面2c,2dと、一対の側面2e,2fと、を有する。端面2a,2bは、積層体2の長手方向において対向している。端面2a,2bの対向方向は、積層体2の長手方向であり、図1〜図4のX軸方向である。端面2a,2bは、互いに略平行に延び、かつ、X軸方向に略直交している。
主面2c,2dは、積層体2の厚さ方向において対向している。主面2c,2dの対向方向は、積層体2の厚さ方向であり、図1〜図4のZ軸方向である。主面2c,2dは、互いに略平行に延び、かつ、Z軸方向に略直交している。主面2c,2dは、端面2a,2bを連結している。側面2e,2fは、積層体2の幅方向において対向している。側面2e,2fの対向方向は、積層体2の幅方向であり、図1〜図4のY軸方向である。側面2e,2fは、互いに略平行に延び、かつ、Y軸方向に略直交している。側面2e,2fは、端面2a,2b及び主面2c,2dを連結している。
積層体2は、8つの積層体部分10と、2つの積層体部分11とを有する。2つの積層体部分11は、X軸方向に沿って互いに離間して配置されている。8つの積層体部分10は、2つの積層体部分11の間にX軸方向に沿って配列されている。積層体部分10,11の数は、上述の数に限られず、それぞれ少なくとも一つずつであってもよい。
積層体部分10は、図1及び図2に示されるように、駆動部50と、基部51の一部とからなる。いずれの積層体部分10においても、駆動部50は、Z軸方向に沿うように基部51から同一方向に向けて延びている。駆動部50と基部51とは、一体成形されている。駆動部50は、圧電的に活性な活性部(活性領域)を含む。
駆動部50は、Y軸方向及びZ軸方向のそれぞれから見て、矩形状を呈している。駆動部50のうちY軸方向において対向する側面のうち一方は、側面2eの一部をなしている。駆動部50のうちY軸方向において対向する側面のうち他方は、側面2fの一部をなしている。駆動部50のうちZ軸方向において対向する側面のうち一方は、駆動部50の一方の側面と他方の側面とを連結しており、主面2cの一部をなしている。
Y軸方向における駆動部50の長さは、X軸方向における駆動部50の長さよりも長い。X軸方向において隣り合う駆動部50の間には、スリットSが形成されている。従って、本実施形態においては、9本のスリットSが存在する。スリットSは、Y軸方向に沿って延び側面2e,2f側に開口すると共に、Z軸方向に沿って延び主面2c側に開口している。
図5の(a)及び図6に詳しく示されるように、駆動部50は、複数の圧電体層30と、矩形状を呈する複数の内部電極31,32とを含む。圧電体層30及び内部電極31,32は、Z軸方向において積層されている。圧電体層30及び内部電極31,32の積層方向(以下、積層方向という。)は、主面2c,2dの対向方向であり、積層体2の厚さ方向であり、図1〜図4のZ軸方向である。
圧電体層30は、例えば、チタン酸ジルコン酸鉛(PZT:Pb(Zr,Ti1−x)O)を主成分とする圧電セラミックス材料からなる。実際の圧電素子1では、各圧電体層30は、視認できない程度に一体化されている。本実施形態では、各圧電体層30の厚さは、10μm以上50μm以下程度に設定されていてもよい。
複数の内部電極31は、積層方向で対向するように積層方向に沿って並んでいる。内部電極31は、互いに略平行に延び、かつ、Z軸方向に略直交している。内部電極31の数は特に限定されないが、図5の(a)及び図6では10枚である。内部電極31の一端は、側面2eまで延びており、側面2eに露出している。内部電極31の他端は、側面2fの近傍にまで延びているが、側面2e,2fの対向方向において側面2fから離れている。そのため、内部電極31の他端は、側面2fには露出していない。
