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JP6409697B2 - Semiconductor device inspection circuit and inspection method - Google Patents

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JP6409697B2 JP2015136347A JP2015136347A JP6409697B2 JP 6409697 B2 JP6409697 B2 JP 6409697B2 JP 2015136347 A JP2015136347 A JP 2015136347A JP 2015136347 A JP2015136347 A JP 2015136347A JP 6409697 B2 JP6409697 B2 JP 6409697B2
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  • Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)

Description

本発明は、スイッチング素子を有する半導体素子の検査回路および検査方法に関するものである。   The present invention relates to an inspection circuit and an inspection method for a semiconductor element having a switching element.

従来、この種の検査回路として、例えば、特許文献1に次のような検査回路が提案されている。すなわち、この検査回路では、電源と検査対象の半導体素子(DUT:Device Under Test)との間にスイッチが配置されていると共に、DUTに流れる電流を測定する電流計が配置されている。また、電流計の測定結果に基づいて、スイッチのオン、オフを制御するコントローラが配置されている。なお、DUTとしては、ゲート電極を有し、ゲート電極にハイレベルおよびローレベルのゲート信号が印加されることによってオン、オフが制御されるIGBT素子等のスイッチング素子が用いられる。   Conventionally, as this type of inspection circuit, for example, Patent Document 1 has proposed the following inspection circuit. That is, in this inspection circuit, a switch is disposed between a power supply and a semiconductor element (DUT: Device Under Test) to be inspected, and an ammeter for measuring a current flowing through the DUT is disposed. Further, a controller for controlling on / off of the switch based on the measurement result of the ammeter is arranged. As the DUT, a switching element such as an IGBT element that has a gate electrode and is controlled to be turned on and off by applying high-level and low-level gate signals to the gate electrode is used.

このような検査回路では、DUTは、オフされた際(ゲート電極にローレベルのゲート信号が印加された際)に過渡的に電流が集中して破壊されやすい。そして、上記検査回路では、電流計で測定された結果が所定の閾値より大きいとき、コントローラはDUTが破壊されたと判定してスイッチをオフする。つまり、DUTが破壊されてDUTに大電流が流れる場合には、コントローラによってスイッチがオフされる。このため、DUTが破壊された際、DUTを検査するために用いられるステージやプローブ等の検査機器が損傷することを抑制できる。   In such an inspection circuit, when the DUT is turned off (when a low-level gate signal is applied to the gate electrode), the current is easily concentrated and destroyed. In the inspection circuit, when the result measured by the ammeter is larger than a predetermined threshold, the controller determines that the DUT is destroyed and turns off the switch. That is, when the DUT is destroyed and a large current flows through the DUT, the switch is turned off by the controller. For this reason, when a DUT is destroyed, it can control that inspection equipment, such as a stage used for inspecting DUT, and a probe, is damaged.

特開2008−164364号公報JP 2008-164364 A

しかしながら、上記検査回路では、DUTが実際に破壊されてからDUTが破壊されたと判定するまでの期間と、DUTが破壊されたと判定してからスイッチをオフにするまでの期間とが必要となる。このため、スイッチがオフされるまでの間にDUTに大電流が流れる可能性があり、この場合は検査機器が損傷する可能性がある。   However, the inspection circuit requires a period from when the DUT is actually destroyed until it is determined that the DUT is destroyed, and a period from when it is determined that the DUT is destroyed until the switch is turned off. For this reason, a large current may flow through the DUT before the switch is turned off, and in this case, the inspection device may be damaged.

これについて、本発明者らは、ゲート電極を有し、ゲート電極にハイレベルおよびローレベルのゲート信号が印加されることによってオン、オフが制御されるスイッチング素子を有する検査対象としてのDUTを検査するDUTの検査回路において、以下の点を特徴とする検査回路を提案した。   In this regard, the present inventors have inspected a DUT as an inspection target having a gate electrode and a switching element that is controlled to be turned on and off by applying a high-level and low-level gate signal to the gate electrode. In the DUT inspection circuit, an inspection circuit having the following features has been proposed.

すなわち、この検査回路では、DUTと当該DUTに接続される電源との間に、ゲート電極を有し、ゲート電極にハイレベルおよびローレベルのゲート信号が印加されることによってオン、オフが制御され、スイッチング素子よりも破壊耐量が大きいスイッチング素子を有する保護素子が配置されている。そして、保護素子は、DUTのゲート電極にローレベルのゲート信号が印加されて当該DUTをオフする際、DUTのゲート電極にローレベルのゲート信号が印加されてから所定期間経過後に当該保護素子のゲート電極にローレベルのゲート信号が印加されることによって電源とDUTとの接続を遮断する。   That is, in this inspection circuit, a gate electrode is provided between the DUT and a power source connected to the DUT, and on / off is controlled by applying high-level and low-level gate signals to the gate electrode. A protective element having a switching element having a greater breakdown resistance than the switching element is disposed. Then, when a low level gate signal is applied to the gate electrode of the DUT to turn off the DUT, the protection element has a predetermined period after the low level gate signal is applied to the gate electrode of the DUT. The connection between the power source and the DUT is cut off by applying a low level gate signal to the gate electrode.

これによれば、DUTのゲート電極にローレベルのゲート信号を印加することで過渡電流によってDUTが破壊されたとしても、DUTのゲート電極にローレベルのゲート信号を印加してから所定期間経過後に必ず保護素子がオフとなる。したがって、DUTのゲート電極にローレベルのゲート信号を印加する時点と、保護素子のゲート電極にローレベルのゲート信号を印加する時点との間の期間を適宜調整することにより、DUTに大電流が流れることを抑制でき、検査機器が損傷することを抑制できる。また、保護素子をDUTよりも破壊耐量が大きくなるようにしているため、DUTが破壊された際に保護素子も同時に破壊されることを抑制できる。   According to this, even if the DUT is destroyed by a transient current by applying a low-level gate signal to the gate electrode of the DUT, a predetermined period elapses after the low-level gate signal is applied to the gate electrode of the DUT. The protection element is always turned off. Accordingly, by appropriately adjusting the period between the time point when the low level gate signal is applied to the gate electrode of the DUT and the time point when the low level gate signal is applied to the gate electrode of the protection element, a large current is generated in the DUT. Flow can be suppressed and damage to the inspection device can be suppressed. Moreover, since the protection element has a greater breakdown resistance than the DUT, it is possible to suppress the protection element from being destroyed at the same time when the DUT is destroyed.

しかしながら、保護素子にローレベルのゲート信号を印加してから、保護素子へのローレベルのゲート信号の印加によりDUTを流れる電流が減少し始めるまでには、遅れ時間が存在する。そのため、DUTにローレベルのゲート信号を印加してから保護素子にローレベルのゲート信号を印加するまでの期間の長さ、および、遅れ時間の長さによっては、DUTが破壊されてから電流が減少し始めるまでの時間が長くなり、検査機器の損傷が大きくなる。本発明者らが提案した上記検査回路では、この点において、検査機器の損傷をさらに抑制する必要がある。   However, there is a delay time from when the low level gate signal is applied to the protection element until the current flowing through the DUT starts to decrease due to the application of the low level gate signal to the protection element. Therefore, depending on the length of the period from when the low level gate signal is applied to the DUT to when the low level gate signal is applied to the protection element, and the length of the delay time, the current may flow after the DUT is destroyed. The time until it starts to decrease becomes longer, and the damage to the inspection equipment increases. In the above-described inspection circuit proposed by the present inventors, it is necessary to further suppress damage to the inspection device in this respect.

本発明は上記点に鑑みて、DUTが破壊されたときに検査機器が損傷することを抑制できるDUTの検査回路および検査方法を提供する。   In view of the above points, the present invention provides a DUT inspection circuit and an inspection method capable of suppressing damage to an inspection device when the DUT is destroyed.

上記目的を達成するため、請求項1に記載の発明では、ハイレベルおよびローレベルのゲート信号が印加されることによってオン、オフが制御されるスイッチング素子(5a)を有し、スイッチング素子にローレベルのゲート信号が印加されてから所定の遮断時間が経過したときにスイッチング素子を通る電流の遮断が完了する特性を有する検査対象としての半導体素子(5)を検査する半導体素子の検査回路において、半導体素子と半導体素子に接続される電源(1)との間に接続され、ハイレベルおよびローレベルのゲート信号が印加されることによってオン、オフが制御され、スイッチング素子よりも破壊耐量が大きい保護スイッチング素子(4a)を有し、保護スイッチング素子にローレベルのゲート信号が印加されてから所定の遅れ時間が経過したときに保護スイッチング素子を通る電流が減少し始める特性を有する保護素子(4)と、半導体素子および保護素子のオン、オフを制御する制御部(10)と、を備え、制御部は、半導体素子をオフする際、半導体素子にローレベルのゲート信号を印加してから遮断時間が経過するまでの間に、保護素子にローレベルのゲート信号を印加したタイミングと該タイミング後の遅れ時間が含まれるように、保護素子にローレベルのゲート信号を印加するタイミングを設定することを特徴としている。   In order to achieve the above object, according to the first aspect of the present invention, there is provided a switching element (5a) which is controlled to be turned on and off by applying a high level and a low level gate signal. In an inspection circuit for a semiconductor element for inspecting a semiconductor element (5) as an inspection object having a characteristic that the interruption of a current passing through a switching element is completed when a predetermined interruption time has elapsed since the application of a level gate signal, Protection connected between a semiconductor element and a power source (1) connected to the semiconductor element, and controlled to be turned on and off by applying high-level and low-level gate signals, and has a greater breakdown resistance than a switching element A switching element (4a), and a predetermined delay after a low-level gate signal is applied to the protective switching element; A protection element (4) having a characteristic that a current passing through the protection switching element starts to decrease when time elapses, and a control unit (10) for controlling on / off of the semiconductor element and the protection element, the control unit When the semiconductor element is turned off, the timing at which the low-level gate signal is applied to the protective element and the delay after the timing between when the low-level gate signal is applied to the semiconductor element and until the cutoff time elapses. The timing of applying a low-level gate signal to the protection element is set so that time is included.

