[go: up one dir, main page]

JP6578676B2 - Image reading apparatus and semiconductor device - Google Patents

Image reading apparatus and semiconductor device Download PDF

Info

Publication number
JP6578676B2
JP6578676B2 JP2015041476A JP2015041476A JP6578676B2 JP 6578676 B2 JP6578676 B2 JP 6578676B2 JP 2015041476 A JP2015041476 A JP 2015041476A JP 2015041476 A JP2015041476 A JP 2015041476A JP 6578676 B2 JP6578676 B2 JP 6578676B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
image reading
semiconductor substrate
image
light receiving
protection region
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2015041476A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2016162927A (en
Inventor
鈴木 孝文
孝文 鈴木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP2015041476A priority Critical patent/JP6578676B2/en
Publication of JP2016162927A publication Critical patent/JP2016162927A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6578676B2 publication Critical patent/JP6578676B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Image Input (AREA)
  • Facsimile Heads (AREA)
  • Facsimile Scanning Arrangements (AREA)
  • Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)

Description

本発明は、画像読取装置および半導体装置に関する。   The present invention relates to an image reading apparatus and a semiconductor device.

コンタクトイメージセンサーを用いた画像読取装置(スキャナー)や、これに印刷機能を加えたコピー機や複合プリンターなどが開発されている。画像読取装置に用いられるコンタクトイメージセンサーとしては、半導体基板に設けられたフォトダイオードを用いる構成が用いられている(特許文献1)。   An image reading device (scanner) using a contact image sensor, a copier or a composite printer having a printing function added thereto have been developed. As a contact image sensor used in an image reading apparatus, a configuration using a photodiode provided on a semiconductor substrate is used (Patent Document 1).

特開2014−13806号公報JP 2014-13806 A

コンタクトイメージセンサーの製造工程において、半導体基板を保護するために、半導体基板の表面にテープを着脱する工程が含まれる。テープの着脱の際に静電気が発生するとフォトダイオードが破壊されてしまう恐れがある。そこで、フォトダイオードを含む半導体基板の外周部には静電気保護領域を設ける必要がある。   The contact image sensor manufacturing process includes a step of attaching and detaching a tape to the surface of the semiconductor substrate in order to protect the semiconductor substrate. If static electricity is generated when the tape is attached or detached, the photodiode may be destroyed. Therefore, it is necessary to provide an electrostatic protection region on the outer periphery of the semiconductor substrate including the photodiode.

スキャナーにコンタクトイメージセンサーを用いる際、コンタクトイメージセンサーチップは複数個並べて設けられることになる。しかしながら、フォトダイオードが形成されるウェルを静電気保護領域で囲った場合には、チップを並べると、チップ間のフォトダイオードの間隔が広がってしまう。これによって、読み取り画質が劣化してしまう問題などが発生してしまう。   When a contact image sensor is used in the scanner, a plurality of contact image sensor chips are provided side by side. However, when the well in which the photodiode is formed is surrounded by an electrostatic protection region, when the chips are arranged, the distance between the photodiodes between the chips increases. This causes a problem that the read image quality deteriorates.

本発明は、以上のような技術的課題に鑑みてなされたものである。本発明のいくつかの態様によれば、静電気保護をしつつ画質劣化を低減できる、画像読取装置および半導体装置を提供することができる。   The present invention has been made in view of the above technical problems. According to some aspects of the present invention, it is possible to provide an image reading apparatus and a semiconductor device that can reduce image quality deterioration while protecting against static electricity.

本発明は前述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の態様または適用例として実現することが可能である。   SUMMARY An advantage of some aspects of the invention is to solve at least a part of the problems described above, and the invention can be implemented as the following aspects or application examples.

[適用例1]
本適用例に係る画像読取装置は、
画像を読み取るための画像読取チップを複数、1次元方向に並べて構成される画像読取装置であって、
前記画像読取チップは、
半導体基板と、
前記半導体基板のPウェル内に形成され、前記画像からの光を受けて光電変換する受光素子と、
前記半導体基板の前記Pウェル外に形成され、前記受光素子が光電変換して生成した信号から前記画像に応じた信号である画像読取信号を生成する信号変換部と、
前記半導体基板の前記Pウェル内に形成され、前記受光素子を静電気的に保護する第1保護領域と、
前記半導体基板の前記Pウェル外に形成され、前記信号変換部を静電気的に保護する第
2保護領域と、
を備え、
前記第1保護領域は、隣り合う前記画像読取チップと前記1次元方向に対向する1辺に沿って設けられている、画像読取装置である。
[Application Example 1]
The image reading apparatus according to this application example is
An image reading apparatus configured by arranging a plurality of image reading chips for reading an image in a one-dimensional direction,
The image reading chip is
A semiconductor substrate;
A light receiving element that is formed in a P well of the semiconductor substrate and photoelectrically converts light from the image;
A signal conversion unit that is formed outside the P well of the semiconductor substrate and generates an image reading signal that is a signal corresponding to the image from a signal generated by photoelectric conversion by the light receiving element;
A first protection region formed in the P well of the semiconductor substrate and electrostatically protecting the light receiving element;
A second protection region formed outside the P well of the semiconductor substrate and electrostatically protecting the signal conversion unit;
With
The first protection area is an image reading device provided along one side facing the adjacent image reading chip in the one-dimensional direction.

本適用例によれば、製造過程において、テープの着脱の際に静電気が発生しやすい、画像読取チップの端部に第1保護領域を設けることができるので、受光素子を静電気から保護できる。また、第1保護領域が受光素子と同じPウェル内に形成されているので、Pウェル外に保護領域を設ける場合に比べて、画像読取チップの端部側の受光素子から画像読取チップの端部までの距離を小さくできる。これによって、画質劣化を低減できる。したがって、静電気保護をしつつ画質劣化を低減できる画像読取装置を実現できる。   According to this application example, in the manufacturing process, the first protection region can be provided at the end of the image reading chip, which is likely to generate static electricity when the tape is attached and detached, so that the light receiving element can be protected from static electricity. In addition, since the first protection region is formed in the same P well as the light receiving element, the edge of the image reading chip from the light receiving element on the end side of the image reading chip is compared with the case where the protection region is provided outside the P well. The distance to the part can be reduced. This can reduce image quality degradation. Accordingly, it is possible to realize an image reading apparatus that can reduce image quality degradation while protecting against static electricity.