複数の内部電極32は、積層方向で対向するように積層方向に沿って並んでいる。内部電極32は、互いに略平行に延び、かつ、Z軸方向に略直交している。内部電極32の数は、特に限定されないが、図5の(a)及び図6では10枚である。内部電極32の一端は、側面2fまで延びており、側面2fに露出している。内部電極32の他端は、側面2eの近傍にまで延びているが、側面2e,2fの対向方向において側面2eから離れている。そのため、内部電極32の他端は、側面2eには露出していない。
内部電極31,32は、Ag(銀)及びPd(パラジウム)を主成分とする導電材料からなっていてもよい。内部電極31,32の厚さは、例えば、0.5μm以上3μm以下程度に設定されていてもよい。導電材料として、Cu(銅)を用いてもよい。積層方向において隣り合う内部電極31と内部電極32との間隔は、例えば10μm以上50μm以下程度、すなわち隣り合う内部電極31と内部電極32との間に位置する圧電体層30の厚さと同程度に設定されていてもよく、20μm程度に設定されていてもよい。
内部電極31と内部電極32とは、積層方向において交互に並んでいる。図6に示されるように、内部電極31,32は、積層方向において重なり合う部分Pと、積層方向において重なり合わない部分Qとを有する。部分Pは、駆動部50のうち活性部に対応する部分である。部分Qは、駆動部50のうち不活性部に対応する部分である。
積層体部分11は、図1及び図2に示されるように、非駆動部52と、基部51の一部とからなる。いずれの積層体部分11においても、非駆動部52は、Z軸方向に沿うように基部51から同一方向に向けて延びている。非駆動部52が基部51から延びる方向は、駆動部50が基部51から延びる方向と同じである。非駆動部52と基部51とは、一体成形されている。非駆動部52は、圧電的に不活性な不活性部(不活性領域)を含む。
非駆動部52のうちY軸方向において対向する側面のうち一方は、側面2eの一部をなしている。非駆動部52のうちY軸方向において対向する側面のうち他方は、側面2fの一部をなしている。非駆動部52のうちZ軸方向において対向する側面のうち一方は、非駆動部52の一方の側面と他方の側面とを連結しており、主面2cの一部をなしている。非駆動部52のうち側面2e側には、Z軸方向に延びる溝35が形成されている。
図5の(b)に詳しく示されるように、非駆動部52は、複数の圧電体層30と、矩形状を呈する複数の内部電極33とを含む。圧電体層30及び内部電極33は、Z軸方向において積層されている。圧電体層30及び内部電極33の積層方向は、圧電体層30及び内部電極31,32の積層方向と略同一である。
複数の内部電極33は、積層方向で対向するように積層方向に沿って並んでいる。内部電極33同士は、圧電体層30を介して隣り合い、かつ、対向している。内部電極33は、互いに略平行に延び、かつ、Z軸方向に略直交している。内部電極33の数は、特に限定されないが、図5の(b)では20枚である。内部電極33の一端は、側面2fまで延びており、側面2fに露出している。内部電極33の他端は、側面2eまで延びており、側面2eに露出している。
内部電極33は、Ag及びPdを主成分とする導電材料からなっていてもよい。内部電極33の厚さは、例えば、0.5μm以上3μm以下程度に設定されていてもよい。導電材料として、Cuを用いてもよい。積層方向において隣り合う内部電極33の直線距離は、例えば10μm以上50μm以下程度、すなわち隣り合う内部電極33間に位置する圧電体層30の厚さと同程度に設定されていてもよく、20μm程度に設定されていてもよい。
基部51は、直方体形状を呈している。基部51のうちX軸方向において対向する側面のうち一方は、端面2aの一部をなしている。基部51のうちX軸方向において対向する側面のうち他方は、端面2bの一部をなしている。基部51のうちY軸方向において対向する側面のうち一方は、側面2eの一部をなしている。基部51のうちY軸方向において対向する側面のうち他方は、側面2fの一部をなしている。基部51のうちZ軸方向において対向する側面のうち一方は、基部51の一方の側面と他方の側面とを連結しており、主面2dの一部をなしている。