これによれば、制御部は、半導体素子をオフする際、半導体素子にローレベルのゲート信号を印加してから遮断時間が経過するまでの間に、保護素子にローレベルのゲート信号を印加したタイミングと該タイミング後の遅れ時間が含まれるように、保護素子にローレベルのゲート信号を印加するタイミングを設定する。また、半導体素子にローレベルのゲート信号を印加してから遮断時間が経過するまでの期間には、半導体素子が破壊される可能性の高い期間が含まれている。そのため、このタイミングで保護素子にローレベルのゲート信号を印加することにより、半導体素子が破壊されたときに検査機器の損傷を抑制することができる。   According to this, when the semiconductor element is turned off, the control unit applies the low-level gate signal to the protective element between the application of the low-level gate signal to the semiconductor element and the passage of the cutoff time. The timing for applying the low-level gate signal to the protection element is set so that the timing and the delay time after the timing are included. Further, the period from when the low-level gate signal is applied to the semiconductor element until the cutoff time elapses includes a period during which the semiconductor element is highly likely to be destroyed. Therefore, by applying a low-level gate signal to the protection element at this timing, it is possible to suppress damage to the inspection device when the semiconductor element is destroyed.

また、請求項5に記載の発明では、ハイレベルおよびローレベルのゲート信号が印加されることによってオン、オフが制御されるスイッチング素子(5a)を有し、スイッチング素子にローレベルのゲート信号が印加されてから所定の遮断時間が経過したときにスイッチング素子を通る電流の遮断が完了する特性を有する検査対象としての半導体素子(5)を検査する半導体素子の検査方法において、半導体素子と半導体素子に接続される電源(1)との間に、ハイレベルおよびローレベルのゲート信号が印加されることによってオン、オフが制御され、スイッチング素子よりも破壊耐量が大きい保護スイッチング素子(4a)を有し、保護スイッチング素子にローレベルのゲート信号が印加されてから所定の遅れ時間が経過したときに保護スイッチング素子を通る電流が減少し始める特性を有する保護素子(4)を配置し、半導体素子をオフする際、半導体素子にローレベルのゲート信号を印加してから遮断時間が経過するまでの間に、保護素子にローレベルのゲート信号を印加したタイミングと該タイミング後の遅れ時間が含まれるように、保護素子にローレベルのゲート信号を印加するタイミングを設定することを特徴としている。   According to the fifth aspect of the present invention, the switching element (5a), which is controlled to be turned on and off by application of high level and low level gate signals, has a low level gate signal. In a semiconductor element inspection method for inspecting a semiconductor element (5) as an inspection object having a characteristic of completing the interruption of a current passing through a switching element when a predetermined interruption time has elapsed since the application, the semiconductor element and the semiconductor element A high-level and low-level gate signal is applied to the power supply (1) connected to the power supply (1), and the protection switching element (4a) having a higher breakdown resistance than the switching element is controlled by turning on and off. Protection when a predetermined delay time has elapsed since the low-level gate signal was applied to the protection switching element. When the protective element (4) having the characteristic that the current passing through the switching element starts to decrease is disposed and the semiconductor element is turned off, the low-level gate signal is applied to the semiconductor element and the cutoff time elapses. The timing for applying the low level gate signal to the protection element is set so that the timing at which the low level gate signal is applied to the protection element and the delay time after the timing are included.

このように本発明をDUTの検査方法として把握することもできる。そして、この検査方法によれば、半導体素子をオフする際、半導体素子にローレベルのゲート信号を印加してから遮断時間が経過するまでの間に、保護素子にローレベルのゲート信号を印加したタイミングと該タイミング後の遅れ時間が含まれるように、保護素子にローレベルのゲート信号を印加するタイミングを設定する。また、半導体素子にローレベルのゲート信号を印加してから遮断時間が経過するまでの期間には、半導体素子が破壊される可能性の高い期間が含まれている。そのため、このタイミングで保護素子にローレベルのゲート信号を印加することにより、半導体素子が破壊されたときに検査機器の損傷を抑制することができる。   Thus, the present invention can be grasped as a DUT inspection method. According to this inspection method, when the semiconductor element is turned off, the low-level gate signal is applied to the protective element between the time when the low-level gate signal is applied to the semiconductor element and the cutoff time elapses. The timing for applying the low-level gate signal to the protection element is set so that the timing and the delay time after the timing are included. Further, the period from when the low-level gate signal is applied to the semiconductor element until the cutoff time elapses includes a period during which the semiconductor element is highly likely to be destroyed. Therefore, by applying a low-level gate signal to the protection element at this timing, it is possible to suppress damage to the inspection device when the semiconductor element is destroyed.

なお、上記各手段の括弧内の符号は、後述する実施形態に記載の具体的手段との対応関係の一例を示すものである。   In addition, the code | symbol in the bracket | parenthesis of each said means shows an example of a corresponding relationship with the specific means as described in embodiment mentioned later.

本発明の第1実施形態におけるDUTの検査回路の回路図である。It is a circuit diagram of the inspection circuit of DUT in a 1st embodiment of the present invention. DUTの検査方法を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the inspection method of DUT. 第1実施形態の動作を示すタイミングチャートである。It is a timing chart which shows operation | movement of 1st Embodiment. 比較例の動作を示すタイミングチャートである。It is a timing chart which shows operation of a comparative example. 保護素子のオフ速度と電流との関係を示すタイミングチャートである。It is a timing chart which shows the relationship between the OFF speed of a protection element, and an electric current. 本発明の第2実施形態における検査回路の回路図である。It is a circuit diagram of the test | inspection circuit in 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第3実施形態における検査回路の回路図である。It is a circuit diagram of the test | inspection circuit in 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第4実施形態における検査回路の回路図である。It is a circuit diagram of the test | inspection circuit in 4th Embodiment of this invention.

以下、本発明の実施形態について図に基づいて説明する。なお、以下の各実施形態相互において、互いに同一もしくは均等である部分には、同一符号を付して説明を行う。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In the following embodiments, parts that are the same or equivalent to each other will be described with the same reference numerals.

(第1実施形態)
本発明の第1実施形態について説明する。本実施形態では、DUTのスイッチング試験を行う検査回路および検査方法について説明する。
(First embodiment)
A first embodiment of the present invention will be described. In this embodiment, an inspection circuit and an inspection method for performing a DUT switching test will be described.

図1に示すように、本実施形態の検査回路は、電源1、過電流保護スイッチ2、コイル3、保護素子4、DUT5、電流計6、ダイオード素子7、第1コンデンサ8、第2コンデンサ9、制御部10を備えている。   As shown in FIG. 1, the inspection circuit of this embodiment includes a power source 1, an overcurrent protection switch 2, a coil 3, a protection element 4, a DUT 5, an ammeter 6, a diode element 7, a first capacitor 8, and a second capacitor 9. The control unit 10 is provided.

電源1には、過電流保護スイッチ2、コイル3、保護素子4、DUT5、電流計6が順に直列に接続されている。過電流保護スイッチ2は、DUT5が破壊された際に電源1や図示しないテスター等を保護するためのものであり、DUT5の破壊が検出されるとオフされる。過電流保護スイッチ2は、例えば、ゲート電極、コレクタ電極、エミッタ電極を有するNチャネル型のIGBT(絶縁ゲートバイポーラトランジスタ)素子で構成される。   An overcurrent protection switch 2, a coil 3, a protection element 4, a DUT 5, and an ammeter 6 are connected in series to the power source 1. The overcurrent protection switch 2 is for protecting the power supply 1 and a tester (not shown) when the DUT 5 is destroyed, and is turned off when the destruction of the DUT 5 is detected. The overcurrent protection switch 2 is composed of, for example, an N-channel IGBT (insulated gate bipolar transistor) element having a gate electrode, a collector electrode, and an emitter electrode.

コイル3は、DUT5がオン、オフされたときの特性を調べるためにDUT5に流れる電流を制御するためのものである。具体的には、過電流保護スイッチ2および保護素子4がオンされており、コイル3に電流が流れていない状態においてDUT5がオフからオンに切り替えられると、コイル3およびDUT5に流れる電流は、コイル3のインダクタンスにより徐々に増加する。   The coil 3 is for controlling a current flowing through the DUT 5 in order to examine characteristics when the DUT 5 is turned on and off. Specifically, when the overcurrent protection switch 2 and the protection element 4 are turned on and the DUT 5 is switched from OFF to ON in a state where no current flows through the coil 3, the current flowing through the coil 3 and the DUT 5 It gradually increases due to the inductance of 3.

検査回路にはコイル3に並列となるようにダイオード素子7が配置されており、DUT5がオフされると、コイル3およびダイオード素子7により形成されるループ経路を還流電流が流れる。このループ経路に還流電流が流れている状態においてDUT5がオンされると、還流電流の経路が切り替えられて、DUT5に流れる電流が急峻に大きくなる。   A diode element 7 is arranged in the inspection circuit so as to be parallel to the coil 3. When the DUT 5 is turned off, a reflux current flows through a loop path formed by the coil 3 and the diode element 7. When the DUT 5 is turned on while the return current is flowing through the loop path, the return current path is switched, and the current flowing through the DUT 5 increases sharply.

