JP6409697B2 - Semiconductor device inspection circuit and inspection method - Google Patents
Semiconductor device inspection circuit and inspection method Download PDFInfo
- Publication number
- JP6409697B2 JP6409697B2 JP2015136347A JP2015136347A JP6409697B2 JP 6409697 B2 JP6409697 B2 JP 6409697B2 JP 2015136347 A JP2015136347 A JP 2015136347A JP 2015136347 A JP2015136347 A JP 2015136347A JP 6409697 B2 JP6409697 B2 JP 6409697B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- dut
- semiconductor element
- gate signal
- level gate
- protection
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000007689 inspection Methods 0.000 title claims description 94
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 63
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 19
- 230000006378 damage Effects 0.000 claims description 38
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 19
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 claims description 10
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 4
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 claims 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 34
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 19
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 230000001052 transient effect Effects 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
Description
本発明は、スイッチング素子を有する半導体素子の検査回路および検査方法に関するものである。 The present invention relates to an inspection circuit and an inspection method for a semiconductor element having a switching element.
従来、この種の検査回路として、例えば、特許文献1に次のような検査回路が提案されている。すなわち、この検査回路では、電源と検査対象の半導体素子(DUT:Device Under Test)との間にスイッチが配置されていると共に、DUTに流れる電流を測定する電流計が配置されている。また、電流計の測定結果に基づいて、スイッチのオン、オフを制御するコントローラが配置されている。なお、DUTとしては、ゲート電極を有し、ゲート電極にハイレベルおよびローレベルのゲート信号が印加されることによってオン、オフが制御されるIGBT素子等のスイッチング素子が用いられる。
Conventionally, as this type of inspection circuit, for example,
このような検査回路では、DUTは、オフされた際(ゲート電極にローレベルのゲート信号が印加された際)に過渡的に電流が集中して破壊されやすい。そして、上記検査回路では、電流計で測定された結果が所定の閾値より大きいとき、コントローラはDUTが破壊されたと判定してスイッチをオフする。つまり、DUTが破壊されてDUTに大電流が流れる場合には、コントローラによってスイッチがオフされる。このため、DUTが破壊された際、DUTを検査するために用いられるステージやプローブ等の検査機器が損傷することを抑制できる。 In such an inspection circuit, when the DUT is turned off (when a low-level gate signal is applied to the gate electrode), the current is easily concentrated and destroyed. In the inspection circuit, when the result measured by the ammeter is larger than a predetermined threshold, the controller determines that the DUT is destroyed and turns off the switch. That is, when the DUT is destroyed and a large current flows through the DUT, the switch is turned off by the controller. For this reason, when a DUT is destroyed, it can control that inspection equipment, such as a stage used for inspecting DUT, and a probe, is damaged.
しかしながら、上記検査回路では、DUTが実際に破壊されてからDUTが破壊されたと判定するまでの期間と、DUTが破壊されたと判定してからスイッチをオフにするまでの期間とが必要となる。このため、スイッチがオフされるまでの間にDUTに大電流が流れる可能性があり、この場合は検査機器が損傷する可能性がある。 However, the inspection circuit requires a period from when the DUT is actually destroyed until it is determined that the DUT is destroyed, and a period from when it is determined that the DUT is destroyed until the switch is turned off. For this reason, a large current may flow through the DUT before the switch is turned off, and in this case, the inspection device may be damaged.
これについて、本発明者らは、ゲート電極を有し、ゲート電極にハイレベルおよびローレベルのゲート信号が印加されることによってオン、オフが制御されるスイッチング素子を有する検査対象としてのDUTを検査するDUTの検査回路において、以下の点を特徴とする検査回路を提案した。 In this regard, the present inventors have inspected a DUT as an inspection target having a gate electrode and a switching element that is controlled to be turned on and off by applying a high-level and low-level gate signal to the gate electrode. In the DUT inspection circuit, an inspection circuit having the following features has been proposed.
すなわち、この検査回路では、DUTと当該DUTに接続される電源との間に、ゲート電極を有し、ゲート電極にハイレベルおよびローレベルのゲート信号が印加されることによってオン、オフが制御され、スイッチング素子よりも破壊耐量が大きいスイッチング素子を有する保護素子が配置されている。そして、保護素子は、DUTのゲート電極にローレベルのゲート信号が印加されて当該DUTをオフする際、DUTのゲート電極にローレベルのゲート信号が印加されてから所定期間経過後に当該保護素子のゲート電極にローレベルのゲート信号が印加されることによって電源とDUTとの接続を遮断する。 That is, in this inspection circuit, a gate electrode is provided between the DUT and a power source connected to the DUT, and on / off is controlled by applying high-level and low-level gate signals to the gate electrode. A protective element having a switching element having a greater breakdown resistance than the switching element is disposed. Then, when a low level gate signal is applied to the gate electrode of the DUT to turn off the DUT, the protection element has a predetermined period after the low level gate signal is applied to the gate electrode of the DUT. The connection between the power source and the DUT is cut off by applying a low level gate signal to the gate electrode.
これによれば、DUTのゲート電極にローレベルのゲート信号を印加することで過渡電流によってDUTが破壊されたとしても、DUTのゲート電極にローレベルのゲート信号を印加してから所定期間経過後に必ず保護素子がオフとなる。したがって、DUTのゲート電極にローレベルのゲート信号を印加する時点と、保護素子のゲート電極にローレベルのゲート信号を印加する時点との間の期間を適宜調整することにより、DUTに大電流が流れることを抑制でき、検査機器が損傷することを抑制できる。また、保護素子をDUTよりも破壊耐量が大きくなるようにしているため、DUTが破壊された際に保護素子も同時に破壊されることを抑制できる。 According to this, even if the DUT is destroyed by a transient current by applying a low-level gate signal to the gate electrode of the DUT, a predetermined period elapses after the low-level gate signal is applied to the gate electrode of the DUT. The protection element is always turned off. Accordingly, by appropriately adjusting the period between the time point when the low level gate signal is applied to the gate electrode of the DUT and the time point when the low level gate signal is applied to the gate electrode of the protection element, a large current is generated in the DUT. Flow can be suppressed and damage to the inspection device can be suppressed. Moreover, since the protection element has a greater breakdown resistance than the DUT, it is possible to suppress the protection element from being destroyed at the same time when the DUT is destroyed.