[適用例2]
上述の画像読取装置であって、
前記画像読取チップは、前記1次元方向に並んで位置する複数の前記受光素子を有してもよい。
[Application Example 2]
An image reading apparatus as described above,
The image reading chip may include a plurality of the light receiving elements positioned side by side in the one-dimensional direction.

これによって、大きな画像も読み取り可能な画像読取装置を実現できる。   As a result, an image reading apparatus capable of reading a large image can be realized.

[適用例3]
上述の画像読取装置であって、
前記半導体基板は、第1辺と、前記第1辺よりも長い第2辺と、を含む形状であり、
前記第1保護領域および前記第2保護領域の少なくとも一方は、前記第1辺に沿って形成されていてもよい。
[Application Example 3]
An image reading apparatus as described above,
The semiconductor substrate has a shape including a first side and a second side longer than the first side,
At least one of the first protection region and the second protection region may be formed along the first side.

製造過程においてテープを剥がす際には、第2辺に沿う方向にテープを剥がすのが一般的である。このような場合には、テープが最後に剥がれるのが第1辺側になるので、第1辺側の受光素子と信号変換部を構成する回路素子とが静電気の影響を受けやすい。   When the tape is peeled off during the manufacturing process, the tape is generally peeled off in the direction along the second side. In such a case, since the tape is finally peeled off on the first side, the light receiving element on the first side and the circuit elements constituting the signal conversion unit are easily affected by static electricity.

本適用例によれば、第1保護領域と第2保護領域との少なくとも一方は、第1辺に沿って形成されているので、受光素子および信号変換部を構成する回路素子の少なくとも一方を効果的に静電気から保護できる。   According to this application example, since at least one of the first protection region and the second protection region is formed along the first side, at least one of the light receiving element and the circuit element constituting the signal conversion unit is effective. Can be protected from static electricity.

[適用例4]
上述の画像読取装置であって、
前記第1保護領域は、P型の拡散領域で形成され、
前記第2保護領域は、N型の拡散領域で形成されていてもよい。
[Application Example 4]
An image reading apparatus as described above,
The first protection region is formed of a P-type diffusion region,
The second protection region may be formed of an N type diffusion region.

本適用例によれば、簡易な構成で受光素子および信号変換部を構成する回路素子を効果的に静電気から保護できる。   According to this application example, the circuit elements constituting the light receiving element and the signal conversion unit can be effectively protected from static electricity with a simple configuration.

[適用例5]
上述の画像読取装置であって、
前記第1保護領域および前記第2保護領域の少なくとも一方は、金属配線と電気的に接続されていてもよい。
[Application Example 5]
An image reading apparatus as described above,
At least one of the first protection region and the second protection region may be electrically connected to a metal wiring.

本適用例によれば、第1保護領域および第2保護領域を拡散領域のみで構成する場合よりもさらに効果的に、受光素子および信号変換部を構成する回路素子を効果的に静電気から保護できる。   According to this application example, the circuit elements constituting the light receiving element and the signal conversion unit can be effectively protected from static electricity more effectively than the case where the first protection region and the second protection region are configured only by the diffusion region. .

[適用例6]
本適用例に係る半導体装置は、
画像を読み取るための半導体装置であって、
半導体基板と、
前記半導体基板のPウェル内に形成され、前記画像からの光を受けて光電変換する受光素子と、
前記半導体基板の前記Pウェル外に形成され、前記受光素子が光電変換して生成した信号から前記画像に応じた信号である画像読取信号を生成する信号変換部と、
前記半導体基板の前記Pウェル内に形成され、前記受光素子を静電気的に保護する第1保護領域と、
前記半導体基板の前記Pウェル外に形成され、前記信号変換部を静電気的に保護する第2保護領域と、
を備え、
前記半導体基板は、第1辺と、前記第1辺よりも長い第2辺と、を含む形状であり、
前記第1保護領域と前記第2保護領域との少なくとも一方は、前記第1辺に沿って形成されている、半導体装置である。
[Application Example 6]
The semiconductor device according to this application example is
A semiconductor device for reading an image,
A semiconductor substrate;
A light receiving element that is formed in a P well of the semiconductor substrate and photoelectrically converts light from the image;
A signal conversion unit that is formed outside the P well of the semiconductor substrate and generates an image reading signal that is a signal corresponding to the image from a signal generated by photoelectric conversion by the light receiving element;
A first protection region formed in the P well of the semiconductor substrate and electrostatically protecting the light receiving element;
A second protection region formed outside the P well of the semiconductor substrate and electrostatically protecting the signal conversion unit;
With
The semiconductor substrate has a shape including a first side and a second side longer than the first side,
At least one of the first protection region and the second protection region is a semiconductor device formed along the first side.

本適用例によれば、製造過程において、テープの着脱の際に静電気が発生しやすい、画像読取チップの端部に第1保護領域を設けることができるので、受光素子を静電気から保護できる。また、第1保護領域が受光素子と同じPウェル内に形成されているので、Pウェル外に保護領域を設ける場合に比べて、画像読取チップの端部側の受光素子から画像読取チップの端部までの距離を小さくできる。これによって、画像読取装置に適用した場合に、画質劣化を低減できる。したがって、静電気保護をしつつ画質劣化を低減できる半導体装置を実現できる。   According to this application example, in the manufacturing process, the first protection region can be provided at the end of the image reading chip, which is likely to generate static electricity when the tape is attached and detached, so that the light receiving element can be protected from static electricity. In addition, since the first protection region is formed in the same P well as the light receiving element, the edge of the image reading chip from the light receiving element on the end side of the image reading chip is compared with the case where the protection region is provided outside the P well. The distance to the part can be reduced. This can reduce image quality degradation when applied to an image reading apparatus. Therefore, it is possible to realize a semiconductor device capable of reducing image quality deterioration while protecting against static electricity.

また、製造過程においてテープを剥がす際には、第2辺に沿う方向にテープを剥がすのが一般的である。このような場合には、テープが最後に剥がれるのが第1辺側になるので、第1辺側の受光素子と信号変換部を構成する回路素子とが静電気の影響を受けやすい。   Moreover, when peeling a tape in a manufacturing process, it is common to peel a tape in the direction in alignment with a 2nd side. In such a case, since the tape is finally peeled off on the first side, the light receiving element on the first side and the circuit elements constituting the signal conversion unit are easily affected by static electricity.

