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JP6410501B2 - Polymer liquid crystal display element and method for producing polymer liquid crystal display element - Google Patents

Polymer liquid crystal display element and method for producing polymer liquid crystal display element Download PDF

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JP6410501B2 JP2014145429A JP2014145429A JP6410501B2 JP 6410501 B2 JP6410501 B2 JP 6410501B2 JP 2014145429 A JP2014145429 A JP 2014145429A JP 2014145429 A JP2014145429 A JP 2014145429A JP 6410501 B2 JP6410501 B2 JP 6410501B2
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Description

本発明は、高分子液晶表示素子及び高分子液晶表示素子の製造方法に関する。   The present invention relates to a polymer liquid crystal display element and a method for producing a polymer liquid crystal display element.

高分子液晶表示素子(PNLC(Polymer Network Liquid Crystal))は、ネマティック液晶等の液晶材料が高分子のポリマーネットワーク構造中に分散して配列されたものである。この高分子液晶表示素子は、電界の有無によって光を透過させる光透過状態(透明)と光を散乱させる光散乱状態(白濁)との間で変化する。
また、高分子液晶表示素子は、重合前の高分子材料(モノマー)に液晶材料(例えば、ネマティック液晶)が分散した材料を、2枚のガラス基板の間に注入し、紫外線照射によってモノマーが重合したものである。モノマーの重合により、3次元網目状のポリマーネットワーク構造が形成される。そして、ポリマーネットワーク構造に液晶材料が分散した状態となっている。
A polymer liquid crystal display element (PNLC (Polymer Network Liquid Crystal)) is a liquid crystal material such as nematic liquid crystal dispersed and arranged in a polymer network structure of a polymer. This polymer liquid crystal display element changes between a light transmission state (transparent) that transmits light and a light scattering state (white turbidity) that scatters light depending on the presence or absence of an electric field.
In addition, a polymer liquid crystal display element injects a material in which a liquid crystal material (for example, nematic liquid crystal) is dispersed in a polymer material (monomer) before polymerization between two glass substrates, and the monomer is polymerized by ultraviolet irradiation. It is a thing. Polymerization of the monomer forms a three-dimensional network polymer network structure. The liquid crystal material is dispersed in the polymer network structure.

高分子液晶表示素子は配向膜及び偏光板を備える必要がないため、コストメリットが大きい。また、光透過率が高いため、明るい表示が得られるなどの利点がある。この高分子液晶表示素子は、例えば、カメラのファインダ装置にも用いられている(例えば、特許文献1参照)。   Since the polymer liquid crystal display element does not need to include an alignment film and a polarizing plate, the cost merit is large. Further, since the light transmittance is high, there is an advantage that a bright display can be obtained. This polymer liquid crystal display element is also used in, for example, a camera finder device (see, for example, Patent Document 1).

また、上述した高分子液晶表示素子は、表示領域の中心部分と周辺部分(2枚のガラス基板を接合しているシール材に接する領域)との間で表示むらが発生することがある。この表示むらは、紫外線の照射による重合の際に生じると推測され、表示領域の中心部分と周辺部分とで、ポリマーネットワーク構造を異ならせることで、表示むらを改善する技術が提案されている(例えば、特許文献2参照)。   In the above-described polymer liquid crystal display element, display unevenness may occur between the central portion of the display region and the peripheral portion (region in contact with the sealing material joining two glass substrates). This display unevenness is presumed to occur during polymerization by ultraviolet irradiation, and a technique for improving the display unevenness has been proposed by making the polymer network structure different between the central portion and the peripheral portion of the display region ( For example, see Patent Document 2).

特開2000−171860号公報JP 2000-171860 A 特開平10−311972号公報Japanese Patent Laid-Open No. 10-311972

ところで、上述した高分子液晶表示素子は、温度差が生じるとポリマークラックが発生する。例えば試験に際し温度−30[°C]程度まで急冷することが行われる。このとき、ガラス基板の間に封入されていた高分子液晶が、ガラス基板から剥がれるポリマークラックが発生することがある。
このポリマークラックは、ガラス基板を接合しているシール材付近の部分で発生する。
By the way, the polymer liquid crystal display element described above generates a polymer crack when a temperature difference occurs. For example, in the test, quenching is performed to a temperature of about −30 [° C.]. At this time, a polymer crack may be generated in which the polymer liquid crystal sealed between the glass substrates is peeled off from the glass substrate.
This polymer crack occurs in the vicinity of the sealing material joining the glass substrates.

本発明は、シール材付近の部分でのポリマークラックの発生を抑制する高分子液晶表示素子及び高分子液晶表示素子の製造方法を提供することを目的とする。   It is an object of the present invention to provide a polymer liquid crystal display element that suppresses the occurrence of polymer cracks in the vicinity of the sealing material and a method for producing the polymer liquid crystal display element.

本発明に係る高分子液晶表示素子は、シール材により、所定の間隔を以て接合された2枚の基板と、2枚の前記基板の間の、前記シール材で囲まれた内側領域に形成された、ポリマーネットワーク構造に液晶が分散したポリマーネットワーク液晶と、前記内側領域に通じる注入口を塞ぐ閉塞部材と、2枚の前記基板の少なくとも一方の基板の内面の側であって、前記シール材に沿って設けられた遮光部と、を備え、前記遮光部は前記閉塞部材の内側に沿って形成されており、前記遮光部に対応する領域における前記ポリマーネットワーク液晶の厚さが、前記遮光部に対応する領域を除いた他の領域における前記ポリマーネットワーク液晶の厚さよりも薄く、前記遮光部は、前記ポリマーネットワーク液晶に露出していることを特徴とする。 The polymer liquid crystal display element according to the present invention is formed by a sealing material in an inner region surrounded by the sealing material between the two substrates bonded at a predetermined interval and the two substrates. A polymer network liquid crystal in which liquid crystal is dispersed in a polymer network structure; a blocking member that closes an injection port that communicates with the inner region; and an inner surface side of at least one of the two substrates, along the sealant And the light shielding portion is formed along the inner side of the blocking member, and the thickness of the polymer network liquid crystal in the region corresponding to the light shielding portion corresponds to the light shielding portion. It is thinner than the thickness of the polymer network liquid crystal in the other region except the region to perform, and the light shielding portion is exposed to the polymer network liquid crystal .

また、他の観点によると、本発明に係る高分子液晶表示素子は、シール材により、所定の間隔を以て接合された2枚の基板と、2枚の前記基板の間の、前記シール材で囲まれた内側領域に形成された、ポリマーネットワーク構造に液晶が分散したポリマーネットワーク液晶と、2枚の前記基板のうち少なくとも一方の基板の内面の側で、前記シール材の内側に沿った少なくとも一部に、前記ポリマーネットワーク構造を形成するために照射される電磁波の透過を抑制し、厚さを有して形成された重合抑制部とを備え、前記シール材は、矩形環状に形成され、前記重合抑制部は、可視光に対して遮光性を有し、前記矩形環状の全周に亘って形成され、前記ポリマーネットワーク液晶のうち、前記重合抑制部に対応する領域に形成されたポリマーネットワーク液晶は、当該重合抑制部に対応する領域を除いた他の領域に形成されたポリマーネットワーク液晶よりも、前記ポリマーネットワーク構造の密度が粗く形成されており、前記重合抑制部に対応する領域における前記ポリマーネットワーク液晶の厚さが、前記重合抑制部に対応する領域を除いた他の領域の前記ポリマーネットワーク液晶の厚さよりも薄く、前記重合抑制部は、前記ポリマーネットワーク液晶に露出していることを特徴とする。 According to another aspect, the polymer liquid crystal display element according to the present invention is surrounded by the sealing material between the two substrates bonded at a predetermined interval by the sealing material and the two substrates. A polymer network liquid crystal in which liquid crystal is dispersed in a polymer network structure formed in the inner region, and at least part of the inner surface of at least one of the two substrates along the inner side of the sealing material And suppressing the transmission of electromagnetic waves irradiated to form the polymer network structure, and having a polymerization suppression portion formed with a thickness, and the sealing material is formed in a rectangular ring shape, and the polymerization suppressing portion has a light-shielding property to visible light, is formed over the entire circumference of the rectangular annular, of the polymer network liquid crystal, which is formed in a region corresponding to the polymerization inhibition of the polymer Ttowaku liquid crystal, in the polymerization inhibiting portion than the polymer network liquid crystal is formed in other regions except for the region corresponding to, and density is formed roughly in the polymer network structure, the region corresponding to the polymerization inhibiting unit The thickness of the polymer network liquid crystal is thinner than the thickness of the polymer network liquid crystal in other areas except for the area corresponding to the polymerization suppression part, and the polymerization suppression part is exposed to the polymer network liquid crystal. It is characterized by.

本発明に係る高分子液晶表示素子の製造方法は、2枚の基板を、シール材により、所定の間隔を以て接合し、2枚の前記基板の間の、前記シール材で囲まれた内側領域に、ポリマーネットワーク構造を形成する高分子材料及び液晶材料を注入し、前記高分子材料を重合させる電磁波を照射する高分子液晶表示素子の製造方法において、2枚の前記基板の接合に先立って、2枚の当該基板のうち少なくとも一方の基板の内面の側で、前記シール材で接合される部分の内側に沿った少なくとも一部に、前記電磁波の透過を抑制する重合抑制部を厚さを有して形成し、前記電磁波の照射を、前記重合抑制部が形成された基板の側から行い、前記内側領域に前記高分子材料及び液晶材料を注入する注入口が形成され、前記注入口から前記内側領域に、前記高分子材料及び液晶材料を注入した後、前記注入口を閉塞部材で塞ぐ場合、前記重合抑制部を、前記基板の内面側で、前記閉塞部材が配置される部分の内側に沿った部分に形成し、前記重合抑制部に対応する領域における前記ポリマーネットワーク液晶の厚さが、前記重合抑制部に対応する領域を除いた他の領域の前記ポリマーネットワーク液晶の厚さよりも薄く、前記重合抑制部は、前記ポリマーネットワーク液晶に露出していることを特徴とする。
In the method for producing a polymer liquid crystal display element according to the present invention, two substrates are bonded with a sealing material at a predetermined interval, and an inner region surrounded by the sealing material is interposed between the two substrates. In the method of manufacturing a polymer liquid crystal display element in which a polymer material and a liquid crystal material forming a polymer network structure are injected and an electromagnetic wave is applied to polymerize the polymer material, prior to joining the two substrates, 2 At least a part along the inner side of the portion to be joined by the sealing material on the inner surface side of at least one of the substrates, and having a thickness of a polymerization suppression portion that suppresses transmission of the electromagnetic wave The electromagnetic wave irradiation is performed from the side of the substrate on which the polymerization suppression portion is formed, and an injection port for injecting the polymer material and the liquid crystal material is formed in the inner region, and the inner side from the injection port is formed. In the area, After injecting the polymer material and the liquid crystal material, when the injection port is closed with a closing member, the polymerization suppression portion is arranged on the inner surface side of the substrate along the inside of the portion where the closing member is disposed. The thickness of the polymer network liquid crystal in the region corresponding to the polymerization suppression portion is smaller than the thickness of the polymer network liquid crystal in the other region excluding the region corresponding to the polymerization suppression portion, and the polymerization suppression portion It is characterized that you have exposed to the polymer network liquid crystal.

