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JP6502779B2 - ガス供給系のバルブのリークを検査する方法 - Google Patents

ガス供給系のバルブのリークを検査する方法 Download PDF

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Description

本発明の実施形態は、基板処理装置の処理容器にガスを供給するためのガス供給系のバルブのリークを検査する方法に関するものである。
半導体デバイスといった電子デバイスの製造においては、基板処理装置を用いて基板に対する処理が行われる。基板処理装置において行われる処理として、例えば、プラズマを用いて、エッチング又は成膜を行うプラズマ処理が行われることがある。
このような基板処理装置におけるプロセスでは、同一の処理容器内に供給するガスを順次変更することにより、異なる処理を基板に対して行うことがある。このようなプロセスを行うためには、基板処理装置は、異なるガスを切り換えて供給することが可能なガス供給系を有する必要がある。このようなガス供給系を備える基板処理装置として、下記の特許文献１にはプラズマ処理装置が記載されている。
特許文献１に記載されたプラズマ処理装置のガス供給系は、複数のガスソースに接続されている複数の配管、当該複数の配管に接続する単一の共通配管、及び当該共通配管から分岐する複数の分岐管を含んでいる。複数の配管の各々には、バルブが設けられている。複数の分岐管の各々には流量制御器及びバルブが設けられている。このガス供給系によれば、複数の配管のバルブを選択的に開閉することにより、複数のガスソースのうち選択されたガスを複数の分岐管を介してプラズマ処理装置に供給することができる。
特開２０１３−５１３１５号公報
上述したガス供給系の複数の配管に接続されている複数のガスソースは、同時に用いられることが想定されないガスのソースである。したがって、複数の配管のバルブにリークが発生していると、望まれないガスの混合が生じる。その結果、基板処理に悪影響が及ぶ。また、複数の配管のバルブにリークが発生していると、基板処理装置の処理容器側からガスソースにガスが逆流することもある。
したがって、基板処理装置の処理容器にガスを供給するためのガス供給系のバルブ、特に、複数のガスソースに接続された複数の配管に設けられているバルブのリークを検査することが必要である。
一態様においては、基板処理装置の処理容器にガスを供給するためのガス供給系のバルブのリークを検査する方法が提供される。ガス供給系は、複数の第１の配管、複数の第１のバルブ、複数の第２のバルブ、第２の配管、第３の配管、複数の第４の配管、複数の流量制御器、複数の第３のバルブ、排気管、第４のバルブ、及び、第５の配管を備えている。複数の第１の配管は、複数のガスソースにそれぞれ接続されている。複数の第１のバルブは、複数の第１の配管にそれぞれ設けられている。複数の第２のバルブは、複数の第１のバルブよりも下流側において複数の第１の配管にそれぞれに設けられている。即ち、複数の第１の配管の各々には、ガスソース側から順に第１のバルブ及び第２のバルブが直列的に設けられている。第２の配管は、複数の第２のバルブの下流において複数の第１の配管に接続されている。第３の配管は第２の配管に接続されている。複数の第４の配管は第３の配管から分岐している。複数の流量制御器は、複数の第４の配管にそれぞれ設けられている。複数の第３のバルブは、複数の流量制御器の下流側において複数の第４の配管にそれぞれ設けられている。即ち、複数の第４の配管の各々には、第３の配管の側から順に流量制御器及び第３のバルブが直列的に設けられている。排気管は排気装置に接続されている。第４のバルブは、排気管に設けられている。第５の配管は、排気装置及び第４のバルブの上流において排気管に接続し、且つ、第２の配管に接続している。本方法は、（ｉ）複数の第１の配管の内部、第２の配管の内部、第３の配管の内部、及び複数の第４の配管の内部の排気を行う第１工程であり、複数の流量制御器それぞれのコントロールバルブ、複数の第２のバルブ、及び第４のバルブが開かれ、複数の第１のバルブ、及び複数の第３のバルブが閉じられた排気状態が形成される、該第１工程と、（ｉｉ）複数の第１のバルブ、複数の第３のバルブ、及び、第４のバルブが閉じられ、複数の第２のバルブのうち一以上の第２のバルブ又は複数の第２のバルブが開かれた第１の検査状態が形成される第２工程と、（ｉｉｉ）排気装置及び第４のバルブの上流において排気管に設けられた圧力計、又は複数の流量制御器のうち一つの流量制御器の圧力計により、圧力上昇を監視する第３工程と、（ｉｖ）複数の第２のバルブ、複数の第３のバルブ、及び、第４のバルブが閉じられ、複数の第１のバルブのうち前記一以上の第２のバルブの上流に設けられた一以上の第１のバルブ又は複数の第１のバルブが開かれた第２の検査状態を形成する第４工程と、（ｖ）排気装置及び第４のバルブの上流において排気管に設けられた前記圧力計、又は複数の流量制御器のうち一つの流量制御器の圧力計により、圧力上昇を監視する第５工程と、を含む。
上記方法によれば、第１の検査状態において開かれている第２のバルブの上流にある第１のバルブにリークが発生している場合には、圧力計により圧力上昇が検出される。また、第２の検査状態において開かれている第１のバルブの下流にある第２のバルブにリークが発生している場合には、圧力計により圧力上昇が検出される。したがって、複数の第１のバルブの何れかにリークが発生していること、また、複数の第２のバルブの何れかにリークが発生していることを検出することが可能となる。
一実施形態では、第２工程において形成される第１の検査状態では、複数の第２のバルブが開かれ、第４工程において形成される第２の検査状態では、複数の第１のバルブが開かれてもよい。
一実施形態の方法は、第３工程において圧力上昇が検出された場合に、複数の第１のバルブから順に選択される検査対象の第１のバルブのリークを検査する工程を更に含む。この工程は、複数の第１のバルブ、複数の第３のバルブ、第４のバルブ、及び複数の第２のバルブのうち検査対象の第１のバルブの下流に設けられた第２のバルブ以外の第２のバルブが閉じられた状態で、排気装置及び第４のバルブの上流において排気管に設けられた圧力計、又は複数の流量制御器のうち一つの流量制御器の圧力計により、圧力上昇を監視することを含む。この実施形態によれば、複数の第１のバルブの何れかにリークが発生していることにより第３工程において圧力上昇が検出された場合に、複数の第１のバルブのリークを個別に検出することが可能となる。
一実施形態の方法は、第５工程において圧力上昇が検出された場合に、複数の第２のバルブから順に選択される検査対象の第２のバルブのリークを検査する工程を更に含む。この工程は、複数の第２のバルブ、複数の第３のバルブ、第４のバルブ、及び複数の第１のバルブのうち前記検査対象の第２のバルブの上流に設けられた第１のバルブ以外の第１のバルブが閉じられた状態で、排気装置及び第４のバルブの上流において排気管に設けられた圧力計、又は複数の流量制御器のうち一つの流量制御器の圧力計により、圧力上昇を監視することを含む。この実施形態によれば、複数の第２のバルブの何れかにリークが発生していることにより第５工程において圧力上昇が検出された場合に、複数の第２のバルブのリークを個別に検出することが可能となる。
一実施形態では、ガス供給系は、複数の別の第１の配管、複数の別の第１のバルブ、複数の別の第２のバルブ、別の第２の配管、別の第３の配管、複数の別の第４の配管、複数の別の流量制御器、複数の別の第３のバルブ、別の第５の配管、第５のバルブ、及び、別の第５のバルブを備える。複数の別の第１の配管は、複数の別のガスソースにそれぞれ接続されている。複数の別の第１のバルブは、複数の別の第１の配管にそれぞれ設けられている。複数の別の第２のバルブは、複数の別の第１のバルブよりも下流側において複数の別の第１の配管にそれぞれ設けられている。即ち、複数の別の第１の配管の各々には、ガスソース側から順に別の第１のバルブ及び別の第２のバルブが直列的に設けられている。別の第２の配管は、複数の別の第２のバルブの下流において複数の別の第１の配管に接続されている。別の第３の配管は、別の第２の配管に接続されている。複数の別の第４の配管は、別の第３の配管から分岐している。複数の別の流量制御器は、複数の別の第４の配管にそれぞれ設けられている。複数の別の第３のバルブは、複数の別の流量制御器の下流側において複数の別の第４の配管にそれぞれ設けられている。即ち、複数の別の第４の配管の各々には、別の第３の配管の側から順に別の流量制御器及び別の第３のバルブが直列的に設けられている。別の第５の配管は、排気装置及び第４のバルブの上流において排気管に接続し、且つ、別の第２の配管に接続している。第５のバルブは、第５の配管に設けられている。また、別の第５のバルブは、別の第５の配管に設けられている。この実施形態の方法は、別の第５のバルブが閉じられた状態で、複数の別のガスソースのうち一以上のガスソースからガスを基板処理装置に供給する工程を更に含む。また、この実施形態では、ガスを基板処理装置に供給する工程の実行中に、第１工程、第２工程、第３工程、第４工程、及び第５工程が実行される。この実施形態によれば、基板処理装置のプロセス中に、当該プロセスに用いられていないガス用の第１の配管に設けられている第１のバルブ及び第２のバルブのリークを検査することができる。
以上説明したように、複数のガスソースに接続された複数の配管に設けられているバルブのリークを検査することが可能となる。
一実施形態に係るガス供給系を示す図である。 圧力制御式の流量制御器の構成を例示する図である。 一実施形態に係るプラズマ処理装置を概略的に示す図である。 別の実施形態に係るプラズマ処理装置を概略的に示す図である。 バルブＶ１３に関する別の実施形態を示す図である。 更に別の実施形態のプラズマ処理装置を概略的に示す図である。 一実施形態に係るガス供給系のバルブのリークを検査する方法を示す流れ図である。 別の実施形態に係るガス供給系のバルブのリークを検査する方法を示す流れ図である。 更に別の実施形態に係るガス供給系のバルブのリークを検査する方法を示す流れ図である。 更に別の実施形態に係るガス供給系のバルブのリークを検査する方法を示す流れ図である。
以下、図面を参照して種々の実施形態について詳細に説明する。なお、各図面において同一又は相当の部分に対しては同一の符号を附すこととする。
まず、幾つかの実施形態に係るガス供給系のバルブのリークを検査する方法を適用することが可能なガス供給系の幾つかの実施形態、及び当該ガス供給系を備える基板処理装置の実施形態について説明する。
図１は、一実施形態に係るガス供給系を示す図である。図１に示すガス供給系ＧＰ１は、第１機構ＧＭ１、第２機構ＧＭ２、及び第３機構ＧＭ３を備えている。
第１機構ＧＭ１は、複数の統合部ＧＩを有している。本実施形態では、第１機構ＧＭ１は、五つの統合部ＧＩを有している。但し、統合部ＧＩの個数は任意である。第１機構ＧＭ１は、複数の統合部ＧＩのそれぞれにおいて選択されたガスを個別の配管から出力するように構成されている。
第１機構ＧＭ１は、複数の第１の配管Ｌ１、複数の第１のバルブＶ１、複数の第２のバルブＶ２、及び複数の第２の配管Ｌ２を有している。複数の第１の配管Ｌ１はそれぞれ、複数のガスソースＧＳに接続されている。複数の第１の配管Ｌ１には、複数の第１のバルブＶ１がそれぞれ設けられている。また、複数の第１のバルブＶ１の下流において複数の第１の配管Ｌ１には、複数の第２のバルブＶ２がそれぞれ設けられている。即ち、複数の第１の配管Ｌ１の各々には、上流側（ガスソース側）から順に第１のバルブＶ１及び第２のバルブＶ２が直列的に設けられている。なお、図１には、１４個のガスソースＧＳが示されているが、複数のガスソースＧＳの個数は任意である。