ダイオード素子7は、本実施形態では、FWD(フリーホイールダイオード)素子で構成されている。ダイオード素子7のカソード電極は、過電流保護スイッチ2およびコイル3の接続点に接続されており、ダイオード素子7のアノード電極は、コイル3および保護スイッチ4の接続点に接続されている。   In the present embodiment, the diode element 7 is composed of an FWD (free wheel diode) element. The cathode electrode of the diode element 7 is connected to the connection point between the overcurrent protection switch 2 and the coil 3, and the anode electrode of the diode element 7 is connected to the connection point between the coil 3 and the protection switch 4.

保護素子4は、DUT5が破壊された場合に検査機器を保護するためのものである。保護素子4と同じく検査機器を保護するものとして過電流保護スイッチ2が配置されているが、保護素子4は、第1コンデンサ8の放電の際に検査機器を保護する役割を果たす。   The protection element 4 is for protecting the inspection device when the DUT 5 is destroyed. Although the overcurrent protection switch 2 is arranged to protect the inspection device in the same manner as the protection element 4, the protection element 4 plays a role of protecting the inspection device when the first capacitor 8 is discharged.

DUT5は、本実施形態における検査対象であり、本発明の半導体素子に相当する。保護素子4およびDUT5は、本実施形態では、ゲート電極、コレクタ電極、エミッタ電極を有するNチャネル型のIGBT素子で構成されている。   The DUT 5 is an inspection target in this embodiment, and corresponds to a semiconductor element of the present invention. In this embodiment, the protection element 4 and the DUT 5 are configured by N-channel IGBT elements having a gate electrode, a collector electrode, and an emitter electrode.

つまり、保護素子4およびDUT5は、ゲート電極にハイレベルおよびローレベルのゲート信号が印加されることによってオン、オフが制御されるスイッチング素子で構成されている。また、保護素子4は、DUT5よりも破壊耐量が大きいIGBT素子で構成されている。   That is, the protection element 4 and the DUT 5 are configured by switching elements that are controlled to be turned on and off by applying high-level and low-level gate signals to the gate electrodes. Further, the protection element 4 is composed of an IGBT element having a greater breakdown resistance than the DUT 5.

また、DUT5は、ローレベルのゲート信号が印加されてから所定の遅れ時間Td1が経過したときにDUT5を通る電流が減少し始める特性を有する。また、DUT5は、ローレベルのゲート信号が印加されてから所定の遮断時間が経過したときにDUT5を通る電流の遮断が完了する特性を有する。また、保護素子4は、ローレベルのゲート信号が印加されてから所定の遅れ時間Td2が経過したときに保護素子4を通る電流が減少し始める特性を有する。   The DUT 5 has a characteristic that the current passing through the DUT 5 starts to decrease when a predetermined delay time Td1 has elapsed since the low level gate signal was applied. Further, the DUT 5 has a characteristic that the interruption of the current passing through the DUT 5 is completed when a predetermined interruption time has elapsed after the low-level gate signal is applied. Further, the protection element 4 has a characteristic that the current passing through the protection element 4 starts to decrease when a predetermined delay time Td2 has elapsed after the low-level gate signal is applied.

そして、電源1の正極に過電流保護スイッチ2を介してコイル3の一端が接続され、コイル3の他端に保護素子4のコレクタ電極が接続されている。また、保護素子4のエミッタ電極にDUT5のコレクタ電極が接続され、DUT5のエミッタ電極に電流計6を介して電源1の負極(グランド)が接続されている。なお、保護素子4は電源1に対してコイル3と直列に配置されていればよいが、前述したように、保護素子4には第1コンデンサ8の放電から検査機器を保護する役割があるため、保護素子4を第1コンデンサ8よりもDUT5側に配置することが好ましい。   One end of the coil 3 is connected to the positive electrode of the power supply 1 via the overcurrent protection switch 2, and the collector electrode of the protection element 4 is connected to the other end of the coil 3. The collector electrode of the DUT 5 is connected to the emitter electrode of the protection element 4, and the negative electrode (ground) of the power source 1 is connected to the emitter electrode of the DUT 5 via the ammeter 6. The protection element 4 may be arranged in series with the coil 3 with respect to the power source 1. However, as described above, the protection element 4 has a role of protecting the inspection device from the discharge of the first capacitor 8. The protective element 4 is preferably arranged on the DUT 5 side with respect to the first capacitor 8.

電流計6は、DUT5の破壊を検出するためにDUT5に流れる電流を測定するものである。破壊検出の方法として、特許文献1に記載の方法を用いることができる。電流計6は、図1に示すように制御部10に接続されており、制御部10は、電流計6の出力に基づいて、過電流を検出し、DUT5が破壊されたか否かを判定する。   The ammeter 6 measures the current flowing through the DUT 5 in order to detect the destruction of the DUT 5. The method described in Patent Document 1 can be used as a method for detecting destruction. The ammeter 6 is connected to the control unit 10 as shown in FIG. 1, and the control unit 10 detects an overcurrent based on the output of the ammeter 6 and determines whether or not the DUT 5 is destroyed. .

このように、電流計6はDUT5に流れる電流を測定し、制御部10は電流計6の出力に基づいてDUT5の破壊を検出する。したがって、電流計6および制御部10は、本発明の破壊検出手段に相当する。   As described above, the ammeter 6 measures the current flowing through the DUT 5, and the control unit 10 detects the destruction of the DUT 5 based on the output of the ammeter 6. Therefore, the ammeter 6 and the control unit 10 correspond to the destruction detection means of the present invention.

第1コンデンサ8は、寄生インダクタンスを低減し、スイッチング時のリプルの低減やノイズの影響を抑制するためのコンデンサである。第1コンデンサ8は、電源1に対してコイル3、保護素子4、DUT5、電流計6、ダイオード素子7と並列となるように配置されている。   The first capacitor 8 is a capacitor for reducing parasitic inductance, reducing ripple during switching, and suppressing the influence of noise. The first capacitor 8 is arranged so as to be in parallel with the coil 3, the protection element 4, the DUT 5, the ammeter 6, and the diode element 7 with respect to the power supply 1.

第2コンデンサ9は、寄生インダクタンスを低減して一定な電源電圧を形成するためのコンデンサであり、第1コンデンサ8よりも容量の大きいコンデンサが第2コンデンサ9として用いられる。第2コンデンサ9は、電源1に対して過電流保護スイッチ2、コイル3、保護素子4、DUT5、電流計6、ダイオード素子7、第1コンデンサ8と並列となるように配置されている。   The second capacitor 9 is a capacitor for reducing the parasitic inductance to form a constant power supply voltage, and a capacitor having a larger capacity than the first capacitor 8 is used as the second capacitor 9. The second capacitor 9 is arranged in parallel with the overcurrent protection switch 2, the coil 3, the protection element 4, the DUT 5, the ammeter 6, the diode element 7, and the first capacitor 8 with respect to the power source 1.

制御部10は、CPU、ROM、RAM、I/Oなどを備えた周知のマイクロコンピュータによって構成されている。制御部10は、ROMなどに記憶されたプログラムに従って各種演算などの処理を実行し、保護素子4およびDUT5のオン、オフを制御し、DUT5のスイッチング試験を行う。図1に示すように、過電流保護スイッチ2、保護素子4、DUT5、電流計6は、制御部10に接続されている。以上が本実施形態における検査回路である。   The control unit 10 is configured by a known microcomputer that includes a CPU, a ROM, a RAM, an I / O, and the like. The control unit 10 executes processing such as various calculations in accordance with a program stored in a ROM or the like, controls on / off of the protection element 4 and the DUT 5, and performs a switching test of the DUT 5. As shown in FIG. 1, the overcurrent protection switch 2, the protection element 4, the DUT 5, and the ammeter 6 are connected to the control unit 10. The above is the inspection circuit in the present embodiment.

次に、上記検査回路を用いたDUT5の検査方法について説明する。DUT5の検査は、基本的には、DUT5および保護素子4のゲート電極にハイレベルまたはローレベルのゲート信号Vg1、Vg2を印加することによってオン、オフを制御し、DUT5に流れる電流や電圧を変化させることによって行う。なお、図3および図4では、ハイレベルのゲート信号Vg1、Vg2をHとして図示し、ローレベルのゲート信号Vg1、Vg2をLとして図示している。   Next, a method for inspecting the DUT 5 using the above inspection circuit will be described. Inspecting the DUT 5 is basically performed by applying high-level or low-level gate signals Vg1 and Vg2 to the gate electrodes of the DUT 5 and the protection element 4 to control on and off, and changing the current and voltage flowing through the DUT 5. By doing. 3 and 4, the high-level gate signals Vg1 and Vg2 are illustrated as H, and the low-level gate signals Vg1 and Vg2 are illustrated as L.

本実施形態の検査回路では、制御部10が図2のフローチャートに示す動作を行うことにより、DUT5をオフする際のスイッチング試験が行われる。具体的には、制御部10は、DUT5および保護素子4をオンする動作と、DUT5および保護素子4をオフする動作とを交互に複数回繰り返すことによりDUT5の検査を行う。   In the inspection circuit of the present embodiment, a switching test when the DUT 5 is turned off is performed by the control unit 10 performing the operation shown in the flowchart of FIG. Specifically, the control unit 10 inspects the DUT 5 by alternately repeating the operation of turning on the DUT 5 and the protection element 4 and the operation of turning off the DUT 5 and the protection element 4 multiple times.

