JP6583663B2 - Glass substrate grinding method - Google Patents
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Description
本発明は、研削ツールを回転させることで円盤状ガラス基板の外周端部を研削する方法に関する。 The present invention relates to a method for grinding an outer peripheral end of a disk-shaped glass substrate by rotating a grinding tool.
近年、半導体ウェハーのバック・グラインド工程において、半導体ウェハーを支持する支持体として円盤状ガラス基板が採用される場合がある。このような円盤状ガラス基板の製造工程では、その外周端部にオリエンテーションフラットやノッチが形成される。そして、形成したオリエンテーションフラットやノッチに対しては、R面取りやC面取り等に代表される面取り加工を施すことが通例となっている。 In recent years, a disk-shaped glass substrate is sometimes used as a support for supporting a semiconductor wafer in a back grinding process of the semiconductor wafer. In the manufacturing process of such a disk-shaped glass substrate, an orientation flat or a notch is formed at the outer peripheral end. And it is customary to perform chamfering such as R chamfering and C chamfering on the formed orientation flat and notch.
ここで、円盤状ガラス基板ではなく、半導体ウェハーを加工の対象とするものであるが、研削ツールで半導体ウェハーの外周端部にノッチを形成する手法、及び、形成されたノッチを研削することで、当該ノッチに面取り加工を施す手法の一例が特許文献1に開示されている。同手法では、研削ツールを半導体ウェハーの主面(表裏面)と平行に延びる軸線を回転中心として回転させることで、ノッチの研削を行っている。
Here, not a disk-shaped glass substrate but a semiconductor wafer is to be processed, a method of forming a notch at the outer peripheral edge of the semiconductor wafer with a grinding tool, and grinding the formed notch An example of a method for chamfering the notch is disclosed in
しかしながら、靱性の高い半導体ウェハーを想定した上記の手法を脆性材料である円盤状ガラス基板の外周端部に形成されたノッチの加工に適用した場合には、以下のような解決すべき問題が発生している。すなわち、同手法を適用した場合、円盤状ガラス基板に形成されたノッチは、研削ツールによって円盤状ガラス基板の厚み方向に沿って研削されることになる。これにより、ノッチが形成された外周端部は、研削ツールから常に厚み方向に力が作用した状態に置かれる。その結果、研削ツールから作用する力で外周端部が厚み方向に沿って不当に揺動し、これに起因して割れや欠けが発生する等、円盤状ガラス基板が破損してしまう不具合が生じていた。 However, when the above method, which assumes a semiconductor wafer with high toughness, is applied to the processing of the notch formed on the outer peripheral edge of a disk-shaped glass substrate that is a brittle material, the following problems to be solved occur. is doing. That is, when the same method is applied, the notch formed in the disk-shaped glass substrate is ground along the thickness direction of the disk-shaped glass substrate by the grinding tool. Thereby, the outer peripheral end portion in which the notch is formed is always placed in a state in which force is applied in the thickness direction from the grinding tool. As a result, there is a problem that the disc-shaped glass substrate is damaged, such as the outer peripheral edge swings unduly along the thickness direction due to the force acting from the grinding tool, and this causes cracks and chips. It was.
なお、このような問題は、上記の手法をノッチの面取り加工に適用した場合にのみ発生しているものではない。例えば、同手法と同様な態様で研削ツールを回転させることにより、円盤状ガラス基板の外周端部に形成されたオリエンテーションフラットを研削して面取り加工を施す場合のように、円盤状ガラス基板の外周端部の研削を伴う際に、上記の手法を適用した場合には同様に生じている問題である。 Such a problem does not occur only when the above method is applied to chamfering of a notch. For example, by rotating the grinding tool in the same manner as the same method, the outer periphery of the disk-shaped glass substrate is chamfered by grinding the orientation flat formed on the outer peripheral edge of the disk-shaped glass substrate. When the above method is applied when the end portion is ground, the same problem occurs.
上記の事情に鑑みなされた本発明の目的は、研削ツールを回転させることで円盤状ガラス基板の外周端部を研削する場合に、当該円盤状ガラス基板の破損を防止することにある。 An object of the present invention made in view of the above circumstances is to prevent the disk-shaped glass substrate from being damaged when the outer peripheral end of the disk-shaped glass substrate is ground by rotating a grinding tool.