図2、図3、図5及び図6に示されるように、基部51は、複数の圧電体層30と、内部電極34とを含む。圧電体層30及び内部電極34は、Z軸方向において積層されている。圧電体層30及び内部電極34の積層方向は、圧電体層30及び内部電極31,32の積層方向と略同一である。
本実施形態では、内部電極34の数は1つである。図7に詳しく示されるように、内部電極34は、基部51内において、積層方向と直交する面に沿って基部51の一方の側面から他方の側面にわたるように延びている。本実施形態では、内部電極34は、積層方向と直交する面に沿って基部51のほぼ全域にわたって延びている。内部電極34は、積層方向から見て、駆動部50及び非駆動部52と重なり合っている。内部電極34のうち端面2a,2b寄りの両端は、端面2a,2bのそれぞれに露出していない。内部電極34のうち側面2e寄りの端は、側面2eに露出している。内部電極34のうち側面2f寄りの端は、側面2fに露出している。
図1に示されるように、外部電極3は、側面2eの全面にわたって設けられている。外部電極3は、側面2eを構成する圧電体層30上に設けられているとも言える。外部電極3は、各積層体部分10(具体的には駆動部50)における側面2eに設けられた電極部分3aと、各積層体部分11における側面2eに設けられた電極部分3bと、を有している。電極部分3aは、図5の(a)にも示されるように、内部電極31のうち側面2eに露出している端と物理的、かつ、電気的に接続されている。電極部分3bは、図5の(b)にも示されるように、内部電極33,34のうち側面2eに露出している端と物理的、かつ、電気的に接続されている。
各電極部分3a及び各電極部分3bは、互いに物理的、かつ、電気的に独立している。X軸方向において隣り合う電極部分3aの間には、スリットSが形成されている。つまり、外部電極3は、スリットSにより、複数の電極部分3aに分けられていると言える。更に、スリットSは、外部電極3から積層体2まで達しており、積層体2は、スリットSにより、各電極部分3aに対応する複数の積層体部分10に分けられていると言える。積層体2は圧電体層30を含むため、圧電体層30が、スリットSにより、各電極部分3aに対応する複数の圧電体部分に分けられているとも言える。
図8に詳しく示されるように、外部電極3は、スパッタリング法により形成されたスパッタ電極であり、電極領域R〜Rを有している。図8では、電極部分3aが図示されているが、電極部分3bも同様の構成である。電極領域R〜Rは、側面2e上に電極領域R〜Rの順で設けられている。電極領域Rは、積層体2上に直接設けられている。電極領域Rは、電極領域R上に直接設けられている。電極領域Rは、電極領域R上に直接設けられ、電極領域Rを介して電極領域R上に位置している。電極領域Rは、電極領域R上に直接設けられている。電極領域Rは、電極領域R上に直接設けられ、電極領域Rを介して電極領域R上に位置している。外部電極3は、互いに異なる金属材料M1〜M3を含んでいる。金属材料M1は、例えばCrである。金属材料M2は、例えばCuである。金属材料M3は、例えばSnAg、Au、Ag、又はPdAgである。
電極領域Rは、金属材料M1からなる領域である。具体的には、電極領域Rは、金属材料M1を50%以上含む領域であればよい。電極領域Rは、電極領域Rと電極領域Rとの間に設けられ、金属材料M1及び金属材料M2が混在している領域である。電極領域Rは、金属材料M2からなる領域である。具体的には、電極領域Rは、金属材料M2を50%以上含む領域であればよい。電極領域Rは、電極領域Rと電極領域Rとの間に設けられ、金属材料M2及び金属材料M3が混在している領域である。電極領域Rは、金属材料M3からなる領域である。具体的には、電極領域Rは、金属材料M3を50%以上含む領域であればよい。