本実施形態では、制御部10は、DUT5にローレベルのゲート信号を印加してから保護素子4にローレベルのゲート信号を印加するまでの時間の長さを変化させて、DUT5および保護素子4をオフする動作を複数回繰り返す。また、制御部10は、DUT5および保護素子4をオンする動作と、DUT5および保護素子4をオフする動作とを交互に複数回繰り返す間に、DUT5が破壊されたか否かを判定する。   In the present embodiment, the control unit 10 changes the length of time from when the low level gate signal is applied to the DUT 5 to when the low level gate signal is applied to the protection element 4, and thus the DUT 5 and the protection element 4. Repeat the operation to turn off the sever. Further, the control unit 10 determines whether or not the DUT 5 is destroyed while alternately repeating the operation of turning on the DUT 5 and the protection element 4 and the operation of turning off the DUT 5 and the protection element 4 a plurality of times.

スイッチング試験が開始されると、ステップS101において、制御部10は条件1による動作を行い、ステップS102に進む。具体的には、制御部10は、過電流保護スイッチ2および保護素子4をオンした後、図3に示すように、時点T1においてDUT5をオンする。そして、制御部10は、所定の時間の経過後、時点T2においてDUT5をオフし、時点T2から一定の期間Tdelay1が経過したとき、保護素子4をオフする。   When the switching test is started, in step S101, the control unit 10 performs an operation according to condition 1, and proceeds to step S102. Specifically, after the overcurrent protection switch 2 and the protection element 4 are turned on, the control unit 10 turns on the DUT 5 at time T1 as shown in FIG. Then, the control unit 10 turns off the DUT 5 at a time point T2 after a lapse of a predetermined time, and turns off the protection element 4 when a certain period Tdelay1 has elapsed from the time point T2.

なお、図3に示すように、電流Icは、時点T2から遅れ時間Td1が経過した時点T3において減少し始める。そして、後述するステップS107においてDUT5が破壊されない場合、電流Icは、時点T2からDUT5の遮断時間が経過した時点T4において0となる。   As shown in FIG. 3, the current Ic starts to decrease at time T3 when the delay time Td1 has elapsed from time T2. If the DUT 5 is not destroyed in step S107, which will be described later, the current Ic becomes 0 at the time T4 when the cutoff time of the DUT 5 has elapsed from the time T2.

また、制御部10は、DUT5をオフする際、DUT5にローレベルのゲート信号を印加する時点T2からDUT5の遮断時間が経過する時点T4までの間に、保護素子4にローレベルのゲート信号を印加したタイミングと、このタイミング後の遅れ時間Td2とが含まれるように、保護素子4にローレベルのゲート信号を印加するタイミングを設定する。つまり、制御部10は、期間Tdelay1と遅れ時間Td2との和が、時点T4と時点T2との差よりも小さくなるように、保護素子4にローレベルのゲート信号を印加する。   When the DUT 5 is turned off, the control unit 10 applies a low-level gate signal to the protection element 4 between the time T2 when the low-level gate signal is applied to the DUT 5 and the time T4 when the DUT 5 shutoff time elapses. The timing for applying the low-level gate signal to the protection element 4 is set so that the applied timing and the delay time Td2 after this timing are included. That is, the control unit 10 applies the low-level gate signal to the protection element 4 so that the sum of the period Tdelay1 and the delay time Td2 becomes smaller than the difference between the time T4 and the time T2.

DUT5のオフによりDUT5を流れる電流Icの減少が開始される時点T3と、電流Icの遮断が完了する時点T4との間の期間は、DUT5の破壊の可能性が高い期間である。この期間内に保護素子4のオフによる電流Icの減少が開始されることにより、DUT5が破壊されたときの検査機器の損傷を抑制することができる。   The period between the time point T3 at which the decrease in the current Ic flowing through the DUT 5 is started by turning off the DUT 5 and the time point T4 at which the interruption of the current Ic is completed is a period during which the DUT 5 is highly likely to be destroyed. By starting reduction of the current Ic due to the protection element 4 being turned off within this period, it is possible to suppress damage to the inspection equipment when the DUT 5 is destroyed.

本実施形態では、時点T3と時点T4との間の時点T5において、保護素子4のオフによる電流Icの減少が開始される。   In the present embodiment, at the time T5 between the time T3 and the time T4, the decrease in the current Ic due to the protection element 4 being turned off is started.

ステップS102において、制御部10は、電流計6からの信号に基づいて、DUT5が破壊されたか否か判定する。具体的には、例えば、ステップS101においてDUT5をオフした後に、DUT5に流れる電流が所定の閾値よりも大きい値になった場合、制御部10はDUT5が破壊されたと判定する。   In step S <b> 102, the control unit 10 determines whether the DUT 5 has been destroyed based on the signal from the ammeter 6. Specifically, for example, after the DUT 5 is turned off in step S101, when the current flowing through the DUT 5 becomes a value larger than a predetermined threshold, the control unit 10 determines that the DUT 5 has been destroyed.

制御部10は、DUT5が破壊されていないと判定するとステップS103に進み、DUT5が破壊されたと判定すると、その後のDUT5および保護素子4をオフする動作を中止し、DUT5のスイッチング試験を終了する。ステップS103では、制御部10は、条件2による動作を行い、ステップS104に進む。   When it is determined that the DUT 5 has not been destroyed, the control unit 10 proceeds to step S103. When the control unit 10 determines that the DUT 5 has been destroyed, the control unit 10 stops the subsequent operation of turning off the DUT 5 and the protection element 4, and ends the switching test of the DUT 5. In step S103, the control unit 10 performs an operation according to condition 2, and proceeds to step S104.

具体的には、制御部10は、過電流保護スイッチ2および保護素子4をオンした後、図3に示すように、時点T1においてDUT5をオンする。そして、制御部10は、所定の時間の経過後、時点T2においてDUT5をオフし、時点T2から期間Tdelay1よりも長い一定の期間Tdelay2が経過したとき、保護素子4をオフする。   Specifically, after the overcurrent protection switch 2 and the protection element 4 are turned on, the control unit 10 turns on the DUT 5 at time T1 as shown in FIG. Then, the control unit 10 turns off the DUT 5 at a time point T2 after a lapse of a predetermined time, and turns off the protective element 4 when a certain period Tdelay2 longer than the period Tdelay1 has elapsed from the time point T2.

ステップS104において、制御部10は、ステップS102と同様に、DUT5が破壊されたか否か判定する。制御部10は、DUT5が破壊されていないと判定するとステップS105に進み、DUT5が破壊されたと判定すると、その後のDUT5への電源電圧とゲート電圧の印加を中止し、試験を終了する。ステップS105では、制御部10は、条件3による動作を行い、ステップS106に進む。   In step S104, the control unit 10 determines whether or not the DUT 5 has been destroyed, as in step S102. If the control unit 10 determines that the DUT 5 is not destroyed, the process proceeds to step S105. If the control unit 10 determines that the DUT 5 is destroyed, the application of the power supply voltage and the gate voltage to the DUT 5 is stopped, and the test ends. In step S105, the control unit 10 performs an operation according to condition 3, and proceeds to step S106.

具体的には、制御部10は、過電流保護スイッチ2および保護素子4をオンした後、図3に示すように、時点T1においてDUT5をオンする。そして、制御部10は、所定の時間の経過後、時点T2においてDUT5をオフし、時点T2から期間Tdelay2よりも長い一定の期間Tdelay3が経過したとき、保護素子4をオフする。   Specifically, after the overcurrent protection switch 2 and the protection element 4 are turned on, the control unit 10 turns on the DUT 5 at time T1 as shown in FIG. Then, the control unit 10 turns off the DUT 5 at a time point T2 after a lapse of a predetermined time, and turns off the protection element 4 when a certain period Tdelay3 longer than the period Tdelay2 has elapsed from the time point T2.

ステップS106において、制御部10は、ステップS102と同様に、DUT5が破壊されたか否か判定する。制御部10は、DUT5が破壊されていないと判定するとステップS107に進み、DUT5が破壊されたと判定すると、DUT5のスイッチング試験を終了する。ステップS107では、制御部10は、保護素子4を常時オンとする動作を行う。   In step S106, the control unit 10 determines whether or not the DUT 5 is destroyed as in step S102. When determining that the DUT 5 is not destroyed, the control unit 10 proceeds to step S107, and when determining that the DUT 5 is destroyed, the control unit 10 ends the switching test of the DUT 5. In step S107, the control unit 10 performs an operation of always turning on the protection element 4.

具体的には、制御部10は、過電流保護スイッチ2および保護素子4をオンした後、時点T1においてDUT5をオンする。そして、制御部10は、所定の時間の経過後、時点T2においてDUT5をオフする。制御部10は、ステップS107の後、このDUT5に対するスイッチング試験を終了するまで保護素子4をオンのままにする。制御部10のステップS107における動作により、条件1〜3で破壊されなかったDUT5の特性の確認が完了する。   Specifically, the control unit 10 turns on the DUT 5 at the time T1 after turning on the overcurrent protection switch 2 and the protection element 4. And control part 10 turns off DUT5 in time T2 after progress of predetermined time. After step S107, the control unit 10 keeps the protection element 4 on until the switching test for the DUT 5 is completed. By the operation in step S107 of the control unit 10, the confirmation of the characteristics of the DUT 5 that has not been destroyed under the conditions 1 to 3 is completed.

