JP6258012B2 - Hard coat film, transparent conductive film, and capacitive touch panel - Google Patents
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- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 109
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 64
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 41
- -1 acrylate compound Chemical class 0.000 claims description 40
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 40
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 40
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 37
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 23
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 20
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 20
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 17
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 14
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 14
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 12
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 claims description 9
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 6
- 239000006059 cover glass Substances 0.000 claims description 5
- 230000002265 prevention Effects 0.000 claims description 5
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 172
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 27
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 24
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 21
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 16
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 11
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 11
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 10
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 10
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 7
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 7
- 238000005204 segregation Methods 0.000 description 7
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 6
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 5
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 5
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 5
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 5
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 5
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 5
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 4
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 4
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 4
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 4
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 4
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 4
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 4
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 4
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical class C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 3
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NJWGQARXZDRHCD-UHFFFAOYSA-N 2-methylanthraquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C)=CC=C3C(=O)C2=C1 NJWGQARXZDRHCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N N-Pentanol Chemical compound CCCCCO AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 2
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- IIEWJVIFRVWJOD-UHFFFAOYSA-N ethylcyclohexane Chemical compound CCC1CCCCC1 IIEWJVIFRVWJOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- 230000005660 hydrophilic surface Effects 0.000 description 2
- 125000001165 hydrophobic group Chemical group 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 229940035429 isobutyl alcohol Drugs 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N (1-hydroxycyclohexyl)-phenylmethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1(O)CCCCC1 QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RLUFBDIRFJGKLY-UHFFFAOYSA-N (2,3-dichlorophenyl)-phenylmethanone Chemical compound ClC1=CC=CC(C(=O)C=2C=CC=CC=2)=C1Cl RLUFBDIRFJGKLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XKSUVRWJZCEYQQ-UHFFFAOYSA-N 1,1-dimethoxyethylbenzene Chemical compound COC(C)(OC)C1=CC=CC=C1 XKSUVRWJZCEYQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenyl-2-propan-2-yloxyethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC(C)C)C(=O)C1=CC=CC=C1 MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKEGCUDAFWNSSO-UHFFFAOYSA-N 1,8-dibromooctane Chemical compound BrCCCCCCCCBr DKEGCUDAFWNSSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012956 1-hydroxycyclohexylphenyl-ketone Substances 0.000 description 1
- GIMQKKFOOYOQGB-UHFFFAOYSA-N 2,2-diethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 GIMQKKFOOYOQGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 2,4-diethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC(CC)=C3SC2=C1 BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCHAFMWSFCONOO-UHFFFAOYSA-N 2,4-dimethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C)=CC(C)=C3SC2=C1 LCHAFMWSFCONOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMLWXYJZDNNBTD-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)-1-phenylethanone Chemical compound CN(C)CC(=O)C1=CC=CC=C1 UMLWXYJZDNNBTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOGPDSATLSAZEK-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoanthraquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(N)=CC=C3C(=O)C2=C1 XOGPDSATLSAZEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MUBQKSBEWRYKES-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO MUBQKSBEWRYKES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DZZAHLOABNWIFA-UHFFFAOYSA-N 2-butoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCCCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 DZZAHLOABNWIFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 2-chlorothioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(Cl)=CC=C3SC2=C1 ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IQQVCMQJDJSRFU-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical class OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.CCC(CO)(CO)CO IQQVCMQJDJSRFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 2-ethylanthraquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC=C3C(=O)C2=C1 SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJQMXVDKXSQCDI-UHFFFAOYSA-N 2-ethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC=C3SC2=C1 YJQMXVDKXSQCDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYISVPVWAQRUTL-UHFFFAOYSA-N 2-methylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C)=CC=C3SC2=C1 MYISVPVWAQRUTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTPSFXZMJKMUJE-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butylanthracene-9,10-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C(C)(C)C)=CC=C3C(=O)C2=C1 YTPSFXZMJKMUJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-M Butyrate Chemical compound CCCC([O-])=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N Butyric acid Natural products CCCC(O)=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIWXXTUKFKLSRD-UHFFFAOYSA-N CCNC1(CC=CC=C1)NCC Chemical compound CCNC1(CC=CC=C1)NCC JIWXXTUKFKLSRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000298 Cellophane Polymers 0.000 description 1
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 1
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Chemical group 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 description 1
- 229920001609 Poly(3,4-ethylenedioxythiophene) Polymers 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- 239000004697 Polyetherimide Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 1
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 1
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMEGJBVQLJJKKX-HOTMZDKISA-N [(2R,3S,4S,5R,6R)-5-acetyloxy-3,4,6-trihydroxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound CC(=O)OC[C@@H]1[C@H]([C@@H]([C@H]([C@@H](O1)O)OC(=O)C)O)O SMEGJBVQLJJKKX-HOTMZDKISA-N 0.000 description 1
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 229940081735 acetylcellulose Drugs 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 238000007611 bar coating method Methods 0.000 description 1
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- CSXPRVTYIFRYPR-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl)-diethoxysilane Chemical compound CCO[Si](C=C)(C=C)OCC CSXPRVTYIFRYPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZPECUSGQPIKHLT-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl)-dimethoxysilane Chemical compound CO[Si](OC)(C=C)C=C ZPECUSGQPIKHLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N bis[2-(1-hydroxycyclohexyl)phenyl]methanone Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)C2(O)CCCCC2)C=1C1(O)CCCCC1 MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- SXPLZNMUBFBFIA-UHFFFAOYSA-N butyl(trimethoxy)silane Chemical compound CCCC[Si](OC)(OC)OC SXPLZNMUBFBFIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002041 carbon nanotube Substances 0.000 description 1
- 229910021393 carbon nanotube Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003575 carbonaceous material Substances 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 230000001413 cellular effect Effects 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- 150000004770 chalcogenides Chemical class 0.000 description 1
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical class Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- OMZSGWSJDCOLKM-UHFFFAOYSA-N copper(II) sulfide Chemical compound [S-2].[Cu+2] OMZSGWSJDCOLKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GBRBMTNGQBKBQE-UHFFFAOYSA-L copper;diiodide Chemical compound I[Cu]I GBRBMTNGQBKBQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000002788 crimping Methods 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 150000001925 cycloalkenes Chemical class 0.000 description 1
- 229920005994 diacetyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- PFMKUUJQLUQKHT-UHFFFAOYSA-N dichloro(ethyl)silicon Chemical compound CC[Si](Cl)Cl PFMKUUJQLUQKHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)OC JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CVQVSVBUMVSJES-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-phenylsilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)C1=CC=CC=C1 CVQVSVBUMVSJES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 230000005674 electromagnetic induction Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N ethyl(trimethoxy)silane Chemical compound CC[Si](OC)(OC)OC SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910021389 graphene Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 1
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N hexane-1,1-diol Chemical compound CCCCCC(O)O ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M hexanoate Chemical compound CCCCCC([O-])=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000007602 hot air drying Methods 0.000 description 1
- DLINORNFHVEIFE-UHFFFAOYSA-N hydrogen peroxide;zinc Chemical compound [Zn].OO DLINORNFHVEIFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 230000005865 ionizing radiation Effects 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000005055 methyl trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- RJMRIDVWCWSWFR-UHFFFAOYSA-N methyl(tripropoxy)silane Chemical compound CCCO[Si](C)(OCCC)OCCC RJMRIDVWCWSWFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HLXDKGBELJJMHR-UHFFFAOYSA-N methyl-tri(propan-2-yloxy)silane Chemical compound CC(C)O[Si](C)(OC(C)C)OC(C)C HLXDKGBELJJMHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N methyltrichlorosilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)Cl JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N norbornene Chemical compound C1[C@@H]2CC[C@H]1C=C2 JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- LYXOWKPVTCPORE-UHFFFAOYSA-N phenyl-(4-phenylphenyl)methanone Chemical compound C=1C=C(C=2C=CC=CC=2)C=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 LYXOWKPVTCPORE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 1
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920001197 polyacetylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920006289 polycarbonate film Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 description 1
- 229920001601 polyetherimide Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920000306 polymethylpentene Polymers 0.000 description 1
- 239000011116 polymethylpentene Substances 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000128 polypyrrole Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920000123 polythiophene Polymers 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 230000001846 repelling effect Effects 0.000 description 1
- 230000003678 scratch resistant effect Effects 0.000 description 1
- 238000006748 scratching Methods 0.000 description 1
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 description 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical group 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 239000002352 surface water Substances 0.000 description 1
- 238000010345 tape casting Methods 0.000 description 1
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-L terephthalate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)C1=CC=C(C([O-])=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- OQTSOKXAWXRIAC-UHFFFAOYSA-N tetrabutan-2-yl silicate Chemical compound CCC(C)O[Si](OC(C)CC)(OC(C)CC)OC(C)CC OQTSOKXAWXRIAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N tetrabutyl silicate Chemical compound CCCCO[Si](OCCCC)(OCCCC)OCCCC UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZUEKXCXHTXJYAR-UHFFFAOYSA-N tetrapropan-2-yl silicate Chemical compound CC(C)O[Si](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C ZUEKXCXHTXJYAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N tetrapropyl silicate Chemical compound CCCO[Si](OCCC)(OCCC)OCCC ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCLLLHFGVQKVKL-UHFFFAOYSA-N tetratert-butyl silicate Chemical compound CC(C)(C)O[Si](OC(C)(C)C)(OC(C)(C)C)OC(C)(C)C BCLLLHFGVQKVKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- ZOYFEXPFPVDYIS-UHFFFAOYSA-N trichloro(ethyl)silane Chemical compound CC[Si](Cl)(Cl)Cl ZOYFEXPFPVDYIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(ethyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC)(OCC)OCC DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(phenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBXZNTLFQLUFES-UHFFFAOYSA-N triethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OCC)(OCC)OCC NBXZNTLFQLUFES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OC)(OC)OC HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N trimethyl(1,1,2,2,2-pentafluoroethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)C(F)(F)C(F)(F)F MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005051 trimethylchlorosilane Substances 0.000 description 1
- QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N trimethylolethane Chemical compound OCC(C)(CO)CO QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 1
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
- C08J5/18—Manufacture of films or sheets
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- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F222/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical and containing at least one other carboxyl radical in the molecule; Salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof
- C08F222/10—Esters
- C08F222/1006—Esters of polyhydric alcohols or polyhydric phenols
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- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/04—Coating
- C08J7/0427—Coating with only one layer of a composition containing a polymer binder
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/04—Coating
- C08J7/044—Forming conductive coatings; Forming coatings having anti-static properties
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- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/04—Coating
- C08J7/046—Forming abrasion-resistant coatings; Forming surface-hardening coatings
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/34—Silicon-containing compounds
- C08K3/36—Silica
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L33/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L33/04—Homopolymers or copolymers of esters
- C08L33/14—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing halogen, nitrogen, sulfur, or oxygen atoms in addition to the carboxy oxygen
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/14—Protective coatings, e.g. hard coatings
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- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
- G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
- G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
- G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
- H01B5/00—Non-insulated conductors or conductive bodies characterised by their form
- H01B5/14—Non-insulated conductors or conductive bodies characterised by their form comprising conductive layers or films on insulating-supports
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2333/00—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers
- C08J2333/04—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers esters
- C08J2333/14—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers esters of esters containing halogen, nitrogen, sulfur, or oxygen atoms in addition to the carboxy oxygen
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K2201/00—Specific properties of additives
- C08K2201/002—Physical properties
- C08K2201/003—Additives being defined by their diameter
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L2201/00—Properties
- C08L2201/10—Transparent films; Clear coatings; Transparent materials
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- C08L2203/00—Applications
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
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- Optics & Photonics (AREA)
- Human Computer Interaction (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
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Description
本発明は、ハードコートフィルム、透明導電性フィルムおよび静電容量タッチパネルに関し、特に、耐ブロッキング性を有するハードコートフィルム、そのようなハードコートフィルムを備えた透明導電性フィルムおよび静電容量タッチパネルに関する。 The present invention relates to a hard coat film, a transparent conductive film and a capacitive touch panel, and more particularly to a hard coat film having blocking resistance, a transparent conductive film and a capacitive touch panel provided with such a hard coat film.
従来、液晶ディスプレイを有する液晶表示装置として、例えば、携帯用の電子手帳や情報端末等が用いられているが、近年、表示部に直接触れて、入力可能なタッチパネルが搭載された液晶表示装置が広く用いられている。 Conventionally, as a liquid crystal display device having a liquid crystal display, for example, a portable electronic notebook, an information terminal, or the like has been used. Widely used.
このようなタッチパネルとしては、静電容量方式、抵抗膜方式、電磁誘導方式等が挙げられるが、指等が接触した際に発生する微弱な電流、すなわち、静電容量の変化を検知して入力位置を検出する静電容量方式タッチパネルが普及しつつある。
このような液晶表示装置において、透明導電膜等の耐擦傷性や、取扱容易性を向上させるため、透明導電膜の表面にハードコートフィルムを備える場合が多い。
このようなハードコートフィルムとしては、基材の表面にハードコート層を備えるものが知られている。
Examples of such a touch panel include a capacitance method, a resistance film method, an electromagnetic induction method, and the like, but a weak current generated when a finger or the like touches, that is, a change in capacitance is detected and input. Capacitive touch panels that detect positions are becoming popular.
In such a liquid crystal display device, a hard coat film is often provided on the surface of the transparent conductive film in order to improve the scratch resistance of the transparent conductive film and the like and ease of handling.
As such a hard coat film, one having a hard coat layer on the surface of a substrate is known.
例えば、透明ポリエステルフィルムの片面または両面に易滑易接着層、ハードコート層および反射防止層がこの順で積層されてなるディスプレイ用ハードコートフィルムが開示されている（例えば、特許文献１参照）。
すなわち、特許文献１には、ハードコート層として所定の表面硬度、所定の厚みを有し、表面の水接触角が４０〜８０°であり、かつ、無機微粒子を含有するディスプレイ用ハードコートフィルムが開示されている。
For example, a hard coat film for a display in which a slippery adhesive layer, a hard coat layer, and an antireflection layer are laminated in this order on one or both sides of a transparent polyester film is disclosed (for example, see Patent Document 1).
That is, Patent Document 1 discloses a hard coat film for display having a predetermined surface hardness and a predetermined thickness as a hard coat layer, a surface water contact angle of 40 to 80 °, and containing inorganic fine particles. It is disclosed.
一方、ハードコート性を有したフィルムは、生産性や取扱性の観点から、ハードコート層を塗布した後、ロール状に巻き取られ、ロールの状態で数日保管される場合があり、フィルムの表面同士が貼りつき（ブロッキング）、ハードコート層表面に傷等が生じたり、ブロッキングが発生したハードコートフィルムを用いた場合に表面にムラが発生したり、という問題が見られた。
そこで、例えば、製造工程において、ハードコートフィルムをロールで巻き取った際に、ハードコートフィルム同士が貼り付いたり剥がれにくくなったりして生産性が低下することを防止するために、光透過性基材の両面に所定のハードコート層を有する光学積層体、透明導電性フィルムおよび静電容量タッチパネルが提案されている（例えば、特許文献２参照）。
より具体的には、ハードコート層が、バインダー樹脂、レベリング剤及び易滑剤を含むハードコート層用組成物を用いて形成された層であって、易滑剤がシリカ粒子及びシリコーン粒子からなる群より選択される少なくとも１種である光学積層体について開示されている。
On the other hand, from the viewpoint of productivity and handleability, a film having hard coat properties may be wound into a roll after being applied with a hard coat layer and stored in a roll for several days. There were problems that the surfaces were stuck together (blocking), the surface of the hard coat layer was scratched, or the surface was uneven when using a hard coat film with blocking.
Therefore, for example, in the production process, when the hard coat film is wound up with a roll, the light transmissive group is prevented in order to prevent the hard coat films from sticking to each other or becoming difficult to peel off. An optical laminate having a predetermined hard coat layer on both sides of a material, a transparent conductive film, and a capacitive touch panel have been proposed (see, for example, Patent Document 2).