複数の統合部ＧＩの各々は、一つの第２の配管Ｌ２、当該一つの第２の配管Ｌ２に接続している複数の第１の配管Ｌ１、並びに、当該複数の第１の配管Ｌ１の各々に設けられた第１のバルブＶ１及び第２のバルブＶ２を含んでいる。各統合部ＧＩには、基板処理装置で行われるプロセスにおいて同時に用いられない複数のガスソースが接続されている。各統合部ＧＩは、当該統合部ＧＩに接続された複数のガスソースＧＳのうち選択されたガスソースからのガスを供給することが可能である。
第２機構ＧＭ２は、複数の統合部ＧＩからの複数のガスを分配し、分配されたガスの流量を調整して出力するよう構成されている。第２機構ＧＭ２は、複数の第３の配管Ｌ３、複数の第４の配管Ｌ４、複数の流量制御器ＦＤ、及び、複数の第３のバルブＶ３を有している。一実施形態では、第２機構ＧＭ２は、複数のバルブＦＶ１を更に有していてもよい。
複数の第３の配管Ｌ３は、複数の第２の配管Ｌ２にそれぞれ接続されている。複数の第３の配管の各々からは、複数の第４の配管Ｌ４が分岐している。複数の流量制御器ＦＤは、複数の第４の配管Ｌ４にそれぞれ設けられている。複数の第３のバルブＶ３は、複数の流量制御器ＦＤの下流において複数の第４の配管Ｌ４にそれぞれ設けられている。また、複数のバルブＦＶ１は、複数の流量制御器ＦＤの上流において複数の第４の配管Ｌ４にそれぞれ設けられている。
一実施形態では、複数の流量制御器ＦＤは、圧力制御式の流量制御器である。図２は圧力制御式の流量制御器の構成を例示する図である。図２に示す流量制御器ＦＤは、コントロールバルブＣＶ、圧力計ＦＰＭ、及び、オリフィスＯＦを有している。コントロールバルブＣＶは、バルブＦＶ１の下流に設けられている。オリフィスＯＦはコントロールバルブＣＶの下流且つ第３のバルブＶ３の上流に設けられている。また、圧力計ＦＰＭは、コントロールバルブＣＶとオリフィスＯＦとの間のガスラインにおける圧力を計測するように構成されている。流量制御器ＦＤは、圧力計ＦＰＭによって計測された圧力に応じてコントロールバルブＣＶを制御することにより、オリフィスＯＦの上流のガスラインの圧力を調整する。これにより、流量制御器ＦＤを通過するガスの流量が調整される。
再び図１を参照する。図１に示すように、一実施形態では、第２機構ＧＭ２は、複数の合流管ＭＬを更に有している。複数の合流管ＭＬの個数は、基板処理装置の例である後述のプラズマ処理装置のガス吐出部と同数である。複数の合流管ＭＬの各々には、各第３の配管Ｌ３に接続している複数の第４の配管Ｌ４のうち一つの第４の配管Ｌ４が接続している。
また、第２機構ＧＭ２は、複数の流量制御ユニット群ＦＵＧを提供している。複数の流量制御ユニット群ＦＵＧの各々は、対応の一つの合流管ＭＬに接続している複数の第４の配管Ｌ４にそれぞれ設けられた複数の流量制御ユニットＦＵを含んでいる。複数の流量制御ユニットＦＵの各々は、一つの第４の配管Ｌ４に設けられた流量制御器ＦＤ、当該流量制御器ＦＤの上流に設けられたバルブＦＶ１、及び、当該流量制御器ＦＤの下流に設けられた第３のバルブＶ３を含んでいる。複数の流量制御ユニット群ＦＵＧの個数は、後述のガス吐出部と同数である。図１に示す例では、複数の流量制御ユニット群ＦＵＧの個数は、三つである。但し、流量制御ユニット群ＦＵＧの個数及びガス吐出部の個数は、複数であれば、任意の個数であることができる。
かかる第２機構ＧＭ２では、複数の第３の配管Ｌ３それぞれからのガスが複数の流量制御ユニット群ＦＵＧに分配され、各流量制御ユニット群ＦＵＧの対応の流量制御ユニットＦＵに供給されるようになっている。各流量制御ユニット群ＦＵＧでは、対応の流量制御ユニットＦＵがガスの流量を調整して、流量が調整されたガスを合流管ＭＬに供給するようになっている。
第３機構ＧＭ３は、ガス供給系ＧＰ１の排気用の機構である。第３機構ＧＭ３は、排気管ＥＬ、第４のバルブＶ４、複数の第５の配管Ｌ５、複数の第５のバルブ、及びバルブＶ６を有している。
排気管ＥＬには、第４のバルブＶ４及びバルブＶ６が設けられている。第４のバルブＶ４は、排気管ＥＬの下流側に設けられており、バルブＶ６は排気管ＥＬの上流側に設けられている。排気管ＥＬは、バルブＶ６の上流においてパージガスのソースＧＳＰに接続している。パージガスは例えば、Ｎ２ガスといった不活性ガスである。また、排気管ＥＬは、第４のバルブＶ４の下流において排気装置に接続されている。一実施形態では、排気管ＥＬは、後述するプラズマ処理装置のターボ分子ポンプとドライポンプとの間の配管に接続される。なお、後述するように、プラズマ処理装置では、処理容器にターボ分子ポンプが接続され、当該ターボ分子ポンプの下流にドライポンプが設けられ得る。
複数の第５の配管Ｌ５の一端は、バルブＶ６と第４のバルブＶ４の間において排気管ＥＬに接続している。また、複数の第５の配管Ｌ５それぞれの他端は、対応の第２の配管Ｌ２に接続している。複数の第５の配管Ｌ５には、複数の第５のバルブＶ５がそれぞれ設けられている。
一実施形態では、バルブＶ６と第４のバルブＶ４の間において排気管ＥＬには圧力計ＰＭが接続されている。圧力計ＰＭは排気管ＥＬ内の流路の圧力を計測するようになっている。
かかるガス供給系ＧＰ１によれば、バルブＶ６、第４のバルブＶ４、及び複数の第５のバルブＶ５を閉じて、各統合部ＧＩの複数の第１の配管Ｌ１のうち所望の一つの第１の配管Ｌ１に設けられている第１のバルブＶ１及び第２のバルブＶ２を開き、複数の流量制御ユニット群ＦＵＧそれぞれの対応の流量制御ユニットＦＵにおいて流量を調整することにより、所望のガスを複数の合流管ＭＬから基板処理装置に出力することができる。
次いで、ガス供給系ＧＰ１から基板処理装置に供給するガスを変更する場合には、全ての第１のバルブＶ１及び全ての第２のバルブＶ２、並びに複数の第３のバルブＶ３を閉じ、バルブＶ６、第４のバルブＶ４、全ての第５のバルブＶ５、及び複数の流量制御器ＦＤのコントロールバルブＣＶを開くことにより、複数の第１の配管Ｌ１、複数の第２の配管Ｌ２、複数の第３の配管Ｌ３、及び複数の第４の配管に残留しているガスを高速に排気することができる。
次いで、バルブＶ６、第４のバルブＶ４、及び全ての第５のバルブＶ５を閉じ、各統合部ＧＩの複数の第１の配管Ｌ１のうち所望の一つの第１の配管Ｌ１に設けられている第１のバルブＶ１及び第２のバルブＶ２を開き、複数の流量制御ユニット群ＦＵＧそれぞれの対応の流量制御ユニットＦＵにおいて流量を調整することにより、所望のガスを複数の合流管ＭＬから基板処理装置に出力することができる。このように、ガス供給系ＧＰ１は、当該ガス供給系ＧＰ１内の流路内のガスを高速に、即ち、短時間で排気して、別のガスに置換することが可能である。
以下、ガス供給系ＧＰ１を備える基板処理装置として、一実施形態のプラズマ処理装置について説明する。図３は、一実施形態に係るプラズマ処理装置を概略的に示す図である。図３に示すプラズマ処理装置１０は、容量結合型プラズマ処理装置であり、プラズマ処理として、例えば、プラズマエッチングのために用いられる装置である。
プラズマ処理装置１０は、処理容器１２を備えている。処理容器１２は、略円筒形状を有している。処理容器１２は、例えば、アルミニウムから構成されており、その内壁面には陽極酸化処理が施されている。この処理容器１２は保安接地されている。また、処理容器１２の側壁には基板（以下、「ウエハＷ」という）の搬入出口１２ｇが設けられており、この搬入出口１２ｇはゲートバルブ５４により開閉可能となっている。
処理容器１２の底部上には、略円筒状の支持部１４が設けられている。支持部１４は、例えば、絶縁材料から構成されている。支持部１４は、処理容器１２内において、処理容器１２の底部から鉛直方向に延在している。また、処理容器１２内には、載置台ＰＤが設けられている。載置台ＰＤは、支持部１４によって支持されている。
載置台ＰＤは、その上面においてウエハＷを保持する。載置台ＰＤは、下部電極ＬＥ及び静電チャックＥＳＣを有している。下部電極ＬＥは、第１プレート１８ａ及び第２プレート１８ｂを含んでいる。第１プレート１８ａ及び第２プレート１８ｂは、例えばアルミニウムといった金属から構成されており、略円盤形状をなしている。第２プレート１８ｂは、第１プレート１８ａ上に設けられており、第１プレート１８ａに電気的に接続されている。
第２プレート１８ｂ上には、静電チャックＥＳＣが設けられている。静電チャックＥＳＣは、導電膜である電極を一対の絶縁層又は絶縁シート間に配置した構造を有している。静電チャックＥＳＣの電極には、直流電源２２がスイッチ２３を介して電気的に接続されている。この静電チャックＥＳＣは、直流電源２２からの直流電圧により生じたクーロン力等の静電力によりウエハＷを吸着する。これにより、静電チャックＥＳＣは、ウエハＷを保持することができる。
第２プレート１８ｂの周縁部上には、ウエハＷのエッジ及び静電チャックＥＳＣを囲むようにフォーカスリングＦＲが配置されている。フォーカスリングＦＲは、プラズマ処理の均一性を向上させるために設けられている。フォーカスリングＦＲは、例えば、シリコン、石英、又はＳｉＣといった材料から構成され得る。
第２プレート１８ｂの内部には、冷媒流路２４が設けられている。冷媒流路２４は、温調機構を構成している。冷媒流路２４には、処理容器１２の外部に設けられたチラーユニットから配管２６ａを介して冷媒が供給される。冷媒流路２４に供給された冷媒は、配管２６ｂを介してチラーユニットに戻される。このように、冷媒流路２４には、冷媒が循環するよう、供給される。この冷媒の温度を制御することにより、静電チャックＥＳＣによって支持されたウエハＷの温度が制御される。
また、プラズマ処理装置１０には、ガス供給ライン２８が設けられている。ガス供給ライン２８は、伝熱ガス供給機構からの伝熱ガス、例えばＨｅガスを、静電チャックＥＳＣの上面とウエハＷの裏面との間に供給する。
また、プラズマ処理装置１０には、加熱素子であるヒータＨＴが設けられている。ヒータＨＴは、例えば、第２プレート１８ｂ内に埋め込まれている。ヒータＨＴには、ヒータ電源ＨＰが接続されている。ヒータ電源ＨＰからヒータＨＴに電力が供給されることにより、載置台ＰＤの温度が調整され、当該載置台ＰＤ上に載置されるウエハＷの温度が調整されるようになっている。なお、ヒータＨＴは、静電チャックＥＳＣに内蔵されていてもよい。
また、プラズマ処理装置１０は、上部電極３０を備えている。上部電極３０は、載置台ＰＤの上方において、当該載置台ＰＤと対向配置されている。下部電極ＬＥと上部電極３０とは、互いに略平行に設けられている。上部電極３０と載置台ＰＤとの間には、ウエハＷにプラズマ処理を行うための処理空間Ｓが提供されている。
上部電極３０は、絶縁性遮蔽部材３２を介して、処理容器１２の上部に支持されている。一実施形態では、上部電極３０は、載置台ＰＤの上面、即ち、ウエハ載置面からの鉛直方向における距離が可変であるように構成され得る。上部電極３０は、天板３４及び支持体３６を含み得る。天板３４は処理空間Ｓに面しており、当該天板３４には複数のガス吐出孔３４ａが設けられている。この天板３４は、シリコン、酸化シリコンから構成され得る。或いは、天板３４は、導電性（例えば、アルミニウム）の母材にセラミックスのコーティングを施すことによって形成され得る。
支持体３６は、天板３４を着脱自在に支持するものであり、例えばアルミニウムといった導電性材料から構成され得る。この支持体３６は、水冷構造を有し得る。支持体３６の内部には、複数のガス拡散室３６ａが設けられている。複数のガス拡散室３６ａは、ウエハＷの中心、即ち、載置台ＰＤの中心を通って鉛直方向に延びる軸線中心に、同心状に設けられている。図３に示すように、複数のガス拡散室３６ａにはそれぞれ、ガス供給系ＧＰ１の複数の合流管ＭＬが接続している。