本発明に係る高分子液晶表示素子によれば、シール材付近の部分でのポリマークラックの発生を抑制することができる。
本発明に係る高分子液晶表示素子の製造方法によれば、電磁波の照射を複数回に分けて行うことなく、シール材付近の部分でのポリマークラックの発生を抑制する高分子液晶表示素子を製造することができる。
According to the polymer liquid crystal display element according to the present invention, it is possible to suppress the occurrence of polymer cracks in the vicinity of the sealing material.
According to the method for producing a polymer liquid crystal display element according to the present invention, a polymer liquid crystal display element that suppresses the occurrence of polymer cracks in the vicinity of the sealing material without performing electromagnetic wave irradiation in multiple times is produced. can do.

本発明に係る高分子液晶表示素子の一実施の形態である液晶セルを模式的に示した平面図である。It is the top view which showed typically the liquid crystal cell which is one Embodiment of the polymer liquid crystal display element which concerns on this invention. 図1におけるII−II線に沿った断面を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the cross section along the II-II line | wire in FIG. 液晶セルに、紫外線を照射する工程を説明する模式図である。It is a schematic diagram explaining the process of irradiating a liquid crystal cell with an ultraviolet-ray. 図1におけるII−II線に沿った方向におけるポリマーネットワーク液晶の散乱度合いの高低を示すグラフである。It is a graph which shows the level of the scattering degree of the polymer network liquid crystal in the direction along the II-II line in FIG. 液晶セルに重ね合わされる見切り枠を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the parting frame superimposed on a liquid crystal cell. 液晶セルを備えた一眼レフカメラの光路を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the optical path of the single-lens reflex camera provided with the liquid crystal cell. 液晶セルの散乱する部分として現れた表示例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the example of a display which appeared as a part to which a liquid crystal cell is scattered. 両ガラス基板にそれぞれブラックレジストを形成した液晶セルを示す、図2相当の断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view corresponding to FIG. 2 showing a liquid crystal cell in which black resists are formed on both glass substrates. 矩形環状に形成されたシール材の内側に沿った一部分にだけブラックレジストが形成された例を示す、図1相当の平面図であり、(A)はシール材の矩形環状の四隅に対応する部分の内側に沿ってブラックレジストが形成された液晶セル、(B)は矩形形状のシール材の図示横方向に延びた対向する2つの辺に対応する部分の内側に沿ってブラックレジストが形成された液晶セル、をそれぞれ示す。It is a top view equivalent to FIG. 1 which shows the example by which the black resist was formed only in the part along the inner side of the sealing material formed in the rectangular ring shape, (A) is the part corresponding to the four corners of the rectangular ring shape of a sealing material. A liquid crystal cell in which a black resist is formed along the inner side of the liquid crystal cell, and (B) is a black resist formed along the inner side of a portion corresponding to two opposing sides extending in the horizontal direction of the rectangular sealing material in the figure. A liquid crystal cell is shown. シール材の内側に沿った部分及び閉塞部材の内側に沿った部分にブラックレジストが形成された液晶セルを示す、図1相当の平面図である。It is a top view equivalent to FIG. 1 which shows the liquid crystal cell in which the black resist was formed in the part along the inner side of the sealing material, and the part along the inner side of the closure member. 図10におけるXI−XI線に沿った断面を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the cross section along the XI-XI line in FIG.

<液晶セルの構造>
以下、添付図面を参照して、本発明の実施の形態について説明する。
図1は、本発明に係る高分子液晶表示素子の一実施の形態である液晶セル100を模式的に示した平面図であり、図2は、図1におけるII−II線に沿った断面を示す断面図である。
<Structure of liquid crystal cell>
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings.
FIG. 1 is a plan view schematically showing a liquid crystal cell 100 which is an embodiment of a polymer liquid crystal display element according to the present invention, and FIG. 2 is a cross section taken along line II-II in FIG. It is sectional drawing shown.

図1,2に示すように、液晶セル100は、例えば矩形環状に形成されたシール材30によって接合された2枚の矩形の平板状のガラス基板10,20(基板の一例)と、2枚のガラス基板10,20の間で、シール材30で囲まれた内側領域R0に形成された、ポリマーネットワーク液晶60とを有する。ガラス基板10,20は、ガラス基板10,20の厚さ方向に間隔t1を以てシール材30により平行に接合されている。
なお、図1においては、ポリマーネットワーク液晶60のポリマーネットワーク構造61が重合する前の高分子材料(モノマー)及び液晶材料62を、内側領域R0に注入するための注入口の記載を省略している。
As shown in FIGS. 1 and 2, the liquid crystal cell 100 includes, for example, two rectangular flat glass substrates 10 and 20 (an example of a substrate) joined by a sealing material 30 formed in a rectangular ring shape and two sheets. And the polymer network liquid crystal 60 formed in the inner region R0 surrounded by the sealing material 30 between the glass substrates 10 and 20. The glass substrates 10 and 20 are joined in parallel by the sealing material 30 at an interval t1 in the thickness direction of the glass substrates 10 and 20.
In FIG. 1, the description of the injection port for injecting the polymer material (monomer) before the polymer network structure 61 of the polymer network liquid crystal 60 is polymerized and the liquid crystal material 62 into the inner region R0 is omitted. .

各ガラス基板10,20は透明なガラス板で形成され、例えば、ソーダガラス、石英ガラス、ホウケイ酸ガラス又は普通板ガラスなどで形成されている。各ガラス基板10,20は、厚さ0.3−1.1[mm]程度の範囲で用いられる。
2枚のガラス基板10,20の間隔t1は、本実施の形態においては、例えば8[μm]に設定されているが、この間隔に限定されるものではない。この間隔は、例えば、4−10[μm]などが適用される。ガラス基板10,20間に封入されるポリマーネットワーク液晶60の厚さが薄いと散乱度合いが低下して、鮮明な像を得にくい。一方、ポリマーネットワーク液晶60の厚さが厚いと、駆動に要する電力の消費が大きくなる。
Each of the glass substrates 10 and 20 is formed of a transparent glass plate, for example, soda glass, quartz glass, borosilicate glass, or normal plate glass. Each glass substrate 10 and 20 is used in the thickness range of about 0.3 to 1.1 [mm].
In the present embodiment, the interval t1 between the two glass substrates 10 and 20 is set to 8 [μm], for example, but is not limited to this interval. For example, 4-10 [μm] is applied to this interval. If the thickness of the polymer network liquid crystal 60 enclosed between the glass substrates 10 and 20 is thin, the degree of scattering decreases and it is difficult to obtain a clear image. On the other hand, when the thickness of the polymer network liquid crystal 60 is large, power consumption required for driving increases.

ガラス基板10の内面11には、ITO(Indium-Tin-Oxide)膜からなる透明な対向電極40が形成されている。ITO膜は、真空蒸着法、スパッタリング法、CVD法などで形成された後、エッチング法で所望の形状に形成されている。ITO膜の厚さは、高い電圧を得るために、例えば100−500[Å]の厚さに形成し、約10−500[Ω]という低いシート抵抗値に設定されている。   A transparent counter electrode 40 made of an ITO (Indium-Tin-Oxide) film is formed on the inner surface 11 of the glass substrate 10. The ITO film is formed by a vacuum deposition method, a sputtering method, a CVD method, etc., and then formed into a desired shape by an etching method. In order to obtain a high voltage, the thickness of the ITO film is formed to a thickness of 100-500 [Å], for example, and is set to a low sheet resistance value of about 10-500 [Ω].

対向電極40には、シール材30の内縁31に沿って全周に亘って、ブラックレジスト70(遮光部、重合抑制部の一例)が形成されている。なお、シール材30とブラックレジスト70とは接していなくてもよく、シール材30とブラックレジスト70との間に隙間があってもよい。
このブラックレジスト70は、例えばフォトリソグラフィ法によって形成されている。ブラックレジスト70は、その幅W(図1参照)が例えば0.3−2.5[mm]で、厚さt2(図2参照)が例えば1.7[μm]で形成されている。ブラックレジスト70の厚さt2が薄すぎるとクラックが発生し易く、厚さt2が厚すぎるとセルギャップが厚くなってギャップによる散乱の度合いに不均一が発生し、表示むら等表示品質の低下を招く。
そこで、ブラックレジスト70の厚さt2は、クラックが発生しないで、かつ表示品質の低下を招かない範囲の値で設定される。なお、ブラックレジスト70の幅Wや厚さt2は、これらの値に限定されない。
The counter electrode 40 is formed with a black resist 70 (an example of a light shielding portion and a polymerization suppression portion) along the inner edge 31 of the sealing material 30 over the entire circumference. Note that the sealing material 30 and the black resist 70 do not have to be in contact with each other, and there may be a gap between the sealing material 30 and the black resist 70.
The black resist 70 is formed by, for example, a photolithography method. The black resist 70 has a width W (see FIG. 1) of, for example, 0.3-2.5 [mm] and a thickness t2 (see FIG. 2) of, for example, 1.7 [μm]. If the thickness t2 of the black resist 70 is too thin, cracks are likely to occur, and if the thickness t2 is too thick, the cell gap becomes thick and nonuniformity occurs in the degree of scattering due to the gap, resulting in poor display quality such as display unevenness. Invite.
Therefore, the thickness t2 of the black resist 70 is set to a value that does not cause cracks and does not cause deterioration in display quality. Note that the width W and the thickness t2 of the black resist 70 are not limited to these values.