しかしながら、保護素子にローレベルのゲート信号を印加してから、保護素子へのローレベルのゲート信号の印加によりDUTを流れる電流が減少し始めるまでには、遅れ時間が存在する。そのため、DUTにローレベルのゲート信号を印加してから保護素子にローレベルのゲート信号を印加するまでの期間の長さ、および、遅れ時間の長さによっては、DUTが破壊されてから電流が減少し始めるまでの時間が長くなり、検査機器の損傷が大きくなる。本発明者らが提案した上記検査回路では、この点において、検査機器の損傷をさらに抑制する必要がある。 However, there is a delay time from when the low level gate signal is applied to the protection element until the current flowing through the DUT starts to decrease due to the application of the low level gate signal to the protection element. Therefore, depending on the length of the period from when the low level gate signal is applied to the DUT to when the low level gate signal is applied to the protection element, and the length of the delay time, the current may flow after the DUT is destroyed. The time until it starts to decrease becomes longer, and the damage to the inspection equipment increases. In the above-described inspection circuit proposed by the present inventors, it is necessary to further suppress damage to the inspection device in this respect.
本発明は上記点に鑑みて、DUTが破壊されたときに検査機器が損傷することを抑制できるDUTの検査回路および検査方法を提供する。 In view of the above points, the present invention provides a DUT inspection circuit and an inspection method capable of suppressing damage to an inspection device when the DUT is destroyed.
上記目的を達成するため、請求項1に記載の発明では、ハイレベルおよびローレベルのゲート信号が印加されることによってオン、オフが制御されるスイッチング素子(5a)を有し、スイッチング素子にローレベルのゲート信号が印加されてから所定の遮断時間が経過したときにスイッチング素子を通る電流の遮断が完了する特性を有する検査対象としての半導体素子(5)を検査する半導体素子の検査回路において、半導体素子と半導体素子に接続される電源(1)との間に接続され、ハイレベルおよびローレベルのゲート信号が印加されることによってオン、オフが制御され、スイッチング素子よりも破壊耐量が大きい保護スイッチング素子(4a)を有し、保護スイッチング素子にローレベルのゲート信号が印加されてから所定の遅れ時間が経過したときに保護スイッチング素子を通る電流が減少し始める特性を有する保護素子(4)と、半導体素子および保護素子のオン、オフを制御する制御部(10)と、を備え、制御部は、半導体素子をオフする際、半導体素子にローレベルのゲート信号を印加してから遮断時間が経過するまでの間に、保護素子にローレベルのゲート信号を印加したタイミングと該タイミング後の遅れ時間が含まれるように、保護素子にローレベルのゲート信号を印加するタイミングを設定することを特徴としている。 In order to achieve the above object, according to the first aspect of the present invention, there is provided a switching element (5a) which is controlled to be turned on and off by applying a high level and a low level gate signal. In an inspection circuit for a semiconductor element for inspecting a semiconductor element (5) as an inspection object having a characteristic that the interruption of a current passing through a switching element is completed when a predetermined interruption time has elapsed since the application of a level gate signal, Protection connected between a semiconductor element and a power source (1) connected to the semiconductor element, and controlled to be turned on and off by applying high-level and low-level gate signals, and has a greater breakdown resistance than a switching element A switching element (4a), and a predetermined delay after a low-level gate signal is applied to the protective switching element; A protection element (4) having a characteristic that a current passing through the protection switching element starts to decrease when time elapses, and a control unit (10) for controlling on / off of the semiconductor element and the protection element, the control unit When the semiconductor element is turned off, the timing at which the low-level gate signal is applied to the protective element and the delay after the timing between when the low-level gate signal is applied to the semiconductor element and until the cutoff time elapses. The timing of applying a low-level gate signal to the protection element is set so that time is included.
これによれば、制御部は、半導体素子をオフする際、半導体素子にローレベルのゲート信号を印加してから遮断時間が経過するまでの間に、保護素子にローレベルのゲート信号を印加したタイミングと該タイミング後の遅れ時間が含まれるように、保護素子にローレベルのゲート信号を印加するタイミングを設定する。また、半導体素子にローレベルのゲート信号を印加してから遮断時間が経過するまでの期間には、半導体素子が破壊される可能性の高い期間が含まれている。そのため、このタイミングで保護素子にローレベルのゲート信号を印加することにより、半導体素子が破壊されたときに検査機器の損傷を抑制することができる。 According to this, when the semiconductor element is turned off, the control unit applies the low-level gate signal to the protective element between the application of the low-level gate signal to the semiconductor element and the passage of the cutoff time. The timing for applying the low-level gate signal to the protection element is set so that the timing and the delay time after the timing are included. Further, the period from when the low-level gate signal is applied to the semiconductor element until the cutoff time elapses includes a period during which the semiconductor element is highly likely to be destroyed. Therefore, by applying a low-level gate signal to the protection element at this timing, it is possible to suppress damage to the inspection device when the semiconductor element is destroyed.
また、請求項5に記載の発明では、ハイレベルおよびローレベルのゲート信号が印加されることによってオン、オフが制御されるスイッチング素子(5a)を有し、スイッチング素子にローレベルのゲート信号が印加されてから所定の遮断時間が経過したときにスイッチング素子を通る電流の遮断が完了する特性を有する検査対象としての半導体素子(5)を検査する半導体素子の検査方法において、半導体素子と半導体素子に接続される電源(1)との間に、ハイレベルおよびローレベルのゲート信号が印加されることによってオン、オフが制御され、スイッチング素子よりも破壊耐量が大きい保護スイッチング素子(4a)を有し、保護スイッチング素子にローレベルのゲート信号が印加されてから所定の遅れ時間が経過したときに保護スイッチング素子を通る電流が減少し始める特性を有する保護素子(4)を配置し、半導体素子をオフする際、半導体素子にローレベルのゲート信号を印加してから遮断時間が経過するまでの間に、保護素子にローレベルのゲート信号を印加したタイミングと該タイミング後の遅れ時間が含まれるように、保護素子にローレベルのゲート信号を印加するタイミングを設定することを特徴としている。 According to the fifth aspect of the present invention, the switching element (5a), which is controlled to be turned on and off by application of high level and low level gate signals, has a low level gate signal. In a semiconductor element inspection method for inspecting a semiconductor element (5) as an inspection object having a characteristic of completing the interruption of a current passing through a switching element when a predetermined interruption time has elapsed since the application, the semiconductor element and the semiconductor element A high-level and low-level gate signal is applied to the power supply (1) connected to the power supply (1), and the protection switching element (4a) having a higher breakdown resistance than the switching element is controlled by turning on and off. Protection when a predetermined delay time has elapsed since the low-level gate signal was applied to the protection switching element. When the protective element (4) having the characteristic that the current passing through the switching element starts to decrease is disposed and the semiconductor element is turned off, the low-level gate signal is applied to the semiconductor element and the cutoff time elapses. The timing for applying the low level gate signal to the protection element is set so that the timing at which the low level gate signal is applied to the protection element and the delay time after the timing are included.
