JP6474233B2 - Frame unit - Google Patents
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Description
本発明は、ドレッシングボードがダイシングテープを介して環状フレームに装着されたフレームユニットに関する。 The present invention relates to a frame unit in which a dressing board is mounted on an annular frame via a dicing tape.
半導体チップの小チップ化と抗折強度向上のために先ダイシング法と呼ばれる加工方法が知られている。通常のダイシングによる半導体ウェーハの分割では、ウェーハは予め環状フレームの開口を塞ぐように環状フレームに貼着されたダイシングテープに固定されており、分割後もチップがダイシングテープに貼着されているためばらばらにならないようになっている。 In order to reduce the size of semiconductor chips and improve the bending strength, a processing method called a pre-dicing method is known. In normal semiconductor wafer division by dicing, the wafer is fixed in advance to the dicing tape attached to the annular frame so as to block the opening of the annular frame, and the chip is still attached to the dicing tape after division. It is designed not to fall apart.
しかし、先ダイシング法の場合、ダイシングは溝形成が目的であり、チップ化されないため、ウェーハがダイシングテープを介して環状フレームに支持されることはない。よって、半導体ウェーハの搬送に特化した搬送手段を備えたダイシング装置(切削装置)により加工が行われている(例えば、特許第4303041号公報参照)。 However, in the case of the prior dicing method, dicing is intended to form grooves and is not formed into chips, so that the wafer is not supported by the annular frame via the dicing tape. Therefore, processing is performed by a dicing apparatus (cutting apparatus) provided with a conveying means specialized for conveying a semiconductor wafer (see, for example, Japanese Patent No. 4303401).
先ダイシング法を含めたウェーハ等の被加工物のダイシングでは、切削ブレードのコンディションを整えるため、切削ブレードのドレッシング作業を行う。その際、いち早く切削ブレードのコンディションを整えるため、ドレッシングボードを切削する(例えば、特許第5498857号公報参照)。 In the dicing of a workpiece such as a wafer including the pre-dicing method, a dressing operation of the cutting blade is performed in order to condition the cutting blade. At that time, the dressing board is cut in order to quickly adjust the condition of the cutting blade (see, for example, Japanese Patent No. 5498857).
ドレッシングボードは一般的に矩形形状をしているため、先ダイシング用のダイシング装置では、搬送手段によるドレッシングボードの搬送ができない。そこで、チャックテーブルの傍らにドレッシングボード専用の補助チャックテーブルを設け、常に補助チャックテーブルでドレッシングボードを保持しておき、必要に応じて切削ブレードでドレッシングボードを切削することで対応している。 Since the dressing board is generally rectangular, the dressing board cannot be conveyed by the conveying means in the dicing apparatus for the first dicing. Therefore, an auxiliary chuck table dedicated to the dressing board is provided beside the chuck table, the dressing board is always held by the auxiliary chuck table, and the dressing board is cut with a cutting blade as necessary.
しかし、従来装置のようにドレッシングボード専用の補助チャックテーブルを設けるには、通常のダイシング装置を改造する必要があるため、コストと改造時間がかかり、容易に実施できないという課題があった。 However, in order to provide an auxiliary chuck table dedicated to a dressing board as in the conventional apparatus, it is necessary to modify a normal dicing apparatus, so that there is a problem that it takes cost and modification time and cannot be easily implemented.
本発明はこのような点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、装置の改造を必要とせずに、ドレッシングボードをカセットからチャックテーブルに搬送でき、更にチャックテーブルで保持可能なフレームユニットを提供することである。 The present invention has been made in view of these points, and the object of the present invention is to allow the dressing board to be transported from the cassette to the chuck table without further modification of the apparatus and to be held by the chuck table. To provide a frame unit.
請求項1記載の発明によると、ウェーハを保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持されたウェーハを切削ブレードで切削する切削手段と、複数のウェーハを収容するカセットを載置するカセット載置領域と、該カセット載置領域に載置された該カセットと該チャックテーブルとの間でウェーハを搬送する搬送手段と、を備えた切削装置において用いられるフレームユニットであって、該フレームユニットは、環状フレームと、該環状フレームの開口を塞ぐように外周部が該環状フレームに貼着されたダイシングテープと、該ダイシングテープに貼着されたドレッシングボードとから構成され、該フレームユニットの該環状フレームは、直径が該ウェーハの直径と同等であり、該環状フレームは、該ドレッシングボードより薄く形成され、該環状フレームの厚さは、該切削ブレードのドレッシング時に切り残される該ドレッシングボードの切り残し部の厚さ未満であることを特徴とするフレームユニットが提供される。 According to the first aspect of the present invention, a cassette mounting area for mounting a chuck table for holding a wafer, a cutting means for cutting the wafer held by the chuck table with a cutting blade, and a cassette for storing a plurality of wafers. A frame unit used in a cutting apparatus comprising: a cassette mounted on the cassette mounting area; and a transfer unit configured to transfer a wafer between the chuck table and the chuck table. A frame, a dicing tape whose outer peripheral portion is attached to the annular frame so as to close the opening of the annular frame, and a dressing board attached to the dicing tape, and the annular frame of the frame unit is , diameter Ri diameter equal der of the wafer, the annular frame is thin than the dressing board Is formed, the thickness of the annular frame, the frame unit is provided, characterized in that is less than the thickness of the uncut portion of the dressing board to be left off when dressing the cutting blade.