本適用例によれば、第1保護領域と第2保護領域との少なくとも一方は、第1辺に沿って形成されているので、受光素子および信号変換部を構成する回路素子の少なくとも一方を効果的に静電気から保護できる。   According to this application example, since at least one of the first protection region and the second protection region is formed along the first side, at least one of the light receiving element and the circuit element constituting the signal conversion unit is effective. Can be protected from static electricity.

本実施形態に係る複合機を示した外観斜視図である。1 is an external perspective view showing a multifunction machine according to an embodiment. スキャナーユニットの内部構造を示した斜視図である。It is the perspective view which showed the internal structure of the scanner unit. イメージセンサーの構成を模式的に示す分解斜視図である。It is a disassembled perspective view which shows the structure of an image sensor typically. 画像読取チップの配置を模式的に示す平面図である。It is a top view which shows typically arrangement | positioning of an image reading chip | tip. 画像読取チップのレイアウト構成の概要を模式的に示す平面図である。It is a top view which shows typically the outline | summary of the layout structure of an image reading chip | tip. 第1実施形態における画像読取チップの隣接部近傍を模式的に示す拡大平面図である。FIG. 3 is an enlarged plan view schematically showing the vicinity of an adjacent portion of the image reading chip in the first embodiment. 図6のA−A線における断面図である。It is sectional drawing in the AA of FIG. 静電気に対する保護が必要となる理由を説明するための模式図である。It is a schematic diagram for demonstrating the reason the protection with respect to static electricity is needed. 第2実施形態における画像読取チップ415の隣接部近傍を模式的に示す拡大平面図である。FIG. 10 is an enlarged plan view schematically showing the vicinity of an adjacent portion of an image reading chip 415 in a second embodiment. 第3実施形態における画像読取チップ415を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically the image reading chip | tip 415 in 3rd Embodiment.

以下、本発明の好適な実施形態について図面を用いて詳細に説明する。用いる図面は説
明の便宜上のものである。なお、以下に説明する実施形態は、特許請求の範囲に記載された本発明の内容を不当に限定するものではない。また以下で説明される構成の全てが本発明の必須構成要件であるとは限らない。
DESCRIPTION OF EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The drawings used are for convenience of explanation. The embodiments described below do not unduly limit the contents of the present invention described in the claims. Also, not all of the configurations described below are essential constituent requirements of the present invention.

1.第1実施形態
以下、添付した図面を参照して、本発明の画像読取装置を適用した複合機(複合装置)1について説明する。図1は、複合機1を示した外観斜視図である。図1に示すように、複合機1は、装置本体であるプリンターユニット(画像記録装置:第1装置)2と、プリンターユニット2の上部に配設されたアッパーユニットであるスキャナーユニット(画像読取装置:第2装置)3と、を一体に備えている。なお、以下、図1においての前後方向をX軸方向とし、左右方向をY軸方向として説明する。
1. First Embodiment A multi-function device (multi-function device) 1 to which an image reading device of the present invention is applied will be described below with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is an external perspective view showing the multifunction device 1. As shown in FIG. 1, the multifunction machine 1 includes a printer unit (image recording apparatus: first apparatus) 2 that is an apparatus main body, and a scanner unit (image reading apparatus) that is an upper unit disposed on the printer unit 2. : A second device) 3. In the following description, it is assumed that the front-rear direction in FIG. 1 is the X-axis direction and the left-right direction is the Y-axis direction.

図1に示されるように、プリンターユニット2は、枚葉の記録媒体(印刷用紙や単票紙)を送り経路に沿って送る搬送部(不図示)と、送り経路の上方に配設され、記録媒体にインクジェット方式で印刷処理を行う印刷部(不図示)と、前面に配設されたパネル形式の操作部63と、搬送部、印刷部および操作部63を搭載した装置フレーム(不図示)と、これらを覆う装置ハウジング65と、を備えている。装置ハウジング65には、印刷を終えた記録媒体が排出される排出口66が設けられている。また、図示省略するが、後面下部には、USBポートおよび電源ポートが配設されている。すなわち、複合機1は、USBポートを介してコンピューター等に接続可能に構成されている。   As shown in FIG. 1, the printer unit 2 is disposed above a feeding path (not shown) that feeds a sheet recording medium (printing paper or cut sheet) along a feeding path, An apparatus frame (not shown) on which a printing unit (not shown) that performs printing processing on a recording medium by an inkjet method, a panel-type operation unit 63 disposed on the front surface, and a transport unit, a printing unit, and an operation unit 63 are mounted. And a device housing 65 covering these. The apparatus housing 65 is provided with a discharge port 66 through which the recording medium after printing is discharged. Although not shown, a USB port and a power supply port are provided at the bottom of the rear surface. That is, the multifunction device 1 is configured to be connectable to a computer or the like via a USB port.

スキャナーユニット3は、後端部のヒンジ部4を介してプリンターユニット2に回動自在に支持されており、プリンターユニット2の上部を開閉自在に覆っている。すなわち、スキャナーユニット3を回動方向に引き上げることで、プリンターユニット2の上面開口部を露出させ、当該上面開口部を介して、プリンターユニット2の内部が露出させる。一方、スキャナーユニット3を回動方向に引き降ろし、プリンターユニット2上に載置することで、スキャナーユニット3によって当該上面開口部を閉塞する。このように、スキャナーユニット3を開放することで、インクカートリッジの交換や紙詰まりの解消等が可能な構成となっている。   The scanner unit 3 is rotatably supported by the printer unit 2 via a hinge 4 at the rear end portion, and covers the upper part of the printer unit 2 so as to be freely opened and closed. That is, by pulling up the scanner unit 3 in the rotation direction, the upper surface opening of the printer unit 2 is exposed, and the inside of the printer unit 2 is exposed through the upper surface opening. On the other hand, the scanner unit 3 is pulled down in the rotation direction and placed on the printer unit 2, so that the scanner unit 3 closes the upper surface opening. As described above, by opening the scanner unit 3, it is possible to replace the ink cartridge, clear a paper jam, and the like.