電極領域Rでは、金属材料M1に対して金属材料M2が混在する割合が、電極領域Rから電極領域Rに向かうにしたがって徐々に(連続的に)増加している。言い換えると、電極領域Rでは、金属材料M2に対して金属材料M1が混在する割合が、電極領域Rから電極領域Rに向かうにしたがって徐々に減少している。つまり、電極領域Rでは、膜厚方向(Y軸方向)に沿って金属材料M1に対して金属材料M2が混在する割合が徐々に変化する。
電極領域Rでは、金属材料M2に対して金属材料M3が混在する割合が、電極領域Rから電極領域Rに向かうにしたがって徐々に増加している。言い換えると、電極領域Rでは、金属材料M3に対して金属材料M2が混在する割合が、電極領域Rから電極領域Rに向かうにしたがって徐々に減少している。つまり、電極領域Rでは、膜厚方向(Y軸方向)に沿って金属材料M2に対して金属材料M3が混在する割合が徐々に変化する。
図1及び図4に示されるように、外部電極4は、側面2fの全面にわたって設けられている。外部電極4は、側面2fを構成する圧電体層30上に設けられているとも言える。外部電極4は、各積層体部分10における側面2fに設けられた電極部分4aと、各積層体部分11における側面2fに設けられた電極部分4bと、を有している。電極部分4aは、図5の(a)にも示されるように、内部電極32のうち側面2fに露出している端と物理的、かつ、電気的に接続されている。電極部分4bは、図5の(b)にも示されるように、内部電極33,34のうち側面2fに露出している端と物理的、かつ、電気的に接続されている。
上述のように外部電極3の各電極部分3a,3bは、互いに物理的、かつ、電気的に独立しているのに対し、外部電極4の各電極部分4a,4bは、主面2d側の端部で互いに一体的に接続されている。X軸方向において隣り合う各電極部分4aの間には、主面2c側にスリットSが形成されている。つまり、外部電極4は、スリットSにより、複数の電極部分4aに分けられていると言える。更に、スリットSは、外部電極4から積層体2まで達しており、積層体2は、各電極部分4aに対応する複数の積層体部分10に分けられていると言える。積層体2は圧電体層30を含むため、圧電体層30が、スリットSにより、各電極部分4aに対応する複数の圧電体部分に分けられているとも言える。外部電極4は、外部電極3と同様に、スパッタリング法により形成されたスパッタ電極であり、電極領域R〜Rを有している。
X軸方向において、積層体2のうち2つの溝35の間に位置する部分であって、側面2eと主面2dとがなす角部分には、積層体2が切り欠かれた切欠部36が形成されている。切欠部36は、側面2e及び主面2dに対して傾斜する傾斜面である。
以上のように構成される圧電素子1においては、内部電極31と電極部分3aとが電気的に接続されており、これらが同極である。内部電極32〜34と、電極部分3bと、外部電極4(すなわち、電極部分4a,4b)と、とが電気的に接続されており、これらが同極である。内部電極31及び電極部分3aと、内部電極32〜34、電極部分3b、及び外部電極4とは、電気的に接続されていない。
電極部分3aと、電極部分3b及び外部電極4との間に電圧が印加されると、内部電極31と内部電極32との間にも電圧が印加される。そのため、駆動部50のうち活性部に位置する圧電体層30に電界が生じ、駆動部50が変位する。一方、非駆動部52においては、圧電体層30が内部電極33の間に位置しているので、圧電体層30に電界が生じない。そのため、非駆動部52は変位しない。
続いて、圧電素子1の製造方法の一例について説明する。まず、PZTを主成分とする圧電セラミックス材料に有機バインダ及び有機溶剤等を混合して基体ペーストを作製し、その基体ペーストを用いて圧電体層30となるグリーンシートをドクターブレード法により成形する。また、所定比率のAgとPdとからなる金属材料に有機バインダや有機溶剤等を混合して電極パターン形成用の導電ペーストを作製する。
