[go: up one dir, main page]

JP6479243B1 - Ultrasound imaging system - Google Patents

Ultrasound imaging system Download PDF

Info

Publication number
JP6479243B1
JP6479243B1 JP2018125801A JP2018125801A JP6479243B1 JP 6479243 B1 JP6479243 B1 JP 6479243B1 JP 2018125801 A JP2018125801 A JP 2018125801A JP 2018125801 A JP2018125801 A JP 2018125801A JP 6479243 B1 JP6479243 B1 JP 6479243B1
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
reflected wave
water tank
axis direction
attenuating means
probe
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2018125801A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2020003441A (en
Inventor
富田 隆
隆 富田
北見 薫
薫 北見
夏樹 菅谷
夏樹 菅谷
伊藤 正一
正一 伊藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Power Solutions Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Power Solutions Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Power Solutions Co Ltd filed Critical Hitachi Power Solutions Co Ltd
Priority to JP2018125801A priority Critical patent/JP6479243B1/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6479243B1 publication Critical patent/JP6479243B1/en
Priority to KR1020190076903A priority patent/KR102215934B1/en
Priority to CN201910588234.5A priority patent/CN110672731B/en
Priority to TW108123264A priority patent/TWI697670B/en
Publication of JP2020003441A publication Critical patent/JP2020003441A/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N29/00Investigating or analysing materials by the use of ultrasonic, sonic or infrasonic waves; Visualisation of the interior of objects by transmitting ultrasonic or sonic waves through the object
    • G01N29/04Analysing solids
    • G01N29/06Visualisation of the interior, e.g. acoustic microscopy
    • G01N29/0654Imaging
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N29/00Investigating or analysing materials by the use of ultrasonic, sonic or infrasonic waves; Visualisation of the interior of objects by transmitting ultrasonic or sonic waves through the object
    • G01N29/22Details, e.g. general constructional or apparatus details
    • G01N29/26Arrangements for orientation or scanning by relative movement of the head and the sensor
    • G01N29/265Arrangements for orientation or scanning by relative movement of the head and the sensor by moving the sensor relative to a stationary material
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N29/00Investigating or analysing materials by the use of ultrasonic, sonic or infrasonic waves; Visualisation of the interior of objects by transmitting ultrasonic or sonic waves through the object
    • G01N29/04Analysing solids
    • G01N29/11Analysing solids by measuring attenuation of acoustic waves
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N29/00Investigating or analysing materials by the use of ultrasonic, sonic or infrasonic waves; Visualisation of the interior of objects by transmitting ultrasonic or sonic waves through the object
    • G01N29/22Details, e.g. general constructional or apparatus details
    • G01N29/24Probes
    • G01N29/2437Piezoelectric probes
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N29/00Investigating or analysing materials by the use of ultrasonic, sonic or infrasonic waves; Visualisation of the interior of objects by transmitting ultrasonic or sonic waves through the object
    • G01N29/22Details, e.g. general constructional or apparatus details
    • G01N29/26Arrangements for orientation or scanning by relative movement of the head and the sensor
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N29/00Investigating or analysing materials by the use of ultrasonic, sonic or infrasonic waves; Visualisation of the interior of objects by transmitting ultrasonic or sonic waves through the object
    • G01N29/22Details, e.g. general constructional or apparatus details
    • G01N29/32Arrangements for suppressing undesired influences, e.g. temperature or pressure variations, compensating for signal noise
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2291/00Indexing codes associated with group G01N29/00
    • G01N2291/02Indexing codes associated with the analysed material
    • G01N2291/023Solids
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2291/00Indexing codes associated with group G01N29/00
    • G01N2291/04Wave modes and trajectories
    • G01N2291/045External reflections, e.g. on reflectors
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2291/00Indexing codes associated with group G01N29/00
    • G01N2291/04Wave modes and trajectories
    • G01N2291/048Transmission, i.e. analysed material between transmitter and receiver

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Acoustics & Sound (AREA)
  • Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Ultrasonic Waves (AREA)
  • Ultra Sonic Daignosis Equipment (AREA)

Abstract

【課題】プローブの移動速度が高速のときであっても波打ちを抑制できる超音波映像システムを提供する。
【解決手段】超音波映像システムは、超音波映像装置と、水槽10とを備え、水槽10の端部において、超音波映像装置の超音波プローブ20を走査した際に生じる超音波の伝播媒体である液状物質の波の端部での反射波を減衰させる反射波減衰手段30が配設されている。反射波減衰手段30は、複数の突起32を有し、超音波映像装置の超音波プローブ20をX軸方向に走査した際に、X軸方向の水槽10の両端部に、反射波減衰手段30が配設されている。
【選択図】図5
An ultrasonic imaging system capable of suppressing undulation even when the moving speed of a probe is high.
An ultrasound imaging system includes an ultrasound imaging apparatus and a water tank, and an ultrasound propagation medium generated when an ultrasound probe of the ultrasound imaging apparatus is scanned at an end of the water tank. Reflected wave attenuating means 30 is provided for attenuating the reflected wave at the end of the wave of a certain liquid substance. The reflected wave attenuating means 30 has a plurality of protrusions 32. When the ultrasonic probe 20 of the ultrasonic imaging apparatus is scanned in the X axis direction, the reflected wave attenuating means 30 is provided at both ends of the water tank 10 in the X axis direction. Is arranged.
[Selection] Figure 5

Description

本発明は、超音波映像システムに関する。 The present invention relates to ultrasound image system.

超音波映像システムは、超音波映像装置を使用し、多層構造の半導体等の被検体を試料載置台に載置して水槽等の液体貯留槽に蓄えた超音波の伝播媒体である液状物質に浸漬し、超音波映像装置に備えたプローブから該被検体に超音波を照射し、その反射波又は透過波を受信して対象界面を映像化する。該プローブは、超音波を該被検体に照射しながら、所定の速度で該被検体の始点(一方端点)から終点(他方端点)まで、X軸方向にスキャンする。プローブが終点に到達すると、Y軸方向にプローブを所定量移動させ、所定の速度で反対方向に、視点から終点までX軸方向にスキャンする。該プローブをスキャンさせたときに、泡の発生や波打ちが生じる。   The ultrasound imaging system uses an ultrasound imaging device to place an object such as a multi-layered semiconductor on a sample mounting table and store it in a liquid substance that is an ultrasound propagation medium stored in a liquid storage tank such as a water tank. The subject is immersed, the subject is irradiated with ultrasound from a probe provided in the ultrasound imaging apparatus, and the reflected or transmitted wave is received to image the target interface. The probe scans in the X-axis direction from the start point (one end point) to the end point (the other end point) of the subject at a predetermined speed while irradiating the subject with ultrasonic waves. When the probe reaches the end point, the probe is moved by a predetermined amount in the Y-axis direction and scanned in the opposite direction at a predetermined speed from the viewpoint to the end point in the X-axis direction. When the probe is scanned, bubbles are generated and undulated.

特許文献1では、「被検体に水を介して超音波を放射しその反射波を受信する超音波プローブと、この超音波プローブを所定軸方向に移動させて超音波走査を行うスキャナとを備えた超音波検査装置において、水のレベルを検出する水位検出器と、この水位検出器の検出値と超音波プローブの位置とに基づいてプローブの水没量を演算する演算手段と、スキャナによる移動速度と水没量との関係を記憶する記憶部と、移動速度が定められたとき演算手段により得られる水没量を記憶部から得られる水没量に一致させるように水のレベルを調整するレベル調整手段とを設けたことを特徴とする超音波検査装置。」が開示されている。   In Patent Document 1, “an ultrasonic probe that emits ultrasonic waves to a subject via water and receives reflected waves thereof, and a scanner that performs ultrasonic scanning by moving the ultrasonic probe in a predetermined axial direction are provided. In the ultrasonic inspection apparatus, a water level detector for detecting the level of water, a calculation means for calculating the submerged amount of the probe based on the detected value of the water level detector and the position of the ultrasonic probe, and the moving speed by the scanner A storage unit that stores the relationship between the submergence amount and the submergence amount, and a level adjustment unit that adjusts the level of water so that the submergence amount obtained by the computing unit when the moving speed is determined matches the submergence amount obtained from the storage unit; An ultrasonic inspection apparatus characterized in that is provided. "Is disclosed.

特開平8−136518号公報JP-A-8-136518

前記特許文献1においては、該プローブの移動速度が低速のときには効果があったが、高速になるにつれて、さらなる波打ち対策が必要となってきた。   In Patent Document 1, the effect was obtained when the moving speed of the probe was low, but further countermeasures against waviness have become necessary as the speed increases.

プローブをX軸方向にスキャンするとき、その移動速度は、被検体の大きさにもよるが、2000mm/秒に達する(出願人の製品による)。該プローブは、水槽に蓄えられた液状物質の中を移動するので、当然、この動きにより、液状物質表面に、プローブ部の進む方向に波(進行波)が生じることになる。進行波は、水槽のX軸方向の壁に衝突して反射波を発生させることとなる。反射波は該進行波と合成される。これを繰り返すことにより、振幅のより大きな定常波を形成することとなる。その結果、定常波の変位の最小となる位置(又は近傍位置)にプローブ部のX軸位置が合致するとき、プローブ部が液状物質から外に出てしまうおそれがある。プローブ部の超音波照射部が液状物質から出てしまうと、対象界面の映像を取得できなくなる問題が生じる。   When the probe is scanned in the X-axis direction, the moving speed reaches 2000 mm / sec (depending on the applicant's product), depending on the size of the subject. Since the probe moves in the liquid material stored in the water tank, naturally, this movement generates a wave (traveling wave) on the surface of the liquid material in the traveling direction of the probe portion. The traveling wave collides with the wall in the X-axis direction of the water tank and generates a reflected wave. The reflected wave is combined with the traveling wave. By repeating this, a standing wave with a larger amplitude is formed. As a result, when the X-axis position of the probe unit matches the position (or a nearby position) where the displacement of the standing wave is minimized, the probe unit may come out of the liquid material. If the ultrasonic irradiation part of the probe part comes out of the liquid substance, there arises a problem that an image of the target interface cannot be acquired.

本発明は、前記課題に鑑みなされたものであって、プローブの移動速度が高速のときであっても波打ちを抑制できる超音波映像システムを提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above problems, an object of the moving speed of the probe to provide an ultrasonic image system that can suppress waving even when high speed.

前記目的を達成するために、本発明の超音波映像システムは、超音波映像装置と、水槽とを備え、水槽のX軸方向の端部において、X軸方向の両側内壁面との空隙位置を変化して配設させることができ、超音波映像装置のプローブを走査した場合に生じる超音波の伝播媒体である液状物質の波の端部での反射波を減衰させる反射波減衰手段が配設されており、反射波減衰手段は、方形状かつ板状のベースと該ベースの片面に配設された複数の突起物とを含んでおり、突起物をプローブ側に向けて配設されており、水槽の端部には、反射波減衰手段をX軸方向の両側内壁面との空隙位置を変化して配設する挿入溝を有する空隙位置変更手段が配設されることを特徴とする。本発明のその他の態様については、後記する実施形態において説明する。 To achieve the above object, an ultrasound imaging system of the present invention includes an ultrasound imaging device, and a water tank, at the end of the X-axis direction of the water tank, the gap position between the opposite sides in the wall of the X-axis direction Reflected wave attenuating means for attenuating the reflected wave at the end of the wave of the liquid substance that is an ultrasonic wave propagation medium generated when the probe of the ultrasonic imaging apparatus is scanned is arranged. The reflected wave attenuating means includes a square and plate-like base and a plurality of protrusions disposed on one side of the base, and the protrusions are disposed toward the probe side. In addition, a gap position changing means having an insertion groove for changing the gap position between the inner wall surfaces on both sides in the X-axis direction is provided at the end of the water tank. . Other aspects of the present invention will be described in the embodiments described later.

本発明によれば、プローブの移動速度が高速のときであっても波打ちを抑制できる。   According to the present invention, undulation can be suppressed even when the moving speed of the probe is high.

反射波減衰手段を有する超音波映像システムの構成を示す外観図である。It is an external view which shows the structure of the ultrasonic imaging system which has a reflected wave attenuation means. 空隙位置変更手段の構成を示す説明図であり、(a)は、反射波減衰手段の配設する方法を示す図であり、(b)空隙位置変更手段の側面図である。It is explanatory drawing which shows the structure of a space | gap position change means, (a) is a figure which shows the method of arrange | positioning a reflected wave attenuation means, (b) It is a side view of a space | gap position change means. 水槽内の反射波減衰手段の配設位置を示す上面図である。It is a top view which shows the arrangement | positioning position of the reflected wave attenuation means in a water tank. 超音波映像システムの制御系及び信号処理系の構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the structure of the control system and signal processing system of an ultrasonic imaging system. 実施例1に係る反射波減衰手段を示す構造模式図であり、(a)は水槽に配設した際の側面図であり、(b)は反射波減衰手段の斜視図である。It is a structure schematic diagram which shows the reflected wave attenuation means which concerns on Example 1, (a) is a side view at the time of arrange | positioning in a water tank, (b) is a perspective view of a reflected wave attenuation means. 実施例2に係る反射波減衰手段を示す構造模式図であり、(a)は水槽に配設した際の側面図であり、(b)は反射波減衰手段の分解斜視図である。It is a structure schematic diagram which shows the reflected wave attenuation means which concerns on Example 2, (a) is a side view at the time of arrange | positioning in a water tank, (b) is a disassembled perspective view of a reflected wave attenuation means. 実施例3に係る反射波減衰手段を示す構造模式図であり、(a)は水槽に配設した際の側面図であり、(b)は反射波減衰手段の斜視図である。It is a structure schematic diagram which shows the reflected wave attenuation means which concerns on Example 3, (a) is a side view at the time of arrange | positioning in a water tank, (b) is a perspective view of a reflected wave attenuation means. 実施例4に係る反射波減衰手段を示す構造模式図であり、(a)は水槽に配設した際の側面図であり、(b)は反射波減衰手段の斜視図である。It is a structure schematic diagram which shows the reflected wave attenuation means which concerns on Example 4, (a) is a side view at the time of arrange | positioning in a water tank, (b) is a perspective view of a reflected wave attenuation means. 実施例5に係る反射波減衰手段を示す構造模式図であり、(a)は水槽に配設した際の側面図であり、(b)は反射波減衰手段の斜視図である。It is a structure schematic diagram which shows the reflected wave attenuation means which concerns on Example 5, (a) is a side view at the time of arrange | positioning in a water tank, (b) is a perspective view of a reflected wave attenuation means. 実施例6に係る反射波減衰手段を示す構造模式図であり、(a)は水槽に配設した際の側面図であり、(b)は反射波減衰手段の斜視図である。It is a structure schematic diagram which shows the reflected wave attenuation means which concerns on Example 6, (a) is a side view at the time of arrange | positioning in a water tank, (b) is a perspective view of a reflected wave attenuation means. 実施例7に係る反射波減衰手段を示す構造模式図であり、(a)は水槽に配設した際の側面図であり、(b)は反射波減衰手段の斜視図である。It is a structure schematic diagram which shows the reflected wave attenuation means which concerns on Example 7, (a) is a side view at the time of arrange | positioning in a water tank, (b) is a perspective view of a reflected wave attenuation means. 実施例8に係る水槽側壁頂部返し手段を示す構造模式図であり、(a)は水槽に配設した際の側面図であり、(b)は水槽側壁頂部返し手段の斜視図である。It is a structure schematic diagram which shows the tank side wall top part return means based on Example 8, (a) is a side view at the time of arrange | positioning in a water tank, (b) is a perspective view of a tank side wall top part return means. 透過法の超音波映像装置の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the ultrasonic imaging device of a transmission method. 透過法の超音波映像装置に、実施例1に係る反射波減衰手段を適用した場合を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the case where the reflected wave attenuation means which concerns on Example 1 is applied to the ultrasonic imaging device of a transmission method.

本発明を実施するための実施形態について、適宜図面を参照しながら詳細に説明する。
図1は、反射波減衰手段30を有する超音波映像システム100の構成を示す外観図である。図1において、符号1はX,Y,Zの直交3軸の座標系を示している。超音波映像システム100は、超音波映像装置90と、水槽10とを含んで構成されている。
DESCRIPTION OF EMBODIMENTS Embodiments for carrying out the present invention will be described in detail with reference to the drawings as appropriate.
FIG. 1 is an external view showing a configuration of an ultrasound imaging system 100 having a reflected wave attenuation means 30. In FIG. 1, reference numeral 1 indicates a coordinate system of three orthogonal axes of X, Y, and Z. The ultrasound imaging system 100 includes an ultrasound imaging device 90 and a water tank 10.

超音波映像装置90は、超音波の送受信を行う超音波プローブ20と、当該超音波映像装置90を統括制御して超音波映像を表示する映像表示装置50と、超音波プローブ20との間で電気信号を入出力する送受信装置60(図4参照)と、超音波プローブ20を機械的に走査するX軸スキャナ71及びY軸スキャナ72と、X軸スキャナ71及びY軸スキャナ72を制御するメカ制御装置77(図4参照)とを備えている。超音波プローブ20は、X軸スキャナ71及びY軸スキャナ72に支えられて、水槽10に満たされた水11に浸漬され、被検体15に対向するように配置される。なお、超音波プローブ20のZ軸スキャナは省略してある。   The ultrasonic imaging apparatus 90 includes an ultrasonic probe 20 that transmits and receives ultrasonic waves, an image display apparatus 50 that controls the ultrasonic imaging apparatus 90 to display an ultrasonic image, and the ultrasonic probe 20. A transmission / reception device 60 (see FIG. 4) that inputs and outputs electrical signals, an X-axis scanner 71 and a Y-axis scanner 72 that mechanically scans the ultrasonic probe 20, and a mechanism that controls the X-axis scanner 71 and the Y-axis scanner 72. And a control device 77 (see FIG. 4). The ultrasonic probe 20 is supported by the X-axis scanner 71 and the Y-axis scanner 72, is immersed in the water 11 filled in the water tank 10, and is disposed so as to face the subject 15. Note that the Z-axis scanner of the ultrasonic probe 20 is omitted.

水槽10内には水11が注入されており、当該水11中に被検体15が水没状態で置かれている。水槽10内の水11は、超音波プローブ20(超音波探触子)の下端の開口面から放射された超音波を、被検体15の内部に効率良く伝播させるために必要な伝播媒体である液状物質である。被検体15は、例えばウエハ、多層構造(または積層構造)等を含む半導体パッケージである。   Water 11 is injected into the water tank 10, and the subject 15 is placed in the water 11 in a submerged state. The water 11 in the water tank 10 is a propagation medium necessary for efficiently propagating the ultrasonic wave radiated from the opening surface at the lower end of the ultrasonic probe 20 (ultrasonic probe) to the inside of the subject 15. It is a liquid substance. The subject 15 is a semiconductor package including, for example, a wafer, a multilayer structure (or a stacked structure), and the like.

超音波プローブ20はホルダ73で支持されて設置されている。ホルダ73はX軸スキャナ71に取り付けられている。超音波プローブ20は、水槽10に満たされた水11に浸漬され、被検体120の上部Z方向に所定の距離を於いて対向するように配置されている。   The ultrasonic probe 20 is supported and installed by a holder 73. The holder 73 is attached to the X-axis scanner 71. The ultrasonic probe 20 is immersed in the water 11 filled in the water tank 10 and is disposed so as to face the upper portion Z direction of the subject 120 at a predetermined distance.

アーム状のX軸スキャナ71はホルダ18をX軸方向に移動させ、Y軸スキャナ72はX軸スキャナ71をY軸方向に移動させる機能を有している。X軸スキャナ71とY軸スキャナ72によってスキャナ装置70が構成される。当該スキャナ装置70によって超音波プローブ20をXY方向に自在に移動させることができる。この移動動作に基づいて、超音波プローブ20は被検体15の表面における予め定められた測定範囲を走査し、超音波を送信し、測定範囲内において予め設定された複数の測定点で反射エコー波を受信し、当該測定範囲に含まれる内部構造の欠陥を映像化して検査することができる。超音波プローブ20はケーブル23を介して送受信装置60(図4参照)と接続されている。   The arm-shaped X-axis scanner 71 has a function of moving the holder 18 in the X-axis direction, and the Y-axis scanner 72 has a function of moving the X-axis scanner 71 in the Y-axis direction. The X-axis scanner 71 and the Y-axis scanner 72 constitute a scanner device 70. The ultrasonic probe 20 can be freely moved in the XY directions by the scanner device 70. Based on this moving operation, the ultrasonic probe 20 scans a predetermined measurement range on the surface of the subject 15, transmits ultrasonic waves, and reflects echo waves at a plurality of measurement points set in advance within the measurement range. And defects in the internal structure included in the measurement range can be visualized and inspected. The ultrasonic probe 20 is connected to a transmission / reception device 60 (see FIG. 4) via a cable 23.

本実施形態の超音波映像システム100は、水槽10のX軸方向の両端に、超音波映像装置90の超音波プローブ20を走査した際に生じる水11(液状物質)の波が、水槽10の端部で反射する反射波を減衰させる反射波減衰手段30が配設されているのが特徴である。反射波減衰手段30は、空隙位置変更手段40により、水槽10のX軸方向の量異端に配設されている。空隙位置変更手段40は、図2を参照して後記する。反射波減衰手段30の詳細については、図5〜図14を参照して後記する。   In the ultrasonic imaging system 100 of the present embodiment, waves of water 11 (liquid substance) generated when the ultrasonic probe 20 of the ultrasonic imaging apparatus 90 is scanned at both ends in the X-axis direction of the water tank 10 A characteristic is that a reflected wave attenuating means 30 for attenuating the reflected wave reflected at the end is disposed. The reflected wave attenuating means 30 is disposed at the opposite end of the water tank 10 in the X-axis direction by the gap position changing means 40. The gap position changing means 40 will be described later with reference to FIG. Details of the reflected wave attenuation means 30 will be described later with reference to FIGS.

本発明者らは、昨今のパネルレベルパッケージング(PLP)のように、被検体15として約600mm角の大きな被検体15について検討した。このような大型の被検体15を、例えば、2000mm/秒の高速で超音波プローブ20をX軸方向に往復スキャンした際に、水の波打ちの課題があることをわかった。本実施形態の反射波減衰手段30は、このように大きな被検体であっても波の合成波の影響を抑制するという課題を解決するためになされたものである。なお、PLPは、シリコン基板ではなく、液晶製造で使いなれたガラスパネルを用いて低コスト化を図るものである。   The present inventors examined a subject 15 having a large size of about 600 mm square as the subject 15 as in recent panel level packaging (PLP). It has been found that when such a large subject 15 is scanned back and forth in the X-axis direction with the ultrasonic probe 20 at a high speed of, for example, 2000 mm / sec, there is a problem of water rippling. The reflected wave attenuating means 30 of the present embodiment is made to solve the problem of suppressing the influence of the combined wave of such a large subject. Note that PLP is not a silicon substrate, but a glass panel that has been used in liquid crystal manufacturing, and is intended to reduce costs.

図2は、空隙位置変更手段40の構成を示す説明図であり、(a)は、反射波減衰手段の配設する方法を示す図であり、(b)空隙位置変更手段の側面図である。図2(a)に示す反射波減衰手段30は、多数の突起32を有する方形状かつ格子状であるベース31で形成されている。水槽10のX方向の端部には、反射波減衰手段30をX軸方向の両側内壁面との空隙位置を変化して配設する挿入溝41を有する空隙位置変更手段40が配設される。図2(a)の場合、挿入溝41は、例えば、5か所ある。この挿入溝41への挿入位置を変更することにより、反射波減衰手段30と水槽の壁面との位置を変更することができる。また、空隙位置変更手段40の下端は、Z軸方向に位置決めすることができる下端部45を有している。反射波減衰手段30Aは、図2(a)に示すように下端部45で係止される。また、空隙位置変更手段40は、図2(b)に示すように、水槽の端部に係止できるように、逆U字型の係止部42を有する。   FIG. 2 is an explanatory view showing the configuration of the gap position changing means 40, (a) is a diagram showing a method of arranging the reflected wave attenuating means, and (b) is a side view of the gap position changing means. . The reflected wave attenuating means 30 shown in FIG. 2A is formed of a base 31 having a square shape and a lattice shape having a large number of protrusions 32. At the end of the water tank 10 in the X direction, there is provided a gap position changing means 40 having an insertion groove 41 for changing the gap position between the reflected wave attenuating means 30 and the inner wall surfaces on both sides in the X axis direction. . In the case of FIG. 2A, there are five insertion grooves 41, for example. By changing the insertion position into the insertion groove 41, the positions of the reflected wave attenuation means 30 and the wall surface of the aquarium can be changed. Further, the lower end of the gap position changing means 40 has a lower end 45 that can be positioned in the Z-axis direction. The reflected wave attenuating means 30A is locked at the lower end 45 as shown in FIG. Moreover, the space | gap position change means 40 has the reverse U-shaped latching | locking part 42 so that it can latch to the edge part of a water tank, as shown in FIG.2 (b).

図2に示す例では、反射波減衰手段30は、空隙位置変更手段40の挿入溝41に対し1枚挿入した例を示したが、これに限定されるわけではない。例えば、挿入溝41の左側から3番目と、5番目にそれぞれ反射波減衰手段30を挿入してもよい。これにより、より、超音波プローブ20の移動速度が高速のときに発生する波打ちを効果的に抑制できる。   In the example shown in FIG. 2, the reflected wave attenuating means 30 is inserted into the insertion groove 41 of the gap position changing means 40, but the present invention is not limited to this. For example, the reflected wave attenuation means 30 may be inserted third and fifth from the left side of the insertion groove 41, respectively. Thereby, the undulation that occurs when the moving speed of the ultrasonic probe 20 is high can be effectively suppressed.

図2の要点をまとめると、本実施形態の水槽10の端部には、反射波減衰手段30をX軸方向の両側内壁面との空隙位置を変化して配設する挿入溝41を有する空隙位置変更手段40が配設されている。また、挿入溝41は、反射波減衰手段30のベース31を挿入する幅を有し、空隙位置変更手段40は、挿入溝41を複数有することが特徴である。この挿入溝41への反射波減衰手段30の挿入位置を変更することにより、反射波減衰手段30と水槽の壁面との位置を変更することができる。   To summarize the main points of FIG. 2, a gap having an insertion groove 41 in which the reflected wave attenuating means 30 is disposed at the end of the water tank 10 of the present embodiment while changing the gap position with the inner wall surfaces on both sides in the X-axis direction. Position changing means 40 is provided. The insertion groove 41 has a width for inserting the base 31 of the reflected wave attenuation means 30, and the gap position changing means 40 has a plurality of insertion grooves 41. By changing the insertion position of the reflected wave attenuating means 30 into the insertion groove 41, the positions of the reflected wave attenuating means 30 and the wall surface of the water tank can be changed.

図3は、水槽10内の反射波減衰手段40の配設位置を示す上面図である。水槽10は、4つの側面部と底面部で構成されている。水槽10内の試料載置台12の上に被検体15が配設されている。水槽10のX軸方向の左側の側面部10L、右側の側面部10Rには、空隙位置変更手段40が係止されている。図3に示すように、左側の空隙位置変更手段40において、反射波減衰手段30が水槽10の左側の側面部10Lから3番目の挿入溝41に挿入されている。同様に、右側の空隙位置変更手段40において、反射波減衰手段30が水槽10の右側の側面部10Rから3番目の挿入溝41に挿入されている。   FIG. 3 is a top view showing the arrangement position of the reflected wave attenuation means 40 in the water tank 10. The water tank 10 includes four side surfaces and a bottom surface. A subject 15 is disposed on a sample mounting table 12 in the water tank 10. The gap position changing means 40 is locked to the left side surface portion 10L and the right side surface portion 10R of the water tank 10 in the X-axis direction. As shown in FIG. 3, in the left gap position changing means 40, the reflected wave attenuating means 30 is inserted into the third insertion groove 41 from the left side surface portion 10 </ b> L of the water tank 10. Similarly, in the right gap position changing means 40, the reflected wave attenuation means 30 is inserted into the third insertion groove 41 from the right side surface portion 10 </ b> R of the water tank 10.

超音波プローブ20(図1参照)がX軸方向に1ライン分走査された後にY軸方向に走査位置に走査される場合、反射波減衰手段30は、突起32(突起物)のうちの少なくとも一つが映像取得対象である被検体15のY軸方向の始点位置16sより外側にあり、突起32(突起物)のうちの少なくとも一つが被検体15のY軸方向の終点位置16eより外側にあることが好ましい。これにより、被検体15のY軸方向の始点位置16sより外側およびY軸方向の終点位置16eより外側において、波打ちを抑制できる。   When the ultrasonic probe 20 (see FIG. 1) is scanned by one line in the X-axis direction and then scanned to the scanning position in the Y-axis direction, the reflected wave attenuating means 30 is at least one of the protrusions 32 (projections). One is outside the start point position 16s in the Y-axis direction of the subject 15 to be acquired, and at least one of the protrusions 32 (projections) is outside the end point position 16e in the Y-axis direction of the subject 15. It is preferable. Thereby, it is possible to suppress undulations on the outer side of the starting point position 16s in the Y-axis direction of the subject 15 and on the outer side of the end point position 16e in the Y-axis direction.

反射波減衰手段30は、Y軸方向には、その一方端辺が少なくとも映像取得対象である被検体15のY軸方向の始点位置16sより外側にあり、かつ、他方端辺が少なくとも被検体15のY軸方向の終点位置16eより外側にあることが好ましい。これにより、被検体15のY軸方向の始点位置16sより外側およびY軸方向の終点位置16eより外側において、波打ちを抑制できる。   In the Y-axis direction, the reflected wave attenuating means 30 has at least one end on the outside of the start point position 16s in the Y-axis direction of the subject 15 to be imaged and the other end is at least the subject 15. It is preferable to be outside the end point position 16e in the Y-axis direction. Thereby, it is possible to suppress undulations on the outer side of the starting point position 16s in the Y-axis direction of the subject 15 and on the outer side of the end point position 16e in the Y-axis direction.

図4は、超音波映像システムの制御系及び信号処理系の構成を示すブロック図である。超音波プローブ20は、当該超音波プローブ20の走査位置を検知するエンコーダ21と、電気信号と超音波信号とを相互に変換する圧電素子22とを備えている。圧電素子22は、単一焦点型の超音波センサである。   FIG. 4 is a block diagram illustrating a configuration of a control system and a signal processing system of the ultrasound imaging system. The ultrasonic probe 20 includes an encoder 21 that detects the scanning position of the ultrasonic probe 20 and a piezoelectric element 22 that converts electrical signals and ultrasonic signals into each other. The piezoelectric element 22 is a single focus type ultrasonic sensor.

映像表示装置50は、超音波プローブ20の走査位置を制御する走査制御部51と、超音波の周波数を制御する周波数制御部52と、超音波の送受信タイミングを制御するタイミング制御部53と、超音波画像を生成する画像生成部54とを備えている。   The video display device 50 includes a scanning control unit 51 that controls the scanning position of the ultrasonic probe 20, a frequency control unit 52 that controls the frequency of ultrasonic waves, a timing control unit 53 that controls transmission and reception timings of ultrasonic waves, And an image generation unit 54 that generates a sound wave image.

送受信装置60は、バースト波の電気信号を生成するバースト波発信器61と、インパルス波の電気信号を生成するインパルス波発信器62と、スイッチ63と、超音波プローブ20が受信した受信信号を増幅するアンプ64と、当該受信信号をアナログ信号からデジタル信号に変換するA/D変換器65と、当該受信信号を信号処理する信号処理部66とを備えている。   The transmission / reception device 60 amplifies the reception signal received by the ultrasonic probe 20, the burst wave transmitter 61 that generates the electrical signal of the burst wave, the impulse wave transmitter 62 that generates the electrical signal of the impulse wave, and the switch 63. An amplifier 64, an A / D converter 65 that converts the received signal from an analog signal to a digital signal, and a signal processing unit 66 that processes the received signal.

走査制御部51は、メカ制御装置77と入出力可能に接続されている。走査制御部51は、メカ制御装置77とX軸スキャナ71とY軸スキャナ72によって超音波プローブ20の走査位置を制御すると共に、メカ制御装置77から超音波プローブ20の現在の走査位置情報を受信する。   The scanning control unit 51 is connected to the mechanical control device 77 so as to be able to input and output. The scanning control unit 51 controls the scanning position of the ultrasonic probe 20 by the mechanical control device 77, the X-axis scanner 71, and the Y-axis scanner 72, and receives the current scanning position information of the ultrasonic probe 20 from the mechanical control device 77. To do.

メカ制御装置77の出力側は、X軸スキャナ71及びY軸スキャナ72に接続されている。メカ制御装置77には、超音波プローブ20のエンコーダ21の出力側が接続されている。メカ制御装置77は、エンコーダ21の出力信号によって、超音波プローブ20の走査位置を検知し、X軸スキャナ71及びY軸スキャナ72によって、超音波プローブ20が指示された走査位置になるように制御する。メカ制御装置77は、走査制御部51から超音波プローブ20の制御指示を受けると共に、超音波プローブ20の走査位置情報を応答する。   The output side of the mechanical control device 77 is connected to the X-axis scanner 71 and the Y-axis scanner 72. The mechanical control device 77 is connected to the output side of the encoder 21 of the ultrasonic probe 20. The mechanical control device 77 detects the scanning position of the ultrasonic probe 20 based on the output signal of the encoder 21, and controls the ultrasonic probe 20 to the designated scanning position by the X-axis scanner 71 and the Y-axis scanner 72. To do. The mechanical control device 77 receives a control instruction for the ultrasonic probe 20 from the scanning control unit 51 and responds with scanning position information of the ultrasonic probe 20.

タイミング制御部53は、走査制御部51から取得した超音波プローブ20の走査位置情報に基づいて、送受信装置60に超音波の送受信タイミング信号(情報)を出力し、周波数制御部52に超音波の周波数情報を出力する。   The timing control unit 53 outputs an ultrasonic transmission / reception timing signal (information) to the transmission / reception device 60 based on the scanning position information of the ultrasonic probe 20 acquired from the scanning control unit 51, and transmits the ultrasonic wave to the frequency control unit 52. Output frequency information.

周波数制御部52は、タイミング制御部53が出力した超音波の周波数情報に基づいて、バースト波発信器61に所定の周波数のバースト波を所定パルス数だけ出力するように指示する。   The frequency control unit 52 instructs the burst wave transmitter 61 to output a predetermined number of burst waves having a predetermined frequency based on the ultrasonic frequency information output from the timing control unit 53.

バースト波発信器61は、周波数制御部52が出力した信号に基づいて、圧電素子22に所定の周波数のバースト波を所定パルス数だけ出力するものである。インパルス波発信器62は、タイミング制御部53が出力したタイミング信号に基づいて、圧電素子22にインパルス波を出力するものである。スイッチ63は、タイミング制御部53の出力信号に基づいて、バースト波とインパルス波のいずれを圧電素子22に出力するかを切り替えるものである。   The burst wave transmitter 61 outputs a burst wave having a predetermined frequency to the piezoelectric element 22 by a predetermined number of pulses based on the signal output from the frequency control unit 52. The impulse wave transmitter 62 outputs an impulse wave to the piezoelectric element 22 based on the timing signal output from the timing control unit 53. The switch 63 switches whether to output a burst wave or an impulse wave to the piezoelectric element 22 based on the output signal of the timing control unit 53.

圧電素子22は、圧電膜の両面にそれぞれ電極が取り付けられているものであり、酸化亜鉛(ZnO)、セラミックス、フッ素系共重合体等で構成される。圧電素子22は、両電極間に電圧が印加されることにより、当該圧電膜から超音波を送信する。さらに圧電素子22は、当該圧電膜が受信したエコー波(受信波)を、前記両電極間に発生する電圧である受信信号に変換する。アンプ64は、当該受信信号を増幅して出力信号Voutとして出力するものである。A/D変換器65は、増幅された当該受信信号を、アナログ信号からデジタル信号に変換するものである。   The piezoelectric element 22 has electrodes attached to both sides of the piezoelectric film, and is composed of zinc oxide (ZnO), ceramics, a fluorine-based copolymer, or the like. The piezoelectric element 22 transmits ultrasonic waves from the piezoelectric film when a voltage is applied between both electrodes. Further, the piezoelectric element 22 converts an echo wave (received wave) received by the piezoelectric film into a received signal that is a voltage generated between the electrodes. The amplifier 64 amplifies the received signal and outputs it as an output signal Vout. The A / D converter 65 converts the amplified received signal from an analog signal to a digital signal.

信号処理部66は、受信信号を信号処理するものである。信号処理部66は、タイミング制御部53が出力するゲートパルスVgateによって、受信信号の所定期間のみを切り出す。信号処理部66は、所定期間の受信信号の振幅情報、または、所定期間の受信信号の時間情報を、画像生成部54に出力する。画像生成部54は、信号処理部66の出力信号に基づいて、所定周波数に於ける超音波画像を生成するものである。   The signal processing unit 66 processes the received signal. The signal processing unit 66 cuts out only a predetermined period of the received signal by the gate pulse Vgate output from the timing control unit 53. The signal processing unit 66 outputs the amplitude information of the reception signal for a predetermined period or the time information of the reception signal for a predetermined period to the image generation unit 54. The image generation unit 54 generates an ultrasonic image at a predetermined frequency based on the output signal of the signal processing unit 66.

(超音波映像装置の動作)
図4を参照しつつ、超音波映像装置90の一連の動作について説明する。
走査制御部51は、超音波プローブ20を+X方向にスキャンして1ライン分の画素を取得する。走査制御部51は、超音波プローブ20がX方向の端に位置していることを検知したならば、超音波プローブ20を+Y方向に所定ピッチだけ移動させたのち、−X方向にスキャンして、1ライン分の画像を取得する。これを繰り返して、走査制御部51は、所定範囲の走査を行う。
(Operation of ultrasonic imaging equipment)
A series of operations of the ultrasound imaging apparatus 90 will be described with reference to FIG.
The scanning control unit 51 scans the ultrasonic probe 20 in the + X direction and acquires pixels for one line. If the scanning control unit 51 detects that the ultrasonic probe 20 is located at the end in the X direction, the scanning control unit 51 moves the ultrasonic probe 20 in the + Y direction by a predetermined pitch, and then scans in the −X direction. An image for one line is acquired. By repeating this, the scanning control unit 51 performs scanning within a predetermined range.

映像表示装置50のタイミング制御部53は、走査制御部51から超音波プローブ20のX方向とY方向の走査位置情報を受け取り、Y方向の走査位置情報に基づいて周波数制御部52に周波数を指示し、X方向の走査位置情報に基づいて送受信装置60に超音波の送信を指示すると共に、受信信号を信号処理するためのゲートパルスVgateを出力する。   The timing control unit 53 of the video display device 50 receives scanning position information of the ultrasonic probe 20 in the X direction and Y direction from the scanning control unit 51, and instructs the frequency control unit 52 on the frequency based on the scanning position information in the Y direction. Then, based on the scanning position information in the X direction, the transmitter / receiver 60 is instructed to transmit ultrasonic waves, and a gate pulse Vgate for signal processing of the received signal is output.

送受信装置60は、バースト波発信器61が出力したバースト信号とインパルス波発信器62が出力したインパルス信号のいずれかをスイッチ63により切り替えて、超音波プローブ20に信号を出力する。さらに、送受信装置60は、超音波プローブ20が受信したエコー波(受信波)の受信信号を、アンプ64で増幅したのち、A/D変換器65によってデジタル信号に変換する。信号処理部66は、タイミング制御部53から入力されたゲートパルスVgateに基づいて、受信信号(デジタル信号)を信号処理し、映像表示装置50に出力する。   The transmission / reception device 60 switches either the burst signal output from the burst wave transmitter 61 or the impulse signal output from the impulse wave transmitter 62 with the switch 63 and outputs a signal to the ultrasonic probe 20. Further, the transmission / reception device 60 amplifies the reception signal of the echo wave (reception wave) received by the ultrasonic probe 20 by the amplifier 64, and then converts it into a digital signal by the A / D converter 65. The signal processing unit 66 processes the received signal (digital signal) based on the gate pulse Vgate input from the timing control unit 53, and outputs the received signal to the video display device 50.

映像表示装置50は、走査制御部51が取得した走査位置の情報を画素位置とし、送受信装置60が信号処理した受信信号の情報を画素の輝度情報として、被検体15の内部構造を画像化して表示する。被検体120の内部を示す超音波画像は、受信信号の振幅情報によるものでも、受信信号が所定振幅以上になる時間の情報によるものでもよい。   The video display device 50 images the internal structure of the subject 15 using the information on the scanning position acquired by the scanning control unit 51 as the pixel position and the information on the received signal processed by the transmission / reception device 60 as the luminance information of the pixel. indicate. The ultrasonic image showing the inside of the subject 120 may be based on the amplitude information of the received signal, or may be based on time information when the received signal is equal to or greater than a predetermined amplitude.

以下、各種の反射波減衰手段30について説明する。
(実施例1)
図5は、実施例1に係る反射波減衰手段30Aを示す構造模式図であり、(a)は水槽10に配設した際の側面図であり、(b)は反射波減衰手段30Aの水槽10の壁に接する(向き合う)側からみた斜視図である。即ち、図5(b)は、図5(a)の側面部10R側(右側)の斜視図である。図5(a)に示すように、水槽10の側面部10L,10Rから所定距離の位置に反射波減衰手段30Aが配設されている。図5(b)に示すように、反射波減衰手段30Aは、多数の突起32を有する方形状かつ格子状であるベース31で形成されている。突起32は、樹脂材料等の柔らかい材料であり、例えば、PP(ポリプロピレン)、EPDM(エチレン-プロピレンゴム)、ABS(アクリロニトリル、ブタジエン、スチレン)等の樹脂が好ましい。なお、突起32は、細線等の金属材料であってもよい。
Hereinafter, various reflected wave attenuation means 30 will be described.
Example 1
5A and 5B are schematic structural views showing the reflected wave attenuating means 30A according to the first embodiment. FIG. 5A is a side view when the reflected wave attenuating means 30A is disposed in the water tank 10, and FIG. It is the perspective view seen from the side which touches (facing) 10 walls. That is, FIG. 5B is a perspective view of the side surface portion 10R side (right side) of FIG. As shown in FIG. 5 (a), the reflected wave attenuating means 30A is disposed at a predetermined distance from the side surface portions 10L, 10R of the water tank 10. As shown in FIG. 5 (b), the reflected wave attenuating means 30 </ b> A is formed of a base 31 that has a large number of protrusions 32 and has a square shape and a lattice shape. The protrusion 32 is a soft material such as a resin material. For example, a resin such as PP (polypropylene), EPDM (ethylene-propylene rubber), ABS (acrylonitrile, butadiene, styrene) is preferable. The protrusion 32 may be a metal material such as a thin wire.

水槽10に貯めた液状物質11Aの中に試料載置台12を設置し、被検体15の上方で超音波プローブ20を高速で移動させると、水槽10中の液状物質表面に進行波が生じ、進行波は水槽内壁(例えば、側面部10L,10Rの内壁)に当たって反射波を生じる。超音波プローブ20をX軸方向に繰り返し往復動作させることにより、進行波と反射波が合成され、より大きな合成波を生じさせる。これにより、液状物質11Aの表面の変位が大きくなり、超音波プローブ20の先端が液状物質11Aから露出すると、超音波による被検体15の画像が取得できなくなる。また、水槽10の側面部の高さを超える合成波になると液状物質11Aが水槽10から溢れ、被検体15を静置させることも難しくなる。さらには、液状物質11A中に気泡を巻き込むことにより、超音波による画像取得を阻害する。   When the sample mounting table 12 is installed in the liquid material 11A stored in the water tank 10 and the ultrasonic probe 20 is moved at a high speed above the subject 15, a traveling wave is generated on the surface of the liquid material in the water tank 10 and travels. The wave hits the inner wall of the aquarium (for example, the inner walls of the side surfaces 10L and 10R) to generate a reflected wave. By reciprocating the ultrasonic probe 20 in the X-axis direction, the traveling wave and the reflected wave are combined to generate a larger combined wave. As a result, the displacement of the surface of the liquid material 11A becomes large, and when the tip of the ultrasonic probe 20 is exposed from the liquid material 11A, an image of the subject 15 by ultrasonic waves cannot be acquired. Further, when the synthetic wave exceeds the height of the side surface of the water tank 10, the liquid substance 11A overflows from the water tank 10 and it is difficult to allow the subject 15 to stand still. Furthermore, by acquiring bubbles in the liquid material 11A, image acquisition by ultrasonic waves is inhibited.

このため、本実施例では、水槽10の側壁に反射波減衰手段30Aを配設することにより、超音波の伝播媒体である液状物質11Aの波の側面部10L,10R(端部)での反射波を抑制することができる。反射波減衰手段30Aは、貫通口を有したベース(例えば、格子状のベース31)に、先端が少し曲がった細い突起32を複数設けた構造とする。突起32を水槽10の側壁側に向け配設することにより、進行波が貫通口を設けたベースを通り、突起32で拡散させられることにより、反射波を抑制することができる。   For this reason, in this embodiment, the reflection wave attenuating means 30A is disposed on the side wall of the water tank 10, so that the wave of the liquid substance 11A, which is an ultrasonic propagation medium, is reflected at the side surfaces 10L and 10R (ends). Waves can be suppressed. The reflected wave attenuating means 30A has a structure in which a plurality of thin protrusions 32 whose tips are slightly bent are provided on a base having a through hole (for example, a lattice-like base 31). By disposing the protrusion 32 toward the side wall of the water tank 10, the traveling wave passes through the base provided with the through hole and is diffused by the protrusion 32, whereby the reflected wave can be suppressed.

反射波減衰手段30Aは、鉛直方向(Z軸方向)に、突起32(突起物)のうちの少なくとも一つが水槽10内の液状物質11Aの表面より上側の高さ位置にあることが好ましい。また、反射波減衰手段30Aは、鉛直方向に、上方端辺30Auが少なくとも水槽10内の液状物質11Aの表面より上側の高さ位置であることが好ましい。これにより、液状物質11Aの表面より上側において、波打ちを抑制できる。   In the reflected wave attenuating means 30 </ b> A, it is preferable that at least one of the protrusions 32 (protrusions) is at a height above the surface of the liquid substance 11 </ b> A in the water tank 10 in the vertical direction (Z-axis direction). In the reflected wave attenuating means 30 </ b> A, the upper end 30 </ b> Au is preferably at a height above the surface of the liquid substance 11 </ b> A in the water tank 10 in the vertical direction. Thereby, it is possible to suppress undulation above the surface of the liquid substance 11A.

反射波減衰手段30Aは、鉛直方向(Z軸方向)において、突起32(突起物)のうちの少なくとも一つが被検体の載置台の下側表面12dより下側の高さ位置であることが好ましい。また、反射波減衰手段30Aは、鉛直方向において、下方端辺30Adが少なくとも被検体15の試料載置台12の下側表面12dより下側の高さ位置であることが好ましい。これにより、液状物質11A内の被検体の載置台の下側表面12d付近での波打ちを抑制できる。   In the reflected wave attenuating means 30A, in the vertical direction (Z-axis direction), at least one of the protrusions 32 (projections) is preferably at a height position below the lower surface 12d of the subject mounting table. . In the reflected wave attenuating means 30A, the lower end 30Ad is preferably at least a height position below the lower surface 12d of the sample mounting table 12 of the subject 15 in the vertical direction. Thereby, it is possible to suppress undulations in the vicinity of the lower surface 12d of the mounting table of the subject in the liquid substance 11A.

実施例1の反射波減衰手段30Aは、方形状かつ板状であるベース(例えば、ベース31)と該ベースの片面に配設された複数の突起物(例えば、突起32)とを含んでおり、ベースには流路となる複数の開口を有し、突起物を水槽10の端部側(側面部側)に向けて配設されていることが特徴である。   The reflected wave attenuating means 30A of the first embodiment includes a base that is rectangular and plate-like (for example, the base 31) and a plurality of protrusions (for example, the protrusions 32) that are disposed on one side of the base. The base has a plurality of openings serving as flow paths, and is characterized in that the protrusions are disposed toward the end side (side surface side) of the water tank 10.

(実施例2)
図6は、実施例2に係る反射波減衰手段30Bを示す構造模式図であり、(a)は水槽10に配設した際の側面図であり、(b)は反射波減衰手段30Bの水槽10の壁に接する(向き合う)側からみた分解斜視図である。即ち、図6(b)は、図6(a)の側面部10R側(右側)の分解斜視図である。図6(a)に示すように、水槽10の側面部10L,10Rから間隔dだけ離した位置に反射波減衰手段30Bが配設されている。反射波減衰手段30Bは、方形状かつ板状の第1ベース30B1と、方形状かつ板状の第2ベース30B2とを貼り合わせた構造である。図6(b)に示すように、第1ベース10B1は、貫通口33を複数有し、第2ベース30B2は、第1ベース30B1の貫通口33の開口率より小さい貫通口34を複数有する。
(Example 2)
6A and 6B are schematic structural views showing the reflected wave attenuating means 30B according to the second embodiment. FIG. 6A is a side view when the reflected wave attenuating means 30B is disposed in the water tank 10, and FIG. It is the disassembled perspective view seen from the side which touches (facing) 10 walls. That is, FIG. 6B is an exploded perspective view of the side surface portion 10R side (right side) of FIG. As shown in FIG. 6A, the reflected wave attenuating means 30B is disposed at a position separated from the side surface portions 10L, 10R of the water tank 10 by a distance d. The reflected wave attenuating means 30B has a structure in which a square and plate-like first base 30B1 and a square and plate-like second base 30B2 are bonded together. As shown in FIG. 6B, the first base 10B1 has a plurality of through holes 33, and the second base 30B2 has a plurality of through holes 34 smaller than the opening ratio of the through holes 33 of the first base 30B1.

言い換えると、反射波減衰手段30Bは、貫通口を設けた板(第1ベース30B1)に開口率の異なる板(第2ベース30B2)を貼り合せた構造である。水槽10内の超音波プローブ20を中心とした内側には、開口率の大きな貫通口33を設けた板を配し、その外側には開口率の小さな貫通口34を設けた板を配するものとする。被検体15の上方で超音波プローブ20を高速で移動させると、水槽10中の液状物質表面に進行波が生じる。進行波は開口率の大きな貫通口33を設けた板を通り、開口率の小さな貫通口34を設けた板で進行波が減衰させられる。また、開口率の小さな貫通口34を設けた板を通り抜けた進行波は、水槽10の側壁で反射するが、波のエネルギーが減衰しているため、開口率の小さな貫通口34を設けた板を通ることができない。なお、この形態の反射波減衰手段30Bは、水槽10の側壁から間隔dを設けて設置すると効果が高いが、進行波の大きさや開口率等により決める必要があり、一義的に決定できる寸法ではない。   In other words, the reflected wave attenuating means 30B has a structure in which a plate (second base 30B2) having a different aperture ratio is bonded to a plate (first base 30B1) provided with a through hole. A plate provided with a through-hole 33 having a large aperture ratio is arranged inside the ultrasonic probe 20 in the water tank 10 and a plate provided with a through-hole 34 having a small aperture ratio is arranged outside thereof. And When the ultrasonic probe 20 is moved at a high speed above the subject 15, a traveling wave is generated on the surface of the liquid material in the water tank 10. The traveling wave passes through the plate provided with the through hole 33 having a large aperture ratio, and the traveling wave is attenuated by the plate provided with the through hole 34 having a small aperture ratio. Further, the traveling wave that has passed through the plate provided with the through-hole 34 having a small aperture ratio is reflected by the side wall of the water tank 10, but the wave energy is attenuated, so that the plate provided with the through-hole 34 having a small aperture ratio. Cannot pass. The reflected wave attenuating means 30B of this embodiment is highly effective when installed with a distance d from the side wall of the water tank 10, but it must be determined by the magnitude of the traveling wave, the aperture ratio, etc., and the dimensions can be uniquely determined. Absent.

実施例2の反射波減衰手段30Bは、方形状かつ板状の第1ベース及び第2ベースとが接合されており、第1ベースには、流路となる貫通口33(第1開口)が複数有し、第2ベースには、流路となる貫通口34(第2開口)が複数有する。第2開口の開口率は、第1開口の開口率より小さく、第2ベース側を、前記水槽の端部側に向けて配設されていることが特徴である。   In the reflected wave attenuating means 30B of the second embodiment, a rectangular and plate-like first base and a second base are joined, and the first base has a through-hole 33 (first opening) serving as a flow path. The second base has a plurality of through-holes 34 (second openings) serving as flow paths. The opening ratio of the second opening is smaller than the opening ratio of the first opening, and the second base side is arranged with the end side of the water tank facing.

(実施例3)
図7は、実施例3に係る反射波減衰手段30Cを示す構造模式図であり、(a)は水槽10に配設した際の側面図であり、(b)は反射波減衰手段30Cの水槽10の壁に接する(向き合う)側とは反対方向からみた斜視図である。即ち、図7(b)は、図7(a)の側面部10L側(左側)の斜視図である。図7(a)に示すように、水槽10の側面部10L,10Rに、複数の突起32Cを有する反射波減衰手段30Cが配設されている。図7(b)に示すように、反射波減衰手段30Cは、方形状かつ板状のベース31Cに、断面(XZ平面上の断面)が三角状でY軸方向に長い突起32Cを複数有する。
(Example 3)
7A and 7B are schematic structural views showing the reflected wave attenuating means 30C according to the third embodiment. FIG. 7A is a side view when the reflected wave attenuating means 30C is disposed in the water tank 10, and FIG. It is the perspective view seen from the direction opposite to the side which touches (facing) 10 walls. That is, FIG. 7B is a perspective view of the side surface portion 10L side (left side) of FIG. As shown in FIG. 7A, the reflected wave attenuation means 30 </ b> C having a plurality of protrusions 32 </ b> C is disposed on the side surfaces 10 </ b> L and 10 </ b> R of the water tank 10. As shown in FIG. 7B, the reflected wave attenuating means 30C has a plurality of protrusions 32C having a triangular cross section (cross section on the XZ plane) and long in the Y-axis direction on a rectangular and plate-like base 31C.

被検体15の上方で超音波プローブ20を高速で移動させると、水槽10中の液状物質11Aの表面に進行波が生じる。進行波は、反射波減衰手段30Cの突起32Cにより、反射波の方向を変更させられる。これにより、進行波と反射波が合成し、より大きな進行波となることを抑制することができる。   When the ultrasonic probe 20 is moved at a high speed above the subject 15, a traveling wave is generated on the surface of the liquid substance 11 </ b> A in the water tank 10. The traveling wave has its reflected wave direction changed by the protrusion 32C of the reflected wave attenuating means 30C. Thereby, it can suppress that a traveling wave and a reflected wave synthesize | combine and become a larger traveling wave.

実施例3の反射波減衰手段30Cは、方形状かつ板状のベース(例えば、ベース31C)と該ベースの片面に配設された複数の突起物(例えば、突起32C)とを含んでおり、突起物を超音波プローブ20側に向けて配設されていることが特徴である。なお、突起32Cの断面は三角状となっているが、半円状、半楕円状等であってもよい。   The reflected wave attenuating means 30C of Example 3 includes a square and plate-like base (for example, the base 31C) and a plurality of protrusions (for example, the protrusion 32C) disposed on one surface of the base, A feature is that the protrusions are arranged toward the ultrasonic probe 20 side. Note that the cross section of the protrusion 32C is triangular, but it may be semicircular, semielliptical, or the like.

(実施例4)
図8は、実施例4に係る反射波減衰手段30Dを示す構造模式図であり、(a)は水槽10に配設した際の側面図であり、(b)は反射波減衰手段30Dの水槽10の壁に接する(向き合う)側とは反対方向からみた斜視図である。即ち、図8(b)は、図8(a)の側面部10L側(左側)の斜視図である。図8(a)に示すように、水槽10の側面部10L,10Rに、複数の突起32Dを有する反射波減衰手段30Dが配設されている。図8(b)に示すように、反射波減衰手段30Dは、方形状かつ板状のベース31Dに、断面(XZ平面上の断面)が三角状でY軸方向に長い突起32Dを複数有する。実施例4は、実施例3と異なり、突起32Dが上方(Z軸の負側の方向)に向かって、大きくなっている。
Example 4
8A and 8B are schematic structural views showing the reflected wave attenuating means 30D according to the fourth embodiment. FIG. 8A is a side view when the reflected wave attenuating means 30D is disposed in the water tank 10, and FIG. It is the perspective view seen from the direction opposite to the side which touches (facing) 10 walls. That is, FIG. 8B is a perspective view of the side surface portion 10L side (left side) of FIG. As shown to Fig.8 (a), the reflected wave attenuation | damping means 30D which has several protrusion 32D is arrange | positioned by the side parts 10L and 10R of the water tank 10. FIG. As shown in FIG. 8B, the reflected wave attenuating means 30D has a square and plate-like base 31D having a plurality of protrusions 32D having a triangular cross section (cross section on the XZ plane) and long in the Y-axis direction. In the fourth embodiment, unlike the third embodiment, the protrusion 32D increases in the upward direction (the direction on the negative side of the Z axis).

即ち、反射波減衰手段30Dは、突起32Dを、上方に向けて徐々に大きくなるように配設した構造としている。被検体15の上方で超音波プローブ20を高速で移動させると、水槽10中の液状物質11Aの表面に進行波が生じる。進行波の振幅は、進行波の大きさに比例するため、上方に向けて突起物を大きくすることにより、効果的に反射波の方向を変更することができる。   That is, the reflected wave attenuating means 30D has a structure in which the protrusion 32D is disposed so as to gradually increase upward. When the ultrasonic probe 20 is moved at a high speed above the subject 15, a traveling wave is generated on the surface of the liquid substance 11 </ b> A in the water tank 10. Since the amplitude of the traveling wave is proportional to the magnitude of the traveling wave, the direction of the reflected wave can be effectively changed by increasing the protrusion upward.

実施例4の反射波減衰手段30Dは、方形状かつ板状のベース(例えば、ベース31D)と該ベースの片面に配設された複数の突起物(例えば、突起32D)とを含んでおり、突起物を超音波プローブ20側に向けて配設されている。突起物は、上方に向けて徐々に大きくなることが特徴である。なお、突起32Cの断面は三角状となっているが、半円状、半楕円状等であってもよい。   The reflected wave attenuating means 30D of the fourth embodiment includes a square and plate-like base (for example, the base 31D) and a plurality of protrusions (for example, the protrusion 32D) disposed on one surface of the base, The protrusions are arranged facing the ultrasonic probe 20 side. The protrusion is characterized by gradually increasing upward. Note that the cross section of the protrusion 32C is triangular, but it may be semicircular, semielliptical, or the like.

(実施例5)
図9は、実施例5に係る反射波減衰手段30Eを示す構造模式図であり、(a)は水槽10に配設した際の側面図であり、(b)は反射波減衰手段30Eの水槽10の壁に接する(向き合う)側とは反対方向からみた斜視図である。即ち、図9(b)は、図9(a)の側面部10L側(左側)の斜視図である。図9(a)に示すように、水槽10の側面部10L,10Rに、複数の突起32Eを有する反射波減衰手段30Eが配設されている。図9(b)に示すように、反射波減衰手段30Eは、方形状かつ格子状のベース31Eに、断面(XZ平面上の断面)が三角状でY軸方向に長い突起32Eを複数有する。突起32Eは、上下方向(Z軸の正負方向)において所定の間隔をおいてベース31Eに配設されており、その所定の間隔が波の貫通口となる。
(Example 5)
FIG. 9 is a structural schematic diagram showing the reflected wave attenuating means 30E according to the fifth embodiment, (a) is a side view when disposed in the water tank 10, and (b) is a water tank of the reflected wave attenuating means 30E. It is the perspective view seen from the direction opposite to the side which touches (facing) 10 walls. 9B is a perspective view of the side surface portion 10L side (left side) of FIG. 9A. As shown in FIG. 9A, reflected wave attenuation means 30 </ b> E having a plurality of protrusions 32 </ b> E is disposed on the side surface portions 10 </ b> L and 10 </ b> R of the water tank 10. As shown in FIG. 9B, the reflected wave attenuating means 30E has a plurality of protrusions 32E having a triangular cross section (cross section on the XZ plane) and long in the Y-axis direction on a square and lattice-shaped base 31E. The protrusions 32E are disposed on the base 31E with a predetermined interval in the vertical direction (the positive and negative directions of the Z axis), and the predetermined interval becomes a wave through hole.

即ち、反射波減衰手段30Eは、貫通口を設けた板(例えば、ベース31E)は超音波プローブ20を中心とした内側に向け、突起32Eは水槽10の側壁面に向け、間隔dで配設する構造とする。被検体15の上方で超音波プローブ20を高速で移動させると、水槽10中の液状物質11Aの表面に進行波が生じる。進行波が貫通口を設けた板を通り、水槽10の側壁で反射した後、突起32Eにより反射波の方向が変更させられることにより、反射波を抑制することができる。   That is, the reflected wave attenuating means 30E is provided with a plate (for example, the base 31E) provided with a through-hole toward the inner side centering on the ultrasonic probe 20, and the protrusion 32E toward the side wall surface of the water tank 10 at a distance d. Structure. When the ultrasonic probe 20 is moved at a high speed above the subject 15, a traveling wave is generated on the surface of the liquid substance 11 </ b> A in the water tank 10. After the traveling wave passes through the plate provided with the through hole and is reflected by the side wall of the water tank 10, the reflected wave can be suppressed by changing the direction of the reflected wave by the protrusion 32E.

実施例5の反射波減衰手段30Eは、方形状かつ板状であるベース(例えば、ベース31E)と該ベースの片面に配設された複数の突起物(例えば、突起32E)とを含んでおり、ベースには流路となる複数の開口を有し、突起物を水槽10の端部側に向けて配設されている。なお、突起32Eの断面は三角状となっているが、半円状、半楕円状等であってもよい。   The reflected wave attenuating means 30E of Example 5 includes a base that is rectangular and plate-like (for example, the base 31E) and a plurality of protrusions (for example, the protrusions 32E) disposed on one surface of the base. The base has a plurality of openings serving as flow paths, and the protrusions are arranged toward the end of the water tank 10. In addition, although the cross section of the protrusion 32E is triangular, it may be semicircular or semielliptical.

(実施例6)
図10は、実施例6に係る反射波減衰手段30Fを示す構造模式図であり、(a)は水槽10に配設した際の側面図であり、(b)は反射波減衰手段30Fの水槽10の壁に接する(向き合う)側とは反対方向からみた斜視図である。即ち、図10(b)は、図10(a)の側面部10L側(左側)の斜視図である。図10(a)に示すように、水槽10の側面部10L,10Rに、複数の平板状の突起32Fを有する反射波減衰手段30Fが配設されている。図10(b)に示すように、反射波減衰手段30Fは、方形状かつ板状のベース31Fに、断面(XZ平面上の断面)が方形状でY軸方向に長い突起32Fを複数有する。平板状の突起32Fには、小さな穴35が複数有している。
(Example 6)
10A and 10B are schematic structural views showing the reflected wave attenuating means 30F according to the sixth embodiment. FIG. 10A is a side view when the reflected wave attenuating means 30F is disposed in the water tank 10, and FIG. It is the perspective view seen from the direction opposite to the side which touches (facing) 10 walls. That is, FIG. 10B is a perspective view of the side surface portion 10L side (left side) of FIG. As shown in FIG. 10A, the reflected wave attenuation means 30 </ b> F having a plurality of flat plate-like protrusions 32 </ b> F is disposed on the side surface portions 10 </ b> L and 10 </ b> R of the water tank 10. As shown in FIG. 10B, the reflected wave attenuating means 30F has a plurality of protrusions 32F having a square cross section (cross section on the XZ plane) and long in the Y-axis direction on a square and plate-like base 31F. The flat projection 32F has a plurality of small holes 35.

被検体15の上方で超音波プローブ20を高速で移動させると、水槽10中の液状物質11Aの表面に進行波が生じる。進行波は、反射波減衰手段30Fの突起32Fにより、反射波の方向を変更させられる。これにより、進行波と反射波が合成し、より大きな進行波となることを抑制することができる。また、上下方向(Z軸の正負方向)に変更された波は、平板に開けられた小さな穴35を通過することにより、波のエネルギーを減衰させることができる。   When the ultrasonic probe 20 is moved at a high speed above the subject 15, a traveling wave is generated on the surface of the liquid substance 11 </ b> A in the water tank 10. The direction of the reflected wave is changed by the protrusion 32F of the reflected wave attenuation means 30F. Thereby, it can suppress that a traveling wave and a reflected wave synthesize | combine and become a larger traveling wave. The wave changed in the vertical direction (the positive / negative direction of the Z axis) can attenuate the wave energy by passing through the small hole 35 formed in the flat plate.

実施例6の反射波減衰手段30Fは、方形状かつ板状のベース(例えば、ベース31F)と該ベースの片面に配設された複数の突起物(例えば、突起32F)とを含んでおり、突起物を超音波プローブ20側に向けて配設されている。突起32Fは、Y軸方向に対し平板状となっているのが特徴である。   The reflected wave attenuating means 30F of Example 6 includes a square and plate-like base (for example, the base 31F) and a plurality of protrusions (for example, the protrusion 32F) disposed on one surface of the base, The protrusions are arranged facing the ultrasonic probe 20 side. The protrusion 32F is characterized by a flat plate shape with respect to the Y-axis direction.

(実施例7)
図11は、実施例7に係る反射波減衰手段30Gを示す構造模式図であり、(a)は水槽10に配設した際の側面図であり、(b)は反射波減衰手段30Gの水槽10の壁に接する(向き合う)側とは反対方向からみた斜視図である。即ち、図11(b)は、図11(a)の側面部10L側(左側)の斜視図である。図11(a)に示すように、水槽10の側面部10L,10Rに、複数の平板状の突起32Gを有する反射波減衰手段30Gが配設されている。図11(b)に示すように、反射波減衰手段30Gは、方形状かつ板状のベース31Gに、断面(XZ平面上の断面)が方形状でY軸方向に長い突起32Gを複数有する。平板状の突起32Gには、小さな穴35が複数有している。
(Example 7)
FIG. 11 is a structural schematic diagram showing the reflected wave attenuating means 30G according to the seventh embodiment, (a) is a side view when disposed in the water tank 10, and (b) is a water tank of the reflected wave attenuating means 30G. It is the perspective view seen from the direction opposite to the side which touches (facing) 10 walls. That is, FIG. 11B is a perspective view of the side surface portion 10L side (left side) of FIG. As shown in FIG. 11A, the reflected wave attenuating means 30G having a plurality of plate-like protrusions 32G is disposed on the side surface portions 10L and 10R of the water tank 10. As shown in FIG. 11B, the reflected wave attenuating means 30G has a plurality of protrusions 32G having a square cross section (cross section on the XZ plane) and long in the Y-axis direction on a rectangular and plate-like base 31G. The flat protrusion 32G has a plurality of small holes 35.

即ち、反射波減衰手段30Gは、突起32Gを、上方に向けて徐々に大きくなるように配設した構造としている。被検体15の上方で超音波プローブ20を高速で移動させると、水槽10中の液状物質11Aの表面に進行波が生じる。進行波の振幅は、進行波の大きさに比例するため、上方に向けて突起物を大きくすることにより、効果的に反射波の方向を変更することができる。   That is, the reflected wave attenuating means 30G has a structure in which the protrusion 32G is disposed so as to gradually increase upward. When the ultrasonic probe 20 is moved at a high speed above the subject 15, a traveling wave is generated on the surface of the liquid substance 11 </ b> A in the water tank 10. Since the amplitude of the traveling wave is proportional to the magnitude of the traveling wave, the direction of the reflected wave can be effectively changed by increasing the protrusion upward.

実施例7の反射波減衰手段30Gは、方形状かつ板状のベース(例えば、ベース31G)と該ベースの片面に配設された複数の突起物(例えば、突起32G)とを含んでおり、突起物を超音波プローブ20側に向けて配設されている。突起物は、上方に向けて徐々に大きくなることが特徴である。   The reflected wave attenuating means 30G of the seventh embodiment includes a square and plate-like base (for example, the base 31G) and a plurality of protrusions (for example, the protrusion 32G) disposed on one surface of the base, The protrusions are arranged facing the ultrasonic probe 20 side. The protrusion is characterized by gradually increasing upward.

(実施例8)
図12は、実施例8に係る水槽側壁頂部返し手段37を示す構造模式図であり、(a)は水槽10に配設した際の側面図であり、(b)は水槽側壁頂部返し手段37の水槽10の壁に接する(向き合う)側とは反対方向からみた斜視図である。即ち、図12(b)は、図12(a)の側面部10L側(左側)の斜視図である。図12(a)に示すように、水槽10の側面部10L,10Rに、水槽側壁頂部返し手段37が配設されている。水槽側壁頂部返し手段37は、断面(XZ平面上の断面)がL字形状の頂部返し部37aと、頂部返し部37aを側面部に係合させる係合部37bとを含んで構成される。図12(b)に示すように、水槽側壁頂部返し手段37は、Y軸方向に長い形状である。なお、頂部返し部37aと係合部37bとは、一体成形してもよい。
(Example 8)
12A and 12B are schematic structural views showing the aquarium sidewall top returning means 37 according to the eighth embodiment. FIG. 12A is a side view when the aquarium sidewall top returning means 37 is disposed in the aquarium 10, and FIG. It is the perspective view seen from the direction opposite to the side which touches the wall of the water tank 10 of (facing). That is, FIG. 12B is a perspective view of the side surface portion 10L side (left side) of FIG. As shown in FIG. 12A, water tank side wall top return means 37 is disposed on the side surface portions 10 </ b> L and 10 </ b> R of the water tank 10. The water tank side wall top portion returning means 37 includes a top portion returning portion 37a having an L-shaped cross section (cross section on the XZ plane) and an engaging portion 37b for engaging the top returning portion 37a with the side surface portion. As shown in FIG.12 (b), the water tank side wall top part return means 37 is a shape long in a Y-axis direction. In addition, you may integrally mold the top return part 37a and the engaging part 37b.

水槽10に貯めた液状物質11Aの中に試料載置台12を設置し、被検体15の上方で超音波プローブ20を高速で移動させると、水槽10中の液状物質表面に進行波が生じ、進行波は水槽内壁(例えば、側面部10L,10Rの内壁)に当たって反射波を生じる。超音波プローブ20をX軸方向に繰り返し往復動作させることにより、進行波と反射波が合成され、より大きな合成波を生じさせる。これにより、液状物質11Aの表面の変位が大きくなり、超音波プローブ20の先端が液状物質11Aから露出すると、超音波による被検体15の画像が取得できなくなる。また、水槽10の側面部の高さを超える合成波になると液状物質11Aが水槽10から溢れ、被検体15を静置させることも難しくなる。さらには、液状物質11A中に気泡を巻き込むことにより、超音波による画像取得を阻害する。   When the sample mounting table 12 is installed in the liquid material 11A stored in the water tank 10 and the ultrasonic probe 20 is moved at a high speed above the subject 15, a traveling wave is generated on the surface of the liquid material in the water tank 10 and travels. The wave hits the inner wall of the aquarium (for example, the inner walls of the side surfaces 10L and 10R) to generate a reflected wave. By reciprocating the ultrasonic probe 20 in the X-axis direction, the traveling wave and the reflected wave are combined to generate a larger combined wave. As a result, the displacement of the surface of the liquid material 11A becomes large, and when the tip of the ultrasonic probe 20 is exposed from the liquid material 11A, an image of the subject 15 by ultrasonic waves cannot be acquired. Further, when the synthetic wave exceeds the height of the side surface of the water tank 10, the liquid substance 11A overflows from the water tank 10 and it is difficult to allow the subject 15 to stand still. Furthermore, by acquiring bubbles in the liquid material 11A, image acquisition by ultrasonic waves is inhibited.

このため、本実施例では、水槽10の側壁に、水槽側壁頂部返し手段37を配設することにより、超音波の伝播媒体である液状物質11Aの波の側面部10L,10R(端部)での反射波を抑制することができる。水槽側壁頂部返し手段37は、断面がL字形状の頂部返し部37aを有しているため、反射波が頂部返し部37aが障害となり、反射波を抑制することができる。   For this reason, in this embodiment, the water tank side wall top return means 37 is disposed on the side wall of the water tank 10, so that the wave side surfaces 10 </ b> L and 10 </ b> R (ends) of the liquid substance 11 </ b> A, which is an ultrasonic propagation medium. The reflected wave can be suppressed. Since the water tank side wall top return means 37 has a top return part 37a having an L-shaped cross section, the reflected wave can be inhibited by the top return part 37a and the reflected wave can be suppressed.

以上実施例1〜8において、超音波映像装置90が反射法である場合について説明したが、これに限定されるわけではない。例えば、超音波映像装置90が透過法であってもよい。   In the first to eighth embodiments, the case where the ultrasound imaging apparatus 90 is the reflection method has been described. However, the present invention is not limited to this. For example, the ultrasonic imaging apparatus 90 may be a transmission method.

図13は、透過法の超音波映像装置の構成を示す図である。被検体15は、検査対象ホルダ17に載置され、第1超音波探触部81(上方プローブ)と第2超音波探触部82(下方プローブ)との間に配置される。検査対象ホルダ17は、超音波を透過する材料、例えば、ポリエチレン、ポリメチルペンテン等のプラスチック材料、アクリル樹脂、等により構成される。   FIG. 13 is a diagram illustrating a configuration of a transmission-type ultrasonic imaging apparatus. The subject 15 is placed on the examination subject holder 17 and is disposed between the first ultrasonic probe 81 (upper probe) and the second ultrasonic probe 82 (lower probe). The inspection object holder 17 is made of a material that transmits ultrasonic waves, for example, a plastic material such as polyethylene or polymethylpentene, an acrylic resin, or the like.

取り付け部品85は、X軸走査部80及び第1のZ軸走査部83を固定し、取り付け部品86は、X軸走査部80及び第2のZ軸走査部84を固定する。取り付け部品85と取り付け部品86とは、互いにネジ等の締結具により一体化されている。プローブホルダ87は、第1超音波探触部81を固定するためのホルダであり、第1のZ軸走査部83を介して±Z軸方向に駆動可能である。L字金具88は、第2超音波探触部82を固定するための金具であり、第2のZ軸走査部84を介して±Z軸方向に駆動可能である。   The mounting component 85 fixes the X-axis scanning unit 80 and the first Z-axis scanning unit 83, and the mounting component 86 fixes the X-axis scanning unit 80 and the second Z-axis scanning unit 84. The attachment component 85 and the attachment component 86 are integrated with each other by a fastener such as a screw. The probe holder 87 is a holder for fixing the first ultrasonic probe 81, and can be driven in the ± Z-axis direction via the first Z-axis scanning unit 83. The L-shaped metal fitting 88 is a metal fitting for fixing the second ultrasonic probe section 82 and can be driven in the ± Z-axis direction via the second Z-axis scanning section 84.

X軸走査部80が、X方向に駆動することで、第1超音波探触部81及び第2超音波探触部82は共に±X方向に駆動する。Y軸走査部(図示せず)が、Y軸方向に駆動することで、第1超音波探触部81及び第2超音波探触部82は共に±Y方向に駆動する。つまり、±X方向、±Y方向において、第2超音波探触部82は、第1超音波探触部81に追従して駆動する。   When the X-axis scanning unit 80 is driven in the X direction, both the first ultrasonic probe unit 81 and the second ultrasonic probe unit 82 are driven in the ± X direction. When the Y-axis scanning unit (not shown) is driven in the Y-axis direction, both the first ultrasonic probe unit 81 and the second ultrasonic probe unit 82 are driven in the ± Y direction. That is, the second ultrasonic probe 82 is driven following the first ultrasonic probe 81 in the ± X and ± Y directions.

一方、第1のZ軸走査部83が、Z軸方向に駆動することで、第1超音波探触部81は±Z方向に駆動し、第2のZ軸走査部84が、Z軸方向に駆動することで、第2超音波探触部2は±Z方向に駆動する。つまり、±Z方向において、第1超音波探触部81と第2超音波探触部82とは、独立して駆動可能である。   On the other hand, when the first Z-axis scanning unit 83 is driven in the Z-axis direction, the first ultrasonic probe unit 81 is driven in the ± Z direction, and the second Z-axis scanning unit 84 is driven in the Z-axis direction. , The second ultrasonic probe 2 is driven in the ± Z direction. That is, in the ± Z direction, the first ultrasonic probe 81 and the second ultrasonic probe 82 can be driven independently.

図14は、透過法の超音波映像装置に、実施例1に係る反射波減衰手段を適用した場合を示す説明図である。実施例1と同様に、水槽10の側面部10L,10Rから所定距離の位置に反射波減衰手段30Aが配設されている。反射波減衰手段30Aは、多数の突起32を有する方形状かつ格子状であるベース31で形成されている。突起32は、樹脂材料等の柔らかい材料であり、例えば、PP(ポリプロピレン)、EPDM(エチレン-プロピレンゴム)、ABS(アクリロニトリル、ブタジエン、スチレン)等の樹脂が好ましい。   FIG. 14 is an explanatory diagram illustrating a case where the reflected wave attenuating unit according to the first embodiment is applied to a transmission-type ultrasonic imaging apparatus. Similar to the first embodiment, the reflected wave attenuating means 30A is disposed at a predetermined distance from the side surface portions 10L, 10R of the water tank 10. The reflected wave attenuating means 30 </ b> A is formed by a base 31 having a square shape and a lattice shape having a large number of protrusions 32. The protrusion 32 is a soft material such as a resin material. For example, a resin such as PP (polypropylene), EPDM (ethylene-propylene rubber), ABS (acrylonitrile, butadiene, styrene) is preferable.

反射波減衰手段30Aは、鉛直方向(Z軸方向)において、突起32(突起物)のうちの少なくとも一つが第2超音波探触部82(下側プローブ部)の下端部82Lより下側の高さ位置まであることが好ましい。これにより、液状物質11A内の、下端部82L付近の波打ちを抑制できる。   In the reflected wave attenuating means 30A, in the vertical direction (Z-axis direction), at least one of the protrusions 32 (projections) is lower than the lower end part 82L of the second ultrasonic probe part 82 (lower probe part). It is preferable to have a height position. Thereby, it is possible to suppress undulation in the vicinity of the lower end portion 82L in the liquid material 11A.

反射波減衰手段30Aは、鉛直方向(Z軸方向)において、下方端辺30Adが少なくとも第2超音波探触部82(下側プローブ)の下端部82Lより下側の高さ位置であることが好ましい。これにより、液状物質11A内の、下端部82L付近の波打ちを抑制できる。   In the reflected wave attenuating means 30A, in the vertical direction (Z-axis direction), the lower end 30Ad is at least a height position below the lower end portion 82L of the second ultrasonic probe 82 (lower probe). preferable. Thereby, it is possible to suppress undulation in the vicinity of the lower end portion 82L in the liquid material 11A.

水槽10に貯めた液状物質11Aの中に検査対象ホルダ17を設置し、被検体15の上方及び下方で、第1超音波探触部81(上方プローブ)と第2超音波探触部82(下方プローブ)を高速で移動させると、水槽10中の液状物質11Aの表面に進行波が生じるとともに、液状物質11A内においても進行波が生じる。   The inspection object holder 17 is installed in the liquid substance 11A stored in the water tank 10, and the first ultrasonic probe 81 (upper probe) and the second ultrasonic probe 82 (above and below the subject 15). When the lower probe) is moved at a high speed, a traveling wave is generated on the surface of the liquid substance 11A in the water tank 10, and a traveling wave is also generated in the liquid substance 11A.

このため、図14に示す実施例では、水槽10の側壁に反射波減衰手段30Aを配設することにより、超音波の伝播媒体である液状物質11Aの波の側面部10L,10R(端部)での反射波を抑制することができる。反射波減衰手段30Aは、貫通口を有したベース(例えば、格子状のベース31)に、先端が少し曲がった細い突起32を複数設けた構造とする。突起32を水槽10の側壁側に向け配設することにより、進行波が貫通口を設けたベースを通り、突起32で拡散させられることにより、反射波を抑制することができる。   For this reason, in the embodiment shown in FIG. 14, by providing the reflected wave attenuating means 30A on the side wall of the water tank 10, the side surfaces 10L and 10R (end portions) of the wave of the liquid substance 11A which is the ultrasonic wave propagation medium. The reflected wave at can be suppressed. The reflected wave attenuating means 30A has a structure in which a plurality of thin protrusions 32 whose tips are slightly bent are provided on a base having a through hole (for example, a lattice-like base 31). By disposing the protrusion 32 toward the side wall of the water tank 10, the traveling wave passes through the base provided with the through hole and is diffused by the protrusion 32, whereby the reflected wave can be suppressed.

なお、図14においては、実施例1の反射波減衰手段30A(図5参照)の例について説明したが、これに限定されない。実施例2〜7の反射波減衰手段30、及び、実施例8の水槽側壁頂部返し手段37についても適用することができる。   In FIG. 14, the example of the reflected wave attenuation means 30A (see FIG. 5) of the first embodiment has been described, but the present invention is not limited to this. The present invention can also be applied to the reflected wave attenuating means 30 of the second to seventh embodiments and the water tank side wall top returning means 37 of the eighth embodiment.

本実施形態の超音波映像システム100は、超音波映像装置90と、水槽10とを備え、水槽10の端部において、超音波映像装置90の超音波プローブ20を走査した場合に生じる超音波の伝播媒体である液状物質の波の端部での反射波を減衰させる反射波減衰手段30が配設されている。反射波減衰手段30は、複数の突起32(突起物)を有し、超音波映像装置90の超音波プローブ20をX軸方向に走査した際に、X軸方向の水槽10の両端部に、反射波減衰手段30が配設されている。これにより、超音波プローブ20を高速に移動したときであっても波打ちを抑制することができる。   The ultrasound imaging system 100 of this embodiment includes an ultrasound imaging device 90 and a water tank 10, and the ultrasound generated when the ultrasound probe 20 of the ultrasound imaging device 90 is scanned at the end of the water tank 10. Reflected wave attenuating means 30 is provided for attenuating the reflected wave at the end of the wave of the liquid substance that is the propagation medium. The reflected wave attenuating means 30 has a plurality of protrusions 32 (projections). When the ultrasonic probe 20 of the ultrasonic imaging apparatus 90 is scanned in the X-axis direction, both ends of the water tank 10 in the X-axis direction are Reflected wave attenuating means 30 is provided. Thereby, it is possible to suppress undulation even when the ultrasonic probe 20 is moved at high speed.

また、他の効果として、試料載置台12を水の中に沈めるときに流入する水の勢いを軽減することができる。   As another effect, it is possible to reduce the momentum of the water that flows in when the sample mounting table 12 is submerged in water.

なお、本発明は前記した実施形態に限定されるものではなく、様々な変形例が含まれる。例えば、突起32を樹脂であることが好ましいとしたが、ステンレス等の金属であってもよい。ステンレスは、耐水性を有している。また、前記した実施形態は本発明を分かりやすく説明するために詳細に説明したものであり、必ずしも説明した全ての構成を備えるものに限定されるものではない。また、各実施例の構成の一部について、他の構成の追加・削除・置換をすることが可能である。   In addition, this invention is not limited to above-described embodiment, Various modifications are included. For example, the protrusion 32 is preferably made of resin, but may be made of metal such as stainless steel. Stainless steel has water resistance. Further, the above-described embodiment has been described in detail for easy understanding of the present invention, and is not necessarily limited to one having all the configurations described. Further, it is possible to add, delete, and replace other configurations for a part of the configuration of each embodiment.

1 座標系
10 水槽
11 水
11A 液状物質
12 試料載置台
15 被検体
17 検査対象ホルダ
20 超音波プローブ
30,30A,30B,30C,30D,30E,30F,30G 反射波減衰手段
31 ベース
32 突起(突起物)
37 水槽側壁頂部返し手段
40 空隙位置変更手段
41 挿入溝
50 映像表示装置
70 スキャナ装置
71 X軸スキャナ
72 Y軸スキャナ
81 第1超音波探触部(上方プローブ)
82 第2超音波探触部(下方プローブ)
90 超音波映像装置
100 超音波映像システム
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Coordinate system 10 Water tank 11 Water 11A Liquid substance 12 Sample mounting stand 15 Subject 17 Holder to be examined 20 Ultrasonic probe 30, 30A, 30B, 30C, 30D, 30E, 30F, 30G Reflected wave attenuation means 31 Base 32 Protrusion (protrusion) object)
37 Water tank side wall top portion returning means 40 Gap position changing means 41 Insertion groove 50 Video display device 70 Scanner device 71 X-axis scanner 72 Y-axis scanner 81 First ultrasonic probe (upper probe)
82 Second ultrasonic probe (lower probe)
90 Ultrasonic imaging system 100 Ultrasonic imaging system

Claims (10)

超音波映像装置と、水槽とを備え、
前記水槽のX軸方向の端部において、X軸方向の両側内壁面との空隙位置を変化して配設させることができ、前記超音波映像装置のプローブを走査した場合に生じる超音波の伝播媒体である液状物質の波の前記端部での反射波を減衰させる反射波減衰手段が配設されており、
前記反射波減衰手段は、方形状かつ板状のベースと該ベースの片面に配設された複数の突起物とを含んでおり、前記突起物を前記プローブ側に向けて配設されており、
前記水槽の端部には、前記反射波減衰手段をX軸方向の両側内壁面との空隙位置を変化して配設する挿入溝を有する空隙位置変更手段が配設される
ことを特徴とする超音波映像システム。
An ultrasonic imaging device and a water tank,
Propagation of ultrasonic waves generated when the probe of the ultrasonic imaging apparatus is scanned at the end of the water tank in the X-axis direction by changing the gap between the inner wall surfaces on both sides in the X-axis direction. Reflected wave attenuating means for attenuating the reflected wave at the end of the liquid substance wave as a medium is provided,
The reflected wave attenuating means includes a square and plate-shaped base and a plurality of protrusions disposed on one side of the base, and the protrusion is disposed toward the probe side,
The end of the water tank is provided with a gap position changing means having an insertion groove for changing the position of the gap between the reflected wave attenuating means and the inner wall surfaces on both sides in the X-axis direction. ultrasound imaging system that.
超音波映像装置と、水槽とを備え、
前記水槽のX軸方向の端部において、X軸方向の両側内壁面との空隙位置を変化して配設させることができ、前記超音波映像装置のプローブを走査した場合に生じる超音波の伝播媒体である液状物質の波の前記端部での反射波を減衰させる反射波減衰手段が配設されており、
前記反射波減衰手段は、方形状かつ板状であるベースと該ベースの片面に配設された複数の突起物とを含んでおり、前記ベースには流路となる複数の開口を有し、
前記突起物を前記水槽の端部側に向けて配設されており、
前記水槽の端部には、前記反射波減衰手段をX軸方向の両側内壁面との空隙位置を変化して配設する挿入溝を有する空隙位置変更手段が配設される
ことを特徴とする超音波映像システム。
An ultrasonic imaging device and a water tank,
Propagation of ultrasonic waves generated when the probe of the ultrasonic imaging apparatus is scanned at the end of the water tank in the X-axis direction by changing the gap between the inner wall surfaces on both sides in the X-axis direction. Reflected wave attenuating means for attenuating the reflected wave at the end of the liquid substance wave as a medium is provided,
The reflected wave attenuating means includes a square and plate-like base and a plurality of protrusions disposed on one side of the base, and the base has a plurality of openings serving as flow paths,
The protrusion is disposed toward the end of the water tank,
The end of the water tank is provided with a gap position changing means having an insertion groove for changing the position of the gap between the reflected wave attenuating means and the inner wall surfaces on both sides in the X-axis direction. ultrasound imaging system that.
前記プローブがX軸方向に1ライン分走査された後にY軸方向に走査位置に走査される場合、前記反射波減衰手段は、前記突起物のうちの少なくとも一つが映像取得対象である被検体のY軸方向の始点位置より外側にあり、前記突起物のうちの少なくとも一つが前記被検体のY軸方向の終点位置より外側にある
ことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の超音波映像システム。
When the probe is scanned for one line in the X-axis direction and then scanned to the scanning position in the Y-axis direction, the reflected wave attenuating means is configured to detect at least one of the protrusions of a subject whose image is to be acquired. The superposition according to claim 1 or 2, wherein the position is outside a start position in the Y-axis direction, and at least one of the protrusions is outside an end position in the Y-axis direction of the subject. Sound image system.
前記反射波減衰手段は、鉛直方向において、前記突起物のうちの少なくとも一つが前記水槽内の液状物質の表面より上側の高さ位置にある
ことを特徴とする請求項に記載の超音波映像システム。
The reflected wave damping means in the vertical direction, according to Motomeko 3 you, characterized in that in at least one of the upper height position than the surface of the liquid substance in said water tank of said projections super Sound image system.
前記反射波減衰手段は、
前記超音波映像装置の測定モードが反射法であるときは、鉛直方向において、前記突起物のうちの少なくとも一つが被検体の載置台の下側表面より下側の高さ位置であり、
前記超音波映像装置の測定モードが透過法であるときは、鉛直方向において、前記突起物のうちの少なくとも一つが下側プローブ部の下端部より下側の高さ位置である
ことを特徴とする請求項3又は請求項4に記載の超音波映像システム。
The reflected wave attenuating means is
When the measurement mode of the ultrasonic imaging apparatus is a reflection method, in the vertical direction, at least one of the protrusions is a height position below the lower surface of the mounting table of the subject,
When the measurement mode of the ultrasonic imaging apparatus is a transmission method, at least one of the protrusions is a height position below the lower end portion of the lower probe portion in the vertical direction. The ultrasound imaging system according to claim 3 or 4 .
前記プローブをX軸方向に1ライン分走査した後にY軸方向に走査位置に走査するスキャナを有し、
前記反射波減衰手段は、Y軸方向には、その一方端辺が少なくとも映像取得対象である被検体のY軸方向の始点位置より外側にあり、かつ、他方端辺が少なくとも前記被検体のY軸方向の終点位置より外側にある
ことを特徴とする請求項又は請求項に記載の超音波映像システム。
A scanner that scans the probe for one line in the X-axis direction and then scans to the scanning position in the Y-axis direction;
In the Y-axis direction, the reflected wave attenuating means has one end side outside at least the starting point position in the Y-axis direction of the subject to be imaged and the other end side is at least Y of the subject. ultrasound imaging system according to claim 1 or claim 2, characterized in that from the end position in the axial direction on the outside.
前記反射波減衰手段は、鉛直方向において、上方端辺が少なくとも前記水槽内の液状物質の表面より上側の高さ位置である
ことを特徴とする請求項1、2、6のいずれか1項に記載の超音波映像システム。
The reflected wave damping means in the vertical direction, in any one of claims 1, 2 and 6 the upper end edges, characterized in that the height position of the upper side of the surface of the liquid material in at least said water tank The described ultrasound imaging system.
前記反射波減衰手段は、
前記超音波映像装置の測定モードが反射法であるときは、鉛直方向において、下方端辺が少なくとも被検体の載置台の下側表面より下側の高さ位置であり、
前記超音波映像装置の測定モードが透過法であるときは、鉛直方向において、下方端辺が少なくともプローブの下端部より下側の高さ位置である
ことを特徴とする請求項1、2、6、7のいずれか1項に記載の超音波映像システム。
The reflected wave attenuating means is
When the measurement mode of the ultrasonic imaging apparatus is a reflection method, in the vertical direction, the lower edge is at least a height position below the lower surface of the mounting table of the subject,
Wherein when the measurement mode of the ultrasound imaging device is a transmission method, in the vertical direction, it claims lower end edges, characterized in that at least the height position of the lower side of the lower end portion of the probe 1, 2, 6 8. The ultrasound imaging system according to any one of items 7 to 7 .
前記挿入溝は、前記反射波減衰手段を挿入する幅を有し、
前記空隙位置変更手段は、前記挿入溝を複数有する
ことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の超音波映像システム。
The insertion groove has a width for inserting the reflected wave attenuation means,
Ultrasound imaging system according to claim 1 or claim 2 wherein the gap position changing means is characterized by a plurality chromatic said insertion groove.
超音波映像装置と、水槽とを備え、
前記水槽のX軸方向の端部において、X軸方向の両側内壁面との空隙位置を変化して配設させることができ、前記超音波映像装置のプローブを走査した場合に生じる超音波の伝播媒体である液状物質の波の前記端部での反射波を減衰させる反射波減衰手段が配設されており、
前記反射波減衰手段は、方形状かつ板状の第1ベース及び第2ベースとが接合されており、
前記第1ベースには、流路となる第1開口が複数有し、
前記第2ベースには、流路となる第2開口が複数有し、
前記第2開口の開口率は、前記第1開口の開口率より小さく、
前記第2ベース側を、前記水槽の端部側に向けて配設されており、
前記水槽の端部には、前記反射波減衰手段をX軸方向の両側内壁面との空隙位置を変化して配設する挿入溝を有する空隙位置変更手段が配設される
ことを特徴とする超音波映像システム。
An ultrasonic imaging device and a water tank,
Propagation of ultrasonic waves generated when the probe of the ultrasonic imaging apparatus is scanned at the end of the water tank in the X-axis direction by changing the gap between the inner wall surfaces on both sides in the X-axis direction. Reflected wave attenuating means for attenuating the reflected wave at the end of the liquid substance wave as a medium is provided,
The reflected wave attenuating means has a rectangular and plate-like first base and second base joined together,
The first base has a plurality of first openings serving as flow paths,
The second base has a plurality of second openings serving as flow paths,
The aperture ratio of the second opening is smaller than the aperture ratio of the first opening,
The second base side is disposed toward the end side of the water tank ,
The end of the water tank is provided with a gap position changing means having an insertion groove for changing the position of the gap between the reflected wave attenuating means and both inner wall surfaces in the X-axis direction . ultrasound imaging system that.
JP2018125801A 2018-07-02 2018-07-02 Ultrasound imaging system Active JP6479243B1 (en)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018125801A JP6479243B1 (en) 2018-07-02 2018-07-02 Ultrasound imaging system
KR1020190076903A KR102215934B1 (en) 2018-07-02 2019-06-27 Ultrasonic image system
CN201910588234.5A CN110672731B (en) 2018-07-02 2019-07-02 Ultrasonic imaging system
TW108123264A TWI697670B (en) 2018-07-02 2019-07-02 Ultrasonic imaging system

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018125801A JP6479243B1 (en) 2018-07-02 2018-07-02 Ultrasound imaging system

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP6479243B1 true JP6479243B1 (en) 2019-03-06
JP2020003441A JP2020003441A (en) 2020-01-09

Family

ID=65655815

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018125801A Active JP6479243B1 (en) 2018-07-02 2018-07-02 Ultrasound imaging system

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP6479243B1 (en)
KR (1) KR102215934B1 (en)
CN (1) CN110672731B (en)
TW (1) TWI697670B (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113406210A (en) * 2021-07-23 2021-09-17 上海季丰电子股份有限公司 High-quality imaging device of ultrasonic scanning instrument and working method thereof
JP7463605B1 (en) 2023-09-05 2024-04-08 株式会社日立パワーソリューションズ Ultrasound Imaging Device

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7372209B2 (en) * 2020-06-01 2023-10-31 日立Geニュークリア・エナジー株式会社 Ultrasonic inspection device
JP6990794B1 (en) 2021-06-25 2022-01-12 株式会社日立パワーソリューションズ Array type ultrasonic imaging device and its control method
JP2023054642A (en) * 2021-10-04 2023-04-14 株式会社日立パワーソリューションズ Ultrasonic inspection device and ultrasonic inspection method
CN114354749B (en) * 2021-12-29 2024-02-13 长江存储科技有限责任公司 Bonding interface defect detection method and device
JP7368654B1 (en) * 2023-06-28 2023-10-24 株式会社日立パワーソリューションズ ultrasound imaging device

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58225338A (en) * 1982-06-25 1983-12-27 Nishi Nippon Riyuutai Giken:Kk Apparatus for attenuating wave in water tank for testing flowing force
JPS59127138U (en) * 1983-02-14 1984-08-27 株式会社石田衡器製作所 Wave dissipating device for liquid containers
JPS59144466U (en) * 1983-03-11 1984-09-27 株式会社富士電機総合研究所 Wave-dissipating structure of water immersion ultrasonic probe
JPH02114594U (en) * 1989-02-28 1990-09-13
JPH11101710A (en) * 1997-09-29 1999-04-13 Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd Wave making equipment
JP2000213012A (en) * 1999-01-27 2000-08-02 Bridgestone Corp Assembled water tank

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08136518A (en) 1994-11-07 1996-05-31 Hitachi Constr Mach Co Ltd Ultrasonic inspection equipment
US6330831B1 (en) * 1998-10-20 2001-12-18 Panametrics, Inc. Stream-cleaned differential reflection coefficient sensor
TW490559B (en) * 1999-07-30 2002-06-11 Hitachi Construction Machinery Ultrasonic inspection apparatus and ultrasonic detector
CN2407360Y (en) * 2000-03-07 2000-11-22 中国科学院力学研究所 Centrifugal analog apparatus for wave generation
CN2553353Y (en) * 2002-05-29 2003-05-28 重庆海扶(Hifu)技术有限公司 Supersonic power measuring device
JP4827682B2 (en) * 2006-10-13 2011-11-30 トーイツ株式会社 Sensitivity test equipment for ultrasonic Doppler diagnostic equipment
JP4673915B2 (en) * 2008-12-02 2011-04-20 本田技研工業株式会社 Wave breaking structure of fuel tank
CN201788173U (en) * 2009-12-04 2011-04-06 烟台鲁宝钢管有限责任公司 Double-layered water level water tank for steel pipe ultrasonic flaw detection
CN202139655U (en) * 2011-07-04 2012-02-08 戚祖强 Ultrasonic water channel provided with liquid level switch
JP5655017B2 (en) * 2012-02-20 2015-01-14 株式会社日立パワーソリューションズ Work suction and fixing device and ultrasonic inspection system
JP5873773B2 (en) * 2012-07-19 2016-03-01 株式会社日立パワーソリューションズ Measurement frequency variable ultrasonic imaging system
CN203275373U (en) * 2013-05-07 2013-11-06 福建省计量科学研究院 Nonmetal ultrasonic detector calibrating device
FR3013121B1 (en) * 2013-11-13 2016-10-14 Cordouan Tech DEVICE FOR CHARACTERIZING THE ELECTROACOUSTIC POTENTIAL OF A SOLUTION
JP5650339B1 (en) * 2014-02-06 2015-01-07 株式会社日立パワーソリューションズ Ultrasonic inspection equipment
CN204101521U (en) * 2014-10-17 2015-01-14 中国石油集团渤海石油装备制造有限公司 Large wall thickness steel tube weld joint ultrasonic tandem pick-up unit
JP5764251B1 (en) * 2014-12-25 2015-08-19 株式会社日立パワーソリューションズ Ultrasonic imaging apparatus and observation method using the same
CN106092504A (en) * 2016-07-04 2016-11-09 浙江大学 A kind of wave absorption fairing of adjustable inclination
CN206235600U (en) * 2016-10-25 2017-06-09 广西交通规划勘察设计研究院有限公司 A kind of anechoic tank device for calibrating supersonic reflectoscope system delay time
CN207318414U (en) * 2017-10-30 2018-05-04 中国计量大学 A kind of acoustic contrast agent absorption coefficient measuring device

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58225338A (en) * 1982-06-25 1983-12-27 Nishi Nippon Riyuutai Giken:Kk Apparatus for attenuating wave in water tank for testing flowing force
JPS59127138U (en) * 1983-02-14 1984-08-27 株式会社石田衡器製作所 Wave dissipating device for liquid containers
JPS59144466U (en) * 1983-03-11 1984-09-27 株式会社富士電機総合研究所 Wave-dissipating structure of water immersion ultrasonic probe
JPH02114594U (en) * 1989-02-28 1990-09-13
JPH11101710A (en) * 1997-09-29 1999-04-13 Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd Wave making equipment
JP2000213012A (en) * 1999-01-27 2000-08-02 Bridgestone Corp Assembled water tank

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113406210A (en) * 2021-07-23 2021-09-17 上海季丰电子股份有限公司 High-quality imaging device of ultrasonic scanning instrument and working method thereof
JP7463605B1 (en) 2023-09-05 2024-04-08 株式会社日立パワーソリューションズ Ultrasound Imaging Device

Also Published As

Publication number Publication date
TW202014703A (en) 2020-04-16
CN110672731A (en) 2020-01-10
CN110672731B (en) 2021-10-29
TWI697670B (en) 2020-07-01
JP2020003441A (en) 2020-01-09
KR20200003723A (en) 2020-01-10
KR102215934B1 (en) 2021-02-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6479243B1 (en) Ultrasound imaging system
CN109154521B (en) Ultrasonic level sensor with reflector and method for calibrating ultrasonic transducer
KR101494086B1 (en) Measurement frequency variable ultrasonic imaging device
KR101878273B1 (en) Ultrasonic probe
JP7264770B2 (en) ULTRASOUND INSPECTION SYSTEM AND ULTRASOUND INSPECTION METHOD
KR101723752B1 (en) Ultrasonic imaging device and observing method using the same
TWI699530B (en) Position control device, position control method, and ultrasonic imaging system
US7584664B2 (en) Acoustic micro imaging device having at least one balanced linear motor assembly
CN104586357A (en) Subject-information acquiring apparatus
JP2012108138A (en) Ultrasonic probe, and inspection method and system
KR101117203B1 (en) Continuous wave type Doppler ultrasonic transducer and method for manufacturing the same
JP7428616B2 (en) Ultrasonic inspection equipment and ultrasonic inspection method
CN110017799A (en) Ultrasonic measurement device and measuring method
Sisombat et al. Water–air interface deformation by transient acoustic radiation pressure
AU3274299A (en) Method and apparatus for ultrasonic flaw detection
JPH09229748A (en) Ultrasonic liquid level sensor
JP2005249484A (en) Ultrasonic probe
JP2008093288A (en) Sensitivity test device for doppler ultrasonic diagnostic apparatus
JPS61245055A (en) Ultrasonic flaw inspecting device
JP6571958B2 (en) Ultrasonic inspection equipment
CA2330662C (en) Method and apparatus for ultrasonic flaw detection
RU2225082C1 (en) Acoustic unit of ultrasonic measuring device
JP6999234B2 (en) Ultrasonography equipment
JP2683719B2 (en) Ultrasound imaging device
JP2020139851A (en) Liquid level position detector

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20180702

A871 Explanation of circumstances concerning accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871

Effective date: 20180702

A975 Report on accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005

Effective date: 20180731

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20180807

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20181003

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20181113

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20190108

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20190129

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20190205

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6479243

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150