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JP6247169B2 - Optical receiver circuit and optical receiver - Google Patents

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JP6247169B2
JP6247169B2 JP2014138470A JP2014138470A JP6247169B2 JP 6247169 B2 JP6247169 B2 JP 6247169B2 JP 2014138470 A JP2014138470 A JP 2014138470A JP 2014138470 A JP2014138470 A JP 2014138470A JP 6247169 B2 JP6247169 B2 JP 6247169B2
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Description

本発明は、光受信回路および光受信回路を搭載した光受信器に関し、例えば、バイアス分離回路を構成するチップキャパシタを備えた光受信回路に関する。   The present invention relates to an optical receiver circuit and an optical receiver equipped with the optical receiver circuit, for example, an optical receiver circuit including a chip capacitor constituting a bias separation circuit.

一般に、光通信システムでは、光信号を電気信号に変換する光受信器が用いられる。光受信器は、例えば、伝送路(光ファイバ)から送られた光信号を光−電流変換するフォトダイオード(PD:Photodiode)を含む光受信回路と、光受信回路によって変換された電流信号を電圧信号に変換し、増幅して出力するトランスインピーダンスアンプ(以下、「TIA:Transimpedance Amplifier」と称する)等を含んでいる。例えば、下記特許文献1に、従来の光受信器が開示されている。   Generally, in an optical communication system, an optical receiver that converts an optical signal into an electric signal is used. The optical receiver includes, for example, an optical receiver circuit including a photodiode (PD) that performs optical-current conversion on an optical signal transmitted from a transmission path (optical fiber), and a voltage obtained by converting the current signal converted by the optical receiver circuit. A transimpedance amplifier (hereinafter referred to as “TIA: Transimpedance Amplifier”) that converts the signal into a signal, amplifies the signal, and outputs the signal is included. For example, the following Patent Document 1 discloses a conventional optical receiver.

図4は、特許文献1に開示された従来の光受信器の構成を示す図である。
同図に示されるように、従来の光受信器における光受信回路500では、半導体チップ506に形成されたフォトダイオード501の一方の電極(例えばアノード)をTIA等の負荷LD(同図では、負荷LDを抵抗RLとして簡略化して図示している。)に電気線路502を介して接続する場合、フォトダイオード501の他方の電極(例えばカソード)にバイアス分離回路504を接続する必要がある。ここで、バイアス分離回路504は、フォトダイオード501の信号の交流成分を接地するとともに直流成分を外部のバイアス印加端子503に導くための回路であり、キャパシタやキャパシタおよび抵抗を組み合わせることによって実現される。
FIG. 4 is a diagram showing a configuration of a conventional optical receiver disclosed in Patent Document 1. In FIG.
As shown in the figure, in an optical receiving circuit 500 in a conventional optical receiver, one electrode (for example, an anode) of a photodiode 501 formed on a semiconductor chip 506 is connected to a load LD such as TIA (in the figure, a load LD). In the case of connecting the LD to the resistor RL through the electric line 502, it is necessary to connect the bias separation circuit 504 to the other electrode (for example, cathode) of the photodiode 501. Here, the bias separation circuit 504 is a circuit for grounding the AC component of the signal of the photodiode 501 and guiding the DC component to the external bias application terminal 503, and is realized by combining a capacitor, a capacitor, and a resistor. .

一方、特許文献2および非特許文献1に開示されるように、多チャンネルの光信号を多チャンネルの電気信号に変換する光受信器もよく知られている。このような多チャンネルの光受信器では、各チャネルを構成するフォトダイオード毎に、バイアス分離回路を設ける必要がある。   On the other hand, as disclosed in Patent Document 2 and Non-Patent Document 1, an optical receiver that converts a multi-channel optical signal into a multi-channel electrical signal is also well known. In such a multi-channel optical receiver, it is necessary to provide a bias separation circuit for each photodiode constituting each channel.

従来の多チャンネルの光受信器の多くは、受光素子としてPIN構造のフォトダイオードが用いられている。このような多チャンネルの光受信器では、PIN構造のフォトダイオードの逆バイアス電圧(2〜10V程度)とバイアス分離回路用のキャパシタや抵抗に要求される耐圧(5V〜10V程度)とが比較的近い値であることから、バイアス分離回路用のキャパシタや抵抗を、上記特許文献1のようにフォトダイオードと同一の半導体基板上に形成したり、非特許文献2のようにTIAチップと同一の半導体基板上に形成したりすることにより、光受信器の小型化を図ることが可能であった。   Many conventional multi-channel optical receivers use a PIN photodiode as a light receiving element. In such a multi-channel optical receiver, the reverse bias voltage (about 2 to 10 V) of the PIN structure photodiode and the withstand voltage (about 5 V to 10 V) required for the capacitor and resistor for the bias separation circuit are relatively high. Since the values are close to each other, the capacitor and the resistor for the bias separation circuit are formed on the same semiconductor substrate as the photodiode as described in Patent Document 1, or the same semiconductor as that of the TIA chip as described in Non-Patent Document 2. It was possible to reduce the size of the optical receiver by forming it on the substrate.

特開2012−244293号公報JP 2012-244293 A 特開2013−5014号公報JP 2013-5014 A

S. Tsunashima et al., ”Silica-based, compact and variable-optical attenuator integrated coherent receiver with stable optoelectronic coupling system” 2012, Optics Express, Vol. 20, Issue 24, pp. 27174-27179.S. Tsunashima et al., “Silica-based, compact and variable-optical attenuator integrated coherent receiver with stable optoelectronic coupling system” 2012, Optics Express, Vol. 20, Issue 24, pp. 27174-27179. TEXAS INSTRUMENTS テ゛ータシート、“11.3-Gbs Limiting Transimpedance Amplifier With RSSI”、インターネット<URL:http://www.tij.co.jp/product/jp/onet8551t>.TEXAS INSTRUMENTS data sheet, “11.3-Gbs Limiting Transimpedance Amplifier With RSSI”, Internet <URL: http://www.tij.co.jp/product/jp/onet8551t>.

ところで、近年、光通信システムの大容量化と通信速度の向上のため、受光素子としてPIN構造のフォトダイオードの代わりに、アバランシェフォトダイオード(以下、「APD:avalanche photodiode」と称する。)用いた光受信器が増えつつある。APDは、PIN構造のフォトダイオードに比べて、光の受信感度が高く、且つより高速な動作が可能な素子である。   Incidentally, in recent years, in order to increase the capacity of an optical communication system and improve the communication speed, light using an avalanche photodiode (hereinafter referred to as “APD: avalanche photodiode”) instead of a PIN structure photodiode as a light receiving element. The number of receivers is increasing. An APD is an element that has higher light reception sensitivity and can operate at a higher speed than a photodiode having a PIN structure.

しかしながら、APDを光受信器に用いる場合、以下に示すような問題がある。
前述したように、PIN構造のフォトダイオードは2〜10V程度の逆バイアス電圧が必要であるが、APDはそれよりも高い20V〜50V程度の逆バイアス電圧が必要となる。そのため、PIN構造のフォトダイオードの場合と同じようにバイアス分離回路用のキャパシタや抵抗をAPDやTIAと同一の半導体基板上に形成することは、容易ではない。
However, when APD is used for an optical receiver, there are the following problems.
As described above, the photodiode having the PIN structure requires a reverse bias voltage of about 2 to 10 V, but the APD needs a reverse bias voltage of about 20 V to 50 V, which is higher than that. For this reason, it is not easy to form a capacitor and a resistor for a bias separation circuit on the same semiconductor substrate as that of APD or TIA as in the case of a photodiode having a PIN structure.

例えば、APDと同一の半導体基板上に高容量のキャパシタをより小さい面積で作製するためにはキャパシタの電極間の絶縁層を薄くする必要があるが、絶縁層を薄くすると耐圧が低下してしまう。逆にAPDの逆バイアス電圧に耐えられるようにキャパシタの電極間の絶縁層を厚くすると、高容量のキャパシタを得るためにチップ面積を大きくしなければならず、現実的ではない。   For example, in order to manufacture a high-capacity capacitor with a smaller area on the same semiconductor substrate as the APD, it is necessary to thin the insulating layer between the electrodes of the capacitor. However, if the insulating layer is thinned, the withstand voltage is lowered. . Conversely, if the insulating layer between the capacitor electrodes is made thick to withstand the reverse bias voltage of the APD, the chip area must be increased in order to obtain a high-capacity capacitor, which is not practical.

また、上記非特許文献1のように、TIAチップ内にバイアス分離回路用のキャパシタ等を形成したとしても、キャパシタ等の耐圧は5〜10V程度であることから、20V〜50V程度のAPDの逆バイアス電圧をTIAチップに印加することはできない。   Moreover, even if a capacitor for a bias separation circuit or the like is formed in the TIA chip as in Non-Patent Document 1, since the withstand voltage of the capacitor or the like is about 5 to 10V, the reverse of the APD of about 20V to 50V. A bias voltage cannot be applied to the TIA chip.