次に、導電ペーストを用いて、内部電極31〜34に対応する電極パターンのそれぞれをグリーンシート上にスクリーン印刷法により形成する。そして、内部電極31及び内部電極33に対応する電極パターンが形成されたグリーンシート、内部電極32及び内部電極33に対応する電極パターンが形成されたグリーンシート、内部電極34に対応する電極パターンが形成されたグリーンシート、及び電極パターンが形成されていないグリーンシートをこの順に積層して、積層体グリーンを作製する。
続いて、積層体グリーンを所定の温度(例えば、60℃程度)で加熱しながら、積層方向に所定の圧力でプレスした後、積層体グリーンを所定の大きさに切断する。そして、積層体グリーンを所定の温度(例えば、400℃程度)で脱脂した後、所定の温度(例えば、1100℃程度)で所定時間焼成して、積層体2を得る。
続いて、積層体2の側面2e,2fに対応する面に、スパッタリング法により外部電極3,4を形成する。外部電極3,4は、例えば、図9に示されるようなスパッタリング装置100により形成される。図9の紙面垂直方向がスパッタリング装置100の上下方向である。スパッタリング装置100は、いわゆるインライン方式の装置である。スパッタリング装置100は、成膜対象となる積層体2の搬送方向Aの上流側から順に、加熱室101と、ロード室102と、スパッタ室103と、アンロード室104と、取出室105とを備えている。加熱室101とロード室102との間、ロード室102とスパッタ室103との間、スパッタ室103とアンロード室104との間、及びアンロード室104と取出室105との間には、それぞれバルブ106〜109が設けられている。ロード室102、スパッタ室103、及びアンロード室104は、それぞれ真空ポンプ110〜112を備えており、内部を真空状態に保つことができるように構成されている。
スパッタリング装置100は、搬送装置113を更に備えており、各室を経由しながら積層体2を搬送することができるように構成されている。搬送装置113は、例えば、積層体2を直立させた状態で搬送するように構成されている。なお、搬送装置113は、積層体2を寝かせた状態で搬送してもよい。スパッタ室103の側面には、搬送方向Aの上流側から順に、ターゲットT1〜T3がターゲット保持部121〜123にそれぞれ保持された状態で並んで設けられている。ターゲットT1〜T3は、それぞれ金属材料M1〜M3により構成されている。スパッタ室103の側面におけるターゲットT1とターゲットT2との間、及びターゲットT2とターゲットT3との間には、それぞれ仕切板(防着板)124,125が設けられている。仕切板124,125は、スパッタ室103の側面からスパッタ室103の内方に向かって移動することで、スパッタ室103を搬送方向Aに沿って仕切るため部材である。
このようなスパッタリング装置100によって外部電極3,4を形成する方法について説明する。まず積層体2が加熱室101に投入された後、積層体2がヒータにより所定温度まで加熱される。このときバルブ106〜109はそれぞれ閉じられた状態である。また、仕切板124,125はいずれもスパッタ室103の内方に移動し、スパッタ室103は搬送方向Aに沿って仕切られた状態である。続いて、バルブ106が開けられ、積層体2が搬送装置113によりロード室102に搬送される。バルブ106が再び閉じられ、ロード室102が真空状態とされる。続いて、バルブ107が開けられ、積層体2が搬送装置113によりスパッタ室103に搬送される。スパッタ室103では、ターゲットT1〜T3に電圧が印加され、ターゲットT1〜T3を用いたスパッタリングが行われる。ターゲットT1〜T3は、ターゲット保持部121〜123にそれぞれ設けられた冷却装置(不図示)により冷却されている。スパッタ室103には、スパッタガス導入部(不図示)によりAr等のスパッタガスが導入されている。積層体2は、搬送装置113によりスパッタ室103内を一定速度で搬送される。