図2は、スキャナーユニット3の内部構造を示した斜視図である。図1および図2に示されるように、スキャナーユニット3は、筐体であるアッパーフレーム11と、アッパーフレーム11に収容された画像読取部12と、アッパーフレーム11の上部に回動自在に支持された上蓋13と、を備えている。図2に示すように、アッパーフレーム11は、画像読取部12を収容する箱型の下ケース16と、下ケース16の天面を覆う上ケース17と、を備えている。上ケース17には、ガラス製の原稿載置板(原稿台;不図示)が広く配設されており、被読取面を下にした被読取媒体(原稿)をこれに載置する。一方、下ケース16は、上面を開放した浅い箱状に形成されている。   FIG. 2 is a perspective view showing the internal structure of the scanner unit 3. As shown in FIGS. 1 and 2, the scanner unit 3 is rotatably supported on an upper frame 11 that is a housing, an image reading unit 12 housed in the upper frame 11, and an upper portion of the upper frame 11. And an upper lid 13. As shown in FIG. 2, the upper frame 11 includes a box-shaped lower case 16 that houses the image reading unit 12, and an upper case 17 that covers the top surface of the lower case 16. In the upper case 17, a glass document placing plate (document table; not shown) is widely arranged, and a medium to be read (document) with a reading surface facing down is placed thereon. On the other hand, the lower case 16 is formed in a shallow box shape with the upper surface opened.

図2に示されるように、画像読取部12は、ラインセンサー方式のセンサーユニット31と、センサーユニット31を搭載したセンサーキャリッジ32と、Y軸方向に延在し、センサーキャリッジ32をスライド自在に支持するガイド軸33と、センサーキャリッジ32をガイド軸33に沿って移動する自走式のセンサー移動機構34と、を備えている。センサーユニット31は、X軸方向に延在したCMOS(Complementary metal−oxide−semiconductor)ラインセンサーであるイメージセンサー(センサー部)41を有し、モーター駆動のセンサー移動機構34により、ガイド軸33に沿ってY軸方向に往復動する。これにより、原稿載置板上の被読取媒体(原稿)の画像を読み取るようになっている。なお、センサーユニット31は、CCD(Charge Coupled Device)ラインセンサーであってもよい。   As shown in FIG. 2, the image reading unit 12 includes a line sensor type sensor unit 31, a sensor carriage 32 on which the sensor unit 31 is mounted, and extends in the Y-axis direction, and supports the sensor carriage 32 in a slidable manner. And a self-propelled sensor moving mechanism 34 that moves the sensor carriage 32 along the guide shaft 33. The sensor unit 31 includes an image sensor (sensor unit) 41 that is a complementary metal-oxide-semiconductor (CMOS) line sensor extending in the X-axis direction, and is moved along the guide shaft 33 by a motor-driven sensor moving mechanism 34. Reciprocate in the Y-axis direction. As a result, the image of the medium to be read (original) on the original placement plate is read. The sensor unit 31 may be a CCD (Charge Coupled Device) line sensor.

図3は、イメージセンサー41の構成を模式的に示す分解斜視図である。図3に示される例では、イメージセンサー41は、ケース411、光源412、レンズ413、モジュール基板414および画像を読み取るための画像読取チップ415(半導体装置)を含んで構成されている。光源412、レンズ413および画像読取チップ415は、ケース411とモジュール基板414との間に収容されている。ケース411にはスリットが設けられている。光源412が発する光は当該スリットを介して被読取媒体へ照射され、被読取媒体からの反射光は当該スリットを介してレンズ413に入力される。レンズ413は、入力された光を画像読取チップ415へと導く。   FIG. 3 is an exploded perspective view schematically showing the configuration of the image sensor 41. In the example shown in FIG. 3, the image sensor 41 includes a case 411, a light source 412, a lens 413, a module substrate 414, and an image reading chip 415 (semiconductor device) for reading an image. The light source 412, the lens 413, and the image reading chip 415 are accommodated between the case 411 and the module substrate 414. The case 411 is provided with a slit. Light emitted from the light source 412 is applied to the read medium through the slit, and reflected light from the read medium is input to the lens 413 through the slit. The lens 413 guides the input light to the image reading chip 415.

図4は、画像読取チップ415の配置を模式的に示す平面図である。図4に示されるように、複数の画像読取チップ415が、モジュール基板414上に1次元方向(図4においてはX軸方向)に並べて配置されている。これによって、大きな画像も読み取り可能なスキャナーユニット3(画像読取装置)を実現できる。   FIG. 4 is a plan view schematically showing the arrangement of the image reading chip 415. As shown in FIG. 4, a plurality of image reading chips 415 are arranged on the module substrate 414 in a one-dimensional direction (X-axis direction in FIG. 4). Thereby, the scanner unit 3 (image reading apparatus) capable of reading a large image can be realized.

図5は、画像読取チップ415のレイアウト構成の概要を模式的に示す平面図である。図5に示される例では、画像読取チップ415は、半導体基板4150上に、画像からの光を受けて光電変換する複数の受光素子416と、受光素子416が光電変換して生成した信号から画像に応じた信号である画像読取信号を生成する信号変換部417と、を有している。画像読取信号は、アナログ信号であってもデジタルデータ信号であってもよい。信号変換部417は、それぞれの受光素子416からの信号に基づく画像読取信号をシリアルに出力してもよい。   FIG. 5 is a plan view schematically showing an outline of the layout configuration of the image reading chip 415. In the example illustrated in FIG. 5, the image reading chip 415 includes, on a semiconductor substrate 4150, a plurality of light receiving elements 416 that receive light from an image and perform photoelectric conversion, and an image from a signal generated by photoelectric conversion by the light receiving element 416. And a signal conversion unit 417 that generates an image reading signal that is a signal corresponding to the signal. The image reading signal may be an analog signal or a digital data signal. The signal conversion unit 417 may serially output an image reading signal based on the signal from each light receiving element 416.

図5に示されるように、画像読取チップ415は、1次元方向(図5ではX軸方向)に並んで位置する複数の受光素子416を有している。これによって、大きな画像も読み取り可能なスキャナーユニット3(画像読取装置)を実現できる。   As shown in FIG. 5, the image reading chip 415 includes a plurality of light receiving elements 416 positioned side by side in a one-dimensional direction (X-axis direction in FIG. 5). Thereby, the scanner unit 3 (image reading apparatus) capable of reading a large image can be realized.