請求項2記載の発明によると、ウェーハを保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持されたウェーハを切削ブレードで切削する切削手段と、複数のウェーハを収容するカセットを載置するカセット載置領域と、該カセット載置領域に載置された該カセットと該チャックテーブルとの間でウェーハを搬送する搬送手段と、を備えた切削装置において用いられるフレームユニットであって、該フレームユニットは、環状フレームと、該環状フレームの開口を塞ぐように外周部が該環状フレームに貼着されたダイシングテープと、該ダイシングテープに貼着されたドレッシングボードとから構成され、該フレームユニットの該環状フレームは、直径が該ウェーハの直径と同等であり、該切削装置は、ウェーハに配設されたウェーハの向きを示す第1目印部を検出する目印検出手段を備え、該搬送手段は検出された該第1目印部を所定の向きに調整しつつウェーハを該チャックテーブルに載置し、該環状フレームは、該第1目印部に相当する第2目印部を有することを特徴とするフレームユニットが提供される。 According to a second aspect of the present invention, a cassette mounting area for mounting a chuck table for holding a wafer, a cutting means for cutting the wafer held on the chuck table with a cutting blade, and a cassette for storing a plurality of wafers. A frame unit used in a cutting apparatus comprising: a cassette mounted on the cassette mounting area; and a transfer unit configured to transfer a wafer between the chuck table and the chuck table. A frame, a dicing tape whose outer peripheral portion is attached to the annular frame so as to close the opening of the annular frame, and a dressing board attached to the dicing tape, and the annular frame of the frame unit is is equivalent to the diameter of the diameter the wafer, the cutting device wafer disposed a wafer Mark detecting means for detecting a first mark portion indicating a mark, and the transfer means places the wafer on the chuck table while adjusting the detected first mark portion in a predetermined direction. , the frame unit is provided, which comprises have a second marker portion corresponding to the first mark portion.
本発明のフレームユニットは、ドレッシングボードを支持するフレームユニットの環状フレームがウェーハと同じ直径で形成されているため、先ダイシング用のダイシングでも装置の改造を必要とせずに、ドレッシングボードをカセットからチャックテーブルに搬送でき、更にチャックテーブルで吸引保持できる。 In the frame unit of the present invention, since the annular frame of the frame unit for supporting the dressing board is formed with the same diameter as the wafer, the dressing board is chucked from the cassette without requiring modification of the apparatus even in the dicing for the previous dicing. It can be transported to a table and can be sucked and held by a chuck table.
従って、ドレッシングボードを保持する専用の補助チャックテーブルを設けることなく、先ダイシング用のダイシング装置でも、フレームユニットをチャックテーブルまで搬送してチャックテーブルで保持し、フレームユニットのドレッシングボードで容易に切削ブレードのドレッシングを実施できる。 Therefore, without providing a dedicated auxiliary chuck table for holding the dressing board, the frame unit is transported to the chuck table and held by the chuck table even in the dicing apparatus for the previous dicing, and the cutting blade can be easily cut by the dressing board of the frame unit. Can be dressed.
以下、本発明の実施形態を図面を参照して詳細に説明する。図1を参照すると、本発明のフレームユニットが適用されるのに適した切削装置(ダイシング装置)2の斜視図が示されている。この切削装置2は、ウェーハに対して先ダイシング法により切削溝を形成するのに特に適している。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. Referring to FIG. 1, a perspective view of a cutting device (dicing device) 2 suitable for application of the frame unit of the present invention is shown. This cutting apparatus 2 is particularly suitable for forming a cutting groove on a wafer by a tip dicing method.
4は切削装置のベースであり、このベース4には図示しない切削送り機構によってチャックテーブル6がX軸方向に往復動可能且つ図示しない回転機構により回転可能に配設されている。8は切削送り機構をカバーする蛇腹である。 Reference numeral 4 denotes a base of a cutting apparatus. A chuck table 6 is reciprocally moved in the X-axis direction by a cutting feed mechanism (not shown) and is rotatable by a rotating mechanism (not shown). A bellows 8 covers the cutting feed mechanism.
ベース4の側面にはカセット載置機構10が配設されている。カセット載置機構10は、ベース4の側面に上下方向に設けられた一対のガイドレール12に摺動可能に配設されたカセット載置台14と、カセット載置台14の下側に配設され被加工物である半導体ウェーハ(以下、単にウェーハと略称することがある)の結晶方位の位置を合わせる位置合わせ機構16と、カセット載置台14及び位置合わせ機構16をガイドレール12に沿って上下方向(Z軸方向)に移動する昇降機構18を含む。 A cassette mounting mechanism 10 is disposed on the side surface of the base 4. The cassette mounting mechanism 10 includes a cassette mounting table 14 slidably disposed on a pair of guide rails 12 provided on the side surface of the base 4 in the vertical direction, and a cassette mounting table 14 disposed below the cassette mounting table 14. A positioning mechanism 16 that aligns the crystal orientation of a semiconductor wafer (hereinafter simply referred to as a wafer) that is a workpiece, and the cassette mounting table 14 and the positioning mechanism 16 are moved along the guide rail 12 in the vertical direction ( A lifting mechanism 18 that moves in the Z-axis direction) is included.