積層体2がターゲットT1と対向する位置を通過する際、積層体2の表面には金属材料M1からなる薄膜(電極領域R)が形成される。続いて、仕切板124がスパッタ室103の側面に移動し、積層体2がターゲットT2と対向する位置まで移動する。これにより、積層体2の表面には、金属材料M1及び金属材料M2が混在している薄膜(電極領域R)が形成される。積層体2がターゲットT1から離れて、ターゲットT2に近づくにしたがって、積層体2に堆積される薄膜中の金属材料M1の割合が徐々に減少し、反対に金属材料M2の割合が徐々に増加する。よって、電極領域Rは、電極領域Rから離れるにしたがって、金属材料M1に対して金属材料M2が混在する割合が徐々に増えるような構成となる。
続いて、仕切板124がスパッタ室103の内方に移動する。これにより、積層体2の表面には金属材料M2からなる薄膜(電極領域R)が形成される。続いて、仕切板125がスパッタ室103の側面に移動し、積層体2がターゲットT3と対向する位置まで移動する。これにより、積層体2の表面には、金属材料M2及び金属材料M3が混在している薄膜(電極領域R)が形成される。積層体2がターゲットT2から離れて、ターゲットT3に近づくにしたがって、積層体2に堆積される薄膜中の金属材料M2の割合が徐々に減少し、反対に金属材料M3の割合が徐々に増加する。よって、電極領域Rは、電極領域Rから離れるにしたがって、金属材料M2に対して金属材料M3が混在する割合が徐々に増えるような構成となる。
続いて、仕切板125がスパッタ室103の内方に移動する。これにより、積層体2の表面には金属材料M3からなる薄膜(電極領域R)が形成される。続いて、バルブ108が開けられ、積層体2が搬送装置113によりアンロード室104に搬送される。アンロード室104は、予め真空状態とされている。積層体2がスパッタ室103から搬出されると、アンロード室104は、ベントガスの導入により大気圧状態とされる。続いて、バルブ109が開けられ、積層体2は、搬送装置113により取出室105に搬送された後、スパッタリング装置100から外部に取り出される。
以上のようにして、スパッタリング装置100によって外部電極3,4が形成された積層体2を得ることができる。スパッタリング装置100は、片面ずつ成膜を行う構成であるが、ターゲットT1〜T3をスパッタ室103の両側面に配置することにより、両面同時に成膜を行うこともできる。
次に、外部電極3,4が形成された積層体2において、側面2eに対応する面にZ軸方向に沿って溝35を形成する。そして、側面2eと主面2dとの角部分に、切欠部36を形成する。続いて、主面2cに対応する面に、Y軸方向及びZ軸方向に延びるスリットSを形成する。スリットSは、例えば直径2μmのワイヤーを備えるワイヤーソーによって形成される。以上により、圧電素子1が得られる。
上述のような圧電素子1では、外部電極3,4が、積層体2側から順に並ぶ電極領域R〜Rを有するスパッタ電極として構成されている。電極領域Rと電極領域Rとの間に設けられた電極領域Rでは、電極領域Rを構成する金属材料M1、及び電極領域Rを構成する金属材料M2が混在している。電極領域Rと電極領域Rとの接合強度、及び電極領域Rと電極領域Rとの接合強度はいずれも、互いに全く異なる金属材料からなる電極領域Rと電極領域Rとの接合強度よりも高い。更に、電極領域Rと電極領域Rとの間に設けられた電極領域Rでは、電極領域Rを構成する金属材料M2及び電極領域Rを構成する金属材料M3が混在している。電極領域Rと電極領域Rとの接合強度、及び電極領域Rと電極領域Rとの接合強度はいずれも、互いに全く異なる金属材料からなる電極領域Rと電極領域Rとの接合強度よりも高い。これらのことから、外部電極3,4では、電極内の剥離、特に各電極領域間の剥離を抑制することができる。