図5に示されるように、半導体基板4150は、第1辺4151と、第1辺4151よりも長い第2辺4152と、を含む形状である。図5に示される例では、Y軸に沿う方向が第1辺4151であり、Y軸と直交するX軸に沿う方向が第2辺4152である。   As shown in FIG. 5, the semiconductor substrate 4150 has a shape including a first side 4151 and a second side 4152 longer than the first side 4151. In the example shown in FIG. 5, the direction along the Y axis is the first side 4151, and the direction along the X axis orthogonal to the Y axis is the second side 4152.

図6は、第1実施形態における画像読取チップ415の隣接部近傍を模式的に示す拡大平面図である。図7は、図6のA−A線における断面図である。図7において、信号変換部417は省略されている。   FIG. 6 is an enlarged plan view schematically showing the vicinity of the adjacent portion of the image reading chip 415 in the first embodiment. 7 is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. In FIG. 7, the signal conversion unit 417 is omitted.

図6および図7に示されるように、半導体基板4150はN型の半導体基板であり、Pウェル500(P型のウェル)が形成されている。受光素子416は、Pウェル500内に形成されている。信号変換部417は、Pウェル500外に形成されている。なお、信号変換部417は、Pウェル500以外のPウェルを含んで構成されていてもよい。   As shown in FIGS. 6 and 7, the semiconductor substrate 4150 is an N-type semiconductor substrate, and a P-well 500 (P-type well) is formed. The light receiving element 416 is formed in the P well 500. The signal conversion unit 417 is formed outside the P well 500. The signal conversion unit 417 may include a P well other than the P well 500.

図6および図7に示されるように、画像読取チップ415は、半導体基板4150のPウェル500内に形成され、受光素子416を静電気的に保護する第1保護領域501と、半導体基板4150のPウェル500外に形成され、信号変換部417を静電気的に保護する第2保護領域502と、を備えている。また、第1保護領域501は、隣り合う画像読取チップ415と1次元方向(X軸方向)に対向する1辺(第1辺4151)に沿って設けられている。図6に示される例では、X軸方向の端部の受光素子416から画像読取チップ415の端部までの間には、第1保護領域501は存在するが、第2保護領域502は存在しないように構成されている。また、図6に示される例では、第1保護領域501および第2保護領域502は、画像読取チップ415の第1辺4151に沿う端部のみならず、画像読取チップ415の第2辺4152に沿う端部にも設けられている。   As shown in FIGS. 6 and 7, the image reading chip 415 is formed in the P well 500 of the semiconductor substrate 4150, and includes a first protection region 501 that electrostatically protects the light receiving element 416 and a P of the semiconductor substrate 4150. And a second protection region 502 formed outside the well 500 and electrostatically protecting the signal conversion unit 417. The first protection region 501 is provided along one side (first side 4151) facing the adjacent image reading chip 415 in the one-dimensional direction (X-axis direction). In the example shown in FIG. 6, the first protection region 501 exists but the second protection region 502 does not exist between the light receiving element 416 at the end in the X-axis direction and the end of the image reading chip 415. It is configured as follows. In the example shown in FIG. 6, the first protection area 501 and the second protection area 502 are not only on the end portion along the first side 4151 of the image reading chip 415 but also on the second side 4152 of the image reading chip 415. It is also provided at the end along.

図8は、静電気に対する保護が必要となる理由を説明するための模式図である。画像読取チップ415は、ウエハー上に形成されてからモジュール基板414上に実装されるまでの製造過程において、画像読取チップ415の表面を保護するための樹脂製のテープ600を貼ったり、テープ600を剥がしたりする工程が含まれる。テープ600を剥がすと、画像読取チップ415の表面は+に帯電し、テープ600は−に帯電する傾向がある。そのため、テープ600を剥がす際には、テープ600が最後に離れる画像読取チップ415の端部において、静電気による電流が流れ、受光素子416や、信号変換部417を構成する回路素子にダメージを与える可能性がある。   FIG. 8 is a schematic diagram for explaining the reason why protection against static electricity is necessary. The image reading chip 415 is affixed with a resin tape 600 for protecting the surface of the image reading chip 415 or is attached to the tape 600 in a manufacturing process from formation on the wafer to mounting on the module substrate 414. The process of peeling off is included. When the tape 600 is peeled off, the surface of the image reading chip 415 tends to be positively charged, and the tape 600 tends to be negatively charged. Therefore, when the tape 600 is peeled off, a current due to static electricity flows at the end of the image reading chip 415 where the tape 600 is finally separated, and the light receiving element 416 and the circuit elements constituting the signal converting unit 417 can be damaged. There is sex.

本実施形態によれば、製造過程において、テープ600の着脱の際に静電気が発生しやすい、画像読取チップ415の端部に第1保護領域501を設けることができるので、受光素子416を静電気から保護できる。また、第1保護領域501が受光素子416と同じPウェル500内に形成されているので、Pウェル500外に保護領域を設ける場合に比べて、画像読取チップ415の端部側の受光素子416から画像読取チップ415の端部までの距離を小さくできる。これによって、画質劣化を低減できる。したがって、静電気保護をしつつ画質劣化を低減できる画像読取装置(スキャナーユニット3)を実現できる。また、第2保護領域502を有することによって、信号変換部417を静電気から保護できる。   According to the present embodiment, in the manufacturing process, the first protection region 501 can be provided at the end of the image reading chip 415 that is likely to generate static electricity when the tape 600 is attached / detached. Can protect. Further, since the first protection region 501 is formed in the same P well 500 as the light receiving element 416, the light receiving element 416 on the end side of the image reading chip 415 is compared with the case where a protection region is provided outside the P well 500. To the edge of the image reading chip 415 can be reduced. This can reduce image quality degradation. Therefore, it is possible to realize an image reading apparatus (scanner unit 3) that can reduce image quality deterioration while protecting against static electricity. Further, by including the second protection region 502, the signal conversion unit 417 can be protected from static electricity.