図３に示す例では、複数のガス拡散室３６ａは、三つのガス拡散室、即ち、ガス拡散室３６ａ（１）、ガス拡散室３６ａ（２）、及びガス拡散室３６ａ（３）を含んでいる。
ガス拡散室３６ａ（１）は、上述した軸線上に設けられており、鉛直方向から視たときに円形の平面形状を有し得る。ガス拡散室３６ａ（２）は、ガス拡散室３６ａ（１）の外側で環状に延在している。また、ガス拡散室３６ａ（３）は、ガス拡散室３６ａ（２）の外側で環状に延在している。
図３に示すように、支持体３６には、各ガス拡散室３６ａと当該ガス拡散室３６ａの下方で延在する複数のガス吐出孔３４ａとを接続する複数の連通孔３６ｂが形成されている。かかる構成の上部電極３０は、シャワーヘッドＳＨを構成している。
シャワーヘッドＳＨでは、一つのガス拡散室３６ａと当該ガス拡散室３６ａに接続する複数のガス吐出孔が一つのガス吐出部を構成している。したがって、シャワーヘッドＳＨは複数のガス吐出部を提供している。これら複数のガス吐出部からは、処理容器１２内の異なる複数のゾーンに向けて、即ち、ウエハＷの径方向の異なる領域に向けて、ガスを供給することができる。
また、プラズマ処理装置１０では、処理容器１２の内壁に沿ってデポシールド４６が着脱自在に設けられている。デポシールド４６は、支持部１４の外周にも設けられている。デポシールド４６は、処理容器１２にプラズマ処理の副生物（デポ）が付着することを防止するものであり、アルミニウム材にＹ２Ｏ３等のセラミックスを被覆することにより構成され得る。
処理容器１２の底部側、且つ、支持部１４と処理容器１２の側壁との間には排気プレート４８が設けられている。排気プレート４８は、例えば、アルミニウム材にＹ２Ｏ３等のセラミックスを被覆することにより構成され得る。排気プレート４８には、多数の貫通孔が形成されている。この排気プレート４８の下方、且つ、処理容器１２には、排気口１２ｅが設けられている。排気口１２ｅには、排気管５２を介して排気装置５０及び排気装置５１が接続されている。一実施形態では、排気装置５０は、ターボ分子ポンプであり、排気装置５１はドライポンプである。排気装置５０は、処理容器１２に対して、排気装置５１よりも上流側に設けられている。これら排気装置５０と排気装置５１との間の配管には、ガス供給系ＧＰ１の排気管ＥＬが接続している。排気装置５０と排気装置５１との間に排気管ＥＬが接続されることにより、排気管ＥＬから処理容器１２内へのガスの逆流が抑制される。
また、プラズマ処理装置１０は、第１の高周波電源６２及び第２の高周波電源６４を更に備えている。第１の高周波電源６２は、プラズマ生成用の第１の高周波を発生する電源であり、２７〜１００ＭＨｚの周波数、一例においては４０ＭＨｚの高周波を発生する。第１の高周波電源６２は、整合器６６を介して下部電極ＬＥに接続されている。整合器６６は、第１の高周波電源６２の出力インピーダンスと負荷側（下部電極ＬＥ側）の入力インピーダンスを整合させるための回路を有している。
第２の高周波電源６４は、ウエハＷにイオンを引き込むための第２の高周波、即ちバイアス用の高周波を発生する電源であり、４００ｋＨｚ〜１３．５６ＭＨｚの範囲内の周波数、一例においては３．２ＭＨｚの第２の高周波を発生する。第２の高周波電源６４は、整合器６８を介して下部電極ＬＥに接続されている。整合器６８は、第２の高周波電源６４の出力インピーダンスと負荷側（下部電極ＬＥ側）の入力インピーダンスを整合させるための回路を有している。
また、一実施形態においては、プラズマ処理装置１０は、制御部Ｃｎｔを更に備え得る。この制御部Ｃｎｔは、プロセッサ、記憶部、入力装置、表示装置等を備えるコンピュータである。制御部Ｃｎｔは、プラズマ処理装置１０にて実行されるプラズマ処理のために、当該プラズマ処理装置１０の各部を制御する。
このプラズマ処理装置１０では、処理容器１２内に供給されたガスを励起させて、プラズマを発生させることができる。そして、活性種によってウエハＷを処理することができる。また、ガス供給系ＧＰ１によって、異なるガスを高速に切り換えて処理容器１２内に供給することができる。したがって、異なるプラズマ処理をウエハＷに対して交互に行うプロセスのスループットを高めることが可能である。
以下、別の実施形態に係るガス供給系、及び、当該ガス供給系を備える基板処理装置の一例であるプラズマ処理装置について説明する。図４は、別の実施形態に係るプラズマ処理装置を概略的に示す図である。図４に示すプラズマ処理装置１０２は、図３に示したプラズマ処理装置１０のガス供給系ＧＰ１以外の構成、即ち、処理容器１２、シャワーヘッドＳＨ、排気装置５０、排気装置５１等を備えている。以下、ガス供給系以外の処理容器等を含む構成をリアクタ部という。
プラズマ処理装置１０２は、ガス供給系ＧＰ２を更に備えている。ガス供給系ＧＰ２は、第１機構ＧＭ２１、第２機構ＧＭ２２、及び、第３機構ＧＭ２３を含んでいる。第１機構ＧＭ２１は、当該第１機構ＧＭ２１の統合部ＧＩの個数がガス供給系ＧＰ１の第１機構ＧＭ１の統合部ＧＩの個数より多い点で当該第１機構ＧＭ１と異なっているだけである。したがって、図４に示すように、第１機構ＧＭ２１からは、第１機構ＧＭ１よりも多数の第２の配管Ｌ２が延びている。
第３機構ＧＭ２３は、第１機構ＧＭ２１の第２の配管Ｌ２の個数と同数の第５の配管Ｌ５及び第５のバルブＶ５を有する点、即ち、ガス供給系ＧＰ１の第３機構ＧＭ３の第５の配管Ｌ５の個数よりも多い第５の配管Ｌ５を有し、当該第３機構ＧＭ３の第５のバルブＶ５の個数よりも多い第５のバルブＶ５を有する点において、ガス供給系ＧＰ１の第３機構ＧＭ３とは異なっている。この第３機構ＧＭ２３の排気管ＥＬは、ガス供給系ＧＰ１の第３機構ＧＭ３の排気管ＥＬと同様に、排気装置５０と排気装置５１との間の配管に接続している。
第２機構ＧＭ２２は、複数の流量制御ユニット群ＦＵＧを有している。図４に示す例では、第２機構ＧＭ２２の複数の流量制御ユニット群ＦＵＧの個数は３個であるが、この個数に限定されるものではない。複数の流量制御ユニット群ＦＵＧの各々は、複数の流量制御ユニットＦＵを有している。第２機構ＧＭ２２においては、各流量制御ユニット群ＦＵＧが有する流量制御ユニットＦＵの個数は、ガス供給系ＧＰ１の各流量制御ユニット群ＦＵＧが有する流量制御ユニットＦＵの個数よりも多くなっている。
第２機構ＧＭ２２は、複数の分岐管ＢＬ１、複数の分岐管ＢＬ２、複数のバルブＶ７、複数のバルブＶ８、複数の合流管ＭＬ１、及び、複数の合流管ＭＬ２を有している。
複数の分岐管ＢＬ１はそれぞれ、対応の流量制御ユニットＦＵの下流において、複数の第４の配管Ｌ４に接続されている。また、複数の分岐管ＢＬ２もそれぞれ、対応の流量制御ユニットＦＵの下流において、複数の第４の配管Ｌ４に接続されている。即ち、流量制御ユニットＦＵの下流において、各第４の配管Ｌ４からは、分岐管ＢＬ１と分岐管ＢＬ２が分岐している。各分岐管ＢＬ１にはバルブＶ７が設けられており、各分岐管ＢＬ２にはバルブＶ８が設けられている。
複数の合流管ＭＬ１は、流量制御ユニット群ＦＵＧごとに、複数の分岐管ＢＬ１からのガスを合流させるように構成されている。即ち、一つの合流管ＭＬ１には、対応の一つの流量制御ユニット群ＦＵＧの複数の流量制御ユニットＦＵに接続する複数の分岐管ＢＬ１が接続している。また、複数の合流管ＭＬ２は、流量制御ユニット群ＦＵＧごとに、複数の分岐管ＢＬ２からのガスを合流させるように構成されている。即ち、一つの合流管ＭＬ２には、対応の一つの流量制御ユニット群ＦＵＧの複数の流量制御ユニットＦＵに接続する複数の分岐管ＢＬ２が接続している。
また、図４に示すガス供給系ＧＰ２の第２機構ＧＭ２２は、複数のバルブＶ９、複数のバルブＶ１０、複数のバルブＶ１１、及び複数のバルブＶ１２を更に備えている。
各合流管ＭＬ１は、シャワーヘッドＳＨの複数のガス吐出部のうち対応のガス吐出部にバルブＶ９を介して接続している。また、各合流管ＭＬ１は、バルブＶ１０を介して、排気装置５０と排気装置５１との間の配管に接続している。即ち、各合流管ＭＬ１は、バルブＶ９を有する配管ＬＡ及びバルブＶ１０を有する配管ＬＢに分岐している。配管ＬＡは配管ＬＭに合流し、当該配管ＬＭはシャワーヘッドＳＨの複数のガス吐出部のうち対応のガス吐出部に接続している。また、配管ＬＢは、排気装置５０と排気装置５１との間の配管に接続している。
各合流管ＭＬ２は、シャワーヘッドＳＨの複数のガス吐出部のうち対応のガス吐出部にバルブＶ１１を介して接続している。また、各合流管ＭＬ２は、バルブＶ１２を介して、排気装置５０と排気装置５１との間の配管に接続している。即ち、各合流管ＭＬ２は、バルブＶ１１を有する配管ＬＣ及びバルブＶ１２を有する配管ＬＤに分岐している。配管ＬＣは、同一の流量制御ユニット群ＦＵＧからのガスを導く配管ＬＡと共に配管ＬＭに合流し、当該配管ＬＭはシャワーヘッドＳＨの複数のガス吐出部のうち対応のガス吐出部に接続している。また、配管ＬＤは、排気装置５０と排気装置５１との間の配管に接続している。
また、プラズマ処理装置１０２は、バルブＶ１３を更に備えていてもよい。バルブＶ１３は、シャワーヘッドＳＨと、処理容器１２と排気装置５０との間の排気管５２（図３参照）とに接続する配管に設けられている。このバルブＶ１３は、ガス供給系ＧＰ２内のガスを排気するときに開かれる。これにより、シャワーヘッドＳＨ内のガスは、排気装置５０へと排気される。したがって、シャワーヘッドＳＨ内のガスをも高速に排気することが可能である。
図５は、バルブＶ１３に関する別の実施形態を示す図である。図５に示す実施形態では、シャワーヘッドＳＨは、複数のガス吐出部、例えば、ガス吐出部Ｄ１、ガス吐出部Ｄ２、及び、ガス吐出部Ｄ３を有している。ガス吐出部Ｄ１はガス拡散室３６ａ（１）を含み、ガス吐出部Ｄ２はガス拡散室３６ａ（２）を含み、ガス吐出部Ｄ３はガス拡散室３６ａ（３）を含んでいる。この実施形態では、ガス拡散室３６ａ（１）に接続するガス吐出孔３４ａの個数よりも、ガス拡散室３６ａ（３）に接続するガス吐出孔３４ａの個数が多くなっている。したがって、ガス吐出部Ｄ１のコンダクタンスよりも、ガス吐出部Ｄ３のコンダクタンスが高くなっている。かかるシャワーヘッドＳＨ内のガスを高速に排気するために、バルブＶ１３を有する配管がガス吐出部Ｄ１とガス吐出部Ｄ３とを接続している。このバルブＶ１３は、ガス供給系ＧＰ２内のガスを排気するときに開かれる。これにより、ガス吐出部Ｄ１からのガスはガス吐出部Ｄ３へと流れ、処理容器１２内の空間を介して高速に排気される。
以上説明したガス供給系ＧＰ２においても、ガス供給系ＧＰ１と同様に、当該ガス供給系ＧＰ２内の流路内のガスを高速に、即ち、短時間で置換することが可能である。また、ガス供給系ＧＰ２では、各第４の配管Ｌ４から分岐している一対の分岐管ＢＬ１及び分岐管ＢＬ２にそれぞれ設けられたバルブＶ７及びバルブＶ８のうち一方を開くことにより、各流量制御ユニット群ＦＵＧの複数の流量制御ユニットＦＵのうち一部からのガスＡを合流管ＭＬ１に供給し、別の一部からのガスＢを合流管ＭＬ２に供給することができる。
かかるガス供給系ＧＰ２を有するプラズマ処理装置１０２によれば、複数の合流管ＭＬ１からのガスＡ及び複数の合流管ＭＬ２からのガスＢを、交互に処理容器１２内に供給し、処理容器１２内に供給されていないガスを、排気側に流すことが可能である。これにより、処理容器１２内に供給するガスの変更を高速に行うことができる。この場合のガスＡとガスＢは異種のガスである。したがって、異なるプラズマ処理をウエハＷに対して交互に行うプロセスのスループットを高めることができる。
或いは、プラズマ処理装置１０２によれば、合流管ＭＬ１から処理容器１２内に連続的にガスＡを供給し、合流管ＭＬ２からのガスＢを断続的に、即ちパルス状に処理容器１２内に供給することができる。この場合に、合流管ＭＬ２からのガスは、合流管ＭＬ１からのガスと異なるガスであってもよく、同じガスであってもよい。
以下、更に別の実施形態のプラズマ処理装置について説明する。図６は更に別の実施形態のプラズマ処理装置を概略的に示す図である。図６に示すプラズマ処理装置１０３は、リアクタ部ＲＡ及びリアクタ部ＲＢを備えている。リアクタ部ＲＡ及びリアクタ部ＲＢは、プラズマ処理装置１０及びプラズマ処理装置１０２のリアクタ部と同様のリアクタ部である。
プラズマ処理装置１０３は、ガス供給系ＧＰ３を更に備えている。ガス供給系ＧＰ３は、ガス供給系ＧＰ２と同様に、第１機構ＧＭ２１、及び、第３機構ＧＭ２３を有している。ガス供給系ＧＰ３は、第２機構ＧＭ３２を更に有している。プラズマ処理装置１０２では、第２機構ＧＭ２２の合流管ＭＬ１及び合流管ＭＬ２が単一のリアクタ部のシャワーヘッドＳＨに接続されていたが、プラズマ処理装置１０３では、第２機構ＧＭ３２の複数の合流管ＭＬ１はそれぞれ、リアクタ部ＲＡのシャワーヘッドＳＨの複数のガス吐出部に接続されており、複数の合流管ＭＬ２はそれぞれ、リアクタ部ＲＢのシャワーヘッドＳＨの複数のガス吐出部に接続されている。
また、プラズマ処理装置１０３では、第３機構ＧＭ２３の排気管ＥＬは、リアクタ部ＲＡの排気装置５０と排気装置５１との間の配管、又は、リアクタ部ＲＢの排気装置５０と排気装置５１との間の配管に接続され得る。
かかるプラズマ処理装置１０３によれば、単一のガス供給系ＧＰ３から、リアクタ部ＲＡの処理容器１２内にガスＡを供給し、リアクタ部ＲＢの処理容器１２内にガスＢを供給することができる。ガスＡとガスＢは異種のガスであってもよく、同種のガスであってもよい。ガスＡとガスＢが異種のガスである場合には、リアクタ部ＲＡとリアクタ部ＲＢとで異なるプラズマ処理を行うことができる。一方、ガスＡとガスＢが同種のガスである場合には、リアクタ部ＲＡとリアクタ部ＲＢとで同様のプラズマ処理を行うことができる。
以下、ガス供給系のバルブのリークを検査する方法の幾つかの実施形態について説明する。図７は、一実施形態に係るガス供給系のバルブのリークを検査する方法を示す流れ図である。図７に示す方法ＭＴ１は、複数の第１のバルブＶ１及び複数の第２のバルブＶ２のリークを順に且つ個別に検査する方法であり、ガス供給系ＧＰ１、ガス供給系ＧＰ２、及びガス供給系ＧＰ３の何れにも適用可能な方法である。また、方法ＭＴ１は、例えば、基板に対するプロセスが実行されていない基板処理装置の休止期間に実行され得る。即ち、方法ＭＴ１は、基板処理装置の処理容器内に複数のガスソースＧＳからのガスが供給されていない休止期間に実行され得る。
図７に示すように、方法ＭＴ１では、まず、工程ＳＴ１が実行される。工程ＳＴ１では、複数の第１の配管Ｌ１の内部、複数の第２の配管Ｌ２の内部、複数の第３の配管Ｌ３の内部、及び複数の第４の配管Ｌ４の内部の排気が行われる。このために、工程ＳＴ１では、排気状態が形成される。排気状態は、複数の流量制御器ＦＤそれぞれのコントロールバルブＣＶ、複数の第２のバルブＶ２、及び第４のバルブＶ４が開かれ、複数の第１のバルブＶ１、複数の第３のバルブＶ３が閉じられた状態である。なお、排気状態では、複数の第５のバルブＶ５は開かれる。バルブＶ６は開かれていてもよく、閉じられていてもよい。排気状態では、第４のバルブＶ４の下流において排気管ＥＬに接続されている排気装置により、複数の第１の配管Ｌ１の内部、複数の第２の配管Ｌ２の内部、複数の第３の配管Ｌ３の内部、及び複数の第４の配管Ｌ４の内部にあるガスが排気される。具体的には、複数の第１のバルブＶ１よりも下流における複数の第１の配管Ｌ１の内部、複数の第２の配管Ｌ２の内部、複数の第３の配管Ｌ３の内部、及び、複数の第３のバルブＶ３よりも上流における第４の配管Ｌ４の内部にあるガスが排気される。
以後、方法ＭＴ１では、複数の第１のバルブＶ１から順に選択される検査対象の第１のバルブＶ１、及び、複数の第２のバルブＶ２から順に選択される検査対象の第２のバルブＶ２に対して、工程ＳＴ２〜工程ＳＴ５を含むシーケンスが実行される。
工程ＳＴ２では、第１の検査状態が形成される。第１の検査状態では、複数の第１のバルブＶ１、複数の第３のバルブＶ３、及び、第４のバルブＶ４が閉じられる。また、第１の検査状態では、複数の第２のバルブＶ２のうち検査対象の第１のバルブＶ１の下流に設けられている第２のバルブＶ２が開かれる。また、検査対象の第１のバルブＶ１の下流に設けられている第２のバルブＶ２以外の第２のバルブＶ２は閉じられる。なお、第１の検査状態では、バルブＶ６は閉じられる。また、工程ＳＴ３において圧力計ＰＭが利用される場合には、特定の第５のバルブＶ５が開かれる。この特定の第５のバルブＶ５は、検査対象の第１のバルブＶ１が設けられている第１の配管Ｌ１に第２の配管Ｌ２を介して接続している第５の配管Ｌ５に設けられている第５のバルブＶ５である。一方、工程ＳＴ３において圧力計ＦＰＭが利用される場合には、複数の第５のバルブＶ５は閉じられていてもよく、開かれていてもよい。また、工程ＳＴ３において圧力計ＰＭが利用される場合には、複数の流量制御器ＦＤのコントロールバルブＣＶは開かれていてもよく、閉じられていてもよい。一方、工程ＳＴ３において圧力計ＦＰＭが利用される場合には、工程ＳＴ３において利用される圧力計ＦＰＭを有する流量制御器ＦＤのコントロールバルブＣＶが開かれる。
次いで、方法ＭＴ１では、工程ＳＴ３が実行される。工程ＳＴ３では、圧力計ＦＰＭによって、圧力上昇が所定時間監視される。この圧力計ＦＰＭは、検査対象の第１のバルブＶ１が設けられている第１の配管Ｌ１に第２の配管Ｌ２及び第３の配管Ｌ３を介して接続している一つの第４の配管Ｌ４に設けられている流量制御器ＦＤの圧力計ＦＰＭである。この圧力計ＦＰＭにおいて圧力上昇が検出されなければ、検査対象の第１のバルブＶ１にリークが発生していないと判断される。例えば、所定時間経過時に圧力計ＦＰＭによって計測された圧力と工程ＳＴ３の初期に圧力計ＦＰＭによって計測された圧力との差が所定値よりも小さい場合には、検査対象の第１のバルブＶ１にリークが発生していないと判断される。一方、圧力計ＦＰＭにおいて圧力上昇が検出された場合、検査対象の第１のバルブＶ１にリークが発生していると判断される。例えば、所定時間経過時に圧力計ＦＰＭによって計測された圧力と工程ＳＴ３の初期に圧力計ＦＰＭによって計測された圧力との差が所定値以上である場合に、検査対象の第１のバルブＶ１にリークが発生していると判断される。
或いは、工程ＳＴ３では、圧力計ＰＭによって圧力上昇が所定時間監視される。この所定時間内において圧力計ＰＭにおいて圧力上昇が検出されなければ、検査対象の第１のバルブＶ１にリークが発生していないと判断される。例えば、所定時間経過時に圧力計ＰＭによって計測された圧力と工程ＳＴ３の初期に圧力計ＰＭによって計測された圧力との差が所定値よりも小さい場合には、検査対象の第１のバルブＶ１にリークが発生していないと判断される。一方、圧力計ＰＭにおいて圧力上昇が検出された場合、検査対象の第１のバルブＶ１にリークが発生していると判断される。例えば、所定時間経過時に圧力計ＰＭによって計測された圧力と工程ＳＴ３の初期に圧力計ＰＭによって計測された圧力との差が所定値以上である場合に、検査対象の第１のバルブＶ１にリークが発生していると判断される。
続く工程ＳＴ４では、第２の検査状態が形成される。第２の検査状態では、複数の第２のバルブＶ２、複数の第３のバルブＶ３、及び、第４のバルブＶ４が閉じられる。また、第２の検査状態では、複数の第１のバルブＶ１のうち検査対象の第２のバルブＶ２の上流に設けられている第１のバルブＶ１が開かれる。また、検査対象の第２のバルブＶ２の上流に設けられている第１のバルブＶ１以外の第１のバルブＶ１は閉じられる。なお、第２の検査状態では、バルブＶ６は閉じられる。また、工程ＳＴ５において圧力計ＰＭが利用される場合には、特定の第５のバルブＶ５が開かれる。特定の第５のバルブＶ５は、検査対象の第２のバルブＶ２が設けられている第１の配管Ｌ１に第２の配管Ｌ２を介して接続している第５の配管Ｌ５に設けられている第５のバルブＶ５である。一方、工程ＳＴ５において圧力計ＦＰＭが利用される場合には、複数の第５のバルブＶ５は閉じられていてもよく、開かれていてもよい。また、工程ＳＴ５において圧力計ＰＭが利用される場合には、複数の流量制御器ＦＤのコントロールバルブＣＶは開かれていてもよく、閉じられていてもよい。一方、工程ＳＴ５において圧力計ＦＰＭが利用される場合には、工程ＳＴ５において利用される圧力計ＦＰＭを有する流量制御器ＦＤのコントロールバルブＣＶが開かれる。
次いで、方法ＭＴ１では、工程ＳＴ５が実行される。工程ＳＴ５では、圧力計ＦＰＭによって、圧力上昇が所定時間監視される。この圧力計ＦＰＭは、検査対象の第２のバルブＶ２が設けられている第１の配管Ｌ１に第２の配管Ｌ２及び第３の配管Ｌ３を介して接続している一つの第４の配管Ｌ４に設けられている流量制御器ＦＤの圧力計ＦＰＭである。この圧力計ＦＰＭにおいて圧力上昇が検出されなければ、検査対象の第２のバルブＶ２にリークが発生していないと判断される。例えば、所定時間経過時に圧力計ＦＰＭによって計測された圧力と工程ＳＴ５の初期に圧力計ＦＰＭによって計測された圧力との差が所定値よりも小さい場合には、検査対象の第２のバルブＶ２にリークが発生していないと判断される。一方、圧力計ＦＰＭにおいて圧力上昇が検出された場合、検査対象の第２のバルブＶ２にリークが発生していると判断される。例えば、所定時間経過時に圧力計ＦＰＭによって計測された圧力と工程ＳＴ５の初期に圧力計ＦＰＭによって計測された圧力との差が所定値以上である場合に、検査対象の第２のバルブＶ２にリークが発生していると判断される。
或いは、工程ＳＴ５では、圧力計ＰＭによって圧力上昇が所定時間監視される。この所定時間内において圧力計ＰＭにおいて圧力上昇が検出されなければ、検査対象の第２のバルブＶ２にリークが発生していないと判断される。例えば、所定時間経過時に圧力計ＰＭによって計測された圧力と工程ＳＴ５の初期に圧力計ＰＭによって計測された圧力との差が所定値よりも小さい場合には、検査対象の第２のバルブＶ２にリークが発生していないと判断される。一方、圧力計ＰＭにおいて圧力上昇が検出された場合、検査対象の第２のバルブＶ２にリークが発生していると判断される。例えば、所定時間経過時に圧力計ＰＭによって計測された圧力と工程ＳＴ５の初期に圧力計ＰＭによって計測された圧力との差が所定値以上である場合に、検査対象の第２のバルブＶ２にリークが発生していると判断される。
続く工程ＳＴＪでは、全ての第１のバルブＶ１及び全ての第２のバルブＶ２の検査が完了しているか否かが判定されている。工程ＳＴＪにおいて、検査が完了していない第１のバルブＶ１及び第２のバルブＶ２が存在すると判定される場合には、検査が完了していない第１のバルブＶ１及び第２のバルブＶ２が検査対象の第１のバルブＶ１及び検査対象の第２のバルブＶ２として選択され、工程ＳＴ２から工程ＳＴ５のシーケンスが再び実行される。一方、全ての第１のバルブＶ１及び全ての第２のバルブＶ２の検査が完了している場合には、方法ＭＴ１は終了する。
この方法ＭＴ１によれば、複数の第１の配管Ｌ１にそれぞれ設けられている複数の第１のバルブＶ１及び複数の第２のバルブＶ２のリークを順に且つ個別に検査することが可能である。なお、工程ＳＴ２及び工程ＳＴ３は、工程ＳＴ４及び工程ＳＴ５の実行後に実行されてもよい。