圧電素子の製造工程において、例えば、機械加工を施すことにより、積層体と外部電極との間で剥離が発生したり、外部電極内で剥離が発生したりする場合がある。特に、後者の場合は、圧電特性及び外観への影響が製造直後は比較的少ないため、検査による不良品のスクリーニングが比較的困難である。この結果、不良品が検査から漏れ、経年劣化を起こして信頼性を低下させる懼れがある。圧電素子1では、上述のように、電極内の剥離が生じ難くなる。これにより、信頼性を向上させることができる。
電極領域Rでは、金属材料M1に対して金属材料M2が混在する割合が、電極領域Rから電極領域Rに向かうにしたがって徐々に増加している。このため、電極領域Rの電極領域R側に金属材料M1が多く含まれるので、電極領域Rと電極領域Rとの接合強度を更に高めることができる。また、電極領域Rの電極領域R側に金属材料M2が多く含まれるので、電極領域Rと電極領域Rとの接合強度を更に高めることができる。更に、電極領域Rでは、金属材料M2に対して金属材料M3が混在する割合が、電極領域Rから電極領域Rに向かうにしたがって徐々に増加している。このため、電極領域Rの電極領域R側に金属材料M2が多く含まれるので、電極領域Rと電極領域Rとの接合強度を更に高めることができる。また、電極領域Rの電極領域R側に金属材料M3多く含まれるので、電極領域Rと電極領域Rとの接合強度を更に高めることができる。これらのことから、電極内の剥離を更に抑制することができる。
ここで、金属材料M1をCr、金属材料M2をCu、金属材料M3をSnAgとするスパッタ電極をPZTからなる圧電体上に形成し、断面をSEM(Scanning Electron Microscope)で観察した結果について説明する。スパッタ電極は、図9のスパッタリング装置100に対応する装置により実施形態の手順に沿って、総厚が約1.5μmとなるように形成した。図10に示されるように、PZTからなる圧電体とCrからなる領域との境界に比べると、Crからなる領域とCuからなる領域との境界、及びCuからなる領域とSnAgからなる領域との境界は、いずれも不鮮明となっている。これは、Crからなる領域とCuからなる領域との間には、Cr及びCuが混在する領域が形成されると共に、Cuからなる領域とSnAgからなる領域との間には、Cu及びSnAgが混在する領域が形成されているためと推察される。
また、圧電素子1では、外部電極3,4が、電極領域R〜Rが対向する方向に沿って形成されたスリットSにより、複数の電極部分3a,4bに分けられている。例えば、機械的加工により外部電極3,4が分けられるとすると、外部電極3,4内の剥離が生じ易いので、電極領域R〜R間の接合強度を高める本実施形態の構成が特に有効となる。
また、圧電素子1では、スリットSは、積層体2まで達しており、積層体2は、各電極部分3a,4bに対応する複数の積層体部分10に分けられている。これにより、各積層体部分10を互いに独立して駆動することができる。
本発明は必ずしも上述した実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で様々な変更が可能である。
例えば、積層体2の主面2c,2d以外の面に、外部電極3,4と同じ構成のスパッタ電極が設けられていてもよい。外部電極3,4は、少なくとも電極領域R〜R、又は電極領域R〜Rを有していればよい。電極領域Rでは、膜厚方向において、金属材料M1に対して金属材料M2が混在する割合が一定であってもよいし、段階的に変化してもよい。電極領域Rでは、膜厚方向において、金属材料M2に対して金属材料M3が混在する割合が一定であってもよいし、段階的に変化してもよい。本発明に係る圧電素子は、積層型圧電素子に限られず、内部電極を有さない圧電基板上に、外部電極3,4のようなスパッタ電極が設けられたものであってもよい。
1…圧電素子、2…積層体、3,4…外部電極、3a,3b…電極部分、4a,4b…電極部分、10…積層体部分、30…圧電体層、R〜R…電極領域。

Claims (10)

  1. 圧電体と、前記圧電体上に設けられたスパッタ電極と、を備え、