More specifically, the hard coat layer is a layer formed using a composition for a hard coat layer containing a binder resin, a leveling agent, and a lubricant, and the lubricant is from the group consisting of silica particles and silicone particles. An optical laminate that is at least one selected is disclosed.
また、透明性が高く、耐擦傷性が向上した、従来複数層で形成していた機能を単一の層で付与することができる生産性に優れたハードコートフィルムの製造方法が開示されている（例えば、特許文献３参照）。
より具体的には、透明基材フィルムの少なくとも片面側にハードコートフィルムを設けるハードコートフィルムの製造方法であって、ハードコート層の塗布組成物が、所定の金属酸化物微粒子、電離放射線硬化性樹脂、およびケトン類とアルコール類とを含む有機溶媒を含み、ハードコート層に含有される金属酸化物微粒子が局在相を形成するハードコートフィルムの製造方法が提案されている。
Also disclosed is a method for producing a hard coat film with high productivity, which has high transparency, improved scratch resistance, and can impart a function conventionally formed by a plurality of layers in a single layer. (For example, refer to Patent Document 3).
More specifically, a method for producing a hard coat film in which a hard coat film is provided on at least one side of a transparent substrate film, wherein the coating composition of the hard coat layer comprises predetermined metal oxide fine particles, ionizing radiation curable properties. There has been proposed a method for producing a hard coat film, which contains a resin and an organic solvent containing ketones and alcohols, and in which the metal oxide fine particles contained in the hard coat layer form a localized phase.
しかしながら、特許文献１に開示されたディスプレイ用ハードコートフィルムは、ハードコート層の表面が親水性であるため、所定の鉛筆硬度を有しているものの、易滑性が十分ではなく、フィルム同士の密着を有効に防止できないという問題が見られた。
また、特許文献２に記載の光学積層体は、易滑剤として、比較的大きなシリカ粒子を用いることによって、光学積層体が互いに貼りつくのを防止しており、フィルム同士の密着はある程度防止できるものの、易滑剤が比較的大きな粒子であるため、光学積層体の透明性が不十分となる場合があるという問題が見られた。
また、特許文献３に記載のハードコートフィルムの製造方法は、２種類の溶媒の蒸発速度の差および微粒子表面の架橋成分同士の吸引、結合作用を利用して金属酸化物微粒子を表面に局在化させているため、製造方法が複雑であり、安定的に製造することが困難であるという問題が見られた。
However, since the hard coat film for display disclosed in Patent Document 1 has a predetermined pencil hardness because the surface of the hard coat layer is hydrophilic, the slipperiness is not sufficient. There was a problem that adhesion could not be effectively prevented.
In addition, the optical laminate described in Patent Document 2 uses relatively large silica particles as a lubricant to prevent the optical laminates from sticking to each other, although adhesion between films can be prevented to some extent. Since the lubricant is a relatively large particle, there has been a problem that the transparency of the optical laminate may be insufficient.
In addition, the method for producing a hard coat film described in Patent Document 3 localizes metal oxide fine particles on the surface by utilizing the difference in evaporation rate of two kinds of solvents and the attraction and bonding action of cross-linking components on the fine particle surface. Therefore, there has been a problem that the manufacturing method is complicated and it is difficult to manufacture stably.
そこで、本発明者らは、このような問題を鋭意検討した結果、基材フィルムの少なくとも片面にハードコート層を備え、当該ハードコート層を形成するハードコート層形成材料に所定の疎水化シリカゾルを所定量配合することにより、ハードコートフィルム同士の圧着を効果的に防止することができ、かつ、透明性に優れるハードコートフィルムが得られることを見出し、本発明を完成させたものである。
すなわち、本発明は、ハードコートフィルム同士のブロッキング（貼りつき）を効果的に防止することができ（アンチブロッキング性）、かつ、透明性に優れたハードコートフィルム、そのようなハードコートフィルムを備えた透明導電性フィルムおよび静電容量タッチパネルを提供することを目的とする。
Therefore, as a result of intensive studies on such problems, the present inventors have provided a hard coat layer on at least one surface of the base film, and a predetermined hydrophobized silica sol as a hard coat layer forming material for forming the hard coat layer. It has been found that by blending a predetermined amount, it is possible to effectively prevent pressure bonding between hard coat films and to obtain a hard coat film excellent in transparency, and the present invention has been completed.
That is, the present invention can effectively prevent blocking (sticking) between hard coat films (anti-blocking property), and has a hard coat film excellent in transparency, and such a hard coat film. An object is to provide a transparent conductive film and a capacitive touch panel.
本発明によれば、基材フィルムの少なくとも片面にハードコート層を備えたハードコートフィルムであって、当該ハードコートフィルムのＪＩＳ Ｋ ７１０５に準拠して測定されるヘイズ値が、１．０％以下であり、ハードコート層が、少なくとも（Ａ）エネルギー線硬化性樹脂と、（Ｂ）疎水化シリカゾルとを含むハードコート層形成材料の硬化物からなり、（Ｂ）疎水化シリカゾルの配合量が、（Ａ）エネルギー線硬化性樹脂１００重量部に対して固形分換算で０．３〜２５重量部の範囲内の値であり、（Ｂ）疎水化シリカゾルを塗膜にした際の塗膜に対する水の接触角を１００°以上の値とし、かつ、（Ｂ）疎水化シリカゾルが、ハードコート層形成材料を硬化した後のハードコート層の、基材フィルムとは反対側の表面に偏析していることを特徴とするハードコートフィルムが提供され、上述した問題を解決することができる。
すなわち、ハードコート層形成材料として、所定の接触角を有する疎水化シリカゾルを用いることにより、ハードコート層形成材料を硬化した後のハードコート層の基材フィルムとは反対側の表面に疎水化シリカゾルが、相分離して存在するため、ハードコートフィルム表面に微細な凹凸が生じ、ハードコートフィルム同士の貼りつきを防止することができる。
また、疎水化シリカゾルを用いることにより、比較的少量の添加にも関わらず、効果的にハードコート層内で表面に偏析させることができ、ハードコートフィルムの透明性を効果的に向上させることができる。
According to the present invention, a hard coat film having a hard coat layer on at least one surface of a base film, the haze value of the hard coat film measured according to JIS K 7105 is 1.0% or less. And the hard coat layer comprises a cured product of a hard coat layer forming material containing at least (A) an energy ray curable resin and (B) a hydrophobized silica sol, and (B) the blending amount of the hydrophobized silica sol is: (A) It is a value within the range of 0.3 to 25 parts by weight in terms of solid content with respect to 100 parts by weight of energy beam curable resin, and (B) Water for the coating film when hydrophobized silica sol is used as the coating film the contact angle to a value of more than 100 °, and, (B) hydrophobic silica sol, a hard coat layer after curing the hard coat layer-forming material, are segregated on the surface opposite to the substrate film A hard coat film is provided, characterized in that, it is possible to solve the problems described above.
That is, by using a hydrophobized silica sol having a predetermined contact angle as the hard coat layer forming material, the hydrophobized silica sol on the surface opposite to the base film of the hard coat layer after curing the hard coat layer forming material. However, since it exists in phase separation, fine irregularities are generated on the surface of the hard coat film, and sticking between the hard coat films can be prevented.
In addition, by using a hydrophobized silica sol, the surface can be effectively segregated in the hard coat layer, despite the addition of a relatively small amount, and the transparency of the hard coat film can be effectively improved. it can.
また、本発明のハードコートフィルムを構成するにあたり、（Ｂ）疎水化シリカゾルの平均粒径が１０〜１００ｎｍの範囲内の値であることが好ましい。
このように構成することにより、ハードコートフィルムの透明性を維持または効果的に向上させ、十分な光透過性を得ることができる。
Moreover, when comprising the hard coat film of this invention, it is preferable that the average particle diameter of (B) hydrophobic silica sol is a value within the range of 10-100 nm.
By comprising in this way, transparency of a hard-coat film can be maintained or improved effectively, and sufficient light transmittance can be obtained.
また、本発明のハードコートフィルムを構成するにあたり、（Ｂ）疎水化シリカゾルを塗膜にした際の塗膜に対する水の接触角を１００〜１３０°の範囲内の値とすることが好ましい。
このように構成することにより、ハードコートフィルム同士のブロッキングを効果的に防止することができる。
Moreover, when comprising the hard coat film of this invention, it is preferable to make the contact angle of the water with respect to the coating film at the time of making the coating film into (B) hydrophobic silica sol into the value within the range of 100-130 degrees .
By comprising in this way, blocking of hard coat films can be prevented effectively.
また、本発明のハードコートフィルムを構成するにあたり、（Ａ）エネルギー線硬化性樹脂が、(ａ１)多官能(メタ)アクリレート化合物と、(ａ２)エチレンオキサイドあるいはプロピレンオキサイド付加型の多官能(メタ)アクリレート化合物と、を含有し、(ａ１)多官能(メタ)アクリレート化合物と、(ａ２)エチレンオキサイドあるいはプロピレンオキサイド付加型の多官能(メタ)アクリレート化合物との含有重量比が、１００：０〜２０：８０の範囲内の値であることが好ましい。
このように構成することにより、ハードコートフィルムの硬度を好適に調整することができる。
Further, in constituting the hard coat film of the present invention, (A) the energy beam curable resin comprises (a1) a polyfunctional (meth) acrylate compound and (a2) an ethylene oxide or propylene oxide addition type polyfunctional (meta ) Acrylate compound, and the content weight ratio of (a1) polyfunctional (meth) acrylate compound to (a2) ethylene oxide or propylene oxide addition type polyfunctional (meth) acrylate compound is 100: 0 to A value within the range of 20:80 is preferred.
By comprising in this way, the hardness of a hard coat film can be adjusted suitably.
また、本発明のハードコートフィルムを構成するにあたり、ハードコート層形成材料が、（Ｃ）レベリング剤をさらに含むことが好ましい。
このように構成することにより、基材フィルム上にハードコート層が形成される過程で、レベリング剤が塗膜最表面に配向し、塗膜表面に、浮き、まだら等が発生することを防止することができる。
In constituting the hard coat film of the present invention, it is preferable that the hard coat layer forming material further contains (C) a leveling agent.
By constituting in this way, in the process of forming a hard coat layer on the base film, the leveling agent is oriented on the outermost surface of the coating film, and it is prevented that floating, mottle, etc. occur on the coating film surface. be able to.
また、本発明のハードコートフィルムを構成するにあたり、ハードコート層の厚さが、１〜１０μｍの範囲内の値であることが好ましい。
このように構成することにより、耐擦傷性に優れたハードコートフィルムを得ることができ、かつ、ハードコートフィルムの好適な光学特性を維持することができる。
Moreover, when comprising the hard coat film of this invention, it is preferable that the thickness of a hard-coat layer is a value within the range of 1-10 micrometers.
By comprising in this way, the hard coat film excellent in abrasion resistance can be obtained, and the suitable optical characteristic of a hard coat film can be maintained.
また、本発明のハードコートフィルムを構成するにあたり、ハードコート層の表面におけるＪＩＳ Ｂ ０６０１−１９９４に準拠して測定される算術平均粗さＲａが、１.５〜５ｎｍの範囲内の値であることが好ましい。
このように構成することにより、得られたハードコートフィルムの表面に微細な凹凸を得ることができ、ハードコートフィルム同士のブロッキングを好適に防止することができる。
また、ハードコート層の表面における算術平均粗さがこのような範囲内の値であれば、優れた光学特性を有するハードコートフィルムを得ることができる。
Further, in constituting the hard coat film of the present invention, the arithmetic average roughness Ra measured in accordance with JIS B 0601-1994 on the surface of the hard coat layer is a value in the range of 1.5 to 5 nm. It is preferable.
By comprising in this way, a fine unevenness | corrugation can be obtained on the surface of the obtained hard coat film, and blocking of hard coat films can be prevented suitably.
Moreover, if the arithmetic mean roughness in the surface of a hard-coat layer is a value within such a range, the hard-coat film which has the outstanding optical characteristic can be obtained.
また、本発明の別の態様は、上述したハードコートフィルムの少なくとも片面に透明導電層を備えた透明導電性フィルムである。
すなわち、このように透明性に優れ、ハードコートフィルム同士が貼りつきにくいハードコートフィルムに透明導電層を備えることにより、プロテクトフィルムを用いてフィルム同士のブロッキングを防止する必要がなくなるため、生産性に優れ、安価な透明導電性フィルムを得ることができる。
Another aspect of the present invention is a transparent conductive film comprising a transparent conductive layer on at least one side of the hard coat film described above.
In other words, by providing a transparent conductive layer on a hard coat film that is excellent in transparency and hard to stick to each other, it is not necessary to prevent blocking between the films using a protective film. An excellent and inexpensive transparent conductive film can be obtained.
また、本発明のさらに別の態様は、ガラス飛散防止フィルムを備えたカバーガラスと、第一の透明導電性フィルムと、第二の透明導電性フィルムと、液晶表示体とを含む静電容量タッチパネルであって、第一の透明導電性フィルムが、第一のハードコートフィルムの少なくとも片面に第一の透明導電層を備えており、第二の透明導電性フィルムが、第二のハードコートフィルムの少なくとも片面に第二の透明導電層を備えており、第一のハードコートフィルムおよび第二のハードコートフィルムが、基材フィルムの少なくとも片面にハードコート層を備えたハードコートフィルムであって、当該ハードコートフィルムのＪＩＳ Ｋ ７１０５に準拠して測定されるヘイズ値が、１．０％以下であり、ハードコート層が、少なくとも（Ａ）エネルギー線硬化性樹脂と、（Ｂ）疎水化シリカゾルとを含むハードコート層形成材料の硬化物からなり、（Ｂ）疎水化シリカゾルの配合量が、（Ａ）エネルギー線硬化性樹脂１００重量部に対して固形分換算で０．３〜２５重量部の範囲内の値であり、（Ｂ）疎水化シリカゾルを塗膜にした際の塗膜に対する水の接触角が１００°以上の値であり、かつ、（Ｂ）疎水化シリカゾルが、ハードコート層形成材料を硬化した後のハードコート層の、基材フィルムとは反対側の表面に偏析していることを特徴とする静電容量タッチパネルである。
すなわち、このような透明性に優れ、耐ブロッキング性を有するハードコートフィルムに透明導電層を備えた透明導電性フィルムを用いた静電容量タッチパネルであれば、視認性に優れた静電容量タッチパネルを得ることができる。
Furthermore, another aspect of the present invention is a capacitive touch panel including a cover glass including a glass scattering prevention film, a first transparent conductive film, a second transparent conductive film, and a liquid crystal display. The first transparent conductive film includes a first transparent conductive layer on at least one side of the first hard coat film, and the second transparent conductive film is formed of the second hard coat film. The second transparent conductive layer is provided on at least one side, and the first hard coat film and the second hard coat film are hard coat films provided with a hard coat layer on at least one side of the base film, The haze value measured according to JIS K 7105 of the hard coat film is 1.0% or less, and the hard coat layer is at least (A) Enel. A hard-coating layer-forming material containing a linear curing resin and (B) a hydrophobized silica sol. The blending amount of the (B) hydrophobized silica sol is (A) 100 parts by weight of the energy radiation curable resin. On the other hand, it is a value within the range of 0.3 to 25 parts by weight in terms of solid content, and (B) the contact angle of water with respect to the coating film when the hydrophobized silica sol is used as a coating film is a value of 100 ° or more, And (B) a capacitive touch panel characterized in that the hydrophobized silica sol is segregated on the surface of the hard coat layer after curing the hard coat layer forming material, on the side opposite to the substrate film. .
That is, if it is a capacitive touch panel using the transparent conductive film which provided the transparent conductive layer in the hard coat film which is excellent in such transparency and blocking resistance, the capacitive touch panel excellent in visibility will be used. Can be obtained.
また、本発明の別の態様は、基材フィルムの少なくとも片面にハードコート層を備えたハードコートフィルムの製造方法であって、ハードコートフィルムのＪＩＳ Ｋ ７１０５に準拠して測定されるヘイズ値が、１．０％以下であり、下記工程（１）〜（３）を含むことを特徴とするハードコートフィルムの製造方法である。
（１）少なくとも（Ａ）エネルギー線硬化性樹脂と、（Ａ）エネルギー線硬化性樹脂１００重量部に対して固形分換算で０．３〜２５重量部の範囲内の値の（Ｂ）疎水化シリカゾルとを含み、かつ、当該（Ｂ）疎水化シリカゾルを塗膜にした際の塗膜に対する水の接触角を１００°以上の値としてあるハードコート層形成材料を準備する工程
（２）ハードコート層形成材料を、基材フィルムの少なくとも片面に塗布する工程
（３）ハードコート層形成材料を硬化し、（Ｂ）疎水化シリカゾルが、ハードコート層の基材フィルムとは反対側の表面に偏析しているハードコート層を備えたハードコートフィルムを形成する工程
すなわち、このように実施することにより、シリカ粒子が基材フィルムの反対側の表面に偏析して存在するハードコートフィルムを効率的に製造することができる。
したがって、ハードコートフィルムをＲｏｌｌ Ｔｏ Ｒｏｌｌで製造した場合であっても、ハードコートフィルム同士が貼りつくことを効果的に防止することができ、生産性を向上させることができる。
Another embodiment of the present invention is a method for producing a hard coat film comprising a hard coat layer on at least one side of a base film, wherein the haze value measured according to JIS K 7105 of the hard coat film is 1.0% or less, and includes the following steps (1) to (3).
(1) at least (A) energy beam curable resin, and (B) hydrophobization of a value within the range of 0.3 to 25 parts by weight in terms of solid content with respect to 100 parts by weight of (A) energy beam curable resin A step of preparing a hard coat layer forming material comprising a silica sol and having a contact angle of water with respect to the coating film when the (B) hydrophobized silica sol is formed into a coating film, of 100 ° or more (2) Hard coating The step of applying the layer forming material to at least one side of the base film (3) The hard coat layer forming material is cured, and (B) the hydrophobized silica sol is segregated on the surface of the hard coat layer opposite to the base film. Step of forming a hard coat film provided with a hard coat layer, that is, by carrying out in this way, a hard coat in which silica particles are segregated on the opposite surface of the base film Irumu can be efficiently produce.
Therefore, even when the hard coat film is manufactured by Roll To Roll, it is possible to effectively prevent the hard coat films from sticking to each other and improve productivity.
[第１の実施形態]
第１の実施形態は、基材フィルムの少なくとも片面にハードコート層を備えたハードコートフィルムであって、当該ハードコートフィルムのＪＩＳ Ｋ ７１０５に準拠して測定されるヘイズ値が、１．０％以下であり、ハードコート層が、少なくとも（Ａ）エネルギー線硬化性樹脂と、（Ｂ）疎水化シリカゾルとを含むハードコート層形成材料の硬化物からなり、（Ｂ）疎水化シリカゾルの配合量が、（Ａ）エネルギー線硬化性樹脂１００重量部に対して固形分換算で０．３〜２５重量部の範囲内の値であり、（Ｂ）疎水化シリカゾルが、ハードコート層形成材料を硬化した後のハードコート層の、基材フィルムとは反対側の表面に偏析していることを特徴とするハードコートフィルムである。
以下、第１の実施形態のハードコートフィルムにつき、適宜図面を参照して具体的に説明する。
[First embodiment]
The first embodiment is a hard coat film provided with a hard coat layer on at least one side of a base film, and the haze value of the hard coat film measured according to JIS K 7105 is 1.0%. The hard coat layer comprises a cured product of a hard coat layer forming material containing at least (A) an energy ray curable resin and (B) a hydrophobized silica sol, and the blending amount of the (B) hydrophobized silica sol is (A) It is a value within the range of 0.3 to 25 parts by weight in terms of solid content with respect to 100 parts by weight of the energy ray curable resin, and (B) the hydrophobized silica sol has cured the hard coat layer forming material. The hard coat film is characterized by being segregated on the surface of the subsequent hard coat layer opposite to the base film.
Hereinafter, the hard coat film of the first embodiment will be specifically described with reference to the drawings as appropriate.
１.基材フィルム
（１）種類
図１（ａ）〜（ｂ）に例示する基材フィルム１０に使用される樹脂としては、柔軟性および透明性に優れるものであれば特に限定されず、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、ジアセチルセルロースフィルム、トリアセチルセルロースフィルム、アセチルセルロースブチレートフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体フィルム、ポリスチレンフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルエーテルケトンフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリエーテルイミドフィルム、ポリイミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ポリアミドフィルム、アクリル樹脂フィルム、ポリウレタン樹脂フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、シクロオレフィン樹脂フィルム等の他のプラスチックフィルムを挙げることができる。
これらの中でも、透明性に優れ、かつ汎用性があることから、ポリエチレンテレフタレートまたはポリカーボネートからなる透明樹脂フィルムを使用することが好ましい。
1. Type of base film (1) The resin used for the base film 10 illustrated in FIGS. 1A to 1B is not particularly limited as long as it is excellent in flexibility and transparency. Polyester film such as terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polycarbonate film, polyethylene film, polypropylene film, cellophane, diacetyl cellulose film, triacetyl cellulose film, acetyl cellulose butyrate film, polyvinyl chloride film, polyvinylidene chloride film, Polyvinyl alcohol film, ethylene-vinyl acetate copolymer film, polystyrene film, polymethylpentene film, polysulfone film, polyetheretherketone fill , Polyether sulfone film, polyether imide film, a polyimide film, a fluororesin film, a polyamide film, an acrylic resin film, polyurethane resin film, norbornene resin film, other plastic films such as cycloolefin resin film.
Among these, since it is excellent in transparency and has versatility, it is preferable to use a transparent resin film made of polyethylene terephthalate or polycarbonate.
（２）厚さ
また、図１（ａ）〜（ｂ）に例示する基材フィルム１０の厚さを２５〜１８８μｍの範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、基材フィルムの厚さが２５μｍ未満の値となると、シワが生じやすいなど取扱性が著しく低下するためであり、一方、基材フィルムの厚さが１８８μｍを超えると、取扱性が低下し、特にロール状にすることが困難となる場合があるためである。
したがって、機械的強度と光透過性との間のバランスがより良好となることから基材フィルムの厚さを２５〜１２５μｍの範囲内の値とすることがより好ましい。
(2) Thickness Moreover, it is preferable to make the thickness of the base film 10 illustrated to FIG. 1 (a)-(b) into the value within the range of 25-188 micrometers.
The reason for this is that when the thickness of the substrate film is less than 25 μm, the handling property is remarkably reduced, for example, wrinkles easily occur. On the other hand, when the thickness of the substrate film exceeds 188 μm, the handling property is improved. This is because it may be lowered, and in particular, it may be difficult to form a roll.
Therefore, since the balance between mechanical strength and light transmittance becomes better, the thickness of the base film is more preferably set to a value within the range of 25 to 125 μm.
(３)プライマー層
また、図示しないものの、基材フィルムの表面にプライマー層を設けることにより、基材フィルムとハードコート層形成材料の硬化物との密着性を向上させてハードコート層の耐擦傷性をさらに向上させることができる。
ここで、プライマー層の構成材料としては、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂等の一種単独または二種以上の組み合わせが挙げられる。
(3) Primer layer Although not shown, by providing a primer layer on the surface of the base film, the adhesion between the base film and the cured material of the hard coat layer forming material is improved and the hard coat layer is scratch-resistant. The property can be further improved.
Here, examples of the constituent material of the primer layer include one kind of urethane resin, acrylic resin, epoxy resin, polyester resin, and silicone resin, or a combination of two or more kinds.
また、プライマー層の厚さを０．０１〜２０μｍの範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、プライマー層の厚さが０．０１μｍ未満の値となると、プライマー効果が発現しない場合があるためである。一方、プライマー層の厚さが２０μｍを超えた値となると、ハードコートフィルムを構成した場合に、光透過性が低下する場合があるためである。
したがって、プライマー効果と、光透過性との間のバランスがより良好となるため、プライマー層の厚さを０．１〜１５μｍの範囲内の値とすることがより好ましい。
Moreover, it is preferable to make the thickness of a primer layer into the value within the range of 0.01-20 micrometers.
This is because the primer effect may not be exhibited when the thickness of the primer layer is less than 0.01 μm. On the other hand, when the thickness of the primer layer exceeds 20 μm, the light transmittance may be lowered when a hard coat film is formed.
Therefore, since the balance between the primer effect and the light transmittance becomes better, it is more preferable to set the thickness of the primer layer to a value within the range of 0.1 to 15 μm.
２．ハードコート層形成材料
（１）（Ａ）エネルギー線硬化性樹脂
（１）−１．種類
ハードコート層形成材料を構成する（Ａ）エネルギー線硬化性樹脂の種類としては、特に制限はなく、従来公知のものの中から選択でき、エネルギー線硬化性のモノマー、オリゴマー、樹脂、またはそれらを含む組成物等が挙げられる。
具体例としては、多官能(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレート、シリコーン(メタ)アクリレート等の一種単独または二種以上の組み合わせが挙げられる。
多官能(メタ)アクリレートとしては、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートや、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート等のペンタエリスリトール多官能（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートや、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等のジペンタエリスリトール多官能（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、トリアリル（メタ）アクリレート、等が挙げられる。
これらのうち、ハードコート層に適度な堅硬性を付与できることから、ペンタエリスリトール多官能（メタ）アクリレートまたはジペンタエリスリトール多官能（メタ）アクリレートであることがより好ましい。
2. Hard coat layer forming material (1) (A) Energy beam curable resin (1) -1. Type There are no particular limitations on the type of energy ray curable resin that constitutes the hard coat layer forming material, and it can be selected from conventionally known materials, energy ray curable monomers, oligomers, resins, or those Examples thereof include a composition.
Specific examples include one kind alone or a combination of two or more kinds such as polyfunctional (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate, polyether (meth) acrylate, and silicone (meth) acrylate.
As polyfunctional (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, Propylene glycol di (meth) acrylate, hexanediol di (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate Dipentaerythritol such as pentaerythritol polyfunctional (meth) acrylate such as dipentaerythritol penta (meth) acrylate and dipentaerythritol hexa (meth) acrylate Functional (meth) acrylate, glycerol tri (meth) acrylate, triallyl (meth) acrylate.
Among these, pentaerythritol polyfunctional (meth) acrylate or dipentaerythritol polyfunctional (meth) acrylate is more preferable because moderate hardness can be imparted to the hard coat layer.
また、多官能(メタ)アクリレートが、ＥＯ（エチレンオキサイド）あるいはＰＯ（プロピレンオキサイド）付加型の多官能（メタ）アクリレートを含むことも好ましい。
ＥＯ（エチレンオキサイド）あるいはＰＯ（プロピレンオキサイド）付加型の多官能（メタ）アクリレートとは、ＥＯあるいはＰＯ付加型の多価アルコールをアクリル酸でエステル化することによって得られる化合物であり、より具体的には、ＥＯまたはＰＯ変性グリセロールトリアクリレート、ＥＯまたはＰＯ変性トリメチロールプロパンアクリレート、ＥＯまたはＰＯ変性ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ＥＯまたはＰＯ変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等が挙げられる。
これらのうち、ハードコート層に適度な柔軟性を付与することでハードコート層のクラックや割れを防止できることから、ＥＯまたはＰＯ変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ＥＯまたはＰＯ変性トリメチロールプロパンテトラアクリレートであることがより好ましい。
Moreover, it is also preferable that polyfunctional (meth) acrylate contains EO (ethylene oxide) or PO (propylene oxide) addition type polyfunctional (meth) acrylate.
The EO (ethylene oxide) or PO (propylene oxide) addition type polyfunctional (meth) acrylate is a compound obtained by esterifying an EO or PO addition type polyhydric alcohol with acrylic acid, and more specifically. EO or PO modified glycerol triacrylate, EO or PO modified trimethylolpropane acrylate, EO or PO modified pentaerythritol tetraacrylate, EO or PO modified dipentaerythritol hexaacrylate, and the like.
Among these, it is EO or PO-modified dipentaerythritol hexaacrylate, EO or PO-modified trimethylolpropane tetraacrylate because cracking and cracking of the hard coat layer can be prevented by imparting appropriate flexibility to the hard coat layer. It is more preferable.
また、ＥＯまたはＰＯ付加型多官能（メタ）アクリレートにおいて、ハードコート層に適度な柔軟性を付与するために、ＥＯまたはＰＯ付加量が６〜１８モルの範囲内の値であることが好ましく、８〜１６モルであることがより好ましい。 In addition, in the EO or PO addition type polyfunctional (meth) acrylate, the EO or PO addition amount is preferably a value within the range of 6 to 18 mol in order to impart appropriate flexibility to the hard coat layer. More preferably, it is 8 to 16 mol.
（１）−２．配合量
また、ハードコート層形成材料を構成する（Ａ）エネルギー線硬化性樹脂が、(ａ１)多官能(メタ)アクリレート化合物と、(ａ２)エチレンオキサイドあるいはプロピレンオキサイド付加型の多官能(メタ)アクリレート化合物と、を含有し、(ａ１)多官能(メタ)アクリレート化合物と、(ａ２)エチレンオキサイドあるいはプロピレンオキサイド付加型の多官能(メタ)アクリレート化合物との含有重量比が、１００：０〜２０：８０の範囲内の値であることが好ましい。
この理由は、ハードコート層形成材料が、エネルギー線照射により比較的高硬度となる多官能(メタ)アクリレート化合物と、エネルギー線照射によっても、比較的高い柔軟性を有するエチレンオキサイドあるいはプロピレンオキサイド付加型の多官能化合物と、を所定の含有量で含むことにより、ハードコート層の硬度を容易に調整することができるためである。
すなわち、（ａ１）多官能(メタ)アクリレート化合物の含有重量比が２０未満の値になると、硬化後のハードコート層の耐擦傷性が低下する場合があるためである。
したがって、（ａ１）多官能(メタ)アクリレート化合物と、（ａ２）エチレンオキサイドあるいはプロピレンオキサイド付加型の多官能(メタ)アクリレート化合物との含有重量比が９５：５〜３０：７０の範囲内の値であることがより好ましく、９０：１０〜５０:５０の範囲内の値であることがさらに好ましい。
(1) -2. Compounding amount The (A) energy ray-curable resin constituting the hard coat layer forming material is composed of (a1) a polyfunctional (meth) acrylate compound and (a2) an ethylene oxide or propylene oxide addition type polyfunctional (meth). An acrylate compound, and the content weight ratio of (a1) polyfunctional (meth) acrylate compound to (a2) ethylene oxide or propylene oxide addition type polyfunctional (meth) acrylate compound is 100: 0 to 20 : A value within the range of 80 is preferable.
The reason for this is that the hard coat layer forming material is a polyfunctional (meth) acrylate compound that has a relatively high hardness when irradiated with energy rays, and an ethylene oxide or propylene oxide addition type that has relatively high flexibility even when irradiated with energy rays. This is because the hardness of the hard coat layer can be easily adjusted by including the polyfunctional compound at a predetermined content.
That is, (a1) when the content weight ratio of the polyfunctional (meth) acrylate compound is less than 20, the scratch resistance of the hard coat layer after curing may be lowered.
Therefore, the content weight ratio of (a1) polyfunctional (meth) acrylate compound to (a2) ethylene oxide or propylene oxide addition type polyfunctional (meth) acrylate compound is within the range of 95: 5 to 30:70. It is more preferable that the value is within the range of 90:10 to 50:50.
（１）−３．（Ｄ）光重合開始剤
また、本発明におけるハードコート層形成材料においては、所望により、（Ｄ）光重合開始剤を含有させることが好ましい。
この理由は、光重合開始剤を含有させることにより、ハードコート層形成材料に対して活性エネルギー線を照射した際に、効率的にハードコート層を形成することができるためである。
ここで、光重合開始剤とは、紫外線等の活性エネルギー線の照射により、ラジカル種を発生させる化合物をいう。
光重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン−ｎ−ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、アセトフェノン、ジメチルアミノアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２，２−ジエトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−[４−（メチルチオ）フェニル]−２−モルフォリノプロパノン−１−オン、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル−２−（ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、ベンゾフェノン、ｐ−フェニルベンゾフェノン、４，４−ジエチルアミノベンゾフェノン、ジクロロベンゾフェノン、２−メチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、２−ターシャリーブチルアントラキノン、２−アミノアントラキノン、２−メチルチオキサントン、２−エチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケタール、アセトフェノンジメチルケタール、ｐ−ジメチルアミン安息香酸エステル、オリゴ[２−ヒドロキシ−２−メチル−１−[４−（１−メチルビニル）フェニル]プロパン]等が挙げられ、これらのうち一種単独で用いてもよいし、二種以上を組み合わせて用いても良い。
なお、（Ｄ）光重合開始剤を含有させる場合の含有量としては、（Ａ）エネルギー線硬化性樹脂１００重量部に対し、０．２〜２０重量部の範囲内の値とすることが好ましく、０．５〜１５重量部の範囲内の値とすることがより好ましく、１〜１３重量部の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
(1) -3. (D) Photopolymerization initiator In addition, in the hard coat layer forming material of the present invention, it is preferable to contain (D) a photopolymerization initiator as desired.
This is because a hard coat layer can be efficiently formed by irradiating the hard coat layer forming material with active energy rays by containing a photopolymerization initiator.
Here, the photopolymerization initiator refers to a compound that generates radical species by irradiation with active energy rays such as ultraviolet rays.
Examples of the photopolymerization initiator include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin-n-butyl ether, benzoin isobutyl ether, acetophenone, dimethylaminoacetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxy-2-phenylacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl]- 2-morpholinopropan-1-one, 4- (2-hydroxyethoxy) phenyl-2- (hydroxy-2-propyl) ketone, benzophenone, p-phenylbenzophenone, 4,4-diethylaminobenzene Zophenone, dichlorobenzophenone, 2-methylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 2-tertiarybutylanthraquinone, 2-aminoanthraquinone, 2-methylthioxanthone, 2-ethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2 , 4-diethylthioxanthone, benzyldimethyl ketal, acetophenone dimethyl ketal, p-dimethylamine benzoate, oligo [2-hydroxy-2-methyl-1- [4- (1-methylvinyl) phenyl] propane] and the like Of these, one kind may be used alone, or two or more kinds may be used in combination.
In addition, as content when (D) a photoinitiator is contained, it is preferable to set it as the value within the range of 0.2-20 weight part with respect to 100 weight part of (A) energy-beam curable resin. More preferably, the value is in the range of 0.5 to 15 parts by weight, and even more preferably in the range of 1 to 13 parts by weight.
（２）（Ｂ）疎水化シリカゾル
（２）−１．種類
また、ハードコート層形成材料が、（Ｂ）疎水化シリカゾルを含むことを特徴とする。
ここで、シリカゾルの種類としては、アルコキシシラン化合物やクロロシラン化合物等のシリカ微粒子のゾルが挙げられる。
アルコキシシラン化合物としては、加水分解性のアルコキシル基を有するケイ素化合物であれば、特に限定されず、例えば一般式（１）で表される化合物を挙げることができる。
Ｒ1 ｎＳｉ（ＯＲ2）4-ｎ （１）
（式中Ｒ1は、水素原子、または非加水分解性基、具体的には、アルキル基、置換アルキル基（置換基：ハロゲン原子、エポキシ原子、（メタ）アクリロイルオキシ基等）、アルケニル基、アリール基、またはアラルキル基を示し、Ｒ2は、低級アルキル基を示す。ｎは、０〜２の整数であり、Ｒ1およびＯＲ2がそれぞれ複数である場合、複数のＲ1は同一でも異なっていてもよく、また複数のＯＲ2は、同一でも異なっていてもよい。）
(2) (B) Hydrophobized silica sol (2) -1. Type Further, the hard coat layer forming material includes (B) a hydrophobized silica sol.
Here, examples of the silica sol include sols of silica fine particles such as alkoxysilane compounds and chlorosilane compounds.
As an alkoxysilane compound, if it is a silicon compound which has a hydrolyzable alkoxyl group, it will not specifically limit, For example, the compound represented by General formula (1) can be mentioned.
R 1 n Si (OR 2 ) 4-n (1)
(Wherein R 1 is a hydrogen atom or a non-hydrolyzable group, specifically, an alkyl group, a substituted alkyl group (substituent: halogen atom, epoxy atom, (meth) acryloyloxy group, etc.), alkenyl group, An aryl group or an aralkyl group, R 2 represents a lower alkyl group, n is an integer of 0 to 2, and when R 1 and OR 2 are plural, plural R 1 are the same or different And the plurality of OR 2 may be the same or different.)
ここで、一般式（１）で表されるアルコキシシラン化合物としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テトライソブトキシシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、トリメトキシシランヒドリド、トリエトキシシランヒドリド、トリプロポキシシランヒドリド、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ジビニルジメトキシシラン、ジビニルジエトキシシラン等の一種単独または二種以上の組み合わせが好ましい。 Here, as the alkoxysilane compound represented by the general formula (1), tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetra-n-propoxysilane, tetraisopropoxysilane, tetra-n-butoxysilane, tetraisobutoxysilane, Tetra-sec-butoxysilane, tetra-tert-butoxysilane, trimethoxysilane hydride, triethoxysilane hydride, tripropoxysilane hydride, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltripropoxysilane, methyltriisopropoxysilane, Ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, propyltriethoxysilane, butyltrimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, γ-acryloyloxy One or more of propyltrimethoxysilane, γ-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, methylphenyldimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, divinyldimethoxysilane, divinyldiethoxysilane, etc. The combination of is preferable.
この場合、アルコキシシラン化合物として、ｎが０またはｎが１〜２でＲ1が水素原子である化合物を完全加水分解すれば無機シリカ系硬化物が得られるし、部分加水分解すれば、ポリオルガノシロキサン系硬化物または無機シリカ系とポリオルガノシロキサン系との混合系硬化物が得られる。
一方、ｎが１〜２で、Ｒ1が非加水分解性基である化合物では、非加水分解性基を有するので、部分または完全加水分解により、ポリオルガノシロキサン系硬化物が得られる。
クロロシラン化合物としては、エチルジクロロシラン、エチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、トリクロロシラン、トリメチルクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、メチルトリクロロシラン等が挙げられる。
In this case, as an alkoxysilane compound, an inorganic silica-based cured product can be obtained by completely hydrolyzing a compound in which n is 0 or n is 1 to 2 and R 1 is a hydrogen atom. A siloxane-based cured product or a mixed cured product of inorganic silica and polyorganosiloxane is obtained.
On the other hand, a compound in which n is 1 to 2 and R 1 is a non-hydrolyzable group has a non-hydrolyzable group, so that a polyorganosiloxane-based cured product is obtained by partial or complete hydrolysis.
Examples of the chlorosilane compound include ethyldichlorosilane, ethyltrichlorosilane, dimethyldichlorosilane, trichlorosilane, trimethylchlorosilane, dimethyldichlorosilane, and methyltrichlorosilane.
また、シリカゾルは、シリカ微粒子が水または有機溶媒中で、ゾル状態で分散したものである。
かかる有機溶媒に特に制限はなく、メタノール、エタノール、イソプロパノール、エチレングリコール、ｎ−プロピルセロソルブ、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジメチルアセトアミド、プロピレングリコールモノメチルエーテル、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン等が挙げられるが、比較的沸点が高いメチルイソブチルケトン、プロピレングリコールモノメチルエーテルが特に好ましい。
Silica sol is a dispersion of silica fine particles in a sol state in water or an organic solvent.
The organic solvent is not particularly limited, and examples include methanol, ethanol, isopropanol, ethylene glycol, n-propyl cellosolve, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, dimethylacetamide, propylene glycol monomethyl ether, cyclohexane, benzene, toluene, and the like. Methyl isobutyl ketone and propylene glycol monomethyl ether having a high boiling point are particularly preferred.
また、本発明のシリカゾルは、シリカ粒子表面のシラノール基の一部又は全部が疎水性基を有する表面改質剤で処理されている疎水化シリカゾルであることを特徴とする。
ここで、表面改質剤としては、シリカ粒子表面上のシラノール基に対して、反応可能な官能基と、疎水基とを併せ持つシランカップリング剤が挙げられる。
より具体的に、疎水化シリカゾルとして、例えば、ＣＩＫナノテック社製ＳＩＲＰＧＭ１５ＷＴ％−Ｅ２６等が挙げられる。
The silica sol of the present invention is a hydrophobic silica sol in which a part or all of silanol groups on the surface of silica particles is treated with a surface modifier having a hydrophobic group.
Here, examples of the surface modifier include a silane coupling agent having both a functional group capable of reacting with a silanol group on the surface of the silica particle and a hydrophobic group.
More specifically, examples of the hydrophobized silica sol include SIRPGM15WT% -E26 manufactured by CIK Nanotech.
（２）−２．疎水化度
また、シリカゾルの疎水化度は、シリカゾルを、ＰＥＴフィルム上に塗工し、溶剤を除去してシリカゾル塗膜を作成し、かかる塗膜に対する水の接触角を測定して判断した。
より具体的には、シリカゾルを塗膜にした際の塗膜に対する水の接触角を１００°以上の値とすることが好ましい。
すなわち、シリカゾルの塗膜に対する水の接触角が１００°以上の値であれば、シリカゾルの表面が疎水性であると判断できる。
ここで、図２(ａ)に本発明のハードコート層のＳＥＭ写真を示し、図２（ｂ）にシリカゾルの存在状態を説明する模式図を示す。
より具体的には、本発明の疎水化シリカゾル１６は、ハードコート層１２内で、ＰＥＴ表面１０とは反対側の表面に多く存在し、ＰＥＴ表面付近およびハードコート層内に存在する割合は低いことが理解される。なお、図２（ａ）のＳＥＭ写真において、ハードコート層の上部は、サンプル調整のために用いた接着剤層１１である。
したがって、少量の疎水化シリカゾルの添加で、ハードコート層の表面に、適度な表面粗さを付与できるため、ハードコートフィルム同士が重なって時間が経過した場合であっても、フィルム同士のブロッキング（圧着）が生じることを防止することができる。
すなわち、比較的少量の添加で所定の耐ブロッキング性（アンチブロッキング性と称する場合がある）の効果を発揮可能であるため、透明性の高いハードコートフィルムを得ることができることが理解される。
なお、疎水化シリカゾルの塗膜に対する水の接触角が過度に高くなると、ハードコートフィルムにさらに透明導電層等を積層する場合に密着性が低下する恐れがあるため、疎水化シリカゾルの塗膜に対する水の接触角を１００〜１３０°の範囲内の値とすることがより好ましい。
一方、シリカゾルの塗膜に対する水の接触角が１００°未満の値となり、親水性が高くなると、図６に示すように、シリカゾル１８は、基材フィルムと反対側の表面のみに偏析することなく、ハードコート層内全体に分散した状態で存在することが確認されている。
したがって、ハードコート層に所定の表面粗さを付与するためには、比較的多い量を配合する必要があることが理解される。
なお、シリカゾルの塗膜に対する水の接触角の測定方法は、実施例１において、具体的に説明する。
(2) -2. Hydrophobic degree The degree of hydrophobicity of the silica sol was determined by coating the silica sol on a PET film, removing the solvent to form a silica sol coating film, and measuring the contact angle of water with the coating film.
More specifically, the contact angle of water with respect to the coating film when the silica sol is used as the coating film is preferably set to a value of 100 ° or more.
That is, if the contact angle of water with the silica sol coating film is 100 ° or more, it can be determined that the surface of the silica sol is hydrophobic.
Here, FIG. 2 (a) shows an SEM photograph of the hard coat layer of the present invention, and FIG. 2 (b) shows a schematic diagram for explaining the presence state of silica sol.
More specifically, the hydrophobized silica sol 16 of the present invention is present in a large amount on the surface opposite to the PET surface 10 in the hard coat layer 12, and the ratio existing in the vicinity of the PET surface and in the hard coat layer is low. It is understood. In the SEM photograph of FIG. 2A, the upper part of the hard coat layer is an adhesive layer 11 used for sample preparation.
Therefore, by adding a small amount of hydrophobized silica sol, the surface of the hard coat layer can be imparted with an appropriate surface roughness, so even when the hard coat films overlap and time has passed, (Crimping) can be prevented.
That is, it is understood that a hard coating film with high transparency can be obtained because a predetermined blocking resistance (sometimes referred to as anti-blocking property) effect can be exhibited with a relatively small amount of addition.
If the contact angle of water with the hydrophobized silica sol coating film is excessively high, adhesion may be reduced when a transparent conductive layer or the like is further laminated on the hard coat film. The contact angle of water is more preferably set to a value within the range of 100 to 130 °.
On the other hand, when the contact angle of water with respect to the silica sol coating film is less than 100 ° and the hydrophilicity increases, the silica sol 18 does not segregate only on the surface opposite to the base film as shown in FIG. It has been confirmed that it exists in a dispersed state throughout the hard coat layer.
Therefore, it is understood that a relatively large amount needs to be blended in order to impart a predetermined surface roughness to the hard coat layer.
In addition, in Example 1, the measuring method of the contact angle of water with respect to the coating film of a silica sol is demonstrated concretely.
（２）−３．平均粒径
また、本発明の疎水化シリカゾルの平均粒径が１０〜１００ｎｍの範囲内の値であることが好ましい。
この理由は、疎水化シリカゾルの平均粒径が１０ｎｍ未満の値となると、所定の表面粗さを得ることが困難となり、特に、少量の配合では、ブロッキングの発生を防止することが困難となる場合があるためである。
一方、疎水化シリカゾルの平均粒径が１００ｎｍを超えた値となると、ハードコートフィルムの光学特性が過度に低下する場合があるためである。
したがって、疎水化シリカゾルの平均粒径が１０〜５０ｎｍの範囲内の値であることがより好ましく、１５〜４０ｎｍの範囲内の値であることがさらに好ましい。
なお、シリカゾルの平均粒径は、レーザー回折錯乱式粒度分布測定装置を用いて求めた粒度分布における積算値５０％での粒径（メジアン径Ｄ５０）である。
(2) -3. Average particle diameter Moreover, it is preferable that the average particle diameter of the hydrophobized silica sol of this invention is a value within the range of 10-100 nm.
The reason for this is that when the average particle size of the hydrophobized silica sol is less than 10 nm, it is difficult to obtain a predetermined surface roughness, especially when it is difficult to prevent blocking with a small amount of compounding. Because there is.
On the other hand, when the average particle size of the hydrophobized silica sol exceeds 100 nm, the optical properties of the hard coat film may be excessively deteriorated.
Therefore, the average particle diameter of the hydrophobized silica sol is more preferably in the range of 10 to 50 nm, and still more preferably in the range of 15 to 40 nm.
The average particle size of the silica sol is a particle size (median diameter D50) at an integrated value of 50% in the particle size distribution obtained using a laser diffraction / confusion type particle size distribution measuring device.
（２）−４．配合量
また、本発明の疎水化シリカゾルの配合量が、（Ａ）エネルギー線硬化性樹脂１００重量部に対して、固形分換算で０．３〜２５重量部の範囲内の値であることを特徴とする。
この理由は、疎水化シリカゾルの配合量が０．３重量部未満の値となると、ハードコートフィルム同士のブロッキングを防止する効果を発現させることが困難となる場合があるためでる。
一方、疎水化シリカゾルの配合量が２５重量部を超えた値となると、ハードコートフィルムの光学特性が過度に低下する場合があるためである。
したがって、疎水化シリカゾルの配合量が、（Ａ）エネルギー線硬化性樹脂１００重量部に対して、固形分換算で、０．３〜１０重量部の範囲内の値がより好ましく、０．４〜３．０重量部の範囲内の値であることがさらに好ましい。
(2) -4. Compounding quantity Moreover, the compounding quantity of the hydrophobized silica sol of this invention is a value within the range of 0.3-25 weight part in conversion of solid content with respect to 100 weight part of (A) energy beam curable resin. Features.
The reason for this is that when the blended amount of the hydrophobized silica sol is less than 0.3 parts by weight, it may be difficult to develop the effect of preventing blocking of the hard coat films.
On the other hand, when the amount of the hydrophobized silica sol exceeds 25 parts by weight, the optical properties of the hard coat film may be excessively deteriorated.
Therefore, the blending amount of the hydrophobized silica sol is more preferably in the range of 0.3 to 10 parts by weight in terms of solid content with respect to 100 parts by weight of the (A) energy beam curable resin, 0.4 to More preferably, the value is within the range of 3.0 parts by weight.
ここで、図３を用いて、疎水化シリカゾルの配合量と、ヘイズ値との関係について説明する。
すなわち、図３の横軸に、疎水化シリカゾルの配合量を採り、ハードコートフィルムのヘイズ値を採った特性曲線が示してある。
特性曲線より、疎水化シリカゾルの配合量とともに、ヘイズ値は上昇し、疎水化シリカゾルの配合量が３０重量部以上の値となると、ヘイズ値が１．０％以上の値となることが理解される。
したがって、良好な光学特性を得るためには、シリカゾルの配合量が少ない方が好ましいが、疎水化シリカゾルであれば、比較的少量の配合で、光学特性および耐ブロッキング特性の両方を満足することができることが理解される。
なお、ヘイズ値の測定方法は、実施例１に記載する。
Here, the relationship between the blending amount of the hydrophobized silica sol and the haze value will be described with reference to FIG.
That is, the horizontal axis of FIG. 3 shows a characteristic curve in which the blended amount of the hydrophobized silica sol is taken and the haze value of the hard coat film is taken.
From the characteristic curve, it is understood that the haze value increases with the blending amount of the hydrophobized silica sol, and when the blending amount of the hydrophobized silica sol becomes 30 parts by weight or more, the haze value becomes 1.0% or more. The
Therefore, in order to obtain good optical characteristics, it is preferable that the amount of silica sol is small. However, if the hydrophobized silica sol is used, both optical characteristics and anti-blocking characteristics can be satisfied with a relatively small amount. It is understood that it can be done.
In addition, the measuring method of a haze value is described in Example 1.
（３）（Ｃ）レベリング剤
また、ハードコート層形成材料として、（Ｃ）レベリング剤をさらに含むことが好ましい。
この理由は、レベリング剤を含むことによって、ハードコート層形成材料の乾燥過程でレベリング剤が塗膜最表面に配向して、塗膜の表面張力を均一化し、浮き、まだら、ハジキ等を防止し、被塗布物への濡れを改良することができるためである。
すなわち、ハードコート層上に透明導電層を形成する場合、かかる透明導電性層との密着性を高めることができる。
ここで、レベリング剤の種類として、特に制限されるものではないが、フッ素系、シリコーン系のものが挙げられる。
なお、比較的安価であって、レベリング性を十分に発揮するシリコーン系レベリング剤であることがより好ましい。
(3) (C) Leveling agent It is preferable that the hard coat layer forming material further includes (C) a leveling agent.
This is because the leveling agent is oriented to the outermost surface of the coating film during the drying process of the hard coat layer forming material by containing the leveling agent, uniformizing the surface tension of the coating film, and preventing floating, mottle, repelling, etc. This is because wetting of the object to be coated can be improved.
That is, when forming a transparent conductive layer on a hard-coat layer, adhesiveness with this transparent conductive layer can be improved.
Here, the type of the leveling agent is not particularly limited, and examples thereof include fluorine-based and silicone-based ones.
In addition, it is more preferable that it is a silicone type leveling agent which is comparatively cheap and fully exhibits leveling property.
また、（Ｃ）レベリング剤を、（Ａ）エネルギー線硬化性樹脂１００重量部に対して、０．０１〜５重量部の範囲内の値でさらに配合することが好ましい。
この理由は、レベリング剤をこのような範囲内の値にすることにより、ハードコート層上に透明導電層を形成する場合に、透明導電性層との密着性を向上させることができるためである。
より具体的には、レベリング剤の配合量が０．０１重量部未満の値となると、ハードコート層表面を均一にすることが困難となる場合があるためである。
一方、レベリング剤の配合量が５重量部を超えた値となると、耐擦傷性が不十分となったり、アンチブロッキング性が低下したりする場合があるためである。
したがって、（Ｄ）レベリング剤の配合量を０．０２〜３重量部の範囲内の値とすることがより好ましく、０．０５〜２重量部の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
Moreover, it is preferable to further mix | blend (C) a leveling agent with the value within the range of 0.01-5 weight part with respect to 100 weight part of (A) energy-beam curable resin.
The reason for this is that by setting the leveling agent to a value within such a range, the adhesiveness with the transparent conductive layer can be improved when the transparent conductive layer is formed on the hard coat layer. .
More specifically, when the amount of the leveling agent is less than 0.01 parts by weight, it may be difficult to make the hard coat layer surface uniform.
On the other hand, when the amount of the leveling agent exceeds 5 parts by weight, the scratch resistance may be insufficient or the antiblocking property may be lowered.
Therefore, the blending amount of the leveling agent (D) is more preferably set to a value within the range of 0.02 to 3 parts by weight, and further preferably set to a value within the range of 0.05 to 2 parts by weight.
（４）その他の添加剤
また、本発明の効果を損なわない範囲で、適宜、その他の添加剤を含むことができる。
その他の添加剤としては、例えば、酸化防止剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、重合促進剤、重合禁止剤、赤外線吸収剤、可塑剤および希釈溶剤等が挙げられる。
なお、その他の添加剤の含有量は、一般に（Ａ）エネルギー線硬化樹脂１００重量部に対して、０．０１〜５重量部の範囲内の値とすることが好ましく、０．０２〜３重量部の範囲内の値とすることがより好ましく、０．０５〜２重量部の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
(4) Other additives In addition, other additives can be appropriately contained within a range not impairing the effects of the present invention.
Examples of other additives include an antioxidant, an ultraviolet absorber, an antistatic agent, a polymerization accelerator, a polymerization inhibitor, an infrared absorber, a plasticizer, and a diluent solvent.
In addition, it is preferable to make content of other additives into the value within the range of 0.01-5 weight part with respect to 100 weight part of (A) energy-beam curable resin generally, and 0.02-3 weight The value is more preferably in the range of parts by weight, and more preferably in the range of 0.05 to 2 parts by weight.
（５）厚さ
また、図１に例示されるハードコート層１２の厚さを１〜１０μｍの範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかるハードコート層の厚さが１μｍ未満の値となると、耐擦傷性が著しく低くなる場合があるためである。
一方、ハードコート層の厚さが１０μｍを超えた値となると、カールが大きくなる場合があるためである。
したがって、ハードコート層の厚さを１〜５μｍの範囲内の値とすることがより好ましく、１.５〜４μｍの範囲内とすることがさらに好ましい。
(5) Thickness Moreover, it is preferable to make thickness of the hard-coat layer 12 illustrated by FIG. 1 into the value within the range of 1-10 micrometers.
This is because when the thickness of the hard coat layer is less than 1 μm, the scratch resistance may be remarkably lowered.
On the other hand, when the thickness of the hard coat layer exceeds 10 μm, curling may increase.
Accordingly, the thickness of the hard coat layer is more preferably set to a value within the range of 1 to 5 μm, and further preferably within the range of 1.5 to 4 μm.
３.ハードコートフィルムの特性
（１）ハードコート層の表面粗さ
また、図１（ａ）〜（ｂ）に例示されるハードコート層１２、１２´の表面におけるＪＩＳ Ｂ ０６０１−１９９４に準拠して測定される算術平均粗さ（Ｒａ）が、１.５〜５ｎｍの範囲内の値であることが好ましい。
この理由は、かかる算術平均粗さ（Ｒａ）が、１.５ｎｍ未満の値となると、ハードコートフィルム同士が貼りついてしまう、所謂ブロッキングを防止することが困難となる場合があるためである。
一方、算術平均粗さ（Ｒａ）が、５ｎｍを超えた値となると、光透過性が著しく低下する場合があるためである。
したがって、ハードコート層の表面における算術平均粗さ（Ｒａ）が、２．０〜４ｎｍの範囲内の値であることがより好ましく、２.５〜３．５ｎｍの範囲内の値であることがさらに好ましい。
3. Characteristics of Hard Coat Film (1) Surface Roughness of Hard Coat Layer Also, in accordance with JIS B 0601-1994 on the surface of hard coat layers 12 and 12 ′ exemplified in FIGS. It is preferable that the arithmetic average roughness (Ra) measured in this manner is a value within the range of 1.5 to 5 nm.
This is because when the arithmetic average roughness (Ra) is less than 1.5 nm, it may be difficult to prevent so-called blocking, in which hard coat films adhere to each other.
On the other hand, when the arithmetic average roughness (Ra) is a value exceeding 5 nm, the light transmittance may be significantly reduced.
Therefore, the arithmetic average roughness (Ra) on the surface of the hard coat layer is more preferably a value in the range of 2.0 to 4 nm, and a value in the range of 2.5 to 3.5 nm. Further preferred.
（２）ハードコート層の鉛筆硬度
また、図１（ａ）〜（ｂ）に例示されるハードコート層のＪＩＳ Ｋ ５６００−５−４に準じて測定される鉛筆硬度がＨＢ以上であることが好ましい。
この理由は、かかる鉛筆硬度がＨＢ未満の値となると、静電容量タッチパネルに用いた場合に、耐擦傷性が不十分となる場合があるためである。
(2) Pencil hardness of hard coat layer In addition, the pencil hardness measured according to JIS K 5600-5-4 of the hard coat layer illustrated in FIGS. 1A to 1B is HB or more. preferable.
This is because when the pencil hardness is less than HB, the scratch resistance may be insufficient when used for a capacitive touch panel.
（３）ハードコートフィルムのヘイズ値
また、図１（ａ）〜（ｂ）に例示されるハードコートフィルム２０のＪＩＳ Ｋ ７１０５に準拠して測定されるヘイズ値が、１．０％以下の値であることを特徴とする。
この理由はかかるヘイズ値が、１．０％を超えた値となると、携帯電話等に用いた場合に、液晶表示装置の表示がぼやけたように見える場合があるためである。
(3) Haze value of hard coat film Moreover, the haze value measured based on JISK7105 of the hard coat film 20 illustrated by Fig.1 (a)-(b) is 1.0% or less of value. It is characterized by being.
This is because when the haze value exceeds 1.0%, the display on the liquid crystal display device may appear blurred when used in a mobile phone or the like.
[第２の実施形態]
第２の実施形態は、基材フィルムの少なくとも片面にハードコート層を備えたハードコートフィルムの製造方法であって、ハードコートフィルムのＪＩＳ Ｋ ７１０５に準拠して測定されるヘイズ値が、１．０％以下であり、下記工程（１）〜（３）を含むことを特徴とするハードコートフィルムの製造方法である。
（１）少なくとも（Ａ）エネルギー線硬化性樹脂と、（Ａ）エネルギー線硬化性樹脂１００重量部に対して固形分換算で０．３〜２５重量部の範囲内の値の（Ｂ）疎水化シリカゾルとを含むハードコート層形成材料を準備する工程
（２）ハードコート層形成材料を、基材フィルムの少なくとも片面に塗布する工程
（３）ハードコート層形成材料を硬化し、（Ｂ）疎水化シリカゾルが、ハードコート層の基材フィルムとは反対側の表面に偏析しているハードコート層を備えたハードコートフィルムを形成する工程
以下、使用する基材フィルムおよびハードコート層については、第１の実施形態と同様の内容とすることができるため、ハードコートフィルムの製造方法に関する事項を中心に説明する。
[Second Embodiment]
The second embodiment is a method for producing a hard coat film provided with a hard coat layer on at least one surface of a base film, and the haze value of the hard coat film measured in accordance with JIS K 7105 is 1. It is 0% or less, and includes the following steps (1) to (3).
(1) at least (A) energy beam curable resin, and (B) hydrophobization of a value within the range of 0.3 to 25 parts by weight in terms of solid content with respect to 100 parts by weight of (A) energy beam curable resin Step of preparing hard coat layer forming material containing silica sol (2) Step of applying hard coat layer forming material to at least one surface of base film (3) Curing hard coat layer forming material, (B) Hydrophobization Step of forming a hard coat film provided with a hard coat layer in which the silica sol is segregated on the surface opposite to the base coat film of the hard coat layer. Since it can be set as the content similar to embodiment of this, it demonstrates centering on the matter regarding the manufacturing method of a hard coat film.
（１）工程１：ハードコート層形成材料の準備工程
工程（１）は、少なくとも（Ａ）エネルギー線硬化性樹脂と、（Ａ）エネルギー線硬化性樹脂１００重量部に対して固形分換算で０．３〜２５重量部の範囲内の値の（Ｂ）疎水化シリカゾルとを含むハードコート層形成材料を準備する工程である。
より具体的には、前述のハードコート層形成材料と、希釈溶剤と、を均一に混合する工程である。
溶剤としては、例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、イソブチルアルコール、ペンチルアルコール、エチルセロソルブ、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、シクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、プロピレンモノメチルエーテル及び水等が挙げられ、二種以上の溶剤を組み合わせてもよい。
特に、アクリルモノマー等のエネルギー線硬化性樹脂を容易に溶解できることから、プロピレンモノメチルエーテル、トルエン、メチルエチルケトン、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、シクロヘキサノン、メチルアルコール、エチルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、イソブチルアルコール、ペンチルアルコール等を使用することが好ましい。
なお、所定のハードコート層形成材料の構成については、既に記載した通りであるため、省略する。
(1) Step 1: Preparation step of hard coat layer forming material Step (1) is 0 in terms of solid content with respect to at least (A) energy beam curable resin and (A) 100 parts by weight of energy beam curable resin. A step of preparing a hard coat layer forming material containing (B) a hydrophobized silica sol having a value within the range of 3 to 25 parts by weight.
More specifically, this is a step of uniformly mixing the above-mentioned hard coat layer forming material and the diluting solvent.
Examples of the solvent include methyl alcohol, ethyl alcohol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butyl alcohol, isobutyl alcohol, pentyl alcohol, ethyl cellosolve, benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, cyclohexane, ethylcyclohexane, ethyl acetate, Examples include butyl acetate, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, tetrahydrofuran, propylene monomethyl ether, and water, and two or more solvents may be combined.
In particular, since energy ray curable resins such as acrylic monomers can be easily dissolved, propylene monomethyl ether, toluene, methyl ethyl ketone, ethyl acetate, n-butyl acetate, cyclohexanone, methyl alcohol, ethyl alcohol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, It is preferable to use n-butyl alcohol, isobutyl alcohol, pentyl alcohol or the like.
In addition, about the structure of a predetermined | prescribed hard-coat layer forming material, since it has already described, it abbreviate | omits.
（２）工程２：ハードコート層形成材料の基材フィルムへの塗布工程
工程（２）は、ハードコート層形成材料を基材フィルムの少なくとも片面に塗布する工程である。
より具体的には、基材フィルム１０を準備し、その上に、工程（１）で調整したハードコート層形成材料を、硬化後のハードコート層の膜厚が１〜１０μｍの範囲内の値となるように塗工する工程である。
なお、ハードコート層形成材料の塗工方法について、特に制限されるものではなく、公知の方法、たとえば、バーコート法、グラビアコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法等を用いることができる。
(2) Step 2: Step of applying hard coat layer forming material to base film Step (2) is a step of applying the hard coat layer forming material to at least one side of the base film.
More specifically, the base film 10 is prepared, and the hard coat layer forming material adjusted in the step (1) is prepared on the hard coat layer having a thickness of 1 to 10 μm after curing. It is the process of coating so that it becomes.
The coating method of the hard coat layer forming material is not particularly limited, and known methods such as a bar coating method, a gravure coating method, a knife coating method, a roll coating method, a blade coating method, a die coating method, etc. Can be used.
（３）工程３：硬化工程
工程（３）は、前述のハードコート層形成材料を硬化し、（Ｂ）疎水化シリカゾルが、ハードコート層の基材フィルムとは反対側の表面に偏析しているハードコート層を備えたハードコートフィルムを形成する工程である。
より具体的には、乾燥工程を経て、溶剤を蒸発させたハードコート層形成材料の塗工物に対して、エネルギー線、例えば紫外線や電子線を照射して硬化させることが好ましい。
このように実施するとハードコート層を迅速に形成することができるとともに、基材フィルムと強固に密着させることができ、かつ、疎水化シリカゾルをハードコート層の基材フィルムとは反対側の表面に効果的に偏析させることができるためである。
したがって、ハードコート層の機械的強度を向上させることができるとともに、ハードコートフィルム同士の圧着を効果的に防止することができる。
(3) Step 3: curing step In step (3), the hard coat layer forming material is cured, and (B) the hydrophobized silica sol segregates on the surface of the hard coat layer opposite to the base film. Forming a hard coat film having a hard coat layer.
More specifically, it is preferable to cure the coated material of the hard coat layer forming material from which the solvent has been evaporated through a drying process by irradiating it with an energy beam, for example, an ultraviolet ray or an electron beam.
By carrying out in this way, the hard coat layer can be formed quickly and can be firmly adhered to the base film, and the hydrophobized silica sol can be applied to the surface of the hard coat layer opposite to the base film. This is because segregation can be effectively performed.
Therefore, it is possible to improve the mechanical strength of the hard coat layer and to effectively prevent the hard coat films from being pressed against each other.
また、ハードコート層を形成するにあたり、例えば、紫外線を照射した場合、ハードコート層形成材料に対する照射量（積算光量）を１００〜１０００ｍＪ/ｃｍ2の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる紫外線照射量が１００ｍＪ/ｃｍ2未満の値となると、ハードコート層の硬化が不十分となる場合があるためである。
一方、かかる紫外線照射量が１０００ｍＪ/ｃｍ2を超えた値となると、紫外線によりハードコート層及び基材フィルムが劣化する場合があるためである。
なお、使用するエネルギー線照射装置の種類について特に制限はなく、例えば高圧水銀ランプ、キセノンランプ、メタルハライドランプ、ヒュージョンＨランプなどを用いた紫外線照射装置等を使用することができる。
（４）工程４：基材フィルムの他の面へのハードコート層形成工程
工程（４）は、図１（ａ）に示すように、基材フィルム１０の一方の表面にハードコート層１２を形成した後、基材フィルムの他の面にハードコート層１２´を形成する工程である。
すなわち、前述の基材フィルムの一方の表面にハードコート層を形成した後に、同様の方法で、基材フィルムの他の面にハードコート層形成材料を塗布し、硬化して基材フィルムの両面にハードコート層を形成する工程である。
なお、塗布工程、硬化工程は、前述と同様であるため、詳細は省略する。
In forming the hard coat layer, for example, when ultraviolet rays are irradiated, it is preferable to set the irradiation amount (integrated light amount) to the hard coat layer forming material to a value within the range of 100 to 1000 mJ / cm 2 .
The reason for this is that the hard coat layer may be insufficiently cured when the ultraviolet irradiation amount is less than 100 mJ / cm 2 .
On the other hand, when the ultraviolet irradiation amount exceeds 1000 mJ / cm 2 , the hard coat layer and the substrate film may be deteriorated by the ultraviolet rays.
In addition, there is no restriction | limiting in particular about the kind of energy beam irradiation apparatus to be used, For example, the ultraviolet irradiation apparatus using a high pressure mercury lamp, a xenon lamp, a metal halide lamp, a fusion H lamp etc. can be used.
(4) Step 4: Step of forming a hard coat layer on the other surface of the base film In step (4), the hard coat layer 12 is applied to one surface of the base film 10 as shown in FIG. After the formation, the hard coat layer 12 'is formed on the other surface of the base film.
That is, after forming a hard coat layer on one surface of the above-mentioned base film, the hard coat layer forming material is applied to the other side of the base film in the same manner, and cured to form both sides of the base film. Is a step of forming a hard coat layer.
In addition, since the application process and the curing process are the same as described above, the details are omitted.
[第３の実施形態]
第３の実施形態は、前述したハードコートフィルムの少なくとも片面に透明導電層を備えた透明導電性フィルムである。
以下、第１および第２の実施形態において記載した内容と異なる点を中心に、図を参照して、透明導電性フィルムについて、具体的に説明する。
すなわち、本発明の透明導電性フィルムは、図４(ａ)に示すように、ハードコートフィルム２０の少なくとも片面に透明導電層３０を備えた透明導電性フィルム４０である。
また、本発明のハードコートフィルムを用いた透明導電性フィルムは、耐ブロッキング性に優れるため、フィルム同士のブロッキングを防ぐためのプロテクトフィルムを用いる必要がない。
したがって、プロテクトフィルムの貼合に用いられる粘着剤も必要なく、結果、透明導電膜を形成する際のアウトガスの影響が減少するため、生産性が高く、かつ安価な透明導電性フィルムを得ることができる。
[Third embodiment]
The third embodiment is a transparent conductive film having a transparent conductive layer on at least one side of the hard coat film described above.
Hereinafter, the transparent conductive film will be specifically described with reference to the drawings, focusing on differences from the contents described in the first and second embodiments.
That is, the transparent conductive film of the present invention is a transparent conductive film 40 having a transparent conductive layer 30 on at least one side of the hard coat film 20 as shown in FIG.
Moreover, since the transparent conductive film using the hard coat film of this invention is excellent in blocking resistance, it is not necessary to use the protective film for preventing blocking of films.
Therefore, there is no need for an adhesive used for bonding of the protective film, and as a result, the influence of outgas when forming the transparent conductive film is reduced, so that a highly conductive and inexpensive transparent conductive film can be obtained. it can.
（１）透明導電層
本発明の透明導電層を構成する材料としては、透明導電層の５５０ｎｍにおける可視光線透過率が７０％以上であれば、特に制限はなく、例えば、白金、金、銀、銅等の金属；グラフェン、カーボンナノチューブ等の炭素材料；ポリアリニン、ポリアセチレン、ポリチオフェン、ポリパラフェニレンビニレン、ポリエチレンジオキシチオフェン、ポリピロール等の有機導電材料；ヨウ化銅、硫化銅等の無機導電性材料；カルコゲナイド、六ホウ化ランタン、窒化チタン、炭化チタン等の非参加化合物；酸化亜鉛、二酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、アルミニウムドープ酸化亜鉛、酸化亜鉛ドープ酸化インジウム（ＩＺＯ）、酸化錫、酸化インジウム、酸化カドミウム、錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、錫及びガリウムドープ酸化インジウム（ＩＧＺＯ）、フッ素ドープ酸化インジウム、アンチモンドープ酸化錫、フッ素ドープ酸化錫（ＦＴＯ）等の導電性金属酸化物；等が挙げられる。
これらの中でも、優れた透明導電性を有する透明導電性フィルムをより簡便に得られることから、導電性金属酸化物が好ましい。
(1) Transparent conductive layer The material constituting the transparent conductive layer of the present invention is not particularly limited as long as the visible light transmittance at 550 nm of the transparent conductive layer is 70% or more. For example, platinum, gold, silver, Metals such as copper; Carbon materials such as graphene and carbon nanotubes; Organic conductive materials such as polyarinin, polyacetylene, polythiophene, polyparaphenylene vinylene, polyethylenedioxythiophene, and polypyrrole; Inorganic conductive materials such as copper iodide and copper sulfide; Non-participating compounds such as chalcogenide, lanthanum hexaboride, titanium nitride, titanium carbide; zinc oxide, zinc dioxide, gallium doped zinc oxide, aluminum doped zinc oxide, zinc oxide doped indium oxide (IZO), tin oxide, indium oxide, oxidation Cadmium, tin-doped indium oxide (ITO), tin and gallium And conductive metal oxides such as fluorine-doped indium oxide (IGZO), fluorine-doped indium oxide, antimony-doped tin oxide, and fluorine-doped tin oxide (FTO).
Among these, a conductive metal oxide is preferable because a transparent conductive film having excellent transparent conductivity can be obtained more easily.
（２）形成方法
透明導電層は、従来公知の方法により形成することができる。例えば、スパッタリング法、イオンプレーティング放、真空蒸着法、化学気相成長法、バーコーターやマイクログラビアコーター等の塗布方法等が挙げられる。
これらの中でも、簡便に透明導電層を形成できることから、スパッタリング法が好ましい。
(2) Formation method A transparent conductive layer can be formed by a conventionally well-known method. For example, sputtering methods, ion plating release, vacuum deposition methods, chemical vapor deposition methods, coating methods such as bar coaters and micro gravure coaters, and the like can be mentioned.
Among these, the sputtering method is preferable because the transparent conductive layer can be easily formed.
（３）厚さ
透明導電層の厚さは、５ｎｍ〜５００ｎｍの範囲内の値が好ましく、５〜２００ｎｍの範囲内の値がより好ましく、１０〜１００ｎｍの範囲内の値がさらに好ましい。
(3) Thickness The thickness of the transparent conductive layer is preferably within a range of 5 nm to 500 nm, more preferably within a range of 5 to 200 nm, and even more preferably within a range of 10 to 100 nm.
（４）パターニング
形成された透明導電層には、図４（ｂ）に示すように、必要に応じてパターニング３０´を行ってもよい。パターニングする方法として、フォトリソグラフィー等による化学的エッチング、レーザ等を用いた物理的エッチング、マスクを用いた真空蒸着法やスパッタリング法、リフトオフ法、印刷法等が挙げられる。
(4) Patterning As shown in FIG. 4B, patterning 30 ′ may be performed on the formed transparent conductive layer as necessary. Examples of the patterning method include chemical etching using photolithography, physical etching using a laser, etc., vacuum evaporation using a mask, sputtering, lift-off, printing, and the like.
[第４の実施形態]
第４の実施形態は、ガラス飛散防止フィルムを備えたカバーガラスと、第一の透明導電性フィルムと、第二の透明導電性フィルムと、液晶表示体とを含む静電容量タッチパネルであって、第一の透明導電性フィルムが、第一のハードコートフィルムの少なくとも片面に第一の透明導電層を備えており、第二の透明導電性フィルムが、第二のハードコートフィルムの少なくとも片面に第二の透明導電層を備えており、第一のハードコートフィルムおよび第二のハードコートフィルムが、基材フィルムの少なくとも片面にハードコート層を備えたハードコートフィルムであって、当該ハードコートフィルムのＪＩＳ Ｋ ７１０５に準拠して測定されるヘイズ値が、１．０％以下であり、ハードコート層が、少なくとも（Ａ）エネルギー線硬化性樹脂と、（Ｂ）疎水化シリカゾルとを含むハードコート層形成材料の硬化物からなり、（Ｂ）疎水化シリカゾルの配合量が、（Ａ）エネルギー線硬化性樹脂１００重量部に対して固形分換算で０．３〜２５重量部の範囲内の値であり、（Ｂ）疎水化シリカゾルが、ハードコート層形成材料を硬化した後のハードコート層の、基材フィルムとは反対側の表面に偏析していることを特徴とする静電容量タッチパネルである。
以下、第１〜第３の実施形態において記載した内容と異なる点を中心に、図を参照して、静電容量タッチパネルについて、具体的に説明する。
[Fourth Embodiment]
The fourth embodiment is a capacitive touch panel including a cover glass including a glass scattering prevention film, a first transparent conductive film, a second transparent conductive film, and a liquid crystal display, The first transparent conductive film includes a first transparent conductive layer on at least one side of the first hard coat film, and the second transparent conductive film is provided on at least one side of the second hard coat film. Two transparent conductive layers, wherein the first hard coat film and the second hard coat film are hard coat films having a hard coat layer on at least one side of the base film, The haze value measured in accordance with JIS K 7105 is 1.0% or less, and the hard coat layer is at least (A) energy ray-curable tree. And (B) a cured product of a hard coat layer forming material containing a hydrophobized silica sol, and the blending amount of (B) the hydrophobized silica sol is converted to a solid content with respect to 100 parts by weight of the (A) energy beam curable resin. In the range of 0.3 to 25 parts by weight, and (B) the hydrophobized silica sol segregates on the surface opposite to the base film of the hard coat layer after curing the hard coat layer forming material. This is a capacitive touch panel.
Hereinafter, the capacitive touch panel will be specifically described with reference to the drawings with a focus on differences from the contents described in the first to third embodiments.
静電容量タッチパネルの基本構成としては、特に制限されるものではない。例えば、静電容量タッチパネル１００は、図５に示すように、液晶表示装置７０上に、光学用粘着剤５０を介して、ハードコート層を備えたハードコートフィルム２０、透明導電層３０（第一電極）、光学用粘着剤５０、ハードコート層を備えたハードコートフィルム２０´、透明導電層３０´´（第二電極）、光学用粘着剤５０´´、光学用粘着剤層を備えたガラス飛散防止フィルム６０、およびカバーガラス８０が積層されている静電容量タッチパネルが挙げられる。
また、本発明では、上記の層以外に必要に応じて、他の層を設けてもよい。
なお、本発明の静電容量タッチパネルは、表面型静電容量方式であっても、投影型静電容量方式であってもよい。
本発明の静電容量タッチパネルは、プロテクトフィルムを用いる必要がないハードコートフィルムを備えるため、より安価で、生産性に優れた静電容量タッチパネルとすることができる。
The basic configuration of the capacitive touch panel is not particularly limited. For example, as shown in FIG. 5, the capacitive touch panel 100 includes a hard coat film 20 having a hard coat layer and a transparent conductive layer 30 (first) on a liquid crystal display device 70 via an optical adhesive 50. Electrode), optical adhesive 50, hard coat film 20 ′ provided with a hard coat layer, transparent conductive layer 30 ″ (second electrode), optical adhesive 50 ″, glass provided with an optical adhesive layer Examples include a capacitive touch panel in which the scattering prevention film 60 and the cover glass 80 are laminated.
Moreover, in this invention, you may provide another layer other than said layer as needed.
The capacitive touch panel of the present invention may be a surface capacitive type or a projected capacitive type.
Since the capacitive touch panel of the present invention includes a hard coat film that does not require the use of a protect film, the capacitive touch panel can be made more inexpensive and excellent in productivity.
以下、本発明を実施例によってさらに詳細に説明する。但し、以下の説明は、本発明を例示的に示すものであり、本発明はこれらの記載に制限されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail by way of examples. However, the following description shows the present invention by way of example, and the present invention is not limited to these descriptions.
[実施例１]
１．ハードコートフィルムの作成
（１）ハードコート層形成材料の準備工程
表１に示すように、（Ａ）成分としてのエネルギー線硬化性樹脂と、（Ｂ）成分としての疎水化シリカゾルと、（Ｄ）成分としての光重合開始剤と、（Ｃ）成分としてのレベリング剤とから、実施例１のハードコート層形成材料を調整した。
より具体的には、（Ａ）成分として、(ａ１)ペンタエリスリトールトリアクリレート（新中村化学工業社製ＮＫエステル、Ａ−ＴＭＭ−３Ｌ）２００重量部、（Ｄ）成分としての光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製、イルガキュア１８４）１０重量部、（Ｂ）成分としての疎水化シリカゾルＡ（ＣＩＫナノテック社製、ＳＩＲＰＧＭ１５ＷＴ％−Ｅ２６、平均粒径３０ｎｍ）０．８重量部、（Ｃ）成分としてのレベリング剤（東レ・ダウコーニング社製ＳＨ−２８）０．１重量部と、希釈溶剤としてプロピレンモノメチルエーテル４９２．１重量部で希釈して、ハードコート層形成材料（固形分濃度３０重量％）を調整した。
[Example 1]
1. Preparation of hard coat film (1) Preparation step of hard coat layer forming material As shown in Table 1, (A) energy ray curable resin as component, (B) hydrophobized silica sol as component, (D) The hard coat layer forming material of Example 1 was prepared from a photopolymerization initiator as a component and a leveling agent as a component (C).
More specifically, as the component (A), (a1) pentaerythritol triacrylate (NK ester, Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., A-TMM-3L) 200 parts by weight, (D) photopolymerization initiator ( Ciba Specialty Chemicals, Irgacure 184) 10 parts by weight, (B) Hydrophobized silica sol A (CIK Nanotech, SIRPGGM15WT% -E26, average particle size 30 nm) 0.8 parts by weight, (C) Diluted with 0.1 part by weight of leveling agent (SH-28 manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.) as an ingredient and 492.1 parts by weight of propylene monomethyl ether as a diluent solvent, a hard coat layer forming material (solid content concentration 30 weight) %) Was adjusted.
（２）ハードコート層形成材料の塗布工程
次いで、ハードコート層形成材料を、基材フィルムとして、両面に易接着処理が施された易接着層付のＰＥＴフィルム（東レ社製、ルミラーＵ４８、膜厚１００μｍ）の片面に、マイヤーバーを用いて、乾燥後の膜厚が３μｍとなるように塗布した。
(2) Hard coat layer forming material coating step Next, the hard coat layer forming material is used as a base film, and a PET film with an easy adhesion layer on both surfaces subjected to an easy adhesion treatment (Toray Industries, Lumirror U48, film) The film was applied to one side having a thickness of 100 μm using a Meyer bar so that the film thickness after drying was 3 μm.
（３）乾燥工程
次いで、基材フィルムに塗布したハードコート層形成材料に含まれる希釈溶剤を除去した。
すなわち、熱風乾燥装置を用いて、７０℃、１分間の条件で加熱乾燥し、希釈溶剤を十分に除去した。
(3) Drying step Next, the diluent solvent contained in the hard coat layer forming material applied to the base film was removed.
That is, using a hot air drying apparatus, it was heated and dried at 70 ° C. for 1 minute to sufficiently remove the diluted solvent.
（４）硬化工程
次いで、高圧水銀ランプを用いて、紫外線を３００ｍＪ/ｃｍ2で照射して、ハードコート層形成材料を光硬化させてハードコートフィルムを得た。
なお、図示しないものの、実施例１で製造したハードコートフィルムの断面を、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）（日立製作所社製、Ｓ−４７００型）を用いて、加速電圧１０ｋＶ、倍率２０，０００倍の条件で撮影したところ、疎水化シリカゾルが、ハードコート層の、基材フィルムとは反対側の面に偏析していることが確認できた。
(4) Curing Step Next, using a high-pressure mercury lamp, ultraviolet rays were irradiated at 300 mJ / cm 2 to photocur the hard coat layer forming material to obtain a hard coat film.
Although not shown, the cross section of the hard coat film produced in Example 1 was accelerating voltage 10 kV and magnification 20,000 times using a scanning electron microscope (SEM) (manufactured by Hitachi, Ltd., S-4700 type). As a result, it was confirmed that the hydrophobized silica sol was segregated on the surface of the hard coat layer opposite to the base film.
２．ハードコートフィルムの評価
（１）疎水化度測定
メチルイソブチルケトンに分散した疎水化シリカゾルＡ（固形分濃度１５％）を、ＰＥＴフィルム（東レ社製、ルミラーＵ４８、膜厚１００μｍ）上にマイヤーバー＃８で塗工した。
次いで、９０℃のオーブンで１分間乾燥させ、乾燥後の厚さが１μｍのシリカゾル塗膜を得た。
次いで、かかるシリカゾル塗膜に対する水の接触角を測定し、疎水化度を評価した。
すなわち、平坦なガラス基板上にかかるシリカゾル塗膜を形成したＰＥＴフィルムを静置し、ガラス基板の傾きを０度としたときに、水滴２μＬを滴下し、液滴が静止したところで、Ｙｏｕｎｇの式にて水接触角を求めた。得られた結果を表１に示す。
2. Evaluation of Hard Coat Film (1) Hydrophobic Degree Measurement Hydrophobized silica sol A (solid content concentration 15%) dispersed in methyl isobutyl ketone is applied to a Meyer bar # on PET film (Toray Industries, Lumirror U48, film thickness 100 μm). 8 was applied.
Subsequently, it was dried in an oven at 90 ° C. for 1 minute to obtain a silica sol coating film having a thickness of 1 μm after drying.
Next, the contact angle of water with the silica sol coating film was measured to evaluate the degree of hydrophobicity.
That is, a PET film on which a silica sol coating film is formed on a flat glass substrate is allowed to stand, and when the inclination of the glass substrate is 0 degree, 2 μL of a water droplet is dropped, and when the droplet is stationary, Young's formula The water contact angle was determined. The obtained results are shown in Table 1.
（２）鉛筆硬度評価
得られたハードコートフィルムの鉛筆硬度をＪＩＳ Ｋ ５６００-５-４に準じて、鉛筆引っかき硬度試験機（安田精機製作所製、Ｎｏ．５５３-Ｍ）を用いて測定した。なお、引っかき速度は、１ｍｍ/秒とした。得られた結果を表１に示す。
(2) Pencil hardness evaluation The pencil hardness of the obtained hard coat film was measured using a pencil scratch hardness tester (No. 553-M, manufactured by Yasuda Seiki Seisakusho) according to JIS K 5600-5-4. The scratching speed was 1 mm / second. The obtained results are shown in Table 1.
（３）耐ブロッキング性評価
得られたハードコートフィルムを１００×１００ｍｍの大きさに切り出し、２枚のハードコートフィルムを重ね合わせた（この状態を初期とする）。
次いで、１０ｋｇ/ｍ2の荷重をかけた状態で、初期および２３℃５０％ＲＨの保管環境で５日間経過させた後（この状態を経時後とする）、それぞれ重ね合わせたフィルムを蛍光灯下で剥がして、その状態を目視にて観察し、ブロッキングの有無を下記の基準に従い評価した。得られた結果を表１に示す。
○：初期および経時後であっても、ブロッキングが全く生じておらず、フィルム面同士の貼りつきが生じていない
△：初期では、ブロッキングが生じていないものの、経時後に、ブロッキングが生じている（フィルム面同士の貼りつき面積は、３割以上である。）。
×：初期からブロッキングが生じている（フィルム面同士の貼りつき面積は、３割以上である。）。
(3) Evaluation of blocking resistance The obtained hard coat film was cut into a size of 100 × 100 mm, and two hard coat films were superposed (this state is assumed to be initial).
Then, after applying the load of 10 kg / m 2 for 5 days in the initial storage environment at 23 ° C. and 50% RH (this state is assumed to be after the lapse of time), the stacked films were placed under a fluorescent lamp. And the state was visually observed, and the presence or absence of blocking was evaluated according to the following criteria. The obtained results are shown in Table 1.
○: Even at the initial stage and after the passage of time, no blocking occurred and no sticking between the film surfaces occurred. Δ: Although no blocking occurred at the beginning, the blocking occurred after the passage of time ( The sticking area between the film surfaces is 30% or more.)
X: Blocking has occurred from the beginning (the sticking area between the film surfaces is 30% or more).
（４）ヘイズ値
得られたハードコートフィルムのヘイズ値を、ＪＩＳ Ｋ７１０５に準拠して、ヘイズメーター（日本電色工業社製、ＮＤＨ−２０００）を用いて測定した。得られた結果を表１に示す。
(4) Haze value The haze value of the obtained hard coat film was measured using a haze meter (NDH-2000, manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.) in accordance with JIS K7105. The obtained results are shown in Table 1.
[実施例２]
実施例２では、（Ｂ）疎水化シリカゾルＡの配合量を２．７重量部としたこと以外は、実施例１と同様の方法により、ハードコートフィルムを作成し、評価した。得られた結果を表１に示す。
なお、図示しないものの、実施例１と同様に、実施例２で製造したハードコートフィルムの断面を、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で撮影したところ、疎水化シリカゾルが、ハードコート層の、基材フィルムとは反対側の面に偏析していることが確認できた。
[Example 2]
In Example 2, a hard coat film was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the amount of (B) the hydrophobized silica sol A was 2.7 parts by weight. The obtained results are shown in Table 1.
Although not shown, when the cross section of the hard coat film produced in Example 2 was photographed with a scanning electron microscope (SEM) in the same manner as in Example 1, the hydrophobized silica sol was a substrate of the hard coat layer. It was confirmed that segregation occurred on the surface opposite to the film.
[実施例３]
実施例３では、（Ａ）エネルギー線硬化性樹脂として、(ａ１)ペンタエリスリトールトリアクリレート（新中村化学工業社製、ＮＫエステル、Ａ−ＴＭＭ−３Ｌ）１００重量部と、（ａ２）ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＥＯ１２モル付加物）（新中村化学工業社製、Ａ−ＤＰＨ−１２Ｅ）１００重量部と、を配合し、（Ｂ）成分として、疎水化シリカゾルＢ（ＣＩＫナノテック社製、ＳＩＲＭＩＢＫ１５ＷＴ％−Ｅ８３、平均粒径３０ｎｍ）２．７重量部を配合したこと以外は、実施例１と同様の方法により、ハードコートフィルムを作成し、評価した。得られた結果を表１に示す。
なお、図示しないものの、実施例１と同様に、実施例３で製造したハードコートフィルムの断面を、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で撮影したところ、疎水化シリカゾルが、ハードコート層の、基材フィルムとは反対側の面に偏析していることが確認できた。
[Example 3]
In Example 3, as (A) energy beam curable resin, (a1) 100 parts by weight of pentaerythritol triacrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., NK ester, A-TMM-3L) and (a2) dipentaerythritol Hexaacrylate (EO 12 mol adduct) (Shin Nakamura Chemical Co., Ltd., A-DPH-12E) 100 parts by weight, and (B) component, Hydrophobized Silica Sol B (CIK Nanotech Co., SIRMIBK 15WT%- E83, average particle size 30 nm) A hard coat film was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that 2.7 parts by weight were blended. The obtained results are shown in Table 1.
Although not shown, when the cross section of the hard coat film produced in Example 3 was photographed with a scanning electron microscope (SEM) in the same manner as in Example 1, the hydrophobized silica sol was a substrate of the hard coat layer. It was confirmed that segregation occurred on the surface opposite to the film.
[実施例４]
実施例４では、（Ｂ）成分として、疎水化シリカゾルＡを２２.５重量部配合したこと以外は、実施例３と同様の方法により、ハードコートフィルムを作成し、評価した。得られた結果を表１に示す。
なお、図示しないものの、実施例１と同様に、実施例４で製造したハードコートフィルムの断面を、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で撮影したところ、疎水化シリカゾルが、ハードコート層の、基材フィルムとは反対側の面に偏析していることが確認できた。
[Example 4]
In Example 4, a hard coat film was prepared and evaluated in the same manner as in Example 3 except that 22.5 parts by weight of hydrophobized silica sol A was blended as the component (B). The obtained results are shown in Table 1.
Although not shown, when the cross section of the hard coat film produced in Example 4 was photographed with a scanning electron microscope (SEM) in the same manner as in Example 1, the hydrophobized silica sol was a base material of the hard coat layer. It was confirmed that segregation occurred on the surface opposite to the film.
[実施例５]
実施例５では、（Ｂ）成分として、疎水化シリカゾルＡを５０重量部配合したこと以外は、実施例３と同様の方法により、ハードコートフィルムを作成し、評価した。得られた結果を表１に示す。
なお、図示しないものの、実施例１と同様に、実施例５で製造したハードコートフィルムの断面を、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で撮影したところ、疎水化シリカゾルが、ハードコート層の、基材フィルムとは反対側の面に偏析していることが確認できた。
[Example 5]
In Example 5, a hard coat film was prepared and evaluated in the same manner as in Example 3 except that 50 parts by weight of hydrophobized silica sol A was blended as the component (B). The obtained results are shown in Table 1.
Although not shown, when the cross section of the hard coat film produced in Example 5 was photographed with a scanning electron microscope (SEM) in the same manner as in Example 1, the hydrophobized silica sol was a base material of the hard coat layer. It was confirmed that segregation occurred on the surface opposite to the film.
[比較例１]
比較例１では、（Ｂ）成分として、疎水化シリカゾルＡを６０重量部配合したこと以外は、実施例３と同様の方法により、ハードコートフィルムを作成し、評価した。得られた結果を表１に示す。
[Comparative Example 1]
In Comparative Example 1, a hard coat film was prepared and evaluated in the same manner as in Example 3 except that 60 parts by weight of hydrophobic silica sol A was blended as the component (B). The obtained results are shown in Table 1.
[比較例２]
比較例２では、（Ｂ）成分として、疎水化シリカゾルＡを１８０重量部配合したこと以外は、実施例３と同様の方法により、ハードコートフィルムを作成し、評価した。得られた結果を表１に示す。
[Comparative Example 2]
In Comparative Example 2, a hard coat film was prepared and evaluated in the same manner as in Example 3 except that 180 parts by weight of hydrophobic silica sol A was added as the component (B). The obtained results are shown in Table 1.
[比較例３]
比較例３では、（Ａ）エネルギー線硬化樹脂として、(ａ１)ペンタエリスリトールトリアクリレート（Ａ−ＴＭＭ−３Ｌ）２５重量部と、（ａ２）ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＥＯ１２モル付加物）（Ａ−ＤＰＨ−１２Ｅ）１７５重量部と、を配合したこと以外は、比較例１と同様の方法により、ハードコートフィルムを作成し、評価した。得られた結果を表１に示す。
[Comparative Example 3]
In Comparative Example 3, as (A) energy beam curable resin, (a1) 25 parts by weight of pentaerythritol triacrylate (A-TMM-3L) and (a2) dipentaerythritol hexaacrylate (EO 12 mol adduct) (A- A hard coat film was prepared and evaluated in the same manner as in Comparative Example 1 except that 175 parts by weight of DPH-12E) was blended. The obtained results are shown in Table 1.
[比較例４]
比較例４では、（Ｂ）成分として、シリカゾルＩ（ＣＩＫナノテック社製、ＳＩＲＭＩＢＫ１５ＷＴ％−Ｋ１８、平均粒径１００ｎｍ）を５．４重量部配合したこと以外は、実施例３と同様の方法により、ハードコートフィルムを作成し、評価した。得られた結果を表１に示す。
[Comparative Example 4]
In Comparative Example 4, as the component (B), except that 5.4 parts by weight of silica sol I (manufactured by CIK Nanotech, SIRMIBK15WT% -K18, average particle size 100 nm) was blended, the same method as in Example 3, A hard coat film was created and evaluated. The obtained results are shown in Table 1.
[比較例５]
比較例５では、（Ｂ）成分として、シリカゾルＪ（日揮触媒社製、ＯＳＣＡＬ−１６３２、平均粒径３０ｎｍ）を用いたこと以外は、比較例４と同様の方法により、ハードコートフィルムを作成し、評価した。得られた結果を表１に示す。
[Comparative Example 5]
In Comparative Example 5, a hard coat film was prepared by the same method as Comparative Example 4 except that silica sol J (manufactured by JGC Catalysts, OSCAL-1632, average particle size 30 nm) was used as the component (B). ,evaluated. The obtained results are shown in Table 1.
[比較例６]
比較例６では、（Ｂ）成分として、シリカゾルＫ（日産化学工業社製、ＭＩＢＫ−ＳＴ、平均粒径１５ｎｍ）を用いたこと以外は、比較例４と同様の方法により、ハードコートフィルムを作成し、評価した。得られた結果を表１に示す。
[Comparative Example 6]
In Comparative Example 6, a hard coat film was prepared by the same method as Comparative Example 4 except that silica sol K (manufactured by Nissan Chemical Industries, MIBK-ST, average particle size 15 nm) was used as the component (B). And evaluated. The obtained results are shown in Table 1.
[比較例７]
比較例７では、（Ｂ）成分として、シリカゾルＤ（ＣＩＫナノテック社製、ＳＩＲＭＩＢＫ−Ｅ６５、平均粒径１００ｎｍ）を用いたこと以外は、比較例４と同様の方法により、ハードコートフィルムを作成し、評価した。得られた結果を表１に示す。
[Comparative Example 7]
In Comparative Example 7, a hard coat film was prepared in the same manner as in Comparative Example 4 except that silica sol D (CIR Nanotech, SIRMIBK-E65, average particle size 100 nm) was used as the component (B). ,evaluated. The obtained results are shown in Table 1.