なお、制御部10は、保護素子4およびDUT5にシングルパルスのゲート信号を印加して以上の動作を行う。つまり、制御部10は、ステップS101で保護素子4およびDUT5をオフした後、十分長い時間が経過してから、ステップS103の動作を行う。   The controller 10 performs the above operation by applying a single pulse gate signal to the protection element 4 and the DUT 5. That is, the control unit 10 performs the operation of step S103 after a sufficiently long time has elapsed after the protection element 4 and the DUT 5 are turned off in step S101.

DUT5をオフするとコイル3およびダイオード素子7に還流電流が流れる。還流電流が流れている間に保護素子4およびDUT5をオンにすると、電流Icが急峻に大きくなるが、ステップS101の後、十分長い時間が経過してから、つまり、還流電流が減衰して0になってからステップS103の動作を行うと、電流Icが徐々に大きくなる。したがって、保護素子4およびDUT5にシングルパルスのゲート信号を印加して以上の動作を行うことにより、DUT5のオン特性は検査されず、オフ特性のみを調べることができる。同様に、制御部10は、ステップS103の後、十分長い時間が経過してから、ステップS105の動作を行い、ステップS105の後、十分長い時間が経過してから、ステップS107の動作を行う。   When the DUT 5 is turned off, a reflux current flows through the coil 3 and the diode element 7. When the protection element 4 and the DUT 5 are turned on while the return current is flowing, the current Ic increases sharply. However, after step S101, a sufficiently long time has elapsed, that is, the return current is attenuated to 0. When the operation of step S103 is performed after the current becomes, the current Ic gradually increases. Therefore, by applying a single pulse gate signal to the protection element 4 and the DUT 5 and performing the above operation, the ON characteristic of the DUT 5 is not inspected, and only the OFF characteristic can be examined. Similarly, the control unit 10 performs the operation in step S105 after a sufficiently long time has elapsed after step S103, and performs the operation in step S107 after a sufficiently long time has elapsed after step S105.

比較例の検査回路および検査方法における電流Icの変化を図4に示す。比較例の検査方法では、制御部10は、時点T2から一定期間Tdelayの経過後に保護素子4をオフするが、保護素子4をオフしてから電流Icが減少し始めるまでには遅れ時間Td2が存在する。   FIG. 4 shows changes in the current Ic in the inspection circuit and the inspection method of the comparative example. In the inspection method of the comparative example, the control unit 10 turns off the protection element 4 after a lapse of a certain period Tdelay from the time point T2, but the delay time Td2 is before the current Ic starts to decrease after the protection element 4 is turned off. Exists.

そのため、DUT5の破壊のタイミング、一定期間Tdelayおよび遅れ時間Td2の長さにより、DUT5が破壊されてから保護素子4のオフにより電流Icが減少し始める時点T6までの時間が長くなり、検査機器の損傷が大きくなる。   Therefore, due to the timing of destruction of the DUT 5, the length of the fixed period Tdelay and the delay time Td2, the time from the destruction of the DUT 5 to the time T6 when the current Ic starts to decrease due to the protection element 4 being turned off becomes longer. Damage increases.

例えば、DUT5の破壊タイミングが早く、DUT5が時点T7で破壊された場合、DUT5の破壊タイミングが遅く、DUT5が時点T7よりも後の時点T8で破壊された場合よりも、DUT5が破壊された時点から時点T6までの時間が長い。そのため、DUT5の破壊タイミングが早い場合、検査機器の損傷が大きくなる。   For example, when the DUT5 destruction timing is early and the DUT5 is destroyed at the time T7, the DUT5 destruction timing is late, and when the DUT5 is destroyed at the time T8 after the time T7, the time when the DUT5 is destroyed. To the time T6 is long. For this reason, when the DUT 5 is destroyed early, the inspection equipment is greatly damaged.

なお、図4の電流Icのグラフにおいて、時点T7の後の破線は、DUT5の特性が正常であり、DUT5が破壊されなかった場合の電流Icを示す。また、実線は、時点T7でDUT5が破壊された場合の電流Icを示す。また、一点鎖線は、時点T8でDUT5が破壊された場合の電流Icを示す。   In the graph of current Ic in FIG. 4, the broken line after time T7 indicates current Ic when the characteristics of DUT 5 are normal and DUT 5 is not destroyed. The solid line indicates the current Ic when the DUT 5 is destroyed at the time T7. The alternate long and short dash line indicates the current Ic when the DUT 5 is destroyed at time T8.

これに対し、本実施形態では、制御部10は、ステップS101においてDUT5をオフする際、DUT5にローレベルのゲート信号を印加してから遮断時間が経過するまでの間に、保護素子4にローレベルのゲート信号を印加したタイミングと、このタイミング後の遅れ時間とが含まれるように、保護素子4にローレベルのゲート信号を印加するタイミングを設定する。つまり、図3に示すように制御部10は時点T5が時点T4よりも早くなるように保護素子4をオフする。   On the other hand, in the present embodiment, when the control unit 10 turns off the DUT 5 in step S101, the control unit 10 applies a low level to the protection element 4 after the low level gate signal is applied to the DUT 5 until the cutoff time elapses. The timing at which the low-level gate signal is applied to the protection element 4 is set so that the timing at which the level gate signal is applied and the delay time after this timing are included. That is, as shown in FIG. 3, the control unit 10 turns off the protection element 4 so that the time T5 is earlier than the time T4.

また、DUT5にローレベルのゲート信号を印加してから遮断時間が経過するまでの期間には、DUT5が破壊される可能性の高い期間が含まれている。また、このタイミングで保護素子4にローレベルのゲート信号を印加することにより、DUT5の破壊の可能性が高い期間内に電流Icの減少が始まる。そのため、DUT5に大電流が流れることを抑制して、DUT5が破壊タイミングの早いものであった場合、DUT5の破壊による検査機器の損傷を抑制することができる。また、これにより、検査コストを低減することができる。   Further, the period from when the low level gate signal is applied to the DUT 5 until the cutoff time elapses includes a period during which the DUT 5 is likely to be destroyed. Further, by applying a low level gate signal to the protection element 4 at this timing, the current Ic starts to decrease within a period in which the DUT 5 is highly likely to be destroyed. Therefore, it is possible to suppress a large current from flowing through the DUT 5 and suppress damage to the inspection equipment due to the destruction of the DUT 5 when the DUT 5 has an early destruction timing. Thereby, the inspection cost can be reduced.

また、このように検査機器の損傷が抑制されるため、比較例よりも大きな電流を用いてスイッチング試験を行うことができる。   Moreover, since damage to the inspection device is suppressed in this way, a switching test can be performed using a larger current than in the comparative example.

また、保護素子4をDUT5よりも破壊耐量が大きくなるようにしている。このため、DUT5が破壊された際に保護素子4も同時に破壊されることを抑制できる。   Further, the protection element 4 has a greater breakdown resistance than the DUT 5. For this reason, when DUT5 is destroyed, it can control that protection element 4 is also destroyed simultaneously.

また、比較例の検査回路では、DUT5の破壊のタイミングのばらつきにより、検査機器の損傷の大きさが変化する。これに対し、本実施形態では、制御部10は、図2、図3に示すように、DUT5にローレベルのゲート信号を印加してから保護素子4にローレベルのゲート信号を印加するまでの時間を徐々に長くして、DUT5および保護素子4をオフする動作を複数回繰り返す。これにより、図3に示すように、DUT5が時点T2から時点T4までのどの時点で破壊されても、検査機器の損傷を抑制することができる。   Further, in the inspection circuit of the comparative example, the magnitude of damage of the inspection device changes due to variations in the timing of the DUT 5 destruction. On the other hand, in this embodiment, as shown in FIGS. 2 and 3, the control unit 10 applies the low level gate signal to the DUT 5 until the low level gate signal is applied to the protection element 4. The operation of turning off the DUT 5 and the protection element 4 is repeated a plurality of times by gradually increasing the time. Thereby, as shown in FIG. 3, even if DUT5 is destroyed at any time from time T2 to time T4, damage to the inspection device can be suppressed.

例えば、DUT5が、制御部10の条件1による動作では破壊されず、条件2による動作で破壊された場合、時点T2の後、期間Tdelay2と遅れ時間Td2とを合わせた時間が経過したときに、電流Icが減少し始める。そして、ステップS104においてDUT5が破壊されたと判定され、その後のDUT5へのパルス印加は中止される。   For example, when the DUT 5 is not destroyed by the operation according to the condition 1 of the control unit 10 and is destroyed by the operation according to the condition 2, when the time period including the period Tdelay2 and the delay time Td2 elapses after the time T2, The current Ic begins to decrease. In step S104, it is determined that the DUT 5 has been destroyed, and the subsequent pulse application to the DUT 5 is stopped.

また、DUT5が、制御部10の条件1、条件2による動作では破壊されず、条件3による動作で破壊される特性である場合、期間Tdelay3と遅れ時間Td2とを合わせた時間が経過したときに、電流Icが減少し始める。そして、ステップS106においてDUT5が破壊されたと判定され、その後のDUT5への電圧印加は中止される。   Further, when the DUT 5 has characteristics that are not destroyed by the operation according to the conditions 1 and 2 of the control unit 10 and is destroyed by the operation according to the condition 3, the time when the period Tdelay3 and the delay time Td2 are combined has elapsed. The current Ic begins to decrease. In step S106, it is determined that the DUT 5 has been destroyed, and the subsequent voltage application to the DUT 5 is stopped.

また、制御部10の条件3による動作においてもDUT5が破壊されなかった場合、ステップS107において保護素子4を時点T2の後に常時オンとする動作が行われ、試験が終了する。   Further, when the DUT 5 is not destroyed even in the operation according to the condition 3 of the control unit 10, an operation of always turning on the protective element 4 after the time T2 is performed in step S107, and the test is completed.

つまり、制御部10は、保護素子4を常時オンとするステップS107のスイッチング試験の前に、ステップS101〜S106の動作を行うことで破壊タイミングの早いDUT5を判別し、このDUT5に対するスイッチング試験を中止する。したがって、破壊タイミングの遅いDUT5に対してのみ、保護素子4を常時オンとするスイッチング試験DUT5が行われるため、DUT5が破壊されてから電流Icが遮断されるまでの時間が長くなることを抑制できる。   That is, the control unit 10 determines the DUT 5 with the earlier breakdown timing by performing the operations of Steps S101 to S106 before the switching test of Step S107 in which the protection element 4 is always turned on, and stops the switching test for the DUT 5 To do. Therefore, since the switching test DUT5 in which the protection element 4 is always turned on is performed only for the DUT 5 with a late destruction timing, it is possible to suppress an increase in the time from when the DUT 5 is destroyed until the current Ic is cut off. .

なお、図3のDUT5が破壊されたときの電流Icのグラフにおいて、実線はステップS103でDUT5が破壊されたときの電流Icを示し、一点鎖線はステップS105でDUT5が破壊されたときの電流Icを示す。   In the graph of current Ic when DUT 5 in FIG. 3 is destroyed, the solid line indicates current Ic when DUT 5 is destroyed in step S103, and the alternate long and short dash line indicates current Ic when DUT 5 is destroyed in step S105. Indicates.

このように、本実施形態では、DUT5が時点T2から時点T4までのどの時点で破壊されても、DUT5が破壊されてから電流Icが遮断されるまでの時間が長くなることを抑制し、DUT5が破壊されたときの検査機器の損傷を抑制することができる。   As described above, in the present embodiment, it is possible to suppress an increase in the time from when the DUT 5 is destroyed until the current Ic is cut off, regardless of when the DUT 5 is destroyed from the time T2 to the time T4. It is possible to suppress damage to the inspection equipment when the is destroyed.

また、ステップS107において保護素子4を常時オンとする動作が行われるため、条件3において破壊されなかったDUT5について、電流や電圧等の検査負荷を低下させることなく検査を行うことができる。   In addition, since the operation of always turning on the protective element 4 is performed in step S107, the DUT 5 that is not destroyed in the condition 3 can be inspected without reducing the inspection load such as current and voltage.

また、複数のDUT5についてスイッチング試験を行う場合に、各DUT5について、DUT5が破壊されてから電流Icが遮断される時点までの時間が長くなることを抑制することができる。これにより、各DUT5の破壊のタイミングによる検査機器の損傷の大きさのばらつきを小さくすることができる。また、これにより、ステージやプローブ等の検査機器のメンテナンス周期を安定化して、検査コストを低減することができる。   Further, when a switching test is performed on a plurality of DUTs 5, it is possible to suppress an increase in the time from when the DUT 5 is destroyed until the current Ic is cut off for each DUT 5. Thereby, the dispersion | variation in the magnitude | size of the damage of a test | inspection apparatus by the timing of destruction of each DUT5 can be made small. This also stabilizes the maintenance cycle of inspection equipment such as a stage and a probe, thereby reducing inspection costs.

なお、本実施形態では、保護素子4を常時オンとするステップS107のスイッチング試験の前に条件1〜3による検査を行ったが、ステップS107の前に条件1による検査のみを行ってもよい。また、ステップS107の前に条件1および条件2による検査のみを行ってもよい。また、時点T2から保護素子4にローレベルのゲート信号が印加される時点までの期間の長さを本実施形態よりも細かく変化させて、破壊タイミングが早いDUT5を判別する検査をステップS107の前に4回以上行ってもよい。保護素子4にローレベルのゲート信号を印加するタイミングを細かく変化させて複数回の検査を行うことにより、検査機器の損傷をさらに抑制し、DUT5の破壊のタイミングによる検査機器の損傷の大きさのばらつきをさらに小さくすることができる。   In the present embodiment, the inspection according to the conditions 1 to 3 is performed before the switching test in step S107 in which the protection element 4 is always turned on. However, only the inspection according to the condition 1 may be performed before step S107. Moreover, you may perform only the test | inspection by the conditions 1 and 2 before step S107. Further, an inspection for determining the DUT 5 with the earlier destruction timing is performed before the step S107 by changing the length of the period from the time T2 to the time when the low-level gate signal is applied to the protection element 4 more finely than in the present embodiment. May be performed four or more times. The timing of applying the low-level gate signal to the protection element 4 is finely changed to perform a plurality of inspections, thereby further suppressing the damage of the inspection equipment and the magnitude of the damage of the inspection equipment due to the timing of the DUT 5 destruction. The variation can be further reduced.

また、本実施形態では、保護素子4およびDUT5にシングルパルスのゲート信号を印加したが、保護素子4およびDUT5にダブルパルスのゲート信号を印加してもよい。つまり、ステップS101においてDUT5をオフした後、コイル3およびダイオード素子7に流れる還流電流が減衰して0になる前に、ステップS103において保護素子4およびDUT5をオンしてもよい。これにより、ステップS103でDUT5をオンしたときに電流Icが急峻に大きくなるため、DUT5のオフ特性だけでなく、オン特性も調べることができる。また、制御部10が、還流電流が0になるのを待たずにステップS103に進むので、保護素子4およびDUT5にシングルパルスのゲート信号を印加する場合よりも短時間でスイッチング試験を行うことができる。   In the present embodiment, a single pulse gate signal is applied to the protection element 4 and the DUT 5, but a double pulse gate signal may be applied to the protection element 4 and the DUT 5. That is, after the DUT 5 is turned off in step S101, the protection element 4 and the DUT 5 may be turned on in step S103 before the return current flowing through the coil 3 and the diode element 7 is attenuated to zero. Thereby, when the DUT 5 is turned on in step S103, the current Ic increases steeply, so that not only the off characteristic of the DUT 5 but also the on characteristic can be examined. Further, since the control unit 10 does not wait for the return current to become zero and proceeds to step S103, the switching test can be performed in a shorter time than when a single pulse gate signal is applied to the protection element 4 and the DUT 5. it can.

同様に、DUT5をオフした後、コイル3およびダイオード素子7に流れる還流電流が減衰して0になる前に保護素子4およびDUT5をオンする動作を3回以上繰り返してもよい。   Similarly, the operation of turning on the protection element 4 and the DUT 5 may be repeated three or more times after the DUT 5 is turned off and before the return current flowing through the coil 3 and the diode element 7 is attenuated to zero.

また、検査回路には、コイル3、保護素子4、DUT5、電流計6、ダイオード素子7と並列となるように、第1コンデンサ8が配置されている。つまり、第1コンデンサ8とDUT5とが構成する電流経路の間に保護素子4が配置されている。このため、保護素子4をオフすることによって第1コンデンサ8とDUT5との接続も遮断することができ、DUT5が破壊された際にコイル3に蓄積されたエネルギーによってDUT5に大電流が流れることを抑制できる。   In the inspection circuit, a first capacitor 8 is arranged in parallel with the coil 3, the protection element 4, the DUT 5, the ammeter 6, and the diode element 7. That is, the protective element 4 is disposed between the current paths formed by the first capacitor 8 and the DUT 5. For this reason, the connection between the first capacitor 8 and the DUT 5 can be cut off by turning off the protection element 4, and a large current flows through the DUT 5 due to the energy accumulated in the coil 3 when the DUT 5 is destroyed. Can be suppressed.

なお、図5の破線で示すように、保護素子4のオフ速度di/dtが遅いと、保護素子4がオフされてから電流Icが遮断されるまでの時間が長くなり、検査機器の損傷が大きくなる。そのため、ゲート抵抗が小さい素子等の選定、適切なゲートドライバの選定等により、保護素子4のオフ速度を、例えば図5の一点鎖線で示すDUT5のオフ速度よりも速くすることが好ましい。これにより、図5の実線で示すように、保護素子4がオフされてから電流Icが遮断されるまでの時間を短くして、検査機器の損傷をさらに抑制することができる。   As shown by the broken line in FIG. 5, when the off speed di / dt of the protection element 4 is slow, the time from when the protection element 4 is turned off until the current Ic is cut off increases, and the inspection equipment is damaged. growing. Therefore, it is preferable that the off speed of the protection element 4 is made faster than the off speed of the DUT 5 indicated by a one-dot chain line in FIG. 5 by selecting an element having a small gate resistance, selecting an appropriate gate driver, or the like. Thereby, as shown by the solid line in FIG. 5, it is possible to shorten the time from when the protection element 4 is turned off until the current Ic is cut off, thereby further suppressing damage to the inspection device.

また、本実施形態では、ステップS107において、制御部10は、保護素子4を常時オンとする動作を行ったが、制御部10が、DUT5にローレベルのゲート信号を印加した後、保護素子4を十分に長い時間オンとする動作を行ってもよい。   In this embodiment, in step S107, the control unit 10 performs an operation of turning on the protection element 4 at all times. However, after the control unit 10 applies a low-level gate signal to the DUT 5, May be turned on for a sufficiently long time.

(第2実施形態)
本発明の第2実施形態について説明する。本実施形態は、第1実施形態をスイッチング試験およびリカバリ試験共用としたものであり、その他に関しては第1実施形態と同様であるため、ここでは説明を省略する。
(Second Embodiment)
A second embodiment of the present invention will be described. In the present embodiment, the first embodiment is used for both the switching test and the recovery test, and the other aspects are the same as those in the first embodiment, and thus the description thereof is omitted here.

本実施形態では、図6に示されるように、DUT5は、IGBT素子5aと、IGBT素子5aと並列に接続されたダイオード素子5bとにより構成されている。なお、図6では、電流計6および制御部10の図示を省略している。また、保護素子4は、IGBT素子4aと、IGBT素子4aと並列に接続されたダイオード素子4bとにより構成されている。IGBT素子4a、5aは、それぞれ、本発明の保護スイッチング素子、スイッチング素子に相当する。   In the present embodiment, as shown in FIG. 6, the DUT 5 includes an IGBT element 5a and a diode element 5b connected in parallel with the IGBT element 5a. In FIG. 6, the ammeter 6 and the control unit 10 are not shown. The protection element 4 includes an IGBT element 4a and a diode element 4b connected in parallel with the IGBT element 4a. The IGBT elements 4a and 5a correspond to the protection switching element and the switching element of the present invention, respectively.

そして、電源1に対して、保護素子4、DUT5と共に直列に接続されるように、IGBT素子11aおよびダイオード素子11bで構成された対抗素子11が配置されており、本実施形態では、電源1の正極側から対抗素子11、保護素子4、DUT5の順に配置されている。   And the opposing element 11 comprised by the IGBT element 11a and the diode element 11b is arrange | positioned so that it may be connected with the protection element 4 and DUT5 in series with respect to the power supply 1, and in this embodiment, the power supply 1 of The counter element 11, the protection element 4, and the DUT 5 are arranged in this order from the positive electrode side.

なお、対抗素子11のIGBT素子11aは、ゲート電極にハイレベルまたはローレベルのゲート信号が印加されることによってオン、オフが制御される。そして、各ダイオード素子4b、5b、11bは、カソード電極が各IGBT素子4a、5a、11aのコレクタ電極と接続され、アノード電極が各IGBT素子4a、5a、11aのエミッタ電極と接続されている。また、保護素子4、DUT5、対抗素子11における各IGBT素子4a、5a、11aと各ダイオード素子4b、5b、11bは、共通の半導体基板に形成された1チップ構造とされていてもよいし、別々の半導体基板に形成された別チップ構造とされていてもよい。   The IGBT element 11a of the counter element 11 is controlled to be turned on / off by applying a high level or low level gate signal to the gate electrode. Each diode element 4b, 5b, 11b has a cathode electrode connected to the collector electrode of each IGBT element 4a, 5a, 11a, and an anode electrode connected to the emitter electrode of each IGBT element 4a, 5a, 11a. Further, each of the IGBT elements 4a, 5a, 11a and the respective diode elements 4b, 5b, 11b in the protection element 4, the DUT 5, and the counter element 11 may have a one-chip structure formed on a common semiconductor substrate. It may be a separate chip structure formed on a separate semiconductor substrate.

そして、対抗素子11、保護素子4、DUT5と並列となるように、第1スイッチ12および第2スイッチ13が配置されている。また、第1スイッチ12と第2スイッチ13との間の接続点と、対抗素子11と保護素子4との間の接続点を接続するように、コイル3が配置されている。なお、第1スイッチ12および第2スイッチ13は、IGBT素子やMOS素子等のスイッチング素子によって構成されている。   And the 1st switch 12 and the 2nd switch 13 are arrange | positioned so that it may become in parallel with the opposing element 11, the protection element 4, and DUT5. The coil 3 is arranged so as to connect a connection point between the first switch 12 and the second switch 13 and a connection point between the counter element 11 and the protection element 4. In addition, the 1st switch 12 and the 2nd switch 13 are comprised by switching elements, such as an IGBT element and a MOS element.

このような検査回路では、対抗素子11、保護素子4、DUT5の各IGBT素子11a、4a、5a、第1スイッチ12、第2スイッチ13のオン、オフを制御してDUT5に流れる電流や電圧を変化せることによってDUT5の特性検査を行う。   In such a test circuit, the IGBT element 11a, 4a, 5a, the first switch 12, and the second switch 13 of the counter element 11, the protection element 4, and the DUT 5 are controlled to turn on and off the current and voltage flowing through the DUT 5. The characteristic inspection of the DUT 5 is performed by changing it.

すなわち、主としてDUT5におけるダイオード素子5bの特性を検査する場合には、第1スイッチ12をオフすると共に第2スイッチ13をオンし、保護素子4およびDUT5のIGBT素子4a、5aをオフした状態で対抗素子11のIGBT素子11aを駆動制御すればよい。   That is, when the characteristics of the diode element 5b in the DUT 5 are mainly inspected, the first switch 12 is turned off and the second switch 13 is turned on, and the protection element 4 and the IGBT elements 4a and 5a of the DUT 5 are turned off. The IGBT element 11a of the element 11 may be driven and controlled.

また、主としてDUT5におけるIGBT素子5aの特性を検査する場合には、第1スイッチ12をオンすると共に第2スイッチ13をオフし、保護素子4のIGBT素子4aをオンした状態でDUT5のIGBT素子5aを駆動制御すればよい。   When the characteristics of the IGBT element 5a in the DUT 5 are mainly inspected, the first switch 12 is turned on and the second switch 13 is turned off, and the IGBT element 4a of the protection element 4 is turned on, and the IGBT element 5a of the DUT 5 is turned on. May be driven and controlled.

このように、DUT5をIGBT素子5aとダイオード素子5bとを有するものとしても、図2に示す方法でスイッチング試験を行うことにより、上記第1実施形態と同様の効果を得ることができる。   As described above, even when the DUT 5 includes the IGBT element 5a and the diode element 5b, the same effect as that of the first embodiment can be obtained by performing the switching test by the method shown in FIG.

(第3実施形態)
本発明の第3実施形態について説明する。本実施形態は、第1実施形態に対してDUT5のアバランシェ試験を行うように検査回路の構成を変更したものであり、その他に関しては第1実施形態と同様であるため、ここでは説明を省略する。
(Third embodiment)
A third embodiment of the present invention will be described. In the present embodiment, the configuration of the inspection circuit is changed so that the avalanche test of the DUT 5 is performed with respect to the first embodiment. .

図7に示されるように、本実施形態の検査回路は、ダイオード素子7を備えず、DUT5に対してアバランシェ試験を行うように構成されている。そして、アバランシェ試験を行う際には、第1実施形態と同様に、DUT5をオフしてから保護素子4をオフする動作を、保護素子4をオフするタイミングの条件を変えて複数回繰り返す。なお、図7では、電流計6および制御部10の図示を省略している。   As shown in FIG. 7, the inspection circuit of the present embodiment does not include the diode element 7 and is configured to perform an avalanche test on the DUT 5. Then, when performing the avalanche test, as in the first embodiment, the operation of turning off the protection element 4 after turning off the DUT 5 is repeated a plurality of times while changing the conditions of the timing at which the protection element 4 is turned off. In FIG. 7, the ammeter 6 and the control unit 10 are not shown.

このように、本発明をアバランシェ試験の検査回路に適用しても、上記第1実施形態と同様の効果を得ることができる。   Thus, even when the present invention is applied to the inspection circuit for the avalanche test, the same effect as that of the first embodiment can be obtained.

(第4実施形態)
本発明の第4実施形態について説明する。本実施形態は、第1実施形態に対してDUT5の短絡試験を行うように検査回路の構成を変更したものであり、その他に関しては第1実施形態と同様であるため、ここでは説明を省略する。
(Fourth embodiment)
A fourth embodiment of the present invention will be described. In the present embodiment, the configuration of the inspection circuit is changed so as to perform a short circuit test of the DUT 5 with respect to the first embodiment. The other aspects are the same as those in the first embodiment, and thus the description thereof is omitted here. .

図8に示されるように、本実施形態の検査回路は、コイル3およびダイオード素子7を備えず、DUT5に対して短絡試験を行うように構成されている。そして、短絡試験を行う際には、第1実施形態と同様に、DUT5をオフしてから保護素子4をオフする動作を、保護素子4をオフするタイミングの条件を変えて複数回繰り返す。なお、図8では、電流計6および制御部10の図示を省略している。   As shown in FIG. 8, the inspection circuit of the present embodiment does not include the coil 3 and the diode element 7, and is configured to perform a short circuit test on the DUT 5. When performing the short-circuit test, as in the first embodiment, the operation of turning off the protection element 4 after turning off the DUT 5 is repeated a plurality of times while changing the timing conditions for turning off the protection element 4. In FIG. 8, illustration of the ammeter 6 and the control unit 10 is omitted.

このように、本発明を短絡試験の検査回路に適用しても、上記第1実施形態と同様の効果を得ることができる。   Thus, even when the present invention is applied to the inspection circuit for the short circuit test, the same effect as that of the first embodiment can be obtained.

(他の実施形態)
なお、本発明は上記した実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載した範囲内において適宜変更が可能である。
(Other embodiments)
In addition, this invention is not limited to above-described embodiment, In the range described in the claim, it can change suitably.

例えば、上記第1〜第4実施形態において、DUT5は、IGBT素子を有するものではなく、MOS素子、バイポーラトランジスタ等のスイッチング素子を有するものであってもよい。   For example, in the first to fourth embodiments, the DUT 5 does not have an IGBT element, but may have a switching element such as a MOS element or a bipolar transistor.

また、破壊検出手段としてDUT5に印加される電圧を測定する電圧計を用い、DUT5に印加される電圧が所定の閾値よりも小さい値になったときにDUT5が破壊されたと判定してもよい。また、検査回路が、過電流保護スイッチ2、第1コンデンサ8を備えていなくてもよい。   Alternatively, a voltmeter that measures the voltage applied to the DUT 5 may be used as the destruction detection means, and it may be determined that the DUT 5 has been destroyed when the voltage applied to the DUT 5 becomes smaller than a predetermined threshold value. The inspection circuit may not include the overcurrent protection switch 2 and the first capacitor 8.

また、上記第1〜第4実施形態において、保護素子4がDUT5より電源1の負極側に配置されていてもよい。また、上記第1実施形態において、ダイオード素子7およびコイル3がDUT5および保護素子4より電源1の負極側に配置されていてもよい。つまり、コイル3、保護素子4、DUT5の配列は適宜変更可能である。同様に、上記第2〜第4実施形態においてもDUT5の配置箇所は適宜変更可能である。また、上記各実施形態において、例えば、電源1の正極とコイル3との間に保護素子4を配置してもよい。   In the first to fourth embodiments, the protection element 4 may be disposed on the negative electrode side of the power source 1 from the DUT 5. In the first embodiment, the diode element 7 and the coil 3 may be disposed on the negative electrode side of the power source 1 with respect to the DUT 5 and the protection element 4. That is, the arrangement of the coil 3, the protection element 4, and the DUT 5 can be changed as appropriate. Similarly, in the second to fourth embodiments, the arrangement location of the DUT 5 can be changed as appropriate. Moreover, in each said embodiment, you may arrange | position the protection element 4 between the positive electrode of the power supply 1, and the coil 3, for example.

1 電源
4 保護素子
5 DUT
10 制御部
1 Power supply 4 Protection element 5 DUT
10 Control unit

Claims (7)

ハイレベルおよびローレベルのゲート信号が印加されることによってオン、オフが制御されるスイッチング素子(5a)を有し、前記スイッチング素子にローレベルのゲート信号が印加されてから所定の遮断時間が経過したときに前記スイッチング素子を通る電流の遮断が完了する特性を有する検査対象としての半導体素子(5)を検査する半導体素子の検査回路において、
前記半導体素子と前記半導体素子に接続される電源(1)との間に接続され、ハイレベルおよびローレベルのゲート信号が印加されることによってオン、オフが制御され、前記スイッチング素子よりも破壊耐量が大きい保護スイッチング素子(4a)を有し、前記保護スイッチング素子にローレベルのゲート信号が印加されてから所定の遅れ時間が経過したときに前記保護スイッチング素子を通る電流が減少し始める特性を有する保護素子(4)と、
前記半導体素子および前記保護素子のオン、オフを制御する制御部(10)と、を備え、
前記制御部は、前記半導体素子をオフする際、前記半導体素子にローレベルのゲート信号を印加してから前記遮断時間が経過するまでの間に、前記保護素子にローレベルのゲート信号を印加したタイミングと該タイミング後の前記遅れ時間が含まれるように、前記保護素子にローレベルのゲート信号を印加するタイミングを設定することを特徴とする半導体素子の検査回路。
It has a switching element (5a) that is controlled to be turned on and off by applying a high level and a low level gate signal, and a predetermined cutoff time has elapsed since the low level gate signal was applied to the switching element. In the semiconductor element inspection circuit for inspecting the semiconductor element (5) as an inspection object having a characteristic that the interruption of the current passing through the switching element is completed when
It is connected between the semiconductor element and a power source (1) connected to the semiconductor element, and is controlled to be turned on and off by applying high level and low level gate signals, and is more resistant to breakdown than the switching element. Having a large protection switching element (4a), and having a characteristic that the current passing through the protection switching element starts to decrease when a predetermined delay time has elapsed since a low-level gate signal was applied to the protection switching element. A protective element (4);
A control unit (10) for controlling on and off of the semiconductor element and the protective element,
The control unit applies a low-level gate signal to the protection element during a period from when a low-level gate signal is applied to the semiconductor element until the cutoff time elapses when the semiconductor element is turned off. An inspection circuit for a semiconductor element, wherein a timing for applying a low-level gate signal to the protection element is set so that the timing and the delay time after the timing are included.
前記制御部は、前記半導体素子にローレベルのゲート信号を印加してから前記保護素子にローレベルのゲート信号を印加するまでの時間の長さを変化させて、前記半導体素子および前記保護素子をオフする動作を複数回繰り返すことを特徴とする請求項1に記載の半導体素子の検査回路。   The control unit changes the length of time from application of a low level gate signal to the semiconductor element to application of a low level gate signal to the protection element, thereby controlling the semiconductor element and the protection element. The semiconductor element inspection circuit according to claim 1, wherein the turning-off operation is repeated a plurality of times. 前記半導体素子の破壊を検出する破壊検出手段(6、10)を備え、
前記破壊検出手段は、前記制御部が前記半導体素子および前記保護素子をオンする動作と前記半導体素子および前記保護素子をオフする動作とを交互に複数回繰り返すことにより行う検査の間に、前記半導体素子が破壊されたか否かを判定し、
前記制御部は、前記破壊検出手段が前記半導体素子の破壊を検出したとき、その後の前記半導体素子の検査を中止することを特徴とする請求項2に記載の半導体素子の検査回路。
Destruction detection means (6, 10) for detecting destruction of the semiconductor element,
The breakdown detecting means is configured such that during the inspection, the control unit repeats the operation of turning on the semiconductor element and the protective element and the operation of turning off the semiconductor element and the protective element alternately several times. Determine if the element is destroyed,
3. The semiconductor element inspection circuit according to claim 2, wherein when the destruction detection unit detects the destruction of the semiconductor element, the control unit stops the inspection of the semiconductor element thereafter.
前記保護素子のオフ速度は、前記半導体素子のオフ速度よりも速いことを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1つに記載の半導体素子の検査回路。   4. The semiconductor element inspection circuit according to claim 1, wherein an off speed of the protection element is faster than an off speed of the semiconductor element. 5. ハイレベルおよびローレベルのゲート信号が印加されることによってオン、オフが制御されるスイッチング素子(5a)を有し、前記スイッチング素子にローレベルのゲート信号が印加されてから所定の遮断時間が経過したときに前記スイッチング素子を通る電流の遮断が完了する特性を有する検査対象としての半導体素子(5)を検査する半導体素子の検査方法において、
前記半導体素子と前記半導体素子に接続される電源(1)との間に、ハイレベルおよびローレベルのゲート信号が印加されることによってオン、オフが制御され、前記スイッチング素子よりも破壊耐量が大きい保護スイッチング素子(4a)を有し、前記保護スイッチング素子にローレベルのゲート信号が印加されてから所定の遅れ時間が経過したときに前記保護スイッチング素子を通る電流が減少し始める特性を有する保護素子(4)を配置し、
前記半導体素子をオフする際、前記半導体素子にローレベルのゲート信号を印加してから前記遮断時間が経過するまでの間に、前記保護素子にローレベルのゲート信号を印加したタイミングと該タイミング後の前記遅れ時間が含まれるように、前記保護素子にローレベルのゲート信号を印加するタイミングを設定することを特徴とする半導体素子の検査方法。
It has a switching element (5a) that is controlled to be turned on and off by applying a high level and a low level gate signal, and a predetermined cutoff time has elapsed since the low level gate signal was applied to the switching element. In the semiconductor element inspection method for inspecting the semiconductor element (5) as an inspection object having a characteristic that the interruption of the current passing through the switching element is completed when
High and low level gate signals are applied between the semiconductor element and the power source (1) connected to the semiconductor element to control on / off, and the breakdown resistance is larger than that of the switching element. A protective element having a protective switching element (4a) and having a characteristic that a current passing through the protective switching element starts to decrease when a predetermined delay time has elapsed after a low-level gate signal is applied to the protective switching element. (4) is placed,
When the semiconductor element is turned off, the timing at which the low-level gate signal is applied to the protection element between the time when the low-level gate signal is applied to the semiconductor element and the time when the blocking time elapses, and the timing after The timing for applying a low-level gate signal to the protection element is set so that the delay time is included.
前記半導体素子にローレベルのゲート信号を印加してから前記保護素子にローレベルのゲート信号を印加するまでの時間の長さを変化させて、前記半導体素子および前記保護素子をオフする動作を複数回繰り返すことを特徴とする請求項5に記載の半導体素子の検査方法。   A plurality of operations of turning off the semiconductor element and the protection element by changing a length of time from application of a low level gate signal to the semiconductor element to application of a low level gate signal to the protection element 6. The method for inspecting a semiconductor device according to claim 5, wherein the method is repeated a number of times. 前記半導体素子および前記保護素子をオンする動作と前記半導体素子および前記保護素子をオフする動作とを交互に複数回繰り返すことにより行う検査の間に、前記半導体素子が破壊されたか否かを判定し、
前記半導体素子が破壊されたと判定したとき、その後の前記半導体素子の検査を中止することを特徴とする請求項6に記載の半導体素子の検査方法。
It is determined whether or not the semiconductor element is destroyed during an inspection performed by alternately repeating the operation of turning on the semiconductor element and the protection element and the operation of turning off the semiconductor element and the protection element. ,
The method for inspecting a semiconductor element according to claim 6, wherein when it is determined that the semiconductor element has been destroyed, the subsequent inspection of the semiconductor element is stopped.
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