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JP6548040B2 - Electronic component mounting method and mounting apparatus - Google Patents

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JP6548040B2 JP2016173838A JP2016173838A JP6548040B2 JP 6548040 B2 JP6548040 B2 JP 6548040B2 JP 2016173838 A JP2016173838 A JP 2016173838A JP 2016173838 A JP2016173838 A JP 2016173838A JP 6548040 B2 JP6548040 B2 JP 6548040B2
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Description

本発明は、電子部品の実装位置を補正しながら電子部品を実装する電子部品の実装方法及び実装装置に関する。   The present invention relates to an electronic component mounting method and mounting apparatus for mounting an electronic component while correcting the mounting position of the electronic component.

近年、スマートフォン又はタブレット端末に代表される電子機器の小型化及び高性能化の進展に伴い、これらの端末に使用される半導体素子に代表される電子部品の高密度化、電極端子の多ピン化、及び、狭ピッチ化の流れが加速している。そのため、基板に電子部品を実装する実装装置においては、基板に高精度で実装することが求められている。
通常、基板に電子部品を高精度で実装するために、電子部品の実装装置は基板認識用のカメラを備えており、基板認識用のカメラによって基板を撮像することにより基板の位置を検出し、位置検出結果に基づいて部品搭載時の位置合わせが行われる。しかし、基板認識用カメラの光学系座標の位置は、必ずしも、制御データ上で示される位置にあるとは限らない。例えば、カメラを移動させるボールねじなどの移動機構の誤差が生じること、又は実装エリア内の各位置で温度差があるため熱膨張量に差が生じることにより、位置ずれを生じる。そのため、電子部品実装の対象となる実装エリア内の各位置での固有の位置ずれ量を求める、いわゆるキャリブレーションを行う機能を備えたものが知られている(例えば、特許文献1参照)。
図7A及び図7Bは、特許文献1で提案されている電子部品の実装方法におけるキャリブレーションの説明図である。図7A及び図7Bを用いて、実装位置のキャリブレーション方法において説明する。
図7Aはキャリブレーション機能を備えた電子部品の実装装置の平面図である。特許文献1の電子部品の実装装置は、部品供給部105と、基板搬送部102と、基板搬送部102の上方には、実装ヘッド103と、実装ヘッド103と一体化し隣接して設けられたカメラ104とが配置され、実装ヘッド103とカメラ104とは一体となってX駆動軸106及びY駆動軸107によって、キャリブレーション基板101の上方に移動する。キャリブレーション基板101には、予め格子状に一定間隔のピッチで計測点Piの位置に認識マークが形成されており、基板搬送部102上の任意の位置に固定させる。
次に、X駆動軸106及びY駆動軸107を駆動させ、カメラ104をキャリブレーション基板101の計測点Piが認識される位置に1個ずつ移動させて、各計測点Piの認識マークを1個ずつ撮像及び認識する。
図7Bは、計測点Piにおける制御データとカメラ104とでの認識との位置ずれ量を示す説明図である。カメラ104が計測点Piの位置に移動された時、制御データ上では光学座標系の原点Oの位置に移動するように制御されるが、カメラ104による認識結果では、計測点Piは座標(Δxi、Δyi)の位置になる。この位置ズレ量(Δxi、Δyi)を計測点Piごとの固有の位置誤差とし、全計測点での位置誤差を取得することにより、キャリブレーション基板101全体のキャリブレーションデータを得ることができる。
特許文献1に記載の方法によれば、基板全体のキャリブレーションデータに基づき位置補正し実装することにより、基板に電子部品を高精度で実装できるとされている。
In recent years, with the progress of miniaturization and high performance of electronic devices represented by smartphones or tablet terminals, densification of electronic parts represented by semiconductor elements used for these terminals and increase in the number of pins of electrode terminals And, the flow of narrowing is accelerating. Therefore, in the mounting apparatus which mounts an electronic component in a board | substrate, mounting with high precision to a board | substrate is calculated | required.
Usually, in order to mount electronic components on a substrate with high accuracy, the mounting apparatus for electronic components is provided with a camera for substrate recognition, and detects the position of the substrate by imaging the substrate with the camera for substrate recognition, Alignment at the time of component mounting is performed based on the position detection result. However, the position of the optical system coordinates of the substrate recognition camera is not necessarily at the position indicated on the control data. For example, an error occurs in a moving mechanism such as a ball screw for moving the camera, or a difference in the amount of thermal expansion due to a temperature difference at each position in the mounting area causes a position shift. Therefore, there is known one having a function of performing so-called calibration for obtaining an amount of unique positional deviation at each position in a mounting area which is an object of electronic component mounting (see, for example, Patent Document 1).
7A and 7B are explanatory diagrams of calibration in the mounting method of the electronic component proposed in Patent Document 1. FIG. The mounting position calibration method will be described with reference to FIGS. 7A and 7B.
FIG. 7A is a plan view of an electronic component mounting apparatus provided with a calibration function. The electronic component mounting apparatus of Patent Document 1 is a camera provided integrally with the mounting head 103 and the mounting head 103 above and adjacent to the component supply unit 105, the substrate conveyance unit 102, and the substrate conveyance unit 102. The mounting head 103 and the camera 104 are integrally moved above the calibration substrate 101 by the X drive axis 106 and the Y drive axis 107. In the calibration substrate 101, recognition marks are formed in advance at positions of measurement points Pi in a lattice shape at a constant interval, and fixed at an arbitrary position on the substrate transport unit 102.
Next, the X drive axis 106 and the Y drive axis 107 are driven to move the camera 104 one by one to a position where the measurement point Pi of the calibration substrate 101 is recognized, and one recognition mark of each measurement point Pi Imaging and recognition one by one.
FIG. 7B is an explanatory view showing the amount of positional deviation between control data at the measurement point Pi and recognition by the camera 104. When the camera 104 is moved to the position of the measurement point Pi, the control data is controlled to move to the position of the origin O of the optical coordinate system, but in the recognition result by the camera 104, the measurement point Pi has coordinates (Δxi , Δyi). By setting the positional deviation amount (Δxi, Δyi) as the unique position error for each measurement point Pi and acquiring the position errors at all measurement points, calibration data of the entire calibration substrate 101 can be obtained.
According to the method described in Patent Document 1, it is supposed that electronic components can be mounted on a substrate with high accuracy by performing position correction and mounting based on calibration data of the entire substrate.

