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JP6394009B2 - Transfer laminate for optical film - Google Patents

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JP6394009B2
JP6394009B2 JP2014048795A JP2014048795A JP6394009B2 JP 6394009 B2 JP6394009 B2 JP 6394009B2 JP 2014048795 A JP2014048795 A JP 2014048795A JP 2014048795 A JP2014048795 A JP 2014048795A JP 6394009 B2 JP6394009 B2 JP 6394009B2
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貴之 嶋田
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章伸 牛山
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Description

本発明は、転写層を有する光フィルム用転写積層体に関する。   The present invention relates to an optical film transfer laminate having a transfer layer.

近年、フラットパネルディスプレイ等に適用される光学フィルムは、位相差層により透過光に所望の位相差を付与して所望する光学特性を確保するものが提供されている(例えば、特許文献1参照)。この種の光学フィルムは、透明フィルム等による基材の表面に配向膜が作製され、この配向膜の配向規制力により液晶材料を配向させた状態で硬化して位相差層が作製される。このような位相差層に適用される液晶材料は、通常、正の波長分散特性を備えているものの、近年、逆分散特性による液晶材料が提案されている(例えば、特許文献2、3参照)。ここで、逆分散特性とは、短波長側ほど透過光における位相差が小さい波長分散特性であり、より具体的に、450nmの波長におけるリタデーション(R450)と、550nmの波長におけるリタデーション(R550)との関係が、R450<R550である。   In recent years, an optical film applied to a flat panel display or the like has been provided that ensures a desired optical characteristic by imparting a desired retardation to transmitted light by a retardation layer (see, for example, Patent Document 1). . In this type of optical film, an alignment film is prepared on the surface of a substrate made of a transparent film or the like, and cured in a state where the liquid crystal material is aligned by the alignment regulating force of the alignment film, thereby forming a retardation layer. A liquid crystal material applied to such a retardation layer usually has a positive wavelength dispersion characteristic, but recently, a liquid crystal material having a reverse dispersion characteristic has been proposed (see, for example, Patent Documents 2 and 3). . Here, the reverse dispersion characteristic is a wavelength dispersion characteristic in which the phase difference in the transmitted light is smaller toward the shorter wavelength side, and more specifically, retardation at a wavelength of 450 nm (R450) and retardation at a wavelength of 550 nm (R550). The relationship is R450 <R550.

また、画像表示パネルにおいては、Aプレート、Cプレート等を利用して視野角特性、色味等の種々の光学特性を改善する方法が提案されており、例えば特許文献4には、Aプレート、Cプレートを使用したIPS液晶表示装置の光学補償に係る工夫が提案されている。ここで、光学補償とは、黒表示の際に直線偏光板からの斜め方向の光漏れを低減する構成である。また、Cプレートは、nx=ny<nz又はnx=ny>nzで表され、nx=ny<nzは正のCプレートであり、nx=ny>nzは負のCプレートである。また、Aプレートは、nx>ny=nz又はnz=nx>nyで表され、nx>ny=nzは正のAプレートであり、nz=nx>nyは負のAプレートである。なお、nx、ny(nx≧ny)は面内方向の屈折率であり、nzは厚さ方向の屈折率である。   In addition, in the image display panel, a method for improving various optical characteristics such as viewing angle characteristics and color using an A plate, a C plate, etc. has been proposed. A device for optical compensation of an IPS liquid crystal display device using a C plate has been proposed. Here, the optical compensation is a configuration that reduces light leakage in an oblique direction from the linear polarizing plate during black display. The C plate is represented by nx = ny <nz or nx = ny> nz, where nx = ny <nz is a positive C plate and nx = ny> nz is a negative C plate. The A plate is represented by nx> ny = nz or nz = nx> ny, where nx> ny = nz is a positive A plate and nz = nx> ny is a negative A plate. Note that nx and ny (nx ≧ ny) are refractive indexes in the in-plane direction, and nz is a refractive index in the thickness direction.

これらの光学フィルムのうち、正のAプレートは、位相差層に適用される正の波長分散特性による液晶材料、逆分散特性による液晶材料を使用して、それぞれ正の波長分散特性、逆分散特性により作製することができる。また、正のCプレートにおいては、いわゆるCプレート用の液晶材料による塗工液を塗布して乾燥硬化させることにより作製することができる。また、バーチカル・アライメント(VA)液晶表示装置等では、垂直配向膜により液晶材料を垂直方向に配向させており、VA液晶に関する垂直配向膜の工夫が種々提案されている。   Among these optical films, the positive A plate uses a liquid crystal material with a positive wavelength dispersion characteristic and a liquid crystal material with a reverse dispersion characteristic applied to the retardation layer, respectively, and has a positive wavelength dispersion characteristic and a reverse dispersion characteristic, respectively. Can be produced. Further, a positive C plate can be produced by applying a coating liquid made of a liquid crystal material for a so-called C plate and drying and curing it. In vertical alignment (VA) liquid crystal display devices and the like, a liquid crystal material is aligned in the vertical direction by a vertical alignment film, and various devices for the vertical alignment film for VA liquid crystal have been proposed.

さて、このような光学フィルムは、例えば、直線偏光板としての機能を担う直線偏光板等の光学機能層に転写される転写層を有した光学フィルム用転写積層体を用いた転写法により作製される。転写法とは、例えば所定の基材の上に所望とする層を形成する場合に、その所望とする層を直接基材上に形成するのではなく、一旦、離型性の支持体(支持体基材)上に剥離可能にその層を積層形成して転写積層体を作製した後、工程や需要等に応じて、その支持体上に形成した層を、最終的に積層すべき基材(被転写基材)上に接着、積層し、その後、支持体を剥離除去することにより、所定の基材上に所望とする層を形成する方法である。このような転写法によって光学フィルムを作製することにより、全体の厚みが薄い光学フィルムを提供することができると考えられる。なお、転写法により作製された光学フィルムは、例えば特許文献5、特許文献6に記載されている。   Now, such an optical film is produced by, for example, a transfer method using a transfer laminate for an optical film having a transfer layer transferred to an optical functional layer such as a linearly polarizing plate that functions as a linearly polarizing plate. The In the transfer method, for example, when a desired layer is formed on a predetermined base material, the desired layer is not directly formed on the base material, but once a releasable support (support After the layer is formed in a peelable manner on the body substrate), a transfer laminate is produced, and then the layer formed on the support is finally laminated according to the process, demand, etc. In this method, a desired layer is formed on a predetermined base material by bonding and laminating on the (transfer base material) and then peeling and removing the support. It is considered that an optical film having a small overall thickness can be provided by producing an optical film by such a transfer method. In addition, the optical film produced by the transfer method is described in patent document 5 and patent document 6, for example.

しかしながら、上述のように光学フィルムを転写によって作製した場合、転写積層体を被転写体上に転写するに際して、転写積層体が転写されるべき部分の端部で切り離されず、被転写体上の転写積層体の側に余分な転写積層体の部分が残ってしまう、いわゆる泣き別れ(転写不良)が生じることがある。   However, when the optical film is produced by transfer as described above, when the transfer laminate is transferred onto the transfer target, the transfer laminate is not separated at the end of the portion to be transferred, and is transferred onto the transfer target. There may be a so-called crying (transfer defect) in which an excess portion of the transfer laminate remains on the side of the laminate.

特開平10−68816号公報JP-A-10-68816 米国特許第8119026号明細書U.S. Pat. No. 8,119,026 特表2010−522892号公報Japanese translation of PCT publication No. 2010-52892 特表2006−520008号公報JP-T 2006-520008 特開2005−49865号公報JP 2005-49865 A 特開2007−156234号公報JP 2007-156234 A

本発明は、このような実情に鑑みて提案されたものであり、光学フィルムを、転写層を有する光学フィルム用転写積層体を用いて作製する際に、支持体基材の剥離不良を抑制し、被転写体に対する転写層の転写不良の発生を防止することができる光学フィルム用転写積層体を提供することを目的とする。   The present invention has been proposed in view of such circumstances, and suppresses a peeling failure of a support substrate when an optical film is produced using a transfer laminate for an optical film having a transfer layer. An object of the present invention is to provide a transfer laminate for an optical film capable of preventing the transfer failure of the transfer layer with respect to the transfer target.