したがって、APDのような逆バイアス電圧の高いフォトダイオードを光受信回路に用いる場合には、フォトダイオードが形成された半導体チップやTIAチップとは別に、バイアス分離回路用の高耐圧のチップキャパシタやチップ抵抗を設ける必要がある。   Therefore, when a photodiode having a high reverse bias voltage such as an APD is used in an optical receiver circuit, a high-breakdown-voltage chip capacitor or chip for a bias separation circuit is provided separately from the semiconductor chip or TIA chip on which the photodiode is formed. It is necessary to provide resistance.

しかしながら、上述したように多チャネルの光受信器では、APDの個数に応じてバイアス分離回路の個数も増加するため、バイアス分離回路をチップキャパシタやチップ抵抗によって実現すると、光受信器の実装面積が大きくなってしまう。例えば、図5に示すように、従来の多チャンネルの光受信器では、フォトダイオード603が形成された半導体チップ601やTIAチップ602とともに、バイアス分離回路用の複数のチップキャパシタ606を光受信器の実装面700に実装することから、実装面700の面積が大きくなり、光受信器の小型化が困難になるという問題があった。   However, as described above, in a multi-channel optical receiver, the number of bias separation circuits increases with the number of APDs. Therefore, if the bias separation circuit is realized by a chip capacitor or a chip resistor, the mounting area of the optical receiver is reduced. It gets bigger. For example, as shown in FIG. 5, in a conventional multi-channel optical receiver, a plurality of chip capacitors 606 for bias separation circuits are provided together with a semiconductor chip 601 and a TIA chip 602 on which a photodiode 603 is formed. Since it is mounted on the mounting surface 700, there is a problem that the area of the mounting surface 700 is increased and it is difficult to reduce the size of the optical receiver.

本発明は、上記の問題に鑑みてなされたものであり、本発明の目的は、バイアス分離回路を構成するチップキャパシタを備えた光受信器の小型化を図ることにある。   The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to reduce the size of an optical receiver including a chip capacitor constituting a bias separation circuit.

本発明に係る光受信回路(10)は、サブマウント(11)と、前記サブマウントの第1主面(10A)上から前記サブマウントの側面(10C)上に延在する第1配線パターン(101_1〜101_4)および第2配線パターン(102_1〜102_5)と、前記サブマウントの前記第1主面上に形成された第3配線パターン(103_1〜103_4)と、前記サブマウントの前記第1主面上に配置され、アノード電極(A_1〜A_4)が前記第1配線パターンに接続され、カソード電極(K_1〜K_4)が前記第3配線パターンに接続されるフォトダイオード(PD1〜PD4)と、前記サブマウントの前記第1主面上に配置され、一方の電極が前記第3配線パターンに接続され、他方の電極が前記第2配線パターンに接続されるチップキャパシタ(Cb1〜Cb4)とを備えることを特徴とする。   An optical receiver circuit (10) according to the present invention includes a submount (11) and a first wiring pattern (10C) extending from a first main surface (10A) of the submount to a side surface (10C) of the submount. 101_1 to 101_4) and second wiring patterns (102_1 to 102_5), third wiring patterns (103_1 to 103_4) formed on the first main surface of the submount, and the first main surface of the submount. Photodiodes (PD1 to PD4) disposed on the anode electrode (A_1 to A_4) are connected to the first wiring pattern, and cathode electrodes (K_1 to K_4) are connected to the third wiring pattern; It is disposed on the first main surface of the mount, one electrode is connected to the third wiring pattern, and the other electrode is connected to the second wiring pattern. Characterized in that it comprises a chip capacitor (CB1 to CB4) that.

上記光受信回路は、前記サブマウントの前記第1主面と反対側の第2主面(10B)上に薄膜状に形成された抵抗(Rb1〜Rb4)と、前記サブマウントの前記第2主面上に形成され、前記抵抗の一端に接続された第4配線パターン(108_1〜108_4)と、前記サブマウントの前記第1配線パターンが形成された前記側面上から前記サブマウントの前記第2主面上に延在し、前記抵抗の他端に接続された第5配線パターン(109_1〜109_4)と、前記サブマウントを貫通して形成され、前記第4配線パターンと前記第3配線パターンとを接続する貫通ビア(105_1〜105_4)とを更に備えてもよい。   The optical receiving circuit includes a resistor (Rb1 to Rb4) formed in a thin film on a second main surface (10B) opposite to the first main surface of the submount, and the second main surface of the submount. A second wiring pattern (108_1 to 108_4) formed on the surface and connected to one end of the resistor, and the second main pattern of the submount from the side surface on which the first wiring pattern of the submount is formed. A fifth wiring pattern (109_1 to 109_4) extending on the surface and connected to the other end of the resistor, and formed through the submount, the fourth wiring pattern and the third wiring pattern Further, through vias (105_1 to 105_4) to be connected may be further provided.

上記光受信回路において、前記フォトダイオードが複数配置され、前記第1配線パターン、前記第2配線パターン、および前記第3配線パターンが夫々の前記フォトダイオードに対応して複数形成され、前記チップコンデンサが、対応する前記第3配線パターン毎に複数配置されることを特徴とする。   In the optical receiver circuit, a plurality of the photodiodes are arranged, a plurality of the first wiring patterns, the second wiring patterns, and the third wiring patterns are formed corresponding to the photodiodes, and the chip capacitor is formed. A plurality of corresponding third wiring patterns are arranged.

上記光受信回路において、複数の前記フォトダイオードは、一つの半導体チップ(17)に形成され、前記半導体チップは、前記サブマウントの前記第1主面上にフリップチップ実装されてもよい。   In the optical receiver circuit, the plurality of photodiodes may be formed on one semiconductor chip (17), and the semiconductor chip may be flip-chip mounted on the first main surface of the submount.

上記光受信回路は、前記サブマウントの前記第1主面と反対側の第2主面(10B)上に、夫々の前記フォトダイオードに対応して薄膜状に形成された複数の抵抗(Rb1〜Rb4)と、前記サブマウントの前記第2主面上に形成され、対応する前記抵抗の一端に夫々接続される複数の第4配線パターン(108_1〜108_4)と、前記サブマウントの前記第1配線パターンが形成された前記側面上から前記サブマウントの前記第2主面上に延在し、対応する前記抵抗の他端に夫々接続された第5配線パターン(109_1〜109_4)と、前記サブマウントを貫通して形成され、前記第4配線パターンと対応する前記第3配線パターンとを夫々接続する複数の貫通ビア(105_1〜105_4)と、を更に備えてもよい。   The optical receiver circuit includes a plurality of resistors (Rb1 to Rb1) formed on the second main surface (10B) opposite to the first main surface of the submount so as to correspond to the photodiodes. Rb4), a plurality of fourth wiring patterns (108_1 to 108_4) formed on the second main surface of the submount and respectively connected to one end of the corresponding resistor, and the first wiring of the submount A fifth wiring pattern (109_1 to 109_4) extending from the side surface on which the pattern is formed to the second main surface of the submount and connected to the other end of the corresponding resistor, and the submount And a plurality of through vias (105_1 to 105_4) that connect the fourth wiring pattern and the corresponding third wiring pattern, respectively.

上記光受信回路において、複数の前記フォトダイオードは、前記第1主面において、前記第1主面の第1辺(11A)に沿って配置され、複数の前記第2配線パターンは、前記第1主面および前記側面において前記第1辺に沿って形成され、複数の前記第1配線パターンは、前記第1主面および前記側面において前記第2配線パターンの間に夫々形成され、複数の前記第3配線パターンは、前記第1主面において前記第2配線パターンの間に前記第1配線パターンと対向して夫々形成され、複数の前記チップキャパシタの前記他方の電極は、当該チップキャパシタが配置される前記第3配線パターンを挟む2つの前記第2配線パターンにボンディングワイヤ(107)を介して夫々接続されてもよい。   In the optical receiver circuit, the plurality of photodiodes are arranged along the first side (11A) of the first main surface on the first main surface, and the plurality of second wiring patterns are arranged on the first main surface. The main surface and the side surface are formed along the first side, and the plurality of first wiring patterns are formed between the second wiring patterns on the first main surface and the side surface, respectively. The three wiring patterns are formed on the first main surface between the second wiring patterns so as to face the first wiring pattern, and the chip capacitor is disposed on the other electrode of the plurality of chip capacitors. The second wiring patterns sandwiching the third wiring pattern may be connected to each other via bonding wires (107).

上記光受信回路において、前記フォトダイオードは、アバランシェフォトダイオードであってもよい。   In the optical receiver circuit, the photodiode may be an avalanche photodiode.