上記の課題を解決するために創案された本発明に係る方法は、研削ツールを回転させることで円盤状ガラス基板の外周端部を研削するガラス基板の研削方法であって、研削ツールを、円盤状ガラス基板の厚み方向に延びる軸線を回転中心として回転させることに特徴付けられる。 The method according to the present invention, which was devised to solve the above-mentioned problems, is a glass substrate grinding method for grinding an outer peripheral end of a disk-shaped glass substrate by rotating a grinding tool, wherein the grinding tool is It is characterized by rotating around an axis extending in the thickness direction of the glass substrate.
このような方法によれば、研削ツールを、円盤状ガラス基板の厚み方向に延びる軸線を回転中心として回転させることから、円盤状ガラス基板の外周端部は、研削ツールによって円盤状ガラス基板の主面(表裏面)と平行な方向に沿って研削されることになる。そのため、研削ツールから外周端部へと作用する力が、円盤状ガラス基板の厚み方向に作用することを可及的に防止できる。これにより、研削ツールによる外周端部の研削中に、当該外周端部が厚み方向に沿って揺動するような事態の発生が回避される。その結果、割れや欠けが発生する等、円盤状ガラス基板の破損を防止することが可能となる。 According to such a method, since the grinding tool is rotated about the axis extending in the thickness direction of the disk-shaped glass substrate, the outer peripheral edge of the disk-shaped glass substrate is rotated by the grinding tool. It is ground along a direction parallel to the surface (front and back surfaces). Therefore, it can prevent as much as possible that the force which acts on an outer peripheral edge part from a grinding tool acts on the thickness direction of a disk shaped glass substrate. Thereby, during the grinding of the outer peripheral end by the grinding tool, the occurrence of a situation in which the outer peripheral end swings along the thickness direction is avoided. As a result, it becomes possible to prevent the disk-shaped glass substrate from being damaged, such as cracking or chipping.
上記の方法において、円盤状ガラス基板を、その中心で厚み方向に延びる軸線を回転中心として回転させると共に、研削ツールに、円盤状ガラス基板の回転方向に逆らって円盤状ガラス基板の周りを旋回させることが好ましい。 In the above method, the disk-shaped glass substrate is rotated about the axis extending in the thickness direction at the center thereof, and the grinding tool is rotated around the disk-shaped glass substrate against the rotation direction of the disk-shaped glass substrate. It is preferable.
このようにすれば、自転した状態の円盤状ガラス基板の回転方向に逆らって、研削ツールが円盤状ガラス基板の周りを旋回するため、研削ツールによる外周端部の研削中に、研削ツールの進行方向と、外周端部の進行方向とが相互に逆向きとなる。これにより、研削ツールが外周端部を研削するのに要する時間を短縮することができる。 In this way, the grinding tool turns around the disk-shaped glass substrate against the direction of rotation of the disk-shaped glass substrate in the rotated state. The direction and the traveling direction of the outer peripheral end are opposite to each other. Thereby, the time required for the grinding tool to grind the outer peripheral end can be shortened.
上記の方法において、外周端部を研削した後、上記研削ツール、又は、円盤状ガラス基板の厚み方向に延びる軸線を回転中心として回転し、且つ上記研削ツールとは異なる第二の研削ツールを用いて、円盤状ガラス基板の位置決めを行うために外周端部の一部が除去されてなる位置決め部を、外周端部に形成してもよい。 In the above method, after grinding the outer peripheral edge, the grinding tool or the second grinding tool that rotates about the axis extending in the thickness direction of the disk-shaped glass substrate and is different from the grinding tool is used. Then, a positioning portion obtained by removing a part of the outer peripheral end portion for positioning the disc-shaped glass substrate may be formed at the outer peripheral end portion.