本発明者は、上述した課題を解決するために鋭意検討を重ねた。その結果、光学フィルム用転写積層体において、支持体基材上に積層する配向膜について全反射測定法により測定した、波数810cm−1における赤外線吸収ピークをP1、波数1730cm−1における赤外線吸収ピークをP2としたときの比P1/P2が所定の値以上となるように形成することで、支持体基材の剥離不良を抑制し、転写積層体の転写不良の発生を効果的に抑制できることを見出した。すなわち、本発明は、以下のものを提供する。 This inventor repeated earnest examination in order to solve the subject mentioned above. As a result, in the transfer laminate for optical films, the infrared absorption peak at wave number 810 cm −1 is P1 and the infrared absorption peak at wave number 1730 cm −1 is measured by total reflection measurement for the alignment film laminated on the support substrate. It has been found that by forming so that the ratio P1 / P2 when P2 is equal to or greater than a predetermined value, it is possible to suppress the peeling failure of the support substrate and to effectively suppress the occurrence of transfer failure of the transfer laminate. It was. That is, the present invention provides the following.

(1)本発明は、転写層を有する光学フィルム用転写積層体であって、表面に易接着処理がされていないポリエチレンテレフタレートからなる支持体基材と、配向膜と、位相差層とがこの順で積層されてなり、前記配向膜の前記支持体基材との界面における、全反射測定法による波数810cm−1の赤外線吸収ピークをP1、波数1730cm−1の赤外線吸収ピークをP2としたときの比P1/P2が0.15以上であることを特徴とする光学フィルム用転写積層体である。 (1) The present invention provides a transfer laminate for an optical film having a transfer layer, wherein a support substrate made of polyethylene terephthalate that has not been subjected to an easy adhesion treatment on the surface, an alignment film, and a retardation layer. When the infrared absorption peak at a wave number of 810 cm −1 by the total reflection measurement method is P1, and the infrared absorption peak at a wave number of 1730 cm −1 at the interface between the alignment film and the support substrate is P1, and the infrared absorption peak at a wave number of 1730 cm −1 is P2. Is a transfer laminate for optical films, wherein the ratio P1 / P2 is 0.15 or more.

(2)また本発明は、(1)の発明において、前記配向膜の厚みが3μm以上であり、前記支持体基材を剥離速度300mm/minで剥離したときの剥離強度が、180mN/50mm以下であることを特徴とする光学フィルム用転写積層体である。   (2) Moreover, this invention is the invention of (1), The thickness of the said alignment film is 3 micrometers or more, and peeling strength when peeling the said support body base material with the peeling speed of 300 mm / min is 180 mN / 50 mm or less. It is a transfer laminated body for optical films characterized by being.

(3)また本発明は、(1)又は(2)の発明において、前記配向膜は、垂直配向膜から構成されることを特徴とする光学フィルム用転写積層体である。   (3) The present invention is the transfer laminate for an optical film according to the invention (1) or (2), wherein the alignment film is composed of a vertical alignment film.

(4)また本発明は、(1)乃至(3)の何れかの発明において、前記転写層が、逆分散延伸フィルムからなる1/4波長分の位相差を付与する光学機能層に転写されることを特徴とする光学フィルム用転写積層体である。   (4) Further, in the invention according to any one of (1) to (3), the transfer layer is transferred to an optical functional layer that imparts a phase difference corresponding to a quarter wavelength composed of a reverse dispersion stretched film. A transfer laminate for optical films.

本発明に係る光学フィルム用転写積層体によれば、支持体基材の剥離不良を抑制し、被転写体に対する転写積層体の転写不良の発生を効果的に防止することができる。   According to the transfer laminate for an optical film of the present invention, it is possible to suppress the peeling failure of the support substrate and effectively prevent the transfer laminate from being transferred to the transfer target.

光学フィルム用転写積層体の一例を示す断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram which shows an example of the transfer laminated body for optical films. 配向膜の膜厚[μm]に対する、全反射測定法による波数810cm−1付近における赤外線吸収ピークP1、波数1730cm−1付近における赤外線吸収ピークP2の比「P1/P2」との関係を表すグラフ図である。The graph showing the relationship between the ratio “P1 / P2” of the infrared absorption peak P1 near the wave number of 810 cm −1 and the infrared absorption peak P2 near the wave number of 1730 cm −1 by the total reflection measurement method with respect to the film thickness [μm] of the alignment film. It is. 図2にて示した硬化反応率に対応する配向膜の膜厚[μm]に対する支持体基材の剥離強度[mN/50mm](剥離速度300mm/minで剥離したときの剥離強度)についての測定結果を示すグラフ図である。Measurement of peel strength [mN / 50 mm] (peel strength when peeled at a peel rate of 300 mm / min) of the support substrate with respect to the film thickness [μm] of the alignment film corresponding to the curing reaction rate shown in FIG. It is a graph which shows a result. 光学フィルム用転写積層体の作製工程の流れを示すフロー図である。It is a flowchart which shows the flow of the production process of the transfer laminated body for optical films. 光学フィルム用転写積層体を用いて転写法により光学フィルムを作製する流れを説明するための図である。It is a figure for demonstrating the flow which produces an optical film by the transfer method using the transfer laminated body for optical films.

以下、本発明に係る光学フィルム用転写積層体の具体的な実施形態(以下、「本実施の形態」という)について、以下の順で詳細に説明する。なお、本発明は、以下の実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を変更しない範囲で種々の変更が可能である。
1.光学フィルム用転写積層体の構成
2.配向膜について
3.光学フィルム用転写積層体の製造方法
4.光学フィルム用転写積層体を用いた光学フィルムの製造方法
Hereinafter, specific embodiments of the transfer laminate for optical films according to the present invention (hereinafter referred to as “this embodiment”) will be described in detail in the following order. In addition, this invention is not limited to the following embodiment, A various change is possible in the range which does not change the summary of this invention.
1. 1. Configuration of optical film transfer laminate 2. Alignment film 3. Method for producing transfer laminate for optical film Method for producing optical film using transfer laminate for optical film

≪1.光学フィルム用転写積層体の構成≫
図1は、本実施の形態に係る光学フィルム用転写積層体1の一例を模式的に示す断面図である。図1に示すように、光学フィルム用転写積層体1は、ポリエチレンテレフタレート(PET)からなる支持体基材11と、配向膜12と、位相差層(液晶層)13とがこの順で積層されてなるものである。
<< 1. Configuration of transfer laminate for optical film >>
FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing an example of a transfer laminate 1 for an optical film according to the present embodiment. As shown in FIG. 1, a transfer laminate 1 for an optical film has a support substrate 11 made of polyethylene terephthalate (PET), an alignment film 12, and a retardation layer (liquid crystal layer) 13 laminated in this order. It will be.

光学フィルム用転写積層体1は、例えば、直線偏光板の光学機能層や、逆分散延伸フィルム等からなる、透過光に1/4波長分の位相差を付与する光学機能層などに転写される転写層、すなわち位相差層13と、配向膜12とを含む転写層を有する光学フィルム用転写積層体である。この光学フィルム用転写積層体1では、例えば、位相差層13上に逆分散延伸フィルム等の高分子フィルムを粘着剤を介して貼合することで転写層を転写し、さらに直線偏光板を貼合させることによって、所定の光学フィルムを作製することができる。このとき、その光学フィルムの作製に際しては、光学フィルム用転写積層体1に逆分散延伸フィルム等の基材に転写層を転写した後に、離型性を有する支持体基材11のみが剥離される。   The optical film transfer laminate 1 is transferred to, for example, an optical functional layer of a linearly polarizing plate, an optical functional layer that imparts a phase difference corresponding to a quarter wavelength to transmitted light, and the like. This is a transfer laminate for an optical film having a transfer layer, that is, a transfer layer including a retardation layer 13 and an alignment film 12. In this optical film transfer laminate 1, for example, a polymer film such as a reverse dispersion stretched film is bonded onto the retardation layer 13 via an adhesive to transfer the transfer layer, and a linear polarizing plate is further bonded. By combining them, a predetermined optical film can be produced. At this time, in the production of the optical film, only the support substrate 11 having releasability is peeled after the transfer layer is transferred to the substrate such as a reverse dispersion stretched film on the optical film transfer laminate 1. .

