JP6498547B2 - ガラス板の製造方法、および、ガラス板の製造装置 - Google Patents
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- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims description 133
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 49
- 239000006060 molten glass Substances 0.000 claims description 206
- 230000007423 decrease Effects 0.000 claims description 26
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 21
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims description 16
- 238000009413 insulation Methods 0.000 claims description 13
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims description 12
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 claims description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 description 21
- 206010040925 Skin striae Diseases 0.000 description 20
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 18
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 16
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 16
- 238000005352 clarification Methods 0.000 description 14
- 239000011819 refractory material Substances 0.000 description 13
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 12
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 230000008569 process Effects 0.000 description 9
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 9
- 230000008859 change Effects 0.000 description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 8
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 8
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 5
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 5
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 5
- 238000007500 overflow downdraw method Methods 0.000 description 5
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000004031 devitrification Methods 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011449 brick Substances 0.000 description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 3
- 239000006025 fining agent Substances 0.000 description 3
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 3
- 238000010583 slow cooling Methods 0.000 description 3
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 2
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001260 Pt alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 2
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 2
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- -1 platinum group metals Chemical class 0.000 description 2
- 239000003870 refractory metal Substances 0.000 description 2
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 2
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 2
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- 238000012935 Averaging Methods 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910021193 La 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000008395 clarifying agent Substances 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- VASIZKWUTCETSD-UHFFFAOYSA-N manganese(II) oxide Inorganic materials [Mn]=O VASIZKWUTCETSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 1
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 238000006479 redox reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N zinc oxide Inorganic materials [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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Description
本発明に係るガラス板の製造方法、および、ガラス板の製造装置の実施形態について、図面を参照しながら説明する。図1は、実施形態のガラス板の製造方法の工程の一例を示すフローチャートである。
次に、供給工程S4について詳細に説明する。上述したように、供給工程S4は、第3供給管105cの中を流れる熔融ガラスを、成形工程S5に適した温度まで冷却する工程である。例えば、供給工程S4では、熔融ガラスの温度は、少なくとも150℃低下することが好ましい。供給工程S4で冷却された熔融ガラスの温度は、少なくともガラスの失透温度より高い。ガラスの失透温度は、約1200℃である。攪拌工程S3において実現された熔融ガラスの均質性を保つために、供給工程S4における熔融ガラスの冷却は、所定の速度で行われる。そのため、第3供給管105cは、第3供給管105cの中を流れる熔融ガラスの温度および粘度を細かく制御するための機構を有していることが好ましい。また、第3供給管105cは、高温の熔融ガラスと接触するため、耐火金属で成形されていることが好ましい。具体的には、第3供給管105cは、白金または白金合金から成形されていることがより好ましい。
実施形態のガラス板の製造方法は、供給工程S4において、耐火物106a〜106cに囲まれた第3供給管105cを通電加熱することで、第3供給管105cを通過しながら冷却される熔融ガラスの温度を細かく制御することができる。第3供給管105cは、3つの管区分PP1〜PP3に区画される。第1管区分PP1では、熔融ガラスが、成形工程S5に適した温度に近い温度まで冷却される。第2管区分PP2は、上流側の第1管区分PP1と比べて高電流が流れる部分であり、第3供給管105cの内壁面の近傍を流れる熔融ガラスの温度の低下が抑制される。その結果、第2管区分PP2では、第3供給管105cの断面方向における熔融ガラスの温度差が低減される。第3管区分PP3は、第1耐火物106aおよび第2耐火物106bに比べて断熱性能が高い第3耐火物106cに囲まれる。第3管区分PP3は、第1管区分PP1および第2管区分PP2と比べて熔融ガラスの保温力が高い部分であり、熔融ガラスの温度が維持されながら、第2管区分PP2において低減された熔融ガラスの温度差がさらに低減される。これにより、第3供給管105cの下流側の端部では、第3供給管105cの断面方向において、熔融ガラスの温度は実質的に均一になる。その結果、温度が均一な熔融ガラスが成形工程S5に供給されるので、熔融ガラスの脈理の発生が抑制される。従って、このガラス板の製造方法は、熔融ガラス中の脈理の発生を抑制し、均一な板厚を有するガラス板を製造することができる。
以上、実施形態のガラス板の製造方法およびガラス板製造装置100について説明したが、本発明は、上記の実施形態に限定されず、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種種の変更が行われてもよい。例えば、本発明は、以下に説明する変更が適用されてもよい。
実施形態のガラス板の製造方法では、第2管区分PP2は、第3供給管105cの内径が徐々に減少する部分を有する。しかし、第2管区分PP2は、第3供給管105cの内径が徐々に減少する部分を有さなくてもよい。その場合、第2管区分PP2における熔融ガラスの放熱を抑制するために、第2管区分PP2を流れる電流を実施形態の2000Aより高くしてもよく、第2管区分PP2を囲む第2耐火物106bとして、実施形態の第2耐火物106bより高い断熱性能を有する耐火物を用いてもよい。例えば、このような耐火物として、実施形態の第3耐火物106cが用いられてもよい。
実施形態のガラス板の製造方法では、第3管区分PP3を流れる電流は、第2管区分PP2を流れる電流より小さい。しかし、第3供給管105cの内径、および、熔融ガラスの温度の目標値に応じて、第3管区分PP3を流れる電流は、第2管区分PP2を流れる電流より小さくなくてもよい。例えば、第3管区分PP3を流れる電流は、第2管区分PP2を流れる電流と同じでもよい。この場合、第3管区分PP3を囲む耐火物として、実施形態の第3耐火物106cより高い断熱性能を有する耐火物を用いてもよい。
実施形態のガラス板の製造方法では、第3供給管105cは、白金または白金合金で成形されるが、他の白金族金属で成形されてもよい。「白金族金属」は、単一の白金族元素からなる金属、および、白金族元素からなる金属の合金である。白金族元素は、白金(Pt)、パラジウム(Pd)、ロジウム(Rh)、ルテニウム(Ru)、オスミウム(Os)およびイリジウム(Ir)の6元素である。白金族金属は、高価であるが、融点が高く、熔融ガラスに対する耐食性に優れている。そのため、白金族金属は、第3供給管105cの材質として適している。
実施形態のガラス板の製造方法では、フラットパネルディスプレイ用のガラス板として好適な無アルカリガラスまたはアルカリ微量含有ガラスの製造のために調合されたガラス原料が用いられる。
104 成形装置
105c 第3供給管(供給管)
106a 第1耐火物(保温材)
106b 第2耐火物(保温材)
106c 第3耐火物(保温材)
PP1 第1管区分
PP2 第2管区分
PP3 第3管区分
Claims (6)
- 熔融ガラスを供給管に流して成形装置に供給する供給工程と、
前記供給工程において前記成形装置に供給された前記熔融ガラスからガラス板を成形する成形工程と、
を備え、
前記供給工程は、前記供給管を流れる前記熔融ガラスを保温するための保温材に周囲を囲まれた前記供給管を通電加熱しながら、前記熔融ガラスの流れ方向に向かって前記熔融ガラスの温度が下がるように前記熔融ガラスを前記供給管に流し、
前記流れ方向の上流側から下流側に向かって前記供給管を第1管区分、第2管区分および第3管区分に区画した場合において、前記第2管区分を流れる電流は、前記第1管区分を流れる電流よりも高く、かつ、前記第3管区分を囲む前記保温材は、前記第1管区分を囲む前記保温材よりも低い熱伝導率を有する、
ガラス板の製造方法。 - 前記供給工程は、前記第2管区分において、前記供給管の温度と、前記供給管の断面の中心を流れる前記熔融ガラスの温度との差が前記流れ方向に沿って小さくなるように前記熔融ガラスを流す、
請求項1に記載のガラス板の製造方法。 - 前記第2管区分において、前記供給管の内径は、前記流れ方向に沿って小さくなる、
請求項1または2に記載のガラス板の製造方法。 - 前記第3管区分を流れる電流は、前記第2管区分を流れる電流よりも低い、
請求項1から3のいずれか1項に記載のガラス板の製造方法。 - 前記第2管区分と前記第3管区分との間の境界において、前記供給管の温度と、前記供給管の断面の中心を流れる前記熔融ガラスの温度との差は、50℃以下である、
請求項1から4のいずれか1項に記載のガラス板の製造方法。 - 熔融ガラスからガラス板を成形する成形装置と、
前記成形装置に前記熔融ガラスを供給するための供給管と、
を備え、
前記供給管は、前記供給管を流れる前記熔融ガラスを保温するための保温材に周囲を囲まれ、かつ、通電加熱されながら、前記熔融ガラスの流れ方向に向かって前記熔融ガラスの温度が下がるように前記熔融ガラスを前記供給管に流し、
前記流れ方向の上流側から下流側に向かって前記供給管を第1管区分、第2管区分および第3管区分に区画した場合において、前記第2管区分を流れる電流は、前記第1管区分を流れる電流よりも高く、かつ、前記第3管区分を囲む前記保温材は、前記第1管区分を囲む前記保温材よりも低い熱伝導率を有する、
ガラス板の製造装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015131877A JP6498547B2 (ja) | 2015-06-30 | 2015-06-30 | ガラス板の製造方法、および、ガラス板の製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015131877A JP6498547B2 (ja) | 2015-06-30 | 2015-06-30 | ガラス板の製造方法、および、ガラス板の製造装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017014056A JP2017014056A (ja) | 2017-01-19 |
JP6498547B2 true JP6498547B2 (ja) | 2019-04-10 |
Family
ID=57827802
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015131877A Active JP6498547B2 (ja) | 2015-06-30 | 2015-06-30 | ガラス板の製造方法、および、ガラス板の製造装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6498547B2 (ja) |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5156817A (ja) * | 1974-11-14 | 1976-05-18 | Nitto Boseki Co Ltd | Garasuyokoro |
JP3046694B2 (ja) * | 1993-05-31 | 2000-05-29 | キヤノン株式会社 | 溶融硝子流出装置 |
SE511250C2 (sv) * | 1998-02-11 | 1999-08-30 | Kanthal Ab | Förfarande för att utjämna temperaturdifferanser i flytande glas, jämte anordning härför |
DE102006058044B3 (de) * | 2006-12-07 | 2008-01-24 | Beteiligungen Sorg Gmbh & Co. Kg | Verfahren und Vorrichtung zum Abzug von Glasschmelze aus Fließkanälen |
US8393177B2 (en) * | 2009-04-27 | 2013-03-12 | Corning Incorporated | Glass flow management by thermal conditioning |
US8408029B2 (en) * | 2009-11-17 | 2013-04-02 | Corning Incorporated | Method for thermally conditioning molten glass |
TWI454435B (zh) * | 2011-03-31 | 2014-10-01 | Avanstrate Inc | Glass plate manufacturing method |
JP2014198656A (ja) * | 2013-03-29 | 2014-10-23 | AvanStrate株式会社 | ガラス板の製造方法、ガラス板の製造装置 |
-
2015
- 2015-06-30 JP JP2015131877A patent/JP6498547B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2017014056A (ja) | 2017-01-19 |
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---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
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|
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20190227 |
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