このように本発明をDUTの検査方法として把握することもできる。そして、この検査方法によれば、半導体素子をオフする際、半導体素子にローレベルのゲート信号を印加してから遮断時間が経過するまでの間に、保護素子にローレベルのゲート信号を印加したタイミングと該タイミング後の遅れ時間が含まれるように、保護素子にローレベルのゲート信号を印加するタイミングを設定する。また、半導体素子にローレベルのゲート信号を印加してから遮断時間が経過するまでの期間には、半導体素子が破壊される可能性の高い期間が含まれている。そのため、このタイミングで保護素子にローレベルのゲート信号を印加することにより、半導体素子が破壊されたときに検査機器の損傷を抑制することができる。 Thus, the present invention can be grasped as a DUT inspection method. According to this inspection method, when the semiconductor element is turned off, the low-level gate signal is applied to the protective element between the time when the low-level gate signal is applied to the semiconductor element and the cutoff time elapses. The timing for applying the low-level gate signal to the protection element is set so that the timing and the delay time after the timing are included. Further, the period from when the low-level gate signal is applied to the semiconductor element until the cutoff time elapses includes a period during which the semiconductor element is highly likely to be destroyed. Therefore, by applying a low-level gate signal to the protection element at this timing, it is possible to suppress damage to the inspection device when the semiconductor element is destroyed.
なお、上記各手段の括弧内の符号は、後述する実施形態に記載の具体的手段との対応関係の一例を示すものである。 In addition, the code | symbol in the bracket | parenthesis of each said means shows an example of a corresponding relationship with the specific means as described in embodiment mentioned later.
以下、本発明の実施形態について図に基づいて説明する。なお、以下の各実施形態相互において、互いに同一もしくは均等である部分には、同一符号を付して説明を行う。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In the following embodiments, parts that are the same or equivalent to each other will be described with the same reference numerals.
(第1実施形態)
本発明の第1実施形態について説明する。本実施形態では、DUTのスイッチング試験を行う検査回路および検査方法について説明する。
(First embodiment)
A first embodiment of the present invention will be described. In this embodiment, an inspection circuit and an inspection method for performing a DUT switching test will be described.
図1に示すように、本実施形態の検査回路は、電源1、過電流保護スイッチ2、コイル3、保護素子4、DUT5、電流計6、ダイオード素子7、第1コンデンサ8、第2コンデンサ9、制御部10を備えている。
As shown in FIG. 1, the inspection circuit of this embodiment includes a
電源1には、過電流保護スイッチ2、コイル3、保護素子4、DUT5、電流計6が順に直列に接続されている。過電流保護スイッチ2は、DUT5が破壊された際に電源1や図示しないテスター等を保護するためのものであり、DUT5の破壊が検出されるとオフされる。過電流保護スイッチ2は、例えば、ゲート電極、コレクタ電極、エミッタ電極を有するNチャネル型のIGBT(絶縁ゲートバイポーラトランジスタ)素子で構成される。
An
コイル3は、DUT5がオン、オフされたときの特性を調べるためにDUT5に流れる電流を制御するためのものである。具体的には、過電流保護スイッチ2および保護素子4がオンされており、コイル3に電流が流れていない状態においてDUT5がオフからオンに切り替えられると、コイル3およびDUT5に流れる電流は、コイル3のインダクタンスにより徐々に増加する。
The
検査回路にはコイル3に並列となるようにダイオード素子7が配置されており、DUT5がオフされると、コイル3およびダイオード素子7により形成されるループ経路を還流電流が流れる。このループ経路に還流電流が流れている状態においてDUT5がオンされると、還流電流の経路が切り替えられて、DUT5に流れる電流が急峻に大きくなる。
A
ダイオード素子7は、本実施形態では、FWD(フリーホイールダイオード)素子で構成されている。ダイオード素子7のカソード電極は、過電流保護スイッチ2およびコイル3の接続点に接続されており、ダイオード素子7のアノード電極は、コイル3および保護スイッチ4の接続点に接続されている。
In the present embodiment, the
保護素子4は、DUT5が破壊された場合に検査機器を保護するためのものである。保護素子4と同じく検査機器を保護するものとして過電流保護スイッチ2が配置されているが、保護素子4は、第1コンデンサ8の放電の際に検査機器を保護する役割を果たす。
The
DUT5は、本実施形態における検査対象であり、本発明の半導体素子に相当する。保護素子4およびDUT5は、本実施形態では、ゲート電極、コレクタ電極、エミッタ電極を有するNチャネル型のIGBT素子で構成されている。
The
つまり、保護素子4およびDUT5は、ゲート電極にハイレベルおよびローレベルのゲート信号が印加されることによってオン、オフが制御されるスイッチング素子で構成されている。また、保護素子4は、DUT5よりも破壊耐量が大きいIGBT素子で構成されている。
That is, the
また、DUT5は、ローレベルのゲート信号が印加されてから所定の遅れ時間Td1が経過したときにDUT5を通る電流が減少し始める特性を有する。また、DUT5は、ローレベルのゲート信号が印加されてから所定の遮断時間が経過したときにDUT5を通る電流の遮断が完了する特性を有する。また、保護素子4は、ローレベルのゲート信号が印加されてから所定の遅れ時間Td2が経過したときに保護素子4を通る電流が減少し始める特性を有する。
The