以下、別の実施形態に係るガス供給系のバルブのリークを検査する方法について説明する。図８は、別の実施形態に係るガス供給系のバルブのリークを検査する方法を示す流れ図である。図８に示す方法ＭＴ２は、複数の第１のバルブＶ１のリークを同時に検査し、複数の第１のバルブＶ１の何れかにリークが発生している場合には、複数の第１のバルブＶ１のリークを順に検査する方法である。また、方法ＭＴ２は、複数の第２のバルブＶ２のリークを同時に検査し、複数の第２のバルブＶ２の何れかにリークが発生している場合には、複数の第２のバルブＶ２のリークを順に検査する方法である。この方法ＭＴ２は、ガス供給系ＧＰ１、ガス供給系ＧＰ２、及びガス供給系ＧＰ３の何れにも適用可能な方法である。また、方法ＭＴ２は、例えば、基板に対するプロセスが実行されていない基板処理装置の休止期間に実行され得る。即ち、方法ＭＴ２は、基板処理装置の処理容器内に複数のガスソースＧＳからのガスが供給されていない休止期間に実行され得る。
図８に示すように、方法ＭＴ２では、まず、工程ＳＴ２１が実行される。工程ＳＴ２１は、方法ＭＴ１の工程ＳＴ１と同様の工程である。
続く工程ＳＴ２２では、第１の検査状態が形成される。この第１の検査状態では、複数の第１のバルブＶ１、複数の第３のバルブＶ３、及び、第４のバルブＶ４が閉じられる。また、第１の検査状態では、複数の第２のバルブＶ２が開かれる。なお、第１の検査状態では、バルブＶ６は閉じられる。また、工程ＳＴ２３において圧力計ＰＭが利用される場合には、複数の第５の配管Ｌ５にそれぞれ設けられている複数の第５のバルブＶ５が開かれる。一方、工程ＳＴ２３において圧力計ＦＰＭが利用される場合には、複数の第５のバルブＶ５は閉じられていてもよく、開かれていてもよい。また、工程ＳＴ２３において圧力計ＰＭが利用される場合には、複数の流量制御器ＦＤのコントロールバルブＣＶは開かれていてもよく、閉じられていてもよい。一方、工程ＳＴ２３において圧力計ＦＰＭが利用される場合には、各第３の配管Ｌ３から分岐している複数の第４の配管Ｌ４のうち少なくとも一つの第４の配管Ｌ４に設けられている流量制御器ＦＤのコントロールバルブＣＶが開かれる。
次いで、方法ＭＴ２では、工程ＳＴ２３が実行される。工程ＳＴ２３では、各第３の配管Ｌ３から分岐している複数の第４の配管Ｌ４のうち一つの第４の配管Ｌ４に設けられている流量制御器ＦＤの圧力計ＦＰＭによって圧力上昇が所定時間監視される。工程ＳＴ２３において利用される何れの圧力計ＦＰＭにおいても圧力上昇が検出されなければ、複数の第１のバルブＶ１にリークが発生していないと判断される。例えば、所定時間経過時に各圧力計ＦＰＭによって計測された圧力と工程ＳＴ２３の初期に当該圧力計ＦＰＭによって計測された圧力との差が所定値よりも小さい場合には、複数の第１のバルブＶ１にリークが発生していないと判断される。一方、圧力計ＦＰＭの何れかにおいて圧力上昇が検出された場合、圧力上昇を検出した圧力計ＦＰＭの上流にある統合部ＧＩに含まれる複数の第１のバルブＶ１の何れかにリークが発生していると判断される。例えば、所定時間経過時に圧力計ＦＰＭによって計測された圧力と工程ＳＴ２３の初期に当該圧力計ＦＰＭによって計測された圧力との差が所定値以上である場合に、その圧力計ＦＰＭの上流にある統合部ＧＩに含まれる複数の第１のバルブＶ１の何れかにリークが発生していると判断される。
或いは、工程ＳＴ２３では、圧力計ＰＭによって圧力上昇が所定時間監視される。圧力計ＰＭにおいて圧力上昇が検出されなければ、複数の第１のバルブＶ１にリークが発生していないと判断される。例えば、所定時間経過時に圧力計ＰＭによって計測された圧力と工程ＳＴ２３の初期に圧力計ＰＭによって計測された圧力との差が所定値よりも小さい場合には、複数の第１のバルブＶ１にリークが発生していないと判断される。一方、圧力計ＰＭにおいて圧力上昇が検出された場合、複数の第１のバルブＶ１の何れかにリークが発生していると判断される。例えば、所定時間経過時に圧力計ＰＭによって計測された圧力と工程ＳＴ２３の初期に圧力計ＰＭによって計測された圧力との差が所定値以上である場合に、複数の第１のバルブＶ１の何れかにリークが発生していると判断される。
続く工程ＳＴ２４では、第２の検査状態が形成される。この第２の検査状態では、複数の第２のバルブＶ２、複数の第３のバルブＶ３、及び、第４のバルブＶ４が閉じられる。また、第２の検査状態では、複数の第１のバルブＶ１が開かれる。なお、第２の検査状態では、バルブＶ６は閉じられる。また、工程ＳＴ２５において圧力計ＰＭが利用される場合には、複数の第５の配管Ｌ５にそれぞれ設けられている複数の第５のバルブＶ５が開かれる。一方、工程ＳＴ２５において圧力計ＦＰＭが利用される場合には、複数の第５のバルブＶ５は閉じられていてもよく、開かれていてもよい。また、工程ＳＴ２５において圧力計ＰＭが利用される場合には、複数の流量制御器ＦＤのコントロールバルブＣＶは開かれていてもよく、閉じられていてもよい。一方、工程ＳＴ２５において圧力計ＦＰＭが利用される場合には、各第３の配管Ｌ３から分岐している複数の第４の配管Ｌ４のうち少なくとも一つの第４の配管Ｌ４に設けられている流量制御器ＦＤのコントロールバルブＣＶが開かれる。
次いで、方法ＭＴ２では、工程ＳＴ２５が実行される。工程ＳＴ２５では、各第３の配管Ｌ３から分岐している複数の第４の配管Ｌ４のうち一つの第４の配管Ｌ４に設けられている流量制御器ＦＤの圧力計ＦＰＭによって圧力上昇が所定時間監視される。工程ＳＴ２５において利用される何れの圧力計ＦＰＭにおいても圧力上昇が検出されなければ、複数の第２のバルブＶ２にリークが発生していないと判断される。例えば、所定時間経過時に各圧力計ＦＰＭによって計測された圧力と工程ＳＴ２５の初期に当該圧力計ＦＰＭによって計測された圧力との差が所定値よりも小さい場合には、複数の第２のバルブＶ２にリークが発生していないと判断される。一方、圧力計ＦＰＭの何れかにおいて圧力上昇が検出された場合、圧力上昇を検出した圧力計ＦＰＭの上流にある統合部ＧＩに含まれる複数の第２のバルブＶ２の何れかにリークが発生していると判断される。例えば、所定時間経過時に圧力計ＦＰＭによって計測された圧力と工程ＳＴ２５の初期に当該圧力計ＦＰＭによって計測された圧力との差が所定値以上である場合に、その圧力計ＦＰＭの上流にある統合部ＧＩに含まれる複数の第２のバルブＶ２の何れかにリークが発生していると判断される。
或いは、工程ＳＴ２５では、圧力計ＰＭによって圧力上昇が所定時間監視される。圧力計ＰＭにおいて圧力上昇が検出されなければ、複数の第２のバルブＶ２にリークが発生していないと判断される。例えば、所定時間経過時に圧力計ＰＭによって計測された圧力と工程ＳＴ２５の初期に圧力計ＰＭによって計測された圧力との差が所定値よりも小さい場合には、複数の第２のバルブＶ２にリークが発生していないと判断される。一方、圧力計ＰＭにおいて圧力上昇が検出された場合、複数の第２のバルブＶ２の何れかにリークが発生していると判断される。例えば、所定時間経過時に圧力計ＰＭによって計測された圧力と工程ＳＴ２５の初期に圧力計ＰＭによって計測された圧力との差が所定値以上である場合に、複数の第２のバルブＶ２の何れかにリークが発生していると判断される。
続く工程ＳＴ２ａでは、工程ＳＴ２３において圧力上昇が検出されたか否かが判定される。工程ＳＴ２３において圧力上昇が検出されていない場合には、工程ＳＴ２ｃに移行する。一方、工程ＳＴ２３において圧力上昇が検出されている場合には、複数の第１のバルブＶ１から順に選択される検査対象の第１のバルブＶ１のリークが、工程ＳＴ２６において検査される。
具体的に、工程ＳＴ２６では、複数の第１のバルブＶ１、複数の第３のバルブＶ３、及び、第４のバルブＶ４が閉じられる。また、複数の第２のバルブＶ２のうち検査対象の第１のバルブＶ１の下流に設けられている第２のバルブＶ２が開かれる。また、検査対象の第１のバルブＶ１の下流に設けられている第２のバルブＶ２以外の第２のバルブＶ２は閉じられる。なお、バルブＶ６は閉じられる。また、工程ＳＴ２６において圧力計ＰＭが利用される場合には、特定の第５のバルブＶ５が開かれる。特定の第５のバルブＶ５は、検査対象の第１のバルブＶ１が設けられている第１の配管Ｌ１に第２の配管Ｌ２を介して接続している第５の配管Ｌ５に設けられている第５のバルブＶ５である。一方、工程ＳＴ２６において圧力計ＦＰＭが利用される場合には、複数の第５のバルブＶ５は閉じられていてもよく、開かれていてもよい。また、工程ＳＴ２６において圧力計ＰＭが利用される場合には、複数の流量制御器ＦＤのコントロールバルブＣＶは開かれていてもよく、閉じられていてもよい。一方、工程ＳＴ２６において圧力計ＦＰＭが利用される場合には、少なくとも、工程ＳＴ２６において利用される圧力計ＦＰＭを有する流量制御器ＦＤのコントロールバルブＣＶが開かれる。
そして、工程ＳＴ２６では、圧力計ＦＰＭによって圧力上昇が所定時間監視される。この圧力計ＦＰＭは、検査対象の第１のバルブＶ１が設けられている第１の配管Ｌ１に第２の配管Ｌ２及び第３の配管Ｌ３を介して接続している一つの第４の配管Ｌ４に設けられている流量制御器ＦＤの圧力計ＦＰＭである。この圧力計ＦＰＭにおいて圧力上昇が検出されなければ、検査対象の第１のバルブＶ１にリークが発生していないと判断される。例えば、所定時間経過時に圧力計ＦＰＭによって計測された圧力と工程ＳＴ２６の初期に圧力計ＦＰＭによって計測された圧力との差が所定値よりも小さい場合には、検査対象の第１のバルブＶ１にリークが発生していないと判断される。一方、圧力計ＦＰＭにおいて圧力上昇が検出された場合、検査対象の第１のバルブＶ１にリークが発生していると判断される。例えば、所定時間経過時に圧力計ＦＰＭによって計測された圧力と工程ＳＴ２６の初期に圧力計ＦＰＭによって計測された圧力との差が所定値以上である場合に、検査対象の第１のバルブＶ１にリークが発生していると判断される。
或いは、工程ＳＴ２６では、圧力計ＰＭによって圧力上昇が所定時間監視される。この所定時間内において圧力計ＰＭにおいて圧力上昇が検出されなければ、検査対象の第１のバルブＶ１にリークが発生していないと判断される。例えば、所定時間経過時に圧力計ＰＭによって計測された圧力と工程ＳＴ２６の初期に圧力計ＰＭによって計測された圧力との差が所定値よりも小さい場合には、検査対象の第１のバルブＶ１にリークが発生していないと判断される。一方、圧力計ＰＭにおいて圧力上昇が検出された場合、検査対象の第１のバルブＶ１にリークが発生していると判断される。例えば、所定時間経過時に圧力計ＰＭによって計測された圧力と工程ＳＴ２６の初期に圧力計ＰＭによって計測された圧力との差が所定値以上である場合に、検査対象の第１のバルブＶ１にリークが発生していると判断される。
続く工程ＳＴ２ｂでは、全ての第１のバルブＶ１の検査が完了したか否かが判定される。工程ＳＴ２ｂにおいて、検査が完了していない第１のバルブＶ１が存在すると判定される場合には、検査が完了していない第１のバルブＶ１が検査対象の第１のバルブＶ１として選択され、工程ＳＴ２６が再び実行される。一方、全ての第１のバルブＶ１の検査が完了している場合には、工程ＳＴ２ｃに移行する。
工程ＳＴ２ｃでは、工程ＳＴ２５において圧力上昇が検出されたか否かが判定される。工程ＳＴ２５において圧力上昇が検出されていない場合には、方法ＭＴ２は終了する。一方、工程ＳＴ２５において圧力上昇が検出されている場合には、複数の第２のバルブＶ２から順に選択される検査対象の第２のバルブＶ２のリークが、工程ＳＴ２７において検査される。
具体的には、工程ＳＴ２７では、複数の第２のバルブＶ２、複数の第３のバルブＶ３、及び、第４のバルブＶ４が閉じられる。また、複数の第１のバルブＶ１のうち検査対象の第２のバルブＶ２の上流に設けられている第１のバルブＶ１が開かれる。また、検査対象の第２のバルブＶ２の上流に設けられている第１のバルブＶ１以外の第１のバルブＶ１は閉じられる。なお、バルブＶ６は閉じられる。また、工程ＳＴ２７において圧力計ＰＭが利用される場合には、特定の第５のバルブＶ５が開かれる。特定の第５のバルブＶ５は、検査対象の第２のバルブＶ２が設けられている第１の配管Ｌ１に第２の配管Ｌ２を介して接続している第５の配管Ｌ５に設けられている第５のバルブＶ５である。一方、工程ＳＴ２７において圧力計ＦＰＭが利用される場合には、複数の第５のバルブＶ５は閉じられていてもよく、開かれていてもよい。また、工程ＳＴ２７において圧力計ＰＭが利用される場合には、複数の流量制御器ＦＤのコントロールバルブＣＶは開かれていてもよく、閉じられていてもよい。一方、工程ＳＴ２７において圧力計ＦＰＭが利用される場合には、少なくとも、工程ＳＴ２７において利用される圧力計ＦＰＭを有する流量制御器ＦＤのコントロールバルブＣＶが開かれる。
そして、工程ＳＴ２７では、圧力計ＦＰＭによって圧力上昇が所定時間監視される。この圧力計ＦＰＭは、検査対象の第２のバルブＶ２が設けられている第１の配管Ｌ１に第２の配管Ｌ２及び第３の配管Ｌ３を介して接続している一つの第４の配管Ｌ４に設けられている流量制御器ＦＤの圧力計ＦＰＭである。この圧力計ＦＰＭにおいて圧力上昇が検出されなければ、検査対象の第２のバルブＶ２にリークが発生していないと判断される。例えば、所定時間経過時に圧力計ＦＰＭによって計測された圧力と工程ＳＴ２７の初期に圧力計ＦＰＭによって計測された圧力との差が所定値よりも小さい場合には、検査対象の第２のバルブＶ２にリークが発生していないと判断される。一方、圧力計ＦＰＭにおいて圧力上昇が検出された場合、検査対象の第２のバルブＶ２にリークが発生していると判断される。例えば、所定時間経過時に圧力計ＦＰＭによって計測された圧力と工程ＳＴ２７の初期に圧力計ＦＰＭによって計測された圧力との差が所定値以上である場合に、検査対象の第２のバルブＶ２にリークが発生していると判断される。
或いは、工程ＳＴ２７では、圧力計ＰＭによって圧力上昇が所定時間監視される。この所定時間内において圧力計ＰＭにおいて圧力上昇が検出されなければ、検査対象の第２のバルブＶ２にリークが発生していないと判断される。例えば、所定時間経過時に圧力計ＰＭによって計測された圧力と工程ＳＴ２７の初期に圧力計ＰＭによって計測された圧力との差が所定値よりも小さい場合には、検査対象の第２のバルブＶ２にリークが発生していないと判断される。一方、圧力計ＰＭにおいて圧力上昇が検出された場合、検査対象の第２のバルブＶ２にリークが発生していると判断される。例えば、所定時間経過時に圧力計ＰＭによって計測された圧力と工程ＳＴ２７の初期に圧力計ＰＭによって計測された圧力との差が所定値以上である場合に、検査対象の第２のバルブＶ２にリークが発生していると判断される。
続く工程ＳＴ２ｄでは、全ての第２のバルブＶ２の検査が完了したか否かが判定される。工程ＳＴ２ｄにおいて、検査が完了していない第２のバルブＶ２が存在すると判定される場合には、検査が完了していない第２のバルブＶ２が検査対象の第２のバルブＶ２として選択され、工程ＳＴ２７が再び実行される。一方、全ての第２のバルブＶ２の検査が完了している場合には、方法ＭＴ２は終了する。
この方法ＭＴ２によれば、複数の第１のバルブＶ１のリークが同時に検査される。そして、複数の第１のバルブＶ１の何れかにリークが発生していると判断される場合にのみ、複数の第１のバルブＶ１のリークの検査が順に且つ個別に行われる。また、方法ＭＴ２では、複数の第２のバルブＶ２のリークが同時に検査される。そして、複数の第２のバルブＶ２の何れかにリークが発生していると判断される場合にのみ、複数の第２のバルブＶ２のリークの検査が順に且つ個別に行われる。したがって、全ての第１のバルブＶ１にリークが発生していない場合には、複数の第１のバルブＶ１のリークの検査が短時間で完了する。また、全ての第２のバルブＶ２にリークが発生していない場合には、複数の第２のバルブＶ２のリークの検査が短時間で完了する。
なお、工程ＳＴ２４及び工程ＳＴ２５の実行後に工程ＳＴ２２及び工程ＳＴ２３が実行されてもよい。また、工程ＳＴ２２及び工程ＳＴ２３の実行直後に、工程ＳＴ２ａの判定が行われ、必要に応じて工程ＳＴ２６及び工程ＳＴ２ｂが実行されてもよい。また、工程ＳＴ２４及び工程ＳＴ２５の実行直後に、工程ＳＴ２ｃの判定が行われ、必要に応じて工程ＳＴ２７及び工程ＳＴ２ｄが実行されてもよい。また、工程ＳＴ２ａの実行前に、工程ＳＴ２ｃが実行され、必要に応じて工程ＳＴ２７及び工程ＳＴ２ｄが実行されてもよい。また、工程ＳＴ２６は、リークが発生している可能性のある第１のバルブＶ１を含む統合部ＧＩに含まれる複数の第１のバルブＶ１のみに適用されてもよい。また、工程ＳＴ２７は、リークが発生している可能性のある第２のバルブＶ２を含む統合部ＧＩに含まれる複数の第２のバルブＶ２のみに適用されてもよい。
以下、更に別の実施形態に係るガス供給系のバルブのリークを検査する方法について説明する。図９は、更に別の実施形態に係るガス供給系のバルブのリークを検査する方法を示す流れ図である。図９に示す方法ＭＴ３は、複数の統合部ＧＩのうち一部から基板処理装置の処理容器内にガスが供給されて当該処理容器内において基板に対するプロセスが実行されている一方で、複数の統合部ＧＩのうち処理容器内にガスを供給していない統合部ＧＩに含まれる複数の第１のバルブＶ１及び複数の第２のバルブＶ２のリークが検査される。即ち、方法ＭＴ３では、複数の第１のバルブＶ１及び複数の第２のバルブＶ２のリークが順に且つ個別に検査される一方で、複数の別の第１のバルブＶ１及び複数の別の第２のバルブＶ２を介して基板処理装置の処理容器にガスが供給される。この方法ＭＴ３は、ガス供給系ＧＰ１、ガス供給系ＧＰ２、及びガス供給系ＧＰ３の何れにも適用可能な方法である。以下、複数の統合部ＧＩのうち処理容器内にガスを供給する統合部ＧＩを「プロセス用の統合部ＧＩ」と呼び、処理容器内にガスを供給していない統合部ＧＩを「検査対象の統合部ＧＩ」と呼ぶ。
方法ＭＴ３では、工程ＳＴ３ｐにおいて、プロセス用の統合部ＧＩからのガスが基板処理装置の処理容器内に供給される。この工程ＳＴ３ｐの実行中、プロセス用の統合部ＧＩの第２の配管Ｌ２に接続されている第５の配管Ｌ５に設けられている第５のバルブＶ５は閉じられる。なお、後述する工程ＳＴ３１〜ＳＴ３５の実行は、工程ＳＴ３ｐの実行中に行われる。
続く工程ＳＴ３１では、検査対象の統合部ＧＩの複数の第１の配管Ｌ１の内部及び第２の配管Ｌ２の内部、検査対象の統合部ＧＩの第２の配管Ｌ２に接続している第３の配管Ｌ３の内部、並びに、当該第３の配管Ｌ３に接続している複数の第４の配管Ｌ４の内部の排気が行われる。このために、工程ＳＴ３１では、排気状態が形成される。排気状態は、検査対象の統合部ＧＩの第２の配管Ｌ２に第３の配管Ｌ３を介して接続している複数の第４の配管Ｌ４に設けられた複数の流量制御器ＦＤそれぞれのコントロールバルブＣＶ、検査対象の統合部ＧＩの複数の第２のバルブＶ２、及び第４のバルブＶ４が開かれ、検査対象の統合部ＧＩの複数の第１のバルブＶ１、及び、検査対象の統合部ＧＩの第２の配管Ｌ２に第３の配管Ｌ３を介して接続している複数の第４の配管Ｌ４に設けられた複数の第３のバルブＶ３が閉じられた状態である。なお、排気状態では、検査対象の統合部ＧＩの第２の配管Ｌ２に接続している第５の配管Ｌ５に設けられている第５のバルブＶ５が開かれる。バルブＶ６は開かれていてもよく、閉じられていてもよい。
以後、方法ＭＴ３では、検査対象の統合部ＧＩの複数の第１のバルブＶ１から順に選択される検査対象の第１のバルブＶ１、及び、検査対象の統合部ＧＩの複数の第２のバルブＶ２から順に選択される検査対象の第２のバルブＶ２に対して、工程ＳＴ３２〜工程ＳＴ３５を含むシーケンスが実行される。
工程ＳＴ３２では、第１の検査状態が形成される。第１の検査状態では、検査対象の統合部ＧＩの複数の第１のバルブＶ１、検査対象の統合部ＧＩの第２の配管Ｌ２に第３の配管Ｌ３を介して接続している複数の第４の配管Ｌ４に設けられている複数の第３のバルブＶ３、及び、第４のバルブＶ４が閉じられる。また、第１の検査状態では、検査対象の第１のバルブＶ１の下流に設けられている第２のバルブＶ２が開かれる。また、検査対象の統合部ＧＩに含まれる複数の第２のバルブＶ２のうち、検査対象の第１のバルブＶ１の下流に設けられている第２のバルブＶ２以外の第２のバルブＶ２は閉じられる。なお、第１の検査状態では、バルブＶ６は閉じられる。また、工程ＳＴ３３において圧力計ＰＭが利用される場合には、特定の第５のバルブＶ５が開かれる。特定の第５のバルブＶ５は、検査対象の第１のバルブＶ１が設けられている第１の配管Ｌ１に第２の配管Ｌ２を介して接続している第５の配管Ｌ５に設けられている第５のバルブＶ５である。一方、工程ＳＴ３３において圧力計ＦＰＭが利用される場合には、上記特定の第５のバルブＶ５は、閉じられていてもよく、開かれていてもよい。また、工程ＳＴ３３において圧力計ＰＭが利用される場合には、検査対象の統合部ＧＩの下流にある複数の流量制御器ＦＤのコントロールバルブＣＶは開かれていてもよく、閉じられていてもよい。一方、工程ＳＴ３３において圧力計ＦＰＭが利用される場合には、工程ＳＴ３３において利用される圧力計ＦＰＭを有する流量制御器ＦＤのコントロールバルブＣＶが開かれる。
次いで、方法ＭＴ３では、工程ＳＴ３３が実行される。この工程ＳＴ３３は、方法ＭＴ１の工程ＳＴ３と同様の工程である。
続く工程ＳＴ３４では、第２の検査状態が形成される。第２の検査状態では、検査対象の統合部ＧＩの複数の第２のバルブＶ２、検査対象の統合部ＧＩの第２の配管Ｌ２に第３の配管Ｌ３を介して接続している複数の第４の配管Ｌ４に設けられている複数の第３のバルブＶ３、及び、第４のバルブＶ４が閉じられる。また、第２の検査状態では、検査対象の第２のバルブＶ２の上流に設けられている第１のバルブＶ１が開かれる。また、検査対象の統合部ＧＩの複数の第１のバルブＶ１のうち、検査対象の第２のバルブＶ２の上流に設けられている第１のバルブ以外の第１のバルブＶ１が閉じられる。なお、第２の検査状態では、バルブＶ６は閉じられる。また、工程ＳＴ３５において圧力計ＰＭが利用される場合には、特定の第５のバルブＶ５が開かれる。特定の第５のバルブＶ５は、検査対象の第２のバルブＶ２が設けられている第１の配管Ｌ１に第２の配管Ｌ２を介して接続している第５の配管Ｌ５に設けられている第５のバルブＶ５である。一方、工程ＳＴ３５において圧力計ＦＰＭが利用される場合には、上記特定の第５のバルブＶ５は閉じられていてもよく、開かれていてもよい。また、工程ＳＴ３５において圧力計ＰＭが利用される場合には、検査対象の統合部ＧＩの下流にある複数の流量制御器ＦＤのコントロールバルブＣＶは開かれていてもよく、閉じられていてもよい。一方、工程ＳＴ３５において圧力計ＦＰＭが利用される場合には、工程ＳＴ３５において利用される圧力計ＦＰＭを有する流量制御器ＦＤのコントロールバルブＣＶが開かれる。
次いで、方法ＭＴ３では、工程ＳＴ３５が実行される。この工程ＳＴ３５は、方法ＭＴ１の工程ＳＴ５と同様の工程である。
続く工程ＳＴ３Ｊでは、検査対象の統合部ＧＩの全ての第１のバルブＶ１及び全ての第２のバルブＶ２の検査が完了しているか否かが判定されている。工程ＳＴ３Ｊにおいて、検査が完了していない第１のバルブＶ１及び第２のバルブＶ２が存在すると判定される場合には、検査対象の統合部ＧＩの複数の第１のバルブＶ１及び複数の第２のバルブＶ２から、検査が完了していない第１のバルブＶ１及び第２のバルブＶ２が検査対象の第１のバルブＶ１及び検査対象の第２のバルブＶ２として選択され、工程ＳＴ３２から工程ＳＴ３５のシーケンスが再び実行される。一方、検査対象の統合部ＧＩの全ての第１のバルブＶ１及び全ての第２のバルブＶ２の検査が完了している場合には、方法ＭＴ３は終了する。