本実施の形態に係る光学フィルム用転写積層体1では、支持体基材11上に積層される配向膜12について、その配向膜12の支持体基材11との界面における、全反射測定法による波数810cm−1付近での赤外線吸収ピークをP1、波数1730cm−1付近での赤外線吸収ピークをP2としたときの比「P1/P2」が0.15以上であることを特徴としている。 In the transfer laminate 1 for an optical film according to the present embodiment, the alignment film 12 laminated on the support substrate 11 is measured by the total reflection measurement method at the interface between the alignment film 12 and the support substrate 11. the infrared absorption peak at around a wave number 810 cm -1 P1, the ratio at which the infrared absorption peak at around a wave number 1730 cm -1 by P2 'P1 / P2 "is characterized by at least 0.15.

ここで、配向膜12の支持体基材11との界面において、全反射測定法により赤外線スペクトル測定したとき、波数810cm−1付近における赤外線吸収ピーク(P1)は、紫外線照射による反応で消失する炭素−炭素二重結合(C=C)のピークを示す。また、波数1730cm−1付近における赤外線吸収ピーク(P2)は、紫外線照射による反応で消失しないエステル結合のピークを示す。したがって、これらのピークP1、P2における比「P1/P2」は、配向膜の硬化反応率、つまり配向膜における硬化度合いに相当するものとして表すことができる。 Here, when the infrared spectrum is measured by the total reflection measurement method at the interface between the alignment film 12 and the support substrate 11, the infrared absorption peak (P1) in the vicinity of the wave number of 810 cm −1 disappears due to the reaction caused by the ultraviolet irradiation. -The peak of a carbon double bond (C = C) is shown. In addition, the infrared absorption peak (P2) in the vicinity of a wave number of 1730 cm −1 indicates an ester bond peak that does not disappear due to a reaction by ultraviolet irradiation. Therefore, the ratio “P1 / P2” at these peaks P1 and P2 can be expressed as the curing reaction rate of the alignment film, that is, the degree of curing in the alignment film.

そして、光学フィルム用転写積層体1では、そのP1、P2の比「P1/P2」が0.15以上であり、このような光学フィルム用転写積層体1によれば、支持体基材11の剥離強度を弱めることができるようになる。これにより、支持体基材11の剥離不良を効果的に抑制でき、被転写体に対する転写積層体の転写不良の発生を防止することができる。   And in the transfer laminated body 1 for optical films, the ratio "P1 / P2" of P1 and P2 is 0.15 or more. According to such a transfer laminated body 1 for optical films, the support substrate 11 The peel strength can be weakened. Thereby, the peeling defect of the support base material 11 can be effectively suppressed, and the occurrence of the transfer defect of the transfer laminate with respect to the transfer target can be prevented.

<1−1.支持体基材>
支持体基材11は、配向膜12を支持する機能を有し、長尺に形成された、ポリエチレンテレフタレート(PET)からなるフィルム材である。
<1-1. Support base material>
The support substrate 11 is a film material made of polyethylene terephthalate (PET) that has a function of supporting the alignment film 12 and is formed in a long shape.

この支持体基材11は、光学フィルム用転写積層体1において離型性支持体として機能し、転写層をなす配向膜12及び位相差層13を支持するものであるとともに、その表面にコロナ放電処理やプラズマ処理等の公知の易接着処理がなされておらず、配向膜12に対して剥離可能な程度の接着力を有するものである。   The support substrate 11 functions as a releasable support in the optical film transfer laminate 1 and supports the alignment film 12 and the retardation layer 13 forming the transfer layer, and corona discharge on the surface thereof. A known easy adhesion treatment such as a treatment or a plasma treatment is not performed, and it has an adhesive force that can be peeled off from the alignment film 12.

支持体基材11の厚みとしては、特に限定されないが、例えば20μm〜200μmの範囲内とすることが好ましい。支持体基材11の厚さが20μm未満であると、光学フィルム用転写積層体として最低限必要な自己支持性を付与できない場合があり好ましくない。一方で、厚さが200μmを超えると、光学フィルム用転写積層体が長尺状である場合に、長尺状の光学フィルム用転写積層体を裁断加工して枚葉の光学フィルム用転写積層体とするにあたって、加工屑が増加したり、裁断刃の磨耗が早くなってしまうことがあり好ましくない。   Although it does not specifically limit as thickness of the support base material 11, For example, it is preferable to set it as the range of 20 micrometers-200 micrometers. If the thickness of the support substrate 11 is less than 20 μm, it may not be possible to provide the minimum necessary self-supporting property as a transfer laminate for an optical film. On the other hand, when the thickness exceeds 200 μm, when the optical film transfer laminate is long, the long optical film transfer laminate is cut to obtain a single wafer optical film transfer laminate. In this case, it is not preferable because processing waste increases and wear of the cutting blade is accelerated.

<1−2.配向膜>
配向膜12は、上述した支持体基材11上に配向膜用組成物(配向膜組成物)を塗工して硬化させることによって得られ、配向規制力を発現する。ここで、配向規制力とは、配向膜12上に重合性液晶化合物(液晶材料)からなる層(位相差層13)を形成したとき、その液晶化合物を所定の方向に配列(配向)させる機能をいう。
<1-2. Alignment film>
The alignment film 12 is obtained by coating and curing the alignment film composition (alignment film composition) on the support substrate 11 described above, and exhibits an alignment regulating force. Here, the alignment regulating force is a function of arranging (orienting) the liquid crystal compound in a predetermined direction when a layer (retardation layer 13) made of a polymerizable liquid crystal compound (liquid crystal material) is formed on the alignment film 12. Say.

配向膜12は、紫外線硬化性樹脂を主原料として含有する材料により構成されている。また、配向膜12は、特に限定されるものではないが、例えば、位相差層13における液晶化合物の分子の分子軸をホメオトロピック配向(垂直配向)させる垂直配向膜により構成することができる。   The alignment film 12 is made of a material containing an ultraviolet curable resin as a main raw material. In addition, the alignment film 12 is not particularly limited, but can be constituted by, for example, a vertical alignment film that homeotropically aligns the molecular axes of the liquid crystal compound molecules in the retardation layer 13 (vertical alignment).

配向膜12を構成する紫外線硬化性樹脂としては、紫外線の照射により硬化させることができるものであれば特に限定されないが、例えば、アクリレート系、メタクリレート系等の単量体、プレポリマー、或いはこれらの混合物にアセトフェノン、ベンゾフェノン、芳香族ヨードニウム等の光重合開始剤を添加したものを用いることができる。より具体的には、ペンタエリスリトール多官能アクリレート、ジペンタエリスリトール多官能アクリレート、ペンタエリスリトール多官能メタクリレート、ジペンタエリスリトール多官能メタクリレート等の一般的に使用される樹脂を用いることができ、或いはこれらに光重合開始剤を混合させたものを用いることができる。   The ultraviolet curable resin constituting the alignment film 12 is not particularly limited as long as it can be cured by irradiation with ultraviolet rays. For example, monomers such as acrylates and methacrylates, prepolymers, or these A mixture obtained by adding a photopolymerization initiator such as acetophenone, benzophenone, aromatic iodonium to the mixture can be used. More specifically, commonly used resins such as pentaerythritol polyfunctional acrylate, dipentaerythritol polyfunctional acrylate, pentaerythritol polyfunctional methacrylate, dipentaerythritol polyfunctional methacrylate, or the like can be used. What mixed the polymerization initiator can be used.