そして、電源1の正極に過電流保護スイッチ2を介してコイル3の一端が接続され、コイル3の他端に保護素子4のコレクタ電極が接続されている。また、保護素子4のエミッタ電極にDUT5のコレクタ電極が接続され、DUT5のエミッタ電極に電流計6を介して電源1の負極(グランド)が接続されている。なお、保護素子4は電源1に対してコイル3と直列に配置されていればよいが、前述したように、保護素子4には第1コンデンサ8の放電から検査機器を保護する役割があるため、保護素子4を第1コンデンサ8よりもDUT5側に配置することが好ましい。
One end of the
電流計6は、DUT5の破壊を検出するためにDUT5に流れる電流を測定するものである。破壊検出の方法として、特許文献1に記載の方法を用いることができる。電流計6は、図1に示すように制御部10に接続されており、制御部10は、電流計6の出力に基づいて、過電流を検出し、DUT5が破壊されたか否かを判定する。
The
このように、電流計6はDUT5に流れる電流を測定し、制御部10は電流計6の出力に基づいてDUT5の破壊を検出する。したがって、電流計6および制御部10は、本発明の破壊検出手段に相当する。
As described above, the
第1コンデンサ8は、寄生インダクタンスを低減し、スイッチング時のリプルの低減やノイズの影響を抑制するためのコンデンサである。第1コンデンサ8は、電源1に対してコイル3、保護素子4、DUT5、電流計6、ダイオード素子7と並列となるように配置されている。
The
第2コンデンサ9は、寄生インダクタンスを低減して一定な電源電圧を形成するためのコンデンサであり、第1コンデンサ8よりも容量の大きいコンデンサが第2コンデンサ9として用いられる。第2コンデンサ9は、電源1に対して過電流保護スイッチ2、コイル3、保護素子4、DUT5、電流計6、ダイオード素子7、第1コンデンサ8と並列となるように配置されている。
The
制御部10は、CPU、ROM、RAM、I/Oなどを備えた周知のマイクロコンピュータによって構成されている。制御部10は、ROMなどに記憶されたプログラムに従って各種演算などの処理を実行し、保護素子4およびDUT5のオン、オフを制御し、DUT5のスイッチング試験を行う。図1に示すように、過電流保護スイッチ2、保護素子4、DUT5、電流計6は、制御部10に接続されている。以上が本実施形態における検査回路である。
The
次に、上記検査回路を用いたDUT5の検査方法について説明する。DUT5の検査は、基本的には、DUT5および保護素子4のゲート電極にハイレベルまたはローレベルのゲート信号Vg1、Vg2を印加することによってオン、オフを制御し、DUT5に流れる電流や電圧を変化させることによって行う。なお、図3および図4では、ハイレベルのゲート信号Vg1、Vg2をHとして図示し、ローレベルのゲート信号Vg1、Vg2をLとして図示している。
Next, a method for inspecting the
本実施形態の検査回路では、制御部10が図2のフローチャートに示す動作を行うことにより、DUT5をオフする際のスイッチング試験が行われる。具体的には、制御部10は、DUT5および保護素子4をオンする動作と、DUT5および保護素子4をオフする動作とを交互に複数回繰り返すことによりDUT5の検査を行う。
In the inspection circuit of the present embodiment, a switching test when the
本実施形態では、制御部10は、DUT5にローレベルのゲート信号を印加してから保護素子4にローレベルのゲート信号を印加するまでの時間の長さを変化させて、DUT5および保護素子4をオフする動作を複数回繰り返す。また、制御部10は、DUT5および保護素子4をオンする動作と、DUT5および保護素子4をオフする動作とを交互に複数回繰り返す間に、DUT5が破壊されたか否かを判定する。
In the present embodiment, the
スイッチング試験が開始されると、ステップS101において、制御部10は条件1による動作を行い、ステップS102に進む。具体的には、制御部10は、過電流保護スイッチ2および保護素子4をオンした後、図3に示すように、時点T1においてDUT5をオンする。そして、制御部10は、所定の時間の経過後、時点T2においてDUT5をオフし、時点T2から一定の期間Tdelay1が経過したとき、保護素子4をオフする。
When the switching test is started, in step S101, the
なお、図3に示すように、電流Icは、時点T2から遅れ時間Td1が経過した時点T3において減少し始める。そして、後述するステップS107においてDUT5が破壊されない場合、電流Icは、時点T2からDUT5の遮断時間が経過した時点T4において0となる。
As shown in FIG. 3, the current Ic starts to decrease at time T3 when the delay time Td1 has elapsed from time T2. If the
また、制御部10は、DUT5をオフする際、DUT5にローレベルのゲート信号を印加する時点T2からDUT5の遮断時間が経過する時点T4までの間に、保護素子4にローレベルのゲート信号を印加したタイミングと、このタイミング後の遅れ時間Td2とが含まれるように、保護素子4にローレベルのゲート信号を印加するタイミングを設定する。つまり、制御部10は、期間Tdelay1と遅れ時間Td2との和が、時点T4と時点T2との差よりも小さくなるように、保護素子4にローレベルのゲート信号を印加する。
When the
DUT5のオフによりDUT5を流れる電流Icの減少が開始される時点T3と、電流Icの遮断が完了する時点T4との間の期間は、DUT5の破壊の可能性が高い期間である。この期間内に保護素子4のオフによる電流Icの減少が開始されることにより、DUT5が破壊されたときの検査機器の損傷を抑制することができる。
The period between the time point T3 at which the decrease in the current Ic flowing through the
本実施形態では、時点T3と時点T4との間の時点T5において、保護素子4のオフによる電流Icの減少が開始される。
In the present embodiment, at the time T5 between the time T3 and the time T4, the decrease in the current Ic due to the
ステップS102において、制御部10は、電流計6からの信号に基づいて、DUT5が破壊されたか否か判定する。具体的には、例えば、ステップS101においてDUT5をオフした後に、DUT5に流れる電流が所定の閾値よりも大きい値になった場合、制御部10はDUT5が破壊されたと判定する。
In step S <b> 102, the
制御部10は、DUT5が破壊されていないと判定するとステップS103に進み、DUT5が破壊されたと判定すると、その後のDUT5および保護素子4をオフする動作を中止し、DUT5のスイッチング試験を終了する。ステップS103では、制御部10は、条件2による動作を行い、ステップS104に進む。
When it is determined that the
具体的には、制御部10は、過電流保護スイッチ2および保護素子4をオンした後、図3に示すように、時点T1においてDUT5をオンする。そして、制御部10は、所定の時間の経過後、時点T2においてDUT5をオフし、時点T2から期間Tdelay1よりも長い一定の期間Tdelay2が経過したとき、保護素子4をオフする。
Specifically, after the
ステップS104において、制御部10は、ステップS102と同様に、DUT5が破壊されたか否か判定する。制御部10は、DUT5が破壊されていないと判定するとステップS105に進み、DUT5が破壊されたと判定すると、その後のDUT5への電源電圧とゲート電圧の印加を中止し、試験を終了する。ステップS105では、制御部10は、条件3による動作を行い、ステップS106に進む。