図6に示されるように、第1保護領域501および第2保護領域502の少なくとも一方は、第1辺4151に沿って形成されていてもよい。図6に示される例では、第1保護領域501および第2保護領域502は、第1辺4151に沿って形成されている。   As shown in FIG. 6, at least one of the first protection region 501 and the second protection region 502 may be formed along the first side 4151. In the example shown in FIG. 6, the first protection region 501 and the second protection region 502 are formed along the first side 4151.

図8に示される製造過程においてテープ600を剥がす際には、第1辺4151より長い辺である第2辺4152に沿う方向にテープ600を剥がすのが一般的である。このような場合には、テープ600が最後に剥がれるのが第1辺4151側になるので、第1辺4151側の受光素子416と信号変換部417を構成する回路素子とが静電気の影響を受けやすい。   When the tape 600 is peeled off in the manufacturing process shown in FIG. 8, the tape 600 is generally peeled off in a direction along the second side 4152 which is a side longer than the first side 4151. In such a case, since the tape 600 is peeled off last on the first side 4151 side, the light receiving element 416 on the first side 4151 side and the circuit elements constituting the signal conversion unit 417 are affected by static electricity. Cheap.

本実施形態によれば、第1保護領域501と第2保護領域502との少なくとも一方は、第1辺4151に沿って形成されているので、受光素子416および信号変換部417を構成する回路素子の少なくとも一方を効果的に静電気から保護できる画像読取装置(スキャナーユニット3)および半導体装置(画像読取チップ415)を実現できる。   According to the present embodiment, since at least one of the first protection region 501 and the second protection region 502 is formed along the first side 4151, the circuit elements constituting the light receiving element 416 and the signal conversion unit 417. An image reading device (scanner unit 3) and a semiconductor device (image reading chip 415) that can effectively protect at least one of these from static electricity can be realized.

本実施形態において、第1保護領域501は、P型の拡散領域で形成され、第2保護領域502は、N型の拡散領域で形成されていてもよい。第1保護領域501および第2保護領域502は、不純物濃度を高めて周囲よりも導電性を高く構成することが好ましい。   In the present embodiment, the first protection region 501 may be formed of a P-type diffusion region, and the second protection region 502 may be formed of an N-type diffusion region. The first protective region 501 and the second protective region 502 are preferably configured to have higher conductivity than the surroundings by increasing the impurity concentration.

本実施形態によれば、簡易な構成で受光素子416および信号変換部417を構成する回路素子を効果的に静電気から保護できる画像読取装置(スキャナーユニット3)および半導体装置(画像読取チップ415)を実現できる。   According to the present embodiment, an image reading device (scanner unit 3) and a semiconductor device (image reading chip 415) that can effectively protect circuit elements constituting the light receiving element 416 and the signal conversion unit 417 from static electricity with a simple configuration. realizable.

2.第2実施形態
図9は、第2実施形態における画像読取チップ415の隣接部近傍を模式的に示す拡大平面図である。なお、第1実施形態と同様の構成には同一の符号を付し、詳細な説明を省略する。
2. Second Embodiment FIG. 9 is an enlarged plan view schematically showing the vicinity of an adjacent portion of an image reading chip 415 in a second embodiment. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the structure similar to 1st Embodiment, and detailed description is abbreviate | omitted.

図9に示される例では、第2保護領域502は、画像読取チップ415の第1辺4151に沿う端部のみに設けられ、画像読取チップ415の第2辺4152に沿う端部には設けられていない。   In the example shown in FIG. 9, the second protection region 502 is provided only at the end portion along the first side 4151 of the image reading chip 415, and is provided at the end portion along the second side 4152 of the image reading chip 415. Not.

上述のように、図8に示される製造過程においてテープ600を剥がす際には、第1辺4151より長い辺である第2辺4152に沿う方向にテープ600を剥がすのが一般的である。このような場合には、テープ600が最後に剥がれるのが第1辺4151側になるので、第1辺4151側の信号変換部417を構成する回路素子が静電気の影響を受けやすい。   As described above, when the tape 600 is peeled off in the manufacturing process shown in FIG. 8, the tape 600 is generally peeled off in the direction along the second side 4152 that is longer than the first side 4151. In such a case, since the tape 600 is peeled off last on the first side 4151 side, the circuit elements constituting the signal conversion unit 417 on the first side 4151 side are easily affected by static electricity.

本実施形態においても、第2保護領域502は、画像読取チップ415の第1辺4151に沿う端部に設けられているので、信号変換部417を構成する回路素子を効果的に静電気から保護できる。   Also in this embodiment, since the second protection region 502 is provided at the end along the first side 4151 of the image reading chip 415, the circuit elements constituting the signal conversion unit 417 can be effectively protected from static electricity. .

また、本実施形態においても、第1実施形態と同様の理由により、同様の効果を奏する。   Also in this embodiment, the same effect is produced for the same reason as in the first embodiment.

3.第3実施形態
図10は、第3実施形態における画像読取チップ415を模式的に示す断面図である。図10は、第1実施形態における図7に相当する図である。なお、第1実施形態と同様の構成には同一の符号を付し、詳細な説明を省略する。
3. Third Embodiment FIG. 10 is a cross-sectional view schematically showing an image reading chip 415 in a third embodiment. FIG. 10 is a diagram corresponding to FIG. 7 in the first embodiment. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the structure similar to 1st Embodiment, and detailed description is abbreviate | omitted.

本実施形態においては、第1保護領域501および第2保護領域502の少なくとも一方は、金属配線と電気的に接続されていてもよい。図10に示される例では、第1保護領域501は、コンタクトホール505を介して金属配線503と電気的に接続されている。また、第2保護領域502は、コンタクトホール506を介して金属配線504と電気的に接続されている。金属配線503および金属配線504は、さらに静電気保護素子(不図示)に電気的に接続されていてもよい。金属配線503および金属配線504を設けることによって、第1保護領域501および第2保護領域502の抵抗値を下げることができるので、静電気をさらに逃がしやすくなる。   In the present embodiment, at least one of the first protection region 501 and the second protection region 502 may be electrically connected to the metal wiring. In the example shown in FIG. 10, the first protection region 501 is electrically connected to the metal wiring 503 through the contact hole 505. The second protection region 502 is electrically connected to the metal wiring 504 through the contact hole 506. The metal wiring 503 and the metal wiring 504 may be further electrically connected to an electrostatic protection element (not shown). By providing the metal wiring 503 and the metal wiring 504, the resistance values of the first protection region 501 and the second protection region 502 can be lowered, so that static electricity can be more easily released.