本実施形態では、カセット載置台14と位置合わせ機構16のハウジング20とが一体に構成されている。即ち、図2及び図3に示すように、カセット載置台14は、ハウジング20の上壁から構成されている。 In the present embodiment, the cassette mounting table 14 and the housing 20 of the alignment mechanism 16 are integrally configured. That is, as shown in FIGS. 2 and 3, the cassette mounting table 14 is configured from the upper wall of the housing 20.
カセット載置台14上には被加工物であるウェーハを収容するカセット22が載置される。このカセット22は、図2及び図3に示されるように、被加工物であるウェーハ11を出し入れするための被加工物搬出入開口22aを備えており、側壁22bの内面にはウェーハ11を載置するための複数個の棚24が上下方向に対向して設けられている。 On the cassette mounting table 14, a cassette 22 for storing a wafer as a workpiece is placed. As shown in FIGS. 2 and 3, the cassette 22 is provided with a workpiece loading / unloading opening 22a for loading and unloading the wafer 11 as a workpiece, and the wafer 11 is placed on the inner surface of the side wall 22b. A plurality of shelves 24 for placement are provided facing the up and down direction.
カセット22に収容されるウェーハ11は円板形状に形成されており、その表面にIC、LSI等の多数のデバイス13が形成されている。ウェーハ11の外周には、シリコンからなる半導体ウェーハ11の結晶方位を示すノッチ(第1目印部)15が形成されている。 The wafer 11 accommodated in the cassette 22 is formed in a disk shape, and a large number of devices 13 such as IC and LSI are formed on the surface thereof. A notch (first mark portion) 15 indicating the crystal orientation of the semiconductor wafer 11 made of silicon is formed on the outer periphery of the wafer 11.
カセット載置台14の下側に配置される位置合わせ機構16は、カセット載置台14が上壁を構成するハウジング20を備えている。ハウジング20には、図2及び図3に示すように、ウェーハ11を出し入れするための被加工物搬出入開口20aが形成されている。 The alignment mechanism 16 disposed on the lower side of the cassette mounting table 14 includes a housing 20 in which the cassette mounting table 14 forms an upper wall. As shown in FIGS. 2 and 3, the housing 20 is formed with a workpiece carry-in / out opening 20 a for taking in and out the wafer 11.
ハウジング20内には、ウェーハ11を載置するセンターテーブル26が配設されている。センターテーブル26はパルスモータ28により適宜回転される。尚、センターテーブル26は負圧吸引源に選択的に接続されており、適宜その表面に負圧が作用される。 A center table 26 on which the wafer 11 is placed is disposed in the housing 20. The center table 26 is appropriately rotated by a pulse motor 28. The center table 26 is selectively connected to a negative pressure suction source, and negative pressure is appropriately applied to the surface thereof.
位置合わせ機構16は更に、センターテーブル26に対して被加工物搬出入開口20aと反対側に中心位置合わせ部材30を有している。中心位置合わせ部材30は、図4及び図5に示すように、センターテーブル26側の側面にウェーハ11の外周面の一部と接触する位置規制部としての二個の円弧面32a,32bを備えている。 The alignment mechanism 16 further includes a center alignment member 30 on the opposite side of the workpiece carry-in / out opening 20a with respect to the center table 26. As shown in FIGS. 4 and 5, the center alignment member 30 includes two circular arc surfaces 32 a and 32 b as position restricting portions that come into contact with a part of the outer peripheral surface of the wafer 11 on the side surface on the center table 26 side. ing.
上側の円弧面32aは、半径が例えば8インチ半導体ウェーハの半径と対応して形成されており、下側の円弧面32bは、半径が例えば12インチ半導体ウェーハの半径と対応して形成されている。 The upper arc surface 32a has a radius corresponding to, for example, the radius of an 8-inch semiconductor wafer, and the lower arc surface 32b has an radius corresponding to, for example, the radius of a 12-inch semiconductor wafer. .
このように形成された中心位置合わせ部材30は、円弧面32a,32bがセンターテーブル26の回転中心と同心となるように配設されている。中心位置合わせ部材30は、一対のエアシリンダ34によって上下方向に移動される。 The center alignment member 30 formed in this way is disposed so that the arc surfaces 32 a and 32 b are concentric with the center of rotation of the center table 26. The center alignment member 30 is moved in the vertical direction by a pair of air cylinders 34.
図4に示すように、位置合わせ機構16は、中心位置合わせ部材30に設けられた円弧面32a,32bの中間位置から円周方向に90°変位した位置に配設された半導体ウェーハのノッチ検出手段(目印検出手段)72を具備している。 As shown in FIG. 4, the alignment mechanism 16 detects notches of a semiconductor wafer disposed at a position displaced by 90 ° in the circumferential direction from the intermediate position between the arcuate surfaces 32 a and 32 b provided on the center alignment member 30. Means (mark detection means) 72 is provided.
この半導体ウェーハのノッチ検出手段72は、プレート74の下面に配設された8インチ半導体ウェーハ用の発光素子76aと、12インチ半導体ウェーハ用の発光素子80aとを含んでいる。更に、プレート78の上面に発光素子76aに対向するように配設された受光素子76bと、発光素子80aに対向するように配設された受光素子80bとを含んでいる。 The semiconductor wafer notch detecting means 72 includes a light emitting element 76a for an 8-inch semiconductor wafer and a light emitting element 80a for a 12-inch semiconductor wafer disposed on the lower surface of the plate 74. Furthermore, a light receiving element 76b disposed on the upper surface of the plate 78 to face the light emitting element 76a and a light receiving element 80b disposed to face the light emitting element 80a are included.
以上のように構成されたカセット載置機構10は、図2及び図3に示すように、位置合わせ機構16のハウジング20の底壁20bが昇降機構18によって昇降される支持台38に固定されている。 As shown in FIGS. 2 and 3, the cassette mounting mechanism 10 configured as described above is fixed to a support base 38 on which the bottom wall 20 b of the housing 20 of the alignment mechanism 16 is lifted and lowered by the lifting mechanism 18. Yes.
昇降機構18は、ボールねじ40と、ボールねじ40の一端(下端)に連結された正転及び逆転可能なパルスモータ42とから構成され、支持台38の基端部38aに固定されたナット44がボールねじ40に螺合している。 The elevating mechanism 18 includes a ball screw 40 and a pulse motor 42 that can be rotated forward and reversely connected to one end (lower end) of the ball screw 40, and a nut 44 fixed to a base end portion 38 a of the support base 38. Is screwed into the ball screw 40.
従って、パルスモータ42を正転すると、ボールねじ40が一方向に回転して支持台38がガイドレール12に案内されて上昇し、パルスモータ42を逆転すると、ボールねじ40が他方向に回転して支持台38がガイドレール12に案内されて下降する。 Therefore, when the pulse motor 42 is rotated forward, the ball screw 40 is rotated in one direction and the support base 38 is guided and raised by the guide rail 12, and when the pulse motor 42 is reversed, the ball screw 40 is rotated in the other direction. Then, the support base 38 is guided by the guide rail 12 and descends.
図1を再び参照すると、ベース4の後方には門型形状の第1コラム46が立設されており、この第1コラム46に第1切削ユニット48A及び第2切削ユニット48BがY軸方向及びZ軸方向に移動可能に取り付けられている。第1及び第2切削ユニット48A,48Bは、回転駆動されるスピンドルの先端に装着された切削ブレード50を含んでいる。 Referring again to FIG. 1, a portal-shaped first column 46 is erected on the rear side of the base 4, and the first cutting unit 48 </ b> A and the second cutting unit 48 </ b> B are arranged in the Y-axis direction on the first column 46. It is attached to be movable in the Z-axis direction. The first and second cutting units 48A and 48B include a cutting blade 50 attached to the tip of a spindle that is rotationally driven.
ベース4の中間部分には門型形状の第2コラム52が立設されている。第2コラム52には一対のガイドレール54,56が固定されている。58は被加工物搬出入ユニット(第1搬送ユニット)であり、ガイドレール54に垂下してY軸方向に移動される支持部材60と、支持部材60と一体的に形成されたアーム62とから構成される。アーム62の表面には被加工物を吸引保持する吸引口64が形成されている。 A gate-shaped second column 52 is erected in an intermediate portion of the base 4. A pair of guide rails 54 and 56 are fixed to the second column 52. Reference numeral 58 denotes a workpiece carry-in / out unit (first transport unit), which includes a support member 60 that is suspended from the guide rail 54 and moved in the Y-axis direction, and an arm 62 that is formed integrally with the support member 60. Composed. A suction port 64 for sucking and holding a workpiece is formed on the surface of the arm 62.
被加工物搬出入ユニット58のY軸方向の移動機構は、例えばボールねじとボールねじの一端に連結されたパルスモータから構成されるが、図1では移動機構の詳細は省略されている。被加工物搬出ユニット58は、カセット22内に収容された被加工物である半導体ウェーハ11を搬出すると共に、切削加工後の半導体ウェーハ11をカセット22内に搬入する。 The moving mechanism in the Y-axis direction of the workpiece loading / unloading unit 58 is constituted by, for example, a ball screw and a pulse motor connected to one end of the ball screw, but details of the moving mechanism are omitted in FIG. The workpiece unloading unit 58 unloads the semiconductor wafer 11 that is a workpiece accommodated in the cassette 22 and loads the semiconductor wafer 11 after the cutting into the cassette 22.
ガイドレール56には、図示しない移動機構により第2搬送ユニット66がY軸方向に移動可能に搭載されている。この移動機構は、例えばボールねじとボールねじの一端部に連結されたパルスモータとから構成されるが、図1ではその詳細は省略されている。 A second transport unit 66 is mounted on the guide rail 56 so as to be movable in the Y-axis direction by a moving mechanism (not shown). This moving mechanism is composed of, for example, a ball screw and a pulse motor connected to one end of the ball screw, but details thereof are omitted in FIG.
第2搬送ユニット66は、被加工物搬出入ユニット(第1搬送ユニット)58によりカセット22から搬出された被加工物を吸引保持してチャックテーブル6まで搬送して、チャックテーブル6上に載置する。 The second conveyance unit 66 sucks and holds the workpiece carried out from the cassette 22 by the workpiece carry-in / out unit (first conveyance unit) 58, conveys it to the chuck table 6, and places it on the chuck table 6. To do.
本実施形態の切削装置2は、先ダイシング法に使用する切削装置であるため、チャックテーブル6の周囲には、ウェーハをダイシングテープを介して支持する環状フレームを固定するクランプは配設されていない。 Since the cutting device 2 of this embodiment is a cutting device used for the tip dicing method, a clamp for fixing an annular frame for supporting the wafer via the dicing tape is not provided around the chuck table 6. .
第2搬送ユニット66は更に、切削加工後の被加工物をチャックテーブル6からスピンナー洗浄ユニット68のスピンナーテーブル70まで搬送すると共に、スピンナー洗浄ユニット68でスピン洗浄及びスピン乾燥された被加工物を被加工物搬出入ユニット58に受け渡す。 The second transport unit 66 further transports the workpiece after cutting from the chuck table 6 to the spinner table 70 of the spinner cleaning unit 68, and the workpiece subjected to spin cleaning and spin drying by the spinner cleaning unit 68. Delivered to the workpiece carry-in / out unit 58.
図6(A)を参照すると、本発明実施形態に係るフレームユニット82の斜視図が示されている。図6(B)はフレームユニット82の断面図である。フレームユニット82は、ウェーハ11の直径と同一の外径を有する環状フレーム88を備えている。 Referring to FIG. 6A, a perspective view of a frame unit 82 according to the embodiment of the present invention is shown. FIG. 6B is a cross-sectional view of the frame unit 82. The frame unit 82 includes an annular frame 88 having the same outer diameter as that of the wafer 11.
フレームユニット82は、環状フレーム88と、環状フレーム88の開口を塞ぐように外周部が環状フレーム88に装着(貼着)されたダイシングテープ86、ダイシングテープ86に貼着されたドレッシングボード84とから構成される。 The frame unit 82 includes an annular frame 88, a dicing tape 86 having an outer peripheral portion attached (attached) to the annular frame 88 so as to close the opening of the annular frame 88, and a dressing board 84 attached to the dicing tape 86. Composed.
環状フレーム88は、図2に示したウェーハ11のノッチ15に対応する目印部89を有している。ドレッシングボード84をダイシングテープ86に貼着する際には、矩形状のドレッシングボード84の対向する二辺が環状フレーム88の目印部89の方向と直交するように、ドレッシングボード84をダイシングテープ86に貼着するのが好ましい。 The annular frame 88 has a mark portion 89 corresponding to the notch 15 of the wafer 11 shown in FIG. When the dressing board 84 is attached to the dicing tape 86, the dressing board 84 is attached to the dicing tape 86 so that two opposing sides of the rectangular dressing board 84 are orthogonal to the direction of the mark portion 89 of the annular frame 88. It is preferable to stick.
環状フレーム88はドレッシングボード84よりも薄く形成されており、環状フレーム88の厚さは、切削ブレード50のドレッシング時に切り残されるドレッシングボード84の切り残し部の厚さ未満であることが好ましい。 The annular frame 88 is formed thinner than the dressing board 84, and the thickness of the annular frame 88 is preferably less than the thickness of the uncut portion of the dressing board 84 that is left uncut when the cutting blade 50 is dressed.
次に、以上のように構成された切削装置2の加工処理動作について説明する。ウェーハ11の切削加工を開始するのに先立って、加工前のウェーハ11を所定枚数収納したカセット22をカセット載置台14上に載置する。 Next, the processing operation of the cutting device 2 configured as described above will be described. Prior to starting the cutting of the wafer 11, a cassette 22 containing a predetermined number of wafers 11 before processing is placed on the cassette mounting table 14.
そして、切削加工開始スイッチ(図示せず)が投入されると、カセット載置機構10の昇降機構18が作動して、カセット載置機構10を図2に示す位置まで下降し、被加工物搬出入ユニット58のアーム62がカセット22の上下方向に隣接する一対の棚24の間となるように位置づける。 When a cutting start switch (not shown) is turned on, the lifting mechanism 18 of the cassette mounting mechanism 10 is operated to lower the cassette mounting mechanism 10 to the position shown in FIG. The arm 62 of the insertion unit 58 is positioned between a pair of shelves 24 adjacent to each other in the vertical direction of the cassette 22.
このように位置づけた後、被加工物搬出入ユニット58のアーム62をカセット22内に侵入させ、吸引口62に負圧を作用させてウェーハ11をアーム62で吸引保持し、アーム62を後退させてカセット22内からウェーハ11を搬出する。 After positioning in this way, the arm 62 of the workpiece loading / unloading unit 58 enters the cassette 22, negative pressure is applied to the suction port 62, the wafer 11 is sucked and held by the arm 62, and the arm 62 is moved backward. Then, the wafer 11 is unloaded from the cassette 22.
次いで、昇降機構18を作動してカセット載置機構10を図3に示す位置まで上昇する。そして、被加工物搬出入ユニット58のアーム62を位置合わせ機構16のハウジング20内に挿入して、ウェーハ11をセンターテーブル26上に位置づける。この時、ウェーハ11の外周面の一部が中心位置合わせ部材30の円弧面32a又は32bに当接してウェーハ11の中心位置合わせが行われる。 Next, the lifting mechanism 18 is operated to raise the cassette placing mechanism 10 to the position shown in FIG. Then, the arm 62 of the workpiece loading / unloading unit 58 is inserted into the housing 20 of the alignment mechanism 16 to position the wafer 11 on the center table 26. At this time, a part of the outer peripheral surface of the wafer 11 is brought into contact with the circular arc surface 32a or 32b of the center alignment member 30, and the center alignment of the wafer 11 is performed.
即ち、ウェーハ11が8インチの場合には、中心位置合わせ部材30が図5において実線で示す位置に位置づけられ、ウェーハ11の外周面の一部が円弧面32aに当接する。一方、ウェーハ11が12インチの場合には、中心位置合わせ部材30が図5で二点斜線で示す位置まで上昇されており、ウェーハ11の外周面の一部が円弧面32bに当接する。 That is, when the wafer 11 is 8 inches, the center alignment member 30 is positioned at a position indicated by a solid line in FIG. 5, and a part of the outer peripheral surface of the wafer 11 comes into contact with the arc surface 32a. On the other hand, when the wafer 11 is 12 inches, the center alignment member 30 is raised to the position indicated by the two-dot oblique line in FIG. 5, and a part of the outer peripheral surface of the wafer 11 comes into contact with the arc surface 32b.
このようにして、ウェーハ11の中心位置合わせが行われたならば、アーム62によるウェーハ11の吸引保持を解除すると共に、センターテーブル26上にウェーハ11を吸引保持する。 When the center alignment of the wafer 11 is performed in this way, the suction holding of the wafer 11 by the arm 62 is released, and the wafer 11 is sucked and held on the center table 26.
次に、位置合わせ機構16は、ウェーハ11の結晶方位の位置合わせを実行する。即ち、モータ28を駆動してセンターテーブル26を回転すると共に、ウェーハ11のサイズに対応した位置に配設された発光素子76aと受光素子76bのペア、又は発光素子80aと受光素子80bとのペアが、ウェーハ11の外周に設けられたノッチ15を検出した位置で、モータ28の駆動を停止することにより、ウェーハ11の結晶方位を示すノッチ15が所定位置に位置合わせされる。 Next, the alignment mechanism 16 performs alignment of the crystal orientation of the wafer 11. That is, the motor 28 is driven to rotate the center table 26, and a pair of the light emitting element 76a and the light receiving element 76b disposed at a position corresponding to the size of the wafer 11 or a pair of the light emitting element 80a and the light receiving element 80b. However, by stopping the drive of the motor 28 at the position where the notch 15 provided on the outer periphery of the wafer 11 is detected, the notch 15 indicating the crystal orientation of the wafer 11 is aligned with a predetermined position.
このようにして、ウェーハ11のノッチ15の位置合わせが行われたならば、センターテーブル26を90°回転してウェーハ11の吸引保持を解除する。そして、被加工物搬出入ユニット58のアーム62でウェーハ11を吸引保持する。 In this way, when the alignment of the notch 15 of the wafer 11 is performed, the center table 26 is rotated by 90 ° to release the suction holding of the wafer 11. Then, the wafer 11 is sucked and held by the arm 62 of the workpiece carry-in / out unit 58.
被加工物搬出入ユニット58でウェーハ11を位置合わせ機構16から搬出した後、被加工物搬出入ユニット58のアーム62に保持されているウェーハ11上に第2搬送ユニット66を移動し、第2搬送ユニット66でウェーハ11を吸引保持し、チャックテーブル6上にウェーハ11を載置する。 After unloading the wafer 11 from the alignment mechanism 16 by the workpiece loading / unloading unit 58, the second transfer unit 66 is moved onto the wafer 11 held by the arm 62 of the workpiece loading / unloading unit 58, and the second transfer unit 66 is moved. The wafer 11 is sucked and held by the transfer unit 66, and the wafer 11 is placed on the chuck table 6.
被加工物搬出入ユニット58及び第2搬送ユニット66はY軸方向にのみ移動可能に構成されているため、ウェーハ11はノッチ15がY軸方向に向いた状態でチャックテーブル6上に載置される。 Since the workpiece carry-in / out unit 58 and the second transfer unit 66 are configured to be movable only in the Y-axis direction, the wafer 11 is placed on the chuck table 6 with the notch 15 facing the Y-axis direction. The
チャックテーブル6でウェーハ11を吸引保持して、切削ブレード50でウェーハ11の表面にウェーハ11を完全切断しない切削溝を連続して形成すると、切削ブレード50は次第に磨耗する。切削ブレード50が所定以上磨耗した場合には、切削ブレード50のドレッシングが必要となる。 When the wafer 11 is sucked and held by the chuck table 6 and a cutting groove that does not completely cut the wafer 11 is continuously formed on the surface of the wafer 11 by the cutting blade 50, the cutting blade 50 is gradually worn. When the cutting blade 50 is worn more than a predetermined amount, dressing of the cutting blade 50 is required.
本実施形態の切削装置2では、ウェーハ11の直径と同一の外径を有するフレームユニット82の環状フレーム88でドレッシングボード84がダイシングテープ86を介して支持されているため、予めフレームユニット82をカセット22の所定の棚24内に収容しておく。 In the cutting apparatus 2 of the present embodiment, since the dressing board 84 is supported via the dicing tape 86 by the annular frame 88 of the frame unit 82 having the same outer diameter as that of the wafer 11, the frame unit 82 is previously placed in the cassette. It is accommodated in 22 predetermined shelves 24.
そして、切削ブレード50のドレッシングが必要となった場合には、フレームユニット82を被加工物搬出入ユニット58のアーム62でカセット22内から搬出し、位置合わせ機構16で上述したウェーハ11の位置合わせの場合と同様な方法で、フレームユニット82の目印部89を検出して、フレームユニット82を所定位置に位置合わせする。次いで、センターテーブル26を90°回転してフレームユニット82の吸引保持を解除する。 When the cutting blade 50 needs to be dressed, the frame unit 82 is unloaded from the cassette 22 by the arm 62 of the workpiece loading / unloading unit 58 and the alignment mechanism 16 aligns the wafer 11 described above. The mark portion 89 of the frame unit 82 is detected and the frame unit 82 is aligned at a predetermined position in the same manner as in the above. Next, the center table 26 is rotated 90 ° to release the suction and holding of the frame unit 82.
次いで、被加工物搬出入ユニット58のアーム62でフレームユニット82を位置合わせ機構16から引出し、第2搬送ユニット66にフレームユニット82を受け渡して、第2搬送ユニット66でチャックテーブル6上にフレームユニット82を載置すると、フレームユニット82の目印部89がY軸方向に向いた状態でフレームユニット82がチャックテーブル6上に載置される。 Next, the frame unit 82 is pulled out from the alignment mechanism 16 by the arm 62 of the workpiece carry-in / out unit 58, delivered to the second transport unit 66, and the frame unit 82 is placed on the chuck table 6 by the second transport unit 66. When 82 is placed, the frame unit 82 is placed on the chuck table 6 with the mark portion 89 of the frame unit 82 facing the Y-axis direction.
このようにフレームユニット82がチャックテーブル6上に載置されると、矩形状のドレッシングボード84の一対の対向する辺が目印部89の向く方向に直交するようにフレームユニット82が位置づけられることになる。 When the frame unit 82 is thus placed on the chuck table 6, the frame unit 82 is positioned so that a pair of opposing sides of the rectangular dressing board 84 are orthogonal to the direction of the mark portion 89. Become.
このようにフレームユニット82を位置づけてチャックテーブル6で吸引保持した後、切削ブレード50のドレッシングを実施する。即ち、図7に示すように、電磁弁90を連通位置に切り替えてチャックテーブル6の吸引保持部6aを吸引源92に接続して、チャックテーブル6でフレームユニット82を吸引保持しながら、高速回転する切削ブレード50をドレッシングボード84に所定深さ切り込ませ、チャックテーブル6を図1でX軸方向に加工送りすることにより、切削ブレード50のドレッシングを実施する。 After the frame unit 82 is positioned and held by the chuck table 6 in this manner, dressing of the cutting blade 50 is performed. That is, as shown in FIG. 7, the electromagnetic valve 90 is switched to the communication position, the suction holding portion 6a of the chuck table 6 is connected to the suction source 92, and the frame unit 82 is sucked and held by the chuck table 6 while rotating at high speed. The cutting blade 50 to be cut is cut into the dressing board 84 to a predetermined depth, and the chuck table 6 is dressed by feeding the chuck table 6 in the X-axis direction in FIG.
本実施形態の切削装置2では、位置合わせ機構16でフレームユニット82の向きを所定方向に調整した後、チャックテーブル6でフレームユニット82を吸引保持するので、ドレッシングボード84の対向する二辺はX軸方向と平行となる。従って、矩形形状のドレッシングボード84の全面を効率的に利用して切削ブレード50のドレッシングを実施することができる。 In the cutting apparatus 2 of the present embodiment, the frame unit 82 is sucked and held by the chuck table 6 after adjusting the orientation of the frame unit 82 to a predetermined direction by the alignment mechanism 16, so that the two opposing sides of the dressing board 84 are X Parallel to the axial direction. Therefore, the cutting blade 50 can be dressed by efficiently using the entire surface of the rectangular dressing board 84.
また、ドレッシング中の切削ブレード50に干渉しない程度に、切削ブレード50のドレッシング時に切り残されるドレッシングボード84の切り残し部の厚さよりも薄く環状フレーム88が形成されているため、支持できるドレッシングボード84の大きさを環状フレーム88の開口ぎりぎりまで大きくすることができる。 Further, since the annular frame 88 is formed thinner than the uncut portion of the dressing board 84 left uncut during dressing of the cutting blade 50 so as not to interfere with the cutting blade 50 during dressing, the dressing board 84 that can be supported is formed. Can be increased to the limit of the opening of the annular frame 88.
2 切削装置
6 チャックテーブル
10 カセット載置機構
14 カセット載置台
16 位置合わせ機構
18 昇降機構
20 ハウジング
22 カセット
26 センターテーブル
30 中心位置位置合わせ部材
32a,32b 円弧面
38 支持台
40 ボールねじ
42 パルスモータ
46 第1コラム
48A 第1切削ユニット
48B 第2切削ユニット
50 切削ブレード
52 第2コラム
54,56 ガイドレール
58 被加工物搬出入ユニット(第1搬送ユニット)
64 アーム
66 第2搬送ユニット
72 ノッチ検出手段(目印検出手段)
76a,80a 発光素子
76b,80b 受光素子
82 フレームユニット
84 ドレッシングボード
86 ダイシングテープ
88 環状フレーム
89 目印部
2 Cutting device 6 Chuck table 10 Cassette mounting mechanism 14 Cassette mounting table 16 Positioning mechanism 18 Lifting mechanism 20 Housing 22 Cassette 26 Center table 30 Center position alignment members 32a and 32b Arc surface 38 Support base 40 Ball screw 42 Pulse motor 46 1st column 48A 1st cutting unit 48B 2nd cutting unit 50 Cutting blade 52 2nd columns 54 and 56 Guide rail 58 Workpiece carrying in / out unit (1st conveyance unit)
64 Arm 66 Second transport unit 72 Notch detection means (mark detection means)
76a, 80a Light emitting element 76b, 80b Light receiving element 82 Frame unit 84 Dressing board 86 Dicing tape 88 Annular frame 89 Marking part
Claims (2)
該フレームユニットは、環状フレームと、該環状フレームの開口を塞ぐように外周部が該環状フレームに貼着されたダイシングテープと、該ダイシングテープに貼着されたドレッシングボードとから構成され、
該フレームユニットの該環状フレームは、直径が該ウェーハの直径と同等であり、
該環状フレームは、該ドレッシングボードより薄く形成され、該環状フレームの厚さは、該切削ブレードのドレッシング時に切り残される該ドレッシングボードの切り残し部の厚さ未満であることを特徴とするフレームユニット。 A chuck table for holding a wafer, a cutting means for cutting the wafer held on the chuck table with a cutting blade, a cassette placement area for placing a cassette for storing a plurality of wafers, and a cassette placement area. A frame unit used in a cutting apparatus comprising: a transfer unit configured to transfer a wafer between the placed cassette and the chuck table;
The frame unit is composed of an annular frame, a dicing tape having an outer peripheral portion attached to the annular frame so as to close the opening of the annular frame, and a dressing board attached to the dicing tape,
Annular frame of the frame unit, Ri equivalent der and diameter of the wafer diameter,
The annular frame is formed thinner than the dressing board, and the thickness of the annular frame is less than the thickness of the uncut portion of the dressing board left uncut when dressing the cutting blade. .
該フレームユニットは、環状フレームと、該環状フレームの開口を塞ぐように外周部が該環状フレームに貼着されたダイシングテープと、該ダイシングテープに貼着されたドレッシングボードとから構成され、
該フレームユニットの該環状フレームは、直径が該ウェーハの直径と同等であり、
該切削装置は、ウェーハに配設されたウェーハの向きを示す第1目印部を検出する目印検出手段を備え、該搬送手段は検出された該第1目印部を所定の向きに調整しつつウェーハを該チャックテーブルに載置し、
該環状フレームは、該第1目印部に相当する第2目印部を有することを特徴とするフレームユニット。 A chuck table for holding a wafer, a cutting means for cutting the wafer held on the chuck table with a cutting blade, a cassette placement area for placing a cassette for storing a plurality of wafers, and a cassette placement area. A frame unit used in a cutting apparatus comprising: a transfer unit configured to transfer a wafer between the placed cassette and the chuck table;
The frame unit is composed of an annular frame, a dicing tape having an outer peripheral portion attached to the annular frame so as to close the opening of the annular frame, and a dressing board attached to the dicing tape,
The annular frame of the frame unit has a diameter equal to the diameter of the wafer;
The cutting apparatus includes mark detection means for detecting a first mark portion indicating the orientation of the wafer disposed on the wafer, and the transfer means adjusts the detected first mark portion to a predetermined direction while the wafer is being adjusted. Is placed on the chuck table,
The annular frame has a second mark portion corresponding to the first mark portion.
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