位置決め部は、円盤状ガラス基板の外周端部の一部が除去されてなるため、外周端部への位置決め部の形成時には、外周端部の研削時と比較して円盤状ガラス基板が破損しやすくなる。しかしながら、外周端部への位置決め部の形成に、上記研削ツール、又は、第二の研削ツールを用いれば、両者がいずれも円盤状ガラス基板の厚み方向に延びる軸線を回転中心として回転することから、位置決め部の形成時においても、外周端部が厚み方向に沿って揺動するような事態の発生が回避される。その結果、円盤状ガラス基板を破損させることなく、外周端部に位置決め部を形成することが可能となる。また、外周端部を研削した後で、当該外周端部に位置決め部を形成することから、外周端部の研削によって円盤状ガラス基板の概形が定まった後で、位置決め部が形成されることになる。このため、外周端部に位置決め部を有した円盤状ガラス基板を量産するような場合に、生産された円盤状ガラス基板の相互間で、その形状にバラつきが生じるような事態の発生を防止することができる。 Since the positioning part is formed by removing a part of the outer peripheral edge of the disk-shaped glass substrate, the disk-shaped glass substrate is damaged when the positioning part is formed on the outer peripheral edge compared to when grinding the outer peripheral edge. It becomes easy. However, if the grinding tool or the second grinding tool is used for forming the positioning portion at the outer peripheral end, both of them rotate about the axis extending in the thickness direction of the disk-shaped glass substrate. Even when the positioning portion is formed, occurrence of a situation in which the outer peripheral end portion swings along the thickness direction is avoided. As a result, it is possible to form the positioning portion at the outer peripheral end without damaging the disk-shaped glass substrate. In addition, since the positioning portion is formed at the outer peripheral end after grinding the outer peripheral end, the positioning portion is formed after the rough shape of the disk-shaped glass substrate is determined by grinding the outer peripheral end. become. For this reason, when mass-producing the disk-shaped glass substrate which has a positioning part in an outer peripheral edge part, generation | occurrence | production of the situation which the variation in the shape produces between the disk-shaped glass substrates produced is prevented. be able to.
上記の方法において、第二の研削ツールとして、上記研削ツールよりも径の小さいツールを用いることが好ましい。 In the above method, it is preferable to use a tool having a smaller diameter than the grinding tool as the second grinding tool.
このようにすれば、円盤状ガラス基板の外周端部の研削時には、相対的に径の大きい上記研削ツールを用いることで、外周端部を高速に研削することが可能となる。一方、円盤状ガラス基板の破損が生じやすい外周端部への位置決め部の形成時には、相対的に径の小さい第二の研削ツールを用いることにより、円盤状ガラス基板の破損を可及的に防止することができる。また、相対的に径の小さい第二の研削ツールを用いることで、位置決め部を高精度に形成することも可能である。 If it does in this way, at the time of grinding of the perimeter end part of a disk-like glass substrate, it will become possible to grind the perimeter end part at high speed by using the above-mentioned grinding tool with a comparatively large diameter. On the other hand, when forming the positioning part at the outer peripheral edge where the disk-shaped glass substrate is likely to be damaged, the second grinding tool with a relatively small diameter is used to prevent the disk-shaped glass substrate from being damaged as much as possible. can do. Further, it is possible to form the positioning portion with high accuracy by using the second grinding tool having a relatively small diameter.
上記の方法において、位置決め部が、円盤状ガラス基板の中心側から外周側に向かって漸次に形成幅が拡大するノッチである場合には、当該ノッチを形成するに際し、形成を予定したノッチの最大幅よりも径の小さい第二の研削ツールを用いることが好ましい。 In the above method, when the positioning portion is a notch whose formation width gradually increases from the center side to the outer periphery side of the disk-shaped glass substrate, when the notch is formed, It is preferable to use a second grinding tool having a smaller diameter than a large one.
このようにすれば、形成を予定したノッチの最大幅よりも径の小さい第二の研削ツールを用いてノッチを形成することから、ノッチの形成時における円盤状ガラス基板の破損を可及的に防止できると共に、ノッチを高精度に形成することが可能となる。 In this way, since the notch is formed using the second grinding tool having a diameter smaller than the maximum width of the notch planned to be formed, the disc-shaped glass substrate is damaged as much as possible when the notch is formed. This can be prevented and the notch can be formed with high accuracy.
上記の方法において、第二の研削ツールとして、径が2mm以下のツールを用いることが好ましい。 In the above method, it is preferable to use a tool having a diameter of 2 mm or less as the second grinding tool.
第二の研削ツールとして、径が小さいツールを用いる程、位置決め部の形成時における円盤状ガラス基板の破損を防止する効果、及び、位置決め部を高精度に形成できる効果を高めることが可能となる。そして、第二の研削ツールとして、径が2mm以下のツールを用いれば、上記の両効果を好適に発現させることができる。 As the second grinding tool is used, the smaller the diameter, the higher the effect of preventing the disc-shaped glass substrate from being damaged during the formation of the positioning part and the effect of forming the positioning part with high accuracy. . If a tool having a diameter of 2 mm or less is used as the second grinding tool, both of the above effects can be suitably expressed.