本発明に係る光受信器は、金属から成る板状の第1部材(20)と、前記第1部材上に設けられた第2部材(50)と、前記第2部材に支持され、前記第1部材の平面と平行な方向(Q)に光信号を出力する光信号出力部(60)と、上記光受信回路と、前記光出力部の光信号が出力される光出力面(60A)と前記サブマウントの前記第1主面とを対向させて、前記光受信回路を前記光出力部に固定する固定部材(14)と、前記第1部材上に設けられた第3部材(30)と、前記第3部材に支持され、トランスインピーダンスアンプが形成されたTIAチップ(40)とを備え、前記TIAチップは、前記第3部材に接触する面と反対側の面(40A)に複数の電極パターン(41)が形成され、前記光受信回路は、前記サブマウントの前記第1主面と反対側の面(10B)が前記TIAチップの側面(40C)と対向し、且つ、前記サブマウントの前記第1配線パターンおよび前記第2配線パターンが形成された側面(10C)が前記TIAチップの前記電極パターンが形成された面(40A)と同一の方向を向いて配置され、前記光受信回路の前記第1配線パターンおよび前記第2配線パターンは、ボンディングワイヤ(70)を介して、前記TIAチップの前記電極パターンに夫々接続されることを特徴とする。   An optical receiver according to the present invention is supported by a plate-shaped first member (20) made of metal, a second member (50) provided on the first member, and the second member. An optical signal output unit (60) that outputs an optical signal in a direction (Q) parallel to the plane of one member, the optical receiver circuit, and an optical output surface (60A) from which the optical signal of the optical output unit is output A fixing member (14) for fixing the optical receiver circuit to the optical output unit so as to face the first main surface of the submount; and a third member (30) provided on the first member; A TIA chip (40) supported by the third member and having a transimpedance amplifier formed thereon, and the TIA chip has a plurality of electrodes on a surface (40A) opposite to the surface in contact with the third member. A pattern (41) is formed, and the optical receiver circuit is connected to the submount. The surface (10B) opposite to the first main surface faces the side surface (40C) of the TIA chip, and the side surface (10C) on which the first wiring pattern and the second wiring pattern of the submount are formed. ) Are arranged in the same direction as the surface (40A) on which the electrode pattern of the TIA chip is formed, and the first wiring pattern and the second wiring pattern of the optical receiver circuit are bonded wires (70). Are connected to the electrode patterns of the TIA chip, respectively.

なお、上記説明において括弧を付した参照符号は、図面において当該参照符号が付された構成要素の概念に含まれるものを例示するに過ぎない。   In the above description, the reference numerals with parentheses merely exemplify what are included in the concept of the constituent elements with the reference numerals in the drawings.

本発明によれば、光受信器の小型化が可能となる。   According to the present invention, it is possible to reduce the size of the optical receiver.

図1は、本発明の一実施の形態に係る光受信回路の回路構成を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing a circuit configuration of an optical receiver circuit according to an embodiment of the present invention. 図2Aは、本実施の形態に係る光受信回路の平面構造を模式的に示す図である。FIG. 2A is a diagram schematically illustrating a planar structure of the optical receiver circuit according to the present embodiment. 図2Bは、本実施の形態に係る光受信回路の平面構造を模式的に示す図である。FIG. 2B is a diagram schematically illustrating a planar structure of the optical receiver circuit according to the present embodiment. 図2Cは、本実施の形態に係る光受信回路の平面構造を模式的に示す図である。FIG. 2C is a diagram schematically illustrating a planar structure of the optical receiver circuit according to the present embodiment. 図3Aは、本実施の形態に係る光受信回路を備えた光受信器の平面構造を模式的に示す図である。FIG. 3A is a diagram schematically illustrating a planar structure of an optical receiver including the optical receiver circuit according to the present embodiment. 図3Bは、本実施の形態に係る光受信回路を備えた光受信器の平面構造を模式的に示す図である。FIG. 3B is a diagram schematically illustrating a planar structure of an optical receiver including the optical receiver circuit according to the present embodiment. 図4は、従来の光受信回路の回路構成例を示す図である。FIG. 4 is a diagram illustrating a circuit configuration example of a conventional optical receiving circuit. 図5は、従来の多チャンネルの光受信器の平面構造を模式的に示す図である。FIG. 5 is a diagram schematically showing a planar structure of a conventional multi-channel optical receiver.

以下、本発明の実施の形態について図を参照して説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

≪光受信回路の回路構成≫
図1は、本発明の一実施の形態に係る光受信回路の回路構成を示す図である。
同図に示される光受信回路10は、伝送路(光ファイバ)から送られた光信号を電気信号に変換し、TIA等の増幅回路に供給するものである。光受信回路10は、平面光波回路(PLC:Planar lightwave circuit)等からなる光出力部やTIA等と組み合わせることにより、光受信器を実現することができる。
≪Circuit configuration of optical receiver circuit≫
FIG. 1 is a diagram showing a circuit configuration of an optical receiver circuit according to an embodiment of the present invention.
The optical receiver circuit 10 shown in the figure converts an optical signal sent from a transmission line (optical fiber) into an electric signal and supplies it to an amplifier circuit such as TIA. The optical receiver circuit 10 can be realized as an optical receiver by combining with an optical output unit such as a planar lightwave circuit (PLC), a TIA, or the like.

具体的に、光受信回路10は、複数のフォトダイオードPD1〜PD4と、複数のキャパシタCb1〜Cb4と、抵抗Rb1〜Rb4と、信号電極SP_1〜SP_4と、グラウンド電極GP_1〜GP_5と、バイアス電極BP_1〜BP_4とを有する。   Specifically, the optical receiving circuit 10 includes a plurality of photodiodes PD1 to PD4, a plurality of capacitors Cb1 to Cb4, resistors Rb1 to Rb4, signal electrodes SP_1 to SP_4, ground electrodes GP_1 to GP_5, and a bias electrode BP_1. To BP_4.

フォトダイオードPD1〜PD4は、平面光波回路等から出力された光信号を光−電流変換する受光素子である。例えば、フォトダイオードPD1〜PD4は、APDである。フォトダイオードPD1〜PD4は、例えば一つの半導体基板上にアレイ状に形成され、一つの半導体チップ17として構成されている。   The photodiodes PD1 to PD4 are light receiving elements that perform optical-current conversion on an optical signal output from a planar lightwave circuit or the like. For example, the photodiodes PD1 to PD4 are APDs. The photodiodes PD <b> 1 to PD <b> 4 are formed as an array on one semiconductor substrate, for example, and are configured as one semiconductor chip 17.

なお、本実施の形態では、光受信回路10が4個のフォトダイオードPD1〜PD4を備える場合を一例として説明するが、光受信回路10が備えるフォトダイオードの個数に特に制限はない。   In the present embodiment, the case where the optical receiver circuit 10 includes four photodiodes PD1 to PD4 will be described as an example, but the number of photodiodes included in the optical receiver circuit 10 is not particularly limited.

信号電極SP_1〜SP_4は、フォトダイオードPD1〜PD4によって生成された電気信号をTIA等に出力するための外部電極である。図1に示すように、信号電極SP_1は、フォトダイオードPD1のアノード電極A_1に接続される。同様に、信号電極SP_2〜SP_4は、対応するフォトダイオードPD2〜PD4のアノード電極A_2〜A_4に夫々接続される。   The signal electrodes SP_1 to SP_4 are external electrodes for outputting electric signals generated by the photodiodes PD1 to PD4 to TIA or the like. As shown in FIG. 1, the signal electrode SP_1 is connected to the anode electrode A_1 of the photodiode PD1. Similarly, the signal electrodes SP_2 to SP_4 are connected to the anode electrodes A_2 to A_4 of the corresponding photodiodes PD2 to PD4, respectively.

グラウンド電極GP_1〜GP_5は、グラウンド電位に接続するための外部電極である。図1に示すように、グラウンド電極GP_1〜GP_5は、グラウンド配線13に共通に接続される。   The ground electrodes GP_1 to GP_5 are external electrodes for connecting to the ground potential. As shown in FIG. 1, the ground electrodes GP_1 to GP_5 are commonly connected to the ground wiring 13.

バイアス電極BP_1〜BP_4は、フォトダイオードPD1〜PD4に供給するバイアス電圧を入力するための電極である。   The bias electrodes BP_1 to BP_4 are electrodes for inputting a bias voltage supplied to the photodiodes PD1 to PD4.

キャパシタCb1〜Cb4および抵抗Rb1〜Rb4は、フォトダイオードPD1〜PD4からの信号の交流成分を接地するとともに直流成分をバイアス印加端子に導くためのバイアス分離回路を構成する。具体的には、図1に示すように、キャパシタCb1の一端がフォトダイオードPD1のカソード電極K_1に接続されるとともに抵抗Rb1の一端に接続され、キャパシタCb1の他端がグラウンド配線13に接続され、抵抗Rb1の他端がバイアス電極BP_1に接続される。これにより、キャパシタCb1および抵抗Rb1は、フォトダイオードPD1のカソード電極K_1を交流的に接地するともに、バイアス電極BPの電位に応じてカソード電極K_1の直流電位を定めるバイアス分離回路として機能する。同様に、キャパシタCb2および抵抗Rb2と、キャパシタCb3および抵抗Rb3と、キャパシタCb4および抵抗Rb4も、フォトダイオードPD1のカソード電極K_1、バイアス電極BP_2〜BP_4、およびグラウンド配線13に接続され、対応するフォトダイオードPD2〜PD4に対するバイアス分離回路として夫々機能する。   Capacitors Cb1 to Cb4 and resistors Rb1 to Rb4 constitute a bias separation circuit for grounding the AC component of the signal from photodiodes PD1 to PD4 and guiding the DC component to the bias application terminal. Specifically, as shown in FIG. 1, one end of the capacitor Cb1 is connected to the cathode electrode K_1 of the photodiode PD1 and one end of the resistor Rb1, and the other end of the capacitor Cb1 is connected to the ground wiring 13. The other end of the resistor Rb1 is connected to the bias electrode BP_1. Thereby, the capacitor Cb1 and the resistor Rb1 function as a bias separation circuit that grounds the cathode electrode K_1 of the photodiode PD1 in an alternating manner and determines the DC potential of the cathode electrode K_1 according to the potential of the bias electrode BP. Similarly, the capacitor Cb2 and the resistor Rb2, the capacitor Cb3 and the resistor Rb3, the capacitor Cb4 and the resistor Rb4 are also connected to the cathode electrode K_1, the bias electrodes BP_2 to BP_4, and the ground wiring 13 of the photodiode PD1, and the corresponding photodiodes are connected. Each functions as a bias separation circuit for PD2 to PD4.