特開2002−9495号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2002-9495

電子部品の高精度実装を実装以降の工程でも維持するためには、例えばダイアタッチフィルム、ダイアタッチペースト、異方性導電性接着剤、又は、非導電接着剤などの熱硬化型材料を用いて、基板を加熱しながら実装することにより、十分な接着強度を確保することが必要になる。しかし、基板を加熱する場合、基板を固定する吸着ステージ内の温度分布が不均一なため、ステージ及びステージ近傍の機構部品には、それぞれ不均一な熱膨張が生じる。また、吸着ステージの吸着溝のレイアウトにより、吸着溝近傍の基板は収縮し、吸着溝が無い部分の基板は膨張する、といったように、基板の変形量が不均一になる。特に、大型の基板を用いて高温に加熱する場合、これらの傾向は顕著に見られる。
そのために、常温で特許文献1の方法でキャリブレーションを行い、基板の熱膨張係数に実装時の温度差を掛けて求めた熱膨張量を加味して位置補正し、加熱しながら実装した場合でも、常温に冷却すると、所定の実装位置からの位置ずれ量が大きくなる問題があった。また、ステージを加熱しながら特許文献1の方法でキャリブレーションを行うと、カメラ又はステージを駆動するボールねじの軸方向の隙間が熱膨張で不均一になるために、カメラ又はステージの停止位置が安定せず、各計測点の位置誤差が大きくなる問題があった。さらに、測定の精度を上げるためには、X駆動軸106及びY駆動軸107のそれぞれの動作速度を遅くし、それぞれの駆動軸の振動が収まった状態で測定しなければならず、基板全体のキャリブレーションに時間がかかり、生産現場に適用しにくい問題もあった。
さらに、カメラ又はステージの駆動による誤差を無くすために、キャリブレーション基板101の画像が視野全体に入るような1個の高画素及び高解像度のカメラ104を用い、キャリブレーション基板101の画像全体が映る位置にカメラ104を移動させ、画像を撮像して画像から計測点の座標を算出する場合においても、カメラ104の光軸に対しキャリブレーション基板101を完全な垂直方向に配置するのは困難である。カメラ104の光軸に対してキャリブレーション基板101は任意の角度で傾き、その傾きは、ステージの加熱によりさらに大きくなる。しかし、1個のカメラ104でキャリブレーション基板101の画像を常温時及び加熱時にそれぞれ撮像した場合、各計測点Piでの変位がカメラ104の光軸と加熱されたキャリブレーション基板101の傾きとによって生じるのか、あるいはキャリブレーション基板101自体の熱変形によって生じるものかを区別することができない。そのため、画像における各計測点Piの変位に基づき常温時と加熱時との差分で位置補正した場合、各計測点Piでの位置誤差が極めて大きくなる問題がある。
よって、前記したような様々な要因により、基板を加熱しながら電子部品を実装する場合に、位置ずれ誤差が大きくなり、高い精度での実装ができず、かつキャリブレーションを短時間で行うこともできなかった。
本発明は、前記課題を鑑み、基板を加熱しながら電子部品を実装する場合においても、位置ずれ誤差を大きく低減して非常に高い精度で実装でき、かつキャリブレーションを短時間で行うことが可能な電子部品の実装方法及び実装装置を提供することを目的とする。
In order to maintain the high precision mounting of the electronic component even in the steps after mounting, for example, using a thermosetting material such as a die attach film, a die attach paste, an anisotropic conductive adhesive, or a non-conductive adhesive. By mounting while heating the substrate, it is necessary to secure sufficient adhesive strength. However, when the substrate is heated, the temperature distribution in the suction stage for fixing the substrate is nonuniform, so that the stage and the mechanical components in the vicinity of the stage cause nonuniform thermal expansion. In addition, due to the layout of the suction groove of the suction stage, the substrate in the vicinity of the suction groove is shrunk, and the substrate in a portion without the suction groove is expanded, so that the deformation amount of the substrate becomes uneven. In particular, when heating to a high temperature using a large substrate, these tendencies are noticeable.
Therefore, calibration is performed according to the method of Patent Document 1 at normal temperature, and position correction is performed in consideration of the thermal expansion amount obtained by multiplying the thermal expansion coefficient of the substrate by the temperature difference at mounting, and mounting is performed while heating When cooled to room temperature, there has been a problem that the amount of positional deviation from a predetermined mounting position becomes large. In addition, when calibration is performed by the method of Patent Document 1 while heating the stage, the axial gap of the camera or the ball screw driving the stage becomes uneven due to thermal expansion. There is a problem that the position is not stable and the position error of each measurement point becomes large. Furthermore, in order to increase the accuracy of the measurement, the operating speed of each of the X drive axis 106 and the Y drive axis 107 must be reduced, and the measurement must be performed with the vibration of each drive axis settled. The calibration takes time and there is also a problem that it is difficult to apply to the production site.
Furthermore, in order to eliminate errors due to driving of the camera or the stage, the entire image of the calibration substrate 101 is captured using one high pixel and high resolution camera 104 such that the image of the calibration substrate 101 falls within the entire field of view. Even in the case where the camera 104 is moved to a position and an image is taken and the coordinates of the measurement point are calculated from the image, it is difficult to arrange the calibration substrate 101 in a completely perpendicular direction with respect to the optical axis of the camera 104 . The calibration substrate 101 is inclined at an arbitrary angle with respect to the optical axis of the camera 104, and the inclination is further increased by heating of the stage. However, when an image of the calibration substrate 101 is captured by the single camera 104 at normal temperature and heating, respectively, the displacement at each measurement point Pi is determined by the optical axis of the camera 104 and the inclination of the heated calibration substrate 101. It can not be distinguished whether it occurs or is caused by thermal deformation of the calibration substrate 101 itself. Therefore, when position correction is performed based on the displacement of each measurement point Pi in the image based on the difference between normal temperature and heating, there is a problem that the position error at each measurement point Pi becomes extremely large.
Therefore, when mounting an electronic component while heating a substrate due to various factors as described above, positional deviation errors become large, and mounting with high accuracy can not be performed, and calibration can be performed in a short time. could not.
In view of the above problems, the present invention can be mounted with extremely high accuracy by greatly reducing positional deviation error even when mounting an electronic component while heating a substrate, and calibration can be performed in a short time It is an object of the present invention to provide an electronic component mounting method and mounting apparatus.

前記目的を達成するために、本発明の1つの態様にかかる電子部品の実装方法は、キャリブレーション基板を用いて電子部品の実装位置の補正データを算出し、
前記補正データに基づく前記実装位置に、前記電子部品を実装温度まで加熱された実装基板に実装し、
前記電子部品が実装された前記実装基板を保証温度に加熱又は冷却する実装方法であって、
前記実装位置の補正データは、
前記キャリブレーション基板をステージに吸着し、
前記保証温度で複数のカメラによって前記キャリブレーション基板全体を同時に撮像し、
前記保証温度での複数の全体画像から所定の間隔の複数の格子状の四角形の絶対座標を算出し、
前記実装温度で複数のカメラによって前記キャリブレーション基板全体を同時に撮像し、
前記実装温度での複数の全体画像から前記複数の格子状の四角形に対応する格子状の四角形の絶対座標を算出し、
前記保証温度での格子状の四角形の絶対座標と前記実装温度での格子状の四角形の絶対座標とに基づいて前記実装位置の補正量を算出することによって取得される。
さらに、本発明の別の態様にかかる電子部品の実装装置は、電子部品を保持して実装基板の実装位置に実装する機能を備えた実装ヘッドと、
前記実装ヘッドに対向するように設けられて前記実装基板及びキャリブレーション基板をそれぞれ吸着可能なステージと、
前記実装ヘッド又は前記ステージを相対的に上下方向と交差する横方向に移動する駆動機構と、
前記ステージに吸着された前記キャリブレーション基板全体が同時に撮像できるように前記ステージに対し同じ高さに配置された、解像度、倍率、及び、焦点距離が同一の複数のカメラと、
を備えた電子部品の実装装置であって、
前記複数のカメラから保証温度と実装温度とでそれぞれ同時に撮像された複数の全体像から所定の間隔の複数の格子状の四角形の絶対座標を算出し前記保証温度での格子状の四角形の絶対座標と前記実装温度での格子状の四角形の絶対座標とに基づいて前記電子部品の前記実装位置の補正量を算出する画像処理装置を備えて、
算出された前記実装位置の補正量を基に、前記実装ヘッドで保持した前記電子部品を、前記ステージに吸着された前記実装基板の前記実装位置に実装する。
In order to achieve the above object, an electronic component mounting method according to one aspect of the present invention calculates correction data of a mounting position of the electronic component using a calibration substrate,
Mounting the electronic component on a mounting substrate heated to a mounting temperature at the mounting position based on the correction data;
A mounting method for heating or cooling the mounting substrate on which the electronic component is mounted to a guaranteed temperature,
The correction data of the mounting position is
The calibration substrate is attracted to the stage,
Simultaneously imaging the entire calibration substrate with multiple cameras at the guaranteed temperature ;
Calculating absolute coordinates of a plurality of grid-like squares at predetermined intervals from the plurality of whole images at the guaranteed temperature;
Simultaneously imaging the entire calibration substrate with a plurality of cameras at the mounting temperature;
Calculating absolute coordinates of a grid square corresponding to the plurality of grid squares from the plurality of whole images at the mounting temperature;
It is acquired by calculating the correction amount of the mounting position based on the absolute coordinates of the grid square at the guaranteed temperature and the absolute coordinates of the grid square at the mounting temperature .
Furthermore, according to another aspect of the present invention, there is provided an electronic component mounting apparatus comprising: a mounting head having a function of holding an electronic component and mounting the electronic component at a mounting position of a mounting substrate;
A stage provided so as to face the mounting head and capable of adsorbing the mounting substrate and the calibration substrate, respectively;
A drive mechanism which moves the mounting head or the stage in a lateral direction relatively crossing the vertical direction;
A plurality of cameras having the same resolution, magnification, and focal length, disposed at the same height with respect to the stage so that the entire calibration substrate attracted to the stage can be imaged simultaneously;
A mounting device for an electronic component provided with
Calculating the absolute coordinates of a plurality of grid squares predetermined interval from a plurality of entire images image captured simultaneously respectively by the guarantee temperature and the mounting temperature from said plurality of cameras, the grid square at the guaranteed temperature An image processing apparatus for calculating a correction amount of the mounting position of the electronic component based on an absolute coordinate and an absolute coordinate of a grid square at the mounting temperature ;
Based on the calculated correction amount of the mounting position, the electronic component held by the mounting head is mounted on the mounting position of the mounting substrate attracted to the stage.

本発明の前記態様によれば、基板を加熱しながら実装する場合であっても、毎回実装基板の認識マークを認識することなく、位置ずれ誤差を大きく低減して非常に高い精度で実装でき、かつ短時間で位置補正することが可能になる。   According to the above aspect of the present invention, even when mounting is performed while heating the substrate, it is possible to mount with extremely high accuracy by largely reducing the positional deviation error without recognizing the recognition mark of the mounting substrate each time. And it becomes possible to carry out position correction in a short time.

本発明の実施の形態における電子部品の実装装置の構成を示す概略構成図The schematic block diagram which shows the structure of the mounting apparatus of the electronic component in embodiment of this invention 本発明の実施の形態における実装位置の補正量の算出方法を示す説明図Explanatory drawing which shows the calculation method of the correction amount of the mounting position in embodiment of this invention 本発明の実施の形態におけるキャリブレーション基板のパターンの例を示す平面図A plan view showing an example of a pattern of a calibration substrate in the embodiment of the present invention 図3Aにおいて保証温度T1で第1カメラによって観察されたキャリブレーション基板のパターンを示す拡大平面図An enlarged plan view showing the pattern of the calibration substrate observed by the first camera at the guaranteed temperature T1 in FIG. 3A 図3Aにおいて保証温度T1で第2カメラによって観察されたキャリブレーション基板のパターンを示す拡大平面図An enlarged plan view showing the pattern of the calibration substrate observed by the second camera at the guaranteed temperature T1 in FIG. 3A 図3Aにおいて実装温度T2で第1カメラによって観察されたキャリブレーション基板のパターンを示す拡大平面図An enlarged plan view showing the calibration substrate pattern observed by the first camera at mounting temperature T2 in FIG. 3A 図3Aにおいて実装温度T2で第2カメラによって観察されたキャリブレーション基板のパターンを示す拡大平面図An enlarged plan view showing the pattern of the calibration substrate observed by the second camera at the mounting temperature T2 in FIG. 3A 本発明の実施の形態における実装位置の補正量の算出方法の流れを示す工程フロー図Process flow chart showing the flow of the method of calculating the correction amount of the mounting position in the embodiment of the present invention 本発明の実施の形態における実装位置の補正量の算出方法を示すタイミングチャートTiming chart showing a method of calculating the correction amount of the mounting position in the embodiment of the present invention 本発明の実施の形態における電子部品の実装装置の構成を示す概略構成図The schematic block diagram which shows the structure of the mounting apparatus of the electronic component in embodiment of this invention 本発明の実施の形態の変形例における電子部品の実装装置の構成を示す概略構成図The schematic block diagram which shows the structure of the mounting apparatus of the electronic component in the modification of embodiment of this invention 従来の電子部品の実装方法におけるキャリブレーションの説明図Illustration of calibration in the conventional mounting method of electronic parts 図7Aのキャリブレーションのより詳細な説明図A more detailed illustration of the calibration of FIG. 7A

以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

(実施の形態)
図1は、本発明の実施の形態における電子部品の実装装置の構成を示す概略構成図である。図1に示す本発明の電子部品の実装装置は、実装ヘッド3と、ステージ2と、駆動機構8と、カメラ4と、画像処理装置5とを少なくとも備えている。さらに、図1では、実装装置は、電子部品7の供給部31を備えている。
Embodiment
FIG. 1 is a schematic view showing the configuration of an electronic component mounting apparatus according to an embodiment of the present invention. The electronic component mounting apparatus of the present invention shown in FIG. 1 includes at least a mounting head 3, a stage 2, a drive mechanism 8, a camera 4, and an image processing apparatus 5. Furthermore, in FIG. 1, the mounting apparatus includes the supply unit 31 of the electronic component 7.

この実装装置では、キャリブレーション基板1を用いて電子部品7の実装位置の補正データを算出し、補正データに基づく実装位置に、電子部品7を実装温度T2まで加熱された実装基板32に実装し、電子部品7が実装された実装基板32を保証温度T1に加熱又は冷却するものである。
実装ヘッド3は、電子部品7の供給部31から電子部品7を保持(例えば吸着)し加熱及び加圧して実装基板32(図6A参照)に実装する機能を備えている。一例として、実装ヘッド3はX方向及びZ方向に移動可能であり、ステージ2はX方向及びY方向に移動可能としている。
In this mounting apparatus, correction data of the mounting position of the electronic component 7 is calculated using the calibration substrate 1, and the electronic component 7 is mounted on the mounting substrate 32 heated to the mounting temperature T2 at the mounting position based on the correction data. The mounting substrate 32 on which the electronic component 7 is mounted is heated or cooled to a guaranteed temperature T1.
The mounting head 3 has a function of holding (for example, adsorbing) the electronic component 7 from the supply unit 31 of the electronic component 7 and heating and pressing it to mount the electronic component 7 on the mounting substrate 32 (see FIG. 6A). As an example, the mounting head 3 is movable in the X direction and the Z direction, and the stage 2 is movable in the X direction and the Y direction.

ステージ2は、実装ヘッド3に対向可能に設けられて、キャリブレーション基板1及び実装基板32をそれぞれ個別に載置及び吸着可能としている。
ここで、キャリブレーション基板1の表面にはパターンが予め設けられており、パターンを有するキャリブレーション基板1が、ステージ2上に載置されて吸着される。ステージ2には、真空吸着、又は、メカ式固定又は静電吸着のいずれかの方法による基板固定機能が設けられている。パターンは、例えば、めっき、スパッタリング、蒸着、インク、又は、スプレーによって形成され、規則的なパターン又は不規則的なパターンが使用できる。
駆動機構8は、ステージ2の平面の表面に対して表面沿いの方向及び表面と直交する垂直方向に実装ヘッド3をそれぞれ独立して移動させる。一例として、駆動機構8は、実装ヘッド3をX方向及びZ方向に移動可能としているが、これに限られるものではなく、実装ヘッド3をY方向及びZ方向に移動可能としてもよいし、実装ヘッド3をX方向及びY方向及びZ方向に移動可能としてもよい。また、駆動機構8は、実装ヘッド3を駆動する代わりに、ステージ2を表面沿いの方向、言い換えれば、上下方向と交差する横方向に移動させるようにしてもよい。
カメラ4は、第1カメラ4aと第2カメラ4bとで構成する一対の画像撮像装置として機能する。第1カメラ4aと第2カメラ4bは、ステージ2に吸着されたキャリブレーション基板1の少なくとも同一の実装位置対応箇所を含む領域の画像を同時に撮像する。実装装置の第1カメラ4a及び第2カメラ4bは、それぞれ、キャリブレーション基板1全体が同時に撮像できる位置に、キャリブレーション基板1に対して、キャリブレーション基板1の上方で互いに同じ高さでかつステージ表面に対して異なる角度で配置される。ここで、第1カメラ4aと第2カメラ4bには、同一倍率及び同一焦点距離のレンズを用いかつ同一解像度の例えばCCD又はCMOSなどの撮像素子を用いる。一対のカメラ4によって、キャリブレーション基板1のパターンの画像であって、少なくとも同一の実装位置対応箇所を含む領域の画像を同時に一括でそれぞれ撮像する。
The stage 2 is provided so as to be opposed to the mounting head 3 so that the calibration substrate 1 and the mounting substrate 32 can be individually mounted and adsorbed.
Here, a pattern is provided in advance on the surface of the calibration substrate 1, and the calibration substrate 1 having the pattern is mounted on the stage 2 and adsorbed. The stage 2 is provided with a substrate fixing function by a method of vacuum suction, mechanical fixation or electrostatic suction. The pattern is formed, for example, by plating, sputtering, vapor deposition, ink, or spray, and regular patterns or irregular patterns can be used.
The driving mechanism 8 moves the mounting head 3 independently in the direction along the surface and in the vertical direction perpendicular to the surface with respect to the surface of the plane of the stage 2 respectively. As an example, the drive mechanism 8 can move the mounting head 3 in the X direction and the Z direction, but this is not a limitation, and the mounting head 3 may be movable in the Y direction and the Z direction. The head 3 may be movable in the X direction, the Y direction, and the Z direction. Further, instead of driving the mounting head 3, the driving mechanism 8 may move the stage 2 in the direction along the surface, in other words, in the lateral direction intersecting the vertical direction.
The camera 4 functions as a pair of image pickup devices configured by the first camera 4a and the second camera 4b. The first camera 4 a and the second camera 4 b simultaneously capture an image of a region including at least the same mounting position corresponding portion of the calibration substrate 1 attracted to the stage 2. The first camera 4a and the second camera 4b of the mounting apparatus are at the same height and above the calibration substrate 1 with respect to the calibration substrate 1 at positions where the entire calibration substrate 1 can be imaged simultaneously. Arranged at different angles to the surface. Here, for the first camera 4a and the second camera 4b, lenses of the same magnification and the same focal length are used, and an imaging device such as a CCD or CMOS having the same resolution is used. The pair of cameras 4 simultaneously and collectively capture an image of a pattern of the calibration substrate 1 and an area including at least the same mounting position corresponding portion.