上記の方法において、外周端部の研削に伴って当該外周端部に面取り加工を施すと共に、位置決め部を形成する際に当該位置決め部に面取り加工を施すに際し、第二の研削ツールとして、研削のために当該第二の研削ツールの外周部に形成された研削溝の形状及び寸法が、上記研削ツールの外周部に形成された研削溝の形状及び寸法と同一であるツールを用いることが好ましい。 In the above method, the outer peripheral end portion is chamfered along with the grinding of the outer peripheral end portion, and the chamfering process is performed on the positioning portion when forming the positioning portion. Therefore, it is preferable to use a tool in which the shape and size of the grinding groove formed on the outer peripheral portion of the second grinding tool are the same as the shape and size of the grinding groove formed on the outer peripheral portion of the grinding tool.
このようにすれば、上記研削ツールによって研削して面取り加工を施した位置決め部を除く部位と、第二の研削ツールによって研削して面取り加工を施した位置決め部との間で、面取り加工後の断面形状(円盤状ガラス基板を仮想的に厚み方向に切断した場合の断面形状)が略同一なものとなる。つまり、位置決め部と、当該位置決め部に連なる部位との間で、断面形状が急激に変化することを回避することができる。ここで、断面形状が急激に変化している場合、円盤状ガラス基板に何らかの外力が作用した際に応力集中が発生しやすくなり、円盤状ガラス基板が破損するおそれが高まってしまう。しかしながら、本方法によれば、位置決め部と、当該位置決め部に連なる部位との間で、断面形状を略同一とすることができるため、上記のようなおそれを的確に排除することが可能である。また、本方法では、円盤状ガラス基板の外周端部を、研削ツールによって円盤状ガラス基板の主面と平行な方向に沿って研削することから、円盤状ガラス基板の表面側と裏面側との双方に対して同時に面取り加工を施すことも可能である。これにより、面取り加工に要する時間を大幅に短縮することができる。 In this case, the chamfered portion between the portion excluding the positioning portion ground by the grinding tool and chamfered and the positioning portion ground by the second grinding tool and chamfered is processed. The cross-sectional shape (the cross-sectional shape when the disk-shaped glass substrate is virtually cut in the thickness direction) is substantially the same. That is, it is possible to avoid a sudden change in the cross-sectional shape between the positioning portion and a portion connected to the positioning portion. Here, when the cross-sectional shape is changing abruptly, stress concentration tends to occur when some external force is applied to the disk-shaped glass substrate, and the risk of damage to the disk-shaped glass substrate increases. However, according to this method, since the cross-sectional shape can be made substantially the same between the positioning portion and the portion connected to the positioning portion, it is possible to accurately eliminate the fear as described above. . Further, in this method, since the outer peripheral end of the disk-shaped glass substrate is ground along a direction parallel to the main surface of the disk-shaped glass substrate with a grinding tool, the front side and the back side of the disk-shaped glass substrate are It is possible to chamfer both at the same time. Thereby, the time which a chamfering process requires can be reduced significantly.
上記の方法において、上記研削ツールと第二の研削ツールとが、その回転軸を共有していることが好ましい。 In the above method, it is preferable that the grinding tool and the second grinding tool share the rotation axis.
このようにすれば、上記研削ツールを動作させるための駆動源と、第二の研削ツールを動作させるための駆動源とを別々に設ける必要が無くなる。そのため、低コスト化、及び省スペース化を図ることが可能となる。 This eliminates the need to separately provide a drive source for operating the grinding tool and a drive source for operating the second grinding tool. Therefore, cost reduction and space saving can be achieved.
上記の方法において、位置決め部を形成する際に、円盤状ガラス基板を静止させた状態に固定することが好ましい。 In the above method, it is preferable to fix the disk-shaped glass substrate in a stationary state when forming the positioning portion.
このようにすれば、円盤状ガラス基板を静止させた状態の下で、位置決め部を形成することから、当該位置決め部を更に高精度に形成することができる。 If it does in this way, since the positioning part is formed under the state where the disk-shaped glass substrate is made stationary, the positioning part can be formed with higher accuracy.
上記の方法において、位置決め部を形成した後、外周端部にエッチング処理を施すことが好ましい。 In the above method, it is preferable to perform an etching process on the outer peripheral end portion after forming the positioning portion.
円盤状ガラス基板の外周端部に位置決め部を形成した場合、位置決め部を形成しない場合と比較して外周端部の強度が低下する。しかしながら、位置決め部を形成した後、外周端部にエッチング処理を施せば、当該外周端部に含まれた微小クラック等の欠陥を取り除くことが可能となる。その結果、円盤状ガラス基板の外周端部の強度を向上させることができる。 When the positioning portion is formed at the outer peripheral end portion of the disk-shaped glass substrate, the strength of the outer peripheral end portion is reduced as compared with the case where the positioning portion is not formed. However, if the outer peripheral end is subjected to an etching process after the positioning portion is formed, defects such as microcracks included in the outer peripheral end can be removed. As a result, the strength of the outer peripheral end portion of the disk-shaped glass substrate can be improved.