≪光受信回路の具体的な構造≫
図2A〜2Cに、本実施の形態に係る光受信回路10の構造を示す。
図2Aには、光受信回路10の第1主面10A側から見た平面構造が模式的に示され、図2Bには、図2Aの方向Pから見た光受信回路10の側面10Cの平面構造が模式的に示され、図2Cには、光受信回路10の第2主面10B側から見た平面構造が模式的に示されている。なお、以下の説明では、光受信回路10の第1主面10Aを「表面10A」、光受信回路10の第2主面10Bを「裏面10B」とも称することもある。
≪Specific structure of optical receiver circuit≫
2A to 2C show the structure of the optical receiver circuit 10 according to the present embodiment.
2A schematically illustrates a planar structure of the optical receiver circuit 10 as viewed from the first main surface 10A side, and FIG. 2B illustrates a plane of the side surface 10C of the optical receiver circuit 10 as viewed from the direction P of FIG. 2A. The structure is schematically shown, and FIG. 2C schematically shows a planar structure viewed from the second main surface 10B side of the optical receiver circuit 10. In the following description, the first main surface 10A of the optical receiver circuit 10 may also be referred to as “front surface 10A”, and the second main surface 10B of the optical receiver circuit 10 may also be referred to as “back surface 10B”.

図2A〜2Cに示されるように、光受信回路10は、各種の配線パターンと抵抗Rb1〜Rb4とが形成されたサブマウント11上に、複数のフォトダイオードPD1〜PD4が形成された半導体チップ17と複数のキャパシタCb1〜Cb4とが実装されることにより構成されている。   2A to 2C, the optical receiver circuit 10 includes a semiconductor chip 17 in which a plurality of photodiodes PD1 to PD4 are formed on a submount 11 on which various wiring patterns and resistors Rb1 to Rb4 are formed. And a plurality of capacitors Cb1 to Cb4 are mounted.

サブマウント11は、光通信用の各種部品を実装するための基板である。サブマウント11は、例えばセラミック基板から構成される。基板のセラミック材料としては、窒化アルミニウム(AIN)や酸化アルミニウム(Al23)等を例示することができる。また、サブマウント11は、多層基板であっても単層基板であっても良い。 The submount 11 is a substrate for mounting various components for optical communication. The submount 11 is made of, for example, a ceramic substrate. Examples of the ceramic material for the substrate include aluminum nitride (AIN) and aluminum oxide (Al 2 O 3 ). The submount 11 may be a multilayer substrate or a single layer substrate.

サブマウント11の表面10A、裏面10B、および側面10Cには、複数の配線パターンが形成されている。夫々の配線パターンは、例えば金(Au)を主成分とする金属材料から構成されている。   A plurality of wiring patterns are formed on the front surface 10A, the back surface 10B, and the side surface 10C of the submount 11. Each wiring pattern is made of, for example, a metal material containing gold (Au) as a main component.

具体的には、図2Aに示すように、サブマウント11の表面10Aに、配線パターン101_1〜101_4、配線パターン102_1〜102_5、および配線パターン103_1〜103_4が形成されている。また、図2Bに示すように、サブマウント11の側面10Cに、配線パターン101_1〜101_4、配線パターン102_1〜102_5、および配線パターン109_1〜109_4が形成されている。更に、図2Cに示すように、サブマウントの裏面10Bに、配線パターン108_1〜108_4、配線パターン109_1〜109_4、および配線パターン102_6が形成されている。   Specifically, as shown in FIG. 2A, wiring patterns 101_1 to 101_4, wiring patterns 102_1 to 102_5, and wiring patterns 103_1 to 103_4 are formed on the surface 10A of the submount 11. Further, as illustrated in FIG. 2B, wiring patterns 101_1 to 101_4, wiring patterns 102_1 to 102_5, and wiring patterns 109_1 to 109_4 are formed on the side surface 10C of the submount 11. Further, as shown in FIG. 2C, wiring patterns 108_1 to 108_4, wiring patterns 109_1 to 109_4, and a wiring pattern 102_6 are formed on the back surface 10B of the submount.

配線パターン102_1〜102_4は、サブマウント11の表面10Aおよび側面10Cにおいて辺11Aに沿って互いに平行に形成されている。夫々の配線パターン102_1〜102_4は、サブマウント11の表面10A上から側面10C上に延長されて形成されている。換言すれば、配線パターン102_1〜102_4は、サブマウント11の表面10A上において表面10Aの辺11Aから辺11Bに向かって辺11Aと直交する方向に延在し、且つ、辺11Aを表面10Aと共通の辺とするサブマウント11の側面10C上において辺11Aから辺11Cに向かって延在する。配線パターン102_1〜102_5は、上述したグラウンド配線13として機能する。   The wiring patterns 102_1 to 102_4 are formed in parallel to each other along the side 11A on the surface 10A and the side surface 10C of the submount 11. Each of the wiring patterns 102_1 to 102_4 is formed to extend from the surface 10A of the submount 11 to the side surface 10C. In other words, the wiring patterns 102_1 to 102_4 extend on the surface 10A of the submount 11 from the side 11A of the surface 10A toward the side 11B in a direction orthogonal to the side 11A, and the side 11A is shared with the surface 10A. The side 11C extends from the side 11A toward the side 11C on the side surface 10C of the submount 11. The wiring patterns 102_1 to 102_5 function as the ground wiring 13 described above.

また、側面10Cに形成された配線パターン102_1〜102_5の一部は、後述するTIAチップ等とボンディングワイヤによって接続するための電極(パッド)を形成し、上述のグラウンド電極GP_1〜GP_5として夫々機能する。更に、配線パターン102_1〜102_5は、夫々サブマウント11を表面10Aから裏面10Bまで貫通する貫通ビア(スルーホール)103を介して、裏面10B上の配線パターン102_6と接続される。   In addition, a part of the wiring patterns 102_1 to 102_5 formed on the side surface 10C forms electrodes (pads) to be connected to TIA chips and the like to be described later by bonding wires, and functions as the above-described ground electrodes GP_1 to GP_5, respectively. . Furthermore, the wiring patterns 102_1 to 102_5 are connected to the wiring pattern 102_6 on the back surface 10B through through vias (through holes) 103 that penetrate the submount 11 from the front surface 10A to the back surface 10B.

なお、貫通ビア103と後述する貫通ビア105_1〜105_4は、貫通孔を埋めるように金属材料(例えば金)が充填されていても良いし、貫通孔の側面にのみ金属材料が形成されていても良い。   Note that the through via 103 and through vias 105_1 to 105_4 described later may be filled with a metal material (for example, gold) so as to fill the through hole, or a metal material may be formed only on the side surface of the through hole. good.

配線パターン101_1〜101_4は、サブマウント11上の表面10Aおよび側面10Cにおいて、平面視で配線パターン102_1〜102_5の間に夫々形成される。夫々の配線パターン101_1〜101_4は、サブマウント11の表面10A上から側面10C上に延長されて夫々形成されている。換言すれば、配線パターン102_1〜102_4は、サブマウント11の表面10A上において表面10Aの辺11Aから辺11Bに向かって延在し、且つ、辺11Aを表面10Aと共通の辺とするサブマウント11の側面10C上において辺11Aから辺11Cに向かって延在する。配線パターン101_1〜101_4の表面10A上のY方向の長さは、配線パターン102_1〜102_5のY方向の長さよりも短い。   The wiring patterns 101_1 to 101_4 are respectively formed between the wiring patterns 102_1 to 102_5 in a plan view on the surface 10A and the side surface 10C on the submount 11. Each of the wiring patterns 101_1 to 101_4 is formed to extend from the surface 10A of the submount 11 to the side surface 10C. In other words, the wiring patterns 102_1 to 102_4 extend on the surface 10A of the submount 11 from the side 11A of the surface 10A toward the side 11B, and the side 11A is a side common to the surface 10A. The side surface 10C extends from the side 11A toward the side 11C. The length in the Y direction on the surface 10A of the wiring patterns 101_1 to 101_4 is shorter than the length in the Y direction of the wiring patterns 102_1 to 102_5.

また、側面10Cに形成された配線パターン101_1〜101_4の一部は、後述するTIAチップ等とボンディングワイヤによって接続するための電極(パッド)を形成し、上述の信号電極SP_1〜SP_4として夫々機能する。   In addition, part of the wiring patterns 101_1 to 101_4 formed on the side surface 10C forms electrodes (pads) for connecting to TIA chips and the like to be described later by bonding wires, and functions as the above-described signal electrodes SP_1 to SP_4. .

配線パターン103_1〜103_4は、表面10Aにおいて配線パターン102_1〜102_5の間に配線パターン101_1〜101_4と対向して夫々形成される。図2Aに示すように、各配線パターン102_1〜102_4のY方向の長さは、各配線パターン102_1〜102_5のY方向の長さよりも短い。   The wiring patterns 103_1 to 103_4 are formed between the wiring patterns 102_1 to 102_5 on the surface 10A so as to face the wiring patterns 101_1 to 101_4, respectively. As shown in FIG. 2A, the length of each wiring pattern 102_1 to 102_4 in the Y direction is shorter than the length of each wiring pattern 102_1 to 102_5 in the Y direction.

また、図2Aに示すように、サブマウント11の表面10Aには、フォトダイオードPD1〜PD4が形成された半導体チップ17と、キャパシタCb1〜Cb4と、固定部材14とが実装される。   As shown in FIG. 2A, the semiconductor chip 17 on which the photodiodes PD1 to PD4 are formed, the capacitors Cb1 to Cb4, and the fixing member 14 are mounted on the surface 10A of the submount 11.

固定部材14は、後述する光出力部に光受信回路10を固定するための部材であり、例えば透明なガラス材料から構成されている。なお、固定部材14は光受信回路10を光出力部に固定することができればよく、固定部材14が実装されるサブマウント11上の位置は特に制限されない。   The fixing member 14 is a member for fixing the optical receiving circuit 10 to an optical output unit described later, and is made of, for example, a transparent glass material. The fixing member 14 only needs to fix the optical receiving circuit 10 to the optical output unit, and the position on the submount 11 on which the fixing member 14 is mounted is not particularly limited.

フォトダイオードPD1〜PD4は、半導体チップ17の長手方向(X方向)に沿ってアレイ状に形成される。図2Aに示されるように、半導体チップ17は、平面視において、配線パターン101_1〜101_4の夫々の一部および配線パターン103_1〜103_4の夫々の一部と重なりを有して表面10Aに配置される。具体的には、半導体チップ17は、裏面に形成された各フォトダイオードPD1〜PD4のアノード電極A_1〜A_4およびカソード電極K_1〜K_4と対応する各配線パターン101_1〜101_4、103_1〜103_4とが対向して半田(バンプ)を介して夫々接続されることにより、サブマウント11の表面10A上にフリップチップ実装される。このとき、フォトダイオードPD1のアノード電極A_1は配線パターン101_1に接続され、フォトダイオードPD1のカソード電極K_1は配線パターン103_1に接続されている。同様に、フォトダイオードPD2〜PD4のアノード電極A_2〜A_4は対応する配線パターン101_2〜101_4に夫々接続され、フォトダイオードPD2〜PD4のカソード電極K_2〜K_4は対応する配線パターン103_2〜103_4に夫々接続されている。   The photodiodes PD1 to PD4 are formed in an array along the longitudinal direction (X direction) of the semiconductor chip 17. As shown in FIG. 2A, the semiconductor chip 17 is arranged on the surface 10A so as to overlap with a part of each of the wiring patterns 101_1 to 101_4 and a part of each of the wiring patterns 103_1 to 103_4 in a plan view. . Specifically, the semiconductor chip 17 has the wiring patterns 101_1 to 101_4 and 103_1 to 103_4 corresponding to the anode electrodes A_1 to A_4 and the cathode electrodes K_1 to K_4 of the photodiodes PD1 to PD4 formed on the back surface. By being connected to each other via solder (bump), flip chip mounting is performed on the surface 10A of the submount 11. At this time, the anode electrode A_1 of the photodiode PD1 is connected to the wiring pattern 101_1, and the cathode electrode K_1 of the photodiode PD1 is connected to the wiring pattern 103_1. Similarly, the anode electrodes A_2 to A_4 of the photodiodes PD2 to PD4 are respectively connected to the corresponding wiring patterns 101_2 to 101_4, and the cathode electrodes K_2 to K_4 of the photodiodes PD2 to PD4 are respectively connected to the corresponding wiring patterns 103_2 to 103_4. ing.

キャパシタCb1〜Cb4は、サブマウント11の表面10Aにおいて、平面視で配線パターン103_1〜103_4上に夫々配置されている。キャパシタCb1〜Cb4は、例えば一つの面とその面の反対側の面に電極が形成された上下面電極構造のチップキャパシタ(チップコンデンサ)である。キャパシタCb1〜Cb4は、フォトダイオードPD1〜PD4の逆バイアス電圧に耐え得る耐圧を有している。例えば、フォトダイオードPD1〜PD4がAPDの場合、キャパシタCb1〜Cb4は、20V〜40V程度の逆バイアス電圧に耐え得る耐圧を有している。   The capacitors Cb1 to Cb4 are arranged on the wiring patterns 103_1 to 103_4 in a plan view on the surface 10A of the submount 11, respectively. The capacitors Cb <b> 1 to Cb <b> 4 are, for example, chip capacitors (chip capacitors) having an upper and lower surface electrode structure in which electrodes are formed on one surface and a surface opposite to the one surface. The capacitors Cb1 to Cb4 have a withstand voltage that can withstand the reverse bias voltage of the photodiodes PD1 to PD4. For example, when the photodiodes PD1 to PD4 are APDs, the capacitors Cb1 to Cb4 have a withstand voltage that can withstand a reverse bias voltage of about 20V to 40V.

図2Aに示すように、キャパシタCb1は、電極が形成された一方の面が配線パターン103_1と対向して半田を介して接続され、電極が形成された他方の面がボンディングワイヤ107を介して、配線パターン103_1を挟む配線パターン102_1および配線パターン102_2に夫々接続される。キャパシタCb2〜Cb4も同様に、電極が形成された一方の面が対応する配線パターン103_2〜103_4と対向して半田を介して夫々接続され、電極が形成された他方の面が対応する配線パターン102_2〜102_5とボンディングワイヤ107を介して夫々接続される。   As shown in FIG. 2A, the capacitor Cb1 has one surface on which an electrode is formed facing the wiring pattern 103_1 and connected via solder, and the other surface on which the electrode is formed via a bonding wire 107. The wiring pattern 102_1 and the wiring pattern 102_2 sandwiching the wiring pattern 103_1 are connected to each other. Similarly, in the capacitors Cb2 to Cb4, one surface on which the electrodes are formed is connected to the corresponding wiring patterns 103_2 to 103_4 via solder, and the other surface on which the electrodes are formed corresponds to the corresponding wiring pattern 102_2. -102_5 and the bonding wire 107, respectively.

ボンディングワイヤ107は、例えば、金を主成分とする金属材料から構成されている。なお、図2Aでは、配線パターン102_1〜102_4とキャパシタCb1〜Cb4とが2本のボンディングワイヤ107によって夫々接続される場合が図示されているが、配線パターン102_1〜102_4とキャパシタCb1〜Cb4とを夫々接続するボンディングワイヤ107の本数に特に制限はない。   The bonding wire 107 is made of, for example, a metal material whose main component is gold. 2A shows a case where the wiring patterns 102_1 to 102_4 and the capacitors Cb1 to Cb4 are connected by two bonding wires 107, respectively, the wiring patterns 102_1 to 102_4 and the capacitors Cb1 to Cb4 are respectively connected. There is no particular limitation on the number of bonding wires 107 to be connected.

抵抗Rb1〜Rb4は、図2Cに示すように、サブマウント11の裏面10B上に形成される。抵抗Rb1〜Rb4は、例えば裏面10B上に形成された薄膜状の抵抗素子であり、例えば、窒化タンタルを主成分とする材料を裏面10B上に薄膜状にパターニングすることにより形成される。   The resistors Rb1 to Rb4 are formed on the back surface 10B of the submount 11 as shown in FIG. 2C. The resistors Rb1 to Rb4 are thin film resistive elements formed on the back surface 10B, for example, and are formed by patterning a material mainly composed of tantalum nitride into a thin film on the back surface 10B, for example.

配線パターン108_1〜108_4は、サブマウント11の裏面10B上に形成される。例えば、図2Cに示すように、配線パターン108_1は、抵抗Rb1の一端に接続されるとともに、貫通ビア105_1を介して配線パターン103_1に接続される。同様に、配線パターン108_2〜108_4は、対応する抵抗Rb2〜Rb4の一端に夫々接続されるとともに、貫通ビア105_2〜105_4を介して配線パターン103_2〜103_4に夫々接続される。   The wiring patterns 108_1 to 108_4 are formed on the back surface 10B of the submount 11. For example, as illustrated in FIG. 2C, the wiring pattern 108_1 is connected to one end of the resistor Rb1, and is connected to the wiring pattern 103_1 through the through via 105_1. Similarly, the wiring patterns 108_2 to 108_4 are respectively connected to one ends of the corresponding resistors Rb2 to Rb4, and are connected to the wiring patterns 103_2 to 103_4 through the through vias 105_2 to 105_4, respectively.

配線パターン109_1は、サブマウント11の側面10C上から裏面10B上に延長されて形成され、抵抗Rb1の他端に接続される。具体的には、図2Bおよび図2Cに示すように、配線パターン109_1は、サブマウント11の裏面10B上において辺11Cに対向する辺の側から辺11Cに向かって延在し、且つ、辺11Cを裏面10Bと共通の辺とするサブマウント11の側面10C上において辺11Cから辺11Aに向かって延在して形成されている。配線パターン109_2〜109_4も同様である。   The wiring pattern 109_1 is formed to extend from the side surface 10C of the submount 11 to the back surface 10B, and is connected to the other end of the resistor Rb1. Specifically, as shown in FIGS. 2B and 2C, the wiring pattern 109_1 extends from the side facing the side 11C toward the side 11C on the back surface 10B of the submount 11, and the side 11C. Is formed extending from the side 11C toward the side 11A on the side surface 10C of the submount 11 having a side common to the back surface 10B. The same applies to the wiring patterns 109_2 to 109_4.

また、側面10Cに形成された配線パターン109_1〜109_4の一部は、上述のバイアス電極BP_1〜BP_4として夫々機能する。   In addition, part of the wiring patterns 109_1 to 109_4 formed on the side surface 10C functions as the above-described bias electrodes BP_1 to BP_4.

≪本発明に係る光受信回路を備えた光受信器≫
図3Aおよび図3Bに、本実施の形態に係る光受信回路を備えた光受信器の構成の一例を示す。図3Aには、光受信回路10を搭載した光受信器1の平面構造が模式的に示され、図3Bには、図3Aの方向Sから見た光受信器1の側面の平面構造が模式的に示されている。
<< Optical Receiver with Optical Receiver Circuit According to the Present Invention >>
3A and 3B show an example of the configuration of an optical receiver including the optical receiver circuit according to the present embodiment. 3A schematically shows a planar structure of the optical receiver 1 on which the optical receiver circuit 10 is mounted, and FIG. 3B schematically shows a planar structure of the side surface of the optical receiver 1 viewed from the direction S in FIG. 3A. Has been shown.

図3Aおよび図3Bに示されるように、光受信器1は、基材20と、支持部材30と、支持部材50と、光出力部60と、光受信回路10と、TIAチップ40と、TIAチップ40用のチップキャパシタCt1〜Ct4とを備えている。なお、図3Bでは、TIAチップ40用のチップキャパシタCt1〜Ct4の図示を省略している。   As shown in FIGS. 3A and 3B, the optical receiver 1 includes a base material 20, a supporting member 30, a supporting member 50, an optical output unit 60, an optical receiving circuit 10, a TIA chip 40, and a TIA. Chip capacitors Ct1 to Ct4 for the chip 40 are provided. In FIG. 3B, illustration of the chip capacitors Ct1 to Ct4 for the TIA chip 40 is omitted.

基材20は、例えば銅タングステン合金(Cu−W合金)やニッケル(Ni)等を主成分とする金属材料で形成されている。基材20は、例えば箱状の筐体として形成されており、筐体内の板状の底面に支持部材30、50等が実装される。なお、図3A、3Bでは、筐体の板状の底面に相当する基材20の一部が図示されており、筐体の側面等の図示は省略されている。   The base material 20 is formed of a metal material whose main component is, for example, a copper tungsten alloy (Cu—W alloy), nickel (Ni), or the like. The base material 20 is formed as a box-shaped housing, for example, and the support members 30 and 50 are mounted on a plate-shaped bottom surface in the housing. 3A and 3B, a part of the base material 20 corresponding to the plate-like bottom surface of the housing is illustrated, and illustration of the side surface and the like of the housing is omitted.

支持部材30および支持部材50は、基材20の底面に固定されている。支持部材30は、TIAチップ40を支持するための部材であり、例えば銅タングステン合金等の熱伝導率の高い金属材料から構成されている。支持部材50は、光出力部60を支持するための部材であり、例えば金属材料から構成されている。   The support member 30 and the support member 50 are fixed to the bottom surface of the base material 20. The support member 30 is a member for supporting the TIA chip 40 and is made of a metal material having a high thermal conductivity such as a copper tungsten alloy. The support member 50 is a member for supporting the light output unit 60, and is made of, for example, a metal material.

TIAチップ40は、光受信回路によって生成された電気信号を入力するTIA等の増幅回路とその他の周辺回路等が、例えば一つの半導体基板に形成されることにより実現された半導体集積回路(IC)である。TIAチップ40は、支持部材30上に固定される。   The TIA chip 40 is a semiconductor integrated circuit (IC) realized by forming an amplifier circuit such as a TIA for inputting an electric signal generated by an optical receiver circuit and other peripheral circuits, for example, on one semiconductor substrate. It is. The TIA chip 40 is fixed on the support member 30.

TIAチップ40の支持部材30に接触する面と反対側の上面40Aには、複数の電極(パッド)41が形成されている。図3A、3Bに示されるように、複数の電極41は、光受信回路10の対応する信号電極SP_1〜SP_4およびグラウンド電極GP_1〜GP_5やTIA用のチップキャパシタ等とボンディングワイヤ70によって夫々接続されている。ボンディングワイヤ70は、ボンディングワイヤ107と同様に、例えば金を主成分とする金属材料から構成されている。   A plurality of electrodes (pads) 41 are formed on the upper surface 40A opposite to the surface of the TIA chip 40 that contacts the support member 30. As shown in FIGS. 3A and 3B, the plurality of electrodes 41 are connected to the corresponding signal electrodes SP_1 to SP_4 and ground electrodes GP_1 to GP_5 of the optical receiving circuit 10, chip capacitors for TIA, and the like by bonding wires 70, respectively. Yes. Similar to the bonding wire 107, the bonding wire 70 is made of, for example, a metal material containing gold as a main component.

光出力部60は、光信号を光受信回路10のフォトダイオードPD1〜PD4に導くものである。光出力部60は、例えば、平面光波回路(PLC)61とマイクロレンズアレイ62とから構成されている。平面光波回路(PLC)61内の光導波路610を介して伝送された光信号は、マイクロレンズアレイ62によって集光されてフォトダイオードPD1〜PD4に導かれる。図3Bに示すように、光出力部60は、例えば光信号が出力される方向Qと基材20の底面とが平行になるように、支持部材50上に固定される。   The optical output unit 60 guides an optical signal to the photodiodes PD <b> 1 to PD <b> 4 of the optical receiving circuit 10. The light output unit 60 includes, for example, a planar lightwave circuit (PLC) 61 and a microlens array 62. The optical signal transmitted through the optical waveguide 610 in the planar lightwave circuit (PLC) 61 is collected by the microlens array 62 and guided to the photodiodes PD1 to PD4. As shown in FIG. 3B, the light output unit 60 is fixed on the support member 50 so that, for example, the direction Q in which the optical signal is output and the bottom surface of the base member 20 are parallel.

光受信回路10は、平面視において光出力部60とTIAチップ40との間に配置される。具体的には、図3Aおよび図3Bに示されるように、サブマウント11の表面10Aとマイクロレンズアレイ62の光出力面60Aとが対向し、サブマウント11の裏面10BとTIAチップ40の側面40Cとが対向し、サブマウント11の側面10CとTIAチップ40の上面40Aとが同一方向を向くように、固定部材14を介して光出力部60に固定される。   The optical receiver circuit 10 is disposed between the optical output unit 60 and the TIA chip 40 in plan view. Specifically, as shown in FIGS. 3A and 3B, the front surface 10A of the submount 11 and the light output surface 60A of the microlens array 62 face each other, and the back surface 10B of the submount 11 and the side surface 40C of the TIA chip 40. And the side surface 10C of the submount 11 and the upper surface 40A of the TIA chip 40 are fixed to the light output unit 60 via the fixing member 14 so that they face the same direction.

光受信回路10の裏面10BとTIAチップ42および支持部材30とは、光受信回路10の裏面10BとTIAチップ42の側面40Cおよび支持部材30とが接触しない程度まで近づけることができる。   The back surface 10B of the optical receiver circuit 10, the TIA chip 42, and the support member 30 can be brought close to the extent that the back surface 10B of the optical receiver circuit 10, the side surface 40C of the TIA chip 42, and the support member 30 do not contact each other.

また、支持部材30、50のZ方向の高さは、光受信回路10の側面10C上の配線パターン101_1〜101_4等とTIAチップ40上の電極41とのボンディングが可能になるように調整されている。例えば、光受信回路10の側面10CとTIAチップ40の上面40Cとの高さが等しくなるように、支持部材30、50のZ方向の高さが調整されている。   Further, the heights of the support members 30 and 50 in the Z direction are adjusted so that the wiring patterns 101_1 to 101_4 and the like on the side surface 10C of the optical receiving circuit 10 can be bonded to the electrode 41 on the TIA chip 40. Yes. For example, the heights in the Z direction of the support members 30 and 50 are adjusted so that the heights of the side surface 10C of the optical receiver circuit 10 and the upper surface 40C of the TIA chip 40 are equal.

以上、本実施の形態に係る光受信回路のように、サブマウントの表面にフォトダイオードとバイアス分離回路用のチップキャパシタを実装するとともに、TIAチップとボンディングするための各種の電極をサブマウントの側面に形成することにより、光受信器の実装面積を小さくすることができる。
すなわち、本実施の形態に係る光受信回路を、サブマウントの裏面がTIAチップの側面と対向し、サブマウントの表面と光出力部の光出力面とが対向し、且つサブマウントの各種電極が形成された側面とTIAチップの電極が形成された上面とが同一方向を向くように、光出力部およびTIAチップとともに光受信器の基材(筐体)に実装すれば、図5に示した従来の光受信器のように、フォトダイオードが形成された半導体チップおよびチップキャパシタが実装される実装面とTIAチップの実装面とが同一方向を向くように実装する場合に比べて、光受信器の実装面積を小さくすることができ、光受信器の小型化を図ることが可能となる。
As described above, like the optical receiver circuit according to the present embodiment, the photodiode and the chip capacitor for the bias separation circuit are mounted on the surface of the submount, and various electrodes for bonding to the TIA chip are mounted on the side surface of the submount. The mounting area of the optical receiver can be reduced by forming the optical receiver.
That is, in the optical receiver circuit according to the present embodiment, the back surface of the submount faces the side surface of the TIA chip, the front surface of the submount faces the light output surface of the light output unit, and various electrodes of the submount FIG. 5 shows an example of mounting the optical output unit and the TIA chip on the base (housing) of the optical receiver so that the formed side surface and the upper surface on which the TIA chip electrode is formed are oriented in the same direction. Compared to the case where the mounting surface on which the semiconductor chip and the chip capacitor on which the photodiode is formed and the mounting surface of the TIA chip are mounted in the same direction as in the conventional optical receiver, the optical receiver The mounting area of the optical receiver can be reduced, and the optical receiver can be downsized.

特に、前述したような逆バイアス電圧の高いAPDを用いた多チャンネルの光受信回路において、バイアス分離回路用の高耐圧のチップキャパシタ等を用いる場合であっても、本発明に係る光受信回路によれば、実装面積の増大を抑えることができ、光受信器の小型化が期待できる。   In particular, in the multi-channel optical receiver circuit using an APD having a high reverse bias voltage as described above, even when a high-breakdown-voltage chip capacitor or the like for a bias separation circuit is used, the optical receiver circuit according to the present invention is used. Therefore, an increase in mounting area can be suppressed, and downsizing of the optical receiver can be expected.

更に、本実施の形態に係る光受信回路によれば、バイアス分離回路用の抵抗が必要な場合であっても、抵抗をサブマウントの表面ではなく裏面に形成するので、光受信回路を小型に形成することが可能となる。また、バイアス分離回路用の抵抗をサブマウント上に形成した薄膜状の抵抗によって実現することにより、光受信回路の厚みを抑えることができるので、バイアス分離回路用の抵抗が必要な場合であっても、光受信器の小型化を阻害する虞はない。   Furthermore, according to the optical receiver circuit according to the present embodiment, even when a resistor for the bias separation circuit is required, the resistor is formed on the back surface instead of the front surface of the submount. It becomes possible to form. In addition, since the thickness of the optical receiving circuit can be suppressed by realizing the resistance for the bias separation circuit with a thin film resistor formed on the submount, the resistance for the bias separation circuit is necessary. However, there is no risk of hindering downsizing of the optical receiver.

以上、本発明者らによってなされた発明を実施の形態に基づいて具体的に説明したが、本発明はそれに限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々変更可能であることは言うまでもない。   Although the invention made by the present inventors has been specifically described based on the embodiments, it is needless to say that the present invention is not limited thereto and can be variously modified without departing from the gist thereof. Yes.

例えば、上記実施の形態において、光受信回路に搭載されるフォトダイオードが複数(多チャンネルの光受信回路)である場合を例示したが、これに限られず、光受信回路に搭載されるフォトダイオードは一個であっても良い。この場合、バイアス分離回路用のキャパシタ(Cb1〜Cb4)および抵抗(Rb1〜Rb4)も一個となる。   For example, in the above embodiment, the case where a plurality of photodiodes (multi-channel optical receiver circuit) are mounted on the optical receiver circuit is illustrated, but the present invention is not limited to this, and the photodiode mounted on the optical receiver circuit is as follows. One piece may be sufficient. In this case, the capacitors (Cb1 to Cb4) and the resistors (Rb1 to Rb4) for the bias separation circuit are also one.

また、上記実施の形態において、フォトダイオードPD1〜PD4がAPDである場合を例示したが、これに限られず、フォトダイオードPD1〜PD4がPIN構造のフォトダイオードやその他の構造のフォトダイオードであっても、同様の作用および効果を奏する。   In the above embodiment, the photodiodes PD1 to PD4 are APDs. However, the present invention is not limited to this, and the photodiodes PD1 to PD4 may be PIN structure photodiodes or other structure photodiodes. The same action and effect are exhibited.

また、上記実施の形態において、フォトダイオードPD1〜PD4が一つの半導体チップ17に形成される場合を例示したが、フォトダイオードPD1〜PD4が夫々別個の半導体チップに形成されていても良いし、複数のフォトダイオードが形成された半導体チップをサブマウント上に複数個実装しても良い。   In the above embodiment, the photodiodes PD1 to PD4 are formed on one semiconductor chip 17, but the photodiodes PD1 to PD4 may be formed on separate semiconductor chips. A plurality of semiconductor chips on which the photodiodes are formed may be mounted on the submount.

また、上記実施の形態において、バイアス分離回路として抵抗Rb1〜Rb4を設ける場合を例示したが、バイアス分離回路としてキャパシタCb1〜Cb4のみを設け、抵抗Rb1〜Rb4を設けなくてもよい。この場合、図2Cに示される配線パターン108_1と配線パターン109_1とは連続した一つの配線パターンとして形成すればよい。配線パターン108_2〜108_4と配線パターン109_2〜109_4についても同様である。   Further, in the above embodiment, the case where the resistors Rb1 to Rb4 are provided as the bias separation circuit is illustrated, but only the capacitors Cb1 to Cb4 are provided as the bias separation circuit, and the resistors Rb1 to Rb4 may not be provided. In this case, the wiring pattern 108_1 and the wiring pattern 109_1 shown in FIG. 2C may be formed as one continuous wiring pattern. The same applies to the wiring patterns 108_2 to 108_4 and the wiring patterns 109_2 to 109_4.

また、上記実施の形態において、配線パターン102_1〜102_5が一定の幅で形成される場合を例示したが(図2Aおよび図2B参照)、ボンディングの高精度化および容易化のために、側面10Cに形成された配線パターン102_1〜102_5の一部の配線幅を他の部分の配線幅よりも大きくしてもよい。   Further, in the above embodiment, the case where the wiring patterns 102_1 to 102_5 are formed with a constant width is illustrated (see FIGS. 2A and 2B). The wiring width of a part of the formed wiring patterns 102_1 to 102_5 may be larger than the wiring width of other parts.

10…光受信回路、PD1〜PD4…フォトダイオード、Cb1〜Cb4…バイアス分離回路用のキャパシタ、Rb1〜Rb4…バイアス分離回路用の抵抗、11…サブマウント、10A…光受信回路の第1主面(表面)、10B…光受信回路の第2主面(裏面)、10C…光受信回路の側面、11A、11B…サブマウントの辺、13…グラウンド配線、14…固定部材、17…半導体チップ、BP_1〜BP_4…バイアス電極、GP_1〜GP_5…グラウンド電極、SP_1〜SP_4…信号電極、A_1〜A_4…アノード電極、K_1〜K_4…カソード電極、101_1〜101_4、102_1〜102_6、103_1〜103_4、108_1〜108_4、109_1〜109_4…配線パターン、103、105_1〜105_4…貫通ビア、107、70…ボンディングワイヤ、20…基材、40…TIAチップ、41…電極、40A…TIAチップの上面、40C…TIAチップの側面、60…光出力部、61…PLC、610…光導波路、62…マイクロレンズアレイ、60A…光出力面、30、50…支持部材。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Optical receiver circuit, PD1-PD4 ... Photodiode, Cb1-Cb4 ... Bias separation circuit capacitor, Rb1-Rb4 ... Bias separation circuit resistor, 11 ... Submount, 10A ... First main surface of optical receiver circuit (Front surface), 10B: second main surface (back surface) of optical receiver circuit, 10C: side surface of optical receiver circuit, 11A, 11B ... side of submount, 13 ... ground wiring, 14 ... fixing member, 17 ... semiconductor chip, BP_1 to BP_4 ... bias electrode, GP_1 to GP_5 ... ground electrode, SP_1 to SP_4 ... signal electrode, A_1 to A_4 ... anode electrode, K_1 to K_4 ... cathode electrode, 101_1 to 101_4, 102_1 to 102_6, 103_1 to 103_4, 108_1 to 108_4 , 109_1 to 109_4 ... wiring patterns, 103, 105_ ~ 105_4 ... through via, 107, 70 ... bonding wire, 20 ... substrate, 40 ... TIA chip, 41 ... electrode, 40A ... top surface of TIA chip, 40C ... side surface of TIA chip, 60 ... light output section, 61 ... PLC 610: Optical waveguide 62: Micro lens array 60A: Light output surface 30, 50: Support member

Claims (6)

サブマウントと、
前記サブマウントの第1主面上から前記サブマウントの側面上に延在する第1配線パターンおよび第2配線パターンと、
前記サブマウントの前記第1主面上に形成された第3配線パターンと、
前記サブマウントの前記第1主面上に配置され、アノード電極が前記第1配線パターンに接続され、カソード電極が前記第3配線パターンに接続されるフォトダイオードと、
前記サブマウントの前記第1主面上に配置され、一方の電極が前記第3配線パターンに接続され、他方の電極が前記第2配線パターンに接続されるチップキャパシタと、
を備える光受信回路において、
前記サブマウントの前記第1主面と反対側の第2主面上に薄膜状に形成された抵抗と、
前記サブマウントの前記第2主面上に形成され、前記抵抗の一端に接続された第4配線パターンと、
前記サブマウントの前記第1配線パターンが形成された前記側面上から前記サブマウントの前記第2主面上に延長し、前記抵抗の他端に接続された第5配線パターンと、
前記サブマウントを貫通して形成され、前記第4配線パターンと前記第3配線パターンとを接続する貫通ビアとを更に備える
ことを特徴とする光受信回路。
A submount,
A first wiring pattern and a second wiring pattern extending from the first main surface of the submount to the side surface of the submount;
A third wiring pattern formed on the first main surface of the submount;
A photodiode disposed on the first main surface of the submount, an anode electrode connected to the first wiring pattern, and a cathode electrode connected to the third wiring pattern;
A chip capacitor disposed on the first main surface of the submount, having one electrode connected to the third wiring pattern and the other electrode connected to the second wiring pattern;
In an optical receiving circuit comprising:
A resistor formed in a thin film on a second main surface opposite to the first main surface of the submount;
A fourth wiring pattern formed on the second main surface of the submount and connected to one end of the resistor;
A fifth wiring pattern extending from the side surface on which the first wiring pattern of the submount is formed to the second main surface of the submount and connected to the other end of the resistor;
An optical receiver circuit, further comprising a through via formed through the submount and connecting the fourth wiring pattern and the third wiring pattern.
サブマウントと、
前記サブマウントの第1主面上から前記サブマウントの側面上に延在する第1配線パターンおよび第2配線パターンと、
前記サブマウントの前記第1主面上に形成された第3配線パターンと、
前記サブマウントの前記第1主面上に配置され、アノード電極が前記第1配線パターンに接続され、カソード電極が前記第3配線パターンに接続されるフォトダイオードと、
前記サブマウントの前記第1主面上に配置され、一方の電極が前記第3配線パターンに接続され、他方の電極が前記第2配線パターンに接続されるチップキャパシタと、
を備える光受信回路において、
前記フォトダイオードが、複数配置され、
前記第1配線パターン、前記第2配線パターン、および前記第3配線パターンが夫々の前記フォトダイオードに対応して複数形成され、
前記チップキャパシタが、対応する前記第3配線パターン毎に複数配置され
前記サブマウントの前記第1主面と反対側の第2主面上に、夫々の前記フォトダイオードに対応して薄膜状に形成された複数の抵抗と、
前記サブマウントの前記第2主面上に形成され、対応する前記抵抗の一端に夫々接続される複数の第4配線パターンと、
前記サブマウントの前記第1配線パターンが形成された前記側面上から前記サブマウントの前記第2主面上に延在し、対応する前記抵抗の他端に夫々接続された第5配線パターンと、
前記サブマウントを貫通して形成され、前記第4配線パターンと対応する前記第3配線パターンとを夫々接続する複数の貫通ビアと、を更に備える
ことを特徴とする光受信回路。
A submount,
A first wiring pattern and a second wiring pattern extending from the first main surface of the submount to the side surface of the submount;
A third wiring pattern formed on the first main surface of the submount;
A photodiode disposed on the first main surface of the submount, an anode electrode connected to the first wiring pattern, and a cathode electrode connected to the third wiring pattern;
A chip capacitor disposed on the first main surface of the submount, having one electrode connected to the third wiring pattern and the other electrode connected to the second wiring pattern;
In an optical receiving circuit comprising:
A plurality of the photodiodes are arranged,
A plurality of the first wiring pattern, the second wiring pattern, and the third wiring pattern are formed corresponding to each of the photodiodes,
A plurality of the chip capacitors are arranged for each corresponding third wiring pattern ,
A plurality of resistors formed in a thin film shape corresponding to each of the photodiodes on a second main surface opposite to the first main surface of the submount;
A plurality of fourth wiring patterns formed on the second main surface of the submount and respectively connected to one end of the corresponding resistor;
A fifth wiring pattern extending from the side surface on which the first wiring pattern of the submount is formed to the second main surface of the submount and connected to the other end of the corresponding resistor,
An optical receiver circuit , further comprising: a plurality of through vias formed through the submount and respectively connecting the fourth wiring pattern and the corresponding third wiring pattern .
請求項に記載の光受信回路において、
複数の前記フォトダイオードは、一つの半導体チップに形成され、
前記半導体チップは、前記サブマウントの前記第1主面上にフリップチップ実装される
ことを特徴とする光受信回路。
The optical receiver circuit according to claim 2 ,
The plurality of photodiodes are formed on one semiconductor chip,
The optical receiver circuit, wherein the semiconductor chip is flip-chip mounted on the first main surface of the submount.
請求項またはに記載の光受信回路において、
複数の前記フォトダイオードは、前記第1主面において、前記第1主面の第1辺に沿って配置され、
複数の前記第2配線パターンは、前記第1主面および前記側面において前記第1辺に沿って形成され、
複数の前記第1配線パターンは、前記第1主面および前記側面において前記第2配線パターンの間に夫々形成され、
複数の前記第3配線パターンは、前記第1主面において前記第2配線パターンの間に前記第1配線パターンと対向して夫々形成され、
複数の前記チップキャパシタの前記他方の電極は、当該チップキャパシタが配置される前記第3配線パターンを挟む2つの前記第2配線パターンにボンディングワイヤを介して夫々接続される
ことを特徴とする光受信回路。
The optical receiver circuit according to claim 2 or 3 ,
The plurality of photodiodes are arranged along the first side of the first main surface in the first main surface,
The plurality of second wiring patterns are formed along the first side on the first main surface and the side surface,
The plurality of first wiring patterns are respectively formed between the second wiring patterns on the first main surface and the side surface,
The plurality of third wiring patterns are respectively formed on the first main surface between the second wiring patterns so as to face the first wiring patterns,
The other electrode of the plurality of chip capacitors is connected to two second wiring patterns sandwiching the third wiring pattern on which the chip capacitors are disposed via bonding wires, respectively. circuit.
請求項1乃至の何れか一項に記載の光受信回路において、
前記フォトダイオードは、アバランシェフォトダイオードである
ことを特徴とする光受信回路。
In the optical receiver circuit according to any one of claims 1 to 4 ,
The optical receiving circuit, wherein the photodiode is an avalanche photodiode.
金属から成る板状の第1部材と、
前記第1部材上に設けられた第2部材と、
前記第2部材に支持され、前記第1部材の平面と平行な方向に光信号を出力する光信号出力部と、
請求項1乃至の何れか一項に記載の光受信回路と、
前記光信号出力部の光信号が出力される光出力面と前記サブマウントの前記第1主面とを対向させて、前記光受信回路を前記光出力部に固定する固定部材と、
前記第1部材上に設けられた第3部材と、
前記第3部材に支持され、トランスインピーダンスアンプが形成されたTIAチップと、を備え、
前記TIAチップは、前記第3部材に接触する面と反対側の面に複数の電極パターンが形成され、
前記光受信回路は、前記サブマウントの前記第1主面と反対側の面が前記TIAチップの側面と対向し、且つ、前記サブマウントの前記第1配線パターンおよび前記第2配線パターンが形成された側面が前記TIAチップの前記電極パターンが形成された面と同一の方向を向いて配置され、
前記光受信回路の前記第1配線パターンおよび前記第2配線パターンは、ボンディングワイヤを介して、前記TIAチップの前記電極パターンに夫々接続される
ことを特徴とする光受信器。
A plate-shaped first member made of metal;
A second member provided on the first member;
An optical signal output unit that is supported by the second member and outputs an optical signal in a direction parallel to the plane of the first member;
An optical receiver circuit according to any one of claims 1 to 5 ;
A fixing member that fixes the optical receiving circuit to the optical output unit by making the optical output surface of the optical signal output unit from which the optical signal is output face the first main surface of the submount;
A third member provided on the first member;
A TIA chip supported by the third member and having a transimpedance amplifier formed thereon,
The TIA chip has a plurality of electrode patterns formed on a surface opposite to a surface in contact with the third member,
In the optical receiver circuit, a surface opposite to the first main surface of the submount is opposed to a side surface of the TIA chip, and the first wiring pattern and the second wiring pattern of the submount are formed. The side surface is oriented in the same direction as the surface on which the electrode pattern of the TIA chip is formed,
The optical receiver, wherein the first wiring pattern and the second wiring pattern of the optical receiving circuit are respectively connected to the electrode pattern of the TIA chip via bonding wires.
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