この方法ＭＴ３によれば、基板処理装置の処理容器内で行われるプロセスにおいて利用されていない統合部ＧＩの第１のバルブＶ１及び第２のバルブＶ２のリークを順に且つ個別に検査することが可能である。したがって、基板処理装置でのプロセス用の稼働時間に影響を与えることなく、第１のバルブＶ１及び第２のバルブＶ２のリークを検査することが可能となる。なお、工程ＳＴ３２及び工程ＳＴ３３は、工程ＳＴ３４及び工程ＳＴ３５の実行後に実行されてもよい。
以下、更に別の実施形態に係るガス供給系のバルブのリークを検査する方法について説明する。図１０は、更に別の実施形態に係るガス供給系のバルブのリークを検査する方法を示す流れ図である。図１０に示す方法ＭＴ４は、複数の統合部ＧＩのうち一部から基板処理装置の処理容器内にガスが供給されて当該処理容器内において基板に対するプロセスが実行されている一方で、複数の統合部ＧＩのうち処理容器内にガスを供給していない統合部ＧＩに含まれる複数の第１のバルブＶ１及び複数の第２のバルブＶ２のリークが検査される。即ち、方法ＭＴ４では、複数の第１のバルブＶ１及び複数の第２のバルブＶ２のリークが検査される一方で、複数の別の第１のバルブＶ１及び複数の別の第２のバルブＶ２を介して基板処理装置の処理容器にガスが供給される。以下、複数の統合部ＧＩのうち処理容器内にガスを供給する統合部ＧＩを「プロセス用の統合部ＧＩ」と呼び、処理容器内にガスを供給していない統合部ＧＩを「検査対象の統合部ＧＩ」と呼ぶ。また、方法ＭＴ４は、検査対象の統合部ＧＩの複数の第１のバルブＶ１のリークを同時に検査し、検査対象の統合部ＧＩの複数の第１のバルブＶ１の何れかにリークが発生している場合には、検査対象の統合部ＧＩの複数の第１のバルブＶ１のリークを順に検査する方法である。また、方法ＭＴ４は、検査対象の統合部ＧＩの複数の第２のバルブＶ２のリークを同時に検査し、検査対象の統合部ＧＩの複数の第２のバルブＶ２の何れかにリークが発生している場合には、検査対象の統合部ＧＩの複数の第２のバルブＶ２のリークを順に検査する方法である。この方法ＭＴ４は、ガス供給系ＧＰ１、ガス供給系ＧＰ２、及びガス供給系ＧＰ３の何れにも適用可能な方法である。
図１０に示すように、方法ＭＴ４では、工程ＳＴ４ｐにおいて、プロセス用の統合部ＧＩからのガスが基板処理装置の処理容器内に供給される。この工程ＳＴ４ｐの実行中、プロセス用の統合部ＧＩの第２の配管Ｌ２に接続されている第５の配管Ｌ５に設けられている第５のバルブＶ５は閉じられる。なお、後述する工程ＳＴ４１〜ＳＴ４ｄの実行は、工程ＳＴ４ｐの実行中に行われる。
次いで、方法ＭＴ４では、工程ＳＴ４１が実行される。工程ＳＴ４１は、方法ＭＴ３の工程ＳＴ３１と同様の工程である。
次いで、方法ＭＴ４では、工程ＳＴ４２が実行される。工程ＳＴ４２では、第１の検査状態が形成される。第１の検査状態では、検査対象の統合部ＧＩの複数の第１のバルブＶ１、検査対象の統合部ＧＩの第２の配管Ｌ２に第３の配管Ｌ３を介して接続している複数の第４の配管Ｌ４に設けられている複数の第３のバルブＶ３、及び、第４のバルブＶ４が閉じられる。また、第１の検査状態では、検査対象の統合部ＧＩの複数の第２のバルブＶ２が開かれる。なお、第１の検査状態では、バルブＶ６は閉じられる。また、工程ＳＴ４３において圧力計ＰＭが利用される場合には、検査対象の統合部ＧＩの第２の配管Ｌ２に接続している第５の配管Ｌ５に設けられている第５のバルブＶ５が開かれる。一方、工程ＳＴ４３において圧力計ＦＰＭが利用される場合には、検査対象の統合部ＧＩの第２の配管Ｌ２に接続している第５の配管Ｌ５に設けられている第５のバルブＶ５は、閉じられていてもよく、開かれていてもよい。また、工程ＳＴ４３において圧力計ＰＭが利用される場合には、検査対象の統合部ＧＩの下流にある複数の流量制御器ＦＤのコントロールバルブＣＶは開かれていてもよく、閉じられていてもよい。一方、工程ＳＴ４３において圧力計ＦＰＭが利用される場合には、検査対象の統合部ＧＩの下流にある少なくとも一つの流量制御器ＦＤのコントロールバルブＣＶが開かれる。
次いで、方法ＭＴ４では、工程ＳＴ４３が実行される。工程ＳＴ４３では、検査対象の統合部ＧＩの下流にある一つの流量制御器ＦＤの圧力計ＦＰＭによって圧力上昇が所定時間監視される。圧力計ＦＰＭにおいて圧力上昇が検出されなければ、検査対象の統合部ＧＩの複数の第１のバルブＶ１にリークが発生していないと判断される。例えば、所定時間経過時に圧力計ＦＰＭによって計測された圧力と工程ＳＴ４３の初期に圧力計ＦＰＭによって計測された圧力との差が所定値よりも小さい場合には、検査対象の統合部ＧＩの複数の第１のバルブＶ１にリークが発生していないと判断される。一方、圧力計ＦＰＭにおいて圧力上昇が検出された場合、検査対象の統合部ＧＩの複数の第１のバルブＶ１の何れかにリークが発生していると判断される。例えば、所定時間経過時に圧力計ＦＰＭによって計測された圧力と工程ＳＴ４３の初期に圧力計ＦＰＭによって計測された圧力との差が所定値以上である場合に、検査対象の統合部ＧＩの複数の第１のバルブＶ１の何れかにリークが発生していると判断される。
或いは、工程ＳＴ４３では、圧力計ＰＭによって圧力上昇が所定時間監視される。圧力計ＰＭにおいて圧力上昇が検出されなければ、検査対象の統合部ＧＩの複数の第１のバルブＶ１にリークが発生していないと判断される。例えば、所定時間経過時に圧力計ＰＭによって計測された圧力と工程ＳＴ４３の初期に圧力計ＰＭによって計測された圧力との差が所定値よりも小さい場合には、検査対象の統合部ＧＩの複数の第１のバルブＶ１にリークが発生していないと判断される。一方、圧力計ＰＭにおいて圧力上昇が検出された場合、検査対象の統合部ＧＩの複数の第１のバルブＶ１の何れかにリークが発生していると判断される。例えば、所定時間経過時に圧力計ＰＭによって計測された圧力と工程ＳＴ４３の初期に圧力計ＰＭによって計測された圧力との差が所定値以上である場合に、検査対象の統合部ＧＩの複数の第１のバルブＶ１の何れかにリークが発生していると判断される。
次いで、方法ＭＴ４では工程ＳＴ４４が実行される。工程ＳＴ４４では、第２の検査状態が形成される。第２の検査状態では、検査対象の統合部ＧＩの複数の第２のバルブＶ２、検査対象の統合部ＧＩの第２の配管Ｌ２に第３の配管Ｌ３を介して接続している複数の第４の配管Ｌ４に設けられている複数の第３のバルブＶ３、及び、第４のバルブＶ４が閉じられる。また、第２の検査状態では、検査対象の統合部ＧＩの複数の第１のバルブＶ１が開かれる。なお、第２の検査状態では、バルブＶ６は閉じられる。また、工程ＳＴ４５において圧力計ＰＭが利用される場合には、検査対象の統合部ＧＩの第２の配管Ｌ２に接続している第５の配管Ｌ５に設けられている第５のバルブＶ５が開かれる。一方、工程ＳＴ４５において圧力計ＦＰＭが利用される場合には、検査対象の統合部ＧＩの第２の配管Ｌ２に接続している第５の配管Ｌ５に設けられている第５のバルブＶ５は、閉じられていてもよく、開かれていてもよい。また、工程ＳＴ４５において圧力計ＰＭが利用される場合には、検査対象の統合部ＧＩの下流にある複数の流量制御器ＦＤのコントロールバルブＣＶは開かれていてもよく、閉じられていてもよい。一方、工程ＳＴ４５において圧力計ＦＰＭが利用される場合には、検査対象の統合部ＧＩの下流にある少なくとも一つの流量制御器ＦＤのコントロールバルブＣＶが開かれる。
次いで、方法ＭＴ４では、工程ＳＴ４５が実行される。工程ＳＴ４５では、検査対象の統合部ＧＩの下流にある一つの流量制御器ＦＤの圧力計ＦＰＭによって圧力上昇が所定時間監視される。圧力計ＦＰＭにおいて圧力上昇が検出されなければ、検査対象の統合部ＧＩの複数の第２のバルブＶ２にリークが発生していないと判断される。例えば、所定時間経過時に圧力計ＦＰＭによって計測された圧力と工程ＳＴ４５の初期に圧力計ＦＰＭによって計測された圧力との差が所定値よりも小さい場合には、検査対象の統合部ＧＩの複数の第２のバルブＶ２にリークが発生していないと判断される。一方、圧力計ＦＰＭにおいて圧力上昇が検出された場合、検査対象の統合部ＧＩの複数の第２のバルブＶ２の何れかにリークが発生していると判断される。例えば、所定時間経過時に圧力計ＦＰＭによって計測された圧力と工程ＳＴ４５の初期に圧力計ＦＰＭによって計測された圧力との差が所定値以上である場合に、検査対象の統合部ＧＩの複数の第２のバルブＶ２の何れかにリークが発生していると判断される。
或いは、工程ＳＴ４５では、圧力計ＰＭによって圧力上昇が所定時間監視される。圧力計ＰＭにおいて圧力上昇が検出されなければ、検査対象の統合部ＧＩの複数の第２のバルブＶ２にリークが発生していないと判断される。例えば、所定時間経過時に圧力計ＰＭによって計測された圧力と工程ＳＴ４５の初期に圧力計ＰＭによって計測された圧力との差が所定値よりも小さい場合には、検査対象の統合部ＧＩの複数の第２のバルブＶ２にリークが発生していないと判断される。一方、圧力計ＰＭにおいて圧力上昇が検出された場合、検査対象の統合部ＧＩの複数の第２のバルブＶ２の何れかにリークが発生していると判断される。例えば、所定時間経過時に圧力計ＰＭによって計測された圧力と工程ＳＴ４５の初期に圧力計ＰＭによって計測された圧力との差が所定値以上である場合に、検査対象の統合部ＧＩの複数の第２のバルブＶ２の何れかにリークが発生していると判断される。
続く工程ＳＴ４ａでは、工程ＳＴ４３において圧力上昇が検出されたか否かが判定される。工程ＳＴ４３において圧力上昇が検出されていない場合には、工程ＳＴ４ｃに移行する。一方、工程ＳＴ４３において圧力上昇が検出されている場合には、検査対象の統合部ＧＩの複数の第１のバルブＶ１から順に選択される検査対象の第１のバルブＶ１のリークが、工程ＳＴ４６において検査される。
具体的に、工程ＳＴ４６では、検査対象の統合部ＧＩの複数の第１のバルブＶ１、検査対象の統合部ＧＩの第２の配管Ｌ２に第３の配管を介して接続している第４の配管Ｌ４に設けられている複数の第３のバルブＶ３、及び、第４のバルブＶ４が閉じられる。また、検査対象の第１のバルブＶ１の下流に設けられている第２のバルブＶ２が開かれる。また、検査対象の統合部ＧＩの複数の第２のバルブＶ２のうち、検査対象の第１のバルブＶ１の下流に設けられている第２のバルブＶ２以外の第２のバルブＶ２は閉じられる。なお、バルブＶ６は閉じられる。また、工程ＳＴ４６において圧力計ＰＭが利用される場合には、特定の第５のバルブＶ５が開かれる。特定の第５のバルブＶ５は、検査対象の第１のバルブＶ１が設けられている第１の配管Ｌ１に第２の配管Ｌ２を介して接続している第５の配管Ｌ５に設けられている第５のバルブＶ５である。一方、工程ＳＴ４６において圧力計ＦＰＭが利用される場合には、上記特定の第５のバルブＶ５は閉じられていてもよく、開かれていてもよい。また、工程ＳＴ４６において圧力計ＰＭが利用される場合には、検査対象の統合部ＧＩの下流にある複数の流量制御器ＦＤのコントロールバルブＣＶは開かれていてもよく、閉じられていてもよい。一方、工程ＳＴ４６において圧力計ＦＰＭが利用される場合には、少なくとも、工程ＳＴ４６において利用される圧力計ＦＰＭを有する流量制御器ＦＤのコントロールバルブＣＶが開かれる。
そして、工程ＳＴ４６では、方法ＭＴ２の工程ＳＴ２６と同様に圧力上昇が監視され、検査対象の第１のバルブＶ１のリークの発生の有無が検出される。
続く工程ＳＴ４ｂでは、検査対象の統合部ＧＩの全ての第１のバルブＶ１の検査が完了したか否かが判定される。工程ＳＴ４ｂにおいて、検査が完了していない第１のバルブＶ１が存在すると判定される場合には、検査が完了していない第１のバルブＶ１が検査対象の第１のバルブＶ１として選択され、工程ＳＴ４６が再び実行される。一方、検査対象の統合部ＧＩの全ての第１のバルブＶ１の検査が完了している場合には、工程ＳＴ４ｃに移行する。