    前記スパッタ電極は、
    第一金属材料からなる第一電極領域と、
    前記第一電極領域上に位置し、前記第一金属材料とは異なる第二金属材料からなる第二電極領域と、
    前記第一電極領域と前記第二電極領域との間に設けられた第三電極領域と、
    前記第二電極領域上に位置し、前記第一金属材料及び前記第二金属材料とは異なる第三金属材料からなる第四電極領域と、
    前記第二電極領域と前記第四電極領域との間に設けられた第五電極領域と、を有し、
    前記第三電極領域は、前記第一金属材料及び前記第二金属材料が混在している領域であり、
    前記第五電極領域は、前記第二金属材料及び前記第三金属材料が混在している領域であり、
    前記スパッタ電極は、前記圧電体と対向した面、及び、前記圧電体と反対側に露出した面を有し
    前記第三電極領域では、前記第一金属材料に対して前記第二金属材料が混在する割合が、前記第一電極領域から前記第二電極領域に向かうにしたがって徐々に増加し、
    前記第五電極領域では、前記第二金属材料に対して前記第三金属材料が混在する割合が、前記第二電極領域から前記第四電極領域に向かうにしたがって徐々に増加している、圧電素子。
  2. 前記圧電体は、圧電セラミックス材料の焼成体からなる、請求項1に記載の圧電素子。
  3. 前記スパッタ電極は、スリットにより複数の電極部分に分けられている、請求項1又は2に記載の圧電素子。
  4. 前記スリットは、前記圧電体まで達しており、
    前記圧電体は、各前記電極部分に対応する複数の圧電体部分に分けられている、請求項3に記載の圧電素子。
  5. 前記第一金属材料はCrであり、
    前記第二金属材料はCuである、請求項1〜のいずれか一項に記載の圧電素子。
  6. 前記第金属材料はSnAgである、請求項1〜5のいずれか一項に記載の圧電素子。
  7. 前記第二電極領域は、前記第一電極領域、前記第三電極領域、前記第四電極領域、及び前記第五電極領域よりも厚い、請求項1〜6いずれか一項に記載の圧電素子。
  8. 圧電体を形成する工程と、
    前記圧電体を形成する工程後に、前記圧電体を搬送しながら、前記圧電体上にスパッタ電極を形成する工程と、を含み、
    前記スパッタ電極を形成する工程は、前記圧電体の搬送方向の上流側から順に並んで設けられた、第一金属材料により構成された第一ターゲット、前記第一金属材料とは異なる第二金属材料により構成された第二ターゲット、及び前記第一金属材料及び前記第二金属材料とは異なる第三金属材料により構成された第三ターゲットを用い、前記圧電体を搬送しながら行われ、
    前記スパッタ電極を形成する工程は、
    前記第一ターゲットにより、前記第一金属材料からなる領域を形成して
    前記第一ターゲット及び前記第二ターゲットにより、前記第一金属材料からなる領域上に、前記第一金属材料及び前記第二金属材料が混在している領域を形成して
    前記第二ターゲットにより、前記第一金属材料及び前記第二金属材料が混在している領域上に、前記第二金属材料からなる領域を形成して
    前記第二ターゲット及び前記第三ターゲットにより、前記第二金属材料からなる領域上に、前記第二金属材料及び前記第三金属材料が混在している領域を形成して、
    前記第三ターゲットにより、前記第二金属材料及び前記第三金属材料が混在している領域上に、前記第三金属材料からなる領域を形成する、圧電素子の製造方法。
  9. 前記スパッタ電極を形成する工程では、前記圧電体の両面に同時に前記スパッタ電極が形成される、請求項8に記載の圧電素子の製造方法。
  10. 前記スパッタ電極を形成する工程では、前記圧電体は、一定速度で搬送される、請求項8又は9に記載の圧電素子の製造方法。
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