上記の方法において、外周端部を研削した後、スクライブホイールの転動、又は、レーザーの照射によって外周端部にスクライブラインを形成すると共に、このスクライブラインに沿って割断を行うことで、オリエンテーションフラットを形成してもよい。 In the above method, after grinding the outer peripheral end portion, a scribe line is formed on the outer peripheral end portion by rolling of the scribe wheel or laser irradiation, and the orientation flat is cut along the scribe line. May be formed.
このようにすれば、外周端部を研削した後で、当該外周端部にオリエンテーションフラットを形成することから、外周端部の研削によって円盤状ガラス基板の概形が定まった後で、オリエンテーションフラットが形成されることになる。このため、外周端部にオリエンテーションフラットを有した円盤状ガラス基板を量産するような場合に、生産された円盤状ガラス基板の相互間で、その形状にバラつきが生じるような事態の発生を防止することができる。 In this way, after the outer peripheral end is ground, the orientation flat is formed at the outer peripheral end, so that after the outline shape of the disk-shaped glass substrate is determined by grinding of the outer peripheral end, the orientation flat is Will be formed. For this reason, when mass-producing a disk-shaped glass substrate having an orientation flat at the outer peripheral end, it is possible to prevent the occurrence of a situation in which the shape of the disk-shaped glass substrates varies between each other. be able to.
本発明に係るガラス基板の研削方法によれば、研削ツールを回転させることで円盤状ガラス基板の外周端部を研削する場合に、当該円盤状ガラス基板の破損を防止することが可能となる。 According to the method for grinding a glass substrate according to the present invention, when the outer peripheral end of the disk-shaped glass substrate is ground by rotating the grinding tool, it is possible to prevent the disk-shaped glass substrate from being damaged.
以下、本発明の実施形態に係るガラス基板の研削方法について、添付の図面を参照して説明する。 Hereinafter, a glass substrate grinding method according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
本発明の実施形態に係るガラス基板の研削方法においては、まず、研削ツール1を用いて、円盤状ガラス基板2の外周端部2aを研削して面取り加工を施すための面取工程を実行する(図1〜図3)。次に、研削ツール1とは異なる第二の研削ツール3を用いて、面取り加工が施されたノッチ4を円盤状ガラス基板2の外周端部2aに形成するためのノッチ形成工程を実行する(図5)。最後に、円盤状ガラス基板2の外周端部2aにエッチング処理を施して、当該外周端部2aの強度を向上させるための処理工程を実行する。
In the method for grinding a glass substrate according to the embodiment of the present invention, first, a chamfering process for grinding the outer
このガラス基板の研削方法では、研削ツール1及び第二の研削ツール3を、それぞれ円盤状ガラス基板2の厚み方向(以下、単に厚み方向と表記する)に延びる軸線5,6を回転中心として回転させる。ここで、本実施形態で研削の対象となる円盤状ガラス基板2は、半導体ウェハーのバック・グラインド工程において半導体ウェハーを支持する支持体となるガラス基板である。
In this glass substrate grinding method, the grinding
まず、面取工程について説明する。 First, the chamfering process will be described.