ブラックレジスト70は、紫外線L(図3参照)の透過を抑制するものである。この紫外線Lは、モノマーを照射することでポリマーネットワーク構造61を形成される電磁波である。つまり、ブラックレジスト70は、波長帯域(波長350−400[nm]の帯域)の電磁波の透過を抑制する機能を発揮するものである。
本実施の形態におけるブラックレジスト70は、可視光(波長380−780[nm]の範囲の帯域)の透過も遮断する。
The black resist 70 suppresses the transmission of ultraviolet rays L (see FIG. 3). This ultraviolet ray L is an electromagnetic wave that forms the polymer network structure 61 by irradiating the monomer. That is, the black resist 70 exhibits a function of suppressing transmission of electromagnetic waves in a wavelength band (wavelength range of 350 to 400 [nm]).
The black resist 70 in the present embodiment also blocks transmission of visible light (band in the wavelength range of 380-780 [nm]).

ガラス基板20の内面21には、画素電極50が形成されている。画素電極50は、ガラス基板20の内面21に近い側から順に、ITO膜からなる透明な配線部51と、透明な絶縁層52と、ITO膜からなる透明な画素電極部53とを備えている。
ITO膜は、対向電極40のITO膜と同様であり、真空蒸着法、スパッタリング法、CVD法などで形成された後、エッチング法で所望の形状に形成されている。ITO膜の厚さは、高い電圧を得るために、例えば100−500[Å]の厚さに形成し、約10−500[Ω]という低いシート抵抗値に設定されている。
A pixel electrode 50 is formed on the inner surface 21 of the glass substrate 20. The pixel electrode 50 includes a transparent wiring part 51 made of an ITO film, a transparent insulating layer 52, and a transparent pixel electrode part 53 made of an ITO film in order from the side closer to the inner surface 21 of the glass substrate 20. .
The ITO film is the same as the ITO film of the counter electrode 40, and is formed into a desired shape by an etching method after being formed by a vacuum deposition method, a sputtering method, a CVD method, or the like. In order to obtain a high voltage, the thickness of the ITO film is formed to a thickness of 100-500 [Å], for example, and is set to a low sheet resistance value of about 10-500 [Ω].

絶縁層52は、例えば、熱硬化性のアクリル樹脂、ポリイミド樹脂などの樹脂が適用される。なお、絶縁層52は、熱硬化性の他、紫外線硬化性のものを適用することもできる。絶縁層52は、これらの樹脂を用いて印刷法、スピン法などで所望の厚みに形成し、熱硬化処理又は紫外線硬化処理を施して形成される。熱硬化性のものではスクリーン印刷法を適用し、紫外線硬化性のものではフォトリソグラフィ法を適用するのがよい。
なお、絶縁層52は、配置の位置精度が厳しく求められる場合は、フォトリソグラフィ法によってその形状が形成される。
For example, a resin such as a thermosetting acrylic resin or a polyimide resin is applied to the insulating layer 52. The insulating layer 52 may be an ultraviolet curable layer in addition to the thermosetting layer. The insulating layer 52 is formed by using these resins to have a desired thickness by a printing method, a spin method, or the like, and performing a heat curing process or an ultraviolet curing process. It is preferable to apply a screen printing method for a thermosetting material and a photolithography method for an ultraviolet curable material.
Note that the shape of the insulating layer 52 is formed by a photolithography method when the positional accuracy of the arrangement is strictly required.

シール材30は、例えば、熱硬化性のエポキシ樹脂やアクリル樹脂などが適用される。また、シール材30には、絶縁性を有するガラスボールやガラスファイバがスペーサ(図示省略)として配合されている。このガラスボールやガラスファイバは所定の粒径で形成され、これにより、ガラス基板10,20間を所定の間隔に維持する。   For example, a thermosetting epoxy resin or an acrylic resin is applied to the sealing material 30. Further, the sealing material 30 is blended with insulating glass balls or glass fibers as spacers (not shown). The glass balls and the glass fibers are formed with a predetermined particle size, thereby maintaining a predetermined distance between the glass substrates 10 and 20.

ポリマーネットワーク液晶60は、重合前の高分子材料(モノマー)に液晶材料62を混合し、モノマーを重合させることで、3次元網目状のポリマーネットワーク構造61に液晶材料62が分散した状態となったものである。
モノマーとしては、紫外線硬化性アクリル樹脂が適用され、特に、紫外線L(図3参照)の照射によって重合するアクリルモノマー、アクリルオリゴマーを含有したものが用いられる。
液晶材料62としては、ネマティック液晶、スメスティック液晶、コレステリック液晶などが適用される。
In the polymer network liquid crystal 60, the liquid crystal material 62 is mixed with the polymer material (monomer) before polymerization, and the monomer is polymerized, so that the liquid crystal material 62 is dispersed in the three-dimensional network polymer network structure 61. Is.
As the monomer, an ultraviolet curable acrylic resin is applied, and in particular, those containing an acrylic monomer and an acrylic oligomer that are polymerized by irradiation with ultraviolet light L (see FIG. 3) are used.
As the liquid crystal material 62, nematic liquid crystal, smectic liquid crystal, cholesteric liquid crystal, or the like is applied.

<液晶セルの製造工程>
本実施の形態における液晶セル100は、一例として、以下の製造工程(製造方法)によって製造される。
すなわち、まず、一方のガラス基板10の内面11(図2参照)に、真空蒸着法、スパッタリング法、CVD法などで対向電極40が形成される。この対向電極40はエッチング法で所望の形状に形成される。さらに、ガラス基板10の内面11の側の、シール材30で接合される部分の内側に沿った部分に、ブラックレジスト70を形成する。ブラックレジスト70は、フォトリソグラフィ法でシール材30の全周に亘って矩形環状で、厚さt2で形成する。
他方のガラス基板20の内面21にも、真空蒸着法、スパッタリング法、CVD法などで画素電極50が形成される。
<Manufacturing process of liquid crystal cell>
As an example, liquid crystal cell 100 in the present embodiment is manufactured by the following manufacturing process (manufacturing method).
That is, first, the counter electrode 40 is formed on the inner surface 11 (see FIG. 2) of one glass substrate 10 by vacuum vapor deposition, sputtering, CVD, or the like. The counter electrode 40 is formed in a desired shape by an etching method. Further, a black resist 70 is formed on the inner surface 11 side of the glass substrate 10 along a portion along the inside of the portion to be joined by the sealing material 30. The black resist 70 is formed in a rectangular ring shape with a thickness t2 over the entire circumference of the sealing material 30 by photolithography.
The pixel electrode 50 is also formed on the inner surface 21 of the other glass substrate 20 by vacuum deposition, sputtering, CVD, or the like.

ガラス基板10のブラックレジスト70の外側に沿った部分に、全周に亘って、シール材30を、スクリーン印刷法などで形成する。このとき、シール材30は、ブラックレジスト70との間に隙間を以て形成される。ただし、シール材30が、ブラックレジスト70に接して形成されてもよい。
次いで、2枚のガラス基板10,20の内面11,21を互いに対向させ、2枚のガラス基板10,20をシール材30を介して重ね合わせ、加圧した状態で加熱することで、シール材30を硬化させ、両ガラス基板10,20を所定の間隔t1を以て互いに接合させる。
このとき、シール材30に配合されたガラスボールやガラスファイバが、両ガラス基板10,20間に挟まれ、ガラス基板10,20間を所定の間隔に維持させる。
A sealing material 30 is formed on the entire portion of the glass substrate 10 along the outside of the black resist 70 by a screen printing method or the like. At this time, the sealing material 30 is formed with a gap between it and the black resist 70. However, the sealing material 30 may be formed in contact with the black resist 70.
Next, the inner surfaces 11 and 21 of the two glass substrates 10 and 20 are opposed to each other, and the two glass substrates 10 and 20 are overlapped with each other through the sealing material 30 and heated in a pressurized state, whereby a sealing material is obtained. 30 is cured, and both glass substrates 10 and 20 are bonded to each other with a predetermined interval t1.
At this time, a glass ball or glass fiber blended in the sealing material 30 is sandwiched between the glass substrates 10 and 20, and the glass substrates 10 and 20 are maintained at a predetermined interval.

次いで、2枚のガラス基板10,20の間の、シール材30で囲まれた内側領域R0に、図示を省略した注入口からモノマー及び液晶材料62が真空雰囲気中で注入される。
図3は、液晶セル100に、紫外線Lを照射する工程を説明する模式図である。図3に示すように、液晶セル100を、ブラックレジスト70が形成されたガラス基板10を水銀ランプ310に近い側に配置する。この状態で、水銀ランプ310から紫外線Lを出射する。出射した紫外線Lは反射鏡320で反射する。反射した紫外線Lは、ガラス基板10の側から、液晶セル100に平行に照射される。
紫外線Lの照射の条件は、ネマティック−アイソトロピック相転移温度以上に加温して行うが、例えば、温度20−40[°C]、強度20−80[mW/cm]、時間30−120[秒間]の範囲の中で信頼性と表示特性を考慮して適宜に設定される。
Next, the monomer and the liquid crystal material 62 are injected into the inner region R0 between the two glass substrates 10 and 20 surrounded by the sealing material 30 from an injection port (not shown) in a vacuum atmosphere.
FIG. 3 is a schematic diagram illustrating a process of irradiating the liquid crystal cell 100 with the ultraviolet light L. As shown in FIG. 3, in the liquid crystal cell 100, the glass substrate 10 on which the black resist 70 is formed is disposed on the side close to the mercury lamp 310. In this state, ultraviolet rays L are emitted from the mercury lamp 310. The emitted ultraviolet light L is reflected by the reflecting mirror 320. The reflected ultraviolet light L is irradiated in parallel to the liquid crystal cell 100 from the glass substrate 10 side.
The irradiation conditions of the ultraviolet light L are performed by heating to a temperature higher than the nematic-isotropic phase transition temperature. For example, the temperature is 20-40 [° C.], the intensity is 20-80 [mW / cm 2 ], and the time is 30-120. Within the range of [seconds], it is appropriately set in consideration of reliability and display characteristics.

紫外線Lの照射を受けた液晶セル100の内側領域R0に封入されているモノマーは重合によりポリマーネットワーク構造61(図2参照)を生成する。
ここで、ブラックレジスト70の内縁71(図1参照)よりも内側の領域R1のモノマーは、ガラス基板10及び対向電極40を介して紫外線Lが照射されて、ポリマーネットワーク構造61を生成する。
一方、ブラックレジスト70が形成された部分に対応した領域R2(ブラックレジスト70の背面側で、紫外線Lが抑制して透過される領域)のモノマーは、ブラックレジスト70によって透過が抑制された紫外線Lの照射を受ける。
このため、領域R2で生成されるポリマーネットワーク構造61(図2参照)は、領域R1で生成されるポリマーネットワーク構造61よりも、ポリマーネットワーク構造61の密度が粗いものとなる。
The monomer sealed in the inner region R0 of the liquid crystal cell 100 that has been irradiated with the ultraviolet light L generates a polymer network structure 61 (see FIG. 2) by polymerization.
Here, the monomer in the region R <b> 1 inside the inner edge 71 (see FIG. 1) of the black resist 70 is irradiated with the ultraviolet rays L through the glass substrate 10 and the counter electrode 40 to generate the polymer network structure 61.
On the other hand, the monomer in the region R2 corresponding to the portion where the black resist 70 is formed (the region where the ultraviolet light L is transmitted while being suppressed on the back side of the black resist 70) is the ultraviolet light L whose transmission is suppressed by the black resist 70. Receive irradiation.
For this reason, the polymer network structure 61 (see FIG. 2) generated in the region R2 has a density of the polymer network structure 61 that is coarser than the polymer network structure 61 generated in the region R1.

このように、図2に示した液晶セル100は、領域R2に形成されたポリマーネットワーク液晶60が、他の領域R1に形成されたポリマーネットワーク液晶60よりも、ポリマーネットワーク構造61の密度が粗く形成されたものとなっている。   Thus, in the liquid crystal cell 100 shown in FIG. 2, the polymer network liquid crystal 60 formed in the region R2 is formed with a polymer network structure 61 having a density higher than that of the polymer network liquid crystal 60 formed in the other region R1. It has been made.

<液晶セルの作用、効果>
ポリマーネットワーク構造61の密度が粗い部分は、密度が密の部分よりも、柔軟性が相対的に高くなり、発生した歪を吸収し易い。シール材30に沿った領域R2の柔軟性が高いことにより、シール材30に対する領域R2の拘束力が低下する。この結果、領域R2よりも内側の領域R1の散乱度合いの均一性が向上し、表示むらが改善される。
また、例えば、温度−30[°C]程度まで急冷するなどの温度変化に晒されて、ポリマーネットワーク液晶60に収縮する歪が発生した場合に、この歪は特に、シール材30付近の部分で大きくなる傾向がある。しかし、本実施の形態の液晶セル100は、シール材30付近の部分、すなわち領域R2のポリマーネットワーク構造61は密度が粗い。したがって、シール材30に沿った部分のポリマーネットワーク構造61は、発生した歪を十分に吸収することができる。
よって、本実施の形態の液晶セル100は、シール材30付近の部分での、急冷等の温度変化によるポリマークラックの発生を抑制することができる。
<Operation and effect of liquid crystal cell>
The portion where the density of the polymer network structure 61 is coarse is relatively more flexible than the portion where the density is dense, and it is easy to absorb the generated strain. Due to the high flexibility of the region R2 along the sealing material 30, the restraining force of the region R2 on the sealing material 30 is reduced. As a result, the uniformity of the degree of scattering in the region R1 inside the region R2 is improved, and the display unevenness is improved.
Further, for example, when a strain that contracts in the polymer network liquid crystal 60 is generated due to a temperature change such as rapid cooling to a temperature of about −30 [° C.], the strain is particularly in the vicinity of the seal material 30. There is a tendency to grow. However, in the liquid crystal cell 100 of the present embodiment, the density of the portion in the vicinity of the sealing material 30, that is, the polymer network structure 61 in the region R2 is rough. Therefore, the polymer network structure 61 in the portion along the sealing material 30 can sufficiently absorb the generated strain.
Therefore, the liquid crystal cell 100 of the present embodiment can suppress the occurrence of polymer cracks due to temperature changes such as rapid cooling in the vicinity of the sealing material 30.

また、本実施の形態の液晶セル100は、ブラックレジスト70が厚さt2(図2参照)を有している。そして、ブラックレジスト70はガラス基板10の内面11の側に形成されている。このため、領域R2におけるポリマーネットワーク液晶60の厚さt3(=t1−t2)は、領域R1におけるポリマーネットワーク液晶60の厚さt1よりも薄くなっている。
したがって、例えば、温度−30[°C]程度まで急冷するなどの温度変化に晒されて収縮する歪が発生した場合に、領域R2におけるポリマーネットワーク液晶60は、領域R1におけるポリマーネットワーク液晶60よりも、収縮する絶対量が小さくなる。
この観点からも、本実施の形態の液晶セル100は、シール材30付近の部分での、急冷等の温度変化によるポリマークラックの発生を抑制することができる。
In the liquid crystal cell 100 of the present embodiment, the black resist 70 has a thickness t2 (see FIG. 2). The black resist 70 is formed on the inner surface 11 side of the glass substrate 10. For this reason, the thickness t3 (= t1-t2) of the polymer network liquid crystal 60 in the region R2 is smaller than the thickness t1 of the polymer network liquid crystal 60 in the region R1.
Therefore, for example, when a strain that contracts due to a temperature change such as rapid cooling to about −30 [° C.] occurs, the polymer network liquid crystal 60 in the region R2 is more than the polymer network liquid crystal 60 in the region R1. The absolute amount of contraction is reduced.
Also from this viewpoint, the liquid crystal cell 100 of the present embodiment can suppress the occurrence of polymer cracks due to temperature changes such as rapid cooling in the vicinity of the sealing material 30.

なお、ブラックレジスト70をガラス基板10の内面11の側ではなく、外面の側に形成することもできるが、この場合、ガラス基板10の内面11の側に、厚さを有するブラックレジスト70の代わりになる部材を配置する必要がある。しかし、本実施の形態の液晶セル100は、ガラス基板10の内面11の側にブラックレジスト70が形成されているため、ブラックレジスト70の代わりの部材を、ブラックレジスト70とは別に配置することによるコストの上昇を抑えることができる。   The black resist 70 can be formed not on the inner surface 11 side of the glass substrate 10 but on the outer surface side. In this case, instead of the black resist 70 having a thickness on the inner surface 11 side of the glass substrate 10, It is necessary to arrange a member to become. However, in the liquid crystal cell 100 of the present embodiment, since the black resist 70 is formed on the inner surface 11 side of the glass substrate 10, a member in place of the black resist 70 is arranged separately from the black resist 70. Increase in cost can be suppressed.

図4は、例えば図1におけるII−II線に沿った方向におけるポリマーネットワーク液晶60の散乱度合いの高低を示すグラフである。図4における横軸の両端は、シール材30(図2参照)の内縁31に相当する。図示の実線は、本実施の形態の液晶セル100におけるポリマーネットワーク液晶60の散乱度合いを示す。図示の破線は、図1,2に示した液晶セル100においてブラックレジスト70を形成していないものでの散乱度合いを示す。   FIG. 4 is a graph showing, for example, the level of scattering of the polymer network liquid crystal 60 in the direction along the line II-II in FIG. Both ends of the horizontal axis in FIG. 4 correspond to the inner edge 31 of the sealing material 30 (see FIG. 2). The solid line in the figure indicates the degree of scattering of the polymer network liquid crystal 60 in the liquid crystal cell 100 of the present embodiment. The broken lines in the figure indicate the degree of scattering when the black resist 70 is not formed in the liquid crystal cell 100 shown in FIGS.

本実施の形態の液晶セル100は、図4のグラフから解されるように、ブラックレジスト70が形成されていないものに比べて、ポリマーネットワーク液晶60の、中心部を含む領域R1の散乱の度合いの均一な範囲が広くなる。具体的には、領域R1のうち、領域R2の内側に沿った領域における散乱度合いが、矢印で示すように、中心部の領域における散乱の度合いと同じレベルまで向上し、領域R1における散乱度合いの均一性が向上した。   As understood from the graph of FIG. 4, the liquid crystal cell 100 of the present embodiment has a degree of scattering in the region R <b> 1 including the central portion of the polymer network liquid crystal 60 as compared with the case where the black resist 70 is not formed. The uniform range of becomes wide. Specifically, in the region R1, the degree of scattering in the region along the inside of the region R2 is improved to the same level as the degree of scattering in the central region, as indicated by the arrow, and the degree of scattering in the region R1 is increased. Uniformity improved.

これにより、中心部を含む領域R1のうち、散乱度合いが中心部よりも低いために使用することができなかった周縁の領域(領域R1のうち、領域R2の内側に沿った領域)も、表示領域として使用することができる。この結果、ビューイング領域として使用することができる領域を同じサイズに設定した場合に、液晶セル100の大きさ(外形)を小さくすることができる。
また、液晶セル100は、領域R2を除いた、中心部を含む領域R1(図2参照)での散乱度合いの乱れ(高低のばらつき)が低減して散乱度合いの均一性が向上している。
Accordingly, the peripheral region (region along the inner side of the region R2 out of the region R1) that could not be used because the degree of scattering is lower than the central portion in the region R1 including the central portion is also displayed. Can be used as a region. As a result, when the area that can be used as the viewing area is set to the same size, the size (outer shape) of the liquid crystal cell 100 can be reduced.
Further, in the liquid crystal cell 100, the scattering of the degree of scattering (variation in height) in the region R1 including the central portion (see FIG. 2) excluding the region R2 is reduced, and the uniformity of the degree of scattering is improved.

これは、シール材30に沿った領域R2において重合せずに残ったモノマーが領域R1に十分に供給され、中心部を含む領域R1において、領域R2から供給されたモノマーが重合したことで、領域R1におけるポリマーネットワーク構造61の生成が促進されたものである。
なお、中心部を含む領域R1での散乱度合いの均一性の向上は、以下の作用も含まれる。すなわち、中心部を含む領域R1は、ブラックレジスト70の存在により、重合の程度が相対的にゆっくり進む領域R2によって周囲が囲まれている。このため、中心部を含む領域R1の重合が進むときの応力が、重合の進み具合が相対的に遅い周囲の領域R2に逃がされる。この結果、領域R1では、応力の残留が低い状態のポリマーネットワーク構造61が形成され、領域R1での散乱度合いの均一性が向上した。
This is because the monomer remaining without being polymerized in the region R2 along the sealing material 30 is sufficiently supplied to the region R1, and the monomer supplied from the region R2 is polymerized in the region R1 including the central portion. The generation of the polymer network structure 61 in R1 is promoted.
In addition, the following effect | action is also included in the improvement of the uniformity of the scattering degree in area | region R1 including a center part. That is, the region R1 including the center is surrounded by the region R2 in which the degree of polymerization proceeds relatively slowly due to the presence of the black resist 70. For this reason, the stress when the polymerization in the region R1 including the central portion proceeds is released to the surrounding region R2 where the polymerization progress is relatively slow. As a result, in the region R1, the polymer network structure 61 having a low residual stress was formed, and the uniformity of the degree of scattering in the region R1 was improved.

図5は、液晶セル100に重ね合わされる見切り枠110を示す斜視図である。液晶セル100には、例えば図5に示すように、領域R1だけをビューイングエリアとし、ビューイングエリアの外側を覆う見切り枠110が重ね合わされる。そして、見切り枠110の内縁に対応する見切り線111の外側の領域を視認できないようにすることが行われることがある。
しかし、本実施の形態の液晶セル100は、ブラックレジスト70(図1参照)が、紫外線Lだけでなく可視光も遮断する。これにより、ブラックレジスト70の内縁71を見切り線111とすることで、ブラックレジスト70に見切り枠110の機能を発揮させることができる。したがって、本実施の形態の液晶セル100は、別体の見切り枠110を重ね合わせて設ける必要が無い。
FIG. 5 is a perspective view showing a parting frame 110 overlaid on the liquid crystal cell 100. For example, as illustrated in FIG. 5, the liquid crystal cell 100 includes a parting frame 110 that covers only the region R <b> 1 as a viewing area and covers the outside of the viewing area. Then, the region outside the parting line 111 corresponding to the inner edge of the parting frame 110 may be made invisible.
However, in the liquid crystal cell 100 of the present embodiment, the black resist 70 (see FIG. 1) blocks not only the ultraviolet light L but also visible light. Thereby, by setting the inner edge 71 of the black resist 70 as the parting line 111, the black resist 70 can exhibit the function of the parting frame 110. Therefore, the liquid crystal cell 100 according to the present embodiment does not need to be provided with the separate parting frames 110 overlapped.

なお、本実施の形態の液晶セル100では、本発明の高分子液晶表示素子における重合抑制部の一例として適用したブラックレジスト70は、可視光を遮光する遮光部の一例でもある。なお、本発明の高分子液晶表示素子における遮光部は、可視光及び紫外線Lのうち少なくとも一方の透過を遮断乃至抑制するものであればよい。
本発明における重合抑制部は、可視光の透過を遮断するものに限定されない。すなわち、本発明における重合抑制部は、少なくとも、モノマーをポリマーネットワーク構造に重合させる電磁波(例えば、紫外線L)の透過を遮断乃至抑制するものであればよい。
したがって、可視光を遮断する作用を発揮しない重合抑制部や遮光部を適用した液晶セル100の場合は、見切り枠110を重ね合わせて設けて用いられる。この場合、見切り枠110の内縁よりも外側に、重合抑制部又は遮光部の内縁が位置するように、見切り枠110が設定される。
In the liquid crystal cell 100 of the present embodiment, the black resist 70 applied as an example of the polymerization suppression unit in the polymer liquid crystal display element of the present invention is also an example of a light blocking unit that blocks visible light. In addition, the light-shielding part in the polymer liquid crystal display element of the present invention only needs to block or suppress transmission of at least one of visible light and ultraviolet light L.
The polymerization inhibitor in the present invention is not limited to one that blocks visible light transmission. That is, the polymerization inhibitor in the present invention may be at least one that blocks or suppresses the transmission of electromagnetic waves (for example, ultraviolet rays L) that polymerize the monomer into the polymer network structure.
Therefore, in the case of the liquid crystal cell 100 to which the polymerization suppressing portion or the light shielding portion that does not exhibit the action of blocking visible light is applied, the parting frame 110 is overlapped and used. In this case, the parting frame 110 is set so that the inner edge of the polymerization suppressing part or the light shielding part is located outside the inner edge of the parting frame 110.

本実施の形態の液晶セル100は、上述した製造工程で製造されたものに限定されるものではない。すなわち、どのような製造工程で製造されたかに拘わらず、液晶セル100は、図2に示す構造を有するものであればよい。
つまり、液晶セル100は、2枚のガラス基板10,20と、ポリマーネットワーク液晶60と、ブラックレジスト70とを備え、ブラックレジスト70に対応する領域R2に形成されたポリマーネットワーク液晶60が、他の領域R1に形成されたポリマーネットワーク液晶60よりも、ポリマーネットワーク構造61の密度が粗く形成されていればよい。
The liquid crystal cell 100 of the present embodiment is not limited to the one manufactured by the manufacturing process described above. In other words, the liquid crystal cell 100 only needs to have the structure shown in FIG. 2 regardless of the manufacturing process.
That is, the liquid crystal cell 100 includes two glass substrates 10 and 20, a polymer network liquid crystal 60, and a black resist 70. The polymer network liquid crystal 60 formed in the region R2 corresponding to the black resist 70 It is only necessary that the polymer network structure 61 has a higher density than the polymer network liquid crystal 60 formed in the region R1.

なお、上述した製造工程で液晶セル100を製造する場合、図3に示すように、ブラックレジスト70の形成されたガラス基板10を、水銀ランプ310に近い側に配置した状態とする。この状態で、液晶セル100に紫外線Lを1回だけ照射するだけで、シール材30の内側に沿った領域R2とそれ以外の領域R1とで、ポリマーネットワーク構造61の密度を異ならせることができる。
したがって、本実施の形態の液晶セル100の製造方法によれば、重合前のモノマー及び液晶材料62を有する液晶セル100に対して、2形態の紫外線Lの照射を行う必要がない。つまり、シール材30の内側に沿った領域R2を遮蔽した状態での照射と、シール材30の内側に沿った領域R2を暴露した状態での照射という2形態の照射を行う必要が無い。
When the liquid crystal cell 100 is manufactured by the manufacturing process described above, the glass substrate 10 on which the black resist 70 is formed is arranged on the side close to the mercury lamp 310 as shown in FIG. In this state, the density of the polymer network structure 61 can be made different between the region R2 along the inner side of the sealing material 30 and the other region R1 only by irradiating the liquid crystal cell 100 with the ultraviolet ray L only once. .
Therefore, according to the manufacturing method of the liquid crystal cell 100 of this Embodiment, it is not necessary to irradiate the liquid crystal cell 100 which has the monomer and the liquid crystal material 62 before superposition | polymerization with the ultraviolet rays L of 2 forms. That is, there is no need to perform two types of irradiation: irradiation in a state where the region R2 along the inner side of the sealing material 30 is shielded, and irradiation in a state where the region R2 along the inner side of the sealing material 30 is exposed.

図6は、液晶セル100を備えた一眼レフカメラ200の光路を示す模式図である。本実施の形態の液晶セル100は、一例として、図6に示すように一眼レフカメラ200のファインダ240に通じる光路上に配置されるものであってもよい。
図示の一眼レフカメラ200は、被写体から出射された光がレンズ210を経てメインミラー220で反射される。反射された光は、ペンタプリズム230の手前に配置されたピント板280上で結像する。結像した光は、ピント板280の上方に配置された液晶セル100を介してペンタプリズム230で2度反射され、ファインダ240を通じて撮影者の目に入射する。
メインミラー220の背面側には、メインミラー220を通過した被写体の光をAF(Auto Focus)センサ270に導くサブミラー250と、被写体の像を撮像するCCDやCMOS等の撮像素子260とが配置されている。
FIG. 6 is a schematic diagram illustrating an optical path of a single-lens reflex camera 200 including the liquid crystal cell 100. As an example, the liquid crystal cell 100 of the present embodiment may be disposed on an optical path leading to the finder 240 of the single-lens reflex camera 200 as shown in FIG.
In the illustrated single-lens reflex camera 200, light emitted from a subject is reflected by a main mirror 220 through a lens 210. The reflected light forms an image on a focusing plate 280 disposed in front of the pentaprism 230. The imaged light is reflected twice by the pentaprism 230 through the liquid crystal cell 100 disposed above the focus plate 280 and enters the photographer's eyes through the viewfinder 240.
On the back side of the main mirror 220, a sub mirror 250 that guides the light of the subject that has passed through the main mirror 220 to an AF (Auto Focus) sensor 270, and an image sensor 260 such as a CCD or a CMOS that images the subject image are arranged. ing.

メインミラー220とペンタプリズム230との間に配置された液晶セル100は、一眼レフカメラ200の図示しない制御部からの制御信号及び電源からの電力を受けて、画素電極50(図2参照)が駆動される。液晶セル100のポリマーネットワーク液晶60のうち、駆動により電圧が掛けられた部分は光を透過する。これにより、液晶セル100上に結像した被写体像は、液晶セル100を透過して、ファインダ240を覗く撮影者に視認される。
また、液晶セル100のポリマーネットワーク液晶60のうち、電圧が掛けられない部分は光を散乱する。散乱した光は撮影者の目に届かないため、散乱した部分は撮影者には、黒い部分として認識される。
The liquid crystal cell 100 disposed between the main mirror 220 and the pentaprism 230 receives a control signal from a control unit (not shown) of the single-lens reflex camera 200 and power from a power source, and the pixel electrode 50 (see FIG. 2). Driven. A portion of the polymer network liquid crystal 60 of the liquid crystal cell 100 to which a voltage is applied by driving transmits light. As a result, the subject image formed on the liquid crystal cell 100 passes through the liquid crystal cell 100 and is visually recognized by a photographer looking into the viewfinder 240.
Further, the portion of the polymer network liquid crystal 60 of the liquid crystal cell 100 where no voltage is applied scatters light. Since the scattered light does not reach the photographer's eyes, the scattered portion is recognized by the photographer as a black portion.

図7は、液晶セル100の散乱する部分として現れた表示例を示す模式図である。図7に示すように、この散乱する部分は、AFセンサ270(図6参照)により測距される位置を示す測距点表示91や、ビューイングエリアを縦、横に分割する方眼線92、中心領域を示す円の線93、撮影モード表示94、ホワイトバランス表示95、ドライブモード表示96、AFモード表示97、圧縮モード表示98などの撮影情報等の表示に用いられる。
これにより、ファインダ240を覗いた撮影者に、透過した被写体の像を視認させつつ、散乱した撮影情報等を同時に視認させることができる。
なお、図示においては、撮影モード表示94、ホワイトバランス表示95、ドライブモード表示96、AFモード表示97及び圧縮モード表示98は、左右反転して表示されている。
FIG. 7 is a schematic diagram illustrating a display example that appears as a scattering portion of the liquid crystal cell 100. As shown in FIG. 7, the scattered portion includes a distance measuring point display 91 indicating a position measured by the AF sensor 270 (see FIG. 6), a grid 92 that divides the viewing area vertically and horizontally, It is used to display shooting information such as a circle line 93 indicating the central area, shooting mode display 94, white balance display 95, drive mode display 96, AF mode display 97, and compression mode display 98.
Accordingly, the photographer looking through the finder 240 can view the image of the transmitted subject while simultaneously viewing the scattered shooting information and the like.
In the figure, the shooting mode display 94, the white balance display 95, the drive mode display 96, the AF mode display 97, and the compression mode display 98 are displayed horizontally reversed.

<液晶セルの他の実施の形態>
(ブラックレジストの配置例1)
図8は、他方のガラス基板20の内面21の側にも、シール材30の内側に沿った部分にブラックレジスト82が形成された液晶セル400を示す、図2相当の断面図である。
図2に示した実施の形態の液晶セル100は、2枚のガラス基板10,20のうち一方のガラス基板10にのみブラックレジスト70を形成したものであるが、本発明に係る高分子液晶表示素子は、この形態に限定されるものではない。
<Other embodiments of liquid crystal cell>
(Black resist arrangement example 1)
FIG. 8 is a cross-sectional view corresponding to FIG. 2 showing the liquid crystal cell 400 in which the black resist 82 is formed on the inner surface 21 side of the other glass substrate 20 along the inner side of the sealing material 30.
The liquid crystal cell 100 of the embodiment shown in FIG. 2 is obtained by forming the black resist 70 only on one of the two glass substrates 10 and 20, but the polymer liquid crystal display according to the present invention. The element is not limited to this form.

すなわち、図8に示した液晶セル400は、両方のガラス基板10,20の各内面11,21の側にそれぞれ厚さt4のブラックレジスト81、厚さt5のブラックレジスト82が形成されている。厚さt4と厚さt5の和は、図2に示した液晶セル100におけるブラックレジスト70の厚さt2に等しい。
この形態の液晶セル400によれば、領域R2のポリマーネットワーク液晶60の厚さt6が、液晶セル100の厚さt3(図2参照)と同じになる。
That is, in the liquid crystal cell 400 shown in FIG. 8, a black resist 81 having a thickness t4 and a black resist 82 having a thickness t5 are formed on the inner surfaces 11 and 21 of both glass substrates 10 and 20, respectively. The sum of the thickness t4 and the thickness t5 is equal to the thickness t2 of the black resist 70 in the liquid crystal cell 100 shown in FIG.
According to the liquid crystal cell 400 of this form, the thickness t6 of the polymer network liquid crystal 60 in the region R2 is the same as the thickness t3 of the liquid crystal cell 100 (see FIG. 2).

この液晶セル400は、液晶セル100(図2参照)と同様に、領域R1での散乱度の均一性が向上するとともに、シール材30の内側に沿った部分での、急冷等の温度変化によるポリマークラックの発生を抑制することができる。
なお、この液晶セル400は、両ガラス基板10,20にそれぞれ形成されたブラックレジスト81,82がいずれも紫外線Lを遮光するものである。したがって、この液晶セル400を、図3に示した紫外線Lの照射工程でモノマーを重合させて製造する場合、両ガラス基板10,20のうちどちらのガラス基板10,20を水銀ランプ310に近い側に配置してもよい。
Similar to the liquid crystal cell 100 (see FIG. 2), the liquid crystal cell 400 improves the uniformity of the degree of scattering in the region R1, and is also due to a temperature change such as rapid cooling in the portion along the inside of the sealing material 30. Generation of polymer cracks can be suppressed.
In the liquid crystal cell 400, the black resists 81 and 82 formed on the glass substrates 10 and 20 respectively block the ultraviolet light L. Therefore, when the liquid crystal cell 400 is manufactured by polymerizing the monomer in the irradiation process of the ultraviolet light L shown in FIG. 3, which glass substrate 10, 20 of both the glass substrates 10, 20 is closer to the mercury lamp 310. You may arrange in.

これに対して、ガラス基板10の側を常に水銀ランプ310に近い側に配置して紫外線Lを照射してモノマーを重合させる工程で液晶セル400を製造する場合には、ガラス基板20の側のブラックレジスト82は、紫外線Lの透過を抑制するものである必要はない。この場合、単に、領域R2の厚さを薄くするための、厚さt5の部材(例えば、絶縁体で形成された部材等)をブラックレジスト82の代わりに設ければよい。
また、厚さt5の部材を別途設けるのに代えて、ガラス基板20の領域R2に対応する部分だけを内面21の側に厚さt5だけ突出した形状に形成してもよい。
On the other hand, when the liquid crystal cell 400 is manufactured in a process in which the glass substrate 10 side is always arranged near the mercury lamp 310 and the monomer is polymerized by irradiating the ultraviolet rays L, the glass substrate 20 side The black resist 82 does not need to suppress the transmission of the ultraviolet light L. In this case, a member having a thickness t5 (for example, a member formed of an insulator) for reducing the thickness of the region R2 may be simply provided instead of the black resist 82.
Further, instead of separately providing a member having a thickness t5, only a portion corresponding to the region R2 of the glass substrate 20 may be formed in a shape protruding by the thickness t5 on the inner surface 21 side.

(ブラックレジストの配置例2)
上述した実施の形態の液晶セル100,400(図2,8参照)は、ブラックレジスト70,81が、シール材30の内側に沿って全周に亘って形成されたものであるが、本発明の高分子液晶表示素子は、この形態に限定されるものではない。
図9は、ガラス基板10の内面11の側の、矩形環状に形成されたシール材30の内側に沿った一部分にだけブラックレジスト70が形成された例を示す、図1相当の平面図であり、(A)はシール材30の矩形環状の四隅に対応する部分の内側に沿ってブラックレジスト70が形成された液晶セル500、(B)はシール材30の2つの辺に対応する部分の内側に沿ってブラックレジスト70が形成された液晶セル600、をそれぞれ示す。
(Black resist arrangement example 2)
In the liquid crystal cells 100 and 400 (see FIGS. 2 and 8) of the above-described embodiment, the black resists 70 and 81 are formed over the entire circumference along the inner side of the sealing material 30. However, the polymer liquid crystal display element is not limited to this form.
FIG. 9 is a plan view corresponding to FIG. 1, showing an example in which the black resist 70 is formed only on a part along the inner side of the rectangular annular seal material 30 on the inner surface 11 side of the glass substrate 10. , (A) is a liquid crystal cell 500 in which a black resist 70 is formed along the inside of the portion corresponding to the four rectangular corners of the sealing material 30, and (B) is the inside of the portion corresponding to the two sides of the sealing material 30. A liquid crystal cell 600 having a black resist 70 formed thereon is shown.

ポリマーネットワーク液晶60には、急冷等の温度変化によって応力が発生するが、その応力は、シール材30の内側に沿った部分のうちでも、特に、輪郭形状が大きく変化する四隅に対応する部分で大きくなる。
液晶セル500は、図9(A)に示すように、この温度変化によって生じる応力が大きくなる、シール材30の四隅に対応する部分の内側に沿ってブラックレジスト70が形成されている。
Stress is generated in the polymer network liquid crystal 60 due to a temperature change such as rapid cooling, and the stress is particularly in the portions along the inner side of the sealing material 30 corresponding to the four corners where the contour shape changes greatly. growing.
In the liquid crystal cell 500, as shown in FIG. 9A, the black resist 70 is formed along the inside of the portions corresponding to the four corners of the sealing material 30 where the stress generated by this temperature change increases.

ブラックレジスト70が形成されている部分は、上述した各実施の形態の液晶セル100,400と同様に、ポリマーネットワーク構造61の密度が粗くなって柔軟性が向上するとともに、厚さが薄くなって収縮する絶対量が低減される。
したがって、本実施の形態の液晶セル500は、シール材30の四隅に対応する部分での応力を吸収するとともに、収縮量を低減することで、急冷等の温度変化によるポリマークラックの発生を防止乃至抑制することができる。
As in the liquid crystal cells 100 and 400 of the above-described embodiments, the portion where the black resist 70 is formed has a higher density of the polymer network structure 61 to improve flexibility and a smaller thickness. The absolute amount of contraction is reduced.
Therefore, the liquid crystal cell 500 of the present embodiment absorbs stress at the portions corresponding to the four corners of the sealing material 30 and reduces the amount of shrinkage, thereby preventing the occurrence of polymer cracks due to temperature changes such as rapid cooling. Can be suppressed.

また、ポリマーネットワーク液晶60は、急冷等の温度変化によって発生した応力が、矩形形状のシール材30の各辺30a,30b,30c,30dの内側に沿った部分で大きくなる。
液晶セル600は、図9(B)に示すように、この温度変化によって生じる応力が大きくなる、矩形形状のシール材30の図示横方向に延びた対向する2つの辺30a,30bに対応する部分の内側に沿ってブラックレジスト70が形成されている。
Further, in the polymer network liquid crystal 60, the stress generated by the temperature change such as rapid cooling becomes large at the portions along the inner sides of the sides 30a, 30b, 30c, 30d of the rectangular sealing material 30.
As shown in FIG. 9B, the liquid crystal cell 600 has a portion corresponding to two opposing sides 30a and 30b extending in the illustrated lateral direction of the rectangular sealing material 30 in which the stress generated by this temperature change increases. A black resist 70 is formed along the inside of the film.

ブラックレジスト70が形成されている部分は、上述した各実施の形態の液晶セル100,400,500と同様に、ポリマーネットワーク構造61の密度が粗くなって柔軟性が向上するとともに、厚さが薄くなって収縮する絶対量が低減される。
したがって、本実施の形態の液晶セル600は、シール材30の対向する2つの辺30a,30bに対応する部分での応力を吸収するとともに、収縮量を低減することで、急冷等の温度変化によるポリマークラックの発生を防止乃至抑制することができる。
As in the liquid crystal cells 100, 400, and 500 of each of the above-described embodiments, the portion where the black resist 70 is formed increases the density of the polymer network structure 61 to improve flexibility and reduce the thickness. The absolute amount of contraction is reduced.
Therefore, the liquid crystal cell 600 according to the present embodiment absorbs stress at the portions corresponding to the two opposing sides 30a and 30b of the sealing material 30 and reduces the amount of shrinkage, thereby causing a temperature change such as rapid cooling. Generation of polymer cracks can be prevented or suppressed.

なお、シール材30の内側に沿ってブラックレジスト70の配置の形態としては、図9(B)に示した図示横方向に延びた対向する2つの辺30a,30bに対応する部分の内側に限らない。例えば、図示縦方向に延びた対向する2つの辺30c,30dに対応する部分の内側、いずれか1つの辺30a(又は、30b,30c,30dのいずれか1つの辺)に対応する部分の内側、いずれかの隣接する2つの辺(縦方向に延びた辺と横方向に延びた辺)30a及び30c(又は、30a及び30d、30b及び30c、30b及び30d)に対応する部分の内側のそれぞれ沿ってブラックレジスト70が形成されてもよい。   The arrangement of the black resist 70 along the inner side of the sealing material 30 is limited to the inner side of the portion corresponding to the two opposing sides 30a and 30b extending in the illustrated horizontal direction shown in FIG. 9B. Absent. For example, inside a portion corresponding to two opposing sides 30c and 30d extending in the vertical direction in the figure, inside a portion corresponding to any one side 30a (or any one side of 30b, 30c, and 30d) , Inside the portion corresponding to any two adjacent sides (longitudinal and lateral sides) 30a and 30c (or 30a and 30d, 30b and 30c, 30b and 30d), respectively A black resist 70 may be formed along.

(ブラックレジストの配置例3)
図10は、シール材30の内側に沿った部分及び閉塞部材35の内側に沿った部分にブラックレジスト70が形成された液晶セル100を示す、図1相当の平面図、図11は、図10におけるXI−XI線に沿った断面を示す断面図である。
上述した実施の形態の液晶セル100の説明では、重合前のモノマー及び液晶材料62を内側領域R0に注入するための注入口に関する説明を省略したが、図10には、その内側領域R0に通じる注入口34を明示している。
(Black resist arrangement example 3)
FIG. 10 is a plan view corresponding to FIG. 1, showing a liquid crystal cell 100 in which a black resist 70 is formed on a portion along the inner side of the sealing material 30 and a portion along the inner side of the closing member 35. FIG. It is sectional drawing which shows the cross section along the XI-XI line.
In the description of the liquid crystal cell 100 of the above-described embodiment, the description regarding the injection port for injecting the monomer before polymerization and the liquid crystal material 62 into the inner region R0 is omitted, but FIG. 10 leads to the inner region R0. The inlet 34 is clearly shown.

この注入口34は、シール材30が形成されていない部分である。そして、モノマー及び液晶材料62が内側領域R0に注入された後に、注入口34は、例えば熱硬化樹脂で形成された閉塞部材35によって塞がれる。注入口34を塞いだ状態の閉塞部材35は、加熱によって硬化し、注入口34に固定される。   The injection port 34 is a portion where the sealing material 30 is not formed. Then, after the monomer and the liquid crystal material 62 are injected into the inner region R0, the injection port 34 is closed by a closing member 35 formed of, for example, a thermosetting resin. The closing member 35 in a state of closing the injection port 34 is cured by heating and fixed to the injection port 34.

ところで、この液晶セル100に紫外線Lが照射されてポリマーネットワーク液晶60が形成されたとき、内側領域R0のうち、図10に示すように、注入口34に相対的に近い領域R4は、注入口34から相対的に遠い領域R3よりも、ガラス基板10,20間の間隔(厳密には、対向電極40と画素電極50との間の距離。以下、同じ。)t1(図2参照)が狭くなる傾向が認められる。
つまり、シール材30にはガラスで形成されたスペーサが配合されていて、両ガラス基板10,20がシール材30で接合されたとき、シール材30が形成されている部分では、両ガラス基板10,20の間は間隔t1に保たれている。
By the way, when the polymer network liquid crystal 60 is formed by irradiating the liquid crystal cell 100 with the ultraviolet rays L, the region R4 relatively close to the injection port 34 in the inner region R0 is shown in FIG. The distance between the glass substrates 10 and 20 (strictly speaking, the distance between the counter electrode 40 and the pixel electrode 50; hereinafter the same) t1 (see FIG. 2) is narrower than the region R3 that is relatively far from 34. The tendency to become is recognized.
That is, a spacer formed of glass is blended in the sealing material 30, and when both the glass substrates 10 and 20 are joined by the sealing material 30, both the glass substrates 10 are formed in a portion where the sealing material 30 is formed. , 20 is maintained at the interval t1.

しかし、注入口34には、シール材30が形成されていないため、温度変化でポリマーネットワーク液晶60が収縮した際に、シール材30のスペーサによる支持が無い注入口34に近い領域R4では、ガラス基板10,20間が間隔t1よりも狭くなる。
なお、注入口34は、閉塞部材35で塞がれるが、この閉塞部材35は樹脂であり、シール材30に配合されたガラスのスペーサに比べて剛性が低いため、閉塞部材35はシール材30に比べて、ガラス基板10,20を支持する強さが弱い。
However, since the sealing material 30 is not formed at the injection port 34, when the polymer network liquid crystal 60 contracts due to a temperature change, in the region R4 close to the injection port 34 that is not supported by the spacer of the sealing material 30, glass is used. The space between the substrates 10 and 20 is narrower than the interval t1.
The injection port 34 is closed by a closing member 35. The closing member 35 is made of resin and has a lower rigidity than the glass spacer blended in the sealing material 30, and therefore the closing member 35 is made of the sealing material 30. Compared to the above, the strength to support the glass substrates 10 and 20 is weak.

また、2枚のガラス基板10,20の間には、ガラス基板10,20がシール材30で接合される前に、ガラス基板10,20間の間隔を間隔t1に維持するために、所定の粒径(間隔t1に一致する直径)を有する絶縁性の球状のスペーサ63(後述する図11参照)が多数配置される。しかし、このスペーサ63は樹脂で形成されているため、シール材30に配合されているガラスのスペーサよりも剛性が低い。
したがって、内側領域R0に配置される樹脂のスペーサ63も、シール材30に比べて、ガラス基板10,20を支持する強さが弱い。
以上の理由により、シール材30のスペーサによる支持が無い注入口34に近い領域R4では、ガラス基板10,20間が間隔t1(図2参照)よりも狭くなる。ガラス基板10,20の間隔に差異があると、そこに注入されているポリマーネットワーク液晶60の厚さに差異が生じ、ポリマーネットワーク液晶60による散乱の度合いが不均一になる。
Further, between the two glass substrates 10 and 20, before the glass substrates 10 and 20 are joined by the sealing material 30, in order to maintain the interval between the glass substrates 10 and 20 at the interval t1, a predetermined value is used. A large number of insulating spherical spacers 63 (see FIG. 11 described later) having a particle diameter (a diameter corresponding to the interval t1) are arranged. However, since the spacer 63 is made of resin, its rigidity is lower than that of the glass spacer blended in the sealing material 30.
Therefore, the resin spacer 63 disposed in the inner region R <b> 0 is also weaker in supporting the glass substrates 10 and 20 than the sealing material 30.
For the above reason, in the region R4 close to the injection port 34 that is not supported by the spacer of the sealing material 30, the space between the glass substrates 10 and 20 is narrower than the interval t1 (see FIG. 2). If there is a difference in the distance between the glass substrates 10 and 20, the thickness of the polymer network liquid crystal 60 injected therein is different, and the degree of scattering by the polymer network liquid crystal 60 becomes non-uniform.

図10に示した液晶セル100は、ガラス基板10の内面11(図11参照)の側で、シール材30の内側に沿った部分だけでなく、閉塞部材35の内側に沿った部分にも、ブラックレジスト70が形成されている。
このとき、内側領域R0では、図11に示すように、ガラス基板10,20をシール材30(図10参照)で接合する以前の段階でガラス基板10,20の間に、樹脂のスペーサ63(直径d=t1(図2参照))が配置される。このスペーサ63は、閉塞部材35の内側に沿った部分に形成されたブラックレジスト70と他方のガラス基板20の内面21との間に挟まる。
The liquid crystal cell 100 shown in FIG. 10 is not only on the inner surface 11 (see FIG. 11) side of the glass substrate 10, but also on the inner side of the sealing member 30 as well as on the inner side of the closing member 35. A black resist 70 is formed.
At this time, in the inner region R0, as shown in FIG. 11, the resin spacer 63 (between the glass substrates 10 and 20 before the glass substrates 10 and 20 are bonded with the sealing material 30 (see FIG. 10). A diameter d = t1 (see FIG. 2)) is arranged. The spacer 63 is sandwiched between the black resist 70 formed in a portion along the inner side of the closing member 35 and the inner surface 21 of the other glass substrate 20.

ガラス基板10,20間は、樹脂のスペーサ63によって間隔t1に維持されているが、閉塞部材35の内側に沿った部分では、樹脂のスペーサ63の直径d(=t1)に、ブラックレジスト70の厚さt2が加算されて、間隔t1よりも大きくなる。しかし、ガラス基板10,20がシール材30で接合される際には、両ガラス基板10,20が平行になるように加圧される。これにより、ブラックレジスト70と他方のガラス基板20の内面21との間に挟まれた、樹脂のスペーサ63は、つぶれるように変形する。この結果、閉塞部材35の内側に沿った部分は、両ガラス基板10,20間は間隔t1に維持される。   The space between the glass substrates 10 and 20 is maintained at the interval t1 by the resin spacer 63. However, in the portion along the inner side of the closing member 35, the diameter d of the resin spacer 63 is set to the diameter d (= t1) of the black resist 70. The thickness t2 is added and becomes larger than the interval t1. However, when the glass substrates 10 and 20 are joined by the sealing material 30, the glass substrates 10 and 20 are pressurized so as to be parallel. Thereby, the resin spacer 63 sandwiched between the black resist 70 and the inner surface 21 of the other glass substrate 20 is deformed so as to be crushed. As a result, the portion along the inner side of the closing member 35 is maintained at the interval t1 between the glass substrates 10 and 20.

このように閉塞部材35の内側に沿った部分で、ブラックレジスト70と他方のガラス基板20の内面21との間に樹脂のスペーサ63が挟まれた状態の液晶セル100に、急冷等の温度変化が作用する。このとき、閉塞部材35の内側に沿った部分は、シール材30による支持の代わりに、変形した樹脂のスペーサ63に作用している、つぶれの変形を元の状態に戻そうとする反力を受ける。
このため、内側領域R0のうち、注入口34に相対的に近い領域R4におけるガラス基板10,20間の間隔が、注入口34から相対的に遠い領域R3におけるガラス基板10,20間の間隔よりも狭くなる傾向が抑制される。これにより、ガラス基板10,20間に注入されているポリマーネットワーク液晶60の厚さの不均一が抑制され、ポリマーネットワーク液晶60による散乱の度合いの均一性が向上する。
以上、説明した実施の形態は本発明の一例にすぎず、本発明はこれらの実施の形態に限定されるものではない。
Thus, in the portion along the inner side of the closing member 35, the liquid crystal cell 100 with the resin spacer 63 sandwiched between the black resist 70 and the inner surface 21 of the other glass substrate 20 is subjected to a temperature change such as rapid cooling. Works. At this time, the portion along the inner side of the closing member 35 has a reaction force acting on the deformed resin spacer 63 instead of being supported by the sealing material 30 to return the deformation to the original state. receive.
For this reason, in the inner region R0, the distance between the glass substrates 10 and 20 in the region R4 relatively close to the injection port 34 is larger than the interval between the glass substrates 10 and 20 in the region R3 relatively far from the injection port 34. The tendency to become narrower is also suppressed. Thereby, the nonuniformity of the thickness of the polymer network liquid crystal 60 injected between the glass substrates 10 and 20 is suppressed, and the uniformity of the degree of scattering by the polymer network liquid crystal 60 is improved.
The embodiments described above are merely examples of the present invention, and the present invention is not limited to these embodiments.

10,20…ガラス基板(基板の一例)、11…内面、30…シール材、60…ポリマーネットワーク液晶、61…ポリマーネットワーク構造、62…液晶材料、70…ブラックレジスト(遮光部の一例、重合抑制部の一例)、100…液晶セル(高分子液晶表示素子の一例)、t1…間隔、t2…厚さ、R0…内側領域、R1,R2…領域 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10,20 ... Glass substrate (an example of board | substrate), 11 ... Inner surface, 30 ... Sealing material, 60 ... Polymer network liquid crystal, 61 ... Polymer network structure, 62 ... Liquid crystal material, 70 ... Black resist (An example of a light-shielding part, superposition | polymerization suppression) Part), 100 ... liquid crystal cell (an example of polymer liquid crystal display element), t1 ... interval, t2 ... thickness, R0 ... inner region, R1, R2 ... region

Claims (8)

シール材により、所定の間隔を以て接合された2枚の基板と、
2枚の前記基板の間の、前記シール材で囲まれた内側領域に形成された、ポリマーネットワーク構造に液晶が分散したポリマーネットワーク液晶と、
前記内側領域に通じる注入口を塞ぐ閉塞部材と、
2枚の前記基板の少なくとも一方の基板の内面の側であって、前記シール材に沿って設けられた遮光部と、を備え、
前記遮光部は前記閉塞部材の内側に沿って形成されており、
前記遮光部に対応する領域における前記ポリマーネットワーク液晶の厚さが、前記遮光部に対応する領域を除いた他の領域における前記ポリマーネットワーク液晶の厚さよりも薄く、
前記遮光部は、前記ポリマーネットワーク液晶に露出していることを特徴とする高分子液晶表示素子。
Two substrates bonded at a predetermined interval by a sealing material;
A polymer network liquid crystal in which a liquid crystal is dispersed in a polymer network structure formed in an inner region surrounded by the sealing material between the two substrates;
A blocking member that blocks the inlet leading to the inner region;
A light-shielding portion provided on the inner surface side of at least one of the two substrates and along the sealing material,
The light shielding portion is formed along the inside of the closing member ;
The thickness of the polymer network liquid crystal in the region corresponding to the light shielding portion is thinner than the thickness of the polymer network liquid crystal in the other region excluding the region corresponding to the light shielding portion,
The polymer liquid crystal display element , wherein the light shielding portion is exposed to the polymer network liquid crystal .
前記遮光部は、可視光及び紫外線のうち少なくとも一方の透過を遮断又は抑制する請求項1に記載の高分子液晶表示素子。   The polymer liquid crystal display element according to claim 1, wherein the light shielding portion blocks or suppresses transmission of at least one of visible light and ultraviolet light. シール材により、所定の間隔を以て接合された2枚の基板と、
2枚の前記基板の間の、前記シール材で囲まれた内側領域に形成された、ポリマーネットワーク構造に液晶が分散したポリマーネットワーク液晶と、
2枚の前記基板のうち少なくとも一方の基板の内面の側で、前記シール材の内側に沿った少なくとも一部に、前記ポリマーネットワーク構造を形成するために照射される電磁波の透過を抑制し、厚さを有して形成された重合抑制部とを備え、
前記シール材は、矩形環状に形成され、
前記重合抑制部は、可視光に対して遮光性を有し、前記矩形環状の全周に亘って形成され、
前記ポリマーネットワーク液晶のうち、前記重合抑制部に対応する領域に形成されたポリマーネットワーク液晶は、当該重合抑制部に対応する領域を除いた他の領域に形成されたポリマーネットワーク液晶よりも、前記ポリマーネットワーク構造の密度が粗く形成されており、
前記重合抑制部に対応する領域における前記ポリマーネットワーク液晶の厚さが、前記重合抑制部に対応する領域を除いた他の領域の前記ポリマーネットワーク液晶の厚さよりも薄く、
前記重合抑制部は、前記ポリマーネットワーク液晶に露出していることを特徴とする高分子液晶表示素子。
Two substrates bonded at a predetermined interval by a sealing material;
A polymer network liquid crystal in which a liquid crystal is dispersed in a polymer network structure formed in an inner region surrounded by the sealing material between the two substrates;
On the inner surface side of at least one of the two substrates, the transmission of electromagnetic waves irradiated to form the polymer network structure on at least a part along the inner side of the sealing material is suppressed, and the thickness A polymerization inhibitor formed with a thickness,
The sealing material is formed in a rectangular ring shape,
The polymerization inhibitor has a light shielding property with respect to visible light, and is formed over the entire circumference of the rectangular ring,
Among the polymer network liquid crystals, the polymer network liquid crystal formed in a region corresponding to the polymerization suppression unit is more polymerized than the polymer network liquid crystal formed in other regions excluding the region corresponding to the polymerization suppression unit. The network structure is densely formed ,
The thickness of the polymer network liquid crystal in the region corresponding to the polymerization suppression portion is thinner than the thickness of the polymer network liquid crystal in other regions excluding the region corresponding to the polymerization suppression portion,
The polymer liquid crystal display element , wherein the polymerization inhibitor is exposed to the polymer network liquid crystal .
前記遮光部は、見切り枠の機能を兼ねることを特徴とする請求項1または2に記載の高分子液晶表示素子。The polymer liquid crystal display element according to claim 1, wherein the light-shielding portion also functions as a parting frame. 前記重合抑制部は、見切り枠の機能を兼ねることを特徴とする請求項3に記載の高分子液晶表示素子。The polymer liquid crystal display element according to claim 3, wherein the polymerization suppression unit also functions as a parting frame. 前記内側領域には、スペーサが多数配置されていることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか一項記載の高分子液晶表示素子。6. The polymer liquid crystal display device according to claim 1, wherein a plurality of spacers are arranged in the inner region. 2枚の基板を、シール材により、所定の間隔を以て接合し、
2枚の前記基板の間の、前記シール材で囲まれた内側領域に、ポリマーネットワーク構造を形成する高分子材料及び液晶材料を注入し、
前記高分子材料を重合させる電磁波を照射する高分子液晶表示素子の製造方法において、
2枚の前記基板の接合に先立って、2枚の当該基板のうち少なくとも一方の基板の内面の側で、前記シール材で接合される部分の内側に沿った少なくとも一部に、前記電磁波の透過を抑制する重合抑制部を厚さを有して形成し、
前記電磁波の照射を、前記重合抑制部が形成された基板の側から行い、
前記内側領域に前記高分子材料及び液晶材料を注入する注入口が形成され、
前記注入口から前記内側領域に、前記高分子材料及び液晶材料を注入した後、前記注入口を閉塞部材で塞ぐ場合、
前記重合抑制部を、前記基板の内面側で、前記閉塞部材が配置される部分の内側に沿った部分に形成し、
前記重合抑制部に対応する領域における前記ポリマーネットワーク液晶の厚さが、前記重合抑制部に対応する領域を除いた他の領域の前記ポリマーネットワーク液晶の厚さよりも薄く、
前記重合抑制部は、前記ポリマーネットワーク液晶に露出していることを特徴とする高分子液晶表示素子の製造方法。
Two substrates are bonded with a sealant at a predetermined interval,
Injecting a polymer material and a liquid crystal material forming a polymer network structure into an inner region surrounded by the sealing material between the two substrates,
In the method for producing a polymer liquid crystal display element that irradiates an electromagnetic wave for polymerizing the polymer material,
Prior to the bonding of the two substrates, the electromagnetic wave is transmitted to at least part of the inner surface of at least one of the two substrates along the inside of the portion to be bonded by the sealing material. Forming a polymerization inhibiting part having a thickness,
Irradiation of the electromagnetic wave is performed from the side of the substrate on which the polymerization inhibitor is formed,
An inlet for injecting the polymer material and the liquid crystal material is formed in the inner region,
When the polymer material and the liquid crystal material are injected from the inlet into the inner region, and then the inlet is closed with a closing member,
Forming the polymerization suppression portion on the inner surface side of the substrate along the inner side of the portion where the blocking member is disposed ;
The thickness of the polymer network liquid crystal in the region corresponding to the polymerization suppression portion is thinner than the thickness of the polymer network liquid crystal in other regions excluding the region corresponding to the polymerization suppression portion,
The polymerization suppression unit, method for producing a polymer liquid crystal display element characterized that you have exposed to the polymer network liquid crystal.
前記重合抑制部は、可視光に対して遮光性を有する請求項に記載の高分子液晶表示素子の製造方法。 The method for producing a polymer liquid crystal display element according to claim 7 , wherein the polymerization inhibitor has a light shielding property against visible light.
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