In step S104, the
具体的には、制御部10は、過電流保護スイッチ2および保護素子4をオンした後、図3に示すように、時点T1においてDUT5をオンする。そして、制御部10は、所定の時間の経過後、時点T2においてDUT5をオフし、時点T2から期間Tdelay2よりも長い一定の期間Tdelay3が経過したとき、保護素子4をオフする。
Specifically, after the
ステップS106において、制御部10は、ステップS102と同様に、DUT5が破壊されたか否か判定する。制御部10は、DUT5が破壊されていないと判定するとステップS107に進み、DUT5が破壊されたと判定すると、DUT5のスイッチング試験を終了する。ステップS107では、制御部10は、保護素子4を常時オンとする動作を行う。
In step S106, the
具体的には、制御部10は、過電流保護スイッチ2および保護素子4をオンした後、時点T1においてDUT5をオンする。そして、制御部10は、所定の時間の経過後、時点T2においてDUT5をオフする。制御部10は、ステップS107の後、このDUT5に対するスイッチング試験を終了するまで保護素子4をオンのままにする。制御部10のステップS107における動作により、条件1〜3で破壊されなかったDUT5の特性の確認が完了する。
Specifically, the
なお、制御部10は、保護素子4およびDUT5にシングルパルスのゲート信号を印加して以上の動作を行う。つまり、制御部10は、ステップS101で保護素子4およびDUT5をオフした後、十分長い時間が経過してから、ステップS103の動作を行う。
The
DUT5をオフするとコイル3およびダイオード素子7に還流電流が流れる。還流電流が流れている間に保護素子4およびDUT5をオンにすると、電流Icが急峻に大きくなるが、ステップS101の後、十分長い時間が経過してから、つまり、還流電流が減衰して0になってからステップS103の動作を行うと、電流Icが徐々に大きくなる。したがって、保護素子4およびDUT5にシングルパルスのゲート信号を印加して以上の動作を行うことにより、DUT5のオン特性は検査されず、オフ特性のみを調べることができる。同様に、制御部10は、ステップS103の後、十分長い時間が経過してから、ステップS105の動作を行い、ステップS105の後、十分長い時間が経過してから、ステップS107の動作を行う。
When the
比較例の検査回路および検査方法における電流Icの変化を図4に示す。比較例の検査方法では、制御部10は、時点T2から一定期間Tdelayの経過後に保護素子4をオフするが、保護素子4をオフしてから電流Icが減少し始めるまでには遅れ時間Td2が存在する。
FIG. 4 shows changes in the current Ic in the inspection circuit and the inspection method of the comparative example. In the inspection method of the comparative example, the
そのため、DUT5の破壊のタイミング、一定期間Tdelayおよび遅れ時間Td2の長さにより、DUT5が破壊されてから保護素子4のオフにより電流Icが減少し始める時点T6までの時間が長くなり、検査機器の損傷が大きくなる。
Therefore, due to the timing of destruction of the
例えば、DUT5の破壊タイミングが早く、DUT5が時点T7で破壊された場合、DUT5の破壊タイミングが遅く、DUT5が時点T7よりも後の時点T8で破壊された場合よりも、DUT5が破壊された時点から時点T6までの時間が長い。そのため、DUT5の破壊タイミングが早い場合、検査機器の損傷が大きくなる。
For example, when the DUT5 destruction timing is early and the DUT5 is destroyed at the time T7, the DUT5 destruction timing is late, and when the DUT5 is destroyed at the time T8 after the time T7, the time when the DUT5 is destroyed. To the time T6 is long. For this reason, when the
なお、図4の電流Icのグラフにおいて、時点T7の後の破線は、DUT5の特性が正常であり、DUT5が破壊されなかった場合の電流Icを示す。また、実線は、時点T7でDUT5が破壊された場合の電流Icを示す。また、一点鎖線は、時点T8でDUT5が破壊された場合の電流Icを示す。
In the graph of current Ic in FIG. 4, the broken line after time T7 indicates current Ic when the characteristics of
これに対し、本実施形態では、制御部10は、ステップS101においてDUT5をオフする際、DUT5にローレベルのゲート信号を印加してから遮断時間が経過するまでの間に、保護素子4にローレベルのゲート信号を印加したタイミングと、このタイミング後の遅れ時間とが含まれるように、保護素子4にローレベルのゲート信号を印加するタイミングを設定する。つまり、図3に示すように制御部10は時点T5が時点T4よりも早くなるように保護素子4をオフする。
On the other hand, in the present embodiment, when the
また、DUT5にローレベルのゲート信号を印加してから遮断時間が経過するまでの期間には、DUT5が破壊される可能性の高い期間が含まれている。また、このタイミングで保護素子4にローレベルのゲート信号を印加することにより、DUT5の破壊の可能性が高い期間内に電流Icの減少が始まる。そのため、DUT5に大電流が流れることを抑制して、DUT5が破壊タイミングの早いものであった場合、DUT5の破壊による検査機器の損傷を抑制することができる。また、これにより、検査コストを低減することができる。
Further, the period from when the low level gate signal is applied to the
また、このように検査機器の損傷が抑制されるため、比較例よりも大きな電流を用いてスイッチング試験を行うことができる。 Moreover, since damage to the inspection device is suppressed in this way, a switching test can be performed using a larger current than in the comparative example.
また、保護素子4をDUT5よりも破壊耐量が大きくなるようにしている。このため、DUT5が破壊された際に保護素子4も同時に破壊されることを抑制できる。
Further, the
また、比較例の検査回路では、DUT5の破壊のタイミングのばらつきにより、検査機器の損傷の大きさが変化する。これに対し、本実施形態では、制御部10は、図2、図3に示すように、DUT5にローレベルのゲート信号を印加してから保護素子4にローレベルのゲート信号を印加するまでの時間を徐々に長くして、DUT5および保護素子4をオフする動作を複数回繰り返す。これにより、図3に示すように、DUT5が時点T2から時点T4までのどの時点で破壊されても、検査機器の損傷を抑制することができる。
Further, in the inspection circuit of the comparative example, the magnitude of damage of the inspection device changes due to variations in the timing of the