図1及び図2に示すように、円盤状ガラス基板2は、厚み方向に沿って延びる軸線7を回転中心としてA方向に回転(自転)することが可能なテーブル8の上に平置き姿勢で載置されている。なお、円盤状ガラス基板2は、平面視で当該円盤状ガラス基板2の中心2bの位置と、軸線7の位置とが一致するようにテーブル8上に載置されている。
As shown in FIGS. 1 and 2, the disc-shaped
テーブル8は円盤状ガラス基板2を下方から支持する支持部8aを有し、この支持部8aは平面視で円盤状ガラス基板2よりも一回り径の小さい円形に形成されている。これにより、テーブル8上に載置された円盤状ガラス基板2の外周端部2aが、支持部8aの外周端から食み出した状態となっている。また、支持部8aには多数の孔8aaが形成されており、多数の孔8aaの各々は、図示省略の負圧発生手段(例えば、真空ポンプ等)と接続されている。これにより、負圧発生手段が多数の孔8aaを介して円盤状ガラス基板2に負圧を発生させることで、支持部8aが円盤状ガラス基板2を吸着することが可能となっている。
The table 8 has a
以上のことから、支持部8aに円盤状ガラス基板2を吸着させた状態で、テーブル8をA方向に回転させると、テーブル8上に載置された円盤状ガラス基板2が、軸線7を回転中心として偏心することなくA方向に回転(自転)する。
From the above, when the table 8 is rotated in the A direction while the disk-shaped
研削ツール1は、軸線5を回転中心としてB方向に回転(自転)すると共に、円盤状ガラス基板2の回転方向(A方向)に逆らって円盤状ガラス基板2の周りをC方向に旋回することが可能となっている。この研削ツール1は、ダウンカット方式によって円盤状ガラス基板2の外周端部2aを研削する向きに回転(自転)している。なお、変形例として、研削ツール1を、アップカット方式で円盤状ガラス基板2の外周端部2aを研削する向きに回転(自転)させてもよい。
The grinding
図3(図2において丸で囲ったE部を拡大して示した図)に示すように、研削ツール1の外周部1aは、接着剤(例えば、メタルボンド等)によって固着された多数の砥粒で構成されている。この外周部1aには、円盤状ガラス基板2の外周端部2aを研削するための研削溝9が上下複数段に亘って形成されている。各研削溝9は、円盤状ガラス基板の外周端面2aaを研削するための底部9aと、当該底部9aに連なり、且つ円盤状ガラス基板2の上面2c及び下面2dをそれぞれ研削するための一対の側壁部9bとを有している。各研削溝9は、研削ツール1の外周側に移行するに連れて、その溝幅が漸次に拡大するように形成されている。底部9aと側壁部9bとの両者は、一定の曲率で湾曲した湾曲面によって滑らかに連なっている。同様に、側壁部9bと研削ツール1の外周端面1aaとの両者は、一定の曲率で湾曲した湾曲面によって滑らかに連なっている。
As shown in FIG. 3 (an enlarged view of the E portion circled in FIG. 2), the outer peripheral portion 1a of the grinding
以上のことから、研削ツール1が円盤状ガラス基板2の周りを旋回しながら外周端部2aを研削することで、図4に示すように、研削ツール1の外周部1aに形成された研削溝9に対応した断面形状に外周端部2aが形成され、面取工程が完了する。
From the above, the grinding groove formed on the outer peripheral portion 1a of the grinding
次に、ノッチ形成工程について説明する。 Next, the notch formation process will be described.
面取工程が完了すると、テーブル8の回転を停止させることにより、円盤状ガラス基板2の回転(A方向への回転)を停止させ、円盤状ガラス基板2を静止させた状態に固定する。なお、テーブル8の支持部8aによる円盤状ガラス基板2の吸着は継続して行う。
When the chamfering process is completed, the rotation of the table-
そして、図5に示すように、第二の研削ツール3をF方向に回転(自転)させると共に、予め設定した軌道Sに沿って移動させることにより、円盤状ガラス基板2の中心2b側から外周側に向かって漸次に形成幅が拡大するノッチ4を外周端部2aに形成する。このノッチ4は、円盤状ガラス基板2の外周端部2aの一部が除去されてなると共に、円盤状ガラス基板2を平面視した場合に、その向きを判別して位置決めを行うための位置決め部である。
And as shown in FIG. 5, while rotating the 2nd grinding tool 3 to F direction (autorotation) and moving along the track | orbit S set beforehand, an outer periphery is carried out from the
ノッチ4の形成には、第二の研削ツール3として、形成を予定したノッチ4の最大幅Wよりも径D2が小さいツールを用いる。また、この第二の研削ツール3の径D2は、面取工程に用いた研削ツール1の径D1よりも小さくなっており、径D2が2mm以下のツールを用いている。なお、好ましくは、第二の研削ツール3としては、その径D2が1.5mm以下のツールを用いる。
In forming the notch 4, a tool having a diameter D2 smaller than the maximum width W of the notch 4 scheduled to be formed is used as the second grinding tool 3. The diameter D2 of the second grinding tool 3 is smaller than the diameter D1 of the grinding
第二の研削ツール3の外周部3aは、面取工程に用いた研削ツール1と同様にして、接着剤(例えば、メタルボンド等)によって固着された多数の砥粒で構成されている。さらに、外周部3aには、円盤状ガラス基板2の外周端部2aを研削して面取り加工が施されたノッチ4を形成するための研削溝が上下複数段に亘って形成されている。この研削溝の形状及び寸法は、研削ツール1の外周部1aに形成された研削溝9と同一な形状及び寸法に形成されている。
Similar to the grinding
以上のことから、第二の研削ツール3が軌道Sに沿って移動しながら円盤状ガラス基板2の外周端部2aを研削することにより、軌道Sに倣った形状のノッチ4が形成されると共に、当該ノッチ4に面取り加工が施され、ノッチ形成工程が完了する。
From the above, the notch 4 having a shape following the track S is formed by grinding the outer
最後に、処理工程について説明する。 Finally, the processing process will be described.