配向膜組成物中に用いる溶媒(希釈溶媒)としては、配向材料を所望の濃度に溶解できるものであれば特に限定されるものでなく、例えば、ベンゼン、ヘキサン等の炭化水素系溶媒、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン(CHN)等のケトン系溶媒、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタン、プロピレングリコールモノエチルエーテル(PGME)等のエーテル系溶媒、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化アルキル系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)等のエステル系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶媒、シクロヘキサン等のアノン系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール系溶媒を例示することができる。また、溶媒は、1種類であってもよいし、2種類以上の溶媒の混合溶媒であってもよい。   The solvent (dilution solvent) used in the alignment film composition is not particularly limited as long as it can dissolve the alignment material at a desired concentration. For example, hydrocarbon solvents such as benzene and hexane, methyl ethyl ketone, Ketone solvents such as methyl isobutyl ketone and cyclohexanone (CHN), ether solvents such as tetrahydrofuran, 1,2-dimethoxyethane, propylene glycol monoethyl ether (PGME), alkyl halide solvents such as chloroform and dichloromethane, methyl acetate Ester solvents such as ethyl acetate, butyl acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA), amide solvents such as N, N-dimethylformamide, sulfoxide solvents such as dimethyl sulfoxide, anan solvents such as cyclohexane, Methanol, ethanol can be exemplified an alcohol solvent such as isopropyl alcohol. Moreover, one type of solvent may be sufficient and the mixed solvent of two or more types of solvents may be sufficient.

このような、垂直配向膜等からなる配向膜12は、上述したような材料を含有する配向膜組成物による塗工液を支持体基材11に塗布して乾燥し、紫外線を照射して硬化させることで作製される。このようにして作製された硬化物により配向膜12が構成される。   Such an alignment film 12 composed of a vertical alignment film or the like is applied by applying a coating solution made of an alignment film composition containing the above-described material to the support substrate 11, dried, and cured by irradiation with ultraviolet rays. To make it. The alignment film 12 is composed of the cured product thus produced.

ここで、本実施の形態に係る光学フィルム用転写積層体1においては、その配向膜12について、配向膜12の支持体基材11との界面における、全反射測定法による波数810cm−1での赤外線吸収ピークをP1、波数1730cm−1での赤外線吸収ピークをP2としたときの比「P1/P2」が0.15以上であることを特徴としている。詳しくは後述するように、このような配向膜12を有する光学フィルム用転写積層体1によれば、支持体基材11の剥離強度を弱めることができるようになり、転写に際して、支持体基材11の剥離不良を効果的に抑制することができ、被転写体に対する転写積層体の転写不良の発生を防止することができる。 Here, in the transfer laminate 1 for an optical film according to the present embodiment, the alignment film 12 has a wave number of 810 cm −1 by a total reflection measurement method at the interface between the alignment film 12 and the support substrate 11. The ratio “P1 / P2” is 0.15 or more when the infrared absorption peak is P1 and the infrared absorption peak at a wave number of 1730 cm −1 is P2. As will be described in detail later, according to the transfer laminate 1 for an optical film having such an alignment film 12, the peel strength of the support substrate 11 can be weakened. 11 can be effectively suppressed, and transfer defects of the transfer laminate with respect to the transfer target can be prevented.

<1−3.位相差層(液晶層)>
位相差層(液晶層)13は、重合性液晶組成物を含有する。この重合性液晶組成物は、液晶性を示し分子内に重合性官能基を有する液晶化合物(棒状化合物)を含有する。
<1-3. Retardation layer (liquid crystal layer)>
The retardation layer (liquid crystal layer) 13 contains a polymerizable liquid crystal composition. This polymerizable liquid crystal composition contains a liquid crystal compound (rod-like compound) exhibiting liquid crystallinity and having a polymerizable functional group in the molecule.

液晶化合物は、屈折率異方性を有し、規則的に配列することにより所望の位相差性を付与する機能を有する。液晶化合物としては、例えば、ネマチック相、スメクチック相等の液晶相を示す材料が挙げられるが、他の液晶相を示す液晶化合物と比較して規則的に配列させることが容易である点で、ネマチック相の液晶性を示す材料を用いることが好ましい。ネマチック相を示す液晶化合物としては、メソゲン両端にスペーサを有する材料であることが好ましい。メソゲン両端にスペーサを有する液晶化合物は、柔軟性に優れるため、位相差フィルム1を透明性に優れたものにすることができる。   The liquid crystal compound has refractive index anisotropy and has a function of imparting a desired retardation by regularly arranging the liquid crystal compound. Examples of the liquid crystal compound include materials exhibiting a liquid crystal phase such as a nematic phase and a smectic phase, but the nematic phase is easier in order to arrange regularly than liquid crystal compounds exhibiting other liquid crystal phases. It is preferable to use a material exhibiting the above liquid crystallinity. The liquid crystal compound exhibiting a nematic phase is preferably a material having spacers at both ends of the mesogen. Since the liquid crystal compound having spacers at both ends of the mesogen is excellent in flexibility, the retardation film 1 can be excellent in transparency.

また、上述した配向膜12を垂直配向膜からなるものとし、液晶化合物をホメオトロピック配向させる場合には、ホメオトロピック配向を形成することができるホメオトロピック液晶材料であれば特に限定されない。なお、ホメオトロピック液晶材料としては、垂直配向膜を使用することなく、ホメオトロピック配向を形成できるものと、垂直配向膜を使用することによりホメオトロピック配向を形成できるものとを挙げることができるが、本実施の形態においては、どちらであっても好適に用いることができる。   In addition, when the alignment film 12 described above is made of a vertical alignment film and the liquid crystal compound is homeotropically aligned, there is no particular limitation as long as it is a homeotropic liquid crystal material capable of forming homeotropic alignment. Examples of the homeotropic liquid crystal material include materials that can form homeotropic alignment without using a vertical alignment film, and materials that can form homeotropic alignment by using a vertical alignment film. In the present embodiment, either can be suitably used.

液晶化合物は、上述したように分子内に重合性官能基を有する重合性液晶化合物である。重合性官能基を有することにより、液晶化合物を重合して固定することが可能になるため、配列安定性に優れ、位相差性の経時変化が生じにくくなる。また、重合性液晶化合物は、分子内に三次元架橋可能な重合性官能基を有することがより好ましい。三次元架橋可能な重合性官能基を有することで、配列安定性をより一層高めることができる。なお、「三次元架橋」とは、液晶性分子を互いに三次元に重合して、網目(ネットワーク)構造の状態にすることをいう。   The liquid crystal compound is a polymerizable liquid crystal compound having a polymerizable functional group in the molecule as described above. By having a polymerizable functional group, it is possible to polymerize and fix the liquid crystal compound, so that the alignment stability is excellent and the phase change is less likely to occur over time. The polymerizable liquid crystal compound more preferably has a polymerizable functional group capable of three-dimensional crosslinking in the molecule. By having a polymerizable functional group capable of three-dimensional crosslinking, the sequence stability can be further enhanced. Note that “three-dimensional crosslinking” means that liquid crystal molecules are polymerized three-dimensionally to form a network structure.

重合性官能基としては、例えば、紫外線、電子線等の電離放射線、あるいは熱の作用によって重合するものを挙げることができる。これら重合性官能基としては、ラジカル重合性官能基、カチオン重合性官能基等が挙げられる。ラジカル重合性官能基の代表例としては、少なくとも1つの付加重合可能なエチレン性不飽和二重結合を持つ官能基が挙げられ、例えば、置換基を有する若しくは有さないビニル基、アクリレート基(アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基を包含する総称)等が挙げられる。また、カチオン重合性官能基の具体例としては、エポキシ基等が挙げられる。その他、重合性官能基としては、イソシアネート基、不飽和3重結合等が挙げられる。その中でも、プロセス上の点から、エチレン性不飽和二重結合を持つ官能基が好適に用いられる。   Examples of the polymerizable functional group include those that polymerize by the action of ionizing radiation such as ultraviolet rays and electron beams, or heat. Examples of these polymerizable functional groups include radical polymerizable functional groups and cationic polymerizable functional groups. Representative examples of radically polymerizable functional groups include functional groups having at least one addition-polymerizable ethylenically unsaturated double bond, such as vinyl groups having or without substituents, acrylate groups (acryloyl). Group, methacryloyl group, acryloyloxy group, generic name including methacryloyloxy group) and the like. Moreover, an epoxy group etc. are mentioned as a specific example of a cationically polymerizable functional group. In addition, examples of the polymerizable functional group include an isocyanate group and an unsaturated triple bond. Among them, a functional group having an ethylenically unsaturated double bond is preferably used from the viewpoint of the process.

重合性液晶化合物の量としては、配向膜12上に塗工する塗工方法に応じて、位相差層形成用塗工液(液晶組成物)の粘度を所望の値に調整できるものであれば特に限定されないが、例えば、液晶組成物中の量として5〜40質量部程度の範囲内とすることができる。なお、重合性液晶化合物は、1種単独で又は2種以上を混合して用いることができる。   The amount of the polymerizable liquid crystal compound is not particularly limited as long as the viscosity of the retardation layer forming coating liquid (liquid crystal composition) can be adjusted to a desired value according to the coating method applied on the alignment film 12. Although it does not specifically limit, For example, it can be in the range of about 5-40 mass parts as a quantity in a liquid-crystal composition. In addition, a polymeric liquid crystal compound can be used individually by 1 type or in mixture of 2 or more types.

上述した液晶化合物は、通常、溶媒(希釈溶媒)に溶かされている。溶媒としては、液晶化合物等を均一に分散できるものであれば特に限定されるものではなく、例えば、ベンゼン、ヘキサン等の炭化水素系溶媒、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン(CHN)等のケトン系溶媒、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタン、プロピレングリコールモノエチルエーテル(PGME)等のエーテル系溶媒、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化アルキル系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)等のエステル系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶媒、シクロヘキサン等のアノン系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール系溶媒を例示することができるが、これらに限られるものではない。また、溶媒は、1種類であってもよく、2種類以上の溶媒の混合溶媒であってもよい。   The liquid crystal compound described above is usually dissolved in a solvent (dilution solvent). The solvent is not particularly limited as long as it can uniformly disperse liquid crystal compounds and the like. For example, hydrocarbon solvents such as benzene and hexane, ketone solvents such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone (CHN). Solvent, ether solvents such as tetrahydrofuran, 1,2-dimethoxyethane, propylene glycol monoethyl ether (PGME), halogenated alkyl solvents such as chloroform and dichloromethane, methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate Ester solvents such as (PGMEA), amide solvents such as N, N-dimethylformamide, sulfoxide solvents such as dimethyl sulfoxide, anone solvents such as cyclohexane, methanol, ethanol, isopropyl It can be exemplified an alcohol solvent such as alcohol, but is not limited thereto. Further, the solvent may be one kind or a mixed solvent of two or more kinds of solvents.

溶媒の量としては、特に限定されるものではなく、例えば液晶化合物100質量部に対して66〜900質量部程度とすることができる。溶媒の量が66質量部未満であると、液晶化合物を均一に溶かすことができない可能性があり好ましくない。一方で、900質量部を超えると、溶媒の一部が残存し、信頼性が低下する可能性、及び均一に塗工できない可能性があり好ましくない。   The amount of the solvent is not particularly limited and can be, for example, about 66 to 900 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the liquid crystal compound. If the amount of the solvent is less than 66 parts by mass, the liquid crystal compound may not be dissolved uniformly, which is not preferable. On the other hand, when the amount exceeds 900 parts by mass, a part of the solvent remains, which may reduce reliability and may not be uniformly applied.

その他、液晶組成物には、上述した液晶化合物の配列秩序を害するものでなければ、必要に応じて他の化合物を含んでもよい。例えば、重合禁止剤、可塑剤、界面活性剤、及びシランカップリング剤等を挙げることができる。   In addition, the liquid crystal composition may contain other compounds as necessary, as long as the alignment order of the liquid crystal compounds described above is not impaired. Examples thereof include a polymerization inhibitor, a plasticizer, a surfactant, and a silane coupling agent.

上述したような液晶組成物を配向膜12上に塗工して形成される位相差層13の厚さとしては、特に限定されるものでないが、適切な配向性能を得るためには、500〜2000nm程度であることが好ましい。   The thickness of the retardation layer 13 formed by coating the liquid crystal composition as described above on the alignment film 12 is not particularly limited. The thickness is preferably about 2000 nm.

≪2.配向膜について≫
上述したように、本実施の形態に係る光学フィルム用転写積層体1においては、その配向膜12が、その配向膜12の支持体基材11との界面における、全反射測定法による波数810cm−1付近での赤外線吸収ピークをP1、波数1730cm−1付近での赤外線吸収ピークをP2としたときの比「P1/P2」が0.15以上となるように形成されていることを特徴としている。
≪2. About alignment film >>
As described above, in the transfer laminate 1 for an optical film according to the present embodiment, the alignment film 12 has a wave number of 810 cm according to the total reflection measurement method at the interface between the alignment film 12 and the support substrate 11. the infrared absorption peak at around 1 P1, the ratio at which the infrared absorption peak at around a wave number 1730 cm -1 by P2 'P1 / P2 "is characterized in that it is formed to be 0.15 or more .

配向膜12の支持体基材11との界面において赤外線スペクトル測定したとき、波数810cm−1付近における赤外線吸収ピーク(P1)は、紫外線照射による反応で消失する炭素−炭素二重結合(C=C)のピークを示す。また、波数1730cm−1付近における赤外線吸収ピーク(P2)は、紫外線照射による反応で消失しないエステル結合のピークを示す。 When an infrared spectrum is measured at the interface between the alignment film 12 and the support substrate 11, the infrared absorption peak (P1) near the wave number of 810 cm −1 is a carbon-carbon double bond (C═C) that disappears by a reaction caused by ultraviolet irradiation. ) Peak. In addition, the infrared absorption peak (P2) in the vicinity of a wave number of 1730 cm −1 indicates an ester bond peak that does not disappear due to a reaction by ultraviolet irradiation.

したがって、これらのピークP1、P2による比「P1/P2」は、配向膜の硬化反応率、つまり配向膜における硬化度合いに相当するものとなる。具体的には、比「P1/P2」の値が小さいほど、配向膜12の支持体基材11との界面における硬化反応率が高く硬化度合いが大きい(硬化が進んでいる)ことを示し、一方で、比「P1/P2」の値が大きいほど、配向膜12の支持体基材11との界面における硬化反応率が低く硬化度合いが小さい(硬化が進んでいない、未硬化な状態が存在する)ことを示す。   Therefore, the ratio “P1 / P2” by these peaks P1 and P2 corresponds to the curing reaction rate of the alignment film, that is, the degree of curing in the alignment film. Specifically, the smaller the value of the ratio “P1 / P2” is, the higher the curing reaction rate at the interface between the alignment film 12 and the support substrate 11 is, and the greater the degree of curing (the curing is progressing), On the other hand, the larger the value of the ratio “P1 / P2”, the lower the curing reaction rate at the interface between the alignment film 12 and the support substrate 11 and the smaller the degree of curing (there is an uncured state where curing has not progressed). Show)

ここで、図2は、配向膜の膜厚[μm]に対する、上述したピークP1、P2の比「P1/P2」との関係を表すグラフ図である。すなわち、配向膜における硬化反応率の膜厚(配向膜厚)依存性についてのグラフである。なお、この図2のグラフ図に示す関係は、配向膜の支持体基材との界面に対して、赤外線分光装置(日本分光株式会社製、FT−IR(610))を使用して全反射測定法(ATR法)によりIR測定したときの結果に基づくものである。   Here, FIG. 2 is a graph showing the relationship with the ratio “P1 / P2” of the above-described peaks P1 and P2 with respect to the film thickness [μm] of the alignment film. That is, it is a graph about the film thickness (alignment film thickness) dependence of the curing reaction rate in the alignment film. In addition, the relationship shown in the graph of FIG. 2 is that total reflection is performed using an infrared spectroscopic device (manufactured by JASCO Corporation, FT-IR (610)) with respect to the interface between the alignment film and the support substrate. This is based on the result of IR measurement by the measurement method (ATR method).