所定の疎水化シリカゾルを用いた実施例１〜５は、フィルム同士のブロッキングを生じることがなく、ヘイズ値も１．０％以下であり、かつ、耐擦傷性も有するハードコートフィルムを得ることができた。
一方、疎水化シリカゾルを過度に配合した比較例１および２は、フィルム同士のブロッキングを防止することは可能であったものの、透明性が劣る結果が得られた。
また、所定の接触角を有しない、すなわち表面が親水性であるシリカゾルを用いた比較例４〜７は、少ない添加量ではフィルム同士のブロッキングを防止することが困難であった。
なお、(ａ２)の配合量を過度にした比較例３は、耐擦傷性が多少劣る結果が得られた。
In Examples 1 to 5 using a predetermined hydrophobized silica sol, there is no blocking between films, a haze value is 1.0% or less, and a hard coat film having scratch resistance can be obtained. did it.
On the other hand, in Comparative Examples 1 and 2 in which the hydrophobized silica sol was excessively blended, it was possible to prevent blocking between films, but the results of poor transparency were obtained.
In Comparative Examples 4 to 7 using a silica sol having no predetermined contact angle, that is, having a hydrophilic surface, it was difficult to prevent blocking between films with a small addition amount.
In addition, in Comparative Example 3 in which the blending amount of (a2) was excessive, a result that the scratch resistance was somewhat inferior was obtained.
以上、詳述したように、本発明のハードコートフィルムによれば、基材フィルムの少なくとも片面にハードコート層を備えたハードコートフィルムであって、当該ハードコート層が、所定の疎水化シリカゾル等を含むハードコート層形成材料の硬化物からなり、かかる疎水化シリカゾルが、ハードコート層内で、基材フィルムとは反対側の表面に偏析していることによって、フィルム同士のブロッキングを防止し、透明性に優れるハードコートフィルムが得られるようになった。
また、かかるハードコートフィルムを有することにより、透明性に優れ、耐擦傷性にも優れる透明導電性フィルムが効率的に得られるようになった。
したがって、本発明のハードコートフィルムは、静電容量タッチパネル等に有効に使用できるため、機械的強度等が特に求められる携帯電話等の携帯情報機器に有効に搭載できることが期待される。
As described above in detail, according to the hard coat film of the present invention, the hard coat film is provided with a hard coat layer on at least one side of the base film, and the hard coat layer is a predetermined hydrophobized silica sol or the like. It is composed of a cured product of a hard coat layer forming material containing, and the hydrophobic silica sol is segregated on the surface opposite to the base film in the hard coat layer, thereby preventing blocking between the films, A hard coat film excellent in transparency can be obtained.
Further, by having such a hard coat film, a transparent conductive film excellent in transparency and scratch resistance can be obtained efficiently.
Therefore, since the hard coat film of the present invention can be effectively used for a capacitive touch panel and the like, it can be expected that the hard coat film can be effectively mounted on a portable information device such as a cellular phone in which mechanical strength is particularly required.
１０：基材フィルム
１１：接着剤層（測定用）
１２、１２´ハードコート層
１６：疎水化シリカゾル
１８：親水性シリカゾル
２０、２０´：ハードコートフィルム
３０、３０´、３０´´：透明導電層
４０：透明導電性フィルム
５０、５０´、５０´´：光学用粘着剤
６０：ガラス飛散防止フィルム
７０：液晶表示装置
８０：カバーガラス
１００：静電容量タッチパネル
10: Base film 11: Adhesive layer (for measurement)
12, 12 ′ hard coat layer 16: hydrophobized silica sol 18: hydrophilic silica sol 20, 20 ′: hard coat film 30, 30 ′, 30 ″: transparent conductive layer 40: transparent conductive films 50, 50 ′, 50 ′ ': Optical adhesive 60: Glass scattering prevention film 70: Liquid crystal display device 80: Cover glass 100: Capacitive touch panel
Claims (10)
当該ハードコートフィルムのＪＩＳ Ｋ ７１０５に準拠して測定されるヘイズ値が、１．０％以下であり、
前記ハードコート層が、少なくとも（Ａ）エネルギー線硬化性樹脂と、（Ｂ）疎水化シリカゾルとを含むハードコート層形成材料の硬化物からなり、
前記（Ｂ）疎水化シリカゾルの配合量が、前記（Ａ）エネルギー線硬化性樹脂１００重量部に対して固形分換算で０．３〜２５重量部の範囲内の値であり、
前記（Ｂ）疎水化シリカゾルを塗膜にした際の塗膜に対する水の接触角を１００°以上の値とし、
かつ、
前記（Ｂ）疎水化シリカゾルが、前記ハードコート層形成材料を硬化した後の前記ハードコート層の、前記基材フィルムとは反対側の表面に偏析していることを特徴とするハードコートフィルム。 A hard coat film provided with a hard coat layer on at least one side of a base film,
The haze value measured in accordance with JIS K 7105 of the hard coat film is 1.0% or less,
The hard coat layer comprises a cured product of a hard coat layer forming material containing at least (A) an energy ray curable resin and (B) a hydrophobized silica sol,
The blending amount of the (B) hydrophobized silica sol is a value within the range of 0.3 to 25 parts by weight in terms of solid content with respect to 100 parts by weight of the (A) energy beam curable resin,
The contact angle of water with respect to the coating film when the (B) hydrophobized silica sol is used as a coating film is set to a value of 100 ° or more,
And,
The hard coat film, wherein the (B) hydrophobized silica sol is segregated on the surface of the hard coat layer after the hard coat layer forming material is cured, on the side opposite to the base film.
前記第一の透明導電性フィルムが、第一のハードコートフィルムの少なくとも片面に第一の透明導電層を備えており、
前記第二の透明導電性フィルムが、第二のハードコートフィルムの少なくとも片面に第二の透明導電層を備えており、
前記第一のハードコートフィルムおよび前記第二のハードコートフィルムが、基材フィルムの少なくとも片面にハードコート層を備えたハードコートフィルムであって、
当該ハードコートフィルムのＪＩＳ Ｋ ７１０５に準拠して測定されるヘイズ値が、１．０％以下であり、
前記ハードコート層が、少なくとも（Ａ）エネルギー線硬化性樹脂と、（Ｂ）疎水化シリカゾルとを含むハードコート層形成材料の硬化物からなり、
前記（Ｂ）疎水化シリカゾルの配合量が、前記（Ａ）エネルギー線硬化性樹脂１００重量部に対して固形分換算で０．３〜２５重量部の範囲内の値であり、
前記（Ｂ）疎水化シリカゾルを塗膜にした際の塗膜に対する水の接触角が１００°以上の値であり、
かつ、
前記（Ｂ）疎水化シリカゾルが、前記ハードコート層形成材料を硬化した後の前記ハードコート層の、前記基材フィルムとは反対側の表面に偏析していることを特徴とする静電容量タッチパネル。 A capacitive touch panel including a cover glass provided with a glass scattering prevention film, a first transparent conductive film, a second transparent conductive film, and a liquid crystal display,
The first transparent conductive film has a first transparent conductive layer on at least one side of the first hard coat film,
The second transparent conductive film has a second transparent conductive layer on at least one side of the second hard coat film,
The first hard coat film and the second hard coat film are hard coat films provided with a hard coat layer on at least one side of a base film,
The haze value measured in accordance with JIS K 7105 of the hard coat film is 1.0% or less,
The hard coat layer comprises a cured product of a hard coat layer forming material containing at least (A) an energy ray curable resin and (B) a hydrophobized silica sol,
The blending amount of the (B) hydrophobized silica sol is a value within the range of 0.3 to 25 parts by weight in terms of solid content with respect to 100 parts by weight of the (A) energy beam curable resin,
The contact angle of water with respect to the coating film when the (B) hydrophobized silica sol is used as a coating film is a value of 100 ° or more,
And,
The capacitive touch panel, wherein the (B) hydrophobized silica sol is segregated on the surface of the hard coat layer after the hard coat layer forming material is cured, on the side opposite to the base film. .
前記ハードコートフィルムのＪＩＳ Ｋ ７１０５に準拠して測定されるヘイズ値が、１．０％以下であり、
下記工程（１）〜（３）を含むことを特徴とするハードコートフィルムの製造方法。
（１）少なくとも（Ａ）エネルギー線硬化性樹脂と、前記（Ａ）エネルギー線硬化性樹脂１００重量部に対して固形分換算で０．３〜２５重量部の範囲内の値の（Ｂ）疎水化シリカゾルとを含み、かつ、当該（Ｂ）疎水化シリカゾルを塗膜にした際の塗膜に対する水の接触角を１００°以上の値としてあるハードコート層形成材料を準備する工程
（２）前記ハードコート層形成材料を、前記基材フィルムの少なくとも片面に塗布する工程
（３）前記ハードコート層形成材料を硬化し、前記（Ｂ）疎水化シリカゾルが、前記ハードコート層の前記基材フィルムとは反対側の表面に偏析している前記ハードコート層を備えたハードコートフィルムを形成する工程
A method for producing a hard coat film comprising a hard coat layer on at least one side of a base film,
The haze value measured in accordance with JIS K 7105 of the hard coat film is 1.0% or less,
The manufacturing method of the hard coat film characterized by including following process (1)-(3).
(1) At least (A) energy beam curable resin, and (B) hydrophobicity having a value within a range of 0.3 to 25 parts by weight in terms of solid content with respect to 100 parts by weight of (A) energy beam curable resin. And (B) preparing a hard coat layer forming material having a contact angle of water with respect to the coating when the hydrophobized silica sol is used as a coating (B) A step of applying a hard coat layer forming material to at least one surface of the base film (3) curing the hard coat layer forming material, and (B) the hydrophobized silica sol comprising the base film of the hard coat layer and Forming a hard coat film comprising the hard coat layer segregated on the opposite surface
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013236481A JP6258012B2 (en) | 2013-11-15 | 2013-11-15 | Hard coat film, transparent conductive film, and capacitive touch panel |
| TW103137425A TWI631014B (en) | 2013-11-15 | 2014-10-29 | Hard coat film, transparent conductive film, and capacitive touch panel |
| KR1020140147953A KR102241108B1 (en) | 2013-11-15 | 2014-10-29 | Hard coat film, transparent conductive film, and capacitive touch panel |
| CN201410643417.XA CN104650635B (en) | 2013-11-15 | 2014-11-14 | Hard coat film, transparent and electrically conductive film and capacitance touching control panel |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013236481A JP6258012B2 (en) | 2013-11-15 | 2013-11-15 | Hard coat film, transparent conductive film, and capacitive touch panel |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2015096297A JP2015096297A (en) | 2015-05-21 |
| JP6258012B2 true JP6258012B2 (en) | 2018-01-10 |
Family
ID=53242297
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2013236481A Active JP6258012B2 (en) | 2013-11-15 | 2013-11-15 | Hard coat film, transparent conductive film, and capacitive touch panel |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP6258012B2 (en) |
| KR (1) | KR102241108B1 (en) |
| CN (1) | CN104650635B (en) |
| TW (1) | TWI631014B (en) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2016129507A1 (en) * | 2015-02-13 | 2016-08-18 | 三菱化学株式会社 | Curable composition, cured product, and laminate |
| JP2017087604A (en) * | 2015-11-12 | 2017-05-25 | 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 | Conductive laminate and metal oxide composition |
| KR102205796B1 (en) * | 2016-02-16 | 2021-01-21 | 가부시키가이샤 도판 도모에가와 옵티컬 필름 | Hard coating film, polarizing plate using same, hard coating film processed product, and display member |
| KR102393021B1 (en) * | 2016-04-28 | 2022-05-02 | 니뽄 세이시 가부시끼가이샤 | Hard coating film and manufacturing method thereof |
| JP6713850B2 (en) * | 2016-06-16 | 2020-06-24 | 株式会社トッパンＴｏｍｏｅｇａｗａオプティカルフィルム | Transparent conductive film, method of manufacturing the same, and touch panel including transparent conductive film |
| JP6746410B2 (en) * | 2016-07-13 | 2020-08-26 | 大日本印刷株式会社 | Optical stack |
| JP7046053B2 (en) * | 2017-03-09 | 2022-04-01 | リンテック株式会社 | Release film for forming a green sheet |
| JP7172981B2 (en) * | 2017-03-10 | 2022-11-16 | コニカミノルタ株式会社 | BASE FILM FOR TRANSPARENT ELECTRODE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME |
| CN107422904B (en) * | 2017-05-16 | 2021-02-19 | 张家港康得新光电材料有限公司 | Touch screen and electronic equipment |
| KR20200115501A (en) * | 2018-01-26 | 2020-10-07 | 니뽄 세이시 가부시끼가이샤 | Hard coating film and its manufacturing method |
| JP7290938B2 (en) * | 2018-12-11 | 2023-06-14 | イビデン株式会社 | Manufacturing method of cover for infrared detection element |
Family Cites Families (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1103797C (en) * | 1997-12-26 | 2003-03-26 | 旭化成株式会社 | Polycarbonate sheet |
| JP2001109388A (en) | 1999-10-12 | 2001-04-20 | Teijin Ltd | Hard coat film for display and its production method |
| JP5135871B2 (en) * | 2007-05-08 | 2013-02-06 | 住友化学株式会社 | Anti-glare film, anti-glare polarizing plate and image display device |
| JP5786297B2 (en) * | 2010-09-21 | 2015-09-30 | 大日本印刷株式会社 | Optical laminate, transparent conductive film, and capacitive touch panel |
| KR101684488B1 (en) * | 2010-11-30 | 2016-12-08 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | Display panel device having touch input function |
| TW201248254A (en) * | 2011-05-20 | 2012-12-01 | Masahiro Umeda | Printed film for touch panel, cover glass for touch panel, liquid crystal display panel, multifunction terminal, and method for manufacturing printed film for touch panel |
| JP2013037323A (en) * | 2011-08-11 | 2013-02-21 | Lintec Corp | Hard coat film |
| TWI483970B (en) * | 2011-08-11 | 2015-05-11 | Nippon Soda Co | Organic-inorganic complex and a composition for forming the same |
| JP5691956B2 (en) * | 2011-09-12 | 2015-04-01 | コニカミノルタ株式会社 | Method for producing hard coat film |
| JP2013134282A (en) * | 2011-12-26 | 2013-07-08 | Konica Minolta Inc | Hard coat film, method for manufacturing hard coat film and polarizing plate |
| CN104220965B (en) * | 2012-01-26 | 2016-10-12 | 柯尼卡美能达株式会社 | Liquid crystal indicator with touch panel |
| JP5528645B1 (en) * | 2012-11-27 | 2014-06-25 | 東レフィルム加工株式会社 | Hard coat film and transparent conductive film |
| JP6414063B2 (en) * | 2013-08-09 | 2018-10-31 | 横浜ゴム株式会社 | Hard coat layer forming composition and laminate |
-
2013
- 2013-11-15 JP JP2013236481A patent/JP6258012B2/en active Active
-
2014
- 2014-10-29 KR KR1020140147953A patent/KR102241108B1/en active IP Right Grant
- 2014-10-29 TW TW103137425A patent/TWI631014B/en active
- 2014-11-14 CN CN201410643417.XA patent/CN104650635B/en active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN104650635B (en) | 2018-09-28 |
| TW201518093A (en) | 2015-05-16 |
| CN104650635A (en) | 2015-05-27 |
| JP2015096297A (en) | 2015-05-21 |
| KR102241108B1 (en) | 2021-04-16 |
| TWI631014B (en) | 2018-08-01 |
| KR20150056455A (en) | 2015-05-26 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20160815 |
|
| A977 | Report on retrieval |
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|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
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|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
| R250 | Receipt of annual fees |
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|
| R250 | Receipt of annual fees |
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|
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| R250 | Receipt of annual fees |
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