例えば、DUT5が、制御部10の条件1による動作では破壊されず、条件2による動作で破壊された場合、時点T2の後、期間Tdelay2と遅れ時間Td2とを合わせた時間が経過したときに、電流Icが減少し始める。そして、ステップS104においてDUT5が破壊されたと判定され、その後のDUT5へのパルス印加は中止される。
For example, when the
また、DUT5が、制御部10の条件1、条件2による動作では破壊されず、条件3による動作で破壊される特性である場合、期間Tdelay3と遅れ時間Td2とを合わせた時間が経過したときに、電流Icが減少し始める。そして、ステップS106においてDUT5が破壊されたと判定され、その後のDUT5への電圧印加は中止される。
Further, when the
また、制御部10の条件3による動作においてもDUT5が破壊されなかった場合、ステップS107において保護素子4を時点T2の後に常時オンとする動作が行われ、試験が終了する。
Further, when the
つまり、制御部10は、保護素子4を常時オンとするステップS107のスイッチング試験の前に、ステップS101〜S106の動作を行うことで破壊タイミングの早いDUT5を判別し、このDUT5に対するスイッチング試験を中止する。したがって、破壊タイミングの遅いDUT5に対してのみ、保護素子4を常時オンとするスイッチング試験DUT5が行われるため、DUT5が破壊されてから電流Icが遮断されるまでの時間が長くなることを抑制できる。
That is, the
なお、図3のDUT5が破壊されたときの電流Icのグラフにおいて、実線はステップS103でDUT5が破壊されたときの電流Icを示し、一点鎖線はステップS105でDUT5が破壊されたときの電流Icを示す。
In the graph of current Ic when
このように、本実施形態では、DUT5が時点T2から時点T4までのどの時点で破壊されても、DUT5が破壊されてから電流Icが遮断されるまでの時間が長くなることを抑制し、DUT5が破壊されたときの検査機器の損傷を抑制することができる。
As described above, in the present embodiment, it is possible to suppress an increase in the time from when the
また、ステップS107において保護素子4を常時オンとする動作が行われるため、条件3において破壊されなかったDUT5について、電流や電圧等の検査負荷を低下させることなく検査を行うことができる。
In addition, since the operation of always turning on the
また、複数のDUT5についてスイッチング試験を行う場合に、各DUT5について、DUT5が破壊されてから電流Icが遮断される時点までの時間が長くなることを抑制することができる。これにより、各DUT5の破壊のタイミングによる検査機器の損傷の大きさのばらつきを小さくすることができる。また、これにより、ステージやプローブ等の検査機器のメンテナンス周期を安定化して、検査コストを低減することができる。
Further, when a switching test is performed on a plurality of
なお、本実施形態では、保護素子4を常時オンとするステップS107のスイッチング試験の前に条件1〜3による検査を行ったが、ステップS107の前に条件1による検査のみを行ってもよい。また、ステップS107の前に条件1および条件2による検査のみを行ってもよい。また、時点T2から保護素子4にローレベルのゲート信号が印加される時点までの期間の長さを本実施形態よりも細かく変化させて、破壊タイミングが早いDUT5を判別する検査をステップS107の前に4回以上行ってもよい。保護素子4にローレベルのゲート信号を印加するタイミングを細かく変化させて複数回の検査を行うことにより、検査機器の損傷をさらに抑制し、DUT5の破壊のタイミングによる検査機器の損傷の大きさのばらつきをさらに小さくすることができる。
In the present embodiment, the inspection according to the
また、本実施形態では、保護素子4およびDUT5にシングルパルスのゲート信号を印加したが、保護素子4およびDUT5にダブルパルスのゲート信号を印加してもよい。つまり、ステップS101においてDUT5をオフした後、コイル3およびダイオード素子7に流れる還流電流が減衰して0になる前に、ステップS103において保護素子4およびDUT5をオンしてもよい。これにより、ステップS103でDUT5をオンしたときに電流Icが急峻に大きくなるため、DUT5のオフ特性だけでなく、オン特性も調べることができる。また、制御部10が、還流電流が0になるのを待たずにステップS103に進むので、保護素子4およびDUT5にシングルパルスのゲート信号を印加する場合よりも短時間でスイッチング試験を行うことができる。
In the present embodiment, a single pulse gate signal is applied to the
同様に、DUT5をオフした後、コイル3およびダイオード素子7に流れる還流電流が減衰して0になる前に保護素子4およびDUT5をオンする動作を3回以上繰り返してもよい。
Similarly, the operation of turning on the
また、検査回路には、コイル3、保護素子4、DUT5、電流計6、ダイオード素子7と並列となるように、第1コンデンサ8が配置されている。つまり、第1コンデンサ8とDUT5とが構成する電流経路の間に保護素子4が配置されている。このため、保護素子4をオフすることによって第1コンデンサ8とDUT5との接続も遮断することができ、DUT5が破壊された際にコイル3に蓄積されたエネルギーによってDUT5に大電流が流れることを抑制できる。
In the inspection circuit, a
なお、図5の破線で示すように、保護素子4のオフ速度di/dtが遅いと、保護素子4がオフされてから電流Icが遮断されるまでの時間が長くなり、検査機器の損傷が大きくなる。そのため、ゲート抵抗が小さい素子等の選定、適切なゲートドライバの選定等により、保護素子4のオフ速度を、例えば図5の一点鎖線で示すDUT5のオフ速度よりも速くすることが好ましい。これにより、図5の実線で示すように、保護素子4がオフされてから電流Icが遮断されるまでの時間を短くして、検査機器の損傷をさらに抑制することができる。
As shown by the broken line in FIG. 5, when the off speed di / dt of the
また、本実施形態では、ステップS107において、制御部10は、保護素子4を常時オンとする動作を行ったが、制御部10が、DUT5にローレベルのゲート信号を印加した後、保護素子4を十分に長い時間オンとする動作を行ってもよい。
In this embodiment, in step S107, the
(第2実施形態)
本発明の第2実施形態について説明する。本実施形態は、第1実施形態をスイッチング試験およびリカバリ試験共用としたものであり、その他に関しては第1実施形態と同様であるため、ここでは説明を省略する。
(Second Embodiment)
A second embodiment of the present invention will be described. In the present embodiment, the first embodiment is used for both the switching test and the recovery test, and the other aspects are the same as those in the first embodiment, and thus the description thereof is omitted here.