この図2に示すように、配向膜の膜厚が厚くなるほど、配向膜の支持体基材との界面における、硬化反応率に相当する比「P1/P2」の値が大きくなっていることが分かる。つまり、配向膜の膜厚が厚くなるほど、配向膜の支持体基材との界面において、硬化が進行しておらず未硬化な状態を含んでいることが分かる。   As shown in FIG. 2, as the alignment film becomes thicker, the ratio “P1 / P2” corresponding to the curing reaction rate at the interface between the alignment film and the support substrate increases. I understand. In other words, it can be seen that as the thickness of the alignment film increases, curing does not proceed and an uncured state is included at the interface between the alignment film and the support substrate.

そして、本実施の形態に係る光学フィルム用転写積層体1では、そのP1、P2の比「P1/P2」が0.15以上である。このように、光学フィルム用転写積層体1では、配向膜の支持体基材11との界面における比「P1/P2」で表される配向膜12の硬化反応率が0.15以上であることで、その界面に未硬化な状態が含まれるようになると考えられる。すると、このことにより、その配向膜12と支持体基材11との密着性が低下し、支持体基材11の剥離強度を効果的に弱めることができるようになる。そして、これにより、支持体基材11の剥離不良を効果的に抑制することができ、被転写体に対する転写積層体の転写不良を防止することができる。   And in the transfer laminated body 1 for optical films which concerns on this Embodiment, ratio "P1 / P2" of the P1 and P2 is 0.15 or more. As described above, in the transfer laminate 1 for an optical film, the curing reaction rate of the alignment film 12 represented by the ratio “P1 / P2” at the interface between the alignment film and the support substrate 11 is 0.15 or more. Thus, it is considered that an uncured state is included in the interface. As a result, the adhesion between the alignment film 12 and the support substrate 11 is lowered, and the peel strength of the support substrate 11 can be effectively weakened. And thereby, the peeling defect of the support base material 11 can be suppressed effectively, and the transfer defect of the transfer laminated body with respect to a to-be-transferred body can be prevented.

具体的に、図3に、図2にて示した硬化反応率に対応する配向膜の膜厚[μm]に対する支持体基材11の剥離強度[mN/50mm](剥離速度300mm/minで剥離したときの剥離強度)についての測定結果を示す。なお、この図3に示す結果は、幅50mmのサンプルを用い、株式会社エーアンドデイ製のテンシロン(RTG−1310)を使用して支持体基材の剥離強度を測定したときの結果である。   Specifically, in FIG. 3, the peel strength [mN / 50 mm] of the support substrate 11 with respect to the film thickness [μm] of the alignment film corresponding to the curing reaction rate shown in FIG. 2 (peeling at a peeling speed of 300 mm / min). The measurement results for the peel strength at the time of measurement are shown. In addition, the result shown in FIG. 3 is a result when the peel strength of the support substrate is measured using a sample having a width of 50 mm and using Tensilon (RTG-1310) manufactured by A & D Corporation.

この図3の結果に示されるように、配向膜の膜厚が厚くなるほど、すなわち、配向膜の支持体基材との界面における硬化反応率の値が大きくなるほど、支持体基材の剥離強度が有効に弱められることが明確に分かる。より具体的には、例えば、上述した比「P1/P2」の値がおよそ0.2以上となる、配向膜の膜厚3μm以上(図2を参照)では、支持体基材を剥離速度300mm/minで剥離したときの剥離強度が180mN/50mm以下となる。   As shown in the results of FIG. 3, the peel strength of the support substrate increases as the thickness of the alignment film increases, that is, as the value of the curing reaction rate at the interface between the alignment film and the support substrate increases. It can clearly be seen that it is effectively weakened. More specifically, for example, when the value of the above-mentioned ratio “P1 / P2” is about 0.2 or more and the film thickness of the alignment film is 3 μm or more (see FIG. 2), the support substrate is peeled off at a speed of 300 mm. The peel strength when peeled at / min is 180 mN / 50 mm or less.

≪3.光学フィルム用転写積層体の製造方法≫
次に、光学フィルム用転写積層体の製造方法について説明する。図4は、光学フィルム用転写積層体1の製造工程の流れを示すフロー図である。なお、以下の製造方法の説明では、配向膜12が垂直配向膜により構成される場合を例に挙げて説明するが、これに限られない。
≪3. Manufacturing method of transfer laminate for optical film >>
Next, the manufacturing method of the transfer laminated body for optical films is demonstrated. FIG. 4 is a flowchart showing the flow of the manufacturing process of the optical film transfer laminate 1. In the following description of the manufacturing method, the case where the alignment film 12 is formed of a vertical alignment film will be described as an example, but the present invention is not limited thereto.

図4に示すように、光学フィルム用転写積層体1の製造においては、先ず、ロールに巻き取った長尺フィルムからPETフィルムからなる支持体基材11が提供される(S1)。   As shown in FIG. 4, in the production of the optical film transfer laminate 1, first, a support substrate 11 made of a PET film is provided from a long film wound around a roll (S1).

次に、配向膜形成工程(S2)において、ロールから繰り出した支持体基材11上に垂直配向膜の塗工液(配向膜組成物)を塗工し、紫外線照射により硬化させる処理を施す。これにより支持体基材11上に垂直配向膜を作製し、配向膜12を形成する。   Next, in the alignment film forming step (S2), a coating liquid (alignment film composition) for the vertical alignment film is applied onto the support substrate 11 drawn out from the roll and cured by ultraviolet irradiation. As a result, a vertical alignment film is produced on the support substrate 11 and the alignment film 12 is formed.

このとき、本実施の形態においては、配向膜12の支持体基材11との界面における、全反射測定法による波数810cm−1の赤外線吸収ピークをP1、波数1730cm−1の赤外線吸収ピークをP2としたときの比P1/P2が0.15以上となる膜厚となるように支持体基材11上に塗工液を塗工し、配向膜12を形成する。 At this time, in the present embodiment, the infrared absorption peak of wave number 810 cm −1 by the total reflection measurement method at the interface between the alignment film 12 and the support substrate 11 is P1, and the infrared absorption peak of wave number 1730 cm −1 is P2. The coating liquid is applied onto the support substrate 11 so that the ratio P1 / P2 is 0.15 or more, and the alignment film 12 is formed.

次に、位相差層形成工程(S3)において、液晶化合物を含有する液晶組成物の塗工液(位相差層形成用塗工液)を、配向膜12上に塗工する。その後、乾燥させて紫外線等の照射により硬化させることによって、位相差層(液晶層)13を形成する。なお、紫外線照射処理に先立ち、位相差層13の層厚を均一にするためのレベリング処理を施すようにしてもよい。   Next, in the retardation layer forming step (S3), a liquid crystal composition coating liquid containing a liquid crystal compound (a retardation layer forming coating liquid) is applied onto the alignment film 12. Thereafter, the retardation layer (liquid crystal layer) 13 is formed by drying and curing by irradiation with ultraviolet rays or the like. In addition, you may make it perform the leveling process for making the layer thickness of the phase difference layer 13 uniform before an ultraviolet irradiation process.