画像処理装置5は、カメラ4で撮像された画像の情報から、実装位置対応箇所の位置座標に換算する機能を有している。
画像処理装置5は、一対のカメラ4により同時に撮像された2枚の画像を画像処理して、キャリブレーション基板1上の任意の点(例えば、実装位置対応箇所)GiをX,Y,Z座標に換算して、最終的に、実装位置の補正量を取得する。ここで、キャリブレーション基板1上の任意の点Giに対して、2個の第1カメラ4aと第2カメラ4bとで同時に撮像するため、第1カメラ4a及び第2カメラ4b(の撮像素子)から任意の点(例えば、実装位置対応箇所)Giへ向かう直線とステージ表面との間でなす角度と、第1カメラ4a及び第2カメラ4bの距離(ステージ表面と平行な面での距離)とから、任意の点Giの位置座標を算出できる。ここで、任意の点Giのiは、1以上の整数であり、キャリブレーション基板1の任意の点の総数以下の整数である。
この方法によれば、第1カメラ4aと第2カメラ4bとがキャリブレーション基板1に対して撮像した画像情報を基に、画像処理装置5で高い精度で位置座標を算出することが可能になる。また、撮像のタイミングが、同時ではなく、2つの第1及び第2カメラ4a,4bで時間的にずれると、キャリブレーション基板1の振動又は揺れ又は温度変化などによって、算出された位置のばらつきが大きくなる。これに対して、2つの第1及び第2カメラ4a,4bで同時に撮像することにより、前記ばらつきを無くして、高い精度で位置を算出することが可能になる。
本実施の形態によれば、キャリブレーション基板1に対して第1及び第2カメラ4a,4bを傾けて設置できるようになり、実装装置の限られた空間の中に2つの第1及び第2カメラ4a,4bを配置する自由度が増え、実装装置の設計が容易になるといった効果もある。
The image processing apparatus 5 has a function of converting information of an image captured by the camera 4 into position coordinates of a mounting position corresponding part.
The image processing device 5 performs image processing on two images simultaneously captured by the pair of cameras 4, and X, Y, Z coordinates of an arbitrary point (for example, a mounting position corresponding portion) Gi on the calibration substrate 1. Finally, the correction amount of the mounting position is acquired. Here, (the image pickup element of) the first camera 4a and the second camera 4b in order to simultaneously pick up an image by the two first cameras 4a and the second camera 4b at an arbitrary point Gi on the calibration substrate 1 And the angle between the straight line heading for an arbitrary point (for example, mounting position corresponding point) Gi and the stage surface, and the distance between the first camera 4a and the second camera 4b (the distance in a plane parallel to the stage surface) The position coordinates of any point Gi can be calculated from Here, i of an arbitrary point Gi is an integer of 1 or more and an integer equal to or less than the total number of arbitrary points of the calibration substrate 1.
According to this method, based on the image information captured by the first camera 4 a and the second camera 4 b with respect to the calibration substrate 1, the image processing apparatus 5 can calculate position coordinates with high accuracy. . In addition, when the imaging timing is not simultaneous but temporally deviated by the two first and second cameras 4a and 4b, the calculated variation in position may be caused by vibration or vibration of the calibration substrate 1 or temperature change. growing. On the other hand, by simultaneously imaging with the two first and second cameras 4a and 4b, it is possible to calculate the position with high accuracy by eliminating the variation.
According to the present embodiment, the first and second cameras 4a and 4b can be installed at an angle with respect to the calibration substrate 1, and the two first and second cameras can be installed in the limited space of the mounting apparatus. There is also an effect that the freedom of arranging the cameras 4a and 4b is increased, and the design of the mounting device becomes easy.

本発明の実施の形態における実装方法において使用する実装位置の補正データは、
キャリブレーション基板1をステージ2に吸着し、
複数のカメラ4a,4bによってキャリブレーション基板1の少なくとも同一の実装位置対応箇所Giを含む領域43の画像を同時に撮像し、
複数のカメラ4a,4bで同時に撮像された複数の画像から、領域43のうちの実装位置対応箇所Giの情報を基に、実装位置の補正量を算出するものである。以下、詳細に説明する。
The correction data of the mounting position used in the mounting method in the embodiment of the present invention is
The calibration substrate 1 is attracted to the stage 2,
Images of an area 43 including at least the same mounting position corresponding portion Gi of the calibration substrate 1 are simultaneously captured by a plurality of cameras 4a and 4b;
The correction amount of the mounting position is calculated based on the information of the mounting position corresponding portion Gi in the area 43 from the plurality of images simultaneously captured by the plurality of cameras 4a and 4b. The details will be described below.

図2は、本発明の実施の形態における実装位置の補正量の算出方法を示す説明図である。実装温度T2よりも低い保証温度T1で電子部品7間の距離が一定間隔になるように、実装温度T2で実装位置を補正しながら電子部品7を実装基板32に実装する方法について説明する。以下に、保証温度T1での電子部品7間の間隔が、X方向及びY方向でそれぞれPx及びPyになる場合について述べる。
まず、保証温度T1で第1カメラ4a及び第2カメラ4bによってキャリブレーション基板1全体の画像を同時に撮像した後、画像処理装置5において、第1カメラ4aで撮像されたキャリブレーション基板1の画像を、X方向及びY方向でそれぞれPx及びPyの間隔で格子状に区切る。
次に、画像処理装置5において、第1カメラ4aにおける格子42の全頂点において頂点近傍の領域の画像と同等の画像(例えば、図3A等について後述するように、パターンが互いに類似する領域の画像)を、第2カメラ4bで同時に撮像された画像から例えばパターンマッチングなどの処理により検出し、第2カメラ4bで撮像された画像において、第1カメラ4aで撮像された画像をX方向及びY方向でそれぞれPx及びPyの間隔で区切った格子42の頂点に相当する座標を算出する。格子の全頂点において、第1カメラ4a及び第2カメラ4bで算出された座標を基に、絶対座標を画像処理装置5で算出する。ここで、格子の頂点A1、B1、C1、D1で囲まれた四角形A1B1C1D1の重心位置を点Gi1とする。ここで、一例として、各重心位置は、実装基板32の実装位置に対応する実装位置対応箇所である。
FIG. 2 is an explanatory view showing a method of calculating the correction amount of the mounting position in the embodiment of the present invention. A method of mounting the electronic component 7 on the mounting substrate 32 while correcting the mounting position at the mounting temperature T2 so that the distance between the electronic components 7 becomes a constant interval at a guaranteed temperature T1 lower than the mounting temperature T2 will be described. Hereinafter, the case where the distance between the electronic components 7 at the guaranteed temperature T1 is Px and Py in the X direction and the Y direction will be described.
First, after the image of the entire calibration substrate 1 is simultaneously captured by the first camera 4a and the second camera 4b at the guaranteed temperature T1, the image processing device 5 captures the image of the calibration substrate 1 captured by the first camera 4a. , And in the X direction and in the Y direction at intervals of Px and Py, respectively.
Next, in the image processing apparatus 5, an image equivalent to the image of the area in the vicinity of the vertex at all the vertices of the grid 42 in the first camera 4a (for example, an image of the area where the patterns are similar to each other ) Is detected from the image simultaneously captured by the second camera 4b by processing such as pattern matching, and in the image captured by the second camera 4b, the image captured by the first camera 4a is X direction and Y direction The coordinates corresponding to the vertexes of the grid 42 divided by intervals of Px and Py respectively are calculated. The image processing apparatus 5 calculates absolute coordinates based on the coordinates calculated by the first camera 4a and the second camera 4b at all the vertices of the grid. Here, let us say that the center of gravity of the quadrangle A1B1C1D1 surrounded by the lattice vertices A1, B1, C1, and D1 is a point Gi1. Here, as an example, each barycentric position is a mounting position corresponding place corresponding to the mounting position of the mounting substrate 32.

次に、実装温度T2においても、保証温度T1と同様に、キャリブレーション基板1全体の画像を第1カメラ4a及び第2カメラ4bで1枚ずつ同時に撮像した後、画像処理装置5で画像処理を行い、格子の頂点を絶対座標に画像処理装置5で変換する。画像処理装置5において、輝度分布解析などの画像処理手法により、保証温度T1における四角形A1B1C1D1が、実装温度T2において四角形A2B2C2D2へ変形することを捉えた後、四角形A2B2C2D2の重心位置Gi2を算出する。画像処理装置5において、実装温度T2における重心位置Gi2と保証温度T1における重心位置Gi1との差が、実装位置対応箇所の補正量、言い換えれば、実装基板32での実装位置の補正量になる。
このようにして、位置補正量を画像処理装置5で算出することができる。
Next, also at the mounting temperature T2, similarly to the guaranteed temperature T1, after the images of the entire calibration substrate 1 are simultaneously captured one by one by the first camera 4a and the second camera 4b, the image processing device 5 performs image processing The image processing device 5 converts the vertexes of the grid to absolute coordinates. In the image processing device 5, after the quadrangle A1B1C1D1 at the guarantee temperature T1 is deformed to the quadrangle A2B2C2D2 at the mounting temperature T2 by an image processing method such as luminance distribution analysis, the barycentric position Gi2 of the quadrangle A2B2C2D2 is calculated. In the image processing device 5, the difference between the gravity center position Gi2 at the mounting temperature T2 and the gravity center position Gi1 at the guarantee temperature T1 is the correction amount of the mounting position corresponding portion, in other words, the correction amount of the mounting position on the mounting substrate 32.
Thus, the position correction amount can be calculated by the image processing device 5.

よって、半導体素子などの電子部品7を、円形又は矩形等の実装基板32に、X方向及びY方向でそれぞれPx及びPyの間隔で格子状に配列されるように、実装温度T2で実装する場合、格子状の四角形の重心位置に、上述の位置補正量を加えた位置を実装位置として実装すればよい。実装後に、実装温度T2から保証温度T1に実装基板32を戻した場合、電子部品7の中心間の距離は、X方向及びY方向でそれぞれPx及びPyで等間隔になる。
この実装方法によれば、実装温度T2でのキャリブレーション基板1の変形量を全実装位置において算出するため、実装基板32に電子部品7を等間隔で実装することが可能になる。
Therefore, when mounting electronic components 7 such as semiconductor elements on a mounting substrate 32 such as a circle or rectangle at a mounting temperature T2 so as to be arranged in a lattice at intervals of Px and Py in the X and Y directions, respectively. A position obtained by adding the above-described position correction amount to the barycentric position of the grid square may be mounted as a mounting position. When the mounting substrate 32 is returned from the mounting temperature T2 to the guaranteed temperature T1 after mounting, the distances between the centers of the electronic components 7 are equal intervals of Px and Py in the X direction and the Y direction, respectively.
According to this mounting method, since the deformation amount of the calibration substrate 1 at the mounting temperature T2 is calculated at all mounting positions, the electronic components 7 can be mounted on the mounting substrate 32 at equal intervals.

この図2の補正量の算出を、より具体的に、キャリブレーション基板1に適用する例について説明する。図3Aは、本発明の実施の形態におけるキャリブレーション基板1のパターンの例を示す平面図である。キャリブレーション基板1上の四角形A1B1C1D1の1つの頂点A1近傍には、不規則パターンの一例として斑点模様のパターン40が形成されている。
まず、保証温度T1において、第1カメラ4a及び第2カメラ4bによって同時に撮像されて、それぞれ、頂点A1近傍の画像としては、図3B及び図3Cのように観察される。この図3Bにおいて、図3Bの実線の枠41で囲まれた領域43のパターンの重心位置をA1aとして画像処理装置5で算出する。ここで、この枠41で囲まれた領域43とは、実装位置対応箇所の例である重心位置A1aを含む領域である。
次に、図3Cにおいて、図3Bの実線の枠41で囲まれた領域43の斑点模様のパターンと同等の斑点模様のパターンを画像処理装置5でパターンマッチングなどにより検出し、その重心位置をA1bとして画像処理装置5で算出する。これらのパターンは、実装温度T2において、加熱又は吸着固定によりキャリブレーション基板1自体が変形すると、その表面のパターンも、キャリブレーション基板1自体の変形に追従して変形する。
An example in which the calculation of the correction amount of FIG. 2 is more specifically applied to the calibration substrate 1 will be described. FIG. 3A is a plan view showing an example of a pattern of the calibration substrate 1 according to the embodiment of the present invention. In the vicinity of one vertex A1 of the quadrangle A1B1C1D1 on the calibration substrate 1, a speckled pattern 40 is formed as an example of the irregular pattern.
First, at the guaranteed temperature T1, images are simultaneously captured by the first camera 4a and the second camera 4b and observed as images in the vicinity of the vertex A1 as shown in FIGS. 3B and 3C. In FIG. 3B, the image processing apparatus 5 calculates the barycentric position of the pattern of the area 43 surrounded by the solid frame 41 in FIG. 3B as A1a. Here, the area 43 surrounded by the frame 41 is an area including a barycentric position A1a which is an example of the mounting position corresponding portion.
Next, in FIG. 3C, the image processing apparatus 5 detects a spotted pattern equivalent to the spotted pattern of the area 43 surrounded by the solid frame 41 in FIG. 3B by pattern matching and the like, and the barycentric position thereof is A1b. The image processing apparatus 5 calculates the When the calibration substrate 1 itself is deformed at the mounting temperature T2 due to heating or adsorption fixation at the mounting temperature T2, the pattern on the surface is also deformed following the deformation of the calibration substrate 1 itself.

次に、実装温度T2において、第1カメラ4a及び第2カメラ4bによって同時に撮像されて、それぞれ、頂点A1近傍の画像としては、図3D及び図3Eのように観察される。ここで、図3B及び図3Cにて実線の枠41で囲まれた領域43のパターンは、それぞれ、図3D及び図3Eの実線の枠41で囲まれた領域43に移動する。重心位置は、それぞれ、A1a、A1bからA2a、A2bになる。2つの第1及び第2カメラ4a,4bではそれぞれ異なった方向に変位したように見えるが、重心位置A1a、A1b、A2a、A2bの座標と、第1カメラ4a及び第2カメラ4b間の距離と、第1カメラ4a及び第2カメラ4bからキャリブレーション基板1に向けてステージ2の表面との間でなすそれぞれの角度とから、頂点A1、A2の絶対座標を画像処理装置5で算出し、その差分を頂点A1の変位量(ΔX、ΔY)として画像処理装置5で導出するため、高い精度で変位量(位置座標の補正量)を画像処理装置5で算出することができる。頂点A1と同様に、キャリブレーション基板1上の格子の全頂点を画像処理装置5で解析することにより、各頂点の座標の変位量(位置座標の補正量)を画像処理装置5で導出することができる。なお、デジタル画像相関法を画像処理装置5で用いた場合について説明したが、この手法に限られない。一般的な画像解析法を画像処理装置5で用いてもよい。   Next, the images are simultaneously captured by the first camera 4a and the second camera 4b at the mounting temperature T2, and are observed as shown in FIGS. 3D and 3E as images near the vertex A1, respectively. Here, the pattern of the area 43 surrounded by the solid frame 41 in FIGS. 3B and 3C moves to the area 43 surrounded by the solid frame 41 in FIGS. 3D and 3E, respectively. The barycentric positions change from A1a and A1b to A2a and A2b, respectively. The two first and second cameras 4a and 4b appear to be displaced in different directions, but the coordinates of the barycentric positions A1a, A1b, A2a and A2b and the distance between the first camera 4a and the second camera 4b From the first camera 4a and the second camera 4b toward the calibration substrate 1 and the respective angles formed with the surface of the stage 2, the absolute coordinates of the vertices A1 and A2 are calculated by the image processing device 5, Since the difference is derived by the image processing device 5 as the displacement amount (ΔX, ΔY) of the vertex A1, the displacement amount (correction amount of position coordinates) can be calculated by the image processing device 5 with high accuracy. Similar to the vertex A1, the image processing device 5 derives the displacement amount of the coordinates of each vertex (the correction amount of the position coordinates) by analyzing all the vertices of the lattice on the calibration substrate 1 by the image processing device 5. Can. Although the case of using the digital image correlation method in the image processing apparatus 5 has been described, the present invention is not limited to this method. A general image analysis method may be used in the image processing device 5.

図4は、本発明の実施の形態における実装位置の補正量の算出方法の流れを示す工程フロー図である。図5は、本発明の実施の形態における実装位置の補正量の算出方法を示すタイミングチャートである。図6Aは、実施の形態における電子部品の実装装置の構成を示す概略構成図である。図1及び図4及び図5及び図6Aに基づき、実装補正量の算出方法を説明する。
まず、ステップS1では、基板収納ユニット(図示せず)に収納されたキャリブレーション基板1を基板収納ユニットから搬送ジグ(図示せず)を用いて取り出し、ステージ2上に載置する。ここで、ステージ2によるキャリブレーション基板1の真空吸着は行わない。キャリブレーション基板1は、例えば、シリコン、ガラス、ステンレス、又は銅から成る。キャリブレーション基板1の外形寸法は、例えば200mm×200mm〜600mm×600mmであり、キャリブレーション基板1の表面には例えば斑点状のパターンが形成されている。
次に、ステップS2では、キャリブレーション基板1の温度が保証温度T1になった時間t11において、第1カメラ4a及び第2カメラ4bを用いてキャリブレーション基板1全体の画像C11A、C11Bを同時に撮像する。ここで、保証温度T1は例えば25℃である。
FIG. 4 is a process flow diagram showing a flow of a method of calculating the correction amount of the mounting position in the embodiment of the present invention. FIG. 5 is a timing chart showing a method of calculating the correction amount of the mounting position in the embodiment of the present invention. FIG. 6A is a schematic configuration view showing a configuration of the electronic component mounting apparatus according to the embodiment. A method of calculating the mounting correction amount will be described based on FIGS. 1 and 4 and FIGS. 5 and 6A.
First, in step S1, the calibration substrate 1 stored in the substrate storage unit (not shown) is taken out of the substrate storage unit using a transport jig (not shown) and placed on the stage 2. Here, vacuum suction of the calibration substrate 1 by the stage 2 is not performed. The calibration substrate 1 is made of, for example, silicon, glass, stainless steel, or copper. The external dimensions of the calibration substrate 1 are, for example, 200 mm × 200 mm to 600 mm × 600 mm, and for example, a spotted pattern is formed on the surface of the calibration substrate 1.
Next, in step S2, at time t11 when the temperature of the calibration substrate 1 reaches the guarantee temperature T1, images C11A and C11B of the entire calibration substrate 1 are simultaneously imaged using the first camera 4a and the second camera 4b. . Here, the guaranteed temperature T1 is 25 ° C., for example.

その後、ステップS3では、ステージ2を少なくとも実装温度T2まで加熱した後、ステージ2の多数の吸着溝2aに連結された真空吸着装置10をONしてキャリブレーション基板1をステージ2に吸着させて、キャリブレーション基板1をステージ2に固定する。
次いで、ステップS4では、キャリブレーション基板温度が実装温度T2になった時間t21において、第1カメラ4a及び第2カメラ4bを用いてキャリブレーション基板1全体の画像C21A、C21Bを同時に撮像する。ステップS2及びステップS4でそれぞれ撮像された画像のデータを画像処理装置5に取り込む。第1カメラ4a及び第2カメラ4bにより同時に撮像されたそれぞれの画像には、少なくとも、同一の実装位置対応箇所を含む領域の画像を含んでおればよい。
その後、ステップS5では、キャリブレーション基板1をステージ2から取り外して基板収納ユニットに収納する。
Thereafter, in step S3, the stage 2 is heated to at least the mounting temperature T2, and then the vacuum suction device 10 connected to the plurality of suction grooves 2a of the stage 2 is turned on to suction the calibration substrate 1 onto the stage 2; The calibration substrate 1 is fixed to the stage 2.
Next, in step S4, the images C21A and C21B of the entire calibration substrate 1 are simultaneously imaged using the first camera 4a and the second camera 4b at time t21 when the calibration substrate temperature becomes the mounting temperature T2. The data of the image captured in step S2 and step S4 is taken into the image processing device 5. Each image simultaneously captured by the first camera 4a and the second camera 4b may include an image of an area including at least the same mounting position corresponding portion.
Thereafter, in step S5, the calibration substrate 1 is removed from the stage 2 and stored in the substrate storage unit.

その後、ステップS3及びステップS4と同様の工程を繰り返す場合には、ステップS8で、ステップS1と同様に、基板収納ユニットに収納されたキャリブレーション基板1を基板収納ユニットから搬送ジグを用いて取り出し、ステージ2上に搭載した後、ステップS3〜ステップS5を行う。例えば、ステップS3及びステップS4を2回行うときには、時間t22、t23において、第1カメラ4a及び第2カメラ4bを用いてキャリブレーション基板1全体の画像C22A、C22B、画像C23A、C23Bをそれぞれ同時に撮像したのち、それらを画像処理装置5に取り込む。ここで、実装温度T2は例えば150℃である。   After that, when repeating the same process as step S3 and step S4, in step S8, as in step S1, the calibration substrate 1 stored in the substrate storage unit is taken out from the substrate storage unit using the transport jig, After mounting on the stage 2, steps S3 to S5 are performed. For example, when performing step S3 and step S4 twice, the images C22A and C22B and the images C23A and C23B of the entire calibration substrate 1 are simultaneously captured using the first camera 4a and the second camera 4b at times t22 and t23, respectively. After that, they are taken into the image processing device 5. Here, the mounting temperature T2 is 150 ° C., for example.

次に、ステップS6では、画像処理装置5を用い、画像C11AとC11B、画像C21AとC21Bl、画像C22AとC22B、画像C23AとC23Bを格子42の頂点座標に変換した後、上述の重心位置の算出方法に基づき、保証温度T1かつ時間t11における実装位置対応箇所の位置座標(X1Gi,Y1Gi)及び、実装温度T2かつ時間t21、t22、t23における実装位置対応箇所の位置座標(X2Gi1,Y2Gi1)、(X2Gi2,Y2Gi2)、(X2Gi3,Y2Gi3)を画像処理装置5で導出する。さらに、画像処理装置5において、実装位置対応箇所の位置座標(X2Gi1,Y2Gi1)、(X2Gi2,Y2Gi2)、(X2Gi3,Y2Gi3)を平均化して実装温度T2での実装位置対応箇所の位置座標(X2Gi,Y2Gi)とする。
さらに、ステップS7では、実装温度T2における実装位置対応箇所の位置座標(X2Gi,Y2Gi)から、保証温度T1における実装位置対応箇所の位置座標(X1Gi,Y1Gi)を引き、実装位置対応箇所ごとの位置補正量(Δxi,Δyi)を画像処理装置5で算出する。
以上が、画像処理装置5による位置補正量の導出方法である。
なお、前記の実施の形態では、保証温度T1では1回、実装温度T2では3回の事例を示したがこれに限られない。実装温度T2においても1回の場合、短時間で位置補正量を導出することができる。
Next, in step S6, using the image processing device 5, the images C11A and C11B, the images C21A and C21B1, the images C22A and C22B, and the images C23A and C23B are converted into vertex coordinates of the grid 42, and then the calculation of the center of gravity is performed. Based on the method, position coordinates (X1Gi, Y1Gi) of the mounting position corresponding portion at the guaranteed temperature T1 and time t11, and position coordinates (X2Gi1, Y2Gi1) of the mounting position corresponding portion at the mounting temperature T2 and time t21, t22, t23, ( The image processing apparatus 5 derives X2Gi2, Y2Gi2) and (X2Gi3, Y2Gi3). Further, in the image processing apparatus 5, the position coordinates (X2Gi1, Y2Gi1), (X2Gi2, Y2Gi2), and (X2Gi3, Y2Gi3) of the mounting position corresponding portion are averaged to obtain the position coordinate (X2Gi) of the mounting position corresponding portion at the mounting temperature T2. , Y2Gi).
Further, in step S7, the position coordinates (X1Gi, Y1Gi) of the mounting position corresponding portion at the guaranteed temperature T1 are drawn from the position coordinates (X2Gi, Y2Gi) of the mounting position corresponding portion at the mounting temperature T2, and the position for each mounting position corresponding portion The correction amount (Δxi, Δyi) is calculated by the image processing device 5.
The above is the method of deriving the position correction amount by the image processing device 5.
In the above embodiment, although the case of once at the guarantee temperature T1 and three cases of the mounting temperature T2 has been described, the invention is not limited thereto. In the case of one mounting temperature T2, the position correction amount can be derived in a short time.

また、キャリブレーション基板1の吸着、取り外しを繰り返し、画像を取り込む回数を増やすことにより、さらに位置補正精度が向上する効果がある。また、キャリブレーション基板1は、基板収納ユニットを用い、搬送ジグでキャリブレーション基板1を吸着する方法を述べたがこれに限られない。手作業でキャリブレーション基板1をステージ2から取り外し、ステージ2に載置吸着しても同じ効果が得られる。
実装基板32を加熱する場合、実装基板32が反るだけでなく、実装工程において実装基板32をステージ2に吸着する時、吸着位置にばらつきがあるため、載置及び吸着ごとに実装基板32の変形にばらつきがある。キャリブレーション基板1の吸着、取り外しを繰り返し、画像を複数回取り込むことにより、実装位置対応箇所の位置のばらつきを考慮に入れた平均値が算出でき、位置補正精度が一層向上する効果がある。
Further, by repeating adsorption and removal of the calibration substrate 1 to increase the number of times of capturing an image, there is an effect that the position correction accuracy is further improved. Moreover, although the calibration board | substrate 1 described the method to adsorb | suck the calibration board | substrate 1 by a conveyance jig using a board | substrate storage unit, it is not restricted to this. Even if the calibration substrate 1 is manually removed from the stage 2 and placed on the stage 2 and adsorbed, the same effect can be obtained.
When the mounting substrate 32 is heated, not only the mounting substrate 32 is warped but also when the mounting substrate 32 is adsorbed to the stage 2 in the mounting process, the adsorption position varies, so the mounting substrate 32 is There is variation in deformation. By repeatedly sucking and removing the calibration substrate 1 and capturing an image a plurality of times, it is possible to calculate an average value in consideration of the variation in the position corresponding to the mounting position, which has an effect of further improving the position correction accuracy.

また、保証温度T1又は実装温度T2の温度が高温の場合、輻射熱によりキャリブレーション基板近傍の空気が加熱され空気の温度ばらつきが生じ、カメラ4で画像を取り込む際に陽炎のように空気がゆらぎ画像が歪む。このような場合、複数回画像を取り込んで平均化してもよい。このように構成すれば、キャリブレーション基板1が高温であっても、高い位置補正精度を確保することができる。   In addition, when the temperature of the guaranteed temperature T1 or the mounting temperature T2 is high, the air in the vicinity of the calibration substrate is heated by radiant heat to cause temperature variation of the air, and when capturing an image with the camera 4, the air fluctuates like a bright flame It is distorted. In such a case, the image may be captured and averaged multiple times. According to this structure, high position correction accuracy can be ensured even if the calibration substrate 1 is at high temperature.

次に、前記位置補正量の導出方法を用いて、電子部品を実装基板32に実装する方法について説明する。実装時に、実装温度T2で各実装位置の設計座標(xi,yi)に、上述の方法で画像処理装置5で求めた位置補正量(Δxi,Δyi)を加えた座標(xi+Δxi,yi+Δyi)の位置に実装することにより、保証温度T1に戻した時に、各実装位置の座標は(xi,yi)になる。
一例として、具体的な実施例に基づいて説明する。外形寸法が直径300mm、厚みが0.7mm、線膨張係数が8ppm/℃[すなわち、μm/℃/m]でありガラスから成る円形の実装基板32に、電子部品7たる半導体素子を実装する場合について説明する。半導体素子は10mm×10mmで厚みが0.3mmであり、設計上の半導体素子間の実装ピッチ間隔は15mmである。それぞれ画素数500万画素の第1カメラ4a及び第2カメラ4bを用いて、キャリブレーション基板1上のパターンの変化を、30℃でステージ2での吸着OFFの状態及び150℃でステージ2での吸着ONの状態でそれぞれ同時に撮像した。画像処理装置5での画像解析により、30℃と150℃とでは最大130〜160μmの位置ズレが発生することがわかった。15mmピッチの実装位置における位置補正量を画像処理により画像処理装置5で求め、位置補正量を加算した位置である実装位置に、加熱又は冷却により150℃に維持した実装基板32へ、図6Aの実装装置で実装を行った。
Next, a method of mounting the electronic component on the mounting substrate 32 by using the method of deriving the position correction amount will be described. The position of the coordinates (xi + Δxi, yi + Δyi) obtained by adding the position correction amount (Δxi, Δyi) obtained by the image processing apparatus 5 to the design coordinates (xi, yi) of each mounting position at mounting temperature T2 at mounting The coordinates of each mounting position become (xi, yi) when the temperature is returned to the guaranteed temperature T1.
An example will be described based on a specific embodiment. When the semiconductor element as the electronic component 7 is mounted on a circular mounting substrate 32 having an outer dimension of 300 mm in diameter, 0.7 mm in thickness, and a linear expansion coefficient of 8 ppm / ° C. (ie, μm / ° C./m) Will be explained. The semiconductor elements are 10 mm × 10 mm and 0.3 mm in thickness, and the designed pitch between semiconductor elements is 15 mm. By using the first camera 4a and the second camera 4b each having 5 million pixels, the change of the pattern on the calibration substrate 1 can be determined by the adsorption OFF state at 30.degree. C. and the stage 2 at 150.degree. Images were taken simultaneously in the state of suction ON. It was found from the image analysis by the image processing device 5 that positional deviations of up to 130 to 160 μm occur at 30 ° C. and 150 ° C. The position correction amount at the mounting position of 15 mm pitch is determined by the image processing apparatus 5 by image processing, and the mounting substrate 32 is maintained at 150 ° C. by heating or cooling at the mounting position where the position correction amount is added. The mounting was done with the mounting device.

その後、実装基板32をステージ2から取り外して、電子部品の実装位置の設計値に対する位置ズレ量を、30℃で、測定顕微鏡を用いて測定した。その結果、実装位置200点に対し、実装位置ズレ量が、x、y方向において、共に±3μm以内に収まることを確認した。また、画像は30℃で1枚、150℃で3枚、2つの第1及び第2カメラ4a,4bで同時に撮像したが、1枚当たり10ms以内と短時間で撮像できた。
以上の実施の形態では、カメラ4が2個のカメラ4a、4bで構成される場合について説明したが、これに限られない。3個以上のカメラ4を用いても構わない。例えば、図6Bは、本発明の実施の形態の変形例における電子部品の実装装置の構成を示す概略構成図である。カメラ4がカメラ第1〜第3カメラ4a、4b、4cの3個のカメラで構成される点で図1の実装装置とは異なっている。障害物6は、例えば柱、又は、間仕切りなどから成る。キャリブレーション基板1上の実装位置対応箇所の1つの例である点Giaは、第1カメラ4a及び第2カメラ4bで同時に撮像する。キャリブレーション基板1上の実装位置対応箇所の別の例である点Gibは障害物6によって遮られて第1カメラ4aからは撮像できないが、第2カメラ4bと第3カメラ4cとの位置からは同時に撮像できる。第1カメラ4aと第2カメラ4bとによって撮像できない領域を、第3カメラ4cで補うことによって、キャリブレーション基板1全体の実装位置の補正量を算出することができ、キャリブレーション基板1全体において高精度に実装することが可能になる。特に、図1の実装装置の場合よりも、一層大きな実装基板32に適用できる効果がある。
Thereafter, the mounting substrate 32 was removed from the stage 2 and the amount of positional deviation of the mounting position of the electronic component relative to the design value was measured at 30 ° C. using a measuring microscope. As a result, it was confirmed that the mounting positional deviation amount was within ± 3 μm in both the x and y directions with respect to 200 mounting positions. The images were simultaneously captured by one first at 30 ° C., three at 150 ° C., and two first and second cameras 4a and 4b, but each image could be captured within a short time of 10 ms.
Although the case where the camera 4 is comprised by two cameras 4a and 4b was demonstrated in the above embodiment, it is not restricted to this. Three or more cameras 4 may be used. For example, FIG. 6B is a schematic configuration view showing a configuration of the mounting apparatus of the electronic component in the modification of the embodiment of the present invention. The camera 4 is different from the mounting apparatus of FIG. 1 in that the camera 4 is composed of three cameras, ie, camera first to third cameras 4a, 4b and 4c. The obstacle 6 is formed of, for example, a pillar or a partition. The point Gia, which is an example of the mounting position corresponding portion on the calibration substrate 1, is simultaneously imaged by the first camera 4a and the second camera 4b. The point Gib which is another example of the mounting position corresponding portion on the calibration substrate 1 is blocked by the obstacle 6 and can not be imaged from the first camera 4a, but from the positions of the second camera 4b and the third camera 4c Images can be taken simultaneously. By compensating the area which can not be imaged by the first camera 4a and the second camera 4b with the third camera 4c, the correction amount of the mounting position of the entire calibration substrate 1 can be calculated. It becomes possible to implement to accuracy. In particular, there is an effect that the present invention can be applied to a mounting substrate 32 that is larger than the mounting device of FIG.

以上のように、本発明の実施の形態によれば、実装基板32を加熱しながら電子部品7を実装する場合において、実装基板32に認識マークを設けなくても、位置ずれ誤差を大きく低減して非常に高い精度で、かつ、短時間で位置補正(キャリブレーション)して実装基板32に高精度で実装することが可能になる。
なお、本発明は前記実施形態に限定されるものではなく、その他種々の態様で実施できる。例えば、不規則パターンとしては、例えば、斑点に限らず、任意の形状、模様、又は図柄などの不規則パターンであってもよい。任意の不規則パターンの場合には、いずれの箇所からでも、実装位置対応箇所を算出することができる利点がある。また、不規則パターンの代わりに、任意の形状、模様、又は図柄などの規則パターンなどとしてもよい。
なお、前記様々な実施形態又は変形例のうちの任意の実施形態又は変形例を適宜組み合わせることにより、それぞれの有する効果を奏するようにすることができる。また、実施形態同士の組み合わせ又は実施例同士の組み合わせ又は実施形態と実施例との組み合わせが可能であると共に、異なる実施形態又は実施例の中の特徴同士の組み合わせも可能である。
As described above, according to the embodiment of the present invention, in the case of mounting the electronic component 7 while heating the mounting substrate 32, even if the mounting substrate 32 is not provided with the recognition mark, the positional deviation error is largely reduced. Thus, it is possible to perform mounting on the mounting substrate 32 with high accuracy by performing position correction (calibration) in a short time.
The present invention is not limited to the above embodiment, and can be implemented in various other aspects. For example, the irregular pattern is not limited to spots, but may be any irregular pattern such as a shape, a pattern, or a pattern. In the case of any irregular pattern, there is an advantage that the mounting position corresponding part can be calculated from any part. Also, instead of the irregular pattern, any shape, pattern, or regular pattern such as a pattern may be used.
In addition, the effect which each has can be show | played by combining suitably the arbitrary embodiment or modification of said various embodiment or modification. Further, a combination of the embodiments or a combination of the embodiments or a combination of the embodiments and the embodiments is possible, and a combination of the features in different embodiments or the embodiments is also possible.

本発明の前記態様に係る電子部品の実装方法及び実装装置は、基板を加熱しながら電子部品を非常に高い精度で実装でき、かつキャリブレーションを短時間で行うことができる効果を有し、高速大容量メモリ、アプリケーションプロセッサ、CPU、又は、高周波通信モジュールなどの半導体素子の実装方法及び実装装置において特に有用である。   The electronic component mounting method and mounting apparatus according to the above aspect of the present invention has the effect of being able to mount the electronic component with extremely high accuracy while heating the substrate, and of performing calibration in a short time, and at high speed The present invention is particularly useful in a mounting method and mounting apparatus of a semiconductor device such as a large capacity memory, an application processor, a CPU, or a high frequency communication module.

1、101 キャリブレーション基板
2 ステージ
2a 吸着溝
3、103 実装ヘッド
4、4a、4b、4c、104 カメラ
5 画像処理装置
6 障害物
7 電子部品
8 駆動機構
10 真空吸着装置
31 電子部品の供給部
32 実装基板
40 斑点パターン
41 枠
42 格子
43 領域
102 基板搬送部
105 部品供給部
106 X駆動軸
107 Y駆動軸
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 101 Calibration board | substrate 2 Stage 2a Suction groove 3, 103 Mounting head 4, 4a, 4b, 4c, 104 Camera 5 Image processing apparatus 6 Obstacle 7 Electronic parts 8 Drive mechanism 10 Vacuum suction apparatus 31 Supply part 32 of electronic parts Mounting substrate 40 Speckled pattern 41 Frame 42 Lattice 43 Area 102 Substrate transfer part 105 Component supply part 106 X drive axis 107 Y drive axis

Claims (3)

キャリブレーション基板を用いて電子部品の実装位置の補正データを算出し、
前記補正データに基づく前記実装位置に、前記電子部品を実装温度まで加熱された実装基板に実装し、
前記電子部品が実装された前記実装基板を保証温度に加熱又は冷却する実装方法であって、
前記実装位置の補正データは、
前記キャリブレーション基板をステージに吸着し、
前記保証温度で複数のカメラによって前記キャリブレーション基板全体を同時に撮像し、
前記保証温度での複数の全体画像から所定の間隔の複数の格子状の四角形の絶対座標を算出し、
前記実装温度で複数のカメラによって前記キャリブレーション基板全体を同時に撮像し、
前記実装温度での複数の全体画像から前記複数の格子状の四角形に対応する格子状の四角形の絶対座標を算出し、
前記保証温度での格子状の四角形の絶対座標と前記実装温度での格子状の四角形の絶対座標とに基づいて前記実装位置の補正量を算出することによって取得される、電子部品の実装方法。
Calculate correction data of the mounting position of the electronic component using the calibration substrate,
Mounting the electronic component on a mounting substrate heated to a mounting temperature at the mounting position based on the correction data;
A mounting method for heating or cooling the mounting substrate on which the electronic component is mounted to a guaranteed temperature,
The correction data of the mounting position is
The calibration substrate is attracted to the stage,
Simultaneously imaging the entire calibration substrate with multiple cameras at the guaranteed temperature ;
Calculating absolute coordinates of a plurality of grid-like squares at predetermined intervals from the plurality of whole images at the guaranteed temperature;
Simultaneously imaging the entire calibration substrate with a plurality of cameras at the mounting temperature;
Calculating absolute coordinates of a grid square corresponding to the plurality of grid squares from the plurality of whole images at the mounting temperature;
The mounting method of the electronic component acquired by calculating the correction amount of the said mounting position based on the absolute coordinate of the grid | lattice square at the said guarantee temperature, and the absolute coordinate of the grid square at the said mounting temperature .
前記キャリブレーション基板を吸着した後、前記複数のカメラで前記画像を同時に撮像し、前記キャリブレーション基板の吸着を解除したのち再び吸着した後、前記複数のカメラで前記画像を同時に撮像することを行い、前記複数のカメラで前記複数回撮像された画像を基に前記実装位置の補正量を算出する請求項1に記載の電子部品の実装方法。   After suctioning the calibration substrate, the images are simultaneously captured by the plurality of cameras, and after releasing the suction of the calibration substrate and re-sucking, the images are simultaneously captured by the plurality of cameras. The electronic component mounting method according to claim 1, wherein the correction amount of the mounting position is calculated based on the images captured a plurality of times by the plurality of cameras. 電子部品を保持して実装基板の実装位置に実装する機能を備えた実装ヘッドと、
前記実装ヘッドに対向するように設けられて前記実装基板及びキャリブレーション基板をそれぞれ吸着可能なステージと、
前記実装ヘッド又は前記ステージを相対的に上下方向と交差する横方向に移動する駆動機構と、
前記ステージに吸着された前記キャリブレーション基板全体が同時に撮像できるように前記ステージに対し同じ高さに配置された、解像度、倍率、及び、焦点距離が同一の複数のカメラと、
を備えた電子部品の実装装置であって、
前記複数のカメラから保証温度と実装温度とでそれぞれ同時に撮像された複数の全体像から所定の間隔の複数の格子状の四角形の絶対座標を算出し前記保証温度での格子状の四角形の絶対座標と前記実装温度での格子状の四角形の絶対座標とに基づいて前記電子部品の前記実装位置の補正量を算出する画像処理装置を備えて、
算出された前記実装位置の補正量を基に、前記実装ヘッドで保持した前記電子部品を、前記ステージに吸着された前記実装基板の前記実装位置に実装する電子部品の実装装置。
A mounting head having a function of holding electronic components and mounting them at the mounting position of the mounting substrate;
A stage provided so as to face the mounting head and capable of adsorbing the mounting substrate and the calibration substrate, respectively;
A drive mechanism which moves the mounting head or the stage in a lateral direction relatively crossing the vertical direction;
A plurality of cameras having the same resolution, magnification, and focal length, disposed at the same height with respect to the stage so that the entire calibration substrate attracted to the stage can be imaged simultaneously;
A mounting device for an electronic component provided with
Calculating the absolute coordinates of a plurality of grid squares predetermined interval from a plurality of entire images image captured simultaneously respectively by the guarantee temperature and the mounting temperature from said plurality of cameras, the grid square at the guaranteed temperature An image processing apparatus for calculating a correction amount of the mounting position of the electronic component based on an absolute coordinate and an absolute coordinate of a grid square at the mounting temperature ;
The mounting apparatus of the electronic component which mounts the said electronic component hold | maintained by the said mounting head on the said mounting position of the said mounting board attracted | sucked to the said stage based on the correction amount of the calculated said mounting position.
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