本実施形態によれば、第1保護領域501および第2保護領域502を拡散領域のみで構成する場合よりもさらに効果的に、受光素子416および信号変換部417を構成する回路素子を効果的に静電気から保護できる画像読取装置(スキャナーユニット3)および半導体装置(画像読取チップ415)を実現できる。   According to the present embodiment, the circuit elements that constitute the light receiving element 416 and the signal conversion unit 417 are more effective than the case where the first protection region 501 and the second protection region 502 are configured only by the diffusion region. An image reading device (scanner unit 3) and a semiconductor device (image reading chip 415) that can be protected from static electricity can be realized.

以上、本実施形態あるいは変形例について説明したが、本発明はこれら本実施形態あるいは変形例に限られるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々の態様で実施することが可能である。   As mentioned above, although this embodiment or the modification was demonstrated, this invention is not limited to these this embodiment or a modification, It is possible to implement in a various aspect in the range which does not deviate from the summary.

本発明は、実施形態で説明した構成と実質的に同一の構成(例えば、機能、方法および結果が同一の構成、あるいは目的および効果が同一の構成)を含む。また、本発明は、実施形態で説明した構成の本質的でない部分を置き換えた構成を含む。また、本発明は、実施形態で説明した構成と同一の作用効果を奏する構成または同一の目的を達成することができる構成を含む。また、本発明は、実施形態で説明した構成に公知技術を付加した構成を含む。   The present invention includes configurations that are substantially the same as the configurations described in the embodiments (for example, configurations that have the same functions, methods, and results, or configurations that have the same objects and effects). In addition, the invention includes a configuration in which a non-essential part of the configuration described in the embodiment is replaced. In addition, the present invention includes a configuration that achieves the same effect as the configuration described in the embodiment or a configuration that can achieve the same object. In addition, the invention includes a configuration in which a known technique is added to the configuration described in the embodiment.

1…複合機、2…プリンターユニット、3…スキャナーユニット、4…ヒンジ部、11…アッパーフレーム、12…画像読取部、13…上蓋、16…下ケース、17…上ケース、31…センサーユニット、32…センサーキャリッジ、33…ガイド軸、34…センサー移動機構、41…イメージセンサー、63…操作部、65…装置ハウジング、66…排出口、411…ケース、412…光源、413…レンズ、414…モジュール基板、415
…画像読取チップ、416…受光素子、417…信号変換部、500…Pウェル、501…第1保護領域、502…第2保護領域、503,504…金属配線、505,506…コンタクトホール、600…テープ、4150…半導体基板、4151…第1辺、4152…第2辺
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... MFP, 2 ... Printer unit, 3 ... Scanner unit, 4 ... Hinge part, 11 ... Upper frame, 12 ... Image reading part, 13 ... Upper lid, 16 ... Lower case, 17 ... Upper case, 31 ... Sensor unit, 32 ... sensor carriage, 33 ... guide shaft, 34 ... sensor moving mechanism, 41 ... image sensor, 63 ... operating unit, 65 ... device housing, 66 ... discharge port, 411 ... case, 412 ... light source, 413 ... lens, 414 ... Module board, 415
... image reading chip, 416 ... light receiving element, 417 ... signal conversion unit, 500 ... P well, 501 ... first protection area, 502 ... second protection area, 503, 504 ... metal wiring, 505, 506 ... contact hole, 600 ... Tape, 4150 ... Semiconductor substrate, 4151 ... First side, 4152 ... Second side

Claims (6)

画像を読み取るための画像読取チップを複数、1次元方向に並べて構成される画像読取装置であって、
前記画像読取チップは、
半導体基板と、
前記半導体基板のPウェル内に形成され、前記画像からの光を受けて光電変換する受光素子と、
前記半導体基板の前記Pウェル外に形成され、前記受光素子が光電変換して生成した信号から前記画像に応じた信号である画像読取信号を生成する信号変換部と、
前記半導体基板の前記Pウェル内に形成され、前記受光素子を静電気的に保護する第1保護領域と、
前記半導体基板の前記Pウェル外に形成され、前記信号変換部を静電気的に保護する第2保護領域と、
を備え、
前記第1保護領域は、隣り合う前記画像読取チップと前記1次元方向に対向する1辺に沿って設けられている、画像読取装置。
An image reading apparatus configured by arranging a plurality of image reading chips for reading an image in a one-dimensional direction,
The image reading chip is
A semiconductor substrate;
A light receiving element that is formed in a P well of the semiconductor substrate and photoelectrically converts light from the image;
A signal conversion unit that is formed outside the P well of the semiconductor substrate and generates an image reading signal that is a signal corresponding to the image from a signal generated by photoelectric conversion by the light receiving element;
A first protection region formed in the P well of the semiconductor substrate and electrostatically protecting the light receiving element;
A second protection region formed outside the P well of the semiconductor substrate and electrostatically protecting the signal conversion unit;
With
The image reading apparatus, wherein the first protection region is provided along one side facing the adjacent image reading chip in the one-dimensional direction.
請求項1記載の画像読取装置であって、
前記画像読取チップは、前記1次元方向に並んで位置する複数の前記受光素子を有する、画像読取装置。
The image reading apparatus according to claim 1,
The image reading chip, wherein the image reading chip has a plurality of the light receiving elements located side by side in the one-dimensional direction.
請求項1または2に記載の画像読取装置であって、
前記半導体基板は、第1辺と、前記第1辺よりも長い第2辺と、を含む形状であり、
前記第1保護領域および前記第2保護領域の少なくとも一方は、前記第1辺に沿って形成されている、画像読取装置。
The image reading apparatus according to claim 1, wherein:
The semiconductor substrate has a shape including a first side and a second side longer than the first side,
At least one of the first protection area and the second protection area is an image reading device formed along the first side.
請求項1ないし3のいずれか1項に記載の画像読取装置であって、
前記第1保護領域は、P型の拡散領域で形成され、
前記第2保護領域は、N型の拡散領域で形成されている、画像読取装置。
The image reading apparatus according to any one of claims 1 to 3,
The first protection region is formed of a P-type diffusion region,
The image reading apparatus, wherein the second protection area is formed of an N-type diffusion area.
請求項4に記載の画像読取装置であって、
前記第1保護領域および前記第2保護領域の少なくとも一方は、金属配線と電気的に接続されている、画像読取装置。
The image reading apparatus according to claim 4,
An image reading apparatus, wherein at least one of the first protection area and the second protection area is electrically connected to a metal wiring.
画像を読み取るための半導体装置であって、
半導体基板と、
前記半導体基板のPウェル内に形成され、前記画像からの光を受けて光電変換する受光素子と、
前記半導体基板の前記Pウェル外に形成され、前記受光素子が光電変換して生成した信号から前記画像に応じた信号である画像読取信号を生成する信号変換部と、
前記半導体基板の前記Pウェル内に形成され、前記受光素子を静電気的に保護する第1保護領域と、
前記半導体基板の前記Pウェル外に形成され、前記信号変換部を静電気的に保護する第2保護領域と、
を備え、
前記半導体基板は、第1辺と、前記第1辺よりも長い第2辺と、を含む形状であり、
前記第1保護領域と前記第2保護領域との少なくとも一方は、前記第1辺に沿って形成されている、半導体装置。
A semiconductor device for reading an image,
A semiconductor substrate;
A light receiving element that is formed in a P well of the semiconductor substrate and photoelectrically converts light from the image;
A signal conversion unit that is formed outside the P well of the semiconductor substrate and generates an image reading signal that is a signal corresponding to the image from a signal generated by photoelectric conversion by the light receiving element;
A first protection region formed in the P well of the semiconductor substrate and electrostatically protecting the light receiving element;
A second protection region formed outside the P well of the semiconductor substrate and electrostatically protecting the signal conversion unit;
With
The semiconductor substrate has a shape including a first side and a second side longer than the first side,
At least one of the first protection region and the second protection region is a semiconductor device formed along the first side.
JP2015041476A 2015-03-03 2015-03-03 Image reading apparatus and semiconductor device Expired - Fee Related JP6578676B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015041476A JP6578676B2 (en) 2015-03-03 2015-03-03 Image reading apparatus and semiconductor device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015041476A JP6578676B2 (en) 2015-03-03 2015-03-03 Image reading apparatus and semiconductor device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2016162927A JP2016162927A (en) 2016-09-05
JP6578676B2 true JP6578676B2 (en) 2019-09-25