ノッチ形成工程が完了すると、円盤状ガラス基板2の外周端部2aの全周に対してエッチング処理を施す。このエッチング処理は、例えば、フッ化水素(HF)を外周端部2aに噴き付けることで行う。この処理工程が完了することにより、本実施形態に係るガラス基板の研削方法の全工程が完了する。
When the notch formation process is completed, the entire periphery of the outer
以下、上記のガラス基板の研削方法による主たる作用・効果について説明する。 Hereinafter, main actions and effects of the above glass substrate grinding method will be described.
上記のガラス基板の研削方法によれば、研削ツール1及び第二の研削ツール3を円盤状ガラス基板2の厚み方向に延びる軸線5,6を回転中心として回転させることから、円盤状ガラス基板2の外周端部2aは、研削ツール1、或いは、第二の研削ツール3によって円盤状ガラス基板2の主面(上面2c、下面2d)と平行な方向に沿って研削されることになる。そのため、研削ツール1、或いは、第二の研削ツール3から外周端部2aへと作用する力が、円盤状ガラス基板2の厚み方向に作用することを可及的に防止できる。これにより、研削ツール1による外周端部の研削中、及び、第二の研削ツール3によるノッチ4の形成中に、外周端部2aが厚み方向に沿って揺動するような事態の発生が回避される。その結果、割れや欠けが発生する等、円盤状ガラス基板2の破損を防止することが可能となる。
According to the above glass substrate grinding method, since the grinding
ここで、本発明に係るガラス基板の研削方法は、上記の実施形態で説明した態様に限定されるものではない。上記の実施形態では、面取工程の実行に研削ツールを用い、ノッチ形成工程の実行に上記研削ツールとは異なる第二の研削ツールを用いているが、面取工程の実行とノッチ形成工程の実行とに同一の研削ツールを用いてもよい。また、上記の実施形態では、位置決め部として、円盤状ガラス基板の外周端部にノッチを形成する態様となっているが、図6に示すように、位置決め部として円盤状ガラス基板2の外周端部2aにオリエンテーションフラット10を形成する態様としてもよい。
Here, the grinding method of the glass substrate which concerns on this invention is not limited to the aspect demonstrated by said embodiment. In the above embodiment, the grinding tool is used for the chamfering process and the second grinding tool different from the grinding tool is used for the notch forming process. However, the chamfering process and the notch forming process are performed. The same grinding tool may be used for execution. Moreover, in said embodiment, although it becomes the aspect which forms a notch in the outer peripheral edge part of a disk shaped glass substrate as a positioning part, as shown in FIG. 6, the outer peripheral edge of the disk shaped
さらに、上記の実施形態では、円盤状ガラス基板の外周端部を研削して面取り加工を施す面取工程を実行した後、ノッチ形成工程を実行しているが、この限りではない。面取工程を実行した後、スクライブホイールの転動、又は、レーザーの照射によって円盤状ガラス基板の外周端部にスクライブラインを形成すると共に、このスクライブラインに沿って割断を行うことで、オリエンテーションフラットを形成してもよい。この場合、形成後のオリエンテーションフラットを研削ツールで研削して面取り加工を施すことが好ましい。なお、この面取り加工に用いる研削ツールとしては、上記研削ツールや第二の研削ツールを用いてもよいし、これら以外の研削ツールを用いてもよい。そして、この面取り加工を実行する際にも、研削ツールを円盤状ガラス基板の厚み方向に延びる軸線を回転中心として回転させることが好ましい。 Furthermore, in said embodiment, after performing the chamfering process which grinds the outer peripheral edge part of a disk shaped glass substrate, and performs a chamfering process, the notch formation process is performed, However, It is not this limitation. After performing the chamfering process, a scribe line is formed on the outer peripheral edge of the disk-shaped glass substrate by rolling of the scribe wheel or laser irradiation, and the orientation flat is formed by cleaving along the scribe line. May be formed. In this case, it is preferable to chamfer the formed orientation flat by grinding it with a grinding tool. In addition, as a grinding tool used for this chamfering process, the said grinding tool and the 2nd grinding tool may be used, and grinding tools other than these may be used. And also when performing this chamfering process, it is preferable to rotate a grinding tool centering on the axis line extended in the thickness direction of a disk shaped glass substrate.