ここで、本実施の形態においては、上述したように、配向膜12の支持体基材11との界面における、波数810cm−1での赤外線吸収ピークをP1、波数1730cm−1での赤外線吸収ピークをP2としたときの比P1/P2で表される硬化反応率が0.15以上となるように配向膜12を形成している。このような配向膜12においては、支持体基材11とその配向膜12との界面における剥離強度を有効に弱めることができるようになる。これにより、支持体基材11の剥離不良を効果的に抑制することができ、被転写体に対する転写積層体の転写不良を防止することができる。 Here, in the present embodiment, as described above, the infrared absorption peak at the wave number of 810 cm −1 at the interface between the alignment film 12 and the support substrate 11 is P1, and the infrared absorption peak at the wave number of 1730 cm −1. The alignment film 12 is formed so that the curing reaction rate represented by the ratio P1 / P2 with respect to P2 is 0.15 or more. In such an alignment film 12, the peel strength at the interface between the support substrate 11 and the alignment film 12 can be effectively reduced. Thereby, the peeling defect of the support base material 11 can be suppressed effectively, and the transfer defect of the transfer laminated body with respect to a to-be-transferred body can be prevented.

このようにして、支持体基材11/配向膜12/位相差層13がこの順で積層されてなる積層体フィルムを製造し、得られたフィルムを巻き取りリール等で巻き取った後、所望の大きさに切り出す切断処理を行う。このような工程を経て、光学フィルム用転写積層体1が作製される。   Thus, after manufacturing the laminated body film by which the support base material 11 / alignment film 12 / retardation layer 13 are laminated | stacked in this order, after winding up the obtained film with a winding reel etc., desired The cutting process is performed to cut out to the size. Through such steps, the optical film transfer laminate 1 is produced.

なお、支持体基材11上への配向膜組成物の塗工方法や、配向膜12上への位相差層形成用塗工液の塗工方法としては、特に限定されるものではなく、例えば、ダイコート法、グラビアコート法、リバースコート法、ナイフコート法、ディップコート法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、スピンコート法、ロールコート法、プリント法、浸漬引き上げ法、カーテンコート法、キャスティング法、バーコート法、エクストルージョンコート法、E型塗布方法等を用いることができる。   The coating method of the alignment film composition on the support substrate 11 and the coating method of the retardation layer forming coating liquid on the alignment film 12 are not particularly limited. For example, , Die coating method, gravure coating method, reverse coating method, knife coating method, dip coating method, spray coating method, air knife coating method, spin coating method, roll coating method, printing method, dipping and lifting method, curtain coating method, casting method , Bar coating method, extrusion coating method, E-type coating method and the like can be used.

≪4.光学フィルム用転写積層体を用いた光学フィルムの作製方法≫
次に、上述した光学フィルム用転写積層体を用いて転写法により光学フィルムを作製する方法について説明する。図5は、本実施の形態に係る光学フィルム用転写積層体1を用いて、逆分散延伸フィルムからなる、透過光に1/4波長分の位相差を付与する光学機能層に光学フィルム用転写積層体1の転写層を転写して光学フィルムを作製する際の工程の流れを示す図である。なお、この図5は、フィルムの断面を示す図であり、各工程におけるフィルムの層構造について示しながら工程の流れを示す図である。また、フィルムの層構造についてはこれに限定されない。
<< 4. Production method of optical film using transfer laminate for optical film >>
Next, a method for producing an optical film by the transfer method using the above-described optical film transfer laminate will be described. FIG. 5 shows the optical film transfer laminate 1 for an optical film according to the present embodiment. The optical film transfer is applied to an optical functional layer made of a reverse dispersion stretched film and imparts a phase difference of ¼ wavelength to transmitted light. It is a figure which shows the flow of the process at the time of transferring the transfer layer of the laminated body 1, and producing an optical film. In addition, this FIG. 5 is a figure which shows the cross section of a film, and is a figure which shows the flow of a process, showing the layer structure of the film in each process. Further, the layer structure of the film is not limited to this.

先ず、図5(a)に示すように、PETフィルムからなる支持体基材11(離型性基材)上に、例えば垂直配向膜からなる配向膜12を形成し、その配向膜12上に液晶組成物を含有する位相差層形成用塗工液を塗工して位相差層(液相層)13を形成し、光学フィルム用転写積層体1を作製する。ここで、上述したように、この光学フィルム用転写積層体1の作製においては、配向膜12の支持体基材11との界面における、全反射測定法による波数810cm−1の赤外線吸収ピークをP1、波数1730cm−1の赤外線吸収ピークをP2としたときの比P1/P2が0.15以上となるように配向膜12が構成されている。 First, as shown in FIG. 5A, an alignment film 12 made of, for example, a vertical alignment film is formed on a support base material 11 (release base material) made of a PET film, and the alignment film 12 is formed on the alignment film 12. A phase difference layer (liquid phase layer) 13 is formed by applying a phase difference layer forming coating solution containing a liquid crystal composition to produce a transfer laminate 1 for an optical film. Here, as described above, in the production of the transfer laminate 1 for an optical film, the infrared absorption peak at a wave number of 810 cm −1 by the total reflection measurement method at the interface between the alignment film 12 and the support substrate 11 is P1. The alignment film 12 is configured so that the ratio P1 / P2 is 0.15 or more when the infrared absorption peak at a wave number of 1730 cm −1 is P2.

次に、図5(b)に示すように、作製した光学フィルム用転写積層体1の位相差層13上に、例えばUV接着剤等を含有する接着層21を形成し、その接着層21上に高分子フィルム(保護フィルム)22を形成して、光学フィルム用転写積層体1を転写する。   Next, as shown in FIG. 5 (b), an adhesive layer 21 containing, for example, a UV adhesive is formed on the retardation layer 13 of the produced optical film transfer laminate 1. Then, a polymer film (protective film) 22 is formed, and the optical film transfer laminate 1 is transferred.

接着層21としては、紫外線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、感圧接着剤等、各種の接着剤を広く適用することができるが、その中でも、全体の厚みを薄くする観点から紫外線(UV)硬化性樹脂を適用してUV接着層とすることが好ましく、この場合には、厚み1μm程度の接着層を作製することができる。なお、接着層21には粘着層を適用してもよい。   Various adhesives such as an ultraviolet curable resin, a thermosetting resin, and a pressure sensitive adhesive can be widely applied as the adhesive layer 21. Among them, ultraviolet (UV) is used from the viewpoint of reducing the overall thickness. It is preferable to apply a curable resin to form a UV adhesive layer. In this case, an adhesive layer having a thickness of about 1 μm can be produced. An adhesive layer may be applied to the adhesive layer 21.

また、高分子フィルムとしては、特に限定されないが、例えば逆分散特性を備えた延伸フィルム(以下、「逆分散延伸フィルム22」ともいう)を用いることができる。この逆分散延伸フィルム22は、1軸方向に延伸、若しくは所望の方向に斜め延伸した、例えばCOP(シクロオレフィンポリマー)フィルムで形成されており、遅相軸が、直線偏光板の吸収軸に対して反時計回りにθ2度の角度をなすように配置され、透過光に1/4波長分の位相差を付与する1/4波長板用位相差層としての役割を担う。このような逆分散延伸フィルム22を用いることにより、例えば、基材、1/4波長板用樹脂層、1/4波長板用配向膜の構成を省略することができので、光学フィルムの全体の層厚みを薄くすることができる。   The polymer film is not particularly limited, and for example, a stretched film having reverse dispersion characteristics (hereinafter also referred to as “reverse dispersion stretched film 22”) can be used. The reverse dispersion stretched film 22 is formed of, for example, a COP (cycloolefin polymer) film that is stretched in one axial direction or obliquely stretched in a desired direction, and the slow axis is relative to the absorption axis of the linearly polarizing plate. Thus, it is arranged to form an angle of θ2 degrees counterclockwise, and plays a role as a retardation layer for a quarter wavelength plate that imparts a phase difference of a quarter wavelength to transmitted light. By using such a reverse dispersion stretched film 22, for example, the configuration of the base material, the resin layer for a quarter wavelength plate, and the alignment film for a quarter wavelength plate can be omitted. The layer thickness can be reduced.