本実施形態では、図6に示されるように、DUT5は、IGBT素子5aと、IGBT素子5aと並列に接続されたダイオード素子5bとにより構成されている。なお、図6では、電流計6および制御部10の図示を省略している。また、保護素子4は、IGBT素子4aと、IGBT素子4aと並列に接続されたダイオード素子4bとにより構成されている。IGBT素子4a、5aは、それぞれ、本発明の保護スイッチング素子、スイッチング素子に相当する。
In the present embodiment, as shown in FIG. 6, the
そして、電源1に対して、保護素子4、DUT5と共に直列に接続されるように、IGBT素子11aおよびダイオード素子11bで構成された対抗素子11が配置されており、本実施形態では、電源1の正極側から対抗素子11、保護素子4、DUT5の順に配置されている。
And the opposing
なお、対抗素子11のIGBT素子11aは、ゲート電極にハイレベルまたはローレベルのゲート信号が印加されることによってオン、オフが制御される。そして、各ダイオード素子4b、5b、11bは、カソード電極が各IGBT素子4a、5a、11aのコレクタ電極と接続され、アノード電極が各IGBT素子4a、5a、11aのエミッタ電極と接続されている。また、保護素子4、DUT5、対抗素子11における各IGBT素子4a、5a、11aと各ダイオード素子4b、5b、11bは、共通の半導体基板に形成された1チップ構造とされていてもよいし、別々の半導体基板に形成された別チップ構造とされていてもよい。
The
そして、対抗素子11、保護素子4、DUT5と並列となるように、第1スイッチ12および第2スイッチ13が配置されている。また、第1スイッチ12と第2スイッチ13との間の接続点と、対抗素子11と保護素子4との間の接続点を接続するように、コイル3が配置されている。なお、第1スイッチ12および第2スイッチ13は、IGBT素子やMOS素子等のスイッチング素子によって構成されている。
And the
このような検査回路では、対抗素子11、保護素子4、DUT5の各IGBT素子11a、4a、5a、第1スイッチ12、第2スイッチ13のオン、オフを制御してDUT5に流れる電流や電圧を変化せることによってDUT5の特性検査を行う。
In such a test circuit, the
すなわち、主としてDUT5におけるダイオード素子5bの特性を検査する場合には、第1スイッチ12をオフすると共に第2スイッチ13をオンし、保護素子4およびDUT5のIGBT素子4a、5aをオフした状態で対抗素子11のIGBT素子11aを駆動制御すればよい。
That is, when the characteristics of the
また、主としてDUT5におけるIGBT素子5aの特性を検査する場合には、第1スイッチ12をオンすると共に第2スイッチ13をオフし、保護素子4のIGBT素子4aをオンした状態でDUT5のIGBT素子5aを駆動制御すればよい。
When the characteristics of the
このように、DUT5をIGBT素子5aとダイオード素子5bとを有するものとしても、図2に示す方法でスイッチング試験を行うことにより、上記第1実施形態と同様の効果を得ることができる。
As described above, even when the
(第3実施形態)
本発明の第3実施形態について説明する。本実施形態は、第1実施形態に対してDUT5のアバランシェ試験を行うように検査回路の構成を変更したものであり、その他に関しては第1実施形態と同様であるため、ここでは説明を省略する。
(Third embodiment)
A third embodiment of the present invention will be described. In the present embodiment, the configuration of the inspection circuit is changed so that the avalanche test of the
図7に示されるように、本実施形態の検査回路は、ダイオード素子7を備えず、DUT5に対してアバランシェ試験を行うように構成されている。そして、アバランシェ試験を行う際には、第1実施形態と同様に、DUT5をオフしてから保護素子4をオフする動作を、保護素子4をオフするタイミングの条件を変えて複数回繰り返す。なお、図7では、電流計6および制御部10の図示を省略している。
As shown in FIG. 7, the inspection circuit of the present embodiment does not include the
このように、本発明をアバランシェ試験の検査回路に適用しても、上記第1実施形態と同様の効果を得ることができる。 Thus, even when the present invention is applied to the inspection circuit for the avalanche test, the same effect as that of the first embodiment can be obtained.
(第4実施形態)
本発明の第4実施形態について説明する。本実施形態は、第1実施形態に対してDUT5の短絡試験を行うように検査回路の構成を変更したものであり、その他に関しては第1実施形態と同様であるため、ここでは説明を省略する。
(Fourth embodiment)
A fourth embodiment of the present invention will be described. In the present embodiment, the configuration of the inspection circuit is changed so as to perform a short circuit test of the
図8に示されるように、本実施形態の検査回路は、コイル3およびダイオード素子7を備えず、DUT5に対して短絡試験を行うように構成されている。そして、短絡試験を行う際には、第1実施形態と同様に、DUT5をオフしてから保護素子4をオフする動作を、保護素子4をオフするタイミングの条件を変えて複数回繰り返す。なお、図8では、電流計6および制御部10の図示を省略している。
As shown in FIG. 8, the inspection circuit of the present embodiment does not include the
このように、本発明を短絡試験の検査回路に適用しても、上記第1実施形態と同様の効果を得ることができる。 Thus, even when the present invention is applied to the inspection circuit for the short circuit test, the same effect as that of the first embodiment can be obtained.
(他の実施形態)
なお、本発明は上記した実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載した範囲内において適宜変更が可能である。
(Other embodiments)
In addition, this invention is not limited to above-described embodiment, In the range described in the claim, it can change suitably.
例えば、上記第1〜第4実施形態において、DUT5は、IGBT素子を有するものではなく、MOS素子、バイポーラトランジスタ等のスイッチング素子を有するものであってもよい。
For example, in the first to fourth embodiments, the
また、破壊検出手段としてDUT5に印加される電圧を測定する電圧計を用い、DUT5に印加される電圧が所定の閾値よりも小さい値になったときにDUT5が破壊されたと判定してもよい。また、検査回路が、過電流保護スイッチ2、第1コンデンサ8を備えていなくてもよい。
Alternatively, a voltmeter that measures the voltage applied to the
また、上記第1〜第4実施形態において、保護素子4がDUT5より電源1の負極側に配置されていてもよい。また、上記第1実施形態において、ダイオード素子7およびコイル3がDUT5および保護素子4より電源1の負極側に配置されていてもよい。つまり、コイル3、保護素子4、DUT5の配列は適宜変更可能である。同様に、上記第2〜第4実施形態においてもDUT5の配置箇所は適宜変更可能である。また、上記各実施形態において、例えば、電源1の正極とコイル3との間に保護素子4を配置してもよい。
In the first to fourth embodiments, the
1 電源
4 保護素子
5 DUT
10 制御部
1
10 Control unit
Claims (7)
前記半導体素子と前記半導体素子に接続される電源(1)との間に接続され、ハイレベルおよびローレベルのゲート信号が印加されることによってオン、オフが制御され、前記スイッチング素子よりも破壊耐量が大きい保護スイッチング素子(4a)を有し、前記保護スイッチング素子にローレベルのゲート信号が印加されてから所定の遅れ時間が経過したときに前記保護スイッチング素子を通る電流が減少し始める特性を有する保護素子(4)と、
前記半導体素子および前記保護素子のオン、オフを制御する制御部(10)と、を備え、
前記制御部は、前記半導体素子をオフする際、前記半導体素子にローレベルのゲート信号を印加してから前記遮断時間が経過するまでの間に、前記保護素子にローレベルのゲート信号を印加したタイミングと該タイミング後の前記遅れ時間が含まれるように、前記保護素子にローレベルのゲート信号を印加するタイミングを設定することを特徴とする半導体素子の検査回路。 It has a switching element (5a) that is controlled to be turned on and off by applying a high level and a low level gate signal, and a predetermined cutoff time has elapsed since the low level gate signal was applied to the switching element. In the semiconductor element inspection circuit for inspecting the semiconductor element (5) as an inspection object having a characteristic that the interruption of the current passing through the switching element is completed when
It is connected between the semiconductor element and a power source (1) connected to the semiconductor element, and is controlled to be turned on and off by applying high level and low level gate signals, and is more resistant to breakdown than the switching element. Having a large protection switching element (4a), and having a characteristic that the current passing through the protection switching element starts to decrease when a predetermined delay time has elapsed since a low-level gate signal was applied to the protection switching element. A protective element (4);
A control unit (10) for controlling on and off of the semiconductor element and the protective element,
The control unit applies a low-level gate signal to the protection element during a period from when a low-level gate signal is applied to the semiconductor element until the cutoff time elapses when the semiconductor element is turned off. An inspection circuit for a semiconductor element, wherein a timing for applying a low-level gate signal to the protection element is set so that the timing and the delay time after the timing are included.