工程ＳＴ４ｃでは、工程ＳＴ４５において圧力上昇が検出されたか否かが判定される。工程ＳＴ４５において圧力上昇が検出されていない場合には、方法ＭＴ４は終了する。一方、工程ＳＴ４５において圧力上昇が検出されている場合には、検査対象の統合部ＧＩの複数の第２のバルブＶ２から順に選択される検査対象の第２のバルブＶ２のリークが、工程ＳＴ４７において検査される。
具体的には、工程ＳＴ４７では、検査対象の統合部ＧＩの複数の第２のバルブＶ２、検査対象の統合部ＧＩの第２の配管Ｌ２に第３の配管Ｌ３を介して接続している複数の第４の配管Ｌ４に設けられている複数の第３のバルブＶ３、及び、第４のバルブＶ４が閉じられる。また、第２の検査状態では、検査対象の第２のバルブＶ２の上流に設けられている第１のバルブＶ１が開かれる。また、検査対象の統合部ＧＩの複数の第１のバルブＶ１のうち、検査対象の第２のバルブＶ２の上流に設けられている第１のバルブＶ１以外の第１のバルブＶ１が閉じられる。なお、第２の検査状態では、バルブＶ６は閉じられる。また、工程ＳＴ４７において圧力計ＰＭが利用される場合には、特定の第５のバルブＶ５が開かれる。特定の第５のバルブＶ５は、検査対象の第２のバルブＶ２が設けられている第１の配管Ｌ１に第２の配管Ｌ２を介して接続している第５の配管Ｌ５に設けられている第５のバルブＶ５である。一方、工程ＳＴ４７において圧力計ＦＰＭが利用される場合には、上記特定の第５のバルブＶ５は閉じられていてもよく、開かれていてもよい。また、工程ＳＴ４７において圧力計ＰＭが利用される場合には、検査対象の統合部ＧＩの下流にある複数の流量制御器ＦＤのコントロールバルブＣＶは開かれていてもよく、閉じられていてもよい。一方、工程ＳＴ４７において圧力計ＦＰＭが利用される場合には、少なくとも、工程ＳＴ４７において利用される圧力計ＦＰＭを有する流量制御器ＦＤのコントロールバルブＣＶが開かれる。
そして、工程ＳＴ４７では、方法ＭＴ２の工程ＳＴ２７と同様に圧力上昇が監視され、検査対象の第２のバルブＶ２のリークの発生の有無が検出される。
続く工程ＳＴ４ｄでは、検査対象の統合部ＧＩの全ての第２のバルブＶ２の検査が完了したか否かが判定される。工程ＳＴ４ｄにおいて、検査が完了していない第２のバルブＶ２が存在すると判定される場合には、検査が完了していない第２のバルブＶ２が検査対象の第２のバルブＶ２として選択され、工程ＳＴ４７が再び実行される。一方、検査対象の統合部ＧＩの全ての第２のバルブＶ２の検査が完了している場合には、方法ＭＴ４は終了する。
この方法ＭＴ４によれば、基板処理装置の処理容器内で行われるプロセスにおいて利用されていない統合部ＧＩの第１のバルブＶ１及び第２のバルブＶ２のリークを検査することが可能である。したがって、基板処理装置のプロセス用の稼働時間に影響を与えることなく、第１のバルブＶ１及び第２のバルブＶ２のリークを検査することが可能となる。また、複数の第１のバルブＶ１のリークが同時に検査される。そして、複数の第１のバルブＶ１の何れかにリークが発生していると判断される場合にのみ、複数の第１のバルブＶ１のリークの検査が順に且つ個別に行われる。また、複数の第２のバルブＶ２のリークが同時に検査される。そして、複数の第２のバルブＶ２の何れかにリークが発生していると判断される場合にのみ、複数の第２のバルブＶ２のリークの検査が順に且つ個別に行われる。したがって、検査対象の統合部ＧＩの全ての第１のバルブＶ１にリークが発生していない場合には、リークの検査が短時間で完了する。また、検査対象の統合部ＧＩの全ての第２のバルブＶ２にリークが発生していない場合には、複数の第２のバルブＶ２のリークの検査が短時間で完了する。
なお、工程ＳＴ４４及び工程ＳＴ４５の実行後に工程ＳＴ４２及び工程ＳＴ４３が実行されてもよい。また、工程ＳＴ４２及び工程ＳＴ４３の実行直後に、工程ＳＴ４ａの判定が行われ、必要に応じて工程ＳＴ４６及び工程ＳＴ４ｂが実行されてもよい。また、工程ＳＴ４４及び工程ＳＴ４５の実行直後に、工程ＳＴ４ｃの判定が行われ、必要に応じて工程ＳＴ４７及び工程ＳＴ４ｄが実行されてもよい。また、工程ＳＴ４ａの実行前に、工程ＳＴ４ｃが実行され、必要に応じて工程ＳＴ４７及び工程ＳＴ４ｄが実行されてもよい。また、工程ＳＴ４６は、リークが発生している可能性のある第１のバルブＶ１を含む統合部ＧＩに含まれている複数の第１のバルブＶ１のみに適用されてもよい。また、工程ＳＴ４７は、リークが発生している可能性のある第２のバルブＶ２を含む統合部ＧＩに含まれている複数の第２のバルブＶ２のみに適用されてもよい。
以上、種々の実施形態について説明してきたが、上述した実施形態に限定されることなく種々の変形態様を構成可能である。例えば、上述した基板処理装置は容量結合型のプラズマ処理装置であったが、基板処理装置は、誘導結合型のプラズマ処理装置、マイクロ波といった表面波を利用するプラズマ処理装置といった任意のプラズマ処理装置であってもよい。
１０，１０２，１０３…プラズマ処理装置、１２…処理容器、３０…上部電極、ＰＤ…載置台、５０…排気装置、５１…排気装置、ＳＨ…シャワーヘッド、Ｄ１，Ｄ２，Ｄ３…ガス吐出部、ＧＰ１，ＧＰ２，ＧＰ３…ガス供給系、ＧＭ１，ＧＭ２１…第１機構、ＧＭ２，ＧＭ２２，ＧＭ３２…第２機構、ＧＭ３，ＧＭ２３…第３機構、ＧＩ…統合部、Ｌ１…第１の配管、Ｌ２…第２の配管、Ｌ３…第３の配管、Ｌ４…第４の配管、Ｌ５…第５の配管、ＥＬ…排気管、Ｖ１…第１のバルブ、Ｖ２…第２のバルブ、Ｖ３…第３のバルブ、Ｖ４…第４のバルブ、Ｖ５…第５のバルブ、ＦＵＧ…流量制御ユニット群、ＦＵ…流量制御ユニット、ＦＤ…流量制御器、ＦＰＭ…圧力計、ＣＶ…コントロールバルブ、ＦＶ１…バルブ、ＧＳ…ガスソース、ＧＳＰ…ソース、ＰＭ…圧力計。

Claims (5)

  1. 基板処理装置の処理容器にガスを供給するためのガス供給系のバルブのリークを検査する方法であって、
    前記ガス供給系は、
    複数のガスソースにそれぞれ接続された複数の第１の配管と、
    前記複数の第１の配管にそれぞれ設けられた複数の第１のバルブと、
    前記複数の第１のバルブよりも下流側において前記複数の第１の配管にそれぞれに設けられた複数の第２のバルブと、
    前記複数の第２のバルブの下流において前記複数の第１の配管に接続された第２の配管と、
    前記第２の配管に接続された第３の配管と、
    前記第３の配管から分岐する複数の第４の配管と、
    前記複数の第４の配管にそれぞれ設けられた複数の流量制御器と、
    前記複数の流量制御器の下流側において前記複数の第４の配管にそれぞれ設けられた複数の第３のバルブと、
    排気装置に接続された排気管と、
    前記排気管に設けられた第４のバルブと、
    前記排気装置及び前記第４のバルブの上流において前記排気管に接続し、且つ、前記第２の配管に接続する第５の配管と、
    を備え、
    該方法は、
    前記複数の第１の配管の内部、前記第２の配管の内部、前記第３の配管の内部、及び前記複数の第４の配管の内部の排気を行う第１工程であり、前記複数の流量制御器それぞれのコントロールバルブ、前記複数の第２のバルブ、及び前記第４のバルブが開かれ、前記複数の第１のバルブ、及び前記複数の第３のバルブが閉じられた排気状態が形成される、該第１工程と、
    前記複数の第１のバルブ、前記複数の第３のバルブ、及び、前記第４のバルブが閉じられ、前記複数の第２のバルブのうち一以上の第２のバルブ又は前記複数の第２のバルブが開かれた第１の検査状態を形成する第２工程と、
    前記排気装置及び前記第４のバルブの上流において前記排気管に設けられた圧力計、又は前記複数の流量制御器のうち一つの流量制御器の圧力計により、圧力上昇を監視する第３工程と、
    前記複数の第２のバルブ、前記複数の第３のバルブ、及び、前記第４のバルブが閉じられ、前記複数の第１のバルブのうち前記一以上の第２のバルブの上流に設けられた一以上の第１のバルブ又は前記複数の第１のバルブが開かれた第２の検査状態を形成する第４工程と、
    前記排気装置及び前記第４のバルブの上流において前記排気管に設けられた前記圧力計、又は前記複数の流量制御器のうち一つの流量制御器の圧力計により、圧力上昇を監視する第５工程と、
    を含む方法。
  2. 前記第２工程において形成される前記第１の検査状態では、前記複数の第２のバルブが開かれ、
    前記第４工程において形成される前記第２の検査状態では、前記複数の第１のバルブが開かれる、
    請求項１に記載の方法。
  3. 前記第３工程において圧力上昇が検出された場合に、前記複数の第１のバルブから順に選択される検査対象の第１のバルブのリークを検査する工程を更に含み、
    検査対象の第１のバルブのリークを検査する前記工程は、前記複数の第１のバルブ、前記複数の第３のバルブ、前記第４のバルブ、及び前記複数の第２のバルブのうち前記検査対象の第１のバルブの下流に設けられた第２のバルブ以外の第２のバルブが閉じられた状態で、前記排気装置及び前記第４のバルブの上流において前記排気管に設けられた前記圧力計、又は前記複数の流量制御器のうち一つの流量制御器の圧力計により、圧力上昇を監視することを含む、
    請求項２に記載の方法。
  4. 前記第５工程において圧力上昇が検出された場合に、前記複数の第２のバルブから順に選択される検査対象の第２のバルブのリークを検査する工程を更に含み、
    検査対象の第２のバルブのリークを検査する前記工程は、前記複数の第２のバルブ、前記複数の第３のバルブ、前記第４のバルブ、及び前記複数の第１のバルブのうち前記検査対象の第２のバルブの上流に設けられた第１のバルブ以外の第１のバルブが閉じられた状態で、前記排気装置及び前記第４のバルブの上流において前記排気管に設けられた前記圧力計、又は前記複数の流量制御器のうち一つの流量制御器の圧力計により、圧力上昇を監視することを含む、
    請求項２又は３に記載の方法。
  5. 前記ガス供給系は、
    複数の別のガスソースにそれぞれ接続された複数の別の第１の配管と、
    複数の別の第１の配管のそれぞれに設けられた複数の別の第１のバルブと、
    前記複数の別の第１のバルブよりも下流側において前記複数の別の第１の配管のそれぞれに設けられた複数の別の第２のバルブと、
    前記複数の別の第２のバルブの下流において前記複数の別の第１の配管に接続された別の第２の配管と、
    前記別の第２の配管に接続された別の第３の配管と、
    前記別の第３の配管から分岐する複数の別の第４の配管と、
    前記複数の別の第４の配管にそれぞれ設けられた複数の別の流量制御器と、
    前記複数の別の流量制御器の下流側において前記複数の別の第４の配管にそれぞれ設けられた複数の別の第３のバルブと、
    前記排気装置及び前記第４のバルブの上流において前記排気管に接続し、且つ、前記別の第２の配管に接続する別の第５の配管と、
    前記第５の配管に設けられた第５のバルブと、
    前記別の第５の配管に設けられた別の第５のバルブと、
    を更に備え、
    該方法は、前記別の第５のバルブが閉じられた状態で、前記複数の別のガスソースのうち一以上のガスソースからガスを前記基板処理装置に供給する工程を更に含み、
    ガスを前記基板処理装置に供給する前記工程の実行中に、前記第１工程、前記第２工程、前記第３工程、前記第４工程、及び前記第５工程が実行される、
    請求項１〜４の何れか一項に記載の方法。
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