逆分散延伸フィルム等の高分子フィルム22を光学フィルム用転写積層体1に積層させて転写すると、次に、図5(c)に示すように、光学フィルム用転写積層体1の支持体基材11を剥離する。光学フィルム用転写積層体1は、このように他の基材(高分子フィルム等)に転写層(位相差層13、配向膜12)を転写するために、離型性支持体としての役割を担う支持体基材11が剥離される。なお、支持体基材11の剥離は、後述する直線偏光板を積層させた後に行うようにしてもよい。   When the polymer film 22 such as reverse dispersion stretched film is laminated and transferred to the optical film transfer laminate 1, next, as shown in FIG. 5 (c), the support substrate of the optical film transfer laminate 1. 11 is peeled off. The optical film transfer laminate 1 thus serves as a releasable support in order to transfer the transfer layer (retardation layer 13 and alignment film 12) to another substrate (polymer film or the like) in this way. The supporting substrate 11 to be carried is peeled off. In addition, you may make it perform peeling of the support body base material 11 after laminating | stacking the linear polarizing plate mentioned later.

そして、光学フィルム用転写積層体1の支持体基材11を剥離すると、次に、図5(d)に示すように、粘着剤層31を備えた直線偏光板を積層する。   And if the support base material 11 of the transfer laminated body 1 for optical films is peeled, next, as shown in FIG.5 (d), the linearly-polarizing plate provided with the adhesive layer 31 will be laminated | stacked.

直線偏光板としては、TAC(トリアセチルセルロース)等の透明フィルムからなる基材34の下面側が鹸化処理された後、光学機能層が配置される。なお、基材34は、ポリ(メタ)アクリル酸メチル、ポリ(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸メチル−(メタ)アクリル酸ブチル共重合体、(メタ)アクリル酸メチル−スチレン共重合体等のアクリル樹脂等の樹脂、ソーダ硝子、カリ硝子、鉛硝子、石英硝子等の硝子等を適用することもできる。   As the linear polarizing plate, the optical functional layer is disposed after the lower surface side of the base material 34 made of a transparent film such as TAC (triacetyl cellulose) is saponified. In addition, the base material 34 is poly (meth) methyl acrylate, poly (meth) butyl acrylate, (meth) methyl acrylate- (meth) butyl acrylate copolymer, (meth) methyl acrylate-styrene copolymer. Resins such as acrylic resin such as coalescence, glass such as soda glass, potassium glass, lead glass, and quartz glass can also be applied.

光学機能層は、直線偏光板としての光学的機能を担う部位であり、例えば、偏光子33と、アクリル樹脂等からなる透明の保護フィルム(基材)32とが順に積層されたものを用いることができる。このような直線偏光板を、粘着剤層31を介して逆分散延伸フィルム等の高分子フィルム22に貼り合わせる。   The optical functional layer is a part responsible for the optical function as a linear polarizing plate, and for example, a layer in which a polarizer 33 and a transparent protective film (base material) 32 made of an acrylic resin or the like are sequentially laminated are used. Can do. Such a linearly polarizing plate is bonded to a polymer film 22 such as a reverse dispersion stretched film via an adhesive layer 31.

以上のような工程に基づき、光学フィルム用転写積層体1を用いて転写法により光学フィルムを作製することができる。特に、本実施の形態においては、光学フィルム用転写積層体1の配向膜12を、上述のように例えば膜厚等を制御して構成させていることにより、その配向膜12と支持体基材11との界面における剥離強度を有効に弱めることができる。これにより、支持体基材11の剥離不良を効果的に抑制することができ、被転写体に対する転写積層体の転写不良を防止することができ、生産性を高めることができる。   Based on the above processes, an optical film can be produced by a transfer method using the optical film transfer laminate 1. In particular, in the present embodiment, the alignment film 12 of the optical film transfer laminate 1 is configured by controlling, for example, the film thickness as described above. 11 can effectively weaken the peel strength at the interface. Thereby, the peeling defect of the support base material 11 can be effectively suppressed, the transfer defect of the transfer laminate with respect to the transfer object can be prevented, and the productivity can be increased.

なお、上述したように、光学フィルム用転写積層体1において垂直配向膜からなる配向膜12を有するものとし、その光学フィルム用転写積層体1の位相差層13上に接着層21を介して逆分散延伸フィルム22を積層させ、その逆分散延伸フィルム22上に、透明フィルムからなる基材32,34により挟持された偏光子33を備える直線偏光板を設けることで、簡易に、且つ高い生産性でもって、逆分散特性による正のCプレートを備えた光学フィルムを得ることができる。   As described above, the optical film transfer laminate 1 has the alignment film 12 made of a vertical alignment film, and is reversely disposed on the retardation layer 13 of the optical film transfer laminate 1 via the adhesive layer 21. A dispersion-stretched film 22 is laminated, and a linearly polarizing plate provided with a polarizer 33 sandwiched between base materials 32, 34 made of a transparent film is provided on the reverse dispersion-stretched film 22, so that high productivity can be achieved easily. Therefore, an optical film having a positive C plate with reverse dispersion characteristics can be obtained.

1 光学フィルム用転写積層体
11 支持体基材
12 配向膜
13 位相差層(液晶層)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Transfer laminated body for optical films 11 Support base material 12 Alignment film 13 Retardation layer (liquid crystal layer)

Claims (4)

転写層を有する光学フィルム用転写積層体であって、
表面に易接着処理がされていないポリエチレンテレフタレートからなる支持体基材と、配向膜と、位相差層とがこの順で積層されてなり、
前記配向膜は、ペンタエリスリトール多官能アクリレート、ジペンタエリスリトール多官能アクリレート、ペンタエリスリトール多官能メタクリレート及びジペンタエリスリトール多官能メタクリレートからなる群より選択される少なくとも1種の硬化物であり、
前記配向膜の前記支持体基材との界面における、全反射測定法による波数810cm−1の赤外線吸収ピークをP1、波数1730cm−1の赤外線吸収ピークをP2としたときの比P1/P2が0.15以上0.27以下であることを特徴とする光学フィルム用転写積層体。
A transfer laminate for an optical film having a transfer layer,
A support substrate made of polyethylene terephthalate that has not been subjected to easy adhesion treatment on the surface, an alignment film, and a retardation layer are laminated in this order,
The alignment film is at least one cured product selected from the group consisting of pentaerythritol polyfunctional acrylate, dipentaerythritol polyfunctional acrylate, pentaerythritol polyfunctional methacrylate, and dipentaerythritol polyfunctional methacrylate,
The ratio P1 / P2 is 0 when the infrared absorption peak at a wave number of 810 cm −1 by the total reflection measurement method at the interface between the alignment film and the support substrate is P1, and the infrared absorption peak at a wave number of 1730 cm −1 is P2. A transfer laminate for an optical film, wherein the transfer laminate is from 15 to 0.27 .
前記配向膜の厚みが3μm以上であり、
前記支持体基材を剥離速度300mm/minで剥離したときの剥離強度が、180mN/50mm以下であることを特徴とする請求項1に記載の光学フィルム用転写積層体。
The alignment film has a thickness of 3 μm or more;
The transfer laminate for an optical film according to claim 1, wherein a peel strength when the support substrate is peeled at a peeling speed of 300 mm / min is 180 mN / 50 mm or less.
前記配向膜は、垂直配向膜から構成されることを特徴とする請求項1又は2に記載の光学フィルム用転写積層体。   The transfer laminate for an optical film according to claim 1, wherein the alignment film is composed of a vertical alignment film. 前記転写層が、逆分散延伸フィルムからなる1/4波長分の位相差を付与する光学機能層に転写されることを特徴とする請求項1乃至3の何れか1項に記載の光学フィルム用転写積層体。
4. The optical film according to claim 1, wherein the transfer layer is transferred to an optical functional layer made of a reverse dispersion stretched film and imparting a phase difference corresponding to ¼ wavelength. 5. Transfer laminate.
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