加えて、上記の実施形態の変形例として、上記研削ツールと第二の研削ツールとが、その回転軸を共有していてもよい。すなわち、両研削ツールが、例えば、軸方向に相互に離間した状態で同一の回転軸に取り付けられていてもよい。 In addition, as a modification of the above embodiment, the grinding tool and the second grinding tool may share the rotation axis. That is, both grinding tools may be attached to the same rotating shaft, for example, in a state of being separated from each other in the axial direction.
1 研削ツール
1a 外周部
1aa 外周端面
2 円盤状ガラス基板
2a 外周端部
2aa 外周端面
2b 中心
2c 上面
2d 下面
3 第二の研削ツール
3a 外周部
4 ノッチ
5 軸線
6 軸線
7 軸線
8 テーブル
8a 支持部
8aa 孔
9 研削溝
9a 底部
9b 側壁部
10 オリエンテーションフラット
A 回転方向
B 回転方向
C 旋回方向
D1 径
D2 径
F 回転方向
S 軌道
W 最大幅
DESCRIPTION OF
Claims (7)
前記研削ツールとして、前記円盤状ガラス基板の厚み方向に延びる軸線を回転中心として回転するツールを用いると共に、
前記外周端部を研削した後、
前記円盤状ガラス基板の厚み方向に延びる軸線を回転中心として回転し、且つ前記研削ツールとは異なる第二の研削ツールを用いて、
前記円盤状ガラス基板の位置決めを行うために前記外周端部の一部が除去されてなる位置決め部を、前記外周端部に形成し、
前記位置決め部が、前記円盤状ガラス基板の中心側から外周側に向かって漸次に形成幅が拡大するノッチであり、
該ノッチを形成するに際し、形成を予定した前記ノッチの最大幅よりも径の小さい前記第二の研削ツールを用い、
前記ノッチを形成する際に、前記円盤状ガラス基板を静止させた状態に固定し、
形成を予定した前記ノッチの形状に倣うV字状の軌道に沿って前記第二の研削ツールを移動させることで、前記ノッチを形成することを特徴とするガラス基板の研削方法。 A method of grinding an outer peripheral edge of a disk-shaped glass substrate by rotating a grinding tool,
As the grinding tool, a tool that rotates about the axis extending in the thickness direction of the disk-shaped glass substrate as a rotation center,
After grinding the outer peripheral edge,
Rotating the axis extending in the thickness direction before SL disk-shaped glass substrate as the center of rotation, the and the grinding tool with a different second grinding tool,
A positioning part formed by removing a part of the outer peripheral end part for positioning the disk-shaped glass substrate is formed on the outer peripheral end part ,
The positioning portion is a notch whose formation width gradually increases from the center side of the disk-shaped glass substrate toward the outer peripheral side,
When forming the notch, using the second grinding tool having a diameter smaller than the maximum width of the notch planned to be formed,
When forming the notch, fix the disk-shaped glass substrate in a stationary state,
A method for grinding a glass substrate , wherein the notch is formed by moving the second grinding tool along a V-shaped track following the shape of the notch planned to be formed .
前記円盤状ガラス基板を、その中心で厚み方向に延びる軸線を回転中心として回転させると共に、
前記研削ツールに、前記円盤状ガラス基板の回転方向に逆らって該円盤状ガラス基板の周りを旋回させることを特徴とする請求項1に記載のガラス基板の研削方法。 When grinding the outer peripheral end,
The disk-shaped glass substrate is rotated with an axis extending in the thickness direction at the center thereof as a rotation center,
The method for grinding a glass substrate according to claim 1, wherein the grinding tool is rotated around the disk-shaped glass substrate against the rotation direction of the disk-shaped glass substrate.
前記第二の研削ツールとして、研削のために該第二の研削ツールの外周部に形成された研削溝の形状及び寸法が、前記研削ツールの外周部に形成された研削溝の形状及び寸法と同一であるツールを用いることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のガラス基板の研削方法。 When chamfering the outer peripheral end part with grinding of the outer peripheral end part, and chamfering the notch when forming the notch ,
As the second grinding tool, the shape and size of the grinding groove formed on the outer peripheral portion of the second grinding tool for grinding are the shape and size of the grinding groove formed on the outer peripheral portion of the grinding tool. The same tool is used, The grinding method of the glass substrate in any one of Claims 1-4 characterized by the above-mentioned.
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