前記破壊検出手段は、前記制御部が前記半導体素子および前記保護素子をオンする動作と前記半導体素子および前記保護素子をオフする動作とを交互に複数回繰り返すことにより行う検査の間に、前記半導体素子が破壊されたか否かを判定し、
前記制御部は、前記破壊検出手段が前記半導体素子の破壊を検出したとき、その後の前記半導体素子の検査を中止することを特徴とする請求項2に記載の半導体素子の検査回路。 Destruction detection means (6, 10) for detecting destruction of the semiconductor element,
The breakdown detecting means is configured such that during the inspection, the control unit repeats the operation of turning on the semiconductor element and the protective element and the operation of turning off the semiconductor element and the protective element alternately several times. Determine if the element is destroyed,
3. The semiconductor element inspection circuit according to claim 2, wherein when the destruction detection unit detects the destruction of the semiconductor element, the control unit stops the inspection of the semiconductor element thereafter.
前記半導体素子と前記半導体素子に接続される電源(1)との間に、ハイレベルおよびローレベルのゲート信号が印加されることによってオン、オフが制御され、前記スイッチング素子よりも破壊耐量が大きい保護スイッチング素子(4a)を有し、前記保護スイッチング素子にローレベルのゲート信号が印加されてから所定の遅れ時間が経過したときに前記保護スイッチング素子を通る電流が減少し始める特性を有する保護素子(4)を配置し、
前記半導体素子をオフする際、前記半導体素子にローレベルのゲート信号を印加してから前記遮断時間が経過するまでの間に、前記保護素子にローレベルのゲート信号を印加したタイミングと該タイミング後の前記遅れ時間が含まれるように、前記保護素子にローレベルのゲート信号を印加するタイミングを設定することを特徴とする半導体素子の検査方法。 It has a switching element (5a) that is controlled to be turned on and off by applying a high level and a low level gate signal, and a predetermined cutoff time has elapsed since the low level gate signal was applied to the switching element. In the semiconductor element inspection method for inspecting the semiconductor element (5) as an inspection object having a characteristic that the interruption of the current passing through the switching element is completed when
High and low level gate signals are applied between the semiconductor element and the power source (1) connected to the semiconductor element to control on / off, and the breakdown resistance is larger than that of the switching element. A protective element having a protective switching element (4a) and having a characteristic that a current passing through the protective switching element starts to decrease when a predetermined delay time has elapsed after a low-level gate signal is applied to the protective switching element. (4) is placed,
When the semiconductor element is turned off, the timing at which the low-level gate signal is applied to the protection element between the time when the low-level gate signal is applied to the semiconductor element and the time when the blocking time elapses, and the timing after The timing for applying a low-level gate signal to the protection element is set so that the delay time is included.
前記半導体素子が破壊されたと判定したとき、その後の前記半導体素子の検査を中止することを特徴とする請求項6に記載の半導体素子の検査方法。 It is determined whether or not the semiconductor element is destroyed during an inspection performed by alternately repeating the operation of turning on the semiconductor element and the protection element and the operation of turning off the semiconductor element and the protection element. ,
The method for inspecting a semiconductor element according to claim 6, wherein when it is determined that the semiconductor element has been destroyed, the subsequent inspection of the semiconductor element is stopped.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015136347A JP6409697B2 (en) | 2015-07-07 | 2015-07-07 | Semiconductor device inspection circuit and inspection method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015136347A JP6409697B2 (en) | 2015-07-07 | 2015-07-07 | Semiconductor device inspection circuit and inspection method |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017020811A JP2017020811A (en) | 2017-01-26 |
JP6409697B2 true JP6409697B2 (en) | 2018-10-24 |
Family
ID=57889435
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015136347A Active JP6409697B2 (en) | 2015-07-07 | 2015-07-07 | Semiconductor device inspection circuit and inspection method |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6409697B2 (en) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7040281B2 (en) * | 2018-05-22 | 2022-03-23 | 株式会社デンソー | Inspection method for semiconductor devices |
JP2021039086A (en) * | 2019-08-29 | 2021-03-11 | 三菱電機株式会社 | Semiconductor testing device, semiconductor testing method, and manufacturing method of semiconductor device |
WO2023218783A1 (en) * | 2022-05-13 | 2023-11-16 | 三菱電機株式会社 | Semiconductor testing device and method for evaluating performance of semiconductor testing device |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5363437B2 (en) * | 2010-09-08 | 2013-12-11 | 株式会社アドバンテスト | Test equipment |
JP5528998B2 (en) * | 2010-12-15 | 2014-06-25 | 株式会社アドバンテスト | Test equipment |
JP2014048223A (en) * | 2012-09-03 | 2014-03-17 | Toyota Motor Corp | Semiconductor element testing device |
-
2015
- 2015-07-07 JP JP2015136347A patent/JP6409697B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2017020811A (en) | 2017-01-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5547579B2 (en) | Test apparatus and test method | |
TWI436073B (en) | Test device for switchgear | |
JP5566412B2 (en) | Power semiconductor test equipment | |
JP4853470B2 (en) | Semiconductor device test apparatus and test method thereof | |
JP6318911B2 (en) | Semiconductor device inspection circuit and inspection method | |
JP6409697B2 (en) | Semiconductor device inspection circuit and inspection method | |
JP6207265B2 (en) | Semiconductor test equipment | |
JP5035700B2 (en) | Reverse bias safe operating area measuring device | |
US9213055B2 (en) | Semiconductor device | |
JP6332165B2 (en) | Semiconductor element inspection apparatus and inspection method | |
JP2008301617A (en) | Protective device for power converter | |
JP5707579B2 (en) | Power semiconductor test equipment | |
JP5258810B2 (en) | Semiconductor device testing equipment | |
JP7034041B2 (en) | Inspection device for semiconductor devices and inspection method for semiconductor devices | |
CN115598485B (en) | Power tube aging test device and method for direct-current solid-state circuit breaker | |
JP2016118399A (en) | Testing apparatus | |
JP2017519477A (en) | Method and apparatus for detecting small currents | |
JP2014048223A (en) | Semiconductor element testing device | |
JP6977486B2 (en) | Semiconductor device test equipment | |
US20240142510A1 (en) | Testing apparatus and testing method | |
JP6365425B2 (en) | Semiconductor device inspection circuit | |
JP6398433B2 (en) | Semiconductor device inspection circuit and inspection method | |
JP7657039B2 (en) | Method and apparatus for inspecting semiconductor device | |
JP7414746B2 (en) | Electrical property testing device for semiconductor devices and electrical property testing method for semiconductor devices | |
JP6517024B2 (en) | Test apparatus and test method |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20171016 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20180810 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20180828 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180910 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 6409697 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |