JP6214197B2 - Method of darkening a bright spot defect in a liquid crystal panel - Google Patents
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Description
本発明は、液晶パネルの画素に発生した輝点欠陥にレーザ光を照射して暗点化する方法に関する。 The present invention relates to a method for darkening a bright spot defect generated in a pixel of a liquid crystal panel by irradiating a laser beam.
液晶パネルには、製造工程における異物混入などにより、輝点欠陥と呼ばれる欠陥が発生することがある。輝点欠陥は、黒など暗い色を表示した際にも明るい画素として視認される欠陥である。こうした輝点欠陥は、人間の目に視認されやすく目立つことから、輝点欠陥が発生した液晶パネルは不良品として廃棄されることが多く、液晶パネルの製造における歩留まり低下の原因となっている。 In the liquid crystal panel, a defect called a bright spot defect may occur due to contamination of foreign matters in the manufacturing process. The bright spot defect is a defect that is visually recognized as a bright pixel even when a dark color such as black is displayed. Since such bright spot defects are easily visible to human eyes, the liquid crystal panel in which the bright spot defect has occurred is often discarded as a defective product, which causes a decrease in yield in the manufacture of liquid crystal panels.
このような液晶パネルにおける輝点欠陥を修正する方法として、従来、輝点欠陥が生じた画素のカラーフィルタ色材にレーザを照射して当該画素を暗点化することにより、輝点欠陥を目立たなくする技術が存在する(例えば特許文献1〜3)。 As a method of correcting the bright spot defect in such a liquid crystal panel, the bright spot defect has been conspicuous by irradiating the color filter color material of the pixel in which the bright spot defect has occurred with a laser to darken the pixel. There is a technique to eliminate (for example, Patent Documents 1 to 3).
上記のような、液晶パネルの輝点欠陥の暗点化、或いはいわゆるレーザリペアでは、レーザ照射によって液晶パネルに含まれるカラーフィルタ色材などが加熱され、熱変性して黒化する反応を利用する。これにより、バックライトからの光が、輝点欠陥を有する画素を透過しないようにする。このとき、レーザ照射により加熱されて得られる黒化物の厚みが不均一になることがある。 In the above-described dark spot defect of a liquid crystal panel or so-called laser repair, a color filter coloring material included in the liquid crystal panel is heated by laser irradiation, and the reaction of blackening by heat denaturation is used. . This prevents light from the backlight from being transmitted through pixels having bright spot defects. At this time, the thickness of the blackened material obtained by heating by laser irradiation may become non-uniform.
そして、黒化物が薄いところは、局所的に暗点化度合いが低い領域(以下、低暗点化度領域)となる。この低暗点化度領域が発生すると、当該領域からバックライトからの光が漏れるため、輝点欠陥を遮蔽することができないという問題がある。 And the place where a black thing is thin becomes an area | region (henceforth a low dark spotting degree area | region) where a dark spotting degree is locally low. When this low dark spot degree region occurs, light from the backlight leaks from the region, and thus there is a problem that the bright spot defect cannot be shielded.
本発明の目的は、上記のような問題を解決するためになされたもので、液晶パネルの輝点欠陥を確実に暗点化可能にするような、液晶パネルの輝点欠陥の暗点化方法を提供することである。 An object of the present invention was made to solve the above-described problems, and a method for darkening a bright spot defect in a liquid crystal panel so that the bright spot defect in the liquid crystal panel can be surely made a dark spot. Is to provide.
上記目的を達成するために、本発明に係る液晶パネルの輝点欠陥の暗点化方法は、複数の画素が配列したカラーフィルタ基板と、各画素に対応した画素電極を駆動するための薄膜トランジスタアレイ基板と、カラーフィルタ基板と薄膜トランジスタアレイ基板との間に封入された液晶とを備えた液晶パネルの輝点欠陥の暗点化方法である。この方法は、輝点欠陥を有する輝点欠陥画素に向けてその輝点欠陥画素よりも小さいスポットサイズでレーザ光を照射し、少なくとも前記カラーフィルタ基板の一部を変質させて光透過率を低下させる第1レーザ照射工程と、当該輝点欠陥画素に向けて第1レーザ照射工程と異なるレーザ加工条件でレーザ光を照射し、第1レーザ照射工程で変質させた領域の厚みを均一化する第2レーザ照射工程とを含む。第1レーザ照射工程及び第2レーザ照射工程では、レーザ光を液晶パネルに対して相対的に移動させて、当該輝点欠陥画素内でレーザ光を走査する。 In order to achieve the above object, a dark spot defect darkening method for a liquid crystal panel according to the present invention includes a color filter substrate in which a plurality of pixels are arranged, and a thin film transistor array for driving a pixel electrode corresponding to each pixel. This is a method for darkening a bright spot defect of a liquid crystal panel including a substrate and a liquid crystal sealed between a color filter substrate and a thin film transistor array substrate. This method irradiates a luminescent spot defective pixel having a luminescent spot defect with a laser beam with a spot size smaller than that of the luminescent spot defective pixel, and alters at least a part of the color filter substrate to lower the light transmittance. The first laser irradiation step to be performed, and the bright spot defect pixel is irradiated with laser light under laser processing conditions different from the first laser irradiation step, and the thickness of the region altered in the first laser irradiation step is made uniform. 2 laser irradiation processes. In the first laser irradiation step and the second laser irradiation step, the laser light is moved relative to the liquid crystal panel, and the laser light is scanned in the bright spot defective pixel.
第1レーザ照射工程で変質した領域の厚みが第2レーザ照射工程で均一化されることにより、液晶パネルの輝点欠陥を確実に暗点化することができる。 By making the thickness of the region altered in the first laser irradiation process uniform in the second laser irradiation process, the bright spot defects of the liquid crystal panel can be surely darkened.
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。各図において、同一又は同様の構成部分については同じ符号を付している。なお、図面によっては、理解が容易になるように一部を誇張して示すことがある。例えば、図示した液晶モジュールにおける各要素の厚みは、実際の比率とは大きく異なる。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In the drawings, the same or similar components are denoted by the same reference numerals. Note that some drawings may be exaggerated for easy understanding. For example, the thickness of each element in the illustrated liquid crystal module is greatly different from the actual ratio.
実施の形態1.
図1は、本実施の形態1による液晶モジュールの概略断面図である。
液晶モジュール16は、液晶パネル15と、バックライト12と、液晶パネル駆動制御基板17と、などを備える。バックライト12は、液晶パネル15の背面側(液晶パネルを見るとき眼に向く面と反対側の面、図1では下側)に配置される。液晶パネル15及びバックライト12は、これらの動作を制御する液晶パネル駆動制御装置17と電気的に接続される。
Embodiment 1 FIG.
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of the liquid crystal module according to the first embodiment.
The liquid crystal module 16 includes a liquid crystal panel 15, a backlight 12, a liquid crystal panel drive control board 17, and the like. The backlight 12 is arranged on the back side of the liquid crystal panel 15 (the surface opposite to the surface facing the eyes when viewing the liquid crystal panel, the lower side in FIG. 1). The liquid crystal panel 15 and the backlight 12 are electrically connected to a liquid crystal panel drive control device 17 that controls these operations.
液晶パネル15は、カラーフィルタ基板13と薄膜トランジスタ基板(以下、TFT(TFT:Thin Film Transistor)基板という)14との間に封入された液晶7を有する。 The liquid crystal panel 15 includes a liquid crystal 7 sealed between a color filter substrate 13 and a thin film transistor substrate (hereinafter referred to as a TFT (TFT: Thin Film Transistor) substrate) 14.
カラーフィルタ基板13は、液晶パネル15の正面側から、カラーフィルタ基板側偏光板2と、カラーフィルタ基板側ガラス基板3と、赤、緑、青などに相当する特定の波長域の光を透過して色を表現するカラーフィルタ色材1と、隣接する画素間に配置され透過光を遮るブラックマトリックス4と、液晶7に電圧を印加するための対向電極5と、液晶7の分子を所定の向きに配向させるためのカラーフィルタ基板側配向膜6とを有する。 The color filter substrate 13 transmits light in a specific wavelength range corresponding to red, green, blue, and the like from the color filter substrate side polarizing plate 2, the color filter substrate side glass substrate 3 from the front side of the liquid crystal panel 15. A color filter color material 1 that expresses color, a black matrix 4 that is disposed between adjacent pixels and blocks transmitted light, a counter electrode 5 for applying a voltage to the liquid crystal 7, and molecules of the liquid crystal 7 in a predetermined direction. And a color filter substrate side alignment film 6 for aligning.
カラーフィルタ色材1としては、例えばポリイミド、アクリル系、エポキシ系の樹脂に着色したものなどが用いられ、膜厚は例示的に1μm程度である。カラーフィルタ色材1では同じ色が連続することなく、赤、緑、青が順番に配列されている。ブラックマトリクス4は遮光性に優れた膜であり、カーボンを添加した黒色の樹脂、又は金属のクロム膜などが用いられ、金属クロム膜では膜厚を0.1μm程度と薄くできる。対向電極5は、例えばITO(Indium Tin Oxide)のような透明導電膜で形成され、厚みは例示的に50〜150nm程度である。カラーフィルタ基板側配向膜6は、例えばポリイミドなどで形成され、膜厚は例示的に数十nm程度である。 As the color filter color material 1, for example, a colored one such as polyimide, acrylic, or epoxy resin is used, and the film thickness is about 1 μm by way of example. In the color filter color material 1, red, green, and blue are arranged in order without the same color being continuous. The black matrix 4 is a film having excellent light shielding properties, and a black resin to which carbon is added, a metal chromium film, or the like is used. The metal chromium film can be made as thin as about 0.1 μm. The counter electrode 5 is formed of a transparent conductive film such as ITO (Indium Tin Oxide), for example, and has a thickness of about 50 to 150 nm. The color filter substrate-side alignment film 6 is made of, for example, polyimide and has a film thickness of about several tens of nm.
TFT基板14は、液晶パネル15の背面側から、TFT基板側偏光板11と、TFT基板側ガラス基板10と、各色画素単位で液晶7に印加する電圧を制御するためのTFTアレイ9と、液晶7の分子を所定の向きに配向させるためのTFT基板側配向膜8とを有する。TFT基板側配向膜8としては、カラーフィルタ基板側配向膜6と同じものを使用できる。TFTアレイ9には、液晶7の各画素に対応して電圧を印加するための図示しない画素電極と、アレイ状に配置されたTFTと、などが含まれる。 The TFT substrate 14 includes, from the back side of the liquid crystal panel 15, a TFT substrate side polarizing plate 11, a TFT substrate side glass substrate 10, a TFT array 9 for controlling the voltage applied to the liquid crystal 7 for each color pixel unit, and a liquid crystal And a TFT substrate side alignment film 8 for aligning 7 molecules in a predetermined direction. As the TFT substrate side alignment film 8, the same film as the color filter substrate side alignment film 6 can be used. The TFT array 9 includes pixel electrodes (not shown) for applying a voltage corresponding to each pixel of the liquid crystal 7, TFTs arranged in an array, and the like.
バックライト12としては、例えば発光ダイオード、蛍光管といった点光源又は線光源とライトガイドとを用いて面光源を形成したもの、或いはエレクトロルミネッセンス素子による面光源などが使用される。 As the backlight 12, for example, a point light source such as a light emitting diode or a fluorescent tube or a surface light source formed by using a linear light source and a light guide, or a surface light source using an electroluminescence element is used.
駆動制御基板17は、制御用のICなどを含み、TFTアレイ9及びバックライト12と電気的に接続されており、液晶パネル15のTFTアレイ9の動作を制御することによって液晶7を駆動するとともに、バックライト12の動作も制御する。 The drive control board 17 includes a control IC and the like, and is electrically connected to the TFT array 9 and the backlight 12, and drives the liquid crystal 7 by controlling the operation of the TFT array 9 of the liquid crystal panel 15. The operation of the backlight 12 is also controlled.
以上のような液晶モジュール16において、液晶パネル15の製造時に異物混入などに起因して、液晶パネル15に輝点欠陥が発生することがある。本実施形態に係る輝点欠陥の暗点化方法は、このような輝点欠陥が発生した液晶パネル15を対象とし、液晶パネル15を構成するカラーフィルタ色材1のうち、輝点欠陥を有する画素(以下、輝点欠陥画素という)に形成されたカラーフィルタ色材などに対してレーザを照射することによって輝点欠陥画素を暗点化し、液晶パネル15上の輝点欠陥を遮蔽する。 In the liquid crystal module 16 as described above, a bright spot defect may occur in the liquid crystal panel 15 due to contamination of foreign matters during the production of the liquid crystal panel 15. The bright spot defect darkening method according to the present embodiment targets the liquid crystal panel 15 in which such a bright spot defect has occurred, and has a bright spot defect in the color filter color material 1 constituting the liquid crystal panel 15. The color filter colorant formed on the pixel (hereinafter referred to as a bright spot defective pixel) is irradiated with a laser to darken the bright spot defective pixel and shield the bright spot defect on the liquid crystal panel 15.
次に、液晶パネルの輝点欠陥の暗点化装置100について説明する。
ここで、「輝点欠陥の暗点化」とは、輝点欠陥画素を完全に黒化することだけでなく、輝点欠陥画素の光透過率をある程度低下させて画素の輝度を暗くすることによって目立ちにくくすることも含むものとする。
Next, the bright spot defect darkening device 100 of the liquid crystal panel will be described.
Here, “darkening of bright spot defects” is not only to completely darken the bright spot defective pixels, but also to reduce the light transmittance of the bright spot defective pixels to a certain extent to darken the brightness of the pixels. This also includes making it inconspicuous.
図2は、液晶パネルの輝点欠陥の暗点化装置を示す概略構成図である。
暗点化装置100は、レーザ照射・観察部18と液晶パネル設置部19とで構成される。レーザ照射・観察部18は、レーザ光の発生、整形(調整)、集光などの機能と、液晶パネル15の観察という機能とを有する。液晶パネル設置部19は、レーザ光の照射対象である液晶パネル15が設置される部分であるとともに、レーザ照射・観察部18に対して液晶パネル15を互いに略直交するX、Y方向に移動させる機能を有する。この装置100では、レーザ照射・観察部18で発生したレーザ光を、液晶パネル設置部19に設置された液晶パネル15上の輝点欠陥画素に向けて照射することによって、輝点欠陥画素のカラーフィルタ色材1などをレーザ加工して変質させる。
FIG. 2 is a schematic configuration diagram showing an apparatus for darkening a bright spot defect of a liquid crystal panel.
The dark spotting device 100 includes a laser irradiation / observation unit 18 and a liquid crystal panel installation unit 19. The laser irradiation / observation unit 18 has functions such as generation, shaping (adjustment), and focusing of laser light, and a function of observing the liquid crystal panel 15. The liquid crystal panel installation unit 19 is a part on which the liquid crystal panel 15 to be irradiated with laser light is installed, and moves the liquid crystal panel 15 in the X and Y directions substantially orthogonal to each other with respect to the laser irradiation / observation unit 18. It has a function. In this apparatus 100, the laser beam generated by the laser irradiation / observation unit 18 is irradiated toward the bright spot defective pixels on the liquid crystal panel 15 installed in the liquid crystal panel installation unit 19, thereby causing the color of the bright spot defective pixels to be increased. The filter coloring material 1 and the like are altered by laser processing.
まず、レーザ照射・観察部18について説明する。
レーザ照射・観察部18のうち、レーザ光を発生させる部分は、レーザ発振器20、レーザ駆動電源21などで構成され、レーザ駆動電源21からレーザ発振器20に電力が供給されてレーザ光が発生する。レーザ発振器20としては、固体レーザ、ガスレーザ、レーザダイオード(LD)、ファイバーレーザなどの光源を使用できる。
First, the laser irradiation / observation unit 18 will be described.
Of the laser irradiation / observation unit 18, a part that generates laser light includes a laser oscillator 20, a laser drive power supply 21, and the like, and power is supplied from the laser drive power supply 21 to the laser oscillator 20 to generate laser light. As the laser oscillator 20, a light source such as a solid-state laser, a gas laser, a laser diode (LD), or a fiber laser can be used.
レーザ照射・観察部18のうち、レーザ光を調整・集光する部分は、レーザ光調整光学系22、転写マスク23、対物レンズ24などで構成される。レーザ光調整光学系22は、球面レンズ又は円筒面レンズなどのレンズ、プリズム、回折光学素子などで構成され、レーザ光を、輝点欠陥画素の暗点化に適したビームプロファイルに調整する。 Of the laser irradiation / observation unit 18, a part for adjusting and condensing the laser beam is constituted by a laser beam adjusting optical system 22, a transfer mask 23, an objective lens 24, and the like. The laser beam adjusting optical system 22 is composed of a lens such as a spherical lens or a cylindrical lens, a prism, a diffractive optical element, and the like, and adjusts the laser beam to a beam profile suitable for dark spot of a bright spot defective pixel.
転写マスク23は、略円形、略矩形などの開口形状であり、開口の大きさを変化させる機構を有する。転写マスク23の例として、円形の場合にはアイリス絞り、矩形の場合にはスリットを使用できる。アイリス絞りでは、絞り羽の重なり具合を調整することで開口径を調整可能である。スリットは略直交する2ペアのスリット部で構成され、スリット部間の距離を調整することで開口幅を調整可能である。レーザ光調整光学系22により好適なビームプロファイルに調整されたレーザ光は、転写マスク23を通過する際に、転写マスク23の開口形状(例えば、円形、矩形など)に整形される。 The transfer mask 23 has an opening shape such as a substantially circular shape or a substantially rectangular shape, and has a mechanism for changing the size of the opening. As an example of the transfer mask 23, an iris diaphragm can be used in the case of a circle, and a slit can be used in the case of a rectangle. In the iris diaphragm, the aperture diameter can be adjusted by adjusting the overlapping degree of the diaphragm blades. The slit is composed of two pairs of slits that are substantially orthogonal, and the opening width can be adjusted by adjusting the distance between the slits. When the laser beam adjusted to a suitable beam profile by the laser beam adjusting optical system 22 passes through the transfer mask 23, it is shaped into an opening shape (for example, a circle, a rectangle, etc.) of the transfer mask 23.
対物レンズ24は、転写マスク23により整形されたレーザ光を、所定のスポットサイズで液晶パネル15上に縮小転写する。ここで、「スポットサイズ」とは、2次元的な広がりを有するレーザスポットの外形の代表的な長さであり、レーザスポットが円形の場合には直径、矩形の場合には一辺の長さとすることができる。また、加工点でのレーザ出力は、レーザ発振器20で発生するレーザ出力、加工点でのスポットサイズなどにより調整可能である。 The objective lens 24 reduces and transfers the laser beam shaped by the transfer mask 23 onto the liquid crystal panel 15 with a predetermined spot size. Here, the “spot size” is a typical length of the outer shape of a laser spot having a two-dimensional extent, and is a diameter when the laser spot is circular, or a side length when the laser spot is rectangular. be able to. The laser output at the processing point can be adjusted by the laser output generated by the laser oscillator 20, the spot size at the processing point, and the like.
液晶パネル15上でのスポットサイズは、転写マスク23の開口形状と対物レンズ24の倍率とによって決定する。例えば、転写マスク23の開口の大きさを200μm、対物レンズ24の倍率を40倍とすると、200μmを1/40倍で転写することになるため、液晶パネル15上でのスポットサイズは、200μm×1/40=5μmとなる。 The spot size on the liquid crystal panel 15 is determined by the opening shape of the transfer mask 23 and the magnification of the objective lens 24. For example, if the size of the opening of the transfer mask 23 is 200 μm and the magnification of the objective lens 24 is 40 times, 200 μm is transferred at 1/40 times, so the spot size on the liquid crystal panel 15 is 200 μm × 1/40 = 5 μm.
ここで、スポットサイズが大きすぎると、カラーフィルタ色材1などが変質せずに、カラーフィルタ基板13を破損する確率が高くなる。一方、スポットサイズが小さすぎると、輝点欠陥の遮蔽に充分な暗点化レベルを得ることができない。それゆえ、加工パラメータとして転写マスク23の開口形状を調整することによって、或いは対物レンズ24の転写倍率を変更することによって、液晶パネル15の機種、カラーフィルタ色材1の種類に応じてスポットサイズを最適化する。 Here, if the spot size is too large, the color filter color material 1 and the like are not deteriorated, and the probability of damaging the color filter substrate 13 increases. On the other hand, if the spot size is too small, it is not possible to obtain a dark spot level sufficient for shielding bright spot defects. Therefore, by adjusting the opening shape of the transfer mask 23 as a processing parameter, or by changing the transfer magnification of the objective lens 24, the spot size is adjusted according to the type of the liquid crystal panel 15 and the type of the color filter color material 1. Optimize.
レーザ照射・観察部18のうち、レーザ光を観察する部分は、ミラー25、カメラ26などで構成される。カメラ26は、例えばCCDカメラであって、特許請求の範囲の「撮像素子」の一例に相当する。液晶パネル15を照らした光の一部は、ミラー25によりカメラ26の方向に反射されて、これによりカメラ26で液晶パネル15の状態を観察できる。 Of the laser irradiation / observation unit 18, the part for observing the laser beam is constituted by a mirror 25, a camera 26, and the like. The camera 26 is a CCD camera, for example, and corresponds to an example of an “imaging device” in the claims. Part of the light that illuminates the liquid crystal panel 15 is reflected by the mirror 25 in the direction of the camera 26, so that the state of the liquid crystal panel 15 can be observed by the camera 26.
レーザ照射・観察部18には、駆動部としてアクチュエータ、モータなどを有するZステージ27が設置される。輝点欠陥画素の暗点化用のレーザ光を照射するとき、又は液晶パネル15を観察するときには、液晶パネル15にフォーカスを合わせることが必要となる。Zステージ27は、図2の上下方向へ移動可能に構成されている。これにより、レーザ照射・観察部18と液晶パネル15との間の距離が調整されてフォーカスが調整される。 The laser irradiation / observation unit 18 is provided with a Z stage 27 having an actuator, a motor and the like as a drive unit. When irradiating a laser beam for darkening a bright spot defective pixel or observing the liquid crystal panel 15, it is necessary to focus on the liquid crystal panel 15. The Z stage 27 is configured to be movable in the vertical direction in FIG. As a result, the distance between the laser irradiation / observation unit 18 and the liquid crystal panel 15 is adjusted to adjust the focus.
ここで、液晶パネル15上でのスポットサイズが数μmと小さい場合に、例えば液晶パネル15の傾きなどによって対物レンズ24と液晶パネル15との間の距離が変動したときには、カラーフィルタ色材1におけるレーザスポットの形状が変化していまい、これによりレーザ加工が不安定になる。安定した加工のためには、対物レンズ24と液晶パネル15との距離を所定値に維持することが有効である。これは例えば、後述する処理部200による画像処理により、対物レンズ24と液晶パネル15との間の距離を算出し、この距離を元に自動的にZステージ27を制御して行うことができる。 Here, when the spot size on the liquid crystal panel 15 is as small as several μm, for example, when the distance between the objective lens 24 and the liquid crystal panel 15 fluctuates due to the inclination of the liquid crystal panel 15 or the like, The shape of the laser spot changes, which makes laser processing unstable. For stable processing, it is effective to maintain the distance between the objective lens 24 and the liquid crystal panel 15 at a predetermined value. This can be done, for example, by calculating the distance between the objective lens 24 and the liquid crystal panel 15 by image processing by the processing unit 200 described later, and automatically controlling the Z stage 27 based on this distance.
次に、液晶パネル設置部19について説明する。
液晶パネル設置部19は、駆動部としてアクチュエータ、モータなどを有するXYステージ28、液晶パネル15を設置するためのパネル設置部29、XYステージ28の背面側に設置された観察用光源30などで構成される。観察用光源30としては、発光ダイオード、ランプなどを使用できる。パネル設置部29はXYステージ28の正面側に設置され、液晶パネル15に入射するレーザ光に対して略垂直な面内で略直交する2方向に移動できるようになっている。パネル設置部29は、このXYステージ28の移動により、液晶パネル15上の任意の場所にレーザ光を照射できるように位置決めされる。
Next, the liquid crystal panel installation unit 19 will be described.
The liquid crystal panel installation unit 19 includes an XY stage 28 having an actuator, a motor and the like as a drive unit, a panel installation unit 29 for installing the liquid crystal panel 15, an observation light source 30 installed on the back side of the XY stage 28, and the like. Is done. As the observation light source 30, a light emitting diode, a lamp, or the like can be used. The panel installation unit 29 is installed on the front side of the XY stage 28 and can move in two directions substantially orthogonal to each other in a plane substantially perpendicular to the laser light incident on the liquid crystal panel 15. The panel installation unit 29 is positioned so that the laser beam can be irradiated to an arbitrary place on the liquid crystal panel 15 by the movement of the XY stage 28.
なお、レーザ照射・観察部18が液晶パネル15に対して相対的に移動すれば、パネル設置部29の位置決めを行うことができるので、XYステージ28でなくレーザ照射・観察部18側がX、Y方向に移動できるように構成されてもよい。 If the laser irradiation / observation unit 18 moves relative to the liquid crystal panel 15, the panel installation unit 29 can be positioned. Therefore, the laser irradiation / observation unit 18 side is not the XY stage 28 but the X, Y You may be comprised so that it can move to a direction.
また、パネル設置部29には透過穴31が設けられており、観察用光源30から出射された光は透過穴31を通って液晶パネル15に照射され、これにより加工中の液晶パネル15を観察できるようになっている。この出射された光は、レーザ照射・観察部18の対物レンズ24に併設されたカメラ26により観察できる。また、観察用光源30から出射された光を集光するために、光源30とパネル設置部29との間に集光レンズなどが設けられることが好ましい。 Further, the panel installation portion 29 is provided with a transmission hole 31, and light emitted from the observation light source 30 is irradiated to the liquid crystal panel 15 through the transmission hole 31, thereby observing the liquid crystal panel 15 being processed. It can be done. The emitted light can be observed by a camera 26 provided in the objective lens 24 of the laser irradiation / observation unit 18. In order to condense the light emitted from the observation light source 30, it is preferable to provide a condensing lens or the like between the light source 30 and the panel installation part 29.
以上の構成に加えて、暗点化装置100は、CPU(中央演算装置)と、メモリと、マウス又はタッチパネルなどの入力部とを有する処理部200を備える。処理部200は、ケーブルでカメラ26に接続され、Zステージ27及びXYステージ28の駆動部に、それぞれ図示しないA/D変換器を介してケーブルで接続されている。 In addition to the above configuration, the dark spotting device 100 includes a processing unit 200 having a CPU (Central Processing Unit), a memory, and an input unit such as a mouse or a touch panel. The processing unit 200 is connected to the camera 26 by a cable, and is connected to the driving units of the Z stage 27 and the XY stage 28 by cables via A / D converters (not shown).
処理部200は、カメラ26により撮影された画像を処理して画素毎の輝度値、及び一画素内での輝度値の分布を算出する画像処理手段210と、レーザスポットの走査経路を自動生成する走査経路生成手段220とを有する。画像処理手段210は、撮影された画像を基に、例えば画素のサイズをリファレンスとして対物レンズ24と液晶パネル15との間の距離を算出する機能も有する。 The processing unit 200 automatically generates an image processing unit 210 that processes an image captured by the camera 26 and calculates a luminance value for each pixel and a luminance value distribution within one pixel, and a scanning path of the laser spot. Scanning path generation means 220. The image processing unit 210 also has a function of calculating the distance between the objective lens 24 and the liquid crystal panel 15 based on the captured image, for example, using the pixel size as a reference.
さらに、処理部200は、画像処理手段210により算出された画素毎の輝度値、又は一画素内での輝度値の分布の算出結果、或いは自動生成された走査経路に応じて、XYステージ28の駆動部に制御信号を送信できるようになっている。同様に、画像処理手段210により算出された対物レンズ24と液晶パネル15との間の距離が所定値となるように、Zステージ27の駆動部に制御信号を送信できるようになっている。 Further, the processing unit 200 determines the luminance value of each pixel calculated by the image processing unit 210, the calculation result of the distribution of the luminance value within one pixel, or the automatically generated scanning path. A control signal can be transmitted to the drive unit. Similarly, a control signal can be transmitted to the drive unit of the Z stage 27 so that the distance between the objective lens 24 calculated by the image processing unit 210 and the liquid crystal panel 15 becomes a predetermined value.
続いて、輝点欠陥画素の暗点化方法について説明する。 Next, a method for darkening a bright spot defective pixel will be described.
ここで、暗点化対象となる領域は、液晶パネル15の画素、又は画素の一部であり、一辺が数十μm〜数百μmの矩形、又は矩形に近い形状である。レーザ照射により変質するのは、液晶パネル15のカラーフィルタ色材1、配向膜6、8などである。これらは厚みが数μm以下の薄膜である。レーザ光を照射すると、これらの薄膜はレーザ光を吸収して加熱され、熱変性して暗点化する。ただし、これらの薄膜すべてが熱変性する必要はなく、少なくとも1つが熱変性して光透過率が低下すればよい。 Here, the region to be darkened is a pixel of the liquid crystal panel 15 or a part of the pixel, and has a rectangle with one side of several tens to several hundreds of μm or a shape close to a rectangle. It is the color filter color material 1 and the alignment films 6 and 8 of the liquid crystal panel 15 that are altered by laser irradiation. These are thin films having a thickness of several μm or less. When the laser beam is irradiated, these thin films absorb the laser beam and are heated, and are thermally denatured to become dark spots. However, it is not necessary for all of these thin films to be heat-denatured, and it is sufficient that at least one of them is heat-denatured to reduce the light transmittance.
このような薄膜のレーザ加工においては、加工点でのレーザ出力が大きすぎると、レーザ照射による急加熱により、急激な熱膨張により薄膜に対する応力が発生し、当該薄膜が破損するおそれがある。このように、液晶パネル中でカラーフィルタ色材1などが破損すると、液晶中に不純物、異物が散乱され、暗点化した画素の周辺の画素で新たな欠陥が生じる。 In laser processing of such a thin film, if the laser output at the processing point is too large, rapid heating due to laser irradiation may cause stress on the thin film due to rapid thermal expansion, and the thin film may be damaged. As described above, when the color filter color material 1 or the like is damaged in the liquid crystal panel, impurities and foreign matters are scattered in the liquid crystal, and new defects are generated in pixels around the darkened pixels.
一方で、加工点でのレーザ出力を小さくすると、薄膜の破損を抑制できるが、レーザ出力が小さすぎる場合には、暗点化対象の薄膜に与えるエネルギーが不足し、輝点欠陥を遮蔽するのに充分な暗点化度合いを得ることができない。 On the other hand, if the laser output at the processing point is reduced, damage to the thin film can be suppressed. However, if the laser output is too small, the energy applied to the thin film to be darkened is insufficient, and the bright spot defects are shielded. It is not possible to obtain a sufficient dark spot level.
それゆえ、薄膜の破損を抑制しつつ充分な暗点化度合いを得るためには、加工点でのレーザ出力、及び加工点でのスポットサイズを最適化する必要がある。この実施形態において、加工点でのスポットサイズは、数μm〜数十μm程度が最適である。当該スポットサイズを有するレーザスポットを用いて、一辺が数十μm〜数百μmの輝点欠陥画素内を隙間無く暗点化するために、本実施形態ではレーザスポットを液晶パネルに対して相対的に走査する。 Therefore, in order to obtain a sufficient degree of dark spot while suppressing damage to the thin film, it is necessary to optimize the laser output at the processing point and the spot size at the processing point. In this embodiment, the optimum spot size at the processing point is about several μm to several tens of μm. In order to darken a bright spot defect pixel with a side of several tens of μm to several hundreds of μm without gaps using a laser spot having the spot size, in the present embodiment, the laser spot is relative to the liquid crystal panel. To scan.
上記の通り、輝点欠陥画素の暗点化は、レーザ照射による温度上昇でカラーフィルタ色材1などが熱変性し黒化することに起因する。ところで、暗点化中若しくは暗点化後に、暗点化対象となる領域中に、局所的に暗点化度合いが低い低暗点化度領域が発生することがある。この現象は、画素の面積が大きく、したがって暗点化対象となる領域の面積が大きい場合に特に顕著となる。低暗点化度領域では、光の透過率が高いので、暗点化対象となる領域の面積に対して所定の割合以上で低暗点化度領域が発生すると、輝点欠陥を充分に遮蔽することができず、したがってレーザリペアの失敗につながる。 As described above, the dark spot of the bright spot defective pixel is caused by the color filter color material 1 and the like being thermally denatured and blackened due to a temperature rise due to laser irradiation. By the way, a low dark spot degree region having a low dark spot degree may occur locally in a region to be dark spotted during or after dark spotting. This phenomenon is particularly noticeable when the area of the pixel is large and, therefore, the area of the region to be darkened is large. Since the light transmittance is high in the low dark spot area, if the low dark spot area occurs at a predetermined ratio or more with respect to the area of the dark spot target area, the bright spot defect is sufficiently shielded. Cannot be done, thus leading to laser repair failure.
本発明者の調査により、上記低暗点化度領域では、薄膜中で黒化した物質(以下、黒化物)が薄くなっていることが判った。これは、レーザ照射による加熱で暗点化した物質が冷却され収縮する際に、局所的に黒化物が薄くなるためであると考えられる。 According to the investigation by the present inventor, it has been found that the material darkened in the thin film (hereinafter, blackened material) is thinned in the low dark spot region. This is considered to be because the darkened material is locally thinned when the material darkened by heating by laser irradiation is cooled and contracts.
それゆえ、本発明は、レーザ照射によるカラーフィルタ色材1などの変質の際に発生する、局所的な低暗点化度領域の発生を抑制し、レーザリペアの成功確率を高めるためになされたものである。 Therefore, the present invention has been made in order to suppress the occurrence of a local low dark spot region, which occurs when the color filter color material 1 and the like are deteriorated by laser irradiation, and to increase the success probability of laser repair. Is.
以上の考察に基づいて、輝点欠陥画素の暗点化方法に含まれる各工程について説明する。
まず、XYステージ28上に液晶パネル15を設置する。このとき、観察用光源30から出射される観察光が液晶パネル15に照射されるように、XYステージ28の透過穴31の上に液晶パネル15を設置する。
Based on the above consideration, each process included in the dark spot darkening method of the bright spot defective pixel will be described.
First, the liquid crystal panel 15 is installed on the XY stage 28. At this time, the liquid crystal panel 15 is installed on the transmission hole 31 of the XY stage 28 so that the observation light emitted from the observation light source 30 is irradiated onto the liquid crystal panel 15.
次に、液晶パネル駆動制御装置17から液晶パネル15へ全黒表示の信号を送って液晶パネル15を全黒表示状態とする。このように、液晶パネル15を観察するときは、全黒表示にすることが好ましい。全黒表示にすることによって、輝点欠陥以外の部分は黒表示となる一方で、輝点欠陥の部分では観察用光源30から出射された観察光が漏れて輝点となり、輝点欠陥として判別がしやすくなる。 Next, an all black display signal is sent from the liquid crystal panel drive control device 17 to the liquid crystal panel 15 to place the liquid crystal panel 15 in an all black display state. Thus, when observing the liquid crystal panel 15, it is preferable to display all black. By displaying all black, the portion other than the bright spot defect is displayed in black, while in the bright spot defect portion, the observation light emitted from the observation light source 30 leaks to become a bright spot, and is determined as a bright spot defect. It becomes easy to do.
次に、観察用光源30から観察光を液晶パネル15へ照射し、液晶パネル15から漏れた光をカメラ26で受光して液晶パネル15の輝点欠陥を観察する。次に、XYステージ28を移動させ、液晶パネル15の暗点化対象画素40(図3を参照)に向けてレーザ光を照射できるように位置決めする。 Next, the observation light source 30 emits observation light to the liquid crystal panel 15, and the light leaking from the liquid crystal panel 15 is received by the camera 26 to observe the bright spot defect of the liquid crystal panel 15. Next, the XY stage 28 is moved and positioned so that laser light can be irradiated toward the dark spot target pixel 40 (see FIG. 3) of the liquid crystal panel 15.
次に、レーザ照射工程を実施する。ここで、液晶パネル15のカラーフィルタ基板側偏光板2及びTFT基板側偏光板10を貼り付けた状態で、レーザ照射による暗点化処理を実施できれば、レーザリペアの救済効果が大きくなる。しかし、レーザ照射での偏光板の損傷が裂けられない、或いは暗点化対象の観察が難しいなどの場合には、片方、又は両方の偏光板を除去してから暗点化処理を実施してもよい。 Next, a laser irradiation process is performed. Here, if the dark spot processing by laser irradiation can be performed in a state where the color filter substrate side polarizing plate 2 and the TFT substrate side polarizing plate 10 of the liquid crystal panel 15 are attached, the repair effect of laser repair is increased. However, if the damage to the polarizing plate due to laser irradiation is not torn or it is difficult to observe the dark spot object, remove one or both polarizing plates and perform the dark spot treatment. Also good.
図3は、レーザ照射工程のフローを示す説明図である。図3(A),(B)は、暗点化工程前後の暗点化対象画素を、図3(C),(D)は、均一化工程前後の暗点化対象画素を示す。また、図3の(a)は暗点化対象画素を液晶パネルの主面側から見た平面図を、(b)は(a)のc−c’線断面図を示す。なお、図3ではカラーフィルタ色材1のみが黒化した場合について示している。 FIG. 3 is an explanatory diagram showing a flow of the laser irradiation process. 3A and 3B show the dark spot target pixels before and after the dark spotting process, and FIGS. 3C and 3D show the dark spot target pixels before and after the uniformization process. 3A is a plan view of the darkening target pixel viewed from the main surface side of the liquid crystal panel, and FIG. 3B is a cross-sectional view taken along the line c-c ′ in FIG. FIG. 3 shows a case where only the color filter color material 1 is blackened.
本実施形態による暗点化方法は、レーザ照射工程として、レーザ照射によりカラーフィルタ色材1などの薄膜中の物質を熱変性させて黒化させ、暗点化対象となる領域を暗点化する暗点化工程と、黒化物の厚みを均一化する均一化工程という2つの工程を含む。均一化工程は、必要に応じて2回以上実施する。暗点化工程、均一化工程は、それぞれ特許請求の範囲の「第1レーザ照射工程」「第2レーザ照射工程」に相当する。 In the dark spotting method according to the present embodiment, as a laser irradiation step, a substance in a thin film such as the color filter color material 1 is thermally denatured by laser irradiation to blacken, and a dark spot target area is darkened. It includes two processes, a dark spot process and a uniform process for making the thickness of the blackened material uniform. The homogenization step is performed twice or more as necessary. The dark spot forming step and the uniformizing step correspond to “first laser irradiation step” and “second laser irradiation step” in the claims, respectively.
まず、暗点化工程について説明する。
暗点化工程では、図3(A)に矢印で示す走査経路に従って、レーザ光を走査しながら照射する。レーザ発振器20から出射されたレーザ光は、レーザビーム調整光学系22、転写マスク23、対物レンズ24を通して整形、集光され液晶パネル15上の暗点化対象画素(輝点欠陥画素)40に向けて照射される。これによりカラーフィルタ基板13の一部を変質させ、光透過率を低下させることによって、輝点欠陥を暗点化する。
First, the dark spot forming step will be described.
In the dark spotting step, the laser beam is irradiated while scanning along the scanning path indicated by the arrow in FIG. The laser light emitted from the laser oscillator 20 is shaped and condensed through the laser beam adjusting optical system 22, the transfer mask 23, and the objective lens 24, and directed toward the dark spot target pixel (bright spot defect pixel) 40 on the liquid crystal panel 15. Is irradiated. As a result, a part of the color filter substrate 13 is altered to reduce the light transmittance, thereby darkening the bright spot defect.
また、レーザ光の走査は、液晶パネル15が設置されたパネル設置部29のXYステージ28を駆動することによって実施する。レーザ照射・観察部18側がX、Y方向に移動できるように構成された場合には、レーザ照射・観察部18側をX、Y方向に移動させて走査を実施してもよい。 The laser beam scanning is performed by driving the XY stage 28 of the panel installation unit 29 on which the liquid crystal panel 15 is installed. When the laser irradiation / observation unit 18 side can be moved in the X and Y directions, scanning may be performed by moving the laser irradiation / observation unit 18 side in the X and Y directions.
この暗点化工程では、暗点化対象となる領域において隙間無くレーザスポットを走査することが必要である。図3(A)に示すように、暗点化対象画素40の一角部から走査経路に沿ってジグザグ状に隙間なくレーザスポットを往復走査し、加工開始点の近くの角部とは異なる角部に到達した時点で走査を終了する。なお、この走査経路は図3(A)に示したものには限られず、暗点化対象となる領域を隙間無く走査する経路であれば、どのような経路でもよい。また、図3(A)ではレーザスポットを正方形領域としているが、長方形領域などでもよい。 In this dark spotting step, it is necessary to scan the laser spot without any gap in the area to be dark spotted. As shown in FIG. 3A, the laser spot is scanned back and forth in a zigzag manner along the scanning path from one corner of the dark spot target pixel 40, and the corner is different from the corner near the processing start point. The scanning is terminated when reaching. This scanning path is not limited to that shown in FIG. 3A, and any path may be used as long as it scans the area to be darkened without gaps. In FIG. 3A, the laser spot is a square region, but a rectangular region or the like may be used.
スポットサイズは、カラーフィルタ色材1、配向膜6,8などの薄膜の破損を抑制するために、比較的小さいことが望ましく、例示的には3μmである。 The spot size is desirably relatively small in order to suppress damage to thin films such as the color filter color material 1 and the alignment films 6 and 8, and is illustratively 3 μm.
暗点化工程では、暗点化領域の周辺への熱影響を低減しつつ暗点化に必要なカラーフィルタ色材1などの温度上昇を得るために、レーザ光を連続(CW: Continuous Wave)発振又は準連続(QCW: Quasi-Continuous Wave)発振させることが有効である。特に、準連続発振とすることで、暗点化領域周辺への熱影響を低減することが可能である。 In the dark spotting process, the laser light is continuously used (CW: Continuous Wave) to reduce the thermal effect on the surroundings of the dark spot area and obtain the temperature rise of the color filter colorant 1 and the like necessary for dark spotting. It is effective to generate oscillation or quasi-continuous wave (QCW). In particular, by using quasi-continuous oscillation, it is possible to reduce the thermal influence around the dark spot region.
次に、均一化工程について説明する。
暗点化工程後には、図3(B)に示すように、黒化物の厚みが不均一になり、局所的に低暗点化度領域42が発生することがある。そこで、暗点化工程に続いて均一化工程を実施し、再度のレーザ照射により黒化物の厚みを均一化する。ただし、暗点化工程においては、カラーフィルタ色材1などの薄膜の熱変性のために、当該薄膜などの充分な温度上昇が必要であったところ、均一化工程では、レーザ照射による当該薄膜の温度上昇でなく、生じた黒化物の移動が必要となる。それゆえ、均一化工程では、暗点化工程とは異なるレーザ加工条件でレーザ照射を実施する。
Next, the uniformizing process will be described.
After the dark spotting step, as shown in FIG. 3B, the thickness of the blackened material becomes non-uniform, and a low dark spot level region 42 may be generated locally. Therefore, the darkening process is followed by a homogenization process, and the thickness of the blackened material is made uniform by laser irradiation again. However, in the dark spot forming step, a sufficient temperature increase of the thin film or the like was necessary for the thermal denaturation of the thin film such as the color filter coloring material 1, but in the uniformizing step, the thin film was irradiated by laser irradiation. It is necessary not to increase the temperature but to move the resulting blackened material. Therefore, in the uniformizing process, laser irradiation is performed under laser processing conditions different from those in the dark spot forming process.
「レーザ加工条件」とは、加工点でのレーザ出力、レーザパルス波形、レーザ波長、レーザスポット形状(スポットサイズを含む)、走査経路、走査速度などである。暗点化工程でのレーザ加工条件を考慮し、黒化物の移動が好適に生じるように均一化工程でレーザ加工条件を選択する。 “Laser processing conditions” include laser output at a processing point, laser pulse waveform, laser wavelength, laser spot shape (including spot size), scanning path, scanning speed, and the like. In consideration of the laser processing conditions in the dark spotting process, the laser processing conditions are selected in the homogenizing process so that the movement of the blackened material occurs appropriately.
例えば、均一化工程では、好ましくはパルスレーザを使用する。したがって、レーザピーク出力が高く、レーザ平均出力が低い条件が最適となる傾向がある。こうした高ピーク出力、低平均出力のレーザ光を得るために、例えばLD、Qスイッチレーザ、モードロックレーザなどを使用できる。特に、Qスイッチレーザは、レーザ光の周波数を比較的自由に調整でき、高ピーク出力で低平均出力のレーザ光を得ることが容易である。これらのように、レーザ平均出力が低く、レーザピーク出力の高いレーザ光で加工することで、熱影響を抑制しつつ効率的に黒化物の厚みを均一化することが可能である。 For example, a pulsed laser is preferably used in the homogenization process. Therefore, conditions where the laser peak output is high and the laser average output is low tend to be optimal. In order to obtain such high peak output and low average output laser light, for example, LD, Q-switched laser, mode-locked laser, etc. can be used. In particular, the Q-switched laser can adjust the frequency of laser light relatively freely, and it is easy to obtain laser light with high peak output and low average output. As described above, by processing with laser light having a low laser average output and a high laser peak output, it is possible to efficiently uniformize the thickness of the blackened product while suppressing the thermal effect.
また、均一化工程においては、より効率的な均一化のために、暗点化工程と比較して大きなスポットサイズが最適となる。ただし、暗点化工程と同様、スポットサイズが大きすぎるとカラーフィルタ色材1、配向膜6,8などの薄膜破損の原因となる。したがって、図3(C)に示すような異方性の高い長方形領域、例えば2μm×10μmなどのレーザスポットを用いることで、効率的な均一化と薄膜破損の抑制とを両立することができる。 Further, in the homogenization process, a larger spot size is optimal compared to the dark spotting process for more efficient homogenization. However, as in the dark spotting step, if the spot size is too large, the color filter color material 1, the alignment films 6 and 8, and the like may be damaged. Therefore, by using a highly anisotropic rectangular region as shown in FIG. 3C, for example, a laser spot of 2 μm × 10 μm or the like, both efficient uniformization and suppression of damage to the thin film can be achieved.
また、均一化工程でも暗点化工程での走査経路と同様に、暗点化対象画素40全体に隙間無くレーザ照射を実施すれば、黒化物が薄い領域がどこに発生するかによらず、黒化物の厚みを均一化できる。しかし、均一化工程において加工対象となる領域は、黒化物が薄くなった領域の周辺であるところ、暗点化工程において黒化物が薄くなりやすい領域は、走査経路、レーザスポット、液晶パネル15の構成などにより、ある程度予想できる。 In addition, as in the scanning process in the darkening process even in the uniformization process, if laser irradiation is performed on the entire dark spotting target pixel 40 without a gap, the blackening object is black regardless of where the thinned area is generated. The thickness of the compound can be made uniform. However, the area to be processed in the homogenization process is around the area where the blackened material is thinned, and the area where the blackened material tends to be thinned in the darkening process is the scanning path, the laser spot, and the liquid crystal panel 15. It can be predicted to some extent depending on the configuration.
そこで、例えば暗点化工程の前に、上記の暗点化工程において黒化物が薄くなりやすい領域を予め処理部に入力しておき、走査経路生成手段220により走査経路を生成する。そして、図3(C)に矢印で示すような生成された走査経路に従って、当該領域の周辺のみでレーザスポットを走査する。均一化工程でのレーザ照射を暗点化領域の一部分のみにとどめることで、加工時間を短縮させて生産性を向上させることができ、更には余分な熱を印加することによるレーザリペアの失敗を抑制できる。 Therefore, for example, before the dark spotting process, an area where the blackened material is likely to become thin in the dark spotting process is input to the processing unit in advance, and the scanning path generation unit 220 generates the scanning path. Then, the laser spot is scanned only around the area in accordance with the generated scanning path as indicated by an arrow in FIG. By limiting the laser irradiation in the uniformization process to only a part of the dark spot area, the processing time can be shortened and productivity can be improved.Furthermore, laser repair failure due to application of excess heat can be avoided. Can be suppressed.
以上、本実施形態1によれば、暗点化工程に加えて、暗点化工程とは異なるレーザ加工条件の下で均一化工程を実施することにより、確実に液晶パネル15の輝点欠陥を暗点化することができる。 As described above, according to the first embodiment, in addition to the dark spotting process, the bright spot defects of the liquid crystal panel 15 are surely eliminated by performing the uniformizing process under the laser processing conditions different from the dark spotting process. Can darken.
図4は、本発明の実施の形態1による液晶パネルの変形例を示す部分概略断面図である。
図4の構成は、カラーフィルタ色材1の液晶7側にオーバーコート(保護膜)50が設けられている点で、図1の構成と異なる。オーバーコート50には、例えばアクリル系の樹脂が用いられる。
FIG. 4 is a partial schematic cross-sectional view showing a modification of the liquid crystal panel according to Embodiment 1 of the present invention.
The configuration of FIG. 4 is different from the configuration of FIG. 1 in that an overcoat (protective film) 50 is provided on the liquid crystal 7 side of the color filter color material 1. For the overcoat 50, for example, an acrylic resin is used.
上記の通り、例えば加工点でのレーザ出力が大きすぎると、薄膜が破損するおそれがある。このように液晶パネル15中で薄膜が破損すると、液晶7中に不純物、異物が散乱され、暗点化した画素の周辺の画素で新たな欠陥が生じるおそれがある。 As described above, for example, if the laser output at the processing point is too large, the thin film may be damaged. When the thin film is broken in the liquid crystal panel 15 in this way, impurities and foreign matters are scattered in the liquid crystal 7 and there is a possibility that a new defect may occur in the pixels around the darkened pixels.
この変形例のように、オーバーコート50が設けられた液晶パネル15では、黒化したカラーフィルタ色材1がオーバーコート50の内部に閉じ込められるため、不純物、異物の拡散を防止でき、この現象に起因するレーザリペアの失敗確率が相対的に低くなる。したがって、本発明をこの変形例に係る液晶パネルに対して適用することにより、レーザリペアの成功確率を高める効果がより顕著に現れることになる。 As in this modification, in the liquid crystal panel 15 provided with the overcoat 50, the blackened color filter color material 1 is confined in the overcoat 50, so that diffusion of impurities and foreign matters can be prevented. The failure probability of the resulting laser repair is relatively low. Therefore, by applying the present invention to the liquid crystal panel according to this modified example, the effect of increasing the success probability of laser repair appears more remarkably.
実施の形態2.
以下では、実施形態1と異なる点についてのみ説明する。
実施形態1では、暗点化工程の結果によらず、事前に均一化工程の走査経路を生成したが、本実施形態2では、暗点化工程の結果に応じて当該走査経路を生成する。また、当該走査経路の生成のために、暗点化対象画素40中で黒化物が薄く、したがって暗点化工程による光透過率の低下の度合いが小さい領域、即ち低暗点化度領域を検出する工程を実施する。
Embodiment 2. FIG.
Hereinafter, only differences from the first embodiment will be described.
In the first embodiment, the scanning path of the uniformization process is generated in advance regardless of the result of the dark spotting process. In the second embodiment, the scanning path is generated according to the result of the dark spotting process. Further, in order to generate the scanning path, a darkened object is thin in the darkening target pixel 40, and accordingly, an area where the degree of decrease in light transmittance due to the darkening process is small, that is, a low darkening degree area is detected. The process to perform is implemented.
ここで、実施形態1では、均一化工程において、黒化物が薄くなりやすい場所の周辺に対してのみ均一化工程を実施した。しかし、液晶パネルの機種、暗点化工程のレーザ加工条件によっては、黒化物が薄くなりやすい特定の場所が存在せず、暗点化領域のどこで黒化物が薄くなるかが暗点化工程の前に判明しないことがある。このとき、実施形態1で説明したように暗点化対象画素40全体に向けて隙間無くレーザ照射を実施することも考えられるが、加工時間が長くなるという問題がある。そこで、本実施形態2では、このように低暗点化度領域がランダムに発生する場合においても、効率的に均一化工程を実施できるようにしている。 Here, in Embodiment 1, in the homogenization process, the homogenization process was performed only on the periphery of the place where the blackened product tends to be thin. However, depending on the LCD panel model and the laser processing conditions of the dark spot process, there is no specific place where the blackened product is likely to be thinned. It may not be known before. At this time, as described in the first embodiment, it is conceivable to perform laser irradiation with no gap toward the entire dark spot target pixel 40, but there is a problem that the processing time becomes long. Therefore, in the second embodiment, even in the case where the low dark spot degree region is randomly generated as described above, the uniformization process can be performed efficiently.
まず、処理部200において、当該領域を含む均一化工程実施領域60を指定する。均一化工程実施領域60は、例えば長方形又は楕円形の組み合わせで構成される。例えば、オペレータが暗点化対象画素40の観察画像上で低暗点化度領域を認識(手動検出)し、認識した当該領域の位置を処理部200の入力部に、例えばマウスを用いてポインタを操作し、又はタッチパネル上でタッチ操作して入力することにより、当該指定を行う。 First, in the processing unit 200, a uniformization process execution region 60 including the region is specified. The uniformization process execution area | region 60 is comprised by the combination of a rectangle or an ellipse, for example. For example, the operator recognizes (manually detects) a low dark spot degree area on the observation image of the dark spot target pixel 40, and the position of the recognized area is pointed to the input unit of the processing unit 200 using, for example, a mouse. Or by performing a touch operation on the touch panel for input.
或いは、処理部200の画像処理手段210により、輝度値が一定値未満の領域(低暗点化度領域)を自動検出し、検出された当該領域を長方形又は楕円の組み合わせで自動的に近似するようにしてもよい。 Alternatively, the image processing unit 210 of the processing unit 200 automatically detects a region where the luminance value is less than a certain value (low dark spot region), and automatically approximates the detected region with a combination of a rectangle or an ellipse. You may do it.
以上のように均一化工程実施領域60を指定した後、走査経路生成手段220により、レーザスポットの走査経路を生成する。 After designating the uniformization process execution region 60 as described above, the scanning path generation unit 220 generates a scanning path for the laser spot.
図5は、本発明の実施の形態2による、レーザスポットの走査経路の生成方法の説明図を示す。図5に示す矢印は、自動生成された走査経路を表す。黒化物の厚みを好適に均一化するために、図5に示すような、ジグザグ状に隙間なく往復走査する走査経路を生成することが好ましい。ジグザグのなす角度は基本的に90度であるが、図5中に符号Xで示したように、均一化工程実施領域60において例えば長方形の領域に重なりが生じたときは、適宜角度を変更して走査経路を生成する。 FIG. 5 is an explanatory diagram of a method for generating a scanning path of a laser spot according to the second embodiment of the present invention. The arrows shown in FIG. 5 represent automatically generated scanning paths. In order to suitably equalize the thickness of the blackened material, it is preferable to generate a scanning path that reciprocally scans in a zigzag manner without gaps as shown in FIG. The angle formed by the zigzag is basically 90 degrees. However, as shown by the symbol X in FIG. 5, for example, when an overlap occurs in a rectangular area in the uniformization process execution area 60, the angle is appropriately changed. To generate a scanning path.
以上、本実施形態2によれば、暗点化工程後に低暗点化度領域を検出し、かつ検出した当該領域を基に走査経路を生成することにより、低暗点化度領域がランダムに発生し、暗点化工程の前に暗点化対象画素40にて黒化物が薄くなりやすい領域を予想することが困難な場合にも、加工時間の短縮を図りつつ確実に液晶パネル15の輝点欠陥を暗点化することができる。 As described above, according to the second embodiment, after the dark spotting step, the low dark spot degree area is detected, and the scan path is generated based on the detected area, thereby making the low dark spot degree area randomly. Even when it is difficult to predict a region where the blackened material is likely to be thinned in the dark spot target pixel 40 before the dark spot process, the brightness of the liquid crystal panel 15 is surely reduced while shortening the processing time. Point defects can be darkened.
なお、実施形態2で説明したように、均一化工程での低暗点化度領域の検出は、オペレータが認識することにより行われるだけでなく、処理部200の画像処理手段210による輝度値の分布の算出により自動で行うことができる。これを、実施形態1で説明した、暗点化工程におけるXYステージ28の位置決めに適用してもよい。つまり、画像処理手段210により画素毎の輝度を算出し、輝度値が一定値未満の画素を暗点化対象画素40として、XYステージ28を位置決めすることができる。 As described in the second embodiment, the detection of the low dark spot degree region in the uniformizing process is not only performed by the operator's recognition, but also the luminance value by the image processing unit 210 of the processing unit 200. This can be done automatically by calculating the distribution. This may be applied to the positioning of the XY stage 28 in the darkening process described in the first embodiment. That is, the luminance of each pixel is calculated by the image processing unit 210, and the XY stage 28 can be positioned with the pixel having a luminance value less than a certain value as the dark spot target pixel 40.
1 カラーフィルタ色材、 2 カラーフィルタ基板側偏光板、 3 カラーフィルタ基板側ガラス基板、 4 ブラックマトリックス、 5 対向電極、 6 カラーフィルタ基板側配向膜、 7 液晶、 8 TFT基板側配向膜、 9 TFTアレイ、 10 TFT基板側ガラス基板、 11 TFT基板側偏光板、 12 バックライト、 13 カラーフィルタ基板、 14 TFT基板、 15 液晶パネル、 16 液晶モジュール、 17 液晶パネル駆動制御装置、 18 レーザ照射・観察部、 19 液晶パネル設置部、 20 レーザ発振器、 21 レーザ駆動電源、 22 レーザ光調整光学系、 23 転写マスク、 24 対物レンズ、 25 ミラー、 26 カメラ、 27 Zステージ、 28 XYステージ、 29 パネル設置部、 30 観察用光源、 31 透過穴、 40 暗点化対象画素、 41 レーザスポット、 42 低暗点化度領域、 43 黒化物、 50 オーバーコート、 60 均一化工程実施領域、 61 自動生成された走査経路、 100 暗点化装置、 200 処理部、 210 画像処理手段、 220 走査経路生成手段。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Color filter color material, 2 Color filter substrate side polarizing plate, 3 Color filter substrate side glass substrate, 4 Black matrix, 5 Counter electrode, 6 Color filter substrate side orientation film, 7 Liquid crystal, 8 TFT substrate side orientation film, 9 TFT Array, 10 TFT substrate side glass substrate, 11 TFT substrate side polarizing plate, 12 backlight, 13 color filter substrate, 14 TFT substrate, 15 liquid crystal panel, 16 liquid crystal module, 17 liquid crystal panel drive control device, 18 laser irradiation / observation unit 19 liquid crystal panel installation section, 20 laser oscillator, 21 laser drive power supply, 22 laser light adjusting optical system, 23 transfer mask, 24 objective lens, 25 mirror, 26 camera, 27 Z stage, 28 XY stage, 29 panel installation section,0 observation light source, 31 transmission hole, 40 dark spot target pixel, 41 laser spot, 42 low dark spot area, 43 blackened product, 50 overcoat, 60 uniformization process execution area, 61 automatically generated scanning path , 100 dark spotting device, 200 processing unit, 210 image processing means, 220 scanning path generation means.
Claims (5)
各画素に対応した画素電極を駆動するための薄膜トランジスタアレイ基板と、
カラーフィルタ基板と薄膜トランジスタアレイ基板との間に封入された液晶とを備えた液晶パネルの輝点欠陥の暗点化方法であって、
輝点欠陥を有する輝点欠陥画素に向けて該輝点欠陥画素よりも小さいスポットサイズでレーザ光を照射し、少なくとも前記カラーフィルタ基板の一部を変質させて光透過率を低下させる第1レーザ照射工程と、
前記輝点欠陥画素に向けて、第1レーザ照射工程と比較して、時間的な特性として平均出力が低く時間的な特性としてピーク出力の高いレーザ光を照射し、第1レーザ照射工程で変質させた領域の厚みを均一化する第2レーザ照射工程とを含み、
第1レーザ照射工程及び第2レーザ照射工程では、レーザ光を液晶パネルに対して相対的に移動させて、前記輝点欠陥画素内でレーザ光を走査することを特徴とする、液晶パネルの輝点欠陥の暗点化方法。 A color filter substrate in which a plurality of pixels are arranged;
A thin film transistor array substrate for driving a pixel electrode corresponding to each pixel;
A method of darkening a bright spot defect of a liquid crystal panel comprising a liquid crystal sealed between a color filter substrate and a thin film transistor array substrate,
A first laser that irradiates a luminescent spot defective pixel having a luminescent spot defect with a laser beam with a spot size smaller than that of the luminescent spot defective pixel and alters at least a part of the color filter substrate to reduce light transmittance. Irradiation process;
Compared with the first laser irradiation process, the bright spot defect pixel is irradiated with laser light having a low average output as a temporal characteristic and a high peak output as a temporal characteristic, and is altered in the first laser irradiation process. A second laser irradiation step for making the thickness of the region made uniform,
In the first laser irradiation step and the second laser irradiation step, the laser beam is moved relative to the liquid crystal panel, and the laser beam is scanned within the bright spot defective pixels. A method for darkening point defects.
各画素に対応した画素電極を駆動するための薄膜トランジスタアレイ基板と、
カラーフィルタ基板と薄膜トランジスタアレイ基板との間に封入された液晶とを備えた液晶パネルの輝点欠陥の暗点化方法であって、
輝点欠陥を有する輝点欠陥画素に向けて該輝点欠陥画素よりも小さいスポットサイズでレーザ光を照射し、少なくとも前記カラーフィルタ基板の一部を変質させて光透過率を低下させる第1レーザ照射工程と、
前記輝点欠陥画素に向けて第1レーザ照射工程と異なるレーザ加工条件でレーザ光を照射し、第1レーザ照射工程で変質させた領域の厚みを均一化する第2レーザ照射工程と、
第2レーザ照射工程におけるレーザ光の走査経路を生成するために、第1レーザ照射工程後に、前記輝点欠陥画素において光透過率の低下の度合いが小さい領域を検出する低暗点化度領域検出工程とを含み、
第1レーザ照射工程及び第2レーザ照射工程では、レーザ光を液晶パネルに対して相対的に移動させて、前記輝点欠陥画素内でレーザ光を走査することを特徴とする、液晶パネルの輝点欠陥の暗点化方法。 A color filter substrate in which a plurality of pixels are arranged;
A thin film transistor array substrate for driving a pixel electrode corresponding to each pixel;
A method of darkening a bright spot defect of a liquid crystal panel comprising a liquid crystal sealed between a color filter substrate and a thin film transistor array substrate,
A first laser that irradiates a luminescent spot defective pixel having a luminescent spot defect with a laser beam with a spot size smaller than that of the luminescent spot defective pixel and alters at least a part of the color filter substrate to reduce light transmittance. Irradiation process;
A second laser irradiation step of irradiating the bright spot defect pixel with a laser beam under a laser processing condition different from that of the first laser irradiation step, and uniformizing a thickness of a region altered in the first laser irradiation step;
In order to generate a laser beam scanning path in the second laser irradiation step, after the first laser irradiation step, a low dark spot degree region detection for detecting a region where the degree of decrease in light transmittance is small in the bright spot defective pixel Process,
In the first laser irradiation step and the second laser irradiation step, the laser beam is moved relative to the liquid crystal panel, and the laser beam is scanned within the bright spot defective pixels. A method for darkening point defects.
該カラーフィルタ色材と液晶との間には、保護膜が設けられたことを特徴とする、請求項1〜4のいずれか1項に記載の液晶パネルの輝点欠陥の暗点化方法。 The liquid crystal panel has a color filter color material as a part of the color filter substrate that is altered by irradiation with laser light,
The method for darkening a bright spot defect in a liquid crystal panel according to any one of claims 1 to 4, wherein a protective film is provided between the color filter colorant and the liquid crystal.
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