Family

ID=56845488

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015041476A Expired - Fee Related JP6578676B2 (en) 2015-03-03 2015-03-03 Image reading apparatus and semiconductor device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6578676B2 (en)

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59232456A (en) * 1983-06-16 1984-12-27 Hitachi Ltd thin film circuit element
JPH0277157A (en) * 1988-06-10 1990-03-16 Mitsubishi Electric Corp Solid image pick-up device and manufacture thereof
JPH02100362A (en) * 1988-10-07 1990-04-12 Mitsubishi Electric Corp Solid-state image sensing device
US6066883A (en) * 1998-03-16 2000-05-23 Xerox Corporation Guarding for a CMOS photosensor chip
JPH11297978A (en) * 1998-04-15 1999-10-29 Sony Corp Solid-state image pickup device
US6157019A (en) * 1999-03-31 2000-12-05 Xerox Corporation Edge photosite definition by opaque filter layer
JP2008118251A (en) * 2006-11-01 2008-05-22 Seiko Epson Corp Solid-state imaging device
CN101663757B (en) * 2006-12-11 2011-07-20 富士胶片株式会社 Solid-state image pickup device
JP4500849B2 (en) * 2007-12-25 2010-07-14 キヤノン株式会社 Solid-state imaging device for AEAF
JP2009272338A (en) * 2008-04-30 2009-11-19 Fujifilm Corp Solid-state image sensor and imaging device
JP4613980B2 (en) * 2008-06-03 2011-01-19 セイコーエプソン株式会社 Line sensor chip, line sensor, image information reading device, facsimile, scanner and copying machine
JP5960961B2 (en) * 2010-11-16 2016-08-02 キヤノン株式会社 Solid-state imaging device and imaging system
JP2012178496A (en) * 2011-02-28 2012-09-13 Sony Corp Solid state image pickup device, electronic apparatus, semiconductor device, manufacturing method of solid state image pickup device
JP2014013806A (en) * 2012-07-04 2014-01-23 Toshiba Corp Semiconductor device
JP6120094B2 (en) * 2013-07-05 2017-04-26 ソニー株式会社 Solid-state imaging device, manufacturing method thereof, and electronic apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
JP2016162927A (en) 2016-09-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10319763B2 (en) Solid-state imaging apparatus
JP6081407B2 (en) Image sensor unit, reading apparatus, image forming apparatus, and circuit board
US9379154B2 (en) Solid-state image pickup apparatus
JP5815782B2 (en) Image sensor unit, image reading apparatus, and image forming apparatus
CN106803870B (en) Camera module
JP4797694B2 (en) Multi-function device
JP6578676B2 (en) Image reading apparatus and semiconductor device
JP2015005827A (en) Image sensor unit, image reading apparatus, and image formation apparatus
US20180278791A1 (en) Image reading device and semiconductor device
CN2727969Y (en) Image pickup element, image pickup device, and image reading unit
JP2017153020A (en) Image reading apparatus and semiconductor device
US20180262640A1 (en) Image reading device and semiconductor device
JP2009092790A (en) Image forming device
JP2007194272A (en) Imaging module
US20200343288A1 (en) Solid-State Image Sensor And Image Reading Device
TWI320969B (en)
US10516811B2 (en) Image reading device and semiconductor device configured to image or read fluorescent colors
JP2016163320A (en) Image reading device and semiconductor device
US7733542B2 (en) Image reading apparatus and optical module thereof
JP2015207929A (en) Integrated scanning optical unit, image reading device, image forming apparatus, and image transmission/reception device
US20220353398A1 (en) Fixing structure and electronic apparatus
JP6976204B2 (en) Line sensor device, reader and recording system
JP7103180B2 (en) Line sensor and image reader
CN107888798A (en) Image read-out and semiconductor device
JP2016152565A (en) Image sensor unit, paper sheet identification device, image reading device, and image forming apparatus

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20180216

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20181127

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20181219

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20190730

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20190812

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6578676

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees