JP6410117B2 - 水晶振動片の製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、水晶振動片の製造方法に関する。

ウェットエッチングにより形成される水晶振動片として、たとえば、特許文献１にあげるようなメサ型や逆メサ型の水晶振動片が知られている。

特開２０１１−６６９０５号公報

このようなメサ型や逆メサ型の水晶振動片においては、その段差はウェットエッチングにより形成され、その側壁は自然結晶面となる。自然結晶面は、水晶特有のエッチング異方性により、配置場所や角度が決まっているため、形成される場所によって側壁の傾斜角度が異なり、水晶振動片の等方性がくずれてしまう場合がある。これにより、励振電極を起点とした振動の等方性がくずれ、振動特性を低下させてしまう問題があった。

本発明はかかる事情に考慮してなされたものであり、その目的は、形成されている面の傾斜角度が略等しく、等方性を有することにより、優れた振動特性を有する水晶振動片の製造方法を得ることである。

本発明の水晶振動片の製造方法の一つの態様は、ＡＴカットにより形成される水晶振動板を備える水晶振動片の製造方法であって、ＡＴカットされたウエハを準備する工程と、前記ウエハの表面をドライエッチング加工するドライエッチング工程と、前記ドライエッチング工程の後に、前記ウエハの表面にエッチング保護膜とフォトレジスト膜とを成膜する成膜工程と、前記フォトレジスト膜をパターニングするパターニング工程と、パターニングされた前記フォトレジスト膜を用いて前記エッチング保護膜をエッチングするエッチング工程と、エッチングされた前記エッチング保護膜をマスクとしてウェットエッチングによって前記ウエハをエッチングし、前記ウエハに対して斜面を形成する斜面エッチング工程と、前記ウエハを個片化して前記水晶振動板を形成する個片化工程と、を有し、前記水晶振動板は、基面と、前記基面に設けられた凸部および凹部のうち一方と、を有し、前記斜面は、前記凸部および前記凹部のうち一方の側面であり、前記凸部および前記凹部のうち一方は、前記斜面を介して前記基面と接続される主面を有する。
本発明の水晶振動片の製造方法の一つの態様は、ＡＴカットにより形成される水晶振動片の製造方法であって、ＡＴカットされたウエハを準備する工程と、前記ウエハの表面をドライエッチング加工するドライエッチング工程と、前記ドライエッチング工程の後に、前記ウエハの表面にエッチング保護膜とフォトレジスト膜とを成膜する成膜工程と、前記フォトレジスト膜をパターニングするパターニング工程と、パターニングされた前記フォトレジスト膜を用いて前記エッチング保護膜をエッチングするエッチング工程と、エッチングされた前記エッチング保護膜をマスクとしてウェットエッチングによって前記ウエハをエッチングし、前記ウエハに対して斜面を形成する斜面エッチング工程と、前記ウエハを個片化して水晶振動片を形成する個片化工程と、を有する。
前記ウエハの主面に対する前記斜面の傾斜角度は、自然結晶面と前記主面とが成す角度よりも小さい製造方法としてもよい。
前記斜面エッチング工程では、前記ウエハにおいて前記マスクから露出している領域と、前記マスクの下側の領域の一部がエッチングされることで、前記マスクの下側を含む領域に前記斜面が形成される製造方法としてもよい。
前記水晶振動片は平面視が矩形状に形成されており、水晶結晶の結晶軸におけるＺ’軸方向が長辺方向となるように形成されている製造方法としてもよい。
本発明の水晶振動片は、ＡＴカットにより形成される水晶振動片において、中央に励振電極が形成されている主面と、前記主面に接続され、前記主面における所定方向の中心に対して対称に設けられた、少なくとも一組の斜面と、を備え、前記一組の斜面は、前記主面に対する傾斜角度が略等しいことを特徴とする。

この構成によれば、励振電極が設けられた主面の中心に対して、対称に設けられている少なくとも一組の斜面が、それぞれ略等しい角度で傾斜している。そのため、励振電極を起点とした、振動の等方性が得られ、振動特性に優れた水晶振動片が得られる。

また、振動の等方性が得られることにより、厚みすべり主振動と、厚み副振動との周波数差を大きくでき、厚み副振動の振動強度も下げることができる。したがって、安定した振動が得られる。

前記傾斜角度は、自然結晶面と前記主面とが成す角度よりも小さくてもよい。
この構成によれば、主面と斜面との境界部において振動が発振することを抑制でき、かつ端部に伝わる振動を減衰できる。したがって、振動エネルギーの閉じ込め精度に優れた水晶振動片が得られる。

前記主面と、前記斜面と、を備える中央部と、前記中央部の厚みと異なる厚みで形成される周辺部と、を備え、前記斜面は、前記周辺部の表面と前記主面とを接続してもよい。
この構成によれば、メサ型または逆メサ型の振動特性に優れた水晶振動片が得られる。

前記傾斜角度は、２０°以下であってもよい。
この構成によれば、振動エネルギーの閉じ込め精度に優れた水晶振動片が得られる。

本発明の水晶振動子は、本発明の水晶振動片を備える。
この構成によれば、前述した水晶振動片を備えるため、同様に振動特性の優れた水晶振動子が得られる。

本発明によれば、形成されている面の傾斜角度が略等しく、等方性を有することにより、優れた振動特性を有する水晶振動片の製造方法が得られる。

水晶振動子の実施形態を示す分解斜視図である。 水晶板の切断角度および水晶結晶の座標軸を説明するためのランバード原石の斜視図である。 第１実施形態を示す図であって、（ａ）は正面図、（ｂ）は平面図、（ｃ）は側面図である。 第１実施形態の水晶振動片の製造工程の一部を示すフローチャートである。 第１実施形態の水晶振動片の製造工程の手順を示す断面図および平面図である。 第２実施形態を示す図であって、（ａ）は正面図、（ｂ）は平面図、（ｃ）は側面図である。 第３実施形態を示す図であって、（ａ）は正面図、（ｂ）は平面図、（ｃ）は側面図である。 第４実施形態を示す図であって、（ａ）は正面図、（ｂ）は平面図、（ｃ）は側面図である。

以下、図面を参照しながら、本発明の実施形態に係る水晶振動片、水晶振動片の製造方法および水晶振動子について説明する。
なお、本発明の範囲は、以下の実施の形態に限定されるものではなく、本発明の技術的思想の範囲内で任意に変更可能である。また、以下の図面においては、各構成をわかりやすくするために、実際の構造と各構造における縮尺や数等を異ならせる場合がある。

［第１実施形態］
図１は、本実施形態の水晶振動子を示す、分解斜視図である。
本実施形態の水晶振動子１は、図１に示すように、ベース基板２とリッド基板３とで２層に積層された箱状に形成されており、内部のキャビティＣ内に水晶振動片４がマウントされている。
水晶振動片４は、水晶振動板１０と、水晶振動板１０上にそれぞれ形成された一対の電極膜２０と、を備えている。

水晶振動板１０は、図２に示すように、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸で水晶結晶の座標軸が定義された水晶のランバード原石６をＡＴカット（表裏主面がＸ軸回りにＺ軸から半時計方向に約３５度１５分の角度となるようにカット）されることで得られた水晶板７を、その後、ウェットエッチング加工によって平面視矩形状に形成されたものである。
なお、図２は、水晶板７の切断角度及び水晶結晶の座標軸を説明するためのランバード原石６の斜視図である。また、本実施形態においてＺ’軸とは、図１に示すように、水晶振動板１０の表裏主面上においてＸ軸と直交する方向の結晶軸であり、Ｙ’軸とはＸ軸およびＺ’軸に対して直交する結晶軸をいう。

図３は、水晶振動片４を示す図であって、図３（ａ）は正面図、図３（ｂ）は平面図、図３（ｃ）は側面図である。
水晶振動板１０は、図３に示すように、中央部３０と、周辺部３１と、を備えている。
周辺部３１は、直方体であり、中央部３０の長辺方向（Ｘ軸方向）両端に設けられている。

中央部３０は、基部３０ａと、凸部３０ｂと、を備えている。
基部３０ａは、直方体である。
凸部３０ｂは、側面視台形の四角柱形状である。凸部３０ｂは、台形の短辺側が上側（＋Ｙ’方向側）となるようにして、基部３０ａ上に設けられている。凸部３０ｂは、表主面１０ａと、表主面１０ａにおける水晶振動板１０の長辺方向（Ｘ軸方向）の両端に、水晶振動板１０の短辺方向（Ｚ’軸方向）に沿って、斜面１１ａ，１１ｂが形成されている。斜面１１ａは、表主面１０ａの＋Ｘ方向側の短辺の全長に亘って、表主面１０ａに対して角度θ１で傾斜している。斜面１１ｂは、表主面１０ａの−Ｘ方向側の短辺の全長に亘って、表主面１０ａに対して角度θ２で傾斜している。

水晶振動片４の斜面１１ａ，１１ｂの角度θ１，θ２は、略等しい角度となっており、自然結晶面と水晶振動片の主面とが形成する角度の値よりも小さい。角度θ１，θ２としては、たとえば、２０°以下である。

一対の電極膜２０は、図１および図３に示すように、それぞれ励振電極２１と、引出電極２２と、マウント電極２３と、を備えている。
励振電極２１は、水晶振動板１０の表裏主面１０ａ，１０ｂの略中央部分にそれぞれ形成され、水晶振動板１０を挟んで向かい合うように形成されている。一方側（−Ｘ方向側）の周辺部３１における、水晶振動板１０の短辺方向（Ｚ’軸方向）の両端部には、マウント電極２３がそれぞれ設けられている。マウント電極２３は、周辺部３１における表主面１０ａ側の表面１２ａから、側面を介して、裏主面１０ｂ側の表面に亘って形成されている。

また、マウント電極２３のうち、一方のマウント電極２３は引出電極２２を介して表主面１０ａ上に形成された一方の励振電極２１に電気的に接続され、他方のマウント電極２３は引出電極２２を介して裏側の裏主面１０ｂ上に形成された他方の励振電極２１に電気的に接続されている。
なお、上述した励振電極２１、引出電極２２およびマウント電極２３からなる電極膜２０は、金等の単層膜や、クロム等の金属を下地層とした上に金等の金属層を積層した積層膜で形成されている。

このように構成された水晶振動片４は、バンプや導電性接着剤等の実装部材を利用して、図１に示すようにベース基板２の上面２ａにマウントされる。より具体的には、ベース基板２の上面２ａに形成されたインナー電極３００に対して、水晶振動板１０の裏主面１０ｂに形成された一対のマウント電極２３が実装部材を介してそれぞれ接触した状態でマウントされる。
これにより、水晶振動片４は、ベース基板２の上面２ａに機械的に保持されると共に、インナー電極３００とマウント電極２３とがそれぞれ導通された状態となっている。

次に、図４および図５を参照して、水晶振動片４の斜面の製造方法について説明する。
図４は、水晶振動片４の製造工程における、斜面１１ａ，１１ｂの形成工程を示したフローチャートである。
図５は、水晶振動片４の製造工程における、斜面１１ａ，１１ｂの形成手順について示した断面図および平面図である。

本実施形態の水晶振動片の製造方法における、斜面１１ａ，１１ｂの形成工程は、図４に示すように、ウエハ準備工程Ｓ１と、凹部形成工程Ｓ２と、を有する。
まず、図４に示すように、水晶のランバート原石をＡＴカットして一定の厚みとしたウエハをラッピングして粗加工した後、加工変質層をエッチングで取り除き、この後、ポリッシュなどの鏡面研磨加工を行なって所定の厚みのウエハＳ（図５（ａ）参照）を準備する（Ｓ１）。

凹部形成工程Ｓ２は、ウエハＳの表面に後述する凹部４２を形成する工程である。

まず、図５（ａ）に示すように、ウエハＳの表面をドライエッチング加工する（Ｓ２ａ）。
ドライエッチングとしては、ウエハＳの表面を、後述するウエハＳを斜面エッチング加工する工程Ｓ２ｆにおいて、斜面１１ａが形成できる範囲内において、特に限定されない。たとえば、リアクティブイオンエッチング（ＲＩＥ）や、逆スパッタ等を選択できる。
この工程により、ウエハＳの表面が平坦化される。

次に、図５（ｂ）に示すように、ウエハＳの両面にエッチング保護膜４０とフォトレジスト膜４１とをそれぞれ成膜する（Ｓ２ｂ）。
エッチング保護膜４０は、たとえば、クロム（Ｃｒ）を数１０ｎｍ成膜したエッチング保護膜と、金（Ａｕ）を数１０ｎｍ成膜したエッチング保護膜とが、順次積層された積層膜である。

この工程Ｓ２ｂにおいては、まず、ウエハＳの表裏主面に、順次、エッチング保護膜４０を、それぞれスパッタリング法や蒸着法などにより成膜する。
次いで、エッチング保護膜４０上に、スピンコート法などによりレジスト材料を塗布して、フォトレジスト膜４１を形成する。
なお、本実施形態で用いるレジスト材料としては、環化ゴム（たとえば、環化イソプレン）を主体にしたゴム系ネガレジストが好適に用いられている。ゴム系ネガレジストは、環化ゴムを有機溶剤に溶解し、さらにビスアジド感光剤を加えて、ろ過し、不純物を除去することで精製されたものである。

次に、エッチング保護膜４０およびフォトレジスト膜４１が成膜されたウエハＳの一方側（＋Ｙ’方向側）の面を、外形パターンが形成されたフォトマスクを用いて一括で露光し、現像する。
これにより、図５（ｃ）に示すように、フォトレジスト膜４１の一方側に外形パターン４１ａを形成する（Ｓ２ｃ）。
外形パターン４１ａは、水晶振動板１０の外形に沿った形状である。

次に、外形パターン４１ａが形成されたフォトレジスト膜４１をマスクとしてエッチング加工を行ない、マスクされていないエッチング保護膜４０を選択的に除去する（Ｓ２ｄ）。
次に、エッチング加工後にフォトレジスト膜４１を剥離する（Ｓ２ｅ）。
これらにより、図５（ｄ）に示すように、エッチング保護膜４０の一方側に外形パターン４０ａを形成する。

なお、エッチング加工には、エッチング保護膜４０とフォトレジスト膜４１が形成されたウエハＳを、薬液に浸漬して行うウェットエッチング方式を用いることができる。
具体的には、たとえば、エッチング保護膜４０が、金（Ａｕ）からなる場合には、薬液としてヨウ素を用いてエッチングすることができる。
なお、このパターニングは、複数の水晶振動板１０の数だけ、一括して行なう。

次に、エッチング保護膜４０の外形パターン４０ａをマスクとして、マスクされていないウエハＳを選択的に斜面エッチング加工する（Ｓ２ｆ）。
これにより、図５（ｅ）に示すように、マスクされていないウエハＳの露出面から、マスクの下側の部分もエッチングされ、ウエハＳの主面に対して緩やかな角度で交差する斜面１１ａ，１１ｂを側面として有する凹部４２が形成される。

ここで、通常、水晶のエッチングでは、水晶特有のエッチング異方性によって、特定の角度を有する自然結晶面が現れる。またマスクされていない露出面から、マスクの下側（内側）にエッチングが進行することはほとんどみられない。
これに対して、本実施形態では、斜面エッチングを行う前に、ウエハＳの表面をドライエッチング加工（Ｓ１）しているため、エッチングがマスクの下側にまで進行し、自然結晶面の角度に依存しない緩やかな角度を有する斜面を形成できる。

次に、図５（ｆ）に示すように、エッチング保護膜４０を除去するエッチング加工を行なう（Ｓ２ｇ）。
以上の工程により、凹部形成工程Ｓ２が終了し、凹部４２が形成されたウエハＳが得られる。

以上のＳ１およびＳ２の工程により、斜面１１ａ，１１ｂが形成される。この後、斜面１１ａ、１１ｂが形成されたウエハＳを、個片化することにより、水晶振動板１０が得られる。

本実施形態の水晶振動片によれば、斜面１１ａの表主面１０ａに対する傾斜角度θ１と、斜面１１ｂの表主面１０ａに対する傾斜角度θ２と、の角度が略等しく、水晶振動板１０は、励振電極２１が形成されている表裏主面１０ａ，１０ｂの中心を通るＸ軸、Ｙ’軸、Ｚ’軸に対してそれぞれ線対称に構成されている。そのため、励振電極２１を起点とした、振動の等方性が得られ、振動特性に優れた水晶振動片が得られる。

また、振動の等方性が得られることにより、厚みすべり主振動と、厚み副振動との周波数差を大きくでき、厚み副振動の振動強度も下げることができる。したがって、安定した振動が得られる。

また、水晶振動片においては、厚み滑り振動の他、屈曲振動、輪郭すべり振動等の振動モードがあることが知られている。これらの厚み滑り振動以外の振動（以下、不要振動という）の影響が大きいと、アクティビティディップが発生し、水晶振動片の振動特性が不安定になる。

厚み滑り振動が水晶振動片の厚さに依存するのに対して、不要振動の多くは水晶振動片の長さに依存するため、不要振動は水晶振動片の端部において発生しやすい。そのため、水晶振動片の中央部から端部に向けて水晶振動片の厚さを薄くし、端部での振動を減衰させることで、不要振動を抑制できる。水晶振動片の中央部から端部に向けて水晶振動片の厚さを薄くする方法としては、水晶振動片の端部に斜面を設ける方法があるが、従来の水晶振動片では、端部に設けられる斜面が水晶片の自然結晶面であったため、主面に対する角度が大きく、水晶振動片の端部ではなく、斜面と主面とが交差する位置において不要振動が発生してしまうという問題があった。

これに対して、本実施形態の水晶振動片４によれば、斜面１１ａ，１１ｂの角度θ１，θ２が十分に緩やかに形成されているため（たとえば、２０°以下）、斜面１１ａ，１１ｂと表主面１０ａとが交差する位置において振動伝達が阻害されず、斜面と主面とが交差する位置における不要振動の発生を抑制できる。また、端部においては、振動は十分に減衰されているため、不要振動による影響を抑制できる。その結果、水晶振動片の振動特性を安定させることができる。

また、本実施形態のようなメサ型の水晶振動片では、励振電極が凸部上の主面に形成され、マウント電極が周辺部の表面に形成される。そのため、励振電極とマウント電極を接続する引き出し電極は、主面と周辺部の表面とを接続する斜面に形成されることになる。これらの電極はスパッタ法等によって成膜されるが、主面に対する斜面の傾斜角度が大きいと（たとえば、９０°）、主面と周辺部の表面とに対向する側からスパッタ粒子を付着させた場合に、斜面に付着するスパッタ粒子が少なく、十分な厚みの電極膜を形成することが困難となる。これにより、引き出し電極の抵抗値が高くなり、水晶振動片の抵抗値が高くなってしまうおそれがあった。

これに対して、本実施形態の水晶振動片４によれば、斜面１１ｂは、自然結晶面に比べて、表主面１０ａに対する傾斜角度が緩やかである。そのため、表主面１０ａと、周辺部３１の表主面１０ａ側の表面と、に対向するようにしてスパッタ粒子を付着させた場合でも、斜面１１ｂ上に引出電極２２を十分な厚みで形成することが容易である。したがって、スパッタ法による電極膜の成膜法を採用できる。これにより、抵抗値が低く抑えられた水晶振動片が得られる。

また、上述の製造方法で作製された水晶振動片４における斜面は、従来の機械加工で作製されるような曲面状に形成されず、平坦度の高い平坦面として形成される。また、従来の機械加工では斜面と主面との接続部が曲面状に連続的に形成されてしまうが、上述の製造方法で作製された水晶振動片４においては、斜面と主面との接続部が明確に分離されるようになる。これは、平坦度の高い斜面と同じく平坦度の高い主面とが接続されることで、斯かる接続部がその断面から見て角をもつ形状として形成されることによる。よって、主面の全面の平坦度が確保され、主面の表裏面の平行度が増すため、水晶振動子としての所望のＱ値を確保できるようになる。

［第２実施形態］
次に、基部３０ａの厚さ方向（Ｙ軸方向）両側に凸部３０ｂが設けられた水晶振動片である、第２実施形態について説明する。
図６は、本実施形態の水晶振動片５を示す図であって、図６（ａ）は正面図、図６（ｂ）は平面図、図６（ｃ）は側面図である。
水晶振動片５は、図６に示すように、水晶振動板１０Ａと、水晶振動板１０Ａ上に形成された一対の電極膜２０と、を備えている。

水晶振動板１０Ａは、中央部３０Ａと、周辺部３１と、を備える。
中央部３０Ａは、基部３０ａと、２つの凸部３０ｂと、を備える。＋Ｙ方向側に設けられた凸部３０ｂの面は表主面１０ａであり、−Ｙ軸方向側に設けられた凸部３０ｂの面は裏主面１０ｂである。表裏主面１０ａ，１０ｂの水晶振動板１０Ａの＋Ｘ方向側には、それぞれ表裏主面１０ａ，１０ｂに対して角度θ１で傾斜する斜面１１ａが設けられており、−Ｘ方向側には、それぞれ表裏主面１０ａ，１０ｂに対して角度θ２で傾斜する斜面１１ｂが設けられている。角度θ１と角度θ２とは、略等しく、自然結晶面と表裏主面１０ａ，１０ｂとの成す角度よりも緩やかな角度である。

本実施形態のように、両面側に凸部が設けられているようなメサ型の水晶振動片では、両面に設けられている斜面の傾斜角度が異なり、そのうちに傾斜角度が大きい（たとえば、９０°）斜面が含まれる場合、このような斜面には、前述したように、引き出し電極の形成が困難であるため、マウント電極の形成位置が制限されてしまう場合がある。

これに対して、本実施形態によれば、両面に設けられている斜面１１ａ，１１ｂの角度θ１，θ２は、すべて緩やかな傾斜であるため、マウント電極の形成位置が制限されることを抑制できる。

［第３実施形態］
次に、凸部が両面側に設けられ、凸部の周囲４辺に斜面が設けられている、第３実施形態について説明する。
図７は、第３実施形態の水晶振動片１２０を示した図であって、図７（ａ）は正面図、図７（ｂ）は平面図、図７（ｃ）は側面図である。
水晶振動片１２０は、図７に示すように、水晶振動板１２１と、水晶振動板１２１の表裏主面上にそれぞれ形成された一対の電極膜２０と、を備えている。

水晶振動板１２１は、直方体２００ａと、直方体２００ａの基面１２４ａ，１２４ｂの中央にそれぞれ設けられている四角錐台状の凸部２００ｂと、で構成されている。
直方体２００ａの側面１２２ｂ，１２３ｂは、基面１２４ａ，１２４ｂに対して略垂直に設けられている。
凸部２００ｂは、面積の大きい側の面が、直方体２００ａの基面１２４ａ，１２４ｂとそれぞれ当接するようにして設けられており、反対側の面は、それぞれ水晶振動片１２０の表裏主面１２１ａ，１２１ｂとなっている。表裏主面１２１ａ，１２１ｂ上には励振電極２１が設けられており、表裏主面１２１ａ，１２１ｂは、直方体２００ａの基面１２４ａ，１２４ｂと平行である。

凸部２００ｂにおける、短辺方向（Ｚ’軸方向）に沿った斜面１２２ａおよび長辺方向（Ｘ軸方向）に沿った斜面１２３ａは、それぞれ表裏主面１２１ａ，１２１ｂに対する角度が、自然結晶面よりも緩やかで、かつ略等しい角度で形成されている。

なお、本実施形態において、中央部３２は、凸部２００ｂと、直方体２００ａにおける、凸部２００ｂで挟まれた部分と、で構成され、周辺部３３は、中央部における直方体２００ａの部分を除いた、直方体２００ａの残りの部分で構成されている。

［第４実施形態］
次に、逆メサ型の水晶振動片である、第４実施形態について説明する。
図８は、第４実施形態の水晶振動片１３０を示した図であって、図８（ａ）は正面図、図８（ｂ）は平面図、図８（ｃ）は側面図である。
水晶振動片１３０は、図８に示すように、水晶振動板１３１と、水晶振動板１３１の表裏主面上にそれぞれ形成された一対の電極膜２０と、を備えている。

水晶振動板１３１は、直方体であり、基面１３４ａ，１３４ｂの中央部には、それぞれ凹部２１０が形成されている。水晶振動板１３１の側面１３２ｂ，１３３ｂは、基面１３４ａ，１３４ｂに対して略垂直に設けられている。
凹部２１０は、側面が斜面となるように形成されている。凹部２１０の底面は、励振電極２１が形成された表裏主面１３１ａ，１３１ｂであり、水晶振動板１３１の基面１３４ａ，１３４ｂと平行に形成されている。凹部２１０の長辺方向（Ｘ軸方向）に沿った側面である斜面１３３ａおよび短辺方向（Ｚ’軸方向）に沿った側面である斜面１３２ａは、それぞれ表裏主面１３１ａ，１３１ｂに対する角度が、自然結晶面よりも緩やかで、かつ略等しい角度で形成されている。

なお、本実施形態において、中央部３４は、凹部２１０が形成され、凹部２１０によって挟まれている、直方体２００ａの部分で構成され、周辺部３５は、中央部における直方体２００ａの部分を除いた、直方体２００ａの残りの部分で構成されている。

なお、上記に説明した実施形態において、斜面の傾斜角度が略等しい、とは斜面同士の傾斜角度の差異が１０°以内である場合までを含むものとする。

なお、上記に示した実施形態は、メサ型および逆メサ型の水晶振動片であるが、これに限られず、段差が設けられていない単純矩形の水晶振動片であってもよい。

なお、上記に示した実施形態においては、長辺方向をＸ軸方向、短辺方向をＺ’軸方向としたが、長辺方向をＺ’軸方向、短辺方向をＸ軸方向とすることもできる。また、Ｘ軸方向とＺ’軸方向とを同じ長さの辺とする正方形とすることもできる。また、ＸＺ’面内で回転させ、各辺の向きをＸ軸方向やＺ’軸方向から所定角度ずらした向きとすることもできる。

１…水晶振動子、４，５，１２０，１３０…水晶振動片、１０ａ，１２１ａ，１３１ａ…表主面、１０ｂ，１２１ｂ，１３１ｂ…裏主面、２１…励振電極、１１ａ，１１ｂ，１２２ａ，１２３ａ，１３２ａ，１３３ａ…斜面、３０，３２，３４…中央部、３１，３３，３５…周辺部

Claims (4)

1. ＡＴカットにより形成される水晶振動板を備える水晶振動片の製造方法であって、
   ＡＴカットされたウエハを準備する工程と、
   前記ウエハの表面をドライエッチング加工するドライエッチング工程と、
   前記ドライエッチング工程の後に、前記ウエハの表面にエッチング保護膜とフォトレジスト膜とを成膜する成膜工程と、
   前記フォトレジスト膜をパターニングするパターニング工程と、
   パターニングされた前記フォトレジスト膜を用いて前記エッチング保護膜をエッチングするエッチング工程と、
   エッチングされた前記エッチング保護膜をマスクとしてウェットエッチングによって前記ウエハをエッチングし、前記ウエハに対して斜面を形成する斜面エッチング工程と、
   前記ウエハを個片化して前記水晶振動板を形成する個片化工程と、
   を有し、
   前記水晶振動板は、基面と、前記基面に設けられた凸部および凹部のうち一方と、を有し、
   前記斜面は、前記凸部および前記凹部のうち一方の側面であり、
   前記凸部および前記凹部のうち一方は、前記斜面を介して前記基面と接続される主面を有する水晶振動片の製造方法。
2. 前記水晶振動板上に電極膜を形成する工程をさらに有し、
   前記電極膜は、前記主面に形成された励振電極と、前記基面に形成されたマウント電極と、前記励振電極と前記マウント電極とを繋ぐ引出電極と、を有し、
   前記電極膜を形成する工程では、前記斜面上に前記引出電極が形成される請求項１に記載の水晶振動片の製造方法。
3. 前記斜面エッチング工程では、前記ウエハにおいて前記マスクから露出している領域と、前記マスクの下側の領域の一部がエッチングされることで、前記マスクの下側を含む領域に前記斜面が形成される請求項１又は２に記載の水晶振動片の製造方法。
4. 前記水晶振動片は平面視が矩形状に形成されており、水晶結晶の結晶軸におけるＺ’軸方向が長辺方向となるように形成されている請求項１乃至３のいずれか１項に記載の水晶振動片の製造方法。

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